JP2009087027A - Process management method, process management program, and process management system - Google Patents

Process management method, process management program, and process management system Download PDF

Info

Publication number
JP2009087027A
JP2009087027A JP2007255926A JP2007255926A JP2009087027A JP 2009087027 A JP2009087027 A JP 2009087027A JP 2007255926 A JP2007255926 A JP 2007255926A JP 2007255926 A JP2007255926 A JP 2007255926A JP 2009087027 A JP2009087027 A JP 2009087027A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contribution
process management
change
production line
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007255926A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoaki Kubo
智彰 久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2007255926A priority Critical patent/JP2009087027A/en
Publication of JP2009087027A publication Critical patent/JP2009087027A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process management method, a process management program, and a process management system for managing a manufacturing line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process, and for estimating the change of a contribution degree of each device to the finish of a product. <P>SOLUTION: This process management system 1 manages a manufacturing line 101 in which a plurality of devices 103 are arranged in parallel in one process 102. The data collection means 2 of the process management system 1 acquires data including history information and the finish of a product from the manufacturing line 101. Also, an analyzing means 3 performs the analysis of qualification type I to the data, and searches the relative relation of the contribution degree of each device 103 of the manufacturing line 101 to the finish of the product. Then, an estimation means 4 estimates the change of the contribution degree of each device 103 so that the total sum of the change of the contribution degree of the device 103 can be minimized on the basis of the relative relation. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、工程管理方法、工程管理プログラム及び工程管理システムに関し、特に、1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理方法、工程管理プログラム及び工程管理システムに関する。   The present invention relates to a process management method, a process management program, and a process management system, and more particularly to a process management method, a process management program, and a process management system for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process.

電子デバイスの微細化及び高精度化に伴い、製造プロセスは複雑化し、かつマージンの減少化が進んでいる。シミュレーションなどの活用により、製品設計やプロセス設計の段階で製造品質を確保する技術は進歩しつつあるが、前述の状況により、プロセス設計時に必ずしも全てのプロセスメカニズムや変動要因がモデル化しきれていない状況で量産開始を余儀なくされる状況があり、この状況は今後も続くものと予想される。   With the miniaturization and high precision of electronic devices, the manufacturing process has become complicated and the margin has been reduced. Technology that ensures manufacturing quality at the product design and process design stages is being improved by using simulations, etc., but due to the situation described above, not all process mechanisms and variable factors have been fully modeled during process design. However, this situation is expected to continue in the future.

一方、IT技術の進歩により、製造ラインでの情報収集・蓄積のコストが低下するにつれ、量産段階においてプロセスを安定化し、製品の信頼性を維持・向上する目的において、量産過程で得られる様々な情報を最大限に活用することの有効性が認められつつある。しかし、数百の工程に配置された千を超える装置から得られる膨大なデータから有益な情報を抽出するためには、解決すべき技術課題が数多く存在している。   On the other hand, as the cost of collecting and accumulating information on the production line decreases as IT technology advances, there are a variety of things that can be obtained in the mass production process in order to stabilize the process in the mass production stage and maintain and improve product reliability. The effectiveness of maximizing the use of information is being recognized. However, in order to extract useful information from a vast amount of data obtained from more than a thousand devices arranged in hundreds of processes, there are many technical problems to be solved.

電子デバイスの製造、特に量産ラインにおける品質向上・安定化活動においては、装置機差の解析が有力な手法のひとつである。電子デバイスの製造ライン、特に量産ラインにおいては、生産能力確保の観点から、ひとつの工程に複数の加工装置を配備して、これらを並行して使用することが多い。この際しばしば問題になるのが機差である。機差とは、同一モデルの装置を同一の加工条件で使用しているにもかかわらず、出来映えに無視できない差異が生じる現象である。機差は、装置の個体差、設置環境の微妙な違いなどによって生じるものと考えられる。このように、ひとつの工程で複数の装置を用いると、機差という、製品出来映えにとって新たなばらつき要因が加わることになる。機差は、存在が確認できてもその原因が掴めないことも多い。このため、対策を打つことが難しく、このような機差は製造ラインにおける最も大きな悩みの種のひとつである。   In the manufacture of electronic devices, especially in quality improvement / stabilization activities in mass production lines, analysis of equipment differences is one of the most effective methods. In an electronic device production line, particularly a mass production line, from the viewpoint of securing production capacity, a plurality of processing apparatuses are often provided in one process and used in parallel. In this case, the difference is often a problem. The machine difference is a phenomenon in which a difference that cannot be ignored is produced in spite of using the same model of equipment under the same processing conditions. Machine differences are considered to be caused by individual differences in devices and subtle differences in installation environment. As described above, when a plurality of apparatuses are used in one process, a new variation factor is added to the product finish, which is a machine difference. In many cases, the cause of a machine difference cannot be determined even if its existence can be confirmed. For this reason, it is difficult to take countermeasures, and such a machine difference is one of the biggest problems in the production line.

しかし、ひとつの工程で複数の装置が用いられていると、装置の異変が検出しやすくなることもある。例えば、複数工程からなる製造ラインがあるとして、各工程には1台ずつの装置しか使われていないとする。そして、ある装置に異変が起き、製品の最終出来映えに変化が生じたとする。このような場合、どの装置に異変が起きたのかは、製品の最終出来映えを監視しているだけでは分からない。しかし、もし各工程が2台の装置を並列的に使用しており、その1台に異変が生じたとすると、この場合は、製品の各工程における装置通過履歴さえ記録してあれば、各工程毎に、最終出来映えに対する装置依存性を調べれば、異変装置を特定することができる。   However, when a plurality of devices are used in one process, it may be easy to detect an abnormality of the device. For example, if there is a production line consisting of a plurality of processes, only one device is used for each process. Then, it is assumed that a certain device has changed and a change has occurred in the final product quality. In such a case, it is difficult to determine which device has changed by simply monitoring the final performance of the product. However, if each process uses two devices in parallel, and there is a change in one of them, in this case, if there is even a history of device passage in each process of the product, each process By examining the device dependence on the final performance every time, the anomalous device can be identified.

もちろん、実際には「自工程保証」という考え方に基づき、工程毎に工程出来映えを測定し、不良品を次工程に流さないようにするというのが製造ライン構築の基本である。工程出来映えを監視していれば、装置の異変も検出できることが多い。しかしながら、監視している工程出来映え以外の要因が装置異変により変化し、最終出来映えを変動させることがある。このような場合は、各工程においては異変を検出することができない。その要因を監視していない理由は、測定ができない場合もあり、技術的、コスト的に難しい場合もあり、また、そもそもその要因が未知である場合もある。   Of course, in practice, based on the concept of “self-process guarantee”, the basis of manufacturing line construction is to measure process performance for each process and prevent defective products from flowing into the next process. If the process performance is monitored, it is often possible to detect changes in the apparatus. However, factors other than the process performance being monitored may change due to a change in the apparatus, which may change the final performance. In such a case, anomalies cannot be detected in each process. The reason why the factor is not monitored is that measurement may not be possible, technical or cost may be difficult, and the factor may be unknown in the first place.

前述の如く、製品最終特性をばらつかせる未知な要因がその工程に含まれている場合、機差の原因を調べることにより、その要因推定の手がかりが得られる可能性があると考えられる。但し、機差の原因探しは難しい場合が多い。そこで、ある時点での機差だけでなく、機差の時系列的な変動を把握することも重要である。機差がどの時点で変化したかが分かれば、その時点付近で行われた保守、修理、異常処置などと照合して、機差変動の原因及び製品出来映えに関する未知の要因の発見につなげられる可能性がある。   As described above, when an unknown factor that varies the final product characteristics is included in the process, it is considered that a clue for estimating the factor may be obtained by examining the cause of the machine difference. However, finding the cause of the machine difference is often difficult. Therefore, it is important to grasp not only the machine difference at a certain time but also the time-series fluctuation of the machine difference. If you know when the machine difference has changed, you can collaborate with maintenance, repairs, abnormal actions, etc., performed near that point, and discover unknown causes of machine difference fluctuations and product performance. There is sex.

複数装置の並列的使用は、製造能力確保の点から避けられないことが多い。少なくとも言えるのは、品質管理の観点からは、そこから得られる機差という情報を逆に活用し、品質の向上、維持に役立てるべきということである。このように、ひとつの工程で複数の装置を使用することは機差という新たな問題を導入することになるが、複数の装置を使用するからこそ得られる新たな情報があることも事実である。その情報とは、ひとつは異変発生工程、もうひとつは未知の要因の代用特性である。
そこで、以下、機差を把握する従来の方法について説明する。
In many cases, the parallel use of a plurality of devices is unavoidable in terms of securing manufacturing capacity. At least it can be said that from the viewpoint of quality control, the difference information obtained from it should be used in reverse to help improve and maintain quality. In this way, using multiple devices in one process introduces a new problem of machine differences, but it is also true that there is new information that can be obtained from using multiple devices. . The information is anomaly generation process, and the other is substitution characteristics of unknown factors.
Therefore, a conventional method for grasping the machine difference will be described below.

(1)単回帰的な手法
機差を把握する手法のうち、最も単純な手法は、あるひとつの工程のみに着目し、その工程における各装置毎に最終出来映えの平均を求めるものである。これを行うことにより、その工程内の特定の装置を通過した製品群の最終出来映えが、全体の最終出来映えと異なっていることなどが把握できる場合がある。さらに、この分析を定期的に実施することにより、装置毎の平均最終出来映えのトレンドをプロットして可視化することができる。
(1) Single Regression Method Among the methods for grasping the machine difference, the simplest method pays attention to only one process and obtains the average of the final workmanship for each device in the process. By doing this, it may be possible to grasp that the final performance of a product group that has passed a specific device in the process is different from the overall final performance. Furthermore, by performing this analysis periodically, it is possible to plot and visualize the trend of the average final performance for each apparatus.

ここで、トレンドの可視化状況をシミュレーションするため、製造ラインのモデルを想定する。
図21は、製造ラインのモデルを例示する図である。
図21に示すように、製造ラインは工程A、B、Cの3工程からなり、各工程では3台の装置が並列的に使われているとする。すなわち、工程Aにおいては、装置A1、A2、A3が並列に設けられており、工程Bにおいては、装置B1、B2、B3が並列に設けられており、工程Cにおいては、装置C1、C2、C3が並列に設けられているものとする。また、各工程における使用装置は毎回ランダムに選ばれるものとする。
Here, in order to simulate the trend visualization state, a model of a production line is assumed.
FIG. 21 is a diagram illustrating a model of a production line.
As shown in FIG. 21, it is assumed that the production line includes three processes A, B, and C, and three apparatuses are used in parallel in each process. That is, in the process A, the devices A1, A2, and A3 are provided in parallel, in the process B, the devices B1, B2, and B3 are provided in parallel, and in the process C, the devices C1, C2, It is assumed that C3 is provided in parallel. Moreover, the use apparatus in each process shall be chosen at random every time.

図22(a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、処理に使用した装置毎に分類した最終出来映えのシミュレーション結果を例示するグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。   FIGS. 22A to 22C are graphs illustrating simulation results of final results classified for each apparatus used for processing, with a period on the horizontal axis and a final result on the vertical axis. a) shows the result classified for each apparatus in the process A, (b) shows the result classified for each apparatus in the process B, and (c) shows the result classified for each apparatus in the process C.

図21に示す構成の製造ラインにおいて、各工程の1号機から3号機は製品の最終出来映え(例えば電気特性)に対してそれぞれ1、0、−1の寄与度を持つものとした。これらの寄与度の差異が機差である。また、各工程でのこれら寄与度の和が製品の最終出来映えとなるものとした。各工程の使用装置は毎回ランダムに選ばれるとした。そして、1000サンプルのデータをシミュレーションで作成した。このとき、500サンプル目からは、工程Aの装置A1の寄与度を1から3に変化させた。データを100サンプル毎に区切り、各期間の各装置毎の最終出来映えの平均を、横軸を期間、縦軸を出来映え平均としてプロットした。例えば横軸の5の項目は、第401サンプル目から第500サンプル目のデータセットに対する解析結果である。図22では、工程Aの装置A1が変化したことが可視化できていることがわかる。なお、装置毎の出来映え平均の差異が統計的に有意といえるかを判定する手法として、分散分析という手法も知られている。   In the production line having the configuration shown in FIG. 21, the first to third machines in each process have contributions of 1, 0, and −1 to the final product quality (for example, electrical characteristics). Differences in these contributions are machine differences. Also, the sum of these contributions in each process is the final product. The equipment used in each process was selected at random each time. Then, 1000 samples of data were created by simulation. At this time, from the 500th sample, the contribution of the apparatus A1 in the process A was changed from 1 to 3. The data was divided every 100 samples, and the average of the final performance for each device in each period was plotted with the horizontal axis as the period and the vertical axis as the performance average. For example, the item 5 on the horizontal axis is the analysis result for the data set from the 401st sample to the 500th sample. In FIG. 22, it can be seen that the change of the apparatus A1 in the process A can be visualized. Note that a method called analysis of variance is also known as a method for determining whether or not the difference in performance average of each device is statistically significant.

しかしながら、この単回帰的な手法には、以下に示すような問題点がある。
この単回帰的な手法は、着目する工程における装置機差以外の全てのばらつき要因は、この工程内のどの装置を通過した製品に対しても均等に影響していることを前提とするものである。この前提を崩す要因としては、工程間で使用装置に相関がある場合が考えられる。例えば、工程Aにおいて装置A1によって処理された製品は、工程Bにおいては装置B2によって処理されることが多いといった場合である。このような場合、上述の方法で観測された工程Aの機差は、実は工程Bの機差であったというような状況が発生し得る。実際、このような工程間における使用装置の相関(以下、単に「装置間の相関」ともいう)は、様々な製造ラインにおいて存在している。
However, this simple regression method has the following problems.
This simple regression method is based on the premise that all variability factors other than equipment differences in the process of interest affect the products that have passed through any equipment in this process evenly. is there. As a factor that breaks this premise, there may be a case where there is a correlation in the apparatus used between processes. For example, the product processed by the apparatus A1 in the process A is often processed by the apparatus B2 in the process B. In such a case, a situation may occur in which the machine difference in the process A observed by the above-described method is actually the machine difference in the process B. In fact, the correlation of the devices used between the processes (hereinafter, also simply referred to as “correlation between devices”) exists in various production lines.

図23(a)乃至(c)は、工程間で使用装置に相関がある状況のシミュレーション結果を例示するグラフ図である。図の表記方法は、図22と同様である。
図23に示すシミュレーションにおいては、前述の図22に示す場合において、工程Bにおいては50%の確率で工程Aと同じ番号の装置が使用されるものとした。それ以外の条件は、上述の図22に示すシミュレーションと同じとした。
図23(a)乃至(c)に示すように、工程間で装用する装置に相関関係がある場合は、実際には工程Aの装置A1のみが変動しているのに対して、工程Bの装置B1も変動しているかのような観測結果が得られた。
FIGS. 23A to 23C are graphs illustrating simulation results in a situation where there is a correlation between the devices used between the processes. The notation of the figure is the same as in FIG.
In the simulation shown in FIG. 23, in the case shown in FIG. 22 described above, the apparatus having the same number as that in the process A is used in the process B with a probability of 50%. The other conditions were the same as the simulation shown in FIG.
As shown in FIGS. 23 (a) to 23 (c), when there is a correlation between apparatuses worn between processes, only the apparatus A1 of the process A actually fluctuates, whereas the apparatus of the process B Observation results were obtained as if the apparatus B1 was also changing.

(2)重回帰的な手法
上述の問題を回避するために、数量化I類という手法が知られている。例えば、特許文献1には、数量化I類による手法で機差の有意度を統計的に把握する手法が紹介されている。これは、複数の工程の通過履歴情報と最終出来映えから、最小二乗法で各工程の機差を同時に推定する手法である。説明変数が連続変数の場合の重回帰分析に相当する。この手法では、先ず、最終出来映えを各工程の使用装置から推定するモデルを立てる。これは、下記数式1で表される。
(2) Multiple regression method In order to avoid the above-mentioned problem, a method called quantification class I is known. For example, Patent Document 1 introduces a technique for statistically grasping the significance of machine difference by a technique based on quantification type I. This is a method of simultaneously estimating the machine difference of each process by the least square method from the passage history information and the final performance of a plurality of processes. This corresponds to multiple regression analysis when the explanatory variable is a continuous variable. In this method, first, a model for estimating the final result from the equipment used in each process is established. This is expressed by Equation 1 below.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

但し、
y:最終出来映え
p:工程数
m(j):第j工程の装置数
a(j,i):第j工程、第i装置の最終出来映えへの寄与の大きさ
u(j,i):第j工程、第i装置の使用有無(1:使用、0:不使用)
例えば第J工程で第I装置が使われた場合は、
u(J,i)=1 (i=I)
u(J,i)=0 (i≠I)
b:調整係数
とする。
However,
y: Final result p: Number of steps m (j): Number of devices in the j-th step a (j, i): Magnitude of contribution of the j-th step and i-th device to the final result u (j, i): Number Use of j step, i-th device (1: use, 0: not use)
For example, if device I is used in step J,
u (J, i) = 1 (i = I)
u (J, i) = 0 (i ≠ I)
b: Adjustment coefficient.

量産ラインにおいて、数多くの製品についての最終出来映えの計測データ、及び各製品の各工程における装置の通過履歴データがあれば、数量化I類の手法を用いることにより、上記数式1に示すa(j,i)の推定値を得ることができる。工程jの各装置に対するa(j,i)の相互間の差が、最終出来映えに対するいわゆる機差であるといえる。   In the mass production line, if there are measurement data of final finished products for a large number of products and passage history data of the apparatus in each process of each product, by using the method of quantification I, a (j , I) can be obtained. It can be said that the difference between a (j, i) for each device in the process j is a so-called machine difference with respect to the final result.

しかしながら、この手法で得られる工程jの各装置に対するa(j,i)は、相互の差異には意味があるが、それぞれの絶対値は意味を持たない。これは、上記数式1の形から分かるように、各工程のa(j,i)及びbは、同じyに対して無限の組み合わせの値が取り得るからである。このため、取り扱いの便宜上、数量化I類によるa(j,i)の推定値に適当な数値を与えようとすると、例えばa(j,1)を0とする、又は工程jにおけるa(j,i)の平均を0にするなどの恣意的な拘束条件を設定することが必要となる。   However, a (j, i) for each device in the process j obtained by this method is meaningful in the difference between each other, but the absolute value of each is meaningless. This is because, as can be seen from the form of Equation 1, a (j, i) and b in each step can take infinite combinations of values for the same y. Therefore, for convenience of handling, if an appropriate numerical value is given to the estimated value of a (j, i) by the quantification class I, for example, a (j, 1) is set to 0, or a (j in step j , I) it is necessary to set an arbitrary constraint condition such that the average of i) is zero.

次に、機差のトレンドを調べるためにこの数量化I類による分析を定期的に行うことを考える。
図24(a)乃至(c)は、工程間の使用装置の相関がない場合について、数量化I類によるシミュレーション結果を例示するグラフ図である。図の表記方法は、図22と同様である。
図25(a)乃至(c)は、工程間の使用装置の相関がある場合について、数量化I類によるシミュレーション結果を例示するグラフ図である。図の表記方法は、図22と同様である。
図25に示すシミュレーションにおいては、装置間の相関は、前述の図23に示すシミュレーションと同様とした。
Next, in order to investigate the trend of machine difference, consider that the analysis by the quantification type I is periodically performed.
FIGS. 24A to 24C are graphs illustrating the simulation results by the quantification type I when there is no correlation between the apparatuses used between the processes. The notation of the figure is the same as in FIG.
FIGS. 25A to 25C are graphs illustrating the simulation results by the quantification type I when there is a correlation of the devices used between the processes. The notation of the figure is the same as in FIG.
In the simulation shown in FIG. 25, the correlation between the apparatuses is the same as the simulation shown in FIG.

図24及び図25に示すように、数量化I類による機差解析では、装置間の相関の有無に拘わらず、どの工程で機差変動が起きているかを明確に示せていることが分かる。しかしながら、どの装置の寄与度が変化しているかを特定することはできていない。数量化I類による機差解析では、上記数式1におけるa(j,i)は相対的にしか意味を持たないため、各装置のa(j,i)の推定値は0を平均として互いにバランスしあう形で推移することになる。例えば、図25に示す例では、真の機差変動は装置A1によって処理した製品の最終出来映えの平均値が2だけ上がり、装置A2及び装置A3によって処理した製品の最終出来映えの平均値は一定というものである。しかし図24及び図25に示す解析結果では、装置A1の平均が1.33増加し、装置A2、装置A3の各平均はそれぞれ0.67減少するという表示になっている。これでは、機差の変動を正しく把握することが難しい。   As shown in FIGS. 24 and 25, it can be seen that the machine difference analysis by the quantification type I clearly shows in which process the machine difference fluctuation occurs regardless of the presence or absence of correlation between apparatuses. However, it is not possible to specify which device has changed the degree of contribution. In the machine difference analysis by the quantification class I, a (j, i) in the above formula 1 has only a relative meaning, and therefore the estimated value of a (j, i) of each device is balanced with 0 as an average. It will change in a harmonious way. For example, in the example shown in FIG. 25, the true machine difference variation is that the average value of the final results of the products processed by the device A1 is increased by 2, and the average value of the final results of the products processed by the devices A2 and A3 is constant. Is. However, in the analysis results shown in FIGS. 24 and 25, the average of the device A1 is increased by 1.33, and the averages of the devices A2 and A3 are each decreased by 0.67. With this, it is difficult to correctly grasp the variation of the machine difference.

図26(a)乃至(c)は、図24とよりも機差変動が頻繁に起きている場合における数量化I類によるシミュレーション結果を例示するグラフ図である。図の表記方法は、図22と同様である。
この例は、図1に示す製造ラインの工程Aにおいて、250サンプル目の時点で装置A1の寄与度が2だけ増加し、500サンプル目の時点で装置A2の寄与度が2だけ増加し、750サンプル目の時点で装置A3の寄与度が2だけ増加したと想定している。
しかしながら、図26(a)に示す結果においては、各装置のトレンドが不明確であり、機差の変動が正しく可視化できているとは言い難い。
このように、従来の数量化I類による解析では、機差の相対関係しか得ることができず、各装置の固有のトレンドを知見することができないという問題点がある。
FIGS. 26A to 26C are graphs illustrating simulation results by the quantification type I when machine difference fluctuations occur more frequently than in FIG. The notation of the figure is the same as in FIG.
In this example, in the process A of the production line shown in FIG. 1, the contribution of the apparatus A1 is increased by 2 at the time of the 250th sample, and the contribution of the apparatus A2 is increased by 2 at the time of the 500th sample. It is assumed that the contribution of the device A3 has increased by 2 at the time of the sample.
However, in the result shown in FIG. 26 (a), the trend of each device is unclear, and it is difficult to say that the fluctuation of the machine difference can be correctly visualized.
As described above, in the conventional analysis based on the quantification type I, there is a problem that only a relative relationship between machine differences can be obtained, and a unique trend of each device cannot be known.

特開2000−12640号公報JP 2000-12640 A

本発明の目的は、1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理方法、工程管理プログラム及び工程管理システムであって、製品の最終出来映えに対する各装置の寄与度の変化を推定することができる工程管理方法、工程管理プログラム及び工程管理システムを提供することである。   An object of the present invention is a process management method, a process management program, and a process management system for managing a production line in which a plurality of apparatuses are arranged in parallel in one process, and the contribution degree of each apparatus to the final product finish. To provide a process management method, a process management program, and a process management system capable of estimating a change.

本発明の一態様によれば、1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理方法であって、前記製造ラインから取得したデータに数量化I類の解析を施して、各前記装置が前記製造ラインにおける製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求め、前記相対的関係に基づいて、前記寄与度の変化の総和が最小になるように、各前記装置の寄与度の変化を推定する、ことを特徴とする工程管理方法が提供される。   According to one aspect of the present invention, there is provided a process management method for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process, wherein the data obtained from the production line is analyzed for quantification type I. And determining the relative relationship between the contributions of each of the devices to the final performance of the product in the production line and, based on the relative relationships, each of the devices so that the sum of changes in the contributions is minimized. There is provided a process management method characterized by estimating a change in the degree of contribution.

本発明の他の一態様によれば、1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理プログラムであって、コンピューターに、前記製造ラインから取得したデータに数量化I類の解析を施して、前記装置が前記製造ラインにおける製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求める手順と、前記相対的関係に基づいて、前記寄与度の変化の総和が最小になるように、前記各装置の寄与度の変化を推定する手順と、を実行させることを特徴とする工程管理プログラムが提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a process management program for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process, wherein the computer is configured to quantize data obtained from the production line. And a procedure for obtaining a relative relationship of contributions of the apparatus to the final performance of the product in the production line, and the sum of changes in the contributions is minimized based on the relative relationship. Thus, there is provided a process management program that executes a procedure for estimating a change in contribution of each device.

本発明の更に他の一態様によれば、1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理システムであって、前記製造ラインからデータを収集するデータ収集手段と、前記データに数量化I類の解析を施して、前記装置が前記製造ラインにおける製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求める解析手段と、前記相対的関係に基づいて、前記寄与度の変化の総和が最小になるように、前記各装置の寄与度の変化を推定する推定手段と、を備えたことを特徴とする工程管理システムが提供される。   According to still another aspect of the present invention, there is provided a process management system for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process, and a data collection means for collecting data from the production line; Analyzing means for analyzing the quantification type I on the data to obtain a relative relationship of the contribution degree of the device to the final product performance in the production line, and based on the relative relation, There is provided a process management system comprising estimation means for estimating a change in contribution of each device so that a total sum of changes is minimized.

本発明によれば、1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理方法、工程管理プログラム及び工程管理システムであって、製品の最終出来映えに対する各装置の寄与度の変化を推定することができる工程管理方法、工程管理プログラム及び工程管理システムを実現することができる。   According to the present invention, there are a process management method, a process management program, and a process management system for managing a production line in which a plurality of apparatuses are arranged in parallel in one process, and the contribution degree of each apparatus to the final workmanship of a product. A process management method, a process management program, and a process management system that can estimate a change can be realized.

以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
最初に、本発明の実施形態の考え方を概略的に説明する。
本発明の実施形態においては、先ず、製造ラインから取得されたデータについて、前述の数量化I類による解析を行い、各装置が製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求め、この相対的関係から、各装置の寄与度の変化(トレンド)を推定する。このために、以下の考え方を導入する。すなわち、機差の変動は頻繁には起こらず、また、複数装置の機差が同時に変化することは稀である、という仮説を立てる。そして、この仮設に立脚し、さらに、「観測された事象は、考えられる可能性のうち、確率的に最も起きやすいことが起きたものと考える」という立場に立つ。これは、統計における最尤法と同じ考え方である。すなわち、観測されたa(j,i)の変化は、できるだけ少ない装置の変動によってもたらされたものであると考える。これらの考え方に立つと、機差変動波形再現アルゴリズムとして、以下の実施形態で詳しく説明するアルゴリズムが考えられる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
First, the concept of the embodiment of the present invention will be schematically described.
In the embodiment of the present invention, first, the data obtained from the production line is analyzed by the above-mentioned quantification type I, and the relative relationship of the degree of contribution each device has to the final product is obtained. The change (trend) in the contribution degree of each device is estimated from the physical relationship. For this purpose, the following concept is introduced. That is, it is hypothesized that machine difference fluctuations do not occur frequently and that machine differences of a plurality of devices rarely change simultaneously. Based on this hypothesis, he also stands in the position that "the observed event is considered to have happened most probably the most probable possibility". This is the same idea as the maximum likelihood method in statistics. That is, it is considered that the observed change in a (j, i) is caused by as little apparatus variation as possible. Based on these ideas, an algorithm described in detail in the following embodiment can be considered as the machine difference fluctuation waveform reproduction algorithm.

先ず、本発明の第1の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態に係る工程管理システムを例示するブロック図である。
図1に示すように、本実施形態に係る工程管理システム1は、製造ライン101を管理するシステムである。製造ライン101においては、複数の工程102が直列に設けられており、各工程102にはそれぞれ複数の装置103が並列に配置されている。1つの工程102に配置された複数の装置103は、前工程から搬入された半製品に対して同一種類の処理を相互に独立して並列に行い、処理後の半製品を次工程に搬出する。製造ライン101は、例えば、電子デバイスの製造ラインである。
First, a first embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1 is a block diagram illustrating a process management system according to this embodiment.
As shown in FIG. 1, the process management system 1 according to the present embodiment is a system that manages a production line 101. In the production line 101, a plurality of steps 102 are provided in series, and a plurality of devices 103 are arranged in parallel in each step 102, respectively. The plurality of apparatuses 103 arranged in one process 102 performs the same type of processing on the semi-finished product imported from the previous process in parallel independently of each other, and delivers the processed semi-finished product to the next process. . The production line 101 is, for example, an electronic device production line.

工程管理システム1においては、製造ライン101からデータを収集して記憶するデータ収集手段2が設けられている。このデータには、各製品がどの工程102においてどの装置103によって処理されたかを示す履歴情報と、この製品の最終出来映えが含まれている。データ収集手段2には、例えばHDD(Hard Disk Drive:ハードディスクドライブ)等の記憶手段が設けられている。   In the process management system 1, a data collection unit 2 that collects and stores data from the production line 101 is provided. This data includes history information indicating which device 103 processed each product in which process 102, and the final performance of the product. The data collection means 2 is provided with storage means such as an HDD (Hard Disk Drive).

また、工程管理システム1には、データ収集手段2が製造ライン101から収集したデータに対して数量化I類の解析を施して、各装置103が製造ライン101における製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求める解析手段3が設けられている。すなわち、解析手段3は、ある工程102に属する複数の装置103の寄与度の相対的関係を算出することができる。但し、このとき算出される各装置103の寄与度は相対値である。例えば、ある工程102に属する全ての装置103の寄与度の合計は一定値となる。   In addition, the process management system 1 performs a quantification type I analysis on the data collected by the data collection unit 2 from the production line 101, and the degree of contribution each device 103 has to the final product quality in the production line 101. Analyzing means 3 for obtaining the relative relationship is provided. That is, the analysis unit 3 can calculate the relative relationship of the contributions of the plurality of apparatuses 103 belonging to a certain process 102. However, the contribution degree of each device 103 calculated at this time is a relative value. For example, the total contribution of all devices 103 belonging to a certain process 102 is a constant value.

更に、工程管理システム1には、解析手段3が算出した寄与度の相対的関係に基づいて、寄与度の変化の総和が最小になるように、各装置103の寄与度の変化を推定する推定手段4が設けられている。すなわち、推定手段4は、上述の相対的関係を維持したまま、ある工程102に属する全ての装置103の寄与度の変化の総和が最小となるように、各装置103の寄与度の変化の大きさを選択する。これにより、各装置103の寄与度の変化を推定する。また、寄与度の変化を継続して推定することにより、その装置103の寄与度のトレンドを推定する。解析手段3及び推定手段4はそれぞれ専用のハードウェアによって構成されていてもよく、共通の汎用コンピューターによって構成されていてもよい。   Further, the process management system 1 estimates the contribution change of each device 103 based on the relative relationship of the contribution degree calculated by the analysis unit 3 so that the sum of the change of contribution degree is minimized. Means 4 are provided. That is, the estimation unit 4 maintains the above-described relative relationship, and the magnitude of the change in the contribution of each device 103 is minimized so that the sum of the changes in the contribution of all the devices 103 belonging to a certain process 102 is minimized. Select the size. Thereby, the change of the contribution degree of each apparatus 103 is estimated. Moreover, the trend of the contribution degree of the apparatus 103 is estimated by continuously estimating the change of the contribution degree. The analysis unit 3 and the estimation unit 4 may be configured by dedicated hardware, respectively, or may be configured by a common general-purpose computer.

更にまた、工程管理システム1には、データ収集手段2が収集したデータ、解析手段3による解析結果及び推定手段4による推定結果を出力すると共に、データ収集手段2、解析手段3及び推定手段4に対して命令及び情報を入力する入出力手段5が設けられている。入出力手段5には、例えば、キーボード及びディスプレイが設けられている。   Furthermore, the process management system 1 outputs the data collected by the data collection means 2, the analysis result by the analysis means 3, and the estimation result by the estimation means 4, and also outputs to the data collection means 2, the analysis means 3 and the estimation means 4. On the other hand, input / output means 5 for inputting commands and information is provided. The input / output means 5 is provided with, for example, a keyboard and a display.

次に、上述の如く構成された本実施形態に係る工程管理システムの動作、すなわち、本実施形態に係る工程管理方法について説明する。
図2は、本実施形態に係る工程管理方法を例示するフローチャート図である。
Next, the operation of the process management system according to this embodiment configured as described above, that is, the process management method according to this embodiment will be described.
FIG. 2 is a flowchart illustrating the process management method according to this embodiment.

先ず、図2のステップS1に示すように、工程管理システム1のデータ収集手段2が、製造ライン101から、製造ライン101において製造された製品の最終出来映え及び履歴のデータを取得する。なお、このデータの取得は定期的に行う。また、このデータについての後述する解析及び推定も、定期的に行う。   First, as shown in step S <b> 1 of FIG. 2, the data collection unit 2 of the process management system 1 acquires final workmanship and history data of products manufactured in the manufacturing line 101 from the manufacturing line 101. This data is acquired periodically. Further, analysis and estimation described later on this data are also performed periodically.

次に、ステップS2に示すように、解析手段3が、データ収集手段2が取得したデータについて、数量化I類による解析を行う。具体的には、上述のデータを下記数式2に代入し、x(j,i)の推定値を算出する。なお、下記数式2は、上記数式1において、a(j,i)をx(j,i)と読み替えた式である。すなわち、
y:最終出来映え
p:工程数
m(j):第j工程の装置数
x(j,i):第j工程、第i装置の最終出来映えへの寄与の大きさ
u(j,i):第j工程、第i装置の使用有無(1:使用、0:不使用)
例えば第J工程では第I装置が使われた場合、
u(J,i)=1 (i=I)
u(J,i)=0 (i≠I)
b:調整係数
とする。
これにより、x(j,i)が相対値として取得される。すなわち、各装置の寄与度の相対的関係が求まる。
Next, as shown in step S <b> 2, the analyzing unit 3 analyzes the data acquired by the data collecting unit 2 using the quantification type I. Specifically, the above-described data is substituted into the following formula 2, and an estimated value of x (j, i) is calculated. In addition, the following formula 2 is a formula obtained by replacing a (j, i) with x (j, i) in the above formula 1. That is,
y: Final result p: Number of steps m (j): Number of devices in the j-th step x (j, i): Magnitude of contribution to final result of the j-th step and i-th device u (j, i): Number Use of j step, i-th device (1: use, 0: not use)
For example, if the I equipment is used in the J process,
u (J, i) = 1 (i = I)
u (J, i) = 0 (i ≠ I)
b: Adjustment coefficient.
Thereby, x (j, i) is acquired as a relative value. That is, the relative relationship of the contribution degree of each device is obtained.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

次に、ステップS3に示すように、推定手段4が、この相対的関係に基づいて、各装置の寄与度の変化を推定する。すなわち、上述のx(j,i)のうち、任意の1つの工程の分一式を入力データとし、機差の真の動きを推定して入力データを変換して出力データとする。入力データのサンプル数をn、その工程の装置数をmとする。また、入力データとして、i番目のサンプルについてのj番目の装置の寄与度をx(i,j)とする。同様に、出力データをw(i,j)とする。入力データ及び出力データの様式を表1及び表2に示す。   Next, as shown in step S <b> 3, the estimation unit 4 estimates the change in contribution of each device based on this relative relationship. That is, among the above-mentioned x (j, i), a set of arbitrary one process is used as input data, and true movement of machine difference is estimated to convert the input data into output data. Let n be the number of samples of input data and m be the number of devices in the process. Further, as input data, the contribution of the j-th device with respect to the i-th sample is assumed to be x (i, j). Similarly, let w (i, j) be the output data. Tables 1 and 2 show the format of input data and output data.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

Figure 2009087027
Figure 2009087027

ステップS3においては、推定手段4が、毎回の解析結果の相対的な上下関係を維持したままこれを増減させ、前回からの各寄与度の変化の総和が最小となるところを見つける。そしてこれが実際に起きたことであると結論付ける。これは、前述の如く、機差の変動は稀であるという仮説を前提としている。以下、この処理について詳述する。   In step S3, the estimation means 4 increases / decreases this while maintaining the relative vertical relationship of the analysis results of each time, and finds a place where the total sum of changes in each contribution from the previous time is minimized. He concludes that this is what actually happened. This is based on the hypothesis that, as described above, the variation in machine difference is rare. Hereinafter, this process will be described in detail.

図3は、図2のステップS3に示す処理のアルゴリズムを例示するフローチャート図である。
先ず、図3のステップS31に示すように、サンプル番号i(iは1乃至nの整数)をi=1とする。なお、サンプル番号は時系列的に付されているため、サンプル番号iはその製品が製造された期間も表す。
次に、ステップS32に示すように、w(i,k)=x(i,k)とする。但し、kは1乃至mの整数である。
次に、ステップS33に示すように、iの数値を1だけ増加させる。すなわち、i=i+1とする。
FIG. 3 is a flowchart illustrating the algorithm of the process shown in step S3 of FIG.
First, as shown in step S31 of FIG. 3, the sample number i (i is an integer from 1 to n) is set to i = 1. Since the sample numbers are given in time series, the sample number i also represents the period during which the product was manufactured.
Next, as shown in step S32, w (i, k) = x (i, k) is set. However, k is an integer of 1 to m.
Next, as shown in step S33, the numerical value of i is increased by 1. That is, i = i + 1.

次に、ステップS34に示すように、寄与度の変化の総和I(s)を下記数式3及び下記数式4のように定義するとき、寄与度の変化の総和I(s)が最小となるような上乗せ値sを探索法により求める。このようにして求められた上乗せ値sの値をsminとする。 Next, as shown in step S34, when the sum I (s) of the change in contribution is defined as the following formula 3 and formula 4 below, the sum I (s) of the change in contribution is minimized. The extra value s is obtained by a search method. The value of the added value s obtained in this way is defined as s min .

Figure 2009087027
Figure 2009087027

Figure 2009087027
Figure 2009087027

図4は、上述の寄与度の変化の総和I(s)の概念を例示する図である。
図4に示すように、ステップS34においては、sの値を−∞から+∞まで変化させて、I(s)が最小となるs(smin)を見つける。
FIG. 4 is a diagram illustrating the concept of the total change I (s) of the above-described contribution degrees.
As shown in FIG. 4, in step S34, the value of s is changed from −∞ to + ∞ to find s (s min ) that minimizes I (s).

図5は、図4において、3台の装置(装置1、装置2、装置3)のうちのいずれかの寄与度を固定した場合を例示する図である。
図5に示すように、結果的には、I(s)が最小値をとるのは、いずれかの装置の寄与度を固定した場合である。このため、ある工程に配置された装置数が3台である場合には、図5に示す3つのケースを調べればよい。例えば、s=−d(i,1)、s=−d(i,2)、又はs=−d(i,3)であれば、それぞれ装置1、装置2又は装置3の寄与度を固定したことになる。
FIG. 5 is a diagram illustrating a case where the contribution degree of any of the three devices (device 1, device 2, and device 3) is fixed in FIG.
As shown in FIG. 5, as a result, I (s) takes the minimum value when the contribution of any device is fixed. For this reason, when the number of apparatuses arranged in a certain process is three, the three cases shown in FIG. 5 may be examined. For example, if s = −d (i, 1), s = −d (i, 2), or s = −d (i, 3), the contribution of the device 1, device 2 or device 3 is fixed, respectively. It will be done.

次に、図3のステップS35に示すように、ステップS34において求めたsminの値を用いて、下記数式5により、w(i,k)を算出する。 Next, as shown in step S35 of FIG. 3, w (i, k) is calculated by the following equation 5 using the value of s min obtained in step S34.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

次に、ステップS36に進み、i=nであれば、図2に示すステップS3を終了する。一方、i<nであれば、ステップS33に戻り、ステップS33〜S36の工程を繰り返す。これにより、w(2,k)、w(3,k)、・・・w(n,k)と順次w(i,k)を求めていく。但し、w(1,k)はx(1,k)とする。   Next, the process proceeds to step S36, and if i = n, step S3 shown in FIG. On the other hand, if i <n, the process returns to step S33, and steps S33 to S36 are repeated. As a result, w (2, k), w (3, k),... W (n, k) and w (i, k) are sequentially obtained. However, w (1, k) is x (1, k).

そして、上述のステップS1〜S3に示す工程を定期的に繰り返す。これにより、各装置103の寄与度のトレンドが推定される。また、推定手段4は算出されたw(i,k)の値を入出力手段5に対して出力し、入出力手段5はこの結果を出力する。例えば、入出力手段5は上記推定結果をディスプレイに表示する。   And the process shown to above-mentioned step S1-S3 is repeated regularly. Thereby, the trend of the contribution degree of each apparatus 103 is estimated. The estimation means 4 outputs the calculated value of w (i, k) to the input / output means 5, and the input / output means 5 outputs this result. For example, the input / output unit 5 displays the estimation result on a display.

本実施形態によれば、数量化I類の解析により得られた機差の相対的関係について、複数装置の機差が同時に変化することは稀であるという仮説を導入し、各装置の寄与度の変化の総和が最小となるようにすることにより、製品の最終出来映えに対する各装置の寄与度の変化を推定することができる。この結果、例えば、ある工程のある装置の寄与度がある時点において急に変化したときには、この装置に何らかの異常が発生していると推定し、対策を講じることができる。これにより、製造ライン101の工程管理を行うことができる。   According to the present embodiment, with respect to the relative relationship of the machine differences obtained by the quantification class I analysis, the hypothesis that the machine differences of a plurality of devices rarely change at the same time is introduced, and the contribution degree of each device By making the total sum of the changes in the minimum, it is possible to estimate the change in the contribution of each device to the final product performance. As a result, for example, when the degree of contribution of an apparatus in a certain process changes suddenly at a certain point in time, it can be estimated that some abnormality has occurred in this apparatus, and measures can be taken. Thereby, process management of the production line 101 can be performed.

なお、上述の如く、解析手段3及び推定手段4は共通の汎用コンピューターによって構成されていてもよい。この場合、上述の工程管理は、工程管理プログラムによって実行される。
この工程管理プログラムは、1つの工程102に複数の装置103が並列に配置された製造ライン101を管理する工程管理プログラムであって、コンピューターに以下の手順を実行させるプログラムである。
(1)製造ライン101から取得したデータに数量化I類の解析を施して、装置101が製造ライン101における製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求める手順(ステップS2)。
(2)この相対的関係に基づいて、寄与度の変化の総和が最小になるように、各装置103の寄与度の変化を推定する手順(ステップS3)。
As described above, the analysis unit 3 and the estimation unit 4 may be configured by a common general-purpose computer. In this case, the process management described above is executed by a process management program.
This process management program is a process management program for managing a production line 101 in which a plurality of devices 103 are arranged in parallel in one process 102, and is a program for causing a computer to execute the following procedure.
(1) A procedure in which the data obtained from the production line 101 is subjected to quantification type I analysis to determine the relative relationship of the degree of contribution that the apparatus 101 has to the final product quality in the production line 101 (step S2).
(2) A procedure for estimating the change in contribution of each device 103 based on this relative relationship so that the sum of the change in contribution is minimized (step S3).

また、上述の各装置の寄与度の変化の推定(ステップS3)は、このコンピューターに、以下の手順を実行させる。
(2−1)各装置103の寄与度に加算する共通の上乗せ値sであって、寄与度の変化の総和I(s)が最小値をとるような上乗せ値sminを見つける手順(ステップS34)。
(2−2)上乗せ値sminを用いて各装置103の寄与度の変化を推定する手順(ステップS35)。
Moreover, estimation of the change of the contribution degree of each apparatus mentioned above (step S3) makes this computer perform the following procedures.
(2-1) Procedure for finding an added value s min that is a common added value s to be added to the contribution degree of each device 103 and that takes a minimum value of the total change I (s) of the contribution degree (step S34) ).
(2-2) A procedure for estimating a change in the degree of contribution of each device 103 using the additional value s min (step S35).

次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
本実施形態に係る工程管理システムを例示する図は、図1と同様な図となる。
図6は、本実施形態に係る工程管理方法の一部を例示するフローチャート図である。
なお、本実施形態に係る工程管理方法の全体を例示するフローチャート図は、図2と同様な図となる。図6は、図2のステップS3に示すアルゴリズムを例示している。
図7(a)乃至(c)は、図6に示すステップS37の工程を例示する図である。
図8(a)及び(b)は、図6に示すステップS38及びS39の工程を例示する図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
A diagram illustrating the process management system according to the present embodiment is the same as FIG.
FIG. 6 is a flowchart illustrating a part of the process management method according to this embodiment.
A flowchart illustrating the entire process management method according to the present embodiment is the same as FIG. FIG. 6 illustrates the algorithm shown in step S3 of FIG.
7A to 7C are diagrams illustrating the process of step S37 shown in FIG.
FIGS. 8A and 8B are diagrams exemplifying steps S38 and S39 shown in FIG.

本実施形態に係る工程管理方法は、前述の第1の実施形態と比較して、ステップS3の内容が異なっている。すなわち、図6に示すように、本実施形態においては、ステップS34及びS35の替わりにステップS37及びS39が設けられており、ステップS37とステップS39の間にはステップS38が設けられている。   The process management method according to the present embodiment is different from the first embodiment described above in the content of step S3. That is, as shown in FIG. 6, in this embodiment, steps S37 and S39 are provided instead of steps S34 and S35, and step S38 is provided between steps S37 and S39.

本実施形態においては、前述の第1の実施形態と同様に、図2に示すステップS1及びS2の工程の後、図6に示すステップS31〜S33の工程を実施する。すなわち、製造ラインからデータを読み込み(ステップS1)、数量化I類による解析(ステップS2)を施す。その後、サンプル番号(期間)i(iは1乃至nの整数)を1とし(ステップS31)、w(i,k)=w(i,k)とし(ステップS32)、i=i+1とする(ステップS33)。   In the present embodiment, similarly to the first embodiment described above, steps S31 to S33 shown in FIG. 6 are performed after the steps S1 and S2 shown in FIG. That is, data is read from the production line (step S1) and analyzed by quantification type I (step S2). Thereafter, the sample number (period) i (i is an integer from 1 to n) is set to 1 (step S31), w (i, k) = w (i, k) (step S32), and i = i + 1 ( Step S33).

そして、ステップS37に示すように、寄与度の変化の総和I(s)を下記数式6のように定義するとき、寄与度の変化の総和I(s)が最小となるような上乗せ値sを探索法により求める。但し、kは1乃至mの整数である。このときの上乗せ値sの値をsminとする。 Then, as shown in step S37, when the sum I (s) of the change in contribution is defined as in the following Equation 6, an added value s that minimizes the sum I (s) of the change in contribution is obtained. Obtained by a search method. However, k is an integer of 1 to m. The value of the added value s at this time is s min .

Figure 2009087027
Figure 2009087027

このとき、d(i,k)の値は、以下のように場合分けして求める。すなわち、
(1)x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでない場合には、下記数式7によって求める。
(2)x(i,k)は欠損データでなく、且つx(i−1,k)が欠損データである場合には、下記数式8によって求める。
なお、「欠損データ」とは、そのデータに対応する装置が不使用であった等の理由により、数値が存在していないデータをいう。
At this time, the value of d (i, k) is obtained for each case as follows. That is,
(1) If neither x (i, k) nor x (i-1, k) is missing data, the following formula 7 is used.
(2) When x (i, k) is not missing data and x (i-1, k) is missing data, it is obtained by the following formula 8.
Note that “missing data” refers to data that does not have a numerical value, for example, because a device corresponding to the data is not used.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

Figure 2009087027
Figure 2009087027

例えば、図7(a)に示すように、装置数が4であり、装置2の前回のデータと装置3の今回のデータが欠損データであったとする。この場合、図7(b)に示すように、今回については、欠損データでない装置1、2、4のデータを用いて、前述の第1の実施形態と同様な方法により、sminの探索を行う。但し、前回のデータが欠損データであった装置2については、前回は今回と同じ値とする。一方、今回のデータが欠損データである装置3については、sminの探索を行わない。そして、図7(c)に示すように、図7(b)において求めたsminの値を用いて、装置1、4についてwを算出する。 For example, as shown in FIG. 7A, it is assumed that the number of devices is 4, and the previous data of the device 2 and the current data of the device 3 are missing data. In this case, as shown in FIG. 7B, for this time, a search for s min is performed using the data of the devices 1, 2, and 4 that are not missing data by the same method as in the first embodiment. Do. However, for the device 2 whose previous data was missing data, the previous value is the same as this time. On the other hand, the device 3 in which the current data is missing data is not searched for s min . Then, as shown in FIG. 7C, w is calculated for the devices 1 and 4 using the value of s min obtained in FIG. 7B.

次に、ステップS38に示すように、下記数式9により、aの値を求める。
但し、a1は、x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでないkについてのx(i,k)の平均値である。
また、a2は、x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでないkについての{w(i−1,k)+d(i,k)+smin}の平均値である。
Next, as shown in step S38, the value of a is obtained by the following formula 9.
However, a1 is the average value of x (i, k) for k where x (i, k) and x (i-1, k) are not missing data.
Further, a2 is an average value of {w (i−1, k) + d (i, k) + s min } for k in which x (i, k) and x (i−1, k) are not missing data. It is.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

すなわち、図8(a)に示すように、前回と今回の双方についてデータが存在する装置1、4については、x(i)の平均値を求め、その値をa1とする。また、装置1、4について、w(i)の平均値を求め、その値をa2とする。そして、上記数式9により、aの値を求める。   That is, as shown in FIG. 8A, for the devices 1 and 4 in which data exists for both the previous time and the current time, an average value of x (i) is obtained and the value is set to a1. In addition, for the devices 1 and 4, an average value of w (i) is obtained, and the value is set to a2. And the value of a is calculated | required by the said Numerical formula 9.

次に、ステップS39に示すように、w(i,k)の値を求める。このとき、以下のように場合分けして求める。
(1)x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでない場合には、w(i,k)の値は下記数式10によって求める。
(2)x(i,k)は欠損データでなく、且つx(i−1,k)が欠損データである場合には、w(i,k)の値は下記数式11によって求める。
Next, as shown in step S39, the value of w (i, k) is obtained. At this time, it is obtained separately for each case as follows.
(1) When neither x (i, k) nor x (i-1, k) is missing data, the value of w (i, k) is obtained by the following formula 10.
(2) When x (i, k) is not missing data and x (i-1, k) is missing data, the value of w (i, k) is obtained by the following formula 11.

Figure 2009087027
Figure 2009087027

Figure 2009087027
Figure 2009087027

例えば、図8(b)に示すように、前回と今回の双方についてデータが存在する装置1、4については、上記数式10によってw(i,k)を算出し、前回のデータが欠損データである装置2については、上記数式11によってw(i,k)を算出する。なお、今回のデータが欠損データである装置3については、w(i,k)を算出しない。   For example, as shown in FIG. 8B, for the devices 1 and 4 in which data exists for both the previous time and the current time, w (i, k) is calculated by the above formula 10, and the previous data is missing data. For a certain device 2, w (i, k) is calculated by the above equation 11. Note that w (i, k) is not calculated for the device 3 in which the current data is missing data.

次に、ステップS36に進み、i=nであればステップS3(図2参照)を終了し、i<nであれば、ステップS33に戻る。本実施形態における上記以外の工程管理方法は、前述の第1の実施形態と同様である。   Next, the process proceeds to step S36. If i = n, step S3 (see FIG. 2) is terminated, and if i <n, the process returns to step S33. The process management method other than the above in this embodiment is the same as that in the first embodiment.

実際の製造ラインにおいては、装置の保守、点検若しくは修理又は生産調整などの事由により、一定の期間全く使われない装置が発生する場合がある。この場合、その期間、その装置のデータは欠損データとなる。このとき、数量化I類による定期的な機差解析を行うと、その解析結果は、その期間使われなかった装置を除いた装置についての寄与度の平均値が0となるように毎回表示される。このため、解析結果が装置の使用・不使用による影響を受けて変動してしまい、結果が一層見づらいものになる。例えば、実際には機差変動がまったく無くても、波打ったグラフが出力されることになる。   In an actual production line, there may be a device that is not used at all for a certain period due to reasons such as device maintenance, inspection or repair, or production adjustment. In this case, the data of the device is missing data during that period. At this time, if a periodic machine difference analysis based on the quantification type I is performed, the analysis result is displayed every time so that the average value of the contributions to the devices excluding the devices that have not been used for that period is zero. The For this reason, the analysis result fluctuates due to the influence of use / nonuse of the apparatus, and the result becomes more difficult to see. For example, even if there is actually no machine difference fluctuation, a wavy graph is output.

そこで、本実施形態においては、ステップS37〜S39において、欠損データを考慮した処理を行う。具体的には、前回欠損データで今回は欠損データでない装置については、その装置のデータは用いずに上述の処理を行う。そして、この装置の今回の値は、その他の装置の変換前後の値の平均値の変化分だけシフトするものとする。これにより、欠損データが存在しても、解析結果が変動することがなく、信頼性が高い結果を得ることができる。   Therefore, in the present embodiment, processing in consideration of missing data is performed in steps S37 to S39. Specifically, for the device that was previously missing data but not this time, the above processing is performed without using the device data. The current value of this device is shifted by the change in the average value of the values before and after the conversion of other devices. Thereby, even if there is missing data, the analysis result does not fluctuate, and a highly reliable result can be obtained.

以下、前述の各実施形態の実施例について説明する。
先ず、第1の実施例について説明する。
本実施例は、前述の第1の実施形態における基本動作の実施例である。
図9(a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第1の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。
Hereinafter, examples of the above-described embodiments will be described.
First, the first embodiment will be described.
This example is an example of the basic operation in the first embodiment described above.
FIGS. 9A to 9C are graphs showing simulation results of the first embodiment, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final workmanship, and FIG. The result classified for every apparatus is shown, (b) shows the result classified for every apparatus of the process B, (c) shows the result classified for every apparatus of the process C.

第1の実施例のシミュレーションにおいては、図26に示す場合と同様に、図1に示す製造ラインの工程Aにおいて、250サンプル目の時点で装置A1の影響度が2だけ増加し、500サンプル目の時点で装置A2の影響度が2だけ増加し、750サンプル目の時点で装置A3の影響度が2だけ増加したと想定している。
図9(a)乃至(c)に示すように、本実施形態においては、各装置のトレンドが明確になっており、機差の変動が正確に可視化できた。
In the simulation of the first embodiment, as in the case shown in FIG. 26, the influence of the apparatus A1 increases by 2 at the time of the 250th sample in the process A of the production line shown in FIG. It is assumed that the influence degree of the apparatus A2 increases by 2 at the time point, and the influence degree of the apparatus A3 increases by 2 at the time point of the 750th sample.
As shown in FIGS. 9A to 9C, in this embodiment, the trend of each device is clear, and the variation of the machine difference can be visualized accurately.

次に、第2の実施例について説明する。
本実施例は、前述の第1の実施形態においてデータにノイズがある実施例である。
図10は、本実施例において想定した製造ラインを示す図である。
図10に示すように、本実施例においては、製造ラインは工程A〜Eの5工程から構成されているものとした。各工程においては、1号機〜3号機の3台の装置が配置されており、各装置はそれぞれ(+1)、0、(−1)の寄与度を持つものとした。そして、機差解析は前述の第1の実施例と同様に工程A、B、Cのみについて行った。すなわち、工程D、Eの影響は、製品の最終出来映えに対してはノイズとして作用する。各装置の寄与度の変動は、第1の実施例(図9参照)と同様とした。
Next, a second embodiment will be described.
This example is an example in which there is noise in data in the first embodiment.
FIG. 10 is a diagram showing a production line assumed in this embodiment.
As shown in FIG. 10, in this embodiment, the production line is composed of five steps A to E. In each process, three devices of Unit 1 to Unit 3 are arranged, and each device has contributions of (+1), 0, and (−1), respectively. The machine difference analysis was performed only for the processes A, B, and C as in the first embodiment. That is, the influence of the processes D and E acts as noise on the final product. The variation in contribution of each device was the same as in the first example (see FIG. 9).

図11(a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、本実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。
図11に示すように、数量化I類の解析によっては、各装置の寄与度の変動を正確に評価することができなかった。
FIGS. 11A to 11C are graphs showing analysis results by quantification type I in this embodiment, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final workmanship, and FIG. The result classified for every apparatus of A is shown, (b) shows the result classified for every apparatus of process B, (c) shows the result classified for every apparatus of process C.
As shown in FIG. 11, depending on the quantification class I analysis, it was impossible to accurately evaluate the variation in the contribution of each device.

図12(a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第2の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。
図12に示すように、第1の実施形態に係る方法によれば、最終出来映えにノイズが含まれる場合であっても、各装置の寄与度の変動をかなり正確に評価することができた。
12A to 12C are graphs showing simulation results of the second embodiment, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final workmanship, and FIG. The result classified for every apparatus is shown, (b) shows the result classified for every apparatus of the process B, (c) shows the result classified for every apparatus of the process C.
As shown in FIG. 12, according to the method according to the first embodiment, it was possible to evaluate the variation of the contribution degree of each device fairly accurately even when the final result includes noise.

次に、第3の実施例について説明する。
本実施例は、前述の第2の実施形態の実施例である。すなわち、装置の一時的な使用中断により、一定期間のデータに欠損がある場合の実施例である。
本実施例においては、工程Aに5台の装置があるものとし、201サンプル目から400サンプル目までの期間は装置A1と装置A2が不使用であり、601サンプル目以降は、装置A4と装置A5が不使用であるものと想定した。但し、機差変動、すなわち、各装置の寄与度の変化は5台とも一切ないものとした。
Next, a third embodiment will be described.
This example is an example of the above-described second embodiment. In other words, this is an embodiment in the case where there is a deficiency in data for a certain period due to temporary interruption of use of the apparatus.
In this embodiment, it is assumed that there are five devices in the process A, and the device A1 and the device A2 are not used during the period from the 201st sample to the 400th sample, and the device A4 and the device are used after the 601st sample. It was assumed that A5 was not used. However, it was assumed that there was no machine difference variation, that is, no change in the contribution of each device.

図13は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、本実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。
図13に示すように、数量化I類による解析結果においては、実際には機差が一定であるにも拘わらず、装置の使用・不使用の切替えによって最終出来映えの値が変動している。従って、数量化I類による解析では、各装置の寄与度の変化、すなわち機差の変動を正確に再現することができなかった。
FIG. 13 is a graph showing the result of analysis by quantification type I in this example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final performance.
As shown in FIG. 13, in the analysis result by the quantification type I, although the machine difference is actually constant, the final result value fluctuates due to switching between use and non-use of the apparatus. Therefore, in the analysis based on the quantification type I, it is impossible to accurately reproduce the change in the contribution degree of each device, that is, the difference in machine difference.

図14は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第3の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。
図14に示すように、第2の実施形態の方法によれば、欠損データがあっても機差の変動を正確に再現することができた。
FIG. 14 is a graph showing the simulation results of the third example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final performance.
As shown in FIG. 14, according to the method of the second embodiment, even if there is missing data, it is possible to accurately reproduce the variation of the machine difference.

次に、第4の実施例について説明する。
本実施例は、前述の第3の実施例において、装置A1,A2、A3に前述の第2の実施例(図12参照)と同様な機差変動が加わった実施例である。
図15は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、本実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。
図16は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第4の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。
Next, a fourth embodiment will be described.
This embodiment is an embodiment in which the same machine difference variation as that of the second embodiment (see FIG. 12) is added to the devices A1, A2, and A3 in the third embodiment.
FIG. 15 is a graph showing the result of analysis by quantification type I in this example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final workmanship.
FIG. 16 is a graph showing the simulation results of the fourth example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final performance.

図15及び図16に示すように、数量化I類の解析では機差変動を正確に再現することができなかったが、第2の実施形態の方法によれば、欠損データがあり、且つ機差が変動した場合であっても、機差変動を正確に再現することができた。   As shown in FIG. 15 and FIG. 16, the machine difference variation could not be accurately reproduced by the quantification type I analysis. However, according to the method of the second embodiment, there is missing data and Even when the difference fluctuated, the machine difference fluctuation could be accurately reproduced.

次に、第5の実施例について説明する。
本実施例は、前述の第4の実施例において、前述の第2の実施例と同様に、未観測工程に起因するノイズが混入した場合の実施例である。
図17は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、本実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。
図18は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第5の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。
図17及び図18に示すように、本実施例においても、数量化I類の解析よりも第2の実施形態に係る方法の方が、機差変動波形の再現性が良好であった。
Next, a fifth embodiment will be described.
The present embodiment is an embodiment in the case where noise caused by an unobserved process is mixed in the fourth embodiment described above, as in the second embodiment described above.
FIG. 17 is a graph showing the analysis result by the quantification type I in this example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final performance.
FIG. 18 is a graph showing the simulation results of the fifth example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final performance.
As shown in FIGS. 17 and 18, also in this example, the method according to the second embodiment had better reproducibility of the machine difference variation waveform than the analysis of quantification class I.

次に、第6の実施例について説明する。
本実施例は、前述の実施形態において導入した仮説、すなわち、「機差の変動は頻繁には起こらず、また、複数装置の機差が同時に変化することは稀である」という仮説が成り立たない場合の実施例である。
本実施例においては、第5の実施例(図17、図18参照)で想定した状況において、工程Aにて250サンプル目の時点で装置A1とA2の影響度が共に2ずつ増加し、500サンプル目の時点で装置A3の影響度が2増加したものと想定した。そして、前述の第1の実施形態において説明した解析・推定を行った。
Next, a sixth embodiment will be described.
In this example, the hypothesis introduced in the above-described embodiment, that is, the hypothesis that “variation of machine differences does not occur frequently and that machine differences of a plurality of devices rarely change simultaneously” does not hold. Example of the case.
In the present embodiment, in the situation assumed in the fifth embodiment (see FIGS. 17 and 18), the influences of the apparatuses A1 and A2 both increase by 2 at the time of the 250th sample in step A, and 500 It was assumed that the degree of influence of the device A3 increased by 2 at the time of the sample. The analysis / estimation described in the first embodiment was performed.

図19は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、本実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。
図20は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第6の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。
FIG. 19 is a graph showing the result of analysis by quantification type I in this example, with the horizontal axis representing the period and the vertical axis representing the final performance.
FIG. 20 is a graph showing the simulation results of the sixth example, with the period on the horizontal axis and the final performance on the vertical axis.

上述の如く、本実施例においては、250サンプル目、すなわち第3期間において3台の装置のうち2台(装置A1、A2)が同じ変化をしている。このような場合、図19に示す数量化I類の解析結果においては、この2台(装置A1、A2)が小さく変化し、残りの1台(装置A3)が反対方向に大きく変化したプロファイルになっている。前述の第1の実施形態に係る方法においては、この傾向がさらに強調され、残りの1台(装置A3)のみが反対方向に大きく変化した形のプロファイルとなっている。いずれも、元の波形は再現できていないが、3台の影響度の相対的な関係は保存されており、装置A1及びA2が装置A3とは違った挙動をしたことが見てとれる。もともとは数量化I類による解析結果から得られる情報はこの相対関係の情報だけであるため、本発明の実施形態において仮定する状況が成り立たない場合も、適用前より波形再現性が悪くなることはないといえる。   As described above, in the present embodiment, two of the three devices (devices A1 and A2) change in the same manner in the 250th sample, that is, in the third period. In such a case, in the analysis result of the quantification type I shown in FIG. 19, the two units (devices A1 and A2) change slightly and the remaining one (device A3) changes greatly in the opposite direction. It has become. In the method according to the first embodiment described above, this tendency is further emphasized, and only the remaining one (device A3) has a profile that is greatly changed in the opposite direction. In either case, the original waveform has not been reproduced, but the relative relationship between the influence levels of the three units is preserved, and it can be seen that the devices A1 and A2 behaved differently from the device A3. Originally, the information obtained from the analysis result by the quantification class I is only the information on the relative relationship. Therefore, even when the situation assumed in the embodiment of the present invention does not hold, the waveform reproducibility is worse than before application. I can say no.

このように、前述の実施形態及び実施例においては、製品の製造ライン、例えば電子デバイスの製造ラインにおける機差の変動波形を再現する手法を提供し、その数値例を用いてその有効性を示した。本実施形態に係る方法は、従来の手法である数量化I類を用いた機差解析手法を定期的に繰り返すことをベースとするが、これに後処理を追加して、機差変動波形の再現性を高めていることが特徴である。この後処理においては、機差変動は各装置において独立かつ突発的に起きていると仮定し、最尤法の考え方に基づいて機差波形の再現を試みるものである。これにより、従来手法では再現できなかった機差変動波形が再現できることをいくつかの数値例について確認した。また、ここで行った仮定は常に成り立つとは限らないが、その仮定が成り立たない場合の波形再現性の劣化は、本手法適用前の程度に留まることも示した。   As described above, in the above-described embodiments and examples, a method for reproducing a fluctuation waveform of a machine difference in a product production line, for example, an electronic device production line, is provided, and its effectiveness is shown using numerical examples. It was. The method according to the present embodiment is based on repeating the machine difference analysis method using the quantification type I which is a conventional method on a regular basis. It is characterized by high reproducibility. In this post-processing, it is assumed that the machine difference fluctuation occurs independently and suddenly in each device, and attempts to reproduce the machine difference waveform based on the concept of the maximum likelihood method. As a result, it was confirmed for several numerical examples that the machine difference fluctuation waveform that could not be reproduced by the conventional method could be reproduced. It was also shown that the assumptions made here are not always true, but the degradation of waveform reproducibility when the assumptions are not true is limited to the level before application of this method.

以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。例えば、前述の実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。   The present invention has been described above with reference to the embodiment. However, the present invention is not limited to this embodiment. For example, those in which those skilled in the art appropriately added, deleted, and changed the design of the above-described embodiments are also included in the scope of the present invention as long as they have the gist of the present invention.

本発明の第1の実施形態に係る工程管理システムを例示するブロック図である。1 is a block diagram illustrating a process management system according to a first embodiment of the present invention. 第1の実施形態に係る工程管理方法を例示するフローチャート図である。It is a flowchart figure which illustrates the process management method which concerns on 1st Embodiment. 図2のステップS3に示す処理のアルゴリズムを例示するフローチャート図である。FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of an algorithm of processing shown in step S3 of FIG. 寄与度の変化の総和I(s)の概念を例示する図である。It is a figure which illustrates the concept of total I (s) of the change of a contribution. 図4において、3台の装置のうちのいずれかの寄与度を固定した場合を例示する図である。In FIG. 4, it is a figure which illustrates the case where the contribution of either of three apparatuses is fixed. 本発明の第2の実施形態に係る工程管理方法の一部を例示するフローチャート図である。It is a flowchart figure which illustrates a part of process management method which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. (a)乃至(c)は、図6に示すステップS37の工程を例示する図である。(A) thru | or (c) is a figure which illustrates the process of step S37 shown in FIG. (a)及び(b)は、図6に示すステップS38及びS39の工程を例示する図である。(A) And (b) is a figure which illustrates the process of step S38 and S39 shown in FIG. (a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第1の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which shows the simulation result of a 1st Example, taking a period on a horizontal axis and taking a final result on a vertical axis | shaft, (a) is for every apparatus of the process A. The result of classification is shown, (b) shows the result of classification for each apparatus in the process B, and (c) shows the result of classification for each apparatus in the process C. 第2の実施例において想定した製造ラインを示す図である。It is a figure which shows the manufacturing line assumed in the 2nd Example. (a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第2の実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which shows the analysis result by the quantification I class in a 2nd Example, taking a period on a horizontal axis and taking a final result on a vertical axis | shaft, (a) is a process. The result classified for every apparatus of A is shown, (b) shows the result classified for every apparatus of process B, (c) shows the result classified for every apparatus of process C. (a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第2の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which shows a simulation result of a 2nd Example, taking a period on a horizontal axis and taking a final result on a vertical axis | shaft, (a) is for every apparatus of the process A. The result of classification is shown, (b) shows the result of classification for each apparatus in the process B, and (c) shows the result of classification for each apparatus in the process C. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第3の実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the analysis result by the quantification I class in a 3rd Example, taking a period on a horizontal axis and taking a final result on a vertical axis | shaft. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第3の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the simulation result of a 3rd Example, taking a period on a horizontal axis and taking a final workmanship on a vertical axis | shaft. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第4の実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the analysis result by the quantification type I in a 4th Example by taking a period on a horizontal axis and taking a final result on a vertical axis | shaft. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第4の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the simulation result of a 4th Example, taking a period on a horizontal axis and taking the final result on a vertical axis | shaft. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第5の実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the analysis result by the quantification I class in a 5th Example, taking a period on a horizontal axis and taking the final result on a vertical axis | shaft. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第5の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the simulation result of a 5th Example, taking a period on a horizontal axis and taking the final result on a vertical axis | shaft. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第6の実施例における数量化I類による解析結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the analysis result by the quantification I class in a 6th Example, taking a period on a horizontal axis and taking the final result on a vertical axis. 横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、第6の実施例のシミュレーション結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the simulation result of a 6th Example, taking a period on a horizontal axis and taking the final result on a vertical axis | shaft. 製造ラインのモデルを例示する図である。It is a figure which illustrates the model of a manufacturing line. (a)乃至(c)は、横軸に期間をとり、縦軸に最終出来映えをとって、処理に使用した装置毎に分類した最終出来映えのシミュレーション結果を例示するグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which illustrates the simulation result of the final result classified into every apparatus used for the process, taking a period on a horizontal axis and taking a final result on a vertical axis | shaft, (a) Shows the result of classification for each apparatus of the process A, (b) shows the result of classification for each apparatus of the process B, and (c) shows the result of classification for each apparatus of the process C. (a)乃至(c)は、工程間で使用装置に相関がある状況のシミュレーション結果を例示するグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which illustrates the simulation result of the situation where a use apparatus has a correlation between processes, (a) shows the result classified for every apparatus of the process A, (b) The result classified for every apparatus of the process B is shown, (c) shows the result classified for every apparatus of the process C. (a)乃至(c)は、工程間の使用装置の相関がない場合について、数量化I類によるシミュレーション結果を例示するグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) are the graphs which illustrate the simulation result by quantification class I, when there is no correlation of the apparatus used between processes, (a) is the result classified for every apparatus of the process A. (B) shows the result classified for every apparatus of the process B, (c) shows the result classified for every apparatus of the process C. (a)乃至(c)は、工程間の使用装置の相関がある場合について、数量化I類によるシミュレーション結果を例示するグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which illustrates the simulation result by quantification class I about the case where there exists a correlation of the apparatus used between processes, (a) is the result classified for every apparatus of the process A. (B) shows the result classified for every apparatus of the process B, (c) shows the result classified for every apparatus of the process C. (a)乃至(c)は、図24とよりも機差変動が頻繁に起きている場合における数量化I類によるシミュレーション結果を例示するグラフ図であり、(a)は工程Aの装置毎に分類した結果を示し、(b)は工程Bの装置毎に分類した結果を示し、(c)は工程Cの装置毎に分類した結果を示す。(A) thru | or (c) is a graph which illustrates the simulation result by the quantification I class in case machine difference fluctuation | variation has occurred more frequently than FIG. 24, (a) is for every apparatus of the process A. The result of classification is shown, (b) shows the result of classification for each apparatus in the process B, and (c) shows the result of classification for each apparatus in the process C.

符号の説明Explanation of symbols

1 工程管理システム、2 データ収集手段、3 解析手段、4 推定手段、5 入出力手段、101 製造ライン、102 工程、103 装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Process management system, 2 Data collection means, 3 Analysis means, 4 Estimation means, 5 Input / output means, 101 Production line, 102 Process, 103 Apparatus

Claims (7)

1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理方法であって、
前記製造ラインから取得したデータに数量化I類の解析を施して、各前記装置が前記製造ラインにおける製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求め、
前記相対的関係に基づいて、前記寄与度の変化の総和が最小になるように、各前記装置の寄与度の変化を推定する、
ことを特徴とする工程管理方法。
A process management method for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process,
Analyzing the quantification type I on the data obtained from the production line, and determining the relative relationship of the contribution degree each device has to the final product performance in the production line,
Based on the relative relationship, the change in contribution of each device is estimated so that the sum of the change in contribution is minimized.
A process management method characterized by that.
前記各装置の寄与度の変化の推定は、
前記各装置の寄与度に加算する共通の上乗せ値であって、前記寄与度の変化の総和が最小値をとるような上乗せ値を見つけ、
前記上乗せ値を用いて前記各装置の寄与度の変化を推定する
ことを特徴とする請求項1記載の工程管理方法。
The estimation of the change in contribution of each device is as follows:
A common addition value to be added to the contribution of each device, and find an addition value such that the sum of changes in the contribution takes a minimum value,
The process management method according to claim 1, wherein a change in contribution of each device is estimated using the added value.
前記上乗せ値を見つける工程においては、i番目のサンプルのk番目の装置に関する前記数量化I類の解析結果をx(i,k)とし、前記上乗せ値をsとし、寄与度の変化の総和をI(s)とするとき、下記数式によって与えられる総和I(s)が最小となるような上乗せ値sminを探索法によって見つけ、
Figure 2009087027

Figure 2009087027
前記各装置の寄与度の変化を推定する工程においては、前記寄与度をw(i,k)とするとき、前記上乗せ値sminを下記数式に代入して前記寄与度w(i,k)を算出する
Figure 2009087027
ことを特徴とする請求項2記載の工程管理方法。
In the step of finding the added value, the analysis result of the quantification class I relating to the k-th device of the i-th sample is set to x (i, k), the added value is set to s, and the total change in contribution is calculated. When I (s) is set, an added value s min that minimizes the sum I (s) given by the following equation is found by a search method.
Figure 2009087027

Figure 2009087027
In the step of estimating the change in contribution of each device, when the contribution is w (i, k), the added value s min is substituted into the following equation to calculate the contribution w (i, k). Calculate
Figure 2009087027
The process management method according to claim 2, wherein:
前記上乗せ値を見つける工程においては、
i番目のサンプルのk番目の装置に関する前記数量化I類の解析結果をx(i,k)とし、前記上乗せ値をsとし、寄与度の変化の総和をI(s)とするとき、
x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでない場合には、下記数式によって与えられる総和I(s)が最小となるような上乗せ値sminを探索法によって見つけ、
Figure 2009087027

Figure 2009087027
x(i,k)は欠損データでなく、且つx(i−1,k)が欠損データである場合には、下記数式によって与えられる総和I(s)が最小となるような上乗せ値sminを探索法によって見つけ、
Figure 2009087027

Figure 2009087027

前記各装置の寄与度の変化を推定する工程においては、
x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでないkについてのx(i,k)の平均値をa1とし、x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでないkについての{w(i−1,k)+d(i,k)+smin}の平均値をa2とし、a=a2−a1とするとき、
x(i,k)及びx(i−1,k)がいずれも欠損データでない場合には、下記数式によって前記寄与度w(i,k)を算出し、
Figure 2009087027

x(i,k)は欠損データでなく、且つx(i−1,k)が欠損データである場合には、下記数式によって前記寄与度w(i,k)を算出する
Figure 2009087027

ことを特徴とする請求項2記載の工程管理方法。
In the step of finding the added value,
When the analysis result of the quantification class I regarding the k-th device of the i-th sample is x (i, k), the added value is s, and the total change in contribution is I (s),
If neither x (i, k) nor x (i-1, k) is missing data, an additional value s min that minimizes the sum I (s) given by the following equation is found by a search method. ,
Figure 2009087027

Figure 2009087027
When x (i, k) is not missing data and x (i-1, k) is missing data, an additional value s min that minimizes the sum I (s) given by the following equation. By searching,
Figure 2009087027

Figure 2009087027

In the process of estimating the change in contribution of each device,
The average value of x (i, k) for k where x (i, k) and x (i-1, k) are not missing data is a1, and x (i, k) and x (i-1, k) When the average value of {w (i−1, k) + d (i, k) + s min } for k which is not missing data is a2, and a = a2−a1,
If neither x (i, k) and x (i-1, k) are missing data, the contribution w (i, k) is calculated by the following equation:
Figure 2009087027

When x (i, k) is not missing data and x (i-1, k) is missing data, the contribution w (i, k) is calculated by the following formula.
Figure 2009087027

The process management method according to claim 2, wherein:
1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理プログラムであって、
コンピューターに、
前記製造ラインから取得したデータに数量化I類の解析を施して、前記装置が前記製造ラインにおける製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求める手順と、
前記相対的関係に基づいて、前記寄与度の変化の総和が最小になるように、前記各装置の寄与度の変化を推定する手順と、
を実行させることを特徴とする工程管理プログラム。
A process management program for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process,
On the computer,
A procedure for performing a quantification class I analysis on the data obtained from the production line to determine a relative relationship of contributions of the device to the final product quality in the production line;
A step of estimating a change in contribution of each device based on the relative relationship so that a sum of changes in the contribution is minimized;
A process management program characterized by causing
前記各装置の寄与度の変化の推定は、前記コンピューターに、
前記各装置の寄与度に加算する共通の上乗せ値であって、前記寄与度の変化の総和が最小値をとるような上乗せ値を見つける手順と、
前記上乗せ値を用いて前記各装置の寄与度の変化を推定する手順と
を実行させることを特徴とする請求項5記載の工程管理プログラム。
The estimated change in contribution of each device is sent to the computer,
A common addition value to be added to the contribution of each device, and a procedure for finding an addition value such that the sum of changes in the contribution takes a minimum value;
The process management program according to claim 5, further comprising: a step of estimating a change in contribution of each device using the added value.
1つの工程に複数の装置が並列に配置された製造ラインを管理する工程管理システムであって、
前記製造ラインからデータを収集するデータ収集手段と、
前記データに数量化I類の解析を施して、前記装置が前記製造ラインにおける製品の最終出来映えに及ぼす寄与度の相対的関係を求める解析手段と、
前記相対的関係に基づいて、前記寄与度の変化の総和が最小になるように、前記各装置の寄与度の変化を推定する推定手段と、
を備えたことを特徴とする工程管理システム。
A process management system for managing a production line in which a plurality of devices are arranged in parallel in one process,
Data collection means for collecting data from the production line;
Analyzing means for performing quantification class I analysis on the data to determine a relative relationship of contributions of the apparatus to the final product performance in the production line;
Estimating means for estimating a change in contribution of each device based on the relative relationship so that a sum of changes in the contribution is minimized;
A process management system characterized by comprising:
JP2007255926A 2007-09-28 2007-09-28 Process management method, process management program, and process management system Pending JP2009087027A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007255926A JP2009087027A (en) 2007-09-28 2007-09-28 Process management method, process management program, and process management system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007255926A JP2009087027A (en) 2007-09-28 2007-09-28 Process management method, process management program, and process management system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009087027A true JP2009087027A (en) 2009-04-23

Family

ID=40660367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007255926A Pending JP2009087027A (en) 2007-09-28 2007-09-28 Process management method, process management program, and process management system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009087027A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013222259A (en) * 2012-04-13 2013-10-28 Nippon Steel & Sumitomo Metal Data analysis support device, data analysis support method, computer program, and computer readable storage medium
WO2017098618A1 (en) 2015-12-09 2017-06-15 富士通株式会社 Display method, display program, and display control device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013222259A (en) * 2012-04-13 2013-10-28 Nippon Steel & Sumitomo Metal Data analysis support device, data analysis support method, computer program, and computer readable storage medium
WO2017098618A1 (en) 2015-12-09 2017-06-15 富士通株式会社 Display method, display program, and display control device
US10388043B2 (en) 2015-12-09 2019-08-20 Fujitsu Limited Display of manufacturing process and facility used therefore

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10852357B2 (en) System and method for UPS battery monitoring and data analysis
JPWO2019142331A1 (en) Failure prediction system and failure prediction method
JP6141235B2 (en) How to detect anomalies in time series data
CN112637132B (en) Network anomaly detection method and device, electronic equipment and storage medium
WO2016147657A1 (en) Information processing device, information processing method, and recording medium
CN109165242B (en) Fault diagnosis and early warning method based on entropy sorting and space-time analysis
US20200004219A1 (en) Defect rate analytics to reduce defectiveness in manufacturing
CN112449696A (en) Time series data diagnosis device, additional learning method, and program
JP2015529813A (en) Estimating remaining useful life from predictive features discovered using genetic programming
JP2020068025A (en) System and method for anomaly characterization based on joint historical and time-series analysis
KR101998972B1 (en) Method of analyzing and visualizing the cause of process failure by deriving the defect occurrence index by variable sections
CN107122907B (en) Method for analyzing symbolized quality characteristics of mechanical and electrical products and tracing fault reasons
JP6915693B2 (en) System analysis method, system analyzer, and program
JP2009087027A (en) Process management method, process management program, and process management system
JP2018113027A (en) Process abnormality state diagnosis method and abnormality state diagnosis device
JP5532782B2 (en) Traceability system and manufacturing process abnormality detection method
JP2015072644A (en) Interactive method of predicting facility failure
CN115358137A (en) Bearing metal temperature prediction method based on CNN-GRU algorithm
JP6247777B2 (en) Abnormality diagnosis apparatus and abnormality diagnosis method
JP6616889B2 (en) Window evaluation method and analyzer
JP7128232B2 (en) Factor analysis device and factor analysis method
CN114048592A (en) Finish rolling whole-flow distributed operation performance evaluation and non-optimal reason tracing method
Huang A new GWMA control chart for monitoring process mean and variability
US10438150B2 (en) Energy intensity variability analysis
JP6018852B2 (en) Factor analysis / display method and system