JP2009158129A - Manufacturing method of silver conductive film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a silver conductive film superior in adhesion characteristics to a substrate even if calcined at a comparatively low temperature of 200°C or less without adding a silane coupling agent or a thermosetting resin. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the silver conductive film is equipped with a process of depositing silver particles covered by a first organic protective material by reduction treating a silver compound through heating in existence of the first organic protective material in alcohol or polyol as a reaction medium and a reducing agent, a process of fabricating silver particle dispersion liquid by dispersing the formed silver particles in a liquid-state organic medium, a process of precipitating the silver particles covered by a composite organic protective material composed of the first organic protective material and the second organic protective material by mixing the fabricated silver particle liquid and a second organic protective material, a process of forming the silver conductive film on the substrate by calcining a silver coating obtained by mixing the silver particles covered by the composite organic protective material with the organic medium after coating it on the substrate, and a process of compression-treating the silver conductive film formed on the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、銀導電膜の製造方法に関し、特に、基板上に銀塗料を塗布して焼成することにより形成される銀導電膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a silver conductive film, and more particularly to a method for producing a silver conductive film formed by applying a silver paint on a substrate and baking it.

従来、電子部品などの電極や回路を形成する方法として、銀粉などの金属粉末をガラスフリットや無機酸化物とともに有機ビヒクル中に分散させたペーストを印刷やディッピングなどによって基板上に所定のパターンに形成した後、500℃以上の温度で加熱することによって、有機成分を除去し、銀粒子などの金属粒子同士を焼結させて銀導電膜などの導電膜を形成する所謂ペースト法が広く用いられている。このような厚膜ぺースト法によって形成された導電膜と基板の密着性は、焼成工程において軟化して流動したガラスフリットが基板を濡らすことによって、また、導電膜を形成する金属の焼結膜中にも軟化して流動したガラスフリットが浸透すること(ガラスボンド)によって確保されている。   Conventionally, as a method for forming electrodes and circuits for electronic components, etc., a paste in which metal powder such as silver powder is dispersed in an organic vehicle together with glass frit or inorganic oxide is formed in a predetermined pattern on a substrate by printing or dipping. Then, by heating at a temperature of 500 ° C. or higher, a so-called paste method is widely used in which an organic component is removed and metal particles such as silver particles are sintered together to form a conductive film such as a silver conductive film. Yes. The adhesion between the conductive film formed by such a thick film paste method and the substrate is such that the glass frit softened and fluidized in the baking process wets the substrate, and also in the sintered metal film that forms the conductive film. In addition, the softened and flown glass frit penetrates (glass bond).

また、金属粒子の粒径が数nm程度になると、比表面積が非常に大きくなって、融点が劇的に低下するため、200℃以下の低温で焼成しても金属粒子同士を焼結させることができる。   In addition, when the particle size of the metal particles is about several nanometers, the specific surface area becomes very large and the melting point decreases dramatically, so that the metal particles can be sintered even when fired at a low temperature of 200 ° C. or less. Can do.

しかし、200℃以下の低い温度で焼成する場合には、従来の厚膜ペースト法と同様にガラスフリット添加しても、ガラスフリットの軟化点より低い温度であるため、ガラスフリットが軟化・流動しないので、基板を濡らすことがなく、基板に対する導電膜の密着性が悪くなるという問題がある。特に、ガラス基板やポリイミドフィルムなどの樹脂基板との金属薄膜の密着性が悪くなる。   However, in the case of firing at a low temperature of 200 ° C. or lower, even if glass frit is added as in the conventional thick film paste method, the glass frit does not soften or flow because the temperature is lower than the softening point of the glass frit. Therefore, there is a problem that the adhesion of the conductive film to the substrate is deteriorated without wetting the substrate. In particular, the adhesion of the metal thin film to a resin substrate such as a glass substrate or a polyimide film is deteriorated.

このように比較的低温で焼成した場合の金属薄膜と基板との密着性を向上させる方法として、有機溶剤に金属微粒子が分散した金属微粒子分散液およびシランカップリング剤を含むペーストをガラス基板上に塗布して、250〜300℃の温度で焼成することによってガラス基板上に金属薄膜を形成する方法(例えば、特許文献1参照)、平均粒径0.5〜20μmの金属フィラーと平均粒径1〜100nmの金属微粒子を熱硬化性樹脂中に分散させて導電性金属ペーストを形成する方法(例えば、特許文献2参照)などが提案されている。   As a method for improving the adhesion between the metal thin film and the substrate when fired at such a relatively low temperature, a paste containing a metal fine particle dispersion in which metal fine particles are dispersed in an organic solvent and a silane coupling agent is applied to a glass substrate. A method of forming a metal thin film on a glass substrate by coating and baking at a temperature of 250 to 300 ° C. (see, for example, Patent Document 1), a metal filler having an average particle size of 0.5 to 20 μm and an average particle size of 1 A method of forming a conductive metal paste by dispersing fine metal particles of ˜100 nm in a thermosetting resin (for example, see Patent Document 2) has been proposed.

特開2004-179125号公報(段落番号0013)JP 2004-179125 A (paragraph number 0013) WO2002/035554号公報(第6−10頁)WO2002 / 035554 (page 6-10)

しかし、特許文献1の方法では、ペーストにシランカップリング剤を添加しているので、ペーストの粘度が経時変化するという問題がある。また、特許文献2の方法では、ペーストに熱硬化性樹脂を使用しているので、このペーストを使用して形成した導電膜上に有機物が残存して誘電体層を形成すると、この導電膜を真空雰囲気中に配置した場合に、有機成分の脱離による誘電体層の膨れや真空雰囲気の環境汚染などによる回路の信頼性が低下することが懸念され、また、ペーストが樹脂を含んでいるために、ペーストの粘度を低くすることが困難になるという問題がある。   However, the method of Patent Document 1 has a problem that the viscosity of the paste changes with time because a silane coupling agent is added to the paste. Moreover, in the method of Patent Document 2, since a thermosetting resin is used for the paste, when the organic substance remains on the conductive film formed using this paste to form a dielectric layer, the conductive film is When placed in a vacuum atmosphere, there is a concern that the reliability of the circuit may decrease due to expansion of the dielectric layer due to desorption of organic components or environmental contamination of the vacuum atmosphere, and the paste contains a resin. In addition, there is a problem that it is difficult to reduce the viscosity of the paste.

したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、シランカップリング剤や熱硬化性樹脂を加えることなく、200℃以下の比較的低温で焼成しても、基板との密着性が良好な銀導電膜の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, in view of such a conventional problem, the present invention has good adhesion to a substrate even when baked at a relatively low temperature of 200 ° C. or less without adding a silane coupling agent or a thermosetting resin. An object of the present invention is to provide a method for producing a silver conductive film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、アルコールまたはポリオール中において第1の有機保護材の存在下で銀化合物を還元処理して銀粒子を生成し、生成した銀粒子を液状有機媒体中に分散させて銀粒子分散液を作製し、作製した銀粒子分散液に第2の有機保護材を混合して銀粒子を沈降させ、沈降した銀粒子を有機媒体と混合して得られた銀塗料を基板上に塗布した後に焼成して基板上に銀導電膜を形成し、基板上に形成された銀導電膜を圧縮処理することにより、シランカップリング剤や熱硬化性樹脂を加えることなく、200℃以下の低温で焼成しても、基板との密着性が良好な銀導電膜を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of diligent research to solve the above problems, the inventors of the present invention reduced the silver compound in the presence of the first organic protective material in alcohol or polyol to generate silver particles, and the generated silver particles Is dispersed in a liquid organic medium to prepare a silver particle dispersion, and the prepared silver particle dispersion is mixed with a second organic protective material to precipitate silver particles, and the precipitated silver particles are mixed with the organic medium. After applying the silver paint obtained on the substrate and baking it, a silver conductive film is formed on the substrate, and the silver conductive film formed on the substrate is compressed to give a silane coupling agent or thermosetting It has been found that a silver conductive film having good adhesion to a substrate can be produced even when baked at a low temperature of 200 ° C. or lower without adding a resin, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明による銀導電膜の製造方法は、アルコールまたはポリオール中において第1の有機保護材の存在下で銀化合物を還元処理して銀粒子を生成する工程と、生成した銀粒子を液状有機媒体中に分散させて銀粒子分散液を作製する工程と、作製した銀粒子分散液に第2の有機保護材を混合して銀粒子を沈降させる工程と、沈降した銀粒子を有機媒体と混合して得られた銀塗料を基板上に塗布した後に焼成して基板上に銀導電膜を形成する工程と、基板上に形成された銀導電膜を圧縮処理する工程とを備えたことを特徴とする。   That is, the method for producing a silver conductive film according to the present invention includes a step of reducing silver compound in alcohol or polyol in the presence of the first organic protective material to generate silver particles, and the generated silver particles are liquid organic. A step of producing a silver particle dispersion by dispersing in a medium, a step of mixing a second organic protective material into the produced silver particle dispersion and precipitating the silver particles, and mixing the precipitated silver particles with an organic medium And a step of forming a silver conductive film on the substrate by baking after applying the silver paint obtained on the substrate and a step of compressing the silver conductive film formed on the substrate. And

この銀導電膜の製造方法において、第1の有機保護材が不飽和結合を有する分子量200以上の第1級アミンであり、第2の有機保護材が炭素数6〜12の第1級アミンであるのが好ましい。また、還元処理が50〜200℃の温度で行われるのが好ましく、銀粒子を沈降させる際に5〜30℃の温度に維持するのが好ましい。さらに、圧縮処理がカレンダーロールを用いて行われるのが好ましく、銀粒子の平均粒径(DTEM)が20nm以下であるのが好ましい。 In this silver conductive film manufacturing method, the first organic protective material is a primary amine having an unsaturated bond and having a molecular weight of 200 or more, and the second organic protective material is a primary amine having 6 to 12 carbon atoms. Preferably there is. Moreover, it is preferable that a reduction process is performed at the temperature of 50-200 degreeC, and it is preferable to maintain at the temperature of 5-30 degreeC when silver particles are settled. Furthermore, the compression treatment is preferably performed using a calender roll, and the average particle diameter (D TEM ) of the silver particles is preferably 20 nm or less.

本発明によれば、シランカップリング剤や熱硬化性樹脂を加えることなく、200℃以下の低温で焼成しても、基板との密着性が良好な銀導電膜を製造することができる。   According to the present invention, a silver conductive film having good adhesion to a substrate can be produced even when baked at a low temperature of 200 ° C. or lower without adding a silane coupling agent or a thermosetting resin.

本発明による銀導電膜の製造方法の実施の形態は、(1)反応媒体および還元剤としてのアルコールまたはポリオール中において、第1の有機保護材の存在下で加熱して銀化合物を還元処理することにより、第1の有機保護材で被覆された銀粒子を析出させる工程(銀粒子生成工程)と、(2)生成した銀粒子を液状有機媒体中に分散させて銀粒子分散液を作製する工程(銀粒子分散液作製工程)と、(3)作製した銀粒子分散液と第2の有機保護材を混合して、第1の有機保護材と第2の有機保護材からなる複合有機保護材で被覆された銀粒子を沈降させる工程(銀粒子沈降工程)と、(4)複合有機保護材で被覆された銀粒子を有機媒体と混合して得られた銀塗料を基板に塗布した後に焼成して基板上に銀導電膜を形成する工程(銀導電膜形成工程)と、(5)基板上に形成された銀導電膜を圧縮処理する工程(圧縮処理工程)とを備えている。以下、これらの各工程について説明する。   In the embodiment of the method for producing a silver conductive film according to the present invention, (1) a silver compound is reduced by heating in the presence of a first organic protective material in a reaction medium and an alcohol or polyol as a reducing agent. Thus, a step of depositing silver particles coated with the first organic protective material (a silver particle generation step), and (2) dispersing the generated silver particles in a liquid organic medium to produce a silver particle dispersion. Step (silver particle dispersion preparation step) and (3) composite organic protection comprising the first organic protection material and the second organic protection material by mixing the prepared silver particle dispersion and the second organic protection material A step of precipitating silver particles coated with a material (silver particle settling step), and (4) after applying a silver paint obtained by mixing silver particles coated with a composite organic protective material with an organic medium to a substrate A step of firing to form a silver conductive film on the substrate (silver conductive A forming process), and a (5) a step of compressing the silver film formed on the substrate (compression process). Hereinafter, each of these steps will be described.

(1)銀粒子生成工程
まず、反応媒体および還元剤としてのアルコールまたはポリオール中において、第1の有機保護材の存在下で加熱して銀化合物を還元処理することにより、第1の有機保護材で被覆された銀粒子を析出させる。
(1) Silver particle production | generation process First, in alcohol or polyol as a reaction medium and a reducing agent, it heats in presence of a 1st organic protective material, and reduces a silver compound, A 1st organic protective material The silver particles coated with are precipitated.

アルコールまたはポリオールは、銀化合物の還元剤として機能するとともに、反応系の液状有機媒体としても機能する。このように反応媒体および還元剤としてアルコールまたはポリオールを使用することによって、不純物の混入の少ない銀ナノ粒子(粒径20nm程度以下の銀微粒子)を得ることができる。   The alcohol or polyol functions as a reducing agent for the silver compound and also functions as a liquid organic medium for the reaction system. Thus, by using alcohol or polyol as a reaction medium and a reducing agent, silver nanoparticles (silver fine particles having a particle size of about 20 nm or less) with less impurities can be obtained.

銀化合物の還元反応は、加熱によって反応媒体および還元剤としてのアルコールまたはポリオールの蒸発と凝縮を繰り返す還流条件下で(蒸発したアルコールまたはポリオールを液相に還流させながら)行われるのが好ましい。このように還元反応を還流条件下で行うことにより、不純物の混入を防ぎ、例えば、銀ナノ粒子を配線材料として使用とした場合に抵抗値を小さくすることができる。   The reduction reaction of the silver compound is preferably carried out under reflux conditions in which the reaction medium and the alcohol or polyol as the reducing agent are repeatedly evaporated and condensed by heating (while the evaporated alcohol or polyol is refluxed to the liquid phase). By carrying out the reduction reaction under reflux conditions in this way, it is possible to prevent the mixing of impurities, and to reduce the resistance value when, for example, silver nanoparticles are used as a wiring material.

そのため、アルコールまたはポリオールの沸点は、低い方がよく、80〜300℃であるのが好ましく、80〜200℃であるのがさらに好ましく、80〜150℃であるのが最も好ましい。また、アルコールの場合、炭素鎖ができるだけ長い方が還元性の観点から好ましい。   Therefore, the lower boiling point of the alcohol or polyol is better, preferably 80 to 300 ° C, more preferably 80 to 200 ° C, and most preferably 80 to 150 ° C. In the case of alcohol, it is preferable from the viewpoint of reducing ability that the carbon chain be as long as possible.

アルコールとしては、プロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、1−オクチルアルコール、2−オクチルアルコール、アリルアルコール、クロチルアルコール、シクロペンタノールなどを使用することができ、ポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールなどを使用することができ、特に、イソブタノールまたはn−ブタノールを使用するのが好ましい。   As alcohol, use propyl alcohol, n-butanol, isobutanol, sec-butyl alcohol, hexyl alcohol, heptyl alcohol, 1-octyl alcohol, 2-octyl alcohol, allyl alcohol, crotyl alcohol, cyclopentanol, etc. As the polyol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol and the like can be used, and it is particularly preferable to use isobutanol or n-butanol.

還元反応の際に溶媒(反応媒体および還元剤)中に共存する第1の有機保護材として機能する有機化合物としては、不飽和結合を有する第1級アミンを使用することができる。このように不飽和結合を有する第1級アミンを使用すると、この第1級アミンによって表面が保護された銀ナノ粒子を合成することができる。このように不飽和結合を有する第1級アミンを使用すると、不飽和結合の影響によって、析出した銀粒子の表面を第1級アミンの分子が取り囲み、第1級アミンが、銀の還元がある程度以上に進行しないようにするバリアとして機能し、その結果、銀の粒成長を抑制し、比較的粒径が揃った銀ナノ粒子を形成することができると考えられる。この不飽和結合は、第1級アミンの1分子中に少なくとも1個あればよい。また、2種以上の第1級アミンを使用してもよい。なお、不飽和結合数を増やすことによって、銀粒子の表面に存在する有機保護材中の炭素数を調整することができるので、必要に応じて不飽和結合数が異なる有機化合物を添加すればよい。   As the organic compound that functions as the first organic protective material that coexists in the solvent (reaction medium and reducing agent) in the reduction reaction, a primary amine having an unsaturated bond can be used. When a primary amine having an unsaturated bond is used, silver nanoparticles whose surface is protected by the primary amine can be synthesized. When a primary amine having an unsaturated bond is used as described above, the surface of the precipitated silver particles is surrounded by the primary amine molecules due to the influence of the unsaturated bond, and the primary amine reduces silver to some extent. It is considered that it functions as a barrier that does not proceed as described above, and as a result, it is possible to suppress silver grain growth and to form silver nanoparticles having a relatively uniform particle diameter. There may be at least one unsaturated bond in one molecule of the primary amine. Two or more primary amines may be used. In addition, since the number of carbons in the organic protective material present on the surface of the silver particles can be adjusted by increasing the number of unsaturated bonds, organic compounds having different numbers of unsaturated bonds may be added as necessary. .

また、第1の有機保護材としての第1級アミンは、分子量200以上の第1級アミンであるのが好ましく、分子量200〜400程度の第1級アミンであるのがさらに好ましい。分子量が小さい第1級アミンでは、液状有機媒体中において銀粒子が凝集および沈降し易く、均一な還元反応を妨げる場合があり、粒径分布を均一化するなどの品質管理面の制御が難しくなる。また、液状有機媒体中に銀粒子を単分散させ難くなる。一方、分子量が過剰に大きい第1級アミンを使用すると、凝集抑制効果を高めることができるが、銀粒子の表面を覆う第1の有機保護材としての第1級アミンの一部または大部分を、後の工程(後述する銀粒子沈降工程)において第2の有機保護材としての第1級アミンに置き換え難くなるおそれがある。なお、第1の有機保護材としての第1級アミンとして、オレイルアミンを使用することができる。   Moreover, the primary amine as the first organic protective material is preferably a primary amine having a molecular weight of 200 or more, more preferably a primary amine having a molecular weight of about 200 to 400. With a primary amine having a small molecular weight, silver particles tend to aggregate and settle in a liquid organic medium, which may hinder a uniform reduction reaction, making it difficult to control quality control such as making the particle size distribution uniform. . Further, it becomes difficult to monodisperse the silver particles in the liquid organic medium. On the other hand, when a primary amine having an excessively large molecular weight is used, the aggregation suppressing effect can be enhanced. However, a part or most of the primary amine as the first organic protective material covering the surface of the silver particles is used. In the subsequent step (silver particle sedimentation step described later), it may be difficult to replace the primary amine as the second organic protective material. In addition, oleylamine can be used as the primary amine as the first organic protective material.

還元反応の際に溶媒(反応媒体および還元剤)中に共存させる第1の有機保護材としての第1級アミンの量は、銀に対して0.1〜20当量であるのが好ましく、1.0〜15当量であるのがさらに好ましく、2.0〜10当量であるのが最も好ましい。なお、第1級アミンの場合、銀1モルに対してアミン1モルが1当量に相当する。第1の有機保護材としての第1級アミンの使用量が少な過ぎると、銀粒子の表面の有機保護材の量が不足して、液中で銀粒子を単分散させることができなくなる。一方、第1の有機保護材としての第1級アミンの量が多過ぎると、第1級アミンの一部または大部分を、後の工程(後述する銀粒子沈降工程)において第2の有機保護材としての第1級アミンに置き換える反応の効率が悪くなるおそれがある。   The amount of the primary amine as the first organic protective material that coexists in the solvent (reaction medium and reducing agent) during the reduction reaction is preferably 0.1 to 20 equivalents relative to silver. It is more preferably 0.0 to 15 equivalents, and most preferably 2.0 to 10 equivalents. In the case of primary amine, 1 mol of amine corresponds to 1 equivalent per 1 mol of silver. If the amount of primary amine used as the first organic protective material is too small, the amount of the organic protective material on the surface of the silver particles is insufficient, and the silver particles cannot be monodispersed in the liquid. On the other hand, if the amount of the primary amine as the first organic protective material is too large, a part or most of the primary amine is converted into the second organic protection in the subsequent step (silver particle sedimentation step described later). There is a possibility that the efficiency of the reaction to replace the primary amine as the material is deteriorated.

また、還元処理を促進させるために還元補助剤を使用してもよい。この還元補助剤は、還元反応の終了近くで添加するのが好ましく、Agに対するモル比(還元補助剤/Ag)が0.1〜20になるように添加するのが好ましい。還元補助剤として、分子量100〜1000のアミン化合物を使用するのが好ましく、第2級アミンおよび第3級アミンの少なくとも一方を使用するのがさらに好ましい。例えば、還元補助剤として、ジイソプロピルアミン、ジエチレントリアミン、N−(2−アミノエチル)エタノールアミン、ジエタノールアミン、ビス(2−シアノエチル)アミン、イミノビス(プロピルアミン)、N−nブチルアニリン、ジフェニルアミン、ジ−2−エチルヘキシルアミン、ジオクチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルエチルアミン、N−ニトロソジメチルアミン、2−ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ジエチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリアリルアミン、N−メチル−3、3’−イミノビス(プロピルアミン)、トリエタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、3−(ジブチルアミン)プロピルアミン、N−ニトロソジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トリ−n−オクチルアミンなどを使用することができ、特に、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを使用するのが好ましい。   Moreover, you may use a reduction adjuvant in order to accelerate | stimulate a reduction process. The reduction aid is preferably added near the end of the reduction reaction, and is preferably added so that the molar ratio to Ag (reduction aid / Ag) is 0.1-20. As the reducing aid, it is preferable to use an amine compound having a molecular weight of 100 to 1000, and it is more preferable to use at least one of a secondary amine and a tertiary amine. For example, as a reduction auxiliary agent, diisopropylamine, diethylenetriamine, N- (2-aminoethyl) ethanolamine, diethanolamine, bis (2-cyanoethyl) amine, iminobis (propylamine), Nnbutylaniline, diphenylamine, di-2 -Ethylhexylamine, dioctylamine, trimethylamine, dimethylethylamine, N-nitrosodimethylamine, 2-dimethylaminoethanol, dimethylaminoethanol, triethylamine, tetramethylethylenediamine, diethylethanolamine, methyldiethanolamine, triallylamine, N-methyl-3, 3′-iminobis (propylamine), triethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, 3- (dibutylamine) propylamino , N- nitrosodiphenylamine, triphenylamine, etc. can be used tri -n- octyl amine, especially diethanolamine, are preferably used, such as triethanolamine.

銀の供給源である銀化合物としては、溶媒(反応媒体および還元剤)に溶解することができれば種々の銀化合物を使用することができ、塩化銀、硝酸銀、酸化銀、炭酸銀などを使用することができるが、工業的観点から硝酸銀を使用するのが好ましい。銀化合物の量は、反応時の液中のAgイオン濃度が、好ましくは0.05モル/L以上、さらに好ましくは0.05〜5.0モル/Lになる量であり、第1の有機保護材としての第1級アミンのAgに対するモル比(第1の有機保護材/Ag)が、0.05〜5.0になるのが好ましい。   As a silver compound as a silver supply source, various silver compounds can be used as long as they can be dissolved in a solvent (reaction medium and reducing agent), and silver chloride, silver nitrate, silver oxide, silver carbonate, etc. are used. However, it is preferable to use silver nitrate from an industrial point of view. The amount of the silver compound is such that the Ag ion concentration in the liquid during the reaction is preferably 0.05 mol / L or more, more preferably 0.05 to 5.0 mol / L. The molar ratio of the primary amine as the protective material to Ag (first organic protective material / Ag) is preferably 0.05 to 5.0.

第1の有機保護材としての第1級アミンで覆われた銀粒子は、銀粒子と第1の有機保護材の合計に対する第1の有機保護材の存在割合(以下、「第1の有機保護材割合」という)が0.05〜25質量%であるのが好ましい。第1の有機保護材割合が低過ぎると、銀粒子が凝集し易く、一方、第1の有機保護材割合が高くなると、第1の有機保護材としての第1級アミンの一部または大部分を後の工程(後述する銀粒子沈降工程)において第2の有機保護材としての第1級アミンに置き換える反応の効率が悪くなるおそれがある。   The silver particles covered with the primary amine as the first organic protective material have a ratio of the first organic protective material to the total of the silver particles and the first organic protective material (hereinafter referred to as “first organic protective material”). The material ratio ”is preferably 0.05 to 25% by mass. If the ratio of the first organic protective material is too low, the silver particles are likely to aggregate. On the other hand, if the ratio of the first organic protective material is high, a part or most of the primary amine as the first organic protective material. There is a possibility that the efficiency of the reaction of substituting with the primary amine as the second organic protective material is deteriorated in the later step (silver particle sedimentation step described later).

還元反応の温度は、50〜200℃であることが好ましい。反応温度が低過ぎると、アルコール類の還元作用を発揮し難く、反応が進み難いとともに、還元不良を生じるおそれがある。一方、反応温度が高過ぎると、還元の進み過ぎや液中における焼結が起こり易く、粒子の粗大化や粒径のばらつきが大きくなるおそれがある。特に、インクやペーストとして微細配線を形成するためには、平均粒径DTEMが20nm以下の銀微粒子を使用するのが好ましいので、反応温度を50〜150℃にするのが好ましく、60〜140℃にするのがさらに好ましく、80〜130℃にするのが最も好ましい。 The temperature of the reduction reaction is preferably 50 to 200 ° C. If the reaction temperature is too low, it is difficult to exert the reducing action of alcohols, the reaction is difficult to proceed, and there is a risk of causing poor reduction. On the other hand, when the reaction temperature is too high, the reduction proceeds excessively or sintering in the liquid tends to occur, and there is a possibility that the coarsening of the particles and the variation in the particle diameter become large. In particular, in order to form fine wiring as an ink or paste, it is preferable to use silver fine particles having an average particle diameter DTEM of 20 nm or less, so the reaction temperature is preferably 50 to 150 ° C., and preferably 60 to 140 More preferably, the temperature is set to 80 ° C to 130 ° C.

なお、還元を多段に分けて行ってもよい。すなわち、還元が急激に進行すると、粒子が著しく成長し過ぎる場合があるので、粒径の制御を効果的に行うために、最初に低温で還元を行った後に高温に切り替えて還元を行ってもよいし、あるいは、徐々に温度を高めながら還元を進行させてもよい。この場合、温度の差が大きいと粒度分布に著しい変化が生じるおそれがあるので、最も低い温度と最も高い温度の差を20℃以内にするのが好ましく、15℃以内にするのがさらに好ましく、10℃以内に厳密に制御するのが最も好ましい。   The reduction may be performed in multiple stages. That is, if the reduction proceeds rapidly, the particles may grow significantly too much. Therefore, in order to effectively control the particle size, the reduction may be performed first at a low temperature and then at a high temperature. Alternatively, the reduction may proceed while gradually raising the temperature. In this case, if the temperature difference is large, the particle size distribution may change significantly. Therefore, the difference between the lowest temperature and the highest temperature is preferably within 20 ° C, more preferably within 15 ° C. Most preferably, it is strictly controlled within 10 ° C.

(2)銀粒子分散液作製工程
次に、銀粒子生成工程(湿式プロセスによる還元反応)において生成した銀粒子(第1の有機保護材で被覆された銀粒子)を固液分離および洗浄した後、銀粒子を液状有機媒体中に分散させて銀粒子分散液を作製する。
(2) Silver Particle Dispersion Preparation Step Next, after solid-liquid separation and washing of the silver particles (silver particles coated with the first organic protective material) generated in the silver particle generation step (reduction reaction by a wet process) Then, silver particles are dispersed in a liquid organic medium to prepare a silver particle dispersion.

液状有機媒体としては、第1の有機保護材としての第1級アミンで被覆された銀粒子が良好に分散(単分散)することができる液状有機媒体を選択すればよい。例えば、炭化水素系の液状有機媒体を使用することができ、イソオクタン、n−デカン、イソドデカン、イソヘキサン、n−ウンデカン、n−テトラデカン、n−ドデカン、トリデカン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素や、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、デカリン、テトラリンなどの芳香族炭化水素などの1種以上を使用して液状有機媒体とするのが好ましい。なお、「銀粒子が単分散すること」とは、液状媒体中に個々の銀粒子が互いに凝集することなく独立して動くことができる状態で存在していることをいい、銀粒子を含む液を遠心分離によって固液分離したときに液中に銀粒子が分散したまま残っている状態の液(上澄み液)を銀粒子分散液とすることができる。   As the liquid organic medium, a liquid organic medium capable of satisfactorily dispersing (monodispersing) the silver particles coated with the primary amine as the first organic protective material may be selected. For example, a hydrocarbon-based liquid organic medium can be used, and aliphatic hydrocarbons such as isooctane, n-decane, isododecane, isohexane, n-undecane, n-tetradecane, n-dodecane, tridecane, hexane, heptane, etc. It is preferable to use one or more of aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, decalin, and tetralin to form a liquid organic medium. “Silver particles are monodispersed” means that individual silver particles exist in a liquid medium in a state where they can move independently without agglomerating with each other. When the liquid is separated into solid and liquid by centrifugation, the liquid (supernatant liquid) in which the silver particles remain dispersed in the liquid can be used as the silver particle dispersion.

(3)銀粒子沈降工程
次に、作製した銀粒子分散液(第1の有機保護材としての第1級アミンで被覆されている銀粒子が液状有機媒体中に単分散している銀粒子分散液)と第2の有機保護材を混合して、第1の有機保護材と第2の有機保護材からなる複合有機保護材で銀粒子を被覆する。
(3) Silver particle sedimentation step Next, the prepared silver particle dispersion (silver particle dispersion in which silver particles coated with a primary amine as a first organic protective material are monodispersed in a liquid organic medium) Liquid) and the second organic protective material are mixed, and the silver particles are covered with a composite organic protective material composed of the first organic protective material and the second organic protective material.

作製した銀粒子分散液と第2の有機保護材としての炭素数6〜12の第1級アミンを混合すると、個々の銀粒子の周囲に第2の有機保護材としての第1級アミンが存在する状態、すなわち、銀粒子が液中で第2の有機保護材としての第1級アミンに包囲されている状態にすることができる。この状態をしばらく維持すると、第1の有機保護材としての第1級アミンの一部が銀粒子から外れて、第2の有機保護材としての第1級アミンに置き換えられる。この置き換え(以下「置き換え反応」という)は、撹拌しないで静置しても進行する。この置き換え反応によって、第1の有機保護材としての第1級アミンと第2の有機保護材としての第1級アミンによって構成される複合有機保護材で被覆された銀ナノ粒子を得ることができる。なお、複合有機保護材中に残留する第1の有機保護材としての第1級アミンは、分子量が200以上と比較的大きいので、銀粒子の周囲に付着して、液中で銀粒子を浮遊させるように作用する。   When the produced silver particle dispersion and the primary amine having 6 to 12 carbon atoms as the second organic protective material are mixed, the primary amine as the second organic protective material exists around each silver particle. In other words, the silver particles can be surrounded by the primary amine as the second organic protective material in the liquid. If this state is maintained for a while, a part of the primary amine as the first organic protective material is removed from the silver particles and replaced with the primary amine as the second organic protective material. This replacement (hereinafter referred to as “replacement reaction”) proceeds even when left without stirring. By this replacement reaction, silver nanoparticles coated with a composite organic protective material composed of a primary amine as the first organic protective material and a primary amine as the second organic protective material can be obtained. . In addition, since the primary amine as the first organic protective material remaining in the composite organic protective material has a relatively large molecular weight of 200 or more, it adheres to the periphery of the silver particles and floats the silver particles in the liquid. It works to let you.

この置き換え反応は、主に第1の有機保護材としての第1級アミンと第2の有機保護材としての第1級アミンの疎水基の大きさの相違に起因する、金属銀と第1級アミンとの親和力の差によって進行すると考えられる。また、第1の有機保護材として不飽和結合を有する第1級アミンを使用することによって、第1級アミンが金属銀から脱離するのを容易にして、第2の有機保護材としての第1級アミンとの置き換え反応の進行に寄与していると考えられる。   This replacement reaction is mainly caused by the difference in the size of the hydrophobic group of the primary amine as the first organic protective material and the size of the hydrophobic group of the primary amine as the second organic protective material. It is thought that the progression proceeds due to the difference in affinity with amine. Further, by using a primary amine having an unsaturated bond as the first organic protective material, the primary amine can be easily detached from the metallic silver, and the second organic protective material can be used as the second organic protective material. It is thought that it contributes to the progress of the substitution reaction with the primary amine.

この置き換え反応は、常温で進行するが、温度が高くなり過ぎると不用意な焼結が生じるおそれがあるので、5〜30℃程度で行うのが好ましく、10〜20℃程度で行うのがさらに好ましい。また、銀粒子が液中で第2の有機保護材としての第1級アミンに包囲されている状態にすると、時間とともに第2の有機保護材としての第1級アミンによる置き換え量が増えていくが、静置した場合と撹拌した場合のいずれの場合でも、30分間以上の置き換え反応時間を確保することが望ましい。但し、反応時間が24時間を超えても、それ以上の置き換え反応はあまり進行しないので、24時間以内で置き換え反応を終了させるのが実用的である。   This replacement reaction proceeds at room temperature, but if the temperature becomes too high, there is a risk of inadvertent sintering, so it is preferably performed at about 5 to 30 ° C, more preferably at about 10 to 20 ° C. preferable. Further, when the silver particles are surrounded by the primary amine as the second organic protective material in the liquid, the amount of replacement by the primary amine as the second organic protective material increases with time. However, it is desirable to secure a replacement reaction time of 30 minutes or more in both cases of standing and stirring. However, even if the reaction time exceeds 24 hours, further replacement reaction does not proceed so much, so it is practical to terminate the replacement reaction within 24 hours.

第2の有機保護材としての第1級アミンの混合量は、銀粒子が液中で第2の有機保護材としての第1級アミンに包囲されている状態にすることができる量にするのが好ましく、混合前に存在する第1の有機保護材としての第1級アミンの量に対してかなり多い量(高いモル比)にするのが好ましい。具体的には、混合前に存在する第1の有機保護材としての第1級アミンに対して、少なくとも2倍以上のモル比になるように、第2の有機保護材としての第1級アミンを混合するのが好ましい。   The mixing amount of the primary amine as the second organic protective material is such that the silver particles can be surrounded by the primary amine as the second organic protective material in the liquid. It is preferable to use a considerably large amount (high molar ratio) with respect to the amount of the primary amine as the first organic protective material present before mixing. Specifically, the primary amine as the second organic protective material is at least twice the molar ratio of the primary amine as the first organic protective material present before mixing. Are preferably mixed.

なお、置き換え反応が進行した銀粒子は液中に沈降する。これは、第1の有機保護材としての第1級アミンが第2の有機保護材としての第1級アミンにある程度置き換わると、有機保護材が液中で銀粒子を浮遊させる能力が低下してくるためである。沈降が生じるときの置き換え量は、粒子の大きさによって変動する。また、沈降した銀粒子でも置き換え反応がさらに進行し得ると考えられる。沈降した銀粒子において置き換え反応を持続させるためには、撹拌により沈降した銀粒子も第2の有機保護材としての第1級アミンに包囲されている状態が維持されるようにするのが好ましい。また、収率を向上させるためには、置き換え反応を十分に進行させた後にアルコールを添加してしばらく撹拌するのが好ましい。   The silver particles that have undergone the replacement reaction settle in the liquid. This is because when the primary amine as the first organic protective material is replaced to some extent with the primary amine as the second organic protective material, the ability of the organic protective material to float silver particles in the liquid decreases. This is because The amount of replacement when settling occurs varies with the size of the particles. Further, it is considered that the replacement reaction can further proceed even with the precipitated silver particles. In order to maintain the replacement reaction in the precipitated silver particles, it is preferable to maintain the state in which the silver particles precipitated by stirring are also surrounded by the primary amine as the second organic protective material. In order to improve the yield, it is preferable to add alcohol after stirring the replacement reaction sufficiently and stir for a while.

上述したように、置き換え反応が進行した銀粒子は沈降するので、反応終了後(あるいは置き換え反応が進行し得る状態で反応の進行を終了させた後)、遠心分離などによる固液分離によって、置き換え反応が進行した銀粒子を固形分として回収することができる。回収した固形分は、第1の有機保護材と第2の有機保護材からなる複合有機保護材で被覆された銀ナノ粒子を主体とする。また、回収した固形分はアルコールなどの溶媒を用いて洗浄し、1回以上の洗浄操作を行った後に最終的に固液分離することによって回収した固形分を銀塗料に使用するのが好ましい。   As described above, the silver particles that have undergone the replacement reaction settle, so after the completion of the reaction (or after the reaction has been completed in a state where the replacement reaction can proceed), the replacement is performed by solid-liquid separation such as centrifugation. Silver particles having undergone the reaction can be recovered as a solid content. The recovered solid content is mainly composed of silver nanoparticles coated with a composite organic protective material composed of a first organic protective material and a second organic protective material. The recovered solid content is preferably washed with a solvent such as alcohol, and the solid content recovered by finally performing solid-liquid separation after one or more washing operations is used for the silver paint.

(4)銀導電膜形成工程
次に、洗浄後の固形分(洗浄後の複合有機保護材で被覆された銀粒子)を有機媒体と混合して得られた銀塗料を基板に塗布した後、焼成して銀導電膜を作製する。
(4) Silver conductive film formation process Next, after apply | coating the silver coating material obtained by mixing solid content after washing | cleaning (silver particle coat | covered with the composite organic protective material after washing | cleaning) with an organic medium on a board | substrate, Baking to produce a silver conductive film.

有機媒体としては、120℃程度で揮発して除去し易い媒体を使用するのが好ましい。また、基板としては、ロール・ツー・ロール方式に対応可能な強度を有し且つ高耐熱性を有するフィルム状の有機高分子基板を使用するのが好ましく、ポリイミド、ポリエチレンテレテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、アラミド、ポリカーボネイトなどの基板を使用することができる。   As the organic medium, it is preferable to use a medium that volatilizes at about 120 ° C. and is easy to remove. Further, as the substrate, it is preferable to use a film-like organic polymer substrate having a strength capable of handling a roll-to-roll method and having high heat resistance, polyimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, Substrates such as polyimide, aramid, and polycarbonate can be used.

銀塗料を基板に塗布する方法としては、アプリケータ法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、インクジェット法などの各種の塗布方法を使用することができるが、焼成後に銀導電膜を形成することができる方法であればよい。   Various coating methods such as applicator method, spin coating method, dipping method, roll coating method, and ink jet method can be used as a method for applying the silver paint to the substrate, but the silver conductive film is formed after firing. Any method can be used.

塗膜を焼成して銀粒子を焼結させることによって銀導電膜を得るための焼成雰囲気は、大気雰囲気のような常圧の酸化雰囲気でよい。塗膜中の銀粒子は極めて低温で焼結するので、焼成温度は100〜300℃でよいが、使用可能な基板の種類を広げるとともに省エネルギーの観点から200℃以下であるのが好ましい。塗膜を上記の温度領域で保持する焼成時間は、10分間以上であるのが好ましく、60分間以上であるのがさらに好ましい。また、生産性を考慮すると、バッチ式でなく、大量生産に適したロール・ツー・ロール方式に対応した連続焼成可能な装置を使用するのが好ましく、例えば、熱風循環式乾燥器、ベルト式焼成炉、IR焼成炉などを使用することができる。   The firing atmosphere for obtaining the silver conductive film by firing the coating film and sintering the silver particles may be an atmospheric oxidizing atmosphere such as an air atmosphere. Since the silver particles in the coating film are sintered at an extremely low temperature, the firing temperature may be 100 to 300 ° C., but it is preferably 200 ° C. or less from the viewpoint of energy saving while expanding the types of substrates that can be used. The firing time for holding the coating film in the above temperature range is preferably 10 minutes or more, and more preferably 60 minutes or more. In consideration of productivity, it is preferable to use an apparatus capable of continuous firing corresponding to a roll-to-roll method suitable for mass production, not a batch type, for example, a hot-air circulating dryer, a belt-type firing. A furnace, an IR baking furnace, etc. can be used.

銀導電膜は、低抵抗であるほど効率的に電気を流すことができるので、比抵抗が低い方がよい。銀導電膜の比抵抗は、5.0μΩ・cm以下であるのが好ましく、4.0μΩ・cm以下であるのがさらに好ましく、3.0μΩ・cm以下であるのがさらに好ましく、2.0μΩ・cm以下であるのが最も好ましい。また、銀導電膜の膜厚は、0.1〜3.0μmであるのが好ましく、0.2〜1.0μmであるのがさらに好ましい。   The lower the specific resistance, the better because the silver conductive film can flow electricity more efficiently as the resistance is lower. The specific resistance of the silver conductive film is preferably 5.0 μΩ · cm or less, more preferably 4.0 μΩ · cm or less, further preferably 3.0 μΩ · cm or less, and 2.0 μΩ · cm or less. Most preferred is cm or less. The film thickness of the silver conductive film is preferably 0.1 to 3.0 μm, and more preferably 0.2 to 1.0 μm.

(5)圧縮処理工程
次に、基板上に形成した銀導電膜を圧縮処理する。この圧縮処理を行う装置は、焼成後の銀導電膜を均一に圧縮可能な装置であればよいが、生産性を考慮すると、バッチ式のプレス装置よりも、大量生産に適したロール・ツー・ロール方式に対応した連続圧縮可能な圧縮装置を使用するのが好ましく、例えば、カレンダーロールを使用することができる。ロールによって圧縮処理する場合、ロール間に加えられる圧力は、ロールによって負荷される荷重をロール幅で除することにより得られた線圧によって定められる。この圧力は、線圧500kN/mまで適宜設定することができる。また、圧縮処理時には、室温(25℃程度)からフィルム状基板のガラス転移温度以下の温度まで適宜設定することができる。
(5) Compression processing step Next, the silver conductive film formed on the substrate is compressed. An apparatus for performing the compression treatment may be an apparatus capable of uniformly compressing the sintered silver conductive film. However, considering productivity, a roll-to-roller suitable for mass production is more suitable than a batch-type press apparatus. It is preferable to use a compression device capable of continuous compression corresponding to the roll method, for example, a calendar roll can be used. When compressing with a roll, the pressure applied between the rolls is determined by the linear pressure obtained by dividing the load applied by the roll by the roll width. This pressure can be appropriately set up to a linear pressure of 500 kN / m. Moreover, at the time of a compression process, it can set suitably from room temperature (about 25 degreeC) to the temperature below the glass transition temperature of a film-form board | substrate.

以下、本発明による銀導電膜の製造方法の実施例について詳細に説明する。   Hereinafter, the Example of the manufacturing method of the silver electrically conductive film by this invention is described in detail.

[実施例1]
反応媒体および還元剤としてのイソブタノール(和光純薬株式会社製の特級)3218.27gと、第1の有機保護材(第1級アミン)としてのオレイルアミン(和光純薬株式会社製、分子量267)5532.91gと、銀化合物としての硝酸銀結晶(関東化学株式会社製)688.54gを混合し、マグネットスターラーで撹拌して、硝酸銀を溶解させた。
[Example 1]
Isobutanol (special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 3218.27 g as a reaction medium and a reducing agent, and oleylamine (molecular weight 267 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a first organic protective material (primary amine) 5532.91 g and 688.54 g of silver nitrate crystals (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as a silver compound were mixed and stirred with a magnetic stirrer to dissolve silver nitrate.

次に、この溶液を還流器付の容器に移し、この容器をオイルバスに載せ、容器内に不活性ガスとして窒素ガスを2L/分の流量で吹き込んでマグネットスターラーにより溶液を撹拌しながら、昇温速度1℃/分で88℃まで昇温させた後、0.5℃/分で108℃まで昇温させた。   Next, this solution is transferred to a container equipped with a reflux device, this container is placed on an oil bath, nitrogen gas as an inert gas is blown into the container at a flow rate of 2 L / min, and the solution is stirred while stirring with a magnetic stirrer. After raising the temperature to 88 ° C. at a temperature rate of 1 ° C./min, the temperature was raised to 108 ° C. at 0.5 ° C./min.

100℃で5時間還流を行なった後、還元補助剤として第2級アミンであるジエタノールアミン(和光純薬株式会社製、分子量106)430.35g(Agに対するモル比1.0)を添加し、1時間保持して反応を終了した。   After refluxing at 100 ° C. for 5 hours, 430.35 g of diethanolamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., molecular weight 106), a secondary amine, was added as a reduction auxiliary agent. The reaction was terminated after holding the time.

反応終了後のスラリーを遠心分離機で固液分離し、分離された液を廃棄して固形分を回収した。その後、固形分の洗浄操作として、固形分をメタノールと混合した後、遠心分離機で固液分離し、分離された液を廃棄して固形分を回収した。この洗浄操作は2回行った。   The slurry after completion of the reaction was subjected to solid-liquid separation with a centrifuge, and the separated liquid was discarded to recover the solid content. Then, as solid content washing | cleaning operation, after mixing solid content with methanol, solid-liquid separation was carried out with the centrifuge, and the isolate | separated liquid was discarded and solid content was collect | recovered. This washing operation was performed twice.

次に、洗浄後の固形分を、液状有機媒体としてのテトラデカンに混合して分散させ、遠心分離機により30分間固液分離し、分離された液を回収した。この液には第1の有機保護材(第1級アミン)で覆われた銀粒子が単分散していた。   Next, the solid content after washing was mixed and dispersed in tetradecane as a liquid organic medium, and solid-liquid separation was performed with a centrifuge for 30 minutes, and the separated liquid was recovered. In this liquid, silver particles covered with the first organic protective material (primary amine) were monodispersed.

このようにして得られた銀粒子分散液を透過型電子顕微鏡(TEM)(日本電子株式会社製JEM−2010)により観察して、60万倍に拡大した画像から、重なっていない独立した300個の銀粒子を無作為に選択して、その粒径(画像上の長径)を計測し、個々の銀粒子の粒径を算術平均することによって平均粒径DTEMを求めたところ、銀粒子の平均粒径DTEMは8.7nmであった。 The silver particle dispersion thus obtained was observed with a transmission electron microscope (TEM) (JEM-2010, manufactured by JEOL Ltd.), and from the image magnified 600,000 times, 300 independent images that did not overlap. The silver particles were randomly selected, the particle size (major axis on the image) was measured, and the average particle size D TEM was determined by arithmetically averaging the particle sizes of the individual silver particles. the average particle diameter D TEM was 8.7 nm.

また、TG−DTA装置(示差熱・熱重量同時測定装置)を用いて、銀粒子とその表面を覆っている第1の有機保護材(第1級アミン)としてのオレイルアミンの合計に対する第1の有機保護材の存在割合(以下「第1の有機保護材被覆量」という)を求めた。第1の有機保護材被覆量を算出するために、図1に示すように、室温から200℃まで10℃/分で昇温し(ステージI)、200℃で60分間維持して(ステージII)、銀粒子分散液に含まれる有機媒体(テトラデカン)を揮発させた後、200℃から700℃まで10℃/分で昇温し(ステージIII)、700℃で再度60分間維持する(ステージIV)ヒートパターンを採用した。ステージI〜IIでは、有機媒体が全部揮発するとともに第1の有機保護材(第1級アミン)が残留し、ステージIII〜IVでは、第1の有機保護材(第1級アミン)が全部揮発するとみなすことができる。TG−DTA装置を用いて図1のヒートパターンによって測定される重量変化をモニターし、ステージIIが終了(この時点では重量変化がほぼゼロになる)するまでに減少した重量分Wを有機媒体(分散媒)の重量とし、ステージIII〜IVの間(ステージIII開始後に再び重量が減少してステージIVの終了時に重量変化がほぼゼロになる)に新たに減少した重量分Wを第1の有機保護材(第1級アミン)の重量とし、残りの重量Wを銀の正味の重量として、第1の有機保護材被覆量(%)を、W/(W+W)×100から算出したところ、銀粒子分散液中の銀粒子の第1の有機保護材被覆量は8.0質量%であった。 Moreover, the 1st with respect to the sum total of oleylamine as a 1st organic protective material (primary amine) which has covered the silver particle and its surface using a TG-DTA apparatus (simultaneous differential thermal / thermogravimetric measurement apparatus). The proportion of the organic protective material (hereinafter referred to as “first organic protective material coating amount”) was determined. In order to calculate the first organic protective material coating amount, as shown in FIG. 1, the temperature was raised from room temperature to 200 ° C. at 10 ° C./min (Stage I) and maintained at 200 ° C. for 60 minutes (Stage II). ), After volatilizing the organic medium (tetradecane) contained in the silver particle dispersion, the temperature was raised from 200 ° C. to 700 ° C. at 10 ° C./min (Stage III) and maintained again at 700 ° C. for 60 minutes (Stage IV). ) Adopted heat pattern. In stages I to II, all of the organic medium is volatilized and the first organic protective material (primary amine) remains. In stages III to IV, the first organic protective material (primary amine) is completely volatilized. Then it can be considered. The weight change measured by the heat pattern shown in FIG. 1 is monitored using a TG-DTA apparatus, and the reduced weight W 1 until the end of stage II (the weight change becomes almost zero at this time) is used as the organic medium. The weight of the (dispersion medium) is used, and the weight W 2 newly reduced between the stages III to IV (the weight is decreased again after the start of the stage III and the weight change becomes almost zero at the end of the stage IV) is the first. The weight of the organic protective material (primary amine) and the remaining weight W 3 as the net weight of silver, and the first organic protective material coating amount (%) is W 2 / (W 2 + W 3 ) × When calculated from 100, the first organic protective material coating amount of the silver particles in the silver particle dispersion was 8.0% by mass.

なお、上述したTG−DTA装置による測定は、第1の有機保護材被覆量を調べるために特殊なヒートパターンを用いて行ったが、得られた銀粒子分散液について通常の昇温(昇温速度10℃/分)による示差熱分析(DTA)も行ったところ、DTA曲線は200〜300℃の間に大きな山と300〜330℃の間にピークを有していた。このピークは、第1の有機保護材(第1級アミン)であるオレイルアミンに起因するものであると考えられる。   In addition, although the measurement by the TG-DTA apparatus mentioned above was performed using the special heat pattern in order to investigate the 1st organic protective material coating amount, about normal temperature rise (temperature rise) about the obtained silver particle dispersion liquid When differential thermal analysis (DTA) was also performed at a rate of 10 ° C./min, the DTA curve had a large peak between 200 and 300 ° C. and a peak between 300 and 330 ° C. This peak is considered to be caused by oleylamine which is the first organic protective material (primary amine).

また、FT−IR(フーリエ変換赤外分光光度計)を用いて、銀粒子分散液中の粒子と試薬のオレイルアミンについて、有機化合物のスペクトルを測定したところ、銀粒子を被覆する有機保護材がオレイルアミンのみからなることが確認された。   Moreover, when the spectrum of the organic compound was measured about the oleylamine of the particle | grains in a silver particle dispersion liquid and a reagent using FT-IR (Fourier transform infrared spectrophotometer), the organic protective material which coat | covers a silver particle was oleylamine. It was confirmed to consist only of.

次に、得られた銀粒子分散液(第1の有機保護材被覆量8.0質量%、銀濃度約60質量%)223.76gに、第2の有機保護材(第1級アミン)としての試薬のオクチルアミン(C17−NH、和光純薬株式会社製の特級)1195.55g(銀に対して10当量に相当する量)を添加し、液温を15℃に保持しながら400rpmで5時間攪拌して、沈降粒子を生成させた。 Next, as a second organic protective material (primary amine), 223.76 g of the obtained silver particle dispersion (first organic protective material coating amount 8.0 mass%, silver concentration about 60 mass%) was used. Octylamine (C 8 H 17 —NH 2 , special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1195.55 g (amount corresponding to 10 equivalents to silver) was added, and the liquid temperature was kept at 15 ° C. While stirring at 400 rpm for 5 hours, precipitated particles were generated.

次に、沈降粒子が生成した液を5分間遠心分離して固液分離し、得られた固形分を回収した。その後、この固形分の洗浄操作として、固形分にメタノール889.71gを添加して400rpmで30分間攪拌した後、5分間遠心分離して固液分離することにより固形分を回収した。   Next, the liquid in which the precipitated particles were generated was subjected to solid-liquid separation by centrifugation for 5 minutes, and the obtained solid content was recovered. Thereafter, as a solid content washing operation, 889.71 g of methanol was added to the solid content and stirred at 400 rpm for 30 minutes, followed by centrifugation for 5 minutes and solid-liquid separation to recover the solid content.

洗浄後の固形分について、通常の昇温(昇温速度10℃/分)による示差熱分析(DTA)測定を行ったところ、DTA曲線の100〜200℃の間と300〜330℃の間にピークが観察された。前者のピークは第2の有機保護材としての第1級アミンであるオクチルアミンに起因するものであると考えられ、後者のピークは第1の有機保護材としての第1級アミンであるオレイルアミンに起因するものであると考えられる。   About the solid content after washing | cleaning, when the differential thermal analysis (DTA) measurement by normal temperature increase (temperature increase rate of 10 degree-C / min) was performed, it was between 100-200 degreeC and 300-330 degreeC of a DTA curve. A peak was observed. The former peak is attributed to octylamine, which is the primary amine as the second organic protective material, and the latter peak is attributed to oleylamine, which is the primary amine as the first organic protective material. It is thought to be caused.

また、洗浄後の固形分についてFT−IR測定を行ったところ、有機保護材がオレイルアミン(第1の有機保護材としての第1級アミン)とオクチルアミン(第2の有機保護材としての第1級アミン)で構成される複合有機保護材であることが確認された。   Moreover, when FT-IR measurement was performed on the solid content after washing, the organic protective material was oleylamine (primary amine as the first organic protective material) and octylamine (first as the second organic protective material). It was confirmed to be a composite organic protective material composed of a secondary amine).

また、洗浄後の固形分(第1の有機保護材と第2の有機保護材の複合有機保護材で被覆された洗浄後のウエット状態の固形分)について、TEM(日本電子株式会社製JEM−2010)により観察し、60万倍に拡大した画像から、重なっていない独立した300個の銀粒子を無作為に選択して、その粒径(画像上の長径)を計測し、個々の銀粒子の粒径を算術平均することによって平均粒径DTEMを求めたところ、銀粒子の平均粒径DTEMは9.41nmであった。 Moreover, about solid content after washing | cleaning (solid content of the wet state after washing | cleaning coat | covered with the composite organic protective material of the 1st organic protective material and the 2nd organic protective material), TEM (JEM-made by JEOL Ltd.) 2010), 300 independent silver particles that do not overlap are randomly selected from the image magnified 600,000 times, and the particle size (major axis on the image) is measured to obtain individual silver particles. When the average particle diameter D TEM was determined by arithmetically averaging the particle diameters of the silver particles, the average particle diameter D TEM of the silver particles was 9.41 nm.

また、洗浄後の固形分(第1の有機保護材と第2の有機保護材の複合有機保護材で被覆された洗浄後のウエット状態の固形分)をガラス製セルに塗布してX線回折装置にセットし、Ag(111)面の回折ピークを用いて、下記のScherrerの式(1)によりX線結晶粒径Dを求めたところ、X線結晶粒径Dは5.50nmであった。なお、X線にはCu−Kαを用いた。
=K・λ/(β・cosθ) (1)
但し、KはScherrer定数で0.94を採用し、λはCu−Kα線のX線波長、βは回折ピークの半価幅、θは回折線のブラッグ角である。
In addition, the solid content after washing (the solid content in the wet state after washing coated with the composite organic protective material of the first organic protective material and the second organic protective material) is applied to a glass cell and X-ray diffraction is applied. was set in the apparatus, by using the diffraction peak of Ag (111) plane were determined with X-ray crystal particle diameter D X by the Scherrer formula below (1), X-ray crystallite size D X is 5.50nm there were. Note that Cu-Kα was used for X-rays.
D X = K · λ / (β · cos θ) (1)
Here, K is a Scherrer constant of 0.94, λ is the X-ray wavelength of the Cu—Kα ray, β is the half-value width of the diffraction peak, and θ is the Bragg angle of the diffraction line.

次に、洗浄後の固形分(第1の有機保護材と第2の有機保護材の複合有機保護材で被覆された洗浄後のウエット状態の固形分)にテトラデカンを少量加えた後、混練脱泡器によって混練および脱泡してペースト状の銀塗料を得た。   Next, a small amount of tetradecane is added to the solid content after washing (the solid content in the wet state after washing covered with the composite organic protective material of the first organic protective material and the second organic protective material), and then kneaded and removed. The paste-like silver paint was obtained by kneading and defoaming with a foamer.

次に、得られた銀塗料を、アプリケータを用いて、厚さ25μmのポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製の型番UPILEX25S)からなる基板上に塗布した。   Next, the obtained silver paint was apply | coated on the board | substrate which consists of a 25-micrometer-thick polyimide film (model number UPILEX25S by Ube Industries, Ltd.) using the applicator.

このようにして塗膜を形成したポリイミドフィルムを、大気中においてホットプレート上で60℃で30分間予備焼成した後、そのホットプレート上で温度180℃で1時間保持することによって焼成膜(180℃焼成膜)を得た。   The polyimide film thus formed with the coating film is pre-baked on the hot plate at 60 ° C. for 30 minutes in the air, and then kept on the hot plate at a temperature of 180 ° C. for 1 hour to obtain a fired film (180 ° C. A fired film) was obtained.

このようにして得られた焼成膜を基板(ポリイミドフィルム)とともに、カレンダー装置(由利ロール機械株式会社製の高温カレンダー装置)の2対のクロム溶射樹脂ロールからなるカレンダーロール間に、線圧500kN/m、速度1m/分、ロール表面温度100℃として通過させることによって、カレンダー処理による圧縮処理を行った。   The calcined film thus obtained, together with the substrate (polyimide film), between calender rolls composed of two pairs of chromium sprayed resin rolls of a calender apparatus (high temperature calender apparatus manufactured by Yuri Roll Machinery Co., Ltd.), has a linear pressure of 500 kN / m, a speed of 1 m / min, and a roll surface temperature of 100 ° C. were passed to perform compression treatment by calendar treatment.

このようにして圧縮処理した焼成膜について、表面抵抗測定装置(三菱化学製のLoresta
HP)により表面抵抗を測定するとともに、蛍光X線膜厚測定器(SII製のSTF9200)により膜厚を測定し、表面抵抗と膜厚から算出した体積抵抗値を焼成膜の比抵抗とした。その結果、焼成膜の表面抵抗は0.12Ω/□、膜厚は0.36μmであり、比抵抗は4.28μΩ・cmであった。
About the fired film compressed in this way, a surface resistance measuring device (Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
The surface resistance was measured by HP), the film thickness was measured by a fluorescent X-ray film thickness measuring instrument (STF9200 manufactured by SII), and the volume resistance value calculated from the surface resistance and the film thickness was taken as the specific resistance of the fired film. As a result, the surface resistance of the fired film was 0.12 Ω / □, the film thickness was 0.36 μm, and the specific resistance was 4.28 μΩ · cm.

また、基板上に形成された焼成膜の密着力として、JIS C6481の引き離し強さに準じて、引張試験機のクロスヘッド速度を約50mm/分に維持して、基板から焼成膜を引き剥がす際の力を測定したところ、焼成膜の密着力は10.19N/cmであった。   Also, as the adhesion of the fired film formed on the substrate, according to the peel strength of JIS C6481, the crosshead speed of the tensile tester is maintained at about 50 mm / min, and the fired film is peeled off from the substrate. As a result, the adhesion of the fired film was 10.19 N / cm.

さらに、焼成膜が形成された基板をX線回折装置にセットしてX線結晶粒径Dを求めたところ、X線結晶粒径Dは38.22nmであった。 Furthermore, when the substrate on which the fired film was formed was set in an X-ray diffractometer and the X-ray crystal grain size D X was determined, the X-ray crystal grain size D X was 38.22 nm.

[実施例2〜5]
ロール表面温度をそれぞれ120℃(実施例2)、150℃(実施例3)、180℃(実施例4)および200℃(実施例5)とした以外は実施例1と同様の方法によって基板上に形成された焼成膜について、実施例1と同様の方法により、表面抵抗および膜厚を測定し、比抵抗を求め、密着力を測定し、X線結晶粒径Dを求めた。その結果、実施例2では、焼成膜の表面抵抗0.05Ω/□、膜厚0.52μm、比抵抗2.86μΩ・cm、密着力10.45N/cm、X線結晶粒径D43.98nmであり、実施例3では、焼成膜の表面抵抗0.02Ω/□、膜厚1.42μm、比抵抗3.08μΩ・cm、密着力10.09N/cm、X線結晶粒径D33.47nmであった。また、実施例4では、焼成膜の表面抵抗0.03Ω/□、膜厚1.01μm、比抵抗3.30μΩ・cm、密着力9.28N/cm、X線結晶粒径D41.76nmであり、実施例5では、焼成膜の表面抵抗0.05Ω/□、膜厚0.73μm、比抵抗3.99μΩ・cm、密着力4.77N/cm、X線結晶粒径D34.71nmであった。
[Examples 2 to 5]
On the substrate in the same manner as in Example 1 except that the roll surface temperatures were 120 ° C. (Example 2), 150 ° C. (Example 3), 180 ° C. (Example 4) and 200 ° C. (Example 5), respectively. firing film formed in the same manner as in example 1 to measure the surface resistance and the film thickness, determine the specific resistance, the adhesion was measured to determine the X-ray crystallite size D X. As a result, in Example 2, the surface resistance of the fired film was 0.05Ω / □, the film thickness was 0.52 μm, the specific resistance was 2.86 μΩ · cm, the adhesion was 10.45 N / cm, and the X-ray crystal grain size D X 43. In Example 3, the surface resistance of the fired film was 0.02 Ω / □, the film thickness was 1.42 μm, the specific resistance was 3.08 μΩ · cm, the adhesion was 10.09 N / cm, and the X-ray crystal grain size D X 33 .47 nm. In Example 4, the surface resistance of the fired film was 0.03Ω / □, the film thickness was 1.01 μm, the specific resistance was 3.30 μΩ · cm, the adhesion was 9.28 N / cm, and the X-ray crystal grain size D X 41.76 nm. In Example 5, the surface resistance of the fired film was 0.05Ω / □, the film thickness was 0.73 μm, the specific resistance was 3.99 μΩ · cm, the adhesion was 4.77 N / cm, and the X-ray crystal grain size D X 34. It was 71 nm.

[比較例1]
カレンダー処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の方法によって基板上に形成された焼成膜について、実施例1と同様の方法により、表面抵抗および膜厚を測定し、比抵抗を求め、密着力を測定し、X線結晶粒径Dを求めた。その結果、焼成膜の表面抵抗0.15Ω/□、膜厚0.27μm、比抵抗4.16μΩ・cm、密着力0.26N/cm、X線結晶粒径D28.92nmであった。
[Comparative Example 1]
For the fired film formed on the substrate by the same method as in Example 1 except that the calendar process was not performed, the surface resistance and film thickness were measured by the same method as in Example 1, and the specific resistance was obtained. the adhesion was measured to determine the X-ray crystallite size D X. As a result, the surface resistance of the fired film was 0.15 Ω / □, the film thickness was 0.27 μm, the specific resistance was 4.16 μΩ · cm, the adhesion was 0.26 N / cm, and the X-ray crystal grain size D X was 28.92 nm.

実施例1〜5および比較例1の焼成およびカレンダー処理条件を表1に示し、実施例1〜5および比較例1の焼成膜の特性を表2に示す。また、実施例1〜5の焼成膜の比抵抗および密着力をそれぞれ図2および図3に示す。   The firing and calendering conditions of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 are shown in Table 1, and the characteristics of the fired films of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 are shown in Table 2. Moreover, the specific resistance and adhesion strength of the fired films of Examples 1 to 5 are shown in FIGS. 2 and 3, respectively.

Figure 2009158129
Figure 2009158129

Figure 2009158129
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実施例1〜5と比較例1の比較から、カレンダー処理によって焼成膜の密着力が18から40倍強くなることがわかった。   From comparison between Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, it was found that the adhesion of the fired film was increased 18 to 40 times by the calendar process.

TG−DTA装置を用いて銀粒子を被覆する有機保護材の量を求めるためのヒートパターンを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the heat pattern for calculating | requiring the quantity of the organic protective material which coat | covers silver particles using a TG-DTA apparatus. 実施例1〜5の焼成膜のカレンダー温度(ロール表面温度)に対する比抵抗を示す図である。It is a figure which shows the specific resistance with respect to the calendar temperature (roll surface temperature) of the fired film of Examples 1-5. 実施例1〜5の焼成膜のカレンダー温度(ロール表面温度)に対する密着力を示す図である。It is a figure which shows the adhesive force with respect to the calendar temperature (roll surface temperature) of the fired film of Examples 1-5.

Claims (6)

アルコールまたはポリオール中において第1の有機保護材の存在下で銀化合物を還元処理して銀粒子を生成する工程と、生成した銀粒子を液状有機媒体中に分散させて銀粒子分散液を作製する工程と、作製した銀粒子分散液に第2の有機保護材を混合して銀粒子を沈降させる工程と、沈降した銀粒子を有機媒体と混合して得られた銀塗料を基板上に塗布した後に焼成して基板上に銀導電膜を形成する工程と、基板上に形成された銀導電膜を圧縮処理する工程とを備えたことを特徴とする、銀導電膜の製造方法。 A step of reducing the silver compound in the presence of the first organic protective material in alcohol or polyol to produce silver particles, and dispersing the produced silver particles in a liquid organic medium to produce a silver particle dispersion. A step of mixing a second organic protective material with the prepared silver particle dispersion to precipitate silver particles, and applying a silver paint obtained by mixing the precipitated silver particles with an organic medium onto a substrate. A method for producing a silver conductive film, comprising: a step of firing later to form a silver conductive film on the substrate; and a step of compressing the silver conductive film formed on the substrate. 前記第1の有機保護材が不飽和結合を有する分子量200以上の第1級アミンであり、前記第2の有機保護材が炭素数6〜12の第1級アミンであることを特徴とする、請求項1に記載の銀導電膜の製造方法。 The first organic protective material is a primary amine having an unsaturated bond and a molecular weight of 200 or more, and the second organic protective material is a primary amine having 6 to 12 carbon atoms, The manufacturing method of the silver electrically conductive film of Claim 1. 前記還元処理が50〜200℃の温度で行われることを特徴とする、請求項1または2に記載の銀導電膜の製造方法。 The method for producing a silver conductive film according to claim 1 or 2, wherein the reduction treatment is performed at a temperature of 50 to 200 ° C. 前記銀粒子を沈降させる際に5〜30℃の温度に維持することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の銀導電膜の製造方法。 The method for producing a silver conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the silver particles are maintained at a temperature of 5 to 30 ° C when the silver particles are precipitated. 前記圧縮処理がカレンダーロールを用いて行われることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれかに記載の銀導電膜の製造方法。 The method for producing a silver conductive film according to claim 1, wherein the compression treatment is performed using a calendar roll. 前記銀粒子の平均粒径(DTEM)が20nm以下であることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の銀導電膜の製造方法。
6. The method for producing a silver conductive film according to claim 1, wherein an average particle diameter (D TEM ) of the silver particles is 20 nm or less.
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