JP2009084555A - Method for producing substituent-eliminated compound, method for producing pigment fine particle, method for producing phthalocyanine compound, and method for producing thin film - Google Patents

Method for producing substituent-eliminated compound, method for producing pigment fine particle, method for producing phthalocyanine compound, and method for producing thin film Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a substituent-eliminated compound having high industrial applicability and exhibiting advantageous preservation stability relative to both a solvent-soluble precursor compound capable of preferably corresponding to a solution process and the objective compound obtained by applying an external stimulus to the precursor compound by using the precursor compound, and also to provide an efficient method for producing pigment fine particles, a phthalocyanine compound and a thin film each having excellent properties by using the above technique. <P>SOLUTION: This method for producing the substituent-eliminated compound comprises applying an external stimulus to a compound A-(B)<SB>m</SB>having a solvent-soluble group B to eliminate the solvent-soluble group B, and bonding a hydrogen atom instead of the eliminated solvent-soluble group B to produce a solvent-insoluble compound. In formula, A represents a solvent-insoluble compound residue, B represents a specified solvent-soluble group, and m represents a natural number, with proviso that the solvent-soluble group B is bonded to a carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、特定の置換基を脱離して得た置換基脱離化合物の製造方法に関し、この技術を用いた顔料微粒子の製造方法、フタロシアニン化合物の製造方法、および薄膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a substituent-eliminating compound obtained by eliminating a specific substituent, and relates to a method for producing pigment fine particles, a method for producing a phthalocyanine compound, and a method for producing a thin film using this technique.

インキ、塗料、樹脂などに使用される着色材としては、大きく分けて染料と顔料に分類される。例えば高精細度を求められるインクジェット用記録液(インク)の色材において、染料を用いたインクによって形成される画像は、高透明度、高精細度や優れた演色性などの特徴を有するが、耐候性及び耐水性などに問題を有する場合が多い。
そこで近年、画像の耐候性及び耐水性の問題を解決するために、染料に代えて有機顔料やカーボンブラックなどの顔料を用いたインクへの移行が始まっている。また従来、顔料は着色材としての物性を中心に研究されてきたが、近年になり顔料の分子物性に注目が集まってきている(例えば、非特許文献1を参照。)。
Colorants used in inks, paints, resins, etc. are roughly classified into dyes and pigments. For example, in a colorant for an inkjet recording liquid (ink) that requires high definition, an image formed by ink using a dye has characteristics such as high transparency, high definition, and excellent color rendering. In many cases, there is a problem in properties and water resistance.
Therefore, in recent years, in order to solve the problem of weather resistance and water resistance of an image, a shift to an ink using a pigment such as an organic pigment or carbon black instead of a dye has started. Conventionally, pigments have been researched mainly on physical properties as colorants, but in recent years, attention has been focused on the molecular physical properties of pigments (for example, see Non-Patent Document 1).

このように顔料へ研究が移行する中で、障害になる問題点の一つとして、一般に顔料は水や有機溶剤等の溶媒に対する溶解性が乏しいことが挙げられる。例えばインク中で生じる顔料の凝集等に起因して顔料の分散が不安定になり、インクの吐出等、信頼性の観点で問題がある場合が多い。   Thus, one of the problems that hinders research in pigments is that pigments generally have poor solubility in solvents such as water and organic solvents. For example, the dispersion of the pigment becomes unstable due to the aggregation of the pigment generated in the ink, and there are many problems from the viewpoint of reliability such as ink ejection.

これに対して有機材料を可溶化する反応性置換基を導入した前駆体に、外部刺激を与えることによって置換基を脱離させる方法が提案されている(例えば、非特許文献2及び特許文献1を参照。)。この方法は、例えば、顔料分子中のアミノ基やアルコール性又はフェノール性ヒドロキシ基がt−ブトキシカルボニル基(Boc基)で修飾された構造の顔料前駆体について、加熱等することでBoc基を脱離させるものである。
しかし、この方法は置換基が窒素原子もしくは酸素原子に連結される必要があるため化合物に制限があった。さらに前駆体の保存性の観点からも改善が求められていた。
On the other hand, methods have been proposed in which a substituent is eliminated by applying an external stimulus to a precursor into which a reactive substituent that solubilizes an organic material is introduced (for example, Non-Patent Document 2 and Patent Document 1). See). In this method, for example, the Boc group is removed by heating the pigment precursor having a structure in which an amino group or alcoholic or phenolic hydroxy group in the pigment molecule is modified with a t-butoxycarbonyl group (Boc group). It is something to be released.
However, this method has limited compounds because the substituents need to be linked to nitrogen or oxygen atoms. Furthermore, the improvement was calculated | required also from the viewpoint of the preservability of a precursor.

また、近年、レトロディールス−アルダー反応を利用して溶媒可溶性の高い前駆体から外部刺激を与えることによりポルフィリンやフタロシアニンへ変換する方法が精力的に研究されている(例えば、非特許文献3及び特許文献2〜15を参照。)。
しかし、これらの例は前駆体・処理後に得られる化合物の保存性の観点から改善が必要であった。またいずれも煩雑な合成を必要とするため適用範囲が狭く、より簡便に合成可能な置換基の開発が必要とされていた。
In recent years, methods for converting from a highly solvent-soluble precursor to porphyrin or phthalocyanine by applying a retro Diels-Alder reaction to an external stimulus have been energetically studied (for example, Non-Patent Document 3 and Patents). See references 2-15.)
However, these examples needed improvement from the viewpoint of the preservability of the compound obtained after the precursor / treatment. In addition, all of them require complicated synthesis, so the application range is narrow, and the development of substituents that can be synthesized more simply is required.

特開平7−188234号公報JP-A-7-188234 特開2006−165533号公報JP 2006-165533 A 特開2006−131574号公報JP 2006-131574 A 特開2005−93990号公報JP 2005-93990 A 特開2004−256450号公報JP 2004-256450 A 特開2004−6750号公報JP 2004-6750 A 特開2003−304014号公報JP 2003-304014 A 特開2006−182989号公報JP 2006-182989 A 特開2006−249436号公報JP 2006-249436 A 特開2004−320007号公報JP 2004-320007 A 特開2004−319982号公報JP 2004-319982 A 特開2005−79203号公報JP 2005-79203 A 特開2005−294809号公報JP-A-2005-294809 特開2005−277029号公報JP 2005-277029 A 特開2005−79204号公報JP-A-2005-79204 「機能性顔料の技術と応用用途展開」,シーエムシー"Technology of functional pigments and application development", CM ネイチャー(Nature),1997年,Vol.388,p.131Nature, 1997, Vol. 388, p. 131 アプライド・フィジクス・レターズ(Applied Physics Letters),2004年,Vol.84,p.2085Applied Physics Letters, 2004, Vol. 84, p. 2085

本発明は、溶液プロセスに好適に対応しうる溶媒可溶性の前駆体化合物を用い、該前駆体化合物及びこれに外部刺激を与えて得た目的化合物のいずれにおいても良好な保存安定性を示し、工業利用性の高い置換基脱離化合物の製造方法の提供を目的とする。また、この技術を用い、優れた特性を有する、顔料微粒子、フタロシアニン化合物、および薄膜の効率的な製造方法の提供を目的とする。   The present invention uses a solvent-soluble precursor compound that can be suitably applied to a solution process, and exhibits good storage stability in both the precursor compound and the target compound obtained by applying external stimulation thereto. An object of the present invention is to provide a method for producing a substituent-eliminating compound having high utility. Another object of the present invention is to provide an efficient method for producing pigment fine particles, phthalocyanine compounds, and thin films having excellent characteristics by using this technique.

本発明者らは、以上のような課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、従来用いられていたBoc基とは異なる特定の置換基を有する化合物を前駆体として用いることにより、溶解性が良く、かつこれに熱などの外部刺激を加えることにより置換基の脱離反応を速やかに進行させることができ、しかも反応物及び生成物の保存安定性が高く、必要により生成物の結晶構造を制御しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have obtained solubility by using a compound having a specific substituent different from the conventionally used Boc group as a precursor. By adding an external stimulus such as heat to this, the elimination reaction of the substituent can proceed promptly, and the storage stability of the reactant and product is high, and if necessary, the crystal structure of the product can be changed. It has been found that it can be controlled, and the present invention has been completed.

本発明の上記課題は、下記の手段によって解決された。
(1)溶媒可溶性基Bを有する化合物A−(B)(式中、Aは溶媒不溶性化合物残基を表し、Bは下記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表す。mは自然数を表す。ただし、溶媒可溶性基Bは、溶媒不溶性化合物残基A中の炭素原子に結合している。)に外部刺激を与えて前記溶媒可溶性基Bを脱離させ、代わりに水素原子が結合した溶媒不溶性化合物とすることを特徴とする置換基脱離化合物の製造方法。

Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
(2)前記外部刺激が150〜500℃に加熱することであることを特徴とする(1)記載の置換基脱離化合物の製造方法。
(3)前記溶媒不溶性化合物残基Aが、2つ以上の芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環が縮環され及び/又は共有結合で連結された構造のπ共役系化合物の残基であることを特徴とする(1)又は(2)に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
(4)前記溶媒不溶性化合物残基Aが色素骨格であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
(5)前記溶媒可溶性基Bが下記一般式(II)で表される基であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表す。)
(6)前記溶媒可溶性基Bが下記一般式(III)で表される基であることを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。)
(7)前記化合物A−(B)が下記一般式(IV)で表される化合物であることを特徴とする(1)〜(6)のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Mは、金属原子または水素原子を表す。Mが水素原子を表す場合、2つの水素原子がN〜Nのいずれか2つの窒素原子にそれぞれ結合する。Qは、芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。複数のQは同一でも異なっていてもよい。R〜Rはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。nは自然数である。nが2以上の場合、複数の−SOC(R)(R)(R)基は同一でも異なっていてもよい。)
(8)前記化合物A−(B)がフタロシアニン化合物である、(7)記載の置換基脱離化合物の製造方法。
(9)顔料が溶媒可溶性基Bにより修飾された構造の顔料前駆体A−(B)(式中、Aは顔料残基を表し、Bは下記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表す。mは自然数を表す。ただし、溶媒可溶性基Bは、顔料残基A中の炭素原子に結合している。)に外部刺激を与えて前記溶媒可溶性基Bを脱離させ、代わりに水素原子が結合した顔料に転換することを特徴とする顔料微粒子の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
(10)下記一般式(I)で表される置換基を有するフタロシアニン化合物(ただし、前記置換基は、フタロシアニン化合物残基中の炭素原子に結合している。)に外部刺激を与えて前記置換基を脱離させ、代わりに水素原子が結合したフタロシアニン化合物に転換することを特徴とするフタロシアニン化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
(11)溶媒可溶性基Bを有する化合物A−(B)(式中、Aは溶媒不溶性化合物残基を表し、Bは下記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表す。mは自然数を表す。ただし、溶媒可溶性基Bは、溶媒不溶性化合物残基A中の炭素原子に結合している。)を溶媒に溶解し、この溶解液を基材に塗布して塗付膜とし、該塗布膜中の前記化合物A−(B)に外部刺激を与えて前記溶媒可溶性基Bを脱離させ、代わりに水素原子が結合した溶媒不溶性化合物とし、その薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。) The above-described problems of the present invention have been solved by the following means.
(1) Compound A- (B) m having a solvent-soluble group B (wherein, A represents a solvent-insoluble compound residue, and B represents a solvent-soluble group represented by the following general formula (I). It represents a natural number, provided that the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A.) to give an external stimulus to eliminate the solvent-soluble group B. A method for producing a substituent-eliminating compound, which is a bonded solvent-insoluble compound.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
(2) The method for producing a substituent-eliminating compound according to (1), wherein the external stimulus is heating to 150 to 500 ° C.
(3) The solvent-insoluble compound residue A is a residue of a π-conjugated compound having a structure in which two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles are condensed and / or covalently linked. The method for producing a substituent-eliminating compound according to (1) or (2), wherein:
(4) The method for producing a substituent-eliminating compound according to any one of (1) to (3), wherein the solvent-insoluble compound residue A is a dye skeleton.
(5) The method for producing a substituent leaving compound according to any one of (1) to (4), wherein the solvent-soluble group B is a group represented by the following general formula (II): .
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent.)
(6) The method for producing a substituent-eliminating compound according to any one of (1) to (5), wherein the solvent-soluble group B is a group represented by the following general formula (III): .
Figure 2009084555
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.)
(7) The substituent elimination compound according to any one of (1) to (6), wherein the compound A- (B) m is a compound represented by the following general formula (IV): Manufacturing method.
Figure 2009084555
(In the formula, M represents a metal atom or a hydrogen atom. When M represents a hydrogen atom, two hydrogen atoms are each bonded to any two nitrogen atoms of N 1 to N 4. Q is aromatic. A group of atoms necessary for forming a hydrocarbon ring or an aromatic hetero ring, a plurality of Qs may be the same or different, and R 4 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. n is a natural number, and when n is 2 or more, a plurality of —SO 2 C (R 4 ) (R 5 ) (R 6 ) groups may be the same or different.
(8) The method for producing a substituent leaving compound according to (7), wherein the compound A- (B) m is a phthalocyanine compound.
(9) Pigment precursor A- (B) m having a structure in which the pigment is modified with a solvent-soluble group B (wherein A represents a pigment residue, and B is a solvent-soluble compound represented by the following general formula (I)) M represents a natural number, provided that the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the pigment residue A.) to give an external stimulus to the solvent-soluble group B, and A method for producing pigment fine particles, wherein the pigment is converted to a pigment having hydrogen atoms bonded thereto.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
(10) A phthalocyanine compound having a substituent represented by the following general formula (I) (provided that the substituent is bonded to a carbon atom in the phthalocyanine compound residue) to give an external stimulus to the substitution A method for producing a phthalocyanine compound, characterized in that a group is eliminated and converted into a phthalocyanine compound to which a hydrogen atom is bonded instead.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
(11) Compound A- (B) m having a solvent-soluble group B (wherein A represents a solvent-insoluble compound residue, B represents a solvent-soluble group represented by the following general formula (I), and m represents Represents a natural number, provided that the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A.) is dissolved in a solvent, and this solution is applied to a substrate to form a coated film. An external stimulus is applied to the compound A- (B) m in the coating film to desorb the solvent-soluble group B, and a solvent-insoluble compound having a hydrogen atom bonded thereto is formed instead to form the thin film. A method for manufacturing a thin film.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)

本発明の置換基脱離化合物の製造方法によれば、溶媒可溶性の前駆体化合物を原料として用いたため溶液プロセスに好適に対応することができ、しかも前記前駆体化合物に外部刺激を与えることにより置換基の脱離反応を速やかに進行させ目的の化合物を得ることができる。さらに、本発明の製造方法においては、前記前駆体化合物及びこれに外部刺激を与えて得られる目的化合物のいずれにおいても耐光性等の保存安定性が高く、その原料及び生成物としての保管を可能とし、製造工程の自由度を高め効率化するとともに高品質を実現しうるという優れた作用効果を奏する。また、この技術を用いて、高純度で優れた特性を有する顔料微粒子、フタロシアニン化合物、およびその薄膜を効率的に製造することができる。   According to the method for producing a substituent-eliminating compound of the present invention, since a solvent-soluble precursor compound is used as a raw material, it can be suitably applied to a solution process, and the substitution is performed by applying an external stimulus to the precursor compound. The target compound can be obtained by promptly proceeding with the elimination reaction of the group. Furthermore, in the production method of the present invention, both the precursor compound and the target compound obtained by applying an external stimulus thereto have high storage stability such as light resistance, and can be stored as a raw material and a product. In addition, there is an excellent effect of increasing the degree of freedom of the manufacturing process and improving the efficiency and realizing high quality. In addition, this technique can be used to efficiently produce pigment fine particles, phthalocyanine compounds, and thin films thereof having high purity and excellent characteristics.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の置換基脱離化合物の製造方法は、特定の化合物を溶媒に溶解させる工程、及び該化合物から前記置換基を脱離させる工程を含む。ここで、前記特定の化合物はA−(B)で表される。式中、Aは溶媒不溶性化合物残基を表し、Bは前記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表し、mは自然数を表す。以下、溶媒可溶性基Bを有する化合物A−(B)を「溶媒可溶性前駆体化合物」という。
本発明の製造方法に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物において、溶媒可溶性基Bは、溶媒不溶性化合物残基A中の炭素原子に結合している。そして、置換基を脱離させる工程で、溶媒不溶性化合物残基A中の炭素原子に結合していた溶媒可溶性基Bが脱離し、代わりに水素原子が結合した溶媒不溶性化合物、好ましくはA−(H)(式中、Aは溶媒不溶性化合物残基を表し、Hは水素原子を表す。mは自然数を表す。)で表される化合物が得られる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The method for producing a substituent-eliminating compound of the present invention includes a step of dissolving a specific compound in a solvent and a step of eliminating the substituent from the compound. Here, the specific compound is represented by A- (B) m . In the formula, A represents a solvent-insoluble compound residue, B represents a solvent-soluble group represented by the general formula (I), and m represents a natural number. Hereinafter, the compound A- (B) m having the solvent-soluble group B is referred to as “solvent-soluble precursor compound”.
In the solvent-soluble precursor compound used in the production method of the present invention, the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A. Then, in the step of removing the substituent, the solvent-soluble group B bonded to the carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A is released, and instead a solvent-insoluble compound bonded with a hydrogen atom, preferably A- ( H) m (wherein, A represents a solvent-insoluble compound residue, H represents a hydrogen atom, and m represents a natural number) is obtained.

本発明に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物は、溶媒不溶性化合物における任意の炭素原子に結合した水素原子等を取り去った溶媒不溶性化合物残基Aに、溶媒可溶性基Bが結合した構造をしている。ここで、溶媒可溶性基Bは、下記一般式(I)で表される。   The solvent-soluble precursor compound used in the present invention has a structure in which a solvent-soluble group B is bonded to a solvent-insoluble compound residue A from which a hydrogen atom bonded to an arbitrary carbon atom in the solvent-insoluble compound is removed. Here, the solvent-soluble group B is represented by the following general formula (I).

Figure 2009084555
Figure 2009084555

前記一般式(I)中、Xは水素原子又は置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。   In the general formula (I), X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.

Xで表される置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基等の環状構造を含む。)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基等の環状構造を含む。)、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む。)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。   Examples of the substituent represented by X include halogen atoms, alkyl groups (including cyclic structures such as cycloalkyl groups and bicycloalkyl groups), and alkenyl groups (including cyclic structures such as cycloalkenyl groups and bicycloalkenyl groups). .), Alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxy group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy Group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (including anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl or arylsulfonylamino group, Mercapto group, Alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl or heterocyclic azo group , Imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, and silyl group.

更に詳しくは、Xで表される置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。これらは、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、エイコシル、2−クロロエチル、2−シアノエチル、2―エチルヘキシル)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、4−n−ドデシルシクロヘキシル)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5〜30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基においても、特に断らない限り、アルキル基(例えばアルキルチオ基のアルキル基)は、上記概念のアルキル基を表す。〕、   More specifically, examples of the substituent represented by X include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), an alkyl group [a linear, branched, cyclic substituted or unsubstituted alkyl group. . These are alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethylhexyl). A cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl, cyclopentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl), a bicycloalkyl group (preferably having 5 to 30 carbon atoms). A substituted or unsubstituted bicycloalkyl group, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a C 5-30 bicycloalkane, for example, bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl) and tricyclo structures with more ring structures It is intended to. In the substituents described below, unless otherwise specified, an alkyl group (for example, an alkyl group of an alkylthio group) represents an alkyl group of the above concept. ],

アルケニル基[直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル)、シクロアルケニル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3〜30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル)、ビシクロアルケニル基(置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル)を包含するものである。]、 Alkenyl group [represents a linear, branched or cyclic substituted or unsubstituted alkenyl group. They are alkenyl groups (preferably substituted or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms, such as vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl), cycloalkenyl groups (preferably substituted or unsubstituted 3 to 30 carbon atoms). An unsubstituted cycloalkenyl group, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms (for example, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl), Bicycloalkenyl group (Substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a bicycloalkene having one double bond. For example, bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl, bicyclo [2,2 2] is intended to encompass oct-2-en-4-yl). ],

アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基(好ましくは炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル)、ヘテロ環基(好ましくは5または6員の置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数3〜30の5もしくは6員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、 Alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group, aryl group (preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms such as Phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl), a heterocyclic group (preferably a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound A monovalent group in which one hydrogen atom is removed from a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms, such as 2-furyl, 2-thienyl, 2 -Pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl), cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxy group,

アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、n−オクチルオキシ、2−メトキシエトキシ)、アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブチルフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ)、シリルオキシ基(好ましくは、炭素数3〜20のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ)、 An alkoxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n-octyloxy, 2-methoxyethoxy), an aryloxy group (preferably A substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-t-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy, 2-tetradecanoylaminophenoxy), silyloxy group (preferably Is a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy, a heterocyclic oxy group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms, 1- Phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyl Ii) acyloxy group (preferably formyloxy group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as formyloxy, acetyl Oxy, pivaloyloxy, stearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyphenylcarbonyloxy),

カルバモイルオキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカルバモイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、n−オクチルカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ)、 A carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N, N-diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, N, N-di- n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyloxy), alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, t- Butoxycarbonyloxy, n-octylcarbonyloxy), aryloxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms such as phenoxycarbonyloxy, p Methoxyphenoxy carbonyloxy, p-n-hexadecyloxycarbonyl phenoxycarbonyloxy),

アミノ基(好ましくは、アミノ基、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ)、アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ)、アミノカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ)、 An amino group (preferably an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted anilino group having 6 to 30 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, anilino, N-methyl-anilino, diphenylamino), acylamino group (preferably formylamino group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms) Groups such as formylamino, acetylamino, pivaloylamino, lauroylamino, benzoylamino, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino), aminocarbonylamino groups (preferably substituted with 1 to 30 carbon atoms) Or unsubstituted aminocarbonylamino, eg , Carbamoylamino, N, N-dimethylaminocarbonyl amino, N, N-diethylamino carbonylamino, morpholinocarbonylamino),

アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ、m−(n−オクチルオキシ)フェノキシカルボニルアミノ)、スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0〜30の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ)、 An alkoxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, n-octadecyloxycarbonylamino, N-methyl-methoxy; Carbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino, p-chlorophenoxycarbonylamino, m- (n-octyloxy) ) Phenoxycarbonylamino), a sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms such as sulfamoylamino, N, N-dimethylamino) Sulfonylamino, N-n-octylaminosulfonylamino),

アルキル又はアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、p−メチルフェニルスルホニルアミノ)、メルカプト基、アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、n−ヘキサデシルチオ)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、p−クロロフェニルチオ、m−メトキシフェニルチオ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ)、 Alkyl or arylsulfonylamino group (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonylamino having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonylamino, butylsulfonylamino, phenyl Sulfonylamino, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino, p-methylphenylsulfonylamino), mercapto group, alkylthio group (preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms such as methylthio, ethylthio, n-hexadecylthio), an arylthio group (preferably a substituted or unsubstituted arylthio having 6 to 30 carbon atoms, such as phenylthio, p-chlorophenylthio, m-methoxyphenylthio), a heterocyclic thio group (preferably Substituted or unsubstituted heterocyclic thio group prime 2-30, for example, 2-benzothiazolylthio, 1-phenyl-5-ylthio),

スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルファモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−アセチルスルファモイル、N−ベンゾイルスルファモイル、N−(N‘−フェニルカルバモイル)スルファモイル)、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、p−メチルフェニルスルフィニル)、アルキル又はアリールスルホニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルホニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、p−メチルフェニルスルホニル)、 Sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms such as N-ethylsulfamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N- Acetylsulfamoyl, N-benzoylsulfamoyl, N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl), sulfo group, alkyl or arylsulfinyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms) 6-30 substituted or unsubstituted arylsulfinyl groups such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl, p-methylphenylsulfinyl), alkyl or arylsulfonyl groups (preferably substituted or unsubstituted having 1 to 30 carbon atoms) Substitutional alk Sulfonyl groups, 6-30 substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, e.g., methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, p- methylphenyl sulfonyl),

アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4〜30の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、2−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル、2―ピリジルカルボニル、2―フリルカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、o−クロロフェノキシカルボニル、m−ニトロフェノキシカルボニル、p−t−ブチルフェノキシカルボニル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバモイル)、 Acyl group (preferably formyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted carbon group having 4 to 30 carbon atoms Heterocyclic carbonyl groups bonded to the carbonyl group by an atom, for example, acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, pn-octyloxyphenylcarbonyl, 2-pyridylcarbonyl, 2-furylcarbonyl), aryl An oxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, for example, phenoxycarbonyl, o-chlorophenoxycarbonyl, m-nitrophenoxycarbonyl, pt-butylphenoxycarbonyl), alkoxy Carbonyl group ( Preferably, it is a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl), carbamoyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms). Substituted or unsubstituted carbamoyl, such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N, N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl),

アリール又はヘテロ環アゾ基(好ましくは炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、p−クロロフェニルアゾ、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ)、イミド基(好ましくは、N−スクシンイミド、N−フタルイミド)、ホスフィノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ)、ホスフィニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル)、ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ)、ホスフィニルアミノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル)が挙げられる。 An aryl or heterocyclic azo group (preferably a substituted or unsubstituted arylazo group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocyclic azo group having 3 to 30 carbon atoms, such as phenylazo, p-chlorophenylazo, 5- Ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo), an imide group (preferably N-succinimide, N-phthalimide), a phosphino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, For example, dimethylphosphino, diphenylphosphino, methylphenoxyphosphino), phosphinyl group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as phosphinyl, dioctyloxyphosphinyl, diethoxyphosphini ), A phosphinyloxy group (preferably having 2 carbon atoms) 30 substituted or unsubstituted phosphinyloxy groups, for example, diphenoxyphosphinyloxy, dioctyloxyphosphinyloxy), phosphinylamino groups (preferably substituted or unsubstituted having 2 to 30 carbon atoms) Phosphinylamino group such as dimethoxyphosphinylamino, dimethylaminophosphinylamino), silyl group (preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms such as trimethylsilyl, t-butyldimethyl Silyl, phenyldimethylsilyl).

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、p−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。また、Xはさらに置換基によって置換されていてもよい。   Among the above substituents, those having a hydrogen atom may be substituted with the above groups after removing this. Examples of such a substituent include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group. Examples thereof include methylsulfonylaminocarbonyl, p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl, acetylaminosulfonyl, and benzoylaminosulfonyl groups. X may be further substituted with a substituent.

前記一般式(I)においてnは2であることが好ましく、前記一般式(I)で表される置換基は、好ましくは下記一般式(II)で表される置換基である。   In the general formula (I), n is preferably 2, and the substituent represented by the general formula (I) is preferably a substituent represented by the following general formula (II).

Figure 2009084555
Figure 2009084555

前記一般式(II)中、Xは、前記一般式(I)におけるXと同義であり、好ましい範囲も同様である。
さらに、前記一般式(II)で表される置換基は、好ましくは下記一般式(III)で表される置換基である。
In said general formula (II), X is synonymous with X in the said general formula (I), and its preferable range is also the same.
Furthermore, the substituent represented by the general formula (II) is preferably a substituent represented by the following general formula (III).

Figure 2009084555
Figure 2009084555

前記一般式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。R〜Rのうち、2つ以上が水素原子以外の置換基であることが好ましく、より好ましくは3つとも水素原子以外の置換基である場合である。 In the general formula (III), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Of R 1 to R 3 , two or more are preferably substituents other than hydrogen atoms, and more preferably all three are substituents other than hydrogen atoms.

〜Rで表される置換基の例としては、それぞれ独立に、前記のXで表される置換基の例として挙げたものと同様である。また、R、R、Rは互いに連結して環を形成してもよい。
〜Rで表される置換基として好ましくは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリール基、5または6員の置換もしくは無置換のヘテロ環基、シアノ基、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基である。さらに好ましくは、ハロゲン原子、炭素数1〜30のアルキル基、シアノ基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基である。最も好ましくは、R〜Rがいずれもメチル基の場合である。
Examples of the substituent represented by R 1 to R 3 are the same as those exemplified as the examples of the substituent represented by X above. R 1 , R 2 and R 3 may be connected to each other to form a ring.
The substituents represented by R 1 to R 3 are preferably each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, 5- or 6-membered substituted or unsubstituted heterocyclic group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, 7 to 7 carbon atoms A substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms. More preferred are a halogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms. Most preferably, R 1 to R 3 are all methyl groups.

化合物分子内に有する前記一般式(I)で表される置換基の数に特に制限はない。溶媒可溶性や成膜性の観点からは、前記置換基の数が多いほど有利であるが、その一方、薄膜の均一性の観点からは、置換基の脱離前後での体積変化が小さい方が好ましい。そのため、分子内に有する前記一般式(I)で表される置換基の数は1個〜4個であることが好ましい。前記一般式(I)で表される置換基を分子内に複数有する場合は、それらは同一であっても異なっていてもよい。   There is no restriction | limiting in particular in the number of the substituents represented with the said general formula (I) which it has in a compound molecule | numerator. From the viewpoint of solvent solubility and film formability, the larger the number of substituents, the more advantageous. On the other hand, from the viewpoint of thin film uniformity, it is preferable that the volume change before and after elimination of substituents is smaller. preferable. Therefore, the number of substituents represented by the general formula (I) in the molecule is preferably 1 to 4. When there are a plurality of substituents represented by the general formula (I) in the molecule, they may be the same or different.

本発明の製造方法に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物は、上述のとおり溶媒可溶性基を有しており、溶媒不溶性化合物における任意の水素原子等を取り去った溶媒不溶性化合物残基に、溶媒可溶性基が結合した構造をしている。そして本発明の置換基脱離化合物の製造方法においては、上記前駆体化合物の溶媒可溶性基を脱離させ、溶媒不溶性の化合物とする。
本発明において、「溶媒可溶性」とは、溶媒に対して、溶剤を加熱還流した後に室温まで冷却した状態で0.1質量%以上の溶解度を有することをいう。好ましくは0.5質量%以上であり、より好ましくは1質量%以上である。また、「溶媒不溶化」とは、前記溶媒可溶性の状態よりも1桁以上溶解度を低下させることをいう。具体的には、溶媒に対して、溶剤を加熱還流した後に室温まで冷却した状態で、0.1質量%以上の溶解度(溶媒可溶性)から0.01質量%以下に溶解度を低下させることが好ましく、0.5質量%以上の溶解度(溶媒可溶性)から0.05質量%以下に溶解度を低下させることがより好ましく、1質量%以上の溶解度(溶媒可溶性)から0.1質量%未満に溶解度を低下させることが特に好ましい。そして、「溶媒不溶性」とは、溶媒に対して、溶剤を加熱還流した後に室温まで冷却した状態で0.1質量%未満の溶解度を有することをいい、0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましい。
上記「溶媒可溶性」及び「溶媒不溶性」の程度を規定するときの溶媒の種類は特に限定されず、実際に用いる溶媒及び温度により定めてもよいが、例えば水(蒸留水)に対する溶解度(25℃)として特定することができる。ただし、本発明に用いられる溶媒がこれによって限定されるものではない。
The solvent-soluble precursor compound used in the production method of the present invention has a solvent-soluble group as described above, and the solvent-insoluble compound residue from which any hydrogen atom or the like in the solvent-insoluble compound is removed has a solvent-soluble group. It has a combined structure. And in the manufacturing method of the substituent elimination compound of this invention, the solvent soluble group of the said precursor compound is eliminated, and it is set as a solvent insoluble compound.
In the present invention, “solvent soluble” means that the solvent has a solubility of 0.1% by mass or more in a state where the solvent is heated to reflux and then cooled to room temperature. Preferably it is 0.5 mass% or more, More preferably, it is 1 mass% or more. Further, “solvent insolubilization” refers to lowering the solubility by one digit or more than the solvent-soluble state. Specifically, it is preferable to lower the solubility from 0.1% by mass or more (solvent solubility) to 0.01% by mass or less in a state where the solvent is heated to reflux and then cooled to room temperature. More preferably, the solubility is decreased from 0.5% by mass or more (solvent soluble) to 0.05% by mass or less, and from 1% by mass or more (solvent soluble) to less than 0.1% by mass. It is particularly preferable to reduce it. “Solvent insolubility” means that the solvent has a solubility of less than 0.1% by mass in a state where the solvent is heated to reflux and then cooled to room temperature, and is 0.05% by mass or less. Preferably, it is 0.01 mass% or less.
The kind of the solvent for defining the degree of “solvent solubility” and “solvent insolubility” is not particularly limited, and may be determined depending on the actually used solvent and temperature. For example, solubility in water (distilled water) (25 ° C. ) Can be specified. However, the solvent used in the present invention is not limited thereto.

本発明の製造方法によりπ共役系化合物を得ることができ、π共役系化合物としては広いπ共役平面を有する化合物であればいかなるものでもよいが、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、フラン環、チオフェン環であり、より好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、チオフェン環などの芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環が2つ以上、縮環された、および/または共有結合で連結されており、それらの芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環がそれぞれ有するπ電子が、縮環及び/又は連結による相互作用によって縮環及び/又は連結環全体に非局在化した構造であることが好ましい。縮環された及び/又は共有結合で連結された芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環の数は、2〜20個が好ましく、3〜12個がより好ましい。
π共役系化合物の具体例としては、テトラセン、ペンタセン、トリフェニレン、ヘキサベンゾコロネンなどの縮合多環化合物、クォーターチオフェンやセキシチオフェンなどのヘテロ環オリゴマー、フタロシアニン類、ポルフィリン類などが挙げられる。
A π-conjugated compound can be obtained by the production method of the present invention, and the π-conjugated compound may be any compound as long as it has a wide π-conjugated plane, but a benzene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, Triazine ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, oxazole ring, thiazole ring, furan ring, thiophene ring, more preferably benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrrole ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring , An oxazole ring, a thiazole ring, a thiophene ring, etc., two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles, condensed and / or covalently linked, and these aromatic hydrocarbon rings Alternatively, the π electrons of each aromatic heterocycle may interact with each other through condensed ring and / or linking interactions. It is preferable condensed and / or the entire coupling ring is delocalized structure. The number of condensed aromatic rings and / or covalently linked aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles is preferably 2-20, more preferably 3-12.
Specific examples of the π-conjugated compound include condensed polycyclic compounds such as tetracene, pentacene, triphenylene, and hexabenzocoronene, heterocyclic oligomers such as quarterthiophene and sexithiophene, phthalocyanines, and porphyrins.

また、本発明の製造方法により得られる溶媒不溶性化合物として、UV吸収剤として用いられる化合物とすることができ、例えば、トリアジン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物などが挙げられる。また、有機顔料として用いられる化合物とすることができ、いかなるものであってもよいが、例えば、アゾ顔料(例えば不溶性アゾ顔料としては不溶性モノアゾ顔料と不溶性ジスアゾ顔料に大別され、不溶性モノアゾ顔料としてはアセト酢酸アリーリド系、β−ナフトール系、ナフトールAS系、ベンズイミダゾロン系が挙げられ、不溶性ジスアゾ顔料としてはアセト酢酸アリーリド系、ピラゾロン系、縮合アゾ系が挙げられる。またアゾレーキ顔料も挙げられる。)、縮合多環顔料(例えば、アントラキノン系、イソインドリノン系、イソインドリン系、キナクリドン系、ペリレン系、ペリノン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、インジゴ系、キノフタロン系が挙げられる。)、金属錯体顔料(例えばフタロシアニン系、アゾメチン系、ニトロソ系が挙げられる。)、その他の顔料(例えばアジン系、昼光蛍光顔料、カーボンブラック)が挙げられる。   The solvent-insoluble compound obtained by the production method of the present invention can be a compound used as a UV absorber, and examples thereof include triazine compounds, benzotriazole compounds, and benzophenone compounds. Further, it can be any compound used as an organic pigment, and any compound can be used. For example, an azo pigment (for example, an insoluble azo pigment is roughly classified into an insoluble monoazo pigment and an insoluble disazo pigment, Are acetoacetate arylides, β-naphthols, naphthol ASs, and benzimidazolones, and insoluble disazo pigments include acetoacetate arylides, pyrazolones, and condensed azos, and azo lake pigments. ), Condensed polycyclic pigments (for example, anthraquinone, isoindolinone, isoindoline, quinacridone, perylene, perinone, dioxazine, diketopyrrolopyrrole, indigo, and quinophthalone). Metal complex pigments (eg phthalocyanine-based, azo Chin system. Nitroso the like), other pigments (e.g. azine, daylight fluorescent pigments, carbon black) can be mentioned.

本発明では化合物の化学的安定性の観点から、π共役系化合物としてはテトラセン、ペンタセン、トリフェニレン、ヘキサベンゾコロネン、ポルフィリン類などが好ましく、UV吸収剤としてはトリアジン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が好ましく、有機顔料としては縮合多環顔料または金属錯体顔料が好ましい。さらに好ましくは、テトラセン、ペンタセン、トリフェニレン、ヘキサベンゾコロネン、トリアジン系化合物、縮合多環顔料または金属錯体顔料である。   In the present invention, from the viewpoint of chemical stability of the compound, tetracene, pentacene, triphenylene, hexabenzocoronene, porphyrins and the like are preferable as the π-conjugated compound, and triazine compound and benzotriazole compound are preferable as the UV absorber. The organic pigment is preferably a condensed polycyclic pigment or a metal complex pigment. More preferred are tetracene, pentacene, triphenylene, hexabenzocoronene, triazine compounds, condensed polycyclic pigments or metal complex pigments.

上述した目的化合物を得る観点から、溶媒不溶性化合物における任意の炭素原子に結合した水素原子を取り去った溶媒不溶性化合物残基Aとしては、2つ以上の芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環が縮環され及び/又は共有結合で連結された構造のπ共役系化合物の残基であることが好ましい。また、色素骨格であることが好ましい。さらに、溶媒不溶性化合物残基Aとしては、顔料残基であることが好ましく、フタロシアニン化合物残基であることが好ましい。   From the viewpoint of obtaining the target compound described above, the solvent-insoluble compound residue A from which a hydrogen atom bonded to any carbon atom in the solvent-insoluble compound is removed includes two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles. It is preferably a residue of a π-conjugated compound having a structure which is condensed and / or linked by a covalent bond. Further, a dye skeleton is preferable. Furthermore, the solvent-insoluble compound residue A is preferably a pigment residue, and more preferably a phthalocyanine compound residue.

本発明に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物は、化合物の化学的安定性の観点から、下記一般式(IV)で表される化合物であることがさらに好ましく、下記一般式(IV)で表される化合物がフタロシアニン化合物であることが特に好ましい。ここで、フタロシアニン化合物は、フタロシアニン骨格を有する化合物をいい、フタロシアニンに置換基が結合した誘導体である。   The solvent-soluble precursor compound used in the present invention is more preferably a compound represented by the following general formula (IV) from the viewpoint of chemical stability of the compound, and is represented by the following general formula (IV). It is particularly preferred that the compound is a phthalocyanine compound. Here, the phthalocyanine compound refers to a compound having a phthalocyanine skeleton, and is a derivative in which a substituent is bonded to phthalocyanine.

Figure 2009084555
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前記一般式(IV)中、Qは芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。複数のQは同一でも異なっていてもよい。ここで、芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環としては4〜10員環が好ましく、5〜7員環がより好ましく、5および6員環がさらに好ましく、6員環が特に好ましい。
Qにより形成される芳香族ヘテロ環に含まれるヘテロ原子は特に限定されないが、窒素、酸素、硫黄、セレン、ケイ素、ゲルマニウム又はリンが好ましく、窒素、酸素又は硫黄がさらに好ましく、窒素が特に好ましい。Qにより形成される芳香族ヘテロ環ひとつに含有されるヘテロ原子数は特に限定されないが、1〜3が好ましい。
In the general formula (IV), Q represents an atomic group necessary for forming an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle. A plurality of Q may be the same or different. Here, the aromatic hydrocarbon ring or aromatic hetero ring is preferably a 4- to 10-membered ring, more preferably a 5- to 7-membered ring, further preferably a 5- or 6-membered ring, and particularly preferably a 6-membered ring.
Although the hetero atom contained in the aromatic heterocycle formed by Q is not particularly limited, nitrogen, oxygen, sulfur, selenium, silicon, germanium or phosphorus is preferable, nitrogen, oxygen or sulfur is more preferable, and nitrogen is particularly preferable. The number of heteroatoms contained in one aromatic heterocycle formed by Q is not particularly limited, but is preferably 1 to 3.

Qにより形成される芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環の具体例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、フラン環、チオフェン環、セレノフェン環、シロール環、ゲルモール環、ホスホール環等が挙げられる。
Qにより形成される芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環は、置換基を有していてもよく、置換基としては、前述のR〜Rで挙げたものが適用できる。
Specific examples of the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle formed by Q include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, oxazole ring. Oxadiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, furan ring, thiophene ring, selenophene ring, silole ring, germol ring, phosphole ring and the like.
The aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle formed by Q may have a substituent, and as the substituent, those mentioned above for R 1 to R 3 can be applied.

Qにより形成される芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環はさらに他の環と縮合環を形成してもよく、縮合する環としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、フラン環、チオフェン環、セレノフェン環、シロール環、ゲルモール環、ホスホール環等が挙げられる。上記の置換基および縮合環は、さらに置換基を有していてもよく、さらに他の環と縮合していてもよい。置換基としては、前述のR〜Rとして挙げたものが適用できる。 The aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle formed by Q may further form a condensed ring with another ring. Examples of the condensed ring include a benzene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, and a pyridazine ring. , Pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, furan ring, thiophene ring, selenophene ring, silole ring, gelmol ring, phosphole ring and the like. The above substituent and condensed ring may further have a substituent and may be further condensed with another ring. As the substituent, those described above as R 1 to R 3 can be applied.

Qにより形成される芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環として好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、フラン環、チオフェン環であり、より好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、チオフェン環であり、さらに好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、チオフェン環であり、特に好ましくはベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環である。   The aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle formed by Q is preferably a benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, oxazole ring, thiazole. Ring, furan ring, thiophene ring, more preferably benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, thiophene ring, more preferably benzene ring, A pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, and a thiophene ring are preferable, and a benzene ring, a pyridine ring, and a pyrazine ring are particularly preferable.

前記一般式(IV)中、フタロシアニン骨格に結合している−SOC(R)(R)(R)基は、分子内のどこに結合していてもよいが、好ましくはQにより形成される芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環に置換している。R〜Rは、前記一般式(III)におけるR〜Rと同義であり、好ましい範囲も同様である。nは自然数である。nが2以上の場合、複数の−SOC(R)(R)(R)基は、同一でも異なっていてもよい。 In the general formula (IV), the —SO 2 C (R 4 ) (R 5 ) (R 6 ) group bonded to the phthalocyanine skeleton may be bonded anywhere in the molecule, but preferably by Q Substitution with the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle formed. R < 4 > -R < 6 > is synonymous with R < 1 > -R < 3 > in the said general formula (III), and its preferable range is also the same. n is a natural number. When n is 2 or more, a plurality of —SO 2 C (R 4 ) (R 5 ) (R 6 ) groups may be the same or different.

前記一般式(IV)中、Mは金属原子または水素原子を表す。Mが水素原子を表す場合、2つの水素原子がN〜Nのいずれか2つの窒素原子にそれぞれ結合する。
Mが金属原子を表す場合、安定な錯体を形成するものであれば金属はいかなるものでも良く、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Ba、Al、Si、Hg、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Pd、Cd、Sn、Pt、Pb、Sr、V、Mn、Ti、In又はGaなどを使用することができる。金属原子には置換基が結合していてもよく、置換基としては前述のR〜Rで挙げたものを用いることができる。
Mとして好ましくはMg、Ca、AlCl、SiCl、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Pd、Sn、SnCl、Pt、Pb、V=O、Mn又はTi=Oが用いられ、より好ましくはFe、Co、Ni、Cu又はZnが用いられ、特に好ましくはCu又はZnが用いられる。なお、Mが水素原子である場合も好ましく、Mが水素原子である場合、前記一般式(IV)は下記一般式(IV’)で表される。
In the general formula (IV), M represents a metal atom or a hydrogen atom. When M represents a hydrogen atom, two hydrogen atoms are each bonded to any two nitrogen atoms of N 1 to N 4 .
When M represents a metal atom, any metal may be used as long as it forms a stable complex, and Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Ba, Al, Si, Hg, Cr, Fe, Co Ni, Cu, Zn, Ge, Pd, Cd, Sn, Pt, Pb, Sr, V, Mn, Ti, In, or Ga can be used. A substituent may be bonded to the metal atom, and as the substituent, those mentioned above for R 1 to R 3 can be used.
The preferred M Mg, Ca, AlCl, SiCl 2, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Pd, Sn, SnCl 2, Pt, Pb, V = O, is Mn or Ti = O is used, more preferably Fe, Co, Ni, Cu or Zn is used, and Cu or Zn is particularly preferably used. M is preferably a hydrogen atom. When M is a hydrogen atom, the general formula (IV) is represented by the following general formula (IV ′).

Figure 2009084555
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前記一般式(IV’)において、Q、R、R、R及びnは、それぞれ前記一般式(IV)におけるQ、R、R、R及びnと同義であり、好ましい範囲も同様である。 In Formula (IV '), Q, R 4, R 5, R 6 and n are Q in each formula (IV), and R 4, R 5, R 6 and n synonymous with the preferred range Is the same.

一般に、複数の置換基を有するフタロシアニン化合物には、置換基の結合している位置の異なる位置異性体が存在し得る。本発明においても例外ではなく、場合によっては数種類の位置異性体が考えられる。本発明においては、フタロシアニン化合物は単一の化合物として用いてもよいし、位置異性体の混合物として用いることもできる。位置異性体の混合物として用いる場合には、混合している位置異性体の数、それぞれの位置異性体における置換基の置換位置、および位置異性体の混合比率はいかなるものでもよい。   Generally, in a phthalocyanine compound having a plurality of substituents, there may exist positional isomers having different positions to which the substituents are bonded. In the present invention, there is no exception, and in some cases, several kinds of positional isomers can be considered. In the present invention, the phthalocyanine compound may be used as a single compound or as a mixture of positional isomers. When used as a mixture of regioisomers, the number of regioisomers mixed, the substitution position of the substituent in each regioisomer, and the mixing ratio of regioisomers may be arbitrary.

以下に、本発明に用いられるフタロシアニン化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらの例示した化合物に限定されるものではない。
下記表1〜4において、例えば「Rα1/Rα2」という表記は「Rα1及びRα2のいずれか一方」という意味を表しており、従ってこの表記のある化合物は置換位置異性体の混合物である。また、Rα1〜Rα8又はRβ1〜Rβ8が無置換の場合、即ち水素原子が置換している場合は表記を省略している。置換基の*印は、下記一般式(V)で表されるフタロシアニン誘導体への結合部位を示す。Buはブチル基を、Meはメチル基を表す。
Although the preferable specific example of the phthalocyanine compound used for this invention is given to the following, this invention is not limited to these illustrated compounds.
In the following Tables 1 to 4, for example, the notation “R α1 / R α2 ” represents the meaning of “one of R α1 and R α2 ”. Therefore, a compound having this notation is a mixture of substitutional isomers. is there. Further, when R α1 to R α8 or R β1 to R β8 are unsubstituted, that is, when a hydrogen atom is substituted, the notation is omitted. The * mark of the substituent indicates a binding site to the phthalocyanine derivative represented by the following general formula (V). Bu represents a butyl group, and Me represents a methyl group.

Figure 2009084555
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本発明におけるフタロシアニン化合物のフタロシアニン環形成反応は、白井汪芳,小林長夫編・著「フタロシアニン−化学と機能−」(アイピーシー社,1997年刊)の第1〜62頁、廣橋亮,坂本恵一,奥村映子編「機能性色素としてのフタロシアニン」(アイピーシー社,2004年刊)の第29〜77頁に準じて行うことができる。   The phthalocyanine ring-forming reaction of the phthalocyanine compound in the present invention is described by Shigeyoshi Shirai and Kobayashi Nagao, "Phthalocyanine-Chemistry and Function" (IPC, 1997), pages 1 to 62, Takahashi Ryo and Sakamoto Keiichi. This can be carried out according to pages 29 to 77 of “Phthalocyanine as a functional pigment” edited by Eiko Okumura (IPC, published in 2004).

フタロシアニン化合物の代表的な合成方法としては、これらの文献に記載のワイラー法、フタロニトリル法、リチウム法、サブフタロシアニン法、および塩素化フタロシアニン法などが挙げられる。本発明においては、フタロニトリル法を好ましく用いることができる。具体的には、t−ブチルスルホニルフタロニトリル等のような前記一般式(I)で表される置換基を有する化合物を原料として、フタロシアニン環形成反応を行うことが好ましい。フタロシアニン環形成反応において、いかなる反応条件を用いてもよい。環形成反応においては、フタロシアニンの中心金属となる種々の金属を添加することが好ましいが、中心金属を持たないフタロシアニン化合物を合成後に、所望の金属を導入してもよい。反応溶媒としては、いかなる溶媒を用いてもよいが、好ましくは高沸点の溶媒である。また、環形成反応促進のために、酸または塩基を用いてもよい。最適な反応条件は、目的とするフタロシアニン化合物の構造により異なるが、上記の文献に記載された具体的な反応条件を参考に設定することができる。   Typical methods for synthesizing phthalocyanine compounds include the Weiler method, phthalonitrile method, lithium method, subphthalocyanine method, and chlorinated phthalocyanine method described in these documents. In the present invention, the phthalonitrile method can be preferably used. Specifically, it is preferable to perform a phthalocyanine ring formation reaction using a compound having a substituent represented by the general formula (I) such as t-butylsulfonylphthalonitrile as a raw material. Any reaction conditions may be used in the phthalocyanine ring formation reaction. In the ring formation reaction, it is preferable to add various metals to be the central metal of phthalocyanine, but a desired metal may be introduced after the synthesis of a phthalocyanine compound having no central metal. Any solvent may be used as the reaction solvent, but a solvent having a high boiling point is preferable. Further, an acid or a base may be used for promoting the ring formation reaction. Optimum reaction conditions vary depending on the structure of the target phthalocyanine compound, but can be set with reference to specific reaction conditions described in the above-mentioned documents.

上記のフタロシアニン化合物の合成に使用する原料としては、無水フタル酸、フタルイミド、フタル酸およびその塩、フタル酸ジアミド、フタロニトリル、1,3−ジイミノイソインドリンなどの誘導体を用いることができる。これらの原料は通常のいかなる方法で合成してもよい。   As raw materials used for the synthesis of the phthalocyanine compound, derivatives such as phthalic anhydride, phthalimide, phthalic acid and salts thereof, phthalic acid diamide, phthalonitrile, 1,3-diiminoisoindoline can be used. These raw materials may be synthesized by any ordinary method.

また、本発明に用いられる化合物は、特開2005−119165号公報等の記載を参照して、前記溶媒不溶性化合物に前記一般式(I)で表される置換基を導入して調製することができる。   Further, the compound used in the present invention can be prepared by introducing the substituent represented by the general formula (I) into the solvent-insoluble compound with reference to the description in JP-A-2005-119165 and the like. it can.

本発明の置換基脱離化合物の製造方法では、まず、本発明に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物A−(B)を溶媒に溶解させることが好ましい。
溶媒としては、水及び/又は有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、オクタン、デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、1−メチルナフタレン、1,2−ジクロロベンゼン等の炭化水素系溶媒;例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶媒;例えば、メタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコール等のアルコール系溶媒;例えば、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒;例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリドン、1−メチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルフォキサイド等の極性溶媒などを用いることができる。
溶液中の溶媒可溶性前駆体化合物の濃度は、特に限定されず、用途によって異なるが、上述の「溶媒可溶性」として定義された濃度範囲で溶解することができる。
In the method for producing a substituent-eliminating compound of the present invention, it is preferable to first dissolve the solvent-soluble precursor compound A- (B) m used in the present invention in a solvent.
As the solvent, water and / or an organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include hydrocarbon solvents such as hexane, octane, decane, toluene, xylene, ethylbenzene, 1-methylnaphthalene, and 1,2-dichlorobenzene; for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Ketone solvents; for example, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, tetrachloromethane, dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, and chlorotoluene; for example, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and amyl acetate System solvents; for example, alcohols such as methanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethylene glycol Solvents; for example, ether solvents such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, anisole, etc .; for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidone, 1-methyl-2-imidazolid Polar solvents such as non- and dimethyl sulfoxide can be used.
The concentration of the solvent-soluble precursor compound in the solution is not particularly limited and varies depending on the application, but can be dissolved in the concentration range defined as “solvent-soluble” described above.

本発明の置換基脱離化合物の製造方法においては、上記溶媒可溶性前駆体化合物を溶媒に溶解させた溶液を用いて塗布などを行った後、加熱などの外部刺激を与えることで溶媒可溶性基を脱離させ、溶媒不溶性化合物に転換することができる。
前記外部刺激としてはヒーターを用いた熱処理が代表的である。加熱温度は、150℃以上が好ましく、200℃以上がより好ましく、250℃以上がさらに好ましい。また、上限は、550℃以下が好ましく、500℃以下がより好ましく、400℃以下がさらに好ましい。高温であるほど反応時間は短く、低温であるほど脱離反応に必要な時間は長くなる。これらの加熱は、窒素やアルゴンなどの不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
用途によっては、加熱温度や加熱時間を変えることで、前記一般式(I)で表される置換基の一部のみを脱離させて、生成する化合物の特性を調整することも可能である。例えば、有機半導体膜として用いる場合、移動度を調整することができる。
加熱方法は、ヒーターを用いた伝熱による加熱の他、本発明に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物を含有する層の近傍に光を吸収する層を設け、光をこの層で吸収させることにより加熱してもよい。
In the method for producing a substituent-eliminating compound of the present invention, the solvent-soluble group is formed by applying an external stimulus such as heating after application using a solution in which the solvent-soluble precursor compound is dissolved in a solvent. It can be desorbed and converted to a solvent insoluble compound.
The external stimulus is typically heat treatment using a heater. The heating temperature is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, and further preferably 250 ° C. or higher. Further, the upper limit is preferably 550 ° C. or lower, more preferably 500 ° C. or lower, and further preferably 400 ° C. or lower. The higher the temperature, the shorter the reaction time, and the lower the temperature, the longer the time required for the elimination reaction. Such heating is preferably performed in an inert atmosphere such as nitrogen or argon.
Depending on the application, by changing the heating temperature and the heating time, it is possible to remove only a part of the substituents represented by the general formula (I) and adjust the properties of the resulting compound. For example, when used as an organic semiconductor film, the mobility can be adjusted.
In addition to heating by heat transfer using a heater, heating is performed by providing a layer that absorbs light in the vicinity of the layer containing the solvent-soluble precursor compound used in the present invention, and absorbing the light in this layer. May be.

また、前記外部刺激としては、前記一般式(I)で表される置換基を分解させるための任意の処理を行うことができ、上記のような熱処理の他、光分解処理や、又は化学分解(有機又は無機の酸又は塩基使用)によって実施することができる。これらの変換方法を組み合わせることもできる。
光分解処理の場合、赤外線ランプや、化合物が吸収する波長の光を照射すること(例えば405nm以下の波長に露光)等を利用してもよい。その際に半導体レーザーを用いてもよい。例えば、近赤外域のレーザー光(通常は780nm付近の波長のレーザー光)、可視レーザー光(通常は、630nm〜680nmの範囲の波長のレーザー光)、波長390〜440nmのレーザー光が挙げられる。
特に好ましくは波長390〜440nmのレーザー光であり、440nm以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられる。中でも好ましい光源としては、390〜440(更に好ましくは390〜415nm)の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長850nmの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長425nmの青紫色SHGレーザー光を挙げることができる。
また、化学分解の場合に好ましく用いることができる有機又は無機の酸又は塩基としては、例えば酸として、鉱酸類(例えば硫酸、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸等)、有機カルボン酸類(例えば酢酸、蓚酸、ギ酸、プロピオン酸、安息香酸等)、又はスルホン酸類(例えばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)を用いるのが好ましく、より好ましくは硫酸、塩酸、臭化水素酸または酢酸であり、特に好ましくは硫酸または塩酸である。なおこれらの酸は、単独または二種以上を混合して使用してもよい。塩基として好ましくは、有機塩基、アルキルメタル、メタルハイドライド(例えばナトリウムハイドライド等)等である。更に好ましくはトリエチルアミン、ピリジン又はナトリウムハイドライドである。特に好ましくはトリエチルアミン又はピリジンである。
In addition, as the external stimulus, any treatment for decomposing the substituent represented by the general formula (I) can be performed. In addition to the heat treatment as described above, photolysis treatment or chemical decomposition can be performed. (Using organic or inorganic acids or bases). These conversion methods can also be combined.
In the case of the photolysis treatment, an infrared lamp, irradiation with light having a wavelength absorbed by the compound (for example, exposure to a wavelength of 405 nm or less), and the like may be used. At that time, a semiconductor laser may be used. For example, near-infrared laser light (usually laser light having a wavelength of around 780 nm), visible laser light (usually laser light having a wavelength in the range of 630 nm to 680 nm), and laser light having a wavelength of 390 to 440 nm can be mentioned.
Laser light having a wavelength of 390 to 440 nm is particularly preferable, and semiconductor laser light having an oscillation wavelength in the range of 440 nm or less is preferably used. Among them, as a preferable light source, a blue-violet semiconductor laser light having an oscillation wavelength in the range of 390 to 440 (more preferably 390 to 415 nm) and an infrared semiconductor laser light having a central oscillation wavelength of 850 nm are half wavelength using an optical waveguide device. And blue-violet SHG laser light having a central oscillation wavelength of 425 nm.
Examples of organic or inorganic acids or bases that can be preferably used in the case of chemical decomposition include acids, mineral acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.), organic carboxylic acids ( For example, acetic acid, succinic acid, formic acid, propionic acid, benzoic acid, etc.) or sulfonic acids (for example, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.) are preferably used, more preferably sulfuric acid, Hydrochloric acid, hydrobromic acid or acetic acid, particularly preferably sulfuric acid or hydrochloric acid. In addition, you may use these acids individually or in mixture of 2 or more types. The base is preferably an organic base, alkyl metal, metal hydride (for example, sodium hydride) and the like. More preferred is triethylamine, pyridine or sodium hydride. Particularly preferred is triethylamine or pyridine.

前記溶媒不溶性化合物としてフタロシアニン化合物を得る実施態様においては、、溶媒可溶性基を有するフタロシアニン化合物(ただし、前記置換基は、フタロシアニン化合物残基中の炭素原子に結合している。)を溶媒に溶解させた後、加熱などの外部刺激を与えることで前記置換基を脱離させて、無置換フタロシアニン化合物を得ることができる。
フタロシアニン化合物は、その分子物性に注目が集まってきているが、溶媒不溶性であることが研究の足枷となっている。本発明によれば、特殊な置換基の導入や分子修飾によらず、特定の溶媒可溶性基で置換された構造のフタロシアニン化合物を一般的な溶媒に溶解した溶液を用いて薄膜形成などを行うことができる。その後に置換基を脱離させることで無置換フタロシアニン化合物による薄膜を得ることができ、複雑な工程を必要とせずに、半導体薄膜や微細加工膜の製造などを効率的に行うことができる。
In an embodiment in which a phthalocyanine compound is obtained as the solvent-insoluble compound, a phthalocyanine compound having a solvent-soluble group (however, the substituent is bonded to a carbon atom in the phthalocyanine compound residue) is dissolved in a solvent. Thereafter, the substituent can be eliminated by applying an external stimulus such as heating to obtain an unsubstituted phthalocyanine compound.
Phthalocyanine compounds have been attracting attention for their molecular properties, but their insolubility in solvent has been a hindrance to research. According to the present invention, thin film formation or the like is performed using a solution in which a phthalocyanine compound having a structure substituted with a specific solvent-soluble group is dissolved in a general solvent, regardless of introduction of a special substituent or molecular modification. Can do. Thereafter, by removing the substituent, a thin film of an unsubstituted phthalocyanine compound can be obtained, and a semiconductor thin film or a finely processed film can be efficiently produced without requiring a complicated process.

前記溶媒不溶性化合物として顔料を得る実施態様においては、顔料が溶媒可溶性基により修飾された構造の顔料前駆体を溶媒に溶解させた後、加熱などの外部刺激を与えることで顔料に転換させ、溶媒中に顔料微粒子が分散した顔料分散液を得ることができる。上記顔料微粒子の粒径は特に限定されないが、ナノメートルサイズのものとして得る場合には、平均粒径が1〜1000nmであることが好ましく、10〜500nmであることがより好ましい。得られた顔料粒子は、例えば、塗料、印刷インク、電子写真用トナー、インクジェットインク、カラーフィルタなどの用途に好ましく用いることができる。   In an embodiment in which a pigment is obtained as the solvent-insoluble compound, after the pigment precursor having a structure in which the pigment is modified with a solvent-soluble group is dissolved in the solvent, the pigment is converted to the pigment by applying an external stimulus such as heating. A pigment dispersion in which pigment fine particles are dispersed can be obtained. The particle size of the pigment fine particles is not particularly limited, but when it is obtained as a nanometer size, the average particle size is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm. The obtained pigment particles can be preferably used for applications such as paints, printing inks, electrophotographic toners, inkjet inks, and color filters.

本発明の置換基脱離化合物の製造方法により色素化合物を得る実施態様において、得られる色素の用途としては、画像、特にカラー画像を形成するための画像記録材料が挙げられ、具体的には、以下に詳述するインクジェット方式記録材料を始めとして、感熱記録材料、感圧記録材料、電子写真方式を用いる記録材料、転写式ハロゲン化銀感光材料、印刷インク、記録ペン等があり、好ましくはインクジェット方式記録材料、感熱記録材料、電子写真方式を用いる記録材料であり、更に好ましくはインクジェット方式記録材料である。
また、CCDなどの固体撮像素子やLCD、PDP等のディスプレーで用いられるカラー画像を記録・再現するためのカラーフィルタ、各種繊維の染色の為の染色液にも適用できる。
本発明により得られる色素は、その用途に適した溶媒可溶性、分散性、熱移動性などの物性を、置換基で調整して使用する。また、本発明により得られる色素は、用いられる系に応じて溶解状態、乳化分散状態、さらには固体分散状態でも使用することができる。
In an embodiment of obtaining a dye compound by the method for producing a substituent-eliminating compound of the present invention, the use of the obtained dye includes an image recording material for forming an image, particularly a color image, specifically, Examples include inkjet recording materials described in detail below, thermal recording materials, pressure-sensitive recording materials, recording materials using electrophotographic methods, transfer type silver halide photosensitive materials, printing inks, recording pens, etc., preferably inkjet A recording material using a method recording material, a heat-sensitive recording material, or an electrophotographic method, and more preferably an ink jet recording material.
Further, the present invention can also be applied to a solid-state image pickup device such as a CCD, a color filter for recording / reproducing a color image used in a display such as an LCD or PDP, and a dyeing solution for dyeing various fibers.
The coloring matter obtained by the present invention is used by adjusting the physical properties such as solvent solubility, dispersibility, heat transferability, etc. suitable for its use with a substituent. Moreover, the pigment | dye obtained by this invention can be used also in a dissolved state, an emulsified dispersion state, and also a solid dispersion state according to the system to be used.

本発明において顔料微粒子を製造する実施態様においては、そこで得られる顔料微粒子を用いてインクを作製することができる。当該インクは、したがって少なくとも一種の本発明により得られる顔料微粒子等を色素として含有するインクを意味する。
インクは、媒体を含有させることができるが、媒体として溶媒を用いた場合は特にインクジェット記録用インクとして好適である。インクは、媒体として、親油性媒体や水性媒体を用いて、それらの中に、本発明により得られる色素を溶解及び/又は分散させることによって作製することができる。好ましくは、水性媒体を用いる場合である。インクには、媒体を除いたインク用組成物も含まれる。
インクは、必要に応じてその他の添加剤を含有しうる。その他の添加剤としては、例えば、乾燥防止剤(湿潤剤)、褪色防止剤、乳化安定剤、浸透促進剤、紫外線吸収剤、防腐剤、防黴剤、pH調整剤、表面張力調整剤、消泡剤、粘度調整剤、分散剤、分散安定剤、防錆剤、キレート剤等の公知の添加剤(特開2003−306623号公報に記載)が挙げられる。これらの各種添加剤は、水溶性インクの場合にはインク液に直接添加する。油溶性染料を分散物の形で用いる場合には、染料分散物の調製後分散物に添加するのが一般的であるが、調製時に油相又は水相に添加してもよい。
In the embodiment of producing pigment fine particles in the present invention, ink can be produced using the pigment fine particles obtained there. Therefore, the ink means an ink containing at least one kind of pigment fine particles obtained by the present invention as a coloring matter.
The ink can contain a medium, but when a solvent is used as the medium, it is particularly suitable as an ink for inkjet recording. The ink can be prepared by using a lipophilic medium or an aqueous medium as a medium and dissolving and / or dispersing the pigment obtained by the present invention in the medium. Preferably, an aqueous medium is used. The ink includes an ink composition excluding a medium.
The ink may contain other additives as necessary. Other additives include, for example, anti-drying agents (wetting agents), anti-fading agents, emulsion stabilizers, penetration enhancers, ultraviolet absorbers, preservatives, anti-fungal agents, pH adjusters, surface tension adjusters, Known additives (described in JP-A No. 2003-306623) such as a foaming agent, a viscosity modifier, a dispersant, a dispersion stabilizer, a rust inhibitor, and a chelating agent can be used. These various additives are directly added to the ink liquid in the case of water-soluble ink. When an oil-soluble dye is used in the form of a dispersion, it is generally added to the dispersion after the preparation of the dye dispersion, but it may be added to the oil phase or the aqueous phase at the time of preparation.

本発明により得られる色素を水性媒体に分散させる場合は、特開平11−286637号公報、特開2001−240763号公報、特開2001−262039号公報、特開2001−247788号公報等に記載されているように色素と油溶性ポリマーとを含有する着色微粒子を水性媒体に分散させたり、特開2001−262018号公報、特開2001−240763号公報、特開2001−335734号公報等に記載されているように高沸点有機溶媒に溶解した本発明により得られる色素を水性媒体中に分散させることが好ましい。本発明により得られる色素を水性媒体に分散させる場合の具体的な方法、使用する油溶性ポリマー、高沸点有機溶剤、添加剤及びそれらの使用量は、前記特許文献に記載されたものを好ましく使用することができる。あるいは、前記色素を固体のまま微粒子状態に分散してもよい。分散時には、分散剤や界面活性剤を使用することができる。   When the pigment obtained by the present invention is dispersed in an aqueous medium, it is described in JP-A-11-286637, JP-A-2001-240763, JP-A-2001-262039, JP-A-2001-247788, and the like. As described above, coloring fine particles containing a dye and an oil-soluble polymer are dispersed in an aqueous medium, or described in JP-A-2001-262018, JP-A-2001-240763, JP-A-2001-335734, etc. As described above, it is preferable to disperse the dye obtained by the present invention dissolved in a high-boiling organic solvent in an aqueous medium. The specific method for dispersing the pigment obtained by the present invention in an aqueous medium, the oil-soluble polymer to be used, the high-boiling organic solvent, the additive and the amount used thereof are preferably those described in the above-mentioned patent documents. can do. Or you may disperse | distribute the said pigment | dye to a fine particle state with a solid. At the time of dispersion, a dispersant or a surfactant can be used.

分散装置としては、簡単なスターラーやインペラー攪拌方式、インライン攪拌方式、ミル方式(例えば、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテーターミル等)、超音波方式、高圧乳化分散方式(高圧ホモジナイザー;具体的な市販装置としてはゴーリンホモジナイザー、マイクロフルイダイザー、DeBEE2000(商品名)等)を使用することができる。上記のインクジェット記録用インクの調製方法については、先述の特許文献以外にも特開平5−148436号、同5−295312号、同7−97541号、同7−82515号、同7−118584号、同11−286637号、特開2001−271003号の各公報に詳細が記載されており、本発明により得られる色素を用いたインクジェット記録用インクの調製にも利用できる。   Dispersing devices include simple stirrer, impeller stirring method, in-line stirring method, mill method (for example, colloid mill, ball mill, sand mill, attritor, roll mill, agitator mill, etc.), ultrasonic method, high-pressure emulsification dispersion method (high-pressure homogenizer) Specific examples of commercially available devices include gorin homogenizers, microfluidizers, DeBEE2000 (trade name), and the like. Regarding the method for preparing the ink for ink jet recording, in addition to the above-mentioned patent documents, JP-A Nos. 5-148436, 5-295212, 7-97541, 7-82515, 7-118584, The details are described in JP-A-11-286637 and JP-A-2001-271003, and can also be used for the preparation of inks for ink jet recording using the dyes obtained by the present invention.

前記水性媒体は、水を主成分とし、所望により、水混和性有機溶剤を添加した混合物を用いることができる。前記水混和性有機溶剤の例は特開2003−306623号公報に記載のものが使用できる。尚、前記水混和性有機溶剤は、二種類以上を併用してもよい。   As the aqueous medium, a mixture containing water as a main component and optionally adding a water-miscible organic solvent can be used. Examples of the water miscible organic solvent include those described in JP-A No. 2003-306623. In addition, the said water miscible organic solvent may use 2 or more types together.

インクジェット記録用インク100質量部中に、本発明により得られる色素を0.1質量部以上20質量部以下含有するのが好ましく、0.2質量部以上10質量部以下含有するのがより好ましく、0.5〜9質量部含有するのがさらに好ましい。また、インクジェット用インクには、本発明により得られる色素とともに、他の色素を併用してもよい。2種類以上の色素を併用する場合は、色素の含有量の合計が前記範囲となっているのが好ましい。   Preferably, the pigment obtained by the present invention is contained in an amount of 0.1 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, more preferably 0.2 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, in 100 parts by mass of the ink for inkjet recording. It is more preferable to contain 0.5-9 mass parts. Moreover, you may use another pigment | dye together with the pigment | dye obtained by this invention for the inkjet ink. When two or more kinds of dyes are used in combination, the total content of the dyes is preferably within the above range.

インクは、単色の画像形成のみならず、フルカラーの画像形成に用いることができる。フルカラー画像を形成するために、マゼンタ色調インク、シアン色調インク、及びイエロー色調インクを用いることができ、また、色調を整えるために、更にブラック色調インクを用いてもよい。   The ink can be used not only for forming a single color image but also for forming a full color image. In order to form a full color image, a magenta color ink, a cyan color ink, and a yellow color ink can be used, and a black color ink may be further used to adjust the color tone.

さらに、インクジェット記録用インクは、本発明により得られる色素の他に別のシアン染料を同時に用いることが出来る。適用できるイエロー染料、適用できるマゼンタ染料、適用できるシアン染料としては、各々任意のものを使用することができるが、特開2003−306623号公報の段落番号0090〜0092に記載の各染料が利用できる。適用できる黒色材としては、ジスアゾ、トリスアゾ、テトラアゾ染料のほか、カーボンブラックの分散体を挙げることができる。   Furthermore, the ink for inkjet recording can use another cyan dye simultaneously with the pigment | dye obtained by this invention. As the applicable yellow dye, applicable magenta dye, and applicable cyan dye, any of them can be used, but each dye described in paragraph Nos. 0090 to 0092 of JP-A-2003-306623 can be used. . Applicable black materials include disazo, trisazo, tetraazo dyes, and carbon black dispersions.

インクジェット記録方法は、前記インクジェット記録用インクにエネルギーを供与して、公知の受像材料、即ち普通紙、樹脂コート紙、例えば特開平8−169172号公報、同8−27693号公報、同2−276670号公報、同7−276789号公報、同9−323475号公報、特開昭62−238783号公報、特開平10−153989号公報、同10−217473号公報、同10−235995号公報、同10−337947号公報、同10−217597号公報、同10−337947号公報等に記載されているインクジェット専用紙、フィルム、電子写真共用紙、布帛、ガラス、金属、陶磁器等に画像を形成する。なお、インクジェット記録方法として特開2003−306623号公報の段落番号0093〜0105の記載が適用できる。   In the ink jet recording method, energy is supplied to the ink for ink jet recording, and a known image receiving material, that is, plain paper, resin-coated paper, such as JP-A-8-169172, JP-A-8-27693, and JP-A-2-276670. Gazettes, 7-276789, 9-323475, JP-A-62-238783, JP-A-10-153898, 10-217473, 10-235995, 10 -337947, 10-217597, 10-337947, etc. An image is formed on an inkjet exclusive paper, film, electrophotographic co-paper, fabric, glass, metal, ceramics, and the like. In addition, the description of Paragraph Nos. 0093 to 0105 of JP-A No. 2003-306623 can be applied as an ink jet recording method.

画像を形成する際に、光沢性や耐水性を与えたり耐候性を改善したりする目的からポリマーラテックス化合物を併用してもよい。ラテックス化合物を受像材料に付与する時期については、着色剤を付与する前であっても、後であっても、また同時であってもよく、したがって添加する場所も受像紙中であっても、インク中であってもよく、あるいはポリマーラテックス単独の液状物として使用しても良い。具体的には、特開2002−166638号公報、特開2002−121440号公報、特開2002−154201号公報、特開2002−144696号公報、特開2002−080759号公報、特願2000−299465号明細書、特願2000−297365号明細書などに記載された方法を好ましく用いることができる。   When forming an image, a polymer latex compound may be used in combination for the purpose of giving glossiness or water resistance or improving weather resistance. The timing of applying the latex compound to the image receiving material may be before, after, or simultaneously with the application of the colorant, and therefore the addition location may be in the image receiving paper. It may be in ink or may be used as a liquid material of polymer latex alone. Specifically, JP 2002-166638 A, JP 2002-121440 A, JP 2002-154201 A, JP 2002-144696 A, JP 2002-080759 A, Japanese Patent Application 2000-299465. And the method described in Japanese Patent Application No. 2000-297365 and the like can be preferably used.

カラートナー100質量部中における本発明により得られる色素の含有量は特に制限がないが、0.1質量部以上含有するのが好ましく、1〜20質量部がより好ましく、2〜10質量部含有するのが最も好ましい。
本発明により得られる色素を導入するカラートナー用バインダー樹脂としては一般に使用される全てのバインダーが使用できる。例えば、スチレン系樹脂・アクリル系樹脂・スチレン/アクリル系樹脂・ポリエステル樹脂等が挙げられる。
トナーに対して流動性向上、帯電制御等を目的として無機微粉末、有機微粒子を外部添加しても良い。表面をアルキル基含有のカップリング剤等で処理したシリカ微粒子、チタニア微粒子が好ましく用いられる。なお、これらは数平均一次粒子径が10〜500nmのものが好ましく、さらにはトナー中に0.1〜20質量%添加するのが好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular in content of the pigment | dye obtained by this invention in 100 mass parts of color toners, it is preferable to contain 0.1 mass part or more, 1-20 mass parts is more preferable, 2-10 mass parts containing Most preferably.
As the binder resin for a color toner into which the pigment obtained by the present invention is introduced, all commonly used binders can be used. Examples thereof include styrene resin, acrylic resin, styrene / acrylic resin, and polyester resin.
Inorganic fine powders and organic fine particles may be externally added to the toner for the purpose of improving fluidity and controlling charging. Silica fine particles and titania fine particles whose surface is treated with an alkyl group-containing coupling agent or the like are preferably used. These have a number average primary particle diameter of preferably 10 to 500 nm, and more preferably 0.1 to 20% by mass in the toner.

離型剤としては、従来使用されている離型剤は全て使用することができる。具体的には、低分子量ポリプロピレン・低分子量ポリエチレン・エチレン−プロピレン共重合体等のオレフィン類、マイクロクリスタリンワックス・カルナウバワックス・サゾールワックス・パラフィンワックス等があげられる。これらの添加量はトナー中に1〜5質量%添加することが好ましい。   As the release agent, all conventionally used release agents can be used. Specific examples include olefins such as low molecular weight polypropylene, low molecular weight polyethylene, and ethylene-propylene copolymer, microcrystalline wax, carnauba wax, sazol wax, and paraffin wax. These addition amounts are preferably 1 to 5% by mass in the toner.

荷電制御剤としては、必要に応じて添加しても良いが、発色性の点から無色のものが好ましい。例えば4級アンモニウム塩構造のもの、カリックスアレン構造を有するものなどが挙げられる。   The charge control agent may be added as necessary, but is preferably colorless from the viewpoint of color development. Examples thereof include those having a quaternary ammonium salt structure and those having a calixarene structure.

キャリアとしては、鉄・フェライト等の磁性材料粒子のみで構成される非被覆キャリア、磁性材料粒子表面を樹脂等によって被覆した樹脂被覆キャリアのいずれを使用してもよい。このキャリアの平均粒径は体積平均粒径で30〜150μmが好ましい。   As the carrier, either an uncoated carrier composed only of magnetic material particles such as iron and ferrite, or a resin-coated carrier whose magnetic material particle surface is coated with a resin or the like may be used. The average particle size of the carrier is preferably 30 to 150 μm in terms of volume average particle size.

トナーが適用される画像形成方法としては、特に限定されるものではないが、例えば感光体上に繰り返しカラー画像を形成した後に転写を行って画像を形成する方法や、感光体に形成された画像を逐次中間転写体等へ転写し、カラー画像を中間転写体等に形成した後に紙等の画像形成部材へ転写しカラー画像を形成する方法等があげられる。   The image forming method to which the toner is applied is not particularly limited. For example, a method of forming a color image by repeatedly forming a color image on a photoconductor and transferring the image, or an image formed on the photoconductor And the like, and a color image is formed on the intermediate transfer member and then transferred to an image forming member such as paper to form a color image.

感熱記録材料は、支持体上に本発明により得られる色素をバインダーとともに塗設したインクシート、及び画像記録信号に従ってサーマルヘッドから加えられた熱エネルギーに対応して移行してきた色素を固定する受像シートから構成される。インクシートは、本発明により得られる化合物をバインダーと共に溶剤中に溶解することによって、或いは溶媒中に微粒子状に分散させることによってインク液を調製し、該インクを支持体上に塗布して適宜に乾燥することにより形成することができる。支持体上のインクの塗布量は特に制限するものではないが、好ましくは30〜1000mg/mである。好ましいバインダー樹脂、インク溶媒、支持体、更には受像シートについては、特開平7−137466号公報に記載されたものを好ましく用いることができる。 The heat-sensitive recording material includes an ink sheet in which the dye obtained by the present invention is coated on a support together with a binder, and an image-receiving sheet that fixes the dye transferred in accordance with the thermal energy applied from the thermal head according to the image recording signal Consists of The ink sheet is prepared by dissolving the compound obtained by the present invention in a solvent together with a binder or by dispersing the compound in a fine particle form in a solvent, and applying the ink on a support. It can be formed by drying. The amount of ink applied on the support is not particularly limited, but is preferably 30 to 1000 mg / m 2 . As the preferred binder resin, ink solvent, support, and image receiving sheet, those described in JP-A-7-137466 can be preferably used.

該感熱記録材料をフルカラー画像記録が可能な感熱記録材料に適用するには、シアン画像を形成することができる熱拡散性シアン色素を含有するシアンインクシート、マゼンタ画像を形成することができる熱拡散性マゼンタ色素を含有するマゼンタインクシート、イエロー画像を形成することができる熱拡散性イエロー色素を含有するイエローインクシートを支持体上に順次塗設して形成することが好ましい。また、必要に応じて他に黒色画像形成物質を含むインクシートがさらに形成されていてもよい。   In order to apply the heat-sensitive recording material to a heat-sensitive recording material capable of full-color image recording, a cyan ink sheet containing a heat-diffusible cyan dye capable of forming a cyan image, and heat diffusion capable of forming a magenta image. It is preferable to form a magenta ink sheet containing a reactive magenta dye and a yellow ink sheet containing a heat-diffusible yellow dye capable of forming a yellow image by sequentially coating on a support. In addition, an ink sheet containing a black image forming substance may be further formed as necessary.

カラーフィルタの形成方法としては、初めにフォトレジストによりパターンを形成し、次いで染色する方法、或いは特開平4−163552号、同4−128703号、同4−175753号等の各公報に開示されているように色素を添加したフォトレジストによりパターンを形成する方法がある。本発明により得られる色素をカラーフィルタに導入する場合に用いられる方法としては、これらのいずれの方法を用いてもよいが、好ましい方法としては、特開平4−175753号公報や同6−35182号公報に記載されたところの、熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋剤、色素及び溶剤を含有してなるポジ型レジスト組成物、並びに、それを基体上に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像してポジ型レジストパターンを形成させ、上記ポジ型レジストパターンを全面露光し、次いで露光後のポジ型レジストパターンを硬化させることからなるカラーフィルタの形成方法を挙げることができる。また、常法に従いブラックマトリックスを形成させ、RGB原色系あるいはY、M、C補色系カラーフィルタを得ることができる。カラーフィルタの場合も色素の使用量の制限はないが0.1〜50質量%が好ましい。   As a method for forming a color filter, a pattern is first formed with a photoresist and then dyed, or disclosed in JP-A-4-163552, JP-A-4-128703, JP-A-4-17553, and the like. As described above, there is a method of forming a pattern with a photoresist added with a dye. Any of these methods may be used as a method used for introducing the dye obtained by the present invention into a color filter, and preferred methods include JP-A-4-175533 and JP-A-6-35182. A positive resist composition comprising a thermosetting resin, a quinonediazide compound, a cross-linking agent, a dye and a solvent, as described in the publication, and after being coated on a substrate, it is exposed through a mask. Examples of the color filter forming method include developing a portion to form a positive resist pattern, exposing the entire surface of the positive resist pattern, and then curing the exposed positive resist pattern. In addition, a black matrix can be formed according to a conventional method to obtain an RGB primary color system or Y, M, C complementary color system color filter. In the case of a color filter, although there is no restriction | limiting of the usage-amount of a pigment | dye, 0.1-50 mass% is preferable.

この際使用する熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋剤、及び溶剤とそれらの使用量については、前記特許文献に記載されているものを好ましく使用することができる。   Regarding the thermosetting resin, quinonediazide compound, crosslinking agent, and solvent used in this case, and those used, those described in the above-mentioned patent documents can be preferably used.

前記溶媒不溶性化合物が結晶性を示す場合、本発明の製造方法を用いることで、必要により前記溶媒不溶性化合物の結晶系を制御することができる。本発明に用いられる前記の一般式(I)で表される置換基を有する溶媒可溶性前駆体化合物がアモルファスの結晶構造を示すとき、本発明の方法により置換基を脱離させて溶媒不溶性化合物に転換し、結果として結晶転移を起こさせることができる。例えば、銅フタロシアニンは同質異晶を示し、α、β、ε、γ、δ、π、χ、R等の結晶が報告されている(例えば、「機能性色素としてのフタロシアニン基礎編・応用編」(アイピーシー)を参照。)。本発明によりフタロシアン化合物を得る実施態様において制御できる結晶系は、好ましくはα、β又はεであり、より好ましくはα又はβである。特に、準安定のα型結晶は、従来アシッドペースト法により作成していたため結晶子が小さく、X線回折測定結果のピークがブロードになっていたが、本発明では、加熱によって効率よくα型結晶を作製することができるため、半値幅が小さいシャープなピークが得られ、結晶子が大きいα型結晶を作製することができる。   When the solvent-insoluble compound exhibits crystallinity, the crystal system of the solvent-insoluble compound can be controlled as necessary by using the production method of the present invention. When the solvent-soluble precursor compound having a substituent represented by the general formula (I) used in the present invention exhibits an amorphous crystal structure, the substituent is eliminated by the method of the present invention to form a solvent-insoluble compound. Can be converted, resulting in a crystal transition. For example, copper phthalocyanine shows homogeneous heterocrystals, and crystals such as α, β, ε, γ, δ, π, χ, and R have been reported (for example, “Basic and Applied Phthalocyanine as Functional Dye”). (See IPC).) The crystal system that can be controlled in the embodiment for obtaining the phthalocyanine compound according to the present invention is preferably α, β or ε, more preferably α or β. In particular, the metastable α-type crystal has been produced by the acid paste method in the past, so the crystallite is small and the peak of the X-ray diffraction measurement result is broad. Therefore, a sharp peak with a small half width can be obtained, and an α-type crystal with a large crystallite can be produced.

本発明において、上記溶媒可溶性前駆体化合物を溶媒に溶解させた後に、基材上に塗布し、乾燥させてから、加熱などの外部刺激を与えることで溶媒可溶性基を脱離させて、溶媒不溶性化合物の薄膜を製造することができる。上記基材としては例えば基板が挙げられるが、その他部材の上面や壁面等であってもよい。   In the present invention, the solvent-soluble precursor compound is dissolved in a solvent, applied onto a substrate, dried, and then subjected to an external stimulus such as heating to desorb the solvent-soluble group, thereby making the solvent insoluble Compound thin films can be produced. Examples of the base material include a substrate, but may be the upper surface or wall surface of other members.

本実施態様に用いられる基板としては、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、セラミック、シリコン、石英、ガラスなどの種々の材料を用いることができる。好ましくはセラミック、シリコン、石英またはガラスであり、より好ましくはシリコン、石英またはガラスである。また、用途に応じていかなる基板を選択してもよい。例えば、フレキシブルな素子の用途の場合にはフレキシブル基板を用いることができる。
また、基板の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜1000μmであり、より好ましくは10〜800μmである。
As the substrate used in this embodiment, various materials such as polyester films such as polyethylene naphthalate (PEN) and polyethylene terephthalate (PET), polyimide films, ceramics, silicon, quartz, and glass can be used. Preferred is ceramic, silicon, quartz or glass, and more preferred is silicon, quartz or glass. Any substrate may be selected depending on the application. For example, a flexible substrate can be used in the case of use of a flexible element.
The thickness of the substrate is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 μm, and more preferably 10 to 800 μm.

本発明において、前記溶媒可溶性前駆体化合物の溶液を基板上に塗布し成膜する場合、その方法はいかなる方法でもよいが、溶液プロセスにより成膜することが特に好ましい。溶液プロセスによる成膜とは、ここでは有機化合物を溶解させることができる溶媒中に溶解させ、その溶液を基板上に塗布し乾燥させて成膜する方法を指す。具体的には、キャスト法、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、ディッピング(浸漬)コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法、インクジェット法、スピンコート法、ラングミュア−ブロジェット(Langmuir−Blodgett)(LB)法などの通常の方法を用いることができる。本発明においては、キャスト法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることがさらに好ましい。このような溶液プロセスにより、表面が平滑で大面積の薄膜を低コストで生産することが可能となる。   In the present invention, when the solution of the solvent-soluble precursor compound is applied on a substrate to form a film, the method may be any method, but it is particularly preferable to form the film by a solution process. Here, film formation by a solution process refers to a method in which an organic compound is dissolved in a solvent capable of dissolving, and the solution is applied onto a substrate and dried to form a film. Specifically, casting method, blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dipping (dipping) coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain coating method, ink jet method, spin coating method, Langmuir- An ordinary method such as a Langmuir-Blodgett (LB) method can be used. In the present invention, it is more preferable to use a casting method, a spin coating method, and an ink jet method. By such a solution process, a thin film having a smooth surface and a large area can be produced at a low cost.

溶液プロセスにより基板上に成膜する場合、層を形成する材料を適当な有機溶媒(例えば、ヘキサン、オクタン、デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、1−メチルナフタレン、1,2−ジクロロベンゼン等の炭化水素系溶媒;例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶媒;例えば、メタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコール等のアルコール系溶媒;例えば、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒;例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリドン、1−メチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルフォキサイド等の極性溶媒など)及び/又は水に溶解又は分散させて塗布液とし、各種の塗布法により薄膜を形成することができる。
その塗布液中の本発明に用いられる化合物の濃度は、好ましくは0.1〜80質量%、より好ましくは0.1〜10質量%であり、これにより任意の厚さの膜を形成できる。
When a film is formed on a substrate by a solution process, carbonization of a material for forming the layer with an appropriate organic solvent (for example, hexane, octane, decane, toluene, xylene, ethylbenzene, 1-methylnaphthalene, 1,2-dichlorobenzene, etc.) Hydrogen solvents; for example, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; halogenated carbonization such as dichloromethane, chloroform, tetrachloromethane, dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, chlorotoluene Hydrogen solvents; for example, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and amyl acetate; for example, methanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, methyl celloso Alcohol solvents such as butyl, ethyl cellosolve and ethylene glycol; for example, ether solvents such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and anisole; for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2 A polar solvent such as -pyrrolidone, 1-methyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, etc.) and / or water to form a coating solution, and a thin film can be formed by various coating methods. .
The concentration of the compound used in the present invention in the coating solution is preferably 0.1 to 80% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, whereby a film with an arbitrary thickness can be formed.

また、成膜の際に樹脂バインダーを用いることも可能である。この場合、層を形成する材料とバインダー樹脂とを前述の適当な溶媒に溶解させ、または分散させて塗布液とし、各種の塗布法により薄膜を形成することができる。樹脂バインダーとしては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン等の絶縁性ポリマー、およびこれらの共重合体、ポリビニルカルバゾール、ポリシラン等の光伝導性ポリマー、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリパラフェニレンビニレン等の導電性ポリマーなどを挙げることができる。樹脂バインダーは、単独で使用してもよく、あるいは複数併用しても良い。薄膜の機械的強度を考慮するとガラス転移温度の高い樹脂バインダーが好ましい。
樹脂バインダーは使わない方が有機半導体の特性上好ましいが、目的によっては使用することもある。この場合の樹脂バインダーの使用量は、特に制限はないが、薄膜中、好ましくは0.1〜30質量%で用いられる。
It is also possible to use a resin binder during film formation. In this case, the material for forming the layer and the binder resin can be dissolved or dispersed in the above-mentioned appropriate solvent to form a coating solution, and a thin film can be formed by various coating methods. Resin binders include polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, polysiloxane, polysulfone, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, cellulose, polyethylene, polypropylene, and other insulating polymers, and their co-polymers. Examples thereof include photoconductive polymers such as coalescence, polyvinyl carbazole and polysilane, and conductive polymers such as polythiophene, polypyrrole, polyaniline and polyparaphenylene vinylene. The resin binder may be used alone or in combination. Considering the mechanical strength of the thin film, a resin binder having a high glass transition temperature is preferable.
It is preferable not to use a resin binder in terms of the characteristics of the organic semiconductor, but it may be used depending on the purpose. The amount of the resin binder used in this case is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 30% by mass in the thin film.

また、成膜の際、基板を加熱または冷却してもよく、基板の温度を変化させることで膜質や膜中での分子のパッキングを制御することが可能である。基板の温度としては特に制限はないが、0℃〜200℃の間であることが好ましい。   In the film formation, the substrate may be heated or cooled, and the film quality and packing of molecules in the film can be controlled by changing the temperature of the substrate. Although there is no restriction | limiting in particular as temperature of a board | substrate, It is preferable that it is between 0 degreeC-200 degreeC.

本発明に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物は、特に溶液プロセスによる成膜に適している。真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、分子ビームエピタキシー(MBE)法などの物理気相成長法、あるいはプラズマ重合などの化学気相蒸着(CVD)法などの真空プロセスにより成膜することも可能であるが、これらは製造コストが高く、膜表面の平滑性に劣るため好ましくない。また、溶液プロセスで成膜するためには、上記で挙げた溶媒などに材料が溶解することが必要であるが、単に溶解するだけでは不十分である。通常、真空プロセスで成膜する材料でも、溶媒にある程度溶解させることができる。しかし、溶液プロセスでは、材料を溶媒に溶解させて塗布した後で、溶媒が蒸発して薄膜が形成する過程がある。ここで、溶液プロセスに適さない材料は、結晶性の高いものが多いため、この過程で結晶化してしまい、良好な薄膜を形成させることが困難である。これに対し、本発明に用いられる溶媒可溶性前駆体化合物は、このような結晶化が起こりにくい点でも優れている。   The solvent-soluble precursor compound used in the present invention is particularly suitable for film formation by a solution process. The film may also be formed by a vacuum process such as a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a molecular beam epitaxy (MBE) method, or a chemical vapor deposition (CVD) method such as plasma polymerization. Although possible, these are not preferred because of high production costs and poor film surface smoothness. In addition, in order to form a film by a solution process, it is necessary that the material is dissolved in the above-described solvent or the like, but it is not sufficient to simply dissolve the material. Usually, even a material for forming a film by a vacuum process can be dissolved in a solvent to some extent. However, in the solution process, there is a process in which after the material is dissolved in a solvent and applied, the solvent evaporates to form a thin film. Here, since many materials not suitable for the solution process have high crystallinity, they are crystallized in this process, and it is difficult to form a good thin film. On the other hand, the solvent-soluble precursor compound used in the present invention is excellent in that crystallization hardly occurs.

前記化合物を含有する溶液の塗布量は、溶媒の種類や溶液の濃度などによって異なるが、形成される薄膜の膜厚が好ましくは5nm〜50μm、より好ましくは20nm〜500nmとなるように適宜決定される。なお、膜厚は、この範囲に制限されるものではなく、用途によって異なる。   The coating amount of the solution containing the compound varies depending on the type of solvent and the concentration of the solution, but is appropriately determined so that the thickness of the thin film to be formed is preferably 5 nm to 50 μm, more preferably 20 nm to 500 nm. The The film thickness is not limited to this range and varies depending on the application.

作製された膜は、後処理により調整することができる。例えば、加熱処理や溶媒蒸気への暴露により膜のモルホロジーや膜中での分子のパッキングを変化させることで特性を向上させることが可能である。また、酸化性または還元性のガスや溶媒、物質などにさらす、あるいはこれらを混合することで酸化あるいは還元反応を起こし、膜中での会合状態を調整することができる。   The produced film can be adjusted by post-treatment. For example, characteristics can be improved by changing the film morphology and molecular packing in the film by heat treatment or exposure to solvent vapor. In addition, exposure to an oxidizing or reducing gas, solvent, substance, or the like, or mixing of these causes an oxidation or reduction reaction, and the association state in the film can be adjusted.

本発明の製造方法においては、上述のとおり、溶液プロセスに適した溶媒可溶性をもつ前駆体化合物を用いる。そして、これに外部刺激を与えるが、その前後における耐光性等の保存安定性、つまり上記溶媒可溶性前駆体化合物及びこれに外部刺激を与えて得られる目的化合物を所定期間保管しても分解してしまったり変化してしまったりしない性質を有する。これは、従来用いられていたBoc基を導入した前駆体化合物とは異なる。そして上記特定の置換基を有する化合物を前駆体として用いることにより、各種溶媒への溶解が容易で、かつ溶液や塗膜に熱などの外部刺激を加えることにより置換基を効率的に脱離させて有用な化合物を高収率で得ることができる。また、この技術を用いて、純度の高い顔料微粒子、フタロシアニン化合物、およびその薄膜形成を効率的に行うことができる。   In the production method of the present invention, as described above, a precursor compound having solvent solubility suitable for a solution process is used. Then, external stimuli are given to this, but storage stability such as light resistance before and after that, that is, the above-mentioned solvent-soluble precursor compound and the target compound obtained by giving external stimuli thereto are decomposed even if stored for a predetermined period. It has the property that it will not change or change. This is different from a conventionally used precursor compound into which a Boc group is introduced. By using a compound having the above specific substituent as a precursor, it can be easily dissolved in various solvents, and the substituent can be efficiently eliminated by applying external stimulus such as heat to the solution or coating film. And useful compounds can be obtained in high yield. In addition, this technique can efficiently form fine pigment particles, phthalocyanine compounds, and thin films thereof.

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these.

<実施例1>
特開2005−119165号公報に記載の色素化合物(I−1)の合成に従って、例示化合物(1)(M=Cuの化合物)を調製した。この例示化合物(1)はクロロホルム等の溶媒に溶解した。
以下のようにして、調製した例示化合物(1)を所定温度に加熱し、加熱前後の分子量および結晶構造の変化について測定した。
<Example 1>
Exemplified compound (1) (compound of M = Cu) was prepared according to the synthesis of dye compound (I-1) described in JP-A-2005-119165. This exemplary compound (1) was dissolved in a solvent such as chloroform.
The prepared exemplary compound (1) was heated to a predetermined temperature as described below, and changes in molecular weight and crystal structure before and after heating were measured.

(TG/DTA測定)
調製した例示化合物(1)について熱分析(TG/DTA測定)を行った。TG/DTA測定は、Seiko Instruments Inc.製、EXSTAR6000(商品名)を用い、N気流下(流量200ml/min)、30℃〜550℃の範囲において10℃/分で昇温を行い、質量減少率を求めた。測定結果を図1に示す。図1は、例示化合物(1)のTG/DTA測定結果を示すグラフである。なお、以下の各実施例・比較例においても、TGの測定は上記の装置及び条件により行った。
(TG / DTA measurement)
The prepared exemplary compound (1) was subjected to thermal analysis (TG / DTA measurement). TG / DTA measurement was performed by Seiko Instruments Inc. Using EXSTAR6000 (trade name), the temperature was increased at a rate of 10 ° C./min in the range of 30 ° C. to 550 ° C. under an N 2 air flow (flow rate 200 ml / min) to obtain the mass reduction rate. The measurement results are shown in FIG. FIG. 1 is a graph showing the TG / DTA measurement results of Example Compound (1). In each of the following examples and comparative examples, TG was measured using the above-described apparatus and conditions.

図1中、一番上の曲線は、温度に対する質量変化(TG)を示し、一番下の曲線は、温度に対する熱の出入り(エンタルピー変化)(DTA)を示し、真中の曲線は、TGの時間当たりの変化量(微分値)(DTG)を示す。
図1中の一番上の曲線から、200℃を越えたあたりから徐々に質量減少が起こり、340℃位までの間に約50%程度の質量減少が起きたことがわかった。この質量減少は、例示化合物(1)における置換基(−SOC(CH基)の質量分に相当する。また、図1中の一番下の曲線から、約240℃付近から吸熱し始め、340℃程度まで吸熱が起きたことがわかった。これらの結果から、加熱により例示化合物(1)から置換基が脱離したことが分かる。
In FIG. 1, the top curve shows mass change (TG) with respect to temperature, the bottom curve shows heat input / output (enthalpy change) (DTA) with respect to temperature, and the middle curve shows TG. The amount of change per hour (differential value) (DTG) is shown.
From the uppermost curve in FIG. 1, it was found that the mass decreased gradually from around 200 ° C., and the mass decreased by about 50% up to about 340 ° C. This mass reduction corresponds to the mass of the substituent (—SO 2 C (CH 3 ) 3 group) in the exemplary compound (1). Further, from the lowest curve in FIG. 1, it was found that the heat absorption started from around 240 ° C. and the heat absorption occurred up to about 340 ° C. From these results, it can be seen that the substituent was eliminated from the exemplified compound (1) by heating.

(MALDI−TOF−MS測定)
400℃まで加熱した前後の例示化合物(1)について、それぞれマトリックス支援イオン化−飛行時間型質量分析(MALDI−TOF−MS)測定を行った。MALDI−TOF−MS測定は、Applied Biosystems社製Voyager−DE PRO(商品名)を使用し、マトリックスとしてα−シアノ−4−ヒドロキシケイ皮酸(東京化成社製)を用いて行った。スペクトル測定結果を図2に示す。図2(a)は例示化合物(1)の加熱処理前のMALDI−TOF−MSスペクトル測定結果を示すグラフであり、図2(b)は例示化合物(1)の加熱処理後のMALDI−TOF−MSスペクトル測定結果を示すグラフである。
加熱処理前の状態を示す図2(a)では、例示化合物(1)の分子量に相当する1056([M]+1)のピークが見られたが、加熱処理後の状態を示す図2(b)では、このピークが消失し、新たに無置換の銅フタロシアニン(CuPc:C3216CuN)の分子量に相当する575([M])のピークが現れることがわかった。また、350℃及び550℃まで加熱した場合もそれぞれ同様の結果が得られた。この結果からも、例示化合物(1)が加熱により無置換の銅フタロシアニンに変換されたことが分かる。
(MALDI-TOF-MS measurement)
About the exemplary compound (1) before and after heating to 400 degreeC, the matrix assistance ionization-time-of-flight mass spectrometry (MALDI-TOF-MS) measurement was performed, respectively. MALDI-TOF-MS measurement was performed using Voyager-DE PRO (trade name) manufactured by Applied Biosystems and using α-cyano-4-hydroxycinnamic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a matrix. The spectrum measurement results are shown in FIG. FIG. 2 (a) is a graph showing the MALDI-TOF-MS spectrum measurement result before heat treatment of the exemplary compound (1), and FIG. 2 (b) is MALDI-TOF- after heat treatment of the exemplary compound (1). It is a graph which shows a MS spectrum measurement result.
In FIG. 2A showing the state before the heat treatment, a peak of 1056 ([M + ] +1) corresponding to the molecular weight of the exemplary compound (1) was observed, but FIG. In b), this peak disappeared, and it was found that a peak of 575 ([M + ]) corresponding to the molecular weight of unsubstituted copper phthalocyanine (CuPc: C 32 H 16 CuN 8 ) appears. The same results were obtained when heated to 350 ° C. and 550 ° C., respectively. From this result, it can be seen that Exemplified Compound (1) was converted to unsubstituted copper phthalocyanine by heating.

(X線回折測定)
350℃、400℃又は550℃まで加熱した例示化合物(1)について、それぞれX線回折測定を行った。X線回折測定は、Rigaku社製X−RAY DIFFRACTOMETER RINT−2500(商品名)を使用した。測定結果を図3に示す。
図3の結果から明らかなように、加熱前にはアモルファス固体だった例示化合物(1)が、それぞれ加熱後には結晶化していることがわかった。また、温度を上昇させるに従い、結晶系が変化することがわかり、350℃、400℃の時の結晶系はα型で、550℃まで加熱した場合にはβ型のフタロシアニン化合物顔料が形成されたことがわかる。
(X-ray diffraction measurement)
X-ray diffraction measurement was performed on the exemplified compound (1) heated to 350 ° C., 400 ° C. or 550 ° C., respectively. For X-ray diffraction measurement, X-RAY DIFFRACTOMETER RINT-2500 (trade name) manufactured by Rigaku was used. The measurement results are shown in FIG.
As is clear from the results of FIG. 3, it was found that the exemplary compound (1) which was an amorphous solid before heating was crystallized after heating. It was also found that the crystal system changed as the temperature was raised. The crystal system at 350 ° C. and 400 ° C. was α-type, and when it was heated to 550 ° C., a β-type phthalocyanine compound pigment was formed. I understand that.

(熱量変化の測定)
例示化合物(1)について、DSC装置:Seiko Instruments Inc.製DSC6200R(商品名)を用い、SUS製密閉セルに試料を密閉し、30℃〜550℃の範囲において10℃/minで昇温し、前記のTG−DTA測定で求めた分解温度領域における熱量変化を測定した。測定結果を図4に示す。
図4の結果から明らかなように、350℃付近に色素分解に起因する吸熱ピークが観測され、さらに430℃付近の質量減少のない領域に発熱ピークを観測された。この結果からも、加熱された例示化合物(1)は、430℃付近で結晶系がα型からβ型に変化することがわかる。
(Measurement of heat change)
About exemplary compound (1), DSC apparatus: Seiko Instruments Inc. Using DSC6200R (trade name) manufactured by sealing a sample in a closed cell made of SUS, raising the temperature at 10 ° C./min in the range of 30 ° C. to 550 ° C., and the amount of heat in the decomposition temperature region determined by the above TG-DTA measurement Changes were measured. The measurement results are shown in FIG.
As is clear from the results of FIG. 4, an endothermic peak due to dye decomposition was observed at around 350 ° C., and an exothermic peak was observed at a region near 430 ° C. where there was no mass loss. Also from this result, it can be seen that the heated exemplary compound (1) changes its crystal system from α-type to β-type at around 430 ° C.

以上の測定結果から、例示化合物(1)[溶媒可溶性前駆体化合物]はアモルファス固体状のものであり、加熱によって置換基(−SOC(CH基)が脱離し、結晶性の無置換の銅フタロシアニン(α型)に変換され、さらに430℃付近で結晶系がβ型に変化することがわかった。 From the above measurement results, Exemplified Compound (1) [Solvent-Soluble Precursor Compound] is an amorphous solid, and the substituent (—SO 2 C (CH 3 ) 3 group) is eliminated by heating, and the crystalline compound It was converted to unsubstituted copper phthalocyanine (α-type), and it was further found that the crystal system changed to β-type at around 430 ° C.

<実施例2>
α−t−ブチルスルホニルフタロニトリル6.21gをヘキサメチルジシラザン10.5ml、ジメチルホルムアミド6.4mlに添加し、さらに臭化亜鉛1.40gを添加した。その後100℃で8時間攪拌し、その後メタノールで濾過して例示化合物(51)を4.00gを得た、そのMSスペクトルは1057(=〔M〕+1:極性ポジ)であった。この例示化合物(51)はクロロホルム等の溶媒に溶解した。
図5に例示化合物(51)のTGの測定結果を示す。
上記で得た例示化合物(51)を400℃で加熱し、その残渣のMSスペクトルを測定したところMSスペクトルのピークは576(=〔M〕:極性ポジ)に変化した。これらの結果から、例示化合物(51)から300℃付近で置換基が脱離し、亜鉛フタロシアニン顔料に変化したことがわかる。
<Example 2>
6.21 g of α-t-butylsulfonylphthalonitrile was added to 10.5 ml of hexamethyldisilazane and 6.4 ml of dimethylformamide, and 1.40 g of zinc bromide was further added. Thereafter, the mixture was stirred at 100 ° C. for 8 hours, and then filtered through methanol to obtain 4.00 g of Exemplified Compound (51). Its MS spectrum was 1057 (= [M + ] +1: polar positive). This exemplified compound (51) was dissolved in a solvent such as chloroform.
The measurement result of TG of exemplary compound (51) is shown in FIG.
The exemplified compound (51) obtained above was heated at 400 ° C., and the MS spectrum of the residue was measured. The peak of the MS spectrum was changed to 576 (= [M + ]: polar positive). From these results, it can be seen that the substituent was eliminated from the exemplified compound (51) at around 300 ° C. and changed to a zinc phthalocyanine pigment.

<実施例3>
α−t−ブチルスルホニルフタロニトリル20.0gをN,N’−ジメチルエチレンジアミン2.2g、N−メチルピロリドン25mlに添加し、160℃で8時間攪拌した。その後メタノールで濾過して例示化合物(52)を3.50gを得た、そのMSスペクトルは996(=〔M〕+1:極性ポジ)であった。この例示化合物(52)はクロロホルム等の溶媒に溶解した。
図6に例示化合物(52)のTG測定結果示す。
上記で得た例示化合物(52)を400℃で加熱し、その残渣のMSスペクトルを測定したところMSスペクトルのピークは514(=〔M〕:極性ポジ)に変化した。これらの結果から、例示化合物(52)から置換基が脱離し、無金属(水素型)フタロシアニン顔料に変化したことがわかる。
<Example 3>
20.0 g of α-t-butylsulfonylphthalonitrile was added to 2.2 g of N, N′-dimethylethylenediamine and 25 ml of N-methylpyrrolidone, and the mixture was stirred at 160 ° C. for 8 hours. Thereafter, the mixture was filtered with methanol to obtain 3.50 g of Exemplified Compound (52), and the MS spectrum thereof was 996 (= [M + ] +1: polar positive). This exemplified compound (52) was dissolved in a solvent such as chloroform.
FIG. 6 shows a TG measurement result of the exemplary compound (52).
The exemplified compound (52) obtained above was heated at 400 ° C., and the MS spectrum of the residue was measured. The peak of the MS spectrum was changed to 514 (= [M + ]: polar positive). From these results, it can be seen that the substituent was eliminated from the exemplified compound (52) and changed to a metal-free (hydrogen type) phthalocyanine pigment.

<実施例4>
市販の4置換スルホン酸亜鉛フタロシアニン(例示化合物(53)、フロンティア・サイエンス社製)のMSスペクトルは895(=〔M〕:極性ネガ)であった。この例示化合物(53)は水溶性であった。
この化合物のTGを測定した結果を図7に示す。
4置換スルホン酸亜鉛フタロシアニンを250℃で加熱しても水溶性を示した。TGにおける初期の重量減少は溶剤もしくは水に起因すると考えられる。その後400℃まで加熱し、その残渣のMSスペクトルを測定したところMSスペクトルのピークは576(=〔M〕:極性ポジ)に変化した。これらの結果から、例示化合物(53)から置換基が脱離し、亜鉛フタロシアニン顔料に変化したことがわかる。
<Example 4>
Commercially available 4-substituted zinc sulfonate phthalocyanine (Exemplary Compound (53), Frontier Science Co., Ltd.) had an MS spectrum of 895 (= [M + ]: polar negative). This exemplified compound (53) was water-soluble.
The result of measuring the TG of this compound is shown in FIG.
Even when 4-substituted zinc sulfonate phthalocyanine was heated at 250 ° C., it showed water solubility. The initial weight loss in TG is believed to be due to solvent or water. Thereafter, the mixture was heated to 400 ° C., and the MS spectrum of the residue was measured. As a result, the peak of the MS spectrum was changed to 576 (= [M + ]: polar positive). From these results, it can be seen that the substituent was eliminated from the exemplified compound (53) and changed to a zinc phthalocyanine pigment.

<実施例5>
市販の4置換スルホン酸無金属フタロシアニン(例示化合物(54)、フロンティア・サイエンス社製)のMSスペクトルは832(=〔M〕−1:極性ネガ)であった。この例示化合物(54)は水溶性であった。
この化合物のTGを測定した結果を図8に示す。
例示化合物(54)を250℃で加熱しても水溶性を示した。TGにおける初期の重量減少は溶剤もしくは水に起因すると考えられる。その後400℃まで加熱し、その残渣のMSスペクトルを測定したところMSスペクトルのピークは514(=〔M〕:極性ポジ)に変化した。これらの結果から、例示化合物(54)から置換基が脱離し、無置換の無金属(水素型)フタロシアニン顔料に変化したことがわかる。
<Example 5>
The MS spectrum of a commercially available 4-substituted sulfonic acid metal-free phthalocyanine (Exemplary Compound (54), manufactured by Frontier Science Co., Ltd.) was 832 (= [M + ] -1: polar negative). This exemplified compound (54) was water-soluble.
The result of measuring the TG of this compound is shown in FIG.
The exemplified compound (54) was water-soluble even when heated at 250 ° C. The initial weight loss in TG is believed to be due to solvent or water. Thereafter, the mixture was heated to 400 ° C., and the MS spectrum of the residue was measured. As a result, the peak of the MS spectrum was changed to 514 (= [M + ]: polar positive). From these results, it can be seen that the substituent was eliminated from the exemplified compound (54) and changed to an unsubstituted metal-free (hydrogen type) phthalocyanine pigment.

<実施例7>
(薄膜1の作製)
例示化合物(1)[溶媒可溶性前駆体化合物]2gを、クロロホルム100ml中に添加して溶解し、色素前駆体含有塗布液を調製した。厚さ1.0mmのガラス板上に、調製した色素含有溶液をスピンコート法により回転数500〜1000rpmまで変化させながら23℃、50%RHの条件で塗布して色素膜(薄膜1)を作製した。この時の有機膜を偏光光学顕微鏡および電子顕微鏡で観察したところ、均一なアモルファス膜が形成されていた。
<Example 7>
(Preparation of thin film 1)
Illustrative compound (1) [solvent-soluble precursor compound] 2 g was added and dissolved in 100 ml of chloroform to prepare a dye precursor-containing coating solution. A dye film (thin film 1) is produced by coating the prepared dye-containing solution on a glass plate having a thickness of 1.0 mm under the conditions of 23 ° C. and 50% RH while changing the rotational speed from 500 to 1000 rpm by a spin coating method. did. When the organic film at this time was observed with a polarizing optical microscope and an electron microscope, a uniform amorphous film was formed.

また、作製した膜について吸収スペクトルを測定した。吸収スペクトルは紫外可視分光光度計(島津製作所製、商品名、MPC−2200/UV−2400)を用いて測定した。測定結果を図9に示す。吸収スペクトルは図に示すとおりであり、スペクトル形状が色素前駆体含有塗布液の吸収スペクトル(図示せず)に類似していることから、膜中で溶媒可溶性前駆体化合物は変化せず、また分子同士がほとんど分子間相互作用していないことが分かった(λmax=673nm)。 Moreover, the absorption spectrum was measured about the produced film | membrane. The absorption spectrum was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name, MPC-2200 / UV-2400). The measurement results are shown in FIG. The absorption spectrum is as shown in the figure, and since the spectrum shape is similar to the absorption spectrum (not shown) of the coating solution containing the dye precursor, the solvent-soluble precursor compound does not change in the film, and the molecule It was found that there was almost no intermolecular interaction (λ max = 673 nm).

(薄膜2の作製)
次に、前記薄膜1について、空気下350℃で3分間熱処理した後に前記と同様にして膜の吸収スペクトルを測定した。測定結果を図9に示す。吸収スペクトルは図に示すとおりであり、加熱処理により置換基が脱離し、膜中での分子同士の分子間相互作用が増大していることが分かった(λmax=709nm)。また、上記実施例1の結果と併せてみると、上記加熱処理により得られた薄膜は、目的の溶媒不溶性のフタロシアニン化合物(銅フタロシアニン(α型))からなる薄膜であることがわかる。
(Preparation of thin film 2)
Next, the thin film 1 was heat-treated at 350 ° C. for 3 minutes in the air, and then the absorption spectrum of the film was measured in the same manner as described above. The measurement results are shown in FIG. The absorption spectrum is as shown in the figure, and it was found that the substituent was eliminated by the heat treatment, and the intermolecular interaction between the molecules in the film was increased (λ max = 709 nm). Moreover, when it combines with the result of the said Example 1, it turns out that the thin film obtained by the said heat processing is a thin film which consists of a target solvent insoluble phthalocyanine compound (copper phthalocyanine ((alpha) type)).

<比較例1>
(薄膜3の作製)
実施例2において、例示化合物(1)の代わりに「ネイチャー(Nature),1997年,Vol.388,p.131」に記載の化合物(下記比較化合物1)を用いたこと以外は実施例1と同様にして薄膜3を作製した。
作製した膜について実施例2と同様にして吸収スペクトルを測定した。測定結果を図10に示す。吸収スペクトルは図に示すとおりであり、スペクトル形状が下記比較化合物1溶解した溶液の吸収スペクトルに類似していることから、比較化合物1は変化せず、また膜中で分子同士がほとんど分子間相互作用していないことが分かった(λmax=435nm)。
<Comparative Example 1>
(Preparation of thin film 3)
In Example 2, Example 1 was used except that the compound described in “Nature, 1997, Vol. 388, p. 131” (Comparative Compound 1 below) was used instead of Exemplified Compound (1). Similarly, a thin film 3 was produced.
The absorption spectrum of the produced film was measured in the same manner as in Example 2. The measurement results are shown in FIG. The absorption spectrum is as shown in the figure, and since the spectrum shape is similar to the absorption spectrum of the solution in which the following Comparative Compound 1 is dissolved, the Comparative Compound 1 does not change, and the molecules in the film are almost intermolecular. It was found that it was not working (λ max = 435 nm).

Figure 2009084555
Figure 2009084555

(薄膜4の作製)
次に、前記薄膜3について、空気下180℃で3分間熱処理した後に前記と同様にして膜の吸収スペクトルを測定した。測定結果を図10に示す。吸収スペクトルは図に示すとおりであり、加熱処理により置換基(Boc基)が脱離し、ジケトピロロピロール化合物顔料が生成し、また膜中での該顔料分子同士の分子間相互作用が増大していることが分かった(λmax=546nm)。
(Preparation of thin film 4)
Next, the thin film 3 was heat-treated at 180 ° C. for 3 minutes in air, and then the absorption spectrum of the film was measured in the same manner as described above. The measurement results are shown in FIG. The absorption spectrum is as shown in the figure, the substituent (Boc group) is eliminated by heat treatment, a diketopyrrolopyrrole compound pigment is formed, and the intermolecular interaction between the pigment molecules in the film increases. (Λ max = 546 nm).

光堅牢性評価
<色素膜の耐光性評価>
上記薄膜1〜4をそれぞれ23℃、50%RHで24時間保存した後、メリーゴーランド型耐光試験機(イーグルエンジニアリング社製、セルテスト機III型、Schott製WG320フィルタ付、いずれも商品名)を用いて耐光性試験を行った。耐光性試験直前の色素膜および耐光性試験48時間後の色素膜について、UV−1600PC(商品名、SHIMADZU社製)を用いて吸収スペクトルを測定し、最大吸収波長における吸光度の変化を読み取った。結果を表6に示す。
Light fastness evaluation <Light resistance evaluation of dye film>
After each of the above thin films 1 to 4 is stored at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours, a merry-go-round type light resistance tester (manufactured by Eagle Engineering, Cell Tester Type III, with Schott WG320 filter, all are trade names) is used. The light resistance test was conducted. With respect to the dye film immediately before the light resistance test and the dye film after 48 hours of the light resistance test, an absorption spectrum was measured using UV-1600PC (trade name, manufactured by SHIMADZU), and a change in absorbance at the maximum absorption wavelength was read. The results are shown in Table 6.

Figure 2009084555
Figure 2009084555

表6の結果から明らかなように、例示化合物(1)及び比較化合物1はいずれも熱処理によって置換基が脱離して堅牢性の高い色素膜が得られた。しかし、Boc基を有する熱処理前の比較化合物1は光堅牢性が大きく劣るものであった。これに対し、本発明に用いられる例示化合物(1)は熱処理前においても光堅牢性が優れるものであった。この結果から、本発明によれば、置換基の脱離前後において、つまり溶媒可溶性前駆体化合物及びこれから得た溶媒不溶性化合物のいずれにおいても極めて高い保存安定性を示すことがわかる。   As is clear from the results in Table 6, in Exemplified Compound (1) and Comparative Compound 1, both the substituents were eliminated by heat treatment, and a dye film with high fastness was obtained. However, the comparative compound 1 having a Boc group before the heat treatment was inferior in light fastness. In contrast, the exemplary compound (1) used in the present invention was excellent in light fastness even before heat treatment. From this result, it can be seen that according to the present invention, the storage stability is extremely high before and after the elimination of the substituent, that is, both the solvent-soluble precursor compound and the solvent-insoluble compound obtained therefrom.

<比較例2>
例示化合物(1)の代わりに銅フタロシアニン(東京化成社製β型)を用いて、アシッドペースティング法により微細α型の銅フタロシアニン結晶を得た。具体的には、銅フタロシアニン(東京化成社製β型)2.5gを濃硫酸25mlに溶解させた後に、0℃で水500ml中に注入して、上記微細α型の結晶を得た。
<Comparative example 2>
Fine α-type copper phthalocyanine crystals were obtained by the acid pasting method using copper phthalocyanine (β-type manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) instead of the exemplified compound (1). Specifically, 2.5 g of copper phthalocyanine (Tokyo Chemical Industry β-type) was dissolved in 25 ml of concentrated sulfuric acid and then poured into 500 ml of water at 0 ° C. to obtain the fine α-type crystals.

得られた微細α型結晶について、それぞれX線回折測定を行った。X線回折測定は、Rigaku社製X−RAY DIFFRACTOMETER RINT−2500(商品名)を使用した。結果を図11に示す。また、実施例1におけるX線回折測定結果のうち図3中のα型結晶のデータ(350℃又は400℃加熱したもの)と、比較例2におけるX線回折測定結果を示す図11中のチャートとを合わせて対比したものを図12に示す。   The obtained fine α-type crystals were each subjected to X-ray diffraction measurement. For X-ray diffraction measurement, X-RAY DIFFRACTOMETER RINT-2500 (trade name) manufactured by Rigaku was used. The results are shown in FIG. Further, among the X-ray diffraction measurement results in Example 1, data of the α-type crystal in FIG. 3 (heated at 350 ° C. or 400 ° C.) and the chart in FIG. 11 showing the X-ray diffraction measurement results in Comparative Example 2 FIG. 12 shows a comparison with the above.

図の結果から明らかなように、実施例1及び比較例2で得られたものはいずれもα型銅フタロシアニン結晶構造のピークを示した。しかし比較例2で得られた結晶に比べて参考例1により得られた結晶の方が、半値幅がより小さかった。このことから、準安定のα型結晶の場合、大きな結晶子を作製することは困難であるにも関わらず、本発明によれば結晶子が大きいα型結晶を作製することができることがわかる。   As is clear from the results in the figure, both of those obtained in Example 1 and Comparative Example 2 showed a peak of the α-type copper phthalocyanine crystal structure. However, the half-width was smaller in the crystal obtained in Reference Example 1 than in the crystal obtained in Comparative Example 2. From this, it can be seen that in the case of a metastable α-type crystal, it is difficult to produce a large crystallite, but according to the present invention, an α-type crystal having a large crystallite can be produced.

<比較例3>
市販の4置換スルホン酸ナトリウム銅フタロシアニン(アルドリッチ社製)のTG/DTAを測定した結果を以下に示す。この比較化合物(2)は水に溶解した。この化合物のTGを測定した結果を図13に示す。TGにおける初期の重量減少は溶剤もしくは水に起因する。その後400℃まで加熱しても重量減少を起こさない。この結果から、上記4置換スルホン酸ナトリウム銅フタロシアニンからの置換基(スルホン酸ナトリウム)の脱離には400℃を超える高温を必要とすることがわかる。
<Comparative Example 3>
The results of measuring TG / DTA of commercially available 4-substituted sodium sulfonate copper phthalocyanine (manufactured by Aldrich) are shown below. This comparative compound (2) was dissolved in water. The result of measuring the TG of this compound is shown in FIG. The initial weight loss in TG is due to solvent or water. Subsequent heating to 400 ° C does not cause weight loss. From this result, it is understood that a high temperature exceeding 400 ° C. is required for the elimination of the substituent (sodium sulfonate) from the 4-substituted sodium sulfonate copper phthalocyanine.

例示化合物(1)のTG/DTA測定結果を示す図である。It is a figure which shows the TG / DTA measurement result of exemplary compound (1). 例示化合物(1)のMALDI−TOF−MSスペクトル測定結果を示す図であり、(a)が加熱処理前のもの、(b)が加熱処理後のものである。It is a figure which shows the MALDI-TOF-MS spectrum measurement result of exemplary compound (1), (a) is a thing before heat processing, (b) is a thing after heat processing. 例示化合物(1)のX線回折測定結果を示す図であり、(a)が加熱処理前と350℃加熱後のもの、(b)が加熱処理前と400℃加熱後のもの、(c)が加熱処理前と550℃加熱処理後のものである。It is a figure which shows the X-ray-diffraction measurement result of exemplary compound (1), (a) is before heat processing and after 350 degreeC heating, (b) is before heat processing and after 400 degreeC heating, (c) Is before heat treatment and after heat treatment at 550 ° C. 例示化合物(1)のSC/DSC測定結果を示す図である。It is a figure which shows the SC / DSC measurement result of exemplary compound (1). 例示化合物(51)のTGの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of TG of exemplary compound (51). 例示化合物(52)のTGの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of TG of exemplary compound (52). 例示化合物(53)のTGの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of TG of exemplary compound (53). 例示化合物(54)のTGの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of TG of exemplary compound (54). 例示化合物(1)からなる膜の吸収スペクトルを示す図であり、(a)が加熱処理前のもの、(b)が加熱処理後のものである。It is a figure which shows the absorption spectrum of the film | membrane which consists of exemplary compound (1), (a) is a thing before heat processing, (b) is a thing after heat processing. 比較化合物1からなる膜の吸収スペクトルを示す図であり、(a)が加熱処理前のもの、(b)が加熱処理後のものである。It is a figure which shows the absorption spectrum of the film | membrane which consists of the comparative compound 1, (a) is a thing before heat processing, (b) is a thing after heat processing. 比較例2で得られた結晶のX線回折測定結果を示す図である。It is a figure which shows the X-ray-diffraction measurement result of the crystal | crystallization obtained in the comparative example 2. 実施例1のα型結晶のX線回折測定結果と比較例2のα型結晶のX線回折測定結果とを対比した図である。3 is a graph comparing the X-ray diffraction measurement result of the α-type crystal of Example 1 and the X-ray diffraction measurement result of the α-type crystal of Comparative Example 2. FIG. 市販の4置換スルホン酸ナトリウム銅フタロシアニンのTG/DTAの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of TG / DTA of commercially available 4-substituted sodium sulfonate copper phthalocyanine.

Claims (11)

溶媒可溶性基Bを有する化合物A−(B)(式中、Aは溶媒不溶性化合物残基を表し、Bは下記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表す。mは自然数を表す。ただし、溶媒可溶性基Bは、溶媒不溶性化合物残基A中の炭素原子に結合している。)に外部刺激を与えて前記溶媒可溶性基Bを脱離させ、代わりに水素原子が結合した溶媒不溶性化合物とすることを特徴とする置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
Compound A- (B) m having a solvent-soluble group B (wherein, A represents a solvent-insoluble compound residue, B represents a solvent-soluble group represented by the following general formula (I), and m represents a natural number). However, the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A.) The solvent-soluble group B is eliminated by applying an external stimulus to the solvent-insoluble compound residue A. A method for producing a substituent-eliminating compound, which is an insoluble compound.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
前記外部刺激が150〜500℃に加熱することであることを特徴とする請求項1記載の置換基脱離化合物の製造方法。   The method for producing a substituent-eliminating compound according to claim 1, wherein the external stimulus is heating to 150 to 500 ° C. 前記溶媒不溶性化合物残基Aが、2つ以上の芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環が縮環され及び/又は共有結合で連結された構造のπ共役系化合物の残基であることを特徴とする請求項1又は2に記載の置換基脱離化合物の製造方法。   The solvent-insoluble compound residue A is a residue of a π-conjugated compound having a structure in which two or more aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles are condensed and / or covalently linked. The method for producing a substituent-eliminating compound according to claim 1 or 2. 前記溶媒不溶性化合物残基Aが色素骨格であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。   The method for producing a substituent-eliminating compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the solvent-insoluble compound residue A is a dye skeleton. 前記溶媒可溶性基Bが下記一般式(II)で表される基であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表す。)
The method for producing a substituent-eliminating compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the solvent-soluble group B is a group represented by the following general formula (II).
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent.)
前記溶媒可溶性基Bが下記一般式(III)で表される基であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。)
The method for producing a substituent-eliminating compound according to any one of claims 1 to 5, wherein the solvent-soluble group B is a group represented by the following general formula (III).
Figure 2009084555
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.)
前記化合物A−(B)が下記一般式(IV)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の置換基脱離化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Mは、金属原子または水素原子を表す。Mが水素原子を表す場合、2つの水素原子がN〜Nのいずれか2つの窒素原子にそれぞれ結合する。Qは、芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。複数のQは同一でも異なっていてもよい。R〜Rはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。nは自然数である。nが2以上の場合、複数の−SOC(R)(R)(R)基は同一でも異なっていてもよい。)
The said compound A- (B) m is a compound represented by the following general formula (IV), The manufacturing method of the substituent elimination compound of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned.
Figure 2009084555
(In the formula, M represents a metal atom or a hydrogen atom. When M represents a hydrogen atom, two hydrogen atoms are each bonded to any two nitrogen atoms of N 1 to N 4. Q is aromatic. A group of atoms necessary for forming a hydrocarbon ring or an aromatic hetero ring, a plurality of Qs may be the same or different, and R 4 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. n is a natural number, and when n is 2 or more, a plurality of —SO 2 C (R 4 ) (R 5 ) (R 6 ) groups may be the same or different.
前記化合物A−(B)がフタロシアニン化合物である、請求項7記載の置換基脱離化合物の製造方法。 The method for producing a substituent-eliminating compound according to claim 7, wherein the compound A- (B) m is a phthalocyanine compound. 顔料が溶媒可溶性基Bにより修飾された構造の顔料前駆体A−(B)(式中、Aは顔料残基を表し、Bは下記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表す。mは自然数を表す。ただし、溶媒可溶性基Bは、顔料残基A中の炭素原子に結合している。)に外部刺激を与えて前記溶媒可溶性基Bを脱離させ、代わりに水素原子が結合した顔料に転換することを特徴とする顔料微粒子の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
Pigment precursor A- (B) m having a structure in which the pigment is modified with a solvent-soluble group B (wherein A represents a pigment residue and B represents a solvent-soluble group represented by the following general formula (I)) M represents a natural number, provided that the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the pigment residue A.) to give an external stimulus to remove the solvent-soluble group B, and instead a hydrogen atom A method for producing pigment fine particles, wherein the pigment is converted to a pigment having a bound thereto.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
下記一般式(I)で表される置換基を有するフタロシアニン化合物(ただし、前記置換基は、フタロシアニン化合物残基中の炭素原子に結合している。)に外部刺激を与えて前記置換基を脱離させ、代わりに水素原子が結合したフタロシアニン化合物に転換することを特徴とするフタロシアニン化合物の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
The phthalocyanine compound having a substituent represented by the following general formula (I) (wherein the substituent is bonded to a carbon atom in the phthalocyanine compound residue) is applied to external stimuli to remove the substituent. A method for producing a phthalocyanine compound, characterized in that the phthalocyanine compound is converted to a phthalocyanine compound having a hydrogen atom bonded thereto.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
溶媒可溶性基Bを有する化合物A−(B)(式中、Aは溶媒不溶性化合物残基を表し、Bは下記一般式(I)で表される溶媒可溶性基を表す。mは自然数を表す。ただし、溶媒可溶性基Bは、溶媒不溶性化合物残基A中の炭素原子に結合している。)を溶媒に溶解し、この溶解液を基材に塗布して塗付膜とし、該塗布膜における前記化合物A−(B)に外部刺激を与えて前記溶媒可溶性基Bを脱離させ、代わりに水素原子が結合した溶媒不溶性化合物とし、その薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。
Figure 2009084555
(式中、Xは水素原子または置換基を表し、nは1又は2の整数を表す。)
Compound A- (B) m having a solvent-soluble group B (wherein, A represents a solvent-insoluble compound residue, B represents a solvent-soluble group represented by the following general formula (I), and m represents a natural number). However, the solvent-soluble group B is bonded to the carbon atom in the solvent-insoluble compound residue A.) is dissolved in a solvent, and this solution is applied to a substrate to form a coating film. The thin film is formed by applying an external stimulus to the compound A- (B) m in which the solvent-soluble group B is eliminated and a hydrogen-bonded solvent-insoluble compound is formed instead. Method.
Figure 2009084555
(In the formula, X represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 or 2.)
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