JP2009093147A - Transflective liquid crystal display panel and electronic apparatus - Google Patents

Transflective liquid crystal display panel and electronic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2009093147A
JP2009093147A JP2008146666A JP2008146666A JP2009093147A JP 2009093147 A JP2009093147 A JP 2009093147A JP 2008146666 A JP2008146666 A JP 2008146666A JP 2008146666 A JP2008146666 A JP 2008146666A JP 2009093147 A JP2009093147 A JP 2009093147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
liquid crystal
layer
region
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008146666A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5334012B2 (en
Inventor
Hayato Kurasawa
隼人 倉澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Epson Imaging Devices Corp
Original Assignee
Epson Imaging Devices Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Epson Imaging Devices Corp filed Critical Epson Imaging Devices Corp
Priority to JP2008146666A priority Critical patent/JP5334012B2/en
Priority to US12/211,499 priority patent/US8314905B2/en
Publication of JP2009093147A publication Critical patent/JP2009093147A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5334012B2 publication Critical patent/JP5334012B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transflective liquid crystal display panel and electronic apparatus, which can prevent an image display performance from being degraded due to not capable of adjusting retardation at each side portion of a retardation layer. <P>SOLUTION: The transflective liquid crystal display panel 10A includes an array substrate AR and a color filter substrate CF, both being provided facing each other via a liquid crystal layer 30. One pixel includes a transmissive area TA and a reflective area RA. The array substrate AR includes a lower electrode 14 and an upper electrode 21, both being formed in each pixel area. The color filter substrate CF includes: a plurality of color filter layers 27R, 27G and 27B, all being arranged on every pixel area; and a retardation layer 29 formed on the reflective area RA on the side of the liquid crystal layer 30. At the region that overlaps in plan view the side portion 29a of the phase difference layer 29, a member that lowers light transmittance is formed, the member being made of the same member as the color filter layer 27B that transmits color light having the lowest luminosity factor among the plurality of color filter layers 27R, 27G and 27B. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半透過型液晶表示パネル及びこの半透過型液晶表示パネルを備えた電子機器に関する。   The present invention relates to a transflective liquid crystal display panel and an electronic apparatus including the transflective liquid crystal display panel.

液晶表示パネルとして、透過型と反射型の性質を併せ持つ半透過型液晶表示パネルの開発が多く進められてきている。この半透過型液晶表示パネルは、一つの画素領域内に画素電極を備えた透過領域と画素電極及び反射板の両方を備えた反射領域を有している。そして、暗い場所においてはバックライトを点灯して透過領域を利用して画像を表示し、明るい場所においてはバックライトを点灯することなく反射領域において外光を利用して画像を表示するものである。   As a liquid crystal display panel, a transflective liquid crystal display panel having both transmissive and reflective properties has been developed. This transflective liquid crystal display panel has a transmissive region having a pixel electrode and a reflective region having both a pixel electrode and a reflector in one pixel region. In a dark place, the backlight is turned on and an image is displayed using the transmissive area, and in a bright place, the image is displayed using outside light in the reflective area without turning on the backlight. .

ところで、従来の液晶表示パネルにおいては、その多くが一対の基板のそれぞれに電極を備えるいわゆる縦方向電界モード(例えばTN(Twisted Nematic)型あるいはVA(Virtical Alignment)型)のものであるが、その他のものとして一対の基板のいずれか一方にのみ電極を備えるいわゆる横方向電界モード(例えばFFS(Fringe Field Switching)型あるいはIPS(In-Plane Switching)型)のものも知られている(下記特許文献1及び2参照)。   By the way, many of the conventional liquid crystal display panels are of the so-called vertical electric field mode (for example, TN (Twisted Nematic) type or VA (Virtical Alignment) type) having electrodes on each of a pair of substrates. A so-called lateral electric field mode (for example, FFS (Fringe Field Switching) type or IPS (In-Plane Switching) type) having an electrode only on one of a pair of substrates is also known (Patent Documents below) 1 and 2).

そして、このFFS型の液晶表示パネルにおいても半透過型のものが近年開発されている(下記特許文献3及び4参照)。そこで、このような従来のFFS型の半透過型液晶表示パネルを図14及び図15を用いて説明する。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。   A transflective type of the FFS type liquid crystal display panel has been developed recently (see Patent Documents 3 and 4 below). Such a conventional FFS type transflective liquid crystal display panel will be described with reference to FIGS. In each drawing used for the description in this specification, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member can be recognized on the drawing. However, it is not necessarily displayed in proportion to the actual dimensions.

図14は従来のFFS型の半透過型液晶表示パネルの1画素分の平面図である。図15は図14のXIII−XIII線に沿った模式断面図である。   FIG. 14 is a plan view of one pixel of a conventional FFS type transflective liquid crystal display panel. 15 is a schematic cross-sectional view taken along line XIII-XIII in FIG.

図14及び図15に示すように、従来のFFS型の半透過型液晶表示パネル50は、アレイ基板ARとカラーフィルタ基板CFとを備えている。アレイ基板ARは、第1の透明基板51の表面にそれぞれ平行に複数の走査線52及びコモン配線53が設けられ、これら走査線52及びコモン配線53に交差する方向に複数の信号線54が設けられている。このうち、走査線52及びコモン配線53の表面は透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜55で被覆されており、信号線54はゲート絶縁膜55の表面に形成されている。そして、ゲート絶縁膜55の表面には、走査線52のゲート電極Gに対応する部分の表面に半導体層56が形成され、この半導体層56に部分的に積層されるように、信号線54から延在されたソース電極Sとドレイン電極Dが形成されている。このゲート電極G、ソース電極S及びドレイン電極DがTFT(薄膜トランジスタ)を形成する。さらに、これらの基板の表面全体を被覆するように保護絶縁膜57が形成されている。   As shown in FIGS. 14 and 15, the conventional FFS type transflective liquid crystal display panel 50 includes an array substrate AR and a color filter substrate CF. In the array substrate AR, a plurality of scanning lines 52 and common wirings 53 are provided in parallel on the surface of the first transparent substrate 51, and a plurality of signal lines 54 are provided in a direction intersecting the scanning lines 52 and common wirings 53. It has been. Among these, the surface of the scanning line 52 and the common wiring 53 is covered with a gate insulating film 55 made of a transparent insulating material, and the signal line 54 is formed on the surface of the gate insulating film 55. A semiconductor layer 56 is formed on the surface of the gate insulating film 55 corresponding to the gate electrode G of the scanning line 52, and the signal line 54 is formed so as to be partially stacked on the semiconductor layer 56. An extended source electrode S and drain electrode D are formed. The gate electrode G, source electrode S and drain electrode D form a TFT (thin film transistor). Further, a protective insulating film 57 is formed so as to cover the entire surface of these substrates.

この保護絶縁膜57の表面は層間膜58で被覆され、この層間膜58は画素毎の反射領域RAにおいては表面に凹凸(図示省略)が形成され、その他の領域は表面が平らになされている。そして、反射領域RAの層間膜58の表面にはそれぞれの画素毎にアルミニウム又はアルミニウム合金からなる反射板60が形成され、この反射板60の表面及び層間膜58の表面は画素毎にITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)等からなる透明導電性材料で形成された下電極61が形成されている。この下電極61は、コモン配線53上の保護絶縁膜57及びゲート絶縁膜55に形成されたコンタクトホール62を介して、コモン配線53と電気的に接続されている。なお、ドレイン電極Dに対応する位置の層間膜58及び保護絶縁膜57にはドレイン電極Dが露出するようにコンタクトホール63が形成されている。また、下電極61が形成された領域のうち、反射板60が形成された領域が反射領域RAを構成し、反射板60が形成されていない領域が透過領域TAを構成している。   The surface of the protective insulating film 57 is covered with an interlayer film 58. The interlayer film 58 has irregularities (not shown) on the surface in the reflection area RA for each pixel, and the other areas have a flat surface. . A reflection plate 60 made of aluminum or an aluminum alloy is formed for each pixel on the surface of the interlayer film 58 in the reflection region RA, and the surface of the reflection plate 60 and the surface of the interlayer film 58 are made of ITO (Indium) for each pixel. A lower electrode 61 made of a transparent conductive material made of Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is formed. The lower electrode 61 is electrically connected to the common wiring 53 through a contact hole 62 formed in the protective insulating film 57 and the gate insulating film 55 on the common wiring 53. A contact hole 63 is formed in the interlayer film 58 and the protective insulating film 57 at a position corresponding to the drain electrode D so that the drain electrode D is exposed. In addition, in the region where the lower electrode 61 is formed, the region where the reflection plate 60 is formed constitutes the reflection region RA, and the region where the reflection plate 60 is not formed constitutes the transmission region TA.

さらに、それぞれの下電極61の表面及び層間膜58の表面全体に亘って窒化ケイ素層ないし酸化ケイ素層からなる容量絶縁膜64が形成されており、この容量絶縁膜64はドレイン電極Dが露出するようにコンタクトホール63の表面壁を被覆している。そして、それぞれの画素毎に容量絶縁膜64の表面にはITOやIZO等の透明導電性材料からなり、複数の平行なスリット65が設けられた上電極66が形成されており、この上電極66に設けられたスリット65はその両端部が閉塞している。この上電極66はコンタクトホール63を介してドレイン電極Dと電気的に接続されている。そして、この上電極66及び複数のスリット65の表面は配向膜(図示せず)により被覆されている。   Further, a capacitor insulating film 64 made of a silicon nitride layer or a silicon oxide layer is formed over the surface of each lower electrode 61 and the entire surface of the interlayer film 58, and the drain electrode D is exposed in the capacitor insulating film 64. Thus, the surface wall of the contact hole 63 is covered. An upper electrode 66 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO and provided with a plurality of parallel slits 65 is formed on the surface of the capacitor insulating film 64 for each pixel. Both ends of the slit 65 provided in the are closed. The upper electrode 66 is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 63. The surfaces of the upper electrode 66 and the plurality of slits 65 are covered with an alignment film (not shown).

また、カラーフィルタ基板CFは、第2の透明基板67の表面には、遮光層68、カラーフィルタ層69及び平坦化膜72が形成されている。この平坦化膜72は遮光層68及びカラーフィルタ層69の表面を被覆しており、反射領域RAに位置する平坦化膜72の表面には位相差層71が形成されている。また、位相差層71及び平坦化膜72の表面には配向膜(図示せず)が設けられている。そして、上電極66とカラーフィルタ層69とが互いに対向するようにアレイ基板ARとカラーフィルタ基板CFとを所定の間隔をおいて対向配置させ、その間に液晶70を封入することにより、FFS型の半透過型液晶表示パネル50が構成されている。   In the color filter substrate CF, a light shielding layer 68, a color filter layer 69, and a planarizing film 72 are formed on the surface of the second transparent substrate 67. The planarizing film 72 covers the surfaces of the light shielding layer 68 and the color filter layer 69, and a retardation layer 71 is formed on the surface of the planarizing film 72 located in the reflection region RA. An alignment film (not shown) is provided on the surface of the retardation layer 71 and the planarizing film 72. Then, the array substrate AR and the color filter substrate CF are arranged to face each other at a predetermined interval so that the upper electrode 66 and the color filter layer 69 are opposed to each other, and the liquid crystal 70 is sealed between the array substrate AR and the color filter substrate CF. A transflective liquid crystal display panel 50 is configured.

特開2002−14363号公報JP 2002-14363 A 特開2002−244158号公報JP 2002-244158 A 特開2003−344837号公報JP 2003-344837 A 特開2006−337625号公報JP 2006-337625 A

ところで、反射領域RAを用いて表示を行う場合、その表示方法は外光を一旦パネル内に入射させた後、反射板60で反射して表示面から出射することで画像を表示する。したがって、外光は液晶70が封入された層内を2度通過することになる。このため、上記従来技術に示す半透過型液晶表示パネル50においては、透過領域TAを用いて表示を行う場合と、反射領域RAを用いて表示を行う場合との間で生ずる位相差を調整するために位相差層71が形成されている。   By the way, when displaying using the reflection area RA, the display method is to display the image by causing the external light to enter the panel once, then reflecting by the reflecting plate 60 and exiting from the display surface. Therefore, external light passes through the layer in which the liquid crystal 70 is sealed twice. Therefore, in the transflective liquid crystal display panel 50 shown in the above prior art, the phase difference generated between the case where the display is performed using the transmission area TA and the case where the display is performed using the reflection area RA is adjusted. Therefore, a retardation layer 71 is formed.

詳しくは、透過領域TAの液晶70のリタデーション(位相差)が1/2波長に設定された状態で、反射領域RAの液晶70のリタデーションが1/4波長となるように位相差層71の肉厚が調整されている。なお、位相差層71のリタデーションは1/2波長である。このようにすると、透過領域TAを通過する光と反射領域RAに入射し出射する外光との間でリタデーションが均一(=1/2波長)となり、表示を行うとき透過領域TA及び反射領域RAのいずれを用いた場合であっても表示特性の良好な表示を行うことが可能となる。   Specifically, in the state where the retardation (phase difference) of the liquid crystal 70 in the transmission region TA is set to ½ wavelength, the thickness of the retardation layer 71 is set so that the retardation of the liquid crystal 70 in the reflection region RA becomes ¼ wavelength. The thickness is adjusted. The retardation of the retardation layer 71 is ½ wavelength. In this way, the retardation is uniform (= 1/2 wavelength) between the light passing through the transmissive area TA and the external light entering and exiting the reflective area RA, and the transmissive area TA and the reflective area RA are displayed when displaying. Whichever is used, it is possible to perform display with good display characteristics.

しかしながら、上述の半透過型液晶表示パネル50の位相差層71は、通常フォトリソグラフィー法等を用いて成膜されている。したがって、その側端面71aは、パターニング工程における形成精度の影響を受け、形成面に対して必ずしも垂直とならず、僅かに傾斜したテーパ状になる(図15参照)。このように位相差層71の側端面71aがテーパ状となると、この側端面71a部分の肉厚が変化することにより、当該部分の位相差値が変化して、所望の位相差値が得られず、その結果、透過領域TAと反射領域RAとの境界付近で光漏れが生じ、表示特性が低下するという課題があった。なお、このような表示特性の低下は、横方向電界モード以外の縦方向電界モードでも同様に発生する。   However, the retardation layer 71 of the above-described transflective liquid crystal display panel 50 is usually formed using a photolithography method or the like. Therefore, the side end surface 71a is affected by the formation accuracy in the patterning step, and is not necessarily perpendicular to the formation surface, but has a slightly inclined taper shape (see FIG. 15). When the side end surface 71a of the phase difference layer 71 is tapered in this way, the thickness of the side end surface 71a changes, and the phase difference value of the portion changes, and a desired phase difference value is obtained. As a result, there is a problem in that light leakage occurs near the boundary between the transmission area TA and the reflection area RA, and the display characteristics deteriorate. It should be noted that such a decrease in display characteristics similarly occurs in the vertical electric field mode other than the horizontal electric field mode.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例の半透過型液晶表示パネルは、互いに液晶層を介して対向配置された第1基板及び第2基板を有し、1画素内に透過領域と反射領域とを有する半透過型液晶表示パネルであって、前記第1基板は、複数の画素領域を有し、前記第2基板は、前記画素領域毎に配置された複数色のカラーフィルタ層と、前記反射領域に対応して前記液晶層側に形成された位相差層と、前記位相差層の側端部と平面視で重なる領域に設けられた光透過率を低下させる部材と、を備えたことを特徴とする。   Application Example 1 A transflective liquid crystal display panel according to this application example includes a first substrate and a second substrate that are disposed to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and includes a transmission region and a reflection region in one pixel. In the transflective liquid crystal display panel, the first substrate has a plurality of pixel regions, and the second substrate has a plurality of color filter layers arranged for each of the pixel regions, and a reflection region. Correspondingly, comprising: a retardation layer formed on the liquid crystal layer side; and a member for reducing light transmittance provided in a region overlapping the side edge of the retardation layer in plan view. To do.

位相差層の側端部は、肉厚の制御が難しい。したがって、当該側端部におけるリタデーション(位相差)の調節は困難である。この構成によれば、第2基板において、位相差層の側端部と平面視で重なる領域に光透過率を低下させる部材が設けられている。したがって、リタデーションがねらいの値から外れることによる光漏れなどの表示不具合が光透過率を低下させる部材によって目立ち難くなる。言い換えれば、リタデーションの変動に起因する表示不具合が目立ち難い半透過型液晶表示パネルを提供することができる。   It is difficult to control the thickness of the side edge of the retardation layer. Therefore, it is difficult to adjust the retardation (phase difference) at the side end. According to this configuration, in the second substrate, the member that reduces the light transmittance is provided in a region that overlaps the side edge of the retardation layer in plan view. Therefore, display defects such as light leakage due to the retardation being deviated from the target value are less noticeable by the member that reduces the light transmittance. In other words, it is possible to provide a transflective liquid crystal display panel in which display defects due to retardation fluctuations are not noticeable.

[適用例2]上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記光透過率を低下させる部材は、前記カラーフィルタ層のうち、視感度が最も高い色光を透過するカラーフィルタ層以外のカラーフィルタ層を構成する部材からなることが好ましい。
この構成によれば、新たな部材構成を必要とせず、複数色のカラーフィルタ層の構成を生かして光透過率を低下させる部材を設けることができる。
Application Example 2 In the transflective liquid crystal display panel according to the application example, the member that reduces the light transmittance is a color filter other than the color filter layer that transmits the color light having the highest visibility among the color filter layers. It is preferable to consist of the member which comprises a layer.
According to this configuration, it is possible to provide a member that reduces the light transmittance by making use of the configuration of the color filter layers of a plurality of colors without requiring a new member configuration.

[適用例3]上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記視感度が最も高い色光を透過するカラーフィルタ層が形成された画素領域の前記位相差層の側端部と平面視で重なる領域には、該カラーフィルタ層に重畳させて他のカラーフィルタ層を構成する部材が形成されているとしてもよい。
この構成によれば、視感度が最も高い色光を透過するカラーフィルタ層に他の色のカラーフィルタ層を重畳させることにより、光透過率を低下させる部材を構成する。すなわち、表示特性の低下が最も目立ち易い視感度が最も高い色光を透過するカラーフィルタ層を有する画素領域において、リタデーションの調節が困難な位相差層の側端部に対応して光透過率を低下させる部材を配置することにより、表示特性の低下を抑制することができる。言い換えれば、より簡素な構成で見映えのよい半透過型液晶表示パネルを提供することができる。
Application Example 3 In the transflective liquid crystal display panel according to the application example described above, it overlaps in plan view with a side end portion of the retardation layer in a pixel region in which a color filter layer that transmits the color light having the highest visibility is formed. In the region, a member constituting another color filter layer may be formed so as to overlap the color filter layer.
According to this configuration, the member that reduces the light transmittance is configured by superimposing the color filter layer of another color on the color filter layer that transmits the color light having the highest visibility. In other words, in a pixel region having a color filter layer that transmits the color light with the highest visibility, where the deterioration of display characteristics is most noticeable, the light transmittance is reduced corresponding to the side edge of the retardation layer where retardation is difficult to adjust. By disposing the member to be used, it is possible to suppress the deterioration of display characteristics. In other words, it is possible to provide a transflective liquid crystal display panel with a simpler structure and better appearance.

[適用例4]上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記第2基板は、さらに前記画素領域を平面視で規定する遮光層を備え、前記光透過率を低下させる部材は、前記遮光層を構成する部材からなることを特徴とする。
この構成によれば、位相差層の側端部において発生する光漏れなどが、遮光層により完全に遮光されることになるので、リタデーションの調節の困難なことに起因する表示不具合はほぼ見えなくなり、表示特性の低下をほぼ完全に抑えることが可能となる。
Application Example 4 In the transflective liquid crystal display panel according to the application example, the second substrate further includes a light shielding layer that defines the pixel region in plan view, and the member that reduces the light transmittance is the light shielding material. It consists of the member which comprises a layer, It is characterized by the above-mentioned.
According to this configuration, light leakage generated at the side edge portion of the retardation layer is completely shielded by the light shielding layer, so that display defects due to difficulty in adjusting the retardation are almost invisible. Thus, it is possible to almost completely suppress the deterioration of display characteristics.

[適用例5]上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記カラーフィルタ層は、1つの前記画素領域の前記透過領域に形成される透過領域側カラーフィルタ層と、前記反射領域に形成される前記透過領域側カラーフィルタ層と同一の色成分で且つ該透過領域側カラーフィルタ層に比してその色濃度が薄い反射領域側カラーフィルタ層と、からなり、前記光透過率を低下させる部材は、前記透過領域側カラーフィルタ層と前記反射領域側カラーフィルタ層とが重畳された部材からなるとしてもよい。
この構成によれば、第2基板の反射領域に透過領域に比べて色濃度が薄いカラーフィルタ層を配することにより、明るい反射表示が得られると共に、位相差層の側端部におけるリタデーションの調節の困難なことに起因する表示特性の低下を抑えた半透過型液晶表示パネルを提供することができる。
Application Example 5 In the transflective liquid crystal display panel of the above application example, the color filter layer is formed in a transmissive region side color filter layer formed in the transmissive region of one pixel region and in the reflective region. A reflection region side color filter layer having the same color component as the transmission region side color filter layer and having a light color density lower than that of the transmission region side color filter layer, and reducing the light transmittance May be formed of a member in which the transmission region side color filter layer and the reflection region side color filter layer are superimposed.
According to this configuration, a bright reflective display can be obtained by arranging a color filter layer having a lighter color density than the transmissive region in the reflective region of the second substrate, and the retardation can be adjusted at the side edge of the retardation layer. It is possible to provide a transflective liquid crystal display panel in which the deterioration of display characteristics due to the difficulty of the above is suppressed.

[適用例6]上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記透過領域における前記液晶層の厚みをL1とし、前記反射領域における前記液晶層の厚みをL2としたとき、下記の関係となるように前記位相差層の肉厚が設定されていることが好ましい。
L2=(1/2)L1
この構成によれば、液晶層の厚みを位相差層により調節し、反射領域の液晶層の厚みL2が透過領域の液晶層の厚みL1の1/2となるように調整したので、他の構成、例えば液晶層の厚みを調整するための透明樹脂層等を形成する必要がなくなる。また、透過領域を通過する光と反射領域に入射し再び反射して出射する外光とが同じ距離の液晶層を通過することになるので、透過領域と反射領域との間でリタデーションが均一となり、透過領域及び反射領域のいずれを用いた表示の場合にも良好な表示特性での表示を行うことが可能となる。
Application Example 6 In the transflective liquid crystal display panel of the above application example, when the thickness of the liquid crystal layer in the transmission region is L1, and the thickness of the liquid crystal layer in the reflection region is L2, the following relationship is established. Thus, it is preferable that the thickness of the retardation layer is set.
L2 = (1/2) L1
According to this configuration, the thickness of the liquid crystal layer is adjusted by the retardation layer, and the thickness L2 of the liquid crystal layer in the reflective region is adjusted to be ½ of the thickness L1 of the liquid crystal layer in the transmissive region. For example, it is not necessary to form a transparent resin layer or the like for adjusting the thickness of the liquid crystal layer. In addition, since the light passing through the transmission region and the external light incident on the reflection region and reflected and emitted again pass through the liquid crystal layer at the same distance, the retardation is uniform between the transmission region and the reflection region. In the case of display using any of the transmission region and the reflection region, it is possible to perform display with good display characteristics.

[適用例7]上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記第1基板は、前記画素領域毎に前記透過領域と前記反射領域とに亘って形成された第1電極及び第2電極を備え、前記第1電極と前記第2電極との間に生ずる横方向電界により前記液晶層が駆動されるとしてもよい。
この構成によれば、液晶層が横方向電界方式により駆動されるため、透過領域及び反射領域のいずれを用いた表示の場合にも良好な表示品質と広い視野角特性とを有する半透過型液晶表示パネルを提供することができる。
Application Example 7 In the transflective liquid crystal display panel according to the application example, the first substrate includes a first electrode and a second electrode formed over the transmission region and the reflection region for each pixel region. And the liquid crystal layer may be driven by a lateral electric field generated between the first electrode and the second electrode.
According to this configuration, since the liquid crystal layer is driven by a lateral electric field method, a transflective liquid crystal having good display quality and a wide viewing angle characteristic in the case of display using any of the transmissive region and the reflective region. A display panel can be provided.

[適用例8]本適用例の電子機器は、上記適用例の半透過型液晶表示パネルを備えたことを特徴とする。   Application Example 8 An electronic apparatus according to this application example includes the transflective liquid crystal display panel according to the application example described above.

この構成によれば、上記適用例の半透過型液晶表示パネルを備えることにより、透過表示と反射表示の双方において良好な表示を行うことが可能な電子機器を提供することができる。このような電子機器としては、屋外での使用が想定される携帯型電話機などの小型情報端末機器が挙げられる。   According to this configuration, by providing the transflective liquid crystal display panel according to the application example described above, it is possible to provide an electronic device capable of performing good display in both transmissive display and reflective display. Examples of such an electronic device include a small information terminal device such as a mobile phone that is assumed to be used outdoors.

以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための半透過型液晶表示パネル及び電子機器として、FFS型の半透過型液晶表示パネルを例示するものであって、本発明をこのFFS型の半透過型液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のもの、他の横方向電界モード(例えばIPS型)及び縦方向電界モードの半透過型液晶表示パネルにも等しく適応し得るものである。   Hereinafter, the best embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the embodiment described below exemplifies an FFS transflective liquid crystal display panel as a transflective liquid crystal display panel and an electronic apparatus for embodying the technical idea of the present invention. Is not intended to be specified as the FFS type transflective liquid crystal display panel, but other embodiments included in the scope of claims, other lateral electric field modes (for example, IPS type) and longitudinal direction The present invention can be equally applied to an electric field mode transflective liquid crystal display panel.

図1は実施例1に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す3画素分の平面図である。図2は図1のII−II線で切断した断面図である。図3は実施例1の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図である。図4は実施例2に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図である。図5は実施例2の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図である。図6は実施例3に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図である。図7は実施例3の半透過型液晶表示パネルの遮光層の状態を示す平面図である。図8は実施例4に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図である。図9は実施例4の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図である。図10は変形例に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図である。図11は実施例5に係る縦方向電界モードの半透過型液晶表示パネルの画素領域を示す平面図である。図12(a)は図11のIII−III線で切った断面図、同図(b)は図11のIV−IV線で切った断面図である。図13(a)は電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す図であり、同図(b)は同じく電子機器としての携帯型電話機を示す図である。なお、図3、図5、図7及び図9においては、アレイ基板ARに形成された各種配線のうち、走査線12及び信号線17のみを図示し、他の配線等は図示を簡略化するため省略している。   FIG. 1 is a plan view of three pixels shown through the color filter substrate of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the first embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. FIG. 3 is a plan view showing the state of the color filter layer of the transflective liquid crystal display panel of Example 1. FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the second embodiment. FIG. 5 is a plan view showing a state of the color filter layer of the transflective liquid crystal display panel according to the second embodiment. FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the third embodiment. FIG. 7 is a plan view showing a state of the light shielding layer of the transflective liquid crystal display panel of Example 3. FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the fourth embodiment. FIG. 9 is a plan view showing the state of the color filter layer of the transflective liquid crystal display panel of Example 4. FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 of an FFS type transflective liquid crystal display panel according to a modification. FIG. 11 is a plan view illustrating a pixel region of a longitudinal electric field mode transflective liquid crystal display panel according to the fifth embodiment. 12A is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 11, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. FIG. 13A is a diagram showing a personal computer as an electronic device, and FIG. 13B is a diagram showing a portable telephone as the electronic device. 3, 5, 7, and 9, only the scanning lines 12 and the signal lines 17 are illustrated among various wirings formed on the array substrate AR, and the other wirings are simplified in illustration. Therefore, it is omitted.

実施例1のFFS型の半透過型液晶表示パネル10Aの構成を図1及び図2を用いて説明する。図1及び図2に示すように、実施例1のFFS型の半透過型液晶表示パネル10Aの第1基板としてのアレイ基板ARは、ガラス基板等からなる透明基板11の表面に例えばMo/Alの2層配線からなる複数の走査線12が互いに平行になるように形成されている。またこの走査線12に沿うように走査線12と同一の材料からなるコモン配線13が形成されている。   The configuration of the FFS-type transflective liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 1 and 2, the array substrate AR as the first substrate of the FFS type transflective liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment is formed on, for example, Mo / Al on the surface of a transparent substrate 11 made of a glass substrate or the like. A plurality of scanning lines 12 composed of the two-layer wiring are formed so as to be parallel to each other. A common wiring 13 made of the same material as the scanning line 12 is formed along the scanning line 12.

次に、後述する反射領域RAに該当する領域にアルミニウム又はアルミニウム合金からなる反射板Rを形成する。この反射板Rは表面が凹凸形状となっているものであるが、図2では簡略化して平坦に示されている。そして、走査線12及びコモン配線13で囲まれたそれぞれの領域(画素領域)に例えばITOやIZO等の成膜後に透明な導電性材料からなる第1電極としての下電極14が形成されている。この下電極14は、コモン配線13及び反射板Rに重畳配置され、コモン配線13とは電気的に接続されているが、走査線12ないしゲート電極Gとは接続されておらず、共通電極として作用する。   Next, a reflector R made of aluminum or an aluminum alloy is formed in a region corresponding to a reflective region RA described later. The reflecting plate R has an uneven surface, but is simplified and flat in FIG. A lower electrode 14 is formed in each region (pixel region) surrounded by the scanning line 12 and the common wiring 13 as a first electrode made of a transparent conductive material after film formation of, for example, ITO or IZO. . The lower electrode 14 is disposed so as to overlap the common wiring 13 and the reflector R, and is electrically connected to the common wiring 13, but is not connected to the scanning line 12 or the gate electrode G, and serves as a common electrode. Works.

また、この走査線12、コモン配線13、反射板R及び下電極14が形成された透明基板11の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜15が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜15の表面のTFT形成領域には例えばアモルファスシリコン(以下「a−Si」という。)層からなる半導体層16が形成されている。この半導体層16が形成されている位置の走査線12の領域がTFTのゲート電極Gを形成する。   A gate insulating film 15 made of a transparent insulating material such as silicon nitride or silicon oxide is coated over the entire surface of the transparent substrate 11 on which the scanning lines 12, the common wirings 13, the reflector R, and the lower electrode 14 are formed. ing. Further, a semiconductor layer 16 made of, for example, an amorphous silicon (hereinafter referred to as “a-Si”) layer is formed in the TFT formation region on the surface of the gate insulating film 15. The region of the scanning line 12 at the position where the semiconductor layer 16 is formed forms the gate electrode G of the TFT.

また、ゲート絶縁膜15の表面には、例えばMo/Al/Moの3層構造の導電性層からなるソース電極Sを含む信号線17及びドレイン電極Dが形成されている。この信号線17のソース電極S部分及びドレイン電極D部分は、いずれも半導体層16の表面に部分的に重なっている。さらに、この基板の表面全体に窒化ケイ素又は酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなる保護絶縁膜(パッシベーション膜ともいう)18が被覆されており、ドレイン電極Dに対応する位置の保護絶縁膜18にはコンタクトホール19が形成されている。   Further, on the surface of the gate insulating film 15, a signal line 17 and a drain electrode D including a source electrode S made of a conductive layer having a three-layer structure of, for example, Mo / Al / Mo are formed. Both the source electrode S portion and the drain electrode D portion of the signal line 17 partially overlap the surface of the semiconductor layer 16. Further, the entire surface of the substrate is covered with a protective insulating film (also referred to as a passivation film) 18 made of a transparent insulating material such as silicon nitride or silicon oxide, and the protective insulating film 18 at a position corresponding to the drain electrode D is covered with the protective insulating film 18. A contact hole 19 is formed.

そして、図1に示したパターンとなるように、走査線12及び信号線17で囲まれた領域(以下、画素領域という。)の保護絶縁膜18上に透明導電性材料、例えばITOないしIZOからなる第2電極としての上電極21が形成されている。この上電極21は、複数のスリット20を有すると共に、コンタクトホール19を介してドレイン電極Dと電気的に接続されている。そのため、この上電極21は画素電極として作用する。さらに、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜35が形成されている。   A transparent conductive material such as ITO or IZO is formed on the protective insulating film 18 in a region (hereinafter referred to as a pixel region) surrounded by the scanning lines 12 and the signal lines 17 so that the pattern shown in FIG. An upper electrode 21 is formed as a second electrode. The upper electrode 21 has a plurality of slits 20 and is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 19. For this reason, the upper electrode 21 functions as a pixel electrode. Furthermore, a predetermined alignment film 35 is formed over the entire surface of the substrate.

スリット20を有する上電極21は、好ましくは画素領域毎に平面視でくし歯状となるよう、スリット20の信号線17側の一端が開放端20aとなっていると共に他端が閉鎖端20bとなっている。これにより、開放端20a側の開口度が向上し、より明るい表示を行うことができるようになっている。なお、本実施例1ではスリット20の一端を開放端20aとしたものを示したが、両端を閉鎖した形状としてもよい。   The upper electrode 21 having the slits 20 preferably has an open end 20a at one end on the signal line 17 side of the slit 20 and a closed end 20b so that the upper electrode 21 has a comb shape in plan view for each pixel region. It has become. Thereby, the opening degree on the open end 20a side is improved, and brighter display can be performed. In the first embodiment, one end of the slit 20 is shown as the open end 20a. However, the both ends may be closed.

また、第2基板としてのカラーフィルタ基板CFは、ガラス基板等からなる透明基板25の表面にアレイ基板ARの走査線12、信号線17及びTFTに対応する位置を被覆するように遮光層26が形成されている。さらに、遮光層26で囲まれた透明基板25の表面には、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の複数色(3色)からなるカラーフィルタ層27R,27G,27B(図3参照)が形成され、さらに遮光層26及びカラーフィルタ層27R,27G,27Bの表面を被覆するように透明な樹脂等からなる平坦化膜28が形成されている。また、平坦化膜28を覆うように配向膜31が形成されている。配向膜31には、後述する位相差層29の遅相軸の方向を規定する配向処理が施されている。この基板表面(配向膜31の表面)のうち反射領域RAとなる位置には位相差層29が形成されている。
位相差層29は、例えば、重合性液晶化合物からなり、モノマーやポリマーなどの液晶化合物を塗布して加熱したり、紫外線などを照射することにより重合させてパターン形成される。この重合の際に、配向膜31に施された配向処理によって遅相軸の方向が決まる。
液晶層30を通過する光の基準波長λを550nmとするとき、この位相差層29はリタデーション(位相差)が、例えば1/2λとなるように設定されている。そして、この基板の表面全体に亘り配向膜32が形成されている。配向膜32には、液晶層30の液晶分子を所定の方向に配向させる配向処理が施されている。なお、位相差層29の肉厚を調整することにより、透過領域TAの液晶層30の厚みL1と反射領域RAの液晶層30の厚みL2とが、以下の式(1)に示す関係となっている。下記式(1)に示すような関係とすることにより、透過領域TAのリタデーションを1/2λとしたとき、反射領域RAのリタデーションは1/4λとなる。したがって、透過領域TAと反射領域RAとにおいて液晶層30を通過する光の距離が均一になることにより、最適な表示品質での表示が行えるようになる。
L2=(1/2)L1 ・・・(1)
The color filter substrate CF as the second substrate has a light shielding layer 26 on the surface of the transparent substrate 25 made of a glass substrate or the like so as to cover the positions corresponding to the scanning lines 12, the signal lines 17 and the TFTs of the array substrate AR. Is formed. Furthermore, on the surface of the transparent substrate 25 surrounded by the light shielding layer 26, for example, color filter layers 27R, 27G, and 27B (a plurality of colors (three colors) of R (red), G (green), and B (blue)) are provided. Further, a planarizing film 28 made of a transparent resin or the like is formed so as to cover the surfaces of the light shielding layer 26 and the color filter layers 27R, 27G, and 27B. An alignment film 31 is formed so as to cover the planarizing film 28. The alignment film 31 is subjected to an alignment process for defining the direction of the slow axis of the retardation layer 29 described later. A retardation layer 29 is formed on the substrate surface (the surface of the alignment film 31) at a position to be the reflection region RA.
The retardation layer 29 is made of, for example, a polymerizable liquid crystal compound, and is patterned by applying a liquid crystal compound such as a monomer or a polymer and heating it or by irradiating ultraviolet rays or the like. During the polymerization, the direction of the slow axis is determined by the alignment treatment performed on the alignment film 31.
When the reference wavelength λ of light passing through the liquid crystal layer 30 is set to 550 nm, the retardation layer 29 is set so that the retardation (phase difference) is, for example, ½λ. An alignment film 32 is formed over the entire surface of the substrate. The alignment film 32 is subjected to an alignment process for aligning the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 30 in a predetermined direction. In addition, by adjusting the thickness of the retardation layer 29, the thickness L1 of the liquid crystal layer 30 in the transmission region TA and the thickness L2 of the liquid crystal layer 30 in the reflection region RA have a relationship represented by the following formula (1). ing. By setting the relationship as shown in the following formula (1), when the retardation of the transmission area TA is 1 / 2λ, the retardation of the reflection area RA is 1 / 4λ. Therefore, the distance of the light passing through the liquid crystal layer 30 is uniform in the transmissive area TA and the reflective area RA, so that display with optimum display quality can be performed.
L2 = (1/2) L1 (1)

最後に、アレイ基板ARの上電極21とカラーフィルタ基板CFのカラーフィルタ層27R,27G,27Bが互いに対向するようにアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CFを対向させ、その間に液晶を封入することにより実施例1のFFS型の半透過型液晶表示パネル10Aが得られる。なお、両透明基板11,25の外側に位置する面には偏光板41が設けられている。
このような実施例1の半透過型液晶表示パネル10Aは、アレイ基板ARにおいてゲート絶縁膜15と保護絶縁膜18とを介して重畳された下電極14と上電極21とを備え、下電極14と上電極21との間に生ずる横方向電界により液晶層30が駆動される。
Finally, the array substrate AR and the color filter substrate CF are opposed so that the upper electrode 21 of the array substrate AR and the color filter layers 27R, 27G, and 27B of the color filter substrate CF are opposed to each other, and liquid crystal is sealed therebetween. The FFS transflective liquid crystal display panel 10A of Example 1 is obtained. A polarizing plate 41 is provided on the surface located outside the transparent substrates 11 and 25.
The transflective liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment includes the lower electrode 14 and the upper electrode 21 that are superimposed on the array substrate AR via the gate insulating film 15 and the protective insulating film 18, and the lower electrode 14 The liquid crystal layer 30 is driven by a lateral electric field generated between the upper electrode 21 and the upper electrode 21.

ところで、本実施例1の半透過型液晶表示パネル10Aのように反射領域RA上に位相差層29を形成すると、この位相差層29の側端部のうち画素領域内に位置する部分、すなわち透過領域TAと反射領域RAとの境界領域BAに位置する側端部29aではリタデーションの調節ができず、この部分が表示画面に表示されることでこの半透過型液晶表示パネル10Aの表示特性が低下してしまう。そこで、本実施例1の半透過型液晶表示パネル10Aにおいては、カラーフィルタ基板CF側にこの表示特性の低下を防止した構造を採用している。   By the way, when the retardation layer 29 is formed on the reflection region RA as in the transflective liquid crystal display panel 10A of the first embodiment, the portion located in the pixel region among the side edges of the retardation layer 29, that is, The retardation cannot be adjusted at the side end portion 29a located in the boundary area BA between the transmissive area TA and the reflective area RA, and this portion is displayed on the display screen, whereby the display characteristics of the transflective liquid crystal display panel 10A are improved. It will decline. Therefore, the transflective liquid crystal display panel 10A of the first embodiment employs a structure that prevents this deterioration of display characteristics on the color filter substrate CF side.

ここで、上記カラーフィルタ基板CFの具体的な構成について、特に図2及び図3を参照して説明する。また、図3においては、複数色のカラーフィルタ層27R,27G,27Bの状態が見やすいように、これらのカラーフィルタ層27R,27G,27Bのそれぞれに異なるハッチングを施して示している。
ここで述べる境界領域BAは位相差層29の側端部29aに沿って延在する帯状の領域である。その幅は、位相差層29の側端部29aのテーパ(傾斜)角と、カラーフィルタ基板CFにおける位相差層29の形成位置精度と、カラーフィルタ基板CFとアレイ基板ARとの接合位置精度とに基づいて適宜設定されるものである。言い換えれば、位相差層29の側端部29aが透過領域TAまたは反射領域RAと平面視で重なる可能性がある領域が境界領域BAである。透過領域TAと反射領域RAの境界は、アレイ基板ARに設けられた反射板Rの一方の端部によって規定される。したがって、設計上、反射板Rの一方の端部を中心とし、相対する位相差層29の側端部29aの上記位置精度を鑑みて均等に割り振られた範囲を境界領域BAとする。
なお、位相差層29のもう一方の側端部29bは、画素領域を区画して遮光する遮光層26が設けられた領域に平面視で重なるように位置している。
Here, a specific configuration of the color filter substrate CF will be described with reference to FIGS. 2 and 3 in particular. Further, in FIG. 3, the color filter layers 27R, 27G, and 27B are shown with different hatching so that the states of the color filter layers 27R, 27G, and 27B of a plurality of colors are easy to see.
The boundary area BA described here is a band-shaped area extending along the side end portion 29 a of the retardation layer 29. The width includes the taper (inclination) angle of the side end portion 29a of the retardation layer 29, the formation position accuracy of the retardation layer 29 in the color filter substrate CF, and the bonding position accuracy between the color filter substrate CF and the array substrate AR. Is set as appropriate based on the above. In other words, the boundary area BA is an area where the side end portion 29a of the retardation layer 29 may overlap the transmission area TA or the reflection area RA in plan view. The boundary between the transmission area TA and the reflection area RA is defined by one end of the reflection plate R provided on the array substrate AR. Therefore, by design, the boundary area BA is defined as a range that is uniformly allocated in consideration of the positional accuracy of the side end portion 29a of the opposite retardation layer 29 with the one end portion of the reflecting plate R as the center.
Note that the other side end 29b of the retardation layer 29 is positioned so as to overlap with a region where the light shielding layer 26 that partitions and blocks the pixel region is provided in plan view.

カラーフィルタ基板CFに形成されるR(赤)、G(緑)、B(青)の3色からなるカラーフィルタ層27R,27G,27Bは、信号線17に沿って形成された複数の画素領域が全て同一の色表示を行うようにストライプ配置で形成されている。そして、このR(赤)、G(緑)、B(青)の3色からなるカラーフィルタ層27R,27G,27Bのうち、光透過率の最も低い色、つまり視感度が最も低い色光を透過するカラーフィルタ層はB(青)のカラーフィルタ層27Bである。そこで、本実施例1の半透過型液晶表示パネル10Aにおいては、図2及び図3に示すように、B(青)のカラーフィルタ層27B以外のカラーフィルタ層、すなわちR(赤)のカラーフィルタ層27R及びG(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成される画素領域内の位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA部分)にはR(赤)のカラーフィルタ層27R及びG(緑)のカラーフィルタ層27Gは形成されていない。この代わりに、後に形成される位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)に、位相差層29の側端部29aに沿うように、B(青)のカラーフィルタ層27Bが形成されている。   The color filter layers 27R, 27G, and 27B composed of three colors of R (red), G (green), and B (blue) formed on the color filter substrate CF are a plurality of pixel regions formed along the signal line 17. Are formed in a stripe arrangement so that they all display the same color. Of the three color filter layers 27R, 27G, and 27B of R (red), G (green), and B (blue), the color with the lowest light transmittance, that is, the color light with the lowest visibility is transmitted. The color filter layer to be performed is the B (blue) color filter layer 27B. Therefore, in the transflective liquid crystal display panel 10A of the first embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, a color filter layer other than the B (blue) color filter layer 27B, that is, an R (red) color filter. An R (red) color filter is formed in a region (boundary region BA portion) overlapping in plan view with the side end portion 29a of the retardation layer 29 in the pixel region where the layer 27R and the G (green) color filter layer 27G are formed. The layer 27R and the G (green) color filter layer 27G are not formed. Instead, the color of B (blue) is aligned with the side end portion 29a of the retardation layer 29 along the side end portion 29a of the retardation layer 29 (boundary region BA) overlapping the side end portion 29a of the retardation layer 29 to be formed later in plan view. A filter layer 27B is formed.

複数色のカラーフィルタ層27R,27G,27Bをこのような構成とする場合には、この複数色のカラーフィルタ層27R,27G,27Bを露光形成する際に用いるマスクパターンを変更するだけで簡単に形成することが可能である。また、この露光形成において、先ず好ましくはR(赤)のカラーフィルタ層27R及びG(緑)のカラーフィルタ層27Gを対応する画素領域に沿って形成し、次いでB(青)のカラーフィルタ層27Bを対応する画素領域と境界領域BAとを同時に形成すると、製造工程を増加させることなく簡単に形成することが可能となる。また、B(青)のカラーフィルタ層27Bの境界領域BAに対応する位置に形成される部分において、その長手方向に延在する両側部は、他の色、すなわちR(赤)あるいはG(緑)のカラーフィルタ層27R,27Gに重畳するように設けられている。このように形成すれば、境界領域BA内にカラーフィルタ層が形成されていない領域が存在する恐れがなくなる。   When the multi-color filter layers 27R, 27G, and 27B have such a configuration, it is easy to change the mask pattern used when the multi-color filter layers 27R, 27G, and 27B are formed by exposure. It is possible to form. In this exposure formation, first, preferably an R (red) color filter layer 27R and a G (green) color filter layer 27G are formed along corresponding pixel regions, and then a B (blue) color filter layer 27B. Can be formed easily without increasing the number of manufacturing steps. Further, in the portion formed at the position corresponding to the boundary area BA of the B (blue) color filter layer 27B, both sides extending in the longitudinal direction have other colors, that is, R (red) or G (green). ) Color filter layers 27R and 27G. If formed in this way, there is no possibility that a region where the color filter layer is not formed exists in the boundary region BA.

上述のような構成とすることにより、本実施例1の半透過型液晶表示パネル10Aにおける全ての画素領域の位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)には、最も視感度の低いB(青)のカラーフィルタ層27Bが形成されることになる。すなわち、本実施例1では、光透過率を低下させる部材として、B(青)のカラーフィルタ層27Bを構成する部材を使用している。したがって、この位相差層29のテーパ状の側端部29aによりリタデーションのズレが発生したとしても、この部分の表示は視認し難く、表示特性が著しく低下することがなくなる。
なお、G(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成された画素領域においては、境界領域BAに形成されるカラーフィルタ層は、B(青)に限定されず、R(赤)でも相応の効果を奏する。
With the above-described configuration, in the transflective liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment, the region (boundary region BA) that overlaps the side end portion 29a of the retardation layer 29 in the entire pixel region in plan view. Thus, the B (blue) color filter layer 27B having the lowest visibility is formed. That is, in the first embodiment, a member constituting the B (blue) color filter layer 27B is used as a member for reducing the light transmittance. Therefore, even if retardation shift occurs due to the tapered side end portion 29a of the retardation layer 29, the display of this portion is difficult to visually recognize, and the display characteristics are not significantly deteriorated.
In the pixel area where the G (green) color filter layer 27G is formed, the color filter layer formed in the boundary area BA is not limited to B (blue), and R (red) has a corresponding effect. Play.

上記実施例1に示す半透過型液晶表示パネル10Aにおいては、R(赤)及びG(緑)のカラーフィルタ層27R,27Gが形成される画素電極の境界領域BAにB(青)のカラーフィルタ層27Bのみを形成したものについて説明したが、この構成に限定されるものではない。そこで、以下にはこの境界領域BAに形成されるカラーフィルタ層の構造を変更した半透過型液晶表示パネル10Bを実施例2として、図4及び図5を参照して説明する。なお、実施例2の半透過型液晶表示パネル10Bは、アレイ基板ARの構成やカラーフィルタ基板CF1の一部の構成は上記実施例1に示したものと同様であるので、以下同様の構成のものには上記実施例1と同様の符号を付してその説明を省略し、異なる構成についてのみ説明を行うものとする。また、図5においては、複数色のカラーフィルタ層27R,27G,27Bの状態が見やすいように、これらのカラーフィルタ層27R,27G,27Bのそれぞれに異なるハッチングを施して示している。   In the transflective liquid crystal display panel 10A shown in the first embodiment, the B (blue) color filter is formed in the boundary area BA of the pixel electrode where the R (red) and G (green) color filter layers 27R and 27G are formed. Although what formed only the layer 27B was demonstrated, it is not limited to this structure. Accordingly, a transflective liquid crystal display panel 10B in which the structure of the color filter layer formed in the boundary area BA is changed will be described below as a second embodiment with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. The transflective liquid crystal display panel 10B according to the second embodiment is similar in configuration to the array substrate AR and part of the color filter substrate CF1 as shown in the first embodiment. The same reference numerals as those in the first embodiment are attached to the components, and the description thereof is omitted. Only different configurations will be described. Further, in FIG. 5, the color filter layers 27R, 27G, and 27B are shown with different hatching so that the states of the color filter layers 27R, 27G, and 27B of multiple colors are easy to see.

図4に示すように、実施例2の半透過型液晶表示パネル10Bのカラーフィルタ基板CF1は、外側の面に偏光板41が形成された透明基板25の内側の表面にアレイ基板ARの走査線12、信号線17及びTFTに対応する位置を被覆するように遮光層26が形成されている。また、図5に示すように対応する画素領域全体を覆うようにR(赤)及びG(緑)のカラーフィルタ層27R,27Gが形成されている。そして、対応する画素領域全体を覆うと共に、G(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成された画素領域内の境界領域BAを覆うようにB(青)のカラーフィルタ層27Bが形成されている。なお、本実施例2では、位相差層29の側端部29aが透過領域TAと反射領域RAとの境界領域BAと平面視で重なるように位置する。
このB(青)のカラーフィルタ層27Bのうち、G(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成された画素領域内の位相差層29の側端部29aに形成された部分は、対応するG(緑)のカラーフィルタ層27Gに重畳するように形成されている。なお、複数色のカラーフィルタ層27R,27G,27B上には平坦化膜28が形成されるので、カラーフィルタ層を重畳形成しても位相差層29や液晶層30のリタデーション等に悪影響を与える恐れはない。
As shown in FIG. 4, the color filter substrate CF1 of the transflective liquid crystal display panel 10B of Example 2 has a scanning line of the array substrate AR on the inner surface of the transparent substrate 25 having the polarizing plate 41 formed on the outer surface. 12, a light shielding layer 26 is formed so as to cover positions corresponding to the signal lines 17 and the TFTs. Further, as shown in FIG. 5, R (red) and G (green) color filter layers 27R and 27G are formed so as to cover the entire corresponding pixel region. A B (blue) color filter layer 27B is formed so as to cover the entire corresponding pixel area and to cover the boundary area BA in the pixel area where the G (green) color filter layer 27G is formed. In the second embodiment, the side end portion 29a of the retardation layer 29 is positioned so as to overlap with the boundary area BA between the transmission area TA and the reflection area RA in plan view.
Of the B (blue) color filter layer 27B, the portion formed at the side end 29a of the retardation layer 29 in the pixel region where the G (green) color filter layer 27G is formed corresponds to the corresponding G ( The green color filter layer 27G is formed so as to overlap. Since the planarizing film 28 is formed on the color filter layers 27R, 27G, and 27B of a plurality of colors, the retardation of the retardation layer 29 and the liquid crystal layer 30 is adversely affected even if the color filter layers are formed in an overlapping manner. There is no fear.

図4に示すように、平坦化膜28が形成された基板上には、遅相軸方向を規定する配向膜31を介して反射領域RAに対応する位置に位相差層29が形成され、最後に配向膜32で表面が被覆されることにより、カラーフィルタ基板CF1が完成する。そして、上記実施例1に示したものと同様に、アレイ基板ARの上電極21とカラーフィルタ基板CF1のカラーフィルタ層27R,27G,27Bが互いに対向するようにアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CF1を対向させ、その間に液晶を封入することで、本実施例2の半透過型液晶表示パネル10Bが完成する。   As shown in FIG. 4, a retardation layer 29 is formed on the substrate on which the planarizing film 28 is formed at a position corresponding to the reflective region RA via an alignment film 31 that defines the slow axis direction. The color filter substrate CF1 is completed by covering the surface with the alignment film 32. In the same manner as in the first embodiment, the array substrate AR and the color filter substrate CF1 are arranged so that the upper electrode 21 of the array substrate AR and the color filter layers 27R, 27G, and 27B of the color filter substrate CF1 face each other. The liquid crystal is sealed between them so as to complete the transflective liquid crystal display panel 10B of the second embodiment.

以上に説明したように、実施例2に係る半透過型液晶表示パネル10Bにおいては、G(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成された画素領域内の位相差層29の側端部29aに平面視で重なる領域(境界領域BA)にさらにB(青)のカラーフィルタ層27Bを重畳形成するため、このカラーフィルタ層27Bが重畳された領域の光透過率はさらに低下することになる。したがって、このカラーフィルタ層27Bが重畳された領域は極めて視感度の低い領域となり、この位相差層29の側端部29aにおけるリタデーションの調節ができないことに基づく表示特性の低下をさらになくすることができるようになる。すなわち、実施例2では、光透過率を低下させる部材として、G(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成された画素領域内の位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域に重畳させたB(青)のカラーフィルタ層27Bを構成する部材を使用している。
ちなみに、R(赤)のカラーフィルタ層27R及びB(青)のカラーフィルタ層27Bが形成された画素領域の位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)においては、G(緑)のカラーフィルタ層27Gが形成された画素領域の位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)のように異なる色のカラーフィルタ層が重畳配置されてはいない。しかし、R(赤)のカラーフィルタ層27R及びB(青)のカラーフィルタ層27Bはそもそもその視感度が低いため、カラーフィルタ層を重畳配置していなくても、この位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)の表示は見え難く、大きな問題にはならない。
As described above, in the transflective liquid crystal display panel 10B according to the second embodiment, a flat surface is formed on the side end portion 29a of the retardation layer 29 in the pixel region in which the G (green) color filter layer 27G is formed. Since the B (blue) color filter layer 27B is formed so as to overlap with the visually overlapping region (boundary region BA), the light transmittance of the region where the color filter layer 27B is superimposed further decreases. Therefore, the region where the color filter layer 27B is superimposed becomes a region with extremely low visibility, and the deterioration of display characteristics due to the fact that the retardation cannot be adjusted at the side end portion 29a of the retardation layer 29 can be further eliminated. become able to. That is, in the second embodiment, as a member for reducing the light transmittance, it is superimposed on a region overlapping with the side end portion 29a of the retardation layer 29 in the pixel region where the G (green) color filter layer 27G is formed in plan view. A member constituting the B (blue) color filter layer 27B is used.
Incidentally, in a region (boundary region BA) that overlaps the side end portion 29a of the phase difference layer 29 of the pixel region in which the R (red) color filter layer 27R and the B (blue) color filter layer 27B are formed in a plan view. A color filter layer of a different color is arranged in an overlapping manner such as a region (boundary region BA) that overlaps the side end portion 29a of the phase difference layer 29 of the pixel region where the G (green) color filter layer 27G is formed in plan view. Not. However, the R (red) color filter layer 27R and the B (blue) color filter layer 27B have low visibility in the first place. Therefore, even if the color filter layers are not superposed, the side edges of the retardation layer 29 are arranged. The display of the area (boundary area BA) that overlaps the portion 29a in plan view is difficult to see and does not cause a big problem.

次に、実施例3として、上述の境界領域BAを完全に遮光した半透過型液晶表示パネル10Cを図6及び図7を参照して説明する。なお、実施例3の半透過型液晶表示パネル10Cは、アレイ基板ARの構成やカラーフィルタ基板CF2の一部の構成は上記実施例1に示したものと同様であるので、以下同様の構成のものには上記実施例1と同様の符号を付してその説明を省略し、異なる構成についてのみ説明を行うものとする。また、図7においては、遮光層26の状態が見やすいようにこの遮光層26にハッチングを施して示している。   Next, as a third embodiment, a transflective liquid crystal display panel 10C in which the above-described boundary area BA is completely shielded will be described with reference to FIGS. The transflective liquid crystal display panel 10C according to the third embodiment has the same configuration as that of the first embodiment since the configuration of the array substrate AR and the configuration of a part of the color filter substrate CF2 are the same as those described in the first embodiment. The same reference numerals as those in the first embodiment are attached to the components, and the description thereof is omitted. Only different configurations will be described. In FIG. 7, the light shielding layer 26 is hatched so that the state of the light shielding layer 26 can be easily seen.

図6に示すように、実施例3の半透過型液晶表示パネル10Cのカラーフィルタ基板CF2は、外側の面に偏光板41が設けられた透明基板25の内側の表面に画素領域を平面視で規定するように遮光層26が形成されている。そして、この遮光層26は、図7に示すように、走査線12、信号線17及びTFTに対応する位置に加えて、位相差層29の側端部29aに対応する位置をも被覆するように形成されている。なお、実施例3では、位相差層29の側端部29aが透過領域TAと反射領域RAとの境界領域BAと、平面視で重なるように位置する。この境界領域BAに形成される遮光層26'は、画素領域を横断するように形成されており、その幅は、上記実施例1と同様に、位相差層29の側端部29aのテーパ角と、カラーフィルタ基板CF2における位相差層29の形成位置精度と、カラーフィルタ基板CF2とアレイ基板ARとの接合位置精度とに基づいて適宜設定されるものである。   As shown in FIG. 6, the color filter substrate CF2 of the transflective liquid crystal display panel 10C of Example 3 has a pixel region in a plan view on the inner surface of the transparent substrate 25 provided with the polarizing plate 41 on the outer surface. A light shielding layer 26 is formed as defined. As shown in FIG. 7, the light shielding layer 26 covers a position corresponding to the side end portion 29 a of the retardation layer 29 in addition to a position corresponding to the scanning line 12, the signal line 17, and the TFT. Is formed. In Example 3, the side end portion 29a of the retardation layer 29 is positioned so as to overlap with the boundary area BA between the transmission area TA and the reflection area RA in plan view. The light shielding layer 26 ′ formed in the boundary area BA is formed so as to cross the pixel area, and the width thereof is the taper angle of the side end portion 29 a of the retardation layer 29 as in the first embodiment. And the position accuracy of the phase difference layer 29 in the color filter substrate CF2 and the bonding position accuracy of the color filter substrate CF2 and the array substrate AR are set as appropriate.

このように境界領域BAに形成される遮光層26'を含む遮光層26が形成された後、複数色のカラーフィルタ層27R,27G,27B、平坦化膜28、配向膜31及び位相差層29が順次形成され、最後に配向膜32が形成されてカラーフィルタ基板CF2が完成する。そして、上記実施例1に示したものと同様に、アレイ基板ARの上電極21とカラーフィルタ基板CF2のカラーフィルタ層27R,27G,27Bが互いに対向するようにアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CF2を対向させ、その間に液晶を封入することで、実施例3の半透過型液晶表示パネル10Cが完成する。   After the light shielding layer 26 including the light shielding layer 26 ′ formed in the boundary area BA is formed as described above, the color filter layers 27 R, 27 G, and 27 B of a plurality of colors, the planarization film 28, the alignment film 31, and the retardation layer 29 are formed. Are sequentially formed, and finally, the alignment film 32 is formed to complete the color filter substrate CF2. In the same manner as in the first embodiment, the array substrate AR and the color filter substrate CF2 are arranged so that the upper electrode 21 of the array substrate AR and the color filter layers 27R, 27G, and 27B of the color filter substrate CF2 face each other. The liquid crystal is sealed between them so that the transflective liquid crystal display panel 10C of Example 3 is completed.

上述した構成により実施例3の半透過型液晶表示パネル10Cを形成すると、図6に示すように、位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)には遮光層26'が形成されるため、この境界領域BAは完全に遮光された状態となる。すなわち、実施例3では、位相差層29の側端部29aが、透過領域TAと反射領域RAとの境界領域BAと、平面視で重なるように位置する。したがって、この部分の表示は外部から視認されることがなくなる。ゆえに、位相差層29の側端部29aにおけるリタデーションの調節が困難なことに起因する表示特性の低下はほぼ完全に抑えることが可能となる。   When the transflective liquid crystal display panel 10C of Example 3 is formed with the above-described configuration, as shown in FIG. 6, a light shielding layer is provided in a region (boundary region BA) overlapping the side end portion 29a of the retardation layer 29 in plan view. Since 26 'is formed, this boundary area BA is completely shielded from light. That is, in Example 3, the side end portion 29a of the retardation layer 29 is positioned so as to overlap with the boundary area BA between the transmission area TA and the reflection area RA in plan view. Therefore, the display of this part is not visually recognized from the outside. Therefore, it is possible to almost completely suppress the deterioration of the display characteristics due to the difficulty in adjusting the retardation at the side end portion 29a of the retardation layer 29.

上記実施例1〜3においては、いずれもカラーフィルタ層をR(赤)、G(緑)及びB(青)の3色で形成したものについて説明したが、3色以上の種類でカラーフィルタ層を形成することも可能である。そこで以下には、実施例4として、計6種類のカラーフィルタ層を用いた半透過型液晶表示パネル10Dについて図8及び図9を参照して説明する。なお、実施例4の半透過型液晶表示パネル10Dは、アレイ基板ARの構成やカラーフィルタ基板CF3の一部の構成は上記実施例1に示したものと同様であるので、以下同様の構成のものには上記実施例1と同様の符号を付してその説明を省略し、異なる構成についてのみ説明を行うものとする。また、図9においては、複数のカラーフィルタ層毎に異なるハッチングを施して示している。   In Examples 1 to 3 described above, the color filter layer is formed of three colors of R (red), G (green), and B (blue). It is also possible to form Therefore, in the following, as a fourth embodiment, a transflective liquid crystal display panel 10D using a total of six types of color filter layers will be described with reference to FIGS. The transflective liquid crystal display panel 10D of Example 4 has the same configuration as the array substrate AR and part of the color filter substrate CF3 as described in Example 1 above. The same reference numerals as those in the first embodiment are attached to the components, and the description thereof is omitted. Only different configurations will be described. In FIG. 9, different color filter layers are shown with different hatching.

図9に示すように、実施例4の半透過型液晶表示パネル10Dにおいて使用されているカラーフィルタ層は、色濃度の濃いR(赤)のカラーフィルタ層27R1と、色濃度の濃いG(緑)のカラーフィルタ層27G1と、色濃度の濃いB(青)のカラーフィルタ層27B1と、色濃度の薄いR(赤)のカラーフィルタ層27R2と、色濃度の薄いG(緑)のカラーフィルタ層27G2と、色濃度の薄いB(青)のカラーフィルタ層27B2と、からなる。これらのカラーフィルタ層のうち、色濃度の濃いR(赤)、G(緑)及びB(青)のカラーフィルタ層27R1,27G1,27B1は、画素領域内の透過領域TAに対応する位置に形成されるものであり、色濃度の薄いR(赤)、G(緑)及びB(青)のカラーフィルタ層27R2,27G2,27B2は、画素領域内の反射領域RAに対応する位置に形成されるものである。そして、これらのカラーフィルタ層は、互いに同一の色成分からなるもの同士が対になって画素領域毎にそれぞれ形成される。   As shown in FIG. 9, the color filter layers used in the transflective liquid crystal display panel 10D of Example 4 are the color filter layer 27R1 having a high color density R (red) and the color filter layer 27R1 having a high color density (green). ) Color filter layer 27G1, B (blue) color filter layer 27B1 having a high color density, R (red) color filter layer 27R2 having a low color density, and G (green) color filter layer having a low color density. 27G2 and a B (blue) color filter layer 27B2 having a low color density. Among these color filter layers, R (red), G (green), and B (blue) color filter layers 27R1, 27G1, and 27B1 having a high color density are formed at positions corresponding to the transmission area TA in the pixel area. The R (red), G (green), and B (blue) color filter layers 27R2, 27G2, and 27B2 having low color densities are formed at positions corresponding to the reflection region RA in the pixel region. Is. These color filter layers are formed for each pixel region in pairs of the same color components.

このように、1つの画素領域の透過領域TAと反射領域RAとで同一の色成分で且つ異なる色濃度を有する2つのカラーフィルタ層(27R1と27R2、27G1と27G2、27B1と27B2)を形成するのは、反射領域RAにおける表示方式が、外光を一旦半透過型液晶表示パネル10D内に入射させ、反射板Rにより反射させて表示画面に出射するようになっているためである。すなわち、反射領域RAの表示に供される外光は半透過型液晶表示パネル10Dへの入射時と出射時の合計2回カラーフィルタ層(27R2、27G2、27B2)を通過する。そのため、例えば透過領域TAと反射領域RAとで同一のカラーフィルタ層を採用している場合、反射領域RAを用いて表示を行う場合の方が透過領域TAを用いて表示を行う場合より濃い色で表示がなされることになる。したがって、実施例4においては、反射領域RAに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層を色濃度の薄いものとし、透過領域TAに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層を色濃度の濃いものとしている。なお、反射領域RAに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層27R2,27G2,27B2の色濃度は、透過領域TAに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層27R1,27G1,27B1の色濃度の約半分とすると、表示方法に拘わらずコントラストが一定となるので好ましい。   In this way, two color filter layers (27R1 and 27R2, 27G1 and 27G2, and 27B1 and 27B2) having the same color component and different color densities are formed in the transmission area TA and the reflection area RA of one pixel area. This is because the display method in the reflection area RA is such that external light is once incident on the transflective liquid crystal display panel 10D, reflected by the reflector R, and emitted to the display screen. That is, external light used for display in the reflective area RA passes through the color filter layers (27R2, 27G2, 27B2) a total of two times when incident on and emitted from the transflective liquid crystal display panel 10D. For this reason, for example, when the same color filter layer is used for the transmission area TA and the reflection area RA, the display using the reflection area RA is darker than the display using the transmission area TA. Will be displayed. Therefore, in Example 4, the color filter layer formed at a position corresponding to the reflection area RA has a low color density, and the color filter layer formed at a position corresponding to the transmission area TA has a high color density. It is said. The color density of the color filter layers 27R2, 27G2, and 27B2 formed at the position corresponding to the reflection area RA is approximately the color density of the color filter layers 27R1, 27G1, and 27B1 formed at the position corresponding to the transmission area TA. A half is preferable because the contrast is constant regardless of the display method.

図8に示すように、実施例4の半透過型液晶表示パネル10Dのカラーフィルタ基板CF3は、外側の面に偏光板41が形成された透明基板25の内側の表面にアレイ基板ARの走査線12、信号線17及びTFTに対応する位置を被覆するように遮光層26が形成された状態で、上述した複数のカラーフィルタ層27R1,27G1,27B1,27R2,27G2,27B2が形成される。この複数のカラーフィルタ層27R1,27G1,27B1,27R2,27G2,27B2の形成方法としては、先ず、色濃度の濃い3つのカラーフィルタ層27R1、27G1及び27B1を透過領域TA及び境界領域BAを覆うように形成し、次いで、色濃度の薄い他の3つのカラーフィルタ層27R2、27G2及び27B2を反射領域RA及び境界領域BAを覆うように形成する。複数のカラーフィルタ層27R1,27G1,27B1,27R2,27G2,27B2をこのように形成することで、図8に示すように、画素領域内の境界領域BAでは色成分が同一で且つ色濃度の異なる2つのカラーフィルタ層(27R1と27R2、27G1と27G2、27B1と27B2)が重畳配置される。その後、平坦化膜28、配向膜31及び位相差層29が順次形成され、最後に配向膜32が形成されてカラーフィルタ基板CF3が完成する。そして、上記実施例1に示したものと同様に、アレイ基板ARの上電極21とカラーフィルタ基板CF3のカラーフィルタ層27R1,27G1,27B1,27R2,27G2,27B2が互いに対向するようにアレイ基板AR及びカラーフィルタ基板CF3を対向させ、その間に液晶を封入することで、実施例4の半透過型液晶表示パネル10Dが完成する。   As shown in FIG. 8, the color filter substrate CF3 of the transflective liquid crystal display panel 10D of Example 4 has a scanning line of the array substrate AR on the inner surface of the transparent substrate 25 having the polarizing plate 41 formed on the outer surface. 12, the plurality of color filter layers 27R1, 27G1, 27B1, 27R2, 27G2, and 27B2 are formed with the light shielding layer 26 formed so as to cover the positions corresponding to the signal lines 17 and the TFTs. As a method of forming the plurality of color filter layers 27R1, 27G1, 27B1, 27R2, 27G2, and 27B2, first, the three color filter layers 27R1, 27G1, and 27B1 having a high color density are covered with the transmission area TA and the boundary area BA. Next, the other three color filter layers 27R2, 27G2, and 27B2 having a low color density are formed so as to cover the reflection region RA and the boundary region BA. By forming the plurality of color filter layers 27R1, 27G1, 27B1, 27R2, 27G2, and 27B2 in this way, the color components are the same and the color densities are different in the boundary area BA in the pixel area as shown in FIG. Two color filter layers (27R1 and 27R2, 27G1 and 27G2, 27B1 and 27B2) are superposed. Thereafter, the planarization film 28, the alignment film 31 and the retardation layer 29 are sequentially formed, and finally the alignment film 32 is formed to complete the color filter substrate CF3. In the same manner as in the first embodiment, the array substrate AR is arranged so that the upper electrode 21 of the array substrate AR and the color filter layers 27R1, 27G1, 27B1, 27R2, 27G2, and 27B2 of the color filter substrate CF3 face each other. The liquid crystal display panel 10D of Example 4 is completed by facing the color filter substrate CF3 and enclosing the liquid crystal therebetween.

上述のように、実施例4の半透過型液晶表示パネル10Dの位相差層29の側端部29aと平面視で重なる領域(境界領域BA)には、常に同一の色成分で且つ色濃度の異なる2つのカラーフィルタ層(27R1と27R2、27G1と27G2、27B1と27B2)が重畳配置されるので、この部分の光透過率は著しく低下している。すなわち、実施例4では、光透過率を低下させる部材として、透過領域TA及び反射領域RAにそれぞれ形成された同一の色成分で且つ色濃度が異なる2つのカラーフィルタ層が重畳されたものを使用している。したがって、この境界領域BAの視感度が低下するため、位相差層29の側端部29aを透過する光は表示画面にほとんど表示されなくなる。よって、リタデーションの調節が困難な位相差層29の側端部29aに起因する表示特性の低下を抑えることが可能となる。   As described above, the region (boundary region BA) that overlaps the side end portion 29a of the retardation layer 29 of the transflective liquid crystal display panel 10D of Embodiment 4 in plan view always has the same color component and color density. Since two different color filter layers (27R1 and 27R2, 27G1 and 27G2, and 27B1 and 27B2) are arranged in an overlapping manner, the light transmittance of this portion is significantly reduced. That is, in Example 4, as a member for reducing the light transmittance, a member in which two color filter layers having the same color component and different color densities formed in the transmission region TA and the reflection region RA are superimposed is used. is doing. Accordingly, since the visibility of the boundary area BA is lowered, the light transmitted through the side end portion 29a of the retardation layer 29 is hardly displayed on the display screen. Therefore, it is possible to suppress a decrease in display characteristics due to the side end portion 29a of the retardation layer 29 where it is difficult to adjust the retardation.

ところで、上記実施例1〜4において示したアレイ基板ARの構造は限定されるものではない。そこで、変形例として、以下にアレイ基板ARの構造を変更した半透過型液晶表示パネルの例を図10を参照して説明する。なお、図10に示す変形例は実施例1の図2に対応する形で記載しているが、上記全ての実施例において変形可能なものであるので、特に画素領域の透過領域TAと反射領域RAとの境界部分の構造については図示を省略している。また、上記実施例1〜4において説明した構成と同一のものについては同一の符号を付してその説明を省略するものとする。   By the way, the structure of the array substrate AR shown in the first to fourth embodiments is not limited. Therefore, as a modification, an example of a transflective liquid crystal display panel in which the structure of the array substrate AR is changed will be described below with reference to FIG. Although the modification shown in FIG. 10 is described in a form corresponding to FIG. 2 of the first embodiment, it can be modified in all the embodiments described above, and in particular, the transmission area TA and the reflection area in the pixel area. The illustration of the structure of the boundary portion with RA is omitted. The same components as those described in the first to fourth embodiments are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図10に示すように、変形例に係る半透過型液晶表示パネル10Eのアレイ基板AR1は、ガラス基板等からなる透明基板11の表面に例えば複数の走査線12及び複数のコモン配線13が互いに平行になるように形成されている。そして、この走査線12及びコモン配線13が形成された透明基板11の表面全体に亘ってゲート絶縁膜15が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜15の表面のTFT形成領域には半導体層16が形成されている。この半導体層16が形成されている位置の走査線12の領域がTFTのゲート電極Gを形成する。   As shown in FIG. 10, in the array substrate AR1 of the transflective liquid crystal display panel 10E according to the modification, for example, a plurality of scanning lines 12 and a plurality of common wirings 13 are parallel to each other on the surface of a transparent substrate 11 made of a glass substrate or the like. It is formed to become. A gate insulating film 15 is covered over the entire surface of the transparent substrate 11 on which the scanning lines 12 and the common wirings 13 are formed. Further, a semiconductor layer 16 is formed in the TFT formation region on the surface of the gate insulating film 15. The region of the scanning line 12 at the position where the semiconductor layer 16 is formed forms the gate electrode G of the TFT.

また、ゲート絶縁膜15の表面には、ソース電極Sを含む信号線17及びドレイン電極Dが形成されている。このソース電極S及びドレイン電極Dは、いずれも半導体層16の表面に部分的に重なっている。さらに、この基板の表面全体に保護絶縁膜18が被覆されており、さらにこの保護絶縁膜18上に透明絶縁材料からなる層間膜33が形成されている。この層間膜33は画素毎の反射領域RAにおいては表面に凹凸(図示省略)が形成され、透過領域TAを含むその他の領域は表面が平らになされている。   A signal line 17 including a source electrode S and a drain electrode D are formed on the surface of the gate insulating film 15. Both the source electrode S and the drain electrode D partially overlap the surface of the semiconductor layer 16. Further, the entire surface of the substrate is covered with a protective insulating film 18, and an interlayer film 33 made of a transparent insulating material is formed on the protective insulating film 18. The interlayer film 33 has irregularities (not shown) on the surface in the reflection area RA for each pixel, and the other areas including the transmission area TA have a flat surface.

さらに、コモン配線13の一部を被覆しているゲート絶縁膜15、保護絶縁膜18及び層間膜33にはコンタクトホール39が設けられている。また、反射領域RAの層間膜33の表面にはそれぞれの画素領域毎に反射板Rが形成され、この反射板Rの表面及び層間膜33の表面は同じく画素領域毎に下電極14が形成されている。この下電極14はコンタクトホール39を介してコモン配線13と電気的に接続されている。そのため、下電極14は共通電極として作用する。なお、ドレイン電極Dに対応する位置の層間膜33及び保護絶縁膜18にはドレイン電極Dが露出するようにコンタクトホール19が形成されている。   Further, a contact hole 39 is provided in the gate insulating film 15, the protective insulating film 18 and the interlayer film 33 covering a part of the common wiring 13. A reflection plate R is formed for each pixel region on the surface of the interlayer film 33 in the reflection region RA, and a lower electrode 14 is formed on the surface of the reflection plate R and the surface of the interlayer film 33 for each pixel region. ing. The lower electrode 14 is electrically connected to the common wiring 13 through a contact hole 39. Therefore, the lower electrode 14 acts as a common electrode. A contact hole 19 is formed in the interlayer film 33 and the protective insulating film 18 at a position corresponding to the drain electrode D so that the drain electrode D is exposed.

さらに、それぞれの下電極14の表面及び層間膜33の表面全体に亘って窒化ケイ素ないし酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなる容量絶縁膜34が形成されており、この容量絶縁膜34はドレイン電極Dが露出するようにコンタクトホール19の表面壁を被覆している。この容量絶縁膜34は下電極14と上電極21との距離を調整するために設けられるものである。そして、平面視でくし歯状となるように、容量絶縁膜34上に複数のスリット20を有する上電極21が形成されている。この上電極21はコンタクトホール19を介してドレイン電極Dと電気的に接続されている。そのため、上電極21は画素電極として作用する。そして最後に、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜35が形成されてアレイ基板AR1が完成する。   Further, a capacitive insulating film 34 made of a transparent insulating material such as silicon nitride or silicon oxide is formed over the surface of each lower electrode 14 and the entire surface of the interlayer film 33, and the capacitive insulating film 34 is a drain electrode D. The surface wall of the contact hole 19 is covered so that is exposed. The capacitive insulating film 34 is provided to adjust the distance between the lower electrode 14 and the upper electrode 21. An upper electrode 21 having a plurality of slits 20 is formed on the capacitive insulating film 34 so as to have a comb-like shape in plan view. The upper electrode 21 is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 19. Therefore, the upper electrode 21 acts as a pixel electrode. Finally, a predetermined alignment film 35 is formed over the entire surface of the substrate to complete the array substrate AR1.

上記のように、アレイ基板AR1の保護絶縁膜18と反射板R及び下電極14との間に層間膜33を形成することにより、下電極14と上電極21の形成領域を大きくすることが可能となる。したがって、上記実施例1に比して電界発生領域が大きくなるため、開口度が大きく明るい表示を行うことができるようになる。   As described above, the formation region of the lower electrode 14 and the upper electrode 21 can be increased by forming the interlayer film 33 between the protective insulating film 18 of the array substrate AR1 and the reflector R and the lower electrode 14. It becomes. Accordingly, since the electric field generation region is larger than that in the first embodiment, a bright display with a large aperture can be performed.

また、変形例の半透過型液晶表示パネル10Eにおいては、下電極14を共通電極、上電極21を画素電極としてそれぞれ作用するように配線された例について説明したが、これに限らず、例えば上電極21をコモン配線13に接続させることで共通電極とし、下電極14をドレイン電極Dに接続させることで画素電極とすることも可能である。   Also, in the transflective liquid crystal display panel 10E of the modified example, the example in which the lower electrode 14 is wired so as to act as the common electrode and the upper electrode 21 as the pixel electrode has been described. The electrode 21 can be connected to the common wiring 13 to be a common electrode, and the lower electrode 14 can be connected to the drain electrode D to be a pixel electrode.

なお、上記実施例1〜4及び変形例に係る半透過型液晶表示パネル10A〜10Eにおいては、全て反射板Rをアレイ基板AR側に形成したものについて説明したが、これに限らず、カラーフィルタ基板CFの複数色のカラーフィルタ層の下層に形成しても同様の半透過型液晶表示パネルを得ることが可能である。ただしこの場合には、ユーザはアレイ基板AR側から表示画像を視認することになる。   In the transflective liquid crystal display panels 10A to 10E according to the first to fourth embodiments and the modified examples, all the reflectors R are formed on the array substrate AR side. However, the present invention is not limited to this. A similar transflective liquid crystal display panel can be obtained even if it is formed below the color filter layers of a plurality of colors on the substrate CF. However, in this case, the user visually recognizes the display image from the array substrate AR side.

次に、実施例5の半透過型液晶表示パネルについて図11及び図12を参照して説明する。実施例5の半透過型液晶表示パネルは、上記実施例1〜4が横方向電界モード(FFS型)であるのに対して縦方向電界モードにより表示がなされる。
図11は実施例5の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す3画素分の平面図である。図12(a)は図11のIII−III線で切った断面図、同図(b)は図11のIV−IV線で切った断面図である。なお、上記実施例1と同様な構成については、同じ符号を付して詳しい説明は省略する。
Next, a transflective liquid crystal display panel of Example 5 will be described with reference to FIGS. The transflective liquid crystal display panel according to the fifth embodiment is displayed in the vertical electric field mode while the first to fourth embodiments are in the horizontal electric field mode (FFS type).
FIG. 11 is a plan view of three pixels shown through the color filter substrate of the transflective liquid crystal display panel of Example 5. 12A is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 11, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. In addition, about the structure similar to the said Example 1, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

図11に示すように、実施例5の半透過型液晶表示パネル10Fは、走査線12と信号線17とによりマトリクス状に区画された複数の画素領域を有し、画素領域は反射領域RAと透過領域TAとに区分されている。
画素領域は、反射領域RAと透過領域TAとに跨って設けられた画素電極81と、画素電極81にドレイン電極Dが電気的に接続した半導体層16を有するTFTとを備えている。
画素電極81には、反射領域RAと透過領域TAとの境界領域BAに対応した位置に2つのスリット(切り欠き)81aが設けられている。2つのスリット81aにより狭められた部分81bによって、反射領域RAと透過領域TAの画素電極81が電気的に繋がっている。
2つのスリット81aは、反射領域RAと透過領域TAとにおける液晶分子の配向制御のために設けられたものである。
画素電極81に対向する共通電極82には、反射領域RAのほぼ中央付近に設けられた平面視で略円状の突起83と、透過領域TAのほぼ中央付近に設けられた平面視で帯状の突起84とを有する。これらの突起83,84は、上記スリット81aと同様に液晶分子の配向制御のために設けられている。液晶分子の配向制御については、後述する。なお、カラーフィルタ基板CF4(図12参照)には、このようにマトリクス状に設けられた画素領域に対応してR(赤)、G(緑)、B(青)、3色のカラーフィルタ層27R,27G,27Bが設けられている。
As shown in FIG. 11, the transflective liquid crystal display panel 10F according to the fifth embodiment has a plurality of pixel areas partitioned in a matrix by scanning lines 12 and signal lines 17, and the pixel area is a reflection area RA. It is divided into a transmission area TA.
The pixel region includes a pixel electrode 81 provided across the reflective region RA and the transmissive region TA, and a TFT having the semiconductor layer 16 in which the drain electrode D is electrically connected to the pixel electrode 81.
The pixel electrode 81 is provided with two slits (notches) 81a at positions corresponding to the boundary area BA between the reflection area RA and the transmission area TA. The reflective region RA and the pixel electrode 81 in the transmissive region TA are electrically connected by the portion 81b narrowed by the two slits 81a.
The two slits 81a are provided for controlling the alignment of liquid crystal molecules in the reflective region RA and the transmissive region TA.
The common electrode 82 facing the pixel electrode 81 has a substantially circular projection 83 provided in the vicinity of the center of the reflective area RA and a band-like shape in a plan view provided in the vicinity of the center of the transmission area TA. And a protrusion 84. These protrusions 83 and 84 are provided for controlling the alignment of the liquid crystal molecules in the same manner as the slit 81a. The alignment control of liquid crystal molecules will be described later. The color filter substrate CF4 (see FIG. 12) includes R (red), G (green), B (blue), and three color filter layers corresponding to the pixel regions thus arranged in a matrix. 27R, 27G, and 27B are provided.

図12(a)に示すように、半透過型液晶表示パネル10Fは、画素電極81とTFTとを有するアレイ基板AR2と、共通電極82とカラーフィルタ層27とを有するカラーフィルタ基板CF4と、アレイ基板AR2とカラーフィルタ基板CF4とによって挟持された液晶層80とを有する。   As shown in FIG. 12A, a transflective liquid crystal display panel 10F includes an array substrate AR2 having pixel electrodes 81 and TFTs, a color filter substrate CF4 having common electrodes 82 and a color filter layer 27, and an array. The liquid crystal layer 80 is sandwiched between the substrate AR2 and the color filter substrate CF4.

アレイ基板AR2は、透明基板11上に形成された走査線12(ゲート電極G)と、走査線12を覆うように形成されたゲート絶縁膜15と、走査線12のほぼ直上の位置のゲート絶縁膜15上に設けられた半導体層16とを有している。
また、半導体層16のソース側を覆うように形成されたソース電極Sと、半導体層16のドレイン側を覆うように形成されたドレイン電極Dと、ソース電極S及びドレイン電極Dを覆うように形成された保護絶縁膜18とを有している。これらがTFTを構成している。
さらに、保護絶縁膜18を覆うように形成された平坦化膜としての層間膜86と、層間膜86上に形成された画素電極81と、画素電極81を覆うように形成された配向膜35とを有する。
なお、ゲート絶縁膜15、保護絶縁膜18は、例えば酸化シリコンなどの無機絶縁膜であり、光透過性を有している。層間膜86は、例えばアクリル樹脂など有機絶縁膜からなり、同様に光透過性を有している。
The array substrate AR2 includes a scanning line 12 (gate electrode G) formed on the transparent substrate 11, a gate insulating film 15 formed so as to cover the scanning line 12, and gate insulation at a position almost immediately above the scanning line 12. A semiconductor layer 16 provided over the film 15.
Further, the source electrode S formed so as to cover the source side of the semiconductor layer 16, the drain electrode D formed so as to cover the drain side of the semiconductor layer 16, and the source electrode S and the drain electrode D are formed so as to cover it. The protective insulating film 18 is provided. These constitute the TFT.
Further, an interlayer film 86 as a planarizing film formed so as to cover the protective insulating film 18, a pixel electrode 81 formed on the interlayer film 86, and an alignment film 35 formed so as to cover the pixel electrode 81, Have
The gate insulating film 15 and the protective insulating film 18 are inorganic insulating films such as silicon oxide, and have light transmittance. The interlayer film 86 is made of, for example, an organic insulating film such as acrylic resin, and similarly has light transmittance.

層間膜86は、反射領域RAにおいて液晶層80側の表面が凸凹に形成されており、その表面を覆うように光反射性を有する材料、例えばAlなどが成膜され、反射板87を形成している。ITOなどの透明導電材料からなる画素電極81は、反射板87を覆うように形成されると共に、層間膜86に設けられたコンタクトホール19を介してドレイン電極Dと電気的に接続している。   The interlayer film 86 has an uneven surface on the liquid crystal layer 80 side in the reflective region RA, and a light-reflective material such as Al is formed to cover the surface to form a reflective plate 87. ing. The pixel electrode 81 made of a transparent conductive material such as ITO is formed so as to cover the reflection plate 87 and is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 19 provided in the interlayer film 86.

カラーフィルタ基板CF4は、透明基板25上に形成された遮光層26と、遮光層26を覆うように形成されたカラーフィルタ層27と、カラーフィルタ層27を覆うように形成された平坦化膜28とを有している。
また、平坦化膜28を覆うように形成された配向膜31と、反射領域RAに対応した位置で配向膜31上に形成された位相差層29と、位相差層29を覆うと共に、少なくとも画素電極81に対向するように形成された共通電極82とを有する。
反射領域RAの位相差層29を覆う共通電極82上には、前述した配向制御用の突起83が形成されている。透過領域TAの共通電極82上には、前述した配向制御用の帯状の突起84が形成されている。さらに、これらの突起83,84を覆うと共に、液晶層80に面する側を覆うように配向膜32が設けられている。
The color filter substrate CF4 includes a light shielding layer 26 formed on the transparent substrate 25, a color filter layer 27 formed so as to cover the light shielding layer 26, and a planarization film 28 formed so as to cover the color filter layer 27. And have.
Further, the alignment film 31 formed so as to cover the planarizing film 28, the retardation layer 29 formed on the alignment film 31 at a position corresponding to the reflection region RA, the retardation layer 29, and at least the pixel A common electrode 82 formed to face the electrode 81.
On the common electrode 82 covering the retardation layer 29 in the reflection region RA, the above-described alignment control protrusion 83 is formed. On the common electrode 82 in the transmission region TA, the above-described band-shaped protrusion 84 for controlling the orientation is formed. Further, the alignment film 32 is provided so as to cover these protrusions 83 and 84 and to cover the side facing the liquid crystal layer 80.

液晶層80は負の誘電異方性を有するものであり、液晶層80に面して形成された配向膜32,35は、いわゆる垂直配向膜である。したがって、液晶層80を挟んで対向する画素電極81と共通電極82との間に駆動電位が与えられていないOFF状態では、液晶分子は、配向膜32,35の表面に対してほぼ垂直な状態で配列する(垂直配向している)。駆動電位が与えられたON状態では、電界方向に対して交差するように液晶分子が傾く。これにより、液晶層80を通過する光を制御して表示を行うものである。
配向制御用の突起83,84は、OFF状態で垂直配向している液晶分子がON状態となったときに、所定の方向に傾くように配向制御を行わせる。この場合、反射領域RAでは突起83を中心に放射状に液晶分子が傾く。透過領域TAでは帯状の突起84を境にして液晶分子が傾く方向が異なる(図11においては突起84を境にして左右に液晶分子が傾くことになる)。
The liquid crystal layer 80 has negative dielectric anisotropy, and the alignment films 32 and 35 formed facing the liquid crystal layer 80 are so-called vertical alignment films. Accordingly, in the OFF state in which the driving potential is not applied between the pixel electrode 81 and the common electrode 82 facing each other with the liquid crystal layer 80 interposed therebetween, the liquid crystal molecules are in a state substantially perpendicular to the surfaces of the alignment films 32 and 35. Are aligned (vertically oriented). In the ON state to which the drive potential is applied, the liquid crystal molecules are tilted so as to intersect the electric field direction. Thus, display is performed by controlling the light passing through the liquid crystal layer 80.
The alignment control protrusions 83 and 84 control the alignment so that the liquid crystal molecules vertically aligned in the OFF state are inclined in a predetermined direction when the liquid crystal molecules are in the ON state. In this case, the liquid crystal molecules are inclined radially around the protrusion 83 in the reflection region RA. In the transmissive area TA, the liquid crystal molecules are inclined in different directions with respect to the band-shaped protrusion 84 (in FIG. 11, the liquid crystal molecules are inclined to the left and right with respect to the protrusion 84).

液晶層80を挟持したカラーフィルタ基板CF4とアレイ基板AR2とからなる液晶セルの表面及び裏面には、偏光板41が設けられている。表裏一対の偏光板41の光学的な軸方向を相互に同一とさせるか、あるいは略直交させるかにより、OFF状態の表示状態を白表示(ノーマリーホワイト)または黒表示(ノーマリーブラック)とすることができる。このような縦方向電界モードの半透過型液晶表示パネル10Fは、VA(Virtical Alignment)方式と呼ばれている。
この半透過型液晶表示パネル10Fにおいても、反射領域RAと透過領域TAとにおいて液晶層80を通過する光の距離が均一となるように、透過領域TAにおける液晶層80の厚み(距離)L1に対して反射領域RAにおける液晶層80の厚み(距離)L2は、半分に設定されている。言い換えれば、L2=(1/2)L1となるように、位相差層29の肉厚が調整されている。これにより、反射表示、透過表示のいずれにおいても最適な表示がなされる。
Polarizing plates 41 are provided on the front and back surfaces of the liquid crystal cell composed of the color filter substrate CF4 and the array substrate AR2 with the liquid crystal layer 80 interposed therebetween. The display state in the OFF state is set to white display (normally white) or black display (normally black) depending on whether the optical axis directions of the pair of front and back polarizing plates 41 are the same or substantially orthogonal to each other. be able to. Such a transflective liquid crystal display panel 10F in the vertical electric field mode is called a VA (Virtical Alignment) method.
Also in the transflective liquid crystal display panel 10F, the thickness (distance) L1 of the liquid crystal layer 80 in the transmissive area TA is set so that the distance of light passing through the liquid crystal layer 80 is uniform in the reflective area RA and the transmissive area TA. On the other hand, the thickness (distance) L2 of the liquid crystal layer 80 in the reflection region RA is set to half. In other words, the thickness of the retardation layer 29 is adjusted so that L2 = (1/2) L1. As a result, an optimum display is performed in both the reflective display and the transmissive display.

半透過型液晶表示パネル10Fのカラーフィルタ基板CF4の遮光層26は、画素領域を区画するだけでなく、画素領域において反射領域RAと透過領域TAとを実質的に区分するように形成されている。   The light shielding layer 26 of the color filter substrate CF4 of the transflective liquid crystal display panel 10F is formed not only to divide the pixel area but also to substantially divide the reflective area RA and the transmissive area TA in the pixel area. .

カラーフィルタ基板CF4の位相差層29は、遮光層26が配置された領域に位相差層29の両側端部29a,29bが平面視で重なるように形成されている。具体的には、反射領域RAと透過領域TAとの境において、位相差層29の一方の側端部29aは、遮光層26が設けられた境界領域BA内に位置している。すなわち、実施例5における光透過率を低下させる部材は、遮光層26である。
遮光層26を設ける境界領域BAの範囲は、上記実施例1〜4と同様に、側端部29aにおけるテーパ角度と、カラーフィルタ基板CF4における位相差層29の形成位置精度と、カラーフィルタ基板CF4とアレイ基板AR2との接合位置精度とを少なくとも考慮して決める必要がある。位相差層29の他方の側端部29bについても同様である。
The phase difference layer 29 of the color filter substrate CF4 is formed so that both side end portions 29a and 29b of the phase difference layer 29 overlap with each other in a region where the light shielding layer 26 is disposed. Specifically, at the boundary between the reflective area RA and the transmissive area TA, one side end portion 29a of the retardation layer 29 is located in the boundary area BA where the light shielding layer 26 is provided. That is, the member that decreases the light transmittance in the fifth embodiment is the light shielding layer 26.
The range of the boundary area BA where the light shielding layer 26 is provided is the same as in the first to fourth embodiments. The taper angle at the side end portion 29a, the formation position accuracy of the retardation layer 29 in the color filter substrate CF4, and the color filter substrate CF4. It is necessary to determine at least the accuracy of the position of the junction with the array substrate AR2. The same applies to the other side end portion 29 b of the retardation layer 29.

図12(b)に示すように、位相差層29は、複数の画素領域における反射領域RAに跨るように形成されている。言い換えれば、複数の反射領域RAに跨って帯状に形成されている。したがって、同図(b)において画素領域間に設けられた遮光層26に平面視で重なる領域には、位相差層29の側端部は存在しない。ゆえに、この部分におけるリタデーションはほぼねらいの値となっており、光漏れなどの表示不具合は発生しない。   As shown in FIG. 12B, the retardation layer 29 is formed so as to straddle the reflection region RA in the plurality of pixel regions. In other words, it is formed in a strip shape across the plurality of reflection regions RA. Therefore, the side edge of the retardation layer 29 does not exist in a region overlapping the light shielding layer 26 provided between the pixel regions in plan view in FIG. Therefore, the retardation in this portion is almost aimed, and display defects such as light leakage do not occur.

上記実施例5の半透過型液晶表示パネル10Fは、画素領域において帯状に設けられた位相差層29の両側端部29a,29bがいずれも遮光層26が形成された領域内に平面視で重なるようになっている。したがって、上記両側端部29a,29bにおけるリタデーションが調節できないこと(リタデーションが変化すること)に起因する光漏れなどの表示不具合が発生しても、遮光層26によって実質的に視認出来ないので、表示ムラが目立たない半透過型液晶表示パネル10Fを実現している。
なお、VA方式の半透過型液晶表示パネル10Fの構成は、これに限定されるものではない。例えば、配向制御の方法は、突起83,84によらず、画素電極81や共通電極82において、所定の方向に配向制御用のスリットを設けたものでもよい。
また、例えば、アレイ基板AR2の透明基板11上に走査線12を形成する過程で、画素電極81の一部と平面視で重なるように容量線を設けてもよい。
さらには、カラーフィルタ基板CF4において、位相差層29の一方の側端部29aが平面視で重なる領域(境界領域BA)に設けられた光透過率を低下させる部材は遮光層26に限定されず、最も視感度が低いカラーフィルタ層27Bや、少なくとも2色のカラーフィルタ層あるいは色濃度が異なるカラーフィルタ層が重畳されたものでもよい。
In the transflective liquid crystal display panel 10F of the fifth embodiment, both side end portions 29a and 29b of the retardation layer 29 provided in a strip shape in the pixel region both overlap with the region where the light shielding layer 26 is formed in plan view. It is like that. Therefore, even if a display defect such as light leakage caused by the fact that the retardation at the side end portions 29a and 29b cannot be adjusted (the retardation changes), the light shielding layer 26 cannot substantially visually recognize the display. A transflective liquid crystal display panel 10F in which unevenness is inconspicuous is realized.
Note that the configuration of the VA transflective liquid crystal display panel 10F is not limited to this. For example, the orientation control method may be a method in which a slit for orientation control is provided in a predetermined direction in the pixel electrode 81 or the common electrode 82 regardless of the protrusions 83 and 84.
Further, for example, in the process of forming the scanning line 12 on the transparent substrate 11 of the array substrate AR2, a capacitor line may be provided so as to overlap with a part of the pixel electrode 81 in plan view.
Furthermore, in the color filter substrate CF4, the member for reducing the light transmittance provided in the region (boundary region BA) where one side end portion 29a of the retardation layer 29 overlaps in plan view is not limited to the light shielding layer 26. Alternatively, the color filter layer 27B having the lowest visibility, the color filter layers of at least two colors, or the color filter layers having different color densities may be superimposed.

(電子機器)
次に、本実施形態の電子機器について図13を参照して説明する。図13(a)は電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す概略図、同図(b)は電子機器としての携帯型電話機を示す概略図である。
上記実施例1〜4及び変形例として説明したFFS型の半透過型液晶表示パネル10A〜10E、実施例5のVA方式の半透過型液晶表示パネル10Fは、パーソナルコンピュータ、携帯型電話機、携帯情報端末などの電子機器に使用することができる。
図13(a)に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピュータ100は、キーボードなどを備える本体101と、表示部102とを有している。表示部102には、上記実施例及び上記変形例の半透過型液晶表示パネル10A〜10Fのいずれかと、これを背面側(アレイ基板側)から照明する照明装置とが搭載されている。
図13(b)に示すように、電子機器としての携帯型電話機110は、入力用のボタン類が設けられた本体111と、本体111に対して折り畳み可能な状態に取り付けられた表示部112とを有している。表示部112には、同様にして上記実施例及び上記変形例の半透過型液晶表示パネル10A〜10Fのいずれかと、これを背面側(アレイ基板側)から照明する照明装置とが搭載されている。
なお、これらのパーソナルコンピュータ100及び携帯型電話機110の基本的構成は当業者に周知であるので、詳細な説明は省略する。
このようなパーソナルコンピュータ100、携帯型電話機110によれば、表示ムラが目立ち難い半透過型液晶表示パネルを用いているので、屋外屋内を問わず使用環境における照度が変化しても、表示された情報をきちんと確認することができる。
(Electronics)
Next, the electronic apparatus of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 13A is a schematic diagram showing a personal computer as an electronic device, and FIG. 13B is a schematic diagram showing a mobile phone as an electronic device.
The FFS-type transflective liquid crystal display panels 10A to 10E described in the first to fourth embodiments and the modified examples, and the VA-type transflective liquid crystal display panel 10F of the fifth embodiment include a personal computer, a portable phone, and portable information. It can be used for electronic devices such as terminals.
As shown in FIG. 13A, a personal computer 100 as an electronic device has a main body 101 including a keyboard and a display unit 102. The display unit 102 is mounted with any of the transflective liquid crystal display panels 10A to 10F of the above-described embodiments and modifications, and an illumination device that illuminates this from the back side (array substrate side).
As shown in FIG. 13B, a mobile phone 110 as an electronic device includes a main body 111 provided with buttons for input, and a display unit 112 attached to the main body 111 so as to be foldable. have. Similarly, the display unit 112 is mounted with any one of the transflective liquid crystal display panels 10A to 10F according to the above-described embodiments and modifications, and an illumination device that illuminates the panel from the back side (array substrate side). .
Note that the basic configurations of the personal computer 100 and the portable phone 110 are well known to those skilled in the art, and thus detailed description thereof is omitted.
According to such a personal computer 100 and mobile phone 110, since a transflective liquid crystal display panel in which display unevenness is not conspicuous is used, it is displayed even if the illuminance changes in the use environment regardless of the indoors. Information can be confirmed properly.

実施例1に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す3画素分の平面図。FIG. 3 is a plan view of three pixels shown through the color filter substrate of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the first embodiment. 図1のII−II線で切断した断面図。Sectional drawing cut | disconnected by the II-II line | wire of FIG. 実施例1の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a state of a color filter layer of the transflective liquid crystal display panel of Example 1. 実施例2に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the second embodiment. 実施例2の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a state of a color filter layer of a transflective liquid crystal display panel of Example 2. 実施例3に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel according to the third embodiment. 実施例3の半透過型液晶表示パネルの遮光層の状態を示す平面図。6 is a plan view showing a state of a light shielding layer of a transflective liquid crystal display panel of Example 3. FIG. 実施例4に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図。Sectional drawing corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel which concerns on Example 4. FIG. 実施例4の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図。6 is a plan view showing a state of a color filter layer of a transflective liquid crystal display panel of Example 4. FIG. 変形例に係るFFS型の半透過型液晶表示パネルの図2に対応する断面図。Sectional drawing corresponding to FIG. 2 of the FFS type transflective liquid crystal display panel which concerns on a modification. 実施例5の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す3画素分の平面図。FIG. 6 is a plan view of three pixels shown through a color filter substrate of a transflective liquid crystal display panel of Example 5. (a)は図11のIII−III線で切った断面図、(b)は図11のIV−IV線で切った断面図。(A) is sectional drawing cut | disconnected by the III-III line of FIG. 11, (b) is sectional drawing cut | disconnected by the IV-IV line of FIG. (a)は電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す概略図、(b)は電子機器としての携帯型電話機を示す概略図。(A) is a schematic diagram showing a personal computer as an electronic device, (b) is a schematic diagram showing a portable telephone as an electronic device. 従来のFFS型の半透過型液晶表示パネルの1画素分の平面図。The top view for 1 pixel of the conventional transflective liquid crystal display panel of FFS type. 図14のXIII−XIII線に沿った模式断面図。The schematic cross section along the XIII-XIII line of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10A,10B,10C,10D,10E,10F…半透過型液晶表示パネル、11,25…透明基板、12…走査線、13…コモン配線,14…第1電極としての下電極、15…ゲート絶縁膜、16…半導体層、17…信号線、18…保護絶縁膜、19,39…コンタクトホール、20…スリット、20a…開放端、20b…閉鎖端、21…第2電極としての上電極、26,26'…遮光層、27R,27G,27B…カラーフィルタ層、28…平坦化膜、29…位相差層、29a…側端部、30,80…液晶層、33,86…層間膜、34…容量絶縁膜、41…偏光板、100…電子機器としてのパーソナルコンピュータ、110…電子機器としての携帯型電話機、AR,AR1,AR2…第1基板としてのアレイ基板、CF,CF1〜CF4…第2基板としてのカラーフィルタ基板、R…反射板、G…ゲート電極、S…ソース電極、D…ドレイン電極、TA…透過領域、RA…反射領域、BA…位相差層の側端部と平面視で重なる領域としての境界領域。 10A, 10B, 10C, 10D, 10E, 10F: Transflective liquid crystal display panel, 11, 25 ... Transparent substrate, 12 ... Scanning line, 13 ... Common wiring, 14 ... Lower electrode as first electrode, 15 ... Gate insulation Membrane, 16 ... Semiconductor layer, 17 ... Signal line, 18 ... Protective insulating film, 19, 39 ... Contact hole, 20 ... Slit, 20a ... Open end, 20b ... Closed end, 21 ... Upper electrode as second electrode, 26 , 26 '... light shielding layer, 27R, 27G, 27B ... color filter layer, 28 ... flattening film, 29 ... phase difference layer, 29a ... side edge, 30, 80 ... liquid crystal layer, 33, 86 ... interlayer film, 34 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Capacitance insulating film, 41 ... Polarizing plate, 100 ... Personal computer as electronic equipment, 110 ... Portable telephone as electronic equipment, AR, AR1, AR2 ... Array substrate as first substrate, CF, CF1-C F4 ... Color filter substrate as second substrate, R ... Reflector, G ... Gate electrode, S ... Source electrode, D ... Drain electrode, TA ... Transmission region, RA ... Reflection region, BA ... Side edge of retardation layer Boundary area as an area that overlaps in plan view.

Claims (8)

互いに液晶層を介して対向配置された第1基板及び第2基板を有し、1画素内に透過領域と反射領域とを有する半透過型液晶表示パネルであって、
前記第1基板は、複数の画素領域を有し、
前記第2基板は、前記画素領域毎に配置された複数色のカラーフィルタ層と、
前記反射領域に対応して前記液晶層側に形成された位相差層と、
前記位相差層の側端部と平面視で少なくとも重なる領域に設けられた光透過率を低下させる部材と、を備えたことを特徴とする半透過型液晶表示パネル。
A transflective liquid crystal display panel having a first substrate and a second substrate arranged to face each other via a liquid crystal layer, and having a transmissive region and a reflective region in one pixel,
The first substrate has a plurality of pixel regions,
The second substrate includes a plurality of color filter layers arranged for each pixel region,
A retardation layer formed on the liquid crystal layer side corresponding to the reflective region;
A transflective liquid crystal display panel, comprising: a member for reducing light transmittance provided in a region at least overlapping with a side end portion of the retardation layer in plan view.
前記光透過率を低下させる部材は、前記カラーフィルタ層のうち、視感度が最も高い色光を透過するカラーフィルタ層以外のカラーフィルタ層を構成する部材からなることを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示パネル。   The member for reducing the light transmittance is a member constituting a color filter layer other than the color filter layer that transmits the color light having the highest visibility among the color filter layers. Transflective LCD panel. 前記視感度が最も高い色光を透過するカラーフィルタ層が形成された画素領域の前記位相差層の側端部と平面視で重なる領域には、該カラーフィルタ層に重畳させて他のカラーフィルタ層を構成する部材が形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半透過型液晶表示パネル。   In a region overlapping the side edge of the retardation layer in a plan view in the pixel region where the color filter layer that transmits the color light having the highest visibility is formed, another color filter layer is superimposed on the color filter layer. The transflective liquid crystal display panel according to claim 2, wherein a member constituting the liquid crystal display is formed. 前記第2基板は、さらに、前記画素領域を平面視で規定する遮光層を備え、
前記光透過率を低下させる部材は、前記遮光層を構成する部材からなることを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示パネル。
The second substrate further includes a light shielding layer that defines the pixel region in plan view,
2. The transflective liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the member for reducing the light transmittance is a member constituting the light shielding layer.
前記カラーフィルタ層は、1つの前記画素領域の前記透過領域に形成される透過領域側カラーフィルタ層と、前記反射領域に形成される前記透過領域側カラーフィルタ層と同一の色成分で且つ該透過領域側カラーフィルタ層に比してその色濃度が薄い反射領域側カラーフィルタ層と、からなり、
前記光透過率を低下させる部材は、前記透過領域側カラーフィルタ層と前記反射領域側カラーフィルタ層とが重畳された部材からなることを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示パネル。
The color filter layer has the same color component as the transmissive region side color filter layer formed in the transmissive region of one pixel region and the transmissive region side color filter layer formed in the reflective region, and the transmissive region side color filter layer. A reflective area side color filter layer whose color density is lighter than the area side color filter layer,
2. The transflective liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the member for reducing the light transmittance is a member in which the transmission region side color filter layer and the reflection region side color filter layer are superimposed. .
前記透過領域における前記液晶層の厚みをL1とし、前記反射領域における前記液晶層の厚みをL2としたとき、下記の関係となるように前記位相差層の肉厚が設定されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の半透過型液晶表示パネル。
L2=(1/2)L1
When the thickness of the liquid crystal layer in the transmission region is L1, and the thickness of the liquid crystal layer in the reflection region is L2, the thickness of the retardation layer is set so as to satisfy the following relationship. A transflective liquid crystal display panel according to any one of claims 1 to 5.
L2 = (1/2) L1
前記第1基板は、前記画素領域毎に前記透過領域と前記反射領域とに亘って形成された第1電極及び第2電極を備え、
前記第1電極と前記第2電極との間に生ずる横方向電界により前記液晶層が駆動されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の半透過型液晶表示パネル。
The first substrate includes a first electrode and a second electrode formed over the transmission region and the reflection region for each pixel region,
The transflective liquid crystal display panel according to any one of claims 1 to 6, wherein the liquid crystal layer is driven by a lateral electric field generated between the first electrode and the second electrode.
請求項1乃至7のいずれか一項に記載の半透過型液晶表示パネルを備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the transflective liquid crystal display panel according to any one of claims 1 to 7.
JP2008146666A 2007-09-20 2008-06-04 Transflective liquid crystal display panel and electronic equipment Expired - Fee Related JP5334012B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008146666A JP5334012B2 (en) 2007-09-20 2008-06-04 Transflective liquid crystal display panel and electronic equipment
US12/211,499 US8314905B2 (en) 2007-09-20 2008-09-16 Transflective liquid crystal display panel and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007243429 2007-09-20
JP2007243429 2007-09-20
JP2008146666A JP5334012B2 (en) 2007-09-20 2008-06-04 Transflective liquid crystal display panel and electronic equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009093147A true JP2009093147A (en) 2009-04-30
JP5334012B2 JP5334012B2 (en) 2013-11-06

Family

ID=40665159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008146666A Expired - Fee Related JP5334012B2 (en) 2007-09-20 2008-06-04 Transflective liquid crystal display panel and electronic equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5334012B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011017878A (en) * 2009-07-09 2011-01-27 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003270627A (en) * 2001-09-25 2003-09-25 Seiko Epson Corp Transflective liquid crystal device and electronic device using the same
JP2005242302A (en) * 2004-01-28 2005-09-08 Seiko Epson Corp Liquid crystal display device and electronic apparatus
JP2007047732A (en) * 2005-07-15 2007-02-22 Sanyo Epson Imaging Devices Corp Liquid crystal display device and electronic apparatus
JP2007212710A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Epson Imaging Devices Corp Electro-optic device and electronic apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003270627A (en) * 2001-09-25 2003-09-25 Seiko Epson Corp Transflective liquid crystal device and electronic device using the same
JP2005242302A (en) * 2004-01-28 2005-09-08 Seiko Epson Corp Liquid crystal display device and electronic apparatus
JP2007047732A (en) * 2005-07-15 2007-02-22 Sanyo Epson Imaging Devices Corp Liquid crystal display device and electronic apparatus
JP2007212710A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Epson Imaging Devices Corp Electro-optic device and electronic apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011017878A (en) * 2009-07-09 2011-01-27 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
US8421984B2 (en) 2009-07-09 2013-04-16 Hitachi Displays, Ltd. Liquid crystal display device
US8836907B2 (en) 2009-07-09 2014-09-16 Japan Display Inc. Liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5334012B2 (en) 2013-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4828557B2 (en) Liquid crystal display
US7876404B2 (en) Transflective LCD device and fabrication method thereof
JP4814776B2 (en) Transflective liquid crystal display device
JP4167085B2 (en) Liquid crystal display
JP2007079355A (en) Liquid crystal device and electronic equipment
JP2007226232A (en) Liquid crystal display panel
JP5100047B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
US8314905B2 (en) Transflective liquid crystal display panel and electronic apparatus
JP2006343615A (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
JP2007094259A (en) Liquid crystal apparatus and electronic device
JP2005338553A (en) Liquid crystal display device and electronic equipment
JP2009053389A (en) Semitransmission liquid crystal display panel and electronic device
WO2009113206A1 (en) Liquid crystal display device
JP4045878B2 (en) Color filter substrate, electro-optical device, and electronic apparatus
JP5334012B2 (en) Transflective liquid crystal display panel and electronic equipment
JP2005173105A (en) Liquid crystal display and electronic device
JP2009047841A (en) Liquid crystal display
JP5121488B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP5291913B2 (en) Manufacturing method of transflective liquid crystal display panel
JP4858081B2 (en) Electro-optical device and manufacturing method thereof
JP4952544B2 (en) Liquid crystal display device and electronic device
JP2009294348A (en) Liquid crystal display device and electric equipment
JP2008225295A (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP4419972B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP2008304560A (en) Display device, and method for manufacturing substrate for display device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100526

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100526

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110526

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20120330

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121009

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121016

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121210

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20130328

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130709

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20130722

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130722

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees