JP2009080479A - Waterless lithographic printing plate precursor - Google Patents

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豊 石田
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waterless lithographic printing plate precursor with which plate inspection can be done without a dyeing process. <P>SOLUTION: The waterless lithographic printing plate precursor has at least a photosensitive layer or a heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein the center average roughness (Ra) of the surface of the silicone rubber layer is 1 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm. Moreover, it is preferable to roughen the silicone rubber layer surface by a dry etching process, thereby performing plate inspection without a dyeing process. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、水なし平版印刷版原版に関するものである。   The present invention relates to a waterless lithographic printing plate precursor.

従来から、シリコーンゴムやフッ素樹脂をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷(以下、水なし平版印刷という)を行うための印刷版が種々提案されている。   Conventionally, various printing plates have been proposed for performing lithographic printing (hereinafter referred to as waterless lithographic printing) using silicone rubber or fluororesin as an ink repellent layer without using dampening water.

水なし平版印刷は、画線部と非画線部とをほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容層、非画線部をインキ反発層として、インキ付着性の差異を利用して画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷をする平版印刷方法であり、湿し水を用いることなく印刷できることが特徴である。   Waterless lithographic printing uses the difference in ink adhesion, with the image area and non-image area present on the same plane, with the image area as the ink receiving layer and the non-image area as the ink repellent layer. This is a lithographic printing method in which ink is applied only to an image area and then transferred to a printing medium such as paper, and printing is performed without using dampening water.

水なし平版印刷版原版の露光方法としては様々な方法が提案されているが、原画フイルムを介して紫外線照射を行う方式と、原画フイルムを用いることなく原稿から直接画像を書き込むコンピュータートゥプレート(CTP)方式に大別され、近年のデジタル化技術により、レーザー光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報にしたがって版面に走査することで、リスフィルムを介することなく直接版面に露光処理を行うCTP方式が主流となってきている。   Various exposure methods for waterless lithographic printing plate precursors have been proposed, including a method of irradiating ultraviolet rays through an original film, and a computer-to-plate (CTP) that writes an image directly from an original without using the original film. ) The method is roughly divided, and by using recent digital technology, light with high directivity such as laser light is scanned on the plate surface according to the digitized image information, so that the plate surface is exposed directly without going through the lith film. The CTP method for processing has become mainstream.

水なし平版印刷版原版は、感光(熱)層を露光工程または現像工程で除去する感光(熱)層除去型と、露光工程、現像工程を経た後でも感光(熱)層が残存する感光(熱)層残存型に大別される。感光(熱)層除去型は感光(熱)層が除去されるため、感光(熱)層中に有色色素を含むことにより画線部、非画線部間に色コントラストをつけることが可能である。このため、後染色工程がなくても検版できるといったメリットを有している。しかし、画線部を形成するセルの深さが深いために、印刷時に多量のインキを必要とする。また、感光(熱)層を深さ方向に除去する必要があるため、微細画像を再現し難いといった課題も有している。   The waterless lithographic printing plate precursor includes a photosensitive (thermal) layer removing type in which a photosensitive (thermal) layer is removed in an exposure process or a developing process, and a photosensitive (thermal) layer remaining even after an exposure process and a developing process ( Heat) layer residual type. The photosensitive (thermal) layer removal type removes the photosensitive (thermal) layer, so it is possible to add color contrast between the image area and non-image area by including a colored dye in the photosensitive (thermal) layer. is there. For this reason, it has the merit that plate inspection can be performed without a post-staining step. However, since the depth of the cell forming the image area is deep, a large amount of ink is required at the time of printing. In addition, since it is necessary to remove the photosensitive (thermal) layer in the depth direction, there is a problem that it is difficult to reproduce a fine image.

一方、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層を有する、感熱層残存型水なしCTP平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。これらの印刷版原版は、現像後もレーザー照射部の感熱層が残存するため、印刷時のインキ使用量が少なく、微細画像の再現性も良好である。また、低いレーザー出力で露光できるため、ランニングコストやレーザー寿命の点で有利であるばかりでなく、レーザー照射時にアブレーションカスが発生しないため特別な吸引装置が不要となる。しかしながら、レーザー照射部、非照射部とも感熱層が残存することから、レーザー照射部と非照射部の色コントラストが得られにくく、検版が困難であった。   On the other hand, a heat-sensitive layer-remaining waterless CTP lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). In these printing plate precursors, the heat-sensitive layer in the laser-irradiated portion remains even after development, so that the amount of ink used during printing is small and fine image reproducibility is also good. In addition, since exposure can be performed with a low laser output, not only is it advantageous in terms of running cost and laser life, but ablation debris is not generated during laser irradiation, and a special suction device is not required. However, since the heat-sensitive layer remains in both the laser irradiation part and the non-irradiation part, it is difficult to obtain color contrast between the laser irradiation part and the non-irradiation part, and plate inspection is difficult.

感熱層残存型水なしCTP平版印刷版原版を用いて平版印刷版を製造する方法において、版を染色する工程を有する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。この方法により画線部染色後の印刷版は検版が可能となるが、染色工程が余分に必要となるため、染色液の管理、現像機の大型化、コスト等の点で課題があった。また、染色工程を使用し、且つアルミ基板を粗面化処理したもの(例えば、特許文献4、5)でも同様の課題を有していた。   In a method for producing a lithographic printing plate using a heat-sensitive layer-remaining waterless CTP lithographic printing plate precursor, a method having a step of dyeing a plate has been proposed (for example, see Patent Document 3). This method makes it possible to inspect the printing plate after dyeing the image area, but it requires an extra dyeing process, so there are problems in terms of management of the dye solution, enlargement of the developing machine, cost, etc. . Moreover, the thing (for example, patent document 4, 5) which used the dyeing | staining process and roughened the aluminum substrate also had the same subject.

これに対して、シリコーンゴム層中に光退色性物質または光発色性物質を含有する水なし平版印刷板原版(例えば、特許文献6参照)、シリコーンゴム層中に染料を含有する水なしCTP平版印刷版原版(例えば、特許文献7参照)が提案されている。これらの印刷版原版は、後染色工程がなくとも検版することができる。しかし、光退色性物質または光発色性物質を含有するものは明室で取り扱うことができない課題を有していた。また、染料を含有するものは、経時によりシリコーンゴム層中の染料が層内凝集を生じたり、より極性の高い感熱層界面に染料が集中したり、シリコーンゴム層上に保護フィルムを有する場合には該保護フィルムに染料が吸着する等、シリコーンゴム層での色素定着性に課題があった。このため、検版性の低下や、染料集中によるシリコーンゴム層/感熱層間の接着力低下が生じる場合があった。また、現像時に使用する各種有機薬液や印刷時に用いられるインキ中の溶剤等で有色染料が抽出される場合もあり、検版性の低下や、抽出された染料による現像薬液やインキの汚染が生じる場合があった。
特開平11−227355号公報(特許請求の範囲) 特開2005−300586号公報(特許請求の範囲) 特開平11−227353号公報(特許請求の範囲) 特開2001−130155号公報(特許請求の範囲) 特開2003−266966号公報(特許請求の範囲) 特開平9−189993号公報(特許請求の範囲) 特開2002−244279号公報(特許請求の範囲)
In contrast, a waterless lithographic printing plate precursor containing a photobleachable substance or a photochromic substance in the silicone rubber layer (see, for example, Patent Document 6), and a waterless CTP lithographic plate containing a dye in the silicone rubber layer A printing plate precursor (see, for example, Patent Document 7) has been proposed. These printing plate precursors can be inspected without a post-dyeing step. However, those containing a photobleachable substance or a photochromic substance have a problem that cannot be handled in a bright room. In addition, when the dye contains a dye, the dye in the silicone rubber layer aggregates in the layer over time, the dye concentrates on the more polar heat-sensitive layer interface, or has a protective film on the silicone rubber layer. Has a problem in dye fixing property in the silicone rubber layer, such as adsorption of a dye to the protective film. For this reason, there are cases where the plate inspection property is lowered and the adhesive force between the silicone rubber layer / the heat-sensitive layer is lowered due to dye concentration. In addition, colored dyes may be extracted with various organic chemicals used during development or solvents in inks used during printing, resulting in deterioration of plate inspection and contamination of developer chemicals and ink by the extracted dyes. There was a case.
JP-A-11-227355 (Claims) Japanese Patent Laying-Open No. 2005-300586 (Claims) JP-A-11-227353 (Claims) JP 2001-130155 A (Claims) JP 2003-266966 A (Claims) JP-A-9-189993 (Claims) JP 2002-244279 A (Claims)

本発明は、染色工程を必要とせずに、検版が可能である水なし平版印刷版原版を提供することを目的とするものである。   An object of the present invention is to provide a waterless planographic printing plate precursor that can be inspected without requiring a dyeing step.

本発明は、基板上に、少なくとも感光層または感熱層、およびシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版であって、前記シリコーンゴム層の表面の中心平均粗さ(Ra)が1nm以上100nm以下であることを特徴とする水なし平版印刷版原版である。   The present invention is a waterless lithographic printing plate precursor having at least a photosensitive layer or a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein the center average roughness (Ra) of the surface of the silicone rubber layer is from 1 nm to 100 nm. It is a waterless lithographic printing plate precursor characterized by being.

本発明によれば、染色工程を必要とせずに検版が可能である水なし平版印刷版原版が得られる。   According to the present invention, a waterless lithographic printing plate precursor that can be inspected without requiring a dyeing step is obtained.

以下に本発明を詳しく説明する。 The present invention is described in detail below.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は付加反応型、縮合反応型いずれであってもよい。   The silicone rubber layer used in the present invention may be either an addition reaction type or a condensation reaction type.

付加反応型のシリコーンゴム層は、少なくともビニル基含有オルガノポリシロキサン、SiH基含有化合物(付加反応型架橋剤)、反応抑制剤および硬化触媒を含む組成物(以下、シリコーン液という)から形成される。   The addition reaction type silicone rubber layer is formed from a composition (hereinafter referred to as a silicone liquid) containing at least a vinyl group-containing organopolysiloxane, a SiH group-containing compound (addition reaction type crosslinking agent), a reaction inhibitor and a curing catalyst. .

ビニル基含有オルガノポリシロキサンは、下記一般式(I)で表される構造を有し、主鎖末端もしくは主鎖中にビニル基を有するものである。中でも主鎖末端にビニル基を有するものが好ましい。
−(SiR−O−)− (I)
式中、nは2以上の整数を示し、RおよびRは同じであっても異なっていてもよく、炭素数1〜50の飽和または不飽和の炭化水素基を表す。炭化水素基は直鎖状でも枝分かれ状でも環状でもよく、芳香環を含んでいてもよい。
The vinyl group-containing organopolysiloxane has a structure represented by the following general formula (I) and has a vinyl group at the end of the main chain or in the main chain. Of these, those having a vinyl group at the end of the main chain are preferred.
-(SiR 1 R 2 -O-) n- (I)
In the formula, n represents an integer of 2 or more, and R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms. The hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic and may contain an aromatic ring.

上記式中、RおよびRは全体の50%以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。また、取扱い性や印刷版のインキ反発性、耐傷性の観点から、ビニル基含有オルガノポリシロキサンの重量平均分子量は1万〜60万が好ましい。 In the above formula, 50% or more of R 1 and R 2 are preferably methyl groups from the viewpoint of ink repellency of the printing plate. Further, from the viewpoints of handleability, ink repellency of the printing plate, and scratch resistance, the weight average molecular weight of the vinyl group-containing organopolysiloxane is preferably 10,000 to 600,000.

SiH基含有化合物としては、例えば、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、ジオルガノハイドロジェンシリル基を有する有機ポリマーが挙げられ、好ましくはオルガノハイドロジェンシロキサンである。オルガノハイドロジェンは直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有し、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ポリメチルハイドロジェンシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン、式:RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:RHSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサン共重合体、式:RHSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサン共重合体、式:RHSiO2/2で示されるシロキサン単位と式:RSiO3/2で示されるシロキサン単位または式:HSiO3/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサン共重合体などが挙げられる。これらのオルガノポリシロキサンを2種以上用いてもよい。上式中、Rはアルケニル基以外の一価炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が例示される。 Examples of the SiH group-containing compound include organohydrogenpolysiloxanes and organic polymers having diorganohydrogensilyl groups, and organohydrogensiloxanes are preferred. Organohydrogen has a linear, cyclic, branched, and network molecular structure, both ends of the molecular chain trimethylsiloxy group-blocked polymethylhydrogensiloxane, molecular chain both ends trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane and methylhydrogensiloxane Copolymer, Trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, both ends of the molecular chain dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, dimethylhydrogensiloxy group at both ends of the molecular chain Blocked dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylphenylpolysiloxane at both molecular chain ends, siloxane unit represented by formula: R 3 SiO 1/2 and formula: R 2 Organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by HSiO 1/2 and a siloxane unit represented by formula: SiO 4/2 , a siloxane unit represented by formula: R 2 HSiO 1/2 and formula: SiO 4/2 An siloxane unit represented by formula: RHSiO 2/2 and a siloxane unit represented by formula: RSiO 3/2 or a siloxane unit represented by formula: HSiO 3/2 And an organopolysiloxane copolymer. Two or more of these organopolysiloxanes may be used. In the above formula, R is a monovalent hydrocarbon group other than an alkenyl group, and is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group; a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group And aryl groups such as naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; and halogenated alkyl groups such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group.

ジオルガノハイドロジェンシリル基を有する有機ポリマーとしては、例えば、ジメチルハイドロジェンシリル(メタ)アクレート、ジメチルハイドロジェンシリルプロピル(メタ)アクリレート等のジメチルハイドロジェンシリル基含有アクリル系モノマーと、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、スチレン、α−メチルスチレン、マレイン酸、酢酸ビニル、酢酸アリル等のモノマーとを共重合したオリゴマーが挙げられる。   Examples of the organic polymer having a diorganohydrogensilyl group include dimethylhydrogensilyl group-containing acrylic monomers such as dimethylhydrogensilyl (meth) acrylate and dimethylhydrogensilylpropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. Monomers such as methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethyl hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, maleic acid, vinyl acetate, allyl acetate And an oligomer obtained by copolymerization.

SiH基含有化合物の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーン液中0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましい。また、20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The content of the SiH group-containing compound is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more in the silicone liquid from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer. Moreover, 20 weight% or less is preferable and 15 weight% or less is more preferable.

反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられるが、アセチレン基含有のアルコールが好ましく用いられる。これらの反応抑制剤を含有することにより、シリコーンゴム層の硬化速度を調整することができる。反応抑制剤の含有量は、シリコーン液の安定性の観点から、シリコーン液中0.01重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーン液中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   Examples of the reaction inhibitor include nitrogen-containing compounds, phosphorus compounds, unsaturated alcohols, and the like, and acetylene group-containing alcohols are preferably used. By containing these reaction inhibitors, the curing rate of the silicone rubber layer can be adjusted. The content of the reaction inhibitor is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more in the silicone liquid from the viewpoint of the stability of the silicone liquid. Further, from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer, it is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone liquid.

硬化触媒は公知のものから選ばれるが、好ましくは白金系化合物であり、具体的には白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキサン錯体などを一例として挙げることができる。硬化触媒の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーン液中0.001重量%以上が好ましく、0.01重量%以上がより好ましい。また、シリコーン液の安定性の観点から、20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The curing catalyst is selected from known ones, but is preferably a platinum-based compound. Specifically, platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin coordinated platinum, platinum alcohol-modified complex, platinum methylvinylpolysiloxane A complex etc. can be mentioned as an example. From the viewpoint of curability of the silicone rubber layer, the content of the curing catalyst is preferably 0.001% by weight or more, and more preferably 0.01% by weight or more in the silicone liquid. Further, from the viewpoint of the stability of the silicone liquid, it is preferably 20% by weight or less, and more preferably 15% by weight or less.

また、これらの成分の他に、水酸基含有オルガノポリシロキサンや加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、接着性を向上させる目的で公知のシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類などが好ましく、特にビニル基やアリル基を有するものが好ましい。   In addition to these components, hydroxyl group-containing organopolysiloxane, hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), known fillers such as silica for the purpose of improving rubber strength, and known for the purpose of improving adhesiveness. The silane coupling agent may be contained. As the silane coupling agent, alkoxysilanes, acetoxysilanes, ketoximinosilanes and the like are preferable, and those having a vinyl group or an allyl group are particularly preferable.

縮合反応型のシリコーンゴム層は、少なくとも水酸基含有オルガノポリシロキサン、架橋剤(脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミノキシ型など)、および硬化触媒を含む組成物(シリコーン液)から形成される。   The condensation reaction type silicone rubber layer comprises at least a hydroxyl group-containing organopolysiloxane, a crosslinking agent (deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, deacetone type, deamid type, deaminoxy type, etc.), and It is formed from a composition (silicone liquid) containing a curing catalyst.

水酸基含有オルガノポリシロキサンは、前記一般式(I)で表される構造を有し、主鎖末端もしくは主鎖中に水酸基を有するものである。中でも主鎖末端に水酸基を有するものが好ましい。   The hydroxyl group-containing organopolysiloxane has a structure represented by the general formula (I) and has a hydroxyl group at the end of the main chain or in the main chain. Of these, those having a hydroxyl group at the end of the main chain are preferred.

一般式(I)中のRおよびRは、全体の50%以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。その取扱い性や印刷版のインキ反発性、耐傷性の観点から、水酸基含有オルガノポリシロキサンの重量平均分子量は1万〜60万が好ましい。 In terms of ink repellency of the printing plate, R 1 and R 2 in the general formula (I) are preferably 50% or more of methyl groups. The weight average molecular weight of the hydroxyl group-containing organopolysiloxane is preferably 10,000 to 600,000 from the viewpoints of handling properties, ink repellency of the printing plate, and scratch resistance.

縮合反応型のシリコーンゴム層に用いられる架橋剤としては、下記一般式(II)で表される、アセトキシシラン類、アルコキシシラン類、ケトキシミノシラン類、アリロキシシラン類などを挙げることができる。
(R4−nSiX(II)
式中、nは2〜4の整数を示し、Rは同一でも異なってもよく、炭素数1以上の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされた基を示す。Xは同一でも異なってもよく、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシミノ基、アミノオキシ基、アミド基またはアルケニルオキシ基である。上記式において、加水分解性基の数nは3または4であることが好ましい。
Examples of the crosslinking agent used in the condensation reaction type silicone rubber layer include acetoxysilanes, alkoxysilanes, ketoximinosilanes, and allyloxysilanes represented by the following general formula (II).
(R 3 ) 4-n SiX n (II)
In the formula, n represents an integer of 2 to 4, R 3 may be the same or different, and represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group, or a combination thereof having 1 or more carbon atoms. Show. X may be the same or different and is a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximino group, an aminooxy group, an amide group or an alkenyloxy group. In the above formula, the number n of hydrolyzable groups is preferably 3 or 4.

具体的な化合物としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン等のアセトキシシラン類、ビニルメチルビス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、メチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、エチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、アリルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、フェニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、テトラキス(メチルエチルケトキシミノ)シラン等のケトキシミノシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン等のアルコキシシラン類、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、ジイソプロペノキシジメチルシラン、トリイソプロペノキシメチルシラン等のアルケニルオキシシラン類、テトラアリロキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中では、シリコーンゴム層の硬化速度、取扱い性などの観点から、アセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類が好ましい。   Specific compounds include methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, allyltriacetoxysilane, acetoxysilanes such as phenyltriacetoxysilane, tetraacetoxysilane, and vinylmethylbis (methylethylketoximino) silane. , Methyltris (methylethylketoximino) silane, ethyltris (methylethylketoximino) silane, vinyltris (methylethylketoximino) silane, allyltris (methylethylketoximino) silane, phenyltris (methylethylketoximino) silane, tetrakis (methylethylketoximino) silane, etc. Ketoximinosilanes, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltrie Alkoxysilanes such as xyloxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrisisopropenoxysilane, diisopropenoxydimethylsilane, Examples thereof include, but are not limited to, alkenyloxysilanes such as triisopropenoxymethylsilane and tetraallyloxysilane. Among these, acetoxysilanes and ketoximinosilanes are preferable from the viewpoint of the curing speed of the silicone rubber layer, handling properties, and the like.

架橋剤の含有量は、シリコーン液の安定性の観点から、シリコーン液中0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の強度や印刷版の耐傷性の観点から、シリコーン液中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The content of the crosslinking agent is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more in the silicone liquid, from the viewpoint of the stability of the silicone liquid. Further, from the viewpoint of the strength of the silicone rubber layer and the scratch resistance of the printing plate, it is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone liquid.

硬化触媒としては、酢酸、プロピオン酸、マレイン酸などの有機カルボン酸、トルエンスルホン酸、ホウ酸等の酸類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等のアルカリ、アミン、およびチタンテトラプロポキシド、チタンテトラブトキシドなどの金属アルコキシド、鉄アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナートジプロポキシドなどの金属ジケテネート、金属の有機酸塩などを挙げることができる。これらの中で、金属の有機酸塩が好ましく、特に錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンから選ばれる金属の有機酸塩が好ましい。このような化合物の具体例の一部としては、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを挙げることができる。硬化触媒の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性、接着性の観点から、シリコーン液中0.001重量%以上が好ましく、0.01重量%以上がより好ましい。また、シリコーン液の安定性の観点から、シリコーン液中15重量%以下が好ましく、10重量%以下がより好ましい。   Curing catalysts include organic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid and maleic acid, acids such as toluenesulfonic acid and boric acid, alkalis such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and lithium hydroxide, amines, and titanium tetrapropoxide. Metal alkoxides such as titanium tetrabutoxide, metal diketenates such as iron acetylacetonate and titanium acetylacetonate dipropoxide, and metal organic acid salts. Among these, metal organic acid salts are preferable, and metal organic acid salts selected from tin, lead, zinc, iron, cobalt, calcium, and manganese are particularly preferable. Specific examples of such compounds include dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, zinc octylate, and iron octylate. The content of the curing catalyst is preferably 0.001% by weight or more, more preferably 0.01% by weight or more in the silicone liquid from the viewpoint of curability and adhesiveness of the silicone rubber layer. Further, from the viewpoint of the stability of the silicone liquid, it is preferably 15% by weight or less in the silicone liquid, and more preferably 10% by weight or less.

また、これらの成分の他に、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、さらには公知のシランカップリング剤を含有してもよい。   In addition to these components, a known filler such as silica and further a known silane coupling agent may be contained for the purpose of improving rubber strength.

本発明者らは、染色工程を必要とせず、検版を可能とするために、鋭意検討を進めた結果、シリコーンゴム層の表面の粗さに関係があることを見いだした。本発明の最大の特徴は、シリコーンゴム層の表面の粗さが中心線平均粗さ(Ra) が1nm以上100nm以下であることであり、5nm以上50nm以下であることが好ましい。中心線平均粗さRaが1nm未満であると、表面の粗面化が不十分であり、視認性が乏しいため検版性に効果が得られない。また、100nmより大きいと視認性は十分であるが、粗面化によって、シリコーンゴム層のインキ反発性が低下し、印刷時に地汚れが発生する。すなわち、シリコーンゴム層の表面の粗さを中心線平均粗さ(Ra) 1nm以上100nm以下の間に調整することで、染色工程を必要とせず、検版を可能にする水なし平版印刷版原版を得ることができる。   As a result of intensive investigations to enable plate inspection without requiring a dyeing step, the present inventors have found that the surface roughness of the silicone rubber layer is related. The greatest feature of the present invention is that the surface roughness of the silicone rubber layer is such that the center line average roughness (Ra) is from 1 nm to 100 nm, and preferably from 5 nm to 50 nm. When the center line average roughness Ra is less than 1 nm, the surface is not sufficiently roughened, and the visibility is poor, so that no effect is obtained on the plate inspection. On the other hand, if it is larger than 100 nm, the visibility is sufficient, but the roughening causes the ink repellency of the silicone rubber layer to decrease, and scumming occurs during printing. That is, by adjusting the roughness of the surface of the silicone rubber layer between the center line average roughness (Ra) of 1 nm or more and 100 nm or less, a waterless lithographic printing plate precursor that enables plate inspection without requiring a dyeing step Can be obtained.

ここで、中心線平均粗さ(Ra)の測定方法について説明する。本発明においてシリコーンゴム層表面の中心線平均粗さ(Ra)は、JIS B0601 付属書2(2001)における表面粗さの定義に基づくものであり、具体的には、市販されている表面形状測定機、触針計等を用いて測定することができる。   Here, a method for measuring the centerline average roughness (Ra) will be described. In the present invention, the center line average roughness (Ra) of the silicone rubber layer surface is based on the definition of the surface roughness in JIS B0601 Appendix 2 (2001), and specifically, the surface shape measurement that is commercially available. It can be measured using a machine, a stylus meter or the like.

シリコーンゴム層表面を粗面化処理することで中心線平均粗さ(Ra)が上記範囲のシリコーンゴム層を作製することができる。   By roughening the surface of the silicone rubber layer, a silicone rubber layer having a center line average roughness (Ra) in the above range can be produced.

シリコーンゴム層表面の中心線平均粗さ(Ra)を制御するための手段としては、機械的粗面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化等の従来公知の粗面化処理が挙げられる。特に本発明には、化学的粗面化処理であるドライエッチング処理が好ましく用いられる。ドライエッチングとは、反応性の気体(エッチングガス)やイオン、ラジカルによって材料をエッチングする方法である。後工程として洗浄を必要とせず、微細加工が可能であることが特徴として挙げられる。ドライエッチングの種類には、反応ガス中に材料を曝する反応性ガスエッチングとプラズマによりガスをイオン化・ラジカル化してエッチングする反応性イオンエッチングなどがある。反応性イオンエッチングは、イオンによるスパッタリングと、エッチングガスの化学反応が同時に起こり、微細加工に適した高い精度でのエッチングが行える方法である。特に、本発明には、スパッタエッチングやリアクティブイオンエッチング等の反応性イオンエッチングが好ましく用いられる。スパッタエッチングとは、He,Ne,Ar,Kr,Xe,Rnなどの元素周期表の18族の気体である希ガス、または窒素ガスなどの絶縁膜材料と実質的に反応しない成分のみからなるガスを用いて行うエッチングである。また、リアクティブイオンエッチングとは、CH22、CHF3を含むガスなどフルオロカーボン系のエッチングガスを用いて行うエッチング方法である。 As means for controlling the center line average roughness (Ra) of the silicone rubber layer surface, conventionally known roughening treatments such as mechanical roughening, chemical roughening, and electrochemical roughening are available. Can be mentioned. In particular, a dry etching process that is a chemical roughening process is preferably used in the present invention. Dry etching is a method of etching a material with a reactive gas (etching gas), ions, or radicals. A feature is that fine processing is possible without requiring cleaning as a post-process. Examples of dry etching include reactive gas etching in which a material is exposed to a reactive gas and reactive ion etching in which gas is ionized and radicalized by plasma to perform etching. Reactive ion etching is a method in which sputtering with ions and a chemical reaction of an etching gas occur at the same time, and etching with high accuracy suitable for microfabrication can be performed. In particular, reactive ion etching such as sputter etching or reactive ion etching is preferably used in the present invention. Sputter etching is a gas composed of only a component that does not substantially react with an insulating film material such as a noble gas that is a group 18 gas in the periodic table of elements such as He, Ne, Ar, Kr, Xe, and Rn, or nitrogen gas. Etching is performed using The reactive ion etching is an etching method that uses a fluorocarbon-based etching gas such as a gas containing CH 2 F 2 or CHF 3 .

エッチング処理を行うには、従来公知のエッチング装置を用いることができ、エッチングの際のパワー、時間、圧力等の条件を調整することによって、シリコーンゴム層表面を1〜100nmの中心線平均粗さ(Ra)にすることができる。   In order to perform the etching process, a conventionally known etching apparatus can be used. By adjusting conditions such as power, time, and pressure during etching, the surface of the silicone rubber layer has a center line average roughness of 1 to 100 nm. (Ra).

本発明の水なし平版印刷版原版において、シリコーンゴム層の膜厚は0.5〜20g/mが好ましい。膜厚を0.5g/m以上とすることで印刷版のインキ反発性や耐傷性、耐刷性が十分となり、20g/m以下とすることで経済的見地から不利とならず、現像性、インキマイレージの低下が起こりにくい。 In the waterless lithographic printing plate precursor according to the invention, the thickness of the silicone rubber layer is preferably 0.5 to 20 g / m 2 . Film thickness printing plate ink repellency and scratch resistance by a 0.5 g / m 2 or more, the printing durability becomes sufficient, not disadvantageous from an economic point of view by a 20 g / m 2 or less, developing The ink mileage is less likely to deteriorate.

本発明に用いられる感光(熱)層としては、これまでに感光(熱)層残存型水なし平版印刷版用感光(熱)層として提案された何れのタイプの感光(熱)層も使用可能である。以下、具体例を挙げて説明するが、これらに限定されるものではない。   As the photosensitive (thermal) layer used in the present invention, any type of photosensitive (thermal) layer that has been proposed as a photosensitive (thermal) layer for waterless lithographic printing plate can be used. It is. Hereinafter, although a specific example is given and demonstrated, it is not limited to these.

(感熱層−1)ネガ型水なしCTP平版印刷版原版用感熱層
例えば特開平11−221977号公報に記載の感熱層等を挙げることができる。生版の状態で架橋剤による架橋構造が形成されており、近赤外レーザーの照射により発生する熱で、感熱層とシリコーンゴム層間の接着力が低下するタイプの感熱層である。その後の現像処理によって、レーザー光を照射した部分のシリコーンゴム層が除去される。レーザー照射部の感熱層は現像後も残存する。
(Heat-sensitive layer-1) Heat-sensitive layer for negative-type waterless CTP lithographic printing plate precursor Examples include the heat-sensitive layer described in JP-A-11-221977. In the raw plate state, a crosslinked structure is formed by a crosslinking agent, and the heat-sensitive layer is a type in which the adhesive force between the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer is reduced by heat generated by irradiation with a near-infrared laser. Subsequent development processing removes the silicone rubber layer in the portion irradiated with the laser beam. The heat-sensitive layer in the laser irradiation part remains even after development.

(感熱層−2)ネガ型水なしCTP平版印刷版原版用感熱層
例えば特開2005−300586号公報に記載の気泡を含んだ感熱層等を挙げることができる。生版の状態で架橋剤による架橋構造が形成されており、近赤外レーザーの照射により発生する熱で、感熱層とシリコーンゴム層間の接着力が低下するタイプの感熱層である。その後の現像処理によって、レーザー光を照射した部分のシリコーンゴム層が除去される。レーザー照射部の感熱層は現像後も残存する。
(Heat-sensitive layer-2) Heat-sensitive layer for negative-type waterless CTP lithographic printing plate precursor Examples include a heat-sensitive layer containing bubbles described in JP-A-2005-300586. In the raw plate state, a crosslinked structure is formed by a crosslinking agent, and the heat-sensitive layer is a type in which the adhesive force between the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer is reduced by heat generated by irradiation with a near-infrared laser. Subsequent development processing removes the silicone rubber layer in the portion irradiated with the laser beam. The heat-sensitive layer in the laser irradiation part remains even after development.

(感熱層−3)ネガ型水なしCTP平版印刷版原版用感熱層
例えば特開平9−131981号公報に記載の感熱層等を挙げることができる。近赤外レーザーの照射により発生する熱で破壊されるタイプの感熱層である。そして、現像によってこの部分を除去することによって、表面のシリコーンゴム層が破壊された感熱層と一緒に除去され画線部となる。一般的にこのような感熱層は検版性の観点から感熱層を深さ方向に完全にレーザー破壊して用いられる。しかし感熱層を完全に破壊するためには高エネルギーのレーザー照射が必要であり、これにより、微細画像の再現性不良、アブレーションカスによる光学系汚染、レーザー寿命の低下等、様々な悪影響がある。レーザーエネルギーを低くすると感熱層の大部分を残存しながら上部シリコーンゴム層を除去できる領域が現れる。感熱層の大部分が残存するため検版は困難であるが、検版性以外の悪影響は大きく抑制される。本発明の有色顔料含有シリコーンゴム層を設けた場合には感熱層の大部分が残存しても検版が可能となる。
(Heat-sensitive layer-3) Heat-sensitive layer for negative-type waterless CTP lithographic printing plate precursor Examples include the heat-sensitive layer described in JP-A-9-131981. It is a type of heat-sensitive layer that is destroyed by heat generated by irradiation with a near-infrared laser. Then, by removing this portion by development, the silicone rubber layer on the surface is removed together with the destroyed heat-sensitive layer to form an image area. In general, such a heat-sensitive layer is used after completely destroying the heat-sensitive layer in the depth direction from the viewpoint of plate inspection. However, in order to completely destroy the heat-sensitive layer, high-energy laser irradiation is necessary, which causes various adverse effects such as poor reproducibility of fine images, optical system contamination due to ablation, and reduction in laser life. When the laser energy is lowered, there appears an area where the upper silicone rubber layer can be removed while most of the heat sensitive layer remains. Plate inspection is difficult because most of the thermosensitive layer remains, but adverse effects other than plate inspection are greatly suppressed. When the colored pigment-containing silicone rubber layer of the present invention is provided, plate inspection is possible even if most of the heat-sensitive layer remains.

(感熱層−4)ネガ型水なしCTP平版印刷版原版用感熱層
例えば、特開平7−314934号公報や特開平9−086065号公報に記載の金属、またはこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ホウ化物、フッ化物の薄膜等を挙げることができる。近赤外レーザーの照射により発生する熱で金属薄膜が破壊される。そして、現像によってこの部分を除去することによって、表面のシリコーンゴム層が同時に剥離され、画線部となる。感熱層−3同様、一般的にこのような金属薄膜も検版性の観点から深さ方向に完全にレーザー破壊して用いられる。しかし金属薄膜を完全に破壊するためには高エネルギーのレーザー照射が必要であり、これにより、微細画像の再現性不良、アブレーションカスによる光学系汚染、レーザー寿命の低下等、様々な悪影響がある。レーザーエネルギーを低くすると金属薄膜の大部分を残存しながら上部シリコーンゴム層を除去できる領域が現れる。金属薄膜の大部分が残存するため検版は困難であるが、検版性以外の悪影響は大きく抑制される。本発明の有色顔料含有シリコーンゴム層を設けた場合には金属薄膜の大部分が残存しても検版が可能となる。
(Heat-sensitive layer-4) Heat-sensitive layer for negative-type waterless CTP lithographic printing plate precursor For example, metals described in JP-A-7-314934 and JP-A-9-086065, or oxides, carbides and nitrides thereof. , Boride, fluoride thin films, and the like. The metal thin film is destroyed by the heat generated by the near infrared laser irradiation. Then, by removing this portion by development, the silicone rubber layer on the surface is peeled off at the same time to form an image portion. Similar to the thermosensitive layer-3, such a metal thin film is generally used after being completely laser-destructed in the depth direction from the viewpoint of plate inspection. However, in order to completely destroy the metal thin film, high-energy laser irradiation is required, and this causes various adverse effects such as poor reproducibility of fine images, optical system contamination due to ablation debris, and a reduction in laser life. When the laser energy is lowered, there appears an area where the upper silicone rubber layer can be removed while most of the metal thin film remains. Plate inspection is difficult because most of the metal thin film remains, but adverse effects other than plate inspection are greatly suppressed. When the colored pigment-containing silicone rubber layer of the present invention is provided, plate inspection is possible even if most of the metal thin film remains.

(感熱層−5)ポジ型水なしCTP平版印刷版原版用感熱層
例えば、特開平11−157236号公報や、特開平11−240271号公報に記載の熱硬化型感熱層等を挙げることができる。近赤外レーザーの照射により発生する熱で熱活性化架橋剤による架橋構造が形成されるタイプの感熱層である。その後の現像処理によって、レーザー光を照射した部分のシリコーンゴム層が残存し、未照射部分のシリコーンゴム層が除去される。レーザー未照射部の感熱層は現像後も残存する。
(Thermosensitive layer-5) Thermosensitive layer for positive-type waterless CTP lithographic printing plate precursor Examples of the thermosensitive thermosensitive layer described in JP-A-11-157236 and JP-A-11-240271 can be given. . It is a type of heat-sensitive layer in which a cross-linked structure is formed by a heat-activated cross-linking agent by heat generated by irradiation with a near infrared laser. Subsequent development processing leaves a portion of the silicone rubber layer that has been irradiated with laser light, and removes the portion of the silicone rubber layer that has not been irradiated. The heat-sensitive layer in the unirradiated portion of the laser remains even after development.

(感光層−1)ネガ型水なし平版印刷版原版用感光層
例えば特開平11−352672号公報に記載の感光層等を挙げることができる。紫外線の照射により感光層表面の前処理液に対する溶解性が大きくなることで、現像処理によって、紫外線を照射した部分のシリコーンゴム層が除去され、未照射部分のシリコーンゴム層が残存する。露光部の感光層は現像後も残存する。
(Photosensitive layer-1) Photosensitive layer for negative-type waterless lithographic printing plate precursor Examples include the photosensitive layer described in JP-A No. 11-352672. By increasing the solubility of the surface of the photosensitive layer in the pretreatment liquid by irradiation with ultraviolet rays, the silicone rubber layer in the portion irradiated with ultraviolet rays is removed by the development treatment, and the silicone rubber layer in the unirradiated portion remains. The photosensitive layer in the exposed area remains after development.

(感光層−2)ポジ型水なし平版印刷版原版用感光層
例えば特開平6−118629号公報に記載の感光層等を挙げることができる。紫外線の照射により発生したラジカルでエチレン性不飽和二重結合含有化合物の重合が起こり、現像処理によって、紫外線を照射した部分のシリコーンゴム層が残存し、未照射部分のシリコーンゴム層が除去される。未露光部の感光層は現像後も残存する。
(Photosensitive layer-2) Photosensitive layer for a positive type waterless lithographic printing plate precursor, for example, a photosensitive layer described in JP-A-6-118629. Polymerization of the ethylenically unsaturated double bond-containing compound occurs due to radicals generated by the irradiation of ultraviolet rays, and the silicone rubber layer in the portion irradiated with ultraviolet rays remains by the development treatment, and the silicone rubber layer in the unirradiated portion is removed. . The unexposed photosensitive layer remains even after development.

本発明に用いられる基板としては、従来印刷版の基板として用いられてきた寸法的に安定な公知の紙、金属、フイルム等を使用することができる。具体的には、紙、プラスチック(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などの金属板、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのプラスチックのフイルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフイルムなどが挙げられる。プラスチックフイルムは透明、不透明何れのものでも使用できる。中でも不透明のフイルムを用いることは検版性の点から好ましい。   As the substrate used in the present invention, known dimensionally stable paper, metal, film and the like conventionally used as a substrate of a printing plate can be used. Specifically, paper, paper laminated with plastic (polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper and other metal plates, cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polyamide, Examples thereof include a plastic film such as polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, and polyvinyl acetal, and a paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited. The plastic film can be either transparent or opaque. Among these, the use of an opaque film is preferable from the viewpoint of plate inspection.

これら基板のうち、アルミニウム板は寸法的に著しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。また、軽印刷用のフレキシブルな基板としては、ポリエチレンテレフタレートフイルムが特に好ましい。   Of these substrates, an aluminum plate is particularly preferred because it is extremely dimensionally stable and inexpensive. A polyethylene terephthalate film is particularly preferable as a flexible substrate for light printing.

基板と感光層間の接着性向上、光ハレーション防止、検版性向上、断熱性向上、耐刷性向上等を目的に、前述の基板の上にプライマー層を有してもよい。本発明に用いられるプライマー層としては、例えば特開2004−199016号公報等に記載されたプライマー層を挙げることができる。   A primer layer may be provided on the above-mentioned substrate for the purpose of improving adhesion between the substrate and the photosensitive layer, preventing light halation, improving plate inspection, improving heat insulation, and improving printing durability. As a primer layer used for this invention, the primer layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-199016 etc. can be mentioned, for example.

上述したように構成された水なし平版印刷版原版は、シリコーンゴム層保護の目的で保護フイルムや合紙を有してもよい。保護フイルム、および合紙は、そのどちらか一方を単独で有してもよいし、両方を併用してもよい。   The waterless lithographic printing plate precursor configured as described above may have a protective film or a slip sheet for the purpose of protecting the silicone rubber layer. Either the protective film or the slip sheet may be used alone, or both may be used in combination.

保護フイルムとしては、露光光源波長の光を良好に透過する厚み100μm以下のフイルムが好ましい。代表例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、セロファンなどを挙げることができる。また、曝光による原版の感光を防止する目的で、特開平2−063050号公報に記載されたような種々の光吸収剤や光退色性物質、光発色性物質を保護フイルム上に有してもよい。原画フイルムを用いて露光する場合は、原画フイルムとの密着性向上の観点から、特開昭55−55343号公報や特開平2−063051号公報に記載されたような凹凸加工された保護フイルムを用いることが好ましい。   The protective film is preferably a film having a thickness of 100 μm or less that transmits light of the exposure light source wavelength satisfactorily. Typical examples include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, cellophane, and the like. Further, for the purpose of preventing exposure of the original plate due to exposure, various kinds of light absorbers, photobleachable substances and photochromic substances as described in JP-A-2-063050 may be provided on the protective film. Good. In the case of exposure using the original image film, from the viewpoint of improving the adhesion to the original image film, an uneven processed protective film as described in JP-A-55-55343 and JP-A-2-063051 is used. It is preferable to use it.

合紙としては、秤量30〜120g/mのものが好ましく、より好ましくは30〜90g/mである。秤量30g/m以上であれば機械的強度が十分であり、120g/m以下であれば経済的に有利であるばかりでなく、水なし平版印刷版原版と紙の積層体が薄くなり、作業性が有利になる。好ましく用いられる合紙の例として、例えば、情報記録原紙40g/m(名古屋パルプ(株)製)、金属合紙30g/m(名古屋パルプ(株)製)、未晒しクラフト紙50g/m(中越パルプ工業(株)製)、NIP用紙52g/m(中越パルプ工業(株)製)、純白ロール紙45g/m(王子製紙(株))、クルパック73g/m(王子製紙(株))などがあげられるがこれらに限定されるものではない。 The slip sheet is preferably one weighing 30 to 120 g / m 2, more preferably from 30~90g / m 2. If the weight is 30 g / m 2 or more, the mechanical strength is sufficient, and if it is 120 g / m 2 or less, not only is it economically advantageous, but the water-less lithographic printing plate precursor and paper laminate become thin, Workability becomes advantageous. Examples of interleaving paper preferably used include, for example, information recording base paper 40 g / m 2 (manufactured by Nagoya Pulp Co., Ltd.), metal interleaving paper 30 g / m 2 (manufactured by Nagoya Pulp Co., Ltd.), unbleached kraft paper 50 g / m. 2 (manufactured by Chuetsu Pulp Industries Co., Ltd.), NIP paper 52 g / m 2 (manufactured by Chuetsu Pulp Industries Co., Ltd.), pure white roll paper 45 g / m 2 (Oji Paper Co., Ltd.), Kurpac 73 g / m 2 (Oji Paper Co., Ltd.) However, it is not limited to these.

次に、本発明の水なし平版印刷版原版の製造方法を記載する。塗布面を脱脂した基板上に、必要によりプライマー液またはそれを溶剤で希釈したプライマー希釈液を塗布し、プライマー層を設ける。乾燥や硬化のために加熱処理を行ってもよい。その後プライマー層と同様の方法で、感光(熱)層、シリコーンゴム層を順次設けることで水なし平版印刷版原版を得ることができる。各液の塗布方法としては、スリットダイコーター、ダイレクトグラビアコーター、オフセットグラビアコーター、リバースロールコーター、ナチュラルロールコーター、エアーナイフコーター、ロールブレードコーター、バリバーロールブレードコーター、トゥーストリームコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ディップコーター、カーテンコーター、スピンコーターなどによる塗布方法が用いられる。各層の加熱には、熱風乾燥機や赤外線乾燥機等の一般的な加熱装置が用いられる。   Next, a method for producing a waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described. A primer solution or a primer diluted solution obtained by diluting it with a solvent is applied to a substrate having a coated surface degreased as necessary to provide a primer layer. You may heat-process for drying and hardening. Thereafter, a waterless lithographic printing plate precursor can be obtained by sequentially providing a photosensitive (thermal) layer and a silicone rubber layer in the same manner as the primer layer. The application method of each liquid is slit die coater, direct gravure coater, offset gravure coater, reverse roll coater, natural roll coater, air knife coater, roll blade coater, varibar roll blade coater, two stream coater, rod coater, wire. A coating method using a bar coater, dip coater, curtain coater, spin coater or the like is used. A common heating device such as a hot air dryer or an infrared dryer is used for heating each layer.

更に、得られた水なし平版印刷版原版を用いて、シリコーンゴム層表面に機械的粗面化、電気化学的粗面化等の粗面化処理を行うことで、本発明の水なし平版印刷版原版が得られる。版面保護の観点からシリコーンゴム層に保護フイルム、または合紙の何れか一方、もしくはその両方を設けて保管することが、好ましい。   Further, by using the obtained waterless lithographic printing plate precursor, the surface of the silicone rubber layer is subjected to surface roughening treatment such as mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening, whereby the waterless lithographic printing of the present invention is performed. A plate original is obtained. From the viewpoint of protecting the plate surface, it is preferable to store the silicone rubber layer with either a protective film or a slip sheet, or both.

このようにして得られた水なし平版印刷版原版は、保護フイルム上、または保護フイルム剥離後、画像フイルムを介して露光するか、デジタルデータによりレーザー走査露光することにより画像様に露光される。露光光源としては、例えば、カーボンアーク灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、紫外光レーザー、可視光レーザー、(近)赤外光レーザーなどが挙げられる。   The waterless lithographic printing plate precursor thus obtained is exposed imagewise on a protective film or after peeling off the protective film and then exposed through an image film or by laser scanning exposure using digital data. Examples of exposure light sources include carbon arc lamps, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, halogen lamps, ultraviolet lasers, visible light lasers, and (near) infrared light. A laser etc. are mentioned.

露光後の原版は、現像液の存在下もしくは非存在下での摩擦処理により現像がなされる。摩擦処理は、不織布、脱脂綿、布、スポンジ、ブラシ等で版面を擦ることによって、あるいは、現像液を含浸した不織布、脱脂綿、布、スポンジ等で版面を拭き取ることによって行うことができる。また、現像液で版面を前処理した後に水道水等をシャワーしながら回転ブラシで擦ることや、高圧の水や温水、または水蒸気を版面に噴射することによっても行うことができる。   The exposed original plate is developed by a friction treatment in the presence or absence of a developer. The rubbing treatment can be performed by rubbing the plate surface with a nonwoven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge, brush or the like, or by wiping the plate surface with a nonwoven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge, etc. impregnated with a developer. Alternatively, the plate surface can be pretreated with a developer and then rubbed with a rotating brush while showering tap water or the like, or high-pressure water, hot water, or steam can be sprayed onto the plate surface.

現像に先立ち、前処理液中に一定時間版を浸漬する前処理を行ってもよい。前処理液としては、例えば、水や水にアルコールやケトン、エステル、カルボン酸などの極性溶媒を添加したもの、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類などの少なくとも1種からなる溶媒に極性溶媒を添加したもの、あるいは極性溶媒が用いられる。また、上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加することも自由に行われる。界面活性剤としては、安全性、廃棄する際のコスト等の点から、水溶液にしたときにpHが5〜8になるものが好ましい。界面活性剤の含有量は現像液の10重量%以下であることが好ましい。このような現像液は安全性が高く、廃棄コスト等の経済性の点でも好ましい。さらに、グリコール化合物あるいはグリコールエーテル化合物を主成分として用いることが好ましく、アミン化合物を共存させることがより好ましい。   Prior to development, a pretreatment in which a plate is immersed in a pretreatment solution for a certain time may be performed. As the pretreatment liquid, for example, water or water added with a polar solvent such as alcohol, ketone, ester or carboxylic acid, polar solvent such as aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, etc. A solvent added or a polar solvent is used. In addition, a known surfactant can be freely added to the developer composition. As the surfactant, those having a pH of 5 to 8 when made into an aqueous solution are preferable from the viewpoints of safety, cost for disposal, and the like. The content of the surfactant is preferably 10% by weight or less of the developer. Such a developer has high safety and is preferable from the viewpoint of economy such as disposal cost. Furthermore, it is preferable to use a glycol compound or glycol ether compound as a main component, and it is more preferable that an amine compound coexists.

前処理液、現像液としては、特開昭63−179361号公報、特開平4−163557号公報、特開平4−343360号公報、特開平9−34132号公報、特許第3716429号公報に記載されたような水なし平版印刷版原版の前処理液、現像液に関して開示されたものを用いることができる。前処理液の具体例としては、PP−1、PP−3、PP−F、PP−FII、PTS−1、PH−7N、CP−1、NP−1、DP−1(何れも東レ(株)製)などを挙げることができる。   The pretreatment liquid and the developer are described in JP-A-63-179361, JP-A-4-163557, JP-A-4-343360, JP-A-9-34132, and JP3716429. For example, those disclosed for the pretreatment liquid and developer of the waterless lithographic printing plate precursor can be used. Specific examples of the pretreatment liquid include PP-1, PP-3, PP-F, PP-FII, PTS-1, PH-7N, CP-1, NP-1, DP-1 (all of which are Toray Industries, Inc. ) Made).

上記現像処理は自動現像機により自動的に行うこともできる。自動現像機としては現像部のみの装置、前処理部、現像部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部、水洗部がこの順に設けられた装置等を使用できる。このような自動現像機の具体例としては、TWL−650シリーズ、TWL−860シリーズ、TWL−1160シリーズ(共に東レ(株)製)等や、特開平4−2265号公報、特開平5−2272号公報、特開平5−6000号公報などに開示されている自動現像機を挙げることができ、これらを単独または併用して使用することができる。   The development processing can be automatically performed by an automatic developing machine. As an automatic processor, a device having only a developing unit, a preprocessing unit, a device in which a developing unit is provided in this order, a preprocessing unit, a developing unit, a device in which a post-processing unit is provided in this order, a preprocessing unit, a developing unit, The apparatus etc. in which the post-processing part and the water washing part were provided in this order can be used. Specific examples of such an automatic developing machine include TWL-650 series, TWL-860 series, TWL-1160 series (both manufactured by Toray Industries, Inc.), and the like, JP-A-4-2265, and JP-A-5-2272. And automatic developing machines disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-6000 and the like, and these can be used alone or in combination.

現像処理された印刷版を積み重ねて保管する場合には、印刷版保護の目的で、版と版の間に合紙を挟んでおくことが好ましい。   In the case where the developed printing plates are stacked and stored, it is preferable to sandwich a slip sheet between the plates for the purpose of protecting the printing plate.

本発明を実施例により、さらに詳しく説明する。   The present invention will be described in more detail with reference to examples.

<シリコーンゴム層表面の中心平均粗さ(Ra)>
得られた水なし平版印刷版のシリコーンゴム表面を、AFM測定装置Nano scope(Digital Instruments製)を用いて以下の条件により観察し、シリコーンゴム層表面の中心平均粗さ(Ra)を測定した。
Integral Gain:2.1
Proportional Gain:2.5
Amplitude Setpoint:0.65
Scan Size:10μm
<Center average roughness (Ra) of the silicone rubber layer surface>
The silicone rubber surface of the obtained waterless lithographic printing plate was observed under the following conditions using an AFM measuring apparatus Nanoscope (manufactured by Digital Instruments), and the center average roughness (Ra) of the silicone rubber layer surface was measured.
Integral Gain: 2.1
Proportional Gain: 2.5
Amplitude Setpoint: 0.65
Scan Size: 10 μm

<検版性評価>
得られた水なし平版印刷版の1〜99%の網点(175lpi)をルーペ(×50)により観察し、以下の基準により評価した。
○:画線部/非画線部間に十分な色コントラストがあり、網点(1〜99%)のルーペ観察が可能。
△:画線部/非画線部間に色コントラストがあり、網点(3〜97%)のルーペ観察が可能。
×:画線部/非画線部間に色コントラストがなく、網点のルーペ観察が不可能。
<Evaluation of plate inspection>
1-99% of the halftone dots (175 lpi) of the obtained waterless lithographic printing plate were observed with a magnifying glass (× 50) and evaluated according to the following criteria.
A: There is sufficient color contrast between the image area / non-image area, and loupe observation of halftone dots (1 to 99%) is possible.
Δ: There is color contrast between the image area / non-image area, and loupe observation of halftone dots (3-97%) is possible.
×: There is no color contrast between the image area / non-image area, and loupe observation of halftone dots is impossible.

<網点面積率評価>
露光、現像により得られた水なし平版印刷版上の5%、20%、35%、50%、65%、80%、95%の各網点(175lpi)の網点面積率を、網点面積率測定装置:“ccDot”type4(センターファックス社製)により測定した。より具体的には、測定色(黄、紅、藍のいずれか)を選択し、露光、現像により得られた水なし平版印刷版上の50%網点面積率を3回測定し、ついで5%、20%、35%、50%、65%、80%、95%の順で各網点の網点面積率をそれぞれ3回ずつ測定し、その平均値を網点面積率とした(平均値の小数点以下第1位を四捨五入)。なお、本発明の水なし平版印刷版原版は最上層のシリコーンゴム層表面を粗面化しており、露光、現像後の水なし平版印刷版はネガ画像となる(非画線部:濃色、画線部:淡い色)。このことから、ネガ(装置での表示:−(マイナス))モードで網点面積率測定を行った。また、測定結果は以下の基準により評価した。
○:画線部/非画線部間の反射光量差が大きく、正確な読み取りが可能
△:画線部/非画線部間の反射光量差がやや小さく、一部正確な読み取りができない
×:画線部/非画線部間の反射光量差が小さく、一切読み取れない。
<Evaluation of dot area ratio>
The dot area ratio of each dot (175 lpi) of 5%, 20%, 35%, 50%, 65%, 80%, and 95% on the waterless lithographic printing plate obtained by exposure and development Area ratio measuring device: Measured by “ccDot” type 4 (manufactured by Center Fax). More specifically, the measurement color (one of yellow, red, or indigo) is selected, and the 50% halftone dot area ratio on the waterless planographic printing plate obtained by exposure and development is measured three times, and then 5 %, 20%, 35%, 50%, 65%, 80%, 95%, each halftone dot area ratio was measured three times, and the average value was defined as the halftone dot area ratio (average Rounded to the first decimal place. The waterless lithographic printing plate precursor of the present invention has a roughened surface of the uppermost silicone rubber layer, and the waterless lithographic printing plate after exposure and development becomes a negative image (non-image area: dark color, Image area: pale color). From this, the dot area ratio measurement was performed in the negative (display on the apparatus:-(minus)) mode. The measurement results were evaluated according to the following criteria.
○: The difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area is large and accurate reading is possible. Δ: The difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area is slightly small. : The difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area is small and cannot be read at all.

<印刷評価(地汚れ評価)>
得られた水なし平版印刷版を、オフセット印刷機(小森スプリント4色機)に取り付け、“ドライオカラー”(大日本インキ化学工業(株)製)墨インキを用いて、上質紙に100枚印刷を行った。得られた印刷物をルーペ(×50)で確認し、非画線部のシリコーンゴム層にインキが付着し、印刷紙面に汚れが発生していないか確認した。
<Printing evaluation (background stain evaluation)>
The obtained waterless lithographic printing plate is attached to an offset printing machine (Komori Sprint 4-color machine) and 100 sheets of high-quality paper using “Dryo Color” (Dainippon Ink and Chemicals) black ink. Printing was done. The obtained printed matter was confirmed with a magnifying glass (× 50), and it was confirmed that the ink adhered to the silicone rubber layer in the non-image area, and the printing paper surface was not stained.

<酸化チタン分散液の作製>
N,N−ジメチルホルムアミド10重量部中に、酸化チタン“CR−50”(石原産業(株)製)10重量部を添加して5分間撹拌した。さらに、ガラスビーズ(No.08)を15重量部添加し、20分間激しく撹拌し、その後ガラスビーズを取り去ることで酸化チタン分散液(濃度50%)を得た。
<Preparation of titanium oxide dispersion>
In 10 parts by weight of N, N-dimethylformamide, 10 parts by weight of titanium oxide “CR-50” (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) was added and stirred for 5 minutes. Further, 15 parts by weight of glass beads (No. 08) were added, and the mixture was vigorously stirred for 20 minutes. Thereafter, the glass beads were removed to obtain a titanium oxide dispersion (concentration: 50%).

<プライマー層溶液の組成>
(1)エポキシ樹脂:エピコート(登録商標)1010(ジャパンエポキシレジン(株)製):49重量部
(2)ポリウレタン樹脂:サンプレン(登録商標)LQ−T1331D(三洋化成工業(株)製、濃度20%、N,N−ジメチルホルムアミド/2−エトキシエタノール溶液):98重量部
(3)アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート):“アルミキレート”ALCH−TR(川研ファインケミカル(株)製):11.2重量部
(4)ビニル系重合物:ディスパロン(登録商標)LC951(楠本化成(株)製):0.2重量部
(5)酸化チタン分散液(濃度50%):84重量部(酸化チタン:42重量部)
(6)N,N−ジメチルホルムアミド:302.5重量部
(7)メチルエチルケトン:315.6重量部。
<Composition of primer layer solution>
(1) Epoxy resin: Epicoat (registered trademark) 1010 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): 49 parts by weight (2) Polyurethane resin: Samprene (registered trademark) LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., concentration 20) %, N, N-dimethylformamide / 2-ethoxyethanol solution): 98 parts by weight (3) Aluminum tris (ethyl acetoacetate): “aluminum chelate” ALCH-TR (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.): 11.2 Weight part (4) Vinyl polymer: Disparon (registered trademark) LC951 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.): 0.2 part by weight (5) Titanium oxide dispersion (concentration 50%): 84 parts by weight (titanium oxide: 42 parts by weight)
(6) N, N-dimethylformamide: 302.5 parts by weight (7) Methyl ethyl ketone: 315.6 parts by weight.

<感熱層溶液の組成>
(1)赤外線吸収染料:“PROJET”825LDI((株)Avecia製):16重量部
(2)チタンジ−n−ブトキサイドビス(2,4−ペンタンジオネート):ナーセム(登録商標)チタン(日本化学産業(株)製、チタン濃度約8.8%、n−ブタノール溶液):37.5重量部
(3)フェノールノボラック樹脂:スミライトレジン(登録商標)PR53195(住友デュレズ(株)製):60重量部
(4)ポリウレタン樹脂:サンプレン(登録商標)LQ−T1331D(三洋化成工業(株)製、濃度20%、N,N−ジメチルホルムアミド/2−エトキシエタノール溶液):125重量部(ポリウレタン樹脂:25重量部)
(5)3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:15重量部
(6)テトラヒドロフラン:993重量部
(7)エタノール:64重量部。
<Composition of heat-sensitive layer solution>
(1) Infrared absorbing dye: “PROJET” 825LDI (manufactured by Avecia Co., Ltd.): 16 parts by weight (2) Titanium di-n-butoxide bis (2,4-pentanedionate): NACEM (registered trademark) titanium (Nippon Chemical Industries) (Made by Co., Ltd., titanium concentration: about 8.8%, n-butanol solution): 37.5 parts by weight (3) phenol novolac resin: Sumilite Resin (registered trademark) PR53195 (manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.): 60 weights Part (4) Polyurethane resin: Samprene (registered trademark) LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., concentration 20%, N, N-dimethylformamide / 2-ethoxyethanol solution): 125 parts by weight (polyurethane resin: 25 Parts by weight)
(5) 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane: 15 parts by weight (6) Tetrahydrofuran: 993 parts by weight (7) Ethanol: 64 parts by weight

<シリコーンゴム層溶液の組成>
(1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサンDMS−V42(重量平均分子量72,000、GELEST Inc.製):100重量部
(2)両末端メチル(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体、SiH基含有ポリシロキサンHMS−071(GELEST Inc.製):4重量部
(3)ビニルトリ(メチルエチルケトキシミン)シラン:3重量部
(4)白金触媒:“SRX−212”(東レダウコーニングシリコーン(株)製):10重量部。
<Composition of silicone rubber layer solution>
(1) α, ω-divinylpolydimethylsiloxane DMS-V42 (weight average molecular weight 72,000, manufactured by GELEST Inc.): 100 parts by weight (2) Both end methyl (methylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer , SiH group-containing polysiloxane HMS-071 (manufactured by GELEST Inc.): 4 parts by weight (3) vinyltri (methylethylketoximine) silane: 3 parts by weight (4) platinum catalyst: “SRX-212” (Toray Dow Corning Silicone ( Co., Ltd.): 10 parts by weight.

(実施例1)
厚さ0.225mmの脱脂したアルミ基板(三菱アルミ(株)製)上に前記プライマー層溶液を塗布し、200℃で1分間乾燥し、膜厚10g/mのプライマー層を設けた。このプライマー層の上に前記感熱層溶液を塗布し、150℃で80秒間乾燥し、膜厚1.5g/mの感熱層を設けた。この感熱層上に、前記シリコーンゴム溶液を塗布し、125℃で80秒間乾燥し、膜厚2.0g/mのシリコーンゴム層を設け、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
Example 1
The primer layer solution was applied on a degreased aluminum substrate (manufactured by Mitsubishi Aluminum Co., Ltd.) having a thickness of 0.225 mm and dried at 200 ° C. for 1 minute to provide a primer layer having a thickness of 10 g / m 2 . The thermosensitive layer solution was applied on the primer layer and dried at 150 ° C. for 80 seconds to provide a thermosensitive layer having a thickness of 1.5 g / m 2 . On the heat-sensitive layer, the silicone rubber solution was applied and dried at 125 ° C. for 80 seconds to provide a silicone rubber layer having a thickness of 2.0 g / m 2 to obtain a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

更に、サムコ株式会社製エッチング装置RIE−10Nを用い、Arガス存在下において、Ar流量30(sccm)、出力RF 0(W)、圧力5.33(Pa)、時間5(分)にて粗面化処理を行い、中心線平均粗さ(Ra)1nmの表面状態を作製した。   Furthermore, using an etching apparatus RIE-10N manufactured by Samco Co., Ltd., in the presence of Ar gas, the flow rate was 30 (sccm), the output RF was 0 (W), the pressure was 5.33 (Pa), and the time was 5 (min). Surface treatment was performed to produce a surface state with a centerline average roughness (Ra) of 1 nm.

更に、シリコーンゴム層表面に6μmのポリプロピレンフィルムをラミネートした。   Further, a 6 μm polypropylene film was laminated on the surface of the silicone rubber layer.

得られた直描型水なし平版印刷版原版を、製版機:TDL−4400(パナソニックCCグラフィックス(株)製)に装着し、半導体レーザー(波長830nm)を用いて1〜99%の網点(175lpi)を照射エネルギー200mJ/cmで露光した。続いて、自動現像機:TWL−860KII(東レ(株)製、前処理部液:なし、現像部液:水、後処理部液:水)により、版搬送速度80cm/分で、上記露光済み版の現像を行い、水なし平版印刷版を得た。得られた水なし平版印刷板の検版性評価を行ったところ、画線部/非画線部間に十分な色コントラストがあり、1〜99%の網点の観察が可能であった。また、網点面積率の評価を行ったところ、5〜95%まで読みとりが可能であった。 The obtained direct-drawing waterless planographic printing plate precursor is mounted on a plate making machine: TDL-4400 (manufactured by Panasonic CC Graphics Co., Ltd.), and a halftone dot of 1 to 99% using a semiconductor laser (wavelength 830 nm). (175 lpi) was exposed with an irradiation energy of 200 mJ / cm 2 . Subsequently, with the automatic developing machine: TWL-860KII (manufactured by Toray Industries, Inc., pre-treatment part liquid: none, development part liquid: water, post-treatment part liquid: water), the above-mentioned exposure is performed at a plate conveyance speed of 80 cm / min The plate was developed to obtain a waterless lithographic printing plate. When the obtained waterless lithographic printing plate was evaluated for plate inspection, there was sufficient color contrast between the image area / non-image area, and a halftone dot of 1 to 99% could be observed. Moreover, when the dot area ratio was evaluated, it was possible to read up to 5 to 95%.

また印刷評価(地汚れ評価)を行ったところ、汚れもなく良好であった。結果を表1、2に示す。   Moreover, when printing evaluation (background stain evaluation) was performed, it was good without contamination. The results are shown in Tables 1 and 2.

(実施例2〜7)
表1に記載のドライエッチング条件でシリコーンゴム層表面を粗面化処理した以外は実施例1と同様の操作で水なしCTP平版印刷版を作製し、評価を行った結果を表1、2に示す。検版性評価、印刷評価(地汚れ評価)、網点面積率評価ともに良好な結果であった。
(Examples 2 to 7)
A waterless CTP lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface of the silicone rubber layer was roughened under the dry etching conditions shown in Table 1, and the evaluation results are shown in Tables 1 and 2 Show. The plate inspection evaluation, printing evaluation (background stain evaluation), and dot area ratio evaluation were good results.

(比較例1〜3)
表1に記載のスパッタリング条件でシリコーンゴム層表面を粗面化処理した以外は実施例1と同様の操作で水なしCTP平版印刷版を作製し、評価を行った結果を表1、2に示す。印刷評価(地汚れ評価)は良好であったが、検版性評価、網点面積率評価は不十分なものであった。
(Comparative Examples 1-3)
A waterless CTP lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface of the silicone rubber layer was roughened under the sputtering conditions shown in Table 1, and the results of evaluation were shown in Tables 1 and 2. . The printing evaluation (background stain evaluation) was good, but the plate inspection evaluation and the dot area ratio evaluation were insufficient.

(比較例4、5)
表1に記載のスパッタリング条件でシリコーンゴム層表面を粗面化処理した以外は実施例1と同様の操作で水なしCTP平版印刷版を作製し、評価を行った結果を表1、2に示す。検版性評価、網点面積率評価は良好であったが、印刷評価(地汚れ評価)は不十分なものであった。
(Comparative Examples 4 and 5)
A waterless CTP lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface of the silicone rubber layer was roughened under the sputtering conditions shown in Table 1, and the results of evaluation were shown in Tables 1 and 2. . The plate inspection evaluation and the dot area ratio evaluation were good, but the printing evaluation (background stain evaluation) was insufficient.

Figure 2009080479
Figure 2009080479

Figure 2009080479
Figure 2009080479

Claims (2)

基板上に、少なくとも感光層または感熱層、およびシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版であって、前記シリコーンゴム層の表面の中心平均粗さ(Ra)が1nm以上100nm以下であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。   A waterless lithographic printing plate precursor having at least a photosensitive layer or a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, the center average roughness (Ra) of the surface of the silicone rubber layer being from 1 nm to 100 nm. A waterless lithographic printing plate precursor. シリコーンゴム層表面がドライエッチング処理により粗面化されてなることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷版原版。   2. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the surface of the silicone rubber layer is roughened by a dry etching process.
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