JP2009192314A - Testing device - Google Patents

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JP2009192314A
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Takashi Takeuchi
孝 竹内
Masahiko Nakamura
正彦 中村
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Orion Machinery Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a testing device capable of exposing the whole of a workpiece fed into a testing vessel to a gas of constant temperature/constant humidity, and capable of uniformizing a temperature distribution and a humidity distribution in the testing vessel. <P>SOLUTION: A testing chamber 2 is partitioned into the testing vessel 5 and a gas supply vessel 6 by a partitioning wall 4. The partitioning wall 4 is formed with a gas diffusing port 17 for supplying the gas of constant temperature or/and constant humidity to the testing vessel 5, and gas suction ports 18, 19 for sucking the gas from the testing vessel 5. The testing vessel 5 is arranged with the first and second gas feedback ducts 21, 22 having tip openings 21a, 22a arranged in the vicinity of a front wall 9 inner than horizontal guide rails 12, 13, and having rear end openings connected to the gas suction ports 18, 19. Consequently, the gas supplied from the gas diffusing port 17 is fed back after passed through the horizontal guide rails 12, 13 to reach the vicinity of the front wall 9. The whole of the workpiece is thereby exposed to the gas, on the horizontal guide rails 12, 13. The temperature distribution and the humidity distribution are also uniformized in the testing vessel 5. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、試験室内に投入されたワークを所定の温度状態に到達させ、通電などの試験を行う試験装置に関する。より詳細には、試験室内がワークに対して試験を行う試験槽と、この試験槽の温度や湿度を制御する気体を試験槽に供給する気体供給槽に仕切られている構成の試験装置に関する。   The present invention relates to a test apparatus that performs a test such as energization by causing a workpiece put in a test chamber to reach a predetermined temperature state. More specifically, the present invention relates to a test apparatus having a configuration in which a test chamber is partitioned into a test tank for testing a workpiece and a gas supply tank for supplying a gas for controlling the temperature and humidity of the test tank to the test tank.

試験装置は、断熱材で覆われた試験室内にワークを投入し、所定の温度状態に到達させた後に通電などの試験を行うものである。試験室内は、仕切り壁によって、ワークに対して試験を行う試験槽と、この試験槽の温度、湿度を制御する恒温や恒湿の気体を試験槽に供給する気体供給槽とに区画されている。試験槽内には、ワークを配置しておくためのワーク配置部が形成されており、気体供給槽内には、加熱器や冷凍サイクルの蒸発器などの熱交換器と、熱交換器によって所定の温度や湿度に調整された気体を試験室内で循環させるための送風ファンが配置されている。仕切り壁には、気体供給槽から試験槽内に気体を吹き込むための気体吹き出し口と、試験槽から気体供給槽に気体を吸い込むための気体吸い込み口が形成されている。   The test apparatus performs a test such as energization after putting a workpiece into a test chamber covered with a heat insulating material and reaching a predetermined temperature state. The test chamber is partitioned by a partition wall into a test tank for testing the workpiece and a gas supply tank for supplying a constant temperature or humidity gas for controlling the temperature and humidity of the test tank to the test tank. . In the test tank, there is formed a work placement portion for placing the work, and in the gas supply tank, a heat exchanger such as a heater or an evaporator of a refrigeration cycle and a heat exchanger are used. A blower fan for circulating a gas adjusted to the temperature and humidity in the test chamber is arranged. The partition wall is formed with a gas outlet for blowing gas from the gas supply tank into the test tank and a gas inlet for sucking gas from the test tank into the gas supply tank.

送風ファンが駆動されると、所定の温度や湿度に調整された気体が気体吹き出し口から試験槽内のワーク配置部に配置したワークに吹き込まれる。試験槽に吹き込まれた気体は、気体吸い込み口から吸い込まれて、再び熱交換器に戻る。このような試験装置は特許文献1に記載されている。
特開平9−197000号公報
When the blower fan is driven, the gas adjusted to a predetermined temperature and humidity is blown from the gas outlet to the workpiece arranged in the workpiece arrangement portion in the test tank. The gas blown into the test tank is sucked from the gas suction port and returns to the heat exchanger again. Such a test apparatus is described in Patent Document 1.
JP-A-9-197000

上記のような試験装置では、試験槽内のワーク配置部に対して同一の側に気体吹き出し口と気体吸い込み口とが形成されているので、所定の温度や湿度に調整されて気体吹き出し口から吹き出された気体の一部は、試験槽内を循環することなく、気体吸い込み口に還流してしまう。   In the test apparatus as described above, since the gas blowing port and the gas suction port are formed on the same side with respect to the work placement portion in the test tank, the gas blowing port is adjusted to a predetermined temperature and humidity. A part of the blown-out gas returns to the gas suction port without circulating in the test tank.

このため、例えば、複数のワークがラックを用いて水平方向および垂直方向に並べられた状態でワーク配置部に配置されている場合には、仕切り壁から遠い位置に配置された一部のワークを気体に十分に晒すことができず、この一部のワークが所定の温度状態に到達するまでに時間がかかってしまうという問題がある。   For this reason, for example, when a plurality of workpieces are arranged in the workpiece placement unit in a state where they are arranged in a horizontal direction and a vertical direction using a rack, some of the workpieces arranged at positions far from the partition wall are There is a problem that it cannot be sufficiently exposed to the gas, and it takes time for some of the workpieces to reach a predetermined temperature state.

また、所定の温度や湿度に調整された気体が試験槽内の隅々まで行き渡らないので、試験槽の温度分布や湿度分布が均一にならないという問題がある。温度分布が均一でなければ、ラックに並べられている複数のワークの周辺の温度に差があるので、全てのワークを均一に所定の温度状態にすることができない。このため、一部のワークが所定の温度状態に到達していても、全てのワークが所定の温度状態に到達するまで長時間に亘って試験槽内に滞留させておかなければならないという問題がある。また、湿度分布が均一でなければ、ラックに並べられている複数のワークの周辺の湿度に差があるので、各ワークに対して所定の湿度条件での試験ができないという問題がある。   Moreover, since the gas adjusted to predetermined temperature and humidity does not spread to every corner in a test tank, there exists a problem that the temperature distribution and humidity distribution of a test tank are not uniform. If the temperature distribution is not uniform, there is a difference in the temperature around the plurality of works arranged in the rack, so that all the works cannot be uniformly brought into a predetermined temperature state. For this reason, there is a problem that even if some workpieces have reached a predetermined temperature state, all the workpieces must remain in the test tank for a long time until they reach a predetermined temperature state. is there. In addition, if the humidity distribution is not uniform, there is a difference in the humidity around the plurality of works arranged in the rack, and there is a problem that the test cannot be performed on each work under a predetermined humidity condition.

本発明の課題は、このような点に鑑みて、試験槽に投入されたワークに、所定の温度や湿度に調整された気体を十分当てることができるとともに、試験槽内の温度分布や湿度分布が均一になっている試験装置を提供することにある。   In view of such a point, the problem of the present invention is that a gas adjusted to a predetermined temperature and humidity can be sufficiently applied to a workpiece put in the test tank, and the temperature distribution and humidity distribution in the test tank can be applied. It is an object of the present invention to provide a test apparatus in which is uniform.

上記の課題を解決するために、本発明の試験装置は、
試験室と、
前記試験室の内部を、ワークに対して試験を行う試験槽、および、前記試験槽に恒温または/および恒湿気体を供給する気体供給槽に仕切っている仕切り壁と、
前記気体供給槽から前記試験槽へ恒温または/および恒湿気体を供給するために前記仕切り壁に形成されている気体吹き出し口と、
前記試験槽の気体を前記気体供給槽に還流させるための気体還流用ダクトを有しており、 前記試験槽の気体を吸い込むための前記気体還流用ダクトの先端開口は、前記試験槽内に投入されたワークが配置されるワーク配置部を挟み、前記仕切り壁とは反対側の部位に配置されていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the test apparatus of the present invention provides:
A test room,
A partition wall that divides the inside of the test chamber into a test tank that performs a test on a workpiece, and a gas supply tank that supplies constant temperature or / and humidity gas to the test tank;
A gas outlet formed in the partition wall for supplying a constant temperature or / and a constant humidity gas from the gas supply tank to the test tank;
It has a gas recirculation duct for recirculating the gas in the test tank to the gas supply tank, and the end opening of the gas recirculation duct for sucking in the gas in the test tank is put into the test tank It is characterized in that it is arranged at a part opposite to the partition wall with a work placement part on which the placed work is placed.

本発明は、仕切り壁に形成されている気体吹き出し口から試験槽内に供給された気体を気体供給槽に還流させるための気体還流用ダクトを備えており、この気体還流用ダクトの先端開口は、ワーク配置部を挟み、仕切り壁とは反対側の部位に配置されている。この結果、所定の温度や湿度に調整された恒温または/および恒湿気体は気体吹き出し口から供給された後にワーク配置部を挟んで仕切り壁とは反対側の部位まで到達するので、ワーク配置部に配置されたワークを恒温または/および恒湿気体に十分に晒すことができる。また、気体はワーク配置部よりも遠い部位まで行き渡るので、試験槽内の温度分布や湿度分布が均一化される。従って、例えば、複数のワークがラックを用いて水平方向および垂直方向に並べられた状態で試験槽内に投入されている場合でも、全てのワークを恒温または/および恒湿気体に十分に晒すことができる。また、ラックに並べられている各ワークの周辺の温度の差がなくなるので、全てのワークを均一に所定の温度状態に到達させることができる。この結果、全てのワークを所定の温度状態に到達させるまでの時間を短縮することができる。さらに、ラックに並べられている各ワークの周辺の湿度の差がなくなるので、各ワークに対して所定の湿度条件で試験を行うことができる。   The present invention comprises a gas recirculation duct for recirculating the gas supplied into the test tank from the gas outlet formed in the partition wall to the gas supply tank. The work placement portion is sandwiched and placed on the opposite side of the partition wall. As a result, the constant temperature and / or constant humidity gas adjusted to a predetermined temperature and humidity is supplied from the gas outlet and then reaches the part on the opposite side of the partition wall across the workpiece placement part. Can be sufficiently exposed to constant temperature and / or humidity gas. Moreover, since gas spreads to the site | part far from a workpiece | work arrangement | positioning part, the temperature distribution and humidity distribution in a test tank are equalized. Therefore, for example, even when a plurality of workpieces are placed in a test tank in a state where they are arranged in a horizontal direction and a vertical direction using a rack, all the workpieces are sufficiently exposed to constant temperature and / or humidity gas. Can do. Further, since there is no difference in the temperature around the workpieces arranged in the rack, all the workpieces can be made to reach a predetermined temperature state uniformly. As a result, it is possible to shorten the time until all the workpieces reach the predetermined temperature state. Furthermore, since there is no difference in the humidity around the workpieces arranged in the rack, it is possible to test each workpiece under a predetermined humidity condition.

本発明において、気体吹き出し口から試験槽内に供給された気体を、気体還流用ダクトを介して気体供給槽へ還流させるためには、前記試験槽の気体を前記気体供給槽に還流させるために前記仕切り壁に形成されている気体吸い込み口を有しており、前記気体吹き出し口および前記気体吸い込み口は、前記仕切り壁によって気密に仕切られている前記試験槽と前記気体供給槽とを連通させており、前記気体吸い込み口には、前記気体還流用ダクトの後端開口が接続されていることが望ましい。   In the present invention, in order to return the gas supplied from the gas outlet into the test tank to the gas supply tank via the gas reflux duct, the gas in the test tank is returned to the gas supply tank. The gas inlet has a gas inlet formed in the partition wall, and the gas outlet and the gas inlet communicate the gas supply tank with the test chamber that is airtightly partitioned by the partition wall. It is desirable that a rear end opening of the gas recirculation duct is connected to the gas suction port.

本発明において、前記気体還流用ダクトの先端開口は、前記ワーク配置部を挟んで前記仕切り壁と対向している前記試験槽の対向壁の近傍に位置していることが望ましい。このようにすれば、気体を試験槽内の隅々にまで行き渡らせることができるので、試験槽内の温度分布および湿度分布を均一化するのに適している。   In the present invention, it is desirable that the front end opening of the gas recirculation duct is located in the vicinity of the opposing wall of the test chamber facing the partition wall with the work placement portion interposed therebetween. In this way, the gas can be spread to every corner of the test chamber, which is suitable for making the temperature distribution and humidity distribution in the test chamber uniform.

本発明において、前記気体還流用ダクトとして、第1気体還流用ダクトと第2気体還流用ダクトとを備えており、前記気体吸い込み口として、前記第1気体還流用ダクトの後端開口が接続されている少なくとも一つの第1気体吸い込み口と、前記第2気体還流用ダクトの後端開口が接続されている少なくとも一つの第2気体吸い込み口とを備えており、前記第1気体還流用ダクトの先端開口と前記第2気体還流用ダクトの先端開口とはそれぞれ、前記ワーク配置部を挟んで離れて位置していることが望ましい。   In the present invention, the gas recirculation duct includes a first gas recirculation duct and a second gas recirculation duct, and a rear end opening of the first gas recirculation duct is connected as the gas suction port. At least one first gas suction port and at least one second gas suction port to which a rear end opening of the second gas reflux duct is connected. It is desirable that the front end opening and the front end opening of the second gas recirculation duct are located apart from each other with the work placement portion interposed therebetween.

この場合には、前記第1気体還流用ダクトは、前記試験槽の天井面に沿って形成され、その先端開口は前記天井面の近傍に位置しており、前記第2気体還流用ダクトは、前記試験槽の底面に沿って形成され、その先端開口は前記底面の近傍に位置しており、前記第1気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記天井面の近傍に形成され、前記第2気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記底面の近傍に形成され、前記気体吹き出し口は、前記仕切り壁の前記第1気体吸い込み口と前記第2気体吸い込み口との間に形成されていることが望ましい。このようにすれば、試験槽内に吹き込まれた気体がワーク配置部を通過した後に、ワーク配置部の上下方向の両側から気体供給槽に還流する。この結果、気体を試験槽内の上下方向の隅々まで行き渡らせることができるので、試験槽内の上下方向の温度分布および湿度分布を均一化することができる。   In this case, the first gas recirculation duct is formed along the ceiling surface of the test tank, the tip opening is located in the vicinity of the ceiling surface, and the second gas recirculation duct is It is formed along the bottom surface of the test tank, the tip opening is located in the vicinity of the bottom surface, the first gas suction port is formed in the vicinity of the ceiling surface of the partition wall, and the second gas Preferably, the suction port is formed in the vicinity of the bottom surface of the partition wall, and the gas blowing port is formed between the first gas suction port and the second gas suction port of the partition wall. . If it does in this way, after the gas blown in in the test tank passes through a work arrangement part, it will recirculate to a gas supply tank from the up-and-down direction both sides of a work arrangement part. As a result, since the gas can be spread to every corner in the vertical direction in the test tank, the vertical temperature distribution and humidity distribution in the test tank can be made uniform.

この場合において、第1気体還流用ダクトと第2気体還流用ダクトを簡易に構成するためには、前記第1気体還流用ダクトは、前記天井面と、この天井面と平行に第1の間隔で配置した第1水平仕切り板との間に形成されたものであり、前記第2気体還流用ダクトは、前記底面と、この底面と平行に第2の間隔で配置した第2水平仕切り板との間に形成されたものであり、前記ワーク配置部は、前記第1水平仕切り板と前記第2水平仕切り板との間に位置していることが望ましい。   In this case, in order to easily configure the first gas recirculation duct and the second gas recirculation duct, the first gas recirculation duct has a first interval parallel to the ceiling surface and the ceiling surface. The second gas recirculation duct is formed between the bottom surface and a second horizontal partition plate disposed at a second interval in parallel with the bottom surface. It is desirable that the workpiece placement portion is located between the first horizontal partition plate and the second horizontal partition plate.

また、天井面に沿って第1気体還流用ダクトを介して還流する気体の流量と、底面に沿って第2気体還流用ダクトを介して還流する気体の流量を同じにして、試験槽内の上下の温度分布や湿度分布を均一化するためには、前記第1の間隔および第2の間隔は略同一であり、かつ、第1水平仕切り板と第2水平仕切り板の間隔の略1/2であることが望ましい。   Also, the flow rate of the gas recirculated through the first gas recirculation duct along the ceiling surface is the same as the flow rate of the gas recirculated through the second gas recirculation duct along the bottom surface, In order to make the upper and lower temperature distribution and humidity distribution uniform, the first interval and the second interval are substantially the same, and approximately 1 / the interval between the first horizontal partition plate and the second horizontal partition plate. 2 is desirable.

ここで、試験槽内に吹き込まれた気体を、ワーク配置部を挟んだ横方向の両側から還流させるためには、前記第1気体還流用ダクトは、前記試験槽の横方向で前記ワーク配置部を挟んで対向している前記試験槽の一方の内壁および他方の内壁のうちの前記一方の内壁に沿って形成され、その先端開口は前記一方の内壁の近傍に位置しており、前記第2気体還流用ダクトは、前記試験槽の他方の内壁に沿って形成され、その先端開口は前記他方の内壁の近傍に位置しており、前記第1気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記一方の内壁の近傍に形成され、前記第2気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記他方の内壁の近傍に形成され、前記気体吹き出し口は、前記仕切り壁の前記第1気体吸い込み口と前記第2気体吸い込み口との間に形成されていることが望ましい。このようにすれば、試験槽内に吹き込まれた気体を試験槽内の横方向の隅々まで行き渡らせることができるので、試験槽内の横方向の温度分布および湿度分布を均一化することができる。   Here, in order to recirculate the gas blown into the test tank from both sides in the lateral direction across the work arrangement part, the first gas recirculation duct is arranged in the horizontal direction of the test tank. Between the one inner wall and the other inner wall of the test chamber facing each other, the tip opening being located in the vicinity of the one inner wall, and the second The gas reflux duct is formed along the other inner wall of the test tank, the tip opening is located in the vicinity of the other inner wall, and the first gas suction port is the one of the partition walls. The second gas suction port is formed in the vicinity of the inner wall, the second gas suction port is formed in the vicinity of the other inner wall of the partition wall, and the gas blowout ports are the first gas suction port and the second gas in the partition wall. Formed between the inlet and It is desirable to have. In this way, since the gas blown into the test tank can be spread to every corner in the horizontal direction in the test tank, the lateral temperature distribution and humidity distribution in the test tank can be made uniform. it can.

この場合において、第1気体還流用ダクトと第2気体還流用ダクトを簡易に構成するためには、前記第1気体還流用ダクトは、前記一方の内壁と、この一方の内壁と第1の間隔で平行に配置した第1垂直切り板との間に形成されたものであり、前記第2気体還流用ダクトは、前記他方の内壁と、この他方の内壁と第2の間隔で平行に配置した第2垂直仕切り板との間に形成されたものであり、前記ワーク配置部は、前記第1垂直仕切り板と前記第2垂直切り板との間に位置していることが望ましい。   In this case, in order to simply configure the first gas recirculation duct and the second gas recirculation duct, the first gas recirculation duct includes the one inner wall and the one inner wall with the first gap. The second gas recirculation duct is arranged in parallel with the other inner wall and the other inner wall at a second interval. Preferably, the workpiece placement portion is located between the first vertical partition plate and the second vertical cut plate.

また、一方の内壁に沿って第1気体還流用ダクトを介して還流する気体の流量と、他方の内壁に沿って第2気体還流用ダクトを介して還流する気体の流量を同じにして、試験槽内の横方向の温度分布や湿度分布を均一化するためには、前記第1の間隔および第2の間隔は略同一であり、かつ、前記第1垂直切り板と前記第2垂直仕切り板との間隔の略1/2であることが望ましい。   Further, the flow rate of the gas recirculated through the first gas recirculation duct along one inner wall and the flow rate of the gas recirculated through the second gas recirculation duct along the other inner wall were set to be the same. In order to make the temperature distribution and humidity distribution in the horizontal direction in the tank uniform, the first interval and the second interval are substantially the same, and the first vertical cut plate and the second vertical partition plate It is desirable that the distance is approximately ½ of the distance between.

本発明において、前記気体供給槽には、送風ファンと、第1熱交換器および第2熱交換機とが配置されており、前記送風ファンは、その気体吹き出し側が前記気体吹き出し口に対峙する状態に配置されており、前記第1熱交換器は、前記第1気体吸い込み口から前記送風ファンの気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されており、前記第2熱交換器は、前記第2気体吸い込み口から前記送風ファンの気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されていることが望ましい。このようにすれば、送風ファンの上下方向または横方向に気体吸引用の通路を広く確保することができるので、吸引抵抗が低くなり、送風ファンの風量を上げることができる。   In the present invention, a blower fan, a first heat exchanger, and a second heat exchanger are arranged in the gas supply tank, and the blower fan is in a state where the gas blowing side faces the gas blowing port. The first heat exchanger is disposed on a gas suction path from the first gas suction port toward the gas suction side of the blower fan, and the second heat exchanger is disposed on the second gas. It is desirable to arrange on the gas suction path from the suction port toward the gas suction side of the blower fan. In this way, since a wide passage for gas suction can be secured in the vertical direction or the horizontal direction of the blower fan, the suction resistance is reduced, and the air volume of the blower fan can be increased.

本発明によれば、仕切り壁に形成された気体吹き出し口から試験槽に供給された恒温または/および恒湿気体は、ワーク配置部を挟んで仕切り壁とは反対側の部位まで到達した後に還流するので、ワーク配置部に配置されたワークを恒温または/および恒湿気体に十分に晒すことができる。また、気体はワーク配置部よりも遠い部位まで行き渡るので、試験槽内の温度分布や湿度分布が均一化される。従って、例えば、複数のワークがラックを用いて水平方向および垂直方向に並べられた状態で試験槽内に投入されている場合でも、全てのワークを恒温または/および恒湿気体に十分に晒すことができる。また、ラックに並べられている各ワークの周辺の温度の差がなくなるので、全てのワークを均一に所定の温度状態に到達させることができる。この結果、全てのワークを所定の温度状態に到達させるまでの時間を短縮することができる。さらに、ラックに並べられている各ワークの周辺の湿度の差がなくなるので、各ワークに対して所定の湿度条件で試験を行うことができる。   According to the present invention, the constant temperature and / or humidity gas supplied from the gas outlet formed in the partition wall to the test tank reaches the part on the opposite side of the partition wall across the workpiece placement portion, and then recirculates. Therefore, the work placed in the work placement section can be sufficiently exposed to constant temperature and / or humidity gas. Moreover, since gas spreads to the site | part far from a workpiece | work arrangement | positioning part, the temperature distribution and humidity distribution in a test tank are equalized. Therefore, for example, even when a plurality of workpieces are placed in a test tank in a state where they are arranged in a horizontal direction and a vertical direction using a rack, all the workpieces are sufficiently exposed to constant temperature and / or humidity gas. Can do. Further, since there is no difference in the temperature around the workpieces arranged in the rack, all the workpieces can be made to reach a predetermined temperature state uniformly. As a result, it is possible to shorten the time until all the workpieces reach the predetermined temperature state. Furthermore, since there is no difference in the humidity around the workpieces arranged in the rack, it is possible to test each workpiece under a predetermined humidity condition.

以下に、図面を参照して本発明を適用した試験装置の実施の形態を説明する。図1は本発明を適用した試験装置の外観斜視図である。図2(a)は図1のA−A断面を上から見た図であり、図2(b)は図1のB−B断面を上から見た図であり、図2(c)は図1のC−C断面を上から見た図である。   Hereinafter, embodiments of a test apparatus to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an external perspective view of a test apparatus to which the present invention is applied. 2A is a view of the AA cross section of FIG. 1 as viewed from above, FIG. 2B is a view of the BB cross section of FIG. 1 as viewed from above, and FIG. It is the figure which looked at CC cross section of FIG. 1 from the top.

図1に示すように、本実施の形態に係る試験装置1は直方体形状をしており、断熱材で覆われた試験室2と、その下方に位置している機械室3とを備えている。試験室2の内部は仕切り壁4によって前後に気密に仕切られており、前側がワークに対して環境試験を行う試験槽5とされ、後側が試験槽5の温度や湿度を制御する恒温または/および恒湿気体を試験槽5に供給する気体供給槽6とされている。試験槽5の左側の一方の端壁7には試験槽5内にワークを搬入するための搬入口7aが設けられており、その右側の他方の端壁8には試験槽5からワークを搬出するための搬出口8aが設けられている。試験槽5の仕切り壁4と対向している前壁(対向壁)9には、断熱材からなる2つの開閉扉10が取り付けられている。機械室3には、試験槽5の温度を低温に制御する場合に、冷凍サイクルの圧縮器、凝縮器などが配置される。   As shown in FIG. 1, the test apparatus 1 according to the present embodiment has a rectangular parallelepiped shape, and includes a test chamber 2 covered with a heat insulating material and a machine chamber 3 positioned below the test chamber 2. . The inside of the test chamber 2 is hermetically partitioned in front and rear by a partition wall 4, the front side is a test tank 5 that performs an environmental test on the workpiece, and the rear side is a constant temperature or / or humidity that controls the temperature and humidity of the test tank 5. The gas supply tank 6 supplies the constant humidity gas to the test tank 5. One end wall 7 on the left side of the test tank 5 is provided with a carry-in port 7a for carrying a work into the test tank 5, and the other end wall 8 on the right side carries out the work from the test tank 5. A carry-out port 8a is provided. Two opening / closing doors 10 made of a heat insulating material are attached to a front wall (opposing wall) 9 facing the partition wall 4 of the test tank 5. In the machine room 3, when controlling the temperature of the test tank 5 to low temperature, the compressor of a refrigerating cycle, a condenser, etc. are arrange | positioned.

図2に示すように、試験槽5内には、ワークを載せたパレット11を搬入口7aから搬出口8aに向けて搬送するための一対の水平案内レール(ワーク配置部)12、13が配置されている。ワークはパレット11に載せられた状態で、不図示のパレット搬送機構によって、水平案内レール12、13を一定のピッチで間歇的に搬送される。また、水平案内レール12、13上を搬送される間に所定の温度状態にさせられて、試験槽5内に配置されている不図示の試験装置によって、パレット11に載せられた状態で通電などの試験が行われる。あるいは、所定の温度状態にさせられた後に試験槽5から搬出され、不図示の試験装置に投入されて通電などの試験が行われる。   As shown in FIG. 2, a pair of horizontal guide rails (work placement portions) 12 and 13 for transporting a pallet 11 on which a workpiece is placed from the carry-in port 7a toward the carry-out port 8a are arranged in the test tank 5. Has been. While the work is placed on the pallet 11, the horizontal guide rails 12 and 13 are intermittently conveyed at a constant pitch by a pallet conveying mechanism (not shown). Further, while being transported on the horizontal guide rails 12, 13, it is brought to a predetermined temperature state and energized while being placed on the pallet 11 by a test device (not shown) arranged in the test tank 5. The test is conducted. Alternatively, after being brought to a predetermined temperature state, it is unloaded from the test tank 5 and put into a test apparatus (not shown) to conduct a test such as energization.

気体供給槽6内には、複数の上下一対の第1加熱器14(1)〜(3)および第2加熱器15(1)〜(3)と、これら第1および第2加熱器14(1)〜(3)、15(1)〜(3)によって所定の高温にされた気体を試験室2内で循環させるための複数の送風ファン16(1)〜(3)とが配置されている。仕切り壁4には、試験槽5内に気体を吹き込むための複数の気体吹き出し口17(1)〜(3)と、試験槽5から気体を吸い込むための複数の上下一対の第1気体吸い込み口18(1)〜(3)および第2気体吸い込み口19(1)〜(3)が形成されており、これらの開口によって試験槽5および気体供給槽6は連通している。なお、本例は、試験槽5の温度を高温に制御するために加熱器を備えているが、低温に制御する場合や、試験槽5の湿度を調整する場合には、これら第1および第2加熱器14(1)〜(3)、15(1)〜(3)に代えて、冷凍サイクルの蒸発器が配置される。   In the gas supply tank 6, a plurality of upper and lower pairs of first heaters 14 (1) to (3) and second heaters 15 (1) to (3) and the first and second heaters 14 ( A plurality of blower fans 16 (1) to (3) for circulating the gas heated to a predetermined high temperature by 1) to (3) and 15 (1) to (3) in the test chamber 2 are arranged. Yes. In the partition wall 4, a plurality of gas outlets 17 (1) to (3) for blowing gas into the test tank 5 and a plurality of upper and lower pairs of first gas inlets for sucking gas from the test tank 5 18 (1) to (3) and second gas suction ports 19 (1) to (3) are formed, and the test tank 5 and the gas supply tank 6 communicate with each other through these openings. In addition, although this example is provided with the heater in order to control the temperature of the test tank 5 to high temperature, when controlling to low temperature or adjusting the humidity of the test tank 5, these 1st and 1st Instead of the two heaters 14 (1) to (3) and 15 (1) to (3), an evaporator of a refrigeration cycle is arranged.

複数の気体吹き出し口17(1)〜(3)は、図2(b)に示すように、仕切り壁4の上下方向の中央部分において、水平案内レール12、13に沿った方向に水平に配列されている。また、各気体吹き出し口17(1)〜(3)の下端縁は水平案内レール12、13の上面と同じ高さ位置にある。送風ファン16(1)〜(3)はその気体吹き出し側が気体吹き出し口17(1)〜(3)に対峙する状態で、各気体吹き出し口17(1)〜(3)に取り付けられている。   As shown in FIG. 2 (b), the plurality of gas outlets 17 (1) to (3) are arranged horizontally in the direction along the horizontal guide rails 12, 13 at the central portion in the vertical direction of the partition wall 4. Has been. Moreover, the lower end edge of each gas blowing port 17 (1)-(3) exists in the same height position as the upper surface of the horizontal guide rails 12 and 13. FIG. The blower fans 16 (1) to (3) are attached to the gas outlets 17 (1) to (3) with their gas outlets facing the gas outlets 17 (1) to (3).

複数の第1気体吸い込み口18(1)〜(3)は仕切り壁4における試験槽5の天井面5aの近傍に形成されている。複数の第2気体吸い込み口19(1)〜(3)は仕切り壁4における試験槽5の底面5bの近傍に形成されている。従って、第1気体吸い込み口18(1)〜(3)および第2気体吸い込み口19(1)〜(3)は、それぞれ各気体吹き出し口17(1)〜(3)の上下に形成されている。   The plurality of first gas suction ports 18 (1) to (3) are formed in the vicinity of the ceiling surface 5 a of the test tank 5 in the partition wall 4. The plurality of second gas suction ports 19 (1) to (3) are formed in the vicinity of the bottom surface 5 b of the test tank 5 in the partition wall 4. Accordingly, the first gas suction ports 18 (1) to (3) and the second gas suction ports 19 (1) to (3) are formed above and below the respective gas outlets 17 (1) to (3), respectively. Yes.

第1加熱器14(1)〜(3)および第2加熱器15(1)〜(3)はニクロムヒータである。第1加熱器14(1)〜(3)はそれぞれ各第1気体吸い込み口18(1)〜(3)の下端縁に沿って配置されている。第2加熱器15(1)〜(3)は、それぞれ各第2気体吸い込み口19(1)〜(3)の上端縁に沿って配置されている。従って、第1加熱器14(1)〜(3)は、第1気体吸い込み口18(1)〜(3)から送風ファン16(1)〜(3)の気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されており、第2加熱器15(1)〜(3)は、第2気体吸い込み口19(1)〜(3)から送風ファン16(1)〜(3)の気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されている。   The first heaters 14 (1) to (3) and the second heaters 15 (1) to (3) are nichrome heaters. The first heaters 14 (1) to (3) are arranged along the lower edges of the first gas suction ports 18 (1) to (3), respectively. The second heaters 15 (1) to (3) are disposed along the upper edge of each of the second gas suction ports 19 (1) to (3), respectively. Accordingly, the first heaters 14 (1) to (3) are arranged on the gas suction path from the first gas suction ports 18 (1) to (3) toward the gas suction side of the blower fans 16 (1) to (3). The second heaters 15 (1) to (3) are arranged from the second gas suction ports 19 (1) to (3) to the gas suction side of the blower fans 16 (1) to (3). It is arranged on the suction path.

これら第1および第2加熱器14(1)〜(3)、15(1)〜(3)のうち搬入口7aが形成されている一方の端壁7に最も近い位置に配置されている一対の第1および第2加熱器14(1)、15(1)は、他の一対の第1および第2加熱器14(2)、15(2)および14(3)、15(3)と比較して大きな容量で熱交換するものになっている。   A pair of these first and second heaters 14 (1) to (3) and 15 (1) to (3) disposed at a position closest to one end wall 7 where the carry-in port 7 a is formed. The first and second heaters 14 (1) and 15 (1) of the second and second heaters 14 (2), 15 (2) and 14 (3), 15 (3) In comparison, heat exchange is performed with a large capacity.

ここで、試験槽5内には、試験槽5内の気体を各第1気体吸い込み口18(1)〜(3)に導くための第1気体還流用ダクト21と、試験槽5内の気体を各第2気体吸い込み口19(1)〜(3)に導くための第2気体還流用ダクト22が配置されている。   Here, in the test tank 5, a first gas recirculation duct 21 for guiding the gas in the test tank 5 to the first gas suction ports 18 (1) to (3), and the gas in the test tank 5. The second gas recirculation duct 22 is arranged to guide the gas to the second gas suction ports 19 (1) to 19 (3).

すなわち、仕切り壁4の各気体吹き出し口17(1)〜(3)が形成されている領域と、各第1気体吸い込み口18(1)〜(3)が形成されている領域との間には、試験槽5の側に向かって試験槽5の天井面5aと第1の間隔L1で平行に延びている第1水平仕切り板23が配置されており、この第1水平仕切り板23の上面と、試験槽5の天井面5aと、これらの間に挟まれている一方の端壁7の内壁面部分および他方の端壁8の内壁面部分とによって第1気体還流用ダクト21が構成されている。第1水平仕切り板23の先端は、水平案内レール12、13を挟み、仕切り壁4とは反対側の部位まで延びている。従って、第1気体還流用ダクト21の先端開口21aは対向壁9の近傍の、天井面5aの近傍に位置している。第1気体還流用ダクト21の後端開口21bは、各第1気体吸い込み口18(1)〜(3)に接続されている。   That is, between the area | region in which each gas blowing port 17 (1)-(3) of the partition wall 4 is formed, and the area in which each 1st gas suction inlet 18 (1)-(3) is formed. Is arranged with a first horizontal partition plate 23 extending in parallel with the ceiling surface 5a of the test tank 5 toward the test tank 5 side at a first interval L1, and an upper surface of the first horizontal partition plate 23. The first gas recirculation duct 21 is constituted by the ceiling surface 5a of the test tank 5 and the inner wall surface portion of one end wall 7 and the inner wall surface portion of the other end wall 8 sandwiched between them. ing. The front end of the first horizontal partition plate 23 extends to a portion on the opposite side to the partition wall 4 with the horizontal guide rails 12 and 13 interposed therebetween. Therefore, the front end opening 21 a of the first gas recirculation duct 21 is located in the vicinity of the ceiling surface 5 a in the vicinity of the facing wall 9. The rear end opening 21b of the first gas recirculation duct 21 is connected to the first gas suction ports 18 (1) to (3).

また、仕切り壁4の各気体吹き出し口17(1)〜(3)が形成されている領域と、各第2気体吸い込み口19(1)〜(3)が形成されている領域との間には、試験槽5の側に向かって試験槽5の底面5bと第2の間隔2で平行に延びている第2水平仕切り板24が配置されており、この第2水平仕切り板24の下面と、試験槽5の底面5bと、これらの間に挟まれている一方の端壁7の内壁面部分および他方の端壁8の内壁面部分とによって第2気体還流用ダクト22が構成されている。第2水平仕切り板24の先端は、水平案内レール12、13を挟み、仕切り壁4とは反対側の部位まで延びている。従って、第2気体還流用ダクト22の先端開口22aは、前壁9の近傍の、底面5bの近傍に位置している。第2気体還流用ダクト22の後端開口22bは、各第2気体吸い込み口19(1)〜(3)に接続されている。   Moreover, between the area | region in which each gas blower outlet 17 (1)-(3) of the partition wall 4 is formed, and the area | region in which each 2nd gas suction inlet 19 (1)-(3) is formed. Is arranged with a second horizontal partition plate 24 extending in parallel with the bottom surface 5b of the test bath 5 toward the test bath 5 side at a second interval 2, and the lower surface of the second horizontal partition plate 24 and The second gas recirculation duct 22 is constituted by the bottom surface 5b of the test tank 5 and the inner wall surface portion of one end wall 7 and the inner wall surface portion of the other end wall 8 sandwiched therebetween. . The distal end of the second horizontal partition plate 24 extends to a portion on the opposite side of the partition wall 4 with the horizontal guide rails 12 and 13 interposed therebetween. Therefore, the front end opening 22a of the second gas recirculation duct 22 is located in the vicinity of the bottom surface 5b in the vicinity of the front wall 9. The rear end opening 22b of the second gas recirculation duct 22 is connected to the second gas suction ports 19 (1) to (3).

ここで、第1水平仕切り板23と天井面5aの第1の間隔L1、および第2水平仕切り板24と底面5bとの第2の間隔L2は略同じ間隔になっており、これらの間隔は、それぞれ第1水平仕切り板23と第2水平仕切り板24との間隔L3の略1/2である。第1の間隔L1および第2の間隔L2を間隔L3の略1/2とすることで、仕切り板4の各気体吹き出し口17(1)〜(3)から試験槽5内に吹き込まれた恒温気体は、一対の水平案内レール12、13上を通過した後、第1気体還流用ダクト21と第2気体還流用ダクト22に抵抗無くほぼ均等に分流されて、第1気体吸い込み口18(1)〜(3)、および第2気体吸い込み口19(1)〜(3)から気体供給槽6へと還流する。第1気体吸い込み口18(1)〜(3)と第2気体吸い込み口19(1)〜(3)から気体供給槽6へと還流する気体の流量がほぼ均等となることによって、第1加熱器14(1)〜(3)と第2加熱器15(1)〜(3)の仕事量もほぼ均等になり安定した制御が行われる。   Here, the first interval L1 between the first horizontal partition plate 23 and the ceiling surface 5a and the second interval L2 between the second horizontal partition plate 24 and the bottom surface 5b are substantially the same interval, and these intervals are These are approximately ½ of the distance L3 between the first horizontal partition plate 23 and the second horizontal partition plate 24, respectively. Constant temperature blown into the test chamber 5 from the gas outlets 17 (1) to (3) of the partition plate 4 by setting the first interval L1 and the second interval L2 to be approximately ½ of the interval L3. After passing the gas on the pair of horizontal guide rails 12 and 13, the gas is almost equally divided into the first gas recirculation duct 21 and the second gas recirculation duct 22 without resistance, and the first gas suction port 18 (1 ) To (3) and the second gas suction ports 19 (1) to (3) to the gas supply tank 6. When the flow rate of the gas returning from the first gas suction ports 18 (1) to (3) and the second gas suction ports 19 (1) to (3) to the gas supply tank 6 becomes substantially equal, the first heating is performed. The work amounts of the containers 14 (1) to (3) and the second heaters 15 (1) to (3) are almost equalized, and stable control is performed.

(試験室内の気体循環路)
図3は試験室2内における気体循環路を模式的に示した概略縦断面図である。図3では、複数のワーク30がラック31を用いて水平方向および垂直方向に並べられた状態でパレット11に載せられて、試験槽5内に投入されている。
(Gas circulation path in the test chamber)
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing a gas circulation path in the test chamber 2. In FIG. 3, a plurality of workpieces 30 are placed on the pallet 11 in a state of being arranged in the horizontal direction and the vertical direction using a rack 31 and are put into the test tank 5.

試験装置1が運転されると、気体供給槽6の第1および第2加熱器14(1)〜(3)、15(1)〜(3)で所定の温度にされた気体は、各送風ファン16(1)〜(3)によって各気体吹き出し口17(1)〜(3)から試験槽5に供給される。   When the test apparatus 1 is operated, the gas heated to a predetermined temperature by the first and second heaters 14 (1) to (3) and 15 (1) to (3) of the gas supply tank 6 is sent to each air blower. The gas is supplied to the test chamber 5 from the gas outlets 17 (1) to (3) by the fans 16 (1) to (3).

気体は一対の水平案内レール12、13の表面に沿って流れて、これら一対の水平案内レール12、13上を搬送されている複数のワーク30に当たる。しかる後は、試験槽5の天井面5aに沿って形成されている第1気体還流用ダクト21を介して還流し、第1気体吸い込み口18(1)〜(3)から気体供給槽6に戻る。また、試験槽5の底面5bに沿って形成されている第2気体還流用ダクト22を介して還流し、第2気体吸い込み口19(1)〜(3)から気体供給槽6に戻る。   The gas flows along the surfaces of the pair of horizontal guide rails 12 and 13 and hits a plurality of workpieces 30 conveyed on the pair of horizontal guide rails 12 and 13. Thereafter, the gas flows back through the first gas recirculation duct 21 formed along the ceiling surface 5a of the test tank 5, and enters the gas supply tank 6 from the first gas suction ports 18 (1) to (3). Return. Moreover, it recirculates through the 2nd gas recirculation | reflux duct 22 formed along the bottom face 5b of the test tank 5, and returns to the gas supply tank 6 from the 2nd gas suction inlets 19 (1)-(3).

ここで、第1および第2気体還流用ダクト21、22の先端開口21a、22aはいずれも一対の水平案内レール12、13よりも前壁9の近傍に位置しているので、各気体吹き出し口17(1)〜(3)から供給された気体は、必ず前壁9に近い部位まで到達する。この結果、試験槽5に入れられている複数のワーク30の全てを気体に晒すことができる。また、気体が前壁9の近傍における天井面5aの近傍および底面5bの近傍まで到達させることができるので、試験槽5内の温度分布を均一化することができる。この結果、ラック31に並べられている各ワーク30の周辺温度の差がなくなるので、全てのワーク30を均一に所定の温度状態に到達させることができる。従って、全てのワーク30を所定の温度状態に到達させるまでの時間を短縮することができる。   Here, since the front end openings 21a and 22a of the first and second gas recirculation ducts 21 and 22 are located closer to the front wall 9 than the pair of horizontal guide rails 12 and 13, each gas outlet The gas supplied from 17 (1) to (3) always reaches a portion near the front wall 9. As a result, all of the plurality of workpieces 30 placed in the test tank 5 can be exposed to gas. Further, since the gas can reach the vicinity of the ceiling surface 5a and the vicinity of the bottom surface 5b in the vicinity of the front wall 9, the temperature distribution in the test tank 5 can be made uniform. As a result, there is no difference in the ambient temperature between the workpieces 30 arranged in the rack 31, so that all the workpieces 30 can be made to reach a predetermined temperature state uniformly. Accordingly, it is possible to shorten the time until all the workpieces 30 reach the predetermined temperature state.

また、第1水平仕切り板23と天井面5aとの第1の間隔L1と第2水平仕切り板24と底面5bとの第2の間隔L2は同じであり、これらの間隔はそれぞれ第1水平仕切り板23と第2水平仕切り板24との間隔L3の半分としてあるので、第1気体還流用ダクト21を介して還流する気体の流量と、第2気体還流用ダクト22を介して気体供給槽6に還流する気体の流量を同じにすることができる。この結果、試験槽5内の上下の温度分布を均一化させることができる。また、各送風ファン16(1)〜(3)の上下方向に気体吸引用の通路を広く確保してあるので、吸引抵抗が低くなり、各送風ファン16(1)〜(3)の風量を上げることができる。さらに、第1気体吸い込み口18(1)〜(3)と第2気体吸い込み口19(1)〜(3)から気体供給槽6へと還流する気体の流量がほぼ均等となることによって、第1加熱器14(1)〜(3)と第2加熱器15(1)〜(3)の仕事量もほぼ均等になり安定した制御が行われる。   Further, the first interval L1 between the first horizontal partition plate 23 and the ceiling surface 5a and the second interval L2 between the second horizontal partition plate 24 and the bottom surface 5b are the same, and these intervals are respectively the first horizontal partition. Since it is half of the distance L3 between the plate 23 and the second horizontal partition plate 24, the flow rate of the gas recirculated through the first gas recirculation duct 21 and the gas supply tank 6 through the second gas recirculation duct 22 The flow rate of the refluxing gas can be made the same. As a result, the upper and lower temperature distribution in the test tank 5 can be made uniform. Moreover, since the passage for gas suction is widely ensured in the up-down direction of each ventilation fan 16 (1)-(3), a suction resistance becomes low and the air volume of each ventilation fan 16 (1)-(3) is reduced. Can be raised. Furthermore, the flow rate of the gas returning from the first gas suction ports 18 (1) to (3) and the second gas suction ports 19 (1) to (3) to the gas supply tank 6 becomes substantially equal, The work of the first heaters 14 (1) to (3) and the second heaters 15 (1) to (3) is also almost equalized, and stable control is performed.

(試験槽内の温度分布)
本例の試験槽5内の温度分布が従来に比べて均一化されていることを説明する。図4(a)は従来例として従来構成の試験装置を示す概略横断面図であり、図4(b)はその概略縦断面図である。これらの図は、本例の試験装置1を示す図2(a)および図2(b)に対応している。
(Temperature distribution in the test chamber)
It will be described that the temperature distribution in the test tank 5 of this example is uniform as compared with the conventional case. FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing a conventional test apparatus as a conventional example, and FIG. 4B is a schematic vertical cross-sectional view thereof. These figures correspond to FIG. 2A and FIG. 2B showing the test apparatus 1 of this example.

図4(a)、(b)に示すように、試験装置1Aは、気体吹き出し口41(1)〜(3)と気体吸い込み口42(1)、(2)とが仕切り壁4の上下方向の中央部分において、一対の水平案内レール12、13に沿って交互に形成されている。また、気体吹き出し口41(1)〜(3)には送風ファン43(1)〜(3)が取り付けられており、気体吸い込み口42には加熱器44(1)、(2)が取り付けられている。従って、送風ファン43(1)〜(3)と加熱器44(1)、(2)も一対の水平案内レール12、13に沿って交互に配置されている。第1気体還流用ダクト21および第2気体還流用ダクト22に対応する構成は備えていない。なお、従来例の試験装置1Aは本例の試験装置1と同様の構成を備えているので、対応する部分には同一の符号を付して、その説明を省略する。   As shown in FIGS. 4A and 4B, the test apparatus 1 </ b> A includes gas blowing ports 41 (1) to (3) and gas suction ports 42 (1) and (2) in the vertical direction of the partition wall 4. Are formed alternately along the pair of horizontal guide rails 12 and 13. Also, blower fans 43 (1) to (3) are attached to the gas outlets 41 (1) to (3), and heaters 44 (1) and (2) are attached to the gas inlet 42. ing. Accordingly, the blower fans 43 (1) to (3) and the heaters 44 (1) and (2) are also alternately arranged along the pair of horizontal guide rails 12 and 13. A configuration corresponding to the first gas recirculation duct 21 and the second gas recirculation duct 22 is not provided. Since the test apparatus 1A of the conventional example has the same configuration as the test apparatus 1 of the present example, the corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図5(a)は本例の試験装置1の試験槽5内の温度を調べた部位を説明するための概略縦断面図であり、図5(b)は従来例の試験装置1Aの試験槽5内の温度を調べた部位を説明するための概略縦断面図である。図5(a)、(b)に示すように、本例および従来例において、試験槽5内の温度を計測した部位は9部位である。試験槽5を、上側の部位、上下方向の中央の部位、下側の部位に分け、さらに、前壁9に近い部位、一対の水平レールの幅方向の略中央の部位、仕切り壁4に近い部位に分けている。前壁9に近い上側の1番の部位から、仕切り壁4に近い下側の9番の部位まで、各部位についてそれらの温度を2分毎に調べている。   FIG. 5A is a schematic longitudinal sectional view for explaining a portion where the temperature in the test tank 5 of the test apparatus 1 of this example is examined, and FIG. 5B is a test tank of the conventional test apparatus 1A. It is a schematic longitudinal cross-sectional view for demonstrating the site | part which investigated the temperature in 5. FIG. As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), in this example and the conventional example, there are nine sites where the temperature in the test tank 5 was measured. The test tank 5 is divided into an upper part, a central part in the vertical direction, and a lower part, and further, a part near the front wall 9, a substantially central part in the width direction of the pair of horizontal rails, and the partition wall 4. Divided into parts. From the upper part 1 near the front wall 9 to the lower part 9 near the partition wall 4, the temperature of each part is examined every 2 minutes.

図6は本例の試験槽5内の温度分布を示すグラフである。図7は従来例の試験槽5内の温度分布を示すグラフである。図6に示すように、本例の試験装置1では試験槽5内の温度分布は±0.5℃である。これに対して、図7に示すように、従来例の試験装置1Aの試験槽5内の温度分布は±1.5℃である。従来例と本例では、温度分布は標準偏差で0.5から0.18になっており、約1/3まで改善されている。   FIG. 6 is a graph showing the temperature distribution in the test tank 5 of this example. FIG. 7 is a graph showing the temperature distribution in the test tank 5 of the conventional example. As shown in FIG. 6, in the test apparatus 1 of this example, the temperature distribution in the test tank 5 is ± 0.5 ° C. On the other hand, as shown in FIG. 7, the temperature distribution in the test tank 5 of the conventional test apparatus 1A is ± 1.5 ° C. In the conventional example and the present example, the temperature distribution is 0.5 to 0.18 in standard deviation, which is improved to about 1/3.

特に、本例の試験装置1では、前壁9に近い1番〜3番の部位が、仕切り壁4に近い8番の部位とほぼ同じ温度まで上昇している。これに対して、従来例の試験装置1Aでは、前壁9に近い1番〜3番の部位の温度が、仕切り壁4に近い7番〜9番の温度と比較して低いことが分かる。   In particular, in the test apparatus 1 of this example, the 1st to 3rd parts close to the front wall 9 rise to substantially the same temperature as the 8th part close to the partition wall 4. On the other hand, in the test apparatus 1A of the conventional example, it can be seen that the temperatures of the first to third portions close to the front wall 9 are lower than the temperatures of the seventh to ninth portions close to the partition wall 4.

(その他の実施の形態)
上記の例では、ワーク配置部として搬入口7aから投入されたワーク30を載せたパレット11を搬出口8aに向かって搬送する一対の水平案内レール12、13を備えているが、ワーク配置部は上面にワークを載置するワーク載置台としてもよい。この場合には、搬入口7aおよび搬出口8aは必要なく、ワーク30は開閉扉10から出し入れする構成にすることができる。
(Other embodiments)
In the above example, the work placement unit includes a pair of horizontal guide rails 12 and 13 that transport the pallet 11 loaded with the work 30 loaded from the carry-in port 7a toward the carry-out port 8a. It is good also as a workpiece mounting base which mounts a workpiece | work on an upper surface. In this case, the carry-in port 7 a and the carry-out port 8 a are not necessary, and the work 30 can be configured to be taken in and out of the open / close door 10.

また、搬入口7aおよび搬出口8aが必要ない試験装置の場合には、図8にその概略縦断面図を示すように、第1気体還流用ダクトと第2気体還流用ダクトとを、ワーク載置台を挟んで横方向に離れた位置に配置することができる。なお、図2(b)に対応するように図示した図8に示す試験装置1Bは、試験装置1と同様の構成を備えているので、対応する部分には同一の符号を付して、その説明を省略する。   Further, in the case of a test apparatus that does not require the carry-in port 7a and the carry-out port 8a, the first gas recirculation duct and the second gas recirculation duct are mounted on the workpiece as shown in a schematic longitudinal sectional view in FIG. It can arrange | position in the position away in the horizontal direction on both sides of the mounting base. Since the test apparatus 1B shown in FIG. 8 corresponding to FIG. 2 (b) has the same configuration as the test apparatus 1, the corresponding parts are denoted by the same reference numerals, Description is omitted.

試験装置1Bでは、気体吹き出し口51は仕切り壁4の左右方向の中央部分に形成されている。第1気体吸い込み口52および第2気体吸い込み口53は、気体吹き出し口51を挟んだ左右方向の両側に形成されている。送風ファン54は、気体吹き出し口51に対峙するように取り付けられており、第1加熱器55は第1気体吸い込み口52から送風ファン54の気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されている。第2加熱器56は第2気体吸い込み口53から送風ファン54の気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されている。   In the test apparatus 1 </ b> B, the gas outlet 51 is formed in the central portion of the partition wall 4 in the left-right direction. The first gas suction port 52 and the second gas suction port 53 are formed on both sides in the left-right direction across the gas blowing port 51. The blower fan 54 is attached so as to face the gas blowing port 51, and the first heater 55 is disposed on the gas suction path from the first gas suction port 52 toward the gas suction side of the blower fan 54. The second heater 56 is disposed on the gas suction path from the second gas suction port 53 toward the gas suction side of the blower fan 54.

気体吹き出し口51と第1気体吸い込み口52との間には、仕切り壁4から前壁9の近傍まで一方の端壁7と平行に延びる第1垂直仕切り板57が配置されており、この第1垂直仕切り板57と一方の端壁7の間に第1気体還流用ダクト58が形成されている。この結果、試験槽5内の気体を吸い込むための第1気体還流用ダクト58の先端開口は、一方の端壁7の内壁部分の近傍であり、かつ、前壁9の近傍に配置されている。同様に気体吹き出し口51と第2気体吸い込み口53との間に仕切り壁4から前壁9の近傍まで他方の端壁8と平行に延びる第2垂直仕切り板59が配置されており、この第2垂直仕切り板59と他方の端壁8との間に第2気体還流用ダクト60が形成されている。この結果、試験槽5内の気体を吸い込むための第2気体還流用ダクト60の先端開口は、他方の端壁8の内壁部分の近傍であり、かつ、前壁9の近傍に配置されている。ワーク載置台61は第1垂直仕切り板57と第2垂直仕切り板59との間に位置している。また、ワーク載置台61の上面61aは気体吹き出し口51の下端縁と同じ高さ位置にある。   A first vertical partition plate 57 extending in parallel with one end wall 7 from the partition wall 4 to the vicinity of the front wall 9 is disposed between the gas outlet 51 and the first gas inlet 52. A first gas recirculation duct 58 is formed between the one vertical partition plate 57 and the one end wall 7. As a result, the front end opening of the first gas recirculation duct 58 for sucking the gas in the test tank 5 is located in the vicinity of the inner wall portion of the one end wall 7 and in the vicinity of the front wall 9. . Similarly, a second vertical partition plate 59 extending in parallel with the other end wall 8 from the partition wall 4 to the vicinity of the front wall 9 is disposed between the gas blowing port 51 and the second gas suction port 53. A second gas recirculation duct 60 is formed between the two vertical partition plates 59 and the other end wall 8. As a result, the front end opening of the second gas recirculation duct 60 for sucking the gas in the test tank 5 is located in the vicinity of the inner wall portion of the other end wall 8 and in the vicinity of the front wall 9. . The work placing table 61 is located between the first vertical partition plate 57 and the second vertical partition plate 59. Further, the upper surface 61 a of the workpiece mounting table 61 is at the same height as the lower end edge of the gas outlet 51.

このように構成しても、気体吹き出し口51から吹き出された気体は、ワーク載置台61をその上面61aに沿って通過した後に、前壁9の近傍まで到達する。従って、ワーク載置台61に載せられたワークを気体に十分に晒すことができる。また、気体は仕切り壁4から遠い部位まで行き渡るので、試験槽5内の温度分布が均一化する。また、前壁9の近傍まで到達した気体は試験槽5内の左右の一方の端壁7および他方の端壁8に沿って還流するので、試験槽5内の横方向の温度分布を均一化するのに適している。   Even if comprised in this way, the gas blown out from the gas blowing port 51 reaches the vicinity of the front wall 9 after passing through the workpiece mounting table 61 along the upper surface 61a. Therefore, the work placed on the work placing table 61 can be sufficiently exposed to the gas. Moreover, since gas spreads to the part far from the partition wall 4, the temperature distribution in the test tank 5 becomes uniform. Further, since the gas that has reached the vicinity of the front wall 9 flows back along the left and right end walls 7 and the other end wall 8 in the test chamber 5, the temperature distribution in the lateral direction in the test chamber 5 is made uniform. Suitable for doing.

なお、この場合にも、第1垂直仕切り板57と一方の端壁7の間隔、および第2垂直仕切り板59と他方の端壁8の間隔は略同じ間隔とするとともに、これらの間隔は、それぞれ第1垂直仕切り板57と第2垂直仕切り板59との間隔の略1/2とすることができる。このようにすれば、仕切り板4の気体吹き出し口51から試験槽5内に吹き込まれた恒温気体は、ワーク載置台61をその上面61aに沿って通過した後に、第1気体還流用ダクト58と第2気体還流用ダクト60に抵抗無くほぼ均等に分流されて、第1気体吸い込み口52および第2気体吸い込み口53から気体供給槽6へと還流する。第1気体吸い込み口52と第2気体吸い込み口53から気体供給槽6へと還流する気体の流量がほぼ均等となることによって、第1加熱器55と第2加熱器56の仕事量もほぼ均等になり安定した制御が行われる。   Also in this case, the interval between the first vertical partition plate 57 and the one end wall 7 and the interval between the second vertical partition plate 59 and the other end wall 8 are substantially the same interval, and these intervals are: The distance between the first vertical partition plate 57 and the second vertical partition plate 59 can be set to approximately ½. In this way, the constant temperature gas blown into the test tank 5 from the gas outlet 51 of the partition plate 4 passes through the workpiece mounting table 61 along the upper surface 61a, and then the first gas recirculation duct 58 and The second gas recirculation duct 60 is divided almost evenly without resistance, and recirculates from the first gas suction port 52 and the second gas suction port 53 to the gas supply tank 6. Since the flow rate of the gas recirculated from the first gas suction port 52 and the second gas suction port 53 to the gas supply tank 6 becomes substantially equal, the work of the first heater 55 and the second heater 56 is also almost equal. And stable control is performed.

また、図2(b)に対応するように図示した図9に示す試験装置1Cでは、試験装置1Bにおいて、さらに、天井面5aに沿った第3気体還流用ダクト71および底面5bに沿った第4気体還流用ダクト72を備えている。また、第3気体吸い込み口73および第4気体吸い込み口74を仕切り壁4における気体吹き出し口51の上下の両側に形成し、第3加熱器75を第3気体吸い込み口73から送風ファン54の気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置し、第4加熱器76を第4気体吸い込み口74から送風ファン54の気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置している。このようにすれば、気体吹き出し口51から試験槽5内に供給された気体は、ワーク載置台61の表面を通過して前壁9の近傍に到達した後に、試験槽の天井面5a、底面5b、一方の端壁7、他方の端壁8に沿って還流する。従って、試験槽5内の上下方向および横方向の温度分布を均一化するのに適している。   Further, in the test apparatus 1C shown in FIG. 9 corresponding to FIG. 2 (b), in the test apparatus 1B, the third gas reflux duct 71 along the ceiling surface 5a and the first gas passage along the bottom surface 5b. A four-gas reflux duct 72 is provided. Further, the third gas suction port 73 and the fourth gas suction port 74 are formed on both upper and lower sides of the gas blowing port 51 in the partition wall 4, and the third heater 75 is connected to the gas of the blower fan 54 from the third gas suction port 73. It arrange | positions on the gas suction path which goes to the suction side, and arrange | positions the 4th heater 76 on the gas suction path which goes to the gas suction side of the ventilation fan 54 from the 4th gas suction port 74. FIG. If it does in this way, after the gas supplied in the test tank 5 from the gas blower outlet 51 will pass the surface of the workpiece mounting base 61 and arrived at the vicinity of the front wall 9, the ceiling surface 5a of a test tank, bottom face 5 b, reflux along one end wall 7 and the other end wall 8. Therefore, it is suitable for making the temperature distribution in the vertical and horizontal directions in the test tank 5 uniform.

また、上記の例では、いずれも、試験槽5の気体を気体供給槽6に還流させるための気体還流用ダクトを試験槽5内に構成しているが、試験槽5の気体を吸い込むための気体還流用ダクトの先端開口を、ワーク配置部を挟み仕切り壁4とは反対側の部位に配置するとともに、気体還流用ダクトの後端開口を気体供給槽6に連通させれば、気体還流用ダクトの本体部分を試験槽5の外側を迂回させて構成することもできる。   In each of the above examples, a gas recirculation duct for recirculating the gas in the test tank 5 to the gas supply tank 6 is configured in the test tank 5, but for inhaling the gas in the test tank 5. If the front end opening of the gas recirculation duct is disposed at a position opposite to the partition wall 4 with the work arrangement portion interposed therebetween, and the rear end opening of the gas recirculation duct is communicated with the gas supply tank 6, The main body portion of the duct can be configured to bypass the outside of the test tank 5.

なお、上記の例では、気体供給槽6には熱交換器として加熱器が配置されているが、これら加熱器とともに、或いは加熱器に替えて、蒸発器や加湿器を配置して試験槽5内に湿度が調整された恒湿空気を供給することもできる。   In the above example, a heater is disposed as a heat exchanger in the gas supply tank 6, but an evaporator or a humidifier is disposed together with or in place of the heater, and the test tank 5. It is also possible to supply constant-humidity air with adjusted humidity.

この場合においても、仕切り壁に形成された気体吹き出し口から試験槽に供給された恒湿気体は、ワーク配置部を挟んで仕切り壁とは反対側の部位まで到達するので、ワーク配置部に配置されたワークを恒湿気体に十分に晒すことができる。また、気体はワーク配置部よりも遠い部位まで行き渡るので、試験槽内の湿度分布が均一化される。従って、例えば、複数のワークがラックを用いて水平方向および垂直方向に並べられた状態で試験槽内に投入されている場合でも、全てのワークを高湿気体に十分に晒すことができる。また、ラックに並べられている各ワークの周辺の湿度の差がなくなるので、各ワークに対して所定の湿度条件で試験を行うことができる。   Even in this case, the constant-humidity gas supplied to the test tank from the gas outlet formed in the partition wall reaches the part on the opposite side of the partition wall across the work placement part, so it is placed in the work placement part. The exposed workpiece can be sufficiently exposed to a constant humidity gas. Moreover, since gas spreads to the site | part far from a workpiece | work arrangement | positioning part, the humidity distribution in a test tank is equalized. Therefore, for example, even when a plurality of workpieces are placed in the test tank in a state where they are arranged in a horizontal direction and a vertical direction using a rack, all the workpieces can be sufficiently exposed to the high-humidity gas. In addition, since there is no difference in the humidity around the workpieces arranged in the rack, it is possible to test each workpiece under a predetermined humidity condition.

本発明を適用した試験装置の外観斜視図である。1 is an external perspective view of a test apparatus to which the present invention is applied. (a)は図1のA−A断面を上から見た図であり、(b)は図1のB−B断面を上から見た図であり、(c)は図1のC−C断面を上から見た図である。(A) is the figure which looked at the AA cross section of FIG. 1 from the top, (b) is the figure which looked at the BB cross section of FIG. 1, and (c) is CC of FIG. It is the figure which looked at the cross section from the top. 試験室内における気体循環路を模式的に示した概略縦断面図である。It is the schematic longitudinal cross-sectional view which showed typically the gas circulation path in a test chamber. (a)は従来例の試験装置を示す概略横断面図であり、(b)はその概略縦断面図である。(A) is a general | schematic cross-sectional view which shows the testing apparatus of a prior art example, (b) is the schematic longitudinal cross-sectional view. (a)は本例の試験装置の試験槽内の温度を調べた部位を説明するための概略縦断面図であり、(b)は従来例の試験装置の試験槽内の温度を調べた部位を説明するための概略縦断面図である。(A) is a schematic longitudinal cross-sectional view for demonstrating the site | part which investigated the temperature in the test tank of the test apparatus of this example, (b) is the site | part which investigated the temperature in the test tank of the test apparatus of a prior art example It is a schematic longitudinal cross-sectional view for demonstrating. 本例の試験槽内の温度分布を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature distribution in the test tank of this example. 従来例の試験槽内の温度分布を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature distribution in the test tank of a prior art example. 本発明を適用した別の試験装置の概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view of another test apparatus to which this invention is applied. 本発明を適用した別の試験装置の概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view of another test apparatus to which this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1、1A、1B 試験装置
2 試験室
3 機械室
4 仕切り壁
5 試験槽
6 気体供給槽
7 一方の端壁
8 他方の端壁
9 前壁(対向壁)
10 開閉蓋
11 パレット
12、13 水平案内レール
14(1)〜(3)、55 第1加熱器
15(1)〜(3)、56 第2加熱器
16(1)〜(3)、54 送風ファン
17(1)〜(3)、51 気体吹き出し口
18(1)〜(3)、52 第1気体吸い込み口
19(1)〜(3)、53 第2気体吸い込み口
21、58 第1気体還流用ダクト
22、60 第2気体還流用ダクト
23 第1水平仕切り板
24 第2水平仕切り板
30 ワーク
31 ラック
57 第1垂直仕切り板
59 第2垂直仕切り板
71 第3気体還流用ダクト
72 第4気体還流用ダクト
73 第3気体吸い込み口
74 第4気体吸い込み口
75 第3加熱器
76 第4加熱器
1, 1A, 1B Test apparatus 2 Test chamber 3 Machine room 4 Partition wall 5 Test tank 6 Gas supply tank 7 One end wall 8 The other end wall 9 Front wall (opposite wall)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Opening and closing lid 11 Pallet 12, 13 Horizontal guide rails 14 (1)-(3), 55 1st heater 15 (1)-(3), 56 2nd heater 16 (1)-(3), 54 ventilation Fans 17 (1) to (3), 51 Gas outlets 18 (1) to (3), 52 First gas inlets 19 (1) to (3), 53 Second gas inlets 21, 58 First gas Reflux ducts 22, 60 Second gas reflux duct 23 First horizontal partition plate 24 Second horizontal partition plate 30 Work 31 Rack 57 First vertical partition plate 59 Second vertical partition plate 71 Third gas reflux duct 72 Fourth Gas recirculation duct 73 Third gas suction port 74 Fourth gas suction port 75 Third heater 76 Fourth heater

Claims (11)

試験室と、
前記試験室の内部を、ワークに対して試験を行う試験槽、および、前記試験槽に恒温または/および恒湿気体を供給する気体供給槽に仕切っている仕切り壁と、
前記気体供給槽から前記試験槽へ恒温または/および恒湿気体を供給するために前記仕切り壁に形成されている気体吹き出し口と、
前記試験槽の気体を前記気体供給槽に還流させるための気体還流用ダクトを有しており、
前記試験槽の気体を吸い込むための前記気体還流用ダクトの先端開口は、前記試験槽内に投入されたワークが配置されるワーク配置部を挟み、前記仕切り壁とは反対側の部位に配置されていることを特徴とする試験装置。
A test room,
A partition wall that divides the inside of the test chamber into a test tank that performs a test on a workpiece, and a gas supply tank that supplies constant temperature or / and constant humidity gas to the test tank;
A gas outlet formed in the partition wall for supplying a constant temperature or / and a constant humidity gas from the gas supply tank to the test tank;
A gas reflux duct for refluxing the gas in the test tank to the gas supply tank;
The end opening of the gas recirculation duct for sucking in the gas in the test tank is disposed at a part opposite to the partition wall with a work placement part where the work put in the test tank is placed. A test apparatus characterized by comprising:
請求項1に記載の試験装置において、
前記試験槽の気体を前記気体供給槽に還流させるために前記仕切り壁に形成されている気体吸い込み口を有しており、
前記気体吹き出し口および前記気体吸い込み口は、前記仕切り壁によって気密に仕切られている前記試験槽と前記気体供給槽とを連通させており、
前記気体吸い込み口には、前記気体還流用ダクトの後端開口が接続されていることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 1,
In order to recirculate the gas in the test tank to the gas supply tank, it has a gas suction port formed in the partition wall;
The gas outlet and the gas inlet communicate the gas supply tank with the test tank that is airtightly partitioned by the partition wall;
A test apparatus, wherein a rear end opening of the gas recirculation duct is connected to the gas suction port.
請求項2に記載の試験装置において、
前記気体還流用ダクトの先端開口は、前記ワーク配置部を挟んで前記仕切り壁と対向している前記試験槽の対向壁の近傍に位置していることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 2,
The test apparatus according to claim 1, wherein a front end opening of the gas recirculation duct is located in the vicinity of an opposing wall of the test tank facing the partition wall with the work placement portion interposed therebetween.
請求項2または3に記載の試験装置において、
前記気体還流用ダクトとして、第1気体還流用ダクトと第2気体還流用ダクトとを備えており、
前記気体吸い込み口として、前記第1気体還流用ダクトの後端開口が接続されている少なくとも一つの第1気体吸い込み口と、前記第2気体還流用ダクトの後端開口が接続されている少なくとも一つの第2気体吸い込み口とを備えており、
前記第1気体還流用ダクトの先端開口と前記第2気体還流用ダクトの先端開口とはそれぞれ、前記ワーク配置部を挟んで離れて位置していることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 2 or 3,
The gas reflux duct includes a first gas reflux duct and a second gas reflux duct,
As the gas suction port, at least one first gas suction port to which a rear end opening of the first gas reflux duct is connected and at least one of which a rear end opening of the second gas reflux duct is connected. Two second gas inlets,
The test apparatus according to claim 1, wherein a front end opening of the first gas recirculation duct and a front end opening of the second gas recirculation duct are located apart from each other with the work placement portion interposed therebetween.
請求項4に記載の試験装置において、
前記第1気体還流用ダクトは、前記試験槽の天井面に沿って形成され、その先端開口は前記天井面の近傍に位置しており、
前記第2気体還流用ダクトは、前記試験槽の底面に沿って形成され、その先端開口は前記底面の近傍に位置しており、
前記第1気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記天井面の近傍に形成され、
前記第2気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記底面の近傍に形成され、
前記気体吹き出し口は、前記仕切り壁の前記第1気体吸い込み口と前記第2気体吸い込み口との間に形成されていることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 4,
The first gas recirculation duct is formed along the ceiling surface of the test tank, and the tip opening is located in the vicinity of the ceiling surface,
The second gas recirculation duct is formed along the bottom surface of the test tank, and the tip opening is located in the vicinity of the bottom surface,
The first gas suction port is formed in the vicinity of the ceiling surface of the partition wall,
The second gas suction port is formed in the vicinity of the bottom surface of the partition wall,
The test apparatus, wherein the gas outlet is formed between the first gas inlet and the second gas inlet of the partition wall.
請求項5に記載の試験装置において、
前記第1気体還流用ダクトは、前記天井面と、この天井面と平行に第1の間隔で配置した第1水平仕切り板との間に形成されたものであり、
前記第2気体還流用ダクトは、前記底面と、この底面と平行に第2の間隔で配置した第2水平仕切り板との間に形成されたものであり、
前記ワーク配置部は、前記第1水平仕切り板と前記第2水平仕切り板との間に位置していることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 5, wherein
The first gas reflux duct is formed between the ceiling surface and a first horizontal partition plate arranged at a first interval in parallel with the ceiling surface,
The second gas reflux duct is formed between the bottom surface and a second horizontal partition plate arranged at a second interval in parallel with the bottom surface,
The test apparatus, wherein the work placement unit is located between the first horizontal partition plate and the second horizontal partition plate.
請求項6に記載の試験装置において、
前記第1の間隔および第2の間隔は略同一であり、かつ、前記第1水平仕切り板と前記第2水平仕切り板の間隔の略1/2であることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 6, wherein
The test apparatus characterized in that the first interval and the second interval are substantially the same, and are approximately ½ of the interval between the first horizontal partition plate and the second horizontal partition plate.
請求項4に記載の試験装置において、
前記第1気体還流用ダクトは、前記試験槽の横方向で前記ワーク配置部を挟んで対向している前記試験槽の一方の内壁および他方の内壁のうちの前記一方の内壁に沿って形成され、その先端開口は前記一方の内壁の近傍に位置しており、
前記第2気体還流用ダクトは、前記試験槽の他方の内壁に沿って形成され、その先端開口は前記他方の内壁の近傍に位置しており、
前記第1気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記一方の内壁の近傍に形成され、
前記第2気体吸い込み口は、前記仕切り壁の前記他方の内壁の近傍に形成され、
前記気体吹き出し口は、前記仕切り壁の前記第1気体吸い込み口と前記第2気体吸い込み口との間に形成されていることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 4,
The first gas recirculation duct is formed along one inner wall of the test tank and the other inner wall of the test tank facing each other across the workpiece placement portion in the lateral direction of the test tank. The tip opening is located in the vicinity of the one inner wall,
The second gas recirculation duct is formed along the other inner wall of the test tank, and the tip opening is located in the vicinity of the other inner wall.
The first gas suction port is formed in the vicinity of the one inner wall of the partition wall,
The second gas suction port is formed in the vicinity of the other inner wall of the partition wall,
The test apparatus, wherein the gas outlet is formed between the first gas inlet and the second gas inlet of the partition wall.
請求項8に記載の試験装置において、
前記第1気体還流用ダクトは、前記一方の内壁と、この一方の内壁と第1の間隔で平行に配置した第1垂直切り板との間に形成されたものであり、
前記第2気体還流用ダクトは、前記他方の内壁と、この他方の内壁と第2の間隔で平行に配置した第2垂直仕切り板との間に形成されたものであり、
前記ワーク配置部は、前記第1垂直仕切り板と前記第2垂直切り板との間に位置していることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 8, wherein
The first gas reflux duct is formed between the one inner wall and the first vertical cut plate disposed in parallel with the one inner wall at a first interval,
The second gas reflux duct is formed between the other inner wall and a second vertical partition plate arranged in parallel with the other inner wall at a second interval,
The test apparatus, wherein the work placement unit is located between the first vertical partition plate and the second vertical cut plate.
請求項9に記載の試験装置において、
前記第1の間隔および第2の間隔は略同一であり、かつ、前記第1垂直切り板と前記第2垂直仕切り板との間隔の略1/2であることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to claim 9, wherein
The test apparatus characterized in that the first interval and the second interval are substantially the same, and are approximately ½ of the interval between the first vertical cut plate and the second vertical partition plate.
請求項5ないし10のうちのいずれかの項に記載の試験装置において、
前記気体供給槽には、送風ファンと、第1熱交換器および第2熱交換機とが配置されており、
前記送風ファンは、その気体吹き出し側が前記気体吹き出し口に対峙する状態に配置されており、
前記第1熱交換器は、前記第1気体吸い込み口から前記送風ファンの気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されており、
前記第2熱交換器は、前記第2気体吸い込み口から前記送風ファンの気体吸引側に向かう気体吸引路上に配置されていることを特徴とする試験装置。
The test apparatus according to any one of claims 5 to 10,
In the gas supply tank, a blower fan, a first heat exchanger and a second heat exchanger are arranged,
The blower fan is disposed in a state where the gas blowing side faces the gas blowing port,
The first heat exchanger is disposed on a gas suction path from the first gas suction port toward the gas suction side of the blower fan,
The test apparatus, wherein the second heat exchanger is disposed on a gas suction path from the second gas suction port toward a gas suction side of the blower fan.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014145669A (en) * 2013-01-29 2014-08-14 Toyota Central R&D Labs Inc Cooling/heating tank and cooling/heating device
JP2017181327A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 エスペック株式会社 Environment testing device, fluid introduction member, and environment adjustment device
JP2020106465A (en) * 2018-12-28 2020-07-09 株式会社カトー Test tank device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014145669A (en) * 2013-01-29 2014-08-14 Toyota Central R&D Labs Inc Cooling/heating tank and cooling/heating device
JP2017181327A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 エスペック株式会社 Environment testing device, fluid introduction member, and environment adjustment device
JP2020106465A (en) * 2018-12-28 2020-07-09 株式会社カトー Test tank device

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