JP2009094639A - Optical filter for plasma display panel - Google Patents

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村 貴 一 下
Hideto Sakata
田 英 人 坂
Akihiko Igarashi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter for plasma display panels, capable of reducing the manufacture cost using a comparatively inexpensive conductive material. <P>SOLUTION: An optical filter 1 for plasma display panels (PDP) according to the present invention includes a transparent base 7, an electromagnetic wave shield layer 4 prepared at the PDP 2 side of the transparent base 7, and a metal frame 5. The metal frame 5 surrounds and holds the transparent base 7 the electromagnetic wave shield layer 4 from outside, and has an earth portion 5a prepared at the front face side. In addition, a through hole 13 penetrating the transparent base 7 and the electromagnetic wave shield layer 4 is formed at the transparent base 7 and the electromagnetic wave shield layer 4. In of the through hole 13, a conductive portion 10 is formed. The conductive portion 10 connects the electromagnetic wave shield layer 4 to the earth portion 5a of the metal frame 5, and is filled up with a conductive material 10d. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面に配置されたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタに係り、とりわけ基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴内に、導電性材料が充填され、製造原価を低減することができるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタに関する。   The present invention relates to an optical filter for a plasma display panel disposed on the front surface of a plasma display panel. In particular, a conductive material is filled in a through-hole penetrating a base material and an electromagnetic wave shielding layer, thereby reducing manufacturing costs. The present invention relates to an optical filter for a plasma display panel.

近年、各種映像表示装置から発生される電磁波によって、電子機器や身体等への電磁気的なノイズ妨害が問題となっている。このうちプラズマディスプレイパネル(PDP)は、作動すると電磁波が大量に発生する。このため、PDPの前面には、メッシュ状(格子状)に形成された導電層を含む電磁波シールド層が設けられている。この電磁波シールド層の導電層において、PDPから発生する電磁波が電荷に変換され、電磁波が遮蔽されるようになっている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, electromagnetic noise interference from electronic devices and the body has been a problem due to electromagnetic waves generated from various video display devices. Among these, a plasma display panel (PDP) generates a large amount of electromagnetic waves when operated. For this reason, an electromagnetic wave shielding layer including a conductive layer formed in a mesh shape (lattice shape) is provided on the front surface of the PDP. In the conductive layer of the electromagnetic wave shielding layer, the electromagnetic wave generated from the PDP is converted into electric charge, and the electromagnetic wave is shielded (see, for example, Patent Document 1).

この電磁波シールド層は、電気的に接地されている金属フレームに、導電性テープを介して接続さている。一般に、この導電性テープは、内部に導電性粒子等を含み導電性を有する導電性接合材と導電材とからなっている。この場合、電磁波シールド層に溜まった電荷は、導電性テープの導電性接合材を通って導電材へ流れ、その後、導電性テープに接続されている金属フレームへ流れていく。このようにして、電磁波シールド層により、電磁波が遮蔽される。
特開2002−251144号公報
The electromagnetic wave shielding layer is connected to a metal frame that is electrically grounded via a conductive tape. In general, the conductive tape includes a conductive bonding material containing conductive particles and the like and having conductivity therein and a conductive material. In this case, the charge accumulated in the electromagnetic wave shielding layer flows to the conductive material through the conductive bonding material of the conductive tape, and then flows to the metal frame connected to the conductive tape. In this way, the electromagnetic wave is shielded by the electromagnetic wave shielding layer.
JP 2002-251144 A

しかしながら、導電性テープの導電性接合材は、一般に高価である。このため、PDP用光学フィルタの製造原価を低減することが困難になっている。   However, the conductive bonding material of the conductive tape is generally expensive. For this reason, it is difficult to reduce the manufacturing cost of the optical filter for PDP.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、比較的安価な導電性材料を用いて、製造原価を低減することができるPDP用光学フィルタを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object of the present invention is to provide an optical filter for PDP that can reduce the manufacturing cost by using a relatively inexpensive conductive material.

本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面に配置されるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタにおいて、基材と、基材のプラズマディスプレイパネル側に設けられた電磁波シールド層と、基材と、電磁波シールド層とを外方から囲んで保持するとともに、前面側に設けられた接地部を有する金属フレームと、を備え、基材および電磁波シールド層に、基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴が形成され、貫通穴内に、電磁波シールド層と金属フレームの接地部とを接続する導電性材料が充填された導電部が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   The present invention provides an optical filter for a plasma display panel disposed on the front surface of a plasma display panel, comprising: a base material; an electromagnetic wave shielding layer provided on the plasma display panel side of the base material; a base material; and an electromagnetic wave shielding layer. A metal frame having a grounding portion provided on the front side while being enclosed and held from the outside, and a through hole penetrating the base material and the electromagnetic wave shielding layer is formed in the base material and the electromagnetic wave shielding layer, An optical filter for a plasma display panel, wherein a conductive portion filled with a conductive material that connects an electromagnetic wave shielding layer and a ground portion of a metal frame is formed in a through hole.

本発明は、導電部は、基材の前面側から貫通穴内に形成される第1の導電性ペースト層と、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に形成される第2の導電性ペースト層とからなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   In the present invention, the conductive portion includes a first conductive paste layer formed in the through hole from the front side of the substrate, and a second conductive paste formed in the through hole from the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer. An optical filter for a plasma display panel comprising a layer.

本発明は、第1の導電性ペースト層の上面に、電解メッキによりメッキ層が形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   The present invention is the optical filter for a plasma display panel, wherein a plating layer is formed on the upper surface of the first conductive paste layer by electrolytic plating.

本発明は、導電部は、基材の前面側に配置され、基材の前面側から貫通穴内に充填される第1の導電性テープと、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側に配置され、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に充填される第2の導電性テープとからなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   In the present invention, the conductive portion is disposed on the front surface side of the substrate, and is disposed on the plasma display panel side of the electromagnetic shielding layer, the first conductive tape filled in the through hole from the front surface side of the substrate, and the electromagnetic wave An optical filter for a plasma display panel, comprising: a second conductive tape filled in a through hole from the plasma display panel side of the shield layer.

本発明は、第1の導電性テープおよび第2の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々超音波接合機により充填されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   According to the present invention, the first conductive tape and the second conductive tape are filled with an ultrasonic bonding machine from the front surface side of the substrate and the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer, respectively. It is an optical filter for panels.

本発明は、第1の導電性テープおよび第2の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々熱ロールにより充填されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   According to the present invention, the first conductive tape and the second conductive tape are filled with a heat roll from the front surface side of the substrate and the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer, respectively. It is an optical filter.

本発明は、導電部は、金属フレームの接地部に、導電性ガスケットを介して接続されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   The present invention is the optical filter for a plasma display panel, wherein the conductive portion is connected to the ground portion of the metal frame via a conductive gasket.

本発明は、貫通穴は、基材および電磁波シールド層の全周に渡って複数形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   The present invention is the optical filter for a plasma display panel, wherein a plurality of through holes are formed over the entire circumference of the substrate and the electromagnetic wave shielding layer.

本発明は、各貫通穴間の間隙は、プラズマディスプレイパネルから発生する電磁波の波長よりも短いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタである。   The present invention is the optical filter for a plasma display panel, wherein the gap between the through holes is shorter than the wavelength of the electromagnetic wave generated from the plasma display panel.

本発明によれば、基材のプラズマディスプレイパネル側に電磁波シールド層が設けられ、基材と電磁波シールド層が、前面側に設けられた接地部を有する金属フレームにより外方から囲んで保持される。また、基材および電磁波シールド層に、基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴が形成され、導電部が、この貫通穴内に導電性材料が充填されて形成され、電磁波シールド層と金属フレームの接地部を接続し、さらにこの導電性材料は、導電性接合材料を有する導電性テープよりも比較的安価な材料からなっている。このことにより、電磁波シールド層を、導電部を介して金属フレームの接地部に確実に電気的に接続し、電磁波シールド層を接地することができる。このため、プラズマディスプレイパネルから発生する電磁波を確実に遮蔽することができるとともに、プラズマディスプレイパネル用光学フィルタの製造原価を低減することができる。   According to the present invention, an electromagnetic wave shielding layer is provided on the plasma display panel side of the base material, and the base material and the electromagnetic wave shielding layer are enclosed and held from the outside by the metal frame having the grounding portion provided on the front side. . Further, a through hole penetrating the base material and the electromagnetic wave shielding layer is formed in the base material and the electromagnetic wave shielding layer, and a conductive part is formed by filling the through hole with a conductive material. The electromagnetic wave shielding layer and the metal frame Further, the conductive material is made of a material that is relatively cheaper than a conductive tape having a conductive bonding material. Thus, the electromagnetic wave shielding layer can be reliably electrically connected to the grounding part of the metal frame via the conductive part, and the electromagnetic wave shielding layer can be grounded. For this reason, the electromagnetic wave generated from the plasma display panel can be reliably shielded, and the manufacturing cost of the optical filter for the plasma display panel can be reduced.

第1の実施の形態
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。ここで、図1乃至図4は、本発明の第1の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネル(PDP)用光学フィルタを示す図である。このうち、図1は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタの構成を示す図であり、図2(a)は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、外光反射防止膜に導電部が設けられた状態を示す平面図であり、図2(b)は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、電磁波シールド層に導電部が設けられた状態を示す平面図である。また図3は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、貫通穴が形成された状態を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図4は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図5は、比較例としてのPDP用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS First Embodiment Hereinafter, an embodiment of the invention will be described with reference to the drawings. 1 to 4 are diagrams showing an optical filter for a plasma display panel (PDP) according to the first embodiment of the present invention. Among these, FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention, and FIG. 2A is an optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention. FIG. 2B is a plan view showing a state in which a conductive portion is provided in the external light antireflection film, and FIG. It is a top view which shows the state in which the part was provided. FIG. 3 is a partially enlarged view showing a state in which a through hole is formed in the optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention, and is a view in which a metal frame is removed for convenience. 4 is a partially enlarged view showing the configuration of the optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention, in which a metal frame is removed for convenience, and FIG. 5 is for PDP as a comparative example. It is the elements on larger scale which show the structure of an optical filter, Comprising: It is the figure which removed the metal frame for convenience.

まず、図1により、本実施の形態によるPDP用光学フィルタ1について説明する。ここで、PDP用光学フィルタ1は、PDP2の前面に設置され、PDP2の視認性を向上させるものである。   First, the PDP optical filter 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. Here, the PDP optical filter 1 is installed in front of the PDP 2 to improve the visibility of the PDP 2.

このようなPDP用光学フィルタ1は、図1に示すように、透明基材7と、透明基材7のPDP2側に設けられた電磁波シールド層4と、透明基材7の前面側に近赤外線/ネオンカット粘着材層8を介して設けられたUVカットフィルム9と、UVカットフィルム9の前面側に設けられた外光反射防止膜11とを備えている。また、透明基材7と、近赤外線/ネオンカット粘着材層8と、UVカットフィルム9と、外光反射防止膜11と、電磁波シールド層4とは、前面側に設けられた接地部5aを有する金属フレーム5により、外方から囲んで保持される。   As shown in FIG. 1, such an optical filter 1 for PDP includes a transparent base material 7, an electromagnetic wave shielding layer 4 provided on the PDP 2 side of the transparent base material 7, and a near infrared ray on the front side of the transparent base material 7. / The UV cut film 9 provided via the neon cut adhesive material layer 8 and the external light antireflection film 11 provided on the front side of the UV cut film 9 are provided. Moreover, the transparent base material 7, the near infrared / neon cut adhesive material layer 8, the UV cut film 9, the external light antireflection film 11, and the electromagnetic wave shielding layer 4 are provided with a grounding portion 5a provided on the front side. The metal frame 5 is held and held from the outside.

このうち、透明基材7と、近赤外線/ネオンカット粘着材層8と、UVカットフィルム9と、外光反射防止膜11と、電磁波シールド層4とにより、後述のように光学フィルタ積層体3が構成される。また、電磁波シールド層4は、PDP2から放出される人体に有害な電磁波を効果的に遮蔽するものであり、例えば開口4aを有する銅メッシュからなっている。   Among these, the optical filter laminate 3 is formed by the transparent substrate 7, the near infrared / neon cut adhesive layer 8, the UV cut film 9, the external light antireflection film 11, and the electromagnetic wave shield layer 4 as described later. Is configured. The electromagnetic wave shielding layer 4 effectively shields electromagnetic waves harmful to the human body emitted from the PDP 2, and is made of, for example, a copper mesh having an opening 4a.

一般的に、電磁波シールド層4としては、接地された金属メッシュが用いられるが、合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被覆したものを用いることもできる。電磁波シールド層4を構成する金属の材質としては、例えば銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性に優れ、加工性が高い金属であれば、いずれも使用可能である。   In general, a grounded metal mesh is used as the electromagnetic wave shielding layer 4, but a synthetic resin or metal fiber mesh coated with metal can also be used. As a metal material constituting the electromagnetic wave shielding layer 4, any metal can be used as long as it is a metal having excellent electrical conductivity and high workability, such as copper, chromium, nickel, silver, molybdenum, tungsten, and aluminum.

また、図3に示すように、光学フィルタ積層体3に、光学フィルタ積層体3を貫通する貫通穴13が形成されている。この貫通穴13は、図2(a)、(b)に示すように、四角形状からなり、光学フィルタ積層体3の全周に渡って複数形成されている。さらに、一の貫通穴13とこれに隣接する貫通穴13との間の間隙(寸法g)は、PDP2から発生する電磁波の波長よりも短くなっている。   As shown in FIG. 3, a through hole 13 that penetrates the optical filter laminate 3 is formed in the optical filter laminate 3. As shown in FIGS. 2A and 2B, the through hole 13 has a quadrangular shape, and a plurality of through holes 13 are formed over the entire circumference of the optical filter laminate 3. Furthermore, the gap (dimension g) between one through hole 13 and the adjacent through hole 13 is shorter than the wavelength of the electromagnetic wave generated from the PDP 2.

また、図1および図4に示すように、各々の貫通穴13内に、電磁波シールド層4と金属フレーム5の接地部5aとを接続する導電性材料10dが充填された導電部10が形成されている。この導電部10は、光学フィルタ積層体3を構成する外光反射防止膜11の前面側から各貫通穴13内に導電性ペーストが塗布されて形成される第1の導電性ペースト層10aと、光学フィルタ積層体3を構成する電磁波シールド層4のPDP2側から各貫通穴13内に導電性ペーストが塗布されて形成される第2の導電性ペースト層10bとからなっている。これらの第1の導電性ペースト層10aは、各貫通穴13内に充填されるとともに、かつ図2(a)に示すように、外光反射防止膜11表面の全周に渡って延び、第2の導電性ペースト層10bは、各貫通穴13内に充填されるとともに、かつ図2(b)に示すように、電磁波シールド層4表面の全周に渡って延びている。   Further, as shown in FIGS. 1 and 4, conductive portions 10 filled with a conductive material 10 d that connects the electromagnetic wave shielding layer 4 and the ground portion 5 a of the metal frame 5 are formed in the respective through holes 13. ing. The conductive portion 10 includes a first conductive paste layer 10a formed by applying a conductive paste into each through hole 13 from the front side of the external light antireflection film 11 constituting the optical filter laminate 3, It consists of the 2nd conductive paste layer 10b formed by apply | coating a conductive paste in each through-hole 13 from the PDP2 side of the electromagnetic wave shield layer 4 which comprises the optical filter laminated body 3. FIG. These first conductive paste layers 10a are filled in the respective through holes 13 and extend over the entire circumference of the surface of the external light antireflection film 11 as shown in FIG. The two conductive paste layers 10b are filled in the through holes 13 and extend over the entire circumference of the surface of the electromagnetic wave shield layer 4 as shown in FIG. 2 (b).

また、第1の導電性ペースト層10aの上面に、電解メッキによりメッキ層10cが形成されている。このメッキ層10cは、例えば銅メッキにより形成されている。   A plating layer 10c is formed on the upper surface of the first conductive paste layer 10a by electrolytic plating. The plating layer 10c is formed by, for example, copper plating.

ところで、第1の導電性ペースト層10aおよび第2の導電性ペースト層10bを形成する導電性ペーストは、導電性金属を樹脂中に分散させたものであり、前記導電性金属の比抵抗値が0.5×10−5Ω・cm以下となることが好ましい。 By the way, the conductive paste for forming the first conductive paste layer 10a and the second conductive paste layer 10b is obtained by dispersing a conductive metal in a resin, and the specific resistance value of the conductive metal is as follows. It is preferably 0.5 × 10 −5 Ω · cm or less.

前記第1の導電性ペースト層10aおよび第2の導電性ペースト層10bに用いる導電性金属としては、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、金ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属あるいはこれらの2種以上を組み合わせた合金等を使用できるが、導電性や樹脂分散の容易性、価格の点から、銀、銅、ニッケルが適している。   Examples of the conductive metal used for the first conductive paste layer 10a and the second conductive paste layer 10b include metals such as silver, copper, nickel, aluminum, gold stainless steel, tungsten, chromium, and titanium, or two kinds thereof. Although an alloy or the like combining the above can be used, silver, copper, and nickel are suitable from the viewpoint of conductivity, ease of resin dispersion, and cost.

前記第1の導電性ペースト層10aおよび第2の導電性ペースト層10bにおいて、導電性金属を分散させる前記樹脂としては、ゴム系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂または共重合体の熱可塑性樹脂を使用することができる。これらの他に、アクリルモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート等の重合性モノマーも使用できる。これらの重合性モノマーは前記熱可塑性樹脂と組み合わせて使うことができる。更に、これらの樹脂を汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤等とともに攪拌・混合して使用することができる。   In the first conductive paste layer 10a and the second conductive paste layer 10b, the resin for dispersing the conductive metal may be a rubber resin, a polyether resin, a polyester resin, or poly (meth) acrylic acid. An ester resin or a copolymer thermoplastic resin can be used. In addition to these, polymerizable monomers such as acrylic monomers, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, and polyester acrylates can also be used. These polymerizable monomers can be used in combination with the thermoplastic resin. Furthermore, these resins can be dissolved in a general-purpose solvent, or can be used by stirring and mixing with a metal dispersant or the like without using any solvent.

なお、これらの重合性モノマーに、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等の熱硬化性樹脂を添加することも可能である。これらのポリマーは必要に応じて2種以上共重合してもよいし、ブレンドして使用することも可能である。これらは通常汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散材等とともに攪拌・混合して使用することができる。   In addition, it is also possible to add thermosetting resins, such as a phenol resin, a melamine resin, an epoxy resin, and a xylene resin, to these polymerizable monomers. Two or more kinds of these polymers may be copolymerized or blended as necessary. These can be used usually by dissolving in a general-purpose solvent or stirring and mixing together with a metal dispersing agent or the like without using any solvent.

また、図1に示すように、金属フレーム5の接地部5aと導電部10との間に、導電性ガスケット6が設けられている。この導電性ガスケット6は、例えば、スポンジ状やゴム状に形成されたポリウレタンからなる芯材と、この芯材の外側を覆う銅−ニッケルメッキポリエステル織布または金属メッシュなどの導電性の材料とからなっている。このことにより、導電部10を構成する第1の導電性ペースト層10aおよび第2の導電性ペースト層10bは、メッキ層10cおよび導電性ガスケット6を介して金属フレーム5の接地部5aに接続されている。   In addition, as shown in FIG. 1, a conductive gasket 6 is provided between the ground portion 5 a of the metal frame 5 and the conductive portion 10. The conductive gasket 6 includes, for example, a core material made of polyurethane formed in a sponge shape or a rubber shape, and a conductive material such as a copper-nickel plated polyester woven fabric or a metal mesh covering the outside of the core material. It has become. As a result, the first conductive paste layer 10a and the second conductive paste layer 10b constituting the conductive portion 10 are connected to the ground portion 5a of the metal frame 5 via the plating layer 10c and the conductive gasket 6. ing.

次に、各構成部材の材料について述べる。まず、透明基材7としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)製フィルム、アクリル製フィルム等のプラスチックフィルム、あるいは強化ガラスまたは半強化ガラス等を用いることができる。   Next, the material of each component will be described. First, as the transparent substrate 7, a plastic film such as a polyethylene terephthalate (PET) film or an acrylic film, tempered glass, or semi-tempered glass can be used.

透明基材7を構成するプラスチックフィルムは高透明性と耐熱性を有することが望ましく、高分子成形物および高分子成形物の積層体を用いることができる。透明性に関しては、可視光線透過率が80%以上であることが有利であって、耐熱性に関してはガラス転移温度が50℃以上であることが望ましい。とりわけ、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリサルフォン(PS)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリルレート、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリイミド、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等を挙げることができる。これらのうち、PET製のフィルムを用いることが望ましい。   The plastic film constituting the transparent substrate 7 desirably has high transparency and heat resistance, and a polymer molded product and a laminate of the polymer molded product can be used. Regarding transparency, it is advantageous that the visible light transmittance is 80% or more, and regarding heat resistance, it is desirable that the glass transition temperature is 50 ° C. or more. Among them, polyethylene terephthalate (PET), polysulfone (PS), polyethersulfone (PES), polystyrene, polyethylene naphthalate, polyallylate, polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyimide, Examples thereof include triacetyl cellulose (TAC) and polymethyl methacrylate (PMMA). Among these, it is desirable to use a film made of PET.

また、近赤外線/ネオンカット粘着材層8は、近赤外線カット機能およびネオンカット機能の双方の機能を有しているが、近赤外線カット機能またはネオンカット機能のいずれか一方のみの機能をもっていてもよい。   The near-infrared / neon-cut adhesive layer 8 has both the near-infrared cut function and the neon-cut function, but may have either the near-infrared cut function or the neon-cut function. Good.

また、近赤外線/ネオンカット粘着材層8は、粘着性を有するアクリル樹脂と、アクリル樹脂中に含まれたNIR吸収色素およびNe吸収色素とを有している。近赤外線/ネオンカット粘着材層8を構成する樹脂としては、アクリル樹脂の他、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、またはポリウレタンエステル系等の接着剤、あるいは、主成分としてメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、または2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された樹脂が挙げられる。なお、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートおよびメタアクリレートの双方を意味する。接合剤層を形成するにあたっては、必要に応じて、その原料にイソシアネート系、ポリチオール系、イミド系等の硬化剤を含有させることができる。NIR吸収色素は、800〜1100nmの波長の光をカットするようになっており、Ne吸収色素は、570〜600nmの波長の光をカットするようになっている。また近赤外線/ネオンカット粘着材層8は、UVカットフィルム9を透明基材7の前面側に接着させるものである。   The near-infrared / neon-cut adhesive material layer 8 has an adhesive acrylic resin and a NIR absorbing dye and a Ne absorbing dye contained in the acrylic resin. As a resin constituting the near-infrared / neon-cut adhesive layer 8, an acrylic resin, an acrylic, an ester, a urethane, a fluorine, a polyimide, an epoxy, a polyurethane ester, or the like, or Examples thereof include a resin formed by an acrylic pressure-sensitive adhesive containing methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate or the like as a main component. “(Meth) acrylate” means both acrylate and methacrylate. In forming the bonding agent layer, an isocyanate-based, polythiol-based, or imide-based curing agent can be included in the raw material as necessary. The NIR absorbing dye cuts light having a wavelength of 800 to 1100 nm, and the Ne absorbing dye cuts light having a wavelength of 570 to 600 nm. The near infrared / neon cut pressure-sensitive adhesive layer 8 is for bonding the UV cut film 9 to the front side of the transparent substrate 7.

また、UVカットフィルム9は、例えば、紫外線を遮蔽、散乱、または拡散する酸化亜鉛または酸化チタンの微粒子を含む塗料をコーティングすることにより得られる。   The UV cut film 9 is obtained, for example, by coating a paint containing fine particles of zinc oxide or titanium oxide that shields, scatters, or diffuses ultraviolet rays.

また、外光反射防止膜11は、空気とPDP用光学フィルタ1との間の屈折率差による反射を防止するとともに、PDP2表面の反射を防止するものである。この外光反射防止膜は、光学薄膜を積層することにより構成される。   The external light antireflection film 11 prevents reflection due to a difference in refractive index between air and the PDP optical filter 1 and also prevents reflection on the surface of the PDP 2. This external light antireflection film is formed by laminating optical thin films.

また、図1に示すように、電磁波シールド層4のPDP2側に、着色粘着材層12が設けられている。この着色粘着材層12は、PDP用光学フィルタ1をPDP2の前面に接着させるものであり、粘着性をもつアクリル樹脂等を用いることができる。   Further, as shown in FIG. 1, a colored adhesive material layer 12 is provided on the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4. The colored adhesive material layer 12 is for adhering the PDP optical filter 1 to the front surface of the PDP 2, and an adhesive acrylic resin or the like can be used.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわちPDP用光学フィルタ1の製造方法について説明する。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration, that is, a method for manufacturing the optical filter 1 for PDP will be described.

まず、図1および図4に示すように、透明基材7の一方(PDP2側)の面に電磁波シールド層4を形成し、次に、透明基材7の他方(前面側)の面に近赤外線/ネオンカット粘着材層8を介してUVカットフィルム9および外光反射防止膜11を順次形成する。このようにして透明基材7と、近赤外線/ネオンカット粘着材層8と、UVカットフィルム9と、外光反射防止膜11と、電磁波シールド層4とからなる光学フィルタ積層体3が得られる。   First, as shown in FIG. 1 and FIG. 4, the electromagnetic wave shielding layer 4 is formed on one surface (PDP 2 side) of the transparent substrate 7, and then close to the other surface (front side) of the transparent substrate 7. A UV cut film 9 and an external light antireflection film 11 are sequentially formed through the infrared / neon cut adhesive layer 8. In this way, an optical filter laminate 3 comprising the transparent substrate 7, the near infrared / neon cut adhesive layer 8, the UV cut film 9, the external light antireflection film 11, and the electromagnetic wave shielding layer 4 is obtained. .

次に、図3に示すように、光学フィルタ積層体3に、この光学フィルタ積層体3を貫通する複数の貫通穴13が形成される。この場合、各貫通穴13は、図2(a)、(b)に示すように、四角形状からなり、光学フィルタ積層体3の全周に渡って複数形成され、一の貫通穴13とこれに隣接する貫通穴13との間の間隙(寸法g)は、PDP2から発生する電磁波の波長よりも短くなるように形成される。このことにより、PDP2から発生する電磁波が、各貫通穴13間の間隙を通って漏れることを防止することができる。   Next, as shown in FIG. 3, a plurality of through holes 13 penetrating the optical filter laminate 3 are formed in the optical filter laminate 3. In this case, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), each through hole 13 has a quadrangular shape, and a plurality of through holes 13 are formed over the entire circumference of the optical filter laminate 3. A gap (dimension g) between the adjacent through hole 13 is formed to be shorter than the wavelength of the electromagnetic wave generated from the PDP 2. Thus, electromagnetic waves generated from the PDP 2 can be prevented from leaking through the gaps between the through holes 13.

次に、図1および図4に示すように、各貫通穴13内に充填され、電磁波シールド層4と、金属フレーム5の接地部5aとを接続するための導電性材料10dからなる導電部10が以下のように形成される。まず、光学フィルタ積層体3を構成する外光反射防止膜11の前面側から各貫通穴13内に、導電性材料10dとしての導電性ペーストが塗布されて硬化または乾燥され、第1の導電性ペースト層10aが形成される。同時に、光学フィルタ積層体3を構成する電磁波シールド層4のPDP2側から各貫通穴13内に、導電性材料10dとしての導電性ペーストが塗布されて硬化または乾燥され、第2の導電性ペースト層10bが形成される。この場合、第1の導電性ペースト層10aと第2の導電性ペースト層10bは、各貫通穴13内において互いに接合される。また、第1の導電性ペースト層10aは、各貫通穴13内に充填されるとともに、かつ図2(a)に示すように、外光反射防止膜11表面の全周に渡って延びて形成され、第2の導電性ペースト層10bは、各貫通穴13内に充填されるとともに、かつ図2(b)に示すように、電磁波シールド層4表面の全周に渡って延びて形成されている。   Next, as shown in FIG. 1 and FIG. 4, the conductive portion 10 filled in each through hole 13 and made of a conductive material 10 d for connecting the electromagnetic wave shield layer 4 and the ground portion 5 a of the metal frame 5. Is formed as follows. First, a conductive paste as a conductive material 10d is applied from the front side of the external light antireflection film 11 constituting the optical filter laminate 3 into each through hole 13 and cured or dried to obtain a first conductive material. A paste layer 10a is formed. At the same time, a conductive paste as a conductive material 10d is applied and cured or dried from the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4 constituting the optical filter laminate 3 into each through hole 13, and then the second conductive paste layer. 10b is formed. In this case, the first conductive paste layer 10 a and the second conductive paste layer 10 b are joined to each other in each through hole 13. Further, the first conductive paste layer 10a is filled in each through hole 13, and is formed to extend over the entire circumference of the surface of the external light antireflection film 11 as shown in FIG. 2 (a). The second conductive paste layer 10b is filled in each through hole 13 and is formed to extend over the entire circumference of the surface of the electromagnetic wave shield layer 4 as shown in FIG. 2 (b). Yes.

次に、第1の導電性ペースト層10aの上面に電解メッキが施されメッキ層10cが形成される。このようにして、第1の導電性ペースト層10aと、第2の導電性ペースト層10bと、メッキ層10cとからなる導電部10が得られる。メッキ層10cを第1の導電性ペースト層10aの上面に形成することにより、メッキ層10cが導電性ガスケット6(後述)に接続されるため、導電性ガスケット6と第1の導電性ペースト層10aとの間における抵抗値を改善することができる。   Next, electrolytic plating is performed on the upper surface of the first conductive paste layer 10a to form a plated layer 10c. In this way, the conductive portion 10 including the first conductive paste layer 10a, the second conductive paste layer 10b, and the plating layer 10c is obtained. By forming the plating layer 10c on the upper surface of the first conductive paste layer 10a, the plating layer 10c is connected to the conductive gasket 6 (described later), and therefore the conductive gasket 6 and the first conductive paste layer 10a. The resistance value between the two can be improved.

次に、電磁波シールド層4のPDP2側に、着色粘着材層12が設けられ、光学フィルタ積層体3が、着色粘着材層12を介してPDP2の前面に接着される。次に、外光反射防止膜11前面側の導電部10上に、導電性ガスケット6が当接される。その後、光学フィルタ積層体3を外方から囲んで保持するようにして金属フレーム5が装着される。この場合、金属フレーム5の前面側に設けられた接地部5aは、導電性ガスケット6に当接され、電磁波シールド層4は、導電部10および導電性ガスケット6を介して金属フレーム5の接地部5aに接続される。このようにして、本実施の形態によるPDP用光学フィルタ1が得られる。   Next, the colored adhesive material layer 12 is provided on the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4, and the optical filter laminate 3 is bonded to the front surface of the PDP 2 through the colored adhesive material layer 12. Next, the conductive gasket 6 is brought into contact with the conductive portion 10 on the front side of the external light antireflection film 11. Thereafter, the metal frame 5 is mounted so as to surround and hold the optical filter laminate 3 from the outside. In this case, the grounding part 5 a provided on the front side of the metal frame 5 is in contact with the conductive gasket 6, and the electromagnetic wave shielding layer 4 is connected to the grounding part of the metal frame 5 via the conductive part 10 and the conductive gasket 6. Connected to 5a. In this manner, the PDP optical filter 1 according to the present embodiment is obtained.

このように本実施の形態によれば、透明基材7のPDP2側に電磁波シールド層4が設けられ、光学フィルタ積層体3を構成する透明基材7と、近赤外線/ネオンカット粘着材層8と、UVカットフィルム9と、外光反射防止膜11と、電磁波シールド層4とが、前面側に設けられた接地部5aを有する金属フレーム5により外方から囲んで保持される。また、光学フィルタ積層体3に、光学フィルタ積層体3を貫通する貫通穴13が形成され、導電部10が、この貫通穴13内に導電性材料10dとしての導電性ペーストが充填されて形成される。すなわち、導電部10は、第1の導電性ペースト層10aと、第2の導電性ペースト層10bと、メッキ層10cとからなっている。このことにより、導電部10を電磁波シールド層4に確実に電気的に接続することができる。さらに、貫通穴13が、光学フィルタ積層体3の全周に渡って複数形成され、導電部10は、各貫通穴13内に充填されるとともに、光学フィルタ積層体3の全周に渡って電磁波シールド層4と金属フレーム5の接地部5aとの間に延び、金属フレーム5の接地部5aに導電性ガスケット6を介して接続される。このため、電磁波シールド層4が確実に接地され、PDP2から発生する電磁波を確実に遮蔽することができるとともに、PDP用光学フィルタ1の製造原価を低減することができる。   As described above, according to the present embodiment, the electromagnetic shielding layer 4 is provided on the PDP 2 side of the transparent substrate 7, the transparent substrate 7 constituting the optical filter laminate 3, and the near infrared / neon cut adhesive layer 8. The UV cut film 9, the external light antireflection film 11, and the electromagnetic wave shielding layer 4 are enclosed and held from the outside by the metal frame 5 having the grounding portion 5a provided on the front surface side. Further, a through hole 13 penetrating the optical filter laminate 3 is formed in the optical filter laminate 3, and the conductive portion 10 is formed by filling the through hole 13 with a conductive paste as a conductive material 10d. The That is, the conductive portion 10 includes a first conductive paste layer 10a, a second conductive paste layer 10b, and a plating layer 10c. Thereby, the conductive part 10 can be reliably electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer 4. Furthermore, a plurality of through-holes 13 are formed over the entire circumference of the optical filter laminate 3, and the conductive portion 10 is filled in each through-hole 13, and electromagnetic waves are formed over the entire circumference of the optical filter laminate 3. It extends between the shield layer 4 and the ground part 5 a of the metal frame 5, and is connected to the ground part 5 a of the metal frame 5 via a conductive gasket 6. For this reason, the electromagnetic wave shielding layer 4 is reliably grounded, and the electromagnetic waves generated from the PDP 2 can be reliably shielded, and the manufacturing cost of the PDP optical filter 1 can be reduced.

すなわち、比較例としての図5に示すPDP用光学フィルタ30において、導電性テープ31は、導電性接合材31aと導電材31bとからなり、導電性テープ31は、電磁波シールド層4のPDP2側に導電性接合材31aを向けて配置され、導電性テープ31が電磁波シールド層4に接着されている。このことにより、電磁波シールド層4は、導電性テープ31の導電性接合材31aを介して導電性テープ31の導電材31bと電気的に接続することができる。しかしながら、導電性接合材31aは比較的高価であるため、PDP用光学フィルタ30の製造原価を低減することが困難になっている。   That is, in the optical filter 30 for PDP shown in FIG. 5 as a comparative example, the conductive tape 31 includes a conductive bonding material 31a and a conductive material 31b, and the conductive tape 31 is disposed on the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4. The conductive bonding material 31 a is disposed so that the conductive tape 31 is bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4. Thus, the electromagnetic wave shielding layer 4 can be electrically connected to the conductive material 31 b of the conductive tape 31 via the conductive bonding material 31 a of the conductive tape 31. However, since the conductive bonding material 31a is relatively expensive, it is difficult to reduce the manufacturing cost of the optical filter 30 for PDP.

これに対して図1および図4に示すように本発明によれば、導電部10は、第1の導電性ペースト層10aと、第2の導電性ペースト層10bと、メッキ層10cとからなることから、導電性接合材30aを有する導電性テープ31よりも比較的安価である。また、この導電部10は、光学フィルタ積層体3を貫通する各貫通穴13に充填され、電磁波シールド層4と金属フレーム5の接地部5aとを接続している。このことにより、電磁波シールド層4は、導電部10を介して金属フレーム5に確実に電気的に接続される。このように、第1の導電性ペースト層10aと第2の導電性ペースト層10bとメッキ層10cとからなる比較的安価な導電部10を用いているため、PDP用光学フィルタ1の製造原価を低減することができる。   On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 4, according to the present invention, the conductive portion 10 is composed of the first conductive paste layer 10a, the second conductive paste layer 10b, and the plating layer 10c. Therefore, it is relatively cheaper than the conductive tape 31 having the conductive bonding material 30a. The conductive portion 10 is filled in each through-hole 13 that penetrates the optical filter laminate 3 and connects the electromagnetic wave shielding layer 4 and the ground portion 5 a of the metal frame 5. Thus, the electromagnetic wave shielding layer 4 is reliably electrically connected to the metal frame 5 through the conductive portion 10. As described above, since the relatively inexpensive conductive portion 10 including the first conductive paste layer 10a, the second conductive paste layer 10b, and the plating layer 10c is used, the manufacturing cost of the optical filter 1 for PDP can be reduced. Can be reduced.

第2の実施の形態
次に、図6および図7(a)、(b)により、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタについて説明する。ここで、図6は、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、導電性テープが貼り付けられた状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図7(a)は、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、超音波接合機により導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図7(b)は、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、超音波接合機により電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
Second Embodiment Next, an optical filter for PDP in the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7A and 7B. Here, FIG. 6 is a view showing a state in which a conductive tape is affixed in the optical filter for PDP in the second embodiment of the present invention, and is a view in which a metal frame is removed for convenience. FIG. 7A is a diagram showing a state in which conductive tapes are bonded to each other by an ultrasonic bonding machine in the optical filter for PDP according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7B is a diagram showing a state in which the conductive tape is bonded to the electromagnetic wave shielding layer by the ultrasonic bonding machine in the optical filter for PDP in the second embodiment of the present invention. However, it is the figure which removed the metal frame for convenience.

図6および図7(a)、(b)に示す第2の実施の形態は、PDP用光学フィルタ1において、導電部10を構成する第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、超音波接合機20によって各貫通穴13内に充填され、互いに接合されている点が異なるのみであり、他の構成は、図1乃至図4に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図6および図7(a)、(b)において、図1乃至図4に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In the second embodiment shown in FIGS. 6 and 7A and 7B, in the optical filter 1 for PDP, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 constituting the conductive portion 10 are used. Is different from the first embodiment shown in FIG. 1 to FIG. 4 in other respects except that the through holes 13 are filled by the ultrasonic bonding machine 20 and are joined to each other. Are the same. 6 and FIGS. 7A and 7B, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

本実施の形態によれば、図6および図7(a)、(b)に示すように、導電部10は、光学フィルタ積層体3を構成する外光反射防止膜11の前面側に配置され、外光反射防止膜11の前面側から各貫通穴13内に充填される第1の導電性テープ15と、光学フィルタ積層体3を構成する電磁波シールド層4のPDP2側に配置され、電磁波シールド層4のPDP2側から各貫通穴13内に充填される第2の導電性テープ16とからなっている。   According to the present embodiment, as shown in FIG. 6 and FIGS. 7A and 7B, the conductive portion 10 is disposed on the front side of the external light antireflection film 11 constituting the optical filter laminate 3. The first conductive tape 15 filled in each through hole 13 from the front side of the external light antireflection film 11 and the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4 constituting the optical filter laminate 3, The second conductive tape 16 is filled from the PDP 2 side of the layer 4 into each through hole 13.

また、この第1の導電性テープ15は、図6および図7(a)、(b)に示すように第1の絶縁性接合材15aと、第1の導電材15bとからなり、第2の導電性テープ16は、第2の絶縁性接合材16aと、第2の導電材16bとからなっている。このうち第1の導電材15bおよび第2の導電材16bは、例えばアルミ箔または銅箔からなっており、第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aは、例えば、アクリル系の粘着材若しくは粘着シート、または熱可塑系接着材からなっている。   The first conductive tape 15 includes a first insulating bonding material 15a and a first conductive material 15b as shown in FIG. 6 and FIGS. 7A and 7B. The conductive tape 16 includes a second insulating bonding material 16a and a second conductive material 16b. Among these, the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are made of, for example, aluminum foil or copper foil, and the first insulating bonding material 15a and the second insulating bonding material 16a are, for example, acrylic. It is made of a series adhesive material or adhesive sheet, or a thermoplastic adhesive material.

また、図6および図7(a)、(b)に示すように、第1の導電性テープ15は、外光反射防止膜11の前面側に第1の絶縁性接合材15aを向けて配置されるとともに、金属フレーム5の接地部5aに第1の導電材15bを向けて配置されている。また、第2の導電性テープ16は、電磁波シールド層4のPDP2側に第2の絶縁性接合材16aを向けて配置されている。   6 and 7A and 7B, the first conductive tape 15 is disposed with the first insulating bonding material 15a facing the front side of the external light antireflection film 11. At the same time, the first conductive material 15 b is arranged facing the grounding portion 5 a of the metal frame 5. The second conductive tape 16 is disposed with the second insulating bonding material 16 a facing the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4.

また、図7(a)に示すように、各貫通穴13内において、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とは、超音波接合機20によって第1の導電性テープ15の例えばアルミ等からなる第1の導電材15bと、第2の導電性テープ16の例えばアルミ等からなる第2の導電材16bとが、互いに溶着された状態で接合されている。この場合、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とは、超音波接合機20によって横方向に超音波振動し、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間に介在している第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aが、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間から排除され、かつ第1の導電材15bと第2の導電材16bとが横方向に超音波振動して互いに溶着されている。このことにより、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、互いに溶着された状態で接合されている。   In addition, as shown in FIG. 7A, in each through hole 13, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are connected to each other by an ultrasonic bonding machine 20. The first conductive material 15b made of aluminum or the like and the second conductive material 16b made of aluminum or the like of the second conductive tape 16 are joined in a welded state. In this case, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are ultrasonically vibrated in the lateral direction by the ultrasonic bonding machine 20, and the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are The first insulating bonding material 15a and the second insulating bonding material 16a interposed therebetween are excluded from between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b, and the first conductive material The material 15b and the second conductive material 16b are welded to each other by ultrasonic vibration in the lateral direction. Thus, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are joined in a state where they are welded to each other.

また、図7(b)に示すように、各貫通穴13間における電磁波シールド層4のPDP2側の面において、第2の導電性テープ16は、超音波接合機20によって第2の導電材16bが電磁波シールド層4に溶着された状態で電磁波シールド層4に接合されている。この場合、第2の導電性テープ16は、超音波接合機20によって横方向に超音波振動し、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間に介在している第2の絶縁性接合材16aが、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間から排除され、かつ第2の導電材16bが横方向に超音波振動して電磁波シールド層4に溶着されている。このことにより、第2の導電性テープ16が、各貫通穴13間において、電磁波シールド層4に溶着された状態で電磁波シールド層4に接合されている。   Further, as shown in FIG. 7B, the second conductive tape 16 is placed on the PDP 2 side surface of the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13 by the ultrasonic bonding machine 20 with the second conductive material 16 b. Is bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4 while being welded to the electromagnetic wave shielding layer 4. In this case, the second conductive tape 16 is ultrasonically vibrated in the lateral direction by the ultrasonic bonding machine 20, and the second insulating tape 16 is interposed between the second conductive material 16 b and the electromagnetic wave shielding layer 4. The bonding material 16 a is excluded from between the second conductive material 16 b and the electromagnetic wave shielding layer 4, and the second conductive material 16 b is ultrasonically vibrated in the lateral direction and welded to the electromagnetic wave shielding layer 4. Thus, the second conductive tape 16 is bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4 in a state where it is welded to the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13.

具体的には、超音波接合機20によって第1の導電性テープ15および第2の導電性テープ16を互いに接合する場合、まず、外光反射防止膜11の前面側の全周に渡って、第1の導電性テープ15が貼り付けられる(図2(a)参照)。この場合、外光反射防止膜11の前面側に第1の導電性テープ15の第1の絶縁性接合材15aが向けられて貼り付けられる。同様に、電磁波シールド層4のPDP2側の全周に渡って、第2の導電性テープ16が貼り付けられる(図2(b)参照)。この場合、電磁波シールド層4のPDP2側に第2の導電性テープ16の第2の絶縁性接合材16aが向けられて貼り付けられる。   Specifically, when the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are bonded to each other by the ultrasonic bonding machine 20, first, over the entire circumference on the front surface side of the external light antireflection film 11, The 1st conductive tape 15 is affixed (refer Fig.2 (a)). In this case, the first insulating bonding material 15 a of the first conductive tape 15 is directed and attached to the front surface side of the external light antireflection film 11. Similarly, the 2nd electroconductive tape 16 is affixed over the perimeter of the PDP2 side of the electromagnetic wave shield layer 4 (refer FIG.2 (b)). In this case, the second insulating bonding material 16 a of the second conductive tape 16 is directed and attached to the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4.

次に、図7(a)に示すように、各貫通穴13内において、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、超音波接合機20によって第1の導電材15bと第2の導電材16bとが互いに溶着された状態で接合される。この場合まず、例えば外光反射防止膜11を上側にして、光学フィルタ積層体3が固定される。次に、第1の導電性テープ15上に、超音波接合機20の第1のロータリーヘッド20aが当接されるとともに、第2の導電性テープ16上に、超音波接合機20の第2のロータリーヘッド20bが当接される。次に、超音波接合機20内で発せられた超音波により、第1のロータリーヘッド20aが、第1のロータリーヘッド20aの移動方向に対して直交する方向に微細に振動されるとともに、第1の導電性テープ15上を第1のロータリーヘッド20aが移動していく。同時に、第2のロータリーヘッド20bが、第2のロータリーヘッド20bの移動方向に対して直交する方向に微細に振動されるとともに、第2の導電性テープ16上を第2のロータリーヘッド20bが移動していく。   Next, as shown in FIG. 7A, in each through-hole 13, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are connected by the ultrasonic bonding machine 20 to the first conductive material 15b. And the second conductive material 16b are bonded together. In this case, first, the optical filter laminate 3 is fixed, for example, with the external light antireflection film 11 facing upward. Next, the first rotary head 20 a of the ultrasonic bonding machine 20 is brought into contact with the first conductive tape 15, and the second of the ultrasonic bonding machine 20 is set on the second conductive tape 16. The rotary head 20b is brought into contact. Next, the first rotary head 20a is finely vibrated in a direction orthogonal to the moving direction of the first rotary head 20a by the ultrasonic waves generated in the ultrasonic bonding machine 20, and the first The first rotary head 20 a moves on the conductive tape 15. At the same time, the second rotary head 20b is finely vibrated in a direction orthogonal to the moving direction of the second rotary head 20b, and the second rotary head 20b moves on the second conductive tape 16. I will do it.

この間、まず、第1の導電性テープ15および第2の導電性テープ16は、第1のロータリーヘッド20aおよび第2のロータリーヘッド20bが当接されることにより、貫通穴13内に充填される。次に、第1の絶縁性接合材15aと第2の絶縁性接合材16aとが互いに当接される。次に、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間に介在されている第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aが、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間から排除される。同時に、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの当接面に摩擦が生じ、第1の導電材15bと第2の導電材16bとが互いに溶着される。   During this time, first, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are filled into the through hole 13 by the first rotary head 20a and the second rotary head 20b being brought into contact with each other. . Next, the first insulating bonding material 15a and the second insulating bonding material 16a are brought into contact with each other. Next, the first insulating bonding material 15a and the second insulating bonding material 16a interposed between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are combined with the first conductive material 15b. It is excluded from the space between the second conductive material 16b. At the same time, friction is generated on the contact surface between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b, and the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are welded together.

このようにして、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、光学フィルタ積層体3の全周に渡って互いに溶着された状態で接合される(図2(a)、(b)参照)。   Thus, the 1st conductive tape 15 and the 2nd conductive tape 16 are joined in the state welded mutually over the perimeter of the optical filter laminated body 3 (FIG. 2 (a), (See (b)).

またこの間、図7(b)に示すように、各貫通穴13間における電磁波シールド層4のPDP2側の面のうち、第2のロータリーヘッド20bが当接された範囲において、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間に介在されている第2の絶縁性接合材16aが、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間から排除される。同時に、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との当接面に摩擦が生じ、第2の導電材16bが電磁波シールド層4に溶着される。このようにして第2の導電性テープ16が、各貫通穴13間において、電磁波シールド層4の全周に渡って電磁波シールド層4に溶着された状態で電磁波シールド層4に接合される(図2(b)参照)。   During this time, as shown in FIG. 7B, the second conductive material is within the range where the second rotary head 20 b is in contact with the PDP 2 side surface of the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13. The second insulating bonding material 16 a interposed between 16 b and the electromagnetic wave shielding layer 4 is excluded from between the second conductive material 16 b and the electromagnetic wave shielding layer 4. At the same time, friction occurs on the contact surface between the second conductive material 16 b and the electromagnetic wave shield layer 4, and the second conductive material 16 b is welded to the electromagnetic wave shield layer 4. In this way, the second conductive tape 16 is joined to the electromagnetic wave shielding layer 4 while being welded to the electromagnetic wave shielding layer 4 over the entire circumference of the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13 (see FIG. 2 (b)).

このように本実施の形態によれば、光学フィルタ積層体3に、この光学フィルタ積層体3を貫通する貫通穴13が複数形成され、導電部10を構成する第1の導電性テープ15および第2の導電性テープ16が、超音波接合機20によって、各貫通穴13内に充填され、第1の導電材15bと第2の導電材16bとが互いに溶着された状態で接合される。また、第2の導電性テープ16は、超音波接合機20によって、各貫通穴13間において、第2の導電材16bが電磁波シールド層4に溶着された状態で接合される。このことにより、導電部10を電磁波シールド層4に確実に電気的に接続することができる。また、導電部10は、第1の絶縁性接合材15aを含む第1の導電性テープ15と、第2の絶縁性接合材16aを含む第2の導電性テープ16とからなることにより、導電性接合材31aを有する導電性テープ30(図5参照)よりも比較的安価である。このため、PDP用光学フィルタ1の製造原価を低減することができる。   As described above, according to the present embodiment, a plurality of through holes 13 penetrating the optical filter laminate 3 are formed in the optical filter laminate 3, and the first conductive tape 15 and the first conductive tape 10 constituting the conductive portion 10 are formed. The two conductive tapes 16 are filled into the respective through holes 13 by the ultrasonic bonding machine 20, and the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are bonded together. The second conductive tape 16 is bonded by the ultrasonic bonding machine 20 in a state where the second conductive material 16 b is welded to the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13. Thereby, the conductive part 10 can be reliably electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer 4. The conductive portion 10 includes the first conductive tape 15 including the first insulating bonding material 15a and the second conductive tape 16 including the second insulating bonding material 16a. It is relatively cheaper than the conductive tape 30 (see FIG. 5) having the conductive bonding material 31a. For this reason, the manufacturing cost of the optical filter 1 for PDP can be reduced.

第3の実施の形態
次に、図8(a)、(b)により、本発明の第3の実施の形態におけるPDP用光学フィルタについて説明する。ここで、図8(a)は、本発明の第3の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、熱ロールにより導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図8(b)は、本発明の第3の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、熱ロールにより電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。
Third Embodiment Next, an optical filter for PDP in the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 (a) and 8 (b). Here, FIG. 8A is a diagram showing a state in which the conductive tapes are bonded to each other by a heat roll in the PDP optical filter according to the third embodiment of the present invention. FIG. 8B is a diagram showing a state where the conductive tape is bonded to the electromagnetic wave shielding layer by a heat roll in the optical filter for PDP in the third embodiment of the present invention. For convenience, the metal frame is removed.

図8(a)、(b)に示す第3の実施の形態は、PDP用光学フィルタ1において、導電部10を構成する第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、熱ロール21によって各貫通穴13内に充填され、互いに接合されている点が異なるのみであり、他の構成は、図6および図7(a)、(b)に示す第2の実施の形態と略同一である。なお、図8(a)、(b)において、図6および図7(a)、(b)に示す第2の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   In the third embodiment shown in FIGS. 8A and 8B, in the optical filter 1 for PDP, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 constituting the conductive portion 10 are: The only difference is that each through-hole 13 is filled by the heat roll 21 and joined to each other, and the other configuration is the second embodiment shown in FIGS. 6 and 7A and 7B. Is substantially the same. 8 (a) and 8 (b), the same parts as those of the second embodiment shown in FIG. 6 and FIGS. 7 (a) and 7 (b) are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted. .

本実施の形態によれば、図8(a)に示すように、各貫通穴13内において、導電部10を構成する第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とは、熱ロール21によって第1の導電性テープ15の第1の絶縁性接合材15aと、第2の導電性テープ16の第2の絶縁性接合材16aとが、互いに接着された状態で接合されている。この場合、第1の導電性テープ15の第1の導電材15bと第2の導電性テープ16の第2の導電材16bとの間に介在している第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aが、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間から排除され、かつ第1の導電材15bと第2の導電材16bとが互いに当接されている。このことにより、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、互いに接着された状態で接合されている。   According to the present embodiment, as shown in FIG. 8A, in each through hole 13, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 constituting the conductive portion 10 are heated. The first insulating bonding material 15a of the first conductive tape 15 and the second insulating bonding material 16a of the second conductive tape 16 are bonded to each other by the roll 21 while being bonded to each other. . In this case, the first insulating bonding material 15a and the second insulating material 15b interposed between the first conductive material 15b of the first conductive tape 15 and the second conductive material 16b of the second conductive tape 16 are used. The second insulating bonding material 16a is excluded from between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b, and the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are in contact with each other. Yes. As a result, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are joined in a state of being bonded to each other.

また、図8(b)に示すように、各貫通穴13間における電磁波シールド層4のPDP2側の面において、第2の導電性テープ16は、熱ロール21によって第2の絶縁性接合材16aが電磁波シールド層4に接着された状態で電磁波シールド層4に接合されている。この場合、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間に介在している第2の絶縁性接合材16aが、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間から排除され、かつ第2の導電材16bが電磁波シールド層4に当接されている。このことにより、第2の導電性テープ16が、各貫通穴13間において、電磁波シールド層4に接着された状態で電磁波シールド層4に接合されている。   Further, as shown in FIG. 8B, the second conductive tape 16 is bonded to the second insulating bonding material 16 a by the heat roll 21 on the surface on the PDP 2 side of the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13. Is bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4 in a state of being bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4. In this case, the second insulating bonding material 16a interposed between the second conductive material 16b and the electromagnetic wave shielding layer 4 is excluded from between the second conductive material 16b and the electromagnetic wave shielding layer 4, In addition, the second conductive material 16 b is in contact with the electromagnetic wave shielding layer 4. Thus, the second conductive tape 16 is bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4 in a state where it is adhered to the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13.

具体的には、図8(a)に示すように、各貫通穴13内において、熱ロール21によって第1の導電性テープ15および第2の導電性テープ16を互いに接合する場合、まず、例えば外光反射防止膜11を上側にして、光学フィルタ積層体3が固定される。次に、第1の導電性テープ15上に、凸部が形成された熱ロール21の第1のローレットヘッド21aが加熱されて当接されるとともに、第2の導電性テープ16上に、凸部が形成された熱ロール21の第2のローレットヘッド21bが加熱されて当接される。ここで、凸部は熱ロール21の第1のローレットヘッド21aおよび第2のローレットヘッド21bの表面に軸方向に帯状に延びて各々形成されている。次に、第1の導電性テープ15上を第1のローレットヘッド21aが移動していくとともに、第2の導電性テープ16上を第2のローレットヘッド21bが移動していく。   Specifically, as shown in FIG. 8A, in the case where the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are joined to each other by the heat roll 21 in each through hole 13, first, for example, The optical filter laminate 3 is fixed with the external light antireflection film 11 facing upward. Next, the first knurled head 21a of the heat roll 21 formed with the convex portions is heated and brought into contact with the first conductive tape 15, and the convex portions are formed on the second conductive tape 16. The second knurled head 21b of the heat roll 21 formed with the portion is heated and brought into contact therewith. Here, the convex portions are respectively formed on the surfaces of the first knurled head 21a and the second knurled head 21b of the heat roll 21 so as to extend in a strip shape in the axial direction. Next, the first knurled head 21 a moves on the first conductive tape 15, and the second knurled head 21 b moves on the second conductive tape 16.

この間、まず、第1の導電性テープ15および第2の導電性テープ16は、第1のローレットヘッド21aおよび第2のローレットヘッド21bが当接されることにより、各貫通穴13内に各々充填される。次に、第1の絶縁性接合材15aと第2の絶縁性接合材16aとが互いに当接される。また、第1のローレットヘッド21aおよび第2のローレットヘッド21bが各々当接された第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aは加熱され、第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aの粘度が各々低下する。このため、第1の導電性テープ15のうち第1のローレットヘッド21aの外周面の凸部が当接された範囲と、第2の導電性テープ16のうち第2のローレットヘッド22bの外周面の凸部が当接された範囲とにおいて、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間に介在されている第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aが、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間から排除される。同時に、第1の導電材15bと第2の導電材16bとが互いに当接される。   During this time, first, the first conductive tape 15 and the second conductive tape 16 are filled in each through-hole 13 by contacting the first knurled head 21a and the second knurled head 21b. Is done. Next, the first insulating bonding material 15a and the second insulating bonding material 16a are brought into contact with each other. Further, the first insulating bonding material 15a and the second insulating bonding material 16a with which the first knurling head 21a and the second knurling head 21b are in contact with each other are heated, and the first insulating bonding material 15a is heated. And the viscosity of the 2nd insulating joining material 16a falls, respectively. For this reason, the range in which the convex part of the outer peripheral surface of the first knurled head 21 a is in contact with the first conductive tape 15 and the outer peripheral surface of the second knurled head 22 b of the second conductive tape 16. The first insulative bonding material 15a and the second insulative bonding material 16a interposed between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b in a range where the convex portions of the first and second conductive materials 16b are in contact. Is excluded from between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b. At the same time, the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are brought into contact with each other.

その後、第1のローレットヘッド21aおよび第2のローレットヘッド21bが離れると、第1の導電材15bと第2の導電材16bとの間から排除された第1の絶縁性接合材15aおよび第2の絶縁性接合材16aは、冷却されて固化される。このようにして、第1の導電性テープ15と第2の導電性テープ16とが、光学フィルタ積層体3の全周に渡って互いに接着された状態で接合される(図2(a)、(b)参照)。   Thereafter, when the first knurling head 21a and the second knurling head 21b are separated, the first insulating bonding material 15a and the second insulating material 15b excluded from between the first conductive material 15b and the second conductive material 16b. The insulating bonding material 16a is cooled and solidified. Thus, the 1st conductive tape 15 and the 2nd conductive tape 16 are joined in the state where it was mutually adhered over the perimeter of optical filter layered product 3 (Drawing 2 (a), (See (b)).

またこの間、図8(b)に示すように、各貫通穴13間における電磁波シールド層4のPDP2側の面のうち、第2のローレットヘッド21bの外周面の凸部が当接された範囲において、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間に介在されている第2の絶縁性接合材16aが、第2の導電材16bと電磁波シールド層4との間から排除され、第2の導電材16bが電磁波シールド層4に当接される。このようにして第2の導電性テープ16が、各貫通穴13間において、電磁波シールド層4の全周に渡って電磁波シールド層4に接着された状態で電磁波シールド層4に接合される(図2(b)参照)。   During this time, as shown in FIG. 8B, in the range where the convex portion of the outer peripheral surface of the second knurled head 21b is in contact with the PDP2 side surface of the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13. The second insulating bonding material 16a interposed between the second conductive material 16b and the electromagnetic wave shielding layer 4 is excluded from between the second conductive material 16b and the electromagnetic wave shielding layer 4, and the second The conductive material 16b is brought into contact with the electromagnetic wave shielding layer 4. In this way, the second conductive tape 16 is bonded to the electromagnetic wave shielding layer 4 while being adhered to the electromagnetic wave shielding layer 4 over the entire circumference of the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13 (see FIG. 2 (b)).

このように本実施の形態によれば、光学フィルタ積層体3に、この光学フィルタ積層体3を貫通する貫通穴13が複数形成され、導電部10を構成する第1の導電性テープ15および第2の導電性テープ16が、熱ロール21によって、各貫通穴13内に充填され、第1の導電材15bと第2の導電材16bとが互いに当接されるとともに、第1の絶縁性接合材15aと第2の絶縁性接合材16aとが互いに接着された状態で接合される。また、第2の導電性テープ16は、熱ロール21によって、各貫通穴13間において、第2の導電材16bが電磁波シールド層4に当接されるとともに、第2の絶縁性接合材16aが電磁波シールド層4に接着された状態で接合される。このことにより、導電部10を電磁波シールド層4に確実に電気的に接続することができる。また、導電部10は、第1の絶縁性接合材15aを含む第1の導電性テープ15と、第2の絶縁性接合材16aを含む第2の導電性テープ16とからなることにより、導電性接合材31aを有する導電性テープ30(図5参照)よりも比較的安価である。このため、PDP用光学フィルタ1の製造原価を低減することができる。   As described above, according to the present embodiment, a plurality of through holes 13 penetrating the optical filter laminate 3 are formed in the optical filter laminate 3, and the first conductive tape 15 and the first conductive tape 10 constituting the conductive portion 10 are formed. The two conductive tapes 16 are filled in the respective through holes 13 by the heat rolls 21, the first conductive material 15b and the second conductive material 16b are brought into contact with each other, and the first insulating bonding is performed. The material 15a and the second insulating bonding material 16a are bonded in a state where they are adhered to each other. In addition, the second conductive tape 16 is in contact with the electromagnetic wave shielding layer 4 between the through holes 13 by the heat roll 21, and the second insulating bonding material 16 a It joins in the state adhere | attached on the electromagnetic wave shield layer 4. FIG. Thereby, the conductive part 10 can be reliably electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer 4. The conductive portion 10 includes the first conductive tape 15 including the first insulating bonding material 15a and the second conductive tape 16 including the second insulating bonding material 16a. It is relatively cheaper than the conductive tape 30 (see FIG. 5) having the conductive bonding material 31a. For this reason, the manufacturing cost of the optical filter 1 for PDP can be reduced.

図1は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタの構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention. 図2(a)は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、外光反射防止膜に導電部が設けられた状態を示す平面図であり、図2(b)は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、電磁波シールド層に導電部が設けられた状態を示す平面図である。FIG. 2A is a plan view showing a state in which a conductive portion is provided in the external light antireflection film in the optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention, and FIG. In the optical filter for PDP in the 1st Embodiment of this invention, it is a top view which shows the state by which the electroconductive part was provided in the electromagnetic wave shield layer. 図3は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、貫通穴が形成された状態を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。FIG. 3 is a partially enlarged view showing a state in which a through hole is formed in the PDP optical filter according to the first embodiment of the present invention, and is a view in which a metal frame is removed for convenience. 図4は、本発明の第1の実施の形態におけるPDP用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。FIG. 4 is a partially enlarged view showing the configuration of the optical filter for PDP in the first embodiment of the present invention, and is a view in which a metal frame is removed for convenience. 図5は、比較例としてのPDP用光学フィルタの構成を示す部分拡大図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。FIG. 5 is a partially enlarged view showing a configuration of an optical filter for PDP as a comparative example, in which a metal frame is removed for convenience. 図6は、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、導電性テープが貼り付けられた状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。FIG. 6 is a diagram showing a state in which a conductive tape is affixed in the PDP optical filter according to the second embodiment of the present invention, and is a diagram in which a metal frame is removed for convenience. 図7(a)は、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、超音波接合機により導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図7(b)は、本発明の第2の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、超音波接合機により電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。FIG. 7A is a diagram showing a state in which conductive tapes are bonded to each other by an ultrasonic bonding machine in the PDP optical filter according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7B is a diagram illustrating a state where the conductive tape is bonded to the electromagnetic wave shielding layer by the ultrasonic bonding machine in the optical filter for PDP in the second embodiment of the present invention. FIG. 3 is a diagram in which a metal frame is removed for convenience. 図8(a)は、本発明の第3の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、熱ロールにより導電性テープが互いに接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図であり、図8(b)は、本発明の第3の実施の形態におけるPDP用光学フィルタにおいて、熱ロールにより電磁波シールド層に導電性テープが接合された状態を示す図であって、便宜的に金属フレームを取り外した図である。FIG. 8A is a diagram showing a state in which conductive tapes are bonded to each other by a heat roll in the optical filter for PDP according to the third embodiment of the present invention, and the metal frame is removed for convenience. FIG. 8B is a diagram showing a state in which the conductive tape is bonded to the electromagnetic wave shielding layer by the heat roll in the PDP optical filter according to the third embodiment of the present invention. It is the figure which removed the metal frame specifically.

符号の説明Explanation of symbols

1 PDP用光学フィルタ
2 PDP
3 光学フィルタ積層体
4 電磁波シールド層
4a 開口
5 金属フレーム
5a 接地部
6 導電性ガスケット
7 透明基材
8 近赤外線/ネオンカット粘着材層
9 UVカットフィルム
10 導電部
10a 第1の導電性ペースト層
10b 第2の導電性ペースト層
10c メッキ層
10d 導電性材料
11 外光反射防止膜
12 着色粘着材層
13 貫通穴
15 第1の導電性テープ
15a 第1の絶縁性接合材
15b 第1の導電材
16 第2の導電性テープ
16a 第2の絶縁性接合材
16b 第2の導電材
20 超音波接合機
20a 第1のロータリーヘッド
20b 第2のロータリーヘッド
21 熱ロール
21a 第1のローレットヘッド
21b 第2のローレットヘッド
30 PDP用光学フィルタ
31 導電性テープ
31a 導電性接合材
31b 導電材
1 PDP optical filter 2 PDP
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Optical filter laminated body 4 Electromagnetic wave shield layer 4a Opening 5 Metal frame 5a Grounding part 6 Conductive gasket 7 Transparent base material 8 Near infrared / neon cut adhesive material layer 9 UV cut film 10 Conductive part 10a First conductive paste layer 10b Second conductive paste layer 10c Plating layer 10d Conductive material 11 External light antireflection film 12 Colored adhesive layer 13 Through hole 15 First conductive tape 15a First insulating bonding material 15b First conductive material 16 Second conductive tape 16a Second insulating bonding material 16b Second conductive material 20 Ultrasonic bonding machine 20a First rotary head 20b Second rotary head 21 Heat roll 21a First knurled head 21b Second Knurled head 30 Optical filter 31 for PDP Conductive tape 31a Conductive bonding material 31b Conductive material

Claims (9)

プラズマディスプレイパネルの前面に配置されるプラズマディスプレイパネル用光学フィルタにおいて、
基材と、
基材のプラズマディスプレイパネル側に設けられた電磁波シールド層と、
基材と、電磁波シールド層とを外方から囲んで保持するとともに、前面側に設けられた接地部を有する金属フレームと、を備え、
基材および電磁波シールド層に、基材と電磁波シールド層とを貫通する貫通穴が形成され、
貫通穴内に、電磁波シールド層と金属フレームの接地部とを接続する導電性材料が充填された導電部が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
In an optical filter for a plasma display panel disposed in front of the plasma display panel,
A substrate;
An electromagnetic wave shielding layer provided on the plasma display panel side of the substrate;
A substrate and a metal frame that surrounds and holds the electromagnetic wave shielding layer from the outside, and has a ground frame provided on the front side, and
A through hole penetrating the base material and the electromagnetic wave shielding layer is formed in the base material and the electromagnetic wave shielding layer,
An optical filter for a plasma display panel, wherein a conductive portion filled with a conductive material that connects an electromagnetic wave shielding layer and a ground portion of a metal frame is formed in the through hole.
導電部は、基材の前面側から貫通穴内に形成される第1の導電性ペースト層と、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に形成される第2の導電性ペースト層とからなることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The conductive portion includes a first conductive paste layer formed in the through hole from the front side of the base material and a second conductive paste layer formed in the through hole from the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer. The optical filter for a plasma display panel according to claim 1. 第1の導電性ペースト層の上面に、電解メッキによりメッキ層が形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The optical filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein a plating layer is formed on the upper surface of the first conductive paste layer by electrolytic plating. 導電部は、基材の前面側に配置され、基材の前面側から貫通穴内に充填される第1の導電性テープと、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側に配置され、電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から貫通穴内に充填される第2の導電性テープとからなることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The conductive portion is disposed on the front surface side of the base material, and is disposed on the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer with the first conductive tape filled in the through hole from the front surface side of the base material, and the plasma of the electromagnetic wave shielding layer. The optical filter for a plasma display panel according to claim 1, comprising a second conductive tape filled in the through hole from the display panel side. 第1の導電性テープおよび第2の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々超音波接合機により充填されることを特徴とする請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The first conductive tape and the second conductive tape are respectively filled by an ultrasonic bonding machine from the front surface side of the base material and the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer. Optical filter for plasma display panel. 第1の導電性テープおよび第2の導電性テープは、基材の前面側および電磁波シールド層のプラズマディスプレイパネル側から各々熱ロールにより充填されることを特徴とする請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   5. The plasma display according to claim 4, wherein the first conductive tape and the second conductive tape are respectively filled with a heat roll from the front surface side of the substrate and the plasma display panel side of the electromagnetic wave shielding layer. Optical filter for panels. 導電部は、金属フレームの接地部に、導電性ガスケットを介して接続されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The plasma display panel optical filter according to claim 1, wherein the conductive portion is connected to a ground portion of the metal frame via a conductive gasket. 貫通穴は、基材および電磁波シールド層の全周に渡って複数形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The optical filter for a plasma display panel according to any one of claims 1 to 7, wherein a plurality of through holes are formed over the entire circumference of the substrate and the electromagnetic wave shielding layer. 各貫通穴間の間隙は、プラズマディスプレイパネルから発生する電磁波の波長よりも短いことを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。   The optical filter for a plasma display panel according to any one of claims 1 to 8, wherein a gap between each through hole is shorter than a wavelength of an electromagnetic wave generated from the plasma display panel.
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