JP2009171094A - Directional coupler and plasma generator using the same - Google Patents

Directional coupler and plasma generator using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2009171094A
JP2009171094A JP2008005454A JP2008005454A JP2009171094A JP 2009171094 A JP2009171094 A JP 2009171094A JP 2008005454 A JP2008005454 A JP 2008005454A JP 2008005454 A JP2008005454 A JP 2008005454A JP 2009171094 A JP2009171094 A JP 2009171094A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microwave
waveguide
path
directional coupler
probes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008005454A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4820828B2 (en
Inventor
Hidetaka Matsuuchi
秀高 松内
Shigeru Masuda
滋 増田
Ryuichi Iwasaki
龍一 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritsu Koki Co Ltd
Original Assignee
Noritsu Koki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Noritsu Koki Co Ltd filed Critical Noritsu Koki Co Ltd
Priority to JP2008005454A priority Critical patent/JP4820828B2/en
Publication of JP2009171094A publication Critical patent/JP2009171094A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4820828B2 publication Critical patent/JP4820828B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Attenuators (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a directional coupler that precisely allows microwaves propagating in a waveguide to diverge, and is miniaturized. <P>SOLUTION: In the directional coupler, the difference between the sum L1+L2 of distance L1 between probes 83A, 83B in the longitudinal direction of a waveguide and the path length L2 of a first transmission path of a microstrip line 82 including the projection length of the probe 83A, and the path length L3 of a second transmission path of the microstrip line 82 including the projection length of the probe 83B coincides with (2n-1)λ/2 (n: an integer, λ: the wavelength of microwaves), and the difference between the sum L1+L3 of the distance L1 and the path length L3 of the second transmission path and the path length L2 of the first transmission path does not coincide with (2n-1)λ/2. The probes 83A, 83B are guided to coupling length holes 84A, 84B having an arc shape with a middle point on a segment for connecting the probes 83A, 83B as a center for movement, and the distance L1 is changed. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、マイクロ波回路で用いられる方向性結合器、及び、その方向性結合器が設けられたプラズマ発生装置に関する。   The present invention relates to a directional coupler used in a microwave circuit and a plasma generator provided with the directional coupler.

被処理物に対してプラズマを照射し、その表面の有機汚染物の除去、表面改質、エッチング、薄膜形成または薄膜除去等を行うプラズマ発生装置が知られている。このようなプラズマ発生装置は常温常圧下でのプラズマ発生が可能であり、そのプラズマ発生にはマイクロ波が利用される。通常、上記のようなプラズマ発生装置においては、マイクロ波発生手段が発生させるマイクロ波の電力が適宜検出されており、その検出結果をマイクロ波発生手段にフィードバックすることによりマイクロ波電力の出力安定化が図られている。   2. Description of the Related Art Plasma generators are known that irradiate an object to be processed with plasma and remove organic contaminants on the surface, surface modification, etching, thin film formation or thin film removal. Such a plasma generator is capable of generating plasma at normal temperature and pressure, and microwaves are used to generate the plasma. Usually, in the plasma generator as described above, the power of the microwave generated by the microwave generator is appropriately detected, and the output of the detection is fed back to the microwave generator to stabilize the output of the microwave power. Is planned.

ところで、マイクロ波電力を検出する際には、マイクロ波発生手段から導波管に導かれるマイクロ波電力の一部を導波管から取り出すことが必要となるが、その取り出しの手段として方向性結合器が利用されることが一般的である。プラズマ発生装置への組み込みの観点から方向性結合器には小型化が要請されており、例えば、特許文献1に小型化が実現された方向性結合器が開示されている。   By the way, when detecting the microwave power, it is necessary to take out a part of the microwave power guided from the microwave generation means to the waveguide. It is common to use a vessel. The directional coupler is required to be downsized from the viewpoint of incorporation into the plasma generator. For example, Patent Document 1 discloses a directional coupler that has been downsized.

特許文献1に開示された方向性結合器においては、マイクロストリップラインを有するプリント基板を導波管上に配置し、マイクロストリップラインと接続された2つの探針が導波管内に突出するように構成されている。この2つの探針から導波管内を流れるマイクロ波を基板上のマイクロストリップラインに取り込み、導波管内の一方向に進行するマイクロ波電力の一部を分岐させるものである。
特開平6−132710号公報
In the directional coupler disclosed in Patent Document 1, a printed circuit board having a microstrip line is arranged on a waveguide so that two probes connected to the microstrip line protrude into the waveguide. It is configured. Microwaves flowing in the waveguide from these two probes are taken into the microstrip line on the substrate, and a part of the microwave power traveling in one direction in the waveguide is branched.
JP-A-6-132710

上述したようなプラズマ発生装置においては、マイクロ波発生手段から導波管に導かれる入射マイクロ波と、プラズマ発生に寄与することなく導波管に戻って来る反射マイクロ波のうちから一方のマイクロ波(例えば、入射マイクロ波)だけを方向性結合器を介して分岐し、その一方のマイクロ波の電力検出が行われる。そこで、特許文献1に開示された方向性結合器においては、2つの探針の導波管内に突出した長さにより導波管内から2つの探針を通して取り出される2つのマイクロ波の振幅を調節しており、その振幅調節により一方のマイクロ波だけを分岐させることを可能としている。この一方のマイクロ波だけの分岐は、2つの探針を通して取り出される2つのマイクロ波の各々を伝搬する2つの経路の位相差により実現されている。   In the plasma generator as described above, one microwave is selected from the incident microwave guided from the microwave generating means to the waveguide and the reflected microwave returning to the waveguide without contributing to plasma generation. Only (for example, incident microwave) is branched through the directional coupler, and power detection of one of the microwaves is performed. Therefore, in the directional coupler disclosed in Patent Document 1, the amplitudes of the two microwaves taken out from the waveguide through the two probes are adjusted by the length protruding into the waveguides of the two probes. Therefore, only one of the microwaves can be branched by adjusting the amplitude. This branching of only one microwave is realized by a phase difference between two paths propagating through the two microwaves extracted through the two probes.

ところで、上述したマイクロ波を伝搬する経路には設計誤差や経時誤差が含まれており、それらの誤差に起因して2つの経路に要求される位相差を精度良く得ることができない場合がある。この場合、実際の使用時において2つの経路差を微調整することができれば、上記誤差に起因する位相差の誤差を解消することができる。しかしながら、特許文献1の方向性結合器は2つの経路差を微調整する手段を持っておらず、この結果、特許文献1の方向性結合器には、一方のマイクロ波だけを精度良く分岐することができないという問題点がある。   By the way, the above-described path for propagating the microwave includes a design error and a temporal error, and the phase difference required for the two paths may not be obtained with high accuracy due to these errors. In this case, if the difference between the two paths can be finely adjusted during actual use, the phase difference error caused by the error can be eliminated. However, the directional coupler disclosed in Patent Document 1 does not have means for finely adjusting the difference between the two paths. As a result, the directional coupler disclosed in Patent Document 1 branches only one microwave with high accuracy. There is a problem that can not be.

上記問題点に鑑み、本発明の目的は、導波管を伝搬するマイクロ波を精度よく分岐させることができる、小型化が可能な方向性結合器及びその方向性結合器が設けられたプラズマ発生装置を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to divide a microwave propagating in a waveguide with high accuracy, to make a directional coupler that can be miniaturized, and to generate a plasma provided with the directional coupler. To provide an apparatus.

上記目的を達成するために、本発明の一局面に従う方向性結合器は、方向性結合回路基板と、マイクロ波が伝搬する導波管とを備え、前記方向性結合回路基板は、基板部と、前記基板部上に配置され、各々の一端同士が接続された第1及び第2の伝送経路と、前記第1及び第2の伝送経路の各々の他端と一対一に対応して接続されており、マイクロ波が伝搬する方向である導波管の長手方向に沿って所定の距離だけ離間して前記導波管内に突出する第1及び第2の探針とを有し、前記導波管の長手方向における前記第1及び第2の探針間の所定の距離L1と前記第1の探針の突出長を含めた前記第1の伝送経路の経路長L2との和L1+L2と、前記第2の探針の突出長を含めた前記第2の伝送経路の経路長L3との差は、(2n−1)λ/2(n:整数、λ:マイクロ波の波長)に一致し、前記所定の距離L1と前記第2の伝送経路の経路長L3との和L1+L3と、前記第1の伝送経路の経路長L2との差は、(2n−1)λ/2に一致しないでおり、前記導波管は、前記方向性結合回路基板の前記第1及び第2の探針の各々に一対一に対応し、前記第1及び第2の探針を前記導波管内に突出させる第1及び第2の結合長穴が形成された側面部を有し、前記第1及び第2の結合長穴は前記第1及び第2の探針間を結ぶ線分上の中点を中心とする円弧形状を持っており、前記第1及び第2の探針が前記第1及び第2の結合長穴に誘導されて移動することにより前記所定の距離L1が変化する。   In order to achieve the above object, a directional coupler according to one aspect of the present invention includes a directional coupling circuit board and a waveguide through which microwaves propagate, and the directional coupling circuit board includes: The first and second transmission paths arranged on the substrate portion and connected to each other at one end are connected to the other ends of the first and second transmission paths in a one-to-one correspondence. A first probe and a second probe protruding into the waveguide at a predetermined distance along the longitudinal direction of the waveguide, which is the direction in which the microwave propagates. A sum L1 + L2 of a predetermined distance L1 between the first and second probes in the longitudinal direction of the tube and a path length L2 of the first transmission path including a protruding length of the first probe; The difference from the path length L3 of the second transmission path including the protruding length of the second probe is (2n-1) λ / (N: integer, λ: wavelength of microwave), the sum L1 + L3 of the predetermined distance L1 and the path length L3 of the second transmission path, and the path length L2 of the first transmission path The difference does not coincide with (2n−1) λ / 2, and the waveguide corresponds to each of the first and second probes of the directional coupling circuit board on a one-to-one basis, and the first A first and second coupling elongated holes for projecting the first and second probes into the waveguide; and the first and second coupling elongated holes are the first and second coupling elongated holes. And has a circular arc shape centering on a midpoint on a line segment connecting the two probes, and the first and second probes are guided and moved by the first and second coupling slots. As a result, the predetermined distance L1 changes.

上記の方向性結合器では、第1及び第2の探針が第1及び第2の結合長穴に誘導されて移動して所定の距離L1が変化するので、経路長L1+L2、経路長L1+L3の微調整が可能となる。このため、経路長の差に必要とされる上記の条件を完全に満たすことができ、その結果、方向性結合器の方向性を向上させることができる。   In the directional coupler described above, the first and second probes are guided and moved by the first and second coupling elongated holes to change the predetermined distance L1, so that the path length L1 + L2 and the path length L1 + L3 are Fine adjustment is possible. For this reason, said conditions required for the difference of path length can be satisfy | filled completely, As a result, the directionality of a directional coupler can be improved.

前記方向性結合回路基板はさらに、前記第1及び第2の伝送経路上のうちの少なくとも一方に介在され、前記第1及び第2の伝送経路の接続点における前記第1及び第2の伝送経路上の各々を伝搬するマイクロ波の振幅が略一致するように設定された減衰量を持つ振幅減衰手段を有することが好ましい。   The directional coupling circuit board is further interposed on at least one of the first and second transmission paths, and the first and second transmission paths at a connection point of the first and second transmission paths. It is preferable to have an amplitude attenuating means having an attenuation amount set so that the amplitudes of the microwaves propagating through the above substantially coincide with each other.

この場合、第1及び第2の伝送経路上の各々を伝搬するマイクロ波の振幅を第1及び第2の伝送経路の接続点において略一致させ、導波管の長手方向に沿って互いに対向する向きで伝搬する2つのマイクロ波のうちのいずれか一方のマイクロ波の振幅を第1及び第2の伝送経路の接続点において確実にゼロとすることができるので、他方のマイクロ波だけを確実に分岐させることができる。   In this case, the amplitudes of the microwaves propagating on the first and second transmission paths are substantially matched at the connection points of the first and second transmission paths, and are opposed to each other along the longitudinal direction of the waveguide. Since the amplitude of one of the two microwaves propagating in the direction can be reliably made zero at the connection point of the first and second transmission paths, only the other microwave can be reliably Can be branched.

本発明の他の一局面に従うプラズマ発生装置では、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、前記マイクロ波発生手段が発生させる前記マイクロ波を受信し、当該マイクロ波のエネルギーを用いてプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、前記マイクロ波発生手段と前記プラズマ発生手段との間に配置された前記導波管を伝搬するマイクロ波の一部の電力を取り出す、上記の方向性結合器と、前記方向性結合器により取り出された電力を検出し、当該検出結果を前記マイクロ波発生手段に出力する検出器とを備え、前記マイクロ波発生手段は、前記検出器から出力された前記検出結果に基づき、自身が発生させるマイクロ波の出力を制御する。   In a plasma generator according to another aspect of the present invention, microwave generation means for generating a microwave, and the microwave generated by the microwave generation means are received, and plasma is generated using energy of the microwave The directional coupler for extracting a part of the microwave propagating through the waveguide disposed between the microwave generating means and the plasma generating means, and the direction A detector that detects the electric power extracted by the sex coupler and outputs the detection result to the microwave generation means, the microwave generation means based on the detection result output from the detector, Controls the microwave output that it generates.

上記のプラズマ発生装置では、導波管の長手方向に沿って互いに対向する向きで伝搬する入射マイクロ波及び反射マイクロ波のうちの反射マイクロ波の振幅を第1及び第2の伝送経路の接続点において確実にゼロとすることができるので、入射マイクロ波だけを確実に分岐させることができる。このため、反射マイクロ波の影響を受けることなく入射マイクロ波の電力を検出することができるので、その検出結果に基づいてマイクロ波の出力を制御し、その出力の安定化を図ることができる。   In the above plasma generator, the amplitude of the reflected microwave of the incident microwave and the reflected microwave propagating in the opposite directions along the longitudinal direction of the waveguide is determined by the connection point of the first and second transmission paths. Therefore, only the incident microwave can be reliably branched. For this reason, since the power of the incident microwave can be detected without being affected by the reflected microwave, the output of the microwave can be controlled based on the detection result, and the output can be stabilized.

本発明によれば、導波管を伝搬するマイクロ波を精度よく分岐させることができる、小型化が可能な方向性結合器及びそれを用いたプラズマ発生装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the directional coupler which can branch the microwave which propagates a waveguide with sufficient precision, and can be reduced in size, and a plasma generator using the same can be provided.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図面の記載において、同じ要素または類似する要素には、同じまたは類似の符号を付しており、説明を省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar elements are denoted by the same or similar reference numerals, and description thereof may be omitted.

図1は、本発明の実施の形態に係る方向性結合器が組み込まれたプラズマ発生装置の全体構成を示す一部透視側面図である。本実施の形態に係るプラズマ発生装置PUは、プラズマを発生して被処理物となるワーク等にプラズマを照射する装置であり、マイクロ波を利用し、常温常圧でのプラズマ発生が可能である。本実施の形態に係るプラズマ発生装置PUは、図1に示すように、第1、第2、第3の導波管11、12、13と、マイクロ波発生装置20と、プラズマ発生部30と、スライディングショート40と、サーキュレータ50と、ダミーロード60と、スタブチューナ70と、方向性結合器10と、検出器86と、を備えている。   FIG. 1 is a partially transparent side view showing the entire configuration of a plasma generator in which a directional coupler according to an embodiment of the present invention is incorporated. The plasma generator PU according to the present embodiment is a device that generates plasma to irradiate a workpiece or the like to be processed with plasma, and can generate plasma at normal temperature and normal pressure using a microwave. . As shown in FIG. 1, the plasma generator PU according to the present embodiment includes first, second, and third waveguides 11, 12, and 13, a microwave generator 20, and a plasma generator 30. The sliding short 40, the circulator 50, the dummy load 60, the stub tuner 70, the directional coupler 10, and the detector 86 are provided.

第1、第2、第3の導波管11、12、13は、例えばアルミニウム等の非磁性金属からなり、断面矩形の長尺管状を呈しており、マイクロ波発生装置20により発生されたマイクロ波をプラズマ発生部30へ向けて、その長手方向に伝搬させるものである。第1、第2、第3の導波管11、12、13の各々は、互いのフランジ部同士で連結されており、マイクロ波発生装置20が第1の導波管11に搭載されている。また、第2の導波管12にはスタブチューナ70が組付けられ、第3の導波管13にはプラズマ発生部30が設けられている。さらに、図1に示すように、第1の導波管11と第2の導波管12との間にはサーキュレータ50及び方向性結合器10が介在され、第3の導波管13の一端側にはスライディングショート40が連結されている。   The first, second, and third waveguides 11, 12, and 13 are made of a nonmagnetic metal such as aluminum, have an elongated tubular shape with a rectangular cross section, and are generated by the microwave generator 20. A wave is propagated in the longitudinal direction toward the plasma generation unit 30. Each of the first, second, and third waveguides 11, 12, and 13 is connected to each other through the flange portions, and the microwave generator 20 is mounted on the first waveguide 11. . In addition, a stub tuner 70 is assembled in the second waveguide 12, and a plasma generator 30 is provided in the third waveguide 13. Further, as shown in FIG. 1, a circulator 50 and a directional coupler 10 are interposed between the first waveguide 11 and the second waveguide 12, and one end of the third waveguide 13 is disposed. A sliding short 40 is connected to the side.

第1の導波管11、第2の導波管12及び第3の導波管13の各々は、金属平板からなる上面板、下面板および2枚の側面板を用いて角筒状に組立てられ、その両端にフランジ板が取付けられて構成されている。なお、このような平板の組み立てによらず、押出し成形や板状部材の折り曲げ加工等により形成された矩形導波管もしくは非分割型の導波管を用いるようにしてもよい。また、断面矩形の導波管に限らず、例えば断面楕円の導波管を用いることも可能である。さらに、非磁性金属に限らず、導波作用を有する各種の部材で導波管を構成することができる。   Each of the first waveguide 11, the second waveguide 12, and the third waveguide 13 is assembled into a rectangular tube shape using an upper plate, a lower plate, and two side plates made of a metal flat plate. The flange plate is attached to both ends thereof. In addition, you may make it use the rectangular waveguide formed by extrusion molding, the bending process of a plate-shaped member, etc., or an undivided type | mold waveguide irrespective of the assembly of such a flat plate. In addition, the waveguide is not limited to a rectangular cross section, and for example, a waveguide having an elliptical cross section can be used. Furthermore, not only a nonmagnetic metal but a waveguide can be comprised with the various members which have a waveguide effect | action.

マイクロ波発生装置20は、例えば2.45GHzのマイクロ波を発生するマグネトロンのマイクロ波発生源を具備する装置本体部21と、装置本体部21で発生されたマイクロ波を導波管10の内部へ放出するマイクロ波送信アンテナ22と、を有している。本実施の形態に係るプラズマ発生装置PUにおいては、マイクロ波発生装置20として例えば1〜3000Wのマイクロ波エネルギーを出力可能な連続可変型のマイクロ波発生装置が好適に用いられる。   The microwave generator 20 includes, for example, an apparatus main body 21 including a magnetron microwave generation source that generates a microwave of 2.45 GHz, and the microwave generated by the apparatus main body 21 is introduced into the waveguide 10. And a microwave transmitting antenna 22 that emits light. In the plasma generator PU according to the present embodiment, a continuously variable microwave generator capable of outputting, for example, microwave energy of 1 to 3000 W is suitably used as the microwave generator 20.

マイクロ波発生装置20は、装置本体部21からマイクロ波送信アンテナ22が突設された形態のものであり、第1の導波管11に載置される態様で固定されている。詳しくは、装置本体部21が第1の導波管11の上面板11Uに載置され、マイクロ波送信アンテナ22が上面板11Uに穿設された貫通孔111を通して第1の導波管11内部の導波空間110に突出する態様で固定されている。このように構成されることで、マイクロ波送信アンテナ22から放出されたマイクロ波は、第1、第2、第3の導波管11、12、13内をプラズマ発生部30に向けて伝搬される。   The microwave generator 20 has a configuration in which a microwave transmission antenna 22 protrudes from the apparatus main body portion 21 and is fixed in a manner of being placed on the first waveguide 11. Specifically, the apparatus main body 21 is placed on the upper surface plate 11U of the first waveguide 11, and the microwave transmission antenna 22 is inside the first waveguide 11 through the through hole 111 formed in the upper surface plate 11U. The waveguide space 110 is fixed so as to protrude. With this configuration, the microwaves emitted from the microwave transmission antenna 22 are propagated in the first, second, and third waveguides 11, 12, and 13 toward the plasma generation unit 30. The

プラズマ発生部30は、第3の導波管13の下面板13Bに左右方向へ一列に整列して突設された8個のプラズマ発生ノズル31を有している。プラズマ発生部30の幅員、つまり8個のプラズマ発生ノズル31の左右方向の配列幅は、プラズマ発生部30からのプラズマによる処理対象のワーク等の搬送方向と直交する幅方向の最大サイズと略合致する幅員とされている。これにより、処理対象のワークを搬送しながらワークの全表面(下面板13Bと対向する面)に対してプラズマ処理が行えるようになっている。なお、8個のプラズマ発生ノズル31の配列間隔は、伝搬させるマイクロ波の波長λに応じて定めることが望ましい。たとえば、波長λの1/2ピッチ、1/4ピッチでプラズマ発生ノズル31を配列することが望ましく、2.45GHzのマイクロ波を用い、矩形の導波管11、12、13の断面サイズが2.84インチ×1.38インチの場合、λ=230mmであるので、115mm(λ/2)ピッチ、或いは57.5mm(λ/4)ピッチでプラズマ発生ノズル31を配列すればよい。   The plasma generation unit 30 has eight plasma generation nozzles 31 that protrude from the lower surface plate 13B of the third waveguide 13 so as to be aligned in a line in the left-right direction. The width of the plasma generation unit 30, that is, the arrangement width of the eight plasma generation nozzles 31 in the left-right direction substantially matches the maximum size in the width direction orthogonal to the conveyance direction of the workpiece to be processed by the plasma from the plasma generation unit 30. It is said to be wide. Thereby, plasma processing can be performed on the entire surface of the workpiece (the surface facing the lower surface plate 13B) while conveying the workpiece to be processed. Note that the arrangement interval of the eight plasma generation nozzles 31 is preferably determined according to the wavelength λ of the microwave to be propagated. For example, it is desirable to arrange the plasma generating nozzles 31 at ½ pitch and ¼ pitch of the wavelength λ, and the cross-sectional size of the rectangular waveguides 11, 12, 13 is 2 using microwaves of 2.45 GHz. In the case of .84 inch × 1.38 inch, since λ = 230 mm, the plasma generating nozzles 31 may be arranged at a pitch of 115 mm (λ / 2) or 57.5 mm (λ / 4).

プラズマ発生ノズル31は、第3の導波管13の下面板13Bを貫通して導波空間130に所定長さだけ突出する導電体32を有している。プラズマ発生ノズル31は、導電体32を介して第3の導波管13内を伝搬するマイクロ波を受信し、そのマイクロ波エネルギー(マイクロ波電力)を用いてプラズマを発生させることができる。   The plasma generation nozzle 31 has a conductor 32 that penetrates the lower surface plate 13B of the third waveguide 13 and projects into the waveguide space 130 by a predetermined length. The plasma generating nozzle 31 can receive the microwave propagating in the third waveguide 13 through the conductor 32 and can generate plasma using the microwave energy (microwave power).

スライディングショート40は、各々のプラズマ発生ノズル31に備えられている導電体32と、第3の導波管13の内部を伝搬されるマイクロ波との結合状態を最適化するために備えられているもので、マイクロ波の反射位置を変化させて定在波パターン部を調整可能とするべく第3の導波管13の一端側に連結されている。なお、定在波を利用しない場合は、スライディングショート40に代えて、電波吸収作用を有するダミーロードが取付けられる。   The sliding short 40 is provided in order to optimize the coupling state between the conductor 32 provided in each plasma generation nozzle 31 and the microwave propagated inside the third waveguide 13. Therefore, it is connected to one end side of the third waveguide 13 so that the standing wave pattern portion can be adjusted by changing the reflection position of the microwave. In addition, when not using a standing wave, it replaces with the sliding short 40 and the dummy load which has an electromagnetic wave absorption effect | action is attached.

スライディングショート40は、第3の導波管13と同様な断面矩形の筐体構造を備えており、その内部に円柱状の反射ブロック42を収納している。反射ブロック42の移動によって定在波パターン部が最適化される。   The sliding short 40 includes a casing structure having a rectangular cross section similar to that of the third waveguide 13, and houses a cylindrical reflection block 42 therein. The standing wave pattern portion is optimized by the movement of the reflection block 42.

サーキュレータ50は、例えばフェライト柱を内蔵する導波管型の3ポートサーキュレータからなり、一旦はプラズマ発生部30へ向けて伝搬されたマイクロ波のうち、プラズマ発生部30で電力消費されずに戻って来る反射マイクロ波を、マイクロ波発生装置20に戻さずダミーロード60へ向かわせるものである。このようなサーキュレータ50を配置することで、マイクロ波発生装置20が反射マイクロ波によって過熱状態となることが防止される。   The circulator 50 is composed of, for example, a waveguide-type three-port circulator with a built-in ferrite column. Of the microwaves once propagated toward the plasma generator 30, the circulator 50 returns without being consumed by the plasma generator 30. The incoming reflected microwave is directed to the dummy load 60 without returning to the microwave generator 20. By arranging such a circulator 50, the microwave generator 20 is prevented from being overheated by the reflected microwave.

ダミーロード60は、上記の反射マイクロ波を吸収して熱に変換する水冷型(空冷型でも良い)の電波吸収体である。ダミーロード60には、冷却水を内部に流通させるための冷却水流通口が設けられており、反射マイクロ波を熱変換することにより発生した熱が冷却水に熱交換されるようになっている。   The dummy load 60 is a water-cooled (or air-cooled) radio wave absorber that absorbs the reflected microwave and converts it into heat. The dummy load 60 is provided with a cooling water circulation port for circulating cooling water therein, and heat generated by heat-converting the reflected microwave is exchanged with the cooling water. .

スタブチューナ70は、第2の導波管12とプラズマ発生ノズル31とのインピーダンス整合を図るためのもので、第2の導波管12の上面板12Uに所定間隔を置いて直列配置された3つのスタブチューナユニット70A〜70Cを備えている。3つのスタブチューナユニット70A〜70Cは同一構造を備えており、第2の導波管12の導波空間120に突出するスタブ71を有している。   The stub tuner 70 is for impedance matching between the second waveguide 12 and the plasma generating nozzle 31, and is arranged in series on the upper surface plate 12 U of the second waveguide 12 at a predetermined interval. Two stub tuner units 70A to 70C are provided. The three stub tuner units 70 </ b> A to 70 </ b> C have the same structure and have a stub 71 protruding into the waveguide space 120 of the second waveguide 12.

スタブチューナユニット70A〜70Cに各々備えられているスタブ71は、その導波空間120への突出長が調整可能とされている。これらスタブ71の突出長は、例えばマイクロ波電力パワーをモニタしつつ、導電体32による消費電力が最大となるポイント(反射マイクロ波が最小になるポイント)を探索することで決定される。なお、このようなインピーダンス整合は、必要に応じてスライディングショート40と連動させて実行される。   The stub 71 provided in each of the stub tuner units 70 </ b> A to 70 </ b> C can be adjusted in its protruding length into the waveguide space 120. The protruding lengths of the stubs 71 are determined by searching for a point where the power consumption by the conductor 32 is maximized (a point where the reflected microwave is minimized) while monitoring the microwave power. Such impedance matching is executed in conjunction with the sliding short 40 as necessary.

次に、本実施の形態に係る方向性結合器10について説明する。本実施の形態に係る方向性結合器10は、図1に示したように、サーキュレータ50と第2の導波管12との間に配置されており、マイクロ発生装置20からプラズマ発生部30に向けて第1、第2、第3の導波管11、12、13を介して伝搬する入射マイクロ波電力の一部を分岐させるものである。図2は、本実施の形態に係る方向性結合器10の構成を示す分解斜視図である。   Next, the directional coupler 10 according to the present embodiment will be described. As shown in FIG. 1, the directional coupler 10 according to the present embodiment is disposed between the circulator 50 and the second waveguide 12, and is connected from the micro generator 20 to the plasma generator 30. A part of the incident microwave power propagating through the first, second, and third waveguides 11, 12, and 13 is branched. FIG. 2 is an exploded perspective view showing the configuration of the directional coupler 10 according to the present embodiment.

本実施の形態に係る方向性結合器10は、方向性結合器用導波管80と、方向性結合回路基板81と、を有している。方向性結合器用導波管80は、第1、第2、第3の導波管11、12、13と同様、例えばアルミニウム等の非磁性金属からなり、断面矩形の長尺管状を呈しており、マイクロ波発生装置20により発生されたマイクロ波をプラズマ発生部30へ向けて、その長手方向に伝搬させる。さらに、方向性結合器用導波管80は、一旦はプラズマ発生部30へ向けて伝搬されたマイクロ波のうち、プラズマ発生部30で電力消費されずにマイクロ波発生装置20側に戻って来る反射マイクロ波も同様に伝搬させる。   The directional coupler 10 according to the present embodiment includes a directional coupler waveguide 80 and a directional coupling circuit board 81. Similar to the first, second, and third waveguides 11, 12, and 13, the directional coupler waveguide 80 is made of a nonmagnetic metal such as aluminum and has a long tubular shape with a rectangular cross section. Then, the microwave generated by the microwave generator 20 is propagated in the longitudinal direction toward the plasma generator 30. Further, the directional coupler waveguide 80 is a reflection that returns to the microwave generator 20 side without being consumed in the plasma generator 30 among the microwaves once propagated toward the plasma generator 30. Microwaves are similarly propagated.

本実施の形態の方向性結合器用導波管80は、図2に示すように、2つの結合長穴84A、84Bを有している。2つの結合長穴84A、84Bの各々は、方向性結合回路基板81の2つの探針83A、83Bの各々に一対一対応しており、それぞれに対応する探針83A、83Bが挿入可能となっている。方向性結合回路基板81は、方向性結合回路基板81の探針83A、84Bを結合長穴84A、84Bを通して方向性結合器用導波管80内部の導波空間に突出させる態様で方向性結合器用導波管80に載置される。結合長穴84A、84Bは円弧形状を有しており、探針83A、83Bが結合長穴84A、84Bに誘導されて時計方向に移動可能となっている。もちろん、探針83A、83Bの移動によって方向性結合回路基板81も同時に時計方向に回転する。結合長穴84A、84Bの形状及びその形状に起因する効果については後に詳しく説明する。   As shown in FIG. 2, the directional coupler waveguide 80 of the present embodiment has two long coupling holes 84A and 84B. Each of the two coupling elongated holes 84A and 84B has a one-to-one correspondence with each of the two probes 83A and 83B of the directional coupling circuit board 81, and the corresponding probes 83A and 83B can be inserted. ing. The directional coupling circuit board 81 has the probes 83A and 84B of the directional coupling circuit board 81 protruding into the waveguide space inside the directional coupler waveguide 80 through the coupling elongated holes 84A and 84B. It is placed on the waveguide 80. The coupling elongated holes 84A and 84B have an arc shape, and the probes 83A and 83B are guided by the coupling elongated holes 84A and 84B and can move in the clockwise direction. Of course, the directional coupling circuit board 81 simultaneously rotates clockwise as the probes 83A and 83B move. The shapes of the coupling elongated holes 84A and 84B and the effects resulting from the shapes will be described in detail later.

方向性結合回路基板81は、図2に示すように、所定の経路を持つマイクロストリップライン82を有している。マイクロストリップライン82は、上記の2つの探針83A、83Bと接続されており、方向性結合器用導波管80内を伝搬する入射マイクロ波及び反射マイクロ波の各々の一部は探針83A、83Bを通してマイクロストリップライン82に伝送される。   As shown in FIG. 2, the directional coupling circuit board 81 has a microstrip line 82 having a predetermined path. The microstrip line 82 is connected to the two probes 83A and 83B, and a part of each of the incident microwave and the reflected microwave propagating in the directional coupler waveguide 80 is the probe 83A. It is transmitted to the microstrip line 82 through 83B.

次に、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84B及び方向性結合回路基板81のマイクロストリップライン82についてさらに詳しく説明する。図3は、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84B及び方向性結合回路基板81のマイクロストリップライン82を説明するための図である。   Next, the coupling elongated holes 84A and 84B of the directional coupler waveguide 80 and the microstrip line 82 of the directional coupling circuit board 81 will be described in more detail. FIG. 3 is a diagram for explaining the coupling elongated holes 84A and 84B of the directional coupler waveguide 80 and the microstrip line 82 of the directional coupling circuit board 81. FIG.

図3に示すように、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84Bは、方向性結合器用導波管80の長手方向に沿って所定の距離L1で離間されている。方向性結合回路基板81の探針83A、83Bも同様、上記の距離L1で離間されており、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84Bを通して方向性結合器用導波管80内部の導波空間に突出し、方向性結合器用導波管80内を伝搬する入射マイクロ波及び反射マイクロ波の各々の一部をマイクロストリップライン82に伝送する。本実施の形態においては、マイクロ波電力を検出可能な検出器86がマイクロストリップライン82の結合点Xに接続されており、マイクロストリップライン82の結合点Xを介して出力されるマイクロ波電力を検出可能となっている。   As shown in FIG. 3, the coupling elongated holes 84 </ b> A and 84 </ b> B of the directional coupler waveguide 80 are separated by a predetermined distance L <b> 1 along the longitudinal direction of the directional coupler waveguide 80. Similarly, the probes 83A and 83B of the directional coupling circuit board 81 are also separated by the distance L1, and the inside of the directional coupler waveguide 80 is passed through the coupling elongated holes 84A and 84B of the directional coupler waveguide 80. A part of each of the incident microwave and the reflected microwave propagating into the waveguide space 80 and propagating in the directional coupler waveguide 80 is transmitted to the microstrip line 82. In the present embodiment, a detector 86 capable of detecting microwave power is connected to the coupling point X of the microstrip line 82, and the microwave power output via the coupling point X of the microstrip line 82 is detected. It can be detected.

マイクロストリップライン82は、探針83Aの先端P1から結合点Xまでに至る第1の伝送経路と、探針83Bの先端P3から結合点Xまでに至る第2の伝送経路と、を有しており、第1、第2の伝送経路上の各々には、振幅減衰手段である減衰器85A、85Bが介在されている。減衰器85A、85Bの各々は、お互いに独立して減衰量を設定することができ、それぞれが配置された第1、第2の伝送経路上を伝送される入射マイクロ波や反射マイクロ波の振幅を設定された減衰量に従って減衰させるものである。さらに、マイクロストリップライン82の形状は、マイクロストリップライン82の第1の伝送経路が所定の距離L2を有し、第2の伝送経路が所定の距離L3を有するように形成されている。   The microstrip line 82 has a first transmission path from the tip P1 of the probe 83A to the coupling point X, and a second transmission path from the tip P3 of the probe 83B to the coupling point X. In each of the first and second transmission paths, attenuators 85A and 85B as amplitude attenuating means are interposed. Each of the attenuators 85A and 85B can set the attenuation amount independently of each other, and the amplitudes of incident microwaves and reflected microwaves transmitted on the first and second transmission paths on which the respective attenuators are disposed. Is attenuated according to the set attenuation amount. Further, the shape of the microstrip line 82 is formed such that the first transmission path of the microstrip line 82 has a predetermined distance L2 and the second transmission path has a predetermined distance L3.

減衰器85A、85Bとしては、例えば、3つのチップ抵抗から構成すれば良い。図3に示すように、減衰器85Aは3つのチップ抵抗R11、R12、R13がπ型に接続され構成されており、減衰器85Bは3つのチップ抵抗R21、R22、R23がπ型に接続され構成されている。減衰器85A、85Bは、各々を構成するチップ抵抗R11、R12、R13、R21、R22、R23の抵抗値を変化させることにより所望の減衰量を実現することができる。なお、減衰器85A、85Bの減衰量間に必要とされる条件については後述する。   For example, the attenuators 85A and 85B may be constituted by three chip resistors. As shown in FIG. 3, the attenuator 85A has three chip resistors R11, R12, and R13 connected in a π-type, and the attenuator 85B has three chip resistors R21, R22, and R23 connected in a π-type. It is configured. The attenuators 85A and 85B can realize a desired attenuation amount by changing the resistance values of the chip resistors R11, R12, R13, R21, R22, and R23 constituting each of the attenuators 85A and 85B. The conditions required between the attenuation amounts of the attenuators 85A and 85B will be described later.

ここで、方向性結合器用導波管80内を伝搬する入射マイクロ波のうち探針83Aを通してマイクロストリップライン82に伝送される入射マイクロ波は、探針83Aの先端P1から位置P2を経由して結合点Xに至る第1の行路を取る。そして、その第1の行路の行路長はL2である。また、探針83Bを通してマイクロストリップライン82に伝送される入射マイクロ波は、探針83Aの先端P1を基準とした場合、探針83Aの先端P1から方向性結合器用導波路80内部を伝搬して探針83Bの先端P3に到達し、先端P3を経由して結合点Xに至る第2の行路を取る。そして、その第2の行路の行路長はL1+L3である。   Here, of the incident microwaves propagating in the waveguide 80 for the directional coupler, the incident microwaves transmitted to the microstrip line 82 through the probe 83A are transmitted from the tip P1 of the probe 83A via the position P2. Take the first path to the connection point X. The path length of the first path is L2. Further, the incident microwave transmitted to the microstrip line 82 through the probe 83B propagates through the directional coupler waveguide 80 from the tip P1 of the probe 83A when the tip P1 of the probe 83A is used as a reference. A second path is reached which reaches the tip P3 of the probe 83B and reaches the coupling point X via the tip P3. The path length of the second path is L1 + L3.

一方、方向性結合器用導波管80内を伝搬する反射マイクロ波のうち探針83Bを通してマイクロストリップライン82に伝送される反射マイクロ波は、探針83Bの先端P3から結合点Xに至る第3の行路を取る。そして、その第3の行路の行路長はL3である。また、探針83Aを通してマイクロストリップライン82に伝送される反射マイクロ波は、探針83Bの先端P3を基準とした場合、探針83Bの先端P3から方向性結合器用導波路80内部を伝搬して探針83Aの先端P1に到達し、先端P1、位置P2を経由して結合点Xに至る第4の行路を取る。そして、その第4の行路の行路長はL1+L2である。   On the other hand, of the reflected microwaves propagating in the waveguide 80 for the directional coupler, the reflected microwaves transmitted to the microstrip line 82 through the probe 83B are the third from the tip P3 of the probe 83B to the coupling point X. Take the journey. The path length of the third path is L3. Further, the reflected microwave transmitted to the microstrip line 82 through the probe 83A propagates through the directional coupler waveguide 80 from the tip P3 of the probe 83B when the tip P3 of the probe 83B is used as a reference. A fourth path is reached which reaches the tip P1 of the probe 83A and reaches the coupling point X via the tip P1 and the position P2. The path length of the fourth path is L1 + L2.

次に、上記の距離L1、L2、L3間に必要とされる条件及び減衰器85A、85Bの減衰量間に必要とされる条件ついて説明する。本実施の形態に係る方向性結合器10においては、方向性結合器用導波管80を伝搬する反射マイクロ波の電力を検出すること無く、入射マイクロ波の電力を検出するため、上記の距離L1、L2、L3及び減衰器85A、85Bの減衰量は、以下に述べる条件を満足する。なお、方向性結合器用導波管80を伝搬する入射マイクロ波及び反射マイクロ波の波長は共にλとする。   Next, the condition required between the distances L1, L2, and L3 and the condition required between the attenuation amounts of the attenuators 85A and 85B will be described. In the directional coupler 10 according to the present embodiment, since the power of the incident microwave is detected without detecting the power of the reflected microwave propagating through the waveguide 80 for the directional coupler, the distance L1 described above is used. , L2, L3 and the attenuations of the attenuators 85A, 85B satisfy the conditions described below. The wavelengths of the incident microwave and the reflected microwave propagating in the directional coupler waveguide 80 are both λ.

まず、反射マイクロ波におけるマイクロストリップライン82の結合点Xに至る行路としては、上述したように、上記の第3の行路、第4の行路が挙げられる。そして、第3の行路の行路長がL3、第4の行路の行路長がL1+L2である。ここで、第3の行路、第4の行路の行路長差が(2n−1)λ/2であり、且つ、第3の行路、第4の行路上の各々を伝送される反射マイクロ波の振幅が等しければ、各々を伝送される反射マイクロ波が互いに打ち消し合い、結合点Xにおいて反射マイクロ波が出力されない。すなわち、反射マイクロ波において必要とされる条件としては次の2つである。
(1)第3の行路の行路長L3と第4の行路の行路長L1+L2との行路長差は(2n−1)λ/2(nは整数)である、すなわち、第3の行路、第4の行路上の各々を伝送される反射マイクロ波は逆相である。
(2)第3の行路、第4の行路上の各々を伝送される反射マイクロ波の振幅は等しい。
First, as described above, the path to the coupling point X of the microstrip line 82 in the reflected microwave includes the third path and the fourth path. The path length of the third path is L3, and the path length of the fourth path is L1 + L2. Here, the path length difference between the third path and the fourth path is (2n−1) λ / 2, and the reflected microwaves transmitted through the third path and the fourth path are respectively If the amplitudes are equal, the reflected microwaves transmitted through each other cancel each other, and no reflected microwave is output at the coupling point X. That is, the following two conditions are required for the reflected microwave.
(1) The path length difference between the path length L3 of the third path and the path length L1 + L2 of the fourth path is (2n−1) λ / 2 (n is an integer), that is, the third path, The reflected microwaves transmitted on each of the four paths are out of phase.
(2) The amplitudes of the reflected microwaves transmitted through the third path and the fourth path are equal.

上記の(2)の条件は、減衰器85A、85Bの減衰量を別途独立に調節することにより満足させることができる。   The above condition (2) can be satisfied by separately adjusting the attenuation amounts of the attenuators 85A and 85B.

次に、入射マイクロ波におけるマイクロストリップライン82の結合点Xに至る行路としては、上述したように、上記の第1の行路、第2の行路が挙げられる。そして、第1の行路の行路長がL2、第2の行路の行路長がL1+L3である。ここで、第1の行路、第2の行路の行路長差が少なくとも(2n−1)λ/2を満足しなければ、各々を伝送される入射マイクロ波同士が互いに打ち消しあうことは無く、結合点Xにおいて入射マイクロ波は出力される。すなわち、入射マイクロ波において必要とされる条件としては次の通りである。
(3)第1の行路の行路長L2と第2の行路の行路長L1+L3との行路長差は(2n−1)λ/2(nは整数)ではない。
Next, as the path to the coupling point X of the microstrip line 82 in the incident microwave, as described above, the first path and the second path described above can be cited. The path length of the first path is L2, and the path length of the second path is L1 + L3. Here, if the path length difference between the first path and the second path does not satisfy at least (2n−1) λ / 2, the incident microwaves transmitted through the first path and the second path do not cancel each other and are coupled. At point X, the incident microwave is output. That is, the conditions required for incident microwaves are as follows.
(3) The path length difference between the path length L2 of the first path and the path length L1 + L3 of the second path is not (2n−1) λ / 2 (n is an integer).

上記の(3)の条件としては、例えば、第1の行路の行路長L2と第2の行路の行路長L1+L3との行路長差をnλ(nは整数)とすれば良い。この場合、第1の行路、第2の行路上の各々を伝送される入射マイクロ波は同相となり、結合点Xにおいて出力される入射マイクロ波の振幅は方向性結合器用導波管80を伝搬する入射マイクロ波よりも大きくなり、その結果、方向性結合器10の結合度は向上する。   As the condition (3) above, for example, the path length difference between the path length L2 of the first path and the path length L1 + L3 of the second path may be nλ (n is an integer). In this case, the incident microwaves transmitted through the first path and the second path are in phase, and the amplitude of the incident microwave output at the coupling point X propagates through the directional coupler waveguide 80. As a result, the coupling degree of the directional coupler 10 is improved.

例えば、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84B間の距離L1がλ/4、マイクロストリップライン82の第1の伝送経路の距離L2と第2の伝送経路の距離L3との差がλ/4である場合、第3の行路の行路長L3と第4の行路L1+L2との行路長差はλ/2となり、第3の行路、第4の行路上の各々を伝送される反射マイクロ波は逆相となる。一方、第1の行路の行路長L2と第2の行路の行路長L1+L3との行路長とは等しくなり、第1の行路、第2の行路上の各々を伝送される入射マイクロ波は同相となる。   For example, the distance L1 between the coupling elongated holes 84A and 84B of the waveguide 80 for directional coupler is λ / 4, and the distance L2 of the first transmission path and the distance L3 of the second transmission path of the microstrip line 82 When the difference is λ / 4, the path length difference between the path length L3 of the third path and the fourth path L1 + L2 is λ / 2, and is transmitted through the third path and the fourth path, respectively. The reflected microwave is out of phase. On the other hand, the path length of the path length L2 of the first path and the path length L1 + L3 of the second path is equal, and the incident microwaves transmitted through the first path and the second path are in phase. Become.

検出器86は、マイクロストリップライン82の結合点Xを介して出力される入射マイクロ波電力を検出し、その検出結果をマイクロ波発生装置20の装置本体部21に出力する。装置本体部21は、その検出結果に基づいてマイクロ波発生源を制御し、マイクロ波発生源から発生されるマイクロ波の出力を安定化させる。   The detector 86 detects the incident microwave power output via the coupling point X of the microstrip line 82 and outputs the detection result to the device main body 21 of the microwave generator 20. The apparatus main body 21 controls the microwave generation source based on the detection result, and stabilizes the output of the microwave generated from the microwave generation source.

次に、方向性結合回路基板81の具体的構造について説明する。図4は、方向性結合回路基板81の概略構成を示す平面図である。図4に示す方向性結合回路基板81においては、マイクロストリップライン82が結合点Xにおいて分岐されており、一方の分岐経路(第1の伝送経路)の先には探針83Aが接続され、他方の分岐経路(第2の伝送経路)の先には探針83Bが接続されている。具体的には、マイクロストリップライン82を構成する3つのマイクロストリップライン82A、82B、82Cの各々の一端が結合点Xにおいて結合されている。第1の伝送経路であるマイクロストリップライン82Aは、その他端に接続された探針83Aを通して取り込まれるマイクロ波を結合点Xに伝送するためのものであり、第2の伝送経路であるマイクロストリップライン82Bは、その他端に接続された探針83Bを通して取り込まれるマイクロ波を結合点Xに伝送するためのものである。第1及び第2の伝送経路上の各々を伝送されるマイクロ波は結合点Xにおいて合成され、その合成されたマイクロ波は第3の伝送経路であるマイクロストリップライン82C上を伝送され、検出器86に出力される。   Next, a specific structure of the directional coupling circuit board 81 will be described. FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of the directional coupling circuit board 81. In the directional coupling circuit board 81 shown in FIG. 4, the microstrip line 82 is branched at the coupling point X, the probe 83A is connected to the tip of one branch path (first transmission path), and the other A probe 83B is connected to the tip of the second branch path (second transmission path). Specifically, one end of each of the three microstrip lines 82A, 82B, and 82C constituting the microstrip line 82 is coupled at the coupling point X. The microstrip line 82A serving as the first transmission path is for transmitting the microwave taken through the probe 83A connected to the other end to the coupling point X, and the microstrip line serving as the second transmission path. 82B is for transmitting the microwave taken in through the probe 83B connected to the other end to the coupling point X. The microwaves transmitted on each of the first and second transmission paths are combined at the coupling point X, and the combined microwaves are transmitted on the microstrip line 82C, which is the third transmission path, and the detector. 86.

マイクロストリップライン82A、82Bの各々の経路上には、各々の経路上を伝送されるマイクロ波をあらかじめ設定された減衰量だけ減衰させる減衰器85A、85Bが介在されている。減衰器85Aは、3つのチップ抵抗R11、R12、R13がπ型に接続され構成されており、減衰器85Bは3つのチップ抵抗R21、R22、R23がπ型に接続され構成されている。マイクロストリップライン82A、82Bの近傍にはグランドライン87が配置されており、減衰器85A、85Bを構成するチップ抵抗R12、R13、R22、R23がグランドライン87を通して接地されている。   Attenuators 85A and 85B are provided on each path of the microstrip lines 82A and 82B. The attenuators 85A and 85B attenuate the microwaves transmitted on the paths by a preset attenuation amount. The attenuator 85A is configured by connecting three chip resistors R11, R12, and R13 in a π type, and the attenuator 85B is configured by connecting three chip resistors R21, R22, and R23 in a π type. A ground line 87 is disposed in the vicinity of the microstrip lines 82A and 82B, and chip resistors R12, R13, R22, and R23 constituting the attenuators 85A and 85B are grounded through the ground line 87.

上述したように、減衰器85A、85Bは探針83A、83Bから伝送されるマイクロ波電力の振幅を減衰させる効果を有しているが、さらに次のような効果も有している。図4に示す複数のマイクロストリップライン82A、82B、82Cが結合する結合点Xにおいては伝送経路の特性インピーダンスが変化しており、このため、探針83A、探針83Bからマイクロストリップライン82A、82B上を伝送されるマイクロ波の一部は結合点Xにおいて反射し、再び、マイクロストリップライン82A、82B上を伝送されて探針83A、探針83B側に戻ってしまう。さらに、探針83A、83B側に戻されたマイクロ波の一部はマイクロストリップライン82A、82Bの他端で反射し、再び、結合点X側に伝送されることになる。ここで、仮に、減衰器85A、85Bが存在しない場合を考えてみる。上記のように反射が繰り返されると、本来マイクロストリップライン82A、82B上を伝送されるべきマイクロ波に上記のような反射による反射波が加わってしまい、探針83A、83Bから取り込まれるマイクロ波を正確に検出することが困難となる。   As described above, the attenuators 85A and 85B have the effect of attenuating the amplitude of the microwave power transmitted from the probes 83A and 83B, but also have the following effects. The characteristic impedance of the transmission path changes at the coupling point X where the plurality of microstrip lines 82A, 82B, and 82C shown in FIG. 4 are coupled. For this reason, from the probe 83A and the probe 83B to the microstrip lines 82A and 82B. A part of the microwave transmitted above is reflected at the coupling point X, transmitted again on the microstrip lines 82A and 82B, and returned to the probe 83A and probe 83B side. Further, a part of the microwaves returned to the probe 83A, 83B side is reflected by the other end of the microstrip lines 82A, 82B and transmitted again to the coupling point X side. Here, let us consider a case where the attenuators 85A and 85B are not present. When the reflection is repeated as described above, the reflected wave due to the reflection as described above is added to the microwave that should be transmitted on the microstrip lines 82A and 82B, and the microwave taken in from the probes 83A and 83B is changed. It becomes difficult to detect accurately.

一方、本実施の形態においては、マイクロストリップライン82A、82Bの各々の経路上に減衰器85A、85Bが介在されており、減衰器85A、85Bは、このような反射による反射波を減衰させることができる。したがって、検出器86により検出される結合点Xにおけるマイクロ波電力の出力に上記のような反射波による影響が及ぶことも同時に抑制することができる。   On the other hand, in the present embodiment, attenuators 85A and 85B are interposed on the respective paths of the microstrip lines 82A and 82B, and the attenuators 85A and 85B attenuate the reflected waves caused by such reflection. Can do. Therefore, the influence of the reflected wave as described above on the output of the microwave power at the coupling point X detected by the detector 86 can be suppressed at the same time.

次に、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84Bの形状及びその形状に起因する効果について説明する。図5は、方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84Bを上から見た図である。上述したように、結合長穴84A、84Bの形状は点Oを中心点とする円弧形状を有しており、探針83A、84Bは結合長穴84A、84Bに誘導されて時計方向に移動可能である。点Oは、探針83A、84B間を結ぶ線分上の中点である。   Next, the shape of the coupling long holes 84A and 84B of the waveguide 80 for directional coupler and the effects resulting from the shape will be described. FIG. 5 is a view of the coupling elongated holes 84A and 84B of the directional coupler waveguide 80 as viewed from above. As described above, the coupling elongated holes 84A and 84B have an arc shape centered on the point O, and the probes 83A and 84B are guided by the coupling elongated holes 84A and 84B and can move in the clockwise direction. It is. Point O is a midpoint on a line segment connecting the probes 83A and 84B.

ここで、図5に示すように回転角θを設定する。回転角θが0度の場合、探針83Aと探針83Bとの間の距離はL1である。一方、回転角θが大きくなるに従ってその距離は徐々に小さくなっていく。つまり、回転角θにおける探針83Aと探針83Bとの間の距離L1’はL1cosθであり、回転角θを変化させることにより探針83Aと探針83Bとの間の距離を変化させることができる。図6に、回転角θと探針83Aと探針83Bとの間の距離の短縮率との関係を示す。図6に示すように、回転角θの増加に従って短縮率が低下していくことが分かる。なお、短縮率は、回転角θが0度の場合における距離に対する回転後の距離の比である。   Here, the rotation angle θ is set as shown in FIG. When the rotation angle θ is 0 degree, the distance between the probe 83A and the probe 83B is L1. On the other hand, the distance gradually decreases as the rotation angle θ increases. That is, the distance L1 ′ between the probe 83A and the probe 83B at the rotation angle θ is L1 cos θ, and the distance between the probe 83A and the probe 83B can be changed by changing the rotation angle θ. it can. FIG. 6 shows the relationship between the rotation angle θ and the shortening rate of the distance between the probe 83A and the probe 83B. As shown in FIG. 6, it can be seen that the shortening rate decreases as the rotation angle θ increases. The shortening rate is the ratio of the distance after rotation to the distance when the rotation angle θ is 0 degree.

一方、上述したように、本実施の形態に係る方向性結合回路基板81においては、上記の距離L1、L2、L3間に必要とされる条件を満足することが要求されている。ところで、上記の距離L1、L2、L3の各々の値には、通常、方向性結合回路基板81の設計時における設計誤差や長期使用後における経時誤差が含まれてしまう。このため、実際の使用時には、上述した第1の行路の行路長や、第2の行路の行路長等の行路長の微調整が無ければ、上述した条件を完全に満足させることは困難である場合が多い。そこで、本実施の形態では、探針83Aと探針83Bとの間の距離、すなわち、上記のL1の長さを可変とすることにより、上述した第1の行路の行路長や、第2の行路の行路長等の行路長の微調整を可能とし、そうすることにより、上記の距離L1、L2、L3間に必要とされる条件を完全に満たすことができ、その結果、方向性結合器10の方向性を向上させることができる。   On the other hand, as described above, the directional coupling circuit board 81 according to the present embodiment is required to satisfy the conditions required between the distances L1, L2, and L3. By the way, each value of the distances L1, L2, and L3 usually includes a design error at the time of designing the directional coupling circuit board 81 and a temporal error after long-term use. For this reason, in actual use, it is difficult to completely satisfy the above-described conditions without fine adjustment of the path length such as the path length of the first path and the path length of the second path. There are many cases. Therefore, in the present embodiment, by changing the distance between the probe 83A and the probe 83B, that is, the length of the L1, the path length of the first path described above, The path length such as the path length of the path can be finely adjusted, and by doing so, the conditions required between the distances L1, L2, and L3 can be completely satisfied, and as a result, the directional coupler The directionality of 10 can be improved.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、下記の実施の形態を取ることができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, For example, the following embodiment can be taken.

上記の実施の形態に係る方向性結合回路基板81においては、マイクロストリップライン82の第1の伝送経路、第2の伝送経路の各々に減衰器85A、85Bを介在させたが、第1の伝送経路、第2の伝送経路のいずれか一方だけに減衰器を介在させるようにしても良い。   In the directional coupling circuit board 81 according to the above-described embodiment, the attenuators 85A and 85B are interposed in the first transmission path and the second transmission path of the microstrip line 82, respectively. An attenuator may be interposed only in one of the path and the second transmission path.

本発明に係る方向性結合器及びそれを用いたプラズマ発生装置は、半導体ウェハ等の半導体基板に対するエッチング処理装置や成膜装置、プラズマディスプレイパネル等のガラス基板やプリント基板の清浄化処理装置、医療機器等に対する滅菌処理装置、タンパク質の分解装置等に好適に適用することができる。   A directional coupler and a plasma generator using the same according to the present invention include an etching processing apparatus and a film forming apparatus for a semiconductor substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate or printed substrate cleaning processing apparatus such as a plasma display panel, and a medical device. The present invention can be suitably applied to a sterilization apparatus for equipment and the like, a protein decomposition apparatus, and the like.

本発明の実施の形態に係るプラズマ発生装置の全体構成を示す一部透視側面図である。It is a partially transparent side view which shows the whole structure of the plasma generator which concerns on embodiment of this invention. 本実施の形態に係る方向性結合器10の構成を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the structure of the directional coupler 10 which concerns on this Embodiment. 方向性結合器用導波管80及び方向性結合回路基板81を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the waveguide 80 for directional couplers, and the directional coupling circuit board 81. FIG. 方向性結合回路基板81の概略構成を示す平面図である。3 is a plan view showing a schematic configuration of a directional coupling circuit board 81. FIG. 方向性結合器用導波管80の結合長穴84A、84Bを上から見た図である。It is the figure which looked at the coupling long holes 84A and 84B of the waveguide 80 for directional couplers from the top. 回転角θと探針83Aと探針83Bとの間の距離の短縮率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between rotation angle (theta) and the shortening rate of the distance between the probe 83A and the probe 83B.

符号の説明Explanation of symbols

10 方向性結合器
11 第1の導波管
11U、12U 上面板
12 第2の導波管
13 第3の導波管
13B 下面板
20 マイクロ波発生装置
21 装置本体部
22 マイクロ波送信アンテナ
30 プラズマ発生部
31 プラズマ発生ノズル
32 導電体
40 スライディングショート
42 反射ブロック
50 サーキュレータ
60 ダミーロード
70 スタブチューナ
70A、70B、70C スタブチューナユニット
71 スタブ
80 方向性結合器用導波管
81 方向性結合回路基板
82、82A、82B、83C マイクロストリップライン
83A、83B 探針
84A、84B 結合長穴
85A、85B 減衰器
86 検出器
87 グランドライン
110、120、130 導波空間
111 貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Directional coupler 11 1st waveguide 11U, 12U Upper surface board 12 2nd waveguide 13 3rd waveguide 13B Lower surface board 20 Microwave generator 21 Apparatus main-body part 22 Microwave transmission antenna 30 Plasma Generator 31 Plasma generating nozzle 32 Conductor 40 Sliding short 42 Reflecting block 50 Circulator 60 Dummy load 70 Stub tuner 70A, 70B, 70C Stub tuner unit 71 Stub 80 Directional coupler waveguide 81 Directional coupling circuit boards 82, 82A , 82B, 83C Microstrip lines 83A, 83B Probes 84A, 84B Coupling elongated holes 85A, 85B Attenuator 86 Detector 87 Ground lines 110, 120, 130 Waveguide space 111 Through hole

Claims (3)

方向性結合回路基板と、
マイクロ波が伝搬する導波管と
を備え、
前記方向性結合回路基板は、基板部と、前記基板部上に配置され、各々の一端同士が接続された第1及び第2の伝送経路と、前記第1及び第2の伝送経路の各々の他端と一対一に対応して接続されており、マイクロ波が伝搬する方向である導波管の長手方向に沿って所定の距離だけ離間して前記導波管内に突出する第1及び第2の探針とを有し、
前記導波管の長手方向における前記第1及び第2の探針間の所定の距離L1と前記第1の探針の突出長を含めた前記第1の伝送経路の経路長L2との和L1+L2と、前記第2の探針の突出長を含めた前記第2の伝送経路の経路長L3との差は、(2n−1)λ/2(n:整数、λ:マイクロ波の波長)に一致し、前記所定の距離L1と前記第2の伝送経路の経路長L3との和L1+L3と、前記第1の伝送経路の経路長L2との差は、(2n−1)λ/2に一致しないでおり、
前記導波管は、前記方向性結合回路基板の前記第1及び第2の探針の各々に一対一に対応し、前記第1及び第2の探針を前記導波管内に突出させる第1及び第2の結合長穴が形成された側面部を有し、
前記第1及び第2の結合長穴は前記第1及び第2の探針間を結ぶ線分上の中点を中心とする円弧形状を持っており、前記第1及び第2の探針が前記第1及び第2の結合長穴に誘導されて移動することにより前記所定の距離L1が変化することを特徴とする方向性結合器。
A directional coupling circuit board;
A waveguide through which microwaves propagate,
The directional coupling circuit board includes a board part, first and second transmission paths arranged on the board part, each end of which is connected to each other, and each of the first and second transmission paths. A first and a second are connected to the other end in a one-to-one correspondence, and protrude into the waveguide at a predetermined distance along the longitudinal direction of the waveguide, which is the direction in which the microwave propagates. A probe and
The sum L1 + L2 of the predetermined distance L1 between the first and second probes in the longitudinal direction of the waveguide and the path length L2 of the first transmission path including the protruding length of the first probe And the path length L3 of the second transmission path including the protruding length of the second probe is (2n-1) λ / 2 (n: integer, λ: wavelength of microwave) And the difference between the sum L1 + L3 of the predetermined distance L1 and the path length L3 of the second transmission path and the path length L2 of the first transmission path is equal to (2n-1) λ / 2 Do not
The waveguide corresponds to each of the first and second probes on the directional coupling circuit board on a one-to-one basis, and the first and second probes protrude into the waveguide. And a side surface portion on which a second coupling slot is formed,
The first and second coupling elongated holes have an arc shape centering on a midpoint on a line segment connecting the first and second probes, and the first and second probes are The directional coupler is characterized in that the predetermined distance L1 is changed by being guided and moved by the first and second coupling elongated holes.
前記方向性結合回路基板はさらに、前記第1及び第2の伝送経路上のうちの少なくとも一方に介在され、前記第1及び第2の伝送経路の接続点における前記第1及び第2の伝送経路上の各々を伝搬するマイクロ波の振幅が略一致するように設定された減衰量を持つ振幅減衰手段を有することを特徴とする請求項1に記載の方向性結合器。   The directional coupling circuit board is further interposed on at least one of the first and second transmission paths, and the first and second transmission paths at a connection point of the first and second transmission paths. 2. The directional coupler according to claim 1, further comprising amplitude attenuating means having an attenuation amount set so that the amplitudes of the microwaves propagating through each of the microwaves substantially coincide with each other. マイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、
前記マイクロ波発生手段が発生させる前記マイクロ波を受信し、当該マイクロ波のエネルギーを用いてプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、
前記マイクロ波発生手段と前記プラズマ発生手段との間に配置された前記導波管を伝搬するマイクロ波の一部の電力を取り出す、請求項1または2に記載の方向性結合器と、
前記方向性結合器により取り出された電力を検出し、当該検出結果を前記マイクロ波発生手段に出力する検出器と
を備え、
前記マイクロ波発生手段は、前記検出器から出力された前記検出結果に基づき、自身が発生させるマイクロ波の出力を制御することを特徴とするプラズマ発生装置。
Microwave generation means for generating microwaves;
Plasma generating means for receiving the microwave generated by the microwave generating means and generating plasma using energy of the microwave;
The directional coupler according to claim 1 or 2, wherein a part of the microwave propagating through the waveguide disposed between the microwave generation unit and the plasma generation unit is extracted.
A detector that detects the electric power extracted by the directional coupler and outputs the detection result to the microwave generation means;
The microwave generation unit controls the output of the microwave generated by itself based on the detection result output from the detector.
JP2008005454A 2008-01-15 2008-01-15 Directional coupler and plasma generator using the same Expired - Fee Related JP4820828B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008005454A JP4820828B2 (en) 2008-01-15 2008-01-15 Directional coupler and plasma generator using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008005454A JP4820828B2 (en) 2008-01-15 2008-01-15 Directional coupler and plasma generator using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009171094A true JP2009171094A (en) 2009-07-30
JP4820828B2 JP4820828B2 (en) 2011-11-24

Family

ID=40971818

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008005454A Expired - Fee Related JP4820828B2 (en) 2008-01-15 2008-01-15 Directional coupler and plasma generator using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4820828B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104604023A (en) * 2013-01-31 2015-05-06 松下知识产权经营株式会社 Directional coupler and microwave heating device equipped with same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5240043A (en) * 1975-09-25 1977-03-28 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Waveguide-type directional coupler
JPS5588405A (en) * 1978-12-26 1980-07-04 Tdk Corp Directional coupler
JPH06132710A (en) * 1992-10-15 1994-05-13 Micro Denshi Kk Directional coupler
JPH10322108A (en) * 1997-05-20 1998-12-04 Nec Corp Waveguide probe attachment adjusting structure
JP2007028387A (en) * 2005-07-20 2007-02-01 Shibaura Mechatronics Corp Microwave directional coupler, plasma generation device and plasma treatment device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5240043A (en) * 1975-09-25 1977-03-28 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Waveguide-type directional coupler
JPS5588405A (en) * 1978-12-26 1980-07-04 Tdk Corp Directional coupler
JPH06132710A (en) * 1992-10-15 1994-05-13 Micro Denshi Kk Directional coupler
JPH10322108A (en) * 1997-05-20 1998-12-04 Nec Corp Waveguide probe attachment adjusting structure
JP2007028387A (en) * 2005-07-20 2007-02-01 Shibaura Mechatronics Corp Microwave directional coupler, plasma generation device and plasma treatment device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104604023A (en) * 2013-01-31 2015-05-06 松下知识产权经营株式会社 Directional coupler and microwave heating device equipped with same
EP2953204A4 (en) * 2013-01-31 2016-02-24 Panasonic Ip Man Co Ltd Directional coupler and microwave heating device equipped with same
US10135107B2 (en) 2013-01-31 2018-11-20 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Directional coupler and microwave heater provided with the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP4820828B2 (en) 2011-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102307953B1 (en) Broadband waveguide launch design on single layer PCB
EP2908379B1 (en) Antenna array system for producing dual polarization signals utilizing a meandering waveguide
JP5486382B2 (en) Two-dimensional slot array antenna, feeding waveguide, and radar apparatus
JP7212638B2 (en) Aperture-matched PCB for waveguide transitions
JP2010141644A (en) Transition structure of dielectric waveguide to microstrip
WO2017163310A1 (en) Waveguide circuit
JP4943328B2 (en) Broadband leaky wave antenna
JP5600359B2 (en) Dual-band microwave radiating element
JP4820828B2 (en) Directional coupler and plasma generator using the same
JP4820829B2 (en) Directional coupler and plasma generator using the same
WO2009090938A1 (en) Directional coupler circuit board, directional coupler, and plasma producing apparatus
JP4468779B2 (en) Microstrip line coupler and design method thereof
CN111052863B (en) Microwave heating device
US10498446B2 (en) Electronic system including waveguide with passive optical elements and related methods
JP6703442B2 (en) Power converter and antenna device including the same
WO2018029846A1 (en) Waveguide strip line transducer and power feed circuit
JP2009139274A (en) High-frequency sensor
JP2019125829A (en) Higher-order mode coupler
KR100845232B1 (en) Circular Polarizer Having Oval Aperture and Feed Horn using that
JP2011193202A (en) Diode limiter device and radar
JPH0758503A (en) Feed horn for circularly polarized wave
KR20010108549A (en) Waveguide directional coupler
KR20050061769A (en) Directional coupler for waveguide
JP2013168830A (en) Waveguide connection structure

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20100810

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110818

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110830

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110905

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140909

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees