JP2009189933A - Reduction treatment apparatus and method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、還元処理装置および還元処理方法に関し、より詳細には、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有してなる酸化性溶液、すなわちpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対し、還元剤を注入することにより該溶液の還元処理を行う還元処理装置および還元処理方法の改良に関する。 The present invention relates to a reduction treatment apparatus and a reduction treatment method, and more particularly to an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite, that is, an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH. Further, the present invention relates to an improvement of a reduction treatment apparatus and a reduction treatment method for performing a reduction treatment of the solution by injecting a reducing agent.
従来、反応槽に貯留してある酸化性溶液に対して還元剤を注入することにより該溶液の還元処理を行う還元処理装置として、pH検出手段、酸化還元電位検出手段、還元剤注入手段および補正手段が備えられたものが知られている。 Conventionally, as a reduction processing apparatus for performing a reduction treatment of a solution by injecting a reducing agent into an oxidizing solution stored in a reaction tank, pH detection means, oxidation-reduction potential detection means, reducing agent injection means and correction Those provided with means are known.
pH検出手段は、反応槽に貯留してある溶液のpH値を検出するためのものである。酸化還元電位検出手段は、反応槽に貯留してある溶液の酸化還元電位値を検出するためのものである。還元剤注入手段は、反応槽に貯留してある酸化性溶液に対して還元剤を注入するためのものである。補正手段は、pH検出手段を通じて検出されたpH値と予め決められた基準pH値であるpH7との差に基づき、酸化還元電位検出手段を通じて検出された酸化還元電位値を基準pH値(pH7)のときの酸化還元電位値に補正するためのものである。 The pH detection means is for detecting the pH value of the solution stored in the reaction vessel. The redox potential detecting means is for detecting the redox potential value of the solution stored in the reaction vessel. The reducing agent injection means is for injecting the reducing agent into the oxidizing solution stored in the reaction vessel. The correcting means uses the redox potential value detected through the redox potential detecting means as a reference pH value (pH7) based on the difference between the pH value detected through the pH detecting means and the predetermined reference pH value pH7. This is for correcting to the oxidation-reduction potential value at this time.
このような還元処理装置においては、pH検出手段を通じて反応槽に貯留してある酸化性溶液のpH値を検出し、検出したpH値(以下、検出pH値とも称する)と、基準pH値との差に基づいて補正手段を通じて検出した酸化還元電位値を基準pH値のときの酸化還元電位値に補正し、該補正した酸化還元電位値により還元剤注入手段を通じて還元剤を注入し、酸化性溶液の還元処理を行うものである(例えば、特許文献1参照)。 In such a reduction treatment apparatus, the pH value of the oxidizing solution stored in the reaction tank is detected through the pH detection means, and the detected pH value (hereinafter also referred to as the detected pH value) and the reference pH value The oxidation-reduction potential value detected through the correction means based on the difference is corrected to the oxidation-reduction potential value at the reference pH value, and the reducing agent is injected through the reducing agent injection means according to the corrected oxidation-reduction potential value. (See, for example, Patent Document 1).
ところで、上述した特許文献1に提案されている還元処理装置では、検出pH値と基準pH値との差に基づいて検出した酸化還元電位値を基準pH値のときの酸化還元電位値に補正しているが、これは還元対象となる溶液は、酸化還元電位値とpH値との間に略直線的に変位する関係が成立することを前提にして決められたものである。一方、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液については、酸化還元電位値とpH値との間に略直線的に変位する関係が成立するか否かは定かではなく、上述した還元処理装置では、pHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対して適正な還元剤の注入量で良好に還元処理を行うことができない虞れがあった。 By the way, in the reduction treatment apparatus proposed in Patent Document 1 described above, the oxidation-reduction potential value detected based on the difference between the detected pH value and the reference pH value is corrected to the oxidation-reduction potential value at the reference pH value. However, this is determined on the assumption that the solution to be reduced has a substantially linear displacement relationship between the oxidation-reduction potential value and the pH value. On the other hand, for an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH, such as an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite, the displacement is approximately linear between the redox potential value and the pH value. It is not certain whether or not this relationship is established, and the above-described reduction processing apparatus cannot perform a reduction process satisfactorily with an appropriate amount of reducing agent injected into an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH. There was a fear.
本発明は、上記実情に鑑みて、pHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができる還元処理装置および還元処理方法を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, the present invention provides a reduction treatment apparatus and a reduction treatment method that can satisfactorily carry out reduction treatment with an appropriate amount of reducing agent even for an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH. The purpose is to do.
上記目的を達成するために、本発明の請求項1に係る還元処理装置は、酸化性溶液に対して還元剤を注入するための還元剤注入手段と、前記酸化性溶液に対してpH調整剤を注入するためのpH調整剤注入手段とを備え、前記還元剤注入手段による還元剤の注入により前記酸化性溶液の還元処理を行う還元処理装置において、前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値を記憶する記憶手段を有し、還元処理指令が与えられた場合に、前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させ、かつ必要に応じて前記pH調整剤注入手段を通じてpH調整剤を注入させることにより前記溶液のpH値を所定範囲に調整し、pH調整後の溶液の酸化還元電位値が、前記記憶手段に記憶する対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させる一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了する制御手段を備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a reduction processing apparatus according to claim 1 of the present invention comprises a reducing agent injection means for injecting a reducing agent into an oxidizing solution, and a pH adjuster for the oxidizing solution. PH reduction agent injection means for injecting, and in the reduction treatment apparatus that performs reduction treatment of the oxidizing solution by injecting the reducing agent by the reducing agent injection means, an oxidizing residual substance that is a target in the solution Storage means for storing a redox potential reference value determined for each pH value that defines that the concentration is in an allowable range, and when a reduction treatment command is given, the reducing agent is supplied through the reducing agent injection means; And adjusting the pH value of the solution to a predetermined range by injecting the pH adjusting agent through the pH adjusting agent injecting means as required, and the redox potential value of the solution after the pH adjustment is stored in the storage means In A control means for injecting a reducing agent through the reducing agent injecting means when the corresponding pH value exceeds a redox potential reference value to be remembered, and ending the reduction process when the reference value is equal to or lower than the oxidation / reduction potential reference value. Features.
また、本発明の請求項2に係る還元処理装置は、酸化性溶液に対して還元剤を注入するための還元剤注入手段を備え、該還元剤注入手段による還元剤の注入により前記酸化性溶液の還元処理を行う還元処理装置において、前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値を記憶する記憶手段を有し、還元処理指令が与えられた場合に、前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させ、還元剤注入後に検出された前記溶液の酸化還元電位値およびpH値と、前記記憶手段に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させる一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了する制御手段を備えたことを特徴とする。
Moreover, the reduction processing apparatus according to
また、本発明の請求項3に係る還元処理装置は、上述した請求項2において、前記制御手段は、検出された酸化還元電位値が対応するpH値の酸化還元電位基準値以下となる場合には、前記反応槽内の溶液を中和する処理を行うことを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, there is provided the reduction processing apparatus according to the second aspect, wherein the control means is configured such that the detected redox potential value is equal to or lower than the redox potential reference value of the corresponding pH value. Is characterized in that a treatment for neutralizing the solution in the reaction vessel is performed.
また、本発明の請求項4に係る還元処理装置は、上述した請求項1〜3のいずれか一つにおいて、前記制御手段は、pHによって解離状態が変化する酸化剤を含有した酸化性溶液に還元処理を行うことを特徴とする。
Moreover, the reduction treatment apparatus according to
また、本発明の請求項5に係る還元処理装置は、上述した請求項4において、前記酸化性溶液に含有される酸化剤は、次亜塩素酸ナトリウムであることを特徴とする。
The reduction processing apparatus according to
また、本発明の請求項6に係る還元処理装置は、上述した請求項1〜5のいずれか一つにおいて、前記制御手段は、膜により被処理水を濾過する装置の膜の洗浄に使用された洗浄液の排水である酸化性溶液に還元処理を行うことを特徴とする。 The reduction treatment apparatus according to a sixth aspect of the present invention is the reduction treatment apparatus according to any one of the first to fifth aspects described above, wherein the control means is used for cleaning a membrane of an apparatus for filtering water to be treated by the membrane. It is characterized in that a reduction treatment is performed on the oxidizing solution which is the waste water of the cleaning liquid.
また、本発明の請求項7に係る還元処理方法は、酸化性溶液に対して還元剤、並びに必要に応じてpH調整剤を注入することにより前記酸化性溶液の還元処理を行う還元処理方法において、前記酸化性溶液に対して還元剤を注入した後に、必要に応じてpH調整剤を注入して該溶液のpH値を所定範囲に調整する調整処理工程と、前記調整処理工程後の溶液から検出された酸化還元電位値と、前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH毎に決められた酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入する一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了する比較処理工程とを含むことを特徴とする。
Moreover, the reduction treatment method according to
また、本発明の請求項8に係る還元処理方法は、酸化性溶液に対して還元剤を注入することにより前記酸化性溶液の還元処理を行う還元処理方法において、前記酸化性溶液に対して還元剤を注入する注入処理工程と、前記注入処理工程後の溶液から検出された酸化還元電位値およびpH値と、前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには前記還元剤を注入する一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了する還元工程とを含むことを特徴とする。
Further, the reduction treatment method according to
また、本発明の請求項9に係る還元処理方法は、上述した請求項8において、前記還元工程で還元剤の注入を終了した後、前記反応槽内の溶液を中和する中和処理工程を含むことを特徴とする。
In addition, the reduction treatment method according to claim 9 of the present invention includes the neutralization treatment step of neutralizing the solution in the reaction tank after the injection of the reducing agent in the reduction step according to
また、本発明の請求項10に係る還元処理方法は、上述した請求項7〜9のいずれか一つにおいて、前記酸化性溶液は、pHによって解離状態が変化する酸化剤を含有した酸化性溶液であることを特徴とする。
In addition, the reduction treatment method according to
また、本発明の請求項11に係る還元処理方法は、上述した請求項10において、前記酸化性溶液に含まれる酸化剤は、次亜塩素酸ナトリウムであることを特徴とする。
The reduction treatment method according to
また、本発明の請求項12に係る還元処理方法は、上述した請求項7〜11のいずれか一つにおいて、前記酸化性溶液は、膜により被処理水を濾過する装置の膜の洗浄に使用された洗浄液の排水であることを特徴とする。
Moreover, the reduction treatment method according to
本発明の還元処理装置によれば、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値を記憶手段に記憶する制御手段が、還元処理指令が与えられた場合に、還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させ、かつ必要に応じてpH調整剤注入手段を通じてpH調整剤を注入させることにより溶液のpH値を所定範囲に調整し、pH調整後の溶液の酸化還元電位値が、記憶手段に記憶する対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させる一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了するので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入させることにより、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度を許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができるという効果を奏する。 According to the reduction treatment apparatus of the present invention, the control means for storing in the storage means the oxidation-reduction potential reference value determined for each pH value that prescribes that the target oxidizing residual substance concentration in the solution is within the allowable range. However, when a reduction treatment command is given, the pH value of the solution is brought to a predetermined range by injecting the reducing agent through the reducing agent injection means and, if necessary, injecting the pH adjusting agent through the pH adjustment agent injection means. When the redox potential value of the solution after adjustment and pH adjustment exceeds the redox potential reference value of the corresponding pH value stored in the storage means, the reducing agent is injected through the reducing agent injection means, while the redox potential reference Since the reduction process is terminated when the value is less than or equal to the value, the target oxidizing residual substance in the solution can be obtained by injecting the reducing agent with the redox potential reference value of the corresponding pH value as a threshold value. It is possible to a degree within an allowable range. Therefore, for example, an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite and the like, and an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH should be reduced with an appropriate reducing agent injection amount. There is an effect that can be.
また、本発明の還元処理装置によれば、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値を記憶手段に記憶する制御手段が、還元処理指令が与えられた場合に、還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させ、還元剤注入後に検出された溶液の酸化還元電位値およびpH値と、記憶手段に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させる一方、酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了するので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入させることにより、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度を許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができるという効果を奏する。 Moreover, according to the reduction processing apparatus of the present invention, the storage means stores the oxidation-reduction potential reference value determined for each pH value that defines that the concentration of the target oxidizing residual substance in the solution is within the allowable range. When the control means is given a reduction treatment command, the control means causes the reducing agent to be injected through the reducing agent injection means, and the oxidation-reduction potential value and pH value of the solution detected after the injection of the reducing agent and the redox stored in the storage means. When the detected oxidation-reduction potential value exceeds the oxidation-reduction potential reference value of the corresponding pH value, the reducing agent is injected through the reducing agent-injecting means while the detected oxidation-reduction potential value is less than the oxidation-reduction potential reference value. Since the reduction process is terminated when it becomes, the oxidizing residual substance concentration in the solution is set within an allowable range by injecting the reducing agent using the reference value of the redox potential of the corresponding pH value as a threshold value. Door is possible. Therefore, for example, an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite and the like, and an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH should be reduced with an appropriate reducing agent injection amount. There is an effect that can be.
本発明の還元処理方法によれば、調整処理工程において、酸化性溶液に対して還元剤を注入した後に、必要に応じてpH調整剤を注入して該溶液のpH値を所定範囲に調整し、比較処理工程において、調整処理工程後の溶液から検出された酸化還元電位値と、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH毎に決められた酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入する一方、酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了するので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入することにより、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度を許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができるという効果を奏する。 According to the reduction treatment method of the present invention, in the adjustment treatment step, after the reducing agent is injected into the oxidizing solution, the pH value of the solution is adjusted to a predetermined range by injecting a pH adjusting agent as necessary. In the comparison process step, the oxidation-reduction potential value detected from the solution after the adjustment treatment step and the oxidation-reduction determined for each pH that stipulates that the concentration of the target oxidizing residual substance in the solution is within an allowable range. When the detected redox potential value exceeds the redox potential reference value of the corresponding pH value, the reducing agent is injected, whereas when the detected redox potential value is lower than the redox potential reference value, Since the injection is terminated, it is possible to bring the target oxidizing residual substance concentration in the solution into an allowable range by injecting the reducing agent using the oxidation-reduction potential reference value of the corresponding pH value as a threshold value. Therefore, for example, an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite and the like, and an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH should be reduced with an appropriate reducing agent injection amount. There is an effect that can be.
また、本発明の還元処理方法によれば、注入処理工程において、酸化性溶液に対して還元剤を注入し、還元工程において、注入処理工程後の溶液から検出された酸化還元電位値およびpH値と、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入する一方、酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了するので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入することにより、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度を許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができるという効果を奏する。 Further, according to the reduction treatment method of the present invention, the reducing agent is injected into the oxidizing solution in the injection treatment step, and the oxidation-reduction potential value and pH value detected from the solution after the injection treatment step in the reduction step. Is compared with the redox potential reference value determined for each pH value that stipulates that the target oxidizing residual substance concentration in the solution is within the allowable range, and the detected redox potential value When the pH value exceeds the oxidation-reduction potential reference value, the reducing agent is injected. When the pH value is lower than the oxidation-reduction potential reference value, the injection of the reducing agent is terminated. Therefore, the oxidation-reduction potential reference value of the corresponding pH value is used as a threshold value. By injecting the reducing agent, it is possible to make the concentration of the oxidative residual substance in the solution within an allowable range. Therefore, for example, an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite and the like, and an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH should be reduced with an appropriate reducing agent injection amount. There is an effect that can be.
以下に添付図面を参照して、本発明に係る還元処理装置および還元処理方法の好適な実施の形態について詳細に説明する。尚、以下においては、還元処理装置の実施の形態を中心にして説明し、還元処理方法の実施の形態については、還元処理装置の実施の形態の説明中に適宜説明を行うことにする。 Exemplary embodiments of a reduction processing apparatus and a reduction processing method according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the embodiment of the reduction processing apparatus will be mainly described, and the embodiment of the reduction processing method will be described as appropriate during the description of the embodiment of the reduction processing apparatus.
<実施の形態1>
図1は、本発明の実施の形態1における還元処理装置の構成を模式的に示す模式図である。ここに例示する還元処理装置は、反応槽1と、還元剤容器2と、第1pH調整剤容器3と、第2pH調整剤容器4と、撹拌機構8と、pH計9と、ORP計10と、制御部(制御手段)20とを備えて構成してある。
<Embodiment 1>
FIG. 1 is a schematic diagram schematically showing the configuration of the reduction treatment apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. The reduction treatment apparatus illustrated here includes a reaction tank 1, a reducing
反応槽1は、酸化性溶液を貯留するものである。この反応槽1に貯留される酸化性溶液は、図2に示すような膜濾過装置から供給されたものである。 The reaction tank 1 stores an oxidizing solution. The oxidizing solution stored in the reaction tank 1 is supplied from a membrane filtration device as shown in FIG.
このような膜濾過装置は、原水槽13、膜モジュール14および逆洗ポンプ17を備えて構成してある。原水槽13は、例えば河川水や湖沼水等の原水を貯留するためのものである。この原水槽13に貯留される原水は、供給ポンプ16の作用によって図示しない供給ラインを通じて膜モジュール14まで送出される。
Such a membrane filtration apparatus includes a
膜モジュール14は、微細孔が形成されてなる膜を有しており、該膜に供給ポンプ16により送出された原水を通過させることにより濾過するものである。濾過された濾過水は、濾過水槽15に送出され、該濾過水槽15に貯留される。
The
逆洗ポンプ17は、膜モジュール14における所定時間の濾過処理後、濾過水槽15に貯留してある濾過水を逆流させて膜モジュール14の孔の細孔内および膜面の夾雑物を除去する逆洗処理を行うためのものである。この逆洗ポンプ17による逆洗処理を行う際には、必要に応じて次亜塩素酸ナトリウム容器18に収容される次亜塩素酸ナトリウムを、逆洗ポンプ17の作用により逆流する濾過水に注入して洗浄液として膜モジュール14を通過させて殺菌を行っている。この逆洗ポンプ17の逆洗処理に用いられた洗浄液は、膜モジュール14を通過後、洗浄排水として上記還元処理装置に供給され、酸化性溶液として反応槽1に貯留される。
The
このように反応槽1に貯留される酸化性溶液は、次亜塩素酸ナトリウムを酸化剤として含有してなるものであるが、本発明はこれに限定されずに種々のものを用いてよく、例えばハロゲン系酸化物等を用いてもよい。 Thus, the oxidizing solution stored in the reaction vessel 1 contains sodium hypochlorite as an oxidizing agent, but the present invention is not limited to this, and various types may be used. For example, a halogen oxide may be used.
ここで、反応槽1に貯留してある酸化性溶液の特性について述べる。この酸化性溶液には、次亜塩素酸ナトリウムが酸化剤として含有されており、かかる次亜塩素酸ナトリウムは、図3に示すように、pHによって解離状態が変化するもの、すなわちpHによって塩素Cl2、次亜塩素酸HClO、次亜塩素酸イオンClO−と存在形態が変化数するものである。特に、pH5〜pH10付近では、下記式(1)で平衡が成り立っている。
Here, the characteristics of the oxidizing solution stored in the reaction tank 1 will be described. This oxidizing solution contains sodium hypochlorite as an oxidizing agent. As shown in FIG. 3, this sodium hypochlorite has a dissociated state depending on pH, that is, chlorine Cl depends on pH. 2. Hypochlorous acid HClO, hypochlorite ion ClO − and the number of existing forms change. In particular, in the vicinity of
式(1) HClO ⇔ ClO−(次亜塩素酸イオン)+H+(水素イオン)
次亜塩素酸(HClO)は、次亜塩素酸イオン(ClO−)と比較して酸化還元電位が高く、そのため遊離塩素濃度が同じであってもpHによって、酸化還元電位が異なる。
Formula (1) HClO⇔ClO − (hypochlorite ion) + H + (hydrogen ion)
Hypochlorite (HClO) is hypochlorous acid ion (ClO -) high oxidation-reduction potential in comparison with, the pH even Therefore free chlorine concentration is the same, the oxidation-reduction potential is different.
還元剤容器2は、還元剤を収容するものである。収容される還元剤としては、重亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、アスコルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸ナトリウム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この還元剤容器2には、還元剤注入配管5が接続してある。
The reducing
還元剤注入配管5は、基端が還元剤容器2に接続してある一方、先端が反応槽1の上面開口を臨む態様で設けてあり、その途中には還元剤注入ポンプ5aが設けてある。還元剤注入ポンプ5aは、詳細は後述するが、制御部20から指令が与えられることにより所定時間駆動して、還元剤を還元剤注入配管5の先端から反応槽1の内部の溶液に注入するためのものである。これにより、還元剤容器2は、還元剤注入配管5および還元剤注入ポンプ5aとともに、反応槽1に貯留してある酸化性溶液に対して還元剤を注入するための還元剤注入手段を構成している。
The reducing
第1pH調整剤容器3は、アルカリ性調整剤を収容するものである。収容されるアルカリ性調整剤としては、苛性ソーダや炭酸水素ナトリウム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この第1pH調整剤容器3には、第1pH調整剤注入配管6が接続してある。
The 1st
第1pH調整剤注入配管6は、基端が第1pH調整剤容器3に接続してある一方、先端が反応槽1の上面開口を臨む態様で設けてあり、その途中には第1pH調整剤注入ポンプ6aが設けてある。第1pH調整剤注入ポンプ6aは、詳細は後述するが、制御部20から指令が与えられることにより所定時間駆動して、アルカリ性調整剤を第1pH調整剤注入配管6の先端から反応槽1の内部の溶液に注入するためのものである。
The first pH adjusting
第2pH調整剤容器4は、酸性調整剤を収容するものである。収容される酸性調整剤としては、硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この第2pH調整剤容器4には、第2pH調整剤注入配管7が接続してある。
The 2nd
第2pH調整剤注入配管7は、基端が第2pH調整剤容器4に接続してある一方、先端が反応槽1の上面開口を臨む態様で設けてあり、その途中には第2pH調整剤注入ポンプ7aが設けてある。第2pH調整剤注入ポンプ7aは、詳細は後述するが、制御部20から指令が与えられることにより所定時間駆動して、酸性調整剤を第2pH調整剤注入配管7の先端から反応槽1の内部の溶液に注入するためのものである。
The second pH adjusting
撹拌機構8は、反応槽1の内部の液体(溶液)を撹拌するためのものである。pH計9は、反応槽1の内部の溶液のpH値を検出し、検出したpH値(以下、検出pH値とも称する)を検出信号として制御部20に与えるものである。ORP計10は、反応槽1の内部の溶液の酸化還元電位値を検出し、検出した酸化還元電位値(以下、検出ORP値とも称する)を検出信号として制御部20に与えるものである。
The
図1中の符号11は、反応槽1の内部の溶液を排出するための排水管であり、符号12は、開閉することにより排水管11を通じての溶液の排出を許容、あるいは規制する排水バルブである。
制御部20は、図4に示すように、設定記憶部21、入力処理部22、pH判断部23、還元剤注入ポンプ駆動処理部24、調整剤注入ポンプ駆動処理部25、比較判断部26および出力部27を備えて構成してある。尚、ここで示した制御部20の構成要素は、本実施の形態の特徴的なものであり、制御部20は、その他の構成要素を有することはいうまでもない。
As shown in FIG. 4, the
設定記憶部21は、制御部20が種々の動作を行うのに必要なプログラムやデータを記憶するものであり、本実施の形態では、制御部20が還元処理制御を行うのに必要な調整pH情報や酸化還元電位基準値を設定して記憶するためのものである。ここで、調整pH情報は、反応槽1の内部の酸化性溶液のpHを所定範囲に調整するのに必要な情報で、本実施の形態では、排水基準値の範囲として例えば6.5〜7.5の範囲を所定範囲としている。
The setting storage unit 21 stores programs and data necessary for the
酸化還元電位基準値は、還元処理制御を行う際に還元処理の終了を判断するのに必要な値で、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度である遊離塩素濃度が許容範囲、例えば0.2mg/L以下の範囲にあることを規定するとともに、pH値毎に決められた酸化還元電位値である。具体的には、pHが7を超える場合(pH>7の場合)には酸化還元電位基準値が630mV、pHが6を超える場合(より詳細には6<pH≦7の場合)には酸化還元電位基準値が670mVとしている。このように設定された酸化還元電位基準値は、次のようにして求められたものである。 The oxidation-reduction potential reference value is a value necessary for determining the end of the reduction process when performing the reduction process control, and the free chlorine concentration, which is the target oxidizing residual substance concentration in the solution, is within an allowable range, for example, 0. It is an oxidation-reduction potential value determined for each pH value while prescribing a range of 2 mg / L or less. Specifically, when the pH exceeds 7 (when pH> 7), the oxidation-reduction potential reference value is 630 mV, and when the pH exceeds 6 (more specifically, when 6 <pH ≦ 7), oxidation occurs. The reduction potential reference value is 670 mV. The oxidation-reduction potential reference value set in this way is obtained as follows.
図5は、pH6.5〜7.5における遊離塩素濃度と酸化還元電位値との関係を実験的に求めたものである。この図5に示すように、同じ遊離塩素濃度の場合には、pH値が低いほど酸化還元電位が高いことが明らかである。そして、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下となる場合には、pH値が7のときにはORP値が630mV、pH値が6のときにはORP値が670mV、pH値が8のときにはORP値が570mVとなり、かかる遊離塩素濃度のときに還元処理を終了するものとして、pHが7を超える場合(pH>7の場合)には酸化還元電位基準値が630mV、pHが6を超える場合(より詳細には6<pH≦7の場合)には酸化還元電位基準値が670mVとしている。 FIG. 5 shows the experimental relationship between the free chlorine concentration and the redox potential value at pH 6.5 to 7.5. As shown in FIG. 5, in the case of the same free chlorine concentration, it is clear that the redox potential is higher as the pH value is lower. When the free chlorine concentration is 0.2 mg / L or less, the ORP value is 630 mV when the pH value is 7, the ORP value is 670 mV when the pH value is 6, and the ORP value is 570 mV when the pH value is 8. When the pH exceeds 7 (when pH> 7), the redox potential reference value is 630 mV, and the pH exceeds 6 (more in detail). Is 6 <pH ≦ 7), the oxidation-reduction potential reference value is 670 mV.
入力処理部22は、種々の情報を入力処理するものであり、本実施の形態では、特にpH計9からの検出信号(検出pH値)、並びにORP計10からの検出信号(検出ORP値)を入力するものである。
The input processing unit 22 inputs various information, and in the present embodiment, in particular, the detection signal (detection pH value) from the pH meter 9 and the detection signal (detection ORP value) from the
pH判断部23は、入力処理部22を通じて入力した検出pH値と、設定記憶部21に記憶する調整pH情報とを比較して、反応槽1の内部の溶液のpHが所定範囲にあるか否かを判断するものである。
The
還元剤注入ポンプ駆動処理部24は、還元剤注入ポンプ5aに対して駆動指令を与えるものである。この駆動指令を与えられた還元剤注入ポンプ5aは、上述したように所定時間駆動し、これにより、所定量の還元剤が反応槽1の内部に注入される。
The reducing agent injection pump
調整剤注入ポンプ駆動処理部25は、第1pH調整剤注入ポンプ6aまたは第2pH調整剤注入ポンプ7aに対して駆動指令を与えるものである。この駆動指令を与えられた第1pH調整剤注入ポンプ6aまたは第2pH調整剤注入ポンプ7aは、上述したように所定時間駆動し、これにより、所定量のアルカリ性調整剤または酸化性調整剤が反応槽1の内部に注入される。
The adjustment agent injection pump drive processing unit 25 gives a drive command to the first pH adjustment agent injection pump 6a or the second pH adjustment
比較判断部26は、入力処理部22を通じて入力した検出ORP値と、設定記憶部21に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、反応槽1の内部の溶液のORP値が対応するpH値の酸化還元電位基準値以下であるか否かを判断するものである。
The
出力部27は、比較判断部26を通じて反応槽1の内部の溶液のORP値が酸化還元電位基準値以下であると判断された場合に、還元処理が終了した旨を出力するものである。
The output unit 27 outputs that the reduction process is completed when it is determined through the
図6は、上記制御部が実施する還元処理制御の処理内容を示すフローチャートである。かかる図6を参照しながら、制御部20が実施する還元処理制御について説明することにより、還元処理装置の動作について説明を行う。
FIG. 6 is a flowchart showing the contents of the reduction process control performed by the control unit. The operation of the reduction processing apparatus will be described by describing the reduction processing control performed by the
還元処理制御における制御部20は、還元処理指令が与えられた場合に(ステップS101:Yes)、還元剤注入ポンプ駆動処理部24を通じて還元剤注入ポンプ5aに対して駆動指令を出力する(ステップS102)。この駆動指令が与えられた還元剤注入ポンプ5aは、所定時間駆動し、これにより所定量の還元剤が反応槽1の内部に注入されることになる。
When the reduction process command is given (step S101: Yes), the
そして、注入した還元剤と、反応槽1の内部に貯留された酸化性溶液とを所定時間反応させた後、制御部20は、入力処理部22を通じてpH計9からの検出信号、すなわち検出pH値を入力する(ステップS103)。
Then, after reacting the injected reducing agent and the oxidizing solution stored in the reaction tank 1 for a predetermined time, the
検出pH値を入力した制御部20は、pH判断部23を通じて、検出pH値と設定記憶部21に記憶する調整pH情報とを比較して、検出pH値が6.5〜7.5の範囲内にあるか否かを判断し、検出pH値が6.5〜7.5の範囲内にあれば、入力処理部22を通じてORP計10からの検出信号、すなわち検出ORP値を入力する(ステップS104:Yes,ステップS105:Yes,ステップS106)。
The
一方、pH判断部23を通じて検出pH値が6.5未満である場合には(ステップS104:No)、制御部20は、調整剤注入ポンプ駆動処理部25を通じて第1pH調整剤注入ポンプ6aに対して駆動指令を出力する(ステップS107)。これにより、第1pH調整剤注入ポンプ6aは、所定時間駆動し、所定量のアルカリ性調整剤が反応槽1の内部に注入されることになる。かかるステップS107の処理を実施した制御部20は、注入したアルカリ性調整剤と、反応槽1の内部に貯留された溶液とを所定時間反応させた後、手順をステップS103に戻して、上述したステップS103以降の処理を繰り返し実施する。
On the other hand, when the detected pH value is less than 6.5 through the pH determination unit 23 (step S104: No), the
また、pH判断部23を通じて検出pH値が7.5未満である場合には(ステップS105:No)、制御部20は、調整剤注入ポンプ駆動処理部25を通じて第2pH調整剤注入ポンプ7aに対して駆動指令を出力する(ステップS108)。これにより、第2pH調整剤注入ポンプ7aは、所定時間駆動し、所定量の酸性調整剤が反応槽1の内部に注入されることになる。かかるステップS108の処理を実施した制御部20は、注入した酸性調整剤と、反応槽1の内部に貯留された溶液とを所定時間反応させた後、手順をステップS103に戻して、上述したステップS103以降の処理を繰り返し実施する。
Further, when the detected pH value is less than 7.5 through the pH determination unit 23 (step S105: No), the
上記ステップS106を実施した制御部20、すなわち入力処理部22を通じて検出ORP値を入力した制御部20は、比較判断部26を通じて、入力した検出ORP値と、設定記憶部21に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、反応槽1の内部の溶液のORP値が対応するpH値の酸化還元電位基準値以下であるか否かを判断する。具体的には、制御部20は、比較判断部26を通じて、検出pH値が7を超えている場合には(ステップS109:Yes)、すなわち検出pH値が7より大きく7.5以下の場合には、検出ORP値が630mV(酸化還元電位基準値)以下であるか否かを判断する(ステップS110)。
The
検出ORP値が630mV以下の場合には(ステップS110:Yes)、制御部20は、出力部27を通じて還元処理を終了した旨を出力して(ステップS111)、その後に手順をリターンさせて今回の処理を終了する。これにより、反応槽1の内部の酸化性溶液は、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下の許容範囲に還元されたことになる。
When the detected ORP value is 630 mV or less (step S110: Yes), the
また、上記ステップS109において、検出pH値が7を超えていない場合には(ステップS109:No)、すなわち検出pH値が6.5以上7以下の場合には、制御部20は、比較判断部26を通じて、検出ORP値が670mV(酸化還元電位基準値)以下であるか否かを判断する(ステップS112)。
In step S109, when the detected pH value does not exceed 7 (step S109: No), that is, when the detected pH value is 6.5 or more and 7 or less, the
検出ORP値が670mV以下の場合には(ステップS112:Yes)、制御部20は、出力部27を通じて還元処理を終了した旨を出力して(ステップS111)、その後に手順をリターンさせて今回の処理を終了する。反応槽1の内部の酸化性溶液は、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下の許容範囲に還元されたことになる。
When the detected ORP value is 670 mV or less (step S112: Yes), the
一方、ステップS110において検出ORP値が630mVを超えている場合(ステップS110:No)、あるいはステップS112において検出ORP値が670mVを超えている場合には(ステップS112:No)、制御部20は、手順をステップS102に戻して、上述したステップS102以降の処理を繰り返し実施する。これにより、反応槽1の内部の溶液のpH値を所定範囲に維持する態様で還元剤を注入することが可能になる。
On the other hand, when the detected ORP value exceeds 630 mV in step S110 (step S110: No), or when the detected ORP value exceeds 670 mV in step S112 (step S112: No), the
このようにして還元処理制御が実施され、反応槽1の酸化性溶液を所望の状態に還元した後に、還元処理装置は、排水バルブ12を開成させて、排水管11を通じて反応槽1の内部の溶液を外部に排出する。
In this way, after the reduction treatment control is performed and the oxidizing solution in the reaction tank 1 is reduced to a desired state, the reduction treatment apparatus opens the
以上説明したように、本発明の実施の形態1における還元処理装置によれば、制御部20が、還元処理指令が与えられた場合に、還元剤を注入させ、かつ必要に応じてpH調整剤(第1pH調整剤および第2pH調整剤)を注入させて反応槽1の内部の溶液のpH値を6.5〜7.5の範囲に調整し、pH調整後の溶液の酸化還元電位値が、設定記憶部21に記憶する対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入させる一方、酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了するので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入させることにより、溶液中の遊離塩素濃度を0.2mg/L以下の許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができる。
As described above, according to the reduction processing apparatus in Embodiment 1 of the present invention, when the reduction processing command is given, the
また、還元処理装置によれば、上述したような還元処理を行うので、予め決められたpH値毎(例えば、pH値>7の場合、並びにpH値≦7の場合)に応じて所定量の還元剤を注入させればよく、従来のように基準pH値に対応した還元剤を注入する必要がないので、還元剤の注入量が必要以上に過大になってしまう虞れがない。また、従来のように補正処理を行う必要がない。従って、処理工程を増大することなく、酸化性溶液に対して適正な還元剤の注入量で還元処理を行うことができる。 Further, according to the reduction treatment apparatus, the reduction treatment as described above is performed, so that a predetermined amount is obtained according to each predetermined pH value (for example, when pH value> 7 and when pH value ≦ 7). It is only necessary to inject a reducing agent, and since there is no need to inject a reducing agent corresponding to the reference pH value as in the prior art, there is no possibility that the amount of reducing agent injected becomes excessively large. Further, there is no need to perform correction processing as in the prior art. Therefore, the reduction treatment can be performed with an appropriate amount of reducing agent injected into the oxidizing solution without increasing the number of treatment steps.
更に、還元処理装置によれば、還元剤を注入して反応槽1の内部の溶液のpH値を排水基準値の範囲である例えば6.5〜7.5の範囲に調整して還元処理を行うので、還元処理後の溶液をそのまま排水管11を通じて排出することができる。
Furthermore, according to the reduction processing apparatus, the reducing agent is injected to adjust the pH value of the solution inside the reaction tank 1 to the range of the drainage standard value, for example, the range of 6.5 to 7.5. Therefore, the solution after the reduction treatment can be discharged through the
一方、本発明の実施の形態1における還元処理方法によれば、反応槽1の内部の酸化性溶液に対して還元剤を注入して該溶液のpH値を6.5〜7.5の範囲に調整する工程(調整処理工程)と、該工程後の溶液からの検出ORP値と、酸化還元電位基準値との比較の結果、検出ORP値が対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入する一方、該酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了する工程(比較処理工程)とを行うので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入させることにより、溶液中の遊離塩素濃度を0.2mg/L以下の許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができる。 On the other hand, according to the reduction treatment method in Embodiment 1 of the present invention, a reducing agent is injected into the oxidizing solution inside the reaction tank 1 to adjust the pH value of the solution to a range of 6.5 to 7.5. As a result of comparison between the step of adjusting (adjustment processing step) and the detected ORP value from the solution after the step and the redox potential reference value, the detected ORP value exceeds the redox potential reference value of the corresponding pH value In some cases, a reducing agent is injected, and when the oxidation-reduction potential reference value falls below the reference value, a reduction-agent injection step (comparison processing step) is performed. Therefore, reduction is performed using the oxidation-reduction potential reference value of the corresponding pH value as a threshold value. By injecting the agent, the free chlorine concentration in the solution can be set to an allowable range of 0.2 mg / L or less. Therefore, for example, an oxidizing solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite and the like, and an oxidizing solution whose dissociation state changes depending on pH should be reduced with an appropriate reducing agent injection amount. Can do.
また、上記還元処理方法によれば、上記調整処理工程および上記比較処理工程を行うので、還元剤の注入量が必要以上に過大になってしまう虞れがない。また、従来のように補正処理を行う必要がない。従って、処理工程を増大することなく、酸化性溶液に対して適正な還元剤の注入量で還元処理を行うことができる。 Moreover, according to the said reduction process method, since the said adjustment process process and the said comparison process process are performed, there is no possibility that the injection quantity of a reducing agent may become excessive more than necessary. Further, there is no need to perform correction processing as in the prior art. Therefore, the reduction treatment can be performed with an appropriate amount of reducing agent injected into the oxidizing solution without increasing the number of treatment steps.
更に、還元処理方法によれば、還元剤を注入して反応槽1の内部の溶液のpH値を排水基準値の範囲である例えば6.5〜7.5の範囲に調整するので、還元処理後の溶液をそのまま排水管11を通じて排出することができる。
Furthermore, according to the reduction treatment method, the reducing agent is injected to adjust the pH value of the solution inside the reaction tank 1 to the range of the drainage standard value, for example, 6.5 to 7.5. The later solution can be discharged through the
<実施の形態2>
図7は、本発明の実施の形態2における還元処理装置の構成を模式的に示す模式図である。尚、上述した実施の形態1である還元処理装置と同一の構成を有するものには、同一の符号を付してその説明を省略する。本発明の実施の形態2における還元処理装置は、制御部30を備えて構成してある。つまり、本実施の形態における還元処理装置は、上述した実施の形態1における還元処理装置と制御部30が異なっている。
<
FIG. 7 is a schematic diagram schematically showing the configuration of the reduction treatment apparatus according to
制御部30は、図8に示すように、設定記憶部31、入力処理部32、還元剤注入ポンプ駆動処理部33、調整剤注入ポンプ駆動処理部34、比較判断部35および出力部36を備えて構成してある。尚、ここで示した制御部30の構成要素は、本実施の形態の特徴的なものであり、制御部30は、その他の構成要素を有することはいうまでもない。
As shown in FIG. 8, the
設定記憶部31は、制御部30が種々の動作を行うのに必要なプログラムやデータを記憶するものであり、本実施の形態では、制御部30が還元処理制御を行うのに必要な酸化還元電位基準値を設定して記憶するものである。
The setting storage unit 31 stores programs and data necessary for the
ここで、酸化還元電位基準値は、還元処理制御を行う際に還元処理の終了を判断するのに必要な値で、溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度である遊離塩素濃度が許容範囲、すなわち0.2mg/L以下の範囲にあることを規定するとともに、pH値毎に決められた酸化還元電位値である。具体的には、pHが8を超える場合(pH>8の場合)には酸化還元電位基準値が570mV、pHが7を超える場合(より詳細には7<pH≦8の場合)には酸化還元電位基準値が630mV、pHが6を超える場合(より詳細には6<pH≦7の場合)には酸化還元電位基準値が670mVとしている。このように設定された酸化還元電位基準値は、図5に示したように、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下となる場合には、pH値が7のときにはORP値が630mV、pH値が6のときにはORP値が670mV、pH値が8のときにはORP値が570mVとなり、かかる遊離塩素濃度のときに還元処理を終了するものとして、pHが8を超える場合(pH>8の場合)には酸化還元電位基準値が570mV、pHが7を超える場合(7<pH≦8の場合)には酸化還元電位基準値が630mV、pHが6を超える場合(より詳細には6<pH≦7の場合)には酸化還元電位基準値が670mVとしている。 Here, the oxidation-reduction potential reference value is a value necessary for determining the end of the reduction treatment when performing the reduction treatment control, and the free chlorine concentration that is the target oxidizing residual substance concentration in the solution is within the allowable range. That is, it is an oxidation-reduction potential value determined for each pH value while defining that it is in the range of 0.2 mg / L or less. Specifically, when the pH exceeds 8 (when pH> 8), the oxidation-reduction potential reference value is 570 mV, and when the pH exceeds 7 (more specifically, when 7 <pH ≦ 8), oxidation occurs. When the reduction potential reference value is 630 mV and the pH exceeds 6 (more specifically, when 6 <pH ≦ 7), the oxidation-reduction potential reference value is 670 mV. As shown in FIG. 5, when the free chlorine concentration is 0.2 mg / L or less, when the pH value is 7, the ORP value is 630 mV, the pH value When the pH is 8, the ORP value is 670 mV, and when the pH value is 8, the ORP value is 570 mV. When the free chlorine concentration is such that the reduction process is terminated, the pH exceeds 8 (when pH> 8). When the redox potential reference value is 570 mV and the pH exceeds 7 (7 <pH ≦ 8), the redox potential reference value is 630 mV and the pH exceeds 6 (more specifically, 6 <pH ≦ 7). In this case, the redox potential reference value is 670 mV.
入力処理部32は、種々の情報を入力処理するものであり、本実施の形態では、特にpH計9からの検出信号(検出pH値)、並びにORP計10からの検出信号(検出ORP値)を入力するものである。
The input processing unit 32 performs input processing of various types of information. In this embodiment, in particular, the detection signal (detected pH value) from the pH meter 9 and the detection signal (detected ORP value) from the
還元剤注入ポンプ駆動処理部33は、還元剤注入ポンプ5aに対して駆動指令を与えるものである。この駆動指令を与えられた還元剤注入ポンプ5aは、上述したように所定時間駆動し、これにより、所定量の還元剤が反応槽1の内部に注入される。
The reducing agent injection pump
調整剤注入ポンプ駆動処理部34は、第1pH調整剤注入ポンプ6aまたは第2pH調整剤注入ポンプ7aに対して駆動指令を与えるものである。この駆動指令を与えられた第1pH調整剤注入ポンプ6aまたは第2pH調整剤注入ポンプ7aは、上述したように所定時間駆動し、これにより、所定量のアルカリ性調整剤または酸化性調整剤が反応槽1の内部に注入される。
The adjustment agent injection pump drive processing unit 34 gives a drive command to the first pH adjustment agent injection pump 6a or the second pH adjustment
比較判断部35は、入力処理部32を通じて入力した検出ORP値が、設定記憶部31に記憶する酸化還元電位基準値以下であるか否かを判断するものである。 The comparison determination unit 35 determines whether or not the detected ORP value input through the input processing unit 32 is equal to or less than the oxidation-reduction potential reference value stored in the setting storage unit 31.
出力部36は、比較判断部35を通じて反応槽1の内部の溶液のORP値が酸化還元電位基準値以下であると判断された場合に、還元処理が終了した旨を出力するものである。 The output unit 36 outputs that the reduction process has been completed when it is determined through the comparison determination unit 35 that the ORP value of the solution in the reaction vessel 1 is equal to or less than the oxidation-reduction potential reference value.
図9は、上記制御部が実施する還元処理制御の処理内容を示すフローチャートである。かかる図9を参照しながら、制御部30が実施する還元処理制御について説明することにより、還元処理装置の動作について説明を行う。
FIG. 9 is a flowchart showing the contents of the reduction process control performed by the control unit. The operation of the reduction processing device will be described by describing the reduction processing control performed by the
還元処理制御における制御部30は、還元処理指令が与えられた場合に(ステップS201:Yes)、還元剤注入ポンプ駆動処理部33を通じて還元剤注入ポンプ5aに対して駆動指令を出力する(ステップS202)。この駆動指令が与えられた還元剤注入ポンプ5aは、所定時間駆動し、これにより所定量の還元剤が反応槽1の内部に注入されることになる。
When the reduction process command is given (Step S201: Yes), the
そして、注入した還元剤と、反応槽1の内部に貯留された酸化性溶液とを所定時間反応させた後、制御部30は、入力処理部32を通じてpH計9からの検出信号、すなわち検出pH値、並びにORP計10からの検出信号、すなわち検出ORP値を入力する(ステップS203)。
Then, after reacting the injected reducing agent with the oxidizing solution stored in the reaction tank 1 for a predetermined time, the
検出pH値および検出ORP値を入力した制御部30は、比較判断部35を通じて、入力した検出pH値および検出ORP値と、設定記憶部31に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、反応槽1の内部の溶液のORP値が対応するpH値の酸化還元電位基準値以下であるか否かを判断する。具体的には、制御部30は、比較判断部35を通じて、検出pH値が8を超えている場合には、検出ORP値が570mV以下であるか否かを判断し(ステップS204:Yes,ステップS205)、検出ORP値が570mV以下の場合には(ステップS205:Yes)、制御部30は、出力部36を通じて還元処理を終了した旨を出力して(ステップS206)、その後に手順をリターンさせて今回の処理を終了する。これにより、反応槽1の内部の酸化性溶液は、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下の許容範囲に還元されたことになる。
The
一方、検出ORP値が570mVを超えている場合には(ステップS205:No)、制御部30は、手順をステップS202に戻して、上述したステップS202以降の処理を繰り返し実施する。これにより、反応槽1の内部の溶液に対して還元剤を注入することが可能になる。
On the other hand, when the detected ORP value exceeds 570 mV (step S205: No), the
ところで、ステップS203で入力した検出pH値が7より大きく8以下である場合(7<pH値≦8の場合)には、検出ORP値が630mV以下であるか否かを判断し(ステップS204:No,ステップS207:Yes,ステップS208)、検出ORP値が630mV以下の場合には(ステップS208:Yes)、制御部30は、出力部36を通じて還元処理を終了した旨を出力して(ステップS206)、その後に手順をリターンさせて今回の処理を終了する。これにより、反応槽1の内部の酸化性溶液は、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下の許容範囲に還元されたことになる。
By the way, when the detected pH value input in step S203 is greater than 7 and 8 or less (7 <pH value ≦ 8), it is determined whether or not the detected ORP value is 630 mV or less (step S204: No, step S207: Yes, step S208) When the detected ORP value is 630 mV or less (step S208: Yes), the
検出ORP値が630mVを超えている場合には(ステップS208:No)、制御部30は、手順をステップS202に戻して、上述したステップS202以降の処理を繰り返し実施する。これにより、反応槽1の内部の溶液に対して還元剤を注入することが可能になる。
When the detected ORP value exceeds 630 mV (step S208: No), the
また、ステップS203で入力した検出pH値が6より大きく7以下である場合(6<pH値≦7の場合)には、検出ORP値が670mV以下であるか否かを判断し(ステップS204:No,ステップS207:No,ステップS209:Yes,ステップS210)、検出ORP値が670mV以下の場合には(ステップS210:Yes)、制御部30は、出力部36を通じて還元処理を終了した旨を出力して(ステップS206)、その後に手順をリターンさせて今回の処理を終了する。これにより、反応槽1の内部の酸化性溶液は、遊離塩素濃度が0.2mg/L以下の許容範囲に還元されたことになる。
If the detected pH value input in step S203 is greater than 6 and 7 or less (6 <pH value ≦ 7), it is determined whether or not the detected ORP value is 670 mV or less (step S204: No, Step S207: No, Step S209: Yes, Step S210) When the detected ORP value is 670 mV or less (Step S210: Yes), the
検出ORP値が670mVを超えている場合には(ステップS210:No)、制御部30は、手順をステップS202に戻して、上述したステップS202以降の処理を繰り返し実施する。これにより、反応槽1の内部の溶液に対して還元剤を注入することが可能になる。
When the detected ORP value exceeds 670 mV (step S210: No), the
上記ステップS203で入力した検出pH値が6以下である場合には(ステップS204:No,ステップS207:No,ステップS209:No)、制御部30は、調整剤注入ポンプ駆動処理部34を通じて第1pH調整剤注入ポンプ6aに対して駆動指令を出力する(ステップS211)。これにより、第1pH調整剤注入ポンプ6aは、所定時間駆動し、所定量のアルカリ性調整剤が反応槽1の内部に注入されることになる。かかるステップS211の処理を実施した制御部30は、注入したアルカリ性調整剤と、反応槽1の内部に貯留された溶液とを所定時間反応させた後、手順をステップS203に戻して、上述したステップS203以降の処理を繰り返し実施する。これにより、反応槽1の内部の溶液のpH値を上昇させることが可能になる。
When the detected pH value input in step S203 is 6 or less (step S204: No, step S207: No, step S209: No), the
このようにして還元処理制御が実施され、反応槽1の酸化性溶液を所望の状態に還元した後に、還元処理装置は、排水バルブ12を開成させて、排水管11を通じて反応槽1の内部の溶液を外部に排出する。
In this way, after the reduction treatment control is performed and the oxidizing solution in the reaction tank 1 is reduced to a desired state, the reduction treatment apparatus opens the
以上説明したように、本発明の実施の形態2における還元処理装置によれば、制御部30が、還元処理指令が与えられた場合に、還元剤を注入させ、還元剤注入後の検出pH値および検出ORP値と、設定記憶部31に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入させる一方、酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了するので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入させることにより、溶液中の遊離塩素濃度を0.2mg/L以下の許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができる。
As described above, according to the reduction processing apparatus in
また、還元処理装置によれば、上述したような還元処理を行うので、予め決められたpH値毎(例えば、pH値>8の場合、7<pH値≦8の場合、並びに6<pH値≦7の場合)に応じて所定量の還元剤を注入すればよく、従来のように基準pH値に対応した還元剤を注入する必要がないので、還元剤の注入量が必要以上に過大になってしまう虞れがない。また、従来のように補正処理を行う必要がない。従って、処理工程を増大することなく、酸化性溶液に対して適正な還元剤の注入量で還元処理を行うことができる。 In addition, since the reduction treatment apparatus performs the reduction treatment as described above, for each predetermined pH value (for example, when pH value> 8, 7 <pH value ≦ 8, and 6 <pH value). ≦ 7), a predetermined amount of reducing agent may be injected, and it is not necessary to inject a reducing agent corresponding to the reference pH value as in the prior art. There is no fear of becoming. Further, there is no need to perform correction processing as in the prior art. Therefore, the reduction treatment can be performed with an appropriate amount of reducing agent injected into the oxidizing solution without increasing the number of treatment steps.
一方、本発明の実施の形態2における還元処理方法によれば、反応槽1の内部の酸化性溶液に対して還元剤を注入する工程(注入処理工程)と、該工程後の溶液の検出ORP値および検出pH値と、pH値毎に決められた酸化還元電位基準値との比較の結果、検出ORP値が対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入する一方、該酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了する工程(還元工程)とを行うので、対応するpH値の酸化還元電位基準値を閾値として還元剤を注入させることにより、溶液中の遊離塩素濃度を0.2mg/L以下の許容範囲にすることが可能になる。従って、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有する酸化性溶液のようにpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対しても適正な還元剤の注入量で還元処理を良好に行うことができる。
On the other hand, according to the reduction treatment method of
また、上記還元処理方法によれば、上記注入処理工程および上記還元工程を行うので、還元剤の注入量が必要以上に過大になってしまう虞れがない。また、従来のように補正処理を行う必要がない。従って、処理工程を増大することなく、酸化性溶液に対して適正な還元剤の注入量で還元処理を行うことができる。 Moreover, according to the said reduction | restoration processing method, since the said injection | pouring process and the said reduction | restoration process are performed, there is no possibility that the injection quantity of a reducing agent may become excessive too much. Further, there is no need to perform correction processing as in the prior art. Therefore, the reduction treatment can be performed with an appropriate amount of reducing agent injected into the oxidizing solution without increasing the number of treatment steps.
以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、種々の変更を行うことができる。例えば、上記実施の形態2においては、還元処理制御を行った後に、制御手段(制御部30)は、検出された酸化還元電位値が対応するpH値の酸化還元電位基準値以下となる場合には、すなわち還元処理制御を行った場合には、反応槽内の溶液を中和する処理を適宜行ってもよい。 The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications can be made. For example, in the second embodiment, after performing the reduction process control, the control means (control unit 30) causes the detected redox potential value to be equal to or lower than the redox potential reference value of the corresponding pH value. That is, when reduction treatment control is performed, a treatment for neutralizing the solution in the reaction vessel may be appropriately performed.
以上のように、本発明に係る還元処理装置および還元処理方法は、例えば次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤を含有してなる酸化性溶液、すなわちpHによって解離状態が変化する酸化性溶液に対し、還元剤を注入することにより該溶液の還元処理を行うのに有用である。 As described above, the reduction treatment apparatus and the reduction treatment method according to the present invention are applied to an oxidation solution containing an oxidizing agent such as sodium hypochlorite, that is, an oxidation solution whose dissociation state changes depending on pH. It is useful for reducing the solution by injecting a reducing agent.
1 反応槽
2 還元剤容器
5 還元剤注入配管
5a 還元剤注入ポンプ
6a 第1pH調整剤注入ポンプ
7a 第2pH調整剤注入ポンプ
9 pH計
10 ORP計
20,30 制御部
21,31 設定記憶部
22,32 入力処理部
23 pH判断部
24,33 還元剤注入ポンプ駆動処理部
25,34 調整剤注入ポンプ駆動処理部
26,35 比較判断部
27,36 出力部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (12)
前記酸化性溶液に対してpH調整剤を注入するためのpH調整剤注入手段と
を備え、
前記還元剤注入手段による還元剤の注入により前記酸化性溶液の還元処理を行う還元処理装置において、
前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値を記憶する記憶手段を有し、
還元処理指令が与えられた場合に、前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させ、かつ必要に応じて前記pH調整剤注入手段を通じてpH調整剤を注入させることにより前記溶液のpH値を所定範囲に調整し、pH調整後の溶液の酸化還元電位値が、前記記憶手段に記憶する対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させる一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了する制御手段を備えたことを特徴とする還元処理装置。 Reducing agent injection means for injecting the reducing agent into the oxidizing solution;
PH adjusting agent injection means for injecting the pH adjusting agent into the oxidizing solution,
In a reduction processing apparatus for performing reduction processing of the oxidizing solution by injection of a reducing agent by the reducing agent injection means,
Storage means for storing an oxidation-reduction potential reference value determined for each pH value that defines that the target oxidizing residual substance concentration in the solution is within an allowable range;
When a reduction treatment instruction is given, the pH value of the solution is set within a predetermined range by injecting a reducing agent through the reducing agent injection means and, if necessary, injecting a pH adjusting agent through the pH adjustment agent injection means. When the redox potential value of the solution after pH adjustment exceeds the redox potential reference value of the corresponding pH value stored in the storage means, the reducing agent is injected through the reducing agent injection means, while the oxidation A reduction processing apparatus comprising control means for terminating the reduction processing when the reduction potential is below the reference value.
前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値を記憶する記憶手段を有し、
還元処理指令が与えられた場合に、前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させ、還元剤注入後に検出された前記溶液の酸化還元電位値およびpH値と、前記記憶手段に記憶する酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには前記還元剤注入手段を通じて還元剤を注入させる一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元処理を終了する制御手段を備えたことを特徴とする還元処理装置。 In a reduction processing apparatus comprising a reducing agent injection means for injecting a reducing agent into an oxidizing solution, and performing the reduction treatment of the oxidizing solution by injecting the reducing agent by the reducing agent injection means,
Storage means for storing an oxidation-reduction potential reference value determined for each pH value that defines that the target oxidizing residual substance concentration in the solution is within an allowable range;
When a reduction treatment command is given, the reducing agent is injected through the reducing agent injection means, and the redox potential value and pH value of the solution detected after the reducing agent injection, and the redox potential stored in the storage means When the detected redox potential value exceeds the redox potential reference value of the corresponding pH value by comparing with the reference value, the reducing agent is injected through the reducing agent injecting means, while not more than the redox potential reference value. A reduction processing apparatus comprising control means for terminating the reduction processing when
前記酸化性溶液に対して還元剤を注入した後に、必要に応じてpH調整剤を注入して該溶液のpH値を所定範囲に調整する調整処理工程と、
前記調整処理工程後の溶液から検出された酸化還元電位値と、前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH毎に決められた酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには還元剤を注入する一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了する比較処理工程と
を含むことを特徴とする還元処理方法。 In the reduction treatment method of carrying out the reduction treatment of the oxidizing solution by injecting a reducing agent and, if necessary, a pH adjusting agent into the oxidizing solution,
After injecting a reducing agent into the oxidizing solution, an adjustment treatment step of injecting a pH adjusting agent as necessary to adjust the pH value of the solution to a predetermined range;
A redox potential value detected from the solution after the adjustment treatment step, and a redox potential reference value determined for each pH that stipulates that the concentration of the target oxidizing residual substance in the solution is within an allowable range; When the detected oxidation-reduction potential value exceeds the oxidation-reduction potential reference value of the corresponding pH value, the reducing agent is injected. When the detected oxidation-reduction potential value falls below the oxidation-reduction potential reference value, the injection of the reducing agent is terminated. And a comparison processing step.
前記酸化性溶液に対して還元剤を注入する注入処理工程と、
前記注入処理工程後の溶液から検出された酸化還元電位値およびpH値と、前記溶液中の対象となる酸化性残留物質濃度が許容範囲にあることを規定するpH値毎に決められた酸化還元電位基準値とを比較して、検出された酸化還元電位値が、対応するpH値の酸化還元電位基準値を超えるときには前記還元剤を注入する一方、前記酸化還元電位基準値以下となるときには還元剤の注入を終了する還元工程と
を含むことを特徴とする還元処理方法。 In a reduction treatment method for performing a reduction treatment of the oxidizing solution by injecting a reducing agent into the oxidizing solution,
An injection process step of injecting a reducing agent into the oxidizing solution;
Redox potential and pH value detected from the solution after the injection treatment step, and redox determined for each pH value that stipulates that the concentration of the target oxidizing residual substance in the solution is within an allowable range. When the detected redox potential value exceeds the redox potential reference value of the corresponding pH value, the reducing agent is injected, while when the detected redox potential value is lower than the redox potential reference value, the reduction is performed. A reduction process for terminating the injection of the agent.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017100101A (en) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | 住友電気工業株式会社 | Method for cleaning filter film |
WO2019181998A1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 栗田工業株式会社 | Water system orp monitor and/or control method, and water treatment method and device |
CN115233394A (en) * | 2022-07-21 | 2022-10-25 | 南通帝人有限公司 | Reduction cleaning system for spinning |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02222774A (en) * | 1989-02-23 | 1990-09-05 | Fuji Kasui Kogyo Kk | Method for controlling amount of oxidizing agent or reducing agent to be added |
-
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02222774A (en) * | 1989-02-23 | 1990-09-05 | Fuji Kasui Kogyo Kk | Method for controlling amount of oxidizing agent or reducing agent to be added |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017100101A (en) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | 住友電気工業株式会社 | Method for cleaning filter film |
WO2019181998A1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 栗田工業株式会社 | Water system orp monitor and/or control method, and water treatment method and device |
JP2019166439A (en) * | 2018-03-22 | 2019-10-03 | 栗田工業株式会社 | Water system orp monitoring and control method, and apparatus |
CN115233394A (en) * | 2022-07-21 | 2022-10-25 | 南通帝人有限公司 | Reduction cleaning system for spinning |
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