JP2009099588A - Power supply wiring method for semiconductor integrated circuit device, power supply wiring program for semiconductor integrated circuit device, design support system for semiconductor integrated circuit device, semiconductor integrated circuit device, and electronic instrument - Google Patents

Power supply wiring method for semiconductor integrated circuit device, power supply wiring program for semiconductor integrated circuit device, design support system for semiconductor integrated circuit device, semiconductor integrated circuit device, and electronic instrument Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device, which achieves the efficient power supply wiring for reducing the modifying work after the power supply wiring and for facilitating the signal wiring in post processing when carrying out the wiring connection of a power supply line to a power supply ring such as an IP module etc., and to provide a power supply wiring program and a design support system. <P>SOLUTION: The power supply wiring method comprises: the module arranging step (S12) of arranging a module so that one of a first direction or a second direction coincides with the power supply wiring direction; the power supply wiring candidate region setting-up step (S16) of setting up a region along the power supply wiring direction including a portion provided along the first direction or the second direction coinciding with the power supply wiring direction of the power supply ring included in the arranged module as a power supply wiring candidate region; and the power supply line wiring step (S20) of wiring the power supply line along the power supply wiring direction in the power supply wiring candidate region and connecting it to the power supply ring. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体集積回路装置の電源配線方法、半導体集積回路装置の電源配線プログラム、半導体集積回路装置の設計支援システム、半導体集積回路装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device power supply wiring method, a semiconductor integrated circuit device power supply wiring program, a semiconductor integrated circuit device design support system, a semiconductor integrated circuit device, and an electronic apparatus.

LSIの多機能・複雑化に伴い、IPモジュール(CPU、メモリ等)を複数組み合わせてLSIを設計することにより設計工数の削減が図られている。機能だけでなく信号伝搬のタイミングも考慮しなければならないIPモジュールではネットリストだけでなくレイアウトデータも用意されている。このようなIPモジュールのレイアウトではIPの機能を実現するコアブロックの周囲に電源リングが配置され、電源リングからコアブロックに電源が供給される。
特開平7−29977号公報
With the increasing number of functions and complexity of LSIs, design man-hours are reduced by designing LSIs by combining a plurality of IP modules (CPU, memory, etc.). In addition to the function, not only the netlist but also the layout data are prepared in the IP module that has to consider the timing of signal propagation. In such an IP module layout, a power supply ring is arranged around a core block that realizes an IP function, and power is supplied from the power supply ring to the core block.
JP-A-7-29977

LSI全体のチップレイアウトにおいては、複数のIPモジュールを配置した後、各IPモジュールの電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを接続する。一般に、IPモジュールの数が多いほど電源配線が複雑になり、人手による電源配線ではミスが発生しやすくなり工数も増大する。そのため、自動配線ツールを使用し、電源配線の設定(配線長、配線幅、配線本数、配線間、配線層等の設定)を行って自動配線させる場合が多い。しかし、電源リングの位置にアラインメントされずに電源配線が行われるため、例えば図23に示すようにIPモジュールの電源リングのコーナー部分で電源配線が曲がって電源リングと接続されたり、デザインルールを守るために電源ラインと電源リングの間にスペースが確保されるため効率的な電源配線を行わせることが難しい。非効率的な電源配線が存在すると、電源配線後の工程で行われる各種の信号配線の配線領域が制限されるため配線効率が悪くなりチップ面積が増加する原因にもなり得る。さらに、IPモジュールの数が多くなれば効率的な電源配線を自動的に行うことは極めて困難になり、デザインルール違反の電源配線が行われることも起こり得る。デザインルール違反の電源配線が存在すると、人手による修正が必要になり設計工数の増加につながる。   In the chip layout of the entire LSI, after arranging a plurality of IP modules, a power supply line for supplying a predetermined potential is connected to the power supply ring of each IP module. In general, the larger the number of IP modules, the more complicated the power supply wiring, and mistakes are likely to occur in the manual power supply wiring, resulting in an increase in man-hours. For this reason, automatic wiring tools are often used for automatic wiring by setting power supply wiring (setting of wiring length, wiring width, number of wiring, wiring, wiring layer, etc.). However, since the power supply wiring is performed without being aligned with the position of the power supply ring, the power supply wiring is bent at the corner portion of the power supply ring of the IP module, for example, as shown in FIG. Therefore, a space is secured between the power supply line and the power supply ring, so that it is difficult to perform efficient power supply wiring. If inefficient power supply wiring exists, the wiring area of various signal wirings performed in the process after power supply wiring is limited, so that the wiring efficiency is deteriorated and the chip area may be increased. Furthermore, if the number of IP modules increases, it becomes extremely difficult to automatically perform efficient power supply wiring, and power supply wiring that violates design rules may occur. If there is a power supply wiring that violates the design rule, it will be necessary to manually correct it, leading to an increase in design man-hours.

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、IPモジュール等の電源リングに電源ラインを配線接続する際に、電源配線後の修正作業を低減するとともに、後工程の信号配線を容易にするための効率的な電源配線を実現する半導体集積回路装置の電源配線方法、電源配線プログラム及び設計支援システムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the problems as described above, and when connecting the power supply line to the power supply ring of the IP module or the like, the correction work after the power supply wiring is reduced and the signal of the subsequent process is reduced. An object of the present invention is to provide a power supply wiring method, a power supply wiring program, and a design support system for a semiconductor integrated circuit device that realize efficient power supply wiring for facilitating wiring.

(1)本発明は、
少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置において、前記電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを配線する半導体集積回路装置の電源配線方法であって、
前記第1の方向又は前記第2の方向の少なくとも一方が前記電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、前記モジュールを配置するモジュール配置ステップと、
配置された前記モジュールに含まれる前記電源リングの、前記電源配線方向と一致する前記第1の方向又は前記第2の方向に沿って敷設された部分を含む前記電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する電源配線候補領域設定ステップと、
前記電源配線候補領域において前記電源配線方向に沿って前記電源ラインを配線し前記電源リングと接続させる電源ライン配線ステップと、を含むことを特徴とする。
(1) The present invention
At least one module having a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction; A semiconductor integrated circuit device including a power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device, wherein a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring is provided,
A module placement step of placing the module such that at least one of the first direction or the second direction matches a power supply wiring direction in which the power supply line is wired;
An area along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module is aligned with the power supply wiring direction. A power supply wiring candidate area setting step to be set in the wiring candidate area;
A power line wiring step for wiring the power line along the power wiring direction in the power wiring candidate region and connecting the power line to the power ring.

モジュールは、例えば、汎用のIPモジュールであってもよい。モジュールの配置は、フロアプランナー等のツールに自動配置させてもよいし、手動で配置させてもよい。   The module may be a general-purpose IP module, for example. Modules may be automatically arranged on a tool such as a floor planner or manually.

電源リングは、モジュールのコア部分(モジュールの機能を実現する部分)の外側に配置され、第1の方向(例えば縦方向)と第2の方向(例えば横方向)の配線のみによって環状に形成されていてもよいし、第1の方向及び第2に方向の配線に加えて一部に第3の方向(例えば斜め方向)の配線を含んで環状に形成されていてもよい。例えば、電源リングの外周の形状が任意の矩形であってもよいし、電源リングのコーナー部分が斜めに削られているようなものであってもよい。また、電源リングは、環状に形成された一部が切断されていてもよい。   The power supply ring is disposed outside the core portion of the module (the portion that realizes the function of the module), and is formed in an annular shape only by wiring in the first direction (for example, the vertical direction) and the second direction (for example, the horizontal direction). In addition to the wiring in the first direction and the second direction, a part of the wiring in the third direction (for example, an oblique direction) may be included and formed in an annular shape. For example, the shape of the outer periphery of the power ring may be an arbitrary rectangle, or the corner portion of the power ring may be cut obliquely. Further, the power ring may be partially cut in a ring shape.

例えば、電源ラインを1方向にのみ配線する場合であれば、モジュール配置ステップにおいて、第1の方向又は第2の方向のいずれか一方が電源配線方向と一致するようにモジュールを配置するようにしてもよい。また、電源ラインを直交する2方向に配線する場合であれば、モジュール配置ステップにおいて、第1の方向及び第2の方向がそれぞれ第1の電源配線方向及び第2の電源配線方向と一致するようにモジュールを配置するようにしてもよい。   For example, if the power supply line is wired only in one direction, the module is arranged in the module placement step so that either the first direction or the second direction matches the power supply wiring direction. Also good. In the case where the power supply lines are wired in two orthogonal directions, the first direction and the second direction match the first power supply wiring direction and the second power supply wiring direction in the module placement step, respectively. You may make it arrange | position a module.

モジュールが配置された位置を特定するための情報(モジュールの配置情報)に基づいて、モジュールの電源リングが存在する領域を認識し、電源リングの所定の部分を電源配線候補領域に設定するようにしてもよい。例えば、モジュール内の電源リングが存在する領域を示す情報(例えば、電源リングの各頂点の、モジュール内の基準点に対する相対座標)をモジュールの属性情報として登録しておき、当該属性情報とモジュールの配置情報(モジュールの基準点の絶対座標)から、電源リングが存在する領域を認識するようにしてもよい。   Based on the information for identifying the position where the module is arranged (module arrangement information), the area where the power ring of the module exists is recognized, and a predetermined part of the power ring is set as the power wiring candidate area. May be. For example, information indicating the area where the power supply ring in the module exists (for example, the relative coordinates of each vertex of the power supply ring with respect to the reference point in the module) is registered as the attribute information of the module. You may make it recognize the area | region where a power ring exists from arrangement | positioning information (the absolute coordinate of the reference point of a module).

例えば、電源ラインを第1の方向(又は第2の方向)にのみ配線する場合であれば、電源配線候補領域設定ステップにおいて、モジュールの電源リングの、第1の方向(又は第2の方向)に沿って敷設された部分を含む電源配線方向に沿った領域のみが電源配線候補領域に設定される。また、電源ラインを直交する2方向に配線する場合であれば、モジュールの電源リングの、第1の方向又は第2の方向に沿って敷設された部分を含む第1の電源配線方向又は第2の電源配線方向に沿った領域が電源配線候補領域に設定されるようにしてもよい。   For example, if the power supply line is wired only in the first direction (or the second direction), in the power supply wiring candidate area setting step, the first direction (or the second direction) of the power ring of the module Only the region along the power supply wiring direction including the portion laid along the line is set as the power supply wiring candidate region. In the case where the power supply lines are wired in two orthogonal directions, the first power supply wiring direction or the second power supply direction including the portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring of the module. An area along the power wiring direction may be set as a power wiring candidate area.

本発明によれば、モジュールの電源リングの、電源配線方向と一致する方向に沿って敷設された部分を含む電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定し、電源配線候補領域において、電源配線方向に沿って電源ラインを配線し電源リングと接続させる。そのため、電源リングの位置にアラインメントして電源ラインを配線することができる。従って、本発明によれば、電源配線後の修正作業を低減するとともに、後工程の信号配線を容易にするための効率的な電源配線を実現することができる。また、本発明によれば、電源リングのコーナー部分の電源配線を人手で行う必要がないので配線ミスの発生を抑制できるとともに作業工数を削減することができる。   According to the present invention, the area along the power wiring direction including the portion of the power ring of the module that is laid along the direction corresponding to the power wiring direction is set as the power wiring candidate area. Wire the power line along the power wiring direction and connect it to the power ring. Therefore, the power supply line can be wired by being aligned with the position of the power supply ring. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the correction work after the power supply wiring and to realize an efficient power supply wiring for facilitating the signal wiring in the subsequent process. Further, according to the present invention, since it is not necessary to manually perform power supply wiring at the corner portion of the power supply ring, it is possible to suppress the occurrence of wiring mistakes and to reduce the work man-hours.

(2)本発明の半導体集積回路装置の電源配線方法は、
前記電源配線候補領域が、前記所定の電位と異なる電位を供給される所与の電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定する電源配線禁止領域設定ステップを含み、
前記電源ライン配線ステップにおいて、
前記電源配線禁止領域には、前記電源ラインの配線を行わないことを特徴とする。
(2) A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
When the power supply wiring candidate region overlaps with a given power supply ring arrangement region supplied with a potential different from the predetermined potential, the power supply wiring prohibition region sets the power supply wiring candidate region as a power supply wiring prohibition region Including configuration steps,
In the power line wiring step,
The power supply line is not wired in the power supply wiring prohibited area.

例えば、半導体集積回路装置が、第2メタル層に形成されVDD電位が供給される電源リング(VDD電源リング)を含むモジュールと、第2メタル層に形成されVSS電位が供給される電源リング(VSS電源リング)を含む他のモジュールを含む場合において、当該VDD電源リングにVDD電位を供給するための任意の配線層のVDD電源ラインについて設定された電源配線候補領域が、当該VSS電源リングの配置領域と重複する場合には、電源配線禁止領域設定ステップにおいて、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するようにしてもよい。   For example, a semiconductor integrated circuit device includes a module including a power supply ring (VDD power supply ring) formed in a second metal layer and supplied with a VDD potential, and a power supply ring (VSS) formed in the second metal layer and supplied with a VSS potential. In the case of including other modules including a power supply ring), a power supply wiring candidate area set for a VDD power supply line of an arbitrary wiring layer for supplying a VDD potential to the VDD power supply ring is an arrangement area of the VSS power supply ring. In the power supply wiring prohibited area setting step, the power supply wiring candidate area may be set as a power supply wiring prohibited area.

本発明によれば、電源配線禁止領域には電源配線がされないので、異なる電源間で配線ショート等することを防止することができる。そのため、電源ラインの修正作業に必要な工数を削減することができる。   According to the present invention, since no power supply wiring is provided in the power supply wiring prohibited area, it is possible to prevent a wiring short-circuit between different power supplies. Therefore, the man-hours required for the power line correction work can be reduced.

(3)本発明の半導体集積回路装置の電源配線方法は、
前記電源配線禁止領域設定ステップにおいて、
前記電源ラインを配線する配線層に基づいて、前記電源配線候補領域を前記電源配線禁止領域に設定するか否かを決定することを特徴とする。
(3) A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
In the power supply wiring prohibited area setting step,
Whether to set the power supply wiring candidate area as the power supply wiring prohibited area is determined based on a wiring layer for wiring the power supply line.

複数の配線層から電源ラインを配線する配線層を指定しておき、電源配線禁止領域設定ステップにおいて、指定した配線層に基づいて、電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するか否かを決定するようにしてもよい。電源ラインを配線する配線層の指定は、例えば、縦方向の電源ラインの配線層と横方向の電源ラインの配線層をそれぞれ別個に指定するようにしてもよい。また、例えば、縦方向の電源ラインの配線層と横方向の電源ラインの配線層をそれぞれ複数指定するようにしてもよい。   A wiring layer for wiring a power line from a plurality of wiring layers is designated, and whether or not to set a power wiring candidate area as a power wiring prohibited area based on the designated wiring layer in the power wiring prohibited area setting step. It may be determined. The wiring layers for wiring the power supply lines may be specified, for example, by separately specifying the wiring layers for the vertical power supply lines and the horizontal power supply lines. Further, for example, a plurality of wiring layers for the vertical power supply lines and a plurality of wiring layers for the horizontal power supply lines may be designated.

電源配線禁止領域設定ステップにおいて、電源ラインを配線する配線層に加えて、例えば、レイアウト規則(異なる配線層の電源ラインを接続する場合は必ずスタックVIAで接続する等)も考慮して当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するか否かを決定するようにしてもよい。例えば、電源配線候補領域において、縦方向のVDD電位の電源ラインの配線層と横方向のVDD電位の電源ラインの配線層の間にVSS電位の電源リングの配線層が存在するような場合、スタックVIAによってこれらのVDD電源ラインを接続するとVDDとVSSがショートする。このような状況が起こり得る場合には、これらのVDD電源ラインを発生させないように当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するようにしてもよい。また、例えば、電源配線候補領域において、縦方向のVDD電位の電源ラインの配線層と横方向のVDD電位の電源ラインの配線層の下にVSS電位の電源リングの配線層が存在するような場合、スタックVIAによってこれらのVDD電源ラインを接続してもVDDとVSSはショートしない。このような場合には、これらのVDD電源ラインを発生さてもよいので当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定しないようにしてもよい。   In the power supply wiring prohibition area setting step, in addition to the wiring layer for wiring the power supply line, for example, the power supply wiring in consideration of the layout rule (when connecting power supply lines of different wiring layers, be sure to connect with the stack VIA). It may be determined whether or not the candidate area is set as the power supply wiring prohibited area. For example, in the power supply wiring candidate region, when a wiring layer of a VSS potential power supply ring exists between a wiring layer of a power supply line of vertical VDD potential and a wiring layer of a power supply line of horizontal VDD potential, When these VDD power supply lines are connected by VIA, VDD and VSS are short-circuited. When such a situation may occur, the power supply wiring candidate area may be set as a power supply wiring prohibited area so that these VDD power supply lines are not generated. Further, for example, in a power supply wiring candidate region, a wiring layer of a VSS potential power supply ring exists below a wiring layer of a power supply line of vertical VDD potential and a wiring layer of a power supply line of VDD in the horizontal direction. Even if these VDD power supply lines are connected by the stack VIA, VDD and VSS do not short-circuit. In such a case, since these VDD power supply lines may be generated, the power supply wiring candidate area may not be set as the power supply wiring prohibited area.

本発明によれば、電源リングの配線層と電源ラインの配線層が異なる場合でも、後の電源配線時にショートエラー等が発生する可能性のある領域には電源配線をさせないようにすることができる。そのため、電源ラインの修正作業に必要な工数を削減することができる。   According to the present invention, even when the wiring layer of the power supply ring and the wiring layer of the power supply line are different, it is possible to prevent the power supply wiring from being provided in a region where a short error or the like may occur during subsequent power supply wiring. . Therefore, the man-hours required for the power line correction work can be reduced.

(4)本発明の半導体集積回路装置の電源配線方法は、
前記電源ライン配線ステップの後に、所与の自動配線ツールに前記電源配線方向に沿って所定の電源ラインを自動配線させて前記電源リングと接続させる電源ライン自動配線ステップをさらに含むことを特徴とする。
(4) A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
The power line wiring step further includes a power line automatic wiring step for causing a predetermined automatic wiring tool to automatically wire a predetermined power line along the power wiring direction and to connect to the power ring after the power line wiring step. .

本発明によれば、自動配線ツールによる電源配線を行う前に、電源リングのコーナー部分の電源配線が終了している。そのため、その他の電源配線(電源リングの各辺についての電源配線)を自動配線ツールに自動配線させても電源配線の大幅な修正作業や後工程の信号配線の配線効率の悪化の原因となる非効率的な電源配線が行われる可能性を低くすることができる。また、本発明によれば、電源配線を人手で行う必要がないので配線ミスの発生を抑制できるとともに作業工数を削減することができる。   According to the present invention, the power supply wiring at the corner portion of the power supply ring is completed before the power supply wiring is performed by the automatic wiring tool. For this reason, even if other power supply wiring (power supply wiring for each side of the power supply ring) is automatically routed by the automatic wiring tool, it may cause significant correction work of power supply wiring and deterioration of wiring efficiency of signal wiring in the subsequent process. The possibility of efficient power supply wiring can be reduced. Further, according to the present invention, since it is not necessary to manually perform power supply wiring, it is possible to suppress the occurrence of wiring mistakes and reduce the work man-hours.

(5)本発明の半導体集積回路装置の電源配線方法は、
電源ライン自動配線ステップにおいて、
前記電源配線禁止領域における配線を禁止するように指定して、前記自動配線ツールに自動配線させることを特徴とする。
(5) A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes:
In the automatic power line wiring step,
It is specified that wiring in the power supply wiring prohibited area is prohibited, and the automatic wiring tool automatically performs wiring.

本発明によれば、電源配線禁止領域には自動配線がされないので、異なる電源間で配線ショート等することを防止することができる。そのため、電源ラインの修正作業に必要な工数を削減することができる。   According to the present invention, since automatic wiring is not performed in the power supply wiring prohibited area, it is possible to prevent a wiring short-circuit between different power supplies. Therefore, the man-hours required for the power line correction work can be reduced.

(6)本発明は、
少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置において、前記電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを配線する半導体集積回路装置の電源配線プログラムであって、
前記第1の方向又は前記第2の方向の少なくとも一方が前記電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、前記モジュールを配置するモジュール配置手段と、
配置された前記モジュールに含まれる前記電源リングの、前記電源配線方向と一致する前記第1の方向又は前記第2の方向に沿って敷設された部分を含む前記電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する電源配線候補領域設定手段と、
前記電源配線候補領域において前記電源配線方向に沿って前記電源ラインを配線し前記電源リングと接続させる電源ライン配線手段としてコンピュータを機能させることを特徴とする。
(6) The present invention
At least one module having a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction; A semiconductor integrated circuit device includes a power supply wiring program for a semiconductor integrated circuit device for wiring a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring,
Module placement means for placing the module such that at least one of the first direction or the second direction matches a power supply wiring direction in which the power supply line is wired;
An area along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module is aligned with the power supply wiring direction. Power wiring candidate area setting means for setting the wiring candidate area;
In the power supply wiring candidate region, the computer is caused to function as power supply line wiring means for wiring the power supply line along the power supply wiring direction and connecting the power supply line to the power supply ring.

(7)本発明は、
少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置の設計を支援する設計支援システムであって、
前記第1の方向又は前記第2の方向の少なくとも一方が、前記電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、前記モジュールを配置するモジュール配置手段と、
配置された前記モジュールに含まれる前記電源リングの、前記電源配線方向と一致する前記第1の方向又は前記第2の方向に沿って敷設された部分を含む前記電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する電源配線候補領域設定手段と、
前記電源配線候補領域において、前記電源配線方向に沿って前記電源ラインを配線し前記電源リングと接続させる電源ライン配線手段と、を含むこと特徴とする。
(7) The present invention
At least one module having a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction; A design support system for supporting the design of a semiconductor integrated circuit device including:
Module arrangement in which the modules are arranged so that at least one of the first direction or the second direction matches a power supply wiring direction in which a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring is wired Means,
An area along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module is aligned with the power supply wiring direction. Power wiring candidate area setting means for setting the wiring candidate area;
The power supply wiring candidate region includes power supply line wiring means for wiring the power supply line along the power supply wiring direction and connecting the power supply line to the power supply ring.

(8)本発明は、
上記のいずれかに記載された半導体集積回路装置の電源配線方法、上記に記載された半導体集積回路装置の電源配線プログラム又は上記に記載された半導体集積回路装置の設計支援システムを用いて設計製造されたことを特徴とする半導体集積回路装置である。
(8) The present invention
Designed and manufactured using the power supply wiring method of the semiconductor integrated circuit device described above, the power supply wiring program of the semiconductor integrated circuit device described above, or the design support system of the semiconductor integrated circuit device described above. This is a semiconductor integrated circuit device.

(9)本発明は、
上記に記載された半導体集積回路装置と、
前記半導体集積回路装置の処理対象となるデータの入力手段と、
前記半導体集積回路装置により処理されたデータを出力するための出力手段とを含むことを特徴とする電子機器である。
(9) The present invention
A semiconductor integrated circuit device described above;
Data input means to be processed by the semiconductor integrated circuit device;
An electronic device comprising: output means for outputting data processed by the semiconductor integrated circuit device.

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below do not unduly limit the contents of the present invention described in the claims. Moreover, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.

1.半導体集積回路装置の電源配線方法
図1は、本実施の形態の半導体集積回路装置の電源配線方法のフローチャートの第1の例を示す図である。図1のフローチャートは、少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置において、電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを配線する場合に適用される。電源リングは、IPモジュールのコア部分(IPモジュールの機能を実現する部分)の外側に配置され、第1の方向(例えば縦方向)と第2の方向(例えば横方向)の配線のみによって環状に形成されていてもよいし、第1の方向及び第2に方向の配線に加えて一部に第3の方向(例えば斜め方向)の配線を含んで環状に形成されていてもよい。また、電源リングは、環状に形成された一部が切断されていてもよい。以下、図1のフローチャートについて説明する。
1. 1 is a diagram showing a first example of a flowchart of a power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment. The flowchart of FIG. 1 has a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction. In a semiconductor integrated circuit device including at least one module, it is applied when wiring a power supply line for supplying a predetermined potential to a power supply ring. The power supply ring is arranged outside the core part of the IP module (the part that realizes the function of the IP module) and is annularly formed only by wiring in the first direction (for example, the vertical direction) and the second direction (for example, the horizontal direction). The wiring may be formed, or may be formed in a ring shape including wiring in the third direction (for example, oblique direction) in part in addition to the wiring in the first direction and the second direction. Further, the power ring may be partially cut in a ring shape. Hereinafter, the flowchart of FIG. 1 will be described.

まず、レイアウトエリアにおいて、IPモジュールを配置する(モジュール配置ステップ(ステップS12))。ここで、第1の方向(例えば縦方向)又は第2の方向(例えば横方向)の少なくとも一方が電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、IPモジュールを配置する。例えば、電源ラインを1方向にのみ配線する場合であれば、第1の方向又は第2の方向のいずれか一方が電源配線方向と一致するようにIPモジュールを配置するようにしてもよい。また、電源ラインを直交する2方向に配線する場合であれば、第1の方向及び第2の方向がそれぞれ第1の電源配線方向及び第2の電源配線方向と一致するようにIPモジュールを配置するようにしてもよい。   First, an IP module is placed in the layout area (module placement step (step S12)). Here, the IP module is arranged so that at least one of the first direction (for example, the vertical direction) or the second direction (for example, the horizontal direction) matches the power supply wiring direction in which the power supply lines are wired. For example, if the power supply line is wired only in one direction, the IP module may be arranged so that either the first direction or the second direction matches the power supply wiring direction. If the power supply lines are wired in two orthogonal directions, the IP module is arranged so that the first direction and the second direction coincide with the first power supply wiring direction and the second power supply wiring direction, respectively. You may make it do.

次に、IPモジュール内の電源リングの位置を認識するようにしてもよい(電源リング認識ステップ(ステップS14))。ここで、ステップS10で配置したIPモジュールの配置情報に基づいて、IPモジュールの電源リングが存在する領域を認識するようにしてもよい。配置情報は、IPモジュールが配置された位置を特定するための情報であればよい。また、例えば、IPモジュール内の電源リングが存在する領域を示す情報(例えば、電源リングの各頂点の、IPモジュール内の基準点に対する相対座標)をIPモジュールの属性情報として登録しておき、当該属性情報とIPモジュールの配置情報(IPモジュールの基準点の絶対座標)から、電源リングが存在する領域を認識するようにしてもよい。   Next, the position of the power supply ring in the IP module may be recognized (power supply ring recognition step (step S14)). Here, the area where the power supply ring of the IP module exists may be recognized based on the arrangement information of the IP module arranged in step S10. The arrangement information may be information for specifying the position where the IP module is arranged. Also, for example, information indicating the region where the power supply ring in the IP module exists (for example, the relative coordinates of each vertex of the power supply ring with respect to the reference point in the IP module) is registered as the attribute information of the IP module. The area where the power supply ring exists may be recognized from the attribute information and the IP module arrangement information (absolute coordinates of the reference point of the IP module).

次に、電源ラインを配線する領域の候補となる領域(電源配線候補領域)を設定する(電源配線候補領域設定ステップ(ステップS16))。ここで、ステップS12において配置されたIPモジュールに含まれる電源リングの、電源配線方向と一致する第1の方向(例えば縦方向)又は第2の方向(例えば横方向)に沿って敷設された部分を含む電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する。例えば、電源ラインを第1の方向(又は第2の方向)にのみ配線する場合であれば、IPモジュールの電源リングの、第1の方向(又は第2の方向)に沿って敷設された部分を含む電源配線方向に沿った領域のみを電源配線候補領域に設定するようにしてもよい。また、電源ラインを直交する2方向に配線する場合であれば、IPモジュールの電源リングの、第1の方向又は第2の方向に沿って敷設された部分を含む第1の電源配線方向又は第2の電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定するようにしてもよい。   Next, a region (power source wiring candidate region) that is a candidate for a region for wiring the power source line is set (power source wiring candidate region setting step (step S16)). Here, the portion of the power supply ring included in the IP module arranged in step S12 is laid along the first direction (for example, the vertical direction) or the second direction (for example, the horizontal direction) that matches the power supply wiring direction. An area along the direction of the power supply wiring including is set as a power supply wiring candidate area. For example, if the power supply line is wired only in the first direction (or the second direction), the portion of the power ring of the IP module laid along the first direction (or the second direction) Only the region along the direction of the power supply wiring including the line may be set as the power supply wiring candidate region. In the case where the power supply lines are wired in two orthogonal directions, the first power supply wiring direction or the first power supply direction including the portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring of the IP module An area along the direction of power supply wiring 2 may be set as a power supply wiring candidate area.

次に、電源ラインの配線を禁止する領域(電源配線禁止領域)を設定するようにしてもよい(電源配線禁止領域設定ステップ(ステップS18))。ここで、ステップS16で設定した電源配線候補領域が、所定の電位と異なる電位を供給される所与の電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するようにしてもよい。例えば、半導体集積回路装置が、第2メタル層に形成されVDD電位が供給される電源リング(VDD電源リング)を含むIPモジュールと、第2メタル層に形成されVSS電位が供給される電源リング(VSS電源リング)を含む他のIPモジュールを含む場合において、第2メタル層のVDD電源ラインを配線するための電源配線候補領域が、当該VSS電源リングの配置領域と重複する場合に当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するようにしてもよい。また、任意の配線層(第1〜4メタル層等)のVDD電源ラインを配線するための電源配線候補領域が、当該VSS電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するようにしてもよい。   Next, an area for prohibiting the wiring of the power supply line (power supply wiring prohibited area) may be set (power supply wiring prohibited area setting step (step S18)). Here, if the power supply wiring candidate area set in step S16 overlaps with the arrangement area of a given power supply ring to which a potential different from the predetermined potential is supplied, the power supply wiring candidate area becomes a power supply wiring prohibited area. You may make it set. For example, a semiconductor integrated circuit device includes an IP module including a power supply ring (VDD power supply ring) that is formed in a second metal layer and supplied with a VDD potential, and a power supply ring that is formed in the second metal layer and supplied with a VSS potential ( In the case of including other IP modules including the VSS power supply ring), if the power supply wiring candidate area for wiring the VDD power supply line of the second metal layer overlaps with the arrangement area of the VSS power supply ring, the power supply wiring candidate The area may be set as a power supply wiring prohibited area. In addition, when the power supply wiring candidate area for wiring the VDD power supply line of an arbitrary wiring layer (first to fourth metal layers, etc.) overlaps with the arrangement area of the VSS power supply ring, the power supply wiring candidate area is You may make it set to a power supply wiring prohibition area | region.

次に、電源ラインを配線する(電源ライン配線ステップ(ステップS20))。ここで、ステップS16で設定した電源配線候補領域において電源配線方向に沿って電源ラインを配線し電源リングと接続させる。また、ステップS18で設定した電源配線禁止領域には、電源ラインの配線を行わないようにしてもよい。   Next, a power line is wired (power line wiring step (step S20)). Here, in the power supply wiring candidate region set in step S16, the power supply line is wired along the power supply wiring direction and connected to the power supply ring. Further, the power supply line may not be wired in the power supply wiring prohibited area set in step S18.

最後に、その他の電源ラインを自動配線するようにしてもよい(電源ライン自動配線ステップ(ステップS22))。ここで、所与の自動配線ツールに電源配線方向に沿って所定の電源ラインを自動配線させてIPモジュール内の電源リングと接続させるようにしてもよい。また、ステップS18において設定した電源配線禁止領域における配線を禁止するように指定して、自動配線ツールに自動配線させるようにしてもよい。こうすることにより、電源配線禁止領域には自動配線がされないので、異なる電源間で配線ショート等することを防止することができる。そのため、電源ラインの修正作業に必要な工数を削減することができる。   Finally, other power supply lines may be automatically wired (power line automatic wiring step (step S22)). Here, a predetermined power supply line may be automatically wired along a power supply wiring direction by a given automatic wiring tool and connected to a power supply ring in the IP module. Alternatively, the automatic wiring tool may automatically perform wiring by designating that wiring in the power supply wiring prohibited area set in step S18 is prohibited. By doing so, since automatic wiring is not performed in the power supply wiring prohibition region, it is possible to prevent a wiring short-circuit between different power supplies. Therefore, the man-hours required for the power line correction work can be reduced.

図2〜図5は、図1のフローチャートにおける各ステップでの処理が終了した後の電源レイアウトの状態の一例を説明するための図である。以下、図1のフローチャートを参照しながら図2〜図5について説明する。   2 to 5 are diagrams for explaining an example of the state of the power supply layout after the processing at each step in the flowchart of FIG. 1 is completed. 2 to 5 will be described below with reference to the flowchart of FIG.

図2は、図1のフローチャートにおけるステップS12(モジュール配置ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 2 shows the state of the power supply layout after the processing in step S12 (module placement step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

半導体集積回路装置1はIPモジュール10及び20を含んで構成されており、ステップS12での処理により、IPモジュール10及び20が所定の位置に配置されている。IPモジュール10及び20は、それぞれ第2メタル層において形成されたVDD電源リング12及び22を含んでいる。VDD電源リング12及び22は、同一のVDD電位が供給される電源リングである。VDD電源リング12及び22は、それぞれIPモジュール10及び20のコア部分14及び24の外側に配置され、コア部分14及び16にVDD電位を供給する機能を果たしている。VDD電源リング12及び22は、例えば、環状に形成された一部が切断されていてもよい。なお、図3〜図5においては、IPモジュール10及び20のそれぞれコア部分14、24及びVDD電源リング12、22とコア部分14、24を接続する電源ラインは省略しており図示していない。   The semiconductor integrated circuit device 1 is configured to include the IP modules 10 and 20, and the IP modules 10 and 20 are arranged at predetermined positions by the processing in step S12. The IP modules 10 and 20 include VDD power supply rings 12 and 22 formed in the second metal layer, respectively. The VDD power supply rings 12 and 22 are power supply rings to which the same VDD potential is supplied. The VDD power supply rings 12 and 22 are disposed outside the core portions 14 and 24 of the IP modules 10 and 20, respectively, and serve to supply a VDD potential to the core portions 14 and 16. For example, a part of the VDD power supply rings 12 and 22 formed in an annular shape may be cut off. 3 to 5, the core portions 14 and 24 of the IP modules 10 and 20 and the power supply lines that connect the VDD power supply rings 12 and 22 and the core portions 14 and 24 are omitted and not shown.

VDD電源リング12は、12−1及び12−3の矩形部分が第1の方向に沿って敷設され、12−2及び12−4の矩形部分が第2の方向に沿って敷設されている。また、VDD電源リング22は、22−1及び22−3の矩形部分が第1の方向に沿って敷設され、22−2及び22−4の矩形部分が第2の方向に沿って敷設されている。   In the VDD power ring 12, rectangular portions 12-1 and 12-3 are laid along the first direction, and rectangular portions 12-2 and 12-4 are laid along the second direction. Further, the VDD power ring 22 has the rectangular portions 22-1 and 22-3 laid along the first direction, and the rectangular portions 22-2 and 22-4 laid along the second direction. Yes.

図2では、後でVDD電源ラインを縦方向及び横方向に配線してVDD電源リング12及び22に接続するので、第1の方向及び第2の方向がそれぞれ第1のVDD電源配線方向(縦方向)及び第2のVDD電源配線方向(横方向)と一致するようにIPモジュール10及び20が配置されている。   In FIG. 2, since the VDD power supply line is wired in the vertical direction and the horizontal direction later and connected to the VDD power supply rings 12 and 22, the first direction and the second direction are respectively the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). Direction) and the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), the IP modules 10 and 20 are arranged.

図3は、図1のフローチャートにおけるステップS14(電源リング認識ステップ)、ステップS16(電源配線候補領域設定ステップ)及びステップS18(電源配線禁止領域設定ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 3 shows the power layout after the processing in step S14 (power supply ring recognition step), step S16 (power supply wiring candidate area setting step) and step S18 (power supply wiring prohibited area setting step) in the flowchart of FIG. Indicates the state.

まず、ステップS14において、IPモジュール10及び20のVDD電源リング12及び22が存在する領域が認識される。次に、ステップS16において、VDD電源リング12及び22の、第1のVDD電源配線方向(縦方向)と一致する第1の方向に沿って敷設された部分12−1、12−3、22−1、22−3をそれぞれ含む第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿った領域30及び40が電源配線候補領域に設定される。さらに、VDD電源リング12及び22の、第2のVDD電源配線方向(横方向)と一致する第2の方向に沿って敷設された部分12−2、12−4、22−2、22−4をそれぞれ含む第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿った領域50、60、70及び80が電源配線候補領域に設定される。図3では、電源配線候補領域30、40、50、60、70及び80は半導体集積回路装置1の内縁まで達しているが、例えば、半導体集積回路装置1の内側の周辺部にVDD電源リングが配置されているような場合には、当該VDD電源リングに達するまでの領域であってもよい。   First, in step S14, an area where the VDD power supply rings 12 and 22 of the IP modules 10 and 20 exist is recognized. Next, in step S16, the portions 12-1, 12-3, and 22-2 laid along the first direction of the VDD power supply rings 12 and 22 that coincide with the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). Regions 30 and 40 along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction) including 1 and 22-3 are set as power supply wiring candidate regions. Furthermore, portions 12-2, 12-4, 22-2, and 22-4 laid along the second direction of the VDD power supply rings 12 and 22 that coincide with the second VDD power supply wiring direction (lateral direction). The regions 50, 60, 70, and 80 along the second VDD power wiring direction (lateral direction) including the above are set as power wiring candidate regions. In FIG. 3, the power supply wiring candidate regions 30, 40, 50, 60, 70, and 80 reach the inner edge of the semiconductor integrated circuit device 1. For example, a VDD power supply ring is provided at the inner peripheral portion of the semiconductor integrated circuit device 1. In the case where it is arranged, it may be an area until reaching the VDD power supply ring.

次に、ステップS18において、電源配線候補領域30、40、50、60、70及び80が、VDD電位と異なる電位を供給される所与の電源リングの配置領域と重複する場合には、電源配線禁止領域に設定される。図3では、VDD電位と異なる電位を供給される電源リングは存在しないので、電源配線候補領域30、40、50、60、70及び80はいずれも電源配線禁止領域に設定されていない。   Next, in step S18, if the power supply wiring candidate areas 30, 40, 50, 60, 70 and 80 overlap with the arrangement area of a given power supply ring to which a potential different from the VDD potential is supplied, the power supply wiring Set to a prohibited area. In FIG. 3, since there is no power supply ring to which a potential different from the VDD potential is supplied, none of the power supply wiring candidate areas 30, 40, 50, 60, 70, and 80 is set as a power supply wiring prohibited area.

図4は、図1のフローチャートにおけるステップS20(電源ライン配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 4 shows the state of the power supply layout after the processing in step S20 (power supply line wiring step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

ステップS20では、まず、電源配線候補領域30において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン32−1、32−2及び32−3を第2メタル層で配線しVDD電源リング12及び22と接続させる。次に、電源配線候補領域40において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン42−1、42−2及び42−3を第2メタル層で配線しVDD電源リング12及び22と接続させる。次に、電源配線候補領域50において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン52−1及び52−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング12と接続させる。次に、電源配線候補領域60において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン62−1及び62−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング12と接続させる。次に、電源配線候補領域70において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン72−1及び72−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング22と接続させる。最後に、電源配線候補領域80において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン82−1及び82−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング22と接続させる。なお、電源配線候補領域30、40、50、60、70及び80におけるVDD電源ラインの配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。   In step S20, first, in the power supply wiring candidate region 30, the VDD power supply lines 32-1, 32-2, and 32-3 are wired by the second metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). Connect to power rings 12 and 22. Next, in the power supply wiring candidate region 40, VDD power supply lines 42-1, 42-2, and 42-3 are wired by the second metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the VDD power supply ring 12 is connected. And 22 are connected. Next, in the power supply wiring candidate region 50, the VDD power supply lines 52-1 and 52-2 are wired by the second metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 12. Next, in the power supply wiring candidate region 60, the VDD power supply lines 62-1 and 62-2 are wired with the second metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 12. Next, in the power supply wiring candidate region 70, the VDD power supply lines 72-1 and 72-2 are wired with the second metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 22. Finally, in the power supply wiring candidate region 80, the VDD power supply lines 82-1 and 82-2 are wired with the second metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 22. Note that the order of wiring of the VDD power supply lines in the power supply wiring candidate regions 30, 40, 50, 60, 70 and 80 is not limited to this, and the wirings may be arranged in any order.

図5は、図1のフローチャートにおけるステップS22(電源ライン自動配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 5 shows the state of the power supply layout after the processing in step S22 (power supply line automatic wiring step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

ステップS22では、まず、所与の自動配線ツールを使用して、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン34−1〜34−3、36−1〜36−3及び38−1〜38−3を自動配線させてVDD電源リング12と接続させる。例えば、VDD電源リング12及び24の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの3本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン32−1〜32−3及び42−1〜42−3の間に等間隔に第2メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン34−1〜34−3、36−1〜36−3及び38−1〜38−3が作成される。   In step S22, first, the VDD power supply lines 34-1 to 34-3, 36-1 to 36-3, and the first VDD power supply wiring direction (longitudinal direction) are provided using a given automatic wiring tool. 38-1 to 38-3 are automatically wired and connected to the VDD power supply ring 12. For example, the inside of the VDD power supply rings 12 and 24 is set as a wiring prohibition region, and three VDD power supply lines having a predetermined width and length are connected to the VDD power supply lines 32-1 to 32-3 and 42-1 to 42-. 3 is specified to be automatically routed by the second metal layer at equal intervals, and the VDD power supply lines 34-1 to 34-3, 36-1 to 36-3 and 38- 1 to 38-3 are created.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン54−1、54−2及び56−1、56−2を自動配線させてVDD電源リング12と接続させる。例えば、VDDリング12の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの2本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン52−1、52−2及び62−1、62−2の間に等間隔に第2メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン54−1、54−2及び56−1、56−2が作成される。   Next, the VDD power supply lines 54-1 and 54-2 and 56-1 and 56-2 are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) to be connected to the VDD power supply ring 12. For example, the inside of the VDD ring 12 is set as a wiring prohibition region, and two VDD power supply lines having a predetermined width and length are connected between the VDD power supply lines 52-1, 52-2 and 62-1, 62-2. The VDD power lines 54-1 and 54-2 and 56-1 and 56-2 are created by designating the second metal layer to be automatically wired at equal intervals and causing the automatic wiring tool to perform wiring.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン74−1、74−2及び76−1、76−2を自動配線させてVDD電源リング22と接続させる。例えば、VDDリング22の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの2本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン72−1、72−2及び82−1、82−2の間に等間隔に第2メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン74−1、74−2及び76−1、76−2が作成される。   Next, the VDD power supply lines 74-1, 74-2 and 76-1, 76-2 are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 22. For example, the inside of the VDD ring 22 is set as a wiring prohibition region, and two VDD power supply lines having a predetermined width and length are connected between the VDD power supply lines 72-1, 72-2 and 82-1, 82-2. The VDD power lines 74-1 and 74-2 and 76-1 and 76-2 are created by designating the second metal layer to be automatically wired at equal intervals and causing the automatic wiring tool to perform wiring.

なお、VDD電源ライン34−1〜34−3、36−1〜36−3、38−1〜38−3、54−1、54−2、56−1、56−2、74−1、74−2、76−1、76−2の配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。   VDD power supply lines 34-1 to 34-3, 36-1 to 36-3, 38-1 to 38-3, 54-1, 54-2, 56-1, 56-2, 74-1, 74 -2, 76-1, and 76-2 are not limited to this order, and may be wired in an arbitrary order.

図6〜図10は、図1のフローチャートにおける各ステップでの処理が終了した後の電源レイアウトの状態の他の一例を説明するための図である。以下、図1のフローチャートを参照しながら図6〜図10について説明する。   6 to 10 are diagrams for explaining another example of the state of the power supply layout after the process at each step in the flowchart of FIG. 1 is completed. Hereinafter, FIGS. 6 to 10 will be described with reference to the flowchart of FIG.

図6は、図1のフローチャートにおけるステップS12(モジュール配置ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 6 shows the state of the power supply layout after the processing in step S12 (module placement step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

半導体集積回路装置100はIPモジュール110及び120を含んで構成されており、ステップS12での処理により、IPモジュール110及び120が所定の位置に配置されている。IPモジュール110は、第2メタル層において形成されたVDD電源リング112を含んでいる。VDD電源リング112はVDD電位が供給される電源リングである。VDD電源リング112は、IPモジュール110のコア部分114の外側に配置され、コア部分114にVDD電位を供給する機能を果たしている。また、IPモジュール120は、第2メタル層において形成されたVSS電源リング122を含んでいる。VSS電源リング122はVSS電位が供給される電源リングである。VSS電源リング122は、IPモジュール120のコア部分124の外側に配置され、コア部分124にVSS電位を供給する機能を果たしている。VDD電源リング112及びVSSリング122は、例えば、環状に形成された一部が切断されていてもよい。なお、図7〜図10においては、IPモジュール110及び120のそれぞれコア部分114、124及びVDD電源リング112、VSS電源リング122とコア部分114、124を接続する電源ラインは省略しており図示していない。   The semiconductor integrated circuit device 100 includes IP modules 110 and 120, and the IP modules 110 and 120 are arranged at predetermined positions by the processing in step S12. The IP module 110 includes a VDD power ring 112 formed in the second metal layer. The VDD power ring 112 is a power ring to which a VDD potential is supplied. The VDD power ring 112 is disposed outside the core portion 114 of the IP module 110 and functions to supply a VDD potential to the core portion 114. The IP module 120 also includes a VSS power ring 122 formed in the second metal layer. The VSS power supply ring 122 is a power supply ring to which a VSS potential is supplied. The VSS power supply ring 122 is disposed outside the core portion 124 of the IP module 120 and functions to supply a VSS potential to the core portion 124. For example, a part of the VDD power ring 112 and the VSS ring 122 formed in an annular shape may be cut off. 7 to 10, the core portions 114 and 124 of the IP modules 110 and 120 and the VDD power supply ring 112, the power supply lines connecting the VSS power supply ring 122 and the core portions 114 and 124, respectively, are omitted. Not.

VDD電源リング112は、112−1及び112−3の矩形部分が第1の方向に沿って敷設され、112−2及び112−4の矩形部分が第2の方向に沿って敷設されている。また、VSS電源リング122は、122−1及び122−3の矩形部分が第1の方向に沿って敷設され、122−2及び122−4の矩形部分が第2の方向に沿って敷設されている。   In the VDD power ring 112, rectangular portions 112-1 and 112-3 are laid along the first direction, and rectangular portions 112-2 and 112-4 are laid along the second direction. In addition, the VSS power ring 122 has the rectangular parts 122-1 and 122-3 laid along the first direction, and the rectangular parts 122-2 and 122-4 laid along the second direction. Yes.

図6では、後でVDD電源ラインを縦方向及び横方向に配線してVDD電源リング112に接続するので、第1の方向及び第2の方向がそれぞれ第1のVDD電源配線方向(縦方向)及び第2のVDD電源配線方向(横方向)と一致するようにIPモジュール110及び120が配置されている。   In FIG. 6, since the VDD power supply line is wired in the vertical direction and the horizontal direction later and connected to the VDD power supply ring 112, the first direction and the second direction are respectively the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). The IP modules 110 and 120 are arranged so as to coincide with the second VDD power supply wiring direction (lateral direction).

図7は、図1のフローチャートにおけるステップS14(電源リング認識ステップ)及びステップS16(電源配線候補領域設定ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 7 shows the state of the power supply layout after the processing in step S14 (power supply ring recognition step) and step S16 (power supply wiring candidate area setting step) in the flowchart of FIG.

まず、ステップS14において、IPモジュール110のVDD電源リング112が存在する領域及びIPモジュール120のVSS電源リング122が存在する領域が認識される。次に、ステップS16において、VDD電源リング112の、第1のVDD電源配線方向(縦方向)と一致する第1の方向に沿って敷設された部分112−1、112−3をそれぞれ含む第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿った領域130及び140が電源配線候補領域に設定される。さらに、VDD電源リング112の、第2のVDD電源配線方向(横方向)と一致する第2の方向に沿って敷設された部分112−2、112−4をそれぞれ含む第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿った領域150及び160が電源配線候補領域に設定される。図7では、電源配線候補領域130、140、150及び160は半導体集積回路装置100の内縁まで達しているが、例えば、半導体集積回路装置100の内側の周辺部にVDD電源リングが配置されているような場合には、当該VDD電源リングに達するまでの領域であってもよい。   First, in step S14, a region where the VDD power ring 112 of the IP module 110 exists and a region where the VSS power ring 122 of the IP module 120 exists are recognized. Next, in step S16, the VDD power ring 112 includes first portions 112-1 and 112-3 that are laid along a first direction that coincides with the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). Regions 130 and 140 along the VDD power supply wiring direction (vertical direction) are set as power supply wiring candidate regions. Further, the second VDD power supply wiring direction including the portions 112-2 and 112-4 laid along the second direction of the VDD power supply ring 112 that coincides with the second VDD power supply wiring direction (lateral direction). Regions 150 and 160 along the (lateral direction) are set as power source wiring candidate regions. In FIG. 7, the power supply wiring candidate regions 130, 140, 150, and 160 reach the inner edge of the semiconductor integrated circuit device 100. For example, a VDD power supply ring is disposed in the peripheral portion inside the semiconductor integrated circuit device 100. In such a case, the region up to the VDD power supply ring may be used.

図8は、図1のフローチャートにおけるステップS18(電源配線禁止領域設定ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 8 shows the state of the power supply layout after the process in step S18 (power supply wiring prohibited area setting step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

ステップS18において、電源配線候補領域130、140、150及び160が、VDD電位と異なるVSS電位を供給されるVSS電源リング122の配置領域と重複する場合には、電源配線禁止領域に設定される。図8では、図7における電源配線候補領域140はVSS電源リング122の配置領域(122−3の部分)と重複するので、電源配線候補領域140は電源配線禁止領域142に設定されている。   In step S18, when the power supply wiring candidate areas 130, 140, 150, and 160 overlap with the arrangement area of the VSS power supply ring 122 to which the VSS potential different from the VDD potential is supplied, the power supply wiring candidate areas 130, 140, 150, and 160 are set. In FIG. 8, the power supply wiring candidate area 140 in FIG. 7 overlaps with the arrangement area (portion 122-3) of the VSS power supply ring 122, so the power supply wiring candidate area 140 is set as the power supply wiring prohibition area 142.

図9は、図1のフローチャートにおけるステップS20(電源ライン配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 9 shows the state of the power supply layout after the processing in step S20 (power supply line wiring step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

ステップS20では、まず、電源配線候補領域130において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン132−1及び132−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング112と接続させる。次に、電源配線候補領域150において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン152−1及び152−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング112と接続させる。次に、電源配線候補領域160において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン162−1及び162−2を第2メタル層で配線しVDD電源リング112と接続させる。電源配線禁止領域142には電源配線が行われない。なお、電源配線候補領域130、150及び160におけるVDD電源ラインの配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。   In step S20, first, in the power supply wiring candidate region 130, the VDD power supply lines 132-1 and 132-2 are wired with the second metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the VDD power supply ring 112 is connected. Connect. Next, in the power supply wiring candidate region 150, the VDD power supply lines 152-1 and 152-2 are wired with the second metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 112. Next, in the power supply wiring candidate region 160, the VDD power supply lines 162-1 and 162-2 are wired with the second metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) and connected to the VDD power supply ring 112. Power supply wiring is not performed in the power supply wiring prohibition area 142. Note that the order of wiring of the VDD power supply lines in the power supply wiring candidate regions 130, 150, and 160 is not limited to this, and wiring may be performed in an arbitrary order.

図10は、図1のフローチャートにおけるステップS22(電源ライン自動配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 10 shows the state of the power supply layout after the processing in step S22 (power supply line automatic wiring step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

ステップS22では、まず、所与の自動配線ツールを使用して、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン134−1、134−2、136−1、136−2及び138−1、138−2を自動配線させてVDD電源リング112と接続させる。例えば、VDDリング112の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの3本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン132−1、132−2の右側に所定の間隔で第2メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン134−1、134−2、136−1、136−2及び138−1、138−2が作成される。   In step S22, first, using a given automatic wiring tool, VDD power lines 134-1, 134-2, 136-1 and 136-2 along the first VDD power wiring direction (vertical direction) and 138-1 and 138-2 are automatically wired and connected to the VDD power supply ring 112. For example, the inner side of the VDD ring 112 is set as a wiring prohibition region, and three VDD power supply lines having a predetermined width and length are connected to the right side of the VDD power supply lines 132-1 and 132-2 at a predetermined interval. The VDD power supply lines 134-1, 134-2, 136-1, 136-2 and 138-1, 138-2 are created by designating the automatic wiring in the layer and causing the automatic wiring tool to perform wiring.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン154−1、154−2及び156−1、156−2を自動配線させてVDD電源リング112と接続させる。例えば、VDDリング112の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの2本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン152−1、152−2及び162−1、162−2の間に等間隔に第2メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン154−1、154−2及び156−1、156−2が作成される。   Next, the VDD power supply lines 154-1, 154-2 and 156-1 and 156-2 are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) to be connected to the VDD power supply ring 112. For example, the inside of the VDD ring 112 is set as a wiring prohibition region, and two VDD power supply lines having a predetermined width and length are connected between the VDD power supply lines 152-1 and 152-2 and 162-1 and 162-2. VDD power supply lines 154-1, 154-2 and 156-1, 156-2 are created by designating automatic wiring with the second metal layer at equal intervals and wiring with the automatic wiring tool.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン174、176を自動配線させてVDD電源ライン132−2と接続させる。VDD電源ライン174、176は、例えば、図示しない他のモジュールにVDD電位を供給するために使用される。   Next, the VDD power supply lines 174 and 176 are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction) to be connected to the VDD power supply line 132-2. The VDD power supply lines 174 and 176 are used for supplying a VDD potential to other modules (not shown), for example.

ここで、電源配線禁止領域142における配線を禁止するように指定して、自動配線ツールに自動配線させることにより、電源配線禁止領域142においてVDD電源ラインが配線されないようにすることができる。   Here, it is possible to prevent the VDD power supply line from being routed in the power supply wiring prohibition region 142 by designating the wiring in the power supply wiring prohibition region 142 to be prohibited and causing the automatic wiring tool to perform automatic wiring.

なお、VDD電源ライン134−1、134−2、136−1、136−2、138−1、138−2、154−1、154−2、156−1、156−2、174、176の配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。   In addition, wiring of VDD power supply lines 134-1, 134-2, 136-1, 136-2, 138-1, 138-2, 154-1, 154-2, 156-1, 156-2, 174, 176 The order is not limited to this, and wiring may be performed in an arbitrary order.

図11は、本実施の形態の半導体集積回路装置の電源配線方法のフローチャートの第2の例を示す図である。図11のフローチャートは、少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含み、複数の配線層を有する半導体集積回路装置において、電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを配線する場合に適用される。以下、図11のフローチャートについて説明する。   FIG. 11 is a diagram showing a second example of a flowchart of the power supply wiring method for the semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment. The flow chart of FIG. 11 has a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction. In a semiconductor integrated circuit device including at least one module and having a plurality of wiring layers, this is applied when wiring a power supply line for supplying a predetermined potential to a power supply ring. Hereinafter, the flowchart of FIG. 11 will be described.

まず、電源ラインを配線するための配線層を指定するようにしてもよい(電源ライン配線層指定ステップ(ステップS30))。例えば、4層以上の配線層を有する半導体集積回路装置において、縦方向の電源ラインは第2メタル層又は第4メタル層で配線し、横方向の電源ラインは第1メタル層又は第3メタル層で配線する場合、縦方向の電源ラインを配線するための配線層として第2メタル層又は第4メタル層のいずれか一方又は両方を指定し、横方向の電源ラインを配線するための配線層として第1メタル層又は第3メタル層のいずれか一方又は両方を指定するようにしてもよい。   First, a wiring layer for wiring the power supply line may be designated (power supply line wiring layer designation step (step S30)). For example, in a semiconductor integrated circuit device having four or more wiring layers, the vertical power line is wired by the second metal layer or the fourth metal layer, and the horizontal power line is the first metal layer or the third metal layer. As a wiring layer for wiring the power supply line in the horizontal direction, specify either one or both of the second metal layer and the fourth metal layer as the wiring layer for wiring the power supply line in the vertical direction. Either one or both of the first metal layer and the third metal layer may be designated.

次に、レイアウトエリアにおいて、IPモジュールを配置する(モジュール配置ステップ(ステップS32))。ステップS32の処理は、図1のフローチャートにおけるステップS12の処理と同様であり、説明を省略する。   Next, an IP module is arranged in the layout area (module arrangement step (step S32)). The process of step S32 is the same as the process of step S12 in the flowchart of FIG.

次に、IPモジュール内の電源リングの位置を認識する(電源リング認識ステップ(ステップS34))。ステップS34の処理は、図1のフローチャートにおけるステップS14の処理と同様であり、説明を省略する。   Next, the position of the power supply ring in the IP module is recognized (power supply ring recognition step (step S34)). The process of step S34 is the same as the process of step S14 in the flowchart of FIG.

次に、電源ラインを配線する領域の候補となる領域(電源配線候補領域)を設定する(電源配線候補領域設定ステップ(ステップS36))。ステップS36の処理は、図1のフローチャートにおけるステップS16の処理と同様であり、説明を省略する。   Next, a region (power source wiring candidate region) that is a candidate for a region for wiring the power source line is set (power source wiring candidate region setting step (step S36)). The process of step S36 is the same as the process of step S16 in the flowchart of FIG.

次に、電源ラインの配線を禁止する領域(電源配線禁止領域)を設定するようにしてもよい(電源配線禁止領域設定ステップ(ステップS38))。ここで、ステップS36で設定した電源配線候補領域が、所定の電位と異なる電位を供給される所与の電源リングの配置領域と重複する場合には、電源ラインを配線する配線層(例えば、ステップS30において指定した配線層)に基づいて、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するか否かを決定するようにしてもよい。電源ラインを配線する配線層の情報に加えて、レイアウト規則(異なる配線層の電源ラインを接続する場合は必ずスタックVIAで接続する等)も考慮して当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するか否かを決定するようにしてもよい。   Next, an area for prohibiting the wiring of the power supply line (power supply wiring prohibited area) may be set (power supply wiring prohibited area setting step (step S38)). Here, if the power supply wiring candidate region set in step S36 overlaps with a given power supply ring arrangement region to which a potential different from the predetermined potential is supplied, a wiring layer for wiring the power supply line (for example, step Based on the wiring layer designated in S30), it may be determined whether or not the power supply wiring candidate area is set as the power supply wiring prohibited area. In addition to the information on the wiring layer for wiring the power supply line, the power supply wiring candidate area is set as the power supply wiring prohibited area in consideration of the layout rule (when connecting power lines of different wiring layers, be sure to connect them with the stack VIA). You may make it determine whether it sets.

例えば、半導体集積回路装置が第2メタル層に形成されたVDD電源リングを含むIPモジュールと第2メタル層に形成されたVSS電源リングを含む他のIPモジュールを含み、異なる配線層の電源ラインは必ずスタックVIAで接続する場合において、ステップS10で当該VDD電源リングに接続される縦方向及び横方向のVDD電源ラインを配線するための配線層としてそれぞれ第4メタル層及び第1メタル層を指定した場合、縦方向のVDD電源ラインについて設定された電源配線候補領域が、当該VSS電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域が電源配線禁止領域に設定されるようにしてもよい(縦方向の第4メタル層のVDD電源ラインと横方向の第1メタル層のVDD電源ラインの間に第2メタル層のVSS電源リングが存在するので、縦方向の第4メタル層のVDD電源ラインと横方向の第1メタル層のVDD電源ラインをスタックVIAで接続するとVDDとVSSがショートする)。   For example, the semiconductor integrated circuit device includes an IP module including a VDD power ring formed on the second metal layer and another IP module including a VSS power ring formed on the second metal layer, and the power lines of different wiring layers are In the case of always connecting with the stack VIA, the fourth metal layer and the first metal layer are designated as wiring layers for wiring the vertical and horizontal VDD power supply lines connected to the VDD power supply ring in step S10, respectively. In this case, if the power supply wiring candidate area set for the vertical VDD power supply line overlaps with the arrangement area of the VSS power supply ring, the power supply wiring candidate area may be set as the power supply wiring prohibited area. Good (the second metal between the VDD power line of the fourth metal layer in the vertical direction and the VDD power line of the first metal layer in the horizontal direction) The so VSS supply ring is present, when a VDD power supply line of the longitudinal fourth first metal layer of the VDD power supply line and the transverse direction of the metal layer connecting the stack VIA VDD and VSS are short-circuited).

また、例えば、半導体集積回路装置が第2メタル層に形成されたVDD電源リングを含むIPモジュールと第2メタル層に形成されたVSS電源リングを含む他のIPモジュールを含み、異なる配線層の電源ラインは必ずスタックVIAで接続する場合において、ステップS30で当該VDD電源リングに接続される縦方向及び横方向のVDD電源ラインを配線するための配線層としてそれぞれ第4メタル層及び第3メタル層を指定した場合、縦方向のVDD電源ラインについて設定された電源配線候補領域が、当該VSS電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域は電源配線禁止領域に設定しなくてもよい(縦方向の第4メタル層のVDD電源ラインと横方向の第3メタル層のVDD電源ラインの下層に第2メタル層のVSS電源リングが存在するので、縦方向の第4メタル層のVDD電源ラインと横方向の第3メタル層のVDD電源ラインをスタックVIAで接続してもVDDとVSSはショートしない)。   Further, for example, the semiconductor integrated circuit device includes an IP module including a VDD power supply ring formed in the second metal layer and another IP module including a VSS power supply ring formed in the second metal layer, and the power supplies of different wiring layers When the lines are always connected by the stack VIA, the fourth metal layer and the third metal layer are respectively used as wiring layers for wiring the vertical and horizontal VDD power supply lines connected to the VDD power supply ring in step S30. If specified, if the power supply wiring candidate area set for the vertical VDD power supply line overlaps with the arrangement area of the VSS power supply ring, the power supply wiring candidate area may not be set as the power supply wiring prohibition area. Good (the second metal under the VDD power line of the fourth metal layer in the vertical direction and the VDD power line of the third metal layer in the horizontal direction) The so VSS supply ring is present, the longitudinal direction of the 4 VDD and VSS even when the VDD power supply line of the third metal layer of the VDD power supply line and the transverse direction of the metal layer is connected with the stack VIA is not shorted).

次に、電源ラインを配線する(電源ライン配線ステップ(ステップS40))。ステップS40の処理は、図1のフローチャートにおけるステップS20の処理と同様であり、説明を省略する。   Next, a power line is wired (power line wiring step (step S40)). The process of step S40 is the same as the process of step S20 in the flowchart of FIG.

最後に、その他の電源ラインを自動配線するようにしてもよい(電源ライン自動配線ステップ(ステップS42))。ステップS42の処理は、図1のフローチャートにおけるステップS22の処理と同様であり、説明を省略する。   Finally, other power supply lines may be automatically wired (power line automatic wiring step (step S42)). The process of step S42 is the same as the process of step S22 in the flowchart of FIG.

図11のフローチャートでは、電源ライン配線層指定ステップ(ステップS30)は、IPモジュール配置ステップ(ステップS32)の前に行われているが、電源ライン配線層指定ステップは、電源配線禁止領域設定ステップ(ステップS38)の前の任意のタイミングで行えばよい。   In the flowchart of FIG. 11, the power line wiring layer designation step (step S30) is performed before the IP module placement step (step S32). What is necessary is just to perform at arbitrary timings before step S38).

図12〜図15は、図11のフローチャートにおける各ステップでの処理が終了した後の電源レイアウトの状態の一例を説明するための図である。以下、図11のフローチャートを参照しながら図12〜図15について説明する。   12 to 15 are diagrams for explaining an example of the state of the power supply layout after the process in each step in the flowchart of FIG. 11 is completed. Hereinafter, FIGS. 12 to 15 will be described with reference to the flowchart of FIG.

図12は、図11のフローチャートにおけるステップS30(電源ライン配線層選択ステップ)及びステップS32(モジュール配置ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 12 shows the state of the power supply layout after the processing in step S30 (power supply line wiring layer selection step) and step S32 (module placement step) in the flowchart of FIG. 11 is completed.

半導体集積回路装置200は、例えば4層の配線層(下層から順に第1メタル層〜第4メタル層)を有し、IPモジュール210及び220を含んで構成されている。また、異なる配線層の電源ラインは必ずスタックVIAで接続するというルールが存在するものとする。   The semiconductor integrated circuit device 200 has, for example, four wiring layers (first metal layer to fourth metal layer in order from the lower layer), and includes IP modules 210 and 220. Further, it is assumed that there is a rule that power lines of different wiring layers are always connected by the stack VIA.

まず、ステップS30での処理により、例えば、第1のVDD電源配線方向(縦方向)の電源ラインを配線するための配線層として第4メタル層が指定され、第2のVDD電源配線方向(横方向)の電源ラインを配線するための配線層として第3メタル層が指定されている。   First, by the process in step S30, for example, the fourth metal layer is designated as a wiring layer for wiring the power supply line in the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the second VDD power supply wiring direction (horizontal direction) The third metal layer is designated as a wiring layer for wiring the power line in the direction.

次に、ステップS32での処理により、IPモジュール210及び220が所定の位置に配置されている。IPモジュール210は、第2メタル層において形成されたVDD電源リング212を含んでいる。VDD電源リング212はVDD電位が供給される電源リングである。VDD電源リング212は、IPモジュール210のコア部分214の外側に配置され、コア部分214にVDD電位を供給する機能を果たしている。また、IPモジュール220は、第2メタル層において形成されたVSS電源リング222を含んでいる。VSS電源リング222はVSS電位が供給される電源リングである。VSS電源リング222は、IPモジュール220のコア部分224の外側に配置され、コア部分224にVSS電位を供給する機能を果たしている。VDD電源リング212及びVSSリング222は、例えば、環状に形成された一部が切断されていてもよい。なお、図13〜図15においては、IPモジュール210及び220のそれぞれコア部分214、224及びVDD電源リング212、VSS電源リング222とコア部分214、224を接続する電源ラインは省略しており図示していない。   Next, the IP modules 210 and 220 are arranged at predetermined positions by the processing in step S32. The IP module 210 includes a VDD power ring 212 formed in the second metal layer. The VDD power ring 212 is a power ring to which a VDD potential is supplied. The VDD power ring 212 is disposed outside the core portion 214 of the IP module 210 and functions to supply a VDD potential to the core portion 214. In addition, the IP module 220 includes a VSS power ring 222 formed in the second metal layer. The VSS power supply ring 222 is a power supply ring to which a VSS potential is supplied. The VSS power supply ring 222 is disposed outside the core portion 224 of the IP module 220 and functions to supply a VSS potential to the core portion 224. For example, a part of the VDD power ring 212 and the VSS ring 222 formed in an annular shape may be cut off. 13 to 15, the core portions 214 and 224 of the IP modules 210 and 220 and the VDD power supply ring 212 and the power supply lines connecting the VSS power supply ring 222 and the core portions 214 and 224 are omitted. Not.

VDD電源リング212は、212−1及び212−3の矩形部分が第1の方向に沿って敷設され、212−2及び212−4の矩形部分が第2の方向に沿って敷設されている。また、VSS電源リング222は、222−1及び222−3の矩形部分が第1の方向に沿って敷設され、222−2及び222−4の矩形部分が第2の方向に沿って敷設されている。   In the VDD power supply ring 212, the rectangular portions 212-1 and 212-3 are laid along the first direction, and the rectangular portions 212-2 and 212-4 are laid along the second direction. In addition, the VSS power ring 222 has the rectangular portions 222-1 and 222-3 laid along the first direction, and the rectangular portions 222-2 and 222-4 laid along the second direction. Yes.

図12では、後でVDD電源ラインを縦方向及び横方向に配線してVDD電源リング212に接続するので、第1の方向及び第2の方向がそれぞれ第1のVDD電源配線方向(縦方向)及び第2のVDD電源配線方向(横方向)と一致するようにIPモジュール210及び220が配置されている。   In FIG. 12, since the VDD power supply line is wired in the vertical direction and the horizontal direction later and connected to the VDD power supply ring 212, the first direction and the second direction are respectively the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). The IP modules 210 and 220 are arranged so as to coincide with the second VDD power supply wiring direction (lateral direction).

図13は、図11のフローチャートにおけるステップS34(電源リング認識ステップ)、ステップS36(電源配線候補領域設定ステップ)及びステップS38(電源配線禁止領域設定ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 13 shows the power layout after the processing in step S34 (power supply ring recognition step), step S36 (power supply wiring candidate area setting step) and step S38 (power supply wiring prohibited area setting step) in the flowchart of FIG. Indicates the state.

まず、ステップS34において、IPモジュール210のVDD電源リング212が存在する領域及びIPモジュール220のVSS電源リング222が存在する領域が認識される。次に、ステップS36において、VDD電源リング212の、第1のVDD電源配線方向(縦方向)と一致する第1の方向に沿って敷設された部分212−1、212−3をそれぞれ含む第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿った領域230及び240が電源配線候補領域に設定される。さらに、VDD電源リング212の、第2のVDD電源配線方向(横方向)と一致する第2の方向に沿って敷設された部分212−2、212−4をそれぞれ含む第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿った領域250及び260が電源配線候補領域に設定される。図13では、電源配線候補領域230、240、250及び260は半導体集積回路装置200の内縁まで達しているが、例えば、半導体集積回路装置200の内側の周辺部にVDD電源リングが配置されているような場合には、当該VDD電源リングに達するまでの領域であってもよい。   First, in step S34, a region where the VDD power ring 212 of the IP module 210 exists and a region where the VSS power ring 222 of the IP module 220 exists are recognized. Next, in step S36, the VDD power ring 212 includes first portions 212-1, 212-3 laid along a first direction that coincides with the first VDD power wiring direction (vertical direction). The regions 230 and 240 along the VDD power supply wiring direction (vertical direction) are set as power supply wiring candidate regions. Furthermore, the second VDD power supply wiring direction including the portions 212-2 and 212-4 laid along the second direction of the VDD power supply ring 212 that coincides with the second VDD power supply wiring direction (lateral direction). Regions 250 and 260 along the (lateral direction) are set as power source wiring candidate regions. In FIG. 13, the power supply wiring candidate regions 230, 240, 250, and 260 reach the inner edge of the semiconductor integrated circuit device 200. For example, a VDD power supply ring is disposed on the inner periphery of the semiconductor integrated circuit device 200. In such a case, the region up to the VDD power supply ring may be used.

次に、ステップS38において、電源配線候補領域230、240、250及び260が、VDD電位と異なるVSS電位を供給されるVSS電源リング222の配置領域と重複する場合には、ステップS30において指定した配線層に基づいて、当該電源配線候補領域230、240、250及び260を電源配線禁止領域に設定するか否かが決定される。ステップS30では、第1のVDD電源配線方向(縦方向)の電源ラインを配線するための配線層として第4メタル層が指定され、第2のVDD電源配線方向(横方向)の電源ラインを配線するための配線層として第3メタル層が指定されている。そのため、ステップS40で、源配線候補領域240においてVDD電源ラインの電源配線を行った場合に、第1のVDD電源配線方向(縦方向)の第4メタル層のVDD電源ラインと第2のVDD電源配線方向(横方向)の第3メタル層のVDD電源ラインの下層に第2メタル層のVSS電源リング222(222−3の部分)が存在することになる。そのため、配線候補領域240とVSS電源リング222の配置領域が重複する領域(222−3の部分)において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)のVDD電源ラインと第2のVDD電源配線方向(横方向)のVDD電源ラインを、VIAで接続してもVDDとVSSはショートしない。従って、電源配線候補領域240は電源配線禁止領域に設定しなくてもよい。   Next, in step S38, when the power supply wiring candidate areas 230, 240, 250, and 260 overlap with the arrangement area of the VSS power supply ring 222 to which the VSS potential different from the VDD potential is supplied, the wiring designated in step S30. Based on the layer, it is determined whether or not to set the power supply wiring candidate areas 230, 240, 250, and 260 as power supply wiring prohibited areas. In step S30, the fourth metal layer is designated as the wiring layer for wiring the power line in the first VDD power wiring direction (vertical direction), and the power line in the second VDD power wiring direction (lateral direction) is wired. A third metal layer is designated as a wiring layer for this purpose. Therefore, when power supply wiring of the VDD power supply line is performed in the source wiring candidate region 240 in step S40, the VDD power supply line and the second VDD power supply of the fourth metal layer in the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). The VSS power ring 222 (222-3 portion) of the second metal layer is present below the VDD power line of the third metal layer in the wiring direction (lateral direction). Therefore, in the region where the wiring candidate region 240 and the VSS power supply ring 222 are arranged (portion 222-3), the VDD power supply line in the first VDD power supply wiring direction (vertical direction) and the second VDD power supply wiring direction Even if the VDD power supply line in the (horizontal direction) is connected by VIA, VDD and VSS do not short-circuit. Therefore, the power supply wiring candidate area 240 may not be set as the power supply wiring prohibited area.

図14は、図11のフローチャートにおけるステップS40(電源ライン配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 14 shows the state of the power supply layout after the processing in step S40 (power supply line wiring step) in the flowchart of FIG. 11 is completed.

ステップS40では、まず、電源配線候補領域230において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン232を第4メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA232−1及び232−2で接続させる。次に、電源配線候補領域240において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン242を第4メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA242−1及び242−2で接続させる。次に、電源配線候補領域250において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン252を第3メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA232−1及び242−1で接続させる。次に、電源配線候補領域260において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン262を第3メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA232−2及び242−2で接続させる。なお、電源配線候補領域230、240、250及び260におけるVDD電源ラインの配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。同様に、スタックVIA232−1、232−2、242−1、242−2の配置の順序もこれに限られず、任意の順序で配置してよい。   In step S40, first, in the power supply wiring candidate region 230, the VDD power supply line 232 is wired with the fourth metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the VDD power supply ring 212 and the stack VIAs 232-1 and 232 are connected. -2 to connect. Next, in the power supply wiring candidate region 240, the VDD power supply line 242 is wired with the fourth metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the VDD power supply ring 212 and the stack VIAs 242-1 and 242-2 are used. Connect. Next, in the power supply wiring candidate region 250, the VDD power supply line 252 is wired with the third metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the VDD power supply ring 212 and the stack VIAs 232-1 and 242-1 are used. Connect. Next, in the power supply wiring candidate region 260, the VDD power supply line 262 is wired with the third metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the VDD power supply ring 212 and the stacks VIA 232-2 and 242-2 are used. Connect. Note that the order of wiring of the VDD power supply lines in the power supply wiring candidate regions 230, 240, 250, and 260 is not limited to this, and may be wired in an arbitrary order. Similarly, the arrangement order of the stack VIAs 232-1, 232-2, 242-1, and 242-2 is not limited to this, and the stack VIAs 232-1, 232-2, and 242-1 and 242-2 may be arranged in any order.

図15は、図1のフローチャートにおけるステップS42(電源ライン自動配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 15 shows the state of the power supply layout after the processing in step S42 (power supply line automatic wiring step) in the flowchart of FIG. 1 is completed.

ステップS42では、まず、所与の自動配線ツールを使用して、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿って第4メタル層のVDD電源ライン234−1、234−2、236−1、236−2及び238−1、238−2を自動配線させて第2メタル層のVDD電源リング212とスタックVIA234−3、234−4、236−3、236−4及び238−3、238−4で接続させる。例えば、VDD電源リング212の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの3本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン232及び242の間に等間隔に第4メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン234−1、234−2、236−1、236−2、238−1、238−2及びスタックVIA234−3、234−4、236−3、236−4、238−3、238−4が作成される。   In step S42, first, the VDD power supply lines 234-1, 234-2, and 236-1 of the fourth metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction) using a given automatic wiring tool. 236-2 and 238-1 and 238-2 are automatically wired to the VDD power ring 212 of the second metal layer and the stack VIA 234-3, 234-4, 236-3, 236-4 and 238-3, 238- 4 to connect. For example, the inside of the VDD power supply ring 212 is set as a wiring prohibition region, and three VDD power supply lines having a predetermined width and length are automatically wired with a fourth metal layer at equal intervals between the VDD power supply lines 232 and 242. The power supply lines 234-1, 234-2, 236-1, 236-2, 238-1, 238-2 and the stack VIA 234-3, 234-4 236-3, 236-4, 238-3, 238-4 are created.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿って第3メタル層のVDD電源ライン254−1、256−1及び254−2、256−2を自動配線させて第4メタル層のVDD電源ライン232及び242とスタックVIA254−3、256−3及び254−4、256−4で接続させる。例えば、VDD電源リング212の内側を配線禁止領域に設定し、所定の幅及び長さの2本のVDD電源ラインを、VDD電源ライン252及び262の間に等間隔に第3メタル層で自動配線するように指定して自動配線ツールに配線させることにより、VDD電源ライン254−1、254−2、256−1、256−2及びスタックVIA254−3、256−3、254−4、256−4が作成される。   Next, the VDD power supply lines 254-1, 256-1 and 254-2, 256-2 of the third metal layer are automatically routed along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the fourth metal layer The VDD power supply lines 232 and 242 are connected to the stacks VIA 254-3, 256-3 and 254-4, 256-4. For example, the inside of the VDD power supply ring 212 is set as a wiring prohibition region, and two VDD power supply lines having a predetermined width and length are automatically wired with a third metal layer at equal intervals between the VDD power supply lines 252 and 262. The VDD power lines 254-1, 254-2, 256-1, 256-2 and the stack VIAs 254-3, 256-3, 254-4, 256-4 are specified by wiring to the automatic wiring tool. Is created.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿って第3メタル層のVDD電源ライン274−1、276−1及び274−2、276−2を自動配線させて第4メタル層のVDD電源ライン232及び242とスタックVIA274−3、276−3及び274−4、276−4で接続させる。VDD電源ライン274−1、276−1及び274−2、276−2は、例えば、図示しない他のモジュールにVDD電位を供給するために使用される。   Next, the VDD power supply lines 274-1, 276-1 and 274-2, 276-2 of the third metal layer are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the fourth metal layer The VDD power supply lines 232 and 242 are connected to the stacks VIA 274-3, 276-3 and 274-4, 276-4. The VDD power lines 274-1, 276-1 and 274-2 and 276-2 are used for supplying a VDD potential to other modules (not shown), for example.

なお、VDD電源ライン254−1、254−2、256−1、256−2、274−1、274−2、276−1、276−2の配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。同様に、スタックVIA254−3、254−4、256−3、256−4、274−3、274−4、276−3、276−4の配置の順序もこれに限られず、任意の順序で配置してよい。   Note that the order of wiring of the VDD power supply lines 254-1, 254-2, 256-1, 256-2, 274-1, 274-2, 276-1, and 276-2 is not limited to this, and may be any order. May be wired. Similarly, the arrangement order of the stacks VIA 254-3, 254-4, 256-3, 256-4, 274-3, 274-4, 276-3, 276-4 is not limited to this, and is arranged in an arbitrary order. You can do it.

図16〜図18は、図11のフローチャートにおける各ステップでの処理が終了した後の電源レイアウトの状態の他の一例を説明するための図である。以下、図11のフローチャートを参照しながら図16〜図18について説明する。   16 to 18 are diagrams for explaining another example of the state of the power supply layout after the process in each step in the flowchart of FIG. 11 is completed. Hereinafter, FIGS. 16 to 18 will be described with reference to the flowchart of FIG.

図16は、図11のフローチャートにおけるステップS30(電源ライン配線層選択ステップ)、ステップS32(モジュール配置ステップ)、ステップS34(電源リング認識ステップ)、ステップS36(電源配線候補領域設定ステップ)及びステップS38(電源配線禁止領域設定ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 16 shows step S30 (power supply line wiring layer selection step), step S32 (module placement step), step S34 (power supply ring recognition step), step S36 (power supply wiring candidate region setting step) and step S38 in the flowchart of FIG. The state of the power supply layout after the process in (power supply wiring prohibited area setting step) is completed is shown.

半導体集積回路装置200は、図12で説明した半導体集積回路200と同じであり、異なる配線層の電源ラインは必ずスタックVIAで接続するというルールが存在するものとする。   The semiconductor integrated circuit device 200 is the same as the semiconductor integrated circuit 200 described with reference to FIG. 12, and it is assumed that there is a rule that power lines of different wiring layers are always connected by the stack VIA.

まず、ステップS30での処理により、例えば、第1のVDD電源配線方向(縦方向)の電源ラインを配線するための配線層として第4メタル層が指定され、第2のVDD電源配線方向(横方向)の電源ラインを配線するための配線層として第1メタル層が指定されている。   First, by the process in step S30, for example, the fourth metal layer is designated as a wiring layer for wiring the power supply line in the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the second VDD power supply wiring direction (horizontal direction) The first metal layer is designated as a wiring layer for wiring the power line in the direction.

次に、ステップS32〜S36での処理は、図12及び図13で説明したステップS32〜S36での処理と同じであり、説明を省略する。   Next, the processing in steps S32 to S36 is the same as the processing in steps S32 to S36 described in FIG. 12 and FIG.

次に、ステップS38において、電源配線候補領域230、240、250及び260が、VDD電位と異なるVSS電位を供給されるVSS電源リング222の配置領域と重複する場合には、ステップS30において指定した配線層に基づいて、当該電源配線候補領域230、240、250及び260を電源配線禁止領域に設定するか否かが決定される。ステップS30では、第1のVDD電源配線方向(縦方向)の電源ラインを配線するための配線層として第4メタル層が指定され、第2のVDD電源配線方向(横方向)の電源ラインを配線するための配線層として第1メタル層が指定されている。そのため、ステップS40で、源配線候補領域240においてVDD電源ラインの電源配線を行った場合に、第1のVDD電源配線方向(縦方向)の第4メタル層のVDD電源ラインと第2のVDD電源配線方向(横方向)の第1メタル層のVDD電源ラインの間に第2メタル層のVSS電源リング222(222−3の部分)が存在することになる。そのため、配線候補領域240とVSS電源リング222の配置領域が重複する領域(222−3の部分)において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)のVDD電源ラインと第2のVDD電源配線方向(横方向)のVDD電源ラインを、スタックVIAで接続するとVDDとVSSがショートする。従って、電源配線候補領域240は電源配線禁止領域242に設定される。   Next, in step S38, when the power supply wiring candidate areas 230, 240, 250, and 260 overlap with the arrangement area of the VSS power supply ring 222 to which the VSS potential different from the VDD potential is supplied, the wiring designated in step S30. Based on the layer, it is determined whether or not to set the power supply wiring candidate areas 230, 240, 250, and 260 as power supply wiring prohibited areas. In step S30, the fourth metal layer is designated as the wiring layer for wiring the power line in the first VDD power wiring direction (vertical direction), and the power line in the second VDD power wiring direction (lateral direction) is wired. The first metal layer is designated as a wiring layer for this purpose. Therefore, when power supply wiring of the VDD power supply line is performed in the source wiring candidate region 240 in step S40, the VDD power supply line and the second VDD power supply of the fourth metal layer in the first VDD power supply wiring direction (vertical direction). The VSS power ring 222 (222-3 portion) of the second metal layer exists between the VDD power lines of the first metal layer in the wiring direction (lateral direction). Therefore, in the region where the wiring candidate region 240 and the VSS power supply ring 222 are arranged (portion 222-3), the VDD power supply line in the first VDD power supply wiring direction (vertical direction) and the second VDD power supply wiring direction When the VDD power supply line in the (horizontal direction) is connected by the stack VIA, VDD and VSS are short-circuited. Therefore, the power supply wiring candidate area 240 is set to the power supply wiring prohibited area 242.

図17は、図11のフローチャートにおけるステップS40(電源ライン配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 17 shows the state of the power supply layout after the processing in step S40 (power supply line wiring step) in the flowchart of FIG. 11 is completed.

ステップS40では、まず、電源配線候補領域230において、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿ってVDD電源ライン232を第4メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA232−1及び232−2で接続させる。次に、電源配線候補領域250において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン252を第1メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA232−1及び242−1で接続させる。次に、電源配線候補領域260において、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿ってVDD電源ライン262を第1メタル層で配線しVDD電源リング212とスタックVIA232−2及び242−2で接続させる。電源配線禁止領域242には電源配線が行われない。なお、電源配線候補領域230、250及び260におけるVDD電源ラインの配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。同様に、スタックVIA232−1、232−2、242−1、242−2の配置の順序もこれに限られず、任意の順序で配置してよい。   In step S40, first, in the power supply wiring candidate region 230, the VDD power supply line 232 is wired with the fourth metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction), and the VDD power supply ring 212 and the stack VIAs 232-1 and 232 are connected. -2 to connect. Next, in the power supply wiring candidate region 250, the VDD power supply line 252 is wired with the first metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the VDD power supply ring 212 and the stacks VIA 232-1 and 242-1 are connected. Connect. Next, in the power supply wiring candidate region 260, the VDD power supply line 262 is wired with the first metal layer along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the VDD power supply ring 212 and the stack VIAs 232-2 and 242-2 are connected. Connect. Power supply wiring is not performed in the power supply wiring prohibition region 242. Note that the order of wiring of the VDD power supply lines in the power supply wiring candidate regions 230, 250, and 260 is not limited to this, and wiring may be performed in an arbitrary order. Similarly, the arrangement order of the stack VIAs 232-1, 232-2, 242-1, and 242-2 is not limited to this, and the stack VIAs 232-1, 232-2, and 242-1 and 242-2 may be arranged in any order.

図18は、図1のフローチャートにおけるステップS42(電源ライン自動配線ステップ)での処理が終了した後の電源レイアウトの状態を示している。   FIG. 18 shows the state of the power supply layout after the processing in step S42 (power supply line automatic wiring step) in the flowchart of FIG.

ステップS42では、まず、所与の自動配線ツールを使用して、第1のVDD電源配線方向(縦方向)に沿って第4メタル層のVDD電源ライン234−1、234−2、236−1、236−2及び238−1、238−2を自動配線させて第2メタル層のVDD電源リング212とスタックVIA234−3、234−4、236−3、236−4及び238−3、238−4で接続させる。   In step S42, first, the VDD power supply lines 234-1, 234-2, and 236-1 of the fourth metal layer along the first VDD power supply wiring direction (vertical direction) using a given automatic wiring tool. 236-2 and 238-1 and 238-2 are automatically wired to the VDD power ring 212 of the second metal layer and the stack VIA 234-3, 234-4, 236-3, 236-4 and 238-3, 238- 4 to connect.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿って第1メタル層のVDD電源ライン254−1、256−1及び254−2、256−2を自動配線させて第4メタル層のVDD電源ライン232及び242とスタックVIA254−3、256−3及び254−4、256−4で接続させる。   Next, the VDD power supply lines 254-1, 256-1 and 254-2, 256-2 of the first metal layer are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the fourth metal layer The VDD power supply lines 232 and 242 are connected to the stacks VIA 254-3, 256-3 and 254-4, 256-4.

次に、第2のVDD電源配線方向(横方向)に沿って第1メタル層のVDD電源ライン274−1、276−1を自動配線させて第4メタル層のVDD電源ライン232とスタックVIA274−3、276−3で接続させる。VDD電源ライン274−1、276−1は、例えば、図示しない他のモジュールにVDD電位を供給するために使用される。   Next, VDD power supply lines 274-1 and 276-1 of the first metal layer are automatically wired along the second VDD power supply wiring direction (lateral direction), and the VDD power supply line 232 of the fourth metal layer and the stack VIA 274-. 3, 276-3. The VDD power supply lines 274-1 and 276-1 are used for supplying a VDD potential to other modules (not shown), for example.

ここで、電源配線禁止領域244における配線を禁止するように指定して、自動配線ツールに自動配線させることにより、電源配線禁止領域244においてVDD電源ラインが配線されないようにすることができる。   Here, it is possible to prevent the VDD power supply line from being routed in the power supply wiring prohibited area 244 by designating that the wiring in the power supply wiring prohibited area 244 is prohibited and causing the automatic wiring tool to perform automatic wiring.

なお、VDD電源ライン254−1、254−2、256−1、256−2、274−1、276−1の配線の順序はこれに限られず、任意の順序で配線してよい。同様に、スタックVIA254−3、254−4、256−3、256−4、274−3、276−3の配置の順序もこれに限られず、任意の順序で配置してよい。   Note that the order of wiring of the VDD power supply lines 254-1, 254-2, 256-1, 256-2, 274-1, and 276-1 is not limited thereto, and wiring may be performed in an arbitrary order. Similarly, the arrangement order of the stacks VIA 254-3, 254-4, 256-3, 256-4, 274-3, 276-3 is not limited to this, and may be arranged in any order.

本実施形態の半導体集積回路装置の電源配線方法によれば、IPモジュールの電源リングの位置にアラインメントして電源ラインを配線することができる。従って、本実施形態の半導体集積回路装置の電源配線方法によれば、電源配線後の修正作業を低減するとともに、後工程の信号配線を容易にするための効率的な電源配線を実現することができる。   According to the power supply wiring method of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the power supply line can be wired by aligning with the position of the power supply ring of the IP module. Therefore, according to the power supply wiring method for the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment, it is possible to reduce the correction work after the power supply wiring and to realize an efficient power supply wiring for facilitating the signal wiring in the subsequent process. it can.

また、本実施形態の半導体集積回路装置の電源配線方法によれば、電源リングのコーナー部分の電源配線を人手で行う必要がないので配線ミスの発生を抑制できるとともに作業工数を削減することができる。   Further, according to the power supply wiring method of the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment, it is not necessary to manually perform power supply wiring at the corner portion of the power supply ring, so that the occurrence of wiring mistakes can be suppressed and the number of work steps can be reduced. .

また、本実施形態の半導体集積回路装置の電源配線方法によれば、自動配線ツールによる電源配線を行う前に、電源リングのコーナー部分の電源配線が終了している。そのため、その他の電源配線(電源リングの各辺についての電源配線)を自動配線ツールに自動配線させても電源配線の大幅な修正作業や後工程の信号配線の配線効率の悪化の原因となる非効率的な電源配線が行われる可能性を低くすることができる。   Further, according to the power supply wiring method of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the power supply wiring at the corner portion of the power supply ring is completed before the power supply wiring is performed by the automatic wiring tool. For this reason, even if other power supply wiring (power supply wiring for each side of the power supply ring) is automatically routed by the automatic wiring tool, it may cause significant correction work of power supply wiring and deterioration of wiring efficiency of signal wiring in the subsequent process. The possibility of efficient power supply wiring can be reduced.

また、本実施形態の半導体集積回路装置の電源配線方法によれば、電源配線禁止領域には電源配線がされないので、異なる電源間で配線ショート等することを防止することができる。そのため、電源ラインの修正作業に必要な工数を削減することができる。   In addition, according to the power supply wiring method of the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment, since power supply wiring is not performed in the power supply wiring prohibited area, it is possible to prevent a wiring short-circuit between different power supplies. Therefore, the man-hours required for the power line correction work can be reduced.

また、本実施形態の半導体集積回路装置の電源配線方法によれば、電源リングの配線層と電源ラインの配線層が異なる場合でも、後の電源配線時にショートエラー等が発生する可能性のある領域には電源配線をさせないようにすることができる。そのため、電源ラインの修正作業に必要な工数を削減することができる。   In addition, according to the power supply wiring method of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, even if the power supply ring wiring layer and the power supply line wiring layer are different, a region where a short error or the like may occur during subsequent power supply wiring It is possible to prevent the power supply wiring from being provided. Therefore, the man-hours required for the power line correction work can be reduced.

2.半導体集積回路装置の設計支援システム、半導体集積回路装置の電源配線プログラム
次に、図19を用いて本実施形態の半導体集積回路装置の設計支援システムの構成について説明する。本実施形態の半導体集積回路装置の設計支援システム400は、当該構成要素(各部)の一部を省略した構成としてもよい。
2. Semiconductor Integrated Circuit Device Design Support System, Semiconductor Integrated Circuit Device Power Supply Wiring Program Next, the configuration of the semiconductor integrated circuit device design support system of this embodiment will be described with reference to FIG. The semiconductor integrated circuit device design support system 400 of this embodiment may have a configuration in which some of the components (each unit) are omitted.

本実施形態の半導体集積回路装置の設計支援システム400は、少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置の設計を支援する設計支援システムである。   The design support system 400 for a semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment is at least partially laid along a given first direction, and at least part of the other is in a second direction orthogonal to the first direction. 1 is a design support system for supporting the design of a semiconductor integrated circuit device including at least one module having a power supply ring laid along the line.

操作部440は、ユーザーの操作等をデータとして入力するためのものであり、その機能は、例えばキーボードやマウス等のハードウェアにより実現できる。   The operation unit 440 is for inputting user operations and the like as data, and the function can be realized by hardware such as a keyboard and a mouse.

記憶部450は、処理部420や通信部490などのワーク領域となるもので、その機能はRAMなどのハードウェアにより実現できる。   The storage unit 450 is a work area such as the processing unit 420 and the communication unit 490, and the function thereof can be realized by hardware such as a RAM.

記憶部450は、ライブラリ情報記憶部452を含む。   The storage unit 450 includes a library information storage unit 452.

ライブラリ情報記憶部452は、設計データにより得られたライブラリ情報(論理回路情報、レイアウト情報、接続情報)や、生成されたネットリストの情報等が記憶されている。   The library information storage unit 452 stores library information (logic circuit information, layout information, connection information) obtained from design data, information on the generated netlist, and the like.

情報記憶媒体460(コンピュータにより読み取り可能な媒体)は、プログラムやデータなどを格納するものであり、その機能は、光ディスク(CD、DVD等)、光磁気ディスク(MO)、磁気ディスク、ハードディスク、磁気テープ、或いはメモリ(ROM)などのハードウェアにより実現できる。   An information storage medium 460 (a computer-readable medium) stores programs, data, and the like, and functions as an optical disk (CD, DVD, etc.), a magneto-optical disk (MO), a magnetic disk, a hard disk, and a magnetic disk. It can be realized by hardware such as a tape or memory (ROM).

また情報記憶媒体460には、本実施形態の各手段としてコンピュータを機能させるプログラムや補助データ(付加データ)が記憶される。   In addition, the information storage medium 460 stores a program for causing the computer to function as each unit of the present embodiment and auxiliary data (additional data).

処理部420は、この情報記憶媒体460に格納されるプログラム(電源配線プログラム)や情報記憶媒体460から読み出されたデータなどに基づいて本実施形態の種々の処理を行う。即ち情報記憶媒体460には、本実施形態の各手段としてコンピュータを機能させるためのプログラム(各手段の処理をコンピュータに実行させるためのプログラム)が記憶される。   The processing unit 420 performs various processes of the present embodiment based on a program (power supply wiring program) stored in the information storage medium 460, data read from the information storage medium 460, and the like. That is, the information storage medium 460 stores a program for causing a computer to function as each unit of the present embodiment (a program for causing a computer to execute the process of each unit).

表示部470は、本実施形態により生成された画像を出力するものであり、その機能は、CRTディスプレイ、LCD(液晶ディスプレイ)、OELD(有機ELディスプレイ)、PDP(プラズマディスプレイパネル)、タッチパネル型ディスプレイなどのハードウェアにより実現できる。   The display unit 470 outputs an image generated according to the present embodiment, and functions thereof are a CRT display, an LCD (liquid crystal display), an OELD (organic EL display), a PDP (plasma display panel), and a touch panel display. It can be realized by hardware such as.

音出力部480は、本実施形態により生成された音を出力するものであり、その機能は、スピーカ、或いはヘッドフォンなどのハードウェアにより実現できる。   The sound output unit 480 outputs the sound generated by the present embodiment, and its function can be realized by hardware such as a speaker or headphones.

通信部490は、外部(例えばサーバ装置や他の端末機)との間で通信を行うための各種の制御を行うものであり、その機能は、各種プロセッサ又は通信用ASICなどのハードウェアや、プログラムなどにより実現できる。   The communication unit 490 performs various controls for communicating with the outside (for example, a server device or another terminal), and functions thereof are hardware such as various processors or communication ASICs, It can be realized by a program.

処理部420(プロセッサ)は、操作部440からの操作データやプログラムなどに基づいて、各種処理などを行う。この処理部420は記憶部450をワーク領域として各種処理を行う。処理部420の機能は各種プロセッサ(CPU、DSP等)、ASIC(ゲートアレイ等)などのハードウェアや、アプリケーションプログラム、OS(例えば汎用OS等)により実現できる。   The processing unit 420 (processor) performs various types of processing based on operation data and programs from the operation unit 440. The processing unit 420 performs various processes using the storage unit 450 as a work area. The function of the processing unit 420 can be realized by hardware such as various processors (CPU, DSP, etc.), ASIC (gate array, etc.), application program, and OS (for example, general-purpose OS).

処理部420は、モジュール配置手段422、電源配線候補領域設定手段424、電源ライン配線手段428を含む。処理部420は、さらに、電源配線禁止領域設定手段426、電源ライン自動配線手段430を含んでもよい。   The processing unit 420 includes module placement means 422, power supply wiring candidate area setting means 424, and power supply line wiring means 428. The processing unit 420 may further include a power supply wiring prohibited area setting unit 426 and a power supply line automatic wiring unit 430.

モジュール配置手段422は、第1の方向又は第2の方向の少なくとも一方が、電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、モジュールを配置する処理を行う。   The module arrangement means 422 arranges the modules so that at least one of the first direction and the second direction coincides with a power supply wiring direction in which a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring is wired. Process.

電源配線候補領域設定手段424は、配置されたモジュールに含まれる電源リングの、電源配線方向と一致する第1の方向又は第2の方向に沿って敷設された部分を含む電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する処理を行う。   The power supply wiring candidate area setting means 424 is provided along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module, which coincides with the power supply wiring direction. A process of setting the area as a power supply wiring candidate area is performed.

電源配線禁止領域設定手段426は、電源配線候補領域が、所定の電位と異なる電位を供給される所与の電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定する処理を行う。   When the power supply wiring candidate area overlaps with the arrangement area of a given power supply ring to which a potential different from a predetermined potential is supplied, the power supply wiring prohibited area setting unit 426 sets the power supply wiring prohibited area as the power supply wiring prohibited area. Perform processing to set.

また、電源配線禁止領域設定手段426は、電源ラインを配線する配線層に基づいて、電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定するか否かを決定するようにしてもよい。   Further, the power supply wiring prohibited area setting unit 426 may determine whether or not to set the power supply wiring candidate area as the power supply wiring prohibited area based on the wiring layer for wiring the power supply line.

電源ライン配線手段428は、電源配線候補領域において、電源配線方向に沿って電源ラインを配線し電源リングと接続させる処理を行う。   The power supply line wiring means 428 performs processing for wiring the power supply line along the power supply wiring direction and connecting it to the power supply ring in the power supply wiring candidate region.

また、電源ライン配線手段428は、電源配線禁止領域には、電源ラインの配線を行わないようにしてもよい。   Further, the power supply line wiring means 428 may not perform power supply line wiring in the power supply wiring prohibited area.

電源ライン自動配線手段430は、所与の自動配線ツールに前記電源配線方向に沿って所定の電源ラインを自動配線させて前記電源リングと接続させる処理を行う。   The power line automatic wiring means 430 performs a process of automatically wiring a predetermined power line along the power wiring direction with a given automatic wiring tool and connecting it to the power ring.

また、電源ライン自動配線手段430は、電源配線禁止領域における配線を禁止するように指定して、自動配線ツールに自動配線させるようにしてもよい。   Further, the power line automatic wiring means 430 may designate that the wiring in the power wiring prohibition area is prohibited and cause the automatic wiring tool to automatically perform wiring.

本実施形態の半導体集積回路装置の設計支援システム又は電源配線プログラムによれば、各モジュールの電源リングの位置にアラインメントして電源ラインを配線することができる。従って、本実施形態によれば、電源配線後の修正作業を低減するとともに、後工程の信号配線を容易にするための効率的な電源配線を実現することができる。また、本実施形態によれば、各モジュールの電源リングのコーナー部分の電源配線を人手で行う必要がないので配線ミスの発生を抑制できるとともに作業工数を削減することができる。   According to the design support system or the power supply wiring program of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the power supply line can be wired by aligning with the position of the power supply ring of each module. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to reduce the correction work after the power supply wiring and to realize an efficient power supply wiring for facilitating the signal wiring in the subsequent process. Further, according to the present embodiment, since it is not necessary to manually perform the power supply wiring at the corner portion of the power supply ring of each module, it is possible to suppress the occurrence of wiring mistakes and reduce the work man-hours.

なお、本実施形態の各手段としてコンピュータを機能させるためのプログラム(電源配線プログラム)は、ホスト装置(サーバー)が有する情報記憶媒体からネットワーク及び通信部490を介して情報記憶媒体460(記憶部450)に配信してもよい。このようなホスト装置(サーバー)の情報記憶媒体の使用も本発明の範囲内に含めることができる。   Note that a program (power supply wiring program) for causing a computer to function as each unit of the present embodiment is transmitted from an information storage medium of a host device (server) to an information storage medium 460 (storage unit 450) via a network and communication unit 490. ). Use of the information storage medium of such a host device (server) can also be included in the scope of the present invention.

3.半導体集積回路装置
図20は、本実施の形態の半導体集積回路装置のブロック図の一例である。
3. Semiconductor Integrated Circuit Device FIG. 20 is an example of a block diagram of the semiconductor integrated circuit device of this embodiment.

マイクロコンピュータ700は、CPU510、キャッシュメモリ520、ROM710、RAM720、MMU730、LCDコントローラ530、リセット回路540、プログラマブルタイマ550、リアルタイムクロック(RTC)560、DMAコントローラ570、割り込みコントローラ580、通信制御回路590、バスコントローラ600、A/D変換器610、D/A変換器620、入力ポート630、出力ポート640、I/Oポート650、クロック発生装置660、プリスケーラ670、クロック停止制御回路740及びそれらを接続する汎用バス680、専用バス750等、各種ピン690等を含む。   The microcomputer 700 includes a CPU 510, a cache memory 520, a ROM 710, a RAM 720, an MMU 730, an LCD controller 530, a reset circuit 540, a programmable timer 550, a real time clock (RTC) 560, a DMA controller 570, an interrupt controller 580, a communication control circuit 590, and a bus. Controller 600, A / D converter 610, D / A converter 620, input port 630, output port 640, I / O port 650, clock generator 660, prescaler 670, clock stop control circuit 740, and general purpose for connecting them A bus 680, a dedicated bus 750, etc., various pins 690, etc. are included.

例えば、CPU510、RAM720、A/D変換器610、D/A変換器620等は、電源リングを有するIPモジュールとして構成されており、マイクロコンピュータ700は、本実施の形態の電源配線方法、電源配線プログラム又は設計支援システムを用いて設計製造された半導体集積回路装置である。   For example, the CPU 510, the RAM 720, the A / D converter 610, the D / A converter 620, and the like are configured as an IP module having a power supply ring, and the microcomputer 700 includes the power supply wiring method and the power supply wiring according to the present embodiment. A semiconductor integrated circuit device designed and manufactured using a program or a design support system.

4.電子機器
図21に、本実施の形態の電子機器のブロック図の一例を示す。本電子機器800は、マイクロコンピュータ(半導体集積回路装置)810、入力部820、メモリ830、電源生成部840、LCD850、音出力部860を含む。
4). Electronic Device FIG. 21 shows an example of a block diagram of the electronic device of this embodiment. The electronic apparatus 800 includes a microcomputer (semiconductor integrated circuit device) 810, an input unit 820, a memory 830, a power generation unit 840, an LCD 850, and a sound output unit 860.

ここで、入力部820は、種々のデータを入力するためのものである。マイクロコンピュータ810は、この入力部820により入力されたデータに基づいて種々の処理を行うことになる。メモリ830は、マイクロコンピュータ810などの作業領域となるものである。電源生成部840は、電子機器800で使用される各種電源を生成するためのものである。LCD850は、電子機器が表示する各種の画像(文字、アイコン、グラフィック等)を出力するためのものである。   Here, the input unit 820 is for inputting various data. The microcomputer 810 performs various processes based on the data input by the input unit 820. The memory 830 serves as a work area for the microcomputer 810 and the like. The power generation unit 840 is for generating various power sources used in the electronic device 800. The LCD 850 is for outputting various images (characters, icons, graphics, etc.) displayed by the electronic device.

音出力部860は、電子機器800が出力する各種の音(音声、ゲーム音等)を出力するためのものであり、その機能は、スピーカなどのハードウェアにより実現できる。   The sound output unit 860 is for outputting various sounds (sound, game sound, etc.) output from the electronic device 800, and the function can be realized by hardware such as a speaker.

図22(A)に、電子機器の1つである携帯電話950の外観図の例を示す。この携帯電話950は、入力部として機能するダイヤルボタン952や、電話番号や名前やアイコンなどを表示するLCD954や、音出力部として機能し音声を出力するスピーカ956を備える。   FIG. 22A illustrates an example of an external view of a mobile phone 950 that is one of electronic devices. The cellular phone 950 includes a dial button 952 that functions as an input unit, an LCD 954 that displays a telephone number, a name, an icon, and the like, and a speaker 956 that functions as a sound output unit and outputs sound.

図22(B)に、電子機器の1つである携帯型ゲーム装置960の外観図の例を示す。この携帯型ゲーム装置960は、入力部として機能する操作ボタン962、十字キー964や、ゲーム画像を表示するLCD966や、音出力部として機能しゲーム音を出力するスピーカ968を備える。   FIG. 22B illustrates an example of an external view of a portable game device 960 that is one of electronic devices. The portable game device 960 includes an operation button 962 that functions as an input unit, a cross key 964, an LCD 966 that displays a game image, and a speaker 968 that functions as a sound output unit and outputs game sound.

図22(C)に、電子機器の1つであるパーソナルコンピュータ970の外観図の例を示す。このパーソナルコンピュータ970は、入力部として機能するキーボード972や、文字、数字、グラフィックなどを表示するLCD974、音出力部976を備える。   FIG. 22C illustrates an example of an external view of a personal computer 970 that is one of electronic devices. The personal computer 970 includes a keyboard 972 that functions as an input unit, an LCD 974 that displays characters, numbers, graphics, and the like, and a sound output unit 976.

本実施の形態の半導体集積回路装置を図22(A)〜図22(C)の電子機器に組み込むことにより、コストパフォーマンスの高い電子機器を短期間で提供することができる。   By incorporating the semiconductor integrated circuit device of this embodiment into the electronic devices in FIGS. 22A to 22C, an electronic device with high cost performance can be provided in a short period of time.

なお、本実施形態を利用できる電子機器としては、図22(A)〜図22(C)に示すもの以外にも、携帯型情報端末、ページャー、電子卓上計算機、タッチパネルを備えた装置、プロジェクタ、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置等の種々の電子機器を考えることができる。   Note that electronic devices that can use this embodiment include, in addition to those shown in FIGS. 22A to 22C, portable information terminals, pagers, electronic desk calculators, devices equipped with touch panels, projectors, Various electronic devices such as a word processor, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, and a car navigation device can be considered.

なお、本発明は本実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。   In addition, this invention is not limited to this embodiment, A various deformation | transformation implementation is possible within the range of the summary of this invention.

例えば、図2〜図10、図12〜図18では、VDD電源リングにVDD電源ラインを配線接続する例について説明したが、これに限られない。例えば、VSS電源リングにVSS電源ラインを配線接続する場合やVDD電源リング及びVSS電源リングにそれぞれVDD電源ライン及びVSS電源ラインを配線接続する場合にも本発明を適用することができる。また、VDD電源リングとVSS電源リングを含むIPモジュールを含む半導体集積回路装置についても同様に本発明を適用することができる。   For example, in FIGS. 2 to 10 and FIGS. 12 to 18, the example in which the VDD power supply line is connected to the VDD power supply ring has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the present invention can be applied to a case where a VSS power supply line is connected to the VSS power supply ring or a case where a VDD power supply line and a VSS power supply line are connected to the VDD power supply ring and the VSS power supply ring. The present invention can be similarly applied to a semiconductor integrated circuit device including an IP module including a VDD power supply ring and a VSS power supply ring.

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same objects and effects). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

本実施の形態の電源配線方法のフローチャートの第1の例を示す図。The figure which shows the 1st example of the flowchart of the power supply wiring method of this Embodiment. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by a 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by a 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by a 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by a 1st power supply wiring method. 第1の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by a 1st power supply wiring method. 本実施の形態の電源配線方法のフローチャートの第2の例を示す図。The figure which shows the 2nd example of the flowchart of the power supply wiring method of this Embodiment. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの例を示す図。The figure which shows the example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 第2の電源配線方法による電源レイアウトの他の例を示す図。The figure which shows the other example of the power supply layout by the 2nd power supply wiring method. 本実施形態の集積回路装置の設計支援システムの構成について説明するための図。The figure for demonstrating the structure of the design support system of the integrated circuit device of this embodiment. 本実施の形態の半導体集積回路装置のブロック図の一例。1 is an example of a block diagram of a semiconductor integrated circuit device of an embodiment. 半導体集積回路装置を含む電子機器のブロック図の一例。1 is an example of a block diagram of an electronic device including a semiconductor integrated circuit device. 図22(A)〜図22(C)は、種々の電子機器の外観図の例。22A to 22C are examples of external views of various electronic devices. 従来の電源配線方法の一例を説明するための図。The figure for demonstrating an example of the conventional power supply wiring method.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体集積回路装置、10 IPモジュール、12 VDD電源リング、14 コア部分、20 IPモジュール、22 VDD電源リング、24 コア部分、30 電源配線候補領域、32−1〜32−3 VDD電源ライン、34−1〜34−3 VDD電源ライン、36−1〜36−3 VDD電源ライン、38−1〜38−3 VDD電源ライン、40 電源配線候補領域、42−1〜42−3 VDD電源ライン、50 電源配線候補領域、52−1〜52−2 VDD電源ライン、54−1〜54−2 VDD電源ライン、56−1〜56−2 VDD電源ライン、60 電源配線候補領域、62−1〜62−2 VDD電源ライン、70 電源配線候補領域、72−1〜72−2 VDD電源ライン、74−1〜74−2 VDD電源ライン、76−1〜76−2 VDD電源ライン、80 電源配線候補領域、82−1〜82−2 VDD電源ライン、100 半導体集積回路装置、110 IPモジュール、112 VDD電源リング、114 コア部分、120 IPモジュール、122 VSS電源リング、124 コア部分、130 電源配線候補領域、132−1〜132−2 VDD電源ライン、134−1〜134−2 VDD電源ライン、136−1〜136−2 VDD電源ライン、138−1〜138−2 VDD電源ライン、140 電源配線候補領域、142 電源配線禁止領域、150 電源配線候補領域、152−1〜152−2 VDD電源ライン、154−1〜154−2 VDD電源ライン、156−1〜156−2 VDD電源ライン、160 電源配線候補領域、162−1〜162−2 VDD電源ライン、174 VDD電源ライン、176 VDD電源ライン、200 半導体集積回路装置、210 IPモジュール、212 VDD電源リング、214 コア部分、220 IPモジュール、222 VSS電源リング、224 コア部分、230 電源配線候補領域、232 VDD電源ライン、232−1〜232−2 スタックVIA、234−1〜234−2 VDD電源ライン、234−3〜234−4 スタックVIA、236−1〜236−2 VDD電源ライン、236−3〜236−4 スタックVIA、238−1〜238−2 VDD電源ライン、238−3〜238−4 スタックVIA、240 電源配線候補領域、242 VDD電源ライン、242−1〜242−2 スタックVIA、244 電源配線禁止領域、250 電源配線候補領域、252 VDD電源ライン、254−1〜254−2 VDD電源ライン、254−3〜254−4 スタックVIA、256−1〜256−2 VDD電源ライン、256−3〜256−4 スタックVIA、260 電源配線候補領域、262 VDD電源ライン、274−1〜274−2 VDD電源ライン、274−3〜274−4 スタックVIA、276−1〜276−2 VDD電源ライン、276−3〜276−4 スタックVIA、300 半導体集積回路装置、310 IPモジュール、312 VDD電源リング、320 IPモジュール、322 VDD電源リング、332 VDD電源ライン、342 VDD電源ライン、400 設計支援システム、420 処理部、422 モジュール配置手段、424 電源配線候補領域設定手段、426 電源配線禁止領域設定手段、428 電源ライン配線手段、430 電源ライン自動配線手段、440 操作部、450 記憶部、452 ライブラリ情報記憶部、460 情報記憶媒体、470 表示部、480 音出力部、490 通信部、510 CPU、520 キャッシュメモリ、530 LCDコントローラ、540 リセット回路、550 プログラマブルタイマ、560 リアルタイムクロック(RTC)、570 DMAコントローラ、580 割り込みコントローラ、590 通信制御回路、600 バスコントローラ、610 A/D変換器、620 D/A変換器、630 入力ポート、640 出力ポート、650 I/Oポート、660 クロック発生装置、670 プリスケーラ、680 汎用バス、690 各種ピン、700 マイクロコンピュータ(半導体集積回路装置)、710 ROM、720 RAM、730 MMU、740 クロック停止制御回路、750 専用バス、800 電子機器、810 マイクロコンピュータ(半導体集積回路装置)、820 入力部、830 メモリ、840 電源生成部、850 LCD、860 音出力部、950 携帯電話、952 ダイヤルボタン、954 LCD、956 スピーカ、960 携帯型ゲーム装置、962 操作ボタン、964 十字キー、966 LCD、968 スピーカ、970 パーソナルコンピュータ、972 キーボード、974 LCD、976 音出力部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor integrated circuit device, 10 IP module, 12 VDD power supply ring, 14 core part, 20 IP module, 22 VDD power supply ring, 24 core part, 30 Power supply wiring candidate area, 32-1-32-3 VDD power supply line, 34 -1 to 34-3 VDD power supply line, 36-1 to 36-3 VDD power supply line, 38-1 to 38-3 VDD power supply line, 40 power supply wiring candidate region, 42-1 to 42-3 VDD power supply line, 50 Power supply wiring candidate region, 52-1 to 52-2 VDD power supply line, 54-1 to 54-2 VDD power supply line, 56-1 to 56-2 VDD power supply line, 60 Power supply wiring candidate region, 62-1 to 62- 2 VDD power line, 70 power wiring candidate area, 72-1 to 72-2 VDD power line, 74-1 to 74-2 VDD power line , 76-1 to 76-2 VDD power supply line, 80 power supply wiring candidate region, 82-1 to 82-2 VDD power supply line, 100 semiconductor integrated circuit device, 110 IP module, 112 VDD power supply ring, 114 core portion, 120 IP module, 122 VSS power ring, 124 core portion, 130 power wiring candidate area, 132-1 to 132-2 VDD power line, 134-1 to 134-2 VDD power line, 136-1 to 136-2 VDD power line 138-1 to 138-2 VDD power supply line, 140 power supply wiring candidate area, 142 power supply wiring prohibition area, 150 power supply wiring candidate area, 152-1 to 152-2 VDD power supply line, 154-1 to 154-2 VDD power supply Line, 156-1 to 156-2 VDD power line, 160 power distribution Candidate area, 162-1 to 162-2 VDD power line, 174 VDD power line, 176 VDD power line, 200 semiconductor integrated circuit device, 210 IP module, 212 VDD power ring, 214 core part, 220 IP module, 222 VSS power source Ring, 224 core portion, 230 power supply wiring candidate area, 232 VDD power supply line, 232-1 to 232-2 stack VIA, 234-1 to 234-2 VDD power supply line, 234-3 to 234-4 stack VIA, 236- 1-236-2 VDD power supply line, 236-3 to 236-4 Stack VIA, 238-1 to 238-2 VDD power supply line, 238-3 to 238-4 stack VIA, 240 Power supply wiring candidate area, 242 VDD power supply line , 242-1 to 242-2 Stack VIA, 244 Power supply wiring prohibited area, 250 Power supply wiring candidate area, 252 VDD power supply line, 254-1 to 254-2 VDD power supply line, 254-3 to 254-4 Stack VIA, 256-1 to 256-2 VDD power supply Line, 256-3 to 256-6 Stack VIA, 260 Power supply wiring candidate area, 262 VDD power supply line, 274-1 to 274-2 VDD power supply line, 274-3 to 274-4 Stack VIA, 276-1 to 276- 2 VDD power line, 276-3 to 276-4 Stack VIA, 300 Semiconductor integrated circuit device, 310 IP module, 312 VDD power ring, 320 IP module, 322 VDD power ring, 332 VDD power line, 342 VDD power line, 400 Design support system 420 processing units, 422 module placement means, 424 power supply wiring candidate area setting means, 426 power supply wiring prohibited area setting means, 428 power supply line wiring means, 430 power supply line automatic wiring means, 440 operation part, 450 storage part, 452 library information storage Part, 460 information storage medium, 470 display part, 480 sound output part, 490 communication part, 510 CPU, 520 cache memory, 530 LCD controller, 540 reset circuit, 550 programmable timer, 560 real-time clock (RTC), 570 DMA controller, 580 interrupt controller, 590 communication control circuit, 600 bus controller, 610 A / D converter, 620 D / A converter, 630 input port, 640 output port, 650 I / O port, 66 Clock generator, 670 prescaler, 680 general-purpose bus, 690 various pins, 700 microcomputer (semiconductor integrated circuit device), 710 ROM, 720 RAM, 730 MMU, 740 clock stop control circuit, 750 dedicated bus, 800 electronic device, 810 micro Computer (semiconductor integrated circuit device), 820 input unit, 830 memory, 840 power generation unit, 850 LCD, 860 sound output unit, 950 mobile phone, 952 dial button, 954 LCD, 956 speaker, 960 portable game device, 962 operation Button, 964 Cross key, 966 LCD, 968 Speaker, 970 Personal computer, 972 Keyboard, 974 LCD, 976 Sound output section

Claims (9)

少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置において、前記電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを配線する半導体集積回路装置の電源配線方法であって、
前記第1の方向又は前記第2の方向の少なくとも一方が前記電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、前記モジュールを配置するモジュール配置ステップと、
配置された前記モジュールに含まれる前記電源リングの、前記電源配線方向と一致する前記第1の方向又は前記第2の方向に沿って敷設された部分を含む前記電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する電源配線候補領域設定ステップと、
前記電源配線候補領域において前記電源配線方向に沿って前記電源ラインを配線し前記電源リングと接続させる電源ライン配線ステップと、を含むことを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方法。
At least one module having a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction; A semiconductor integrated circuit device including a power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device, wherein a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring is provided,
A module placement step of placing the module such that at least one of the first direction or the second direction matches a power supply wiring direction in which the power supply line is wired;
An area along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module is aligned with the power supply wiring direction. A power supply wiring candidate area setting step to be set in the wiring candidate area;
And a power line wiring step for wiring the power line along the power wiring direction in the power wiring candidate region and connecting the power line to the power ring.
請求項1において、
前記電源配線候補領域が、前記所定の電位と異なる電位を供給される所与の電源リングの配置領域と重複する場合には、当該電源配線候補領域を電源配線禁止領域に設定する電源配線禁止領域設定ステップを含み、
前記電源ライン配線ステップにおいて、
前記電源配線禁止領域には、前記電源ラインの配線を行わないことを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方法。
In claim 1,
When the power supply wiring candidate region overlaps with a given power supply ring arrangement region supplied with a potential different from the predetermined potential, the power supply wiring prohibition region sets the power supply wiring candidate region as a power supply wiring prohibition region Including configuration steps,
In the power line wiring step,
A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device, wherein the power supply line is not wired in the power supply wiring prohibited area.
請求項2において、
前記電源配線禁止領域設定ステップにおいて、
前記電源ラインを配線する配線層に基づいて、前記電源配線候補領域を前記電源配線禁止領域に設定するか否かを決定することを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方法。
In claim 2,
In the power supply wiring prohibited area setting step,
A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device, comprising: determining whether to set the power supply wiring candidate area as the power supply wiring prohibited area based on a wiring layer for wiring the power supply line.
請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記電源ライン配線ステップの後に、所与の自動配線ツールに前記電源配線方向に沿って所定の電源ラインを自動配線させて前記電源リングと接続させる電源ライン自動配線ステップをさらに含むことを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方法。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
The power line wiring step further includes a power line automatic wiring step for causing a predetermined automatic wiring tool to automatically wire a predetermined power line along the power wiring direction and to connect to the power ring after the power line wiring step. A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device.
請求項2又は3に従属する請求項4において、
電源ライン自動配線ステップにおいて、
前記電源配線禁止領域における配線を禁止するように指定して、前記自動配線ツールに自動配線させることを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方法。
In claim 4 dependent on claim 2 or 3,
In the automatic power line wiring step,
A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device, wherein the automatic wiring tool is automatically wired by designating that wiring in the power supply wiring prohibited area is prohibited.
少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置において、前記電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインを配線する半導体集積回路装置の電源配線プログラムであって、
前記第1の方向又は前記第2の方向の少なくとも一方が前記電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、前記モジュールを配置するモジュール配置手段と、
配置された前記モジュールに含まれる前記電源リングの、前記電源配線方向と一致する前記第1の方向又は前記第2の方向に沿って敷設された部分を含む前記電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する電源配線候補領域設定手段と、
前記電源配線候補領域において前記電源配線方向に沿って前記電源ラインを配線し前記電源リングと接続させる電源ライン配線手段としてコンピュータを機能させることを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線プログラム。
At least one module having a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction; A semiconductor integrated circuit device includes a power supply wiring program for a semiconductor integrated circuit device for wiring a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring,
Module placement means for placing the module such that at least one of the first direction or the second direction matches a power supply wiring direction in which the power supply line is wired;
An area along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module is aligned with the power supply wiring direction. Power wiring candidate area setting means for setting the wiring candidate area;
A power supply wiring program for a semiconductor integrated circuit device, wherein a computer functions as a power supply line wiring means for wiring the power supply line along the power supply wiring direction in the power supply wiring candidate region and connecting the power supply line to the power supply ring.
少なくとも一部が所与の第1の方向に沿って敷設され、他の少なくとも一部が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って敷設された電源リングを有する少なくとも1つのモジュールを含む半導体集積回路装置の設計を支援する設計支援システムであって、
前記第1の方向又は前記第2の方向の少なくとも一方が、前記電源リングに所定の電位を供給するための電源ラインが配線される電源配線方向と一致するように、前記モジュールを配置するモジュール配置手段と、
配置された前記モジュールに含まれる前記電源リングの、前記電源配線方向と一致する前記第1の方向又は前記第2の方向に沿って敷設された部分を含む前記電源配線方向に沿った領域を電源配線候補領域に設定する電源配線候補領域設定手段と、
前記電源配線候補領域において、前記電源配線方向に沿って前記電源ラインを配線し前記電源リングと接続させる電源ライン配線手段と、を含むこと特徴とする半導体集積回路装置の設計支援システム。
At least one module having a power ring with at least a portion laid along a given first direction and at least another portion laid along a second direction orthogonal to the first direction; A design support system for supporting the design of a semiconductor integrated circuit device including:
Module arrangement in which the modules are arranged so that at least one of the first direction or the second direction matches a power supply wiring direction in which a power supply line for supplying a predetermined potential to the power supply ring is wired Means,
An area along the power supply wiring direction including a portion laid along the first direction or the second direction of the power supply ring included in the arranged module is aligned with the power supply wiring direction. Power wiring candidate area setting means for setting the wiring candidate area;
A design support system for a semiconductor integrated circuit device, comprising: power line wiring means for wiring the power line along the power wiring direction and connecting to the power ring in the power wiring candidate region.
請求項1乃至5のいずれかに記載された半導体集積回路装置の電源配線方法、請求項6に記載された半導体集積回路装置の電源配線プログラム又は請求項7に記載された半導体集積回路装置の設計支援システムを用いて設計製造されたことを特徴とする半導体集積回路装置。   A power supply wiring method for a semiconductor integrated circuit device according to any one of claims 1 to 5, a power supply wiring program for a semiconductor integrated circuit device according to claim 6, or a design of a semiconductor integrated circuit device according to claim 7. A semiconductor integrated circuit device designed and manufactured using a support system. 請求項8に記載された半導体集積回路装置と、
前記半導体集積回路装置の処理対象となるデータの入力手段と、
前記半導体集積回路装置により処理されたデータを出力するための出力手段とを含むことを特徴とする電子機器。
A semiconductor integrated circuit device according to claim 8;
Data input means to be processed by the semiconductor integrated circuit device;
And an output means for outputting data processed by the semiconductor integrated circuit device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016503922A (en) * 2012-12-26 2016-02-08 シノプシス, インコーポレイテッドSyn0Psys, Inc. Integrated shaping with power network synthesis (PNS) for power grid (PG) alignment

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