JP2009168912A - Method for processing photosensitive material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、感光材料を処理する感光材料処理方法に関するものである。 The present invention relates to a photosensitive material processing method for processing a photosensitive material.
フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料は、画像が露光等の手段により記録された後に、現像液、定着液、安定化液、水洗水等の処理液によって処理される。このような処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ローラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知られている。 Photosensitive materials such as film, photographic paper, and printing plate are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded by means such as exposure. As a processing apparatus for a photosensitive material that performs such processing, the photosensitive material is transported into a processing tank in which processing liquid is stored by a transporting means constituted by a plurality of pairs of transporting rollers, and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. There is known an immersion type processing apparatus that performs processing.
このような浸漬型の処理装置においては、感光材料の処理に伴う処理疲労、或いは大気中の炭酸ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するため、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪いという問題もある。 In such an immersion type processing apparatus, the processing solution deteriorates due to processing fatigue associated with the processing of the photosensitive material or fatigue with time due to carbon dioxide gas or oxygen in the atmosphere. The deterioration of the processing solution is restored. For this reason, the component of the treatment liquid at the start of the treatment is different from the component of the treatment liquid when the treatment is continued thereafter, and it is impossible to perform a strictly uniform treatment. Further, such an immersion type processing apparatus has a problem that the amount of waste liquid of the processing liquid is large and the maintainability of the apparatus is poor.
このような問題点を解消するための感光材料処理装置として、感光材料を処理液中に浸漬するかわりに、感光材料の処理に必要な量の処理液を感光材料の感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処理装置も知られている。例えば、特開昭62−237455号公報(特許文献1)においては、このような塗布方式の処理装置として、複数の処理液吐出口を有する処理液供給ノズルから、その表面に溝を形成すること等によりその表面を粗面化したローラ(以下「塗布ローラ」と呼称する)に処理液を吐出すると共に、この塗布ローラを感光材料と当接して回転させることにより、当該塗布ローラを介して感光材料に処理液を塗布する感光材料処理装置が開示されている。 As a photosensitive material processing device for solving these problems, instead of immersing the photosensitive material in the processing solution, a processing solution is applied to the photosensitive surface of the photosensitive material in an amount necessary for processing the photosensitive material. There is also known a coating type processing apparatus for performing the above. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-237455 (Patent Document 1), as a processing apparatus of such a coating method, a groove is formed on the surface from a processing liquid supply nozzle having a plurality of processing liquid discharge ports. The processing liquid is discharged to a roller whose surface has been roughened by the process (hereinafter referred to as “application roller”), and the application roller is rotated in contact with the photosensitive material, thereby allowing the application roller to pass through the application roller. A photosensitive material processing apparatus for applying a processing solution to a material is disclosed.
このような塗布方式の感光材料処理装置においては、感光材料に処理液を塗布するまでに、塗布ローラとバックアップローラとの間に十分な量の処理液の液溜めが形成されていない場合には、特に感光材料の先端部において、処理液が不足することに起因する処理むらが発生する。 In such a coating type photosensitive material processing apparatus, when a sufficient amount of processing liquid reservoir is not formed between the coating roller and the backup roller before the processing liquid is applied to the photosensitive material. In particular, processing unevenness due to a shortage of processing liquid occurs at the front end of the photosensitive material.
特に、感光材料として、現像の進行が速い銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用する平版印刷版を使用した場合には、上記の問題が特に顕著となるばかりではなく、平版印刷版特有の問題である印刷性能の低下、特に耐刷性が低下するという問題が生ずる。 In particular, when a lithographic printing plate using the silver complex diffusion transfer method (DTR method), which has a fast development progress, is used as the photosensitive material, the above-mentioned problem is not only particularly noticeable, but also specific to the lithographic printing plate. There arises a problem that printing performance, which is a problem, is deteriorated, in particular, printing durability is lowered.
十分な量の処理液の液溜めを形成することにより、感光材料の処理むらを防止する方法は、特許第3421513号公報(特許文献2)に記載されるように、感光材料の先端部分が前記液溜めに到達するまでの塗布ローラへの処理液供給量を、感光材料に処理液を塗布する際の塗布ローラへの設定供給量より多くする方法が提案されている。この処理時の供給量変化は、感光材料の先端部が前記液溜めに到達するまでの処理液循環量を、感光材料が前記液溜め中を通過する際の処理液循環量より多くして、感光材料の先端部が前記液溜めに到達したら所定の処理液循環量に戻すことで実施される。 As described in Japanese Patent No. 3421513 (Patent Document 2), a method for preventing the processing unevenness of the photosensitive material by forming a reservoir of a sufficient amount of processing solution is described above. A method has been proposed in which the amount of processing solution supplied to the coating roller until reaching the liquid reservoir is larger than the set amount of supply to the coating roller when the processing solution is applied to the photosensitive material. The supply amount change at the time of processing is such that the processing liquid circulation amount until the leading end of the photosensitive material reaches the liquid reservoir is larger than the processing liquid circulation amount when the photosensitive material passes through the liquid reservoir, When the front end of the photosensitive material reaches the liquid reservoir, the processing is performed by returning to a predetermined processing solution circulation amount.
しかし、図5の従来の一例を示す吐出口と開口部との関係を示す斜視図に示すように、感光材料Fの幅方向寸法が菊四裁を超える幅方向寸法、具体的には幅方向寸法が約500mm以上になると、感光材料Fの先端部が前記液溜めに到達するまでの塗布ローラ85への処理液供給量を、感光材料Fに処理液を塗布する際の塗布ローラ85への処理液供給量より多くして、その直後から塗布ローラ85への処理液供給量を設定供給量に戻して供給して処理した場合、感光材料Fの幅方向中央部であって前記塗布ローラ85手前に液溜まり部Pを発生させてしまう。該液溜まり部Pは感光材料Fの後端部が前記塗布ローラ85を通過する前に、該後端部から塗布ローラ85手前のガイド91上面に垂れ落ち、塗布ローラ85手前のガイド91が汚れる。そしてその後の経時によりこの汚れCは乾燥固着結晶化して、次の処理を行う際に感光材料Fの先端部がこの汚れC即ち結晶を掬い上げ、その後塗布ローラ85により処理液が塗布されることで現像処理品質が低下するという問題が発生する。これにより現像処理後の感光材料Fに処理むらが発生する。この感光材料Fが印刷版である場合には印刷を行った場合に部分的にかつ筋状に耐刷力が低下するという問題があった。
However, as shown in the perspective view showing the relationship between the discharge port and the opening shown in FIG. 5 as an example of the prior art, the width direction dimension of the photosensitive material F exceeds the Kikushiri, specifically the width direction. When the dimension is about 500 mm or more, the amount of the processing liquid supplied to the
一方、スロットダイ塗布方式により陽極酸化されたアルミニウム支持体を用いた感光材料に現像処理する方法において、部分的な現像性の違いを解消し、感光材料全領域をより均一に処理できる方法として、特開2003−107739号公報(特許文献3)に記載されるように、感光材料の先端から少なくとも80mmまでの現像液の塗布量を設定塗布量に対して1.1倍に増大させる処理方法が提案されている。同じく部分的な現像性の違いを解消する方法として、特開2006−126491号公報(特許文献4)に記載されるように、感光材料の先端から300mm以降の現像液の塗布量を設定塗布量に対して0.8倍以下に減少させる処理方法も提案されている。また特開2005−234437号公報(特許文献5)に記載されるように、感光材料に処理液を前計量塗布する塗布手段後の絞りローラ対が処理液の過剰液を取り除く手段を有する処理装置が提案されているが、前記過剰液を取り除く手段では結晶の発生を防止することができず、感光材料に処理むらが発生し、長時間にわたって安定して使用することが困難であった。
従って、本発明の目的は、塗布方式の感光材料処理方法において、塗布欠陥の無い、長期間現像性が安定して使用可能な感光材料処理方法を提供することにある。特に菊四裁幅以上の感光材料を塗布欠陥が生じること無く安定に処理できる感光材料処理方法を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive material processing method which can be used stably for a long period of time without any coating defects in a coating type photosensitive material processing method. In particular, it is an object of the present invention to provide a photosensitive material processing method capable of stably processing a photosensitive material having a width equal to or greater than Kikushiki without causing coating defects.
本発明の上記目的は、以下の感光材料処理方法によって達成された。
1.感光材料の感光面側に配設されその表面が粗面化された塗布ローラと、感光材料の感光面と反対側に配設され前記塗布ローラに当接するバックアップローラと、前記塗布ローラに処理液を供給する処理液供給部を少なくとも有する感光材料処理装置を用い、前記塗布ローラと前記バックアップローラとの間に形成された液溜めに感光材料を通過させることにより感光材料に処理液を塗布する感光材料処理方法において、感光材料の先端部が液溜めに到達した時点の処理液供給量が設定供給量であり、感光材料の先端部が液溜めに到達するまでの処理液供給量は設定供給量よりも多い量を供給し、感光材料の先端部が前記液溜めに到達した後、感光材料の搬送に伴い、処理液供給量を連続的に減少させることを特徴とする感光材料処理方法。
The above object of the present invention has been achieved by the following photosensitive material processing method.
1. A coating roller disposed on the photosensitive surface side of the photosensitive material and having a roughened surface, a backup roller disposed on the opposite side of the photosensitive surface of the photosensitive material and in contact with the coating roller, and a processing liquid on the coating roller A photosensitive material processing apparatus having at least a processing liquid supply unit for supplying the photosensitive material, and applying the processing liquid to the photosensitive material by passing the photosensitive material through a liquid reservoir formed between the coating roller and the backup roller. In the material processing method, the processing liquid supply amount when the leading end of the photosensitive material reaches the liquid reservoir is the set supply amount, and the processing liquid supply amount until the leading end of the photosensitive material reaches the liquid reservoir is the set supply amount. A method for processing a photosensitive material, comprising: supplying a larger amount, and continuously reducing the supply amount of processing liquid as the photosensitive material is conveyed after the leading end of the photosensitive material reaches the liquid reservoir.
本発明の感光材料処理方法により、塗布欠陥の無い、長期間安定した現像性が可能となる。とりわけ、菊四裁幅以上の感光材料を塗布欠陥が生じること無く長期間安定して現像処理することができる。 The photosensitive material processing method of the present invention enables stable developability for a long period of time without application defects. In particular, it is possible to stably develop a photosensitive material having a width equal to or greater than the four-way width without causing coating defects.
本発明の感光材料処理方法は、後述の銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用した平版印刷版や、特開平07−20629号公報、特開2000−089452号公報、特開2001−272778号公報等に記載される重合性の感光層を有する平版印刷版、感光性ハロゲン化銀乳剤層を1層以上有してなる白黒印画紙、カラー印画紙等の公知のハロゲン化銀感光材料の現像処理に好適である。銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第3,728,114号明細書、米国特許第4,134,769号明細書、米国特許第4,160,670号明細書、米国特許第4,336,321号明細書、米国特許第4,501,811号明細書、米国特許第4,510,228号明細書、米国特許第4,621,041号明細書等に記載されている。露光されたハロゲン化銀はDTR現像により化学現像を生起し黒色の銀となり親水性の非画線部を形成し、一方、未露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の銀塩錯化剤により銀錯体となって表面の物理現像核層まで拡散し、核の存在により物理現像を生起してインキ受容性の物理現像銀を主体とする画線部を形成する。このような銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版は、上記重合性の感光層を有する平版印刷版や白黒印画紙等の感光材料と比べて特に現像初期の段階において銀錯体が移動しやすく、現像の進行が速いことから現像液の供給量のむらに起因する現像むらが生じやすいという特性を有するため、本発明の課題が顕著に表れる。 The light-sensitive material processing method of the present invention includes a lithographic printing plate using a silver complex diffusion transfer method (DTR method) described later, JP-A-07-20629, JP-A-2000-089452, and JP-A-2001-272778. Development of a known silver halide photosensitive material such as a lithographic printing plate having a polymerizable photosensitive layer, a black and white photographic paper having at least one photosensitive silver halide emulsion layer, and a color photographic paper Suitable for processing. A lithographic printing plate using the silver complex diffusion transfer method (DTR method), particularly a lithographic printing plate having a physical development nucleus layer on a silver halide emulsion layer is disclosed in, for example, US Pat. No. 3,728,114. US Pat. No. 4,134,769, US Pat. No. 4,160,670, US Pat. No. 4,336,321, US Pat. No. 4,501,811, US It is described in Japanese Patent No. 4,510,228 and US Pat. No. 4,621,041. The exposed silver halide undergoes chemical development by DTR development to form black silver to form a hydrophilic non-image area, while unexposed silver halide crystals are formed by a silver salt complexing agent in the developer. It becomes a silver complex and diffuses to the physical development nucleus layer on the surface, and physical development is caused by the presence of the nucleus to form an image area mainly composed of ink-accepting physical development silver. A lithographic printing plate using such a silver complex diffusion transfer method (DTR method) is a silver complex particularly in the initial stage of development as compared with a lithographic printing plate having a polymerizable photosensitive layer and a photosensitive material such as black and white photographic paper. The problem of the present invention is remarkably exhibited because it has a characteristic that uneven development tends to occur due to unevenness in the supply amount of the developer because the development proceeds quickly and development progresses quickly.
本発明の感光材料処理方法を銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用する平版印刷版の現像処理に適用した例を挙げ、以下、本発明に係る実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明に用いる製版装置の一例を示す概要図である。図2は本発明に用いる現像処理装置の現像液塗布機構の一例を示す概要図である。図3は本発明に用いる現像処理装置の現像液塗布機構における吐出口と開口部との関係を示す斜視図である。 An example in which the light-sensitive material processing method of the present invention is applied to development processing of a lithographic printing plate using a silver complex diffusion transfer method (DTR method) will be described below, and embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a plate making apparatus used in the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a developer application mechanism of the development processing apparatus used in the present invention. FIG. 3 is a perspective view showing the relationship between the discharge port and the opening in the developer application mechanism of the development processing apparatus used in the present invention.
本発明の感光材料処理方法について説明する。図1において、露光装置7により画像を記録された平版印刷版Mの先端部が、導入ガイド10を通って感光材料処理装置9に進入し、一対の導入ローラ11、12によって搬送され、後述する現像液塗布機構5により、平版印刷版Mの現像処理に必要な量の現像液が塗布される。現像処理に必要な量の現像液を塗布された平版印刷版Mは、現像液塗布機構5から一対の絞りローラ15、16に至る空間現像部を搬送される間に、その感光面において現像処理が行われる。そして、平版印刷版Mに付着している現像処理に供された現像液は、一対の絞りローラ15、16により除去される。続いて、一対の導入ローラ17、18と安定槽内の搬送ガイド24に沿って、平版印刷版Mを搬送させるガイドローラ19、22と一対の絞りローラ20、21を有する安定液が貯留された安定槽23において平版印刷版Mは安定液による浸漬処理が行われる。そして、安定処理の終了した平版印刷版Mは、乾燥部3に搬送され、ファン25及びヒータ26を有し平版印刷版Mに温風を吹き付けて乾燥する乾燥機構6により乾燥処理されて排出される。
The photosensitive material processing method of the present invention will be described. In FIG. 1, the leading end portion of the lithographic printing plate M on which an image is recorded by the exposure device 7 enters the photosensitive material processing device 9 through the
次に現像液塗布機構5を図1により説明する。現像液塗布機構5は、現像液を貯留する現像液タンク48とポンプ51が接続された配管54を介して接続されている。また、現像液塗布機構5の下方には回収トレイ40が設置されている。現像液タンク48内の現像液は配管54を介してポンプ51により現像液塗布機構5に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平版印刷版Mに塗布されなかった現像液は、回収トレイ40上に滴下する。この現像液は、再使用が可能なため、回収トレイ40の下端部に設けられた回収管44を介して現像液タンク48内に回収される。現像液タンク48には、パネルヒータ50が内蔵されており、現像液タンク48と現像液塗布機構5を含む現像液の循環路中を循環する現像液を所定の温度に維持するように構成されている。
Next, the
尚、現像液を現像液タンク48から配管54を介して現像液塗布機構5へ圧送するポンプ51としては、例えばその駆動モータに印加するパルス電圧のパルス幅を変化させるか、駆動モータの回転速度を変更することにより、現像液の吐出量を変更することのできる吐出量可変型のポンプが使用されている。このようなポンプとしては、例えば、ペリスタルティックポンプやベローズポンプやダイヤフラムポンプ或いはオシレーティングポンプ等を使用することができる。
As the
一方、一対の絞りローラ15、16の下方には回収トレイ41が設置されている。一対の絞りローラ15、16によって平版印刷版Mから除去された疲労現像液は、回収トレイ41上に滴下する。そして、更にこの現像液は、再使用できないため、回収トレイ41の下端部に設けられた回収管45を介して排液タンク55に排出される。
On the other hand, a collection tray 41 is installed below the pair of squeezing
現像液塗布機構5は、図2に示すように、処理液供給部111(その下方に複数の吐出口101が穿設された現像液供給管102と、その下端部に現像液を流下させるための複数の開口部103を穿設した現像液受け部104と、現像液受け部104の開口部103から流下した現像液を平版印刷版Mと当接して回転する表面が粗面化された塗布ローラ105に案内するための拡散フィルム106と、表面が粗面化された塗布ローラ105に当接する逆流防止フィルム107aで構成される)と、その表面に複数の溝を有し平版印刷版Mと当接して回転する表面が粗面化された塗布ローラ105と、表面が粗面化された塗布ローラ105に当接するバックアップローラ108とを有する。尚、逆流防止フィルム107aには、塗布ローラ105を清掃するブラシ107bが併設されていてもよい。図2の平版印刷版Mに示される矢印は、搬送方向を示している。塗布ローラ105とバックアップローラ108に示す矢印は、各々のローラの回転方向を示している。
As shown in FIG. 2, the
図3に示すように現像液供給管102は、図3において図示されない配管54から供給された現像液を幅方向に拡散させるための複数の吐出口101を有する。図3に示す吐出口101から流下する現像液は、現像液受け部104の下端部で一旦受け取られた後、幅方向に拡散されると共に、平版印刷版Mの搬送方向と直交する幅方向に穿設されている複数の開口部103から拡散フィルム106に向けて流下する。拡散フィルム106から流下した現像液は、塗布ローラ105と拡散フィルム106との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送方向と直交する幅方向に拡散される。
As shown in FIG. 3, the
そして、図2に示すように、現像液は、塗布ローラ105の回転に伴い、塗布ローラ105の溝による開口部を通過して塗布ローラ105とバックアップローラ108との当接部方向に移動し、そこに液溜め109を形成する。平版印刷版Mがこの液溜め109を通過するときに、平版印刷版Mの感光面に現像液が付着する。このとき、平版印刷版Mの感光面はバックアップローラ108により塗布ローラ105の表面に押しつけられていることから、平版印刷版Mの感光面に塗布された現像液は、塗布ローラ105の溝による開口部により一定量に計量され平版印刷版Mに塗布される。従って、バックアップローラ108と塗布ローラ105との当接部を通過した平版印刷版Mの感光面には、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布されていることになる。
Then, as shown in FIG. 2, the developer moves in the direction of the contact portion between the
感光材料が現像処理されていない場合は、図1に示す現像液タンク48から配管54を介してポンプ51により、図2に示す現像液供給機構5の現像液供給管102に供給された現像液は、図2に示す現像液受け部104、拡散フィルム106、塗布ローラ105及びバックアップローラ108を順次流下し、図1の回収トレイ40に滴下する。そして、この現像液は、回収トレイ40の下端部に設けられた回収管44を介して現像液タンク48内に回収されることにより循環供給される。従って本発明において、処理液の塗布ローラへの処理液供給量はポンプ51により、この循環供給量を調整することにより行われる。また、このときヒータ50により現像液は所定の温度まで昇温されている。
When the photosensitive material is not developed, the developer supplied from the
本発明の感光材料処理方法において、図2に示すように平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達するまでの塗布ローラへ105の現像液供給量を、平版印刷版Mが液溜め109中を通過する際の現像液設定供給量より多くして、平版印刷版Mの先端部が前記液溜め109に到達したら設定供給量に戻す方法は平版印刷版Mの先端部の現像液不足に起因する処理むらを防止するために有効である。しかしながら、このような方法では、前述の通り図5に示す感光材料Fの幅方向中央部であって前記塗布ローラ85手前に処理液の過剰な液溜まり部Pを発生させてしまう。
In the light-sensitive material processing method of the present invention, as shown in FIG. 2, the amount of the developer supplied to the
本発明者等は、鋭意検討した結果、図2に示される平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達した時点の処理液供給量が設定供給量であり、平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達するまでの処理液供給量を、平版印刷版Mが液溜め中を通過する際の設定供給量より多い量を供給し、平版印刷版Mの先端部が前記液溜め109に到達した後、感光材料の搬送に伴い、前記設定供給量を連続的に減少させることによって、平版印刷版の幅方向中央部の前記塗布ローラ手前に起こる現像液の過剰な液溜まり部Pの発生を解消できることを突き止めた。尚本発明の設定供給量とは、感光材料が有する感光層を均一に処理するために必要となる最適供給量であり、銀錯塩拡散転写法を利用する平版印刷版Mの現像処理においては、平版印刷版Mが有するハロゲン化銀を均一に現像処理するために必要となる最適供給量である。
As a result of intensive studies, the present inventors have determined that the processing liquid supply amount when the leading end of the planographic printing plate M shown in FIG. 2 reaches the
具体的数値で説明すると、最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置において、処理速度を15mm/secとした場合、一般に平版印刷版Mを均一に現像処理できる設定供給量は、60〜80ml/minの範囲にあることが多い。このとき、平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達するまでの現像液供給量は、設定供給量の3倍以上の180〜350ml/minとすることが好ましく、より好ましくは200〜330ml/minである。平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達してからの現像液供給量を設定供給量よりも少ない量に連続的に減少させる方法は、ポンプ51の駆動モータに印加するパルス電圧のパルス幅を変化させることにより、現像液の循環供給量を変更させることが好ましく、駆動モータの起動、停止時間の周期であるパルス幅を1パルス毎にポンプ51の停止時間を0.05〜0.15秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.1〜1.7mlずつ減少させることが好ましい。この「連続的」の表現は、パルス毎に供給量が段階的に減少することを含むものとし、少なくとも3段階以上のステップにより現像液供給量を減少させることを意味する。また、駆動モータの回転速度を変更することにより、現像液供給量を連続的に変更させることもできる。現像液供給量の減少は平版印刷版の先端から25mmまでの位置で開始することが好ましい。現像液供給量を連続的に減少させる領域と減少量は、先端から約150mmの位置までに設定供給量から10〜25ml/min程度減らすのが好ましい。現像液供給量の下限値は、30ml/minに設定することが望ましい。パルス幅を増加させる時間が大きくなると平版印刷版の後端の手前で下限値30ml/minとなり以後下限値を一定量供給することになる。この下限値より少なくすると平版印刷版の後端部の現像液不足による処理むらが発生する場合がある。また、2段階以下で設定供給量を減少させる方法では、平版印刷版の幅方向中央部の前記塗布ローラ手前に起こる現像液の過剰な液溜まり部Pの発生を解消できない。更に現像処理後の平版印刷版Mに処理むらが発生する。
Specifically, in a photosensitive material processing apparatus capable of developing a lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm, when the processing speed is set to 15 mm / sec, generally, the set supply amount capable of uniformly developing the lithographic printing plate M is , Often in the range of 60-80 ml / min. At this time, the developer supply amount until the leading end of the lithographic printing plate M reaches the
また最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置において、処理速度を18mm/secとした場合、一般に平版印刷版Mを均一に現像処理できる設定供給量は、72〜96ml/minの範囲にあることが多い。このとき、平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達するまでの現像液供給量は、設定供給量の3倍以上の2200〜350ml/minとすることが好ましく、より好ましくは230〜340ml/minである。平版印刷版Mの先端部が液溜め109に到達してからの現像液供給量を設定供給量よりも少ない量に連続的に減少させる方法は、ポンプ51の駆動モータに印加するパルス電圧のパルス幅を変化させることにより、現像液の循環供給量を変更させることが好ましく、駆動モータの起動、停止時間の周期であるパルス幅を1パルス毎にポンプ51の停止時間を0.05〜0.15秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.1〜1.7mlずつ減少させることが好ましい。また、駆動モータの回転速度を変更することにより、現像液供給量を連続的に変更させることもできる。現像液供給量の減少は平版印刷版の先端から25mmまでの位置で開始することが好ましい。現像液供給量を連続的に減少させる領域と減少量は、先端から約180mmの位置までに設定供給量を15〜35ml/min程度減らすのが好ましい。現像液供給量の下限値は、36ml/minに設定することが望ましい。パルス幅を増加させる時間が大きくなると平版印刷版の後端の手前で下限値36ml/minとなり以後下限値を一定量供給することになる。この下限値より少なくすると平版印刷版の後端部の現像液不足による処理むらが発生する場合がある。
Further, in a photosensitive material processing apparatus capable of developing a lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm, when the processing speed is set to 18 mm / sec, generally, a set supply amount capable of uniformly developing the lithographic printing plate M is 72 to 96 ml / min. Often in the range of At this time, the developer supply amount until the leading end of the lithographic printing plate M reaches the
次に、現像液の供給動作について説明する。図4は現像液の供給動作を示すフローチャートである。 Next, the developing solution supply operation will be described. FIG. 4 is a flowchart showing the developer supply operation.
平版印刷版Mを現像処理する動作の一例を図4にて説明する。
(ステップS1)平版印刷版Mが図1の露光装置7に装填されると図示しないセンサがこれを感知して露光開始信号が図示しない制御コンピュータに送られて平版印刷版Mへの露光が開始される。このとき露光開始信号がこなければ、図4のNであるエラーを表示する。
(ステップS2)露光が開始されれば、ポンプ51を駆動し、平版印刷版Mの先端が液溜め109を通過する際の設定供給量より多い現像液量を現像液タンク48から前記現像液塗布機構5の前記現像液供給管102に配管54を介して供給し、前記塗布ローラ105と前記バックアップローラ108の回転を駆動させる。これにより、加熱され温度制御された現像液が循環し、前記現像液供給管102、前記現像液受け部104、前記拡散フィルム106、前記塗布ローラ105、前記バックアップローラ108、回収トレイ40及び現像液タンク48を含む現像液の循環路全体が昇温される。また、設定供給量より多い現像液が循環することから、回転を続けている前記塗布ローラ105と前記バックアップローラ108との間に、現像処理に必要な大きさの前記液溜め109が形成される。
An example of the operation for developing the planographic printing plate M will be described with reference to FIG.
(Step S1) When the planographic printing plate M is loaded into the exposure apparatus 7 of FIG. 1, a sensor (not shown) senses this and an exposure start signal is sent to a control computer (not shown) to start exposure of the planographic printing plate M. Is done. If no exposure start signal is received at this time, an error N in FIG. 4 is displayed.
(Step S2) When exposure is started, the
(ステップS3)平版印刷版Mへの所定の露光が完了し、図1の平版印刷版Mの先端部が導入ガイド10を介して感光材料処理装置9に進入し、一対の導入ローラ11、12に到達する。このとき到達したかどうかは、導入ガイド10に図示しないセンサが付設してあり到達したかどうかを判断する。到達していなければ、図4のNであるエラーを表示する。
(ステップS4)平版印刷版Mの先端部が現像部の一対の導入ローラ11、12に到達すると、ポンプ51の駆動が停止される。
(ステップS5)ポンプ51が停止されてから時間T1が経過する。尚、上記ポンプ51が停止されている時間T1は、ポンプ51を停止することにより、図2の現像液受け部104の開口部103から流下した現像液が、塗布ローラ105と拡散フィルム106との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送方向と直交する塗布ローラ105の幅方向への拡散を促進させるための時間であり、ポンプ51を停止しても直ぐに幅方向に保持された液溜め109が消滅するものではない。この時間T1は、0〜10秒とすることが好ましく、より好ましくは2〜5秒であり、更に3秒程度に設定されることが好ましい。
(ステップS6)T1時間経過後、ポンプ51が駆動され、現像液供給量は設定供給量となり、平版印刷版Mの先端部が前記液溜め109に到達した後、平版印刷版Mの搬送に伴い、現像液供給量を連続的に減少させつつ、前記現像液供給管102、前記現像液受け部104、前記拡散フィルム106、前記塗布ローラ105前記バックアップローラ108、回収トレイ40及び現像液タンク48を含む現像液の循環路を循環する現像液が、平版印刷版Mの現像処理に供給される。このT1時間は制御プログラムのタイマーで管理していて、T1時間経過後、ポンプ51が駆動しなければ、図4に示すステップ5のNであるエラーを表示する。
(Step S3) Predetermined exposure to the lithographic printing plate M is completed, and the leading end of the lithographic printing plate M in FIG. 1 enters the photosensitive material processing device 9 through the
(Step S4) When the leading end of the lithographic printing plate M reaches the pair of
(Step S5) Time T1 has elapsed since the
(Step S6) After the time T1 has elapsed, the
時間T1が経過すれば、図2に示す平版印刷版Mの先端部が現像液塗布機構5における塗布ローラ105とバックアップローラ108との間に形成された現像液の液溜め109に到達して、その後現像液の供給量は、平版印刷版Mの搬送に伴い、設定供給量から連続的に減少させながら平版印刷版Mの現像処理が行われる。このように現像液供給量を減少させながら平版印刷版Mの現像処理を行うと、塗布ローラ105とバックアップローラ108との当接部の幅方向の液溜め109は幅方向に平坦化されて、図5に示すような塗布ローラ85とバックアップローラ88との当接部の幅方向中央部の過剰な液溜まり部Pを発生させることは無い。更に、図2に示す塗布ローラ105とバックアップローラ108との間に現像処理に必要な大きさの液溜め109が形成されているため、平版印刷版Mの先端部において現像液が不足することによる処理むらが発生することは無い。
When the time T1 elapses, the leading end of the planographic printing plate M shown in FIG. 2 reaches the
(ステップS7)その後、平版印刷版Mの後端が現像液塗布機構5を通過する。
(ステップS8)平版印刷版Mの後端が現像液塗布機構5を通過すれば、ポンプ51の駆動を停止して現像液の循環供給を停止し、塗布ローラ105とバックアップローラ108の回転駆動も停止させ、現像液の供給処理を終了する。このとき平版印刷版Mの後端の現像液塗布機構5の通過は、制御プログラムのタイマーで管理している。所定時間経過しても平版印刷版Mが図示しないセンサで検出されれば、図4のNであるエラーを表示する。尚、この時点において、既に次の平版印刷版Mへの露光が開始されていれば、現像液の供給動作を継続する。
(Step S7) Thereafter, the rear end of the planographic printing plate M passes through the
(Step S8) If the rear end of the lithographic printing plate M passes through the
更に、上述した実施の形態はいずれも、感光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mを使用した場合について説明したが、この発明は、その他の各種の感光材料を使用する感光材料処理装置にも適用することが可能である。 Further, in all of the above-described embodiments, the case where the lithographic printing plate M using the silver complex diffusion transfer method (DTR method) is used as the photosensitive material has been described. However, the present invention includes other various photosensitive materials. The present invention can also be applied to a photosensitive material processing apparatus to be used.
以下、この発明を銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用した平版印刷版に適用した場合の実施例について説明する。本発明はこの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a lithographic printing plate using a silver complex diffusion transfer method (DTR method) will be described. The present invention is not limited to this embodiment.
平版印刷版Mは、特開平9−304944号公報の実施例に従い、ゼラチンによる下引き処理したポリエステルフィルム支持体上の片面に平均粒子サイズ5μmのシリカ粒子を含有するマット化層を設け、反対側の面にカーボンブラックを含み、写真用ゼラチンに対して20質量%の平均粒径3.5μmのシリカ粉末を含むハレーション防止用下塗層(pH4に調整)と、平均粒径3.5μmのシリカ粉末を写真用ゼラチンに対して5質量%含む高感度塩化銀乳剤層(pH4に調整)とをフィルム支持体上にこの順に設けた。尚マット化層の塗布量はゼラチンが5.0g/m2となるように塗布し、下塗層はゼラチンが3.5g/m2となるよう塗布した。乳剤層はゼラチンが0.8g/m2、硝酸銀に換算したハロゲン化銀量は1.0g/m2となるよう塗布した。またこの下塗層と乳剤層とは硬膜剤としてホルマリンをゼラチン1gに対して5.0mg含んでいる。乾燥後40℃で10日間加熱した後、乳剤層の上に特開昭54−103104号公報実施例2のプレートNo.31の記載に従い核塗液を塗布、乾燥して平版印刷版Mを作製した。現像液及び安定液は下記を用いた。 The lithographic printing plate M is provided with a matting layer containing silica particles having an average particle size of 5 μm on one side on a polyester film support subtracted with gelatin according to the example of JP-A-9-304944, An antihalation undercoat layer (adjusted to pH 4) containing 20% by mass of silica powder having an average particle size of 3.5 μm with respect to photographic gelatin, and silica having an average particle size of 3.5 μm A high-sensitivity silver chloride emulsion layer (adjusted to pH 4) containing 5% by mass of powder relative to photographic gelatin was provided on the film support in this order. The coating amount of the matting layer was applied so that gelatin was 5.0 g / m 2, and the undercoat layer was applied so that gelatin was 3.5 g / m 2 . Emulsion layer gelatin 0.8 g / m 2, the amount of silver halide in terms of silver nitrate was coated so as to be 1.0 g / m 2. The undercoat layer and the emulsion layer contain 5.0 mg of formalin as a hardener with respect to 1 g of gelatin. After drying and heating at 40 ° C. for 10 days, the plate No. 2 in Example 2 of JP-A-54-103104 was formed on the emulsion layer. A lithographic printing plate M was prepared by applying and drying the core coating solution according to the description in 31. The following developers and stabilizers were used.
現像液
水酸化カリウム 15g
水酸化ナトリウム 10g
亜硫酸ナトリウム 35g
N−(アミノエチル)エタノールアミン 10g
2−メルカプト−5−n−ヘプチルオキサジアゾール 0.2g
四級塩ポリマー 6g
水を加えて1lとする。液pHは13.4である。
Developer 15g potassium hydroxide
Sodium hydroxide 10g
Sodium sulfite 35g
N- (aminoethyl) ethanolamine 10 g
2-mercapto-5-n-heptyloxadiazole 0.2 g
Quaternary salt polymer 6g
Add water to 1 liter. The liquid pH is 13.4.
安定液
燐酸1カリウム 36g
亜硫酸ナトリウム 2g
EDTA−Na 6.25g
水を加えて1lとする。
Stabilizing liquid monopotassium phosphate 36g
Sodium sulfite 2g
EDTA-Na 6.25g
Add water to 1 liter.
処理方法1(本発明1)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅754mm、長さ680mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を15mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を70ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.02秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図6のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法1の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は70ml/minであった。
Processing method 1 (Invention 1)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 754 mm and a length of 680 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 15 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 70 ml / min, and the supply amount after the leading end of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is the pulse width increase time of the pump drive motor is 1 pulse. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml per pulse by increasing 0.02 seconds every time. The graph of FIG. 6 shows changes in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the planographic printing plate at this time. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer required for uniformly developing the lithographic printing plate M under the processing conditions of
処理方法2(本発明2)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅754mm、長さ680mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を15mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を70ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.05秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図6のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法2の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は70ml/minであった。
Processing method 2 (present invention 2)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 754 mm and a length of 680 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 15 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 70 ml / min, and the supply amount after the leading end of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is the pulse width increase time of the pump drive motor is 1 pulse. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml per pulse by increasing 0.05 seconds every time. The graph of FIG. 6 shows changes in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the planographic printing plate at this time. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer necessary for uniformly developing the lithographic printing plate M under the processing conditions of
処理方法3(本発明3)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅754mm、長さ680mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を15mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を70ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.15秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。現像液供給量の下限は、30ml/minとした。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図6のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法3の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は70ml/minであった。
Processing method 3 (present invention 3)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 754 mm and a length of 680 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 15 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 70 ml / min, and the supply amount after the leading end of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is the pulse width increase time of the pump drive motor is 1 pulse. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml per pulse by increasing 0.15 seconds every time. The lower limit of the developer supply amount was 30 ml / min. The graph of FIG. 6 shows changes in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the planographic printing plate at this time. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. Incidentally, the set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer necessary for uniformly developing the planographic printing plate M under the processing conditions of the
処理方法4(本発明4)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅754mm、長さ680mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を15mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を70ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.3秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。現像液供給量の下限は、30ml/minとした。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図6のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法4の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は70ml/minであった。
Processing method 4 (present invention 4)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 754 mm and a length of 680 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 15 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 70 ml / min, and the supply amount after the leading end of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is the pulse width increase time of the pump drive motor is 1 pulse. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml every pulse by increasing 0.3 seconds every time. The lower limit of the developer supply amount was 30 ml / min. The graph of FIG. 6 shows changes in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the planographic printing plate at this time. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer required for uniformly developing the lithographic printing plate M under the processing conditions of
処理方法5(本発明5)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅510mm、長さ400mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を18mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を84ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.02秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図7のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法5の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は84ml/minであった。
Processing method 5 (present invention 5)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above-described processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 510 mm and a length of 400 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 18 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 84 ml / min, and the supply amount after the leading edge of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is equal to one pulse width increase time of the pump drive motor. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml per pulse by increasing 0.02 seconds every time. FIG. 7 is a graph showing the change in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the lithographic printing plate. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer necessary for uniformly developing the planographic printing plate M under the processing conditions of the
処理方法6(本発明6)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅510mm、長さ400mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を18mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を84ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.05秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図7のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法6の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は84ml/minであった。
Processing method 6 (Invention 6)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above-described processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 510 mm and a length of 400 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 18 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 84 ml / min, and the supply amount after the leading edge of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is equal to one pulse width increase time of the pump drive motor. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml per pulse by increasing 0.05 seconds every time. FIG. 7 is a graph showing the change in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the lithographic printing plate. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer necessary for uniformly developing the planographic printing plate M under the processing conditions of
処理方法7(本発明7)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅510mm、長さ400mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を18mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を84ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.15秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。現像液供給量の下限は、36ml/minとした。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図7のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法7の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は84ml/minであった。
Processing method 7 (present invention 7)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above-described processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 510 mm and a length of 400 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 18 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 84 ml / min, and the supply amount after the leading edge of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is equal to one pulse width increase time of the pump drive motor. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml per pulse by increasing 0.15 seconds every time. The lower limit of the developer supply amount was 36 ml / min. FIG. 7 is a graph showing the change in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the lithographic printing plate. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer required for uniformly developing the lithographic printing plate M under the processing conditions of the processing method 7, was 84 ml / min.
処理方法8(本発明8)
本発明に従って上記処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、幅510mm、長さ400mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を18mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の供給量を84ml/minとし、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達してからの供給量は、ポンプの駆動モータのパルス幅増加時間を1パルス毎に0.3秒ずつ増加させて、現像液供給量を1パルス毎に1.6mlずつ減少させた。現像液供給量の下限は、36ml/minとした。このときの平版印刷版の先端から後端まで処理に要する時間に対する液溜めへの現像液の供給量変化を図7のグラフに示す。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。尚、処理方法8の処理条件における平版印刷版Mを均一に現像処理するために必要となる現像液の最適供給量である設定供給量は84ml/minであった。
Processing method 8 (present invention 8)
In the photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. 1 using the above-described processing solution according to the present invention, the lithographic printing plate M having a width of 510 mm and a length of 400 mm is processed 25 m 2 per day. Then, an untreated day was provided at a rate of one day with respect to two treatment days, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for three months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 18 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The supply amount of the developer supplied to the photosensitive surface at the time is 84 ml / min, and the supply amount after the leading edge of the lithographic printing plate M reaches the liquid reservoir is equal to one pulse width increase time of the pump drive motor. The developer supply amount was decreased by 1.6 ml every pulse by increasing 0.3 seconds every time. The lower limit of the developer supply amount was 36 ml / min. FIG. 7 is a graph showing the change in the amount of developer supplied to the liquid reservoir with respect to the time required for processing from the front end to the rear end of the lithographic printing plate. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C. The set supply amount, which is the optimum supply amount of the developer necessary for uniformly developing the planographic printing plate M under the processing conditions of the
処理方法9(比較例1)
比較例1として、上記実施例と同様の処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、754mm幅、長さ680mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を15mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の設定を70ml/minとし、平版印刷版Mの先端部から後端部までに供給する現像液供給量を70ml/minで一定にして現像処理を行った。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。
Treatment method 9 (Comparative Example 1)
As Comparative Example 1, a lithographic printing plate having a width of 754 mm and a length of 680 mm was used in a photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. M was treated for 25 m 2 per day, an untreated day was provided at a rate of 1 day for 2 days of the treated day, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for 3 months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 15 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The developing process was performed with the setting of the developer supplied to the photosensitive surface at the time set to 70 ml / min and the developer supply amount supplied from the leading edge to the trailing edge of the lithographic printing plate M being constant at 70 ml / min. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C.
処理方法10(比較例2)
比較例2として、上記実施例と同様の処理液を用いて図1に記載の最大754mm幅の平版印刷版Mを現像処理できる感光材料処理装置にて、754mm幅、長さ680mmの平版印刷版Mを1日25m2処理し、処理日2日に対して1日の割合で未処理日を設け、これを3ヶ月間総処理量1500m2の処理を行った。平版印刷版Mの搬送速度を15mm/secとして、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達するまでの現像液供給量は300ml/min、平版印刷版Mの先端部が液溜めに到達した時点に感光面へ供給する現像液の設定を70ml/minとし、平版印刷版Mの先端部から20mm以降に供給する現像液供給量を50ml/minに変更して、それ以後一定にして現像処理を行った。現像液の温度は30℃、安定液の温度は25℃である。
Processing method 10 (Comparative Example 2)
As Comparative Example 2, a lithographic printing plate having a width of 754 mm and a length of 680 mm in a photosensitive material processing apparatus capable of developing the lithographic printing plate M having a maximum width of 754 mm shown in FIG. M was treated for 25 m 2 per day, an untreated day was provided at a rate of 1 day for 2 days of the treated day, and this was treated for a total throughput of 1500 m 2 for 3 months. The transport speed of the lithographic printing plate M was 15 mm / sec, the amount of developer supplied until the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir was 300 ml / min, and the leading edge of the lithographic printing plate M reached the liquid reservoir. The developing solution supplied to the photosensitive surface at the time is set to 70 ml / min, the developing solution supply amount to be supplied after 20 mm from the front end of the lithographic printing plate M is changed to 50 ml / min, and thereafter the developing process is made constant. Went. The temperature of the developer is 30 ° C., and the temperature of the stabilizer is 25 ° C.
上記のような処理方法1〜10において、3ヶ月間で1500m2処理した後に現像処理した平版印刷版Mを用いて、液溜まり発生有無、処理むら、印刷性を評価した。尚、液溜まりは処理時に目視確認した。処理むらは1500m2処理後の印刷版を目視確認した。印刷性は1500m2処理後の印刷版をハイデルベルグTOKオフセット印刷機に装着し、エッチング液を版面にくまなく与え、インキは大日本インキ化学工業製ニューチャンピオン墨H、給湿液はDTR平版印刷給湿液を用いて印刷し、100μmの細線画像の印刷性能(耐刷力)を評価した。
液溜まり ○ : 発生無し
△ : 僅かに発生
× : 液溜まり発生
処理むら ◎ : むら無し
○ : 殆どむら無し
△ : 部分的にむら
× : むら発生
印刷性 (耐刷力)◎ : 20,000枚以上
○ : 15,000〜20,000枚未満
△○: 10,000〜15,000枚未満
△ : 5,000〜10,000枚未満
× : 5,000枚未満
上記の結果を表1に示す。
In the
Liquid pool ○: No occurrence
Δ: Slightly generated
×: Liquid pool generated Uneven processing ◎: No unevenness
○: Almost no unevenness
Δ: Partially uneven
×: Unevenness Printability (press life) ◎: 20,000 sheets or more
○: 15,000 to less than 20,000 sheets
Δ ○: 10,000 to less than 15,000 sheets
Δ: Less than 5,000 to 10,000 sheets
X: Less than 5,000 The above results are shown in Table 1.
表1より本発明の感光材料の先端部が液溜めに到達するまでの処理液供給量は設定供給量より多い量を供給して、感光材料の先端部が前記液溜めに到達した後、感光材料の搬送に伴い、前記設定供給量を連続的に減少させる処理方法は、本発明の目的を明確に達成している。 According to Table 1, the processing solution supply amount until the leading end of the photosensitive material of the present invention reaches the liquid reservoir is larger than the set supply amount, and after the leading end of the photosensitive material reaches the liquid reservoir, the photosensitive solution is supplied. The processing method of continuously reducing the set supply amount as the material is conveyed clearly achieves the object of the present invention.
本発明の現像処理方法は、銀錯塩拡散転写法(DTR法)以外にもネガ型平版印刷版、ハロゲン化銀感光材料等の塗布現像型感光材料処理装置に利用可能である。 The development processing method of the present invention can be applied to a coating development type photosensitive material processing apparatus such as a negative lithographic printing plate and a silver halide photosensitive material in addition to the silver complex diffusion transfer method (DTR method).
1 現像部
2 安定部
3 乾燥部
5 現像液塗布機構
6 乾燥機構
7 露光装置
9 感光材料処理装置
10 導入ガイド
11 導入ローラ
15 絞りローラ
23 安定槽
40 回収トレイ
48 現像液タンク
49 水洗水タンク
55 排液タンク
100 取付板
81,101 吐出口
102 現像液供給管
83,103 開口部
104 現像液受け部
105 塗布ローラ
106 拡散フィルム
108 バックアップローラ
111 処理液供給部
F,M 平版印刷版
P 液溜まり部
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