JP2009211046A - Image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus - Google Patents

Image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming apparatus suppressing contamination of the environment and a charged body with a discharge product generated by a corona charger, and to provide a process cartridge for image forming apparatus. <P>SOLUTION: The image forming apparatus includes: a photoreceptor having a crosslinked surface layer 39; and a corona charger for charging the photoreceptor the charging grid surface of which includes a coat layer containing at least zeolite, a conductive agent and a binder resin. The photoreceptor is preferably a function separating type photoreceptor including a charge blocking layer, a moire prevention layer, a charge generation layer 35, a charge transport layer 37 and a crosslinked surface layer 39, which are provided in this order on a conductive support 31. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は複写機やレーザープリンター及びファクシミリ等で用いられる画像形成装置および画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。
具体的には長期使用において極めて高い機械的耐久性および安定した電気特性を維持し、さらにコロナ帯電器より発生する放電生成物に起因する画像ボケ等の異常画像が発生しない高い信頼性を実現した画像形成装置および画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。
The present invention relates to an image forming apparatus used in a copying machine, a laser printer, a facsimile, and the like, and a process cartridge for the image forming apparatus.
Specifically, it has maintained extremely high mechanical durability and stable electrical characteristics in long-term use, and has achieved high reliability that does not cause abnormal images such as image blur due to discharge products generated from the corona charger. The present invention relates to an image forming apparatus and a process cartridge for the image forming apparatus.

一般に画像形成装置は、一様に帯電された感光体上に画像データにより変調された書込光を照射して、感光体上に静電潜像を形成し、この静電潜像の形成された感光体に現像部によりトナーを供給してトナー画像を感光体上に形成して現像する。画像形成装置はこの感光体上のトナー画像を転写部で転写紙(記録紙、或いは中間転写体)に転写した後、定着部で転写紙上に転写したトナーを加熱・加圧して定着させ、感光体表面に残留したトナーをクリーニング部で掻き取る等の方法により回収するという画像形成プロセスが行われている。   In general, an image forming apparatus irradiates a uniformly charged photoconductor with writing light modulated by image data to form an electrostatic latent image on the photoconductor, and this electrostatic latent image is formed. Toner is supplied to the photoreceptor by a developing unit, and a toner image is formed on the photoreceptor and developed. The image forming apparatus transfers the toner image on the photosensitive member to transfer paper (recording paper or intermediate transfer member) at the transfer portion, and then heats and pressurizes the toner transferred onto the transfer paper at the fixing portion to fix the toner image. An image forming process is performed in which toner remaining on the body surface is collected by a method such as scraping by a cleaning unit.

ここで被帯電体である感光体を帯電する手段としてコロナ帯電器が一般的に用いられる。コロナ放電は、不均一な電界中で行われる局所的な空気の絶縁破壊によって生じる持続的な放電である。一般には、微小径のワイヤをアルミなどのシールドケース中に張り、そのシールドケースの一部を削除したような構造をしている。その削除された領域からコロナイオンが放出される構成となっている。コロナワイヤに印加する電圧を増加していくと、ワイヤの周囲に局所的な強い電場が形成され、部分的な空気の絶縁破壊が起こり、放電が持続する。これがコロナ放電である。   Here, a corona charger is generally used as a means for charging the photosensitive member which is a member to be charged. Corona discharge is a sustained discharge caused by local air breakdown that occurs in a non-uniform electric field. In general, the structure is such that a small diameter wire is stretched in a shield case such as aluminum and a part of the shield case is deleted. Corona ions are released from the deleted region. As the voltage applied to the corona wire is increased, a strong local electric field is formed around the wire, causing partial breakdown of air and sustaining the discharge. This is corona discharge.

コロナ放電の放電形態は、印加電圧の極性により大きく左右される。正コロナ放電の場合は、コロナワイヤ面に均一な放電が形成される。負コロナ放電の場合は、ストリーマ放電が点在する形の放電形態となる。正コロナ放電は帯電の均一性が良好であるが、負コロナ放電では放電ムラが発生する。また、放電により発生するオゾンの量は負コロナの方が正コロナよりも一桁程度多く、環境に対する負荷も大きい。   The discharge mode of corona discharge greatly depends on the polarity of the applied voltage. In the case of normal corona discharge, a uniform discharge is formed on the corona wire surface. In the case of negative corona discharge, a discharge form in which streamer discharge is scattered is obtained. Positive corona discharge has good charging uniformity, but negative corona discharge causes discharge unevenness. In addition, the amount of ozone generated by discharge is about an order of magnitude greater in the negative corona than in the positive corona, and the load on the environment is also large.

次にコロナ帯電器およびその特徴について、形態別に説明を行う。
(1)コロトロン型コロナ帯電器
コロトロン型コロナ帯電器とそれを用いた帯電法の構成を図1(a)に示す。コロトロン型コロナ帯電器は直径50〜100μmのタングステンワイヤを1cm程度離して金属でシールドした構成である。開口面を被帯電体に対向して配置した状態で、コロナワイヤに5〜10kVの高電圧を印加し、これによって発生した正または負イオンを被帯電体表面に移動させて帯電する。図2(a)に示すようにコロトロン型コロナ帯電器は一定量の電荷発生を行うので、被帯電体表面を均一に一定電位に帯電することは必ずしも得意ではない。一定電荷を記録紙に与えることを目的とする転写用の帯電器としては特に有効である。
Next, the corona charger and its features will be described by form.
(1) Corotron-type corona charger A configuration of a corotron-type corona charger and a charging method using the same is shown in FIG. The corotron-type corona charger has a structure in which a tungsten wire having a diameter of 50 to 100 μm is shielded with a metal about 1 cm apart. A high voltage of 5 to 10 kV is applied to the corona wire in a state where the opening surface is arranged to face the member to be charged, and positive or negative ions generated thereby are moved to the surface of the member to be charged and charged. As shown in FIG. 2 (a), the corotron type corona charger generates a certain amount of charge, and is not necessarily good at uniformly charging the surface of the object to be charged at a constant potential. It is particularly effective as a transfer charger intended to give a constant charge to the recording paper.

(2)スコロトロン型コロナ帯電器
スコロトロン型コロナ帯電器は、被帯電体表面の帯電電位のムラを少なくするために考案されたものである。図1(b)に示すようにコロトロンの開口面に数本のワイヤ或いはメッシュをグリッド電極として配置した構成である。このスコロトロン型帯電器の開口面を被帯電体に対向させ、グリッド電極にバイアス電圧を印加する。
スコロトロン型コロナ帯電器の帯電特性を図2(b)に示す。スコロトロン型コロナ帯電器の特徴は帯電時間が長くなってもグリッド電極に印加された電圧によって帯電電位が規制され、表面電位が飽和することである。この飽和値はグリッド印加電圧により制御できる。スコロトロン型コロナ帯電器は、コロトロン型に比べて構造が複雑で帯電効率も劣るが、帯電電位の均一性に優れ、広く使用される。電子写真方式の画像形成装置におけるグリッド電極は帯電グリッドと呼ばれる。
(2) Scorotron-type corona charger The scorotron-type corona charger has been devised in order to reduce the unevenness of the charged potential on the surface of the object to be charged. As shown in FIG. 1B, several wires or meshes are arranged as grid electrodes on the opening surface of the corotron. The opening surface of the scorotron charger is made to face the member to be charged, and a bias voltage is applied to the grid electrode.
FIG. 2B shows charging characteristics of the scorotron type corona charger. A feature of the scorotron type corona charger is that the charging potential is regulated by the voltage applied to the grid electrode even when the charging time is long, and the surface potential is saturated. This saturation value can be controlled by the grid applied voltage. The scorotron-type corona charger has a complicated structure and inferior charging efficiency as compared with the corotron-type, but is excellent in uniformity of charging potential and widely used. The grid electrode in the electrophotographic image forming apparatus is called a charging grid.

前述の帯電器として特に負極性のコロナ放電を行うコロナ帯電器を用いた場合、放電により空気中の物質が反応し放電生成物と呼ばれる物質が生成されることが知られている。その中には酸素が酸化されたオゾン(O3)や、オゾンによって窒素が酸化された一酸化窒素(NO)および二酸化窒素(NO2)等の窒素酸化物(NOx)が含まれている。オゾンは0.1ppm程度で臭気を感じ、呼吸器系に悪影響を与える物質である。窒素酸化物はその中でも二酸化窒素(NO2)が人の呼吸器に悪影響を与えるため、環境基準で一時間値の一日平均値が0.04〜0.06ppm以下と定められているのに加え、窒素酸化物は紫外線による光化学反応で光化学オキシダント(Ox)という物質に変化し、この物質も0.06ppm以下と環境基準が定められている。放電によるそれぞれの発生量はオゾンが数10ppm、窒素酸化物が数ppmであり、現状においては活性炭等のフィルターを用いて画像形成装置外への排出量を削減することで環境への負荷を低減している。 In particular, when a corona charger that performs negative corona discharge is used as the above-described charger, it is known that a substance in the air reacts by discharge to generate a substance called a discharge product. It contains ozone (O 3 ) in which oxygen is oxidized and nitrogen oxides (NOx) such as nitrogen monoxide (NO) and nitrogen dioxide (NO 2 ) in which nitrogen is oxidized by ozone. Ozone is a substance that feels odor at about 0.1 ppm and adversely affects the respiratory system. Among nitrogen oxides, nitrogen dioxide (NO 2 ) has an adverse effect on human respiratory organs, but the daily average of hourly values is determined to be 0.04 to 0.06 ppm or less according to environmental standards. In addition, nitrogen oxides are converted into a substance called photochemical oxidant (Ox) by a photochemical reaction by ultraviolet rays, and the environmental standard is also set to 0.06 ppm or less for this substance. The amount of each discharge is several tens of ppm for ozone and several ppm for nitrogen oxides. At present, reducing the amount of discharge outside the image forming apparatus using a filter such as activated carbon reduces the burden on the environment. is doing.

一方、コロナ帯電器から発生する放電生成物は画像品質にも悪影響を与えることがある。具体的には長時間放電後の放置によるコロナ帯電器直下において濃度ムラが発生する場合がある。これは画像形成動作中の放電時に発生し、コロナ帯電器の内壁に付着した放電生成物が、装置が停止している間に徐々に被帯電体を汚染し、コロナ帯電器直下部とそれ以外の部分において表面電位差が生じ、結果として画像濃度ムラが発生するというものである。この課題は20%RH程度の低湿環境下でより顕著に発生し、常温常湿環境下に置かれることで次第に回復する。被帯電体表面が放電生成物と可逆的に反応し、静電容量が増大または抵抗が低下しているために電位差が生じることが確認されている。いずれの感光体においても発生が確認されているが、特に高い機械的耐久性を有する架橋表面層を設けた感光体での発生が顕著である。図3にコロナ帯電器直下の濃度ムラを説明する模式図を示す。   On the other hand, the discharge products generated from the corona charger may adversely affect the image quality. Specifically, density unevenness may occur immediately under the corona charger after being left for a long time. This occurs at the time of discharge during the image forming operation, and the discharge product adhering to the inner wall of the corona charger gradually contaminates the object to be charged while the device is stopped. A surface potential difference is generated in this portion, and as a result, image density unevenness occurs. This problem occurs more prominently in a low humidity environment of about 20% RH, and gradually recovers when placed in a normal temperature and normal humidity environment. It has been confirmed that the surface of the object to be charged reacts reversibly with the discharge product, and the potential difference is generated because the capacitance increases or the resistance decreases. Although occurrence has been confirmed in any of the photoreceptors, the occurrence is particularly remarkable in a photoreceptor provided with a crosslinked surface layer having high mechanical durability. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining density unevenness directly under the corona charger.

さらに放電生成物は画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)といった解像度低下を引き起こす場合もある。これは紙粉付着や使用環境にも依存するが主たる要因は放電生成物であり、放電を伴う帯電方式を使用している現状においては程度に差こそあれ、画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)が生じている。放電生成物の発生量が少ない、注入帯電方式においても画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)は発生するのが実情である。前記要因で起こる画像流れは原因物質を除去するために感光体を必要最小限に研摩したり、研摩できない場合には感光体を加熱することによって放電生成物を揮発させ、感光体表面を清浄な状態に回復する事が出来るが、感光体の寿命の低下、電力やスペース、制御手段などが課題となる。また近年開発が進められている高耐久感光体では感光体の摩耗量が著しく少ないため、画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)の原因物質の除去が従来よりも困難になっており、機械的耐久性と放電生成物に起因した異常画像の発生を抑制することの両立が本分野の大きな課題となっている。   Further, the discharge product may cause a reduction in resolution such as image flow (or image flow, image blur, etc.). This depends on paper dust adhesion and the usage environment, but the main factor is the discharge product. In the current state of using a charging method with discharge, the image flow (or image flow, image blur) Etc.) has occurred. In reality, image flow (or image flow, image blur, etc.) is generated even in the injection charging method in which the amount of discharge products is small. The image flow caused by the above factors causes the photosensitive member to be polished to the minimum necessary to remove the causative substance, and if the polishing cannot be performed, the discharge product is volatilized by heating the photosensitive member to clean the surface of the photosensitive member. Although the state can be recovered, there are problems such as a reduction in the life of the photoreceptor, power and space, and control means. In addition, high durability photoconductors that have been developed in recent years have much less wear on the photoconductor, so that it is more difficult to remove causative substances of image flow (or image flow, image blur, etc.) than before. Compatibility between the mechanical durability and the suppression of the occurrence of abnormal images due to discharge products is a major issue in this field.

画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)が発生する原因を推定すると、放電生成物が最初点状(しみ状)に感光体に付着し、その後次第に拡散してゆく。放電生成物が付着しても初期段階では画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)は起こらないが、これが除去されないと次第に付着面積が広がり、感光体表面には吸湿性の低抵抗領域が形成される。画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)は画像形成中の電荷が感光体表面もしくはその近傍で拡散して露光パターンに忠実な形状の静電潜像が形成されず、エッジが不鮮明でぼやけた画像になる現象である。すなわち、静電潜像が形成される際に、感光体に低抵抗領域が有るとそこで電荷の拡散が生じ、静電潜像が乱れるために発生する現象である。図4に画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)を説明する模式図を示す。   When the cause of the occurrence of image flow (or image flow, image blur, etc.) is estimated, the discharge product first adheres to the photoconductor in the form of spots (stains) and then gradually diffuses. Even if the discharge product adheres, image flow (or image flow, image blur, etc.) does not occur in the initial stage, but if this is not removed, the adhesion area gradually increases and a hygroscopic low-resistance region is formed on the surface of the photoreceptor. Is done. In image flow (or image flow, image blur, etc.), the charge during image formation diffuses on or near the surface of the photoconductor, so that an electrostatic latent image that is faithful to the exposure pattern is not formed, and the edges are blurred and blurred This is an image phenomenon. That is, when an electrostatic latent image is formed, if the photosensitive member has a low resistance region, charge diffusion occurs there and the electrostatic latent image is disturbed. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining image flow (or image flow, image blur, etc.).

図4では電荷が拡散した様子を示しているが、これに対して感光体としては抵抗値の変化が少ないほど電荷の拡散が抑制できる為、画像流れ(又は像流れ、画像ボケなど)については余裕度が高く、解像度低下も小さくなる。抵抗値の変化が大きく、体積抵抗率が1012(Ω・cm)以下になると明らかな画像流れが発生し、解像度が著しく低下する。この時、電位形状としては矩形波の電位形状とならず、鈍った電位形状となり、帯電電位の低下、露光部電位の上昇が起こり、電位コントラストが狭い電位形状を示す。これらの現象は感光体の使用経時や、湿度の上昇と共に悪化する傾向にある。 FIG. 4 shows a state where charges are diffused. On the other hand, as the change in resistance value of the photosensitive member is smaller, the diffusion of charges can be suppressed. The margin is high and the reduction in resolution is small. When the change of the resistance value is large and the volume resistivity is 10 12 (Ω · cm) or less, a clear image flow occurs and the resolution is remarkably lowered. At this time, the potential shape does not become a rectangular wave potential shape, but becomes a dull potential shape, the charging potential decreases and the exposure portion potential increases, and the potential shape has a narrow potential contrast. These phenomena tend to worsen with the lapse of time of use of the photoreceptor and with an increase in humidity.

さらにコロナ放電を行うスコロトロン帯電器を用いた画像形成装置では、出力画像に雨だれ状のムラが発生することがある。これはコロナ帯電器による感光体の帯電において、小さな範囲で帯電量に大きなムラが存在することによるものである。このムラが生じるのは例えば帯電ワイヤに付着したトナーやその添加剤であるシリカや放電生成物の局部的な付着による放電不良や、帯電グリッドに同様の電気抵抗の高い物質が付着し、放電され発生した電荷がグリッドを流れず感光体への移動量が増加した、または静電容量が高くなった帯電グリッド自体が帯電し、帯電グリッドに印加した電圧以上に感光体表面電位が局所的に上がってしまうことが考えられる。   Further, in an image forming apparatus using a scorotron charger that performs corona discharge, raindrop-like unevenness may occur in the output image. This is due to the presence of large unevenness in the charge amount in a small range in charging of the photosensitive member by the corona charger. This unevenness is caused by, for example, defective discharge due to local adhesion of the toner adhering to the charging wire, silica as its additive, or the discharge product, or a similar substance having high electric resistance adheres to the charging grid and is discharged. The generated charge does not flow through the grid and the amount of movement to the photoconductor increases, or the charged grid itself increases in electrostatic capacity, and the surface potential of the photoconductor rises locally above the voltage applied to the charge grid. It can be considered.

これまでコロナ帯電器に対しては様々な検討がされてきており、特許文献1ではコロナ帯電器のステンレス材質で構成される帯電グリッドがグラファイト粒子、ニッケル粒子、アルミニウム化合物粒子と有機樹脂バインダを含有する導電性塗料を塗布したもので構成され、制御電極の放電生成物による腐食を抑止し、生成された放電生成物を導電性皮膜が吸収することで被帯電体の汚染を抑制している。皮膜中の微粒子が放電生成物を吸収する作用を利用しているが、吸収可能な量は粒子の吸着サイトの数で決まってしまうため、経時での使用においては吸着サイトが埋もれるのが早く、効果が薄れてしまうことが予想される。また特許文献2ではコロナ帯電器に開口部を設け、そこに設置した微細に区画された連通開口にオゾン吸着粒子層を形成することによりオゾンの拡散を抑制している。オゾン吸着粒子にはゼオライトおよび活性炭が用いられている。この発明によるとオゾンの拡散をある程度、抑制することは可能であるが、被帯電体側への拡散を十分に抑制することが出来ておらず、つまり被帯電体汚染も十分に抑制出来ないため、画像ボケ等の異常画像の発生が免れなかった。さらに、特許文献3では被帯電体表面に付着した放電生成物を吸着する生成物除去手段に加え、被帯電体表面に放電生成物を付着させ難くする生成物付着防止手段と、被帯電体表面に付着した放電生成物が低抵抗化するのを防止する低抵抗化防止手段と、被帯電体表面近傍での放電生成物の発生量を少なくする生成物発生防止手段のうちの少なくとも1つを設けた構成となっており、ゼオライト等の吸着剤を被帯電体とコロナ帯電器の間に配置させる例もあるが、もう1つ別の放電生成物吸着手段を被帯電体に接触させることが必須となっており、複数の部材が必要となる。また、吸着剤を被帯電体とコロナ帯電器との間に配置させると被帯電体の帯電が不安定となることが予想される。以上のように現状においては長期間に渡り満足できる高画質画像出力が実現されていない。
特開2005−227470号公報 実開昭62−089660号公報 特開2003−43894号公報
Various studies have been made on corona chargers so far. In Patent Document 1, a charging grid made of a stainless steel corona charger contains graphite particles, nickel particles, aluminum compound particles, and an organic resin binder. The electroconductive coating is applied, the corrosion by the discharge product of the control electrode is suppressed, and the generated discharge product is absorbed by the conductive film, thereby suppressing the contamination of the object to be charged. The fine particles in the film use the action of absorbing the discharge product, but the amount that can be absorbed is determined by the number of adsorption sites of the particles, so the adsorption sites are quickly buried when used over time. The effect is expected to fade. Further, in Patent Document 2, an opening is provided in a corona charger, and ozone diffusion is suppressed by forming an ozone adsorbing particle layer in a finely divided communication opening installed there. Zeolite and activated carbon are used for the ozone adsorption particles. According to this invention, it is possible to suppress the diffusion of ozone to some extent, but the diffusion to the charged body side cannot be sufficiently suppressed, that is, the charged object contamination cannot be sufficiently suppressed. The occurrence of abnormal images such as image blur was inevitable. Further, in Patent Document 3, in addition to the product removing means for adsorbing the discharge product attached to the surface of the member to be charged, the product adhesion preventing means for making it difficult to attach the discharge product to the surface of the member to be charged; At least one of a resistance reduction preventing means for preventing the discharge product adhering to the resistance from decreasing and a product generation preventing means for reducing the amount of discharge product generated in the vicinity of the surface of the member to be charged. Although there is an example in which an adsorbent such as zeolite is disposed between a charged object and a corona charger, another discharge product adsorbing means may be brought into contact with the charged object. It is essential and a plurality of members are required. Further, when the adsorbent is disposed between the charged body and the corona charger, it is expected that charging of the charged body becomes unstable. As described above, at present, high-quality image output that can be satisfied over a long period of time has not been realized.
JP 2005-227470 A Japanese Utility Model Publication No. 62-089660 JP 2003-43894 A

本発明は上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、コロナ帯電器にて発生する放電生成物による環境や被帯電体の汚染を抑制可能である画像形成装置および画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an image forming apparatus and an image forming apparatus process capable of suppressing contamination of an environment and a charged body due to discharge products generated by a corona charger. An object is to provide a cartridge.

本発明者は前述の課題を解決すべく鋭意検討した結果、帯電グリッドに放電生成物除去機能を持たせることにより、複数の部材を必要とせずに、長期にわたりコロナ帯電器から発生する放電生成物による大気汚染や被帯電体の汚染を防ぐことができ、環境負荷の低減と同時に感光体の変質を防ぎ、コロナ帯電器で発生する放電生成物に起因した異常画像の発生が抑制でき、機械的耐久性の高い感光体を併せて用いることで長期間にわたり、非常に高い信頼性を有する高画質画像出力が実現できることを見出し本発明に到達した。すなわち、本発明は以下の構成要件により完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has obtained a discharge product removal function in the charging grid, so that a discharge product generated from the corona charger over a long period of time without requiring a plurality of members. Can prevent air pollution and contamination of the charged body, reduce the environmental load, and at the same time, prevent the photoconductor from deteriorating, and can suppress the occurrence of abnormal images due to the discharge products generated by the corona charger. It has been found that a high-quality image output with very high reliability can be realized over a long period of time by using a highly durable photoconductor together, and the present invention has been achieved. That is, the present invention has been completed by the following constituent requirements.

(1)架橋表面層を有する感光体を有し、且つ、該感光体を帯電させるコロナ帯電器の帯電グリッド表面が少なくともゼオライト、導電剤およびバインダー樹脂を含むコート層を有することを特徴とする画像形成装置。
(2)前記感光体が導電性支持体上に電荷ブロッキング層、モアレ防止層、電荷発生層、電荷輸送層、架橋表面層の順に設けられた機能分離型の感光体であることを特徴とする(1)記載の画像形成装置。
(3)前記導電剤が酸化インジウムスズであることを特徴とする(1)又は(2)に記載の画像形成装置。
(4)前記バインダー樹脂がフェノール樹脂であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(5)前記フェノール樹脂がレゾール型であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(6)前記架橋表面層が光硬化により形成されたことを特徴とする(1)〜(5)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(7)前記光硬化が、紫外線によって行われたことを特徴とする(6)に記載の画像形成装置。
(8)前記架橋表面層が3官能以上の電荷輸送性構造を有さない重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする(1)〜(7)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(9)前記架橋表面層が5官能以上の電荷輸送性構造を有さない重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする(1)〜(8)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(10)前記架橋表面層が1官能以上の電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする(1)〜(9)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(11)前記架橋表面層が2官能以上の電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする(1)〜(10)のいずれか一項に記載の画像形成装置。
(12)(1)乃至(11)のいずれか一項に記載の画像形成装置に用いるプロセスカートリッジであって、少なくともコロナ帯電器によって帯電させられた感光体表面に静電潜像を形成する潜像形成器と、潜像形成器によって形成された静電潜像にトナーを付着させる現像器と、現像器よって形成されたトナー像を被転写体に転写させる転写器と、転写後に感光体表面に残留したトナーを感光体表面から除去するクリーニング器の1つ以上と、感光体とを組み合わせて造られ、画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
(1) An image having a photoconductor having a crosslinked surface layer, and the surface of the charging grid of a corona charger for charging the photoconductor having a coat layer containing at least zeolite, a conductive agent and a binder resin. Forming equipment.
(2) The photoreceptor is a function-separated photoreceptor in which a charge blocking layer, a moire preventing layer, a charge generation layer, a charge transport layer, and a crosslinked surface layer are provided in this order on a conductive support. (1) The image forming apparatus according to (1).
(3) The image forming apparatus according to (1) or (2), wherein the conductive agent is indium tin oxide.
(4) The image forming apparatus according to any one of (1) to (3), wherein the binder resin is a phenol resin.
(5) The image forming apparatus according to any one of (1) to (4), wherein the phenol resin is a resol type.
(6) The image forming apparatus according to any one of (1) to (5), wherein the crosslinked surface layer is formed by photocuring.
(7) The image forming apparatus according to (6), wherein the photocuring is performed by ultraviolet rays.
(8) Any one of (1) to (7), wherein the crosslinked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having no tri- or higher functional charge transporting structure. The image forming apparatus described in the item.
(9) Any one of (1) to (8), wherein the crosslinked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having no pentafunctional or higher functional charge transport structure. The image forming apparatus described in the item.
(10) In any one of (1) to (9), the cross-linked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having a mono- or higher functional charge transporting structure. The image forming apparatus described.
(11) In any one of (1) to (10), the cross-linked surface layer is formed using a coating solution containing a polymerizable compound having a bifunctional or higher functional charge transporting structure. The image forming apparatus described.
(12) A process cartridge for use in the image forming apparatus according to any one of (1) to (11), wherein the latent image forms an electrostatic latent image on the surface of the photosensitive member charged by at least a corona charger. An image forming unit, a developing unit that attaches toner to the electrostatic latent image formed by the latent image forming unit, a transfer unit that transfers the toner image formed by the developing unit to a transfer target, and the surface of the photoconductor after transfer A process cartridge for an image forming apparatus, wherein the process cartridge is made by combining one or more cleaning devices for removing toner remaining on the surface of the photosensitive member and the photosensitive member, and is detachable from the main body of the image forming apparatus.

本発明によると従来における諸問題を解決でき、長期間の使用において極めて高い機械的耐久性および安定した電気特性を維持し、さらにコロナ帯電器で発生する放電生成物に起因した画像ボケ等の異常画像が発生しない高い信頼性を実現した画像形成装置および画像形成装置用プロセスカートリッジが提供される。   According to the present invention, conventional problems can be solved, extremely high mechanical durability and stable electrical characteristics can be maintained over a long period of use, and abnormalities such as image blur caused by discharge products generated by a corona charger Provided are an image forming apparatus and a process cartridge for an image forming apparatus that realize high reliability without generating an image.

まず本発明の感光体について図面に沿って説明する。図5は、本発明の感光体の構成を表わす断面図であり、導電性支持体31上に、感光層33と架橋表面層39が設けられている。図6は、本発明の感光体の別の構成例を示す断面図であり、導電性支持体31上に、電荷発生層35、電荷輸送層37と架橋表面層39が設けられている。図7は、本発明の更に別の構成を表す断面図であり、導電性支持体31上に、中間層41、電荷発生層35、電荷輸送層37と架橋表面層39が設けられている。
図8は、本発明の感光体の別の構成例を示す断面図であり、導電性支持体31上に、中間層41、電荷発生層35、架橋表面層39が設けられている。
First, the photoreceptor of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of the photoreceptor of the present invention. A photosensitive layer 33 and a crosslinked surface layer 39 are provided on a conductive support 31. FIG. 6 is a cross-sectional view showing another configuration example of the photoconductor of the present invention. A charge generation layer 35, a charge transport layer 37, and a cross-linked surface layer 39 are provided on a conductive support 31. FIG. 7 is a cross-sectional view showing still another configuration of the present invention, in which an intermediate layer 41, a charge generation layer 35, a charge transport layer 37 and a crosslinked surface layer 39 are provided on a conductive support 31.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing another structural example of the photoconductor of the present invention. An intermediate layer 41, a charge generation layer 35, and a cross-linked surface layer 39 are provided on a conductive support 31.

導電性支持体31としては、体積抵抗1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理した管などを使用することができる。また、エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。 Examples of the conductive support 31 include those having a volume resistance of 10 10 Ω · cm or less, for example, metals such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, gold, silver, platinum, tin oxide, indium oxide, etc. The metal oxides of the above are coated with film or cylindrical plastic or paper by vapor deposition or sputtering, or a plate of aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel, etc. and the like by extrusion, drawing, etc. After pipe formation, surface treatment pipes such as cutting, superfinishing, and polishing can be used. Endless nickel belts and endless stainless steel belts can also be used as the conductive support.

この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性支持体として用いることができる。この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉体などがあげられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂があげられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。   In addition, the conductive support dispersed in a suitable binder resin on the support can be used as the conductive support of the present invention. Examples of the conductive powder include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc and silver, or metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. It is done. The binder resin used at the same time is polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. , Polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinyl carbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, Examples thereof include thermoplastic, thermosetting resins, and photocurable resins such as melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin. Such a conductive layer can be provided by dispersing and coating these conductive powder and binder resin in a suitable solvent such as tetrahydrofuran, dichloromethane, methyl ethyl ketone, and toluene.

更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン(登録商標)などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。   Furthermore, it is electrically conductive by a heat shrinkable tube in which the conductive powder is contained in a material such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, Teflon (registered trademark) on a suitable cylindrical substrate. Those provided with a conductive layer can also be used favorably as the conductive support of the present invention.

また、これらの中でも陽極酸化皮膜処理を簡便に行うことのできるアルミニウムからなる円筒状支持体が最も良好に使用できる。ここでいうアルミニウムとは、純アルミニウム系あるいはアルミニウム合金のいずれをも含むものである。具体的には、JIS 1000番台、3000番台、6000番台のアルミニウムあるいはアルミニウム合金が最も適している。陽極酸化皮膜は各種金属、各種合金を電解質溶液中において陽極酸化処理したものであるが、中でもアルミニウムもしくはアルミニウム合金を電解質溶液中で陽極酸化処理を行ったアルマイトと呼ばれる被膜が本発明に用いる感光体には最も適している。特に、反転現像(ネガ及びポジ現像)に用いた際に発生する点欠陥(黒ポチ、地汚れ)を防止する点で優れている。   Of these, a cylindrical support made of aluminum, which can be easily subjected to the anodic oxide film treatment, can be most preferably used. As used herein, aluminum includes both pure aluminum and aluminum alloys. Specifically, JIS 1000 series, 3000 series, and 6000 series aluminum or aluminum alloy is most suitable. The anodized film is obtained by anodizing various metals and various alloys in an electrolyte solution. Among them, a film called anodized aluminum or an aluminum alloy that has been anodized in an electrolyte solution is used in the present invention. Is the most suitable. In particular, it is excellent in preventing point defects (black spots, background stains) that occur when used in reversal development (negative and positive development).

陽極酸化処理は、クロム酸、硫酸、蓚酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸などの酸性浴中において行われる。このうち、硫酸浴による処理が最も適している。一例を挙げると、硫酸濃度:10〜20%、浴温:5〜25℃、電流密度:1〜4A/dm2、電解電圧:5〜30V、処理時間:5〜60分程度の範囲で処理が行われるが、これに限定するものではない。このように作製される陽極酸化皮膜は、多孔質であり、また絶縁性が高いため、表面が非常に不安定な状況である。このため、作製後の経時変化が存在し、陽極酸化皮膜の物性値が変化しやすい。これを回避するため、陽極酸化皮膜を更に封孔処理することが好ましい。封孔処理には、フッ化ニッケルや酢酸ニッケルを含有する水溶液に陽極酸化皮膜を浸漬する方法、陽極酸化皮膜を沸騰水に浸漬する方法、加圧水蒸気により処理する方法などがある。このうち、酢酸ニッケルを含有する水溶液に浸漬する方法が最も好ましい。封孔処理に引き続き、陽極酸化皮膜の洗浄処理が行われる。これは、封孔処理により付着した金属塩等の過剰なものを除去することが主な目的である。これが支持体(陽極酸化皮膜)表面に過剰に残存すると、この上に形成する塗膜の品質に悪影響を与えるだけでなく、一般的に低抵抗成分が残ってしまうため、逆に地汚れの発生原因にもなってしまう。洗浄は純水1回の洗浄でも構わないが、通常は多段階の洗浄を行う。この際、最終の洗浄液が可能な限りきれい(脱イオンされた)ものであることが好ましい。また、多段階の洗浄工程のうち1工程に接触部材による物理的なこすり洗浄を施すことが好ましい。以上のようにして形成される陽極酸化皮膜の膜厚は、5〜15μm程度が好ましい。これより薄すぎる場合には陽極酸化皮膜としてのバリア性の効果が充分でなく、これより厚すぎる場合には電極としての時定数が大きくなりすぎて、残留電位の発生や感光体のレスポンスが低下する場合がある。 The anodizing treatment is performed in an acidic bath such as chromic acid, sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, boric acid, sulfamic acid. Of these, treatment with a sulfuric acid bath is most suitable. For example, sulfuric acid concentration: 10 to 20%, bath temperature: 5 to 25 ° C., current density: 1 to 4 A / dm 2 , electrolytic voltage: 5 to 30 V, treatment time: treatment in the range of about 5 to 60 minutes However, the present invention is not limited to this. Since the anodic oxide film produced in this way is porous and has high insulation, the surface is very unstable. For this reason, there is a change with time after fabrication, and the physical property value of the anodized film is likely to change. In order to avoid this, it is preferable to further seal the anodized film. Examples of the sealing treatment include a method of immersing the anodized film in an aqueous solution containing nickel fluoride and nickel acetate, a method of immersing the anodized film in boiling water, and a method of treating with pressurized steam. Among these, the method of immersing in the aqueous solution containing nickel acetate is the most preferable. Subsequent to the sealing treatment, the anodic oxide film is washed. The main purpose of this is to remove excess metal salts and the like attached by the sealing treatment. If this remains excessively on the surface of the support (anodized film), it not only adversely affects the quality of the coating film formed on this surface, but also generally low resistance components remain, resulting in the occurrence of soiling. It can also be a cause. Cleaning may be performed with pure water only once, but usually, multistage cleaning is performed. At this time, it is preferable that the final cleaning liquid is as clean (deionized) as possible. Moreover, it is preferable to perform physical rubbing cleaning with a contact member in one of the multi-stage cleaning processes. The thickness of the anodized film formed as described above is preferably about 5 to 15 μm. If it is too thin, the barrier effect as an anodic oxide film is not sufficient, and if it is too thick, the time constant as an electrode becomes too large, resulting in the generation of residual potential and the response of the photoreceptor. There is a case.

本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層(電荷発生層)との間に中間層を設けることができる。中間層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶媒で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが好ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、中間層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。   In the photoreceptor of the present invention, an intermediate layer can be provided between the conductive support and the photosensitive layer (charge generation layer). The intermediate layer generally contains a resin as a main component, but these resins are preferably resins having a high solvent resistance with respect to a general organic solvent in consideration of applying a photosensitive layer thereon with a solvent. . Examples of such resins include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein, and sodium polyacrylate, alcohol-soluble resins such as copolymer nylon and methoxymethylated nylon, polyurethane, melamine resin, phenol resin, alkyd-melamine resin, and epoxy. Examples thereof include a curable resin that forms a three-dimensional network structure such as a resin. Further, fine powder pigments of metal oxides exemplified by titanium oxide, silica, alumina, zirconium oxide, tin oxide, indium oxide and the like may be added to the intermediate layer in order to prevent moire and reduce residual potential.

これらの中間層は前述の感光層の如く適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の中間層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の中間層には、Al23を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン(パリレン)等の有機物やSiO2、SnO2、TiO2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。中間層の膜厚は0〜5μmが適当である。 These intermediate layers can be formed by using an appropriate solvent and coating method like the above-mentioned photosensitive layer. Furthermore, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a chromium coupling agent, or the like can be used as the intermediate layer of the present invention. In addition, in the intermediate layer of the present invention, Al 2 O 3 is provided by anodic oxidation, organic matter such as polyparaxylylene (parylene), SiO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ITO, CeO 2, etc. Those provided with an inorganic material by a vacuum thin film forming method can also be used satisfactorily. In addition, known ones can be used. The thickness of the intermediate layer is suitably from 0 to 5 μm.

中間層41は、感光体の帯電時に電極側に誘起される逆極性の電荷の感光層への注入を防止する機能と、レーザー光のようなコヒーレント光による書き込み時に生じるモアレを防止する機能の少なくとも2つの機能を有する。この機能を2つ以上の層に機能分離した機能分離型中間層は、本発明に用いられる感光体には有効な手段である。以下に、電荷ブロッキング層とモアレ防止層の機能分離型中間層について説明する。   The intermediate layer 41 has at least a function of preventing injection of reverse polarity charges induced on the electrode side to the photosensitive layer when the photosensitive member is charged, and a function of preventing moire generated when writing with coherent light such as laser light. It has two functions. A function separation type intermediate layer in which this function is separated into two or more layers is an effective means for the photoreceptor used in the present invention. The function separation type intermediate layer of the charge blocking layer and the moire preventing layer will be described below.

電荷ブロッキング層は、感光体帯電時に電極(導電性支持体31)に誘起される逆極性の電荷が、支持体から感光層に注入するのを防止する機能を有する層である。負帯電の場合には正孔注入防止、正帯電の場合には電子注入防止の機能を有する。電荷ブロッキング層としては、酸化アルミ層に代表される陽極酸化被膜、SiOに代表される無機系の絶縁層、金属酸化物のガラス質ネットワークから形成される層、ポリフォスファゼンからなる層、アミノシラン反応生成物からなる層、この他には絶縁性の結着剤樹脂からなる層、硬化性の結着剤樹脂からなる層等が挙げられる。中でも湿式塗工法で形成可能な絶縁性の結着樹脂あるいは硬化性の結着樹脂から構成される層が良好に使用できる。電荷ブロッキング層は、その上にモアレ防止層や感光層を積層するものであるから、これらを湿式塗工法で設ける場合には、これらの塗工溶媒により塗膜が侵されない材料あるいは構成からなることが肝要である。   The charge blocking layer is a layer having a function of preventing reverse polarity charges induced in the electrode (conductive support 31) during charging of the photoreceptor from being injected into the photosensitive layer from the support. In the case of negative charging, it has a function of preventing hole injection, and in the case of positive charging, it has a function of preventing electron injection. The charge blocking layer includes an anodized film typified by an aluminum oxide layer, an inorganic insulating layer typified by SiO, a layer formed from a glassy network of metal oxide, a layer made of polyphosphazene, an aminosilane reaction A layer made of a product, a layer made of an insulating binder resin, a layer made of a curable binder resin, and the like can be given. Among them, a layer composed of an insulating binder resin or a curable binder resin that can be formed by a wet coating method can be used favorably. Since the charge blocking layer is formed by laminating a moiré preventing layer and a photosensitive layer thereon, when these are provided by a wet coating method, the charge blocking layer must be composed of a material or a structure that does not attack the coating film by these coating solvents. Is essential.

使用できる結着剤樹脂としては、ポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂例えば、活性水素(−OH基、−NH2基、−NH基等の水素)を複数個含有する化合物とイソシアネート基を複数個含有する化合物及び/又はエポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させた熱硬化性樹脂等も使用できる。この場合活性水素を複数個含有する化合物としては、例えばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシアネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれらのプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等があげられる。中でも、成膜性、環境安定性、溶剤耐性の点などから、ポリアミドが最も良好に用いられる。その中でもN−メトキシメチル化ナイロンが最も好ましい。ポリアミド樹脂は、電荷の注入を抑制する効果が高い上に残留電位に与える影響が少ない。また、これらのポリアミド樹脂は、アルコール可溶性の樹脂であって、ケトン系溶媒には不溶性を示し、また浸漬塗工においても均一な薄膜を形成することができ、塗工性に優れている。特に、この中間層は残留電位上昇の影響を最小限にするために薄膜にする必要がある上、膜厚の均一性が要求されるため、塗工性は画質安定性において重要な意味を持っている。 Usable binder resins include thermoplastic resins such as polyamide, polyester, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and thermosetting resins such as active hydrogen (—OH group, —NH 2 group, —NH group, etc.). A thermosetting resin obtained by thermally polymerizing a compound containing a plurality of (hydrogen) and a compound containing a plurality of isocyanate groups and / or a compound containing a plurality of epoxy groups can also be used. In this case, examples of the compound containing a plurality of active hydrogens include acrylic resins containing active hydrogen such as polyvinyl butyral, phenoxy resin, phenol resin, polyamide, polyester, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polybutylene glycol, and hydroxyethyl methacrylate groups. System resin and the like. Examples of the compound containing a plurality of isocyanate groups include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and prepolymers thereof. Examples of the compound having a plurality of epoxy groups include bisphenol A type epoxy resin. can give. Among these, polyamide is most preferably used from the viewpoint of film formability, environmental stability, solvent resistance, and the like. Of these, N-methoxymethylated nylon is most preferred. The polyamide resin has a high effect of suppressing charge injection and has little influence on the residual potential. These polyamide resins are alcohol-soluble resins, are insoluble in ketone solvents, can form a uniform thin film even in dip coating, and have excellent coating properties. In particular, this intermediate layer needs to be a thin film in order to minimize the effect of the increase in residual potential, and the uniformity of the film thickness is required. Therefore, the coatability has an important meaning in image quality stability. ing.

しかし、一般にアルコール可溶性樹脂は湿度依存性が大きく、それにより低湿環境下では抵抗が高くなり残留電位上昇が、高湿環境下では抵抗が低くなり、帯電低下が引き起こされ、環境依存性が大きいことが大きな課題であった。しかし、N−メトキシメチル化ナイロンは、高い絶縁性を示し、導電性支持体から注入される電荷のブロッキング性に非常に優れている上、残留電位に与える影響が少なく、さらに環境依存性が大幅に低減され、画像形成装置の使用環境が変化しても常に安定した画質を維持することが可能であるため、中間層を積層した場合に最も好適に用いられる。加えて、N−メトキシメチル化ナイロンを用いた場合には残留電位の膜厚依存性が小さく、そのため残留電位への影響を低減し、かつ高い地汚れ抑制効果を得ることが可能となる。   However, in general, alcohol-soluble resins are highly dependent on humidity, which increases resistance in low-humidity environments and increases residual potential.In high-humidity environments, resistance decreases, causing a decrease in charge and increasing environmental dependence. Was a big issue. However, N-methoxymethylated nylon exhibits high insulation properties, is very excellent in blocking the charge injected from the conductive support, has little effect on the residual potential, and is greatly environmentally dependent. Therefore, even when the use environment of the image forming apparatus is changed, it is possible to always maintain a stable image quality. In addition, when N-methoxymethylated nylon is used, the film thickness dependence of the residual potential is small, so that it is possible to reduce the influence on the residual potential and obtain a high scumming suppression effect.

N−メトキシメチル化ナイロンにおけるメトキシメチル基の置換率は、特に限定されるものではないが、15mol%以上であることが好ましい。N−メトキシメチル化ナイロンを用いたことによる上記効果は、メトキシメチル化度によって影響され、メトキシメチル基の置換率がこれより低い場合には、湿度依存性が増加したり、アルコール溶液とした場合に白濁したりする傾向が見られ、塗工液の経時安定性がやや低下する場合がある。   The substitution rate of the methoxymethyl group in N-methoxymethylated nylon is not particularly limited, but is preferably 15 mol% or more. The above effect by using N-methoxymethylated nylon is affected by the degree of methoxymethylation. When the substitution rate of the methoxymethyl group is lower than this, the humidity dependency increases or the alcohol solution is used. In some cases, the aging stability of the coating solution may be slightly reduced.

また、オイルフリーアルキド樹脂とアミノ樹脂例えば、ブチル化メラミン樹脂等を熱重合させた熱硬化性樹脂、さらにまた、不飽和結合を有するポリウレタン、不飽和ポリエステル等の不飽和結合を有する樹脂と、チオキサントン系化合物、メチルベンジルフォルメート等の光重合開始剤との組合せ等の光硬化性樹脂も結着剤樹脂として使用できる。
また、整流性のある導電性高分子や、帯電極性に合わせてアクセプター(ドナー)性の樹脂・化合物などを加えて、基体からの電荷注入を制抑するなどの機能を持たせても良い。
In addition, a thermosetting resin obtained by thermally polymerizing an oil-free alkyd resin and an amino resin such as a butylated melamine resin, a polyurethane having an unsaturated bond, a resin having an unsaturated bond such as an unsaturated polyester, and thioxanthone A photocurable resin such as a combination with a photopolymerization initiator such as a methyl compound or methylbenzyl formate can also be used as the binder resin.
In addition, a conductive polymer having a rectifying property or an acceptor (donor) resin / compound may be added in accordance with the charging polarity to provide a function of suppressing charge injection from the substrate.

また、電荷ブロッキング層の膜厚は0.1μm以上2.0μm未満、好ましくは0.3μm以上2.0μm未満程度が適当である。電荷ブロッキング層が厚くなると、帯電と露光の繰返しによって、特に低温低湿で残留電位の上昇が著しく、また、膜厚が薄すぎるとブロッキング性の効果が小さくなる、また電荷ブロッキング層には、必要に応じて硬化(架橋)に必要な薬剤、溶剤、添加剤、硬化促進材等を加えて、常法により、ブレード塗工、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート法などにより基体上に形成される。塗布後は乾燥や加熱、光等の硬化処理により乾燥あるいは硬化させる。   The film thickness of the charge blocking layer is 0.1 μm or more and less than 2.0 μm, preferably about 0.3 μm or more and less than 2.0 μm. When the charge blocking layer becomes thick, the residual potential increases remarkably at low temperatures and low humidity due to repeated charging and exposure, and when the film thickness is too thin, the blocking effect is reduced. Add chemicals, solvents, additives, curing accelerators, etc. necessary for curing (crosslinking), and apply to the substrate by conventional methods such as blade coating, dip coating, spray coating, beat coating, nozzle coating, etc. It is formed. After the coating, it is dried or cured by a curing process such as drying, heating, or light.

モアレ防止層は、レーザー光のようなコヒーレント光による書き込みを行う際に、感光層内部での光干渉によるモアレ像の発生を防止する機能を有する層である。基本的には、前記書き込み光の光散乱を起こす機能を有する。このような機能を発現するために、モアレ防止層は屈折率の大きな材料を有することが有効である。一般には、無機顔料とバインダー樹脂を含有し、無機顔料がバインダー樹脂に分散された構成からなる。特に、無機顔料の中でも白色の顔料が有効に使用され、例えば、酸化チタン、フッ化カルシウム、酸化カルシウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムなどが良好に用いられる。中でも、隠蔽力の大きな酸化チタンが最も有効に使用出来る。   The anti-moire layer is a layer having a function of preventing the generation of a moire image due to light interference inside the photosensitive layer when writing with coherent light such as laser light. Basically, it has a function of causing light scattering of the writing light. In order to exhibit such a function, it is effective that the anti-moire layer has a material having a large refractive index. In general, it comprises an inorganic pigment and a binder resin, and the inorganic pigment is dispersed in the binder resin. In particular, white pigments are effectively used among inorganic pigments, and for example, titanium oxide, calcium fluoride, calcium oxide, silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, and the like are favorably used. Among these, titanium oxide having a large hiding power can be most effectively used.

また、機能分離型中間層を有する感光体では支持体31からの電荷注入を電荷ブロッキング層にて防止するものであるから、モアレ防止層においては少なくとも感光体表面に帯電される電荷とは同極性の電荷を移動できる機能を有することが残留電位防止の観点から好ましい。このため、例えば負帯電型感光体の場合、モアレ防止層には電子伝導性を付与することが望ましく、使用する無機顔料に電子伝導性を有するものを使用するか、導電性のものを使用することが望ましい。あるいは、モアレ防止層に電子伝導性の材料(例えば、アクセプター)などを使用することは本発明の効果を一層顕著なものにするものである。   Further, in the photoreceptor having the function separation type intermediate layer, the charge injection from the support 31 is prevented by the charge blocking layer. Therefore, in the moiré preventing layer, at least the charge charged on the photoreceptor surface has the same polarity. From the viewpoint of preventing residual potential, it is preferable to have a function of transferring the electric charge. For this reason, for example, in the case of a negatively charged type photoreceptor, it is desirable to impart electronic conductivity to the moire prevention layer, and the inorganic pigment to be used is one that has electronic conductivity, or one that is conductive. It is desirable. Alternatively, the use of an electron conductive material (for example, an acceptor) or the like for the moire preventing layer makes the effect of the present invention more remarkable.

バインダー樹脂としては電荷ブロッキング層と同様のものを使用できるが、モアレ防止層の上に感光層33(電荷発生層35、電荷輸送層37)を積層することを考慮すると、感光層(電荷発生層、電荷輸送層)の塗工溶媒に侵されないことが肝要である。
バインダー樹脂としては、熱硬化型樹脂が良好に使用される。特に、アルキッド/メラミン樹脂の混合物が最も良好に使用される。この際、アルキッド/メラミン樹脂の混合比は、モアレ防止層の構造及び特性を決定する重要な因子である。両者の比(質量比)が5/5〜8/2の範囲が良好な混合比の範囲として挙げることが出来る。5/5よりもメラミン樹脂がリッチであると、熱硬化の際に体積収縮が大きくなり塗膜欠陥を生じやすくり、感光体の残留電位を大きくする方向にあり望ましくない。また、8/2よりもアルキッド樹脂がリッチであると、感光体の残留電位低減には効果があるものの、バルク抵抗が低くなりすぎて地汚れが悪くなる方向になり望ましくない。
As the binder resin, the same resin as the charge blocking layer can be used. However, in consideration of laminating the photosensitive layer 33 (charge generating layer 35, charge transporting layer 37) on the moire preventing layer, the photosensitive layer (charge generating layer) is used. It is important not to be affected by the coating solvent of the charge transport layer.
A thermosetting resin is preferably used as the binder resin. In particular, alkyd / melamine resin mixtures are best used. At this time, the mixing ratio of the alkyd / melamine resin is an important factor that determines the structure and characteristics of the moire prevention layer. A range in which the ratio (mass ratio) of both is 5/5 to 8/2 can be cited as a good range of the mixing ratio. If the melamine resin is richer than 5/5, volume shrinkage during thermosetting increases and coating film defects tend to occur, which tends to increase the residual potential of the photoreceptor, which is not desirable. If the alkyd resin is richer than 8/2, it is effective in reducing the residual potential of the photoconductor, but it is not desirable because the bulk resistance becomes too low and the soiling becomes worse.

モアレ防止層においては、無機顔料とバインダー樹脂の容積比が重要な特性を決定する。このため、無機顔料とバインダー樹脂の容積比が1/1乃至3/1の範囲であることが重要である。両者の容積比が1/1未満である場合には、モアレ防止能が低下するだけでなく、繰り返し使用における残留電位の上昇が大きくなる場合が存在する。一方、容積比が3/1を超える領域ではバインダー樹脂における結着能が劣るだけでなく、塗膜の表面性が悪化し、上層の感光層の成膜性に悪影響を与える場合がある。この影響は感光層が積層タイプで構成され、電荷発生層のような薄層を形成する場合に深刻な問題になり得るものである。また容積比が3/1を超える場合には、無機顔料表面をバインダー樹脂が覆い尽くせない場合が存在し、電荷発生物質と直接接触することで、熱キャリア生成の確率が大きくなり、地汚れに対して悪影響を与える場合がある。   In the anti-moire layer, the volume ratio between the inorganic pigment and the binder resin determines an important characteristic. For this reason, it is important that the volume ratio of the inorganic pigment to the binder resin is in the range of 1/1 to 3/1. When the volume ratio of the two is less than 1/1, not only the moire prevention ability is lowered, but there is a case where the increase of the residual potential in repeated use becomes large. On the other hand, in the region where the volume ratio exceeds 3/1, not only the binding ability of the binder resin is inferior, but also the surface property of the coating film is deteriorated, which may adversely affect the film forming property of the upper photosensitive layer. This effect can be a serious problem when the photosensitive layer is a laminated type and a thin layer such as a charge generation layer is formed. When the volume ratio exceeds 3/1, there are cases where the binder resin cannot cover the surface of the inorganic pigment, and the direct contact with the charge generation material increases the probability of heat carrier generation, resulting in soiling. It may have an adverse effect on it.

更に、モアレ防止層には、平均粒径の異なる2種類の酸化チタンを用いることで、導電性基体に対する隠蔽力を向上させモアレを抑制することが可能となるとともに、異常画像の原因となるピンホールをなくすことができる。このためには、用いる2種の酸化チタンの平均粒径の比が一定の範囲内(0.2<D2/D1≦0.5)にあることが重要である。本発明で規定する範囲外の粒径比の場合、すなわち平均粒径の大きな酸化チタン(T1)の平均粒径(D1)に対する他方の酸化チタン(T2)の平均粒径(D2)の比が小さすぎる場合(0.2≧D2/D1)は、酸化チタン表面での活性が増加し感光体としたときの静電的安定性が著しく損なわれるようになる。また、一方の酸化チタン(T1)の平均粒径に対する他方の酸化チタン(T2)の平均粒径の比が大きすぎる場合(D2/D1>0.5)は、導電性基体に対する隠蔽力が低下し、モアレや異常画像に対する抑制力が低下する。ここで言う平均粒径は、水系で強分散を行なったときに得られる粒度分布測定から得られる。   Furthermore, by using two types of titanium oxides having different average particle diameters for the moire prevention layer, it is possible to improve the concealing power to the conductive substrate and suppress moire and to cause a pin that causes an abnormal image. The hole can be eliminated. For this purpose, it is important that the ratio of the average particle diameters of the two types of titanium oxide used is within a certain range (0.2 <D2 / D1 ≦ 0.5). In the case of the particle size ratio outside the range specified in the present invention, that is, the ratio of the average particle size (D2) of the other titanium oxide (T2) to the average particle size (D1) of the titanium oxide (T1) having a large average particle size is If it is too small (0.2 ≧ D2 / D1), the activity on the surface of titanium oxide is increased, and the electrostatic stability of the photosensitive member is significantly impaired. Further, when the ratio of the average particle diameter of the other titanium oxide (T2) to the average particle diameter of one titanium oxide (T1) is too large (D2 / D1> 0.5), the hiding power to the conductive substrate is lowered. In addition, the suppression of moiré and abnormal images is reduced. The average particle size mentioned here is obtained from a particle size distribution measurement obtained when strong dispersion is performed in an aqueous system.

また、粒径の小さい方の酸化チタン(T2)の平均粒径(D2)の大きさが重要な因子であり、0.05μm<D2<0.20μmであることが重要である。0.05μm以下の場合には隠蔽力が低下し、モアレを発生させる場合がある。一方、0.20μm以上の場合には、モアレ防止層の酸化チタンの充填率を低下させ、地汚れ抑制効果が十分に発揮出来ない。
また、2種の酸化チタンの混合比率(質量比)も重要な因子である。T2/(T1+T2)が0.2よりも小さい場合には、酸化チタンの充填率がそれほど大きくなく、地汚れ抑制効果が十分に発揮出来ない。一方、0.8よりも大きな場合には、隠蔽力が低下し、モアレを発生させる場合がある。従って、0.2≦T2/(T1+T2)≦0.8であることが重要である。
また、モアレ防止層の膜厚は1〜10μm、好ましくは2〜5μmとするのが適当である。膜厚が1μm未満では効果の発現性が小さく、10μmを越えると残留電位の蓄積を生じるので望ましくない。
Further, the average particle size (D2) of titanium oxide (T2) having a smaller particle size is an important factor, and it is important that 0.05 μm <D2 <0.20 μm. When the thickness is 0.05 μm or less, the hiding power is reduced, and moire may be generated. On the other hand, when the thickness is 0.20 μm or more, the filling rate of the titanium oxide in the moire preventing layer is lowered, and the background dirt suppressing effect cannot be sufficiently exhibited.
The mixing ratio (mass ratio) of the two types of titanium oxide is also an important factor. When T2 / (T1 + T2) is smaller than 0.2, the filling rate of titanium oxide is not so large and the effect of suppressing scumming cannot be exhibited sufficiently. On the other hand, when it is larger than 0.8, the concealing power is reduced, and moire may be generated. Therefore, it is important that 0.2 ≦ T2 / (T1 + T2) ≦ 0.8.
The thickness of the moire preventing layer is 1 to 10 μm, preferably 2 to 5 μm. If the film thickness is less than 1 μm, the effect is small, and if it exceeds 10 μm, residual potential is accumulated, which is not desirable.

無機顔料は溶剤とバインダー樹脂と共に常法により、例えばボールミル、サンドミル、アトライラー等により分散し、また、必要に応じて硬化(架橋)に必要な薬剤、溶剤、添加剤、硬化促進剤等を加えて、常法により、ブレード塗工、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート法などにより基体上に形成される。塗布後は乾燥や加熱、光等の硬化処理により乾燥あるいは硬化させる。   The inorganic pigment is dispersed together with a solvent and a binder resin by a conventional method, for example, a ball mill, a sand mill, an attrier, etc., and if necessary, a chemical, a solvent, an additive, a curing accelerator, etc. necessary for curing (crosslinking) are added. In general, it is formed on the substrate by blade coating, dip coating, spray coating, beat coating, nozzle coating or the like. After the coating, it is dried or cured by a curing process such as drying, heating, or light.

次に感光層について説明する。感光層は電荷発生物質と電荷輸送物質を含む単層構成の感光層(図5)でも構わないが、電荷発生層と電荷輸送層で構成される積層型(図6、7)が感度、耐久性において優れた特性を示し、良好に使用される。説明の都合上、積層構成からなる感光層について先に述べる。   Next, the photosensitive layer will be described. The photosensitive layer may be a single layer photosensitive layer (FIG. 5) containing a charge generation material and a charge transport material, but a laminated type (FIGS. 6 and 7) composed of a charge generation layer and a charge transport layer is sensitive and durable. It shows excellent properties in performance and is used well. For convenience of explanation, the photosensitive layer having a laminated structure will be described first.

電荷発生層は、電荷発生物質を主成分とする層である。電荷発生物質としては、特に限定はなく、公知の材料を用いることが出来る。中でも、CuKαの特性X線(波長1.542Å)に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニンは有用に用いることが出来る。特に、特開2001−19871号公報に記載の結晶型、CuKαの特性X線(波長1.542Å)に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有し、更に9.4゜、9.6゜、24.0゜に主要なピークを有し、最も低角側の回折ピークとして7.3゜にピークを有し、7.3°のピークと9.4゜のピークの間にピークを有さないチタニルフタロシアニン結晶が良好に用いられ、更に26.3°にピークを有さない結晶は有効に使用できる。更に、上記結晶型を有し、結晶合成時あるいは分散濾過処理により、平均粒子サイズを0.25μm以下にし、粗大粒子の存在しないチタニルフタロシアン結晶(特開2004−83859号公報、特開2004−78141号公報)は最も有用に使用できる。   The charge generation layer is a layer mainly composed of a charge generation material. The charge generation material is not particularly limited, and a known material can be used. Among them, titanyl phthalocyanine having a maximum diffraction peak at 27.2 ° as a diffraction peak (± 0.2 °) with a Bragg angle 2θ with respect to the characteristic X-ray (wavelength 1.542 mm) of CuKα can be used effectively. In particular, as a diffraction peak (± 0.2 °) at a Bragg angle 2θ with respect to the characteristic X-ray (wavelength 1.542 mm) of the crystal type and CuKα described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-19871, the maximum diffraction is at least 27.2 °. It has a peak, and further has main peaks at 9.4 °, 9.6 °, and 24.0 °, and has a peak at 7.3 ° as the lowest diffraction peak, and 7.3 °. A titanyl phthalocyanine crystal having no peak between the peak at 9.4 ° and a peak at 9.4 ° is preferably used, and a crystal having no peak at 26.3 ° can be used effectively. Further, it has the above crystal type, and has an average particle size of 0.25 μm or less at the time of crystal synthesis or by dispersion filtration treatment, and has no coarse particles (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2004-83859 and 2004-2004). 78141) is most useful.

電荷発生層は、前記電荷発生物質を必要に応じて結着樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成される。
必要に応じて電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等があげられる。結着樹脂の量は、電荷発生物質100質量部に対し0〜500質量部、好ましくは10〜300質量部が適当である。
The charge generation layer is dispersed by using a ball mill, an attritor, a sand mill, an ultrasonic wave or the like in a suitable solvent together with a binder resin, if necessary, and this is applied onto a conductive support. It is formed by drying.
As the binder resin used for the charge generation layer as necessary, polyamide, polyurethane, epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene, polysulfone, poly-N- Vinyl carbazole, polyacrylamide, polyvinyl benzal, polyester, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyphenylene oxide, polyamide, polyvinyl pyridine, cellulosic resin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, etc. It is done. The amount of the binder resin is suitably 0 to 500 parts by mass, preferably 10 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the charge generating material.

ここで用いられる溶剤としては、例えばイソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられる。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の方法を用いることができる。電荷発生層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ましくは0.1〜2μmである。   Examples of the solvent used here include isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl cellosolve, ethyl acetate, methyl acetate, dichloromethane, dichloroethane, monochlorobenzene, cyclohexane, toluene, xylene, ligroin and the like. As a coating method for the coating solution, a dip coating method, spray coating, beat coating, nozzle coating, spinner coating, ring coating, or the like can be used. The thickness of the charge generation layer is suitably about 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm.

電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要により可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等その他公知の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は単独、または2種以上混合して用いられる。
The charge transport layer can be formed by dissolving or dispersing a charge transport material and a binder resin in an appropriate solvent, and applying and drying the solution on the charge generation layer. Moreover, a plasticizer, a leveling agent, antioxidant, etc. can also be added as needed.
Charge transport materials include hole transport materials and electron transport materials. Examples of hole transport materials include poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof, poly-γ-carbazolylethyl glutamate and derivatives thereof, pyrene-formaldehyde condensates and derivatives thereof, polyvinylpyrene, polyvinylphenanthrene, polysilane, oxazole derivatives, Oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, monoarylamine derivatives, diarylamine derivatives, triarylamine derivatives, stilbene derivatives, α-phenylstilbene derivatives, benzidine derivatives, diarylmethane derivatives, triarylmethane derivatives, 9-styrylanthracene derivatives, pyrazolines Derivatives, divinylbenzene derivatives, hydrazone derivatives, indene derivatives, butadiene derivatives, pyrene derivatives, etc., bisstilbene derivatives, enamine derivatives, etc. Other known materials may be mentioned. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more.

電子輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。   Examples of the electron transporting material include chloroanil, bromoanil, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4 , 5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-trinitro-4H-indeno [1,2-b] thiophen-4-one, 1,3,7-tri Examples thereof include electron-accepting substances such as nitrodibenzothiophene-5,5-dioxide and benzoquinone derivatives.

結着樹脂としてはポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
電荷輸送物質の量は結着樹脂100質量部に対し、20〜300質量部、好ましくは40〜150質量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は5〜100μm程度とすることが好ましい。
Binder resins include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, poly Vinylidene chloride, polyarate, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinylcarbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin And thermoplastic or thermosetting resins such as alkyd resins.
The amount of the charge transport material is appropriately 20 to 300 parts by mass, preferably 40 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. The thickness of the charge transport layer is preferably about 5 to 100 μm.

ここで用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトンなどが用いられる。中でも、環境への負荷低減等の意図から、非ハロゲン系溶媒の使用は望ましいものである。具体的には、テトラヒドロフランやジオキソラン、ジオキサン等の環状エーテルやトルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、及びそれらの誘導体が良好に用いられる。   Examples of the solvent used here include tetrahydrofuran, dioxane, toluene, dichloromethane, monochlorobenzene, dichloroethane, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and acetone. Among them, the use of a non-halogen solvent is desirable for the purpose of reducing the environmental load. Specifically, cyclic ethers such as tetrahydrofuran, dioxolane and dioxane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and derivatives thereof are preferably used.

また、電荷輸送層には電荷輸送物質としての機能とバインダー樹脂の機能を持った高分子電荷輸送物質も良好に使用される。これら高分子電荷輸送物質から構成される電荷輸送層は耐摩耗性に優れたものである。高分子電荷輸送物質としては、公知の材料が使用できるが、特に、トリアリールアミン構造を主鎖および/または側鎖に含むポリカーボネートが良好に用いられる。中でも、式(I)〜(X)式で表わされる高分子電荷輸送物質が良好に用いられ、これらを以下に例示し、具体例を示す。   In addition, a polymer charge transport material having a function as a charge transport material and a function of a binder resin is also preferably used for the charge transport layer. The charge transport layer composed of these polymer charge transport materials is excellent in wear resistance. As the polymer charge transport material, known materials can be used, and in particular, a polycarbonate containing a triarylamine structure in the main chain and / or side chain is preferably used. Among these, polymer charge transport materials represented by the formulas (I) to (X) are preferably used, and these are exemplified below and specific examples are shown.

(I)式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R4は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基、R5、R6は置換もしくは無置換のアリール基、o、p、qはそれぞれ独立して0〜4の整数、k、jは組成を表し、0.1≦k≦1、0≦j≦0.9、nは繰り返し単位数を表し5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪族の2価基、または下記一般式で表される2価基を表す。尚、(I)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (I) In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group or a halogen atom, R 4 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, R 5 and R 6 are A substituted or unsubstituted aryl group, o, p, q are each independently an integer of 0-4, k, j represents a composition, 0.1 ≦ k ≦ 1, 0 ≦ j ≦ 0.9, n is It represents the number of repeating units and is an integer of 5 to 5000. X represents an aliphatic divalent group, a cycloaliphatic divalent group, or a divalent group represented by the following general formula. In the formula (I), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

101、R102は各々独立して置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表す。l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭素原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の2価基を表す。)または、
(aは1〜20の整数、bは1〜2000の整数、R103、R104は置換または無置換のアルキル基又はアリール基を表す)を表す。ここで、R101とR102、R103とR104は、それぞれ同一でも異なってもよい。)
R 101 and R 102 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or halogen atom. l and m are integers of 0 to 4, Y is a single bond, a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —. , -CO-, -CO-O-Z-O-CO- (wherein Z represents an aliphatic divalent group) or
(A represents an integer of 1 to 20, b represents an integer of 1 to 2000, and R 103 and R 104 represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group). Here, R 101 and R 102 , and R 103 and R 104 may be the same or different. )

(II)式中、R7,R8は置換もしくは無置換のアリール基、Ar1,Ar2,Ar3は同一又は異なるアリーレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(II)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (II) In the formula, R 7 and R 8 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (II), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(III)式中、R9,R10は置換もしくは無置換のアリール基、Ar4,Ar5,Ar6は同一又は異なるアリーレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(III)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (III) In the formula, R 9 and R 10 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 4 , Ar 5 and Ar 6 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (III), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(IV)式中、R11,R12は置換もしくは無置換のアリール基、Ar7,Ar8,Ar9は同一又は異なるアリーレン基、pは1〜5の整数を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(IV)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (IV) In the formula, R 11 and R 12 are substituted or unsubstituted aryl groups, Ar 7 , Ar 8 and Ar 9 are the same or different arylene groups, and p is an integer of 1 to 5. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (IV), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(V)式中、R13,R14は置換もしくは無置換のアリール基、Ar10,Ar11,Ar12は同一又は異なるアリーレン基、X1,X2は置換もしくは無置換のエチレン基、又は置換もしくは無置換のビニレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(V)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (V) In the formula, R 13 and R 14 are substituted or unsubstituted aryl groups, Ar 10 , Ar 11 and Ar 12 are the same or different arylene groups, X 1 and X 2 are substituted or unsubstituted ethylene groups, or A substituted or unsubstituted vinylene group is represented. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (V), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(VI)式中、R15,R16,R17,R18は置換もしくは無置換のアリール基、Ar13,Ar14,Ar15,Ar16は同一又は異なるアリーレン基、Y1,Y2,Y3は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表し同一であっても異なってもよい。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(VI)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (VI) wherein, R 15, R 16, R 17, R 18 is a substituted or unsubstituted aryl group, Ar 13, Ar 14, Ar 15, Ar 16 are identical or different arylene group, Y 1, Y 2, Y 3 represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group, which may be the same or different. Good. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (VI), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(VII)式中、R19,R20は水素原子、置換もしくは無置換のアリール基を表し,R19とR20は環を形成していてもよい。Ar17,Ar18,Ar19は同一又は異なるアリーレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(VII)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 In the formula (VII), R 19 and R 20 represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted aryl group, and R 19 and R 20 may form a ring. Ar 17 , Ar 18 , Ar 19 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (VII), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(VIII)式中、R21は置換もしくは無置換のアリール基、Ar20,Ar21,Ar22,Ar23は同一又は異なるアリーレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(VIII)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 (VIII) In the formula, R 21 represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 20 , Ar 21 , Ar 22 , and Ar 23 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (VIII), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(IX)式中、R22,R23,R24,R25は置換もしくは無置換のアリール基、Ar24,Ar25,Ar26,Ar27,Ar28は同一又は異なるアリーレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(IX)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 In the formula (IX), R 22 , R 23 , R 24 and R 25 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 24 , Ar 25 , Ar 26 , Ar 27 and Ar 28 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (IX), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

(X)式中、R26,R27は置換もしくは無置換のアリール基、Ar29,Ar30,Ar31は同一又は異なるアリーレン基を表す。X,k,jおよびnは、(I)式の場合と同じである。尚、(X)式は2つの共重合種が交互共重合体の形で記載されているが、ランダム共重合体でも構わない。 In the formula (X), R 26 and R 27 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 29 , Ar 30 and Ar 31 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of formula (I). In the formula (X), two copolymer species are described in the form of an alternating copolymer, but a random copolymer may be used.

また、電荷輸送層に使用される高分子電荷輸送物質として、上述の高分子電荷輸送物質の他に、電荷輸送層の成膜時には電子供与性基を有するモノマーあるいはオリゴマーの状態で、成膜後に硬化反応あるいは架橋反応をさせることで、最終的に2次元あるいは3次元の架橋構造を有する重合体も含むものである。
更に電荷輸送層の構成として、架橋構造からなる電荷輸送層も有効に使用される。架橋構造の形成に関しては、1分子内に複数個の架橋性官能基を有する反応性モノマーを使用し、光や熱エネルギーを用いて架橋反応を起こさせ、3次元の網目構造を形成するものである。この網目構造がバインダー樹脂として機能し、高い耐摩耗性を発現するものである。
Further, as the polymer charge transport material used in the charge transport layer, in addition to the polymer charge transport material described above, in the state of the monomer or oligomer having an electron donating group at the time of film formation of the charge transport layer, A polymer having a two-dimensional or three-dimensional crosslinked structure is finally included by carrying out a curing reaction or a crosslinking reaction.
Further, a charge transport layer having a crosslinked structure is also effectively used as the structure of the charge transport layer. Regarding the formation of a cross-linked structure, a reactive monomer having a plurality of cross-linkable functional groups in one molecule is used to cause a cross-linking reaction using light or thermal energy to form a three-dimensional network structure. is there. This network structure functions as a binder resin and exhibits high wear resistance.

また、上記反応性モノマーとして、全部もしくは一部に電荷輸送能を有するモノマーを使用することは非常に有効な手段である。このようなモノマーを使用することにより、網目構造中に電荷輸送部位が形成され、電荷輸送層としての機能を十分に発現することが可能となる。電荷輸送能を有するモノマーとしては、トリアリールアミン構造を有する反応性モノマーが有効に使用される。
このような網目構造を有する電荷輸送層は、耐摩耗性が高い反面、架橋反応時に体積収縮が大きく、あまり厚膜化するとクラックなどを生じる場合がある。このような場合には、電荷輸送層を積層構造として、下層(電荷発生層側)には低分子分散ポリマーの電荷輸送層を使用し、上層(表面側)に架橋構造を有する電荷輸送層を形成しても良い。
Moreover, it is a very effective means to use a monomer having a charge transporting ability in whole or in part as the reactive monomer. By using such a monomer, a charge transport site is formed in the network structure, and the function as the charge transport layer can be sufficiently expressed. A reactive monomer having a triarylamine structure is effectively used as the monomer having charge transporting ability.
The charge transport layer having such a network structure has high wear resistance, but has a large volume shrinkage during the crosslinking reaction, and if it is too thick, cracks may occur. In such a case, the charge transport layer has a laminated structure, the lower layer (charge generation layer side) uses a low molecular dispersion polymer charge transport layer, and the upper layer (surface side) has a cross-linked structure. It may be formed.

これら電子供与性基を有する重合体から構成される電荷輸送層、あるいは架橋構造を有する重合体は耐摩耗性に優れたものである。通常、電子写真プロセスにおいては、帯電電位(未露光部電位)は一定であるため、繰り返し使用により感光体の表面層が摩耗すると、その分だけ感光体にかかる電界強度が高くなってしまう。この電界強度の上昇に伴い、地汚れの発生頻度が高くなるため、感光体の耐摩耗性が高いことは、地汚れに対して有利である。これら電子供与性基を有する重合体から構成される電荷輸送層は、自身が高分子化合物であるため成膜性に優れ、低分子分散型高分子からなる電荷輸送層に比べ、電荷輸送部位を高密度に構成することが可能で電荷輸送能に優れたものである。このため、高分子電荷輸送物質を用いた電荷輸送層を有する感光体には高速応答性が期待できる。
その他の電子供与性基を有する重合体としては、公知単量体の共重合体や、ブロック重合体、グラフト重合体、スターポリマーや、また、例えば特開平3―109406号公報、特開2000―206723号公報、特開2001―34001号公報等に開示されているような電子供与性基を有する架橋重合体などを用いることも可能である。
A charge transport layer composed of a polymer having these electron donating groups or a polymer having a crosslinked structure is excellent in wear resistance. Usually, in the electrophotographic process, since the charging potential (unexposed portion potential) is constant, if the surface layer of the photoreceptor is worn by repeated use, the electric field strength applied to the photoreceptor increases accordingly. As the electric field strength increases, the occurrence frequency of scumming increases. Therefore, the high wear resistance of the photosensitive member is advantageous for scumming. The charge transport layer composed of a polymer having these electron donating groups is a polymer compound, so it has excellent film-forming properties and has a charge transport site compared to a charge transport layer composed of a low molecular weight dispersed polymer. It can be configured with high density and has excellent charge transport capability. For this reason, a photoreceptor having a charge transport layer using a polymer charge transport material can be expected to have a high response speed.
Examples of the other polymer having an electron donating group include a copolymer of a known monomer, a block polymer, a graft polymer, a star polymer, and, for example, JP-A-3-109406, JP-A-2000- It is also possible to use a crosslinked polymer having an electron donating group as disclosed in JP-A-206723 and JP-A No. 2001-34001.

本発明において電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂に対して0〜30質量%程度が適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいは、オリゴマーが使用され、その使用量は結着樹脂に対して、0〜1質量%が適当である。   In the present invention, a plasticizer or a leveling agent may be added to the charge transport layer. As the plasticizer, those used as plasticizers for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used as they are, and the amount used is suitably about 0 to 30% by mass with respect to the binder resin. As the leveling agent, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain are used, and the amount used is 0 to 0 with respect to the binder resin. 1% by weight is appropriate.

上記は感光層が積層構成の場合について述べたが、本発明においては感光層が単層構成でも構わない。感光層を単層構成とするためには、少なくとも上述の電荷発生物質とバインダー樹脂を含有する単一層を設けることで感光層は構成され、バインダー樹脂としては電荷発生層や電荷輸送層の説明の所に記載したものが良好に使用される。また、単層感光層には電荷輸送物質を併用することで、高い光感度、高いキャリア輸送特性、低い残留電位が発現され、良好に使用できる。この際、使用する電荷輸送物質は、感光体表面に帯電させる極性に応じて、正孔輸送物質、電子輸送物質の何れかが選択される。更に、上述した高分子電荷輸送物質もバインダー樹脂と電荷輸送物質の機能を併せ持つため、単層感光層には良好に使用される。   In the above description, the photosensitive layer has a laminated structure. However, in the present invention, the photosensitive layer may have a single layer structure. In order to make the photosensitive layer as a single layer, the photosensitive layer is constituted by providing a single layer containing at least the above-described charge generating substance and a binder resin. As the binder resin, the description of the charge generating layer and the charge transport layer is used. Those described in the above are used well. In addition, when a charge transport material is used in combination with the single-layer photosensitive layer, high photosensitivity, high carrier transport properties, and low residual potential are exhibited, and the single layer photosensitive layer can be used favorably. At this time, as the charge transport material to be used, either a hole transport material or an electron transport material is selected according to the polarity charged on the surface of the photoreceptor. Furthermore, since the above-described polymer charge transporting material also has the functions of a binder resin and a charge transporting material, it is favorably used for a single-layer photosensitive layer.

本発明で使用できる架橋表面層としては、少なくとも重合性化合物を重合することにより形成される。機械的耐久性の観点から重合性官能基の数は分子内に3つ以上有している重合性化合物が好ましく用いられる。つまり3官能以上の重合性化合物を重合することで3次元の網目構造が発達し、架橋密度が非常に高い高硬度且つ高弾性な表面層が得られ、かつ均一で平滑性も高く、高い耐摩耗性、耐傷性が達成される。特に5官能以上の重合性化合物を重合することで耐摩耗性および耐傷性のさらなる向上が実現でき、好ましい。
この様に感光体表面の架橋密度すなわち単位体積あたりの架橋結合数を増加させることが重要であるが、重合反応において瞬時に多数の結合を形成させるため体積収縮による内部応力が発生する。この内部応力は架橋型保護層の膜厚が厚くなるほど増加するため架橋表面層全層を硬化させると、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。この現象は初期的に現れなくても、電子写真プロセス上で繰り返し使用され帯電、現像、転写、クリーニングのハザード及び熱変動の影響を受けることにより、経時で発生しやすくなることもある。
The crosslinked surface layer that can be used in the present invention is formed by polymerizing at least a polymerizable compound. From the viewpoint of mechanical durability, a polymerizable compound having three or more polymerizable functional groups in the molecule is preferably used. In other words, by polymerizing a polymerizable compound having three or more functional groups, a three-dimensional network structure is developed, a surface layer having a very high crosslink density and a high hardness and high elasticity is obtained, and is uniform and high in smoothness. Abrasion and scratch resistance are achieved. In particular, it is preferable to polymerize a polymerizable compound having five or more functional groups, which can further improve wear resistance and scratch resistance.
Thus, it is important to increase the crosslink density on the surface of the photoreceptor, that is, the number of crosslink bonds per unit volume. However, since a large number of bonds are instantaneously formed in the polymerization reaction, internal stress due to volume shrinkage occurs. Since this internal stress increases as the film thickness of the crosslinkable protective layer increases, if the entire cross-linked surface layer is cured, cracks and film peeling tend to occur. Even if this phenomenon does not appear initially, it may be likely to occur over time due to repeated use in the electrophotographic process and the influence of charging, development, transfer, cleaning hazards and thermal fluctuations.

この問題を解決する方法としては、(1)架橋層及び架橋構造に高分子成分を導入する、(2)1官能及び2官能のラジカル重合性モノマーを多量に用いる、(3)柔軟性基を有する多官能モノマーを用いる、などの硬化樹脂層を柔らかくする方向性が挙げられるが、いずれも架橋層の架橋密度が希薄となり、飛躍的な耐摩耗性が達成されない。これに対し、本発明の感光体は、感光層上に3次元の網目構造が発達した架橋密度の高い架橋表面層を好ましくは1μm以上、15μm以下の膜厚で設けることで、上記のクラックや膜剥がれが発生せず、且つ非常に高い耐摩耗性が達成される。かかる架橋表面層の膜厚を2μm以上、10μm以下の膜厚にすることにより、さらに上記問題に対する余裕度が向上することに加え、更なる耐摩耗性向上に繋がる高架橋密度化の材料選択が可能となる。   As a method for solving this problem, (1) a polymer component is introduced into the crosslinked layer and the crosslinked structure, (2) a large amount of monofunctional and bifunctional radically polymerizable monomers are used, and (3) a flexible group is introduced. Although the directionality which makes a cured resin layer soft, such as using the polyfunctional monomer which has, is mentioned, the crosslink density of a bridge | crosslinking layer becomes thin in any case, and remarkable wear resistance is not achieved. On the other hand, the photoreceptor of the present invention is preferably provided with a crosslinked surface layer having a high crosslinking density with a three-dimensional network structure developed on the photosensitive layer, preferably with a film thickness of 1 μm or more and 15 μm or less. No film peeling occurs and very high wear resistance is achieved. By making the film thickness of the cross-linked surface layer 2 μm or more and 10 μm or less, in addition to improving the margin for the above problem, it is possible to select a material with a high cross-linking density that leads to further improvement in wear resistance. It becomes.

本発明の感光体がクラックや膜剥がれを抑制できる理由としては、架橋表面層を薄膜化できるため内部応力が大きくならないこと、下層に感光層もしくは電荷輸送層を有するため架橋表面層の内部応力を緩和できることなどによる。このため架橋表面層に高分子材料を多量に含有させる必要がなく、この時生ずる、高分子材料と重合性組成物の反応より生じた不相溶が原因となる傷やトナーフィルミングも起こりにくい。さらに、一般的には架橋表面層全層にわたる厚膜をエネルギー照射により重合する場合、酸化防止剤のエネルギー吸収のために膜内部へのエネルギー透過が制限され、重合反応が十分に進行しないことがあったり、また酸化防止剤が重合反応で生じるラジカルを捕捉したり、重合開始反応を抑制するといった重合を抑制する現象が起こることがあるが、本発明の架橋表面層においては重合終了後に酸化防止剤を注入することにより、エネルギー照射による重合阻害や酸化防止剤の劣化が全くなく、内部まで均一に硬化反応が進行し、表面と同様に内部でも高い耐摩耗性が維持され、安定した電気特性を長期間の間維持することが可能となる。また、本発明の架橋表面層の形成においては、重合性化合物に加え、電荷輸送性化合物(重合性官能基の有無は問わないが、機械的耐久性の観点からは重合性官能基を有するものの方が好ましく使用できる)を含有することも可能である。重合性官能基を有する電荷輸送性化合物としては硬化樹脂構造の歪みや、架橋表面層の内部応力の観点から官能基数が少ない方が好ましく、電気特性の観点からは1官能の電荷輸送性化合物が良好に用いることが出来るが、耐摩耗性の観点からは官能基数が多い方が好ましく、2官能以上の電荷輸送性化合物も良好に用いることが出来る。   The reason why the photoconductor of the present invention can suppress cracking and film peeling is that the internal stress does not increase because the cross-linked surface layer can be made thin, and the internal stress of the cross-linked surface layer because the photosensitive layer or charge transport layer is provided in the lower layer. It depends on things that can be mitigated. For this reason, it is not necessary to contain a large amount of the polymer material in the cross-linked surface layer, and scratches and toner filming caused by the incompatibility caused by the reaction between the polymer material and the polymerizable composition that occur at this time are unlikely to occur. . Furthermore, in general, when polymerizing a thick film over the entire cross-linked surface layer by energy irradiation, energy transmission to the inside of the film is limited due to energy absorption of the antioxidant, and the polymerization reaction may not proceed sufficiently. In some cases, the antioxidant may trap the radicals generated by the polymerization reaction, or the polymerization may be suppressed such that the polymerization initiation reaction is suppressed. By injecting the agent, there is no polymerization inhibition or deterioration of the antioxidant due to energy irradiation, the curing reaction progresses uniformly to the inside, high wear resistance is maintained inside as well as the surface, and stable electrical characteristics Can be maintained for a long period of time. In addition, in the formation of the crosslinked surface layer of the present invention, in addition to the polymerizable compound, a charge transporting compound (with or without a polymerizable functional group does not matter, but has a polymerizable functional group from the viewpoint of mechanical durability). It is also possible to contain them. The charge transporting compound having a polymerizable functional group preferably has a smaller number of functional groups from the viewpoint of distortion of the cured resin structure and internal stress of the crosslinked surface layer. From the viewpoint of electrical characteristics, a monofunctional charge transporting compound is preferable. Although it can be used satisfactorily, a larger number of functional groups is preferable from the viewpoint of wear resistance, and a bifunctional or higher functional charge transporting compound can also be used favorably.

次に、本発明の架橋表面層塗布液の構成材料について説明する。
本発明に用いられる重合性化合物のうち、電荷輸送性構造を有しない重合性化合物としては、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しておらず、且つ重合性官能基を有するモノマーを指す。この重合性官能基とは、炭素−炭素2重結合を有し、重合可能な基であれば何れでもよい。これら重合性官能基としては、例えば、下記に示す1−置換エチレン官能基、1,1−置換エチレン官能基等が挙げられる。
Next, the constituent material of the crosslinked surface layer coating solution of the present invention will be described.
Among the polymerizable compounds used in the present invention, examples of the polymerizable compound having no charge transport structure include hole transport structures such as triarylamine, hydrazone, pyrazoline, and carbazole, such as condensed polycyclic quinone, diphenoquinone, It refers to a monomer that does not have an electron transport structure such as an electron-withdrawing aromatic ring having a cyano group or a nitro group, and has a polymerizable functional group. The polymerizable functional group may be any group as long as it has a carbon-carbon double bond and can be polymerized. Examples of these polymerizable functional groups include 1-substituted ethylene functional groups and 1,1-substituted ethylene functional groups shown below.

(1)1−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表される官能基が挙げられる。
CH2=CH−X1−・・・・式10
(ただし、式10中、X1は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−CO−基、−COO−基、−CON(R10)−基(R10は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。)、または−S−基を表す。)
これらの官能基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、2−メチル−1,3−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。
(1) Examples of the 1-substituted ethylene functional group include functional groups represented by the following formulas.
CH 2 = CH-X 1 -... Formula 10
(However, in Formula 10, X 1 represents an arylene group such as an optionally substituted phenylene group or naphthylene group, an optionally substituted alkenylene group, —CO— group, —COO— Group, —CON (R 10 ) — group (R 10 is an alkyl group such as hydrogen, methyl group or ethyl group, an aralkyl group such as benzyl group, naphthylmethyl group or phenethyl group, or an aryl group such as phenyl group or naphthyl group. Represents a -S- group.)
Specific examples of these functional groups include vinyl group, styryl group, 2-methyl-1,3-butadienyl group, vinylcarbonyl group, acryloyloxy group, acryloylamide group, vinylthioether group and the like.

(2)1,1−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表される官能基が挙げられる。
CH2=C(Y)−X2−・・・・式11
(ただし、式11中、Yは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基あるいはエトキシ基等のアルコキシ基、−COOR11基(R11は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、または−CONR1213(R12およびR13は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表し、互いに同一または異なっていてもよい。)、また、X2は上記式10のX1と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表す。ただし、Y、X2の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、及び芳香族環である。)
これらの官能基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
(2) Examples of the 1,1-substituted ethylene functional group include functional groups represented by the following formulas.
CH 2 = C (Y) -X 2 -... Formula 11
(However, in Formula 11, Y is an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group, etc. An aryl group, a halogen atom, a cyano group, an nitro group, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, a -COOR 11 group (R 11 is a hydrogen atom, an optionally substituted methyl group, an ethyl group, etc. An alkyl group, an optionally substituted benzyl, an aralkyl group such as a phenethyl group, an optionally substituted phenyl group, an aryl group such as a naphthyl group, or -CONR 12 R 13 (R 12 and R 13 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, an optionally substituted benzyl group, a naphthylmethyl group, or an aralkyl group such as a phenethyl group; Ma Is a phenyl group which may have a substituent, an aryl group such as phenyl or naphthyl, which may be the same or different from each other.) Further, X 2 is and the same substituents as X 1 in the formula 10 Represents a single bond or an alkylene group, provided that at least one of Y and X 2 is an oxycarbonyl group, a cyano group, an alkenylene group, and an aromatic ring.)
Specific examples of these functional groups include an α-acryloyloxy chloride group, a methacryloyloxy group, an α-cyanoethylene group, an α-cyanoacryloyloxy group, an α-cyanophenylene group, and a methacryloylamino group.

なお、これらX1、X2、Yについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えばハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。 In addition, examples of the substituent further substituted with the substituent for X 1 , X 2 , and Y include alkyl groups such as halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, and ethyl group, methoxy group, and ethoxy group. And an aryloxy group such as a phenoxy group, an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group, and an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group.

これらの重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用であり、アクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中にある化合物とアクリル酸(塩)、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、メタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、重合性官能基を2個以上有する単量体中の重合性官能基は、同一でも異なっても良い。   Among these polymerizable functional groups, an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group are particularly useful. For example, a compound having an acryloyloxy group includes a compound having a hydroxyl group in the molecule, acrylic acid (salt), and acrylic acid halide. It can be obtained by esterification or transesterification using an acrylic ester. A compound having a methacryloyloxy group can be obtained in the same manner. Moreover, the polymerizable functional groups in the monomer having two or more polymerizable functional groups may be the same or different.

電荷輸送性構造を有しない重合性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマー、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールA−EO変性ジアクリレート、ビスフェノールF−EO変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性(以後EO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性(以後PO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性(以後ECH変性)トリアクリレート、グリセロールEO変性トリアクリレート、グリセロールPO変性トリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート(DPCA)、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸EO変性トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは単独又は2種類以上を併用しても差し支えない。
Examples of the polymerizable compound having no charge transporting structure include the following compounds, but are not limited to these compounds.
For example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isoamyl acrylate, isobutyl acrylate, methoxy Triethylene glycol acrylate, phenoxytetraethylene glycol acrylate, cetyl acrylate, isostearyl acrylate, stearyl acrylate, styrene monomer, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6- Xanthdiol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, bisphenol A-EO modified diacrylate, bisphenol F-EO modified diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), trimethylolpropane tri Methacrylate, trimethylolpropane alkylene-modified triacrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy-modified (hereinafter EO-modified) triacrylate, trimethylolpropane propyleneoxy-modified (hereinafter PO-modified) triacrylate, trimethylolpropane caprolactone-modified triacrylate, trimethylolpropane alkylene Modified trimethacrylate, pentaerythritol Acrylate, pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), glycerol triacrylate, glycerol epichlorohydrin modified (hereinafter referred to as ECH modified) triacrylate, glycerol EO modified triacrylate, glycerol PO modified triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, di Pentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol caprolactone-modified hexaacrylate (DPCA), dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, alkylated dipentaerythritol pentaacrylate, alkylated dipentaerythritol tetraacrylate, alkylated dipentaerythritol triacrylate, Dimethylolpropane tetraacrylate (DT MPTA), pentaerythritol ethoxytetraacrylate, phosphoric acid EO-modified triacrylate, 2,2,5,5, -tetrahydroxymethylcyclopentanone tetraacrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. There is no problem.

また、本発明に用いられる重合性化合物のうち、電荷輸送性構造を有しない重合性化合物としては、架橋表面層中に緻密な架橋結合を形成するために、該重合性化合物中の官能基数に対する分子量の割合(分子量/官能基数)は250以下が望ましい。また、この割合が250より大きい場合、架橋型架橋表面層は柔らかく耐摩耗性が幾分低下する傾向が出てくるため、上記例示した化合物等中、EO、PO、カプロラクトン等の変性基を有する化合物においては、極端に長い変性基を有するものを単独で使用することは好ましくはない。また、架橋表面層に用いられる電荷輸送性構造を有しない重合性化合物の成分割合は、架橋表面層全量に対し20質量%以上、好ましくは30質量%以上である。該重合性化合物成分が20質量%未満では架橋表面層の3次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐摩耗性向上が望めない傾向がある。また、80質量%を超えると電荷輸送性化合物の含有量が低下し、電気特性の劣化が生じる傾向がある。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い本感光体の架橋表面層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると30質量%以上が最も好ましい。   Among the polymerizable compounds used in the present invention, the polymerizable compound having no charge transporting structure is based on the number of functional groups in the polymerizable compound in order to form a dense crosslinked bond in the crosslinked surface layer. The molecular weight ratio (molecular weight / number of functional groups) is preferably 250 or less. If this ratio is greater than 250, the cross-linked cross-linked surface layer tends to be soft and wear resistance tends to be somewhat lowered, and therefore has a modifying group such as EO, PO, caprolactone, etc. in the compounds exemplified above. It is not preferable to use a compound having an extremely long modifying group alone. Moreover, the component ratio of the polymeric compound which does not have the charge transportable structure used for a crosslinked surface layer is 20 mass% or more with respect to a crosslinked surface layer whole quantity, Preferably it is 30 mass% or more. If the polymerizable compound component is less than 20% by mass, the three-dimensional cross-linking density of the cross-linked surface layer is small, and there is a tendency that a drastic improvement in wear resistance cannot be expected as compared with the case of using a conventional thermoplastic binder resin. On the other hand, if it exceeds 80% by mass, the content of the charge transporting compound tends to decrease, and the electrical characteristics tend to deteriorate. The electrical characteristics and abrasion resistance required vary depending on the process used, and the thickness of the crosslinked surface layer of the photoconductor also varies accordingly. Is most preferred.

本発明の架橋表面層に用いられる電荷輸送性化合物には重合性官能基を有しないもの及び有するものいずれも良好に用いることができる。また電気特性的には光エネルギー照射時には電荷輸送性化合物は含まないことが好まれるが、さらなる機械的耐久性の向上等の高機能化を目的としては、重合性官能基を有する電荷輸送性化合物も同時に光硬化してもよい。重合性官能基を有しない電荷輸送性化合物としては電荷輸送層の部分で記載した電荷輸送材料が良好に用いられる。また重合性官能基を有するものとしては従来から知られているもの(特開2005−107401、特開2006−011014、特開2006−154796)が良好に用いられるが、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しており、且つ重合性官能基を有する化合物を指す。この重合性官能基としては、先の電荷輸送性構造を有しない重合性化合物で示したものが挙げられ、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。また、電荷輸送性構造としてはトリアリールアミン構造が高い効果を有し、中でも下記一般式(1)又は(2)の構造で示される化合物を用いた場合、感度、残留電位等の電気的特性が良好に持続される。   As the charge transporting compound used in the cross-linked surface layer of the present invention, both those having no polymerizable functional group and those having a polymerizable functional group can be used favorably. In terms of electrical characteristics, it is preferred that no charge transporting compound is contained when irradiated with light energy. However, for the purpose of further enhancement of the mechanical durability and the like, the charge transporting compound having a polymerizable functional group is preferred. May be photocured simultaneously. As the charge transporting compound having no polymerizable functional group, the charge transporting material described in the charge transporting layer is preferably used. Further, those having a polymerizable functional group (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-107401, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-011014, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-154969) are preferably used. For example, triarylamine, hydrazone, It has a hole transporting structure such as pyrazoline and carbazole, for example, an electron transporting structure such as condensed polycyclic quinone, diphenoquinone, an electron-withdrawing aromatic ring having a cyano group or a nitro group, and has a polymerizable functional group Refers to a compound. Examples of the polymerizable functional group include those described above for the polymerizable compound having no charge transporting structure, and acryloyloxy group and methacryloyloxy group are particularly useful. In addition, a triarylamine structure has a high effect as a charge transporting structure, and in particular, when a compound represented by the structure of the following general formula (1) or (2) is used, electrical characteristics such as sensitivity and residual potential Is well maintained.


{一般式(1)及び(2)中、R1は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−COOR7(R7は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基)、ハロゲン化カルボニル基若しくはCONR89(R8及びR9は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい)を表わし、Ar1、Ar2は置換もしくは無置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ar3、Ar4は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Zは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル2価基を表わす。m、nは0〜3の整数を表わす。}

{In General Formulas (1) and (2), R 1 may have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a substituent. Good aryl group, cyano group, nitro group, alkoxy group, —COOR 7 (R 7 has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a substituent. Aryl group), a carbonyl halide group or CONR 8 R 9 (R 8 and R 9 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent) Or an aryl group which may have a substituent, which may be the same or different from each other), Ar 1 and Ar 2 each represent a substituted or unsubstituted arylene group, May be different. Ar 3 and Ar 4 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and may be the same or different. X represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group. Z represents a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, or an alkyleneoxycarbonyl divalent group. m and n represent an integer of 0 to 3. }

以下に、一般式(1)、(2)の具体例を示す。
前記一般式(1)、(2)において、R1の置換基中、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。
1の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子、メチル基である。
Specific examples of general formulas (1) and (2) are shown below.
In the general formulas (1) and (2), in the substituent of R 1 , examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. The aralkyl group includes a benzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group, and the alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and the like. These include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, and a methyl group. Substituted with an alkyl group such as an ethyl group, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group, etc. May be.
Among the substituents for R 1 , particularly preferred are a hydrogen atom and a methyl group.

Ar3、Ar4は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、本発明においては該アリール基としては縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基及び複素環基が含まれる。
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が18個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、as−インダセニル基、s−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。
該非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の1価基、あるいはビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、1,1−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の1価基、あるいは9,9−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の1価基が挙げられる。
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の1価基が挙げられる。
Ar 3 and Ar 4 represent a substituted or unsubstituted aryl group. In the present invention, the aryl group includes a condensed polycyclic hydrocarbon group, a non-condensed cyclic hydrocarbon group, and a heterocyclic group.
The condensed polycyclic hydrocarbon group preferably has 18 or less carbon atoms forming a ring, for example, a pentanyl group, an indenyl group, a naphthyl group, an azulenyl group, a heptaenyl group, a biphenylenyl group, an as-indacenyl group. , S-indacenyl group, fluorenyl group, acenaphthylenyl group, preadenyl group, acenaphthenyl group, phenalenyl group, phenanthryl group, anthryl group, fluoranthenyl group, acephenanthrenyl group, aceanthrylenyl group, triphenylyl group, pyrenyl group , A chrycenyl group, a naphthacenyl group, and the like.
Examples of the non-fused cyclic hydrocarbon group include monovalent groups of monocyclic hydrocarbon compounds such as benzene, diphenyl ether, polyethylene diphenyl ether, diphenyl thioether and diphenyl sulfone, or biphenyl, polyphenyl, diphenylalkane, diphenylalkene, diphenylalkyne, Monovalent groups of non-condensed polycyclic hydrocarbon compounds such as triphenylmethane, distyrylbenzene, 1,1-diphenylcycloalkane, polyphenylalkane, and polyphenylalkene, or ring assemblies such as 9,9-diphenylfluorene And monovalent groups of hydrocarbon compounds.
Examples of the heterocyclic group include monovalent groups such as carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, oxadiazole, and thiadiazole.

また、前記Ar3、Ar4で表わされるアリール基は例えば以下に示すような置換基を有してもよい。
(1)ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
(2)アルキル基、好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、n−ブチル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−プロピル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
The aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 may have a substituent as shown below, for example.
(1) Halogen atom, cyano group, nitro group and the like.
(2) Alkyl groups, preferably C 1 -C 12, especially C 1 -C 8 , more preferably C 1 -C 4 linear or branched alkyl groups, and these alkyl groups further contain fluorine atoms , a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group of C 1 -C 4, a phenyl group or a halogen atom, which may have a phenyl group substituted by an alkoxy group C 1 -C 4 alkyl or C 1 -C 4 Good. Specifically, methyl group, ethyl group, n-butyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n-propyl group, trifluoromethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-ethoxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like.

(3)アルコキシ基(−OR2)であり、R2は(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
(4)アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
(5)アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
(3) An alkoxy group (—OR 2 ), and R 2 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, i-butoxy group, 2-hydroxyethoxy group, benzyloxy group And a trifluoromethoxy group.
(4) An aryloxy group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. It may contain an alkoxy group having C 1 -C 4, alkyl group, or a halogen atom C 1 -C 4 as a substituent. Specific examples include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 4-methoxyphenoxy group, and a 4-methylphenoxy group.
(5) Alkyl mercapto group or aryl mercapto group, and specific examples include methylthio group, ethylthio group, phenylthio group, p-methylphenylthio group and the like.

(6)
(式中、R3及びR4は各々独立に水素原子、前記(2)で定義したアルキル基、またはアリール基を表わす。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。R3及びR4は共同で環を形成してもよい。)
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(トリール)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
(6)
(In the formula, R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group defined in (2) above, or an aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. these C 1 -C 4 alkoxy groups, C 1 -C good .R 3 and R 4 may contain as alkyl group or a halogen atom substituents 4 may be linked to form a ring.)
Specifically, amino group, diethylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-diphenylamino group, N, N-di (tolyl) amino group, dibenzylamino group, piperidino group, morpholino group And pyrrolidino group.

(7)メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等が挙げられる。
(8)置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
(7) An alkylenedioxy group or an alkylenedithio group such as a methylenedioxy group or a methylenedithio group.
(8) A substituted or unsubstituted styryl group, a substituted or unsubstituted β-phenylstyryl group, a diphenylaminophenyl group, a ditolylaminophenyl group, and the like.

前記Ar1、Ar2で表わされるアリーレン基としては、前記Ar3、Ar4で表されるアリール基から誘導される2価基である。
前記Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、C1〜C12、好ましくはC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキレン基であり、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチレン基、エチレン基、n−ブチレン基、i−プロピレン基、t−ブチレン基、s−ブチレン基、n−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、2−ヒドロキシエチレン基、2−エトキシエチレン基、2−シアノエチレン基、2−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、4−クロロフェニルエチレン基、4−メチルフェニルエチレン基、4−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
The arylene group represented by Ar 1 or Ar 2 is a divalent group derived from the aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 .
X represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group.
The substituted or unsubstituted alkylene group is a C 1 to C 12 , preferably C 1 to C 8 , more preferably a C 1 to C 4 linear or branched alkylene group, and these alkylene groups include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group of C 1 -C 4, a phenyl group or a halogen atom, a phenyl group substituted with an alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group C 1 -C 4 It may be. Specifically, methylene group, ethylene group, n-butylene group, i-propylene group, t-butylene group, s-butylene group, n-propylene group, trifluoromethylene group, 2-hydroxyethylene group, 2-ethoxyethylene. Group, 2-cyanoethylene group, 2-methoxyethylene group, benzylidene group, phenylethylene group, 4-chlorophenylethylene group, 4-methylphenylethylene group, 4-biphenylethylene group and the like.

置換もしくは無置換のシクロアルキレン基としては、C5〜C7の環状アルキレン基であり、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、C1〜C4のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基を有していても良い。具体的にはシクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、3,3−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールを表わし、アルキレンエーテル基アルキレン基はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。
The substituted or unsubstituted cycloalkylene group is a C 5 to C 7 cyclic alkylene group, and these cyclic alkylene groups include a fluorine atom, a hydroxyl group, a C 1 to C 4 alkyl group, and a C 1 to C 4 alkyl group. It may have an alkoxy group. Specific examples include a cyclohexylidene group, a cyclohexylene group, and a 3,3-dimethylcyclohexylidene group.
The substituted or unsubstituted alkylene ether group represents ethyleneoxy, propyleneoxy, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, tetraethylene glycol, tripropylene glycol, alkylene ether group alkylene group is hydroxyl group, methyl group, ethyl group, etc. You may have the substituent of.

ビニレン基は、
で表わされ、R5は水素、アルキル基(前記(2)で定義されるアルキル基と同じ)、アリール基(前記Ar3、Ar4で表わされるアリール基と同じ)、aは1または2、bは1〜3を表わす。
The vinylene group is
R 5 is hydrogen, an alkyl group (same as the alkyl group defined in (2) above), an aryl group (same as the aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 above), a is 1 or 2 , B represents 1-3.

前記Zは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル2価基を表わす。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、前記Xのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基としては、前記Xのアルキレンエーテル2価基が挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル2価基としては、カプロラクトン2価変性基が挙げられる。
Z represents a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, or an alkyleneoxycarbonyl divalent group.
Examples of the substituted or unsubstituted alkylene group include the same alkylene groups as those described above for X.
Examples of the substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group include the alkylene ether divalent group of X.
Examples of the alkyleneoxycarbonyl divalent group include a caprolactone divalent modifying group.

また、本発明の電荷輸送性構造を有する重合性化合物として更に好ましくは、下記一般式(3)の構造の化合物が挙げられる。
(式中、o、p、qはそれぞれ0又は1の整数、Raは水素原子、メチル基を表わし、Rb、Rcは水素原子以外の置換基で炭素数1〜6のアルキル基を表わし、複数の場合は異なっても良い。s、tは0〜3の整数を表わす。Zaは単結合、メチレン基、エチレン基、
を表わす。)
上記一般式で表わされる化合物としては、Rb、Rcの置換基として、特にメチル基、エチル基である化合物が好ましい。
Further, the polymerizable compound having a charge transporting structure of the present invention is more preferably a compound having the structure of the following general formula (3).
(Wherein, o, p and q are each an integer of 0 or 1, Ra represents a hydrogen atom or a methyl group, Rb and Rc represent a substituent other than a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, And s and t each represents an integer of 0 to 3. Za is a single bond, a methylene group, an ethylene group,
Represents. )
As the compound represented by the above general formula, a compound having a methyl group or an ethyl group as a substituent for Rb and Rc is particularly preferable.

本発明で用いる上記一般式(1)及び(2)特に(3)の重合性官能基を有する電荷輸送性化合物は、炭素−炭素間の二重結合が両側に開放されて重合するため、末端構造とはならず、連鎖重合体中に組み込まれ、電荷輸送性構造を有しない重合性化合物との重合で架橋形成された重合体中では、高分子の主鎖中に存在し、かつ主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在(この架橋鎖には1つの高分子と他の高分子間の分子間架橋鎖と1つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と主鎖中でこれから離れた位置に重合したモノマー由来の他の部位とが架橋される分子内架橋鎖とがある)するが、主鎖中に存在する場合であってもまた架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも3つのアリール基を有し、バルキーであるが、鎖部分に直接結合しておらず鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため立体的位置取りに融通性ある状態で固定されているので、これらトリアリールアミン構造は重合体中で相互に程よく隣接する空間配置が可能であるため、分子内の構造的歪みが少なく、また、感光体の表面層とされた場合に、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造をとりうるものと推測される。   The charge transporting compound having a polymerizable functional group represented by the general formulas (1) and (2), particularly (3) used in the present invention is polymerized with the carbon-carbon double bond being released on both sides, so In a polymer that does not become a structure, is incorporated in a chain polymer, and is crosslinked by polymerization with a polymerizable compound that does not have a charge transporting structure, it exists in the main chain of the polymer, and the main chain -Present in a cross-linked chain between main chains (this cross-linked chain includes a main chain portion and a main chain in an intermolecular cross-linked chain between one polymer and another polymer and a folded state in one polymer). There are intramolecular cross-linked chains that are cross-linked with other sites derived from the polymerized monomer at positions away from this in the chain), but they are also present in the cross-linked chain even if they are present in the main chain Even if the triarylamine structure suspended from the chain moiety is in a radial direction from the nitrogen atom It has at least three aryl groups to be arranged and is bulky, but it is not directly bonded to the chain part and is suspended from the chain part via a carbonyl group or the like, so that it has flexibility in steric positioning. Since they are fixed, these triarylamine structures can be arranged in a polymer in a space that is reasonably adjacent to each other, so there is little structural distortion in the molecule, and when the surface layer of the photoreceptor is used. Therefore, it is presumed that an intramolecular structure relatively free from interruption of the charge transport pathway can be taken.

また本発明においては下記一般式(4)で示した特定のアクリル酸エステル化合物も重合性官能基を有する電荷輸送性化合物として良好に用いることができる。
一般式(4)中、Ar5は置換又は無置換の芳香族炭化水素骨格からなる一価基または二価基を表す。芳香族炭化水素としては、ベンゼン、ナフタレン、フェナントレン、ビフェニル、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン等が挙げられる。
置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、ベンジル基、ハロゲン原子が挙げられる。また、上記アルキル基、アルコキシ基は、さらにハロゲン原子、フェニル基を置換基として有していても良い。
Ar6は、少なくとも1個の3級アミノ基を有する芳香族炭化水素骨格からなる一価基または二価基もしくは少なくとも1個の3級アミノ基を有する複素環式化合物骨格からなる一価基または二価基を表すが、ここで、3級アミノ基を有する芳香族炭化水素骨格とは下記一般式(A)で表される。
In the present invention, the specific acrylic ester compound represented by the following general formula (4) can also be used favorably as a charge transporting compound having a polymerizable functional group.
In the general formula (4), Ar 5 represents a monovalent group or a divalent group composed of a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon skeleton. Examples of the aromatic hydrocarbon include benzene, naphthalene, phenanthrene, biphenyl, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene and the like.
Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group, and a halogen atom. The alkyl group and alkoxy group may further have a halogen atom or a phenyl group as a substituent.
Ar 6 represents a monovalent group consisting of an aromatic hydrocarbon skeleton having at least one tertiary amino group, a monovalent group consisting of a divalent group or a heterocyclic compound skeleton having at least one tertiary amino group, or Although it represents a divalent group, the aromatic hydrocarbon skeleton having a tertiary amino group is represented by the following general formula (A).

(一般式(A)中、R13、R14はアシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ar7はアリール基を表す。wは1〜3の整数を表す。) (In general formula (A), R 13 and R 14 represent an acyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Ar 7 represents an aryl group. W is an integer of 1 to 3. Represents.)

13、R14のアシル基としてはアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
13、R14の置換もしくは無置換のアルキル基はAr5の置換基で述べたアルキル基と同様である。
13、R14の置換もしくは無置換のアリール基は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基に加えて下記一般式(B)で表される基を挙げることができる。
Examples of the acyl group for R 13 and R 14 include an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group.
The substituted or unsubstituted alkyl group for R 13 and R 14 is the same as the alkyl group described for the substituent for Ar 5 .
The substituted or unsubstituted aryl group for R 13 and R 14 is phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, terphenylyl group, pyrenyl group, fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, In addition to the triphenylenyl group and the chrysenyl group, a group represented by the following general formula (B) can be exemplified.

[一般式(B)中、Bは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−及び以下の2価基から選ばれる。
(ここで、R21は、水素原子、Ar5の置換基で定義された置換もしくは無置換のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、R13で定義された置換もしくは無置換のアリール基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基を表し、R22は、水素原子、Ar5の置換基で定義された置換もしくは無置換のアルキル基、R13で定義された置換もしくは無置換のアリール基を表し、iは1〜12の整数、jは1〜3の整数を表す。)]
[In General Formula (B), B is selected from —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —CO—, and the following divalent groups.
(Wherein R 21 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group defined by a substituent of Ar 5 , an alkoxy group, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group defined by R 13 , an amino group; , A nitro group, a cyano group, R 22 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group defined by a substituent of Ar 5 , a substituted or unsubstituted aryl group defined by R 13 , i Represents an integer of 1 to 12, and j represents an integer of 1 to 3)]

21のアルコキシ基の具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
21のハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
21のアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、4−メチルベンジル基等が挙げられる。
Ar7のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基を挙げることができる。
Ar7、R13、R14は、Ar5で定義されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していても良い。
Specific examples of the alkoxy group of R 21 include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, i-butoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, 2-hydroxyethoxy. Group, 2-cyanoethoxy group, benzyloxy group, 4-methylbenzyloxy group, trifluoromethoxy group and the like.
Examples of the halogen atom for R 21 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the amino group of R 21 include a diphenylamino group, a ditolylamino group, a dibenzylamino group, and a 4-methylbenzyl group.
Phenyl group as the aryl group Ar 7, naphthyl group, biphenylyl group, terphenylyl group, pyrenyl group, fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, include a chrysenyl Can do.
Ar 7, R 13, R 14 is an alkyl group as defined Ar 5, an alkoxy group, may have a halogen atom as a substituent.

また、3級アミノ基を有する複素環式化合物骨格としては、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、ジオキサゾール、インドール、イソインドール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサジン、カルバゾール、フェノキサジン等のアミン構造を有する複素環化合物が挙げられる。これらは、Ar5で定義されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を置換基として有していても良い。
1、B2はアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基又はビニル基を有するアルキル基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基又はビニル基を有するアルコキシ基を表す。アルキル基、アルコキシ基は、Ar5で述べたものが同様に適用される。これら、B1とB2は、両方存在しても良いし、どちらか一方のみが存在してもよい。
Examples of the heterocyclic compound skeleton having a tertiary amino group include amines such as pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, dioxazole, indole, isoindole, benzimidazole, benzotriazole, benzisoxazine, carbazole, and phenoxazine. Examples include heterocyclic compounds having a structure. These may have an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom defined by Ar 5 as a substituent.
B 1 and B 2 represent an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an alkyl group having a vinyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, or an alkoxy group having a vinyl group. As the alkyl group and alkoxy group, those described for Ar 5 are similarly applied. Both of these B 1 and B 2 may be present, or only one of them may be present.

一般式(4)のアクリル酸エステル化合物においてより好ましい構造として下記一般式(5)の化合物を挙げることができる。
一般式(5)中、R8、R9は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、ハロゲン原子を表し、Ar7、Ar8は、置換もしくは無置換のアリール基またはアリーレン基、置換又は無置換のベンジル基を表す。アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子は前記Ar5で述べたものが同様に適用される。
アリール基は、R13、R14で定義されたアリール基と同様である。アリーレン基は、そのアリール基から誘導される二価基である。
1〜B4は、一般式(4)におけるB1、B2と同様である。uは0〜5の整数、vは0〜4の整数を表す。
As a more preferable structure in the acrylic ester compound of the general formula (4), a compound of the following general formula (5) can be exemplified.
In the general formula (5), R 8 and R 9 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group or a halogen atom, and Ar 7 and Ar 8 represent a substituted or unsubstituted aryl group or An arylene group and a substituted or unsubstituted benzyl group are represented. As the alkyl group, alkoxy group, and halogen atom, those described for Ar 5 are similarly applied.
The aryl group is the same as the aryl group defined by R 13 and R 14 . An arylene group is a divalent group derived from the aryl group.
B 1 to B 4 are the same as B 1 and B 2 in the general formula (4). u represents an integer of 0 to 5, and v represents an integer of 0 to 4.

特定のアクリル酸エステル化合物は次のような特徴を有する。スチルベン型共役構造を有した三級アミン化合物であり、発達した共役系を有している。こういった共役系の発達した電荷輸送性化合物を用いることで、架橋層界面部分での電荷注入性が非常に良好となり、さらに架橋結合間に固定化された場合でも分子間相互作用が阻害されにくく、電荷移動度に関しても良好な特性を有する。また、重合性の高いアクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基を分子中に有しており、重合時に速やかにゲル化するとともに過度な架橋歪を生じない。分子中のスチルベン構造部の二重結合が部分的に重合に参加し、しかもアクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基よりも重合性が低いために架橋反応に時間差が生じることで歪みを最大に大きくする事が無く、しかも分子中の二重結合を使用する為に分子量当りの架橋反応数を上げることが出来る為に、架橋密度を高めることができ、耐摩耗性のさらなる向上が実現可能となった。また、この二重結合は、架橋条件により重合度を調整することができ、容易に最適架橋膜を作製できる。この様な重合への架橋参加は、アクリル酸エステル化合物の特異的な特徴であり、前述したようなα−フェニルスチルベン型の構造では起こらない。   The specific acrylic ester compound has the following characteristics. It is a tertiary amine compound having a stilbene-type conjugated structure, and has a developed conjugated system. By using a charge transporting compound with such a conjugated system, the charge injection property at the interface part of the cross-linked layer becomes very good, and intermolecular interaction is inhibited even when immobilized between cross-linked bonds. It is difficult and has good characteristics with respect to charge mobility. In addition, it has a highly polymerizable acryloyloxy group or methacryloyloxy group in the molecule, and rapidly gels during polymerization and does not cause excessive crosslinking strain. The double bond at the stilbene structure in the molecule partially participates in the polymerization, and the polymerization is lower than the acryloyloxy group or methacryloyloxy group. In addition, since the number of cross-linking reactions per molecular weight can be increased due to the use of double bonds in the molecule, the cross-linking density can be increased, and further improvement in wear resistance can be realized. . In addition, the degree of polymerization of this double bond can be adjusted depending on the crosslinking conditions, and an optimum crosslinked film can be easily produced. Such cross-linking participation in the polymerization is a specific feature of the acrylate compound and does not occur in the α-phenylstilbene type structure as described above.

以上のことから、一般式(4)特に一般式(5)に示した重合性官能基を有する電荷輸送性化合物を用いることで良好な電気特性を維持しつつ、且つ、クラック等の発生を起さずに架橋密度の極めて高い膜を形成することができ、それにより感光体の諸特性を満足し、且つシリカ微粒子等が感光体に刺さることを防止し、白斑点等の画像欠陥を減らすことができる。   In view of the above, by using the charge transporting compound having a polymerizable functional group represented by the general formula (4), particularly the general formula (5), it is possible to maintain good electrical characteristics and to generate cracks and the like. Can form films with extremely high crosslink density, thereby satisfying the various characteristics of the photoreceptor, preventing silica fine particles from sticking to the photoreceptor, and reducing image defects such as white spots. Can do.

以下に本発明において用いられる電荷輸送性構造を有する重合性化合物の具体例を示すが、これらの構造の化合物に限定されるものではない。   Specific examples of the polymerizable compound having a charge transporting structure used in the present invention are shown below, but are not limited to the compounds having these structures.

また、本発明に用いられる重合性官能基を有する電荷輸送性化合物は、架橋表面層の電荷輸送性能を付与するために重要で、この成分は架橋表面層全量に対し80質量%以下、好ましくは70質量%以下になるように塗工液成分の含有量を調整する。この成分が80質量%を超えると電荷輸送構造を有しない重合性化合物の含有量が低下し、架橋結合密度の低下を招き高い耐摩耗性が発揮されない。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると70質量%以下の範囲が最も好ましい。   Further, the charge transporting compound having a polymerizable functional group used in the present invention is important for imparting the charge transport performance of the crosslinked surface layer, and this component is 80% by mass or less based on the total amount of the crosslinked surface layer, preferably Content of a coating liquid component is adjusted so that it may become 70 mass% or less. When this component exceeds 80% by mass, the content of the polymerizable compound having no charge transport structure is reduced, resulting in a decrease in the crosslink density, and high wear resistance is not exhibited. Although the electrical characteristics and wear resistance required by the process used are different, it cannot be said unconditionally, but considering the balance of both characteristics, the range of 70% by mass or less is most preferable.

本発明の感光体を構成する架橋表面層は、塗工時の粘度調整、架橋表面層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で機能性モノマー及び重合性オリゴマーを併用することができる。これらの機能性モノマー及び重合性オリゴマーとしては公知のものが利用できる。機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、2−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平5−60503号公報、特公平6−45770号公報記載のシロキサン繰り返し単位:20〜70のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
但し、官能基数の低い1官能及び2官能の機能性重合性モノマーや重合性オリゴマーを多量に含有させると架橋架橋表面層の3次元架橋結合密度が実質的に低下し、耐摩耗性の低下を招く。このためこれらの含有量は架橋表面層全量に対して50質量%以下、好ましくは30質量%以下である。
The cross-linked surface layer constituting the photoreceptor of the present invention comprises a functional monomer and a polymerizable oligomer for the purpose of imparting functions such as viscosity adjustment during coating, stress relaxation of the cross-linked surface layer, lower surface energy and reduced friction coefficient. Can be used together. Known functional monomers and polymerizable oligomers can be used. Examples of the functional monomer include those substituted with a fluorine atom such as octafluoropentyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 2-perfluoroisononylethyl acrylate, No. 60503, JP-B-6-45770, siloxane repeating units: 20-70 acryloyl polydimethylsiloxane ethyl, methacryloyl polydimethylsiloxane ethyl, acryloyl polydimethylsiloxane propyl, acryloyl polydimethylsiloxane butyl, diacryloyl polydimethylsiloxane Examples include vinyl monomers having a polysiloxane group such as diethyl, acrylates and methacrylates. Examples of the polymerizable oligomer include epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate oligomers.
However, if a large amount of monofunctional and bifunctional functional polymerizable monomers or polymerizable oligomers having a low number of functional groups are contained, the three-dimensional cross-linking density of the cross-linked cross-linked surface layer is substantially reduced, and the wear resistance is reduced. Invite. For this reason, these content is 50 mass% or less with respect to the bridge | crosslinking surface layer whole quantity, Preferably it is 30 mass% or less.

また、本発明の架橋表面層は必要に応じて重合時の反応効率向上を目的として架橋表面層塗布液中に重合開始剤を含有させても良い。重合開始剤としては従来から知られている熱重合開始剤および光重合開始剤が良好に使用できる。
熱重合開始剤としては、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(パーオキシベンゾイル)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルベルオキサイド、t−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシ)プロパンなどの過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸などのアゾ系開始剤が挙げられる。
In addition, the crosslinked surface layer of the present invention may contain a polymerization initiator in the crosslinked surface layer coating solution for the purpose of improving the reaction efficiency during polymerization, if necessary. Conventionally known thermal polymerization initiators and photopolymerization initiators can be used favorably as the polymerization initiator.
Examples of the thermal polymerization initiator include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di ( Peroxybenzoyl) hexyne-3, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, lauroyl peroxide, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) B) Peroxide-based initiators such as propane, azo-based compounds such as azobisisobutylnitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, methyl azobisisobutyrate, azobisisobutylamidine hydrochloride, 4,4′-azobis-4-cyanovaleric acid Initiators are mentioned.

光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルフォリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。
これらの重合開始剤は1種又は2種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、重合性を有する総含有物100質量部に対し、0.5〜40質量部、好ましくは1〜20質量部である。
Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2 -Hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2- Acetophenone-based or ketal-based photopolymerization initiators such as methyl-2-morpholino (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether Benzoin ether photopolymerization initiators such as benzoin isopropyl ether, benzophenone, 4-hydroxybenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, 4-benzoylphenyl ether, acrylated benzophenone, Benzophenone photopolymerization initiators such as 1,4-benzoylbenzene, thioxanthones such as 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone Examples of photopolymerization initiators and other photopolymerization initiators include ethyl anthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoic acid. Phenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,4-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, methylphenylglyoxyester, 9,10 -Phenanthrene, an acridine type compound, a triazine type compound, an imidazole type compound is mentioned. Moreover, what has a photopolymerization acceleration effect can also be used individually or in combination with the said photoinitiator. Examples thereof include triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, (2-dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4′-dimethylaminobenzophenone, and the like.
These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Content of a polymerization initiator is 0.5-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total inclusions which have polymerizability, Preferably it is 1-20 mass parts.

更に、本発明の架橋表面層形成用塗工液は必要に応じて各種可塑剤(応力緩和や接着性向上の目的)、レベリング剤、重合性を有しない低分子電荷輸送物質などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し20質量%以下、好ましくは10質量%以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し3質量%以下が適当である。   Furthermore, the coating solution for forming a crosslinked surface layer of the present invention may contain additives such as various plasticizers (for the purpose of stress relaxation and adhesion improvement), leveling agents, and low molecular charge transport materials having no polymerizability. Can be contained. As these additives, known additives can be used, and as plasticizers, those used in general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used, and the amount used is the total solid content of the coating liquid. To 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less. As leveling agents, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain can be used, and the amount used is based on the total solid content of the coating liquid. On the other hand, 3% by mass or less is appropriate.

本発明の架橋表面層の塗工液は重合性化合物が液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または2種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行うことができる。   When the polymerizable compound is a liquid, the coating liquid for the crosslinked surface layer of the present invention can be applied by dissolving other components in the liquid, but if necessary, it is diluted with a solvent and applied. . Solvents used at this time include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane and propyl ether. And ethers such as dichloromethane, dichloroethane, trichloroethane and chlorobenzene, aromatics such as benzene, toluene and xylene, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and cellosolve acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The dilution ratio with the solvent varies depending on the solubility of the composition, the coating method, and the target film thickness, and is arbitrary. The application can be performed by dip coating, spray coating, bead coating, ring coating, or the like.

本発明においては、架橋表面層の塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え重合させ、架橋表面層を形成するものであるが、このとき用いられる外部エネルギーとしては熱、光、放射線がある。熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行なわれる。加熱温度は80℃以上、170℃以下が好ましく、80℃未満では反応速度が遅く、完全に反応が終了しない。170℃より高温では反応が不均一に進行し架橋表面層中に大きな歪みが発生する。重合反応を均一に進めるために、50℃未満の比較的低温で加熱後、更に100℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。光エネルギーとしては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのUV照射光源が利用できるが、重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は50mW/cm2以上、好ましくは500mW/cm2以上、より好ましくは1000mW/cm2以上である。1000mW/cm2より強い照射光を用いることで重合反応の進行速度が大幅に速くなり、より均一な架橋表面層を形成することが可能となる。放射線のエネルギーとしては電子線を用いるものが挙げられる。これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから熱と光のエネルギーを用いたものが有用である。 In the present invention, after applying the coating liquid for the crosslinked surface layer, energy is applied from outside to polymerize to form the crosslinked surface layer. The external energy used at this time includes heat, light, and radiation. . The heat energy is applied by heating from the coating surface side or the support side using a gas such as air or nitrogen, steam, various heat media, infrared rays, or electromagnetic waves. The heating temperature is preferably 80 ° C. or higher and 170 ° C. or lower. When the heating temperature is lower than 80 ° C., the reaction rate is slow and the reaction is not completely completed. At a temperature higher than 170 ° C., the reaction proceeds non-uniformly and a large strain is generated in the crosslinked surface layer. In order to advance the polymerization reaction uniformly, it is also effective to complete the reaction by heating at a relatively low temperature of less than 50 ° C. and then heating to 100 ° C. or more. As the light energy, a UV irradiation light source such as a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp that has an emission wavelength mainly in ultraviolet light can be used, but a visible light source can also be selected according to the absorption wavelength of the polymerizable substance or the photopolymerization initiator. is there. Irradiation light amount is 50 mW / cm 2 or more, preferably 500 mW / cm 2 or more, more preferably 1000 mW / cm 2 or more. By using irradiation light stronger than 1000 mW / cm 2, the progress rate of the polymerization reaction is significantly increased, and a more uniform crosslinked surface layer can be formed. Examples of radiation energy include those using electron beams. Among these energies, those using heat and light energy are useful because of easy reaction rate control and simple apparatus.

架橋表面層としては上述の架橋表面層以外の従来公知の架橋表面層を用いることができる。具体的には熱硬化樹脂や電子線硬化樹脂が挙げられる。熱硬化樹脂としては例えば、活性水素(−OH基、−NH2基、−NH基等の水素)を複数個含有する化合物とイソシアネート基を複数個含有する化合物及び/又はエポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させた熱硬化性樹脂等も使用できる。この場合活性水素を複数個含有する化合物としては、例えばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。 As the crosslinked surface layer, a conventionally known crosslinked surface layer other than the above-described crosslinked surface layer can be used. Specific examples include thermosetting resins and electron beam curable resins. Examples of the thermosetting resin include a compound containing a plurality of active hydrogens (hydrogen such as —OH group, —NH 2 group and —NH group), a compound containing a plurality of isocyanate groups and / or a plurality of epoxy groups. A thermosetting resin obtained by thermally polymerizing a compound to be used can also be used. In this case, examples of the compound containing a plurality of active hydrogens include acrylic resins containing active hydrogen such as polyvinyl butyral, phenoxy resin, phenol resin, polyamide, polyester, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polybutylene glycol, and hydroxyethyl methacrylate groups. System resin and the like.

イソシアネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれらのプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等があげられる。また、オイルフリーアルキド樹脂とアミノ樹脂例えば、ブチル化メラミン樹脂等を熱重合させた熱硬化性樹脂もバインダー樹脂として使用できる。このような熱硬化性樹脂は、絶縁性が高く、塗工時に膜が溶出することもないので均一な膜が維持されるため、地汚れ抑制効果の安定性並びに均一性に優れる。   Examples of the compound containing a plurality of isocyanate groups include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and prepolymers thereof. Examples of the compound having a plurality of epoxy groups include bisphenol A type epoxy resin. can give. A thermosetting resin obtained by thermally polymerizing an oil-free alkyd resin and an amino resin such as a butylated melamine resin can also be used as the binder resin. Such a thermosetting resin has high insulating properties, and the film does not elute at the time of coating, so that a uniform film is maintained. Therefore, the stability and uniformity of the antifouling effect are excellent.

電子線硬化性樹脂としては、電子線照射によって硬化が可能であるものであれば特に他の制約はない。ただし、中でも分子内に不飽和重合性官能基を有する化合物は、反応性の高さ、反応速度の速さ、電子線照射による硬化によって達成される硬度特性の高さの点で好ましい。従って、本発明では、架橋表面層が、分子内に不飽和重合性官能基を有する化合物を電子線照射によって重合または架橋し硬化することによって得られた樹脂を含有することが好ましい。また、不飽和重合性官能基が少なくともアクリル基、メタクリル基及びスチレン基のいずれかを含むことが反応性の高さの点から特に好ましい。また上記の不飽和重合性官能基を有する化合物は、その構造単位の繰り返しよりモノマーとオリゴマーに大別される。モノマーとは不飽和重合性官能基を有する構造単位の繰り返しがなく、比較的分子量の小さいものを示し、オリゴマーとは不飽和重合性官能基を有する構造単位の繰り返し数が2〜20程度の重合体である。また、ポリマーまたはオリゴマーの末端のみに不飽和重合性官能基を有するマクロマーも本発明の架橋表面層用の硬化性化合物として使用可能である。   The electron beam curable resin is not particularly limited as long as it can be cured by electron beam irradiation. However, among them, a compound having an unsaturated polymerizable functional group in the molecule is preferable in terms of high reactivity, high reaction rate, and high hardness characteristics achieved by curing by electron beam irradiation. Therefore, in the present invention, the crosslinked surface layer preferably contains a resin obtained by polymerizing or crosslinking a compound having an unsaturated polymerizable functional group in the molecule by electron beam irradiation and curing. Moreover, it is particularly preferable from the viewpoint of high reactivity that the unsaturated polymerizable functional group contains at least one of an acryl group, a methacryl group and a styrene group. The compounds having the unsaturated polymerizable functional group are roughly classified into monomers and oligomers based on the repetition of the structural unit. A monomer is a monomer having no relatively repeating structural unit having an unsaturated polymerizable functional group and having a relatively small molecular weight, and an oligomer is a polymer having a repeating unit having an unsaturated polymerizable functional group and having a number of repeating units of about 2 to 20. It is a coalescence. Moreover, the macromer which has an unsaturated polymerizable functional group only in the terminal of a polymer or an oligomer can also be used as a curable compound for the crosslinked surface layer of the present invention.

次に本発明のコロナ帯電器の帯電グリッドについて説明する。コロナ帯電器の制御電極である帯電グリッドの基材としては従来使用されているものを用いることができる。帯電グリッドの材質としては、電極として機能するため導電体である金属が用いられる。電極の機能としては金属であるアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属のほとんどが使用できるが、帯電器はコロナ放電により発生するオゾンやNOx等に曝露されるため、耐蝕性の高い金属が好ましく、クロムやニッケルを含んだステンレス等が用いられている。形状としてはコロナ放電で発生した電荷を感光体上へ移動させ、かつ制御電極としての機能を有する必要性から金属薄板にパンチング、エッチング等により開口部を設けたもの、または金属ワイヤを並べたものが通常用いられる。例えば帯電グリッド用の基材としては、厚さ0.1mm、長さ285mm、幅40mmのSUS304製板を用い、開口部長さ250mm、幅36mm部分に0.1mmの格子を45度の角度で0.5mm間隔で配したもの等を用いることができる。この帯電グリッドの外観形状を図9に示す。図9中、2はシールドケース、6は帯電グリッドを示す。   Next, the charging grid of the corona charger according to the present invention will be described. As the base material of the charging grid which is the control electrode of the corona charger, those conventionally used can be used. As a material of the charging grid, a metal which is a conductor is used to function as an electrode. As the electrode function, most metals such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc and silver can be used, but the charger is exposed to ozone, NOx, etc. generated by corona discharge. A highly metal is preferable, and stainless steel containing chromium or nickel is used. As the shape, it is necessary to move the charge generated by corona discharge onto the photoconductor and to have a function as a control electrode, so that a metal thin plate is provided with an opening by punching, etching or the like, or metal wires are arranged Is usually used. For example, as a base material for a charging grid, a SUS304 plate having a thickness of 0.1 mm, a length of 285 mm, and a width of 40 mm is used, and an opening length of 250 mm and a width of 36 mm is 0.1 mm at a 45 degree angle. Those arranged at intervals of 5 mm can be used. The external shape of this charging grid is shown in FIG. In FIG. 9, 2 is a shield case, and 6 is a charging grid.

次に、本発明のコロナ帯電器のコート層に用いられるゼオライトについて説明する。本発明では放電生成物を除去する為にゼオライトを用いている。目的の物質を除去できるものであれば天然ゼオライト、合成ゼオライト、人工ゼオライト等の種類はいずれでも構わない。ゼオライトは天然ゼオライト又は合成ゼオライトを出発原料として鉱酸等を用いた脱アルミニウム処理等によって調製する方法、或はシリカ源、アルミナ源、アルカリ源及び有機鉱化剤を混合し結晶化する直接合成法等により得られる。ゼオライトは結晶形と結晶の有する陽イオンの種類により細孔の大きさが変化するため吸着できる分子が異なる。そのため目的物質により結晶形と陽イオン種を選択すると効果的な除去が可能となる。結晶形にはA型・X型・Y型・L型・モルデナイト型・フェリエライト型・ZSM−5型・ベータ型等があり、陽イオン種にはカリウム・ナトリウム・カルシウム・アンモニウム・水素等があるが、本発明においてもいずれも好適に用いることができる。また、ゼオライトを構成するシリカとアルミナの比率により吸着能や触媒能は変化し、最適な比率を選択することで目的物質の除去が効率的に行うことができる。本発明においてはシリカ/アルミナ比が100(mol/mol)以下が好ましく、より好ましくは50(mol/mol)以下が良好に用いられる。   Next, the zeolite used for the coating layer of the corona charger of the present invention will be described. In the present invention, zeolite is used to remove discharge products. Any kind of natural zeolite, synthetic zeolite, artificial zeolite and the like may be used as long as the target substance can be removed. Zeolite is prepared by dealumination using natural zeolite or synthetic zeolite as a starting material, by dealumination using mineral acid, etc., or direct synthesis method in which silica source, alumina source, alkali source and organic mineralizer are mixed and crystallized. Etc. Zeolite differs in the molecule that can be adsorbed because the pore size changes depending on the crystal form and the type of cation in the crystal. Therefore, effective removal is possible by selecting the crystal form and cation species according to the target substance. Crystal types include A, X, Y, L, mordenite, ferrierite, ZSM-5, beta, etc., and cation species include potassium, sodium, calcium, ammonium, hydrogen, etc. However, any of them can be suitably used in the present invention. Further, the adsorption ability and catalytic ability change depending on the ratio of silica and alumina constituting the zeolite, and the target substance can be efficiently removed by selecting the optimum ratio. In the present invention, the silica / alumina ratio is preferably 100 (mol / mol) or less, more preferably 50 (mol / mol) or less.

ゼオライトの含有量としてはコート層の全質量に対して30〜70質量%、より好ましくは40〜60質量%の範囲で良好に用いることが出来る。ゼオライトの含有量が30質量%よりも少ない場合は放電生成物の除去能力が不十分となる場合があり、これに起因した異常画像が発生する場合がある。一方、ゼオライトの含有量が70質量%を超える場合は帯電グリッドの抵抗値が高くなり過ぎるために表面電位の制御能力が不足し、均一な帯電が出来ない場合がある。   The content of zeolite can be favorably used in the range of 30 to 70% by mass, more preferably 40 to 60% by mass with respect to the total mass of the coat layer. When the content of zeolite is less than 30% by mass, the discharge product removal ability may be insufficient, and an abnormal image may be generated due to this. On the other hand, when the content of zeolite exceeds 70% by mass, the resistance value of the charging grid becomes too high, so that the ability to control the surface potential is insufficient and uniform charging may not be possible.

次に本発明のコロナ帯電器のコート層に用いられる導電剤について説明する。金属板の加工品である帯電グリッドは本来導電性を有するが、ゼオライトとバインダー樹脂に覆われるため電気抵抗が大きくなり、表面電位制御の役割を果たさない。そのため導電性を付与させる目的で、導電剤をバインダー樹脂中に分散させている。ここで導電剤にはグラファイト、活性炭、或いは銅、スズ、アルミニウム、ニッケル、インジウム等の金属、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウムスズ、アンチモン酸亜鉛等の金属酸化物微粉末などがあげられる。また、これらにイオン電導性導電剤として、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジル、アンモニウム塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルサルフェート、グルセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪アルコールエステル、アルキルベタイン、過塩素酸リチウム、などを併用してもよい。さらに微粒子を溶媒に分散した溶媒分散ゾルも良好に用いることが出来る。コロナ帯電器は使用中、常に放電下に置かれるため、用いる導電剤は放電に対する耐久性が求められ、グラファイトやニッケル等の金属、および酸化スズ、酸化インジウムスズのような金属酸化物が経時使用および環境変動に対して安定しており好ましい。分散安定性、導電性および使用経時における耐久性の観点から酸化インジウムスズが良好に用いられる。また、導電剤は含有率が少ないほど、他の機能である膜の密着性や放電生成物除去機能を阻害しないため、粒子自体の導電性は高く、粒径は小さいほうが好ましく、粒径としては0.01μm〜15μmが好ましく用いられる。また導電性を示すバインダー樹脂も導電剤として用いることができる。場合により2種類の導電剤を用いることもできる。   Next, the conductive agent used for the coat layer of the corona charger of the present invention will be described. A charged grid, which is a processed product of a metal plate, is inherently conductive, but is covered with zeolite and a binder resin, so that the electric resistance increases and does not play a role in controlling the surface potential. Therefore, for the purpose of imparting conductivity, a conductive agent is dispersed in the binder resin. Here, the conductive agent may be graphite, activated carbon, metal such as copper, tin, aluminum, nickel, indium, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, antimony oxide, bismuth oxide, antimony-doped tin oxide, oxidation Examples thereof include fine metal oxide powders such as indium tin and zinc antimonate. In addition, as an ion conductive conductive agent, tetraalkylammonium salt, trialkylbenzyl, ammonium salt, alkylsulfonate, alkylbenzenesulfonate, alkyl sulfate, glycerol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, Polyoxyethylene fatty alcohol ester, alkyl betaine, lithium perchlorate, and the like may be used in combination. Furthermore, a solvent-dispersed sol in which fine particles are dispersed in a solvent can also be used favorably. Since the corona charger is always placed under discharge during use, the conductive agent used is required to have durability against discharge, and metals such as graphite and nickel, and metal oxides such as tin oxide and indium tin oxide are used over time. It is preferable because it is stable against environmental fluctuations. Indium tin oxide is preferably used from the viewpoints of dispersion stability, conductivity, and durability over time of use. In addition, the smaller the content of the conductive agent, the more the conductivity of the film and the discharge product removal function, which are other functions, are not hindered. 0.01 μm to 15 μm is preferably used. Moreover, binder resin which shows electroconductivity can also be used as a electrically conductive agent. In some cases, two kinds of conductive agents can be used.

導電剤の含有量としてはコート層の全質量に対して10〜50質量%、より好ましくは20〜40質量%の範囲で良好に用いることが出来る。導電剤の含有量が10質量%よりも少ない場合は帯電グリッドの抵抗値を十分に低く制御することが出来ず表面電位の制御能力が不足し、均一な帯電が出来ない場合がある。一方、導電剤の含有量が50質量%を超える場合は、含有するゼオライトの量が不足する場合があり、放電生成物の除去能力が不十分となることがある。この場合はこれに起因した異常画像が発生する場合がある。   The content of the conductive agent can be favorably used in the range of 10 to 50% by mass, more preferably 20 to 40% by mass with respect to the total mass of the coat layer. When the content of the conductive agent is less than 10% by mass, the resistance value of the charging grid cannot be controlled sufficiently low, the surface potential control ability is insufficient, and uniform charging may not be performed. On the other hand, when the content of the conductive agent exceeds 50% by mass, the amount of zeolite contained may be insufficient, and the discharge product removal capability may be insufficient. In this case, an abnormal image due to this may occur.

次に本発明のコロナ帯電器のコート層に用いられるバインダー樹脂について説明する。バインダー樹脂としてはポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアレート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルトルエン、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられ、耐久性の観点から熱硬化性樹脂が好ましく用いられる。ゼオライトや導電剤の分散安定性、接着性や経時の特性の安定性からフェノール樹脂がより好ましく用いられる。本発明に用いられるフェノール樹脂は、一般的にフェノール、クレゾール、キシレノール、各種ビスフェノール類、各種ポリフェノール類等のフェノール化合物とホルムアルデヒドの反応によって得られる樹脂である。フェノール樹脂には2つの型があり、フェノール類に対してホルムアルデヒドを過剰に用いてアルカリ触媒で反応させて得られるレゾール型と、ホルムアルデヒドに対してフェノール類を過剰に用いて酸触媒で反応させて得られるノボラック型に分けられる。本発明においてはどちらのフェノール樹脂も用いることができるが、レゾールタイプのフェノール樹脂を用いることが好ましい。レゾールタイプはアルコール類及びケトン類の溶媒にも可溶であり、加熱することで3次元的に架橋重合して硬化物となる。一般的に工業的には、レゾールは塗料、接着剤、注型品及び積層品用のワニスとして利用されている。本発明に用いられるフェノール樹脂は公知のフェノール樹脂であれば如何なるものを用いてもよく、樹脂を1種類または2種類以上混合して用いることができる。   Next, the binder resin used for the coating layer of the corona charger of the present invention will be described. As binder resin, polyamide, polyurethane, epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene, polysulfone, poly-N-vinylcarbazole, polyacrylamide, polyvinyl benzal, polyester, Phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyphenylene oxide, polyamide, polyvinyl pyridine, cellulosic resin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, Styrene-maleic anhydride copolymer, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyarate, cellulose acetate resin, ethyl Cellulose resins, polyvinyl toluene, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, include thermoplastic or thermosetting resins such as phenol resins, thermosetting resins are preferably used from the viewpoint of durability. Phenol resin is more preferably used from the viewpoint of dispersion stability of zeolite or conductive agent, adhesion and stability of characteristics over time. The phenol resin used in the present invention is generally a resin obtained by the reaction of phenol compounds such as phenol, cresol, xylenol, various bisphenols, various polyphenols and formaldehyde. There are two types of phenolic resins: a resol type obtained by reacting phenols with formaldehyde in excess and using an alkali catalyst, and a phenolic resin in excess of formaldehyde and reacting with acid catalysts. It is divided into the resulting novolac type. In the present invention, either phenol resin can be used, but a resol type phenol resin is preferably used. The resol type is also soluble in alcohol and ketone solvents, and is heated to form a cured product by three-dimensional crosslinking polymerization. In general, resole is used industrially as a varnish for paints, adhesives, castings and laminates. As the phenol resin used in the present invention, any known phenol resin may be used, and one kind or a mixture of two or more kinds of resins may be used.

バインダー樹脂の含有量としてはコート層の全質量に対して10〜30質量%、より好ましくは15〜25質量%の範囲で良好に用いることが出来る。バインダー樹脂の含有量が10質量%よりも少ない場合はゼオライトや導電剤を帯電グリッドに保持することが十分でない場合があり、長期間の使用において帯電グリッドの良好な機能を維持することが出来ない場合がある。一方、バインダー樹脂の含有量が30質量%を超える場合はゼオライトや導電剤の含有量が不足する場合があり、やはり長期間の使用において高い信頼性を維持できない場合がある。   As content of binder resin, it can use suitably in 10-30 mass% with respect to the total mass of a coating layer, More preferably, it is 15-25 mass%. When the content of the binder resin is less than 10% by mass, it may not be sufficient to hold the zeolite or the conductive agent on the charging grid, and the good function of the charging grid cannot be maintained over a long period of use. There is a case. On the other hand, when the content of the binder resin exceeds 30% by mass, the content of the zeolite or the conductive agent may be insufficient, and it may not be possible to maintain high reliability even after long-term use.

またバインダー樹脂としてノボラック型のフェノール樹脂を用いる際は、硬化剤を添加することが好ましく、この硬化剤としては、ヘキサメチレンテトラミン等を用いることができる。硬化剤の含有量としては特に限定されないが、ノボラック型のフェノール樹脂100質量部に対して、5〜20質量部であることが好ましい。さらに好ましくは7〜17質量部である。硬化剤の含有量が上記下限値未満では、ノボラック型のフェノール樹脂の硬化が不充分になり、成形品の機械的強度が低下することがある。また、上記上限値を超えると、硬化剤の分解により発生するガスが、成形品に膨れ、亀裂などを発生させることがある。   When a novolac type phenol resin is used as the binder resin, it is preferable to add a curing agent, and as this curing agent, hexamethylenetetramine or the like can be used. Although it does not specifically limit as content of a hardening | curing agent, It is preferable that it is 5-20 mass parts with respect to 100 mass parts of novolak-type phenol resins. More preferably, it is 7-17 mass parts. When the content of the curing agent is less than the above lower limit, the novolak-type phenol resin is insufficiently cured, and the mechanical strength of the molded product may be lowered. Moreover, when the said upper limit is exceeded, the gas generated by decomposition | disassembly of a hardening | curing agent may swell to a molded article and may generate | occur | produce a crack.

次に本発明のコロナ帯電器のコート層の塗布液に用いられる溶媒としてはゼオライトおよび導電剤の分散性が良く、バインダー樹脂を良く溶解するものであれば良い。ここで用いられるものとしてはメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられる。中でも、環境への負荷低減等の意図から、非ハロゲン系溶媒の使用は望ましい。これらの溶媒は単独または2種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、ローラ塗工、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、電気泳動電着法等の方法を用いることができる。
コート層の膜厚については耐久性の観点から10μm以上、より好ましくは20μm以上が良好に用いることが出来る。10μm以下の場合では長期間の使用に対して高い信頼性を維持できない場合がある。コート層は帯電グリッドの片面または両面のいずれにも設けることが出来るが、片面のみに塗工した場合、放電生成物の除去能力が十分に維持できない場合があり、効果の持続性の観点から両面に設けることが好ましい。
Next, as the solvent used in the coating solution for the coating layer of the corona charger of the present invention, any solvent may be used as long as it has good dispersibility of the zeolite and the conductive agent and dissolves the binder resin well. As used herein, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, ethyl cellosolve, ethyl acetate, methyl acetate, dichloromethane, dichloroethane, monochlorobenzene, cyclohexane, toluene, xylene, ligroin, etc. Is mentioned. Among these, the use of a non-halogen solvent is desirable for the purpose of reducing the environmental load. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The dilution ratio with the solvent varies depending on the solubility of the composition, the coating method, and the target film thickness, and is arbitrary. As a coating method of the coating solution, methods such as dip coating, roller coating, spray coating, beat coating, nozzle coating, and electrophoretic electrodeposition can be used.
The film thickness of the coat layer is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more from the viewpoint of durability. If the thickness is 10 μm or less, high reliability may not be maintained for long-term use. The coating layer can be provided on either one side or both sides of the charging grid. However, when applied to only one side, the discharge product removal ability may not be sufficiently maintained, and both sides are required from the viewpoint of sustaining the effect. It is preferable to provide in.

ゼオライトを帯電グリッドに保持する際の課題
前述のように、コロナ帯電器はコロナ放電以外に、放電生成物を発生し、そのうちO3やNOx等の反応性ガスは、経時での使用において、樹脂材料の劣化を進行させる。それにより、帯電グリッド上のゼオライトの剥離が発生し、放電生成物の除去ができなくなる問題を有していた。
本発明においては、上述のゼオライト、導電剤、バインダー樹脂を用いることにより、それぞれに求める機能、具体的にはゼオライトの除去能力、導電剤の抵抗制御能力、バインダー樹脂の保持能力が良好に発揮される。
Problems when holding zeolite on the charging grid As described above, the corona charger generates discharge products in addition to corona discharge, of which reactive gases such as O 3 and NOx are used in the resin over time. Advances material degradation. As a result, detachment of the zeolite on the charging grid occurs, and the discharge product cannot be removed.
In the present invention, by using the above-mentioned zeolite, conductive agent, and binder resin, the functions required for each, specifically, the ability to remove zeolite, the resistance control capability of the conductive agent, and the retention capability of the binder resin are exhibited well. The

次に本発明の実施の形態の説明として初めに画像形成装置について説明する。図10は画像形成装置の模式図である。本発明に係るコロナ帯電装置101により感光体100に(±)600〜1400Vが帯電される。電荷の付与(荷電)が行われた後、画像露光系102により潜像形成が行われる。アナログ複写機の場合、露光ランプで照射された原稿像がミラーにより逆像の形で感光体に可視光投影され結像されるが、デジタル複写機の場合にはCCD(電荷結合素子)で読み取られた原稿像は波長400〜780nmのLDやLEDのデジタル信号に変換されて、感光体上に結像される。従って、アナログとデジタルの波長域は異なる。結像によって感光層では電荷分離が行われ、感光体に潜像形成が行われる。原稿に応じた潜像形成が行われた感光体100は、現像装置103で現像剤により現像が行われ、原稿像は顕像化(トナー像)される。次に、感光体上のトナー像は転写装置104に電圧を印加することによりコピー用紙109に転写される。転写で印加する電圧は感光体に流れる電流が一定となるよう定電流制御となっている。一方、感光体100は転写後、クリーニング装置105(クリーニングブラシ106及び弾性ゴムクリーニングブレード107で構成)でトナー像が清掃され清浄化される。クリーニング後の感光体にはトナー像を形成されたあとの潜像(原稿像)が多少なりとも保持されているため、消去し均一化するために除電装置(一般に赤色光が使用される)108で除電され、次の潜像形成の準備を終え一連の複写プロセスが終了する。上記、画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。   Next, the image forming apparatus will be described first as an explanation of the embodiment of the present invention. FIG. 10 is a schematic diagram of an image forming apparatus. The photoconductor 100 is charged with (±) 600 to 1400 V by the corona charging device 101 according to the present invention. After the charge is applied (charged), the image exposure system 102 forms a latent image. In the case of an analog copying machine, the original image irradiated by the exposure lamp is projected onto the photosensitive member in the form of a reverse image by a mirror and formed into an image. In the case of a digital copying machine, it is read by a CCD (Charge Coupled Device). The obtained original image is converted into a digital signal of an LD or LED having a wavelength of 400 to 780 nm, and formed on the photosensitive member. Therefore, the analog and digital wavelength ranges are different. By image formation, charge separation is performed in the photosensitive layer, and a latent image is formed on the photosensitive member. The photoreceptor 100 on which the latent image is formed according to the document is developed with a developer by the developing device 103, and the document image is visualized (toner image). Next, the toner image on the photoreceptor is transferred to the copy sheet 109 by applying a voltage to the transfer device 104. The voltage applied in the transfer is controlled by constant current so that the current flowing through the photosensitive member is constant. On the other hand, after the transfer, the toner image is cleaned and cleaned by the cleaning device 105 (comprising the cleaning brush 106 and the elastic rubber cleaning blade 107). Since the latent image (original image) after the toner image is formed is held on the photosensitive member after cleaning, the static eliminator (generally using red light) 108 for erasing and uniformizing. Then, the preparation for the next latent image formation is completed and a series of copying processes is completed. The image forming unit may be fixedly incorporated in a copying apparatus, a facsimile machine, or a printer, but may be incorporated in the apparatus in the form of a process cartridge and detachable.

本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジとは、上記画像形成装置に用いるプロセスカートリッジであって、架橋表面層を有する感光体を内蔵し、他にコロナ帯電装置、現像装置、転写手段、クリーニング手段、除電手段の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置(部品)である。プロセスカートリッジの一例を図11に示す。   The process cartridge for an image forming apparatus of the present invention is a process cartridge used for the image forming apparatus described above, and includes a photoconductor having a crosslinked surface layer, in addition to a corona charging device, a developing device, a transfer unit, a cleaning unit, This is an apparatus (part) that includes at least one static elimination unit and is detachable from the main body of the image forming apparatus. An example of the process cartridge is shown in FIG.

<電荷輸送性構造を有する重合性化合物の合成例>
本発明における電荷輸送性構造を有する重合性化合物は、例えば特許第3164426号公報記載の方法にて合成される。また、下記にこの一例を示す。
(1)ヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物(下記構造式B)の合成
メトキシ基置換トリアリールアミン化合物(下記構造式A)113.85g(0.3mol)と、ヨウ化ナトリウム138g(0.92mol)にスルホラン240mlを加え、窒素気流中で60℃に加温した。この液中にトリメチルクロロシラン99g(0.91mol)を1時間で滴下し、約60℃の温度で4時間半撹拌し反応を終了させた。この反応液にトルエン約1.5Lを加え室温まで冷却し、水と炭酸ナトリウム水溶液で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:トルエン:酢酸エチル=20:1)にて精製した。得られた淡黄色オイルにシクロヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして下記構造式Bの白色結晶88.1gを得た。(収率=80.4%融点:64.0〜66.0℃)元素分析結果を以下に示す。
<Synthesis Example of Polymerizable Compound Having Charge Transporting Structure>
The polymerizable compound having a charge transporting structure in the present invention is synthesized, for example, by the method described in Japanese Patent No. 3164426. An example of this is shown below.
(1) Synthesis of hydroxy group-substituted triarylamine compound (the following structural formula B) 113.85 g (0.3 mol) of a methoxy group-substituted triarylamine compound (the following structural formula A) and 138 g (0.92 mol) of sodium iodide To this, 240 ml of sulfolane was added and heated to 60 ° C. in a nitrogen stream. In this solution, 99 g (0.91 mol) of trimethylchlorosilane was added dropwise over 1 hour and stirred at a temperature of about 60 ° C. for 4 and a half hours to complete the reaction. About 1.5 L of toluene was added to the reaction solution, cooled to room temperature, and washed repeatedly with water and an aqueous sodium carbonate solution. Thereafter, the solvent was removed from the toluene solution and purified by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: toluene: ethyl acetate = 20: 1). Cyclohexane was added to the obtained pale yellow oil to precipitate crystals. In this way, 88.1 g of a white crystal of the following structural formula B was obtained. (Yield = 80.4% melting point: 64.0-66.0 ° C.) Elemental analysis results are shown below.

(2)トリアリールアミノ基置換アクリレート化合物(例示化合物NO.54)の合成
上記(1)で得られたヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物(構造式B)82.9g(0.227mol)をテトラヒドロフラン400mlに溶解し、窒素気流中で水酸化ナトリウム水溶液(NaOH:12.4g,水:100ml)を滴下した。この溶液を5℃に冷却し、アクリル酸クロライド25.2g(0.272mol)を40分かけて滴下した。その後、5℃で3時間撹拌し反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、トルエンにて抽出した。この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:トルエン)にて精製した。得られた無色のオイルにn−ヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして例示化合物NO.54の白色結晶80.73gを得た。(収率=84.8%、融点:117.5〜119.0℃)元素分析結果を以下に示す。
(2) Synthesis of Triarylamino Group-Substituted Acrylate Compound (Exemplary Compound No. 54) 82.9 g (0.227 mol) of the hydroxy group-substituted triarylamine compound (Structural Formula B) obtained in (1) above was added to 400 ml of tetrahydrofuran. In a nitrogen stream, an aqueous sodium hydroxide solution (NaOH: 12.4 g, water: 100 ml) was added dropwise. The solution was cooled to 5 ° C., and 25.2 g (0.272 mol) of acrylic acid chloride was added dropwise over 40 minutes. Then, it stirred at 5 degreeC for 3 hours, and reaction was complete | finished. The reaction solution was poured into water and extracted with toluene. This extract was repeatedly washed with an aqueous sodium bicarbonate solution and water. Thereafter, the solvent was removed from the toluene solution and purified by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: toluene). N-Hexane was added to the obtained colorless oil to precipitate crystals. Thus, Exemplified Compound NO. As a result, 80.73 g of 54 white crystals were obtained. (Yield = 84.8%, melting point: 117.5 to 119.0 ° C.) Elemental analysis results are shown below.

(3)アクリル酸エステル化合物の合成例
(2−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチルの調製)
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、2−ヒドロキシベンジルアルコール(東京化成品製)38.4g、o−キシレン80mlを入れ、窒素気流下、亜リン酸トリエチル(東京化成品製)62.8gを80℃でゆっくり滴下し、さらに同温度で1時間反応を行った。その後、減圧蒸留により、生成したエタノール、溶媒のo−キシレン、未反応の亜リン酸トリエチルを除去し、66gの2−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチルを得た。(沸点120.0℃/1.5mmHg)(収率90%)
(3) Synthesis example of acrylic ester compound (Preparation of diethyl 2-hydroxybenzylphosphonate)
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, and dropping funnel, 38.4 g of 2-hydroxybenzyl alcohol (manufactured by Tokyo Chemical Industry) and 80 ml of o-xylene are placed, and triethyl phosphite (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in a nitrogen stream. 62.8 g was slowly added dropwise at 80 ° C., and the reaction was further carried out at the same temperature for 1 hour. Thereafter, the produced ethanol, the solvent o-xylene, and unreacted triethyl phosphite were removed by distillation under reduced pressure to obtain 66 g of diethyl 2-hydroxybenzylphosphonate. (Boiling point 120.0 ° C./1.5 mmHg) (yield 90%)

(2−ヒドロキシ−4’−(N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ)スチルベンの調製)
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、カリウム−tert−ブトキサイド14.8g、テトラヒドロフラン50mlを入れ、窒素気流下、2−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル9.90gと4−(N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ)ベンズアルデヒド5.44gとをテトラヒドロフランに溶解させた溶液を室温でゆっくり滴下し、その後、同温度で2時間反応させた。その後、水冷下、水を加え、次いで2規定の塩酸水溶液を加えて酸性化したのち、テトラヒドロフランをエバポレーターにより除き、粗生成物をトルエンで抽出した。トルエン相を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。ろ過後、トルエンを除いてオイル状の粗収物を得、さらにシリカゲルによりカラム精製を行った後、ヘキサン中で晶析させ、5.09gの2−ヒドロキシ−4’−(N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ)スチルベンを得た。(収率72%、融点136.0〜138.0℃)
(Preparation of 2-hydroxy-4 ′-(N, N-bis (4-methylphenyl) amino) stilbene)
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, 14.8 g of potassium tert-butoxide and 50 ml of tetrahydrofuran were placed. Under a nitrogen stream, 9.90 g of diethyl 2-hydroxybenzylphosphonate and 4- (N, N A solution in which 5.44 g of -bis (4-methylphenyl) amino) benzaldehyde was dissolved in tetrahydrofuran was slowly added dropwise at room temperature, and then reacted at the same temperature for 2 hours. Thereafter, water was added under water cooling, and then 2N hydrochloric acid aqueous solution was added for acidification. Tetrahydrofuran was removed by an evaporator, and the crude product was extracted with toluene. The toluene phase was washed with water, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in this order, and dehydrated by adding magnesium sulfate. After filtration, toluene was removed to obtain an oily crude product, which was further purified with silica gel and then crystallized in hexane to give 5.09 g of 2-hydroxy-4 ′-(N, N-bis). (4-Methylphenyl) amino) stilbene was obtained. (Yield 72%, melting point 136.0-138.0 ° C.)

(4’−(N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ)スチルベン−2−イルアクリレートの調製)
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、2−ヒドロキシ−4’−(N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ)スチルベン14.9g、テトラヒドロフラン100ml、12%濃度の水酸化ナトリウム水溶液21.5gを入れ、窒素気流下、5℃でアクリル酸クロリド5.17gを30分かけて滴下した。その後、同温度で3時間反応させた。反応液を水にあけ、トルエンで抽出した後、濃縮してシリカゲルによるカラム精製を行った。得られた粗収物をエタノールで再結晶し、黄色針状晶の4’−(N,N−ビス(4−メチルフェニル)アミノ)スチルベン−2−イルアクリレート(例示化合物NO.105)13.5gを得た。(収率79.8%、融点104.1〜105.2℃)元素分析結果を以下に示す。
(Preparation of 4 ′-(N, N-bis (4-methylphenyl) amino) stilben-2-yl acrylate)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, 14.9 g of 2-hydroxy-4 ′-(N, N-bis (4-methylphenyl) amino) stilbene, 100 ml of tetrahydrofuran, 12% concentration of hydroxide 21.5 g of an aqueous sodium solution was added, and 5.17 g of acrylic acid chloride was added dropwise over 5 minutes at 5 ° C. under a nitrogen stream. Then, it was made to react at the same temperature for 3 hours. The reaction solution was poured into water, extracted with toluene, concentrated and subjected to column purification with silica gel. The obtained crude product was recrystallized with ethanol, and yellow needle-like 4 ′-(N, N-bis (4-methylphenyl) amino) stilben-2-yl acrylate (Exemplary Compound NO. 105) 13. 5 g was obtained. (Yield 79.8%, melting point 104.1-105.2 ° C.) Elemental analysis results are shown below.

以上の様に、2−ヒドロキシベンジルホスホン酸エステル誘導体と種々のアミノ置換ベンズアルデヒド誘導体を反応させることにより数多くの2−ヒドロキシスチルベン誘導体を合成し、そのアクリル化またはメタクリル化を行なう事で種々のアクリル酸エステル化合物を合成することができる。   As described above, a number of 2-hydroxystilbene derivatives are synthesized by reacting 2-hydroxybenzylphosphonic acid ester derivatives with various amino-substituted benzaldehyde derivatives. An ester compound can be synthesized.

以下、本発明について、実施例を挙げて説明するが、本発明は、これら実施例により制約を受けるものではない。なお、部は、全て質量部である。
[実施例1]
長さ360mm、φ100mmアルミニウムシリンダー上に下記組成の電荷ブロッキング層用塗工液を用いて塗布後、130℃/20分間乾燥を行い、約0.5μmの電荷ブロッキング層形成した。続いて下記組成のモアレ防止層用塗工液を用いて塗布後、130℃/30分乾燥を行い3.5μmのモアレ防止層を設けた。続いて下記組成の電荷発生層用塗工液を用いて塗布後、100℃/20分間乾燥を行い、約0.2μmの電荷発生層を形成した。さらに、下記組成の電荷輸送層用塗工液を用いて塗布後、130℃/20分間乾燥を行い、約20μmの電荷輸送層を形成して感光体1を作製した。これまでの塗布はいずれも浸漬塗工法を用いた。上記のようにして得られた感光体について下記組成の架橋表面層用塗工液をスプレー塗工により塗布後、ウシオ製UVランプシステムを用いて、UV照射時間を60秒として光硬化を行ない、更に70℃/30分乾燥を行うことで約7μmの架橋表面層を設けた。
Hereinafter, although an example is given and the present invention is explained, the present invention is not restricted by these examples. All parts are parts by mass.
[Example 1]
After coating on a 360 mm long, φ100 mm aluminum cylinder using a coating solution for charge blocking layer having the following composition, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a charge blocking layer of about 0.5 μm. Subsequently, after applying using a coating solution for a moire preventing layer having the following composition, drying was performed at 130 ° C. for 30 minutes to provide a 3.5 μm moire preventing layer. Subsequently, after coating using a coating solution for charge generation layer having the following composition, drying was performed at 100 ° C. for 20 minutes to form a charge generation layer of about 0.2 μm. Furthermore, after coating using a coating solution for a charge transport layer having the following composition, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a charge transport layer having a thickness of about 20 μm. All the coatings so far used the dip coating method. After applying the coating solution for the crosslinked surface layer having the following composition by spray coating on the photoreceptor obtained as described above, using a UV lamp system manufactured by Ushio, photocuring is performed with a UV irradiation time of 60 seconds, Further, a crosslinked surface layer of about 7 μm was provided by drying at 70 ° C./30 minutes.

(電荷ブロッキング層塗工液)
N−メトキシメチル化ナイロン(鉛市製、FR101): 5部
メタノール: 70部
n−ブタノール: 30部
(モアレ防止層塗工液)
酸化チタン(石原産業社製、CR−EL): 126部
アルキッド樹脂(大日本インキ化学工業製、ベッコライトM6401−50−S):
33.6部
メラミン樹脂(大日本インキ化学工業製、スーパーベッカミンL−121−60):
18.7部
2−ブタノン: 100部
(電荷発生層用塗工液)
Y型チタニルフタロシアニン: 6部
シリコーン樹脂溶液(信越化学製、KR5240): 70部
メチルエチルケトン: 200部
(Charge blocking layer coating solution)
N-methoxymethylated nylon (Lead City, FR101): 5 parts Methanol: 70 parts n-Butanol: 30 parts (moire prevention layer coating solution)
Titanium oxide (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., CR-EL): 126 parts Alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Beckolite M6401-50-S):
33.6 parts Melamine resin (Dainippon Ink Chemical Industries, Super Becamine L-121-60):
18.7 parts 2-butanone: 100 parts (coating liquid for charge generation layer)
Y-type titanyl phthalocyanine: 6 parts Silicone resin solution (manufactured by Shin-Etsu Chemical, KR5240): 70 parts Methyl ethyl ketone: 200 parts

(電荷輸送層用塗工液)
ポリカーボネートZポリカ(帝人化成製): 10部
下記構造式で示される電荷輸送性化合物: 7部
テトラヒドロフラン: 80部
シリコーンオイル(信越化学工業社製、KF50−100cs): 0.002部
(Coating liquid for charge transport layer)
Polycarbonate Z polycarbonate (manufactured by Teijin Chemicals): 10 parts Charge transporting compound represented by the following structural formula: 7 parts
Tetrahydrofuran: 80 parts Silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KF50-100cs): 0.002 parts

(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 10部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.54): 10部
重合開始剤
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製、イルガキュア184): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 10 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO. 54): 10 parts
Polymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 184): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts

次に実施例で用いた帯電グリッドの作製方法について説明する。帯電グリッド用の基材として、厚さ0.1mm、長さ285mm、幅40mmのSUS304製板を用い、開口部長さ250mm、幅36mm部分に0.1mmの格子を45度の角度で0.5mm間隔で配したものを用いた。塗工液はまずバインダー樹脂を任意の溶媒に対して固形分濃度が5〜10wt%となるように調製し、バインダー溶液を攪拌しながらゼオライト粒子および導電剤を加えることにより作製し、最終的な塗工液の固形分濃度は30wt%以下となるように調製した。塗工方法にはスプレー塗工を選択しており、帯電グリッドの長軸方向について両端からテンションを与えて、帯電グリッドに弛みがない様に張りを与えて固定し、直径30mmの円筒状の基盤の長手方向に設置し、円筒を周方向に100rpmの速度で回転させた。この円筒状の基盤の長手方向に対して水平方向にスプレー装置を10mm/secの速度で走査させることによりスプレー塗工を行った。帯電グリッドの両面を塗工するために3mm程度基盤から浮かせて帯電グリッドを設置しており、片面のスプレー塗工終了後にはもう一方の面について同様にスプレー塗工を行った。スプレー塗工後は乾燥機を用いて150℃で60分加熱し本発明の帯電グリッドを得た。帯電グリッドへの塗工膜厚は約40μmとした。   Next, a method for manufacturing the charging grid used in the examples will be described. As a base material for the charging grid, a SUS304 plate having a thickness of 0.1 mm, a length of 285 mm, and a width of 40 mm was used, and an opening length of 250 mm and a width of 36 mm were set to a 0.1 mm grid of 0.5 mm at an angle of 45 degrees. What was arranged at intervals was used. The coating solution is prepared by first preparing a binder resin with a solid content concentration of 5 to 10 wt% with respect to an arbitrary solvent, and adding the zeolite particles and the conductive agent while stirring the binder solution. The solid content concentration of the coating solution was prepared to be 30 wt% or less. Spray coating is selected as the coating method. Tension is applied from both ends in the long axis direction of the charging grid, and the charging grid is tensioned and fixed so as not to sag. A cylindrical base with a diameter of 30 mm The cylinder was rotated at a speed of 100 rpm in the circumferential direction. Spray coating was performed by scanning the spray device at a speed of 10 mm / sec in the horizontal direction with respect to the longitudinal direction of the cylindrical substrate. In order to coat both sides of the charging grid, the charging grid was set up about 3 mm above the base, and after the spray coating on one side was finished, the other side was spray coated in the same manner. After spray coating, it was heated at 150 ° C. for 60 minutes using a dryer to obtain a charged grid of the present invention. The coating film thickness on the charging grid was about 40 μm.

実施例1の帯電グリッド用塗工液としては下記組成の塗工液を用いた。
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ
(住友金属鉱山製、SUFP、一次粒径:0.02〜0.04μm): 7部
レゾール型フェノール樹脂(群栄化学工業製、PL−4804): 5部
エタノール: 60部
As the coating solution for the charging grid of Example 1, a coating solution having the following composition was used.
(Charging grid coating solution)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (Sumitomo Metal Mining, SUFP, primary particle size: 0.02-0.04 μm): 7 parts Resol type phenolic resin (Gunei Chemical Industry) Manufactured by PL-4804): 5 parts Ethanol: 60 parts

[実施例2]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例2の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
5.5官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD DPHA): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.54): 10部
重合開始剤(東京化成製、2,4−ジエチルチオキサントン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ(JEMCO製、ITO、一次粒径:0.03μm): 7部
ノボラック型フェノール樹脂(昭和高分子製、CMK−2400): 5部
硬化剤(ヘキサメチレンテトラミン): 0.25部
メタノール: 60部
[Example 2]
A photoconductor and a charging grid of Example 2 were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts 5.5 functional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD DPHA): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO. 54): 10 parts Polymerization initiator (manufactured by Tokyo Chemical Industry, 2,4-diethylthioxanthone): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (manufactured by JEMCO, ITO, primary particle diameter: 0.03 μm): 7 parts 5 parts Curing agent (hexamethylenetetramine): 0.25 parts Methanol: 60 parts

[実施例3]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例3の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
6官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD DPCA−120): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.54): 10部
重合開始剤(東京化成製、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モリフォリノプロパン−1−オン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ(JEMCO製、EI、一次粒径:0.03μm): 7部
レゾール型フェノール樹脂(群栄化学工業製、PL−4852): 5部
2−プロパノール: 60部
[Example 3]
A photoconductor and a charging grid of Example 3 were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts 6 functional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD DPCA-120): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO. 54): 10 parts Polymerization initiator (manufactured by Tokyo Chemical Industry, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-
Morifolinopropan-1-one): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (manufactured by JEMCO, EI, primary particle size: 0.03 μm): 7 parts Resol type phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Industry, PL-4852) : 5 parts 2-Propanol: 60 parts

[実施例4]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例4の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
4官能アクリル樹脂(化薬サートマー製、SR−295): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.54): 10部
重合開始剤(東京化成製、フェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)
ホスフィンオキサイド): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ(JEMCO製、PI、一次粒径:0.03μm): 7部
レゾール型フェノール樹脂(群栄化学工業製、PL−2407): 5部
エタノール: 60部
[Example 4]
A photoconductor and a charging grid of Example 4 were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts Quadrifunctional acrylic resin (manufactured by Kayaku Sartomer, SR-295): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO.54) ): 10 parts Polymerization initiator (manufactured by Tokyo Chemical Industry, phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl)
Phosphine oxide): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (manufactured by JEMCO, PI, primary particle size: 0.03 μm): 7 parts Resol type phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Industry, PL-2407) : 5 parts Ethanol: 60 parts

[実施例5]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例5の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
4官能アクリル樹脂(化薬サートマー製、SR−355): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.54): 10部
重合開始剤(東京化成製、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−
1−オン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ
(シーアイ化成製、NanoTekPowder、一次粒径:0.03μm):
7部
レゾール型フェノール樹脂(群栄化学工業製、PL−2211): 5部
メタノール: 60部
[Example 5]
A photoconductor and a charging grid of Example 5 were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid in Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Tetrafunctional acrylic resin (manufactured by Kayaku Sartomer, SR-355): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO. 54): 10 parts Polymerization initiator (Tokyo Chemical Industry, 2-hydroxy- 2-Methyl-1-phenyl-propane-
1-one): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta-type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (Ci Kasei, NanoTek Powder, primary particle size: 0.03 μm):
7 parts Resol type phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., PL-2211): 5 parts Methanol: 60 parts

[実施例6]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例6の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
6官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD DPCA−60): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.105):10部
重合開始剤(東京化成製、ベンゾインイソプロピルエーテル): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ(シーアイ化成製、NanoTekSlurry): 7部
レゾール型フェノール樹脂(大日本インキ化学工業製、プライオーフェン5010):
5部
2−プロパノール: 60部
[Example 6]
A photoconductor and a charging grid of Example 6 were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts Hexafunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD DPCA-60): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO. 105): 10 copies
Polymerization initiator (Tokyo Chemical Industry, benzoin isopropyl ether): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (CI Kasei, NanoTekSlurry): 7 parts Resol type phenolic resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Pryofen 5010):
5 parts 2-propanol: 60 parts

[実施例7]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例7の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
多官能アクリル樹脂(新中村化学製、U15HA 15官能): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.106):10部
重合開始剤(東京化成製、ベンゾフェノン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
活性炭(クラレケミカル製、RP−20): 7部
レゾール型フェノール樹脂
(大日本インキ化学工業製、プライオーフェン5030−40k): 5部
エタノール: 60部
[Example 7]
A photoconductor and a charging grid of Example 7 were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts Multifunctional acrylic resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., U15HA 15 functional): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary compound number: NO.106) ): 10 parts Polymerization initiator (manufactured by Tokyo Chemical Industry, benzophenone): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts activated carbon (manufactured by Kuraray Chemical, RP-20): 7 parts resol type phenolic resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Pryofen 5030-40k): 5 parts ethanol : 60 copies

[実施例8]
実施例1の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例8の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
多官能アクリル樹脂: 5部
(日本化薬製、KAYARAD DPHA40H 2官能)
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.106):10部
重合開始剤(東京化成製、2−クロロチオキサントン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化スズ(三菱マテリアル製、S2000): 7部
レゾール型フェノール樹脂
(大日本インキ化学工業製、プライオーフェンTD−447): 5部
メタノール: 60部
[Example 8]
A photoconductor and a charging grid of Example 8 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 1 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts Multifunctional acrylic resin: 5 parts (Nippon Kayaku, KAYARAD DPHA40H bifunctional)
Polymerizable compound having charge transporting structure (Exemplary compound number: NO. 106): 10 parts Polymerization initiator (Tokyo Chemical Industry, 2-chlorothioxanthone): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Tin oxide (Mitsubishi Materials, S2000): 7 parts Resol type phenolic resin (Dainippon Ink & Chemicals, Pryofen TD-447): 5 parts Methanol: 60 copies

[実施例9]
実施例1の電荷ブロッキング層を設けず、架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に実施例9の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
多官能アクリル樹脂(東亜合成製、M7100 3官能以上): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.180):10部
重合開始剤(東京化成製、ベンゾイン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
アンチモン酸亜鉛(日産化学工業製、セルナックスCX−Z210IP): 7部
レゾール型フェノール樹脂
(大日本インキ化学工業製、スーパーベッカサイト1001): 5部
2−プロパノール: 60部
[Example 9]
The photoreceptor and charging grid of Example 9 were the same as Example 1 except that the charge blocking layer of Example 1 was not provided and the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid were changed as follows. Produced.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts Multifunctional acrylic resin (manufactured by Toa Gosei, M7100 trifunctional or higher): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No .: NO.180) ): 10 copies
Polymerization initiator (Tokyo Kasei Co., Ltd., benzoin): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Zinc antimonate (manufactured by Nissan Chemical Industries, Celnax CX-Z210IP): 7 parts : 5 parts 2-Propanol: 60 parts

[実施例10]
実施例9の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例9と同様に実施例10の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
多官能アクリル樹脂(東亜合成製、M8530 3官能以上): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.180):10部
重合開始剤(東京化成製、ベンゾインエチルエーテル): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
アンチモン酸亜鉛(日産化学工業製、セルナックスCX−Z210IP): 7部
オイルフリーアルキド樹脂(大日本インキ化学工業製、ベッコライト46−118):
3部
メラミン樹脂(大日本インキ化学工業製、スーパーベッカミンG−821−60):
2部
メチルエチルケトン: 60部
[Example 10]
A photoreceptor and a charging grid of Example 10 were produced in the same manner as in Example 9, except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 9 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD TMPTA): 5 parts Polyfunctional acrylic resin (manufactured by Toa Gosei, M8530 trifunctional or higher): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO.180) ): 10 parts Polymerization initiator (manufactured by Tokyo Chemical Industry, benzoin ethyl ether): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Zinc antimonate (manufactured by Nissan Chemical Industries, Celnax CX-Z210IP): 7 parts Oil-free alkyd resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Beckolite 46-118) ):
3 parts Melamine resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Super Becamine G-821-60):
2 parts Methyl ethyl ketone: 60 parts

[実施例11]
実施例9の架橋表面層用塗工液および帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例9と同様に実施例11の感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層用塗工液)
3官能アクリル樹脂(日本化薬製、KAYARAD TMPTA): 5部
多官能アクリル樹脂(東亜合成製、M8560): 5部
電荷輸送性構造を有する重合性化合物(例示化合物番号:NO.180):10部
重合開始剤(東京化成製、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン): 1部
テトラヒドロフラン: 50部
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ
(住友金属鉱山製、SUFP、一次粒径:0.02〜0.04μm): 7部
ポリカーボネート樹脂(三菱ガス化学製、ユーピロンZ300): 5部
テトラヒドロフラン: 60部
[Example 11]
A photoconductor and a charging grid of Example 11 were produced in the same manner as in Example 9, except that the coating solution for the crosslinked surface layer and the coating solution for the charging grid of Example 9 were changed as follows.
(Coating liquid for crosslinked surface layer)
Trifunctional acrylic resin (manufactured by Nippon Kayaku, KAYARAD TMPTA): 5 parts Multifunctional acrylic resin (manufactured by Toa Gosei, M8560): 5 parts Polymerizable compound having a charge transporting structure (exemplary compound number: NO. 180): 10 Part polymerization initiator (manufactured by Tokyo Chemical Industry, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl]-
2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one): 1 part Tetrahydrofuran: 50 parts (coating solution for charging grid)
Beta-type, hydrogen-containing zeolite (Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (Sumitomo Metal Mining, SUFP, primary particle size: 0.02-0.04 μm): 7 parts Polycarbonate resin (Mitsubishi Gas Chemical, Iupilon) Z300): 5 parts Tetrahydrofuran: 60 parts

[実施例12]
実施例1の架橋表面層を特許第3826639の実施例1に従い、以下のように作製した以外は実施例1と同様に電子写真感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層の作製方法)
以下に構造式記載の化合物10部、硬化性シロキサン樹脂(信越シリコン、X−40−2239)18部、アンチモンをドープした酸化錫微粒子(T−1、三菱金属社製、1次粒径0.01μm)8部の混合物をペイントシェーカーで5時間分散した後、酢酸7部、1N塩酸0.001部を加えて架橋表面層用塗工液とした。この塗工液を電荷輸送層上に浸漬塗工し、30分の指触乾燥の後、120℃、2時間の加熱処理を行ない、膜厚約5μmの架橋表面層を設けた。
[Example 12]
An electrophotographic photosensitive member and a charged grid were produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer of Example 1 was produced as follows in accordance with Example 1 of Japanese Patent No. 3826639.
(Method for producing crosslinked surface layer)
10 parts of a compound described in the structural formula below, 18 parts of a curable siloxane resin (Shin-Etsu Silicon, X-40-2239), tin oxide fine particles doped with antimony (T-1, manufactured by Mitsubishi Metals Co., Ltd., primary particle size 0. (01 μm) 8 parts of the mixture was dispersed with a paint shaker for 5 hours, and then 7 parts of acetic acid and 0.001 part of 1N hydrochloric acid were added to obtain a coating solution for a crosslinked surface layer. This coating solution was dip-coated on the charge transport layer, and after 30 minutes of finger drying, a heat treatment was performed at 120 ° C. for 2 hours to provide a crosslinked surface layer having a thickness of about 5 μm.

[実施例13]
実施例1の架橋表面層を特開2006−139309の実施例1に従い、以下のように作製した以外は実施例1と同様に電子写真感光体および帯電グリッドを作製した。
(架橋表面層の作製方法)
メチルシロキサン単位80モル%、メチル−フェニルシロキサン単位20モル%から成るポリシロキサン樹脂(1質量%のシラノール基を含む)10部にモレキュラーシーブ4Aを添加し、15時間静置し脱水処理した。この樹脂をトルエン10部に溶解し、これにメチルトリメトキシシラン5部、ジブチル錫アセテート0.2部を加え均一な溶液にした。さらに以下に構造記載のジヒドロキシメチルトリフェニルアミン6部を加えて混合し、この溶液を塗布し、120℃で1時間の乾燥を行うことで膜厚約1μm架橋表面層を設けた。
[Example 13]
An electrophotographic photosensitive member and a charged grid were prepared in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer of Example 1 was prepared as follows in accordance with Example 1 of JP-A-2006-139309.
(Method for producing crosslinked surface layer)
The molecular sieve 4A was added to 10 parts of a polysiloxane resin (containing 1% by mass of silanol groups) consisting of 80 mol% of methylsiloxane units and 20 mol% of methyl-phenylsiloxane units, and the mixture was allowed to stand for 15 hours for dehydration treatment. This resin was dissolved in 10 parts of toluene, and 5 parts of methyltrimethoxysilane and 0.2 part of dibutyltin acetate were added thereto to make a uniform solution. Further, 6 parts of dihydroxymethyltriphenylamine described below was added and mixed, and this solution was applied and dried at 120 ° C. for 1 hour to provide a crosslinked surface layer having a thickness of about 1 μm.

[実施例14]
実施例1の電荷発生層の上に特許第4143497の実施例1に従い、以下のように架橋表面層を設けた以外は実施例1と同様に電子写真感光体および帯電グリッドを作製した
(架橋表面層の作製方法)
下記構造式の正孔輸送性化合物モノマー60部を、モノクロロベンゼン30部及びジクロロメタン30部の混合溶媒中に溶解し、架橋表面層用塗工液を調製した。この塗工液を電荷発生層上に浸漬塗工し、その後、酸素濃度10ppmの雰囲気下で加速電圧150kV、照射線量10Mradの条件で電子線を照射した。その後引き続いて、同雰囲気下で感光体の温度が80℃になる条件で10分加熱処理を行い、膜厚15μmの架橋表面層を設けた。
[Example 14]
According to Example 1 of Japanese Patent No. 4143497 on the charge generation layer of Example 1, an electrophotographic photosensitive member and a charging grid were prepared in the same manner as Example 1 except that a crosslinked surface layer was provided as follows (crosslinked surface). Layer production method)
60 parts of a hole transporting compound monomer having the following structural formula was dissolved in a mixed solvent of 30 parts of monochlorobenzene and 30 parts of dichloromethane to prepare a coating solution for a crosslinked surface layer. This coating solution was dip coated on the charge generation layer, and then irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 10 Mrad in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 ppm. Subsequently, a heat treatment was carried out for 10 minutes under the same atmosphere at a temperature of 80 ° C. to provide a crosslinked surface layer having a thickness of 15 μm.

[比較例1]
実施例1の架橋表面層を設けず、電荷輸送層を27μmとした以外は実施例1と同様に比較例1の感光体および帯電グリッドを作製した。
[比較例2]
実施例1の帯電グリッドに塗工液を塗工しない以外は実施例1と同様に比較例2の感光体および帯電グリッドを得た。
[Comparative Example 1]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 1 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer of Example 1 was not provided and the charge transport layer was 27 μm.
[Comparative Example 2]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was not applied to the charging grid of Example 1.

[比較例3]
実施例1の帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に比較例3の感光体および帯電グリッドを得た。
(帯電グリッド用塗工液)
酸化インジウムスズ
(住友金属鉱山製、SUFP、一次粒径:0.02〜0.04μm): 7部
レゾール型フェノール樹脂(群栄化学工業製、PL−4804): 5部
エタノール: 30部
[Comparative Example 3]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 3 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for charging grid of Example 1 was changed as follows.
(Charging grid coating solution)
Indium tin oxide (Sumitomo Metal Mining, SUFP, primary particle size: 0.02-0.04 μm): 7 parts Resol type phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., PL-4804): 5 parts Ethanol: 30 parts

[比較例4]
実施例1の帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に比較例4の感光体および帯電グリッドを得た。
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
レゾール型フェノール樹脂(群栄化学工業製、PL−4804): 5部
エタノール: 45部
[Comparative Example 4]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 4 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for charging grid of Example 1 was changed as follows.
(Charging grid coating solution)
Beta-type, hydrogen-containing zeolite (manufactured by Tosoh, 980HOA): 13 parts Resol-type phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Industry, PL-4804): 5 parts Ethanol: 45 parts

[比較例5]
実施例1の帯電グリッド用塗工液を以下のように変更した以外は実施例1と同様に比較例4の感光体および帯電グリッドを得た。
(帯電グリッド用塗工液)
ベータ型、水素含有ゼオライト(東ソー製、980HOA): 13部
酸化インジウムスズ
(住友金属鉱山製、SUFP、一次粒径:0.02〜0.04μm): 7部
エタノール: 50部
[比較例6]
実施例12の帯電グリッドに塗工液を塗工しない以外は実施例12と同様に比較例6の感光体および帯電グリッドを得た。
[比較例7]
実施例13の帯電グリッドに塗工液を塗工しない以外は実施例13と同様に比較例7の感光体および帯電グリッドを得た。
[比較例8]
実施例14の帯電グリッドに塗工液を塗工しない以外は実施例14と同様に比較例8の感光体および帯電グリッドを得た。
[Comparative Example 5]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 4 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for charging grid of Example 1 was changed as follows.
(Charging grid coating solution)
Beta-type, hydrogen-containing zeolite (Tosoh, 980HOA): 13 parts Indium tin oxide (Sumitomo Metal Mining, SUFP, primary particle size: 0.02-0.04 μm): 7 parts Ethanol: 50 parts [Comparative Example 6]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 6 were obtained in the same manner as in Example 12 except that the coating solution was not applied to the charging grid of Example 12.
[Comparative Example 7]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 7 were obtained in the same manner as in Example 13 except that the coating liquid was not applied to the charging grid of Example 13.
[Comparative Example 8]
A photoreceptor and a charging grid of Comparative Example 8 were obtained in the same manner as in Example 14 except that the coating solution was not applied to the charging grid of Example 14.

以上のように作製した実施例1〜14および比較例1〜8の感光体および帯電グリッドについて以下に示す評価を行った。結果とともに示す。
(膜密着性評価)
実施例1〜14および比較例1〜5の感光体および帯電グリッドについて帯電グリッドに形成された塗膜の密着性の評価として、帯電グリッドの塗工面をウエスで力を入れて強く10回擦った場合と、指を乗せる程度の負荷で10回拭いた場合の塗膜剥がれの程度を評価した。また耐久性評価として200時間コロナ帯電器を放電させた後にも同様に評価を行った。評価結果は四段階にて行い、以下にそれぞれの程度を示す。
◎:強く擦ってもウエスに付着せず
○:強く擦ると微量にウエスに付着するが実使用に耐えられる
△:普通に擦ると微量にウエスに付着するが実使用に耐えられる
×:普通に擦ると多量にウエスに付着し、実使用に耐えられない
The following evaluations were performed on the photoreceptors and charging grids of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 8 manufactured as described above. Shown with results.
(Film adhesion evaluation)
As an evaluation of the adhesion of the coating film formed on the charging grid for the photoreceptors and charging grids of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 5, the coated surface of the charging grid was rubbed ten times strongly with a waste cloth. The degree of coating film peeling when the case was wiped 10 times with a load sufficient to place a finger was evaluated. Moreover, after discharging a corona charger for 200 hours as durability evaluation, it evaluated similarly. The evaluation results are performed in four stages, and the respective levels are shown below.
◎: Even if rubbed strongly, it does not adhere to the waste. ○: A small amount adheres to the waste, but it can withstand actual use. △: A little amount adheres to the waste but can withstand actual use. When rubbed, it adheres to the waste and cannot withstand actual use.

帯電グリッド用塗工液にレゾール型フェノール樹脂を用いている実施例1、3〜9、12〜14、比較例1、3、4は200時間放電後も良好な膜密着性を有している。これらに比べてノボラック型フェノール樹脂を用いた実施例2では200時間放電後に若干密着性が劣る。さらにアルキッド・メラミン樹脂やポリカーボネートを用いた実施例10、11ではさらに密着性の劣化が見られた。バインダー樹脂を含んでいない比較例5では初期から密着性が悪く、実使用に耐えられないことがわかる。   Examples 1, 3 to 9, 12 to 14 and Comparative Examples 1, 3, and 4 using a resol type phenol resin as a charging grid coating solution have good film adhesion even after 200 hours of discharge. . Compared with these, in Example 2 using the novolac type phenol resin, the adhesion is slightly inferior after 200 hours of discharge. Furthermore, in Examples 10 and 11 using alkyd melamine resin or polycarbonate, the adhesion was further deteriorated. It can be seen that Comparative Example 5 containing no binder resin has poor adhesion from the beginning and cannot withstand actual use.

(帯電制御性評価)
実施例1〜14および比較例1〜4、6〜8の感光体および帯電グリッドについて帯電グリッドを10℃15%RH環境下に置いたプロセスカートリッジを有するimagio Neo 1050proに取り付けた。帯電ワイヤに一定電流が流れるように電圧を印加することでコロナ放電を行い、帯電グリッドに−900Vを印加した際の感光体の表面電位を測定した。その後中間調(ハーフトーン)画像を出力し、局所的な帯電不良時に発生する雨だれ状の濃度ムラの有無を確認した。また耐久性評価として200時間コロナ帯電器を放電させた後にも、雨だれ状の濃度ムラの有無を確認した。評価結果は三段階にて行い、以下にそれぞれの程度を示す。
◎:雨だれ状ムラは発生せず
○:雨だれ状ムラは若干発生するが、許容レベル
×:雨だれ状ムラ発生
(Charge controllability evaluation)
The photosensitive grids of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4 and 6 to 8 were attached to an imagio Neo 1050pro having a process cartridge placed in a 10 ° C. and 15% RH environment. Corona discharge was performed by applying a voltage so that a constant current would flow through the charging wire, and the surface potential of the photoconductor when -900 V was applied to the charging grid was measured. After that, a halftone image was output, and the presence or absence of raindrop-like density unevenness that occurred at the time of local charging failure was confirmed. Moreover, even after discharging the corona charger for 200 hours as durability evaluation, the presence or absence of raindrop-like density unevenness was confirmed. The evaluation results are performed in three stages, and the respective levels are shown below.
◎: Raindrop unevenness does not occur ○: Raindrop unevenness slightly occurs, but acceptable level ×: Raindrop unevenness occurs

帯電グリッド用塗工液にフェノール樹脂および酸化インジウムスズを用いている実施例1〜6、12〜14、比較例1、3は200時間放電後も雨だれ状の濃度ムラが発生することなく良好である。また帯電グリッドに塗工を行っていない比較例2も良好な結果が得られている。帯電グリッド用塗工液の導電剤が酸化インジウムスズでない実施例7〜10については200時間放電後に雨だれ状の濃度ムラが若干見られている。これは酸化インジウムスズとフェノール樹脂の組み合わせと比べると導電剤の分散性が悪化し、導電剤に期待される導電性の耐久性が低下しているためと推定される。導電剤を含まない比較例4は初期化から異常画像が発生しており、感光体表面電位も帯電グリッド電圧を大幅に上回る結果であり、帯電制御性が著しく劣っていることがわかる。   Examples 1 to 6, 12 to 14, and Comparative Examples 1 and 3 using phenol resin and indium tin oxide as the coating solution for the charging grid are good without causing raindrop-like density unevenness even after 200 hours of discharge. is there. Moreover, the favorable result is obtained also in the comparative example 2 which has not applied to the charging grid. In Examples 7 to 10 in which the conductive agent of the charging grid coating solution is not indium tin oxide, raindrop-like density unevenness is slightly observed after 200 hours of discharge. This is presumably because the dispersibility of the conductive agent is deteriorated as compared with the combination of indium tin oxide and a phenol resin, and the conductive durability expected for the conductive agent is reduced. In Comparative Example 4 containing no conductive agent, an abnormal image was generated from the initialization, and the surface potential of the photoconductor was much higher than the charged grid voltage, indicating that the charge controllability was remarkably inferior.

(放電生成物除去機能評価)
実施例1〜14および比較例1〜3、6〜8の感光体および帯電グリッドについて帯電グリッドを10℃15%RH環境下に置いたプロセスカートリッジを有するimagio Neo 1050proに取り付けた。画像形成動作を行うことでコロナ帯電器を3時間放電後、機械の電源を切り15時間そのままの状態で感光体および帯電グリッドを静置した。その後、再度機械の電源を入れ、中間調(ハーフトーン)を出力しコロナ帯電器直下の濃度ムラを評価した。また耐久性評価として200時間コロナ帯電器を放電させた後にも、濃度ムラについて評価を行った。評価結果は四段階にて行い、以下にそれぞれの程度を示す。
○:コロナ帯電器直下の濃度ムラが発生しない
△:コロナ帯電器直下の濃度ムラが発生するが、許容レベル
×:コロナ帯電器直下の濃度ムラがくっきり発生し、許容できないレベル
(Evaluation of discharge product removal function)
The photosensitive grids of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 3 and 6 to 8 were attached to an imagio Neo 1050pro having a process cartridge placed in a 10 ° C. and 15% RH environment. After performing the image forming operation, the corona charger was discharged for 3 hours, the machine was turned off, and the photoconductor and the charging grid were left standing for 15 hours. Thereafter, the machine was turned on again, and a halftone was output to evaluate density unevenness directly under the corona charger. Moreover, after discharging a corona charger for 200 hours as durability evaluation, the density nonuniformity was also evaluated. The evaluation results are performed in four stages, and the respective levels are shown below.
○: Concentration unevenness directly under the corona charger does not occur △: Concentration unevenness directly under the corona charger occurs, but acceptable level ×: Concentration unevenness directly under the corona charger occurs clearly, and is not acceptable

本発明の実施例1〜14および比較例1は200時間放電後も濃度ムラが許容レベル内である。帯電グリッドに塗工を行っていない比較例2、6、7、8および帯電グリッド用塗工液にゼオライトを含まない比較例3では初期から濃度ムラが発生しており、放電生成物の除去が行われていない結果であった。   In Examples 1 to 14 and Comparative Example 1 of the present invention, density unevenness is within an allowable level even after 200 hours of discharge. In Comparative Examples 2, 6, 7, and 8 in which the charging grid is not coated and in Comparative Example 3 in which the charging grid coating solution does not contain zeolite, density unevenness occurs from the beginning, and the discharge product is removed. The result was not done.

(実機加速疲労評価)
実施例1〜14および比較例1の感光体および帯電グリッドを図11に示すようなプロセスカートリッジに装着し、図12に示すようなタンデム型フルカラー画像形成装置に搭載し、画像露光光源を780nmの半導体レーザー(ポリゴン・ミラーによる画像書き込み)、帯電器としてスコロトロン帯電器、転写部材として転写ベルト、除電光源として780nmLEDを用いた。試験前のプロセス条件として感光体帯電電位が−800V、現像バイアスが−500Vになるように設定した。通紙条件としては書き込み率6%のチャート(A4全面に対して、画像面積として6%相当の文字が平均的に書かれている)を用い、連続200万枚印刷を行った。評価は、200万枚の画像印刷前後における感光体未露光部電位および露光部電位を測定した。測定方法としては、図11に示す現像部位置に、表面電位計を搭載し、感光体が初期状態で−800Vに帯電される印加バイアスに固定し、現像部位置における未露光部表面電位及び露光部表面電位を測定した。また、全ての試験前後における膜厚の差(摩耗量)を評価した。尚、膜厚の測定は、電子写真感光体長手方向の両端5cmを除き、1cm間隔に測定し、その平均値を膜厚とした。更に、200万枚印刷後において全白画像を出力し、地肌部の汚れを評価した。尚、地肌部の画像評価は4段階にて行ない、極めて良好なものを◎、良好なものを○、やや劣るものを△、非常に悪いものを×で表わした。また、200万枚の印刷後において、ISO/JIS−SCID画像N1(ポートレート)を出力して、カラー色の再現性について評価した。尚、色再現性評価は4段階にて行ない、極めて良好なものを◎、良好なものを○、やや劣るものを△、非常に悪いものを×で表わした。
(Real machine accelerated fatigue evaluation)
The photoreceptors and charging grids of Examples 1 to 14 and Comparative Example 1 are mounted on a process cartridge as shown in FIG. 11, mounted in a tandem type full-color image forming apparatus as shown in FIG. 12, and an image exposure light source is 780 nm. A semiconductor laser (image writing by a polygon mirror), a scorotron charger as a charger, a transfer belt as a transfer member, and a 780 nm LED as a charge removal light source were used. As process conditions before the test, the photosensitive member charging potential was set to −800 V and the developing bias was set to −500 V. As a sheet-passing condition, a chart having a writing rate of 6% (characters equivalent to 6% as an image area are written on the entire A4 surface) was continuously printed on 2 million sheets. The evaluation was performed by measuring the unexposed portion potential of the photoreceptor and the exposed portion potential before and after printing 2 million images. As a measuring method, a surface potential meter is mounted at the developing portion position shown in FIG. 11, the photosensitive member is fixed to an applied bias charged to −800 V in the initial state, and the surface potential of the unexposed portion at the developing portion position and the exposure are fixed. The surface potential was measured. Further, the difference in film thickness (amount of wear) before and after all tests was evaluated. The film thickness was measured at intervals of 1 cm, excluding 5 cm at both ends in the longitudinal direction of the electrophotographic photosensitive member, and the average value was taken as the film thickness. Furthermore, after printing 2 million sheets, an all-white image was output, and the stain on the background portion was evaluated. The image evaluation of the background portion was carried out in four stages, and an extremely good one was indicated by ◎, a good one by ○, a slightly inferior by Δ, and a very bad one by ×. Further, after printing 2 million sheets, an ISO / JIS-SCID image N1 (portrait) was output to evaluate the color color reproducibility. The color reproducibility evaluation was carried out in 4 stages. Very good ones were indicated by ◎, good ones were indicated by ○, slightly inferior ones were indicated by Δ, and very bad ones were indicated by ×.

架橋表面層を有する実施例1〜14については200万枚印刷後も感光体表面電位変動が小さく、地肌汚れやカラーバランスの画像特性も良好である。中でも感光体に電荷ブロッキング層を設けた実施例1〜8については地肌汚れの程度が極めて良好であることがわかる。また実施例1では3官能のアクリル樹脂を用いているがこれより官能基数が多いアクリル樹脂を用いている実施例2〜11では感光体の摩耗量が少なく、さらに5官能以上のアクリル樹脂を用いている実施例3、6ではより摩耗量が少なく高い耐摩耗性が実現されている。また実施例9〜11では2官能の電荷輸送性構造を有する重合性化合物を用いることで、さらなる耐摩耗性の向上がなされている。一方、実施例12〜14では架橋表面層の重合エネルギー源が熱や電子線であり、紫外線でない重合を行っているがこれについても高耐摩耗性と安定した画像出力が達成されている。架橋表面層を設けていない比較例1については感光体の摩耗量が著しく大きく、またこれに伴った感光体表面電位の変動も大きく、画像特性も著しく損なわれている。
したがって、本発明の架橋表面層を有する感光体を有し、且つ、該感光体を帯電させるコロナ帯電器の帯電グリッド表面が少なくともゼオライト、導電剤およびバインダー樹脂を含むコート層を有することを特徴とする画像形成装置において高い耐久性を維持しながら、環境および感光体の汚染を大幅に抑制できることで、極めて安定した電気特性を長期間に渡り維持できる信頼性の極めて高い画像形成装置が実現されることが明らかとなった。
In Examples 1 to 14 having a crosslinked surface layer, the photoreceptor surface potential fluctuation is small even after printing 2 million sheets, and the background stain and color balance image characteristics are also good. It can be seen that, among Examples 1 to 8, in which a charge blocking layer is provided on the photoreceptor, the background stain is very good. Further, in Example 1, a trifunctional acrylic resin is used, but in Examples 2 to 11 in which an acrylic resin having a larger number of functional groups is used, the amount of wear of the photoconductor is small, and further, a pentafunctional or higher functional acrylic resin is used. In Examples 3 and 6, the wear amount is smaller and high wear resistance is realized. In Examples 9 to 11, the wear resistance is further improved by using a polymerizable compound having a bifunctional charge transporting structure. On the other hand, in Examples 12 to 14, the polymerization energy source of the crosslinked surface layer is heat or an electron beam, and polymerization is performed without ultraviolet rays, but also high abrasion resistance and stable image output are achieved. In Comparative Example 1 in which no cross-linked surface layer is provided, the wear amount of the photoconductor is remarkably large, and the fluctuation of the photoconductor surface potential accompanying this is also large, and the image characteristics are remarkably impaired.
Accordingly, it has a photoreceptor having the crosslinked surface layer of the present invention, and the charging grid surface of the corona charger for charging the photoreceptor has a coating layer containing at least zeolite, a conductive agent and a binder resin. In an image forming apparatus that maintains high durability, contamination of the environment and the photoreceptor can be significantly suppressed, thereby realizing an extremely reliable image forming apparatus that can maintain extremely stable electrical characteristics over a long period of time. It became clear.

コロナ帯電器の構成の説明図である。(a:コロトロン型コロナ帯電器、b:スコロトロン型コロナ帯電器)It is explanatory drawing of a structure of a corona charger. (A: corotron type corona charger, b: scorotron type corona charger) 各帯電方式における帯電特性を示すグラフである。(a:コロトロン型コロナ帯電器、b:スコロトロン型コロナ帯電器)It is a graph which shows the charging characteristic in each charging system. (A: corotron type corona charger, b: scorotron type corona charger) コロナ帯電器直下の濃度ムラを示す。Shows density unevenness directly under the corona charger. 画像流れ発生時の電位を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the electric potential at the time of image flow generation | occurrence | production. 本発明の感光体の構成例の一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the structural example of the photoconductor of this invention. 本発明の感光体の他の構成例の説明図である。It is explanatory drawing of the other structural example of the photoconductor of this invention. 本発明の感光体の他の構成例の説明図である。It is explanatory drawing of the other structural example of the photoconductor of this invention. 本発明の感光体の他の構成例の説明図である。It is explanatory drawing of the other structural example of the photoconductor of this invention. 本発明の帯電グリッドの概観形状を示す図である。It is a figure which shows the general-view shape of the charging grid of this invention. 本発明の画像形成装置の模式図である。1 is a schematic diagram of an image forming apparatus of the present invention. 本発明のプロセスカートリッジの模式図である。It is a schematic diagram of the process cartridge of the present invention. タンデム方式フルカラー画像形成装置の模式図である。1 is a schematic diagram of a tandem full-color image forming apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

(図5〜8について)
31:導電性支持体
33:感光層
35:電荷発生層
37:電荷輸送層
39:架橋表面層
41:中間層
(図9について)
2:シールドケース
6:帯電グリッド
(図10について)
100:感光体
101:帯電装置
102:画像露光系
103:現像装置
104:転写装置
105:クリーニング装置
106:クリーニングブラシ
107:クリーニングブレード
108:除電装置
109:コピー用紙
(図11について)
101:感光体
102:帯電部材
103:レーザー光
104:現像部材
105:記録媒体
107:クリーニング部材
108:転写部材
(図12について)
1C、1M、1Y、1K:感光体
2C、2M、2Y、2K:帯電部材
3C、3M、3Y、3K:レーザー光
4C、4M、4Y、4K:現像部材
5C、5M、5Y、5K:転写部材
6C、6M、6Y、6K:クリーニング部材
7:搬送転写ベルト
8:記録媒体
9:定着部材
(About FIGS. 5-8)
31: Conductive support 33: Photosensitive layer 35: Charge generation layer 37: Charge transport layer 39: Crosslinked surface layer 41: Intermediate layer (about FIG. 9)
2: Shield case 6: Charging grid (FIG. 10)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100: Photoconductor 101: Charging device 102: Image exposure system 103: Developing device 104: Transfer device 105: Cleaning device 106: Cleaning brush 107: Cleaning blade 108: Static elimination device 109: Copy paper (about FIG. 11)
101: photosensitive member 102: charging member 103: laser beam 104: developing member 105: recording medium 107: cleaning member 108: transfer member (about FIG. 12)
1C, 1M, 1Y, 1K: photoreceptors 2C, 2M, 2Y, 2K: charging members 3C, 3M, 3Y, 3K: laser beams 4C, 4M, 4Y, 4K: developing members 5C, 5M, 5Y, 5K: transfer members 6C, 6M, 6Y, 6K: Cleaning member 7: Conveyance transfer belt 8: Recording medium 9: Fixing member

Claims (12)

架橋表面層を有する感光体を有し、且つ、該感光体を帯電させるコロナ帯電器の帯電グリッド表面が少なくともゼオライト、導電剤およびバインダー樹脂を含むコート層を有することを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising: a photoreceptor having a crosslinked surface layer; and a charging grid surface of a corona charger for charging the photoreceptor having a coat layer containing at least zeolite, a conductive agent and a binder resin. 前記感光体が導電性支持体上に電荷ブロッキング層、モアレ防止層、電荷発生層、電荷輸送層、架橋表面層の順に設けられた機能分離型の感光体であることを特徴とする請求項1記載の画像形成装置。   2. The function-separated type photoreceptor in which the photoreceptor is provided on a conductive support in the order of a charge blocking layer, a moire preventing layer, a charge generation layer, a charge transport layer, and a crosslinked surface layer. The image forming apparatus described. 前記導電剤が酸化インジウムスズであることを特徴とする請求項1又は2に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the conductive agent is indium tin oxide. 前記バインダー樹脂がフェノール樹脂であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the binder resin is a phenol resin. 前記フェノール樹脂がレゾール型であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the phenol resin is a resol type. 前記架橋表面層が光硬化により形成されたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の画像形成装置。   6. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the crosslinked surface layer is formed by photocuring. 前記光硬化が、紫外線によって行われたことを特徴とする請求項6に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 6, wherein the photocuring is performed by ultraviolet rays. 前記架橋表面層が3官能以上の電荷輸送性構造を有さない重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の画像形成装置。   The image according to any one of claims 1 to 7, wherein the crosslinked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having no tri- or higher functional charge transporting structure. Forming equipment. 前記架橋表面層が5官能以上の電荷輸送性構造を有さない重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の画像形成装置。   The image according to any one of claims 1 to 8, wherein the cross-linked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having no pentafunctional or higher functional charge transporting structure. Forming equipment. 前記架橋表面層が1官能以上の電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the cross-linked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having a mono- or higher functional charge transporting structure. . 前記架橋表面層が2官能以上の電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む塗工液を用いて形成されたことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the cross-linked surface layer is formed using a coating liquid containing a polymerizable compound having a bifunctional or higher functional charge transport structure. . 請求項1乃至11のいずれか一項に記載の画像形成装置に用いるプロセスカートリッジであって、少なくともコロナ帯電器によって帯電させられた感光体表面に静電潜像を形成する潜像形成器と、潜像形成器によって形成された静電潜像にトナーを付着させる現像器と、現像器よって形成されたトナー像を被転写体に転写させる転写器と、転写後に感光体表面に残留したトナーを感光体表面から除去するクリーニング器の1つ以上と、感光体とを組み合わせて造られ、画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。   A process cartridge for use in the image forming apparatus according to any one of claims 1 to 11, wherein the latent image forming device forms an electrostatic latent image on the surface of the photosensitive member charged by at least a corona charger; A developing unit that attaches toner to the electrostatic latent image formed by the latent image forming unit, a transfer unit that transfers the toner image formed by the developing unit to a transfer target, and a toner that remains on the surface of the photosensitive member after transfer A process cartridge for an image forming apparatus, wherein the process cartridge is manufactured by combining one or more cleaning devices to be removed from the surface of a photoconductor and a photoconductor, and is detachable from an image forming apparatus main body.
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