JP2009162828A - Method for manufacturing substrate device - Google Patents

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潤 山本
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潔 庄原
Atsuyuki Manabe
敦行 真鍋
Tetsuyuki Yamada
哲行 山田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a substrate device for stably disposing a spacer while saving a space. <P>SOLUTION: An array substrate 12 (glass substrate 21) is vertically disposed and a fluid adhesive 45 for fixing a spacer 15 is applied to a predetermined position. The spacer 15 is disposed on the glass substrate 21 and the spacer 15 is fixed at a predetermined position by the applied adhesive 45. The array substrate 12 and a counter substrate are disposed facing each other and laminated while keeping a gap by the spacer 15. The process can be operated as disposing the array substrate 12 in a vertical state, and the spacer 15 can be stably disposed on the array substrate 12 while saving a space. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、一対の基板間の間隙を保持するスペーサを備えた基板装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a substrate device including a spacer that holds a gap between a pair of substrates.

一般に、表示装置である液晶表示装置に用いる基板装置である液晶表示素子は、配向膜を有するアレイ基板および対向基板を配向膜が対向するように配置し、これら基板間に液晶層を介在させて構成されている。これら基板は、周辺領域にシール剤および銀ペーストが塗布されて貼り合わせられており、これら基板間には、透明電極や配向膜を介してアレイ基板上に形成された配線に対応する位置に、基板間の間隔を保持するためのスペーサが配置される。このとき、スペーサは配線上に配置されているので、バックライトが点灯された際は遮光部の影に隠れるようになっている。   In general, a liquid crystal display element, which is a substrate device used in a liquid crystal display device, which is a display device, has an array substrate having an alignment film and a counter substrate arranged so that the alignment films face each other, and a liquid crystal layer is interposed between these substrates. It is configured. These substrates are bonded together by applying a sealant and a silver paste to the peripheral region, and between these substrates, at positions corresponding to the wiring formed on the array substrate via a transparent electrode or alignment film, A spacer is disposed to maintain a distance between the substrates. At this time, since the spacer is arranged on the wiring, when the backlight is turned on, it is hidden by the shadow of the light shielding portion.

近年では、より生産性をあげるためスペーサをカラーフィルタ膜上に配置する際にインクジェット工法を用いることが検討されている。   In recent years, in order to increase productivity, it has been studied to use an ink-jet method when arranging spacers on a color filter film.

このようなインクジェット工法の際には、通常、固着成分が表面に塗布された球状のスペーサをインクとともに射出した後、熱乾燥過程で固着させる。しかしながら、このような工法では、インクジェット装置のインクジェットノズルの内部にスペーサが付着してしまい、インクジェットノズルの吐出口が塞がりスペーサが基板上に配置されないことがある。このようにスペーサが配置されないと、基板間のギャップが確保できず光学特性に狂いが生じたり、ギャップ差によるむらの原因となったりする。   In such an ink-jet method, a spherical spacer having a fixing component applied to the surface is usually ejected together with ink and then fixed in a heat drying process. However, in such a construction method, the spacer may adhere to the inside of the ink jet nozzle of the ink jet apparatus, and the discharge port of the ink jet nozzle may be blocked and the spacer may not be disposed on the substrate. If the spacers are not arranged in this way, a gap between the substrates cannot be secured, and optical characteristics are distorted, or unevenness due to the gap difference is caused.

そこで、アレイ基板あるいは対向基板の所定位置に流体状の固定部材である接着剤を塗布し、その上に表面に固着層を有さない乾式のスペーサを散布して接着剤によりスペーサを固定する方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2001−83906号公報
Therefore, a method of applying an adhesive, which is a fluid-like fixing member, to a predetermined position of the array substrate or the counter substrate and spraying a dry spacer having no fixing layer on the surface to fix the spacer with the adhesive. Is known (for example, see Patent Document 1).
JP 2001-83906 A

しかしながら、上記の方法では、基板を水平状態としてスペーサを配置するため、インクジェット装置の設置面積が大きくなってしまい、ラインへの組み込みが容易でないという問題点を有している。   However, in the above method, since the spacers are arranged with the substrate in a horizontal state, the installation area of the ink jet device is increased, and there is a problem that it is not easy to incorporate into the line.

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、省スペース化を図りつつ安定してスペーサを配置できる基板装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a substrate device that can stably arrange spacers while saving space.

本発明は、互いに対向配置される一対の基板と、これら基板間に位置してこれら基板間の間隙を保持するスペーサとを備えた基板装置の製造方法であって、前記一対の基板のいずれか一方を縦置きとして、前記スペーサを固定するための流体状の固定部材を所定位置に塗布する塗布工程と、この塗布工程の後、縦置きの前記基板に前記スペーサを配置して、塗布された前記固定部材により所定位置に前記スペーサを固定するスペーサ配置工程とを具備しているものである。   The present invention is a method of manufacturing a substrate device comprising a pair of substrates disposed opposite to each other and a spacer that is positioned between the substrates and that holds a gap between the substrates. One side is vertically placed, and a coating step is applied to a predetermined position of a fluid-like fixing member for fixing the spacer. After this coating step, the spacer is placed on the vertically placed substrate and applied. A spacer disposing step of fixing the spacer at a predetermined position by the fixing member.

そして、互いに対向配置する一対の基板のいずれか一方を縦置きとして流体状の固定部材を所定位置に塗布した後、縦置きの基板にスペーサを配置して、塗布された固定部材により所定位置にスペーサを固定する。   Then, either one of the pair of substrates opposed to each other is placed vertically and a fluid-like fixing member is applied to a predetermined position, and then a spacer is placed on the vertically placed substrate, and the applied fixing member is placed to a predetermined position. Fix the spacer.

本発明によれば、省スペース化を図りつつ安定してスペーサを配置できる。   According to the present invention, a spacer can be stably arranged while saving space.

以下、本発明の一実施の形態の構成を図1ないし図6を参照して説明する。   The configuration of an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

図4ないし図6において、11は基板装置としての表示素子である液晶表示素子、すなわち液晶セルを示し、この液晶セル11は、基板であるアレイ基板12と基板である対向基板13とが対向配置されているとともに、これら基板12,13間に光変調層としての液晶層14が介在され、かつ、基板12,13間の距離が、例えば樹脂により形成された間隙保持部材である複数のスペーサ15によって保持されている。そして、アレイ基板12と対向基板13とは、液晶層14を構成する液晶材料を注入する液晶注入口16を除く外周を囲むように配置される接着部であるシール部17によって接着されている。   4 to 6, reference numeral 11 denotes a liquid crystal display element which is a display element as a substrate device, that is, a liquid crystal cell. In the liquid crystal cell 11, an array substrate 12 which is a substrate and a counter substrate 13 which is a substrate are arranged to face each other. In addition, a liquid crystal layer 14 serving as a light modulation layer is interposed between the substrates 12 and 13, and the distance between the substrates 12 and 13 is a plurality of spacers 15 that are gap holding members formed of resin, for example. Is held by. The array substrate 12 and the counter substrate 13 are bonded to each other by a seal portion 17 that is an adhesive portion disposed so as to surround the outer periphery excluding the liquid crystal injection port 16 for injecting the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer.

なお、以下、本実施の形態において、液晶セル11は、例えば面状光源装置である図示しないバックライトを用いる透過型の表示素子として説明するが、反射型や半透過型などでも対応できることは言うまでもない。   Hereinafter, in the present embodiment, the liquid crystal cell 11 will be described as a transmissive display element using a backlight (not shown) that is a planar light source device, for example. Yes.

アレイ基板12は、透光性および絶縁性を有する透明基板である大判ガラス基板20(図1ないし図3)から切り出されるガラス基板21の液晶層14側の主面上に、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TFT)22が形成され、その上部に赤(R)、緑(G)および青(B)に対応する着色層23r,23g,23bを有するカラーフィルタ層23が例えばストライプ状にそれぞれ形成されている。さらに、これら着色層23r,23g,23bの上部には、例えばITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料により形成された透明電極である画素電極24がそれぞれ形成されており、これら画素電極24、各着色層23r,23g,23bに形成されたスルーホール25より薄膜トランジスタ22と電気的に接続されている。また、画素電極24を含む着色層23r,23g,23b上には、図示しない配向膜が形成され、このような構成により画素26をマトリクス状に有する画面表示用の表示領域27が四角形状に形成されている。さらに、表示領域27の外周であるシール部17の内縁近傍には、非表示領域としての遮光層であるブラックマトリクス(BM)層28が四角形枠状に形成されている。   The array substrate 12 is a thin film transistor as a switching element on the main surface of the glass substrate 21 cut out from the large-sized glass substrate 20 (FIGS. 1 to 3), which is a transparent substrate having translucency and insulation, on the liquid crystal layer 14 side. (TFT) 22 is formed, and color filter layers 23 having colored layers 23r, 23g, and 23b corresponding to red (R), green (G), and blue (B) are formed thereon, for example, in a stripe shape. Yes. Further, on the colored layers 23r, 23g, and 23b, pixel electrodes 24 that are transparent electrodes formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) are formed. The thin film transistors 22 are electrically connected through through holes 25 formed in the colored layers 23r, 23g, and 23b. In addition, an alignment film (not shown) is formed on the colored layers 23r, 23g, and 23b including the pixel electrode 24. With this configuration, a display area 27 for screen display having the pixels 26 in a matrix is formed in a square shape. Has been. Further, a black matrix (BM) layer 28 as a light shielding layer as a non-display area is formed in a rectangular frame shape in the vicinity of the inner edge of the seal portion 17 that is the outer periphery of the display area 27.

薄膜トランジスタ22は、ゲート電極が走査線31と接続され、ソース電極が信号線32と接続されているとともに、ドレイン電極に画素電極24が接続されており、走査線駆動回路であるゲートドライバ36からの信号が走査線31を介してゲート電極に印加されることでスイッチング制御され、信号線駆動回路であるソースドライバ37から信号線32を介して入力された信号に対応して画素電極24に電圧を印加することで、画素26をそれぞれ独立して点灯/消灯させるものである。   The thin film transistor 22 has a gate electrode connected to the scanning line 31, a source electrode connected to the signal line 32, and a drain electrode connected to the pixel electrode 24. Switching is controlled by applying a signal to the gate electrode via the scanning line 31, and a voltage is applied to the pixel electrode 24 corresponding to the signal input from the source driver 37, which is a signal line driving circuit, via the signal line 32. By applying the voltage, each pixel 26 is turned on / off independently.

走査線31および信号線32は、例えば金属などの所定の導電材料により形成される遮光部であり、各画素26の間に形成されている。   The scanning line 31 and the signal line 32 are light-shielding portions formed of a predetermined conductive material such as metal, and are formed between the pixels 26.

対向基板13は、透光性および絶縁性を有する透明基板である大判ガラス基板40から切り出されるガラス基板41の一主面上に、例えばITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料により形成された共通電極(透明電極)である対向電極42が形成され、この対向電極42を覆って図示しない配向膜が形成されている。   The counter substrate 13 is formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) on one main surface of a glass substrate 41 cut out from a large-sized glass substrate 40 that is a transparent substrate having translucency and insulation. A counter electrode 42 which is a common electrode (transparent electrode) is formed, and an alignment film (not shown) is formed to cover the counter electrode 42.

また、液晶層14は、所定の液晶材料により形成された光変調層であり、アレイ基板12側の配向膜と、対向基板13側の配向膜との間に介在されている。   The liquid crystal layer 14 is a light modulation layer formed of a predetermined liquid crystal material, and is interposed between the alignment film on the array substrate 12 side and the alignment film on the counter substrate 13 side.

そして、スペーサ15は、例えば導電性を有さない透明樹脂などにより略球状に形成され、ジェット噴射装置JのジェットノズルNからジェット噴射され、インクジェット装置IのインクジェットノズルであるインクヘッドHから吐出された流体状の固定部材である糊すなわち接着剤45により形成される接着層46によって、アレイ基板12と対向基板13とのいずれか一方、本実施の形態ではアレイ基板12上の所定の位置、例えば信号線32の近傍の位置、すなわちバックライトからの光が遮光される遮光部である各画素26の間の位置に固定されている。   The spacer 15 is formed in a substantially spherical shape using, for example, a non-conductive transparent resin, and is jetted from the jet nozzle N of the jet ejection device J and discharged from the ink head H that is the inkjet nozzle of the inkjet device I. By the adhesive layer 46 formed by the glue or adhesive 45 that is a fluid fixing member, either one of the array substrate 12 and the counter substrate 13, in this embodiment, a predetermined position on the array substrate 12, for example, It is fixed at a position in the vicinity of the signal line 32, that is, a position between the pixels 26 which are light shielding portions where light from the backlight is shielded.

また、液晶注入口16は、シール部17によってその縁部が区画されており、例えば紫外線硬化樹脂などにより形成された封止材50にて封止されている。   Further, the liquid crystal injection port 16 has an edge portion defined by a seal portion 17, and is sealed with a sealing material 50 formed of, for example, an ultraviolet curable resin.

次に、上記一実施の形態の製造方法を説明する。   Next, the manufacturing method of the one embodiment will be described.

まず、アレイ基板12の製造に際しては、大判ガラス基板20上に走査線31、信号線32および薄膜トランジスタ22などを形成し(導電部形成工程)、その上に赤色レジスト液をスピンナ塗布し、例えば約90℃で約5分間プリベークし、所定のマスクパターンを用いて、150mJ/cmの強度の紫外線により露光する。次いで、例えば約0.1重量%のTMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶液を用いて約40秒間現像し、さらに水洗い後、約200℃で1時間程度ポストベークをすることによって、着色層23rを形成する。この後、緑色レジスト液、および、青色レジスト液を用いて、着色層23g,23bも同様の工程で形成する(カラーフィルタ層形成工程)。 First, in manufacturing the array substrate 12, the scanning lines 31, the signal lines 32, the thin film transistors 22 and the like are formed on the large-sized glass substrate 20 (conductive portion forming step), and a red resist solution is applied thereon with a spinner, for example, about Prebaking is performed at 90 ° C. for about 5 minutes, and exposure is performed with ultraviolet rays having an intensity of 150 mJ / cm 2 using a predetermined mask pattern. Next, for example, development is performed for about 40 seconds using an aqueous solution of about 0.1% by weight of TMAH (tetramethylammonium hydride), followed by washing with water, followed by post-baking at about 200 ° C. for about 1 hour to form a colored layer 23r. To do. Thereafter, using the green resist solution and the blue resist solution, the colored layers 23g and 23b are also formed in the same process (color filter layer forming process).

さらに、各着色層23r,23g,23b上にスパッタリング法によりITOを堆積し、パターニングすることにより各画素電極24を形成する(画素電極形成工程)。   Further, ITO is deposited on each of the colored layers 23r, 23g, and 23b by a sputtering method, and each pixel electrode 24 is formed by patterning (pixel electrode forming step).

また、着色層23r,23g,23bの形成と同様の工程により、黒色樹脂を用いてブラックマトリクス層28を形成する(ブラックマトリクス層形成工程)。   Further, the black matrix layer 28 is formed using a black resin by the same process as the formation of the colored layers 23r, 23g, and 23b (black matrix layer forming process).

さらに、ポリイミドからなる配向膜材料を大判ガラス基板20の表示領域27に対応する部分を覆うような範囲に塗布し、配向処理を施して配向膜を形成する(アレイ基板配向膜形成工程)。   Further, an alignment film material made of polyimide is applied in a range that covers a portion corresponding to the display region 27 of the large-sized glass substrate 20, and an alignment process is performed to form an alignment film (array substrate alignment film forming step).

この後、図2(a)および図2(b)に示すように、大判ガラス基板20を縦置き、すなわち厚み方向が両側方向となるように大判ガラス基板20を立てた状態とし、インクジェット装置IのインクヘッドHにより流体状の接着剤45を、各画素26の間の位置となる走査線31に対応する位置などにて配向膜上に塗布する(塗布工程)。このとき、流体状の接着剤45は、大判ガラス基板20を縦置きとしていることにより自重により下方へと若干流れて縦長、すなわち大判ガラス基板20の面方向に沿って長軸方向を有する略楕円形状となるように、その粘度が調整されている。   Thereafter, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the large-sized glass substrate 20 is placed vertically, that is, the large-sized glass substrate 20 is erected so that the thickness direction is on both sides. The fluid adhesive 45 is applied onto the alignment film at a position corresponding to the scanning line 31 between the pixels 26 by the ink head H (application process). At this time, the fluid-like adhesive 45 flows vertically downward due to its own weight due to the large-sized glass substrate 20 being placed vertically, so that it is vertically long, that is, a substantially elliptical shape having a major axis direction along the surface direction of the large-sized glass substrate 20. The viscosity is adjusted so as to obtain a shape.

次いで、図3(a)および図3(b)に示すように、ジェット噴射装置JのジェットノズルNを用いて、表面に固着層を有さない乾式のスペーサ15を大判ガラス基板20の配向膜上にジェット噴射すると、接着剤45が付着している狙いの位置にのみスペーサ15が固定される(スペーサ配置工程)。   Next, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), using a jet nozzle N of a jet injection device J, a dry spacer 15 having no fixed layer on its surface is formed on an alignment film of a large-sized glass substrate 20. When jetting upward, the spacer 15 is fixed only at the target position where the adhesive 45 is adhered (spacer arranging step).

さらに、水流、あるいは空気圧などにより大判ガラス基板20を洗浄することで、表示領域27内の異物Dや、余剰のスペーサ15aなどが除去され、図1に示すように、正規位置のスペーサ15のみが大判ガラス基板20側に留まる(洗浄工程)。   Further, by cleaning the large-sized glass substrate 20 with water flow or air pressure, the foreign matter D in the display area 27, the excess spacer 15a, etc. are removed. As shown in FIG. Stays on the large glass substrate 20 side (cleaning process).

そして、接着剤45を所定温度で所定時間乾燥させ(乾燥工程)、所定温度で所定時間焼成処理することで、接着剤45が溶けて構成された接着層46によってスペーサ15を大判ガラス基板20上に固定する(アレイ基板側焼成工程)。   Then, the adhesive 45 is dried at a predetermined temperature for a predetermined time (drying process), and is baked at a predetermined temperature for a predetermined time, whereby the spacer 15 is formed on the large-sized glass substrate 20 by the adhesive layer 46 formed by melting the adhesive 45. (Array substrate side firing step).

一方、対向基板13の製造に際しては、大判ガラス基板40上にスパッタリング法によりITOを堆積し、対向電極42を形成した(対向電極形成工程)後、ポリイミドからなる配向膜材料を大判ガラス基板40のアレイ基板12側の表示領域27に対応する範囲を覆うように塗布し、配向処理を施して配向膜を形成する(対向基板配向膜形成工程)。   On the other hand, in manufacturing the counter substrate 13, after depositing ITO on the large format glass substrate 40 by sputtering and forming the counter electrode 42 (counter electrode forming step), the alignment film material made of polyimide is used for the large format glass substrate 40. Coating is performed so as to cover a range corresponding to the display region 27 on the array substrate 12 side, and an alignment process is performed to form an alignment film (opposing substrate alignment film forming step).

次いで、縦置き状態の大判ガラス基板20の外周周辺部にシール部17を、液晶注入用の液晶注入口16(図5)を除いて塗布した後、上記大判ガラス基板20,40をシール部17により貼り合わせ(貼り合わせ工程)、例えば枚葉方式の封着治具に入れて排気し、所定の硬化温度(例えば約170℃)にて所定時間(例えば30分)焼成した(焼成工程)後、これら貼り合わされた大判ガラス基板20,40を所定位置で分割することにより空状態の液晶セル11が完成する(焼成工程)。   Next, a seal portion 17 is applied to the peripheral portion of the outer periphery of the large-sized glass substrate 20 in a vertically placed state except for the liquid crystal injection port 16 (FIG. 5) for liquid crystal injection, and then the large-format glass substrates 20 and 40 are sealed. After bonding (bonding step), for example, after putting in a single-wafer type sealing jig and exhausting, firing at a predetermined curing temperature (for example, about 170 ° C.) for a predetermined time (for example, 30 minutes) (baking step) Then, the bonded large-sized glass substrates 20 and 40 are divided at predetermined positions to complete the empty liquid crystal cell 11 (firing process).

さらに、カイラル材が添加された液晶材料を液晶注入口16から空状態の液晶セル11へと真空注入した(注入工程)後、紫外線硬化樹脂を封止材50として液晶注入口16を封止して(封止工程)液晶セル11を完成し、この液晶セル11の両主面に、それぞれ図示しない偏光板を取り付ける(偏光板取付工程)ことにより液晶パネルが完成する。   Further, after the liquid crystal material to which the chiral material is added is vacuum-injected from the liquid crystal injection port 16 into the empty liquid crystal cell 11 (injection process), the liquid crystal injection port 16 is sealed using the ultraviolet curable resin as the sealing material 50. (Sealing step) completes the liquid crystal cell 11, and attaches polarizing plates (not shown) to both main surfaces of the liquid crystal cell 11 (polarizing plate attachment step) to complete the liquid crystal panel.

このように、上記一実施の形態によれば、アレイ基板12(ガラス基板21)に流体状の接着剤45を所定位置に塗布した後、スペーサ15を配置して、塗布された接着剤45により所定位置にスペーサ15を固定することにより、アレイ基板12を縦置きとしても、スペーサ15が接着剤45とともに重力などによりアレイ基板12から落ちてしまうことを防止できる。   Thus, according to the above-described embodiment, after applying the fluid adhesive 45 to the array substrate 12 (glass substrate 21) at a predetermined position, the spacer 15 is arranged and the applied adhesive 45 is used. By fixing the spacer 15 at a predetermined position, it is possible to prevent the spacer 15 from dropping from the array substrate 12 due to gravity or the like together with the adhesive 45 even when the array substrate 12 is placed vertically.

すなわち、例えば表面に固着層を備えたスペーサをインクとともにインクジェットにより配置する従来の場合では、アレイ基板を縦置きにすると、インクとともにスペーサが遮光部から画素26内へと移動してしまい、光抜けの原因にもなるのに対して、本実施の形態では、接着剤45とスペーサ15とを別個にアレイ基板12へと噴射することによりスペーサ15の配置およびアレイ基板12と対向基板13(ガラス基板41)との貼り合わせの際などにこれら基板12,13を縦置きして作業でき、基板を横置きとして作業する場合と比較して省スペース化が可能となり、ライン全体の装置台数を増加させて処理能力を向上することも可能となる。   That is, for example, in the conventional case where a spacer having a fixing layer on the surface is arranged together with ink by ink jet, if the array substrate is placed vertically, the spacer moves together with the ink from the light shielding portion into the pixel 26, and light leakage occurs. In the present embodiment, the adhesive 45 and the spacer 15 are separately sprayed onto the array substrate 12 to dispose the spacer 15 and the array substrate 12 and the counter substrate 13 (glass substrate). 41) The substrates 12, 13 can be placed vertically when pasting together, and space can be saved compared to the case where the substrates are placed horizontally, increasing the number of devices in the entire line. It is also possible to improve the processing capacity.

また、接着剤45をスペーサ15と別個にアレイ基板12(ガラス基板21)に塗布するので、乾式のスペーサ15を使用でき、上記スペーサ配置工程にて例えばジェット噴射装置JのジェットノズルNを用いてスペーサ15を配置することも可能になり、例えば表面に固着層を有する湿式のスペーサなどを用いる場合のようにジェットノズル内にスペーサが付着して詰まりスペーサを吐出できなくなることなどがないため、ガラス基板21(大判ガラス基板20)上にスペーサ15を安定して確実に配置できる。この結果、基板12,13間に充分な数のスペーサ15を確保できるので、基板12,13間に所定の間隔が得られないために充分な光学特性が得られなかったり、基板12,13間の間隔のばらつきにより表示むらが発生したりすることを防止できる。   Further, since the adhesive 45 is applied to the array substrate 12 (glass substrate 21) separately from the spacer 15, the dry spacer 15 can be used, and for example, using the jet nozzle N of the jet injection device J in the spacer arrangement step. It is also possible to dispose the spacer 15, and for example, when using a wet spacer having a fixed layer on the surface, the spacer does not adhere to the inside of the jet nozzle, and the spacer cannot be discharged. The spacer 15 can be stably and reliably arranged on the substrate 21 (large format glass substrate 20). As a result, a sufficient number of spacers 15 can be secured between the substrates 12 and 13, so that a predetermined interval between the substrates 12 and 13 cannot be obtained, so that sufficient optical characteristics cannot be obtained, or between the substrates 12 and 13 It is possible to prevent display unevenness from occurring due to the variation in the interval.

さらに、アレイ基板12(ガラス基板21)を縦置きにして接着剤45を所定位置に塗布した際に、この塗布された接着剤45が自重によって、例えば走査線31の幅内など、遮光部内において適度に下方に流れるように接着剤45の粘度を設定することで、比較的少ない塗布量でもスペーサ15の接着面積を広く確保することができ、スペーサ15を確実に固定することが可能になる。   Further, when the array substrate 12 (glass substrate 21) is placed vertically and the adhesive 45 is applied to a predetermined position, the applied adhesive 45 is applied by its own weight, for example, within the width of the scanning line 31 in the light shielding portion. By setting the viscosity of the adhesive 45 so that it flows moderately downward, it is possible to secure a wide bonding area of the spacer 15 even with a relatively small amount of application, and the spacer 15 can be securely fixed.

なお、上記一実施の形態において、スペーサ15はアレイ基板12側に接着固定したが、液晶セル11の構造によっては、対向基板13側に接着固定してもよい。   In the above embodiment, the spacer 15 is bonded and fixed to the array substrate 12 side. However, depending on the structure of the liquid crystal cell 11, the spacer 15 may be bonded and fixed to the counter substrate 13 side.

また、光変調層としては、液晶層14以外の任意のものを用いることができる。   As the light modulation layer, any layer other than the liquid crystal layer 14 can be used.

さらに、表示素子に限らず、一対の基板を対向配置してこれら基板の間隔をスペーサにより保持するものであれば、任意の基板装置に上記構成を適用できる。   Further, the above-described configuration can be applied to any substrate device as long as a pair of substrates are arranged to face each other and a distance between the substrates is held by a spacer.

本発明の一実施の形態の基板装置の製造方法の洗浄工程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the washing | cleaning process of the manufacturing method of the board | substrate apparatus of one embodiment of this invention. (a)は同上基板装置の製造方法の塗布工程を示す斜視図、(b)は同上基板装置の製造方法の塗布工程を示す側面図である。(a) is a perspective view which shows the application | coating process of the manufacturing method of a board | substrate apparatus same as the above, (b) is a side view which shows the application | coating process of the manufacturing method of a board | substrate apparatus same as the above. (a)は同上基板装置の製造方法のスペーサ配置工程を示す斜視図、(b)は同上基板装置の製造方法のスペーサ配置工程を示す側面図である。(a) is a perspective view which shows the spacer arrangement | positioning process of the manufacturing method of the same board | substrate apparatus, (b) is a side view which shows the spacer arrangement | positioning process of the manufacturing method of the same board | substrate apparatus. 同上基板装置の要部を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the principal part of a board | substrate apparatus same as the above. 同上基板装置を示す平面図である。It is a top view which shows a substrate apparatus same as the above. 同上基板装置を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows a board | substrate apparatus same as the above.

符号の説明Explanation of symbols

11 基板装置としての液晶セル
12 基板であるアレイ基板
13 基板である対向基板
15 スペーサ
45 固定部材である接着剤
J ジェット噴射装置
11 Liquid crystal cell as a substrate device
12 Substrate array substrate
13 Opposite substrate
15 Spacer
45 Adhesive as a fixing member J Jet injection device

Claims (2)

互いに対向配置される一対の基板と、これら基板間に位置してこれら基板間の間隙を保持するスペーサとを備えた基板装置の製造方法であって、
前記一対の基板のいずれか一方を縦置きとして、前記スペーサを固定するための流体状の固定部材を所定位置に塗布する塗布工程と、
この塗布工程の後、縦置きの前記基板に前記スペーサを配置して、塗布された前記固定部材により所定位置に前記スペーサを固定するスペーサ配置工程と
を具備していることを特徴とする基板装置の製造方法。
A substrate device manufacturing method comprising a pair of substrates disposed opposite to each other and a spacer that is positioned between the substrates and holds a gap between the substrates,
One of the pair of substrates is placed vertically, and an application step for applying a fluid fixing member for fixing the spacer to a predetermined position;
And a spacer arrangement step of arranging the spacer on the vertically placed substrate after the coating step and fixing the spacer at a predetermined position by the applied fixing member. Manufacturing method.
前記スペーサ配置工程で、前記スペーサをジェット噴射装置により所定位置に塗布する
ことを特徴とする請求項1記載の基板装置の製造方法。
The method of manufacturing a substrate device according to claim 1, wherein in the spacer arranging step, the spacer is applied to a predetermined position by a jet spray device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011164426A (en) * 2010-02-10 2011-08-25 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
CN102736322A (en) * 2011-04-06 2012-10-17 陈国平 Method for fabricating flexible substrate LCD (liquid crystal display) and flexible substrate LCD

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