JP2009173763A - Thermosetting resin composition for sealing light emitting element - Google Patents

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Takeshi Taihichi
武志 對比地
Yoshiaki Kogure
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition, which is colorless and transparent, gives a cured product with excellent heat resistance, light resistance, and moisture resistance, and is useful to a sealant for a light-emitting device (LED) emitting short-wavelength light, for sealing a light emitting element. <P>SOLUTION: The thermosetting resin composition for sealing a light emitting element includes a bisphenol-formaldehyde resin having a methylol group represented by a general formula 1, and an epoxy resin having two or more glycidyl groups in one molecule. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明性、耐熱性、耐光性及び耐湿性に優れたLED、CCDのような光半導体関連の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material related to an optical semiconductor such as an LED or a CCD having excellent transparency, heat resistance, light resistance and moisture resistance.

近年、種々の表示板、画像読み取り用光源、交通信号、大型ディスプレイ用ユニット等に実用化されている光半導体(LED)等の発光装置は、大部分樹脂封止によって製造されている。また、封止方法としては、生産性、コストの面でメリットがあるトランスファーモールドが用いられている。ここに使用されている封止用の樹脂は、上記メリットに加え、耐熱性、耐湿信頼性に優れることから、芳香族エポキシ樹脂と、硬化剤としてノボラック型フェノール樹脂類や脂環式酸無水物を含有するものが一般的である(例えば、特許文献1及び特許文献2参照。)。   In recent years, light emitting devices such as optical semiconductors (LEDs) that have been put to practical use in various display boards, image reading light sources, traffic signals, large display units, and the like are mostly manufactured by resin sealing. As a sealing method, a transfer mold having advantages in terms of productivity and cost is used. In addition to the above-mentioned merit, the sealing resin used here is excellent in heat resistance and moisture resistance reliability. Therefore, aromatic epoxy resins and novolak type phenol resins and alicyclic acid anhydrides as curing agents are used. (For example, refer to Patent Document 1 and Patent Document 2).

また、今日のLEDの飛躍的な進歩により、LED素子の高出力化及び短波長化が急速に現実のものとなり始めており、特に窒化物半導体を用いたLEDは、短波長でかつ高出力な発光が可能となることから実用化が進められている。しかしながら、窒化物半導体を用いたLED素子を、ノボラック型フェノール樹脂類で封止すると、芳香環が短波長の光を吸収するため、経時的に封止した樹脂の劣化が起こり、黄変により発光輝度が顕著に低下するという問題が発生する。   In addition, with the rapid progress of today's LEDs, higher output and shorter wavelengths of LED elements are rapidly becoming a reality. In particular, LEDs using nitride semiconductors emit light with a short wavelength and high output. Is being put to practical use. However, when LED elements using nitride semiconductors are encapsulated with novolac-type phenolic resins, the aromatic ring absorbs short-wavelength light, which causes deterioration of the encapsulated resin over time, resulting in light emission due to yellowing There arises a problem that the luminance is significantly reduced.

そこで、環状オレフィンを酸化して得られる脂環式エポキシ樹脂を用いて封止したLEDが提案されている(例えば、特許文献3及び特許文献4参照。)。しかし、これらの脂環式エポキシ樹脂の硬化物は非常に脆く、冷熱サイクルによって亀裂破壊を生じ易く、耐湿性も極端に悪いため、長時間の信頼特性が要求される用途には不向きであった。   Then, LED sealed using the alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing a cyclic olefin is proposed (for example, refer patent document 3 and patent document 4). However, the cured products of these alicyclic epoxy resins are very brittle, are liable to cause cracking by the thermal cycle, and have extremely poor moisture resistance, so they are not suitable for applications requiring long-term reliability characteristics. .

そこで、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂を主体とし、脂環式エポキシ樹脂及びリン系酸化防止剤を配合し、無水メチルヘキサヒドロフタル酸硬化剤を用いて封止したLEDが提案されている(例えば、特許文献5参照。)。しかし、このエポキシ硬化物は無色透明性に優れるが、耐熱性が悪く、黄変しやすいという欠点があるため、耐熱性が要求されるLED素子の封止用途には適さない。   Therefore, an LED which is mainly composed of a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, blended with an alicyclic epoxy resin and a phosphorus antioxidant, and sealed with a methylhexahydrophthalic anhydride curing agent has been proposed (for example, , See Patent Document 5). However, this epoxy cured product is excellent in colorless transparency, but has the disadvantages of poor heat resistance and easy yellowing, so it is not suitable for LED device sealing applications that require heat resistance.

更に、トリアジン誘導体エポキシ樹脂単独と酸無水物硬化剤を用いる方法も提案されている(例えば、特許文献6参照。)。この硬化物では、耐熱性は改善されるが、非常に脆いため、前記の脂環式エポキシ樹脂を用いたものと同様に冷熱サイクルによって亀裂破壊を生じ易く、かつ耐湿性も極端に悪いため、長時間の信頼特性が要求される用途には不向きであった。
特開2001−98143号公報 特開2003−12774号公報 特開平9−213997号公報 特開2000−196151号公報 特開2003−12896号公報 特開2003−224305号公報
Furthermore, a method using a triazine derivative epoxy resin alone and an acid anhydride curing agent has also been proposed (see, for example, Patent Document 6). In this cured product, the heat resistance is improved, but because it is very brittle, it is easy to cause crack fracture by the thermal cycle similar to the one using the alicyclic epoxy resin, and the moisture resistance is extremely bad, It is not suitable for applications that require long-term reliability.
JP 2001-98143 A JP 2003-12774 A JP-A-9-213997 JP 2000-196151 A JP 2003-12896 A JP 2003-224305 A

本発明は、無色透明で、耐熱性、耐光性、耐湿性に優れた硬化物を与えることができ、特に短波長の光を発するLEDの封止材として有用な発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   The present invention is colorless and transparent, can provide a cured product excellent in heat resistance, light resistance, and moisture resistance, and is particularly useful as a sealing material for LED emitting light having a short wavelength. It aims at providing a conductive resin composition.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち下記一般式(1)で表されるメチロール基を有するビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)と、1分子中に2個以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(B)を含有する発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化物である。   The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, for a light emitting device sealing material containing a bisphenol-formaldehyde resin (A) having a methylol group represented by the following general formula (1) and an epoxy resin (B) having two or more glycidyl groups in one molecule. It is a thermosetting resin composition and its cured product.

Figure 2009173763
Figure 2009173763

[式中、Rは、メチロール基または水素であり、それぞれのRは相互に異なっていても同一でもよく、Rの少なくとも一つはメチロール基であり、Xは、CH、C(CH、S、SO、C(CFまたはOであり;nは1以上の整数である。] [Wherein, R is a methylol group or hydrogen, each R may be different or the same, at least one of R is a methylol group, and X is CH 2 , C (CH 3 )] 2 , S, SO 2 , C (CF 3 ) 2 or O; n is an integer of 1 or more. ]

本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物の硬化物は、無色透明性、耐熱性、及び耐湿性に優れ、また、耐光性にも優れるため、LEDを封止する発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物として有利に使用できる。   The cured product of the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention is excellent in colorless transparency, heat resistance, and moisture resistance, and also has excellent light resistance. It can be advantageously used as a thermosetting resin composition for a stopper.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物において用いられるビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)は上記一般式(1)で示される。上記一般式(1)中、Rは、メチロール基または水素であり、それぞれのRは相互に異なっていても同一でもよく、Rの少なくとも一つはメチロール基である。メチロール基は、従来、酸化による着色を生じるフェノール骨格の酸化抑止に効果を発揮する。また、XはCH、C(CH、S、SO、C(CFまたはOであり、nは1以上の整数である。例えば、上記一般式(1)において、X=C(CHのビスフェノールA骨格、X=C(CFのビスフェノールAF骨格、及びX=SのビスフェノールS骨格、X=CHのビスフェノールF骨格等が含まれる。これらは1種又は2種以上が含まれてもよい。これらのうち硬化性の観点から好ましいのはビスフェノールA、ビスフェノールAFである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The bisphenol-formaldehyde resin (A) used in the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention is represented by the above general formula (1). In the general formula (1), R is a methylol group or hydrogen, and each R may be different or the same, and at least one of R is a methylol group. A methylol group conventionally exerts an effect for inhibiting oxidation of a phenol skeleton that causes coloring due to oxidation. X is CH 2 , C (CH 3 ) 2 , S, SO 2 , C (CF 3 ) 2 or O, and n is an integer of 1 or more. For example, in the above general formula (1), a bisphenol A skeleton of X═C (CH 3 ) 2 , a bisphenol AF skeleton of X═C (CF 3 ) 2 , a bisphenol S skeleton of X═S, and X═CH 2 Bisphenol F skeleton and the like are included. One or more of these may be included. Of these, bisphenol A and bisphenol AF are preferred from the viewpoint of curability.

ビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)の重量平均分子量(以下、重量平均分子量をMwと略す。)は、発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物の硬化性、取り扱い性、硬化物の靭性の観点から、好ましくは400以上、より好ましくは500〜2,000である。Mwが400未満の場合、押し出し成型時に十分な粘性が得られず、成型体に気泡残りを生じる。また、2,000より大きい場合、硬化速度が速く、十分な流動性が得られない。ここでMwは、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(以下ゲルパーミエイションクロマトグラフィーをGPCと略す。)で測定できる。   The weight average molecular weight of the bisphenol-formaldehyde resin (A) (hereinafter, the weight average molecular weight is abbreviated as Mw) is the viewpoint of curability, handleability, and toughness of the cured product of the thermosetting resin composition for light-emitting device sealing material. Therefore, it is preferably 400 or more, more preferably 500 to 2,000. When Mw is less than 400, sufficient viscosity cannot be obtained at the time of extrusion molding, and bubbles remain in the molded body. On the other hand, if it is greater than 2,000, the curing rate is high and sufficient fluidity cannot be obtained. Here, Mw can be measured by gel permeation chromatography (hereinafter gel permeation chromatography is abbreviated as GPC).

本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物において用いられるエポキシ樹脂(B)としてはその構造や分子量等が特に制限されるものではないが、着色の無いこと、発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物が成型時に良好な流動性を有すること、ビスフェノール・ホルムアルデヒドとエポキシ樹脂とで架橋構造が形成されること、以上の3点を考慮する場合、エポキシ樹脂の軟化点が低く、かつ1分子中に2個以上のグリシジル基を有するものであることが望ましい。   The epoxy resin (B) used in the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention is not particularly limited in its structure, molecular weight or the like, but is not colored, the light emitting device sealing material When the above three points are taken into consideration, the thermosetting resin composition for use has good fluidity at the time of molding, the bisphenol-formaldehyde and the epoxy resin form a crosslinked structure, and the softening point of the epoxy resin is low. In addition, it is desirable to have two or more glycidyl groups in one molecule.

ビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)との配合比が質量比として70/30〜30/70あり、好ましくは65/35〜35/65である。ビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)の配合比が上記の範囲でなくビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)が多い場合は、エポキシ樹脂(B)による流動性が損なわれ、成型不良のおそれがある。また、エポキシ樹脂(B)が多い場合はビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)を添加する効果が十分に発揮されず、硬化不良、着色のおそれがある。   The compounding ratio of the bisphenol-formaldehyde resin (A) and the epoxy resin (B) is 70/30 to 30/70, preferably 65/35 to 35/65 as a mass ratio. If the blending ratio of bisphenol-formaldehyde resin (A) and epoxy resin (B) is not within the above range and there is a large amount of bisphenol-formaldehyde resin (A), the fluidity of the epoxy resin (B) is impaired and there is a risk of molding defects. There is. Moreover, when there are many epoxy resins (B), the effect which adds a bisphenol formaldehyde resin (A) is not fully exhibited, but there exists a possibility of hardening defect and coloring.

上記において用いるエポキシ樹脂(B)としては特に制限はないが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ化合物、ビフェノール型エポキシ化合物、テトラメチルビスフェノールF型エポキシ化合物、アラルキルフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキルフェノール型エポキシ樹脂、ビスヒドロキシフルオレン型エポキシ化合物、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ、水添ビフェノール型エポキシ樹脂、水添フェノールノボラック型エポキシ樹脂、水添クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、水添ナフタレンジオール型エポキシ樹脂及び水添フェノールジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂等の水素化エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1,2−エポキシ−ビニルシクロヘキセン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、リモネンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメタノール、ジシクロペンタジエンジエポキシド等があげられ、単独でも2種以上を併用してもよい。   The epoxy resin (B) used in the above is not particularly limited, but bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene- Phenol type epoxy resin, trisphenol type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy compound, biphenol type epoxy compound, tetramethylbisphenol F type epoxy compound, aralkylphenol type epoxy resin, biphenylaralkylphenol type epoxy resin, bishydroxyfluorene type epoxy compound , Hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy, hydrogenated biphenol type epoxy resin, hydrogenated phenol Hydrogenated epoxy resins such as novolak type epoxy resins, hydrogenated cresol novolak type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A novolak type epoxy resins, hydrogenated naphthalene diol type epoxy resins and hydrogenated phenol dicyclopentadiene novolak type epoxy resins, 3, 4 -Epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2-epoxy-vinylcyclohexene, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, limonene Examples include diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethanol, and dicyclopentadiene diepoxide. These may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物には、硬化性の観点から、熱硬化触媒(C)を含有させることがより好ましい。熱硬化触媒(C)としては、イミダゾール系、フォスフィン系、第三級アミン系等の公知の触媒が使用できる。例えば、フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール2−メチルイミダゾール、トリフェニルフォスフィン、トリトリルフォスフィン、メトキシ置換のトリフェニルフォスフィン、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラナフトイルオキシボレ−ト、のようなフォスフォニウムボレ−ト化合物、ジアザビシクロウンデセン、ベンジルジメチルアミン等が使用できる。この中でも特にリン系触媒が適している。その使用量は全エポキシ成分に対し0.1〜5質量%である。
これらは、単独でも2種以上併用してもよい。
Moreover, it is more preferable that the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention contains a thermosetting catalyst (C) from the viewpoint of curability. As the thermosetting catalyst (C), known catalysts such as imidazole, phosphine, and tertiary amine can be used. For example, phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole 2-methylimidazole, triphenylphosphine, tolylylphosphine, methoxy-substituted triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetra Phosphonium borate compounds such as naphthoyloxyborate, diazabicycloundecene, benzyldimethylamine and the like can be used. Among these, a phosphorus catalyst is particularly suitable. The amount of its use is 0.1-5 mass% with respect to all the epoxy components.
These may be used alone or in combination of two or more.

(任意成分)
本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて次のような成分を添加配合することができる。
(a)粉末状の補強剤や充填剤;例えば酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、ガラスビーズ等の透明フィラー、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデン等が挙げられる。
上記(a)の成分は、本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物の透明性を損なわない範囲で配合され、樹脂成分100質量部に対して、100質量部以下、例えば10〜100質量部が適当である。
(Optional component)
The following components can be added and blended with the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention as required.
(A) Powdery reinforcing agents and fillers; for example, metal oxides such as aluminum oxide and magnesium oxide, silicon compounds such as fine powder silica, fused silica and crystalline silica, transparent fillers such as glass beads, and aluminum hydroxide Examples thereof include metal hydroxide, kaolin, mica, quartz powder, graphite, molybdenum disulfide and the like.
The component (a) is blended within a range that does not impair the transparency of the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention, and is 100 parts by mass or less, for example, 10 parts with respect to 100 parts by mass of the resin component. -100 mass parts is suitable.

(b)着色剤又は顔料;例えば二酸化チタン、モリブデン赤、紺青、群青、カドミウム黄、カドミウム赤及び有機色素等が挙げられる。
(c)難燃剤;例えば三酸化アンチモン、ブロム化合物及びリン化合物等が挙げられる。
(d)離型剤;例えばナフタレンスルホン酸塩(アルカリ金属(NaおよびK等、以下同じ。)塩、アンモニウム塩等)のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩(アルカリ金属塩、アンモニウム塩等)、ポリアクリル酸塩(アルカリ金属塩、アンモニウム塩等)、ポリ(2〜4)カルボン酸(マレイン酸/グリセリン/モノアリルエーテル共重合体等)塩(アルカリ金属塩、アンモニウム塩等)、カルボキシメチルセルロース、およびポリビニルアルコール、脂肪族アルコール(C4〜30)、アルキル(C1〜30)フェノール、脂肪族(C4〜30)アミンおよび脂肪族(C4〜30)アミド、脂肪族(C4〜30)アミンおよび脂肪族(C4〜30)アミド等のアレキレンオキサイド(以下、アルキレンオキサイドをAOと略す。)(C2〜4)付加物(モル数1〜30)、C4〜30の脂肪酸(ラウリン酸、ステアリン酸等)と多価(2〜6またはそれ以上)アルコールのモノエステル化合物、C4〜30の脂肪酸のアルカリ金属塩、C4〜30の脂肪族アルコールおよび脂肪族アルコールのAO(C2〜4)1〜30モル付加物の硫酸エステルアルカリ金属塩、アルキル(C1〜30)フェノールスルホン酸のアルカリ金属塩、C4〜30の脂肪族アルコールおよび脂肪族アルコールのAO(C2〜4)1〜30モル付加物のモノまたはジリン酸エステルの塩(アルカリ金属塩、4級アンモニウム塩等)、C4〜30の脂肪族アミン塩酸塩、トリエタノールアミンとC4〜30の脂肪酸のモノエステルの無機酸(塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸等)塩、C4〜30の4級アンモニウム(ブチルトリメチルアンモニウム、ジエチルラウリルメチルアンモニウム、ジメチルジステアリルアンモニウム等)の無機酸(塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸等)塩が挙げられる。
(e)消泡剤;例えばC1〜6の低級アルコール(メタノール、ブタノール等)、C8〜18の高級アルコール(オクチルアルコール、ヘキサデシルアルコール等)、C10〜20の高級脂肪酸(オレイン酸、ステアリン酸等)、C11〜30の高級脂肪酸エステル(グリセリンモノラウレート)、リン酸エステル(トリブチルホスフェート等)、金属石けん(ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム等)、ポリエーテル(ポリエチレングリコール(以下、ポリエチレングリコールをPEGと略す。)(数平均分子量(以下、数平均分子量をMnと略す。)200〜10,000)、ポリプロピレングリコール(Mn200〜10,000)等)、シリコーン(ジメチルシリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、フルオロシリコーンオイル等)および鉱物油系(シリカ粉末を鉱物油に分散させたもの)等が挙げられる。
(f)レベリング剤;例えばPEG型非イオン界面活性剤(ノニルフェノールエチレンオキサイド(以下、エチレンオキサイドをEOと略す。)1〜40モル付加物、ステアリン酸EO1〜40モル付加物等)、多価アルコール型非イオン界面活性剤(ソルビタンパルミチン酸モノエステル、ソルビタンステアリン酸モノエステル、ソルビタンステアリン酸トリエステル等)、フッ素含有界面活性剤(パーフルオロアルキルEO1〜50モル付加物、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベタイン等)、変性シリコーンオイル(ポリエーテル変性シリコーンオイルおよび(メタ)アクリレート変性シリコーンオイル)等が挙げられる。
(g)シランカップリング剤;アミノ基含有シランカップリング剤(γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等)、ウレイド基含有シランカップリング剤(ウレイドプロピルトリエトキシシラン等)、ビニル基含有シランカップリング剤(ビニルトリエトキシシラン等)、メタクリレート基含有シランカップリング剤(γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等)、エポキシ基含有シランカップリング剤(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等)、イソシアネート基含有シランカップリング剤(γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等)、ポリマー型シランカップリング剤(ポリエトキシジメチルシロキサン等)、カチオン型シランカップリング剤(N−(N−ベンジル−β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩等)等が挙げられる。
(h)チクソトロピー性付与剤もしくは増粘剤;例えば無機チクソトロピー性付与剤(ベントナイト、炭酸カルシウム等)および有機チクソトロピー性付与剤(水添ヒマシ油ワックス、ステアリン酸カルシウム、オレイン酸アルミニウム、重合アマニ油等)が挙げられる。
(i)スリップ剤;例えば高級脂肪酸エステル(ステアリン酸ブチル等)、高級脂肪酸アミド(エチレンビスステアリン酸アミド、オレイン酸アミド等)、金属石けん(ステアリン酸カルシウム、オレイン酸アルミニウム等)、ワックス(パラフィンワックス、ポリオレフィンワックス(ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、カルボキシル基含有ポリエチレンワックス等)等)およびシリコーン(例えばジメチルシリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、およびフルオロシリコーンオイル)等が挙げられる。
(j)酸化防止剤;例えばヒンダードフェノール化合物(トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル)およびアミン化合物(n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノメチルメタクリレート等)が挙げられる。
(k)紫外線吸収剤;例えばベンゾトリアゾール化合物(2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール等)、トリアジン化合物(2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール)、ベンゾフェノン(2−ヒドロキシ−4−n−オクチルオキシベンゾフェノン等)、シュウ酸アニリド化合物(2−エトキシ−2’−エチルオキサリック酸ビスアニリド等)が挙げられる。
上記(b)〜(k)の成分を配合する場合、樹脂成分100質量部に対して、各々、30質量部以下、例えば0.01〜30質量部配合され、好ましくは1〜20質量部である。
(B) Colorant or pigment; for example, titanium dioxide, molybdenum red, bitumen, ultramarine blue, cadmium yellow, cadmium red and organic dyes.
(C) Flame retardants such as antimony trioxide, bromine compounds and phosphorus compounds.
(D) mold release agent; for example, naphthalene sulfonate (formal condensate of alkali metal (Na and K, etc., the same shall apply hereinafter), ammonium salt, etc.), polystyrene sulfonate (alkali metal salt, ammonium salt, etc.), Polyacrylate (alkali metal salt, ammonium salt, etc.), poly (2-4) carboxylic acid (maleic acid / glycerin / monoallyl ether copolymer, etc.) salt (alkali metal salt, ammonium salt, etc.), carboxymethyl cellulose, And polyvinyl alcohol, aliphatic alcohol (C4-30), alkyl (C1-30) phenol, aliphatic (C4-30) amine and aliphatic (C4-30) amide, aliphatic (C4-30) amine and aliphatic (C4-30) Alylene oxide such as amide (hereinafter, alkylene oxide is abbreviated as AO) .) (C2-4) adducts (1-30 moles), C4-30 fatty acid (lauric acid, stearic acid, etc.) and polyhydric (2-6 or more) monoester compounds, C4-30 Alkali metal salts of fatty acids, sulfuric acid ester alkali metal salts of C4-30 aliphatic alcohols and AO (C2-4) 1-30 mol adducts of aliphatic alcohols, alkali metals of alkyl (C1-30) phenolsulfonic acids Salts, mono or diphosphate esters of C4-30 aliphatic alcohols and AO (C2-4) 1-30 mol adducts of aliphatic alcohols (alkali metal salts, quaternary ammonium salts, etc.), C4-30 Aliphatic amine hydrochloride, inorganic acid salt of monoester of triethanolamine and C4-30 fatty acid (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.), C4-3 Quaternary ammonium (butyl trimethyl ammonium, diethyl lauryl ammonium, dimethyl distearyl ammonium, etc.) inorganic acids include (hydrochloric, sulfuric, nitric and phosphoric acid, and the like) salts.
(E) Antifoaming agents; for example, C1-6 lower alcohols (methanol, butanol, etc.), C8-18 higher alcohols (octyl alcohol, hexadecyl alcohol, etc.), C10-20 higher fatty acids (oleic acid, stearic acid, etc.) ), Higher fatty acid ester of C11-30 (glycerin monolaurate), phosphate ester (tributyl phosphate, etc.), metal soap (calcium stearate, aluminum stearate, etc.), polyether (polyethylene glycol (hereinafter, polyethylene glycol is referred to as PEG) (Number average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mn) 200 to 10,000), polypropylene glycol (Mn 200 to 10,000), etc.), silicone (dimethyl silicone oil, alkyl-modified silicone oil, full B silicone oil) and mineral oil (as silica powder was dispersed in mineral oil) and the like.
(F) Leveling agent; for example, PEG type nonionic surfactant (nonylphenol ethylene oxide (hereinafter, ethylene oxide is abbreviated as EO) 1 to 40 mol adduct, stearic acid EO 1 to 40 mol adduct, etc.), polyhydric alcohol Type nonionic surfactant (sorbitan palmitate monoester, sorbitan stearate monoester, sorbitan stearate triester, etc.), fluorine-containing surfactant (perfluoroalkyl EO 1-50 mol adduct, perfluoroalkyl carboxylate, Perfluoroalkyl betaine), modified silicone oil (polyether-modified silicone oil and (meth) acrylate-modified silicone oil), and the like.
(G) Silane coupling agent; amino group-containing silane coupling agent (γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.), ureido group-containing silane coupling agent (ureidopropyltriethoxysilane, etc.), vinyl group-containing silane coupling agent ( Vinyltriethoxysilane, etc.), methacrylate group-containing silane coupling agents (γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, etc.), epoxy group-containing silane coupling agents (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, etc.), isocyanate group-containing silanes Coupling agent (γ-isocyanatopropyltriethoxysilane etc.), polymer type silane coupling agent (polyethoxydimethylsiloxane etc.), cationic type silane coupling agent (N- (N-benzyl-β-aminoethyl) -γ- Aminopropyl Trimethoxysilane hydrochloride, etc.) and the like.
(H) Thixotropic imparting agent or thickener; for example, inorganic thixotropic imparting agent (bentonite, calcium carbonate, etc.) and organic thixotropic imparting agent (hydrogenated castor oil wax, calcium stearate, aluminum oleate, polymerized linseed oil, etc.) Is mentioned.
(I) slip agent; for example, higher fatty acid ester (butyl stearate, etc.), higher fatty acid amide (ethylene bis stearic acid amide, oleic acid amide, etc.), metal soap (calcium stearate, aluminum oleate, etc.), wax (paraffin wax, And polyolefin wax (polyethylene wax, polypropylene wax, carboxyl group-containing polyethylene wax, etc.) and silicone (for example, dimethyl silicone oil, alkyl-modified silicone oil, and fluorosilicone oil).
(J) antioxidants; for example, hindered phenol compounds (triethylene glycol-bis- [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [ 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,5-di-t -Butyl-4-hydroxybenzylphosphonate diethyl ester) and amine compounds (n-butylamine, triethylamine, diethylaminomethyl methacrylate, etc.).
(K) UV absorber; for example, benzotriazole compound (2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (3,5-di-t-butyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (3,5-di-t-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (3,5-di-t-amyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, etc.), triazine compound (2 -(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol), benzophenone (2-hydroxy-4-n-octyloxybenzophenone, etc.), Shu And acid anilide compounds (2-ethoxy-2′-ethyloxalic acid bisanilide and the like).
When blending the above components (b) to (k), 30 parts by mass or less, for example, 0.01 to 30 parts by mass, preferably 1 to 20 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the resin component. is there.

本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物を製造する場合は、上記成分の所定量を均一に攪拌、混合して得ることができるが、この際、各種のミキサー、ニーダー、ロール、エクストルーダー等を使用して行うことができる。尚、成分の配合順序に特に制限は無い。   When producing the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention, it can be obtained by uniformly stirring and mixing the predetermined amount of the above components. At this time, various mixers, kneaders, rolls can be obtained. , Using an extruder or the like. In addition, there is no restriction | limiting in particular in the mixing | blending order of a component.

本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物は、ポッティング法、キャスティング法、トランスファー成型、インジェクション成型等を採用することができる。   The thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material of the present invention can employ a potting method, a casting method, transfer molding, injection molding, and the like.

本発明の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物の硬化方法には特に制限は無く、密閉式硬化炉や連続硬化が可能なトンネル炉等の従来公知の硬化装置を採用することができる。加熱源は特に制限されること無く、熱風循環、赤外線加熱、高周波加熱等、従来の方法で行うことができる。硬化温度及び硬化時間は、100〜200℃、0.1〜15時間の範囲が好ましい。80〜110℃、1〜5時間の条件で前反応した後に、120〜180℃、1〜10時間の条件で後反応をする緩やかに段階的に反応させることや、150〜180℃、1〜5時間の条件で高温、短時間で反応させることもできる。   There is no restriction | limiting in particular in the hardening method of the thermosetting resin composition for light emitting element sealing materials of this invention, Conventionally well-known hardening apparatuses, such as a closed-type hardening furnace and a tunnel furnace which can be continuously hardened, are employable. . The heating source is not particularly limited, and can be performed by a conventional method such as hot air circulation, infrared heating, high frequency heating or the like. The curing temperature and curing time are preferably in the range of 100 to 200 ° C. and 0.1 to 15 hours. After pre-reacting under conditions of 80 to 110 ° C. and 1 to 5 hours, the reaction is performed in a stepwise manner under the conditions of 120 to 180 ° C. and 1 to 10 hours, or 150 to 180 ° C., 1 to The reaction can be carried out at a high temperature for a short time under the condition of 5 hours.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。以下において部は質量部、%は質量%を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by this. In the following, parts represent parts by mass, and% represents mass%.

各実施例及び比較例において、得られた樹脂硬化物の評価は次の方法により行った。   In each Example and Comparative Example, the obtained cured resin was evaluated by the following method.

<ガラス転移温度Tg(℃)>
ガラス転位温度は(Tg)、樹脂組成物を175℃、60秒でトランスファー成型により試験片(幅2mm×長さ30mm×厚さ1.0mm)を作成し、180℃、4時間で後硬化したものを粘弾性スペクトロメーター(セイコーインスツルーメンツ製、DMS 110)を用いて、10℃/分の昇温速度で30℃から300℃の範囲で測定した。
<Glass transition temperature Tg (° C.)>
The glass transition temperature was (Tg), and a test piece (width 2 mm × length 30 mm × thickness 1.0 mm) was prepared by transfer molding at 175 ° C. for 60 seconds and the resin composition was post-cured at 180 ° C. for 4 hours. The thing was measured in the range of 30 to 300 degreeC with the temperature increase rate of 10 degree-C / min using the viscoelasticity spectrometer (the Seiko Instruments make, DMS110).

<初期YI値>
JIS K7105に準拠し、硬化後初期のYI値(Yellowness Index)を測定した。
<Initial YI value>
In accordance with JIS K7105, an initial YI value (Yellowness Index) after curing was measured.

<耐紫外線性>
メタリングウェザーメーター(スガ試験機社製)を使用して照射強度0.4kW/m、ブラックパネル温度63℃で紫外線を72時間照射した後の硬化物のYI値(Yellowness Index)を測定した。
<UV resistance>
Using a metering weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the YI value (Yellowness Index) of the cured product was measured after irradiation with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 0.4 kW / m 2 and a black panel temperature of 63 ° C. for 72 hours. .

<耐熱劣化性>
150℃で72時間加熱後のエポキシ樹脂硬化物のYI値(Yellowness Index)を測定した。
<Heat resistance degradation>
The YI value (Yellowness Index) of the cured epoxy resin after heating at 150 ° C. for 72 hours was measured.

<吸湿率(%)>
吸湿性試験は、熱硬化性樹脂組成物を175℃、60秒でトランスファー成型により試験片(50mmΦ×厚さ3.0mm)を作成し、180℃、4時間で後硬化したものを85℃・85%RH168hrの条件下で放置し、吸湿前と吸湿後の重量変化を測定した。
<Hygroscopic rate (%)>
In the hygroscopic test, a test piece (50 mmΦ × thickness 3.0 mm) was prepared by transfer molding at 175 ° C. for 60 seconds with a thermosetting resin composition and post-cured at 180 ° C. for 4 hours at 85 ° C. It was allowed to stand under the condition of 85% RH 168 hr, and the change in weight before and after moisture absorption was measured.

<分光透過率>
樹脂組成物を175℃、60秒でトランスファー成型により試験片(縦2mm×横2mm×厚さ1.0mm)を作成し、180℃、4時間で後硬化したものを日立ハイテクノロジーズ社製「U−3300」を用いて測定した。
<Spectral transmittance>
A test piece (vertical 2 mm × width 2 mm × thickness 1.0 mm) was prepared by transfer molding at 175 ° C. for 60 seconds and post-cured at 180 ° C. for 4 hours to obtain “U” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. -3300 ".

[合成例1]
撹拌機、冷却管、滴下漏斗および温度計を備えた四つ口フラスコにビスフェノールA500部、50%ホルマリン水溶液132部を配合し、30℃以下に冷却しながらトリメチルアミン3.2部を添加後、100℃で2時間反応させた。反応終了後シュウ酸2部を添加し、100℃、400mmHgで2時間減圧ストリップを行い、ビスフェノールAタイプのビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A1)を得た。(A1)のMwは1,500であった。
[Synthesis Example 1]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a dropping funnel and a thermometer, 500 parts of bisphenol A and 132 parts of a 50% formalin aqueous solution were blended, and 3.2 parts of trimethylamine was added while cooling to 30 ° C. or lower. The reaction was carried out at 2 ° C for 2 hours. After completion of the reaction, 2 parts of oxalic acid was added and stripped under reduced pressure at 100 ° C. and 400 mmHg for 2 hours to obtain a bisphenol A type bisphenol-formaldehyde resin (A1). Mw of (A1) was 1,500.

[合成例2]
撹拌機、冷却管、滴下漏斗および温度計を備えた四つ口フラスコにビスフェノールAF736部、50%ホルマリン水溶液263部、メチルイソブチルケトン220部を配合し、30℃以下に冷却しながらトリメチルアミン6.4部を添加後、100℃で2時間反応させた。反応終了後シュウ酸4部を添加し、100℃、400mmHgで2時間減圧ストリップを行い、ビスフェノールAFタイプのビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A2)を得た。(A2)のMwは900であった。
[Synthesis Example 2]
A four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a dropping funnel and a thermometer was mixed with 736 parts of bisphenol AF, 263 parts of a 50% formalin aqueous solution and 220 parts of methyl isobutyl ketone, and trimethylamine 6.4 while cooling to 30 ° C. or lower. After adding the part, it was made to react at 100 degreeC for 2 hours. After completion of the reaction, 4 parts of oxalic acid was added and stripped under reduced pressure at 100 ° C. and 400 mmHg for 2 hours to obtain a bisphenol AF type bisphenol-formaldehyde resin (A2). Mw of (A2) was 900.

[合成例3]
撹拌機、冷却管、滴下漏斗および温度計を備えた四つ口フラスコにビスフェノールS548部、50%ホルマリン水溶液263部、エチルセロソルブ164を配合し、30℃以下に冷却しながらトリメチルアミン6.4部を添加後、100℃で2時間反応させた。反応終了後シュウ酸4部を添加し、100℃、400mmHgで2時間減圧ストリップを行い、ビスフェノールSタイプのビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A3)を得た。(A3)のMwは1,200であった。
[Synthesis Example 3]
A four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a dropping funnel and a thermometer was mixed with 548 parts of bisphenol S, 263 parts of a 50% formalin aqueous solution, and 164 parts of ethyl cellosolve, and 6.4 parts of trimethylamine while cooling to 30 ° C. or lower. After the addition, the mixture was reacted at 100 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 4 parts of oxalic acid was added and stripped under reduced pressure at 100 ° C. and 400 mmHg for 2 hours to obtain a bisphenol S type bisphenol-formaldehyde resin (A3). Mw of (A3) was 1,200.

[比較合成例1]
撹拌機、冷却管、滴下漏斗および温度計を備えた四つ口フラスコにビスフェノールA456部、50%ホルマリン水溶液84部、メチルイソブチルケトン230部を配合し、30℃以下に冷却しながらシュウ酸4.6部を添加後、100℃で4時間反応させた。反応終了後160℃まで濃縮しながら2時間で昇温、160℃、100mmHgで30分間減圧ストリップを行い、ビスフェノールAタイプのノボラック樹脂(X1)を得た。(X1)のMwは900であった。
[Comparative Synthesis Example 1]
A four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a dropping funnel and a thermometer was mixed with 456 parts of bisphenol A, 84 parts of a 50% formalin aqueous solution and 230 parts of methyl isobutyl ketone, and oxalic acid while cooling to 30 ° C. or lower. After adding 6 parts, it was made to react at 100 degreeC for 4 hours. After completion of the reaction, the temperature was raised in 2 hours while concentrating to 160 ° C., and a vacuum strip was performed at 160 ° C. and 100 mmHg for 30 minutes to obtain a bisphenol A type novolak resin (X1). Mw of (X1) was 900.

[比較合成例2]
撹拌機、冷却管、滴下漏斗および温度計を備えた四つ口フラスコにビスフェノールS500部、50%ホルマリン水溶液84部、メチルイソブチルケトン250部を配合し、30℃以下に冷却しながらp−トルエンスルホン酸2.5部を添加後、100℃で4時間反応させた。反応終了後10%NaOH水溶液5.3部を加え中和後、中和塩を除去するため750部の純水にて洗浄を行った。次いで160℃まで濃縮しながら2時間で昇温、160℃、100mmHgで30分間減圧ストリップを行い、ビスフェノールSタイプのノボラック樹脂(X2)を得た。(X2)のMwは1,100であった。
[Comparative Synthesis Example 2]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, condenser, dropping funnel and thermometer, 500 parts of bisphenol S, 84 parts of 50% formalin aqueous solution and 250 parts of methyl isobutyl ketone are blended, and p-toluenesulfone is cooled to 30 ° C. or lower. After adding 2.5 parts of acid, the mixture was reacted at 100 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, 5.3 parts of 10% NaOH aqueous solution was added and neutralized, and then washed with 750 parts of pure water to remove neutralized salts. Next, the temperature was raised in 2 hours while concentrating to 160 ° C., and a vacuum strip was performed at 160 ° C. and 100 mmHg for 30 minutes to obtain a bisphenol S type novolak resin (X2). The Mw of (X2) was 1,100.

実施例1〜3及び比較例1〜2
表1に発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物配合、表2に物性評価結果を示す。表1の配合物組成欄に示す各成分を配合し、撹拌、溶解して得られた発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物を用い、トランスファー成型により各試験項目に合う金型、及び硬化条件にて作成した。
Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2
Table 1 shows the composition of the thermosetting resin composition for light-emitting element sealing material, and Table 2 shows the physical property evaluation results. Using the thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material obtained by blending, stirring and dissolving each component shown in the composition composition column of Table 1, a mold suitable for each test item by transfer molding, and Created under curing conditions.

Figure 2009173763
Figure 2009173763

エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製)
デナコールEX−201:レゾルシノール型エポキシ樹脂(ナガセケムテックス社製)
EOCN−102S:オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬社製)
NC−3000H:ビフェニルアラルキルフェノール型エポキシ樹脂(日本化薬社製)
IRGAFOS 168:酸化防止剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
IRGNOX 1010:酸化防止剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
ニュートロン−2:ステアリン酸アミド系離型剤(日本精化社製)
Epicoat 828: Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Denacol EX-201: Resorcinol type epoxy resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
EOCN-102S: Orthocresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
NC-3000H: biphenylaralkylphenol type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
IRGAFOS 168: Antioxidant (Ciba Specialty Chemicals)
IRGNOX 1010: Antioxidant (Ciba Specialty Chemicals)
Neutron-2: Stearic acid amide release agent (manufactured by Nippon Seika Co., Ltd.)

比較例1〜2は初期YIが高く、長時間の紫外線照射により更にYI値が大きくなり紫外線劣化を生じていることがわかる。また、高温環境下においてもYI値が大きく変化しており、酸化による耐熱劣化が大きくなっていることが分かる。それに対し、実施例1〜4は初期YIが低く、紫外線照射による紫外線劣化、及び高温環境下における耐熱劣化が小さく良好な透明性が得られることが分かる。   Comparative Examples 1 and 2 have a high initial YI, and it can be seen that the YI value is further increased by ultraviolet irradiation for a long time, resulting in ultraviolet degradation. In addition, it can be seen that the YI value changes greatly even in a high temperature environment, and the heat deterioration due to oxidation is increased. On the other hand, Examples 1 to 4 have low initial YI, and it can be seen that good transparency can be obtained with little UV deterioration due to UV irradiation and less heat deterioration under high temperature environment.

Figure 2009173763
Figure 2009173763

本発明の光学材料用熱硬化性樹脂組成物は、耐光性、耐熱性、耐湿性に優れ、LED、CCDのような光半導体関連の発光素子封止材用途にきわめて有用である。   The thermosetting resin composition for optical materials of the present invention is excellent in light resistance, heat resistance, and moisture resistance, and is extremely useful for light emitting device sealing materials related to optical semiconductors such as LEDs and CCDs.

Claims (4)

下記一般式(1)で表されるメチロール基を有するビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)と、1分子中に2個以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂(B)を含有する発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物。
Figure 2009173763

[式中、Rは、メチロール基または水素であり、それぞれのRは相互に異なっていても同一でもよく、Rの少なくとも一つはメチロール基であり、Xは、CH、C(CH、S、SO、C(CFまたはOであり;nは1以上の整数である。]
The heat | fever for light emitting element sealing materials containing the bisphenol formaldehyde resin (A) which has the methylol group represented by following General formula (1), and the epoxy resin (B) which has a 2 or more glycidyl group in 1 molecule. Curable resin composition.
Figure 2009173763

[Wherein, R is a methylol group or hydrogen, each R may be different or the same, at least one of R is a methylol group, and X is CH 2 , C (CH 3 )] 2 , S, SO 2 , C (CF 3 ) 2 or O; n is an integer of 1 or more. ]
ビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)が上記一般式(1)から選ばれる1種又は2種以上である請求項1記載の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition for a light emitting device sealing material according to claim 1, wherein the bisphenol-formaldehyde resin (A) is one or more selected from the above general formula (1). ビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)との配合比が質量比として70/30〜30/70である請求項1〜2のいずれか1項記載の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物。   The compounding ratio of bisphenol-formaldehyde resin (A) and epoxy resin (B) is 70 / 30-30 / 70 as mass ratio, The thermosetting for light emitting element sealing materials of any one of Claims 1-2 Resin composition. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光素子封止材用熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening the thermosetting resin composition for light emitting element sealing materials of any one of Claims 1-3.
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