JP2009202587A - Gas-barrier film excellent in weatherability - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a weather-resistant, gas-barrier film which maintains a high peel strength and excellent gas-barrier properties at high temperature and high humidity in an ultraviolet-irradiated environment. <P>SOLUTION: The gas-barrier film has a base film, a weather-resistant coating layer formed on at least one side of the base film, and a thin inorganic film formed on the surface of the coat layer. The weather-resistant coating layer is produced by crosslinking polycaprolactone polyol of a main component and/or a polycarbonate polyol. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガスバリア性フィルムに係り、特に耐候性に優れたガスバリア性フィルムに関する。   The present invention relates to a gas barrier film, and more particularly to a gas barrier film having excellent weather resistance.

従来より、プラスチックフィルムを基材とし、その表面に酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の無機薄膜を形成したガスバリア性フィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、例えば、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装に広く利用されている。また、このガスバリア性フィルムについては、包装用途以外にも、近年、液晶表示素子、太陽電池、電磁波シールド、タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子、有機TFT、有機半導体センサー、有機発光デバイス等の有機デバイス、電子ペーパー、フィルムコンデンサー、無機EL素子、カラーフィルター等で使用する基材フィルムや真空断熱材としての新しい用途にも注目されている。これらの用途では、より厳しい性能が求められ、例えば高温高湿や、紫外線照射などの環境下においてもガスバリア性を保持することが必要である。特に屋外で使用される太陽電池用のフィルム等では紫外線による性能低下の少ない極めて耐候性に優れたガスバリア性フィルムが要望されている。
このような無機薄膜を形成してなるガスバリア性フィルムには、無機薄膜の基材フィルムからの剥離、欠損により生ずるガスバリア性の低下を抑止するため、基材フィルムに表面処理を施し、無機薄膜の密着性向上が行われる。表面処理方法の例としては、コロナ処理、プラズマ処理、コート処理等があり、中でもコート処理は、無機薄膜の密着性向上のほか、基材フィルムからのブリードアウトの抑止効果も得られることから有用である。
しかしながら、基材フィルムにコート処理を施し無機薄膜を形成したガスバリア性フィルムは、耐候性についてはコート層に最も弱さが現れる。
Conventionally, a gas barrier film having a plastic film as a base material and an inorganic thin film of silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide or the like formed on the surface thereof is used for packaging articles that require blocking of various gases such as water vapor and oxygen, For example, it is widely used for packaging for preventing the deterioration of food, industrial products, pharmaceuticals, and the like. In addition to packaging applications, these gas barrier films have recently been used in organic materials such as liquid crystal display elements, solar cells, electromagnetic wave shields, touch panels, organic electroluminescence (EL) elements, organic TFTs, organic semiconductor sensors, and organic light emitting devices. Attention has also been focused on new applications such as substrate films and vacuum heat insulating materials used in devices, electronic paper, film capacitors, inorganic EL elements, color filters, and the like. In these applications, more stringent performance is required, and it is necessary to maintain gas barrier properties even in an environment such as high temperature and high humidity or ultraviolet irradiation. Particularly for films for solar cells used outdoors, there is a demand for a gas barrier film that is extremely excellent in weather resistance with little performance degradation due to ultraviolet rays.
The gas barrier film formed by forming such an inorganic thin film is subjected to a surface treatment on the base film in order to suppress degradation of the gas barrier property caused by peeling or chipping of the inorganic thin film from the base film. Adhesion is improved. Examples of surface treatment methods include corona treatment, plasma treatment, coating treatment, etc. Among them, the coating treatment is useful because it can improve the adhesion of the inorganic thin film and also suppress the bleeding out from the base film. It is.
However, the gas barrier film in which the base film is coated to form an inorganic thin film exhibits the weakest strength in the coating layer with respect to weather resistance.

従来、ガスバリア性フィルムの基材フィルムへのコート処理としては、ポリエステルとイソシアネートの架橋反応物のコート(特許文献1)、塩素含有樹脂を含むアンカーコート(特許文献2)、紫外線カット剤を用いたコート層等が開示されている。しかしながら、ポリエステルとイソシアネートの架橋反応物のコートは、高温高湿下においてエステル基が加水分解して本来必要な密着性が著しく低下し、引いてはガスバリア性が低下するため不適応であった。また、塩素含有樹脂を含むアンカーコートは、環境負荷の点で使用が好ましくなく、且つ飽和ポリエステルを配合しないとガスバリア性も不足し、その飽和ポリエステルは高温高湿下で加水分解してしまうという問題があった。   Conventionally, as a coating treatment on a base film of a gas barrier film, a polyester-isocyanate cross-linking reaction coat (Patent Document 1), an anchor coat containing a chlorine-containing resin (Patent Document 2), and an ultraviolet light blocking agent were used. A coat layer and the like are disclosed. However, the coating of the cross-linked reaction product of polyester and isocyanate is not suitable because the ester group is hydrolyzed under high temperature and high humidity, and the necessary adhesion is remarkably lowered, and the gas barrier property is lowered. In addition, the anchor coat containing a chlorine-containing resin is not preferable in terms of environmental load, and if the saturated polyester is not blended, the gas barrier property is insufficient, and the saturated polyester is hydrolyzed under high temperature and high humidity. was there.

特公平6−22976号公報Japanese Patent Publication No. 6-22976 特開平10−76593号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-76593

本発明は、高温高湿下や紫外線照射環境下において、高い剥離強度及び優れたガスバリア性を維持することができる耐候性ガスバリア性フィルムに関する。   The present invention relates to a weather-resistant gas barrier film that can maintain high peel strength and excellent gas barrier properties under high temperature and high humidity and in an ultraviolet irradiation environment.

すなわち、本発明は、
(1)基材フィルム、その少なくとも一方の面に形成された耐候性コート層、及び該コート層面に形成された無機薄膜層を有するガスバリア性フィルムであって、該耐候性コート層が、主成分であるポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールを架橋させてなるガスバリア性フィルム。
(2)耐候性コート層が、ポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールをイソシアネート化合物及び/又はエポキシ化合物で架橋させてなる上記(1)記載のガスバリア性フィルム。
(3)無機薄膜層が少なくとも2層以上の無機薄膜からなる、上記(1)又は(2)記載のガスバリア性フィルム。
(4)基材フィルムが、ポリエチレンナフタレートを含む二軸延伸フィルムである、上記(1)〜(3)のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。
That is, the present invention
(1) A gas barrier film having a base film, a weather-resistant coating layer formed on at least one surface thereof, and an inorganic thin film layer formed on the surface of the coating layer, the weather-resistant coating layer being a main component A gas barrier film obtained by crosslinking polycaprolactone polyol and / or polycarbonate polyol.
(2) The gas barrier film according to (1) above, wherein the weather-resistant coating layer is obtained by crosslinking polycaprolactone polyol and / or polycarbonate polyol with an isocyanate compound and / or an epoxy compound.
(3) The gas barrier film according to the above (1) or (2), wherein the inorganic thin film layer comprises at least two inorganic thin films.
(4) The gas barrier film according to any one of (1) to (3), wherein the base film is a biaxially stretched film containing polyethylene naphthalate.

本発明により、高温高湿下や紫外線照射環境下において、高い剥離強度及び優れたガスバリア性を維持することができる耐候性ガスバリア性フィルムが得られる。   According to the present invention, a weather-resistant gas barrier film capable of maintaining high peel strength and excellent gas barrier properties under a high temperature and high humidity or ultraviolet irradiation environment can be obtained.

以下、本発明を詳細に説明する。
[基材フィルム]
本発明のガスバリア性フィルムの基材フィルムとしては熱可塑性高分子フィルムが好ましく、その材料としては、通常の包装材料に使用しうる樹脂であれば特に制限なく用いることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体などのポリオレフィン、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体部分加水分解物(EVOH)、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、フッ素樹脂、アクリレート樹脂、生分解性樹脂などが挙げられる。これらの中では、フィルム物性、コストなどの点から、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィンが好ましい。中でも、フィルム物性の点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが特に好ましい。
また、上記基材フィルムは、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有することができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[Base film]
The base film of the gas barrier film of the present invention is preferably a thermoplastic polymer film, and any material can be used without particular limitation as long as it is a resin that can be used for ordinary packaging materials. Specifically, polyolefins such as homopolymers or copolymers such as ethylene, propylene and butene, amorphous polyolefins such as cyclic polyolefin, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, nylon 6, nylon 66, polyamide such as nylon 12, copolymer nylon, ethylene-vinyl acetate copolymer partial hydrolyzate (EVOH), polyimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polycarbonate, polyvinyl butyral, Examples include polyarylate, fluororesin, acrylate resin, and biodegradable resin. Among these, polyesters, polyamides, and polyolefins are preferable from the viewpoints of film properties and cost. Among these, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable from the viewpoint of film properties.
The base film is a known additive such as an antistatic agent, a light blocking agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a filler, a colorant, a stabilizer, a lubricant, a crosslinking agent, an antiblocking agent, An antioxidant etc. can be contained.

上記基材フィルムとしての熱可塑性高分子フィルムは、上記の原料を用いて成形してなるものであるが、基材として用いる際は、未延伸であってもよいし延伸したものであってもよい。また、他のプラスチック基材と積層されていてもよい。
かかる基材フィルムは、従来公知の方法により製造することができ、例えば、原料樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやTダイにより押出して、急冷することにより実質的に無定型で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。また、多層ダイを用いることにより、1種の樹脂からなる単層フィルム、1種の樹脂からなる多層フィルム、多種の樹脂からなる多層フィルムを製造することができる。
この未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、フィルムの流れ(縦軸)方向又はフィルムの流れ方向とそれに直角な(横軸)方向に延伸することにより、少なくとも一軸方向に延伸したフィルムを製造することができる。延伸倍率は任意に設定できるが、150℃熱収縮率が、0.01〜5%、更には0.01〜2%であることが好ましい。
中でもフィルム物性の点から、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムや、ポリエチレンテレフタレート及び/又はポリエチレンナフタレートと他のプラスチックの共押出二軸延伸フィルムが好ましい。
The thermoplastic polymer film as the substrate film is formed by using the above raw materials, but when used as a substrate, it may be unstretched or stretched. Good. Moreover, you may laminate | stack with the other plastic base material.
Such a base film can be produced by a conventionally known method. For example, a raw material resin is melted by an extruder, extruded by an annular die or a T die, and rapidly cooled to be oriented substantially amorphously. No unstretched film can be produced. Moreover, by using a multilayer die, it is possible to produce a single layer film made of one kind of resin, a multilayer film made of one kind of resin, and a multilayer film made of various kinds of resins.
The unstretched film is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter sequential biaxial stretching, tenter simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, or the like. A film stretched in at least a uniaxial direction can be produced by stretching in a direction (horizontal axis) perpendicular thereto. Although a draw ratio can be set arbitrarily, it is preferable that 150 degreeC heat shrink rate is 0.01 to 5%, Furthermore, it is preferable that it is 0.01 to 2%.
Among these, from the viewpoint of film properties, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film, a polyethylene terephthalate and / or a coextruded biaxially stretched film of polyethylene naphthalate and other plastics are preferable.

基材フィルムの厚さは、本発明のガスバリア性積層フィルムの基材としての機械強度、可撓性、透明性等の点から、その用途に応じ、通常5〜500μm、好ましくは10〜200μmの範囲で選択され、厚さが大きいシート状のものも含む。また、フィルムの幅や長さについては特に制限はなく、適宜用途に応じて選択することができる。
また、基材フィルムへのアンカーコート剤の塗布性、接着性を改良するため、アンカーコート剤の塗布前にフィルムに通常の化学処理、放電処理などの表面処理を施してもよい。
The thickness of the base film is usually 5 to 500 μm, preferably 10 to 200 μm, depending on its use from the viewpoint of mechanical strength, flexibility, transparency, etc. as the base material of the gas barrier laminate film of the present invention. A sheet-like material selected in a range and having a large thickness is also included. Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the width | variety and length of a film, According to a use, it can select suitably.
Moreover, in order to improve the applicability | paintability of an anchor coating agent to a base film, and adhesiveness, you may perform surface treatments, such as normal chemical treatment and electrical discharge treatment, before application | coating of an anchor coating agent.

[耐候性コート層]
本発明のガスバリア性フィルムにおいては耐候性コート層を用いる。
本発明の耐候性コート層を構成する樹脂としては、ポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールを用いる必要がある。
[Weather-resistant coating layer]
In the gas barrier film of the present invention, a weather resistant coating layer is used.
As the resin constituting the weather resistant coating layer of the present invention, it is necessary to use polycaprolactone polyol and / or polycarbonate polyol.

コート材料として、ポリエステルポリオールは加水分解しやすいが、ポリカプロラクトンポリオールは、アジーペートポリエステルポリオールに比べ耐水性が優れ、またポリエーテルポリオールに比べ耐候性、耐熱性が良い。また、ポリカーボネートポリオールは、ポリエステルポリオールやポリエーテルポリオールに比べて、耐熱性、耐湿性、耐候性に優れる。更に、ガスバリア性の点から、上記ポリカプロラクトンポリオールを架橋させてなるものが好ましい。
一方で、ポリカプロラクトンポリオールとポリカーボネートポリオールは、ポリエステルポリオールに比べ層間密着性が弱いという難点があるが、基材フィルムのコロナ処理などの表面処理度を調整する、架橋剤などの密着成分のみを極薄く先にコーティングする、コート材料において架橋性化合物の配合比を増加する、等の工夫により改善することが出来、それによりコート層の耐候性をより有効とできる。
As a coating material, polyester polyol is easily hydrolyzed, but polycaprolactone polyol has better water resistance than adipate polyester polyol, and better weather resistance and heat resistance than polyether polyol. Moreover, polycarbonate polyol is excellent in heat resistance, moisture resistance, and weather resistance compared with polyester polyol and polyether polyol. Further, from the viewpoint of gas barrier properties, those obtained by crosslinking the polycaprolactone polyol are preferable.
On the other hand, polycaprolactone polyol and polycarbonate polyol have the disadvantage that the interlayer adhesion is weaker than polyester polyol, but only the adhesion component such as a crosslinking agent that adjusts the degree of surface treatment such as corona treatment of the substrate film is extremely important. It can be improved by contrivances such as thin coating first, increasing the compounding ratio of the crosslinkable compound in the coating material, etc., thereby making the weather resistance of the coating layer more effective.

(ポリカプロラクトンポリオール)
ポリカプロラクトンポリオールは公知の方法に従い下記の多価アルコールを開始剤とした触媒の存在下、ε−カプロラクトンを開環重合することにより製造される。
ε−カプロラクトンの重合開始剤である多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリテトラメチレンエーテルグリコールおよびこれらの多価アルコールを開始剤として酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化ブチレンを開環重合した重合生成物もしくは共重合生成物等の脂肪族多価アルコール類;シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、水素添加ビスフエノールAおよびこれらのグリコールを開始剤として酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化ブチレンを開環重合した重合生成物もしくは共重合生成物等のシクロヘキシル基を含有する多価アルコール類;ビスフエノールA、ハイドロキノンビス(2−ヒドロキシエチルエーテル)、p−キシリレングリコール、ビス(β−ヒドロキシエチル)テレフタレートおよびこれらのグリコールを開始剤として酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化ブチレンを付加した重合生成物もしくは共重合生成物等の芳香族基を含有する多価アルコール類;及びジメチロールプロピオン酸、ジフエノール酸等のカルボキシル基を有するグリコール、N−メチルジエタノールアミン等の第3級アミンを有するグリコール等種々の官能基を有する多価アルコールも使用することができる。
市販品としては、例えば、ダイセル化学工業(株)製「プラクセル200」番台各種、ユニオンカーバイド社製「TONE」各種などが挙げられる。
(Polycaprolactone polyol)
Polycaprolactone polyol is produced by ring-opening polymerization of ε-caprolactone in the presence of a catalyst having the following polyhydric alcohol as an initiator according to a known method.
Examples of polyhydric alcohols that are polymerization initiators for ε-caprolactone include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexane. Polymerization products or copolymerization products obtained by ring-opening polymerization of ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide using diol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, polytetramethylene ether glycol and their polyhydric alcohol as initiators Aliphatic polyhydric alcohols such as cyclohexane dimethanol, cyclohexanediol, hydrogenated bisphenol A, and these glycols as initiators for the ring-opening polymerization of ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide Or polyhydric alcohols containing a cyclohexyl group such as a copolymerized product; bisphenol A, hydroquinone bis (2-hydroxyethyl ether), p-xylylene glycol, bis (β-hydroxyethyl) terephthalate and these glycols Polyhydric alcohols containing aromatic groups such as polymerization products or copolymerization products with addition of ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide as initiators; and glycols having carboxyl groups such as dimethylolpropionic acid and diphenolic acid Polyhydric alcohols having various functional groups such as glycols having tertiary amines such as N-methyldiethanolamine can also be used.
Examples of commercially available products include “Placcel 200” series manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., “TONE” manufactured by Union Carbide Corporation, and the like.

(ポリカーボネートポリオール)
ポリカーボネートポリオールは、公知の方法で作製できる。ポリカーボネートジオールとしては1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,10−デカンジオールなどの炭素数2〜12の脂肪族ジオール又はこれらの混合物に炭酸ジフェニルもしくはホスゲンを作用させて縮重合して得られるポリカーボネートジオールが好ましく使用される。
有機溶剤や架橋性化合物との相溶性の点では、数平均分子量が10,000以下、好ましくは500〜5,000のポリアルキレンカーボネートポリオールと、数平均分子量が5,000以下のポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとを反応させて成る、繰り返し構造単位が−[(CH23−OC(O)O]−、又は−[(CH2)2C(CH3)(CH22−OC(O)O]−を有するエーテル変性ポリカーボネートポリオールが望ましい。尚、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ分析のポリスチレン換算値である。
(Polycarbonate polyol)
The polycarbonate polyol can be produced by a known method. Examples of the polycarbonate diol include aliphatic diols having 2 to 12 carbon atoms such as 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, and 1,10-decanediol. A polycarbonate diol obtained by polycondensation by allowing diphenyl carbonate or phosgene to act on these mixtures is preferably used.
In terms of compatibility with an organic solvent or a crosslinkable compound, a polyalkylene carbonate polyol having a number average molecular weight of 10,000 or less, preferably 500 to 5,000, and a polyethylene glycol monoalkyl having a number average molecular weight of 5,000 or less. The repeating structural unit obtained by reacting with ether is — [(CH 2 ) 3 —OC (O) O] — or — [(CH 2 ) 2 C (CH 3 ) (CH 2 ) 2 —OC (O Ether-modified polycarbonate polyols having O)-are desirable. In addition, a number average molecular weight is a polystyrene conversion value of gel permeation chromatography analysis.

また、ポリカーボネートポリオールと架橋性化合物との架橋反応を均質的に行う(部分的に高分子量化したりしないように制御する)点では、末端水酸基指数が92.5〜98.5であることが好ましく、更に好ましくは95.0〜97.5である。末端水酸基が多いと架橋反応において高分子量生成物が生じやすく、末端水酸基が少ないと架橋反応が十分に進み難く、生成物の分子量分布が広くなったり、架橋後の耐加水分解性が不十分になりやすい。尚、末端水酸基指数は、ガスクロマトグラフィーにより分析した、モノアルコールとポリオールのピーク面積総和に対するポリオールのピーク面積比率を%表記したものである。ガスクロマトグラフィーは、40℃から220℃まで10℃/minで昇温して15分間保持し、水素炎イオン化検出器(FID)を用いて分析した。
市販品としては、日本ポリウレタン工業(株)製「ニッポラン」各種、旭化成ケミカルズ社製「PCDL」、ダイセル化学工業(株)製「プラクセルCD」各種、等が挙げられる。
Moreover, it is preferable that the terminal hydroxyl group index is 92.5 to 98.5 in that the crosslinking reaction between the polycarbonate polyol and the crosslinkable compound is homogeneously performed (control is performed so as not to partially increase the molecular weight). More preferably, it is 95.0-97.5. When the number of terminal hydroxyl groups is large, a high molecular weight product is likely to be generated in the crosslinking reaction, and when the number of terminal hydroxyl groups is small, the crosslinking reaction is difficult to proceed sufficiently, the molecular weight distribution of the product is widened, and the hydrolysis resistance after crosslinking is insufficient. Prone. The terminal hydroxyl group index is a percentage of the peak area ratio of the polyol with respect to the sum of the peak areas of the monoalcohol and the polyol analyzed by gas chromatography. In the gas chromatography, the temperature was raised from 40 ° C. to 220 ° C. at 10 ° C./min, held for 15 minutes, and analyzed using a flame ionization detector (FID).
Examples of commercially available products include “Nipporan” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., “PCDL” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, “Placcel CD” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., and the like.

架橋性化合物としては、上記ポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールが有する水酸基と架橋硬化反応する官能基を1分子当たり2個以上含む化合物又は重合体であれば特に限定されず、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
例えば架橋性化合物として、フェノール基、エポキシ基、メラミン基、イソシアネート基、ジアルデヒド基を持つ化合物又は重合体が例示される。架橋反応性、ポットライフの点で、エポキシ基、メラミン基、イソシアネート基を含有する化合物又は重合体が好ましく、ポットライフ制御の点から特にイソシアネート基及び/又はエポキシ基が好ましい。更に好ましくは、イソシアネート化合物が、二液反応性コート剤として、成分の反応性、及びそれに由来する耐候性、コート層の硬度・柔軟性の点で望ましい。
本発明において、前記耐候性コート層を構成する樹脂としては、ポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールをイソシアネート化合物及び/又はエポキシ化合物で架橋させてなるものが好ましい。
The crosslinkable compound is not particularly limited as long as it is a compound or polymer containing two or more functional groups that crosslink and cure with the hydroxyl groups of the polycaprolactone polyol and / or polycarbonate polyol. The above can be appropriately selected and used.
For example, the crosslinkable compound is exemplified by a compound or polymer having a phenol group, an epoxy group, a melamine group, an isocyanate group, or a dialdehyde group. A compound or polymer containing an epoxy group, a melamine group or an isocyanate group is preferable from the viewpoint of crosslinking reactivity and pot life, and an isocyanate group and / or an epoxy group are particularly preferable from the viewpoint of pot life control. More preferably, an isocyanate compound is desirable as a two-component reactive coating agent in terms of component reactivity, weather resistance derived therefrom, hardness and flexibility of the coating layer.
In the present invention, the resin constituting the weather-resistant coat layer is preferably a resin obtained by crosslinking polycaprolactone polyol and / or polycarbonate polyol with an isocyanate compound and / or an epoxy compound.

ポリイソシアネートは、ジイソシアネート、その二量体(ウレトジオン)、その三量体(イソシアヌレート、トリオール付加物、ビューレット)等の一種、またはそれら二種以上の混合物であってもよい。例えば、ジイソシアネート成分としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、3,3'−ジメトキシ−4,4'−ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、2,6−ナフタレンジイソシアネート、4,4'−ジイソシアネートジフェニルエーテル、1,5−キシリレンジイソシアネート、1,3−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、1,4−ジイソシアネ−トメチルシクロヘキサン、4,4'−ジイソシアネートシクロヘキサン、4,4'−ジイソシアネートシクロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等が挙げられる。また、無黄変性の点で、キシレンジイソシアネート(XDI)系、イソホロンジイソシアネート(IPDI)系、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)系などが好まれる。また、堅牢性、ガスバリア性、耐候性の点で、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ビュレット体が良い。   The polyisocyanate may be a diisocyanate, a dimer thereof (uretdione), a trimer thereof (isocyanurate, a triol adduct, a burette), or a mixture of two or more thereof. For example, as the diisocyanate component, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, 3,3′-dimethoxy -4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,6-naphthalene diisocyanate, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 1,5-xylylene diisocyanate, 1,3-diisocyanate methylcyclohexane, 1,4 -Diisocyanate methylcyclohexane, 4,4'-diisocyanate cyclohexane, 4,4'-diisocyanate cyclohexyl methane, isophor Down diisocyanate, dimer acid diisocyanate, norbornene diisocyanate. Moreover, xylene diisocyanate (XDI) type, isophorone diisocyanate (IPDI) type, hexamethylene diisocyanate (HDI) type, etc. are preferred in terms of non-yellowing. Moreover, the isocyanurate body and burette body of hexamethylene diisocyanate are good in terms of fastness, gas barrier properties, and weather resistance.

エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、トリグリシジル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールタイプのエポキシ樹脂等が挙げられる。   The epoxy resin is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. For example, sorbitol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, Examples include triglycidyl, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, and bisphenol type epoxy resin.

上記架橋性化合物の使用量としては特に限定されず、架橋性化合物の種類等によって適宜決定することができるが、上記ポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールの水酸基と架橋性化合物の架橋基との反応基比率は、水酸基:架橋基=1:1〜1:20が層内凝集力、層間密着性の点で望ましく、更に、1:1〜1:10が好ましい。架橋基比率が上記範囲であれば密着性、高温高湿耐性、ガスバリア性、耐ブロッキング性等の点で有利である。
また、上記架橋性化合物は、架橋反応を促進させるために、塩類や無機物質、有機物質、酸物質、アルカリ物質等の架橋触媒を1種又は2種以上添加してもよい。例えば、架橋性化合物としてポリイソシアネート化合物を用いる場合、ジブチル錫ジラウレート、第3級アミン等の公知の触媒を1種又は2種以上添加が例示される。
また、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、安定剤、潤滑剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有したり、それらを上記樹脂と共重合させたものを使用することができる。
The amount of the crosslinkable compound used is not particularly limited and can be appropriately determined depending on the type of the crosslinkable compound, etc., but the reaction between the hydroxyl group of the polycaprolactone polyol and / or the polycarbonate polyol and the crosslinkable group of the crosslinkable compound. The group ratio is preferably hydroxyl group: crosslinking group = 1: 1 to 1:20 from the viewpoint of cohesive strength in the layer and interlayer adhesion, and more preferably 1: 1 to 1:10. A crosslinking group ratio in the above range is advantageous in terms of adhesion, high temperature and high humidity resistance, gas barrier properties, blocking resistance, and the like.
Moreover, in order to accelerate the crosslinking reaction, the crosslinking compound may be added with one or more crosslinking catalysts such as salts, inorganic substances, organic substances, acid substances and alkaline substances. For example, when a polyisocyanate compound is used as the crosslinkable compound, the addition of one or more known catalysts such as dibutyltin dilaurate and tertiary amine is exemplified.
Also contains silane coupling agents, titanium coupling agents, light blocking agents, ultraviolet absorbers, stabilizers, lubricants, antiblocking agents, antioxidants, etc., or they are copolymerized with the above resins Things can be used.

耐候性コート層の形成方法としては、公知のコーティング方法が適宜採択される。例えば、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、エアドクタコーター、スプレイあるいは刷毛を用いたコーティング方法等の方法がいずれも使用できる。また、蒸着フィルムを樹脂液に浸漬して行ってもよい。塗布後は、80〜200℃程度の温度での熱風乾燥、熱ロール乾燥などの加熱乾燥や、赤外線乾燥などの公知の乾燥方法を用いて溶媒を蒸発させることができる。また、耐水性、耐久性を高めるために、電子線照射による架橋処理を行うこともできる。   As a method for forming the weather-resistant coating layer, a known coating method is appropriately adopted. For example, any method such as a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, an air doctor coater, a spray or a coating method using a brush can be used. Alternatively, the vapor deposition film may be immersed in a resin solution. After application, the solvent can be evaporated using a known drying method such as hot drying such as hot air drying or hot roll drying at a temperature of about 80 to 200 ° C. or infrared drying. Moreover, in order to improve water resistance and durability, the crosslinking process by electron beam irradiation can also be performed.

耐候性コート層の厚さは0.005〜5μm程度、更に0.01〜1μmであることが好ましい。5μm以下の厚さであれば、滑り性が良好であり、アンカーコート層自体の内部応力による基材フィルムからの剥離もほとんどなく、また、0.005μm以上の厚さであれば、均一な厚さを保つことができ好ましい。
また、上記内容の耐候性コート層を基材フィルム表面に形成し、平坦化することにより、無機薄膜を形成する粒子が緻密に堆積し、且つ均一な厚さに形成しやすいことから、高いガスバリア性を得ることができる。
The thickness of the weather resistant coating layer is preferably about 0.005 to 5 μm, and more preferably 0.01 to 1 μm. If the thickness is 5 μm or less, the slipperiness is good, there is almost no peeling from the base film due to the internal stress of the anchor coat layer itself, and if the thickness is 0.005 μm or more, the thickness is uniform. It is possible to keep the thickness.
In addition, since the weather-resistant coating layer having the above contents is formed on the surface of the base film and flattened, the particles forming the inorganic thin film are densely deposited and can be easily formed to have a uniform thickness. Sex can be obtained.

[無機薄膜]
無機薄膜の形成方法としては、蒸着法、コーティング法などの方法がいずれも使用できるが、ガスバリア性の高い均一な薄膜が得られるという点で蒸着法が好ましい。この蒸着法には、物理気相蒸着(PVD)、あるいは化学気相蒸着(CVD)などの方法が含まれる。物理気相蒸着法には、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどが挙げられ、化学気相蒸着法には、プラズマを利用したプラズマCVD、加熱触媒体を用いて材料ガスを接触熱分解する触媒化学気相成長法(Cat−CVD)等が挙げられる。
[Inorganic thin film]
As a method for forming the inorganic thin film, any method such as a vapor deposition method and a coating method can be used, but the vapor deposition method is preferable in that a uniform thin film having a high gas barrier property can be obtained. This vapor deposition method includes methods such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD). Examples of physical vapor deposition include vacuum deposition, ion plating, and sputtering, and chemical vapor deposition includes plasma CVD using plasma and a catalyst that thermally decomposes a material gas using a heated catalyst body. Examples include chemical vapor deposition (Cat-CVD).

更には、無機薄膜を多層化すると、高いガスバリア性を長期間安定に維持できる点で好ましく、少なくとも2層の無機薄膜層からなるものがより好ましい。その際には、各種成膜方法を組み合わせても良い。例えば、耐候性コート層の上に、順に、真空蒸着膜/真空蒸着膜、真空蒸着膜/プラズマCVD膜、真空蒸着膜/プラズマ処理/真空蒸着膜、真空蒸着膜/プラズマCVD膜/真空蒸着膜、真空蒸着膜/Cat−CVD膜/真空蒸着膜、真空蒸着膜/耐候性コート/真空蒸着膜、プラズマCVD膜/真空蒸着膜、プラズマCVD膜/真空蒸着膜/プラズマCVD膜、等の多層無機薄膜構成が挙げられる。中でも、真空蒸着膜/プラズマCVD膜の多層化は、ガスバリア性の良さ、密着性、生産性の点で好ましい。   Furthermore, it is preferable that the inorganic thin film is multilayered in that a high gas barrier property can be stably maintained for a long period of time, and it is more preferable to use at least two inorganic thin film layers. In that case, various film forming methods may be combined. For example, a vacuum deposited film / vacuum deposited film, a vacuum deposited film / plasma CVD film, a vacuum deposited film / plasma treatment / vacuum deposited film, a vacuum deposited film / plasma CVD film / vacuum deposited film in this order on the weather-resistant coating layer , Vacuum deposited film / Cat-CVD film / vacuum deposited film, vacuum deposited film / weather-resistant coating / vacuum deposited film, plasma CVD film / vacuum deposited film, plasma CVD film / vacuum deposited film / plasma CVD film, etc. Examples include a thin film configuration. Among them, the multilayer of the vacuum deposition film / plasma CVD film is preferable in terms of good gas barrier properties, adhesion, and productivity.

無機薄膜を構成する無機物質としては、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、水素化炭素等、あるいはこれらの酸化物、炭化物、窒化物またはそれらの混合物が挙げられるが、好ましくは酸化珪素、酸化アルミニウム、水素化炭素を主体としたダイアモンドライクカーボンである。特に、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物、特に酸化珪素は、高いガスバリア性が安定に維持できる点で好ましい。   Examples of the inorganic substance constituting the inorganic thin film include silicon, aluminum, magnesium, zinc, tin, nickel, titanium, hydrogenated carbon, and the like, or oxides, carbides, nitrides, or a mixture thereof. Diamond-like carbon mainly composed of silicon oxide, aluminum oxide and hydrogenated carbon. In particular, inorganic oxides such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, and aluminum oxide, particularly silicon oxide, are preferable in that high gas barrier properties can be stably maintained.

化学気相蒸着に使用し得る材料ガスは、少なくとも1種以上のガスからなることが好ましく、例えば珪素化合物薄膜の形成においては、珪素を含む第一原料ガスに対して、第二原料ガスとして、アンモニア、窒素、酸素、水素やアルゴンなどの希ガスを使用することが好ましい。珪素を含む第一原料ガスとしては、モノシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン等を単独、或いは2種組み合わせて使用することができる。また、原料ガスは、室温において液体でも気体でもよく、液体原料は、原料気化機により気化して装置内へ供給することができる。触媒化学気相成長法においては、加熱触媒体の劣化や反応性・反応速度の点から、モノシランガスが好ましい。   The material gas that can be used for chemical vapor deposition is preferably composed of at least one kind of gas. For example, in the formation of a silicon compound thin film, as the second source gas with respect to the first source gas containing silicon, It is preferable to use a rare gas such as ammonia, nitrogen, oxygen, hydrogen or argon. The first source gas containing silicon includes monosilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisiloxane, hexamethyldisilazane, etc. alone or 2 Can be used in combination. The source gas may be liquid or gas at room temperature, and the liquid source can be vaporized by a source vaporizer and supplied into the apparatus. In the catalytic chemical vapor deposition method, monosilane gas is preferable from the viewpoint of deterioration of the heated catalyst body, reactivity, and reaction rate.

各無機薄膜の厚さは、一般に0.1〜500nm程度であるが、好ましくは0.5〜100nm、更に好ましくは1〜50nmである。上記範囲内であれば、十分なガスバリア性が得られ、また、無機薄膜に亀裂や剥離を発生させることなく、生産性にも優れている。   The thickness of each inorganic thin film is generally about 0.1 to 500 nm, preferably 0.5 to 100 nm, and more preferably 1 to 50 nm. If it is in the said range, sufficient gas-barrier property will be acquired, and it is excellent also in productivity, without generating a crack and peeling in an inorganic thin film.

[保護層]
本発明のガスバリア性フィルムにおいては、無機薄膜の最上層を保護するために、保護層を有してもよい。該保護層を形成する樹脂としては、溶剤性及び水性の樹脂をいずれも使用することができ、具体的には、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂系、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレンビニルアルコール系樹脂、ビニル変性樹脂、ニトロセルロース系樹脂、シリコン系樹脂、イソシアネート系樹脂、エポキシ系樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン系樹脂、変性シリコン系樹脂、アルキルチタネート等を単独であるいは2種以上組み併せて使用することができる。また、保護層としては、バリア性、摩耗性、滑り性向上のためシリカゾル、アルミナゾル、粒子状無機フィラー及び層状無機フィラーから選ばれる1種以上の無機粒子を前記1種以上の樹脂に混合してなる層、又は該無機粒子存在下で前記樹脂の原料を重合させて形成される無機粒子含有樹脂からなる層を用いることが出来る。
[Protective layer]
The gas barrier film of the present invention may have a protective layer in order to protect the uppermost layer of the inorganic thin film. As the resin for forming the protective layer, both solvent-based and water-based resins can be used. Specifically, polyester resins, urethane resins, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, ethylene vinyl Alcohol-based resin, vinyl-modified resin, nitrocellulose-based resin, silicon-based resin, isocyanate-based resin, epoxy-based resin, oxazoline group-containing resin, modified styrene-based resin, modified silicon-based resin, alkyl titanate, etc. alone or in combination Can be used in combination. Further, as the protective layer, one or more kinds of inorganic particles selected from silica sol, alumina sol, particulate inorganic filler and layered inorganic filler are mixed with the one or more kinds of resins in order to improve barrier properties, wear properties and slipperiness. Or a layer made of an inorganic particle-containing resin formed by polymerizing the resin raw material in the presence of the inorganic particles.

保護層を形成する樹脂としては、無機薄膜のガスバリア性向上の点から上記水性樹脂が好ましい。さらに水性樹脂として、ビニルアルコール樹脂またはエチレンビニルアルコール樹脂が好ましい。
また、保護層として、ポリビニルアルコール及びエチレン・不飽和カルボン酸共重合体を含有する水性液を塗布してなる樹脂層を用いることができる。
As the resin for forming the protective layer, the above aqueous resin is preferable from the viewpoint of improving the gas barrier property of the inorganic thin film. Furthermore, vinyl alcohol resin or ethylene vinyl alcohol resin is preferable as the aqueous resin.
Further, as the protective layer, a resin layer formed by applying an aqueous liquid containing polyvinyl alcohol and an ethylene / unsaturated carboxylic acid copolymer can be used.

保護層の厚さは、印刷性、加工性の点から、好ましくは0.05〜10μm,更に好ましくは0.1〜3μmである。その形成方法としては、公知のコーティング方法が適宜採択される。例えば、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、エアドクタコーター、スプレイあるいは刷毛を用いたコーティング方法等の方法がいずれも使用できる。また、蒸着フィルムを保護層用樹脂液に浸漬して行ってもよい。塗布後は、80〜200℃程度の温度での熱風乾燥、熱ロール乾燥などの加熱乾燥や、赤外線乾燥などの公知の乾燥方法を用いて水分を蒸発させることができる。また、耐水性、耐久性を高めるために、電子線照射による架橋処理を行う事もできる。   The thickness of the protective layer is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm, from the viewpoints of printability and processability. A known coating method is appropriately adopted as the formation method. For example, any method such as a reverse roll coater, a gravure coater, a rod coater, an air doctor coater, a spray or a coating method using a brush can be used. Moreover, you may immerse a vapor deposition film in the resin liquid for protective layers. After application, moisture can be evaporated using a known drying method such as hot drying such as hot air drying or hot roll drying at a temperature of about 80 to 200 ° C. or infrared drying. Moreover, in order to improve water resistance and durability, the crosslinking process by electron beam irradiation can also be performed.

次に、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。なお、各例で得られたガスバリア系フィルムの性能評価は、以下のように行った。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited at all by these examples. In addition, performance evaluation of the gas barrier film obtained in each example was performed as follows.

<剥離試験>
得られたガスバリア性フィルム、又は耐光試験後のガスバリア性フィルムの無機薄膜面に、ウレタン系接着剤(三井化学ポリウレタン(株)製「タケラックA543」と「タケネートA3」とを配合)を塗布、80℃で1分乾燥し、厚さ約10μmの接着樹脂層を形成し、この接着樹脂層上に、厚さ60μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡績(株)製「パイレンフィルム−CT P1146」)をラミネート、40℃×3日エージングし、積層体を得た。
次いで、該積層体について、JIS Z1707に準じ、積層体を幅15mmの短冊状に切り出し、その端部を一部剥離させ、剥離試験機(島津製作所製、製品名EZ−TEST)により100mm/分の速度でT型剥離を行い、接着強度(g/15mm)を測定した。
<Peel test>
A urethane-based adhesive (mixed with “Takelac A543” and “Takenate A3” manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes Co., Ltd.) is applied to the obtained gas barrier film or the inorganic thin film surface of the gas barrier film after the light resistance test, 80 An adhesive resin layer having a thickness of about 10 μm was formed by drying at 1 ° C. for 1 minute, and an unstretched polypropylene film having a thickness of 60 μm (“Pyrene Film-CTP P1146” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was formed on the adhesive resin layer. Lamination was aged at 40 ° C. for 3 days to obtain a laminate.
Next, according to JIS Z1707, the laminate was cut into a strip shape having a width of 15 mm, and part of its end was peeled off, and 100 mm / min was measured with a peel tester (manufactured by Shimadzu Corporation, product name EZ-TEST). T-type peeling was carried out at a speed of and adhesive strength (g / 15 mm) was measured.

<水蒸気透過率測定>
耐光性試験前後のガスバリア性フィルムを各々用いたラミネート積層体について、JIS Z0222「防湿包装容器の透湿度試験方法」、JIS Z0208「防湿包装材量の透湿度試験方法(カップ法)」の諸条件に準じ、水蒸気透過率を測定した。
透湿面積7.0cm×7.0cm角のガスバリア性フィルムを2枚用い、吸湿剤として無水塩化カルシウム約10gを入れ四辺を封じた袋を作製し、その袋を温度40℃相対湿度90%の恒温恒湿装置に入れ、72時間以上間隔で質量増加がほぼ一定になる目安として14日間まで、質量測定(0.1mg単位)し、水蒸気透過率を下記式から算出した。
水蒸気透過率(g/m2/24h)=(m/s)/t
m; 試験期間最後2回の秤量間隔の増加質量(g)
s; 透湿面積(m2
t; 試験期間最後2回の秤量間隔の時間(h)/24(h)
<Measurement of water vapor transmission rate>
Various conditions of JIS Z0222 “moisture-proof packaging container moisture permeability test method” and JIS Z0208 “moisture-proof packaging material moisture permeability test method (cup method)” for laminated laminates each using a gas barrier film before and after the light resistance test According to the above, the water vapor transmission rate was measured.
Using two gas barrier films with a moisture permeable area of 7.0 cm x 7.0 cm square, a bag was prepared with about 10 g of anhydrous calcium chloride as a hygroscopic agent and sealed on all sides, and the bag was heated at 40 ° C and 90% relative humidity. The sample was placed in a thermo-hygrostat, and mass measurement (0.1 mg unit) was performed for up to 14 days as a guideline for mass increase to be almost constant at intervals of 72 hours or more, and water vapor permeability was calculated from the following formula.
Water vapor transmission rate (g / m 2 / 24h) = (m / s) / t
m: Mass increase in the last two weighing intervals (g)
s; Moisture permeable area (m 2 )
t: Time of last two weighing intervals (h) / 24 (h)

なお、上記剥離試験及び水蒸気透過率測定は、各々得られたラミネート積層体について、また、これに以下の高温高湿試験(1)又は(2)を行った後、及びガスバリア性フィルムを以下の耐光試験に供した後得られたラミネート積層体について行った。
<高温高湿試験>
(1)得られたラミネート積層体を、60℃×90RH%下に30日間保管した。
(2)得られたラミネート積層体を、85℃×85RH%下に30日間保管した。
<耐光試験>
得られたガスバリア性フィルムを、無機薄膜面側をウエザロメーター(キセノン型スガ試験機製WBL 75XS)の光源へ向けて、面照射照度60W/m2、測定波長300〜400nm、ブラックパネル温度63℃、相対湿度50%の条件で200時間照射した。
In addition, the said peeling test and water-vapor-permeability measurement are the following about each laminated laminate obtained, and after performing the following high-temperature, high-humidity tests (1) or (2) to this, and a gas-barrier film below. The laminate laminate obtained after the light resistance test was performed.
<High temperature and high humidity test>
(1) The obtained laminate laminate was stored at 60 ° C. × 90 RH% for 30 days.
(2) The obtained laminate laminate was stored at 85 ° C. × 85 RH% for 30 days.
<Light resistance test>
With the obtained gas barrier film, the surface of the inorganic thin film is directed to the light source of a weatherometer (WBL 75XS manufactured by Xenon-type Suga Test Instruments), surface irradiation illuminance 60 W / m 2 , measurement wavelength 300 to 400 nm, black panel temperature 63 ° C. Irradiation was performed for 200 hours at a relative humidity of 50%.

<無機薄膜、耐候性コート層の膜厚測定>
得られたガスバリア性フィルムを樹脂に包埋し、その断面方法に超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡で観測した。
<無機薄膜の組成分析>
得られたガスバリア性フィルムの無機薄膜面について、島津製作所製ESCA−3400を用い元素組成を分析した。
<Measurement of film thickness of inorganic thin film and weather-resistant coating layer>
The obtained gas barrier film was embedded in a resin, and an ultrathin section was prepared according to the cross-sectional method and observed with a transmission electron microscope.
<Composition analysis of inorganic thin film>
About the inorganic thin film surface of the obtained gas-barrier film, element composition was analyzed using Shimadzu Corporation ESCA-3400.

実施例1
基材フィルムとして、厚さ12μmの二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポン社製、「Q51C12」)を用い、そのコロナ処理面に、下記のコート液を塗布乾燥して厚さ0.1μmのコート層を形成した。
次いで、真空蒸着装置を使用して1.33×10-3Pa(1×10-5Torr)の真空下でSiOを高周波加熱方式で蒸発させ、コート層上にSiOx(x=1.7)膜、薄膜厚さ20nmのガスバリア性フィルムを得た。
コート液
ポリカプロラクトンジオールとしてダイセル化学工業(株)製「プラクセル205」、
エポキシ樹脂としてナガセケムテックス(株)製「デナコールEX252」を用い、水酸基に対するエポキシ基の当量比率が1:2になるように混合した。
Example 1
A biaxially stretched polyethylene naphthalate film (made by Teijin DuPont, “Q51C12”) having a thickness of 12 μm was used as the base film, and the following coating solution was applied to the corona-treated surface and dried to a thickness of 0.1 μm. A coat layer was formed.
Next, SiO is evaporated by a high-frequency heating method under a vacuum of 1.33 × 10 −3 Pa (1 × 10 −5 Torr) using a vacuum deposition apparatus, and SiOx (x = 1.7) is formed on the coating layer. A gas barrier film having a film thickness of 20 nm was obtained.
“Placcel 205” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. as a coating liquid polycaprolactone diol,
“Denacol EX252” manufactured by Nagase ChemteX Corp. was used as the epoxy resin, and the mixture was mixed so that the equivalent ratio of the epoxy group to the hydroxyl group was 1: 2.

実施例2
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
ポリカプロラクトンジオールとしてダイセル化学工業(株)製「プラクセル220」
イソシアネート樹脂として住友バイエルウレタン(株)製「スミジュールN−3200」を用い、水酸基に対するイソシアネート基の当量比率が1:1になるように混合した。
Example 2
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
“Placcel 220” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. as polycaprolactone diol
“Sumidule N-3200” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd. was used as the isocyanate resin, and mixing was performed such that the equivalent ratio of isocyanate groups to hydroxyl groups was 1: 1.

実施例3
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
ポリカーボネートジオールとして日本ポリウレタン(株)製「ニッポラン982R」
、イソシアネート樹脂として日本ポリウレタン(株)製「コロネートL」を用い、水酸基に対するイソシアネート基の当量比率が1:1になるように混合した。
Example 3
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
“Nipporan 982R” manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. as polycarbonate diol
, “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. was used as the isocyanate resin, and mixing was performed so that the equivalent ratio of isocyanate groups to hydroxyl groups was 1: 1.

実施例4
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
ポリカーボネートジオールとしてダイセル化学工業(株)製「プラクセルCD CD210」、イソシアネート樹脂として三井化学ポリウレタン(株)製「タケネートD−170HN」を用い、水酸基に対するイソシアネート基の当量比率が1:1になるように混合した。
Example 4
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
“Placcel CD CD210” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. is used as the polycarbonate diol, and “Takenate D-170HN” manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes is used as the isocyanate resin, so that the equivalent ratio of isocyanate groups to hydroxyl groups is 1: 1. Mixed.

実施例5
実施例2のガスバリア性フィルムの無機薄膜面上に、メタクリル酸とメタクリル酸ブチル(質量比25:75)の共重合体のアンモニウム塩水溶液を塗布、乾燥させ厚さ0.3μmの保護層を形成した。
Example 5
An aqueous ammonium salt solution of a copolymer of methacrylic acid and butyl methacrylate (mass ratio 25:75) was applied to the inorganic thin film surface of the gas barrier film of Example 2 and dried to form a protective layer having a thickness of 0.3 μm. did.

実施例6
実施例2のガスバリア性フィルムの無機薄膜面上に、プラズマCVD装置を使用して、原料としてテトラエトキシシラン、反応ガスとして酸素、窒素、アルゴンを用い、10.7Pa(8x10-2Torr)の真空下において、13.56MHz高周波放電プラズマ源で1kW印加し、SiOxNy(x=1.6、y=0.2)膜、薄膜厚さ20nmのプラズマCVD膜を成膜した。次いで、プラズマCVD膜面上に、実施例1と同様にして真空蒸着膜を成膜し、無機薄膜3層のガスバリア性フィルムを得た。
Example 6
A vacuum of 10.7 Pa (8 × 10 −2 Torr) is used on the inorganic thin film surface of the gas barrier film of Example 2 using a plasma CVD apparatus and using tetraethoxysilane as a raw material and oxygen, nitrogen, and argon as reactive gases. Below, 1 kW was applied from a 13.56 MHz high frequency discharge plasma source to form a SiOxNy (x = 1.6, y = 0.2) film and a plasma CVD film having a thin film thickness of 20 nm. Next, a vacuum deposited film was formed on the plasma CVD film surface in the same manner as in Example 1 to obtain a gas barrier film having three inorganic thin films.

比較例1
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
イソシアネート化合物として日本ポリウレタン工業(株)製「コロネートL」、飽和ポリエステルとして東洋紡績(株)製「バイロン300」を用い、重量比率1:1で混合した。
Comparative Example 1
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
Using “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. as the isocyanate compound and “Byron 300” manufactured by Toyobo Co., Ltd. as the saturated polyester, they were mixed at a weight ratio of 1: 1.

比較例2
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
アクリルポリオールとして三井化学ポリウレタン(株)製「タケラックUA−902」、芳香族イソシアネートとして、三井化学ポリウレタン(株)製「コスモネート80」を用い、水酸基とイソシアネート基の当量比率が1:1になるように混合した。
Comparative Example 2
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
“Takelac UA-902” manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd. is used as the acrylic polyol, and “Cosmonate 80” manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd. is used as the aromatic isocyanate, and the equivalent ratio of hydroxyl group to isocyanate group becomes 1: 1. Mixed.

比較例3
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
ポリエステル樹脂として高松樹脂(株)製「ペスレジンA−120」、アクリル樹脂としてジョンソンポリマー社製「JDX−6500」を用い、固形分比率1:1になるように混合した。
Comparative Example 3
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
“Pesresin A-120” manufactured by Takamatsu Resin Co., Ltd. was used as the polyester resin, and “JDX-6500” manufactured by Johnson Polymer Co., Ltd. was used as the acrylic resin, and the solid content ratio was 1: 1.

比較例4
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
アジペート系ポリエステルポリオールとして(株)ADEKA製「アデカニューエースY4−5」、イソシアネート樹脂として住友バイエルウレタン(株)製「スミジュールN−3200」を用い、水酸基とイソシアネート基の当量比率が1:2になるように混合した。
Comparative Example 4
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
“Adeka New Ace Y4-5” manufactured by ADEKA Co., Ltd. is used as an adipate-based polyester polyol, and “Sumidule N-3200” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd. is used as an isocyanate resin. The equivalent ratio of hydroxyl groups to isocyanate groups is 1: 2. It mixed so that it might become.

比較例5
コート液を下記に代えた他は、実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
ポリエーテルポリオールとして住友バイエルウレタン(株)製「デスモフェン550U」、イソシアネート樹脂として住友バイエルウレタン(株)製「スミジュールN−3200」を用い、水酸基とイソシアネート基の当量比率が1:2になるように混合した。

上記得られた各ガスバリア性フィルムについて、前記方法により、耐光試験前後の水蒸気透過率、高温高湿試験、耐光試験前後の剥離試験を行った。結果を表3に示す。
Comparative Example 5
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid was changed to the following.
Using “Desmophen 550U” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd. as the polyether polyol and “Sumidule N-3200” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd. as the isocyanate resin, the equivalent ratio of hydroxyl groups to isocyanate groups is 1: 2. Mixed.

About each obtained gas-barrier film, the peeling test before and after the water-vapor-permeation rate before and behind a light resistance test, a high temperature high humidity test, and a light resistance test was done by the said method. The results are shown in Table 3.

Figure 2009202587
Figure 2009202587

本発明のガスバリア性フィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、例えば、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装に広く利用される。また、包装用途以外にも、液晶表示素子、有機EL素子、有機TFT、有機半導体センサー、有機発光デバイス等の有機デバイス、太陽電池、電磁波シールド、タッチパネル、電子ペーパー、フィルムコンデンサー、無機EL素子、カラーフィルター等で使用する透明導電シートや真空断熱材としても好適に使用できる。   The gas barrier film of the present invention is widely used for packaging of articles that need to block various gases such as water vapor and oxygen, for example, packaging for preventing deterioration of food, industrial supplies, pharmaceuticals, and the like. Besides packaging applications, organic devices such as liquid crystal display elements, organic EL elements, organic TFTs, organic semiconductor sensors, organic light emitting devices, solar cells, electromagnetic wave shields, touch panels, electronic paper, film capacitors, inorganic EL elements, color It can also be suitably used as a transparent conductive sheet or a vacuum heat insulating material used in a filter or the like.

Claims (5)

基材フィルム、その少なくとも一方の面に形成された耐候性コート層、及び該コート層面に形成された無機薄膜層を有するガスバリア性フィルムであって、該耐候性コート層が、主成分であるポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールを架橋させてなるガスバリア性フィルム。   A gas barrier film having a base film, a weather-resistant coating layer formed on at least one surface thereof, and an inorganic thin film layer formed on the surface of the coating layer, wherein the weather-resistant coating layer is a main component A gas barrier film obtained by crosslinking caprolactone polyol and / or polycarbonate polyol. 耐候性コート層が、ポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリカーボネートポリオールをイソシアネート化合物及び/又はエポキシ化合物で架橋させてなる請求項1記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to claim 1, wherein the weather resistant coating layer is obtained by crosslinking polycaprolactone polyol and / or polycarbonate polyol with an isocyanate compound and / or an epoxy compound. 無機薄膜層が無機酸化物からなる、請求項1又は2に記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to claim 1 or 2, wherein the inorganic thin film layer comprises an inorganic oxide. 無機薄膜層が少なくとも2層以上の無機薄膜からなる、請求項1〜3のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic thin film layer comprises at least two inorganic thin films. 基材フィルムが、ポリエチレンナフタレートを含む二軸延伸フィルムである、請求項1〜4のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to any one of claims 1 to 4, wherein the base film is a biaxially stretched film containing polyethylene naphthalate.
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