JP2009209248A - Photocurable coating composition, overprint and method for producing the same - Google Patents

Photocurable coating composition, overprint and method for producing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable coating composition excellent in surface smoothness, non-tackiness (surface tackiness control) and odor control, an overprint obtained by applying and curing the photocurable coating composition, and a method for producing the overprint. <P>SOLUTION: The photocurable coating composition contains an onium salt containing a di- or higher valent anion and a polymerizable compound. The overprint using the photocurable coating composition and the method for producing the overprint are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、電子線、紫外線等の活性放射線の照射により硬化可能な光硬化性コーティング組成物に関する。特に、平版、凸版、凹版、スクリーン印刷、インクジェット、電子写真等の方法でインク及び/又はトナーを印刷基材(受像基材)上に配置して作成した画像に対してコーティングを行うための光硬化性コーティング組成物に関する。さらに詳しくは、電子写真法により印刷されたトナーベースの印刷物をコーティングするために特に好適に用いることができる光硬化性オーバープリント組成物(overprint compositions)に関する。   The present invention relates to a photocurable coating composition, an overprint, and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a photocurable coating composition that can be cured by irradiation with active radiation such as an electron beam and ultraviolet rays. In particular, light for coating an image created by arranging ink and / or toner on a printing substrate (image receiving substrate) by a method such as planographic printing, relief printing, intaglio printing, screen printing, ink jetting, and electrophotography. The present invention relates to a curable coating composition. More particularly, it relates to photocurable overprint compositions that can be used particularly suitably for coating toner-based prints printed by electrophotography.

近年、光硬化性組成物、特に紫外線による硬化性組成物が多量に使用されてきている。前記硬化性組成物として、例えば、印刷インキ、オーバーコートワニス、塗料、接着剤、フォトレジスト等を挙げることができる。
特に、電子写真法のようなトナーベースの画像情報の上にオーバープリントコーティングを施すことにより印刷物の保護性が向上し、また、光沢性が付与された印刷物は銀塩写真プリントの代替商品として商品化されており、注目を集めている。
トナーベースの印刷物が得られる電子写真法とは、潜像保持体表面、例えば感光体(photoreceptor)に均一に帯電させることによって、静電荷を潜像保持体表面に形成させる。次いで、その均一帯電させた領域を、原稿の画像に対応する活性化照射のパターンにより選択的に電荷を逃がす。その表面に残る潜像電荷パターンは、照射に暴露されなかった領域に対応する。次いで、その感光体を、トナーを含む1つ又は複数の現像ハウジングに通すことにより、トナーが、静電引力によって電荷パターンで付着するので、その潜像電荷パターンが可視化される。次いでその現像された画像を、画像形成表面に定着させるか、又は、印刷基材、例えば紙に転写させ、適切な定着技術によりそれに定着させて、電子写真印刷物、すなわちトナーベースの印刷物が得られる。
In recent years, a large amount of photocurable compositions, particularly curable compositions using ultraviolet rays, have been used. Examples of the curable composition include printing ink, overcoat varnish, paint, adhesive, and photoresist.
In particular, by applying overprint coating on toner-based image information such as electrophotography, the protection of printed matter is improved, and glossy printed matter is a product that replaces silver salt photographic prints. Has attracted attention.
In the electrophotographic method in which a toner-based printed matter is obtained, an electrostatic charge is formed on the surface of the latent image holding member by uniformly charging the surface of the latent image holding member, for example, a photoreceptor. Then, the uniformly charged area is selectively released by the activation irradiation pattern corresponding to the image of the original. The latent image charge pattern remaining on the surface corresponds to the areas not exposed to irradiation. The photoreceptor is then passed through one or more development housings containing toner, so that the toner adheres in a charge pattern due to electrostatic attraction, thereby visualizing the latent image charge pattern. The developed image is then fixed to the imaging surface or transferred to a printing substrate, such as paper, and fixed to it by a suitable fixing technique to obtain an electrophotographic print, i.e. a toner-based print. .

印刷物を保護するための公知の方法としては、印刷物にオーバープリントコーティングを施すことが提案されている。例えば、特許文献1及び2には、電子写真法のような、トナーベースの画像の上に、透明トナーを転写した後に定着を行い、表面を被覆する方法が提案されている。
また、特許文献3には、紫外線などによって硬化させることが可能な液膜コーティングを施し、光によってコーティング成分を重合(架橋)させることにより、オーバープリントコーティングを施す方法が提案されている。
さらに、特許文献4には、三官能不飽和アクリル樹脂からなる群より選択される放射線硬化性オリゴマーと、1種又は複数のジ−アクリレート又はトリ−アクリレートを含む、多官能アルコキシル化アクリルモノマー又はポリアルコキシル化アクリルモノマー、からなる群より選択される放射線硬化性モノマーと、少なくとも1種の光重合開始剤と、少なくとも1種の界面活性剤と、を含むオーバープリント組成物が開示されている。
As a known method for protecting a printed matter, it has been proposed to apply an overprint coating to the printed matter. For example, Patent Documents 1 and 2 propose a method of covering the surface by performing fixing after transferring a transparent toner onto a toner-based image, such as electrophotography.
Patent Document 3 proposes a method of performing overprint coating by applying a liquid film coating that can be cured by ultraviolet rays or the like, and polymerizing (crosslinking) the coating components with light.
In addition, Patent Document 4 discloses a polyfunctional alkoxylated acrylic monomer or polycrystal comprising a radiation curable oligomer selected from the group consisting of trifunctional unsaturated acrylic resins and one or more di-acrylates or tri-acrylates. An overprint composition comprising a radiation curable monomer selected from the group consisting of alkoxylated acrylic monomers, at least one photopolymerization initiator, and at least one surfactant is disclosed.

一方、重合開始剤に関しては重合開始能を有するフェニルケトン誘導体を重合導入したポリマー型開始剤が特許文献5に開示されている。また、共重合可能なモノアクリレート光重合開始剤も特許文献6に開示されている。   On the other hand, with respect to the polymerization initiator, Patent Document 5 discloses a polymer-type initiator in which a phenyl ketone derivative having a polymerization initiating ability is introduced. A copolymerizable monoacrylate photopolymerization initiator is also disclosed in Patent Document 6.

特許文献7には、支持体上に、(A)光熱変換剤、(B)重合性の不飽和基を有する化合物、及び、(C)2価以上のアニオンを対イオンとして有するオニウム塩を含有し、赤外線レーザーで記録可能な感光層を備えることを特徴とするヒートモード対応ネガ型平版印刷版原版が開示されている。   Patent Document 7 contains, on a support, (A) a photothermal conversion agent, (B) a compound having a polymerizable unsaturated group, and (C) an onium salt having a divalent or higher anion as a counter ion. However, there is disclosed a negative lithographic printing plate precursor for heat mode, which is provided with a photosensitive layer that can be recorded with an infrared laser.

特開平11−70647号公報JP-A-11-70647 特開2003−241414号公報JP 2003-241414 A 特開昭61−210365号公報JP-A-61-210365 特開2005−321782号公報JP-A-2005-321882 特開平7−33811号公報JP 7-33811 A 欧州特許第377191号明細書European Patent No. 377191 特開2002−268217号公報JP 2002-268217 A

本発明の目的は、表面平滑性、非タック性(表面ベトツキ抑制)、及び、臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、前記光硬化性コーティング組成物を塗布・硬化して得られるオーバープリント、並びに、オーバープリントの製造方法を提供することである。   The object of the present invention is to provide a photocurable coating composition excellent in surface smoothness, non-tackiness (surface tackiness suppression), and odor control, an overprint obtained by applying and curing the photocurable coating composition, And it is providing the manufacturing method of an overprint.

上記目的は、下記に記載の<1>〜<10>によって達成された。
<1> 2価以上のアニオンを含むオニウム塩、及び、重合性化合物、を含むことを特徴とする光硬化性コーティング組成物、
<2> 可視域に実質的に吸収を有しない、<1>に記載の光硬化性コーティング組成物、
<3> 前記オニウム塩が、スルホニウム塩及び/又はヨードニウム塩である、<1>又は<2>に記載の光硬化性コーティング組成物、
<4> オーバープリント用である、<1>〜<3>いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物、
<5> 電子写真印刷物のオーバープリント用である、<1>〜<4>いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物、
<6> 印刷物上に<1>〜<5>いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント、
<7> 前記オーバープリント層の厚みが1〜10μmである、<6>に記載のオーバープリント、
<8> 前記印刷物が電子写真印刷物である、<6>又は<7>に記載のオーバープリント、
<9> 印刷基材上に印刷して印刷物を得る工程、前記印刷物上に<1>〜<5>いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含むオーバープリントの製造方法、
<10> 前記印刷物が電子写真印刷物である、<9>に記載のオーバープリントの製造方法。
The above object has been achieved by <1> to <10> described below.
<1> A photocurable coating composition comprising an onium salt containing a divalent or higher anion and a polymerizable compound,
<2> The photocurable coating composition according to <1>, which has substantially no absorption in the visible region,
<3> The photocurable coating composition according to <1> or <2>, wherein the onium salt is a sulfonium salt and / or an iodonium salt,
<4> The photocurable coating composition according to any one of <1> to <3>, which is for overprinting,
<5> The photocurable coating composition according to any one of <1> to <4>, which is for overprinting of an electrophotographic printed material,
<6> Overprint having an overprint layer obtained by photocuring the photocurable coating composition according to any one of <1> to <5> on a printed material,
<7> The overprint according to <6>, wherein the overprint layer has a thickness of 1 to 10 μm.
<8> The overprint according to <6> or <7>, wherein the printed material is an electrophotographic printed material,
<9> A step of printing on a printing substrate to obtain a printed material, a step of applying the photocurable coating composition according to any one of <1> to <5> on the printed material, and the photocuring A method for producing an overprint comprising a step of photocuring a functional coating composition,
<10> The method for producing an overprint according to <9>, wherein the printed material is an electrophotographic printed material.

本発明によれば、表面平滑性、非タック性(表面ベトツキ抑制)、及び、臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、前記光硬化性コーティング組成物を塗布・硬化して得られるオーバープリント、並びに、オーバープリントの製造方法を提供することができた。   According to the present invention, surface smoothness, non-tackiness (surface tackiness suppression), and a photocurable coating composition excellent in odor suppression, an overprint obtained by applying and curing the photocurable coating composition, In addition, an overprint manufacturing method could be provided.

本発明の光硬化性コーティング組成物は、2価以上のアニオンを含むオニウム塩、及び、重合性化合物、を含むことを特徴とする。
以下、本発明を詳細に説明する。
The photocurable coating composition of the present invention includes an onium salt containing a divalent or higher anion and a polymerizable compound.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<光硬化性コーティング組成物>
電子写真法のようなトナーベースの画像は、画像表面にフェザーオイル層が存在する場合には、印刷物表面が疎水的であり、かつ表面エネルギーが低いために、硬化性、表面平滑性、強度、保存安定性等の全てにおいて満足する光硬化性コーティング組成物を得ることは難しい現状にある。
また、トナーベースの画像情報の上にオーバープリントコーティングを施して銀塩写真プリントの代替商品として扱う場合、一般消費者が直接手にするために、商品の臭気・安全性が重要な品質の一つとなる。
臭気発生の原因としては、重合性モノマーのような揮発性を有する化合物の残存(未硬化モノマー)や、硬化性組成物と共重合性を有さないために、硬化皮膜中に取り込まれない重合開始剤の分解物などが挙げられる。
重合性モノマーに起因する臭気の低減に関しては、低揮発性の固体モノマーや高分子量液体モノマーの活用が考えられるが、重合性組成物の粘度が上昇する為に表面平滑性が低下し、印刷物表面にスジなどが発生するという問題点がある。
<Photocurable coating composition>
In the case of a toner-based image such as an electrophotographic method, when a feather oil layer is present on the image surface, the printed surface is hydrophobic and the surface energy is low, so that the curability, surface smoothness, strength, It is difficult to obtain a photocurable coating composition that satisfies all of storage stability and the like.
In addition, when overprint coating is applied on toner-based image information to treat it as an alternative to silver salt photographic prints, the odor and safety of the product is one of the important qualities for the general consumer to obtain directly. Become one.
The cause of odor generation is the remaining of volatile compounds such as polymerizable monomers (uncured monomer) and polymerization that is not incorporated into the cured film because it does not copolymerize with the curable composition. Examples include decomposition products of initiators.
Regarding the reduction of odor caused by polymerizable monomers, the use of low-volatile solid monomers and high molecular weight liquid monomers can be considered, but the surface smoothness decreases due to the increase in the viscosity of the polymerizable composition, and the printed surface There is a problem that streaks occur.

本発明者は、2価以上のアニオンを対イオンとして有するオニウム塩を含有する光硬化性コーティング組成物を使用することにより、表面平滑性、非タック性(表面ベトツキ抑制)、及び、臭気抑制に優れたオーバープリントを提供できることを見出した。   By using a photocurable coating composition containing an onium salt having a divalent or higher valent anion as a counter ion, the present inventor can achieve surface smoothness, non-tackiness (surface tackiness suppression), and odor suppression. It has been found that an excellent overprint can be provided.

本発明の光硬化性コーティング組成物は、可視域に実質的に吸収を有しないことが好ましい。「可視域に実質的に吸収を有しない」とは、400〜700nmの可視域に吸収を有しないか、又は、光硬化性コーティング組成物として支障のない程度の吸収しか可視域に吸収を有しないことを意味する。具体的には、コーティング組成物の5μm光路長の透過率が、400〜700nmの波長範囲において、70%以上、好ましくは80%以上であることを意味する。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、オーバープリント用として好適に使用することができ、電子写真印刷物のオーバープリント用として特に好適に使用することができる。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像部がトナー分の厚みを有する電子写真印刷物に対してオーバープリント層を形成する場合においても、非タック性及び表面平滑性に優れ、艶や光沢のあるオーバープリントを与え、視覚的に従来からの銀塩写真プリントに近い印象を与えることができる。
また、本発明の光硬化性コーティング組成物は、画像表面にフェザーオイル層が存在するトナー画像であっても、非タック性と表面平滑性に優れ、艶や光沢があり、反りの少ない柔軟性に富む画像印刷物を与え、視覚的に銀塩写真プリントに近いオーバープリントを提供することができる。
The photocurable coating composition of the present invention preferably has substantially no absorption in the visible range. “Substantially no absorption in the visible region” means that there is no absorption in the visible region of 400 to 700 nm, or there is absorption in the visible region only to the extent that there is no problem as a photocurable coating composition. It means not. Specifically, it means that the 5 μm optical path length transmittance of the coating composition is 70% or more, preferably 80% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm.
The photocurable coating composition of the present invention can be suitably used for overprinting, and can be particularly suitably used for overprinting of electrophotographic prints.
The photocurable coating composition of the present invention is excellent in non-tackiness and surface smoothness, glossy and glossy even when an overprint layer is formed on an electrophotographic print having an image portion having a thickness equivalent to the toner. It gives a certain overprint and can visually give an impression close to that of a conventional silver halide photographic print.
In addition, the photocurable coating composition of the present invention is excellent in non-tackiness and surface smoothness, gloss, gloss, and flexibility with little warpage, even for a toner image having a feather oil layer on the image surface. Image prints that are rich in color and can provide an overprint that is visually similar to a silver halide photographic print.

<2価以上のアニオンを含むオニウム塩>
本発明の光硬化性コーティング組成物(以下、単に「コーティング組成物」ともいう。)は、2価以上のアニオンを含むオニウム塩(以下、単に「多価アニオンオニウム塩」ともいう。)を含有する。
<Onium salt containing a divalent or higher anion>
The photocurable coating composition of the present invention (hereinafter also simply referred to as “coating composition”) contains an onium salt containing a divalent or higher anion (hereinafter also simply referred to as “multivalent anion onium salt”). To do.

本発明において、多価アニオンオニウム塩としては、公知のジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、及び、アジニウム塩等挙げられ、好ましいオニウムイオンとしてはスルホニウムイオン、ヨードニウムイオン、ジアゾニウムイオン、アジニウムイオン、及び、アンモニウムイオン等が挙げられる。
好適に用いうる多価アニオンオニウム塩としては、具体的には、式(1)〜式(4)で表されるスルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩であり、安定性の面から、さらに好ましくはトリアリールスルホニウム塩又はジアリールヨードニウム塩である。
In the present invention, examples of the polyvalent anion onium salt include known diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, ammonium salts, pyridinium salts, and azinium salts. Preferred onium ions include sulfonium ions, iodonium ions, diazonium ions. , Azinium ions, ammonium ions, and the like.
Specific examples of the polyvalent anion onium salt that can be suitably used include sulfonium salts, iodonium salts, and diazonium salts represented by the formulas (1) to (4), and more preferably from the viewpoint of stability. Triarylsulfonium salt or diaryliodonium salt.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

式(1)中、Ar11とAr12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。
11n-は以下に詳述するn価の対アニオンを表す。
nは2以上の整数を表し、2〜4の整数であることが好ましい。また、n個あるヨードニウムイオンは同一でも異なっていてもよい。
In formula (1), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or 12 or less carbon atoms. Of the aryloxy group.
Z 11n− represents an n-valent counter anion described in detail below.
n represents an integer of 2 or more, and is preferably an integer of 2 to 4. The n iodonium ions may be the same or different.

式(2)中、Ar21は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基、又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。
21n-はZ11n-と同義の対アニオンを表す。また、n個あるジアゾニウムイオンは同一でも異なっていてもよい。
In formula (2), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms.
Z 21n- represents a counter anion having the same meaning as Z 11n- . The n diazonium ions may be the same or different.

式(3)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましくは、R31、R32、R33のいずれもがアリール基であり、それぞれは置換基を有していてもよい。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。
31n-はZ11n-と同義の対アニオンを表す。また、n個あるスルホニウムイオンは同一でも異なっていてもよい。
In the formula (3), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferably, all of R 31 , R 32 and R 33 are aryl groups, and each may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms.
Z 31n- represents a counter anion having the same meaning as Z 11n- . The n sulfonium ions may be the same or different.

式(4)におけるAr11及びAr12は式(1)におけるAr11及びAr12と同義であり、式(4)におけるR31、R32及びR33は、式(3)におけるR31、R32及びR33と同義である。
l及びmはそれぞれ1以上の整数を表しl+m=nを満たす。nは2以上の整数を表し、2〜4の整数であることが好ましい。
41n-はZ11n-と同義の対アニオンを表す。また、lが2以上の整数の場合はl個あるヨードニウムイオンは同一でも異なっていてもよく、mが2以上の整数の場合はm個あるスルホニウムイオンは同一でも異なっていてもよい。
Ar 11 and Ar 12 in the formula (4) has the same meaning as Ar 11 and Ar 12 in the formula (1), R 31, R 32 and R 33 in formula (4) is, R 31 in the formula (3), R 32 and R 33 as synonymous.
l and m each represent an integer of 1 or more and satisfy l + m = n. n represents an integer of 2 or more, and is preferably an integer of 2 to 4.
Z 41n- represents a counter anion having the same meaning as Z 11n- . Further, when l is an integer of 2 or more, l iodonium ions may be the same or different, and when m is an integer of 2 or more, m sulfonium ions may be the same or different.

本発明において多価アニオンオニウム塩に対イオンとして導入される2価以上のアニオンZn-は、一分子中に2つ以上のアニオン部位を有していれば特に制限はなく、2つ以上のアニオン部位は同じでも異なっていてもよい。
多価アニオンZn-としては、好ましくは2価以上、6価以下であり、より好ましくは2価、3価、又は4価のアニオンであり、さらに好ましくは合成手法上、2価のアニオンである。
In the present invention, the divalent or higher anion Z n− introduced as a counter ion to the polyvalent anion onium salt is not particularly limited as long as it has two or more anion sites in one molecule, and two or more The anion sites may be the same or different.
The polyvalent anion Z n− is preferably divalent or higher and hexavalent or lower, more preferably a divalent, trivalent, or tetravalent anion, and further preferably a divalent anion in terms of synthesis. is there.

多価アニオンZn-に含まれるアニオン部位としては、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、フェノール、R1−SO2−NH−R2、(ここで、R1、R2は1価の非金属有機基を表す。)の共役塩基であることが好ましく、安定性、反応性の面からカルボン酸又はスルホン酸の共役塩基であることがさらに好ましい。
以下に本発明に適用し得る好ましい2価、3価、4価のアニオンZn-の例を表記するが、本発明はこれらに制限されるものではない。
Examples of the anion moiety contained in the polyvalent anion Z n- include carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, phenol, R 1 —SO 2 —NH—R 2 , wherein R 1 and R 2 are monovalent non-valent A conjugated base of a carboxylic acid or a sulfonic acid from the viewpoint of stability and reactivity.
Examples of preferable divalent, trivalent, and tetravalent anions Zn n− that can be applied to the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

Figure 2009209248
Figure 2009209248

Figure 2009209248
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これらの2価、3価、4価のアニオンの対カチオンとしては、先に述べた各オニウムイオンが適用されるが、同一のオニウムイオンでも、互いに異なる複数種のオニウムイオンを適用してもよい。また、同一オニウムイオンと異なるオニウムイオンを有する多価アニオンオニウム塩を混合して用いてもよい。以下に本発明に適用し得る好ましい2価、3価、4価の多価アニオンオニウム塩の例を表記するが、本発明はこれらに制限されるものではない。   As the counter cation of these divalent, trivalent, and tetravalent anions, each onium ion described above is applied, but the same onium ion or a plurality of different onium ions may be applied. . Moreover, you may mix and use the polyvalent anion onium salt which has onium ion different from the same onium ion. Examples of preferable divalent, trivalent, and tetravalent polyvalent anion onium salts that can be applied to the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

下記、例示化合物(SA−1)〜(SD−8)は2価のアニオンと、同一のオニウムイオンを有するスルホニウム塩化合物の例であり、例示化合物(SE−1)〜(SG−6)は2価のアニオンと、互いに異なるオニウムイオンを有するスルホニウム塩化合物の例であり、例示化合物(SH−1)〜(SH−3)は3価のアニオンと、同一のオニウムイオンを有するスルホニウム塩化合物の例であり、例示化合物(SI−1)及び(SI−2)は4価のアニオンと、同一のオニウムイオンを有するスルホニウム塩化合物の例である。   The following exemplified compounds (SA-1) to (SD-8) are examples of sulfonium salt compounds having a divalent anion and the same onium ion, and the exemplified compounds (SE-1) to (SG-6) are It is an example of a sulfonium salt compound having divalent anions and onium ions different from each other, and exemplary compounds (SH-1) to (SH-3) are trivalent anions and sulfonium salt compounds having the same onium ion. Example compounds (SI-1) and (SI-2) are examples of a sulfonium salt compound having a tetravalent anion and the same onium ion.

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下記、例示化合物(IA−1)〜(IF−8)は2価のアニオンと、同一のカチオンを有するヨードニウム塩化合物の例であり、例示化合物(IG−1)〜(IH−7)は2価のアニオンと、互いに異なるカチオンを有するヨードニウム塩化合物の例であり、例示化合物(IJ−1)〜(IJ−3)は3価のアニオンを有するヨードニウム塩化合物の例であり、例示化合物(IK−1)及び(IK−2)は4価のアニオンを有するヨードニウム塩化合物の例である。   The following exemplary compounds (IA-1) to (IF-8) are examples of iodonium salt compounds having a divalent anion and the same cation, and exemplary compounds (IG-1) to (IH-7) are 2 Example compounds (IJ-1) to (IJ-3) are examples of iodonium salt compounds having a trivalent anion, and are exemplified compounds (IK). -1) and (IK-2) are examples of iodonium salt compounds having a tetravalent anion.

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下記、例示化合物(ISA−1)〜(ISB−6)は2価のアニオン構造と、カチオン構造としてスルホニウム及びヨードニウムを有するオニウム塩化合物の例である。   The following exemplary compounds (ISA-1) to (ISB-6) are examples of onium salt compounds having a divalent anion structure and sulfonium and iodonium as the cation structure.

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中でも、SA−1、SA−3、SA−13、SB−4、SC−1、SC−4、SC−5、SD−5、SF−2、SH−2、IA−1、IA−7、IB−4、IB−14、IB−15、IE−6、IF−7、IJ−2、ISA−4が好ましい。   Among them, SA-1, SA-3, SA-13, SB-4, SC-1, SC-4, SC-5, SD-5, SF-2, SH-2, IA-1, IA-7, IB-4, IB-14, IB-15, IE-6, IF-7, IJ-2 and ISA-4 are preferred.

以下に、多価アニオンオニウム塩の代表的な合成例を示す。
〔合成例1:多価アニオンオニウム塩例示化合物(SA−3)の合成〕
ジフェニルスルホキシド50.9gをベンゼン800mlに溶解させ、これに塩化アルミニウム200gを加え、24時間還流した。反応液を氷冷下、水2Lにゆっくりと注ぎ、これに濃塩酸400mlを加えて70℃で10分加熱した。この水溶液を酢酸エチル500mlで洗浄し、濾過した後にヨウ化アンモニウム200gを水400mlに溶解したものを加えた。
析出した粉体をろ取、水洗した後、酢酸エチルで洗浄、乾燥するとトリフェニルスルホニウムヨージドが70g得られた。トリフェニルスルホニウムヨージド30.5gをメタノール1,000mlに溶解させ、この溶液に酸化銀19.1gを加え、室温で4時間撹拌した。溶液を濾過し、これに3.2gのシュウ酸を加えた。反応液を濃縮し、濃縮液を酢酸エチル、ヘキサンで洗浄し、真空乾燥を行うことによりスルホニウム塩である例示化合物(SA−3)が収率91%で得られた。
Below, the typical synthesis example of a polyvalent anion onium salt is shown.
[Synthesis Example 1: Synthesis of Multivalent Anion Onium Salt Illustrative Compound (SA-3)]
Diphenyl sulfoxide (50.9 g) was dissolved in benzene (800 ml), and aluminum chloride (200 g) was added thereto, followed by refluxing for 24 hours. The reaction solution was slowly poured into 2 L of water under ice cooling, 400 ml of concentrated hydrochloric acid was added thereto, and the mixture was heated at 70 ° C. for 10 minutes. This aqueous solution was washed with 500 ml of ethyl acetate and filtered, and then 200 g of ammonium iodide dissolved in 400 ml of water was added.
The precipitated powder was collected by filtration, washed with water, washed with ethyl acetate and dried to obtain 70 g of triphenylsulfonium iodide. 30.5 g of triphenylsulfonium iodide was dissolved in 1,000 ml of methanol, and 19.1 g of silver oxide was added to this solution, followed by stirring at room temperature for 4 hours. The solution was filtered and 3.2 g oxalic acid was added to it. The reaction solution was concentrated, and the concentrated solution was washed with ethyl acetate and hexane, and vacuum dried to obtain Exemplified Compound (SA-3) as a sulfonium salt in a yield of 91%.

〔合成例2:多価アニオンオニウム塩例示化合物(IB−14)の合成〕
t−アミルベンゼン60g、ヨウ素酸カリウム39.5g、無水酢酸81g、ジクロロメタン170mlを混合し、これに氷冷下濃硫酸66.8gをゆっくり滴下した。氷冷下2時間撹拌下後、室温で10時間撹拌した。室温で10時間撹拌した反応液に氷冷下で水500mlを加え、反応中で溶解していた成分をジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタンでなる有機槽に炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで水で洗浄した。洗浄後、この有機相を濃縮するとジ(4−t−アミルフェニル)ヨードニウム硫酸塩が得られた。この硫酸塩を過剰量のヨウ化カリウムの水溶液に加えた。この水溶液でジクロロメタン抽出し、水で洗い、有機相を濃縮し、ジ(4−t−アミルフェニル)ヨードニウムヨージドが得られた。75gが得られた。
上記で得られたジ(4−t−アミルフェニル)ヨードニウムヨージド42.2gをメタノール2,000mlに溶解させ、この溶液に酸化銀19.1gを加え、室温で4時間撹拌した。溶液を濾過し、これに1,3−ベンゼンジスルホン酸ジカリウム塩12gを加えた。反応液を濃縮し、濃縮液を酢酸エチル、ヘキサンで洗浄し、真空乾燥を行うことにより、ヨードニウム塩である例示化合物(IB−14)が収率85%で得られた。
[Synthesis Example 2: Synthesis of Multivalent Anion Onium Salt Illustrative Compound (IB-14)]
60 g of t-amylbenzene, 39.5 g of potassium iodate, 81 g of acetic anhydride and 170 ml of dichloromethane were mixed, and 66.8 g of concentrated sulfuric acid was slowly added dropwise thereto under ice cooling. The mixture was stirred for 2 hours under ice-cooling and then at room temperature for 10 hours. To the reaction solution stirred at room temperature for 10 hours, 500 ml of water was added under ice cooling, and components dissolved in the reaction were extracted with dichloromethane. The organic tank made of dichloromethane was washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then with water. After washing, the organic phase was concentrated to obtain di (4-t-amylphenyl) iodonium sulfate. This sulfate was added to an aqueous solution of excess potassium iodide. Dichloromethane was extracted with this aqueous solution, washed with water, and the organic phase was concentrated to obtain di (4-t-amylphenyl) iodonium iodide. 75 g was obtained.
42.2 g of di (4-t-amylphenyl) iodonium iodide obtained above was dissolved in 2,000 ml of methanol, 19.1 g of silver oxide was added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The solution was filtered, and 12 g of 1,3-benzenedisulfonic acid dipotassium salt was added thereto. The reaction solution was concentrated, the concentrated solution was washed with ethyl acetate and hexane, and vacuum dried to obtain Exemplified Compound (IB-14) which is an iodonium salt in a yield of 85%.

他のスルホニウム塩、ヨードニウム塩についても同様に合成することができる。また、ヨードニウムヨージドを得る他の方法として、Bull.Chem.Soc.Jpn70,219−224(1997)、Bull.Chem.Soc.Jpn70,1665−1669(1997)、Bull.Chem.Soc.Jpn70,115−120(1999)、J.Amer.Chem.Soc;82;1960,725−731,J.Amer.Chem.Soc;81;1959,342−346に記載の方法などが挙げられる。スルホニウムヨージドを得る他の方法としてJ.Amer.Chem.Soc;91;1969;145−150,記載の方法などが使用することができる。   Other sulfonium salts and iodonium salts can be synthesized in the same manner. As another method for obtaining iodonium iodide, Bull. Chem. Soc. Jpn 70, 219-224 (1997), Bull. Chem. Soc. Jpn 70, 1665-1669 (1997), Bull. Chem. Soc. Jpn 70, 115-120 (1999), J. MoI. Amer. Chem. Soc; 82; 1960, 725-731, J. MoI. Amer. Chem. Soc; 81; 1959, 342-346. Other methods for obtaining sulfonium iodide are described in J. Org. Amer. Chem. Soc; 91; 1969; 145-150, and the like can be used.

これら多価アニオンオニウム塩の好ましい添加量は、光硬化性コーティング組成物の全固形分中、0.1〜40重量%、より好ましくは1〜30重量%、さらに好ましくは5〜20重量%の範囲である。
上記の数値の範囲内であると、光硬化性コーティング組成物が十分に硬化し、非タック性(表面ベトツキ抑制)に優れる。また、光硬化性コーティング組成物の粘度が適当であり、表面平滑性に優れたオーバープリント層が得られる。
また、多価アニオンオニウム塩は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The preferable addition amount of these polyvalent anion onium salts is 0.1 to 40% by weight, more preferably 1 to 30% by weight, and still more preferably 5 to 20% by weight in the total solid content of the photocurable coating composition. It is a range.
If it is within the above numerical range, the photocurable coating composition is sufficiently cured and is excellent in non-tackiness (suppression of surface stickiness). Moreover, the viscosity of a photocurable coating composition is suitable, and the overprint layer excellent in surface smoothness is obtained.
Moreover, only 1 type may be used for polyvalent anion onium salt, and 2 or more types may be used together.

なお、本発明においては重合開始剤として、前記多価アニオンオニウム塩に加えて、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性基を有する公知の化合物の重合を開始、促進させる化合物(重合開始剤)を、本発明の効果を損なわない範囲で併用することができる。このような重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを選択して使用することができ、例えば、前記オニウム塩構造を有する化合物で、対アニオンが1価のものを好ましく使用することができる。
本発明において一般的な1価のアニオンを有するオニウム塩を用いる場合、その添加量は、多価アニオンオニウム塩を含む重合開始剤の総量の0〜30重量%であることが好ましく、より好ましくは0〜15重量%の範囲である。
本発明において用いられる多価アニオンオニウム塩は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、さらに360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、透明性の高いコーティング組成物が得られる。
In the present invention, a compound that initiates and accelerates the polymerization of a known compound having a polymerizable group by generating a radical by thermal energy in addition to the polyvalent anion onium salt as a polymerization initiator (polymerization initiator) Can be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired. As such a polymerization initiator, a known thermal polymerization initiator or a compound having a bond with a small bond dissociation energy can be selected and used. For example, a compound having the onium salt structure and a counter anion is used. Monovalent ones can be preferably used.
When an onium salt having a general monovalent anion is used in the present invention, the addition amount is preferably 0 to 30% by weight, more preferably the total amount of the polymerization initiator containing a polyvalent anion onium salt. It is in the range of 0 to 15% by weight.
The polyvalent anion onium salt used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. Thus, a coating composition with high transparency can be obtained by setting the absorption wavelength in the ultraviolet region.

<重合性化合物>
本発明の光硬化性コーティング組成物は、重合性化合物を含有する。
重合性化合物として、ラジカル重合性化合物を使用することもでき、また、カチオン重合性化合物を使用することもできる。
<Polymerizable compound>
The photocurable coating composition of the present invention contains a polymerizable compound.
As the polymerizable compound, a radical polymerizable compound can be used, and a cationic polymerizable compound can also be used.

<ラジカル重合性化合物>
本発明において、ラジカル重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有する化合物であることが好ましい。
本発明におけるラジカル重合性化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも1つ有する化合物であれば、どのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。
ラジカル重合性化合物は、1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。反応性、物性などの性能を制御する点から、2種以上のラジカル重合性化合物を併用することが好ましい。
<Radically polymerizable compound>
In the present invention, the radical polymerizable compound is preferably a compound having an ethylenically unsaturated group.
The radical polymerizable compound in the present invention may be any compound as long as it has at least one ethylenically unsaturated group, and includes compounds having chemical forms such as monomers, oligomers, and polymers.
Only one type of radically polymerizable compound may be used, or two or more types thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve target properties. From the viewpoint of controlling performance such as reactivity and physical properties, it is preferable to use two or more kinds of radically polymerizable compounds in combination.

ラジカル重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。   Examples of radically polymerizable compounds include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and other unsaturated carboxylic acids and salts thereof, anhydrides having ethylenically unsaturated groups, acrylonitrile, styrene Furthermore, radically polymerizable compounds such as various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides and unsaturated urethanes can be mentioned.

具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、(株)大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、(株)シーエムシー出版);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、(株)日刊工業新聞社)等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー、及びポリマーを用いることができる。   Specifically, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, lauryl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl Acrylate, phenoxyethyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate , Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, Liethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate , Trimethylolpropane triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate and other acrylic acid derivatives, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, hexyl meta Relate, 2-ethylhexyl methacrylate, lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentanyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane trimeta Methacryl derivatives such as acrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimelli Derivatives of allyl compounds such as tate, etc., more specifically, Shinzo Yamashita, “Crosslinker Handbook” (1981, Taiseisha Co., Ltd.); (Ingredients) ”(1985, Polymer Press Association); Radtech Study Group,“ Application and Market of UV / EB Curing Technology ”, p. 79, (1989, CMC Publishing Co., Ltd.); Eiichiro Takiyama, Commercially available products described in “Polyester Resin Handbook” (1988, Nikkan Kogyo Shimbun Co., Ltd.) or other radios known in the industry Le polymerizable or crosslinkable monomers, may be used an oligomer, and polymer.

また、ラジカル重合性化合物としては、例えば、特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平8−224982号、特開平10−863号、特開平9−134011号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性化合物材料が知られており、これらも本発明のコーティング組成物に適用することができる。   Examples of the radical polymerizable compound include those disclosed in JP-A-7-159983, JP-B-7-31399, JP-A-8-224982, JP-A-10-863, JP-A-9-134011, and the like. Photocurable polymeric compound materials used for the described photopolymerizable compositions are known and can also be applied to the coating compositions of the present invention.

さらに、ラジカル重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いることも好ましい。好適に用いられるビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度の観点から、ジビニルエーテル化合物又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、ジビニルエーテル化合物がより好ましい。ビニルエーテル化合物は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
Furthermore, it is also preferable to use a vinyl ether compound as the radical polymerizable compound. Suitable vinyl ether compounds include, for example, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, and cyclohexanedimethanol. Di- or trivinyl ether compounds such as divinyl ether and trimethylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl Monovinyl ether compounds such as ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, octadecyl vinyl ether, ethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, hydroxyethyl monovinyl ether, hydroxynonyl monovinyl ether, etc. Is mentioned.
Among these vinyl ether compounds, a divinyl ether compound or a trivinyl ether compound is preferable and a divinyl ether compound is more preferable from the viewpoint of curability, adhesion, and surface hardness. A vinyl ether compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type as appropriate.

本発明の用いることができる他の重合性化合物としては、(メタ)アクリル系モノマー若しくはプレポリマー、エポキシ系モノマー若しくはプレポリマー、又は、ウレタン系モノマー若しくはプレポリマー等の(メタ)アクリル酸エステル(以下、適宜、「(メタ)アクリレート化合物」ともいう。)が好ましく用いられる。より好ましくは、下記化合物である。なお、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を表す。   Examples of other polymerizable compounds that can be used in the present invention include (meth) acrylic monomers or prepolymers, epoxy monomers or prepolymers, or (meth) acrylic acid esters such as urethane monomers or prepolymers (hereinafter referred to as “polymeric esters”). As appropriate, it is also referred to as “(meth) acrylate compound”). More preferably, they are the following compounds. In addition, “(meth) acrylate” represents both “acrylate” and “methacrylate”.

すなわち、2−エチルヘキシルジグリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2−アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、エトキシ化フェニル(メタ)アクリレート、2−アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールエチレンオキサイド(EO)付加物(メタ)アクリレート、変性グリセリントリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド(PO)付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートトリレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ステアリル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ラクトン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。   That is, 2-ethylhexyl diglycol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, 2-acryloyl Roxyethylphthalic acid, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalic acid, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethoxylated phenyl (Meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, nonylphenol ethylene oxide (EO) adduct (meth) acrylate, modified glycerin tri (meth) acrylate, bis Enol A diglycidyl ether acrylic acid adduct, modified bisphenol A di (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, propylene oxide (PO) adduct di ( (Meth) acrylate, bisphenol A EO adduct di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate tolylene diisocyanate urethane prepolymer, lactone-modified flexible (meth) acrylate, Butoxyethyl (meth) acrylate, propylene glycol diglycidyl ether acrylic acid adduct, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate Urethane prepolymer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, stearyl (Meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, lactone-modified (meth) acrylate, and the like.

また、ここに列挙されている(メタ)アクリレート化合物は、反応性が高く、粘度が低く、印刷基材への密着性に優れる。   The (meth) acrylate compounds listed here have high reactivity, low viscosity, and excellent adhesion to a printing substrate.

本発明において、非タック性(表面ベトツキ)、透明性をより改善するためには、前述のラジカル重合性化合物に記載の中でも、多官能(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましい。
多官能(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールAエポキシジ(メタ)アクリレートやトリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートを特に好ましく例示できる。
また、多官能(メタ)アクリレート等の多官能エチレン性不飽和化合物を使用する場合、多官能エチレン性不飽和化合物の含有量としては、コーティング組成物の全重量に対し、5〜80重量%であることが好ましく、40〜70重量%であることがより好ましい。上記範囲であると、非タック性に優れる。
In the present invention, in order to further improve non-tackiness (surface tackiness) and transparency, it is preferable to include a polyfunctional (meth) acrylate compound among the above-mentioned radical polymerizable compounds.
As the polyfunctional (meth) acrylate, bisphenol A epoxy di (meth) acrylate and tripropylene glycol di (meth) acrylate can be particularly preferably exemplified.
Moreover, when using polyfunctional ethylenically unsaturated compounds, such as polyfunctional (meth) acrylate, as content of a polyfunctional ethylenically unsaturated compound, it is 5 to 80 weight% with respect to the total weight of a coating composition. It is preferable that it is 40 to 70% by weight. Within the above range, non-tackiness is excellent.

なお、本発明において、種々の目的に応じて、ラジカル重合性化合物とラジカル光重合開始剤との組み合わせや、カチオン重合性化合物とカチオン光重合開始剤との組み合わせの他、これらを組み合わせた、ラジカル・カチオンのハイブリッド型コーティング組成物としてもよい。   In the present invention, depending on various purposes, a combination of a radical polymerizable compound and a radical photopolymerization initiator, a combination of a cationic polymerizable compound and a cationic photopolymerization initiator, or a combination of these radicals. -It is good also as a hybrid type coating composition of a cation.

<カチオン重合性化合物>
本発明におけるカチオン重合性化合物としては、何らかのエネルギー付与によりカチオン重合反応を生起し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、モノマー、オリゴマー、ポリマーの種を問わず使用することができるが、特に、前述のカチオン重合開始剤から発生する開始種により重合反応を生起する、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。また、カチオン重合性化合物は単官能化合物であっても、多官能化合物であってもよい。
<Cationically polymerizable compound>
The cationically polymerizable compound in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that generates and cures a cationic polymerization reaction by applying some energy, and can be used regardless of the type of monomer, oligomer, or polymer. Various known cationically polymerizable monomers known as photocationically polymerizable monomers that cause a polymerization reaction with an initiation species generated from the aforementioned cationic polymerization initiator can be used. The cationic polymerizable compound may be a monofunctional compound or a polyfunctional compound.

本発明におけるカチオン重合性化合物としては、硬化性及び耐擦過性の観点から、オキセタン環含有化合物及びオキシラン環含有化合物が好適であり、オキセタン環含有化合物及びオキシラン環含有化合物の両方を含有する態様がより好ましい。
ここで、本明細書において、オキシラン環含有化合物(以下、適宜「オキシラン化合物」と称する場合がある。)とは、分子内に、少なくとも1つのオキシラン環(オキシラニル基、エポキシ基)を含む化合物であり、具体的にはエポキシ樹脂として通常用いられているものの中から適宜選択することができ、例えば、従来公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂が挙げられる。モノマー、オリゴマー及びポリマーのいずれであってもよい。また、オキセタン環含有化合物(以下、適宜「オキセタン化合物」と称する場合がある。)とは、分子内に少なくとも1つのオキセタン環(オキセタニル基)を含む化合物である。
As the cationically polymerizable compound in the present invention, an oxetane ring-containing compound and an oxirane ring-containing compound are preferable from the viewpoint of curability and scratch resistance, and an embodiment containing both the oxetane ring-containing compound and the oxirane ring-containing compound is preferable. More preferred.
Here, in this specification, an oxirane ring-containing compound (hereinafter sometimes referred to as “oxirane compound” as appropriate) is a compound containing at least one oxirane ring (oxiranyl group, epoxy group) in the molecule. Specifically, it can be appropriately selected from those usually used as an epoxy resin, and examples thereof include conventionally known aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and aliphatic epoxy resins. Any of a monomer, an oligomer, and a polymer may be sufficient. An oxetane ring-containing compound (hereinafter sometimes referred to as “oxetane compound” as appropriate) is a compound containing at least one oxetane ring (oxetanyl group) in the molecule.

以下、本発明に適用しうるカチオン重合性化合物について詳細に説明する。
カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平6−9714号、特開2001−31892号、同2001−40068号、同2001−55507号、同2001−310938号、同2001−310937号、同2001−220526号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
Hereinafter, the cationically polymerizable compound applicable to the present invention will be described in detail.
Examples of the cationic polymerizable monomer include JP-A-6-9714, JP-A-2001-31892, JP-A-2001-40068, JP-A-2001-55507, JP-A-2001-310938, JP-A-2001-310937, and 2001-2001. Examples thereof include epoxy compounds, vinyl ether compounds, oxetane compounds and the like described in each publication such as No. 220526.

本発明に用いることができる単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジエンモノオキサイド、1,2−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。   Examples of monofunctional epoxy compounds that can be used in the present invention include, for example, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and 1,2-butylene. Oxide, 1,3-butadiene monooxide, 1,2-epoxydodecane, epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide , 3-vinylcyclohexene oxide and the like.

また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−7,8−エポキシ−1,3−ジオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、1,13−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、1,2,7,8−ジエポキシオクタン、1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物の中でも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。
Examples of polyfunctional epoxy compounds include, for example, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol. S diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxy 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -7,8-epoxy-1,3-dioxaspiro [5.5] undecane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) Rumethyl) adipate, vinylcyclohexene oxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4′-epoxy-6 '-Methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate) , Epoxyhexahydrophthalate dioctyl, epoxyhexahydrophthalate di-2-ethylhexyl, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, Reserin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers, 1,13-tetradecadiene dioxide, limonene dioxide, 1,2,7,8-diepoxyoctane 1,2,5,6-diepoxycyclooctane and the like.
Among these epoxy compounds, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable from the viewpoint of excellent curing speed, and alicyclic epoxides are particularly preferable.

本発明に用いることができる単官能ビニルエーテルの例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、n−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフリフリルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。   Examples of monofunctional vinyl ethers that can be used in the present invention include, for example, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl. Vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4-methyl cyclohexyl methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxy Ethyl vinyl ether, methoxypoly Tylene glycol vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexyl methyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether Chloroethoxyethyl vinyl ether, phenylethyl vinyl ether, phenoxypolyethylene glycol vinyl ether, and the like.

また、多官能ビニルエーテルの例としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類;トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、印刷基材や印刷物等の被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
Examples of the polyfunctional vinyl ether include, for example, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, butylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, and bisphenol F. Divinyl ethers such as alkylene oxide divinyl ether; trimethylolethane trivinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol Hexavinyl ether, ethylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, propylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, ethylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, propylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, ethylene oxide-added pentaerythritol tetravinyl ether, propylene oxide addition Examples thereof include polyfunctional vinyl ethers such as pentaerythritol tetravinyl ether, ethylene oxide-added dipentaerythritol hexavinyl ether, and propylene oxide-added dipentaerythritol hexavinyl ether.
As the vinyl ether compound, a di- or trivinyl ether compound is preferable from the viewpoints of curability, adhesion to a recording medium such as a printing substrate or printed matter, and surface hardness of the formed image, and a divinyl ether compound is particularly preferable.

本発明におけるオキセタン化合物としては、特開2001−220526号、同2001−310937号、同2003−341217号の各公報に記載される如き、公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。   As the oxetane compound in the present invention, known oxetane compounds as described in JP-A Nos. 2001-220526, 2001-310937, and 2003-341217 can be arbitrarily selected and used.

本発明に用いることができるオキセタン化合物としては、その構造内にオキセタン環を1〜4個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、光硬化性コーティング組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となり、また、硬化後の光硬化性コーティング組成物と、印刷基材や印刷物等の被記録媒体との高い密着性を得ることができる。   As the oxetane compound that can be used in the present invention, a compound having 1 to 4 oxetane rings in its structure is preferable. By using such a compound, it becomes easy to maintain the viscosity of the photocurable coating composition in a favorable range of handling properties, and the photocurable coating composition after curing, the printing substrate, High adhesion to a recording medium such as a printed material can be obtained.

本発明に用いることができる単官能オキセタン化合物の例としては、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチル−3−エチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル[ベンゼン、4−メトキシ−[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)エチル]フェニルエーテル、イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。   Examples of monofunctional oxetane compounds that can be used in the present invention include, for example, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3- (meth) allyloxymethyl-3-ethyloxetane, (3-ethyl-3-oxetanyl). Methoxy) methylbenzene, 4-fluoro- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl [benzene, 4-methoxy- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3-Ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethyl] phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3 -Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-ethylhexyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethyldiethylene glycol (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentadiene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyloxyethyl (3-ethyl) -3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrahydrofurfuryl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ) Ether, 2-tetrabromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tribromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tribromophenoxyethyl (3-ethyl-3) Oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxypropyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, butoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether Pentachlorophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, bornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, and the like.

多官能オキセタン化合物の例としては、例えば、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキサイド(EO)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、プロピレンオキサイド(PO)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等の多官能オキセタンが挙げられる。   Examples of polyfunctional oxetane compounds include, for example, 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 3,3 ′-(1,3- (2-methylenyl) propanediylbis (oxymethylene) ) Bis- (3-ethyloxetane), 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenylbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether , Triethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3 Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tricyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropane tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3 -Ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl- 3-oxetanylmethyl) ether, polyethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3- Til-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol pentane Kiss (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylolpropane tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethylene oxide (EO) modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, Propylene oxide (PO) modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) Examples thereof include polyfunctional oxetanes such as ether, PO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, and EO-modified bisphenol F (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether.

このようなオキセタン化合物については、前記特開2003−341217号公報、段落0021乃至0084に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に使用しうる。
本発明に用いることができるオキセタン化合物の中でも、オキセタン環を1〜2個有する化合物を使用することが好ましい。
本発明においては、これらのカチオン重合性化合物は、1種のみを用いても、2種以上を併用してもよい。
Such oxetane compounds are described in detail in the above-mentioned JP-A No. 2003-341217, paragraphs 0021 to 0084, and the compounds described herein can be suitably used in the present invention.
Among the oxetane compounds that can be used in the present invention, it is preferable to use a compound having 1 to 2 oxetane rings.
In the present invention, these cationically polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光硬化性コーティング組成物における重合性化合物の含有量は、硬化性と表面平滑性の観点から、コーティング組成物全体の重量に対して、10〜97重量%の範囲であることが好ましく、30〜95重量%の範囲がより好ましく、50〜90重量%の範囲であることがさらに好ましい。
また、重合性化合物は、1種で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
In view of curability and surface smoothness, the content of the polymerizable compound in the photocurable coating composition of the present invention is preferably in the range of 10 to 97% by weight with respect to the total weight of the coating composition. 30 to 95% by weight is more preferable, and 50 to 90% by weight is more preferable.
Moreover, a polymeric compound may be used by 1 type and may use 2 or more types together.

<光重合開始剤>
本発明のコーティング組成物は、光重合開始剤を含有していてもよい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明において、ラジカル光重合開始剤を使用することが好ましい。
本発明のコーティング組成物に使用する光重合開始剤は、活性放射線による外部エネルギーを吸収して重合開始種を生成する化合物である。活性放射線には、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。使用する波長は特に限定されないが、好ましくは200〜500nmの波長領域であり、より好ましくは200〜450nmの波長領域である。
<Photopolymerization initiator>
The coating composition of the present invention may contain a photopolymerization initiator.
A known photopolymerization initiator can be used as the photopolymerization initiator. In the present invention, it is preferable to use a radical photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator used in the coating composition of the present invention is a compound that generates a polymerization initiating species by absorbing external energy due to actinic radiation. Examples of the active radiation include γ rays, β rays, electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and infrared rays. Although the wavelength to be used is not specifically limited, Preferably it is a 200-500 nm wavelength range, More preferably, it is a 200-450 nm wavelength range.

本発明で好ましく使用できるラジカル光重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)アシルホスフィン化合物、(c)芳香族オニウム塩化合物、(d)有機過酸化物、(e)チオ化合物、(f)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(g)ケトオキシムエステル化合物、(h)ボレート化合物、(i)アジニウム化合物、(j)メタロセン化合物、(k)活性エステル化合物、(l)炭素ハロゲン結合を有する化合物、並びに、(m)アルキルアミン化合物等が挙げられる。
透明性の観点から好ましい光重合開始剤としては、光重合開始剤を3g/cm2の厚みで製膜した際に、400nmの波長の吸光度が0.3以下の化合物であることが好ましく、0.2以下の化合物であることがより好ましく、0.1以下の化合物であることがさらに好ましい。
上記の中でも、好ましい光重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)アシルホスフィン化合物、(c)芳香族オニウム塩化合物が挙げられる。
本発明における光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、併用してもよい。
Examples of radical photopolymerization initiators that can be preferably used in the present invention include (a) aromatic ketones, (b) acylphosphine compounds, (c) aromatic onium salt compounds, (d) organic peroxides, (e) thios. Compound, (f) hexaarylbiimidazole compound, (g) ketoxime ester compound, (h) borate compound, (i) azinium compound, (j) metallocene compound, (k) active ester compound, (l) carbon halogen bond And (m) alkylamine compounds and the like.
A preferable photopolymerization initiator from the viewpoint of transparency is preferably a compound having an absorbance at a wavelength of 400 nm of 0.3 or less when the photopolymerization initiator is formed to a thickness of 3 g / cm 2. More preferably, the compound is 2 or less, and further preferably 0.1 or less.
Among these, preferable photopolymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) acylphosphine compounds, and (c) aromatic onium salt compounds.
The photopolymerization initiator in the present invention may be used alone or in combination.

本発明における光重合開始剤の含有量は、重合性化合物の総量に対して、0.01〜35重量%であることが好ましく、0.1〜30重量%であることがより好ましく、0.5〜30重量%であることがさらに好ましい。
また、光重合開始剤は、後述する増感剤を用いる場合、増感剤に対して、光重合開始剤:増感剤の重量比で、200:1〜1:200であることが好ましく、50:1〜1:50であることがより好ましく、20:1〜1:5であることがさらに好ましい。
The content of the photopolymerization initiator in the present invention is preferably 0.01 to 35% by weight, more preferably 0.1 to 30% by weight, based on the total amount of the polymerizable compound. More preferably, it is 5 to 30% by weight.
Moreover, when using a sensitizer described later, the photopolymerization initiator is preferably 200: 1 to 1: 200 in a weight ratio of photopolymerization initiator: sensitizer with respect to the sensitizer. It is more preferably 50: 1 to 1:50, and further preferably 20: 1 to 1: 5.

本発明において、上記のカチオン重合性化合物と併用するカチオン光重合開始剤(光酸発生剤)としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる(例えば、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページを参照することができる。)。
本発明に好適なカチオン光重合開始剤の例を以下に挙げる。
すなわち、第1に、前記多価アニオンオニウム塩を除く、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のB(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -塩を挙げることができる。第2に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。第3に、ハロゲン化水素を光により発生するハロゲン化物も用いることができる。第4に、鉄アレーン錯体を挙げることができる。
上記如きカチオン光重合開始剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
In the present invention, as the cationic photopolymerization initiator (photoacid generator) used in combination with the above cationic polymerizable compound, for example, a chemical amplification type photoresist or a compound used for photocationic polymerization is used (for example, organic (Electronic Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing (1993), pages 187 to 192).
Examples of the cationic photopolymerization initiator suitable for the present invention are listed below.
That is, first, B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF of aromatic onium compounds such as diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, excluding the polyvalent anion onium salt. 6 -, CF 3 SO 3 - salts. Secondly, sulfonated products that generate sulfonic acid can be mentioned. Thirdly, a halide that generates hydrogen halide by light can also be used. Fourthly, iron arene complexes can be mentioned.
The cationic photopolymerization initiator as described above may be used alone or in combination of two or more.

<増感剤>
本発明のコーティング組成物には、前記光重合開始剤の活性放射線の照射による分解を促進させるために増感剤を添加することができる。
増感剤は、特定の活性放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、光重合開始剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用を生じ、これにより光重合開始剤の化学変化、すなわち、分解、ラジカル、酸又は塩基の生成を促進させるものである。
また、本発明に用いることのできる増感剤は、本発明のコーティング組成物をオーバープリントに使用した際に、着色等の影響が小さい化合物又は量を使用することが好ましい。
本発明における増感剤の含有量は、コーティング組成物の全重量に対して、0.001〜5重量%であることが好ましく、0.01〜3重量%であることがさらに好ましい。この添加量であると、硬化性が向上し、着色の影響が少ない。
<Sensitizer>
A sensitizer can be added to the coating composition of the present invention in order to promote decomposition of the photopolymerization initiator by irradiation with active radiation.
The sensitizer absorbs specific actinic radiation and enters an electronically excited state. The sensitizer in an electronically excited state comes into contact with the photopolymerization initiator to cause actions such as electron transfer, energy transfer, and heat generation, thereby causing a chemical change of the photopolymerization initiator, that is, decomposition, radical, acid. Or it promotes the production of bases.
In addition, the sensitizer that can be used in the present invention is preferably a compound or an amount having a small influence of coloring or the like when the coating composition of the present invention is used for overprinting.
The content of the sensitizer in the present invention is preferably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 3% by weight, based on the total weight of the coating composition. With this addition amount, curability is improved and the influence of coloring is small.

増感剤は、使用する光重合開始剤に開始種を発生させる活性放射線の波長に応じた化合物を使用すればよいが、一般的なコーティング組成物の硬化反応に使用されることを考慮すれば、好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ベンゾフェノン類(例えば、ベンゾフェノン)等が挙げられる。
The sensitizer may be a compound corresponding to the wavelength of actinic radiation that generates an initiating species in the photopolymerization initiator to be used, but considering that it is used for a curing reaction of a general coating composition. Examples of preferred sensitizers include those belonging to the following compounds and having an absorption wavelength in the 350 nm to 450 nm region.
Polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (Eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (eg, anthraquinone), squalium (eg, Squalium), coumarins (for example, 7-diethylamino-4-methylcoumarin), benzophenones (for example, benzophenone) and the like.

より好ましい増感剤の例としては、下記式(II)〜(VI)で表される化合物が挙げられる。   More preferable examples of the sensitizer include compounds represented by the following formulas (II) to (VI).

Figure 2009209248
Figure 2009209248

式(II)中、A1は硫黄原子又はNR50を表し、R50はアルキル基又はアリール基を表し、L2は隣接するA1及び隣接炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R51、R52はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、R51、R52は互いに結合して、酸性核を形成してもよい。Wは酸素原子又は硫黄原子を表す。 In the formula (II), A 1 represents a sulfur atom or NR 50 , R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 2 represents a non-nuclear group that forms a basic nucleus together with the adjacent A 1 and the adjacent carbon atom. R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent non-metal atomic group, and R 51 and R 52 may be bonded to each other to form an acidic nucleus. W represents an oxygen atom or a sulfur atom.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

式(III)中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立にアリール基を表し、−L3−による結合を介して連結している。ここでL3は−O−又は−S−を表す。また、Wは式(II)に示したものと同義である。 In formula (III), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group, and are linked via a bond with —L 3 —. Here, L 3 represents —O— or —S—. W is synonymous with that shown in Formula (II).

Figure 2009209248
Figure 2009209248

式(IV)中、A2は硫黄原子又はNR59を表し、L4は隣接するA2及び炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団の基を表し、R59はアルキル基又はアリール基を表す。 In the formula (IV), A 2 represents a sulfur atom or NR 59 , L 4 represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus in combination with adjacent A 2 and a carbon atom, R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, and R 59 represents an alkyl group or an aryl group.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

式(V)中、A3、A4はそれぞれ独立に−S−又は−NR62−又は−NR63−を表し、R62、R63はそれぞれ独立に置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基を表し、L5、L6はそれぞれ独立に、隣接するA3、A4及び隣接炭素原子と共同して塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R60、R61はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団であるか又は互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。 In formula (V), A 3 and A 4 each independently represent —S— or —NR 62 — or —NR 63 —, wherein R 62 and R 63 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or Represents an unsubstituted aryl group, and L 5 and L 6 each independently represent a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus together with adjacent A 3 , A 4, and adjacent carbon atoms, R 60 , R Each 61 is independently a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, or can be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

式(VI)中、R66は置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、A5は酸素原子、硫黄原子又はNR67を表す。R64、R65及びR67はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、R67とR64、及び、R65とR67はそれぞれ互いに脂肪族性又は芳香族性の環を形成するため結合することができる。 In the formula (VI), R 66 represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, and A 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom or NR 67 . R 64 , R 65 and R 67 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and R 67 and R 64 , and R 65 and R 67 are each an aliphatic or aromatic ring. Can be combined to form

式(II)〜(VI)で表される化合物の好ましい具体例としては、以下に示すものが挙げられる。なお、下記具体例におけるPhは、フェニル基を表し、Meはメチル基を表す。   Preferable specific examples of the compounds represented by formulas (II) to (VI) include those shown below. In the specific examples below, Ph represents a phenyl group, and Me represents a methyl group.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

Figure 2009209248
Figure 2009209248

<共増感剤>
本発明のコーティング組成物は、共増感剤を含有することもできる。
本発明において共増感剤は、増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、又は、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばM.R.Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−20189号公報、特開昭51−82102号公報、特開昭52−134692号公報、特開昭59−138205号公報、特開昭60−84305号公報、特開昭62−18537号公報、特開昭64−33104号公報、Research Disclosure 33825号記載の化合物等が挙げられる。
具体的には、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチオジメチルアニリン等が例示できる。
<Co-sensitizer>
The coating composition of the present invention can also contain a co-sensitizer.
In the present invention, the co-sensitizer has functions such as further improving the sensitivity of the sensitizer to actinic radiation or suppressing polymerization inhibition of the polymerizable compound by oxygen.
Examples of such cosensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, Japanese Patent Publication No. 59-138205. And JP-A-60-84305, JP-A-62-18537, JP-A-64-33104, Research Disclosure 33825, and the like.
Specific examples include triethanolamine, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like.

共増感剤の別の例としてはチオール及びスルフィド類、例えば、特開昭53−702号公報、特表昭55−500806号公報、特開平5−142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56−75643号公報記載のジスルフィド化合物等が挙げられる。
具体的には、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が例示できる。
Other examples of co-sensitizers include thiols and sulfides such as thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-A-55-500806, and JP-A-5-142277, Examples thereof include disulfide compounds described in JP-A-56-75643.
Specific examples include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β-mercaptonaphthalene and the like.

また別の例としては、アミノ酸化合物(例えば、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−42965号公報記載の有機金属化合物(例えば、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55−34414号公報記載の水素供与体、特開平6−308727号公報記載のイオウ化合物(例えば、トリチアン等)、特開平6−250387号公報記載のリン化合物(例えば、ジエチルホスファイト等)、特開平8−54735号公報記載のSi−H、Ge−H化合物等が挙げられる。   Other examples include amino acid compounds (for example, N-phenylglycine), organometallic compounds described in Japanese Patent Publication No. 48-42965 (for example, tributyltin acetate), and hydrogen described in Japanese Patent Publication No. 55-34414. Donors, sulfur compounds described in JP-A-6-308727 (for example, trithiane), phosphorus compounds described in JP-A-6-250387 (for example, diethyl phosphite), and JP-A-8-54735 Examples thereof include Si—H and Ge—H compounds.

<界面活性剤>
本発明のコーティング組成物は、界面活性剤を含有していてもよい。
界面活性剤としては、特開昭62−173463号、同62−183457号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。また、前記界面活性剤として有機フルオロ化合物やポリシロキサン化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物(例、フッ素油)及び固体状フッ素化合物樹脂(例、四フッ化エチレン樹脂)が含まれ、特公昭57−9053号(第8〜17欄)、特開昭62−135826号の各公報に記載されたものが挙げられる。これらの中でも、界面活性剤としては、ポリジメチルシロキサン化合物が好ましく例示できる。
これらの界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種類以上を併用してもよい。
<Surfactant>
The coating composition of the present invention may contain a surfactant.
Examples of the surfactant include those described in JP-A Nos. 62-173463 and 62-183457. For example, anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene blocks Nonionic surfactants such as copolymers, and cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts. Further, an organic fluoro compound or a polysiloxane compound may be used as the surfactant. The organic fluoro compound is preferably hydrophobic. Examples of the organic fluoro compounds include fluorine surfactants, oily fluorine compounds (eg, fluorine oil) and solid fluorine compound resins (eg, tetrafluoroethylene resin). No. (columns 8 to 17) and those described in JP-A Nos. 62-135826. Among these, as the surfactant, a polydimethylsiloxane compound can be preferably exemplified.
These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

<その他の成分>
本発明のコーティング組成物には、必要に応じて、他の成分を添加することができる。その他の成分としては、例えば、重合禁止剤、溶剤、無機粒子、有機粒子等が挙げられる。
重合禁止剤は、保存性を高める観点から添加され得る。重合禁止剤は、本発明のコーティング組成物全量に対し、200〜20,000ppm添加することが好ましい。
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ベンゾキノン、p−メトキシフェノール、TEMPO、TEMPOL、クペロンAl等が挙げられる。
アエロジル(デグサ社製二酸化ケイ素粒子)のような無機粒子や、架橋したポリメチルメタクリレート(PMMA)のような有機粒子を本発明のコーティング組成物に添加して、意図的に表面光沢を下げたオーバープリント層又はオーバープリントを形成することができる。
<Other ingredients>
If necessary, other components can be added to the coating composition of the present invention. Examples of other components include a polymerization inhibitor, a solvent, inorganic particles, and organic particles.
A polymerization inhibitor may be added from the viewpoint of enhancing the storage stability. The polymerization inhibitor is preferably added in an amount of 200 to 20,000 ppm based on the total amount of the coating composition of the present invention.
Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, benzoquinone, p-methoxyphenol, TEMPO, TEMPOL, and cuperon Al.
Inorganic particles such as Aerosil (Degussa silicon dioxide particles) and organic particles such as crosslinked polymethylmethacrylate (PMMA) are added to the coating composition of the present invention to intentionally reduce the surface gloss. A print layer or overprint can be formed.

本発明のコーティング組成物が放射線硬化性コーティング組成物であることに鑑み、塗布後に速やかに反応しかつ硬化し得るよう、本発明のコーティング組成物は溶剤を含まないことが好ましい。しかし、コーティング組成物の硬化速度等に影響がない限り、所定の溶剤を含めることができる。
本発明において、溶剤としては、有機溶剤が使用でき、硬化速度の観点から水は実質的に添加しないことが好ましい。有機溶剤は、印刷基材(紙などの受像基材)との密着性を改良するために添加され得る。
有機溶剤を使用する場合も、その量は少ないほど好ましく、本発明のコーティング組成物全体の重量に対し、0.1〜5重量%であることが好ましく、0.1〜3重量%であることがより好ましい。
In view of the fact that the coating composition of the present invention is a radiation curable coating composition, it is preferable that the coating composition of the present invention does not contain a solvent so that it can react quickly and be cured after application. However, a predetermined solvent can be included as long as the curing rate of the coating composition is not affected.
In the present invention, an organic solvent can be used as the solvent, and it is preferable that water is not substantially added from the viewpoint of curing speed. An organic solvent can be added to improve adhesion to a printing substrate (image receiving substrate such as paper).
When using an organic solvent, the amount is preferably as small as possible, preferably 0.1 to 5% by weight, and preferably 0.1 to 3% by weight, based on the total weight of the coating composition of the present invention. Is more preferable.

この他に、必要に応じて公知の化合物を本発明のコーティング組成物に添加することができる。
例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類等を適宜選択して添加することができる。
In addition, known compounds can be added to the coating composition of the present invention as necessary.
For example, leveling additives, matting agents, polyester resins for adjusting film properties, polyurethane resins, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins, waxes, and the like can be appropriately selected and added.

また、ポリオレフィンやポリエチレンテレフタレート(PET)等の印刷基材への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤー(粘着付与剤)を含有させることも好ましい。具体的には、特開2001−49200号公報の5〜6頁に記載されている高分子量の粘着性ポリマー(例えば、(メタ)アクリル酸と炭素数1〜20のアルキル基を有するアルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数3〜14の脂環族アルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数6〜14の芳香族アルコールとのエステルからなる共重合物)や、エチレン性不飽和基を有する低分子量粘着付与性樹脂などが挙げられる。   Moreover, in order to improve the adhesiveness to printing base materials, such as polyolefin and a polyethylene terephthalate (PET), it is also preferable to contain the tackifier (tackifier) which does not inhibit superposition | polymerization. Specifically, a high molecular weight adhesive polymer described in JP-A-2001-49200, pages 5 to 6 (for example, (meth) acrylic acid and an alcohol having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). Esters, copolymers of (meth) acrylic acid and C3-14 alicyclic alcohols, copolymers of (meth) acrylic acid and C6-14 aromatic alcohols), ethylenic And low molecular weight tackifying resins having an unsaturated group.

<光硬化性コーティング組成物の性質>
本発明の光硬化性コーティング組成物における好ましい物性について説明する。
光硬化性コーティング組成物として使用する場合には、塗布性を考慮し、25〜30℃における粘度が、5〜100mPa・sであることが好ましく、7〜75mPa・sであることがより好ましい。
本発明の光硬化性コーティング組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。
25℃〜30℃における粘度を上記の値に設定することにより、非タック性に優れ(表面ベトツキがなく)、表面平滑性に優れたオーバープリント層を有するオーバープリントが得られる。
本発明の光硬化性コーティング組成物の表面張力は、16〜40mN/mであることが好ましく、18〜35mN/mであることがより好ましい。
<Properties of photocurable coating composition>
The preferred physical properties of the photocurable coating composition of the present invention will be described.
When used as a photocurable coating composition, the viscosity at 25 to 30 ° C. is preferably 5 to 100 mPa · s, more preferably 7 to 75 mPa · s in consideration of applicability.
It is preferable that the composition ratio of the photocurable coating composition of the present invention is appropriately adjusted so that the viscosity is in the above range.
By setting the viscosity at 25 ° C. to 30 ° C. to the above value, an overprint having an overprint layer excellent in non-tackiness (no surface stickiness) and excellent in surface smoothness can be obtained.
The surface tension of the photocurable coating composition of the present invention is preferably 16 to 40 mN / m, and more preferably 18 to 35 mN / m.

<オーバープリント及びその製造方法>
本発明のオーバープリントは、印刷物上に本発明のコーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有する。
前記オーバープリントとは、電子写真印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、平版印刷、凹版印刷又は凸版印刷等の印刷方法により得られた印刷物の表面上に、少なくとも1層のオーバープリント層を形成したものである。
本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層は、印刷物の一部に形成しても、印刷物の表面全体に形成してもよく、また、両面印刷物の場合には印刷基材の両方側全面に形成することが好ましい。また、前記オーバープリント層は、印刷物における印刷されていない部分に形成してもよいことは言うまでもない。
本発明のオーバープリントに使用する印刷物は、電子写真印刷物であることが好ましい。電子写真印刷物上に本発明のコーティング組成物の硬化層であるオーバープリント層を形成することにより、非タック性、表面平滑性、光沢性に優れ、視覚的に銀塩写真プリントに類似したオーバープリントを得ることができる。
また、本発明のオーバープリントは、非タック性に優れるため、複数作製した本発明のオーバープリントを重ねて長期間保存しても、オーバープリント同士が張り付いたりせず、保管性に優れる。
本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層の厚みは、1〜10μmであることが好ましく、3〜6μmであることがより好ましい。
<Overprint and manufacturing method thereof>
The overprint of the present invention has an overprint layer obtained by photocuring the coating composition of the present invention on a printed material.
The overprint forms at least one overprint layer on the surface of a printed material obtained by a printing method such as electrophotographic printing, inkjet printing, screen printing, flexographic printing, planographic printing, intaglio printing, or relief printing. It is what.
The overprint layer in the overprint of the present invention may be formed on a part of the printed matter or on the entire surface of the printed matter. In the case of a double-sided printed matter, it is formed on the entire surface of both sides of the printing substrate. It is preferable. Needless to say, the overprint layer may be formed in a non-printed portion of the printed material.
The printed material used for the overprint of the present invention is preferably an electrophotographic printed material. By forming an overprint layer, which is a cured layer of the coating composition of the present invention, on an electrophotographic printed matter, it is excellent in non-tackiness, surface smoothness and gloss, and visually similar to a silver salt photographic print. Can be obtained.
Further, since the overprint of the present invention is excellent in non-tackiness, even if a plurality of overprints of the present invention are stacked and stored for a long period of time, the overprints do not stick to each other and are excellent in storability.
The thickness of the overprint layer in the overprint of the present invention is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 3 to 6 μm.

本発明のオーバープリントの製造方法は、印刷基材上に印刷して印刷物を得る工程、前記印刷物上に本発明の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含むことが好ましい。
また、本発明のオーバープリントの製造方法は、潜像担持体の上に静電潜像を発生させる工程と、前記静電潜像をトナーにより現像する工程と、現像された静電画像を印刷基材へ転写させ電子写真印刷物を得る工程と、前記電子写真印刷物上に本発明の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程とを含むことがより好ましい。
前記印刷基材としては、特に制限はなく、公知のものを使用することができるが、受像用紙であることが好ましく、普通紙又はコート紙であることがより好ましく、コート紙であることがさらに好ましい。コート紙としては、両面コート紙が、フルカラー画像を美しく両面印刷できるので好ましい。印刷基材が紙又は両面コート紙である場合、好ましい坪量は20〜200g/m2であり、より好ましい坪量は40〜160g/m2である。
The overprint production method of the present invention includes a step of printing on a printing substrate to obtain a printed material, a step of applying the photocurable coating composition of the present invention on the printed material, and the photocurable coating composition. It is preferable to include a step of photocuring.
The overprint manufacturing method of the present invention includes a step of generating an electrostatic latent image on a latent image carrier, a step of developing the electrostatic latent image with toner, and printing the developed electrostatic image. A step of transferring to a substrate to obtain an electrophotographic printed material, a step of applying the photocurable coating composition of the present invention on the electrophotographic printed material, and a step of photocuring the photocurable coating composition. It is more preferable.
The printing substrate is not particularly limited, and known materials can be used. However, image receiving paper is preferable, plain paper or coated paper is more preferable, and coated paper is further used. preferable. As the coated paper, a double-sided coated paper is preferable because a full color image can be printed on both sides beautifully. When the printing substrate is paper or double-side coated paper, the preferred basis weight is 20 to 200 g / m 2 , and the more preferred basis weight is 40 to 160 g / m 2 .

電子写真法における画像を現像させるための方法に特に制限はなく、当業者には公知の方法から任意に選択することができる。例えば、カスケード法、タッチダウン法、パウダー・クラウド(powder cloud)法、磁気ブラシ法などが挙げられる。
また、現像された画像を印刷基材に転写させるための方法としては、コロトロン又はバイアスロールを使用する方法が例示できる。
電子写真法における画像を定着させるための定着工程(fixing step)は、各種適切な方法により実施することができる。例えば、フラッシュ定着、加熱定着、加圧定着、蒸気定着(vapor fusing)などが挙げられる。
電子写真法による画像形成方法、装置及びシステムとしては、特に制限はないが、公知のものを使用することができる。具体的には、以下の米国特許明細書に記載されているようなものである。
米国特許第4,585,884号明細書、米国特許第4,584,253号明細書、米国特許第4,563,408号明細書、米国特許第4,265,990号明細書、米国特許第6,180,308号明細書、米国特許第6,212,347号明細書、米国特許第6,187,499号明細書、米国特許第5,966,570号明細書、米国特許第5,627,002号明細書、米国特許第5,366,840号明細書;米国特許第5,346,795号明細書、米国特許第5,223,368号明細書、及び、米国特許第5,826,147号明細書。
The method for developing an image in electrophotography is not particularly limited, and can be arbitrarily selected from methods known to those skilled in the art. For example, a cascade method, a touchdown method, a powder cloud method, a magnetic brush method, and the like can be given.
Examples of a method for transferring the developed image to the printing substrate include a method using a corotron or a bias roll.
A fixing step for fixing an image in the electrophotographic method can be performed by various appropriate methods. Examples thereof include flash fixing, heat fixing, pressure fixing, and vapor fixing.
The image forming method, apparatus, and system by electrophotography are not particularly limited, and known ones can be used. Specifically, it is as described in the following US patent specifications.
US Pat. No. 4,585,884, US Pat. No. 4,584,253, US Pat. No. 4,563,408, US Pat. No. 4,265,990, US Pat. US Pat. No. 6,180,308, US Pat. No. 6,212,347, US Pat. No. 6,187,499, US Pat. No. 5,966,570, US Pat. No. 5,627,002, US Pat. No. 5,366,840; US Pat. No. 5,346,795, US Pat. No. 5,223,368, and US Pat. 826, 147 specification.

光硬化性コーティング組成物を塗布するためには、通常使用される液膜コーティング装置(liquid film coating device)を使用することができる。具体的には、ロールコーター、ロッドコーター、ブレード、ワイヤバー、浸漬(dips)、エアナイフ、カーテンコーター、スライドコーター、ドクターナイフ、スクリーンコーター、グラビアコーター、オフセットグラビアコーター、スロットコーター、及び、押出しコーターなどが例示できる。それらの装置は、通常と同じようにして使用することができるが、例えば、ダイレクトロールコーティング及びリバースロールコーティング(direct and reverse roll coating)、ブランケットコーティング(blanket coating)、ダンプナーコーティング(dampner coating)、カーテンコーティング、平版コーティング、スクリーンコーティング、及び、グラビアコーティングなどがある。好ましい実施の態様においては、本発明のコーティング組成物の塗布及び硬化は、2台又は3台のロールコーターとUV硬化ステーションを使用して実施する。
また、本発明のコーティング組成物の塗設時や硬化時においては、必要に応じ、加熱を行ってもよい。
本発明のコーティング組成物の塗布量の典型的なレベルは、単位面積当たりの重量で表して、1g/m2〜10g/m2の範囲であることが好ましく、3g/m2〜6g/m2であることがより好ましい。
また、本発明のオーバープリントにおけるオーバープリント層の形成量は、単位面積当たり、1g/m2〜10g/m2の範囲であることが好ましく、3g/m2〜6g/m2であることがより好ましい。
In order to apply the photocurable coating composition, a commonly used liquid film coating device can be used. Specifically, roll coaters, rod coaters, blades, wire bars, dipping, air knives, curtain coaters, slide coaters, doctor knives, screen coaters, gravure coaters, offset gravure coaters, slot coaters, extrusion coaters, etc. It can be illustrated. These devices can be used in the same way as usual, but for example, direct and reverse roll coating, blanket coating, dampner coating, There are curtain coating, lithographic coating, screen coating, and gravure coating. In a preferred embodiment, the coating composition of the present invention is applied and cured using two or three roll coaters and a UV curing station.
Moreover, you may heat as needed at the time of application | coating and hardening of the coating composition of this invention.
Typical levels of coating weight of the coating composition of the present invention, a weight per unit area is preferably in the range of 1g / m 2 ~10g / m 2 , 3g / m 2 ~6g / m 2 is more preferable.
The formation amount of the overprint layer in the overprint of the present invention, per unit area, it is preferably in the range of 1g / m 2 ~10g / m 2 , is 3g / m 2 ~6g / m 2 More preferred.

本発明のコーティング組成物に含まれる重合性化合物の重合を開始させるために使用するエネルギー源としては、例えば、スペクトルの紫外線又は可視光線の波長を有する放射線のような、化学線作用のある(actinic)もの(活性放射線)が挙げられる。活性放射線の照射による重合は、重合の開始及び重合速度の調節に優れる。
好適な活性放射線照射源としては、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、タングステンフィラメントランプ、レーザー、太陽光などが挙げられる。
The energy source used to initiate the polymerization of the polymerizable compound contained in the coating composition of the present invention may be actinic, for example, radiation having a spectral ultraviolet or visible wavelength. ) (Active radiation). Polymerization by irradiation with actinic radiation is excellent in initiating polymerization and adjusting the polymerization rate.
Suitable actinic radiation irradiation sources include, for example, mercury lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, tungsten filament lamps, lasers, sunlight, and the like.

紫外線照射(UV光照射)の下で、高速コンベヤ(好ましくは、20〜70m/分)を用いた中圧(medium pressure)水銀ランプによる照射が好ましく、その場合UV光照射は、波長200〜500nmで、1秒未満の間与えることが好ましい。高速コンベヤの速度を15〜35m/分とし、波長200〜450nmのUV光を10〜50ミリ秒(ms)間照射するのがより好ましい。UV光源の発光スペクトルは通常、UV重合開始剤の吸収スペクトルと重なっている。場合によっては使用される硬化装置(curing equipment)としては、UV光を焦点に集めたり拡散させたりする反射板や、UV光源により発生する熱を除去するための冷却システムなどがあるが、これらに限定される訳ではない。   Under ultraviolet irradiation (UV light irradiation), irradiation with a medium pressure mercury lamp using a high-speed conveyor (preferably 20 to 70 m / min) is preferable, in which case UV light irradiation has a wavelength of 200 to 500 nm. And preferably for less than 1 second. More preferably, the speed of the high-speed conveyor is 15 to 35 m / min, and UV light having a wavelength of 200 to 450 nm is irradiated for 10 to 50 milliseconds (ms). The emission spectrum of the UV light source usually overlaps with the absorption spectrum of the UV polymerization initiator. Curing equipment used in some cases includes a reflector that collects and diffuses UV light, and a cooling system for removing heat generated by the UV light source. It is not limited.

<光硬化性コーティング組成物を硬化させた硬化物の性質>
本発明の光硬化性コーティング組成物を光照射(好ましくは紫外線照射(UV光照射))により硬化させた硬化物は、可視域に実質的に吸収を有しないことが好ましい。「可視域に実質的に吸収を有しない」とは、400〜700nmの可視域に吸収を有しないか、又は、光硬化性コーティングとして支障のない程度の吸収しか可視域に吸収を有しないことを意味する。具体的には、コーティング組成物の5μm光路長の透過率が、400〜700nmの波長範囲において、70%以上、好ましくは80%以上であることを意味する。
<Properties of cured product obtained by curing photocurable coating composition>
The cured product obtained by curing the photocurable coating composition of the present invention by light irradiation (preferably ultraviolet irradiation (UV light irradiation)) preferably has substantially no absorption in the visible region. “Substantially no absorption in the visible range” means that there is no absorption in the visible range of 400 to 700 nm, or that there is no absorption in the visible range to the extent that there is no problem as a photocurable coating. Means. Specifically, it means that the 5 μm optical path length transmittance of the coating composition is 70% or more, preferably 80% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm.

以下実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例における形態に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the embodiments in these examples.

〔実施例1〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物1を得た。
FA−513A(日立化成工業(株)製) 25重量%
2−フェノキシエチルアクリレート(東京化成工業(株)) 25重量%
N−ビニルカプロラクタム(アルドリッチ社製) 20重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
化合物(SA−1) 13重量%
BYK−3510(BYK Chemie社製) 2重量%
[Example 1]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 1.
FA-513A (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 25% by weight
2-phenoxyethyl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 25% by weight
N-vinylcaprolactam (Aldrich) 20% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Compound (SA-1) 13% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

Figure 2009209248
Figure 2009209248

〔実施例2〜10〕
実施例2〜10は、実施例1の化合物(SA−1)を表1に記載の化合物に変えた以外は、実施例1と同様にして光硬化性オーバープリント組成物2〜10を得た。
[Examples 2 to 10]
In Examples 2 to 10, photocurable overprint compositions 2 to 10 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound (SA-1) of Example 1 was changed to the compounds described in Table 1. .

〔実施例11〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物11を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート(アルドリッチ社製) 30重量%
アクリル酸ラウリル(東京化成工業(株)) 10重量%
OTA−480(CYTEC SURFACE SPECIALTIES)30重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
化合物(SA−1) 13重量%
BYK−3510(BYK Chemie社製) 2重量%
Example 11
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 11.
30% by weight of tripropylene glycol diacrylate (manufactured by Aldrich)
Lauryl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10% by weight
OTA-480 (CYTEC SURFACE SPECIAL TIES) 30% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Compound (SA-1) 13% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

Figure 2009209248
Figure 2009209248

〔実施例12〜20〕
実施例12〜20は、実施例11の化合物(SA−1)を表1に記載の化合物に変えた以外は、実施例11と同様にして光硬化性オーバープリント組成物12〜20を得た。
[Examples 12 to 20]
In Examples 12 to 20, photocurable overprint compositions 12 to 20 were obtained in the same manner as in Example 11 except that the compound (SA-1) of Example 11 was changed to the compounds described in Table 1. .

〔実施例21〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物21を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート(アルドリッチ社製) 30重量%
NK Ester A−TMPT(新中村化学工業(株)) 10重量%
DPCA−60(日本化薬(株)) 10重量%
アクリル酸ラウリル(東京化成工業(株)) 20重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
化合物(SA−1) 13重量%
ポリジメチルシロキサン(アルドリッチ社製) 2重量%
Example 21
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 21.
30% by weight of tripropylene glycol diacrylate (manufactured by Aldrich)
NK Ester A-TMPT (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10% by weight
DPCA-60 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 10% by weight
Lauryl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 20% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Compound (SA-1) 13% by weight
Polydimethylsiloxane (Aldrich) 2% by weight

Figure 2009209248
Figure 2009209248

Figure 2009209248
Figure 2009209248

〔実施例22〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、光硬化性オーバープリント組成物22を得た。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(セロキサイド2021A:ダイセルユーシービー社製) 20重量%
3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン(OXT−221:東亞合成(株)製) 45重量%
3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン(OXT−211:東亞合成(株)製)
20重量%
化合物(SA−1) 13重量%
9,10−ジブトキシアントラセン 2重量%
実施例22の光硬化性オーバープリント組成物を用いても良好なコーティング物が得られた。
[Example 22]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 22.
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate (Celoxide 2021A: manufactured by Daicel UCB) 20% by weight
3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane (OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 45% by weight
3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane (OXT-211: manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
20% by weight
Compound (SA-1) 13% by weight
9,10-dibutoxyanthracene 2% by weight
Even when the photocurable overprint composition of Example 22 was used, a good coating was obtained.

〔比較例1〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物1を得た。
FA−513A(日立化成工業(株)) 25重量%
2−フェノキシエチルアクリレート(東京化成工業(株)) 25重量%
N−ビニルカプロラクタム(アルドリッチ社製) 20重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
比較化合物HS 13重量%
BYK−351(BYK Chemie社製) 2重量%
[Comparative Example 1]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 1 for comparison.
FA-513A (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd.) 25% by weight
2-phenoxyethyl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 25% by weight
N-vinylcaprolactam (Aldrich) 20% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Comparative compound HS 13% by weight
BYK-351 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

〔比較例2〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物2を得た。
FA−513A(日立化成工業(株)製) 25重量%
2−フェノキシエチルアクリレート(東京化成工業(株)製) 25重量%
N−ビニルカプロラクタム(アルドリッチ社製) 20重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
比較化合物HI 13重量%
BYK−3510(BYK Chemie社製) 2重量%
[Comparative Example 2]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 2 for comparison.
FA-513A (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 25% by weight
2-phenoxyethyl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 25% by weight
N-vinylcaprolactam (Aldrich) 20% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Comparative compound HI 13% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

Figure 2009209248
Figure 2009209248

〔比較例3〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物3を得た。
FA−513A(日立化成工業(株)製) 25重量%
2−フェノキシエチルアクリレート(東京化成工業(株)製) 25重量%
N−ビニルカプロラクタム(アルドリッチ社製) 20重量%
アクリル酸ヘキシル 23重量%
比較化合物HI 5重量%
BYK−3510(BYK Chemie社製) 2重量%
[Comparative Example 3]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 3 for comparison.
FA-513A (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 25% by weight
2-phenoxyethyl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 25% by weight
N-vinylcaprolactam (Aldrich) 20% by weight
23% by weight of hexyl acrylate
Comparative compound HI 5% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

〔比較例4〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物4を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート(アルドリッチ社製) 30重量%
アクリル酸ラウリル(東京化成工業(株)製) 10重量%
OTA−480(CYTEC SURFACE SPECIALTIES)30重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
比較化合物HS 13重量%
BYK−3510(BYK Chemie社製) 2重量%
[Comparative Example 4]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 4 for comparison.
30% by weight of tripropylene glycol diacrylate (manufactured by Aldrich)
Lauryl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10% by weight
OTA-480 (CYTEC SURFACE SPECIAL TIES) 30% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Comparative compound HS 13% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

〔比較例5〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物5を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート(アルドリッチ社製) 30重量%
アクリル酸ラウリル(東京化成工業(株)) 10重量%
OTA−480(CYTEC SURFACE SPECIALTIES)30重量%
アクリル酸ヘキシル 15重量%
比較化合物HI 13重量%
BYK−3510(BYK Chemie社製) 2重量%
[Comparative Example 5]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 5 for comparison.
30% by weight of tripropylene glycol diacrylate (manufactured by Aldrich)
Lauryl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10% by weight
OTA-480 (CYTEC SURFACE SPECIAL TIES) 30% by weight
Hexyl acrylate 15% by weight
Comparative compound HI 13% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

〔比較例6〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物6を得た。
トリプロピレングリコールジアクリレート(アルドリッチ) 30重量%
アクリル酸ラウリル(東京化成) 10重量%
OTA−480(CYTEC SURFACE SPECIALTIES)30重量%
アクリル酸ヘキシル 23重量%
比較化合物HI 5重量%
BYK−3510 (BYK Chemie社製) 2重量%
[Comparative Example 6]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a photocurable overprint composition 6 for comparison.
30% by weight of tripropylene glycol diacrylate (Aldrich)
Lauryl acrylate (Tokyo Kasei) 10% by weight
OTA-480 (CYTEC SURFACE SPECIAL TIES) 30% by weight
23% by weight of hexyl acrylate
Comparative compound HI 5% by weight
BYK-3510 (manufactured by BYK Chemie) 2% by weight

〔比較例7〕
以下の成分を撹拌機により撹拌し、比較用光硬化性オーバープリント組成物7を得た。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(セロキサイド2021A:ダイセルユーシービー社製) 20重量%
3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン(OXT−221:東亞合成(株)製) 45重量%
3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン(OXT−211:東亞合成(株)製)
20重量%
比較化合物HS 13重量%
9,10−ジブトキシアントラセン 2重量%
[Comparative Example 7]
The following components were stirred with a stirrer to obtain a comparative photocurable overprint composition 7.
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate (Celoxide 2021A: manufactured by Daicel UCB) 20% by weight
3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane (OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 45% by weight
3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane (OXT-211: manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
20% by weight
Comparative compound HS 13% by weight
9,10-dibutoxyanthracene 2% by weight

<性能評価>
得られた光硬化性オーバープリント組成物を用いて、以下の方法により性能評価した。結果を表1に示した。
<Performance evaluation>
Using the obtained photocurable overprint composition, the performance was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

<表面平滑性(レベリング性)評価>
富士ゼロックス(株)製デジタルプリンター(DC8000)で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、シナノケンシ(株)製UVニスコーター(SG610V)を用いて5g/m2の膜厚で片面にコーティングを行い、コーティングされた印刷物表面のタテスジ発生状態を目視にて評価した。評価基準を以下に示す。
◎:タテスジなし
○:少しタテスジが残る
×:著しくタテスジが見られる
<Evaluation of surface smoothness (leveling property)>
For electrophotographic prints output to double-side coated paper with a digital printer (DC8000) manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., coated on one side with a film thickness of 5 g / m 2 using a UV varnish coater (SG610V) manufactured by Shinano Kenshi Co., Ltd. This was visually evaluated for the occurrence of vertical stripes on the surface of the coated printed material. The evaluation criteria are shown below.
◎: No vertical stripes ○: A little vertical stripes remain ×: Remarkably vertical stripes are observed

<非タック性(表面ベトツキ抑制)評価>
富士ゼロックス(株)製デジタルプリンター(DC8000)で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、コーティング組成物が膜厚5g/m2となるように片面にバーコートで塗布を行い、得られた塗布膜に対して、浜松ホトニクス(株)製UVランプ(LC8)を用いて、1.0W/cm2の照度で120mJ/cm2露光を行い、オーバープリントのサンプルを作製した。露光後の非タック性を触感で評価した。評価基準を以下に示す。
◎:ベトツキなし
○:ほぼベトツキなし
×:ベトツキあり
<Non-tackiness (surface stickiness suppression) evaluation>
It is obtained by applying a bar coating on one side of the electrophotographic printed matter outputted on a double-side coated paper with a digital printer (DC8000) manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd. so that the coating composition has a film thickness of 5 g / m 2. The coated film was exposed to 120 mJ / cm 2 at an illuminance of 1.0 W / cm 2 using a UV lamp (LC8) manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., to prepare an overprint sample. The non-tackiness after exposure was evaluated by touch. The evaluation criteria are shown below.
◎: No stickiness ○: Almost no stickiness ×: With stickiness

<臭気評価>
富士ゼロックス(株)製デジタルプリンター(DC8000)で両面コート紙に出力した電子写真印刷物に対して、コーティング組成物が膜厚5g/m2となるように片面にシナノケンシ(株)製UVニスコーター(SG610V)を用いてコーティングを行なった後に1時間放置した印刷物について、臭気を嗅いで官能評価を行ない、下記の基準に従って臭気のレベルを評価した。
<Odor evaluation>
A varnish coater manufactured by Shinano Kenshi Co., Ltd. (SG610V) on one side of the electrophotographic printed material outputted on a double-side coated paper with a digital printer (DC8000) manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd. so that the coating composition has a film thickness of 5 g / m 2. ), The sensory evaluation was performed by smelling the odor and the odor level was evaluated according to the following criteria.

専門パネラー8人で下記評価基準(評価点)で評価した。
評価基準(評価点):
5(点):8人中8人が臭気低減効果を認めた。
4(点):8人中6〜7人が臭気低減効果を認めた。
3(点):8人中4〜5人が臭気低減効果を認めた。
2(点):8人中1〜3人が臭気低減効果を認めた。
1(点):臭気低減効果が認められなかった。
尚、評価点が4点以上の場合、実用使用上問題がないと考えられる。
Evaluated by the following evaluation criteria (evaluation points) with 8 expert panelists.
Evaluation criteria (evaluation points):
5 (points): Eight out of eight people recognized the effect of reducing odor.
4 (points): 6 to 7 out of 8 people recognized the effect of reducing odor.
3 (points): 4 to 5 out of 8 people recognized the effect of reducing odor.
2 (points): 1 to 3 out of 8 people recognized the effect of reducing odor.
1 (point): No odor reduction effect was observed.
In addition, when an evaluation score is 4 points or more, it is thought that there is no problem in practical use.

Figure 2009209248
Figure 2009209248

〔実施例23〕
A4サイズの両面コート紙(坪量100g/m2)上の両面に各数コマずつのフルカラー画像を電子写真印刷した22枚の印刷物を作製し、その印刷物の両面に、前記の実施例1〜22にて作製した光硬化性コーティング組成物をそれぞれ、実施例1と同様の方法で、5g/m2の塗布量になるように塗布した後、紫外線を照射してオーバープリントを作製した。これらを製本して表紙と共に写真アルバムとしたところ、銀塩写真プリントと同様の視認性が得られる写真アルバムが得られた。
Example 23
Twenty-two printed materials were produced by electrophotographic printing full color images of several frames each on both sides of an A4 size double-side coated paper (basis weight 100 g / m 2 ). Each of the photocurable coating compositions prepared in 22 was applied in the same manner as in Example 1 so that the coating amount was 5 g / m 2 , and then irradiated with ultraviolet rays to prepare overprints. When these were bound and used as a photo album together with the cover, a photo album with the same visibility as a silver halide photo print was obtained.

〔実施例24〕
A3サイズの両面コート紙(坪量100g/m2)22枚の両面に献立写真を含むフルカラー画像とテキストを電子写真印刷した。これらの印刷物の両面に、前記の実施例1〜22にて作製した光硬化性コーティング組成物をそれぞれ、実施例1と同様の方法で、片面5g/m2の塗布量になるように塗布した後、紫外線を照射して両面オーバープリントを作製した。これらを綴じてレストランメニューとしたところ、銀塩写真プリントと同様の視認性が得られるレストランメニューが得られた。
Example 24
A full color image including a menu photo and text were electrophotographic printed on both sides of 22 sheets of A3 size double side coated paper (basis weight 100 g / m 2 ). The photocurable coating compositions prepared in Examples 1 to 22 were applied to both sides of these printed materials in the same manner as in Example 1 so that the coating amount was 5 g / m 2 on one side. Thereafter, ultraviolet light was irradiated to prepare a double-sided overprint. When these were bound into a restaurant menu, a restaurant menu was obtained that had the same visibility as a silver halide photographic print.

Claims (10)

2価以上のアニオンを含むオニウム塩、及び、
重合性化合物、を含むことを特徴とする
光硬化性コーティング組成物。
An onium salt containing a divalent or higher anion, and
A photocurable coating composition comprising a polymerizable compound.
可視域に実質的に吸収を有しない、請求項1に記載の光硬化性コーティング組成物。   The photocurable coating composition of claim 1 having substantially no absorption in the visible range. 前記オニウム塩が、スルホニウム塩及び/又はヨードニウム塩である、請求項1又は2に記載の光硬化性コーティング組成物。   The photocurable coating composition according to claim 1 or 2, wherein the onium salt is a sulfonium salt and / or an iodonium salt. オーバープリント用である、請求項1〜3いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物。   The photocurable coating composition according to any one of claims 1 to 3, which is used for overprinting. 電子写真印刷物のオーバープリント用である、請求項1〜4いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物。   The photocurable coating composition according to any one of claims 1 to 4, which is used for overprinting an electrophotographic printed material. 印刷物上に請求項1〜5いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物を光硬化したオーバープリント層を有するオーバープリント。   The overprint which has the overprint layer which photocured the photocurable coating composition of any one of Claims 1-5 on printed matter. 前記オーバープリント層の厚みが1〜10μmである、請求項6に記載のオーバープリント。   The overprint according to claim 6, wherein the overprint layer has a thickness of 1 to 10 μm. 前記印刷物が電子写真印刷物である、請求項6又は7に記載のオーバープリント。   The overprint according to claim 6 or 7, wherein the printed matter is an electrophotographic printed matter. 印刷基材上に印刷して印刷物を得る工程、
前記印刷物上に請求項1〜5いずれか1つに記載の光硬化性コーティング組成物を塗布する工程、及び、
前記光硬化性コーティング組成物を光硬化する工程、を含む
オーバープリントの製造方法。
Printing on a printing substrate to obtain a printed matter,
Applying the photocurable coating composition according to any one of claims 1 to 5 on the printed matter; and
A step of photocuring the photocurable coating composition.
前記印刷物が電子写真印刷物である、請求項9に記載のオーバープリントの製造方法。   The overprint manufacturing method according to claim 9, wherein the printed material is an electrophotographic printed material.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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TWI681948B (en) * 2017-06-14 2020-01-11 日商信越化學工業股份有限公司 Resist composition and patterning process
WO2021200178A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 富士フイルム株式会社 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, photomask, electronic device manufacturing method, and compound

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013140969A1 (en) * 2012-03-19 2015-08-03 Jsr株式会社 Photoresist composition, compound and method for producing the same
TWI681948B (en) * 2017-06-14 2020-01-11 日商信越化學工業股份有限公司 Resist composition and patterning process
WO2021200178A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 富士フイルム株式会社 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, photomask, electronic device manufacturing method, and compound
JPWO2021200178A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07
JP7358627B2 (en) 2020-03-31 2023-10-10 富士フイルム株式会社 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, photomask, electronic device manufacturing method, and compound

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