JP2009163801A - Manufacturing system of glass substrate for magnetic disk, glass substrate for magnetic disk and magnetic disk - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To identify a step causing a surface defect of a glass substrate for a magnetic disk and to prevent further more generation of the surface defect by repairing the step. <P>SOLUTION: A manufacturing system 100 of the glass substrate for the magnetic disk includes storing means storing surface defect maps 120a to 120d typically showing the surface defect generated on the glass substrate when processing of each step is abnormal corresponding to one or more steps 103, 105, 106a and 106b for manufacturing the glass substrate 200 for the magnetic disk, a surface defect detecting device 130 detecting the surface defect 402 of the glass substrate 200 for the magnetic disk manufactured via each step, a recognition part 404 recognizing a surface defect map similar to the surface defect 402 and an informing part 406 informing a step matching the surface defect map recognized to be similar to the surface defect 402. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造システム、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクに関するものである。   The present invention relates to a magnetic disk glass substrate manufacturing system, a magnetic disk glass substrate, and a magnetic disk.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板として、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、従来多く用いられてきたアルミニウム基板に代えて基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. As a substrate for magnetic recording media such as HDD (Hard Disk Drive), which is one of the magnetic recording media, a substrate replacing the aluminum substrate that has been widely used with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks. A glass substrate excellent in surface flatness and substrate strength has been used.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、巨大磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきていて、磁気ヘッドの基板からの浮上量が20nmから5nm程度にまで狭くなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドには固有の障害としてヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。   As the magnetic recording technology increases in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a giant magnetoresistive head (GMR head). The flying height from the center is narrowed to about 20 nm to 5 nm. A magnetic head equipped with such a magnetoresistive element may cause a head crash failure or a thermal asperity failure as an inherent failure.

サーマルアスペリティ障害とは、磁気ディスク面上の微小な凸形状あるいは凹形状上を磁気ヘッドが浮上飛行しながら通過するときに、空気の断熱圧縮または接触により磁気抵抗効果型素子が加熱されることにより、読み出しエラーを生じる障害である。したがって磁気抵抗型素子を搭載した磁気ヘッドに対しては、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。また基板に塵埃や異物が付着したまま磁性層を形成すると磁気ディスク最表面に凸部が形成されてしまうため、ガラス基板には凹凸を低減する表面平滑化(研磨技術)と、異物を除去する高度な洗浄技術とが求められている。   Thermal asperity failure means that the magnetoresistive element is heated by adiabatic compression or contact of air when the magnetic head passes over a minute convex or concave shape on the magnetic disk surface while flying. This is a failure that causes a read error. Therefore, for a magnetic head equipped with a magnetoresistive element, the magnetic disk surface is required to have extremely high smoothness and flatness. Also, if a magnetic layer is formed with dust or foreign matter attached to the substrate, convex portions will be formed on the outermost surface of the magnetic disk. Advanced cleaning techniques are required.

上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。ガラス基板の平滑性の検査方法としては、表面欠陥検出装置(AOI:Automatic Optical Inspection)やOSA(Optical Surface Analyzer)等の機器を用いて、ガラス基板の表面に光を照射して反射光の強度や変位等により付着物、凹部および凸部が存在するか否かを判定するという方法がある(例えば特許文献1)。
特開2007−256133号公報
Under the circumstances as described above, the importance of the smoothness of the end face of the substrate has been recognized conventionally. As a method for inspecting the smoothness of a glass substrate, the surface of the glass substrate is irradiated with light using a device such as a surface defect detector (AOI: Automatic Optical Inspection) or OSA (Optical Surface Analyzer), and the intensity of reflected light. There is a method in which it is determined whether or not there are deposits, concave portions, and convex portions by displacement or the like (for example, Patent Document 1).
JP 2007-256133 A

ガラス基板に生じる表面欠陥には原因がある筈であり、原因となる工程の異常を発見し、それを修繕すれば、解決することも少なくない。しかし、かかる工程の修繕は、専ら熟練した作業者の経験によって行われているものである。熟練した作業者のなかには、検出された表面欠陥の分布や種類等を一見しただけで、いずれの工程のいかなる異常によるものであるかを感覚的に判断できる者もいる。しかし、経験の浅い作業者には、表面欠陥の原因を同定することは困難である。   There must be a cause for the surface defect that occurs in the glass substrate, and it is often solved by finding and repairing the cause of the abnormal process. However, the repair of such a process is performed exclusively by the experience of skilled workers. Some skilled workers can sensuously determine what abnormality is caused by which process by simply looking at the distribution and type of detected surface defects. However, it is difficult for an inexperienced worker to identify the cause of surface defects.

本発明はこのような課題に鑑み、表面欠陥が発見されたガラス基板について、その原因となる、異常が生じている工程を同定することにより、その工程を修繕することが可能ならしめる、磁気ディスク用ガラス基板の製造システム、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。   In view of such a problem, the present invention makes it possible to repair a glass disk on which a surface defect is found by identifying the process causing the abnormality and repairing the process. An object of the present invention is to provide a glass substrate manufacturing system, a magnetic disk glass substrate, and a magnetic disk.

本願発明者らは、上記の課題について鋭意検討した結果、特定の工程の異常を原因としてガラス基板に生じる表面欠陥には規則性が認められ、かかる典型的な表面欠陥を表面欠陥マップとして保存し、AOI等の表面欠陥装置を用いて検出された、検査対象であるガラス基板の表面欠陥と照合すれば、そのガラス基板に生じた表面欠陥の原因となる工程を同定できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that regularity is observed in the surface defects generated in the glass substrate due to abnormalities in specific processes, and such typical surface defects are stored as a surface defect map. It is found that if a surface defect of a glass substrate to be inspected, which is detected using a surface defect device such as AOI, is collated, a process that causes the surface defect generated on the glass substrate can be identified. It came to be completed.

上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造システムの代表的な構成は、磁気ディスク用ガラス基板を製造するための1つ以上の工程に対応して、各工程の処理に異常がある場合にガラス基板に生じる表面欠陥を典型的に示す表面欠陥マップを記憶する記憶手段と、1つ以上の工程を経て製造された磁気ディスク用ガラス基板の表面欠陥を検出する表面欠陥検出手段と、表面欠陥に類似する表面欠陥マップを認識する認識手段と、表面欠陥に類似すると認識された表面欠陥マップに対応する工程を報知する報知手段と、を含むことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a typical configuration of a magnetic disk glass substrate manufacturing system according to the present invention includes each process corresponding to one or more processes for manufacturing a magnetic disk glass substrate. A storage means for storing a surface defect map typically indicating a surface defect generated on the glass substrate when there is an abnormality in the processing of the substrate, and a surface defect of the glass substrate for magnetic disk manufactured through one or more steps is detected. It includes a surface defect detection means, a recognition means for recognizing a surface defect map similar to a surface defect, and a notification means for notifying a process corresponding to the surface defect map recognized to be similar to a surface defect. .

上記の構成によれば、作業者は、ガラス基板の表面欠陥の原因となっている工程を同定し、当該工程を修繕することで、それ以上の表面欠陥の発生を防止可能である。   According to said structure, the operator can prevent generation | occurrence | production of the surface defect beyond it by identifying the process causing the surface defect of a glass substrate, and repairing the said process.

上記の報知手段は、所定枚数以上のガラス基板の表面欠陥にいずれか同一の表面欠陥マップが類似すると認識手段によって認識された場合に限り、その同一の表面欠陥マップに対応する工程を報知するとよい。   The notification means may notify the process corresponding to the same surface defect map only when the recognition means recognizes that any one of the same surface defect maps is similar to the surface defects of a predetermined number or more glass substrates. .

複数の表面欠陥に、特定の表面欠陥マップが類似すると認識されたときに初めてその表面欠陥マップに対応する工程を報知することで、報知機能の信頼性が向上するからである。   This is because, when it is recognized that a specific surface defect map is similar to a plurality of surface defects, the reliability of the notification function is improved by notifying the process corresponding to the surface defect map for the first time.

上記の認識手段は、表面欠陥検出手段が検出した表面欠陥に含まれる個々の欠陥の数が所定数以上である場合に限り、類似する表面欠陥マップを認識するとよい。   The above recognition means may recognize a similar surface defect map only when the number of individual defects included in the surface defect detected by the surface defect detection means is a predetermined number or more.

表面欠陥の数が所定数以下の良品レベルにあるガラス基板については、工程に異常があるとまでは言えず、無駄な認識処理を省くためである。   This is because a glass substrate having a non-defective product level with the number of surface defects equal to or less than a predetermined number cannot be said to have an abnormality in the process, and a wasteful recognition process is omitted.

また、上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板は、上述のいずれかの磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを用いて製造されることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is manufactured using any one of the above-described systems for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

また、上述の課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスクは、上記の磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成して成ることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, a magnetic disk according to the present invention is characterized in that at least a magnetic layer is formed on the above-mentioned glass substrate for a magnetic disk.

上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造システムの技術的思想に基づく構成要素やその説明は、当該磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクにも適用可能である。   The components based on the technical idea of the magnetic disk glass substrate manufacturing system described above and the description thereof are also applicable to the magnetic disk glass substrate and the magnetic disk.

本発明によれば、作業者は、ガラス基板の表面欠陥の原因となっている工程を同定し、当該工程を修繕することで、それ以上の表面欠陥の発生を防止可能である。   According to the present invention, the operator can prevent the occurrence of further surface defects by identifying the process causing the surface defect of the glass substrate and repairing the process.

まず、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板について説明する。図1は、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図であり、図1(a)は磁気ディスク用ガラス基板の斜視図である。磁気ディスク用ガラス基板200は、円板形状をしていて、その中心には内孔が形成されている。主表面210は、情報を記録再生するための領域であるため、記録ヘッドが浮上走行するために実質的に平滑になっている。   First, the glass substrate for magnetic disks according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a view for explaining a glass substrate for a magnetic disk according to the present embodiment, and FIG. 1 (a) is a perspective view of the glass substrate for a magnetic disk. The magnetic disk glass substrate 200 has a disk shape, and an inner hole is formed at the center thereof. Since the main surface 210 is an area for recording and reproducing information, the main surface 210 is substantially smooth for the recording head to fly.

図1(b)は、図1(a)のX−X断面図である。磁気ディスク用ガラス基板200は、情報の記録再生領域となる主表面210と、当該主表面210に対して直交している端面220と、当該主表面210と端面220との間に介在している面取面230とを備えている。なお、後述する端面研磨工程により端面220と面取面230との境界が不明瞭となる場合もあるため、本実施形態は端面220とその両側の面取面230があわせて1つの曲面を構成する場合も含むものとする。   FIG.1 (b) is XX sectional drawing of Fig.1 (a). The magnetic disk glass substrate 200 is interposed between a main surface 210 serving as an information recording / reproducing area, an end surface 220 orthogonal to the main surface 210, and the main surface 210 and the end surface 220. And a chamfered surface 230. In addition, since the boundary between the end surface 220 and the chamfered surface 230 may become unclear due to the end surface polishing process described later, in this embodiment, the end surface 220 and the chamfered surfaces 230 on both sides constitute a single curved surface. Including the case of doing.

図2は、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを示すブロック図である。製造システム100は、磁気ディスク用ガラス基板200を製造するための1つ以上の工程を含み、これらには、第2研磨工程102、強化洗浄工程104、最終洗浄工程106を含まれる。最終洗浄工程106は、水流による前洗浄工程106a、洗浄パッドを用いるスクラブ洗浄工程106bを含む。本実施形態では、ガラス基板200は先行する種々の工程を経た後、最終的な工程102、104、106を経て製造される。   FIG. 2 is a block diagram showing a manufacturing system of a magnetic disk glass substrate according to the present embodiment. The manufacturing system 100 includes one or more processes for manufacturing the magnetic disk glass substrate 200, which include a second polishing process 102, an enhanced cleaning process 104, and a final cleaning process 106. The final cleaning step 106 includes a pre-cleaning step 106a using a water flow and a scrub cleaning step 106b using a cleaning pad. In the present embodiment, the glass substrate 200 is manufactured through the final steps 102, 104, and 106 after various preceding steps.

また、製造システム100はサーバ110を含み、サーバ110は、データベース112を含む。データベース112は、各工程102、104、106a、106bの処理に異常がある場合にガラス基板200に生じる表面欠陥を典型的に示す表面欠陥マップ120a〜120dを記憶する記憶手段である。   The manufacturing system 100 includes a server 110, and the server 110 includes a database 112. The database 112 is a storage unit that stores surface defect maps 120a to 120d that typically indicate surface defects that occur on the glass substrate 200 when there is an abnormality in the processes of the steps 102, 104, 106a, and 106b.

こうした表面欠陥マップ120a〜120dは、通常の製造工程が稼動している間に、各工程102、104、106a、106bから、点線103、105、107、109で示すように、データベース112に蓄積されている。マップは、作業者408の手作業によって入力、蓄積されるものとしてよい。図2では1つの工程に対して1つのマップしか対応していないが、複数のマップが対応していてもよい。   These surface defect maps 120a to 120d are accumulated in the database 112 as indicated by dotted lines 103, 105, 107, and 109 from the respective processes 102, 104, 106a, and 106b while a normal manufacturing process is in operation. ing. The map may be input and accumulated by the manual operation of the worker 408. In FIG. 2, only one map corresponds to one process, but a plurality of maps may correspond.

また、表面欠陥の原因となる工程は、工程102、104、106a、106bに限られるものではない。データベース112に予め表面欠陥マップを蓄積しておける工程であれば、表面欠陥の原因として同定され得る。   Further, processes that cause surface defects are not limited to the processes 102, 104, 106a, and 106b. Any process that can store a surface defect map in the database 112 in advance can be identified as the cause of the surface defect.

各工程102、104、106a、106bに対応している情報は、かかる表面欠陥マップ120a〜120dに限られず、マップから抽出した所定の特徴量を記憶しておいてもよい。特徴量としては、マップをグラフとして見た場合の相関係数、欠陥の種類や数、分布、座標等としてよい。   The information corresponding to each process 102, 104, 106a, 106b is not limited to the surface defect maps 120a-120d, and a predetermined feature amount extracted from the map may be stored. The feature amount may be a correlation coefficient when the map is viewed as a graph, the type and number of defects, distribution, coordinates, and the like.

工程106を経た後、ガラス基板200は、梱包される前に、表面欠陥検出装置(AOI)130にて表面欠陥を検出される。表面欠陥はOSAで検出してもよい。   After passing through step 106, the glass substrate 200 is detected for surface defects by a surface defect detector (AOI) 130 before being packed. Surface defects may be detected by OSA.

図3は、図2の表面欠陥検出装置による表面欠陥検出の様子を示す図である。表面欠陥検出装置130は、2種類のレーザ302(302a、302b)と、4種類の検出器304(304a、304b、304c、304d)と、ミラー306と、を含んで構成される。   FIG. 3 is a diagram showing how surface defects are detected by the surface defect detection apparatus of FIG. The surface defect detection device 130 includes two types of lasers 302 (302a, 302b), four types of detectors 304 (304a, 304b, 304c, 304d), and a mirror 306.

レーザ302aは、波長780±15nm、ビーム径120μm×15μmの半導体レーザであり、レーザ302bは、波長670±10nm、ビーム径2000μm×7005μmの半導体レーザである。検出器304は、フォトディテクタで構成されている。   The laser 302a is a semiconductor laser having a wavelength of 780 ± 15 nm and a beam diameter of 120 μm × 15 μm, and the laser 302b is a semiconductor laser having a wavelength of 670 ± 10 nm and a beam diameter of 2000 μm × 7005 μm. The detector 304 is composed of a photo detector.

図4は、図3の表面欠陥検出装置130の検出器304が検出可能な欠陥について説明するための説明図である。表面欠陥検出装置130が検出できる欠陥には、主として、凸部140、凹部142がある。   FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining defects that can be detected by the detector 304 of the surface defect detection device 130 of FIG. 3. The defects that can be detected by the surface defect detection device 130 mainly include a convex portion 140 and a concave portion 142.

レーザ302aを用い検出器304aで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板200の主表面上に含まれる欠陥から反射される散乱光を検出する。これにより、検出器304aでは、付着物や0.1μm程度の凹部を検出することができる。レーザ302aを用い検出器304bで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板200の主表面上に含まれる欠陥から反射される指向性のある散乱回折光の光量変化を検出する。これにより、検出器304bでは、付着物、0.1μm程度の凹部を検出することができる。レーザ302aを用い検出器304cで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板200の主表面上に含まれる欠陥からの正反射光量の増光もしくは減光を検出する。これより、検出器304cでは、散乱や回折が生じにくい凸部140、凹部を検出することができる。 When inspected by the detector 304a using the laser 302a, the scattered light reflected from the defect contained on the main surface of the magnetic disk glass substrate 200 is detected. Thereby, the detector 304a can detect a deposit or a recess of about 0.1 μm 2 . When the detector 304b is inspected using the laser 302a, a change in the amount of directional scattered diffracted light reflected from a defect included on the main surface of the magnetic disk glass substrate 200 is detected. Thereby, the detector 304b can detect a deposit and a recess of about 0.1 μm 2 . When the inspection is performed by the detector 304c using the laser 302a, an increase or decrease in the amount of specular reflection light from a defect included on the main surface of the magnetic disk glass substrate 200 is detected. Accordingly, the detector 304c can detect the convex portion 140 and the concave portion that are less likely to cause scattering and diffraction.

レーザ302bを用い検出器304dで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板200の主表面上に含まれる欠陥からの正反射光量の増光もしくは減光を検出する。これより、検出器304dでは、散乱や回折が生じにくいなだらかな凸部140やなだらかな凹部を検出することができる。   When the detector 304d is inspected using the laser 302b, an increase or a decrease in the amount of specular reflection light from a defect included on the main surface of the magnetic disk glass substrate 200 is detected. Thus, the detector 304d can detect the gentle convex portion 140 and the gentle concave portion that are less likely to cause scattering and diffraction.

次に測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて磁気ディスク用ガラス基板200に含まれる欠陥の面内位置を特定し、表面欠陥402が作成される。   Next, the in-plane position of the defect included in the magnetic disk glass substrate 200 is specified based on one or both of the measured light intensity and displacement, and the surface defect 402 is created.

図5は図2のデータベースに予め記憶されている表面欠陥マップの他の例を示す図である。表面欠陥マップ120eは、最終洗浄工程106に機器損傷がある場合のマップの例であり、ガラス基板一端の限られたエリアに表面欠陥が集中する。表面欠陥マップ120fは、スクラブ洗浄工程106bのパッドが異物をかみ込んだ場合のマップの例である。   FIG. 5 is a diagram showing another example of the surface defect map stored in advance in the database of FIG. The surface defect map 120e is an example of a map when there is equipment damage in the final cleaning process 106, and surface defects concentrate on a limited area at one end of the glass substrate. The surface defect map 120f is an example of a map in the case where the pad in the scrub cleaning process 106b bites foreign matter.

表面欠陥の原因に対応するマップは1つではなく、図5の例に示すように、3つずつのマップをデータベース112に記憶してよい。いずれのマップも、原因は様々であるが、いずれかの工程に生じる異常を原因とした、当該工程に特有のものである。   Instead of one map corresponding to the cause of the surface defect, three maps may be stored in the database 112 as shown in the example of FIG. Each map has a variety of causes, but is specific to the process caused by an abnormality occurring in any process.

図2のコンピュータ400は、制御部401と、制御部401で制御される認識部404および報知部406とを有する。表面欠陥検出装置130から表面欠陥402がコンピュータ400に入力されると、認識部404は、データベース112を参照して、表面欠陥402に類似するものを、表面欠陥マップ120a〜120dのなかから認識する。   A computer 400 in FIG. 2 includes a control unit 401, a recognition unit 404 and a notification unit 406 controlled by the control unit 401. When the surface defect 402 is input from the surface defect detection apparatus 130 to the computer 400, the recognition unit 404 refers to the database 112 and recognizes a similar object to the surface defect 402 from the surface defect maps 120a to 120d. .

認識部404が行う認識は、例えば、表面欠陥と表面欠陥マップとを画像として直接突き合わせて行う最短距離法等を用いてよい。最短距離法は、画像を構成する対応する画素同士の差分を二乗して加算し、画像間の「距離」を求める方法である。この「距離」が小さいほど、画像同士は類似している、と本願では定義する。所定の閾値以下になったとき、画像同士が類似していると判定してよい。データベース112に記録する情報は、表面欠陥マップ自体に限られず、マップをグラフとして見た場合の相関係数、欠陥の種類や数、分布、座標等の特徴としてもよい。   The recognition performed by the recognition unit 404 may use, for example, a shortest distance method that is performed by directly matching a surface defect and a surface defect map as an image. The shortest distance method is a method of obtaining the “distance” between images by squaring and adding the differences between corresponding pixels constituting the image. In the present application, the smaller the “distance” is, the more similar the images are. You may determine with images being similar when it becomes below a predetermined threshold. The information recorded in the database 112 is not limited to the surface defect map itself, but may be features such as a correlation coefficient, the type and number of defects, distribution, and coordinates when the map is viewed as a graph.

その場合、認識部404は、表面欠陥402からも、データベース112に記録されているのと同様の特徴を抽出する。かかる特徴は、類似する表面欠陥マップを認識する際の条件として自由に用いてよい。例えば最短距離法による画像間の「距離」が所定の範囲内にあり、かつ、欠陥の数が所定の範囲内にある場合は、当該表面欠陥に当該マップが類似すると認識するなどの規則をデータベース112に設けておけばよい。なお、当然に不良品と判定されるほど、個々の欠陥の数が多いガラス基板であっても、いずれの表面欠陥マップにも類似していない場合がある。その場合、当該表面欠陥の原因は不明となる。他方、ある表面欠陥に、複数の表面欠陥マップが類似することも当然にあり、その場合、複合的な原因でその表面欠陥が生じたと推測できる。   In that case, the recognition unit 404 extracts the same feature as that recorded in the database 112 from the surface defect 402. Such a feature may be freely used as a condition for recognizing a similar surface defect map. For example, if the “distance” between images according to the shortest distance method is within a predetermined range and the number of defects is within a predetermined range, a rule such as recognizing that the map is similar to the surface defect is stored in the database. 112 may be provided. Of course, even if a glass substrate has a large number of individual defects so as to be determined as a defective product, it may not be similar to any surface defect map. In that case, the cause of the surface defect is unknown. On the other hand, it is natural that a plurality of surface defect maps are similar to a certain surface defect. In this case, it can be assumed that the surface defect is caused by multiple causes.

コンピュータ400に含まれる報知部406は、表面欠陥に類似すると認識された表面欠陥マップに対応する工程を報知する報知手段である。報知は、コンピュータ400の表示装置(図示しない)に、異常の発生している工程と異常の内容とを表示したり、音声で作業者408に知らせたりすればよい。   A notification unit 406 included in the computer 400 is a notification unit that notifies a process corresponding to a surface defect map recognized as being similar to a surface defect. The notification may be performed by displaying the process in which an abnormality has occurred and the content of the abnormality on the display device (not shown) of the computer 400 or notifying the worker 408 by voice.

これにより、作業者408は、ガラス基板200の表面欠陥の原因となっている工程を同定し、当該工程を修繕することで、それ以上の表面欠陥の発生を防止可能である。複数の工程が報知された場合は、複数の工程を調査し、修繕すればよい。   Thereby, the worker 408 can prevent the occurrence of further surface defects by identifying the process causing the surface defect of the glass substrate 200 and repairing the process. When a plurality of processes are notified, a plurality of processes may be investigated and repaired.

工程で用いられる機器や洗浄槽等が故障した場合は作業者408による修繕が必要となるが、単に、工程を稼動させるにあたって定められているパラメータに異常がある場合は、工程自体に報知を行い、自動的に設定を変更するのが好ましい。   If equipment used in the process, cleaning tank, etc. breaks down, repair by the operator 408 is required. However, if there is an abnormality in the parameters set for operating the process, the process itself is notified. It is preferable to change the setting automatically.

報知部406は、所定枚数以上のガラス基板の表面欠陥402にいずれか同一の表面欠陥マップが類似すると認識された場合に限り、その同一の表面欠陥マップに対応する工程を報知するとよい。   The notification unit 406 may notify the process corresponding to the same surface defect map only when it is recognized that any one of the same surface defect maps is similar to the surface defects 402 of a predetermined number or more of glass substrates.

複数の表面欠陥402に、特定の表面欠陥マップが類似すると認識されて初めて報知することで、報知機能の信頼性が向上するからである。   This is because the reliability of the notification function is improved by notifying only when it is recognized that a specific surface defect map is similar to the plurality of surface defects 402.

上記の認識部404は、表面欠陥検出装置130が検出した表面欠陥402に含まれる個々の欠陥の数が所定数以上である場合に限り、類似する表面欠陥マップを認識するとよい。   The recognition unit 404 may recognize a similar surface defect map only when the number of individual defects included in the surface defect 402 detected by the surface defect detection device 130 is a predetermined number or more.

表面欠陥の数が所定数以下の良品レベルにあるガラス基板については、工程に異常があるとまでは言えないからであり、かかる場合に無駄な認識処理を省くためである。   This is because it cannot be said that there is an abnormality in the process for a glass substrate having a non-defective product level with the number of surface defects equal to or less than a predetermined number, and in this case, useless recognition processing is omitted.

(実施例)
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造システム、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクについて実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板200および磁気ディスクは、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.7mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、2.5インチ型ディスクや3.5インチ型ディスクとして製造してもよい。
(Example)
Embodiments of a glass disk substrate manufacturing system, a magnetic disk glass substrate, and a magnetic disk to which the present invention is applied will be described below. The glass substrate 200 for magnetic disk and the magnetic disk are 0.8 inch type disk (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.7 mm, plate thickness 0.381 mm), 1.0 inch type disk (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm). , Plate thickness 0.381 mm), 1.8 inch type magnetic disk (inner diameter 12 mm, outer diameter 48 mm, plate thickness 0.508 mm) and the like. Further, it may be manufactured as a 2.5 inch type disc or a 3.5 inch type disc.

(1)データ蓄積工程
以下の各工程が稼動している間、予め、各工程からは、各工程の処理に異常がある場合にガラス基板に生じる表面欠陥を典型的に示す表面欠陥マップが蓄積される。マップの蓄積は、作業者408の経験によって行ってよい。表面欠陥マップの数は、1工程について1つとは限らない。また、表面欠陥マップを有しない工程もある。
(1) Data accumulation process While each of the following processes is in operation, a surface defect map that typically indicates a surface defect that occurs on the glass substrate when there is an abnormality in the process of each process is accumulated in advance from each process. Is done. The accumulation of the map may be performed based on the experience of the operator 408. The number of surface defect maps is not necessarily one per process. There are also processes that do not have a surface defect map.

(2)形状加工工程および第1ラッピング工程
本実施形態においてガラス基板200の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
(2) Shape processing step and first lapping step Examples of the material of the glass substrate 200 in the present embodiment include soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and crystallized glass. Among them, aluminosilicate glass is preferable. is there. Since the aluminosilicate glass is smooth and has high rigidity, the magnetic spacing, particularly the flying height of the magnetic head, can be more stably reduced. Aluminosilicate glass can obtain high rigidity and strength by chemical strengthening.

まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状の磁気ディスク用ガラス基板200を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。 First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. In addition, the glass for chemical strengthening was used as aluminosilicate glass. In addition to direct pressing, a disk-shaped glass substrate 200 for a magnetic disk may be obtained by cutting a sheet glass formed by a downdraw method or a float method with a grinding wheel. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% The chemically strengthened glass contained as was used.

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed from above and below on both sides of the plate glass, a grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relatively to perform lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(3)切り出し工程(コアリング、フォーミング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板200とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面220をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング)。
(3) Cutting process (coring, forming)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, an inner hole was formed in the central portion of the glass substrate to obtain an annular glass substrate 200 (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face 220 were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming).

(4)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板200の両主表面210について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面210に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(4) Second Lapping Step Next, the second lapping process was performed on both main surfaces 210 of the obtained glass substrate 200 in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, the fine uneven shape formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, can be removed in advance, and the subsequent polishing step on the main surface 210 can be performed. It can be completed in a short time.

(5)端面研磨工程
次に、ガラス基板200の外周の端面研磨を行なう。まず端面220については、面取面230に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板200を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
(5) End surface polishing step Next, end surface polishing of the outer periphery of the glass substrate 200 is performed. First, the end face 220 is polished independently prior to the chamfered face 230. The polishing method may be, for example, a method in which a plurality of glass substrates 200 are simultaneously polished with a brush, but the machining allowance increases. Therefore, for example, a single wafer polishing method may be used.

続いて面取面230については、鏡面研磨を行った。これにより、1枚のガラス基板200の面取面230の、外周の全周における表面粗さの差は、0.001μm以下の範囲になった。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板200を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板200の端面220は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。   Subsequently, the chamfered surface 230 was subjected to mirror polishing. Thereby, the difference of the surface roughness in the perimeter of the outer periphery of the chamfered surface 230 of one glass substrate 200 became the range of 0.001 micrometer or less. And the glass substrate 200 which finished the end surface grinding | polishing process was washed with water. By this end face polishing step, the end face 220 of the glass substrate 200 was processed into a mirror state that can prevent the precipitation of sodium and potassium.

なお、本実施例では端部の研磨を行った後に面取面230の研磨を行なうよう説明した。しかしこの順序については任意であって、面取面230の研磨を先に行ってから端面220の研磨を行ってもよい。   In this embodiment, the chamfered surface 230 is polished after the end portion is polished. However, this order is arbitrary, and the end face 220 may be polished after the chamfered surface 230 is polished first.

次に、内周端面については、多数枚積層したガラス基板ブロックを形成し、面取りした内周端部をブラシロールにて同時に研磨してよい。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。   Next, regarding the inner peripheral end surface, a glass substrate block in which a large number of sheets are laminated may be formed, and the chamfered inner peripheral end portion may be simultaneously polished with a brush roll. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.

(6)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面210に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面210の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(6) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing process is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface 210 in the lapping process described above. In the first polishing step, the main surface 210 was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.

この第1研磨工程を終えたガラス基板200を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate 200 after the first polishing step was sequentially immersed in cleaning baths of neutral detergent, pure water, and IPA (isopropyl alcohol) to be cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面210を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面210の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of the second polishing step is to finish the main surface 210 in a mirror shape. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface 210 was performed using a soft foam resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第2研磨工程を終えたガラス基板200を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   The glass substrate 200 after the second polishing step was sequentially immersed in cleaning baths of neutral detergent, pure water, and IPA (isopropyl alcohol) and cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(7)化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板200に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板200を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板200の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板200が端面220で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
(7) Chemical strengthening process Next, the glass substrate 200 which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C. and the cleaned glass substrate 200 is heated to 300 ° C. This was done by preheating and immersing in a chemical strengthening solution for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate 200, the plurality of glass substrates 200 were held in the holder so as to be held by the end surfaces 220.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板200の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板200が強化される。ガラス基板200の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μm乃至200μmであった。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate 200 are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate 200 is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate 200 was about 100 μm to 200 μm.

化学強化処理を終えたガラス基板200を、20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板200を、約40℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。   The glass substrate 200 that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a water bath at 20 ° C. for rapid cooling and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate 200 which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned.

(8)最終洗浄工程
さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板200を純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した(前洗浄工程106a〜スクラブ洗浄工程106b)。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
(8) Final cleaning step Further, the glass substrate 200 after the sulfuric acid cleaning was cleaned by immersing in a cleaning bath of pure water and IPA (isopropyl alcohol) sequentially (pre-cleaning step 106a to scrub cleaning step 106b). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

上記の如く、第1ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第2ラッピング工程、第1および第2研磨工程、化学強化工程、ならびに最終洗浄工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板200を得た。   As described above, by applying the first lapping step, the cutting step, the end surface polishing step, the second lapping step, the first and second polishing steps, the chemical strengthening step, and the final cleaning step, a flat, smooth, high rigidity A glass substrate 200 for a magnetic disk was obtained.

(9)検査工程
得られた磁気ディスク用ガラス基板200の主表面210について平滑性の検査を行った。検査工程は、表面欠陥検出装置(AOI:Automatic Optical Inspection)やOSA(Optical Surface Analyzer)等の機器を用いて、磁気ディスク用ガラス基板200に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板200から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定し、付着物、凹部142および凸部140が存在するか否か等を測定し、基板状態を評価する。
(9) Inspection Step The main surface 210 of the obtained magnetic disk glass substrate 200 was inspected for smoothness. The inspection process uses light such as a surface defect detector (AOI: Automatic Optical Inspection) and an OSA (Optical Surface Analyzer) to irradiate the magnetic disk glass substrate 200 with light and reflect the light from the magnetic disk glass substrate 200. One or both of the strength and the displacement is measured, and whether or not the deposit, the concave portion 142 and the convex portion 140 are present is measured, and the substrate state is evaluated.

(10)認識・報知工程
表面欠陥検出装置130で得られた表面欠陥402に類似するものを、表面欠陥マップ120a〜120dのなかから、認識部404が認識する。報知部406は、所定枚数以上のガラス基板の表面欠陥402に、いずれか同一の表面欠陥マップが類似すると認識された場合に、その同一の表面欠陥マップに対応する工程を作業者408報知する。
(10) Recognition / notification process The recognition unit 404 recognizes the surface defect 402 obtained by the surface defect detection device 130 from the surface defect maps 120a to 120d. When it is recognized that any one of the same surface defect maps is similar to the surface defects 402 of the glass substrate of a predetermined number or more, the notification unit 406 notifies the worker 408 of a process corresponding to the same surface defect map.

これによって、従来、熟練の作業者でしか原因を同定できなかった表面欠陥についても、原因を同定できるケースが格段に増加し、表面欠陥が原因不明と判定されるケースが、23%減少した。   As a result, the number of cases where the cause can be identified for the surface defects that could be identified only by skilled workers has increased dramatically, and the number of cases where the cause is determined to be unknown is reduced by 23%.

(11)梱包工程
25枚の磁気ディスク用ガラス基板200をケースに収容し、ケースを4個重ね、アルミニウムラミネートフィルム製の第1の梱包袋を脱気して密封梱包して梱包体とした。次に、梱包体を、プラスチックフィルム製の第2の梱包袋を脱気してさらに密封梱包して梱包体とした。
(11) Packing process 25 glass substrate 200 for magnetic disks was accommodated in a case, 4 cases were piled up, the 1st packing bag made from an aluminum laminated film was deaerated, hermetically packed, and it was set as the package. Next, the packaging body was deaerated from the second packaging bag made of a plastic film and further hermetically sealed to obtain a packaging body.

上記のように、ガラス基板200がケースに収納され、第2の梱包袋および第1の梱包袋で二重に密封梱包された二重梱包体を、ガラス基板製造施設から出荷され、船や飛行機、列車等によって磁気ディスク製造施設へ運搬される。   As described above, the glass substrate 200 is housed in the case, and the double packing body in which the second packing bag and the first packing bag are double-sealed and packaged is shipped from the glass substrate manufacturing facility, and the ship or airplane And transported to a magnetic disk manufacturing facility by a train or the like.

(12)磁気ディスク製造工程(成膜工程)
上記の梱包体を用いて梱包された磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行う。
(12) Magnetic disk manufacturing process (film formation process)
A film forming step of forming at least a magnetic layer on the glass substrate for a magnetic disk packed using the above packing body is performed.

上述した梱包方法および製造工程を経て得られたガラス基板200の両面に、ガラス基板200の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。   On both surfaces of the glass substrate 200 obtained through the packaging method and the manufacturing process described above, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt-based alloy on the surface of the glass substrate 200 A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲の属性を有するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these naturally have the attributes of the technical scope of the present invention. It is understood.

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造システム、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクに利用することができる。   The present invention can be used for a magnetic disk glass substrate manufacturing system, a magnetic disk glass substrate, and a magnetic disk.

本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図である。It is a figure explaining the glass substrate for magnetic discs concerning this embodiment. 本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the manufacturing system of the glass substrate for magnetic discs concerning this embodiment. 図2の表面欠陥検出装置による表面欠陥検出の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the surface defect detection by the surface defect detection apparatus of FIG. 図3の表面欠陥検出装置の検出器が検出可能な欠陥について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the defect which the detector of the surface defect detection apparatus of FIG. 3 can detect. 図2のデータベースに予め記憶されている表面欠陥マップの他の例を示す図である。の環境下で耐久試験した結果を示す表である。It is a figure which shows the other example of the surface defect map previously memorize | stored in the database of FIG. It is a table | surface which shows the result of an endurance test in the environment of.

符号の説明Explanation of symbols

100 …製造システム
102 …第2研磨工程
104 …強化洗浄工程
106 …最終洗浄工程
110 …サーバ
112 …データベース
130 …表面欠陥検出装置
140 …凸部
142 …凹部
200 …ガラス基板
401 …制御部
402 …表面欠陥
404 …認識部
406 …報知部
408 …作業者
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Manufacturing system 102 ... 2nd grinding | polishing process 104 ... Strengthening cleaning process 106 ... Final cleaning process 110 ... Server 112 ... Database 130 ... Surface defect detection apparatus 140 ... Convex part 142 ... Concave part 200 ... Glass substrate 401 ... Control part 402 ... Surface Defect 404 ... recognition unit 406 ... notification unit 408 ... worker

Claims (5)

磁気ディスク用ガラス基板を製造するための1つ以上の工程に対応して、各工程の処理に異常がある場合にガラス基板に生じる表面欠陥を典型的に示す表面欠陥マップを記憶する記憶手段と、
前記1つ以上の工程を経て製造された磁気ディスク用ガラス基板の表面欠陥を検出する表面欠陥検出手段と、
前記表面欠陥に類似する表面欠陥マップを認識する認識手段と、
前記表面欠陥に類似すると認識された表面欠陥マップに対応する工程を報知する報知手段と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造システム。
A storage means for storing a surface defect map typically indicating surface defects generated in the glass substrate when there is an abnormality in the processing of each step, corresponding to one or more steps for manufacturing a glass substrate for magnetic disk; ,
A surface defect detecting means for detecting a surface defect of the glass substrate for magnetic disk manufactured through the one or more steps;
Recognition means for recognizing a surface defect map similar to the surface defect;
Informing means for informing a process corresponding to the surface defect map recognized as being similar to the surface defect;
The manufacturing system of the glass substrate for magnetic discs characterized by including these.
前記報知手段は、所定枚数以上のガラス基板の表面欠陥にいずれか同一の表面欠陥マップが類似すると前記認識手段によって認識された場合に限り、該同一の表面欠陥マップに対応する工程を報知することを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板のシステム。   The notification means notifies the process corresponding to the same surface defect map only when the recognition means recognizes that any one of the same surface defect maps is similar to the surface defects of the glass substrate of a predetermined number or more. The glass substrate system for a magnetic disk according to claim 1. 前記認識手段は、前記表面欠陥検出手段が検出した表面欠陥に含まれる個々の欠陥の数が所定数以上である場合に限り、前記類似する表面欠陥マップを認識することを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造システム。   2. The recognizing unit recognizes the similar surface defect map only when the number of individual defects included in the surface defect detected by the surface defect detecting unit is a predetermined number or more. Or a system for producing a glass substrate for a magnetic disk as described in 2 above. 請求項1から3のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造システムを用いて製造されることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。   A glass substrate for a magnetic disk, which is manufactured using the system for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 3. 請求項4に記載の磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成して成ることを特徴とする磁気ディスク。   5. A magnetic disk comprising at least a magnetic layer formed on the glass substrate for a magnetic disk according to claim 4.
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