JP2009194048A - Plasma processing apparatus - Google Patents

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Hiroto Takeuchi
裕人 竹内
Mamoru Hino
守 日野
Masao Inoue
将男 井上
Hidenori Takahashi
英則 高橋
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently use heat of a plasma radiation part to improve processing efficiency in plasma processing. <P>SOLUTION: Plasma is radiated from a plasma radiation part 10 toward a processing position P. An object 9 to be treated is moved in one direction across the processing position P by a moving means 20. A heat transfer member 30 is provided oppositely to the plasma radiation part 10 across the processing position P. A heat receiving part 30a of the heat transfer member 30 is provided to oppose the plasma radiation part 10 and receives the heat from the part 10. A heat discharging part 30b is extended at least toward the upstream in the moving direction from the heat receiving part 10. The heat discharging part 30b radiates the heat transmitted from the heat receiving part 10. A protruding line 32 is provided on the backside of the heat transfer member 30. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、被処理物の表面に対し、親水化、撥水化、アッシング、エッチング、洗浄、成膜等のプラズマ処理を行なう装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for performing plasma processing such as hydrophilization, water repellency, ashing, etching, cleaning, and film formation on the surface of an object to be processed.

例えば、特許文献１に記載のプラズマ処理装置にはプラズマ照射部が設けられている。プラズマ照射部は、一対の電極を有しており、これら電極どうしの間にプラズマが生成され、処理ガスがプラズマ化されるようになっている。このプラズマ化された処理ガスが被処理物に向けて噴き出され、表面処理がなされる。被処理物は、移動手段によってプラズマ照射部に対し相対移動されるようになっている。
特開２００４−００６２１１号公報 For example, the plasma processing apparatus described in Patent Document 1 is provided with a plasma irradiation unit. The plasma irradiation unit has a pair of electrodes, and plasma is generated between the electrodes, so that the processing gas is turned into plasma. The plasma-treated processing gas is ejected toward the object to be processed, and surface treatment is performed. The workpiece is moved relative to the plasma irradiation unit by the moving means.
JP 2004006211 A

一般に、プラズマ表面処理においては被処理物の温度を高めたほうが処理効率が向上する。通常はヒータを別途設け、被処理物を加熱している。しかし、プラズマ照射部からは輻射熱や加熱された処理ガスが放出されているところ、従来その熱は利用されておらず、非効率であった。   Generally, in the plasma surface treatment, the treatment efficiency is improved by increasing the temperature of the workpiece. Normally, a separate heater is provided to heat the object to be processed. However, when radiant heat or heated processing gas is released from the plasma irradiation part, the heat has not been used so far, which is inefficient.

上記課題を解決するため、本発明は、被処理物にプラズマを照射し、前記被処理物の表面を処理する装置において、
（ａ）処理位置に向けてプラズマを照射するプラズマ照射部と、
（ｂ）被処理物を前記処理位置を横切るように一方向に移動させる移動手段と、
（ｃ）前記処理位置を挟んで前記プラズマ照射部と対向するよう配置され、前記プラズマ照射部からの熱を受ける受熱部と、この受熱部から前記移動方向の少なくとも上流側に延出され、受熱部から伝播された熱を放出する放熱部とを含む熱授受部材と、
を備えている。好ましくは、前記熱授受部材に凸条が設けられている。
これによって、プラズマ照射部の熱を利用して被処理物を処理前に予熱することができ、処理効率を高めることができる。また、熱授受部材に凸条を設けることにより、熱授受部材が熱変形を来たすのを防止ないしは抑制できる。 In order to solve the above problems, the present invention provides an apparatus for irradiating an object to be processed with plasma and processing the surface of the object to be processed.
(A) a plasma irradiation unit that irradiates plasma toward a processing position;
(B) moving means for moving the object to be processed in one direction so as to cross the processing position;
(C) A heat receiving portion that is disposed so as to face the plasma irradiation portion across the processing position, receives heat from the plasma irradiation portion, and extends from the heat receiving portion at least upstream in the moving direction to receive heat. A heat transfer member including a heat radiating part that releases heat propagated from the part;
It has. Preferably, a protrusion is provided on the heat transfer member.
Thus, the object to be processed can be preheated before processing using the heat of the plasma irradiation unit, and the processing efficiency can be improved. Moreover, it can prevent thru | or suppress that a heat transfer member brings about a thermal deformation by providing a protrusion on a heat transfer member.

前記凸条が、前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に設けられていることが好ましい。これによって、被処理物が凸条にひっかかるのを防止できる。   It is preferable that the ridge is provided on a surface of the heat transfer member opposite to the plasma irradiation part side. Thereby, it can prevent that a to-be-processed object is caught on a protruding item | line.

前記熱授受部材の縁部が、折曲され、前記凸条となっていてもよい。
前記熱授受部材が、複数の分割板部に分割されており、各分割板部に前記凸条が設けられていてもよい。分割方向は、前記移動方向でもよく、前記移動方向と直交する方向でもよい。 The edge part of the said heat transfer member may be bent and may become the said protruding item | line.
The heat transfer member may be divided into a plurality of divided plate portions, and the protruding strips may be provided on each divided plate portion. The dividing direction may be the moving direction or a direction orthogonal to the moving direction.

前記プラズマ照射部が前記移動方向と直交する方向に延びており、前記凸条が、前記受熱部に配置され、前記プラズマ照射部と平行に延びていることが好ましい。これによって、熱授受部材の変形を確実に抑制することができる。   It is preferable that the plasma irradiation part extends in a direction orthogonal to the moving direction, and the ridges are arranged in the heat receiving part and extend in parallel with the plasma irradiation part. Thereby, the deformation of the heat transfer member can be surely suppressed.

前記熱授受部材には熱を伝達する媒体を通す熱媒管が設けられていてもよい。
これによって、プラズマ照射部からの熱を熱授受部材の広い範囲に伝達することができる。 The heat transfer member may be provided with a heat medium pipe for passing a medium for transferring heat.
Thereby, the heat from the plasma irradiation unit can be transmitted to a wide range of the heat transfer member.

前記熱媒管が、前記凸条として提供されていてもよい。
この熱媒管兼凸条によって、プラズマ照射部からの熱を熱授受部材の広い範囲に伝達できるとともに、熱授受部材の熱変形を防止することができる。 The heat medium pipe may be provided as the ridge.
With this heat medium tube and projection, heat from the plasma irradiation part can be transmitted to a wide range of the heat transfer member, and thermal deformation of the heat transfer member can be prevented.

前記熱媒管が、前記受熱部から前記放熱部へ延びる伝熱管部を含むことが好ましい。
これによって、プラズマ照射部から受熱部に付与された熱を放熱部へ確実に伝達することができ、被処理物を処理前に確実に予熱することができる。 It is preferable that the heat medium tube includes a heat transfer tube portion extending from the heat receiving portion to the heat radiating portion.
Thus, the heat applied from the plasma irradiation unit to the heat receiving unit can be reliably transmitted to the heat radiating unit, and the workpiece can be reliably preheated before processing.

前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に断熱材を設けるのが好ましい。
これによって、熱が熱授受部材の前記反対側面から放散されるのを防止でき、被処理物を確実に加熱することができる。 It is preferable to provide a heat insulating material on the surface of the heat transfer member opposite to the plasma irradiation part side.
Thus, heat can be prevented from being dissipated from the opposite side surface of the heat transfer member, and the object to be processed can be reliably heated.

本発明によれば、プラズマ照射部の熱を利用して被処理物を処理前に予熱することができ、処理効率を高めることができる。また、凸条によって熱授受部材が熱変形を来たすのを防止ないしは抑制できる。   According to the present invention, the object to be processed can be preheated before processing using the heat of the plasma irradiation unit, and the processing efficiency can be increased. Moreover, it can prevent thru | or suppress that a heat transfer member brings about a thermal deformation by a protruding item | line.

以下、本発明の第１実施形態を説明する。
図１及び図２は、被処理物９の表面（上面）をプラズマ処理する装置１を示したものである。被処理物９は、例えば大型液晶ディスプレイ用のガラス基板であるが、これに限定されるものではなく、有機フィルムや半導体ウェハなどであってもよい。処理内容は、例えば被処理物９の表面改質（親水化、撥水化等）であるが、これに限定されるものではない。 Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described.
1 and 2 show an apparatus 1 for plasma processing the surface (upper surface) of an object 9 to be processed. The workpiece 9 is, for example, a glass substrate for a large liquid crystal display, but is not limited thereto, and may be an organic film, a semiconductor wafer, or the like. The processing content is, for example, surface modification (hydrophilization, water repellency, etc.) of the workpiece 9, but is not limited thereto.

プラズマ処理装置１は、プラズマ照射部１０と、ローラコンベア２０（移動手段）を備えている。プラズマ照射部１０は、一対をなす高圧電極１１と接地電極１２を含んでいる。高圧電極１１は、幅方向を左右に向け、長手方向を図１の紙面と直交する前後方向（図２の左右方向）に向けた厚板状の金属で構成され、プラズマ照射部１０の内部に絶縁されて配置されている。接地電極１２は、幅方向を左右に向け、長手方向を前後に向けた金属板で構成され、プラズマ照射部１０の底部に配置されている。高圧電極１１と接地電極１２は上下に対向し、両者の間に空間１３が形成されている。これら電極１１，１２の互いの対向面には固体誘電体層（図示省略）が設けられている。固体誘電体層は、少なくとも一方の電極に設けられていればよい。   The plasma processing apparatus 1 includes a plasma irradiation unit 10 and a roller conveyor 20 (moving means). The plasma irradiation unit 10 includes a pair of a high voltage electrode 11 and a ground electrode 12. The high-voltage electrode 11 is made of a thick plate-like metal with the width direction facing left and right and the longitudinal direction facing the front-rear direction (left-right direction in FIG. 2) orthogonal to the paper surface of FIG. It is arranged insulated. The ground electrode 12 is composed of a metal plate with the width direction facing left and right and the longitudinal direction facing front and rear, and is disposed at the bottom of the plasma irradiation unit 10. The high-voltage electrode 11 and the ground electrode 12 face each other vertically, and a space 13 is formed between them. A solid dielectric layer (not shown) is provided on the opposing surfaces of the electrodes 11 and 12. The solid dielectric layer may be provided on at least one of the electrodes.

図１に示すように、処理ガス供給源２から処理ガス供給路２ａが延び、この供給路２ａが２つに分岐して電極間空間１３の左右両側部にそれぞれ連なっている。処理ガス供給源２は、処理目的に応じた処理ガス（例えば、Ｎ２、Ｏ２、Ｈｅ、Ａｒ、ハロゲン系ガス等）を供給路２ａを介して電極間空間１３内に供給するようになっている。 As shown in FIG. 1, a processing gas supply path 2 a extends from the processing gas supply source 2, and the supply path 2 a branches into two and is connected to the left and right side portions of the interelectrode space 13. The processing gas supply source 2 supplies a processing gas (for example, N 2 , O 2 , He, Ar, halogen-based gas, etc.) according to the processing purpose into the interelectrode space 13 through the supply path 2a. ing.

図２に示すように、高圧電極１１には電源３が接続されている。接地電極１２は接地線３ｂを介して電気的に接地されている。電源３から高圧電極１１への電圧供給によって電極１１，１２間に電界が印加され、大気圧近傍下でのグロー放電が発生してプラズマＰＬが生成され、電極間空間１３がプラズマ生成空間となる。このプラズマ空間１３に供給された処理ガスがプラズマ化（分解、励起、活性化、ラジカル化、イオン化等）されるようになっている。
ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡易化の観点からは、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。 As shown in FIG. 2, a power source 3 is connected to the high voltage electrode 11. The ground electrode 12 is electrically grounded via the ground line 3b. By supplying a voltage from the power source 3 to the high-voltage electrode 11, an electric field is applied between the electrodes 11 and 12, a glow discharge is generated near atmospheric pressure, plasma PL is generated, and the interelectrode space 13 becomes a plasma generation space. . The processing gas supplied to the plasma space 13 is turned into plasma (decomposition, excitation, activation, radicalization, ionization, etc.).
Here, the vicinity of atmospheric pressure refers to a range of 1.013 × 10 4 to 50.663 × 10 4 Pa. From the viewpoint of facilitating pressure adjustment and simplifying the device configuration, 1.333 × 10 4. ˜10.664 × 10 4 Pa is preferable, and 9.331 × 10 4 to 10.397 × 10 4 Pa is more preferable.

接地電極１２には多数（複数）の噴出口１２ａが形成されている。これら噴出口１２ａは、接地電極１２の上面から下面へ厚さ方向に貫通している。多数の噴出口１２ａは互いに規則的（例えば碁盤目状）に整列されている。噴出口１２ａの上端部は、プラズマ空間１３に連なっている。プラズマ生成空間１３内でプラズマ化された処理ガスＧＳが噴出口１２ａを通って下方へ噴出されるようになっている。また、プラズマ生成空間１３のプラズマＰＬからの発光（熱光線）ＬＴが噴出口１２ａを通って下方へ放射されるようになっている。   A large number (a plurality) of jet holes 12 a are formed in the ground electrode 12. These jet nozzles 12a penetrate the ground electrode 12 from the upper surface to the lower surface in the thickness direction. The plurality of jet nozzles 12a are regularly arranged with respect to each other (for example, a grid pattern). The upper end portion of the ejection port 12 a is continuous with the plasma space 13. The processing gas GS converted into plasma in the plasma generation space 13 is ejected downward through the ejection port 12a. Further, light emission (heat ray) LT from the plasma PL in the plasma generation space 13 is radiated downward through the ejection port 12a.

図１及び図２に示すように、ローラコンベア２０は、フレーム２１と、複数のシャフト２２を備え、プラズマ照射部１０の下方に配置されている。シャフト２２は、軸線を前後方向に向け、その両端がフレーム２１に支持されている。複数のシャフト２２は、互いに左右に間隔を置いて平行に並べられている。各シャフト２２にはローラ２３が軸方向に間隔を置いて複数設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the roller conveyor 20 includes a frame 21 and a plurality of shafts 22 and is disposed below the plasma irradiation unit 10. The shaft 22 has its axis line directed in the front-rear direction, and both ends thereof are supported by the frame 21. The plurality of shafts 22 are arranged in parallel at intervals from each other on the left and right. Each shaft 22 is provided with a plurality of rollers 23 spaced apart in the axial direction.

シャフト２２の上に被処理物９が配置されている。ローラコンベア２０を駆動することにより被処理物９が図１の矢印Ａにて示す方向に移動されるようになっている。この被処理物９の上面の移動軌跡上の水平面であってプラズマ照射部１０の直下にあたる領域が「処理位置Ｐ」となる。図１において、仮想線で示すように、この処理位置Ｐを被処理物９が横切るように移動されることになる。   A workpiece 9 is disposed on the shaft 22. By driving the roller conveyor 20, the workpiece 9 is moved in the direction indicated by the arrow A in FIG. A region that is a horizontal plane on the movement locus of the upper surface of the workpiece 9 and that is directly below the plasma irradiation unit 10 is a “processing position P”. In FIG. 1, as shown by a virtual line, the processing object 9 is moved across the processing position P.

図２に示すように、シャフト２２の下方には下受け台２４が水平に設けられている。下受け台２４の端部が、ブラケット２５を介してフレーム２１に支持されている。   As shown in FIG. 2, a lower pedestal 24 is horizontally provided below the shaft 22. An end portion of the lower cradle 24 is supported by the frame 21 via a bracket 25.

図１及び図２に示すように、下受け台２４上に熱授受部材３０が設置されている。熱授受部材３０は、処理位置Ｐを挟んでプラズマ照射部１０と対向するよう配置されている。
熱授受部材３０は、熱授受板３１と、脚部３３を備えている。脚部３３の下端部が下受け台２４に支持されている。
脚部３３に代えて、支持ブラケットを熱授受板３１から水平に外側へ延出してフレーム２１に連結することにより、熱授受部材３０を支持するようにしていてもよい。 As shown in FIGS. 1 and 2, a heat transfer member 30 is installed on the lower receiving table 24. The heat transfer member 30 is disposed so as to face the plasma irradiation unit 10 with the processing position P interposed therebetween.
The heat transfer member 30 includes a heat transfer plate 31 and legs 33. A lower end portion of the leg portion 33 is supported by the lower support 24.
Instead of the leg portion 33, the heat transfer member 30 may be supported by extending a support bracket horizontally outward from the heat transfer plate 31 and connecting it to the frame 21.

熱授受板３１は、幅方向を左右に向け、長手方向を前後に向けた長方形の平板状をなしている。熱授受板３１の材質は、熱の伝導及び輻射性の良好なものであることが好ましく、更にパーティクルを生じにくいものであることがより好ましい。このような材質として、例えばステンレス、チタン等の金属が挙げられるが、これに限定されるものではなく、セラミック等の絶縁性の材料を用いてもよい。   The heat transfer plate 31 has a rectangular flat plate shape in which the width direction is directed to the left and right and the longitudinal direction is directed to the front and rear. The material of the heat transfer plate 31 is preferably a material having good heat conduction and radiation properties, and more preferably a material that hardly generates particles. Examples of such a material include metals such as stainless steel and titanium, but are not limited thereto, and an insulating material such as ceramic may be used.

熱授受板３１は、処理位置Ｐの僅かに下側に離れて配置されている。熱授受板３１のローラ２３に対応する箇所には、ローラ２３を挿通するためのローラ挿通孔３１ａが形成されている。ローラ挿通孔３１ａからローラ２３が僅かに上へ突出するようになっている。   The heat transfer plate 31 is disposed slightly below the processing position P. A roller insertion hole 31 a for inserting the roller 23 is formed at a location corresponding to the roller 23 of the heat transfer plate 31. The roller 23 protrudes slightly upward from the roller insertion hole 31a.

図１に示すように、熱授受板３１は、プラズマ照射部１０より左右に幅広になっている。図３に示すように、熱授受板３１は、プラズマ照射部１０の直下に当たる受熱部３０ａと、この受熱部３０ａの左外側（移動方向Ａの上流側）と右外側（移動方向Ａの下流側）にそれぞれ延出された放熱部３０ｂを含んでいる。   As shown in FIG. 1, the heat transfer plate 31 is wider to the left and right than the plasma irradiation unit 10. As shown in FIG. 3, the heat transfer plate 31 includes a heat receiving portion 30 a that is directly below the plasma irradiation portion 10, a left outer side (upstream side in the moving direction A) and a right outer side (downstream side in the moving direction A) of the heat receiving portion 30 a. ) Each include a heat radiating portion 30b.

図２に示すように、熱授受板３１の前後長手方向の寸法は、最も外側の噴出口１２ａより前後に延出する長さであって、更に被処理物９より前後に延出する長さになっている。これにより、被処理物９を前後方向に均一に処理することができる。
熱授受板３１の前後長手方向の寸法は、プラズマ照射部１０より少し短いが、プラズマ照射部１０と略同じ長さになっていてもよく、プラズマ照射部１０より長くなっていてもよい。 As shown in FIG. 2, the dimension in the longitudinal direction of the heat transfer plate 31 is a length extending in the front-rear direction from the outermost jet port 12 a, and further extending in the front-rear direction from the workpiece 9. It has become. Thereby, the to-be-processed object 9 can be processed uniformly in the front-back direction.
The longitudinal dimension of the heat transfer plate 31 is slightly shorter than that of the plasma irradiation unit 10, but may be substantially the same length as the plasma irradiation unit 10 or may be longer than the plasma irradiation unit 10.

熱授受板３１の裏面（プラズマ照射部１０側とは反対側の面）には凸条３２が設けられている。凸条３２は、熱授受板３１と一体の金属にて形成されている。図３及び図４に示すように、凸条３２は、熱授受板３１の長辺側の両外周縁に沿う凸条部３２ａと、短辺側の両外周縁に沿う凸条部３２ｂと、左右幅方向の中間部において長辺方向に延びる凸条部３２ｃと、前後長手方向の中間部において短辺方向に延びる凸条部３２ｄとを含んでいる。   On the back surface of the heat transfer plate 31 (the surface opposite to the plasma irradiation unit 10 side), a protrusion 32 is provided. The ridges 32 are formed of a metal that is integral with the heat transfer plate 31. As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the ridge 32 includes a ridge 32 a along both outer rims on the long side of the heat transfer plate 31, and a ridge 32 b along both outer rims on the short side, It includes a ridge portion 32c extending in the long side direction at the intermediate portion in the left-right width direction, and a ridge portion 32d extending in the short side direction at the intermediate portion in the longitudinal direction.

凸条部３２ａ，３２ｂどうしは、熱授受板３１の角部において互いに直角に交差し連続している。この凸条部３２ａ，３２ｂの交差部に脚部３３が接合されている。接合手段は、溶接でもよく、ネジ止めでもよい。
なお、脚部３３は、凸条部３２ａ，３２ｂの交差部にではなく、凸条３２より内側の熱授受板３１の裏面に接合されていてもよい。 The ridges 32 a and 32 b intersect at a right angle at the corner of the heat transfer plate 31 and are continuous. A leg 33 is joined to the intersection of the ridges 32a and 32b. The joining means may be welding or screwing.
In addition, the leg part 33 may be joined to the back surface of the heat transfer plate 31 inside the ridge 32 instead of the intersection of the ridges 32a and 32b.

図１及び図２に示すように、凸条部３２ｃは、プラズマ照射部１０の左右幅方向の略中央部の直下においてプラズマ照射部１０の長手方向と平行に配置されている。凸条部３２ｄは、プラズマ照射部１０の前後長手方向の略中央部の直下においてプラズマ照射部１０の短手方向と平行に配置されている。凸条部３２ｃ，３２ｄどうしは中央部で互いに直角に交差している。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the ridge portion 32 c is arranged in parallel with the longitudinal direction of the plasma irradiation unit 10 immediately below the substantially central portion of the plasma irradiation unit 10 in the left-right width direction. The protrusions 32 d are arranged in parallel with the short direction of the plasma irradiation unit 10 immediately below the substantially central part in the longitudinal direction of the plasma irradiation unit 10. The protrusions 32c and 32d intersect each other at a right angle at the center.

上記のように構成されたプラズマ処理装置１において、高圧電極１１への電圧印加によって電極間空間１３内でプラズマＰＬが生成される。このプラズマＰＬの発する熱光線ＬＴが噴出口１２ａを通って熱授受部材３０の受熱部３０ａに照射される。これにより、受熱部３０ａが輻射加熱され高温になる。また、電極間空間１３内でプラズマ化され高温化した処理ガスＧＳが噴出口１２ａを経て受熱部３０ａに吹き付けられる。これにより、受熱部３０ａが更に加熱される。受熱部３０ａの熱は左右の放熱部３０ｂへ伝わっていく。これにより、熱授受部材３０の全体が高温化する。   In the plasma processing apparatus 1 configured as described above, plasma PL is generated in the interelectrode space 13 by applying a voltage to the high voltage electrode 11. The heat beam LT emitted by the plasma PL is irradiated to the heat receiving portion 30a of the heat transfer member 30 through the jet nozzle 12a. Thereby, the heat receiving part 30a is radiantly heated and becomes high temperature. Further, the processing gas GS that has been converted to plasma and heated to a high temperature in the inter-electrode space 13 is blown to the heat receiving part 30a through the ejection port 12a. Thereby, the heat receiving part 30a is further heated. The heat of the heat receiving portion 30a is transferred to the left and right heat radiating portions 30b. Thereby, the whole heat transfer member 30 is heated.

続いて、図１に示すように、ローラコンベア２０上に載せられた被処理物９が熱授受部材３０の左外側からやって来、熱授受部材３０の左側部分の上方に被さるようになる。このとき、左側（移動方向Ａの上流側）の放熱部３０ｂからの輻射熱が被処理物９に照射される。これによって、被処理物９を予熱することができる。
やがて、被処理物９がプラズマ照射部１０の直下の処理位置Ｐに位置するようになると、噴出口１２ａからのプラズマガスが被処理物９に接触する。これにより、被処理物９の表面処理がなされる。被処理物９が予熱されているため、反応を促進させることができ、処理効率を向上させることができる。また、受熱部３０ａからも輻射熱が被処理物９に照射される。これにより、被処理物９をプラズマ照射中も継続して加熱でき、反応を一層促進させ、処理効率を一層向上させることができる。さらに、処理位置Ｐを通過した被処理物９には、右側（移動方向Ａの下流側）の放熱部３０ｂからの輻射熱が照射される。これによって、被処理物９をプラズマ照射後も継続して加熱でき、十分な処理反応を確保できる。 Subsequently, as shown in FIG. 1, the workpiece 9 placed on the roller conveyor 20 comes from the left outer side of the heat transfer member 30 and covers the upper portion of the left side portion of the heat transfer member 30. At this time, the object 9 is irradiated with radiant heat from the heat radiating portion 30b on the left side (upstream side in the moving direction A). Thereby, the workpiece 9 can be preheated.
Eventually, when the workpiece 9 is positioned at the processing position P immediately below the plasma irradiation unit 10, the plasma gas from the jet outlet 12 a comes into contact with the workpiece 9. Thereby, the surface treatment of the workpiece 9 is performed. Since the workpiece 9 is preheated, the reaction can be promoted and the processing efficiency can be improved. In addition, the object 9 is irradiated with radiant heat from the heat receiving portion 30a. Thereby, the to-be-processed object 9 can be continuously heated even during plasma irradiation, reaction can be further accelerated | stimulated, and process efficiency can be improved further. Further, the workpiece 9 that has passed through the processing position P is irradiated with radiant heat from the heat radiating portion 30b on the right side (downstream in the moving direction A). Thereby, the workpiece 9 can be continuously heated even after the plasma irradiation, and a sufficient processing reaction can be secured.

熱授受部材３０には凸条３２が設けられているため、プラズマによって加熱されても、熱授受板３１が変形を来たすのを防止することができる。特に、熱授受板３１の中央部と周辺部の間に温度勾配が形成されたとしても、凸条部３２ｃによって熱授受板３１の長手方向の両端部が中央部に対し上または下に湾曲変形するのを防止できる。よって、熱授受板３１が被処理物９に衝突しないようにでき、被処理物９が損傷するのを防止することができる。また、被処理物９を均一に加熱することができる。
熱授受部材３０は構造が簡易であり、安価に製造できる。 Since the heat transfer member 30 is provided with the ridges 32, the heat transfer plate 31 can be prevented from being deformed even when heated by the plasma. In particular, even if a temperature gradient is formed between the central portion and the peripheral portion of the heat transfer plate 31, both ends in the longitudinal direction of the heat transfer plate 31 are curved and deformed upward or downward with respect to the central portion by the ridges 32 c. Can be prevented. Therefore, the heat transfer plate 31 can be prevented from colliding with the workpiece 9, and the workpiece 9 can be prevented from being damaged. Moreover, the to-be-processed object 9 can be heated uniformly.
The heat transfer member 30 has a simple structure and can be manufactured at low cost.

次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
図５は、本発明の第２実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受部材３０の熱授受板３１を構成する長方形の金属板の４つの縁部が、それぞれ裏側（プラズマ照射部１０側とは反対側）へ折り曲げられ、凸条３２を構成している。これにより、熱授受部材３０を一層簡易な構造にでき、一層安価に製造できる。
なお、図５において、脚部３３の図示は省略している（以降の実施形態において同様）。 Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same reference numerals are given to the drawings for the same configurations as those already described, and the description thereof is omitted.
FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, four edge portions of a rectangular metal plate constituting the heat transfer plate 31 of the heat transfer member 30 are bent to the back side (opposite side from the plasma irradiation unit 10 side) to form the ridge 32. is doing. Thereby, the heat transfer member 30 can have a simpler structure and can be manufactured at a lower cost.
In addition, in FIG. 5, illustration of the leg part 33 is abbreviate | omitted (same in subsequent embodiment).

図６は、本発明の第３実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受部材３０が複数の分割板部３４に分割されている。ここでは、熱授受部材３０が短手方向に分割され、各分割板部３４が熱授受部材３０の長手方向に延びているが、これに限定されるものではなく、熱授受部材３０が長手方向に分割さ、各分割板部３４が熱授受部材３０の短手方向に延びていてもよい。   FIG. 6 shows a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the heat transfer member 30 is divided into a plurality of divided plate portions 34. Here, the heat transfer member 30 is divided in the short direction, and each divided plate portion 34 extends in the longitudinal direction of the heat transfer member 30, but is not limited thereto, and the heat transfer member 30 is in the longitudinal direction. Each divided plate portion 34 may extend in the short direction of the heat transfer member 30.

各分割板部３４に凸条３２が設けられている。凸条３２は、分割板部３４の長手方向に延びている。
各分割板部３４の所定位置にローラ挿通孔３１ａが形成されている。ローラ挿通孔３１ａは、隣り合う分割板部３４どうし間に跨るように形成されていてもよい。
隣り合う分割板部３４どうしがくっついているが、少し離れて間に隙間が形成されていてもよく、この隙間を通してローラ２３が熱授受部材３０より上側に突出されるようになっていてもよい。 Each dividing plate portion 34 is provided with a ridge 32. The ridge 32 extends in the longitudinal direction of the divided plate portion 34.
A roller insertion hole 31 a is formed at a predetermined position of each divided plate portion 34. The roller insertion hole 31a may be formed so as to straddle between adjacent divided plate portions 34.
Adjacent divided plate portions 34 are connected to each other, but a gap may be formed between them a little apart, and the roller 23 may protrude above the heat transfer member 30 through this gap. .

図７は、本発明の第４実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受部材３０の熱授受板３１の裏面（下面）に、熱授受板３１と一体の凸条３２が設けられていない。これに代えて、熱授受板３１とは別体の熱媒管３５が設けられている。熱媒管３５は、熱授受板３１に例えば溶接にて固定されている。熱媒管３５の固定手段は、これに限定されるものではなく、固定金具やネジ等を用いて熱授受板３１に固定されていてもよい。熱媒管３５は、熱授受板３１の全体に行き渡るように蛇行するよう折り曲げられ、受熱部３０ａから放熱部３０ｂへ向かう伝熱管部３５ａと、放熱部３０ｂから受熱部３０ａへ向かう還管部３５ｂとを含んでいる。熱媒管３５の両端部は、熱授受板３１から外部へ引き出され、一端部には循環ポンプ４の吐出ポート４ａが接続され、他端部には吸引ポート４ｂが接続されている。   FIG. 7 shows a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, the protrusions 32 integral with the heat transfer plate 31 are not provided on the back surface (lower surface) of the heat transfer plate 31 of the heat transfer member 30. Instead, a heat medium pipe 35 that is separate from the heat transfer plate 31 is provided. The heat medium pipe 35 is fixed to the heat transfer plate 31 by, for example, welding. The fixing means of the heat medium pipe 35 is not limited to this, and may be fixed to the heat transfer plate 31 using a fixing bracket, a screw, or the like. The heat medium pipe 35 is bent so as to meander over the entire heat transfer plate 31, and is a heat transfer pipe part 35a from the heat receiving part 30a to the heat radiating part 30b, and a return pipe part 35b from the heat radiating part 30b to the heat receiving part 30a. Including. Both ends of the heat medium pipe 35 are drawn out from the heat transfer plate 31, the discharge port 4 a of the circulation pump 4 is connected to one end, and the suction port 4 b is connected to the other end.

循環ポンプ４の駆動によって、熱媒が熱媒管３５内を循環される。これによって、熱授受部材３０の受熱部３０ａが、噴出口１２ａからの輻射熱及び処理ガスで直接加熱された後、その熱を熱媒管３５内の熱媒によって放熱部３０ｂを含む熱授受部材３０全体に十分に行き渡らせることができる。特に、伝熱管部３５ａ内において熱媒が受熱部３０ａから放熱部３０ｂへ流れることにより、受熱部３０ａの熱を放熱部３０ｂへ確実に伝えることができる。これにより、被処理物９をより十分に加熱でき、処理効率を一層高めることができる。
熱媒としては水等を用いることができる。
熱媒管３５は、凸条として機能し、熱授受板３１の変形を抑制ないし防止することができる。 The heat medium is circulated in the heat medium pipe 35 by driving the circulation pump 4. Thus, after the heat receiving portion 30a of the heat transfer member 30 is directly heated by the radiant heat from the jet nozzle 12a and the processing gas, the heat transfer member 30 including the heat radiating portion 30b by the heat medium in the heat medium pipe 35 is used. It can be fully spread throughout. In particular, the heat medium flows from the heat receiving portion 30a to the heat radiating portion 30b in the heat transfer tube portion 35a, so that the heat of the heat receiving portion 30a can be reliably transmitted to the heat radiating portion 30b. Thereby, the to-be-processed object 9 can be heated more fully, and processing efficiency can be improved further.
Water or the like can be used as the heat medium.
The heat medium pipe 35 functions as a ridge and can suppress or prevent deformation of the heat transfer plate 31.

図８は、本発明の第５実施形態を示したものである。この実施形態では、熱媒管３５が、１つの往ヘッダ管部３５ｃと、多数（複数）の伝熱管部３５ｄと、２つの還ヘッダ管部３５ｅとを有している。往ヘッダ管部３５ｃは、受熱部３０ａの中央部において前後方向に延び、プラズマ照射部１０の左右方向のちょうど中央部の直下にプラズマ照射部１０と平行に配置されている。往ヘッダ管部３５ｃの一端部に循環ポンプ４の吐出ポート４ａが接続されている。   FIG. 8 shows a fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, the heat transfer medium pipe 35 has one forward header pipe part 35c, a large number (a plurality) of heat transfer pipe parts 35d, and two return header pipe parts 35e. The forward header pipe part 35c extends in the front-rear direction at the center of the heat receiving part 30a, and is arranged in parallel with the plasma irradiation part 10 just below the central part in the left-right direction of the plasma irradiation part 10. A discharge port 4a of the circulation pump 4 is connected to one end of the forward header pipe portion 35c.

往ヘッダ管部３５ｃから長手方向の等間隔置きに伝熱管部３５ｄが左右両側へ分岐されている。伝熱管部３５ｄは、受熱部３０ａから放熱部３０ｂへ延び出ている。還ヘッダ管部３５ｅは、熱授受部材３０の左右両側の縁に沿って配置されている。この還ヘッダ管部３５ｅに伝熱管部３５ｄが合流されている。還ヘッダ管部３５ｅの一端部には循環ポンプ４の吸引ポート４ｂが接続されている。   A heat transfer tube portion 35d is branched from the forward header tube portion 35c to the left and right sides at equal intervals in the longitudinal direction. The heat transfer tube portion 35d extends from the heat receiving portion 30a to the heat radiating portion 30b. The return header pipe part 35 e is disposed along the left and right edges of the heat transfer member 30. A heat transfer tube portion 35d is joined to the return header tube portion 35e. A suction port 4b of the circulation pump 4 is connected to one end of the return header pipe portion 35e.

この第５実施形態によれば、受熱部３０ａが、プラズマ照射部１０からの輻射熱及び処理ガスで直接加熱され、この熱を往ヘッダ管部３５ｃ内の熱媒が受け取った後、この熱媒が伝熱管部３５ｄによって左右外側の放熱部３０ｂへ流れる。これによって、受熱部３０ａで受け取った熱を放熱部３０ｂへ確実に伝播させることができ、放熱部３０ｂを確実に加熱することができる。したがって、被処理物９を一層十分に加熱できる。この結果、処理効率をより一層高めることができる。   According to the fifth embodiment, the heat receiving part 30a is directly heated by the radiant heat and the processing gas from the plasma irradiation part 10, and after the heat medium in the forward header pipe part 35c receives this heat, the heat medium The heat transfer tube part 35d flows to the left and right heat radiating part 30b. Thereby, the heat received by the heat receiving part 30a can be reliably propagated to the heat radiating part 30b, and the heat radiating part 30b can be reliably heated. Therefore, the workpiece 9 can be heated more sufficiently. As a result, the processing efficiency can be further increased.

また、熱媒管３５が凸条として機能することは第４実施形態（図７）と同様であるが、特に、往ヘッダ管部３５が受熱部３０ａの中央部に前後長手方向に延びるように配置されることにより、熱授受板３１の長手方向の両端部が中央部に対し上または下に湾曲変形するのを防止できる。   In addition, the heat medium pipe 35 functions as a ridge, as in the fourth embodiment (FIG. 7). In particular, the forward header pipe part 35 extends in the longitudinal direction in the center of the heat receiving part 30a. By disposing, both end portions in the longitudinal direction of the heat transfer plate 31 can be prevented from bending upward or downward with respect to the central portion.

図９は、本発明の第６実施形態を示したものである。この実施形態では、ポンプ４に代えてヒータ５が設けられている。また、熱媒を流通させる熱媒管３５に代えて、電熱線３６が用いられている。詳細な図示は省略するが、電熱線３６は、電流により発熱する発熱導体と、この発熱導体の外周を絶縁して被覆する絶縁被覆とを含み、固定金具等によって熱授受板３１に固定されている。電熱線３６の配線構造は図７の熱媒管３５と同様になっているが、これに限定されるものではない。   FIG. 9 shows a sixth embodiment of the present invention. In this embodiment, a heater 5 is provided instead of the pump 4. Moreover, it replaces with the heat medium pipe | tube 35 which distribute | circulates a heat medium, and the heating wire 36 is used. Although not shown in detail, the heating wire 36 includes a heat generating conductor that generates heat due to an electric current and an insulating coating that insulates and covers the outer periphery of the heat generating conductor, and is fixed to the heat transfer plate 31 by a fixing bracket or the like. Yes. Although the wiring structure of the heating wire 36 is the same as that of the heat medium pipe 35 of FIG. 7, it is not limited to this.

この第６実施形態によれば、熱授受部材３０を、プラズマ照射部１０からの熱によってだけでなくヒータ５によっても加熱することができる。しかも、電熱線３６によって、ヒータ５の熱を熱授受部材３０の全体に万遍なく行き渡らせることができる。したがって、熱授受部材３０の全体を十分に高温化できる。よって、被処理物９をより一層確実に加熱でき、処理効率をより一層高めることができる。
また、電熱線３６が凸条として機能し、熱授受部材３０の変形を抑制ないし防止することができる。 According to the sixth embodiment, the heat transfer member 30 can be heated not only by the heat from the plasma irradiation unit 10 but also by the heater 5. In addition, the heating wire 36 can spread the heat of the heater 5 uniformly throughout the heat transfer member 30. Therefore, the entire heat transfer member 30 can be sufficiently heated. Therefore, the to-be-processed object 9 can be heated more reliably, and processing efficiency can be improved further.
Moreover, the heating wire 36 functions as a ridge, and the deformation of the heat transfer member 30 can be suppressed or prevented.

図１０は、本発明の第７実施形態を示したものである。この実施形態では、熱授受板３１の裏面に断熱材３７が設けられている。断熱材３７は、熱授受部材３０の裏面全体を覆い、熱授受部材３０の外端面をも覆っている。
断熱材としてはウレタンフォーム等の断熱性樹脂のほかセラミック等を用いることができる。 FIG. 10 shows a seventh embodiment of the present invention. In this embodiment, a heat insulating material 37 is provided on the back surface of the heat transfer plate 31. The heat insulating material 37 covers the entire back surface of the heat transfer member 30 and also covers the outer end surface of the heat transfer member 30.
As the heat insulating material, ceramics can be used in addition to heat insulating resin such as urethane foam.

この第７実施形態によれば、熱授受部材３０からの熱が下方（プラズマ照射部１０側とは反対側）へ放散するのを防止でき、熱のほとんどが上方へのみ輻射されるようにでき、被処理物９を確実に輻射加熱することができる。   According to the seventh embodiment, heat from the heat transfer member 30 can be prevented from radiating downward (opposite to the plasma irradiation unit 10 side), and most of the heat can be radiated only upward. The object 9 can be reliably radiantly heated.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、当業者に自明の範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、凸条３２は、熱授受板３１と別体になっており、溶接やネジ止め等の固着手段にて熱授受板３１に固着されるようになっていてもよい。
凸条３２，３５，３６は、被処理物９の移動経路等と干渉しない限り、熱授受板３１から上方（プラズマ照射部１０側）へ突出されていてもよい。
熱授受部材３０は、プラズマ照射部１０よりも被処理物９の移動方向の少なくとも上流側（図１の左側）に延出していればよく、下流側にはほとんど延出していなくてもよい。熱授受部材３０の上記移動方向の上流側への延出量が上記移動方向の下流側への延出量より大きくてもよい。
２以上の実施形態を組み合わせてもよい。例えば、熱授受板３１に凸条３２と熱媒管３５の両方が設けられていてもよい。
プラズマ照射部１０の電極１１，１２どうしが、上下に対向するのに代えて、左右に対向していてもよく、これら電極１１，１２どうし間の下端部にスリット状の噴出口が連なっていてもよい。
本発明は、表面改質に限られず、洗浄、アッシング、エッチング、成膜、乾燥等の種々の表面処理に適用可能であり、大気圧近傍下でのプラズマ処理に限られず、低圧下でのプラズマ処理にも適用可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made within the scope obvious to those skilled in the art.
For example, the ridges 32 are separate from the heat transfer plate 31 and may be fixed to the heat transfer plate 31 by fixing means such as welding or screwing.
The protrusions 32, 35, and 36 may protrude upward (from the plasma irradiation unit 10 side) from the heat transfer plate 31 as long as they do not interfere with the movement path or the like of the workpiece 9.
The heat transfer member 30 only needs to extend at least upstream (left side in FIG. 1) in the movement direction of the workpiece 9 relative to the plasma irradiation unit 10 and may hardly extend downstream. The extension amount of the heat transfer member 30 to the upstream side in the movement direction may be larger than the extension amount to the downstream side in the movement direction.
Two or more embodiments may be combined. For example, both the protrusion 32 and the heat medium pipe 35 may be provided on the heat transfer plate 31.
The electrodes 11 and 12 of the plasma irradiation unit 10 may be opposed to the left and right instead of facing each other, and a slit-like nozzle is connected to the lower end between the electrodes 11 and 12. Also good.
The present invention is not limited to surface modification, and can be applied to various surface treatments such as cleaning, ashing, etching, film formation, and drying, and is not limited to plasma treatment near atmospheric pressure, but plasma under low pressure. It can also be applied to processing.

本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や半導体ウェハの製造に適用可能である。   The present invention is applicable, for example, to the manufacture of flat panel displays (FPD) and semiconductor wafers.

本発明の第１実施形態に係るプラズマ処理装置を、図２のＩ−Ｉ線に沿って示す正面断面図である。It is front sectional drawing which shows the plasma processing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention along the II line | wire of FIG. 上記プラズマ処理装置を、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the said plasma processing apparatus along the II-II line | wire of FIG. 上記プラズマ処理装置の熱授受部材の底面図である。It is a bottom view of the heat transfer member of the said plasma processing apparatus. 上記熱授受部材を裏側から矢視した斜視図である。It is the perspective view which looked at the said heat transfer member from the back side. 本発明の第２実施形態を示し、熱授受部材を裏側から矢視した斜視図である。It is the perspective view which showed 2nd Embodiment of this invention and which looked at the heat transfer member from the back side. 本発明の第３実施形態を示し、熱授受部材を裏側から矢視した斜視図である。It is the perspective view which showed 3rd Embodiment of this invention and which looked at the heat transfer member from the back side. 本発明の第４実施形態を示し、熱授受部材の底面図である。It is a bottom view of a heat transfer member, showing a fourth embodiment of the present invention. 本発明の第５実施形態を示し、熱授受部材の底面図である。It is a bottom view of a heat transfer member, showing a fifth embodiment of the present invention. 本発明の第６実施形態を示し、熱授受部材の底面図である。It is a bottom view of a heat transfer member, showing a sixth embodiment of the present invention. 本発明の第７実施形態を示し、熱授受部材の断面図である。It is sectional drawing of the heat transfer member which shows 7th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ プラズマ処理装置
２ 処理ガス供給源
３ 電源
４ ポンプ
５ ヒータ（加熱源）
９ 被処理物
１０ プラズマ照射部
１２ａ 噴出口
１３ プラズマ空間
２０ ローラコンベア（移動手段）
２３ ローラ
３０ 熱授受部材
３０ａ 受熱部
３０ｂ 放熱部
３１ 熱授受板
３２ 凸条
３４ 分割板部
３５ 熱媒管（凸条）
３５ａ 伝熱管部
３５ｄ 伝熱管部
３６ 電熱線（凸条）
３７ 断熱材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma processing apparatus 2 Processing gas supply source 3 Power supply 4 Pump 5 Heater (heating source)
9 Processed object 10 Plasma irradiation part 12a Spout 13 Plasma space 20 Roller conveyor (moving means)
23 Roller 30 Heat Transfer Member 30a Heat Receiver 30b Heat Dissipator 31 Heat Transfer Plate 32 Projection Strip 34 Split Plate Section 35 Heat Transfer Tube (Projection Strip)
35a Heat transfer tube portion 35d Heat transfer tube portion 36 Heating wire (ridge)
37 Thermal insulation

Claims (9)

被処理物にプラズマを照射し、前記被処理物の表面を処理する装置において、
（ａ）処理位置に向けてプラズマを照射するプラズマ照射部と、
（ｂ）被処理物を前記処理位置を横切るように一方向に移動させる移動手段と、
（ｃ）前記処理位置を挟んで前記プラズマ照射部と対向するよう配置され、前記プラズマ照射部からの熱を受ける受熱部と、この受熱部から前記移動方向の少なくとも上流側に延出され、受熱部から伝播された熱を放出する放熱部とを含む熱授受部材と、
を備え、前記熱授受部材に凸条が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。 In an apparatus for irradiating a workpiece with plasma and treating the surface of the workpiece,
(A) a plasma irradiation unit that irradiates plasma toward a processing position;
(B) moving means for moving the object to be processed in one direction so as to cross the processing position;
(C) A heat receiving portion that is disposed so as to face the plasma irradiation portion across the processing position, receives heat from the plasma irradiation portion, and extends from the heat receiving portion at least upstream in the moving direction to receive heat. A heat transfer member including a heat radiating part that releases heat propagated from the part;
A plasma processing apparatus, wherein the heat transfer member is provided with protrusions. 前記凸条が、前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the protrusion is provided on a surface of the heat transfer member opposite to the plasma irradiation unit side. 前記熱授受部材の縁部が、折曲され、前記凸条となっていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein an edge portion of the heat transfer member is bent to form the protruding line. 前記熱授受部材が、複数の分割板部に分割されており、各分割板部に前記凸条が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the heat transfer member is divided into a plurality of divided plate portions, and each of the divided plate portions is provided with the protrusions. 前記プラズマ照射部が前記移動方向と直交する方向に延びており、
前記凸条が、前記受熱部に配置され、前記プラズマ照射部と平行に延びていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のプラズマ処理装置。 The plasma irradiation part extends in a direction perpendicular to the moving direction;
The plasma processing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the ridge is arranged in the heat receiving part and extends in parallel with the plasma irradiation part. 前記熱授受部材には熱を伝達する媒体を通す熱媒管が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the heat transfer member is provided with a heat medium pipe through which a medium for transferring heat is passed. 前記熱媒管が、前記凸条として提供されていることを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 6, wherein the heat medium pipe is provided as the ridge. 前記熱媒管が、前記受熱部から前記放熱部へ延びる伝熱管部を含むことを特徴とする請求６又は７に記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 6, wherein the heat medium tube includes a heat transfer tube portion extending from the heat receiving portion to the heat radiating portion. 前記熱授受部材の前記プラズマ照射部側とは反対側の面に断熱材を設けたことを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載のプラズマ処理装置。   The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein a heat insulating material is provided on a surface opposite to the plasma irradiation unit side of the heat transfer member.
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