JP2009212249A - Apparatus and method for forming wiring pattern - Google Patents
Apparatus and method for forming wiring pattern Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009212249A JP2009212249A JP2008052738A JP2008052738A JP2009212249A JP 2009212249 A JP2009212249 A JP 2009212249A JP 2008052738 A JP2008052738 A JP 2008052738A JP 2008052738 A JP2008052738 A JP 2008052738A JP 2009212249 A JP2009212249 A JP 2009212249A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring pattern
- substrate
- container
- ejection
- forming apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、絶縁基板の表面等に導電回路(配線パターン)を形成したプリント配線基板の配線パターン形成装置及び形成方法に関するものである。 The present invention relates to a wiring pattern forming apparatus and a forming method for a printed wiring board in which a conductive circuit (wiring pattern) is formed on the surface of an insulating substrate.
従来から、各種電気機器にあっては、電子部品を実装したプリント配線基板が設置されている。 Conventionally, printed wiring boards on which electronic components are mounted are installed in various electrical devices.
このプリント配線基板は、主として銅箔を全面に貼った絶縁基板をエッチング法により配線パターン領域のみ残して他の余分な銅箔部分を溶解除去する方法で製造されるのが一般的であった。 This printed wiring board is generally manufactured by a method in which an insulating substrate with a copper foil applied to the entire surface is mainly removed by etching, leaving only the wiring pattern region and dissolving and removing other excess copper foil portions.
しかしながら、このような材料を除去してプリント配線基板の配線パターンを形成する減法プロセスでは、配線パターン部分の面積よりもエッチングで溶解除去する銅箔部分の面積の方がはるかに多いため、資源の無駄が発生するばかりでなく、エッチングレジストの製膜やエッチング工程さらにエッチングレジストフイルムを除去する工程が続くなど作業工程が多く、複雑で効率の悪い生産方法であった。 However, in the subtractive process of removing the material and forming the wiring pattern of the printed wiring board, the area of the copper foil portion to be dissolved and removed by etching is much larger than the area of the wiring pattern portion. In addition to waste, there are many work steps such as etching resist film formation and etching steps, and further, a step of removing the etching resist film, which is a complicated and inefficient production method.
又、このような減法プロセスでは、エッチング廃液が多量に排出されるため、環境保護対策を考慮した排水処理施設の建築に多額の資金を必要とする等、高コストの生産技術であった。 Further, in such a subtractive process, since a large amount of etching waste liquid is discharged, it is a high-cost production technique that requires a large amount of money for the construction of a wastewater treatment facility considering environmental protection measures.
このため、必要な配線パターン部分のみを無電解メッキ法により形成する方法が従来より提案されている。 For this reason, a method of forming only a necessary wiring pattern portion by an electroless plating method has been conventionally proposed.
そのような方法のひとつとして無電解メッキ活性化剤及び接着剤(バインダー)を含有するインクを用いて絶縁基板上に配線パターンを印刷し、インクを加熱又はその他の手段で固着して基板表面を活性化させた後、その基板を無電解メッキ浴中に浸漬して配線パターン領域にのみ金属層を発現させて導電回路を形成する技術が周知である。 As one such method, a wiring pattern is printed on an insulating substrate using ink containing an electroless plating activator and an adhesive (binder), and the substrate surface is fixed by heating or other means. A technique for forming a conductive circuit by immersing the substrate in an electroless plating bath after activation and forming a metal layer only in the wiring pattern region is well known.
このような導電回路形成技術は、版印刷法を利用して配線パターンを印刷するため、同一配線パターンのプリント配線基板を大量生産するのに適している。また、版印刷法は、インクに耐熱性接着剤を含有させることもできるので、例えば、ハンダ付け温度にも耐え得る実用性の高いプリント配線基板を製造することも可能である。 Such a conductive circuit forming technique is suitable for mass production of printed wiring boards having the same wiring pattern because the wiring pattern is printed using a plate printing method. Further, since the plate printing method can contain a heat-resistant adhesive in the ink, for example, it is also possible to produce a highly practical printed wiring board that can withstand the soldering temperature.
しかしながら、近年においては、情報通信機器の高機能化に伴い、それを実装するプリント配線基板の高機能化に対応するため、目まぐるしく変化する市場ニーズに遅滞なく対応する必要が生じており、上述した版印刷法に替わる多品種少量生産に適した製造プロセスとして、インクジエット描画法によって配線パターンやソルダーレジストを形成するプリント配線基板の製造技術が注目されている(例えば、特許文献1参照)。 However, in recent years, it has become necessary to respond to rapidly changing market needs without delay in order to cope with the higher functionality of the printed circuit board on which the information communication device is mounted with higher functionality. As a manufacturing process suitable for high-mix low-volume production that replaces the plate printing method, a printed wiring board manufacturing technique for forming a wiring pattern or a solder resist by an ink jet drawing method has attracted attention (for example, see Patent Document 1).
このインクジエット描画法の直接描画による回路形成技術は、インクジェットヘッドから微小なインク液滴を噴射し、配線パターンに応じて基板上の必要な場所に液滴を着弾させることで機能性材料を含む液体パターンを描画するもので、基板上に着弾した液滴は、基材とインクとの界面エネルギーに従って基材上を濡れ広がった後、インクの溶媒を蒸発(例えば、150〜200℃で焼成)させることで機能性材料からなる膜パターン(配線パターン)を形成するものである。 The circuit formation technology by direct drawing of the ink jet drawing method includes a functional material by ejecting minute ink droplets from an ink-jet head and landing the droplets on necessary positions on the substrate according to the wiring pattern. A liquid pattern is drawn, and droplets that have landed on the substrate wet and spread on the substrate according to the interfacial energy between the substrate and the ink, and then evaporate the solvent of the ink (for example, firing at 150 to 200 ° C.) By doing so, a film pattern (wiring pattern) made of a functional material is formed.
これにより、上述した減法プロセスとは逆に、インクジェット法では必要な所にのみ材料を付加していく加法プロセスとなるため、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することができ、しかも、多品種少量生産にも適合することができるばかりでなく、インク材料に金属ナノインキを用いることで微細配線の形成(例えば、線幅10μm)をも実現することができる。
一方、金属球の製造装置として、特許文献2、3に記された技術が提供されている。
As a result, in contrast to the subtractive process described above, the ink jet method is an additive process in which materials are added only where necessary, so that the manufacturing process can be simplified and the waste of resources can be suppressed. In addition to being able to contribute to environmental protection measures, not only can it be adapted to low-volume production of various varieties, but also the formation of fine wiring by using metal nano ink as the ink material (for example,
On the other hand, the technique described in
ところで、上述したインクジェット法を用いたプリント配線基板の製造方法では、インク材料として金属ナノインキを用いているが、金属ナノインキ中に含まれる金属ナノ粒子等によるノズル目詰まりの発生を抑制しつつ金属ナノ粒子間の結合関係を確保しないと、焼成後の電気配線としての導電性が確保されないため、結果的に、上述した製造工程の簡略化・資源の無駄・環境保護対策等を達成するとはいい難く、しかも製品の信頼性に劣るという問題が生じていた。 By the way, in the manufacturing method of the printed wiring board using the inkjet method described above, metal nano ink is used as the ink material, but metal nano ink is suppressed while suppressing occurrence of nozzle clogging due to metal nanoparticles contained in the metal nano ink. If the bonding relationship between the particles is not ensured, the conductivity as the electric wiring after firing is not ensured, and as a result, it is difficult to achieve the above-described simplification of the manufacturing process, waste of resources, environmental protection measures, etc. In addition, there is a problem that the reliability of the product is inferior.
本発明は、上記問題を解決するため、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することができ、しかも製品の信頼性を向上することができるプリント配線基板の配線パターン形成装置を提供することを目的とする。 In order to solve the above problems, the present invention can simplify the manufacturing process, reduce waste of resources, contribute to environmental protection measures, and improve product reliability. An object of the present invention is to provide a wiring pattern forming apparatus for a printed wiring board.
その目的を達成するため、請求項1に記載の配線パターン形成装置は、溶融状態の配線パターン材料を貯留した容器と、この容器に設けられたノズル部と、パルス圧力により所定の変位を発生する圧力アクチュエータと、この圧力アクチュエータの変位を伝達して前記ノズル部に挿通されるシリンダヘッドからなる前記容器の噴出口から微小液滴を噴出する材料噴出装置と、前記噴出口の下方に配置されて基板を載置した基台と、所定の配線パターン設計データに応じて前記材料噴出装置又は前記基台の少なくとも一方を移動させる水平駆動装置と、を備えていることを特徴とする。 In order to achieve the object, the wiring pattern forming apparatus according to claim 1 generates a predetermined displacement by a container that stores a molten wiring pattern material, a nozzle portion provided in the container, and a pulse pressure. A material ejection device that transmits a pressure actuator, a displacement of the pressure actuator, and ejects minute droplets from the ejection port of the container including a cylinder head that is inserted into the nozzle portion, and is disposed below the ejection port. And a horizontal driving device for moving at least one of the material ejection device or the base in accordance with predetermined wiring pattern design data.
請求項12に記載の配線パターンの形成方法は、配線パターン材料を容器内で溶融させ、溶融状態の配線パターン材料にパルス圧力を加えて前記容器の噴出口から微小液滴を噴出させ、前記噴出口の下方に配置した基板を相対的に移動させながら該基板上にデータに応じて配線パターンを形成する。
請求項1に記載の配線パターン形成装置、請求項12に記載の配線パターン形成方法によれば、容器に貯留された溶融状態の配線パターン材料を、パルス圧力を加えることによって噴出口から微小液滴として基板上に噴出する簡素な加法プロセス工程で基板に配線パターンを形成することができ、よって、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することがでる。また、容器に貯留された液状配線パターン材料を微小液滴として噴出口から噴出するのみであるため、液状配線パターン材料の目詰まり等が発生し難く、製品の信頼性を向上することができる。
また、請求項2に記載の配線パターン形成装置は、溶融状態の配線パターン材料を貯留した容器と、溶融状態の配線パターン材料にパルス圧力を加えて前記容器の噴出口から微小液滴を噴出する材料噴出装置と、前記噴出口の下方に配置されて基板を載置した基台と、所定の配線パターン設計データを格納した記憶部と、前記材料噴出装置又は前記基台の少なくとも一方を移動させる水平駆動装置と、前記記憶部に格納された配線パターン設計データに基づいて前記材料噴出装置の噴出タイミング及び前記水平駆動装置の駆動を制御する制御回路部と、を備えていることを特徴とする。
The wiring pattern forming method according to
According to the wiring pattern forming apparatus according to claim 1 and the wiring pattern forming method according to
The wiring pattern forming apparatus according to
また、請求項2に記載の配線パターン形成装置によれば、記憶部に格納された配線パターン設計データに基づいて制御回路部によって材料噴出装置の噴出タイミング及び水平駆動装置の駆動が制御されつつ、容器に貯留された液状配線パターン材料を、パルス圧力を加えることによって噴出口から微小液滴として絶縁基板上に噴出する簡素な加法プロセス工程で絶縁基板に配線パターンを形成することができ、よって、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することがでる。また、容器に貯留された液状配線パターン材料を微小液滴として噴出口から噴出するのみであるため、溶融状態の配線パターン材料の目詰まり等が発生し難く、製品の信頼性を向上することができる。 Further, according to the wiring pattern forming apparatus of the second aspect, while the ejection timing of the material ejection device and the driving of the horizontal driving device are controlled by the control circuit unit based on the wiring pattern design data stored in the storage unit, The liquid wiring pattern material stored in the container can be formed on the insulating substrate by a simple additive process step in which a pulse pressure is applied to eject the liquid wiring pattern material as fine droplets from the ejection port onto the insulating substrate. In addition to simplifying the manufacturing process, waste of resources can be suppressed, contributing to environmental protection measures. In addition, since the liquid wiring pattern material stored in the container is only ejected as fine droplets from the ejection port, clogging of the molten wiring pattern material is difficult to occur, and the reliability of the product can be improved. it can.
請求項3に係る発明は、前記材料噴出装置又は前記基台の少なくとも一方を他方に対して接近・離反させる昇降駆動装置を備えている請求項1又は請求項2に記載の配線パターン形成装置である。
The invention according to claim 3 is the wiring pattern forming apparatus according to
前記材料噴出装置又は前記基台の少なくとも一方を他方に対して接近・離反させる昇降駆動装置を備えていることにより、容器に貯留した溶融状態の配線パターン材料の種類等に応じて、噴出口から噴出された微小液滴の乾燥時間や粘度を調整することができる。
請求項4に係る発明は、前記噴出口の直径1〜200μmである請求項1乃至請求項3の何れかに記載の配線パターン形成装置である。
By providing an elevating drive device that moves at least one of the material ejection device or the base toward and away from the other, depending on the type of molten wiring pattern material stored in the container, etc., from the ejection port The drying time and viscosity of the ejected fine droplets can be adjusted.
A fourth aspect of the present invention is the wiring pattern forming apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the jet nozzle has a diameter of 1 to 200 μm.
噴出出口の直径には特に限定されないが、直径10〜200μmの微小液滴を噴出することにより、微小間隔及び微小細線の複数の配線パターンを形成することができる。
請求項5に係る発明は、前記基板には、配線パターンの形状と一致する溝が形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載の配線パターン形成装置である。
Although the diameter of the ejection outlet is not particularly limited, a plurality of wiring patterns with minute intervals and minute wires can be formed by ejecting minute droplets having a diameter of 10 to 200 μm.
The invention according to claim 5 is the wiring pattern forming apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate is formed with a groove that matches a shape of the wiring pattern. .
一方、前記絶縁基板に配線パターンの形状と一致する溝を形成することにより、噴出された微小液滴により配線パターンの幅や深さを規定することができる。
請求項6に係る発明は、微小液滴の直径を、前記溝幅よりも小径としたことを特徴とする請求項5記載の配線パターン形成装置である。
On the other hand, by forming a groove that matches the shape of the wiring pattern on the insulating substrate, the width and depth of the wiring pattern can be defined by the ejected minute droplets.
The invention according to
また、微小液滴の直径を、前記溝幅よりも小径とすることにより、溝からのはみ出しを抑制することができる。
請求項7に係る発明は、」前記材料噴出装置と前記基板との垂直方向の離間距離は、微小液滴が、前記材料噴出装置から前記基板へ着弾後に基板表面で広がるように着弾するような距離に設定されている請求項1乃至請求項6の何れかに記載の配線パターン形成装置である。
着弾後に液滴に基板表面で広がるようにすることにより、前に落下した液滴により形成されたパターンまで配線パターン材料が到達することができる。すなわち、離間距離を大きく取りすぎると着弾前に液滴は凝固してしまい不連続な配線パターンとなるおそれがある。また、半凝固状態で着弾した場合には、液滴の多少の広がりは起こるが、溶融状態での着弾に比べると広がり量は少なく、不連続配線パターンを形成するためには、液滴の体積、液滴の噴出タイミングのコントロールに精密性が要求されてしまう。
着弾後に基板表面での広がりを達成させるための前記離間距離は、噴出時における溶融材料の温度、雰囲気温度、噴出速度、基板温度などによっても左右されるため、これらの条件を適宜変化させた状態で予め実験により求めておけばよい。なお、前記離間距離は可変としておけばよい。
請求項8に係る発明は、前記容器の周囲に、該容器内に貯留された液状配線パターン材料を加熱する加熱部を備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項10の何れかに記載の配線パターン形成装置である。
Further, by setting the diameter of the fine droplets to be smaller than the width of the groove, the protrusion from the groove can be suppressed.
According to a seventh aspect of the invention, the vertical distance between the material ejection device and the substrate is such that micro droplets land on the substrate surface after landing from the material ejection device to the substrate. The wiring pattern forming apparatus according to claim 1, wherein the wiring pattern forming apparatus is set to a distance.
By causing the droplets to spread on the substrate surface after landing, the wiring pattern material can reach the pattern formed by the droplets that have fallen before. That is, if the separation distance is too large, the droplets solidify before landing and there is a possibility that a discontinuous wiring pattern is formed. In addition, when landing in the semi-solid state, the liquid droplets slightly spread, but the amount of expansion is less than that in the molten state, and in order to form a discontinuous wiring pattern, the volume of the liquid droplets In addition, precision is required for controlling the ejection timing of droplets.
The separation distance for achieving the spread on the substrate surface after landing depends on the temperature of the molten material at the time of ejection, the atmospheric temperature, the ejection speed, the substrate temperature, etc., so that these conditions are appropriately changed. It may be obtained by experiment in advance. The separation distance may be variable.
The invention according to
前記容器の周囲に該容器内に貯留された液状配線パターン材料を加熱する加熱部を備えていることにより、安定した大きさ並びに粘度の微小液滴を噴出することができる。
請求項9に係る発明は、前記基板を加熱するための手段を設けた請求項1乃至請求項8のいずれか1項記載の配線パターン形成装置である。
請求項10に係る発明は、配線パターン材料を容器内で溶融させ、溶融状態の配線パターン材料にパルス圧力を加えて前記容器の噴出口から微小液滴を噴出させ、前記噴出口の下方に配置した基板を相対的に移動させながら該基板上にデータに応じて配線パターンを形成する配線パターンを有する基材の製造方法である。
請求項11に係る発明は、前記材料噴出装置又は前記基台の少なくとも一方を他方に対して接近・離反させながら配線パターンを形成する請求項10記載の配線パターンを有する基材の製造方法。
請求項12に係る発明は、前記噴出口の直径は1〜200μmである請求項10又は11記載の配線パターンを有する基材の製造方法である。
請求項13に係る発明は、前記基板に配線パターンの形状と一致する溝を形成しておく請求項10乃至請求項12の何れか1項に記載の配線パターンを有する基材の製造方法である。
請求項14に係る発明は、液滴は、基板表面に着弾後に溝の長手方向に広がって連続的な配線が形成されるようにする請求項13記載の配線パターンを有する基材の製造方法である。
請求項15に係る発明は、噴出1操作ごとに小刻みに基板と容器との相対的運動の発停を繰返す(いわゆるインチング移動)請求項13又は14記載の配線パターンを有する基材の製造方法である。
By providing a heating section for heating the liquid wiring pattern material stored in the container around the container, it is possible to eject fine droplets having a stable size and viscosity.
The invention according to
According to a tenth aspect of the present invention, the wiring pattern material is melted in a container, a pulse pressure is applied to the molten wiring pattern material, and a fine droplet is ejected from the ejection port of the container, and is disposed below the ejection port. This is a method for manufacturing a base material having a wiring pattern in which a wiring pattern is formed on the substrate according to data while relatively moving the substrate.
The invention according to
The invention according to
A thirteenth aspect of the present invention is a method for manufacturing a substrate having a wiring pattern according to any one of the tenth to twelfth aspects, wherein a groove matching the shape of the wiring pattern is formed in the substrate. .
The invention according to
The invention according to
この際、前記水平駆動装置は、前記材料噴出装置をインチング移動させることにより、液滴の着弾位置が安定し、従って、より確実な配線パターンを形成することができる。液滴の体積を過剰にすることなく、不連続配線あるいは不完全配線となること確実に防止することが可能となる。
請求項16に係る発明は、前記溝の長手方向断面の断面積を(S)、容器と基板との相対的移動距離を(L)とすると、S×Lが液滴の体積の80〜100%とする請求項13乃至請求項15のいずれか1項記載の配線パターンを有する基材の製造方法である。
S×Lが液滴の体積の80〜100%とすることにより、連続的でなおかつ、オーバーラップの少ない配線パターンを形成することが可能となる。
液滴が着弾し、凝固あるいは半凝固状態になった場合、形成済みの配線パターン61の先端は図9に示すように傾斜部60を有する。次の液滴p2が基板に着弾すると液滴p2は傾斜部60を覆うように広がる。その際、S×Lが液滴p2の体積の80〜100%に制御した場合には、液滴は傾斜部60を越えることなくかつ形成済み配線パターン61の高さとほぼ高さとなって配線パターンを形成する。従って、凹凸の少ない配線パターンの形成が可能となる。
請求項17に係る発明は、基板の温度を、(Tm−50℃)〜(Tm−30℃)に加熱して配線パターンを形成する請求項10乃至請求項16のいずれか1項記載の配線パターンを有する基材の製造方法である。
Tm:配線パターン材料の融点(℃)
かかる温度に基板を加熱しておくと、濡れ性が向上し、液滴が着弾した場合、全体が即座に凝固することを防止することが可能となる。従って、液滴の広がり量を大きくすることが可能となる。
さらに、基板を加熱しておくと、噴出口と基板との間における対流の発生を防止することが可能となり、対流による液滴のシフトを防止することが可能となる。従って、本請求項に係る発明によれば、狙った着弾位置から20%以内の位置さらには3%以内の位置に着弾させることも可能となる、
基板温度が(Tm−50℃)〜(Tm−30℃)とする場合には、液滴温度その他の他条件を厳密に制御しなくとも着弾後における液滴の良好な広がりを確保でき、高い歩留まりで不連続部が無くかつ、表面の平坦性に優れた配線パターンを高い歩留まりで形成することができる。基板温度この範囲外となると歩留まりが著しく減少する。
請求項18に係る発明は、液滴の着弾位置は、前記噴出口の中心から噴出口の直径の20%以内の位置にする請求項10乃至請求項17のいずれか1項記載のパターンを有する基材の製造方法である。
請求項19に係る発明は、前記噴出口から前記基板までの雰囲気を不活性ガス雰囲気又は真空雰囲気とした請求項10乃至18のいずれか1項記載のパターンを有する基材の製造方法である。これにより、配線の酸化を防止することが可能となる。
請求項20に係る発明は、前記不活性ガスを加熱する請求項19記載のパターンを有する基材の製造方法である。
液滴の急激な凝固を防止することができ、濡れ性を向上させ、着弾後における広がり量を大きくすることができる。
At this time, the horizontal driving device moves the material ejecting device in an inching manner, so that the landing position of the droplet is stabilized, and therefore, a more reliable wiring pattern can be formed. It is possible to reliably prevent discontinuous wiring or incomplete wiring without increasing the volume of the droplet.
According to the sixteenth aspect of the present invention, when the cross-sectional area of the longitudinal section of the groove is (S) and the relative movement distance between the container and the substrate is (L), S × L is 80 to 100 of the volume of the droplet. It is a manufacturing method of the base material which has a wiring pattern of any one of
By setting S × L to 80 to 100% of the volume of the droplet, it is possible to form a wiring pattern that is continuous and has little overlap.
When the liquid droplets land and become solidified or semi-solidified, the tip of the formed
The invention according to
Tm: Melting point of wiring pattern material (° C)
When the substrate is heated to such a temperature, the wettability is improved, and when the droplets land, it is possible to prevent the whole from immediately solidifying. Therefore, it is possible to increase the amount of spreading of the droplets.
Furthermore, when the substrate is heated, it is possible to prevent the occurrence of convection between the jet outlet and the substrate, and it is possible to prevent the droplets from being shifted due to the convection. Therefore, according to the invention according to the present claim, it is possible to land at a position within 20%, further within a position within 3% from the aimed landing position.
When the substrate temperature is (Tm−50 ° C.) to (Tm−30 ° C.), it is possible to ensure a good spread of the droplet after landing without strictly controlling the droplet temperature and other conditions, and is high. A wiring pattern having no discontinuity in yield and excellent surface flatness can be formed with high yield. If the substrate temperature is outside this range, the yield is significantly reduced.
The invention according to
The invention according to
The invention according to
Rapid solidification of droplets can be prevented, wettability can be improved, and the amount of spread after landing can be increased.
さらに、前記水平駆動装置は、微小液滴の直径よりも短い距離で前記材料噴出装置を同一平面内で移動させることにより、配線パターンの断線を防止することができる。 Further, the horizontal driving device can prevent the wiring pattern from being disconnected by moving the material ejection device within the same plane at a distance shorter than the diameter of the micro droplet.
この際、前記溝の幅及び深さを、その断面積に水平駆動距離を掛けた体積が微小液滴の体積の90−98%を基準として形成することにより、より厳密な配線パターンの幅や深さを規定することができる。
At this time, by forming the width and depth of the groove with reference to 90 to 98% of the volume of the fine droplet, the volume obtained by multiplying the cross-sectional area by the horizontal driving distance, Depth can be defined.
また、前記材料噴出装置と前記絶縁基板との垂直方向の離間距離を、微小液滴が、前記材料噴出装置から前記絶縁基板へと噴出している最中に液状配線パターン材料が半固定化し、且つ、前記絶縁基板に着弾直後に固定化する距離に設定することにより、配線パターンの形成時間の短縮化を実現し得て、しかも、次に噴出された微小液滴との密着性を容易に確保することができる。 Further, the distance between the material ejection device and the insulating substrate in the vertical direction is such that the liquid wiring pattern material is semi-fixed while micro droplets are ejected from the material ejection device to the insulating substrate, In addition, by setting the distance to be fixed immediately after landing on the insulating substrate, it is possible to reduce the formation time of the wiring pattern and to easily adhere to the fine droplets ejected next. Can be secured.
本発明のプリント配線基板によれば、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することができ、しかも製品の信頼性を向上することができる。 According to the printed wiring board of the present invention, it is possible to simplify the manufacturing process, reduce waste of resources, contribute to environmental protection measures, and improve product reliability. Can do.
次に、本発明の配線パターン形成装置に係る実施の形態を図面に基づいて説明する。 Next, an embodiment of the wiring pattern forming apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施の形態1)
図1は、本発明の配線パターン形成装置の実施の形態1を示す断面図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a wiring pattern forming apparatus of the present invention.
図1において、配線パターン形成装置1は、液状配線パターン材料Pを貯留した容器2と、液状配線パターン材料Pにパルス圧力を加えて容器2の噴出口(図示せず)から微小液滴pを噴出する材料噴出装置3と、噴出口の下方に配置されて絶縁基板4を載置した基台5と、所定の配線パターン設計データに応じて材料噴出装置3又は基台5の少なくとも一方を移動させる水平駆動装置7と、を備えている
In FIG. 1, a wiring pattern forming apparatus 1 includes a
このような構成によれば、容器2に貯留された溶融状態(液状)の配線パターン材料Pを、パルス圧力を加えることによって噴出口から微小液滴pとして絶縁基板4上に噴出する簡素な加法プロセス工程で絶縁基板4に配線パターンを形成することができ、よって、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することがでる。また、容器2に貯留された液状配線パターン材料Pを微小液滴pとして噴出口から噴出するのみであるため、液状配線パターン材料Pの目詰まり等が発生し難く、製品の信頼性を向上することができる。
According to such a configuration, a simple addition method in which the molten (liquid) wiring pattern material P stored in the
また、配線パターン形成装置1は、液状配線パターン材料Pを貯留した容器2と、液状配線パターン材料Pにパルス圧力を加えて容器2の噴出口(図示せず)から微小液滴pを噴出する材料噴出装置3と、噴出口の下方に配置されて絶縁基板4を載置した基台5と、所定の配線パターン設計データを格納した記憶部6と、材料噴出装置3又は基台5の少なくとも一方を移動させる水平駆動装置7と、記憶部5に格納された配線パターン設計データに基づいて材料噴出装置3の噴出タイミング及び水平駆動装置7の駆動を制御する制御回路部8と、を備えている。
In addition, the wiring pattern forming apparatus 1 applies a pulse pressure to the
このような構成によれば、記憶部6に格納された配線パターン設計データに基づいて制御回路部8によって材料噴出装置3の噴出タイミング及び水平駆動装置7の駆動が制御されつつ、容器2に貯留された液状配線パターン材料Pを、パルス圧力を加えることによって噴出口から微小液滴pとして絶縁基板4上に噴出する簡素な加法プロセス工程で絶縁基板4に配線パターンを形成することができ、よって、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することがでる。また、容器2に貯留された液状配線パターン材料Pを微小液滴pとして噴出口から噴出するのみであるため、液状配線パターン材料Pの目詰まり等が発生し難く、製品の信頼性を向上することができる。
According to such a configuration, the
さらに、配線パターン形成装置1は、材料噴出装置3又は基台5の少なくとも一方を他方に対して接近・離反させる昇降駆動装置9を備えていることにより、噴出された微小液滴の乾燥時間や粘度を調整することができる。
材料噴出装置としては、特許文献2、3に記載されている装置用いることも可能である。
これら装置に、水平移動装置などを付加すればよい、例えば、次の装置を用いることもできる。
流動性材料を貯留するための流動性材料貯留容器と、この流動性材料貯留容器に材料容器から流動性材料を補給する経路となる補給管と、この流動性材料貯留容器に密着するダイアフラムと、前記流動性材料貯留容器の底部に設けられるオリフィスと、所定のパルス圧力を発生する圧電アクチュエータと、この圧電アクチュエータのパルス圧力を前記ダイアフラムに伝達する伝達ロッドとを有してなる装置。
流動性材料を貯留するための流動性材料貯留容器と、この流動性材料貯留容器に材料容器から流動性材料を補給するための補給管と、この流動性材料貯留容器に設けられたノズル部と、このノズル部に設けられて前記流動性材料貯留容器内の流動性材料を噴射するためのオリフィスと、所定の変位を発生する圧電アクチュエータと、この圧電アクチュエータの変位を前記ノズル部に挿通されるシリンダロッドの変位として前記ノズル部に伝達する伝達ロッドとを有してなる装置。
溶融金属を貯留するための第1の容器と、この第1の容器に前記溶融金属を補給するための第2の容器と、この第2の容器の外周に設けられる加熱装置と、前記第1の容器と前記第2の容器を連通する補給管路と、前記第1の容器の底部に設けられ、溶融金属を1個ずつ単分散粒子として噴射するためのオリフィスと、このオリフィスの下方に単分散粒子を球形化するための不活性ガス流を生じさせるチャンバと、このチャンバに不活性ガスを導入する導入管と、所定のパルス圧力を発生する圧電アクチュエータと、このパルス圧力を伝達する伝達ロッドと、伝達ロッドの先端に一体的に取り付けられ、前記第1の容器を液密に保つように前記第1の容器内の前記溶融金属と密着して前記溶融金属に前記パルス圧力を付加するためのダイアフラムとを有し、前記圧電アクチュエータによる前記パルス圧力の印加によって前記ダイアフラムを前記溶融金属側に臨界変位以上変位させ、前記オリフィスから前記溶融金属を1個ずつ液滴として噴射する装置。
Furthermore, the wiring pattern forming apparatus 1 includes a lifting / lowering
As the material ejection device, the devices described in
What is necessary is just to add a horizontal displacement apparatus etc. to these apparatuses, for example, the following apparatus can also be used.
A flowable material storage container for storing the flowable material, a supply pipe serving as a path for supplying the flowable material storage container to the flowable material from the material container, and a diaphragm in close contact with the flowable material storage container; A device comprising an orifice provided at the bottom of the fluid material storage container, a piezoelectric actuator for generating a predetermined pulse pressure, and a transmission rod for transmitting the pulse pressure of the piezoelectric actuator to the diaphragm.
A flowable material storage container for storing the flowable material, a supply pipe for supplying the flowable material storage container with the flowable material from the material container, and a nozzle portion provided in the flowable material storage container An orifice provided in the nozzle portion for injecting the flowable material in the flowable material storage container, a piezoelectric actuator for generating a predetermined displacement, and the displacement of the piezoelectric actuator is inserted into the nozzle portion. A device having a transmission rod that transmits the displacement of the cylinder rod to the nozzle portion.
A first container for storing molten metal; a second container for replenishing the first container with the molten metal; a heating device provided on an outer periphery of the second container; A replenishment conduit communicating the second container and the second container, an orifice provided at the bottom of the first container for injecting molten metal one by one as monodisperse particles, and a single orifice below the orifice. A chamber for generating an inert gas flow for spheroidizing dispersed particles, an introduction pipe for introducing an inert gas into the chamber, a piezoelectric actuator for generating a predetermined pulse pressure, and a transmission rod for transmitting the pulse pressure And is attached integrally to the tip of the transmission rod, and in close contact with the molten metal in the first container to apply the pulse pressure to the molten metal so as to keep the first container liquid-tight. Diaf And a beam, wherein the application of the pulse pressure by the piezoelectric actuator is displaced above the critical displacement of the diaphragm to the molten metal side apparatus which ejects droplets one by one the molten metal from the orifice.
(実施例)
以下、本発明に係る実施形態1の配線パターン形成装置1を詳細に説明する。
(Example)
Hereinafter, the wiring pattern forming apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention will be described in detail.
容器2は、略有底円筒形状の多層構造に構成されており、その内部には液状配線パターン材料Pを貯留する材料貯留部10が設けられている。また、容器2の底部には、材料貯留部10の下方と連通するノズル11と、ノズル11の下端に配置され且つ一以上のオリフィス(噴出口)を有するオリフィスプレート12とを備えている。尚、材料貯留部10には加圧用の不活性ガスが供給される。また、容器2には、材料貯留部10に液状配線パターン材料Pを攪拌する棒状又はスクリュー状等の攪拌部材を設けることができる。さらに、容器2の外周には、液状配線パターン材料Pを加熱又は保温するためのヒータ(加熱部)を設けることにより、安定した大きさ並びに粘度の微小液滴pを噴出することができる。
The
ノズル11には、下方に向けて縮閉する漏斗部11aが形成され、この漏斗部11aに貯留されている液状配線パターン材料Pが下方のオリフィスプレート12に供給される。
The
オリフィスプレート12は、容器2の有底部に嵌合又は粘着されて中心開口を有する支持部材13に保持されている。また、オリフィスプレート12を構成する材料は、液状配線パターン材料Pの種類等に応じて適宜決定され、その構成材料を適宜選定することにより、液状配線パターン材料Pとの濡れ性を調整することができる。尚、オリフィスプレート12と液状配線パターン材料Pとの濡れ性が非常に良く、オリフィスプレート12の表面を伝って液状配線パターン材料Pが流出(漏れ)してしまう場合、オリフィスプレート12の構成材料を適宜選択するだけではなく、さらにオリフィスプレート12の表面にシリコングリース等を塗布して濡れ性を低下させても良い。さらに、オリフィスプレート12に形成されるオリフィス形状やオリフィス口径は、微小液滴pの粒径に応じて適宜決定することができるが、例えば、本実施の形態では、微小液滴pの直径1〜200μmを考慮すると、1〜300μm程度の口径が好ましく、10〜200μm程度の口径がより好ましい。
The
材料噴出装置3は、ベースフランジ14に固定された圧電アクチュエータユニット15と、圧電アクチュエータユニット15にホルダブロック16を介して接続された伝達ロッド17と、伝達ロッド17の先端に取り付けられたダイヤフラム18と、これら圧電アクチュエータユニット15からダイヤフラム18にいたる構成部材を覆うようにベースフランジ14に保持されたガイド筒部19とを備えている。
The material ejection device 3 includes a
圧電アクチュエータユニット15には、例えば、積層型圧電素子が用いられている。また、圧電アクチュエータユニット15は、所定周波数の短波形を発生させるためのファンクションジェネレータ及び短波形を増幅するためのパワーアンプ(共に図示せず)に接続され、これらファンクションジェネレータ及びパワーアンプで発生・増幅された短波形が印加されることにより、所定周波数の変異を発生する。そして、圧電アクチュエータユニット15の変位は、伝達ロッド17を介してダイヤフラム18へと伝達される。
For example, a multilayer piezoelectric element is used for the
これにより、ダイヤフラム18は、材料貯留部10内に貯留されている液状配線パターン材料Pに対してその変位を伝達し、オリフィス口径にほぼ等しい径の微小液滴pを噴出する。
As a result, the
ガイド筒部19は、ホルダブロック16の上下付近を覆う上部筒部20と、伝達ロッド17の下方寄り並びにダイヤフラム18の周辺を覆う下部筒部21と、各筒部20,21間に介在されて伝達ロッド17が貫通する中間ガイドプレート22と、を備えている。
The
基台5は、リフター等の昇降駆動装置9に接続されており、絶縁基板4を上面で保持するように押え部材等(図示せず)が設けられている。
The base 5 is connected to a
記憶部6には、例えば、大容量ハードディスクドライブ(HDD)等が用いられ、図示しないパーソナルコンピュータ等にインストールされた配線パターン設計ソフトウエア等を用いて設計された配線パターン設計データ(XYプロットデータ等)が転送等によって格納されている。尚、配線パターン設計データのデータ構成やデータフォーマット等は任意である。
For example, a large capacity hard disk drive (HDD) is used for the
水平駆動装置7には、公知のXYテーブル機構等が用いられ、そのXYステージ23によって容器2が材料噴出装置3と一体に保持されている。
A known XY table mechanism or the like is used for the
これにより、図2,図3に示すように、容器2は、XYステージ23の水平移動と連動して材料噴出装置3と一体に水平移動しつつ材料噴出装置3から微小液滴pを絶縁基板4の上面に噴出することができる。
As a result, as shown in FIGS. 2 and 3, the
制御回路部8は、配線パターン設計装置1の配線パターン形成処理全般に係わる各種制御プログラムが格納されたROM24に基づいて、水平駆動装置7並びに昇降駆動装置9の駆動を含めた各種制御を実行する。これにより、制御回路部8とROM24とは、本発明に係わる配線パターン形成処理を実行するマイクロコンピュータを構成している。尚、記憶部6、制御回路部8、ROM24は、上述したパーソナルコンピュータを利用しても良いし、配線パターン設計装置1の固有のコンピュータとして構成しても良い。
The
ところで、絶縁基板4には、公知のものが用いられており、その形状や厚さ、並びに配線パターンの形成層(片面・両面・多層等)は任意である。この際、絶縁基板4には、公知のプリント配線基板用の絶縁基板の他、チップやウェーハ等を使用することも可能である。また、絶縁基板4の表面等には、図4に示すように、配線パターンの形状と一致する溝4aを形成することにより、噴出された微小液滴pにより配線パターンの幅や深さを規定することができる。尚、微小液滴pの直径Dは、幅Wよりも小径とすることによって、溝4aからのはみ出し等を抑制することができる。
By the way, a well-known thing is used for the insulating
また、図5に示すように、材料噴出装置3と絶縁基板4との垂直方向の離間距離Hは、微小液滴pが材料噴出装置3から絶縁基板4へと噴出している最中に液状配線パターン材料Pが液状を保持したまま、あるいは、半固体化(固液共存状態)し、且つ、絶縁基板4に着弾直後に固体化する距離に設定することにより、配線パターンの形成時間の短縮化を実現し得て、しかも、次に噴出された微小液滴pとの密着性を容易に確保することができる。着弾後における良好な広がり具合(前の着弾により配線パターン化した部分まで広がった連続的な配線パターンが形成できるような程度)、良好な重なり具合(前の着弾により配線パターン化した部分の傾斜部を乗り越えて重ならないような程度)が達成できるような粘度で着弾するように、液体状態、あるいは液体状態より粘度の高い固液共存状態で着弾できるように距離を制御することが好ましい。
Further, as shown in FIG. 5, the vertical separation distance H between the material ejection device 3 and the insulating
また、液状配線パターン材料Pとしては、金、銀、銅、錫、(何れも合金を含む)等、導電性を備えていれば、あらゆる純金属や合金等を用いることができる。 Further, as the liquid wiring pattern material P, any pure metal, alloy, or the like can be used as long as it has conductivity, such as gold, silver, copper, tin, (all including an alloy).
従って、図6に示すように、絶縁基板4に噴出された微小液滴pは、連続噴出された際のオーバーラップと時差に伴う固化状態の差異によって、平面視(図6(B)参照)において、略うろこ状となる。これにより、導電性は確保されているが、見栄えの向上の観点から、表面研磨等を行っても良い。
Therefore, as shown in FIG. 6, the microdroplet p ejected to the insulating
また、材料噴出装置3は、直径1〜200μmの微小液滴pを噴出することにより、図7に示すように、微小細線W2(例えば、1〜200μm、10〜200μm)の配線パターン25を絶縁基板4に形成することができる。
In addition, the material ejection device 3 insulates the
尚、水平駆動装置7は、微小液滴pの直径よりも短い距離で材料噴出装置3を同一平面内で移動させることにより、配線パターンの断線を防止することができる。この際、水平駆動装置7は、材料噴出装置3をインチング移動(間欠移動)させることにより、より確実な配線パターンを形成することができる。
The
次に、プリント配線基板の配線パターン形成のプロセスを順を追って説明する。 Next, the process of forming a wiring pattern on the printed wiring board will be described in order.
先ず、液状配線パターン材料Pを調整する。液状配線パターン材料Pとしては、絶縁基板4や配線パターンの種類(長さや太さ等)、コスト等を考慮して所望の金属又は合金を溶融したものを用いる。
First, the liquid wiring pattern material P is adjusted. As the liquid wiring pattern material P, a material in which a desired metal or alloy is melted in consideration of the insulating
即ち、液状配線パターン材料Pとしての粘度及び微小液滴pとしての粘度並びに速乾性が適正となるように適宜選択するものである。また、液状配線パターン材料Pにおけるこれらの特性を最適化するために、分散剤又はバインダー等の添加剤を適宜加えることも可能である。また、液状配線パターン材料Pの気泡を除去するために、真空脱泡を行っても良い。 That is, the viscosity as the liquid wiring pattern material P, the viscosity as the microdroplet p, and the quick drying property are appropriately selected. Moreover, in order to optimize these characteristics in the liquid wiring pattern material P, additives such as a dispersant or a binder can be appropriately added. Further, in order to remove bubbles of the liquid wiring pattern material P, vacuum defoaming may be performed.
次に、材料噴出装置3を容器2から離脱させ、材料貯留部10に液状配線パターン材料Pを充填すると、漏斗部11aに達するが、ここでエア抜きを行っても良い。
Next, when the material ejection device 3 is detached from the
液状配線パターン材料Pを材料貯留部10の全体又は所定位置にまで充填させたら、材料噴出装置3を容器2に装着させた後、ファンクションジェネレータにおいて所定周波数の短波形を発生させ、パワーアンプで増幅した後に、圧電アクチュエータユニット15に印加する。
After the liquid wiring pattern material P is filled to the whole
この際、発生させる短波形の形状及び周波数は、液状配線パターン材料Pの粘度等に応じて適宜選択する。 At this time, the shape and frequency of the short waveform to be generated are appropriately selected according to the viscosity and the like of the liquid wiring pattern material P.
圧電アクチュエータユニット15が所定周波数及び所定振幅の振動を発生し、この振動は伝達ロッド17を介してダイヤフラム18へと伝達される。
The
ダイヤフラム18は、圧電アクチュエータユニット15と同一周波数のパルスにて振動し、これに接触している液状配線パターン材料Pにパルス圧力波を発生させる。
The
このようにして発生するパルス圧力波の1周期ごとに1敵、材料貯留部10内の液状配線パターン材料Pが、オリフィスプレート12上のオリフィスから、微小液滴pとして噴出される。
The liquid wiring pattern material P in the
この微小液滴pは、絶縁基板4の表面へと自由落下しつつ、半固定化された状態で絶縁基板4の表面に着弾する。
The minute droplets p land on the surface of the insulating
以降、制御回路部8は、記憶部6に格納された配線パターン設計データに基づいて材料噴出装置3の噴出タイミング及び水平駆動装置7の駆動を制御し、容器2に貯留された液状配線パターン材料Pを微小液滴pとして絶縁基板上4に一定間隔で噴出することによって、所望の配線パターン25を形成することができる。
Thereafter, the
(実施の形態2)
図8は、本発明の配線パターン形成装置の実施の形態2を示す要部の断面図である。
(Embodiment 2)
FIG. 8 is a cross-sectional view of an essential
図8において、配線パターン形成装置31は、液状配線パターン材料Pを貯留した容器32と、液状配線パターン材料Pにパルス圧力を加えて容器2の噴出口(図示せず)からを微小液滴pを噴出する材料噴出装置33と、噴出口の下方に配置されて絶縁基板4を載置した基台5と、所定の配線パターン設計データを格納した記憶部6と、材料噴出装置33又は基台5の少なくとも一方を移動させる水平駆動装置7と、記憶部6に格納された配線パターン設計データに基づいて材料噴出装置33の噴出タイミング及び水平駆動装置7の駆動を制御する制御回路部8と、を備えている。
In FIG. 8, the wiring
このような構成によれば、記憶部6に格納された配線パターン設計データに基づいて制御回路部8によって材料噴出装置33の噴出タイミング及び水平駆動装置7の駆動が制御されつつ、容器32に貯留された液状配線パターン材料Pが微小液滴pとして絶縁基板上4に一定間隔で噴出する簡素な加法プロセス工程にて絶縁基板4に配線パターンを形成することができ、よって、製造工程を簡略化することができるうえ、資源の無駄を抑制し得て、環境保護対策にも貢献することがでる。また、容器3に貯留された液状配線パターン材料Pは微小液滴pとして噴出するのみであるため、液状配線パターン材料Pの目詰まり等が発生し難く、製品の信頼性を向上することができる。
According to such a configuration, the
また、配線パターン形成装置31は、材料噴出装置33又は基台5の少なくとも一方を他方に対して接近・離反させる昇降駆動装置9を備えていることにより、噴出された微小液滴pの乾燥時間や粘度を調整することができる。
Further, the wiring
(実施例)
以下、本発明に係る実施形態2の配線パターン形成装置31を詳細に説明する。
(Example)
Hereinafter, the wiring
容器32は、略有底円筒形状に構成された配線材料に合わせて選定した材料(例えば_石英製のるつぼが用いられており、その内部には液状配線パターン材料Pを貯留する材料貯留部34が設けられている。また、容器32の底部には、材料貯留部34の下方と連通するノズル35と、ノズル35の下端に配置され且つ一以上のオリフィスを有するオリフィスプレート36とを備えている。尚、材料貯留部34には、加圧用の不活性ガスが供給される。また、容器32には、材料貯留部34に液状配線パターン材料Pを攪拌する棒状又はスクリュー状等の攪拌部材を設けることができる。また、容器32の外周には、液状配線パターン材料Pを加熱又は保温するための加熱装置37を設けることにより、安定した大きさ並びに粘度の微小液滴pを噴出することができる。尚、伝達ロッド17の先端部はノズル35に嵌挿されている。
The
加熱装置37は、加熱溶融した液状配線パターン材料Pをノズル35と共に保持する石英製の容器32の外壁を離間状態で覆うカーボンサセプタ38と、その外周に配置された断熱材39と、その外周に配置された保護管40と、さらにその外周に配置された高周波加熱用の加熱コイル41と、これらの上部に跨る断熱用の蓋体42とを備えている。尚、蓋体42は、XYステージ43に支持されている。また、加熱装置37は、最外周に位置する加熱コイル41を励起することで発生する高周波によってカーボンサセプタ38を構成しているカーボンを加熱し、この加熱によりカーボンサセプタ38の内層の容器32やその中に投入されている液状配線パターン材料Pを加熱する。
The
一方、容器32の上方には、図示を略する原料供給管と連通して容器32に液状配線パターン材料Pを供給する原料供給口44aと、不活性ガスの導入管44bとを形成した材料供給部44が設けられている。
On the other hand, above the
また、材料供給部44の内壁に覆われる伝達ロッド17の外周には、容器32内の温度維持及び外部への熱の放出を防止するリフレクタ45と、温度計測用の熱電対46とが設けられている。
Further, on the outer periphery of the
リフレクタ45は、上下に金属の薄板(図示せず)を有すると共に、その上下の薄板を針金状の接続部材で接続したものである。尚、リフレクタ45には、伝達ロッド17が貫通する。
The
尚、この実施の形態2に示した配線パターン形成装置31においても、上記実施の形態1で示した配線パターン形成装置1と実質的に同一の作用・効果を奏する。
The wiring
P…液状配線パターン材料
p…微小液滴
1…配線パターン形成装置
2…容器
3…材料噴出装置
4…絶縁基板
5…基台
6…記憶部
7…水平駆動装置
8…制御回路部
9…昇降駆動装置
10…材料貯留部
11…ノズル
11a…漏斗部
12…オリフィスプレート
13…支持部材
14…ベースフランジ
15…圧電アクチュエータユニット
16…ホルダブロック
17…伝達ロッド
18…ダイヤフラム
19…ガイド筒部
20…上部筒部
21…下部筒部
22…中間ガイドプレート
23…XYステージ
24…ROM
25…配線パターン
31…配線パターン形成装置
32…容器
33…材料噴出装置
34…材料貯留部
35…ノズル
36…オリフィスプレート
37…加熱装置
38…カーボンサセプタ
39…断熱材
40…保護管
41…加熱コイル
42…蓋体
43…XYステージ
44…材料供給部
44a…原料供給口
44b…導入管
45…リフレクタ
46…熱電対
60 配線パターン
61 傾斜部
P ... Liquid wiring pattern material p ... Micro droplet 1 ... Wiring
DESCRIPTION OF
Claims (20)
Tm:配線パターン材料の融点(℃) The manufacturing method of the base material which has a wiring pattern of any one of Claim 10 thru | or 16 which heats the temperature of a board | substrate to (Tm-50 degreeC)-(Tm-30 degreeC), and forms a wiring pattern. .
Tm: Melting point of wiring pattern material (° C)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008052738A JP2009212249A (en) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | Apparatus and method for forming wiring pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008052738A JP2009212249A (en) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | Apparatus and method for forming wiring pattern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009212249A true JP2009212249A (en) | 2009-09-17 |
Family
ID=41185121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008052738A Pending JP2009212249A (en) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | Apparatus and method for forming wiring pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009212249A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011087659A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-06 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method for forming a conductor pattern |
DE102011088587A1 (en) | 2010-12-15 | 2012-06-21 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method for forming a conductor |
WO2013113994A1 (en) | 2012-01-30 | 2013-08-08 | Stora Enso Oyj | Method and arrangement for transferring electrically conductive material in fluid form on a substrate to be printed |
JP2016133423A (en) * | 2015-01-20 | 2016-07-25 | 株式会社デンソー | Method of manufacturing gas sensor element, active solution dripping apparatus and gas sensor element |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06184607A (en) * | 1991-11-29 | 1994-07-05 | Ryuzo Watanabe | Process and apparatus for production of spherical monodisperse particle |
JP2003115646A (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-18 | Yazaki Corp | Card edge substrate and method for manufacturing card edge substrate |
JP2003115650A (en) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Yazaki Corp | Manufacturing method and manufacturing device for circuit body |
JP2003311961A (en) * | 2002-04-23 | 2003-11-06 | Canon Inc | Ink jet recording head and method for ejecting ink |
JP2006332615A (en) * | 2005-04-25 | 2006-12-07 | Brother Ind Ltd | Method for forming pattern |
JP2007005567A (en) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Toyota Industries Corp | Metal-jet metallic ball mounting device |
-
2008
- 2008-03-03 JP JP2008052738A patent/JP2009212249A/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06184607A (en) * | 1991-11-29 | 1994-07-05 | Ryuzo Watanabe | Process and apparatus for production of spherical monodisperse particle |
JP2003115646A (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-18 | Yazaki Corp | Card edge substrate and method for manufacturing card edge substrate |
JP2003115650A (en) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Yazaki Corp | Manufacturing method and manufacturing device for circuit body |
JP2003311961A (en) * | 2002-04-23 | 2003-11-06 | Canon Inc | Ink jet recording head and method for ejecting ink |
JP2006332615A (en) * | 2005-04-25 | 2006-12-07 | Brother Ind Ltd | Method for forming pattern |
JP2007005567A (en) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Toyota Industries Corp | Metal-jet metallic ball mounting device |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011087659A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-06 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method for forming a conductor pattern |
CN102529354A (en) * | 2010-12-03 | 2012-07-04 | 日本特殊陶业株式会社 | Conductor pattern forming method |
JP2013101090A (en) * | 2010-12-03 | 2013-05-23 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Method for forming conductor pattern |
US9192055B2 (en) | 2010-12-03 | 2015-11-17 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Conductor pattern forming method |
DE102011088587A1 (en) | 2010-12-15 | 2012-06-21 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method for forming a conductor |
US8833923B2 (en) | 2010-12-15 | 2014-09-16 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Conductor forming method |
WO2013113994A1 (en) | 2012-01-30 | 2013-08-08 | Stora Enso Oyj | Method and arrangement for transferring electrically conductive material in fluid form on a substrate to be printed |
JP2015508704A (en) * | 2012-01-30 | 2015-03-23 | ストラ エンソ オーワイジェイ | Method and arrangement for transferring a conductive material in fluid form onto a substrate to be printed |
EP2810541A4 (en) * | 2012-01-30 | 2016-01-06 | Stora Enso Oyj | Method and arrangement for transferring electrically conductive material in fluid form on a substrate to be printed |
US10085350B2 (en) | 2012-01-30 | 2018-09-25 | Stora Enso Oyj | Method and arrangement for transferring electrically conductive material in fluid form on a substrate to be printed |
JP2016133423A (en) * | 2015-01-20 | 2016-07-25 | 株式会社デンソー | Method of manufacturing gas sensor element, active solution dripping apparatus and gas sensor element |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3583462B2 (en) | Micro soldering apparatus and method for electronic components | |
JP5424632B2 (en) | Manufacturing method of substrate for ink jet recording head | |
JP3066963B1 (en) | Method and apparatus for forming solder bumps | |
JP2009212249A (en) | Apparatus and method for forming wiring pattern | |
JP4362629B2 (en) | Manufacturing method of batch transfer type inkjet nozzle plate | |
JP4798557B2 (en) | Probe card and manufacturing method thereof. | |
JP2022108720A (en) | Metal drop ejecting three-dimensional (3d) printed object printer and method for preparing metal drop ejecting 3d object printer for printing | |
Khorramdel et al. | Inkjet filling of TSVs with silver nanoparticle ink | |
US8916794B2 (en) | Metal jet apparatus and jet method | |
JPH1140937A (en) | Method and apparatus for feeding solder | |
JP5553795B2 (en) | Liquid dripping device | |
EP2719791B1 (en) | Method for applying an image of an electrically conductive material onto a recording medium and device for ejecting droplets of an electrically conductive fluid | |
JP2023082662A (en) | Metal drop ejecting three-dimensional (3d) object printer and method of operation for facilitating build and release of metal object from build platform | |
Felba et al. | Materials and technology for conductive microstructures | |
JP2012227321A (en) | Method of manufacturing circuit board | |
CA2862587A1 (en) | Method and arrangement for transferring electrically conductive material in fluid form on a substrate to be printed | |
JP5569007B2 (en) | Solder jet device | |
JP4760621B2 (en) | Tape circuit board manufacturing method and tape circuit board | |
JP2017052982A (en) | Metallic ball formation device and metallic ball formation method | |
US9211567B2 (en) | Method and apparatus for applying a material on a substrate | |
JP2005303181A (en) | Device and method for forming bump | |
JPH0360036A (en) | Formation of bump | |
JP2005317744A (en) | Method for manufacturing metal wiring, electro-optical device and electronic apparatus | |
JP2010098156A (en) | Semiconductor device, method of manufacturing semiconductor device, electronic device | |
Pan et al. | Solder jet printhead for deposition of molten metal drops |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20110301 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20120516 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20120919 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |