JP2009069675A

JP2009069675A - Optical scanner, optical scanning device, image forming apparatus and method of manufacturing optical scanner

Info

Publication number: JP2009069675A
Application number: JP2007239938A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Saito; 哲郎齋藤
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2007-09-14
Filing date: 2007-09-14
Publication date: 2009-04-02

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To restrain variation in resonance frequency of an optical scanner. <P>SOLUTION: In this optical scanner, a movable plate 101, a torsion bar 103 and a frame part 105 are integrally formed by working a substrate made of silicon mono-crystal. A recessed part 102 and the torsion bar 103 are worked by an etching process from one face of the substrate. The base of the recessed part 102 is flush with one face (the top in the drawing) of the torsion bar 103. Since the influences of increase/decrease in inertia moment of the movable plate 101 and increase/decrease in spring constant of the torsion bar 103 cancel each other in spite of an etching error, the fluctuation of resonance frequency is restrained to achieve the optical scanner which little varies in resonance frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、微小なミラーを揺動させて光ビームの偏向を行う光スキャナ（光偏向器）、それを用いた光走査装置及び画像形成装置並びに光スキャナの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical scanner (optical deflector) that deflects a light beam by oscillating a minute mirror, an optical scanning device and an image forming apparatus using the optical scanner, and an optical scanner manufacturing method.

レーザー光等の光ビームを走査する光走査装置は、バーコードリーダ、レーザープリンタ、ヘッドマウントディスプレイ等の光学機器に用いられている。この種の光スキャナとして、マイクロマシニング技術を利用した、微小ミラーを揺動させる構成のものが提案されている。 Optical scanning devices that scan light beams such as laser light are used in optical devices such as barcode readers, laser printers, and head mounted displays. As this type of optical scanner, a configuration in which a micromirror is oscillated using micromachining technology has been proposed.

そのような光スキャナの例を図７（ａ）に示す。この光スキャナは、同一直線上に設けた２本の梁としての弾性部材３を回転軸（トーションバー）として支持された可動板であるミラー１と、ミラー１に設けた可動電極８と、可動電極８に対向して固定部材５に設けた固定電極９を有し、可動電極８と固定電極９との間の静電吸引力で、２本の弾性部材３を捻り回転軸としてミラー１を往復振動させることができる。 An example of such an optical scanner is shown in FIG. This optical scanner includes a mirror 1 which is a movable plate supported by elastic members 3 as two beams provided on the same straight line as a rotation axis (torsion bar), a movable electrode 8 provided on the mirror 1, and a movable The fixed electrode 9 is provided on the fixed member 5 so as to face the electrode 8, and the mirror 1 is rotated about the two elastic members 3 by the electrostatic attraction force between the movable electrode 8 and the fixed electrode 9. It can be reciprocated.

図７（ｂ）は、光スキャナをミラー１の断面方向から見た図であり、トーションバー３を捻りの中心としてミラー３が矢印の方向に往復振動する様子を示している。 FIG. 7B is a view of the optical scanner as viewed from the cross-sectional direction of the mirror 1, and shows a state in which the mirror 3 reciprocates in the direction of the arrow with the torsion bar 3 as the center of twisting.

この光スキャナは次のようにして作られる。基板の片面にレジスト膜をスピンコートで形成する。次に、フォトリソグラフィ法で、フレーム部５、ミラー部１、梁部３、可動電極部８、固定電極部９、分離溝６を形成するフォトマスクを用いてレジストを現像定着し、そのパターンを形成したレジスト膜を用いて、ドライエッチング法で形状を形成する。その後、所定の位置に可動電極部８、固定電極部９を形成する。 This optical scanner is manufactured as follows. A resist film is formed on one side of the substrate by spin coating. Next, the resist is developed and fixed by a photolithographic method using a photomask for forming the frame portion 5, the mirror portion 1, the beam portion 3, the movable electrode portion 8, the fixed electrode portion 9, and the separation groove 6. A shape is formed by a dry etching method using the formed resist film. Thereafter, the movable electrode portion 8 and the fixed electrode portion 9 are formed at predetermined positions.

このような光スキャナを複数個用いる図８に示すような光走査装置が提案されている。図示のように、ベース３１上に複数の光スキャナ４が配備されている。３０は光スキャナ４に駆動電圧を印加する駆動装置である。２８はレーザー光源、２９は光スキャナ４のミラー１により反射されたレーザービームである。 An optical scanning device as shown in FIG. 8 using a plurality of such optical scanners has been proposed. As illustrated, a plurality of optical scanners 4 are provided on the base 31. A driving device 30 applies a driving voltage to the optical scanner 4. 28 is a laser light source, and 29 is a laser beam reflected by the mirror 1 of the optical scanner 4.

このような光走査装置を用いた画像形成装置として、図９に示すようなレーザープリンタが提案されている。このレーザープリンタ６６は、図８に示した光走査装置６０と、光走査装置６０のミラー１により偏向された反射レーザー光により静電潜像が形成される感光体６５と、感光体６５に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像手段６２と、感光体６５上に形成されたトナー像を被記録体に転写するための転写手段６３と、被記録体を画像形成部に供給するための被記録体供給手段６４と、被記録体上のトナー像を定着させるための定着手段６７とを備える。 As an image forming apparatus using such an optical scanning device, a laser printer as shown in FIG. 9 has been proposed. The laser printer 66 includes the optical scanning device 60 shown in FIG. 8, a photosensitive member 65 on which an electrostatic latent image is formed by reflected laser light deflected by the mirror 1 of the optical scanning device 60, and the photosensitive member 65. Developing means 62 for developing the electrostatic latent image thus formed with toner, transfer means 63 for transferring the toner image formed on the photosensitive member 65 to the recording medium, and supplying the recording medium to the image forming section. And a fixing unit 67 for fixing the toner image on the recording medium.

図１０は、レーザープリンタ６６の光走査装置６０と感光体６５を上から見た図である。光スキャナ４が主走査方向に複数配置されている。レーザー光源２８は、画像信号生成装置（図示せず）による画像信号に基づき発光する。レーザー光源２８より照射されるレーサービームは、光走査装置６０に入射する。光走査装置６０のミラー１により偏向された反射レーザー光２９が感光体６５を走査し静電潜像を形成する。 FIG. 10 is a view of the optical scanning device 60 and the photosensitive member 65 of the laser printer 66 as viewed from above. A plurality of optical scanners 4 are arranged in the main scanning direction. The laser light source 28 emits light based on an image signal from an image signal generation device (not shown). The laser beam irradiated from the laser light source 28 enters the optical scanning device 60. The reflected laser beam 29 deflected by the mirror 1 of the optical scanning device 60 scans the photosensitive member 65 to form an electrostatic latent image.

このような画像形成装置では、光走査装置６０を構成する光スキャナの共振周波数のばらつきが問題となる。光スキャナの共振周波数ｆ０は例えば図１１のように、ばらつきがある。このような共振周波数のばらつきについて、図７（ａ）に示した構成の光スキャナを例に説明する。 In such an image forming apparatus, variations in the resonance frequency of the optical scanner constituting the optical scanning device 60 becomes a problem. The resonance frequency f0 of the optical scanner varies as shown in FIG. Such variations in resonance frequency will be described by taking an optical scanner having the configuration shown in FIG. 7A as an example.

ミラー１の共振周波数ｆ０は概略次式で表される。
ｆ０＝１／２π√（Ｋ／Ｉ）・・・（１）
但し、Ｉはミラー１の慣性モーメント、Ｋは２本の弾性部材（トーションバー）３によって決まるバネ定数である。慣性モーメントＭは、ミラー１の形状と、その材料の比重により決まる。バネ定数Ｋは、トーションバー３の形状と、その材料の弾性定数によって決まる。 The resonance frequency f0 of the mirror 1 is roughly expressed by the following equation.
f0 = 1 / 2π√ (K / I) (1)
Here, I is the moment of inertia of the mirror 1 and K is a spring constant determined by two elastic members (torsion bars) 3. The moment of inertia M is determined by the shape of the mirror 1 and the specific gravity of the material. The spring constant K is determined by the shape of the torsion bar 3 and the elastic constant of the material.

このような光スキャナは、前述したように、フォトリソグラフィによるエッチングマスクの形成と、そのエッチングマスクを用いたエッチングで形状を形成することが一般に行われる。形状形成時の形状のばらつきは、ミラーの慣性モーメント、トーションバーのバネ定数のばらつきを生じさせ、その結果、式１で示される共振周波数ｆ０のばらつきが生じることになる。複数の光スキャナを有する光走査装置６０において、各光スキャナ間でミラー１の共振周波数ｆ０にばらつきがあると、図７（ｂ）に示すミラーの振れ角θにばらつきを生じ、各光スキャナで作成される画像の継ぎ目に乱れが生じ良好な画像を得られない。 As described above, such an optical scanner is generally formed by forming an etching mask by photolithography and etching using the etching mask. The variation in shape at the time of shape formation causes variation in the moment of inertia of the mirror and the spring constant of the torsion bar, and as a result, variation in the resonance frequency f0 expressed by Equation 1 occurs. In the optical scanning device 60 having a plurality of optical scanners, if the resonance frequency f0 of the mirror 1 varies among the optical scanners, the mirror deflection angle θ shown in FIG. Disturbances occur in the seam of the created images, and a good image cannot be obtained.

さて、高速動作を必要とする機械要素においては、その慣性が駆動スピードの大きな阻害要素となる。特に、所定角度内を回動振動する機械要素では慣性モーメントを低減する必要があるが、その際、駆動する機械要素の剛性を低下させないように配慮するのが一般的である。そのような目的で、機械要素を中空構造とする方法や補強材（以下、リブという）を固着する方法等が広く知られている。 Now, in a mechanical element that requires high-speed operation, its inertia becomes a large impediment to driving speed. In particular, it is necessary to reduce the moment of inertia in a mechanical element that rotates and vibrates within a predetermined angle. However, in this case, consideration is generally given so as not to lower the rigidity of the driven mechanical element. For such a purpose, a method of making a mechanical element a hollow structure, a method of fixing a reinforcing material (hereinafter referred to as a rib), and the like are widely known.

前述したような、光スキャナもしくは光偏向器をレーザビームプリンタ、ヘッドマウントディスプレイ等の画像表示装置やバーコードリーダ等の入力デバイスの光取り入れ装置等に用いる場合においても、微小ミラーには、高速駆動と高剛性という２つの性能が求められる。特に、微小ミラーの剛性が不足している場合、駆動時に微小ミラーが自重による慣性力を受けてミラー面が大きく撓んでしまう。この動撓みは、ミラーの光学特性を著しく低下させ、光偏向器の性能を損なってしまう。また、この種の光偏向器においてはアクチュエータの駆動力が制限される場合が多く、高速駆動のために弾性支持部のバネ剛性を高くすると、偏向角が著しく低下してしまうという課題がある。そのため、可動部分である微小ミラーの慣性モーメントを低減させる必要がある。 Even when the optical scanner or deflector as described above is used in an image display device such as a laser beam printer or a head-mounted display, or a light input device of an input device such as a barcode reader, the micromirror is driven at high speed. And high rigidity are required. In particular, when the micro mirror has insufficient rigidity, the micro mirror receives an inertial force due to its own weight during driving, and the mirror surface is greatly bent. This dynamic deflection significantly deteriorates the optical characteristics of the mirror and impairs the performance of the optical deflector. Further, in this type of optical deflector, the driving force of the actuator is often limited, and there is a problem that if the spring rigidity of the elastic support portion is increased for high-speed driving, the deflection angle is remarkably lowered. Therefore, it is necessary to reduce the moment of inertia of the micromirror that is a movable part.

従来、微小ミラーの慣性モーメントを低減するための様々な提案がなされている。 Conventionally, various proposals have been made to reduce the moment of inertia of a micromirror.

図１２は、特許文献１における提案のひとつを示している。図１２において、光偏向器１は支持基板２に可動板６の両端がねじり揺動運動軸に相当する弾性支持体（ねじりバネ）３で支持された構造となっている。ねじりバネ３は可動板６をＣ軸（つまりねじり軸）を中心に弾性的にＥ方向、つまり時計回り方向と反時計回り方向の両方向にねじれ振動自在に支持するものである。また、可動板６の一方の面は反射面４（図中裏面側で不図示）となっていて、可動板６のＥ方向のねじれにより反射面４に入射する入射光を所定変位角偏向するものである。なお、可動板６はその両側がそれぞれねじりバネ３と接続しているため、支持基板２によって支持されている。また可動板６は、ねじり揺動するがＣ軸を中心に回転はしない。また図中、Ｄで示す矢印方向は、ねじり軸Ｃと垂直で可動板６の反射面４が形成される面と平行な向きを示しており、特に、Ｄの矢印方向を「ねじり軸から離れる方向」とする。ここで、可動板６にＤ方向を法線とする面（以下側面と称するがこの側面とは可動板６のうち反射面即ち本図において不図示である裏面に対する側面のこと）が陥没状になるように凹部５Ａが形成され、可動板６の反射面４が形成されない面（以下こちらの面を裏面と称す）には、ねじり軸の両側に陥没状の構造となるように複数の凹部５Ｂ，５Ｃが形成されている。従って、可動板６はねじり軸Ｃ付近が最も肉厚であり、ねじり軸Ｃ上、つまり可動板６裏面のうちねじりバネ３の延長上に位置する領域には凹部は設けられていない。そして反射面４を支える可動板６の質量はねじり軸から離れるに従って小さくなっている。このような構成にすることで可動板６（ミラー）の慣性モーメントを減少させる。 FIG. 12 shows one of the proposals in Patent Document 1. In FIG. 12, the optical deflector 1 has a structure in which both ends of a movable plate 6 are supported on a support substrate 2 by an elastic support (torsion spring) 3 corresponding to a torsional swing motion axis. The torsion spring 3 elastically supports the movable plate 6 about the C-axis (that is, the torsion axis) in a torsional vibration manner in the E direction, that is, in both the clockwise and counterclockwise directions. Also, one surface of the movable plate 6 is a reflective surface 4 (not shown on the back side in the figure), and incident light incident on the reflective surface 4 is deflected by a predetermined displacement angle by twisting of the movable plate 6 in the E direction. Is. The movable plate 6 is supported by the support substrate 2 because both sides thereof are connected to the torsion spring 3. The movable plate 6 is torsionally swung but does not rotate around the C axis. In the drawing, the arrow direction indicated by D indicates a direction perpendicular to the torsion axis C and parallel to the surface on which the reflecting surface 4 of the movable plate 6 is formed. In particular, the arrow direction D is “away from the torsion axis”. Direction. Here, the surface of the movable plate 6 whose normal is the D direction (hereinafter referred to as a side surface, this side surface is the reflective surface of the movable plate 6, that is, the side surface with respect to the back surface not shown in the figure) is depressed. On the surface where the reflecting surface 4 of the movable plate 6 is not formed (hereinafter, this surface is referred to as the back surface), a plurality of recessed portions 5B are formed so as to have a depressed structure on both sides of the torsion shaft. , 5C are formed. Therefore, the movable plate 6 is thickest in the vicinity of the torsion axis C, and no recess is provided in the region located on the extension of the torsion spring 3 on the torsion axis C, that is, on the back surface of the movable plate 6. The mass of the movable plate 6 that supports the reflecting surface 4 decreases as the distance from the torsion axis increases. With this configuration, the moment of inertia of the movable plate 6 (mirror) is reduced.

図１３は特許文献１における別の提案を示し、図１２の場合と同様にミラーの裏面にリブ部５Ａ’，５Ｂ‘、５Ｃ’等を形成している。更に、図１４に示すように、リブの深さを場所により変えて慣性モーメントを減少させる。 FIG. 13 shows another proposal in Patent Document 1, and rib portions 5A ′, 5B ′, 5C ′ and the like are formed on the back surface of the mirror as in the case of FIG. Further, as shown in FIG. 14, the moment of inertia is reduced by changing the depth of the rib depending on the location.

図１５は特許文献１における別の提案を示している。ミラーの裏面に段差４を形成し、この段差を階段状にすることによって場所によりリブの深さを変え、慣性モーメントを減少させる。 FIG. 15 shows another proposal in Patent Document 1. A step 4 is formed on the back surface of the mirror, and by making this step a stepped shape, the depth of the rib is changed depending on the place, and the moment of inertia is reduced.

図１６は特許文献２における提案を示している。ミラー基板３の裏側に、複数の凹部７を形成する。複数の凹部７はシリコン部材で形成される。複数の凹部７は、複数のリブ８と底板部により構成される。この提案では曲げ剛性分布が一定となるように、各領域ｊの凹部７の大きさを変える。 FIG. 16 shows a proposal in Patent Document 2. A plurality of recesses 7 are formed on the back side of the mirror substrate 3. The plurality of recesses 7 are formed of a silicon member. The plurality of recesses 7 are constituted by a plurality of ribs 8 and a bottom plate portion. In this proposal, the size of the recess 7 in each region j is changed so that the bending stiffness distribution is constant.

図１７は特許文献２における別の提案を示している。ミラー基板３の裏側に、ある一定の曲げ剛性分布となるように階段状の複数の領域６を配置する。なお、階段状の複数の領域６はシリコン部材で形成される。 FIG. 17 shows another proposal in Patent Document 2. A plurality of step-like regions 6 are arranged on the back side of the mirror substrate 3 so as to have a certain bending rigidity distribution. The plurality of step-like regions 6 are formed of a silicon member.

特許第３７４０４４４号公報Japanese Patent No. 3740444 特開２００５−３００９２７号公報JP 2005-3000927 A

しかし、以上のようなミラー部分の慣性モーメントの軽減策には以下のような問題がある。 However, the above-described measures for reducing the moment of inertia of the mirror portion have the following problems.

トーションバーの厚さに関し、特許文献１には次の記載がある。
「光偏向器は、例えば、反射面４が１ｍｍ×１ｍｍの大きさとし、光の最大偏向角が約３５度、光偏向器の共振周波数が約２２ｋＨｚで、ねじりバネ３の幅が７５μｍ、ねじりバネ３の片側の長さが３０００μｍとなっている。可動板６とねじりバネ３の厚さは支持基板２の厚さと同じの２００μｍとなっているが、ねじりバネ３の形成予定部分を形成前にエッチングにより掘り下げておくことにより、ねじりバネ３の厚さをより薄く構成することも可能である。その場合、ねじりバネ３の長さをより短く設定することができる。」
すなわち、元となる基板の厚さをそのまま使うか、またはエッチング等でトーションバーの厚さを薄くなるようにするということである。そのため、トーションバーの厚さは、ミラーのリブの深さを決める工程とは別の工程によって決まる。 Regarding the thickness of the torsion bar, Patent Document 1 has the following description.
“The optical deflector has, for example, a reflecting surface 4 having a size of 1 mm × 1 mm, a maximum light deflection angle of about 35 degrees, a resonance frequency of the optical deflector of about 22 kHz, a torsion spring 3 having a width of 75 μm, and a torsion spring. The length of one side of 3 is 3000 μm, and the thickness of the movable plate 6 and the torsion spring 3 is 200 μm, which is the same as the thickness of the support substrate 2. It is also possible to make the thickness of the torsion spring 3 thinner by digging down by etching, in which case the length of the torsion spring 3 can be set shorter.
That is, the thickness of the original substrate is used as it is, or the thickness of the torsion bar is reduced by etching or the like. For this reason, the thickness of the torsion bar is determined by a process different from the process of determining the depth of the rib of the mirror.

そこで、従来の提案でミラーの裏面にリブ構造を設ける場合、リブの深さは加工のエッチング工程で決定される。しかし、一般にエッチングで所定の深さを加工形成する場合には、エッチング深さの誤差が出ることは避けられない。 Therefore, when a rib structure is provided on the back surface of the mirror according to the conventional proposal, the depth of the rib is determined by a processing etching process. However, in general, when a predetermined depth is formed by etching, an error in the etching depth is unavoidable.

前述のように、エッチングにより主たる形状を形成するマイクロスキャナはエッチング時のエッチング量のバラツキによる形状の誤差で共振周波数がばらつくが、リブのエッチング加工時に加工深さのバラツキが生じると、それによりミラー部分の慣性モーメントも変動してしまう。 As described above, the microscanner that forms the main shape by etching varies the resonance frequency due to the shape error due to the variation in the etching amount during etching, but if the processing depth varies during the etching of the rib, this causes the mirror The moment of inertia of the part also fluctuates.

図１８にリブ加工の誤差による周波数変動の例を示す。ミラーの厚さ約２００μｍ、リブの深さが１６０μｍ、慣性モーメントが１．７８×１０^−５（ｋｇｆ・ｓ２／ｃｍ）、バネ定数６３４０．６（ｋｇｆ・ｃｍ／ｒａｄ）、共振周波数が３００３Ｈｚの設計であるが、リブの加工誤差により±１０μｍリブ深さの変動があると、±４０Ｈｚの共振周波数のばらつきが生じる。 FIG. 18 shows an example of frequency variation due to rib machining errors. The mirror thickness is about 200 μm, the rib depth is 160 μm, the moment of inertia is 1.78 × 10 ⁻⁵ (kgf · s 2 / cm), the spring constant is 6340.6 (kgf · cm / rad), and the resonance frequency is 3003 Hz. Although it is a design, if there is a variation of ± 10 μm rib depth due to a rib processing error, a variation in resonance frequency of ± 40 Hz occurs.

上記問題点に鑑み、本発明は、部材の加工精度のばらつきが起因して発生するミラーの共振周波数のばらつきを抑制した光スキャナを提供すること、かかるスキャナの好適な製造方法を提供すること、かかるスキャナを用いた動作の安定した光走査装置を提供すること、かかる光走査装置を用い良好な画質の画像形成を行う画像形成装置を提供することを目的とする。 In view of the above problems, the present invention provides an optical scanner that suppresses variations in resonance frequency of mirrors caused by variations in processing accuracy of members, and provides a suitable method for manufacturing such a scanner. It is an object of the present invention to provide an optical scanning device that operates stably using such a scanner, and an image forming device that forms an image with good image quality using such an optical scanning device.

請求項１に記載の発明は、
基板を加工することにより、可動板、フレーム部、及び、前記可動板を前記フレーム部に支持するトーションバーが一体的に形成されてなり、前記トーションバーを捻り回転軸として前記可動板が往復振動する光スキャナであって、
前記可動板の反射面と反対側の面に、前記基板の第１の面側から加工された所定の深さの凹部を有し、
前記基板の第１の面側の前記トーションバーの面と、前記凹部の底面とが、前記基板の厚み方向の同一位置にあることを特徴とする光スキャナである。 The invention described in claim 1
By processing the substrate, a movable plate, a frame portion, and a torsion bar that supports the movable plate on the frame portion are integrally formed, and the movable plate reciprocally vibrates using the torsion bar as a rotational axis. An optical scanner that
On the surface opposite to the reflective surface of the movable plate, there is a recess having a predetermined depth processed from the first surface side of the substrate,
In the optical scanner, the surface of the torsion bar on the first surface side of the substrate and the bottom surface of the concave portion are located at the same position in the thickness direction of the substrate.

かかる構成の光スキャナにおいては、凹部形成の加工工程で加工が設定より進み（オーバーエッチング）、凹部低部が設計より薄くなり凹部を含む可動板の慣性モーメントが設計値より小さくなっても、同時にトーションバーの基板厚さ方向のサイズも短くなり、トーションバーの断面積が小さくなってトーションバーのバネ定数も小さくなるため、光スキャナの共振周波数の変動幅を小さくすることが可能になる。 In the optical scanner having such a configuration, even if the processing progresses from the setting in the processing step of forming the recess (over-etching), the lower portion of the recess is thinner than the design and the moment of inertia of the movable plate including the recess is smaller than the design value, Since the size of the torsion bar in the substrate thickness direction is shortened, the cross-sectional area of the torsion bar is reduced and the spring constant of the torsion bar is also reduced, the fluctuation range of the resonance frequency of the optical scanner can be reduced.

また、凹部形成の加工工程で加工程が設定より遅れ（アンダーエッチング）、凹部低部が設計より厚くなり凹部を含む可動板の慣性モーメントが設計値より大きくなっても、同時にトーションバーの基板厚さ方向のサイズも長くなり、トーションバーの断面積が大きくなってトーションバーのバネ定数が大きくなるため、光スキャナの共振周波数の変動幅を小さくすることが可能になる。 In addition, even if the additional process is delayed (under etching) in the process of forming the recess, the lower part of the recess is thicker than the design, and the moment of inertia of the movable plate including the recess is greater than the design value. The size in the vertical direction is also increased, the sectional area of the torsion bar is increased, and the spring constant of the torsion bar is increased, so that the fluctuation range of the resonance frequency of the optical scanner can be reduced.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光スキャナにおいて、
前記可動板の慣性モーメントの設計値をＩ、前記トーションバーのバネ定数の設計値をＫ、前記凹部及び前記トーションバネの前記基板の厚さ方向の加工誤差をΔＤとするとき、
前記加工誤差ΔＤにより生じる前記可動板の慣性モーメントの設計値との差ΔＩと前記トーションバーのバネ定数の設計値との差ΔＫが、
ΔＩ＝（ΔＫ／Ｋ）Ｉ
となるような前記凹部の底面積と前記トーションバーの被加工面積の関係を有することを特徴とする光スキャナである。 The invention according to claim 2 is the optical scanner according to claim 1,
When the design value of the moment of inertia of the movable plate is I, the design value of the spring constant of the torsion bar is K, and the processing error in the thickness direction of the substrate of the recess and the torsion spring is ΔD,
The difference ΔK between the design value of the moment of inertia of the movable plate caused by the machining error ΔD and the design value of the spring constant of the torsion bar is:
ΔI = (ΔK / K) I
The optical scanner has a relationship between the bottom area of the recess and the to-be-processed area of the torsion bar.

かかる構成の光スキャナにおいては、凹部形成の加工工程で加工が設定からずれ（オーバーエッチング又はアンダーエッチング）、凹部の深さが設計よりΔＤだけずれ、それにより凹部を含む可動板の慣性モーメントが設計値よりΔＩだけずれても、同時にトーションバーの基板厚さ方向のサイズもΔＤだけずれ、それによりトーションバーのバネ定数もΔＫだけずれる。そして、ΔＩ＝（ΔＫ／Ｋ）Ｉの関係を満たすので
Ｋ＋ΔＫ／Ｉ＋ΔＩ＝Ｋ／Ｉ
となるため、光スキャナの共振周波数の変動を効果的に抑制することが可能になる。 In the optical scanner having such a configuration, the processing is shifted from the setting (overetching or underetching) in the processing step of forming the concave portion, and the depth of the concave portion is shifted by ΔD from the design. Even if it deviates by ΔI from the value, the size of the torsion bar in the substrate thickness direction also deviates by ΔD, and the spring constant of the torsion bar deviates by ΔK. Since ΔI = (ΔK / K) I is satisfied, K + ΔK / I + ΔI = K / I
Therefore, it is possible to effectively suppress fluctuations in the resonance frequency of the optical scanner.

請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の光スキャナの製造方法であって、前記前記基板の第１の面側の前記トーションバーの面と前記凹部の底面とを、同一の加工工程によって形成することを特徴とする製造方法である。また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の製造方法において、前記加工工程はエッチング工程であることを特徴とする製造方法である。 The invention according to claim 3 is the method of manufacturing the optical scanner according to claim 1, wherein the surface of the torsion bar on the first surface side of the substrate and the bottom surface of the recess are processed in the same manner. It is a manufacturing method characterized by forming by a process. The invention according to claim 4 is the manufacturing method according to claim 3, wherein the processing step is an etching step.

このように、同一の加工工程での加工誤差は凹部形成とトーションバー形成の両方に均等であるため、共振振動数のばらつきの少ない光スキャナを作成できる。 As described above, since the processing error in the same processing step is equal to both the concave portion formation and the torsion bar formation, it is possible to create an optical scanner with little variation in resonance frequency.

請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の光スキャナと、該光スキャナに光を照射する光源とを有することを特徴とする光走査装置である。光スキャナの共振周波数のばらつきが小さいため、駆動周波数のばらつきの少ない光走査装置を実現できる。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an optical scanning device comprising the optical scanner according to the first aspect and a light source for irradiating the optical scanner with light. Since the variation in the resonance frequency of the optical scanner is small, an optical scanning device with little variation in the driving frequency can be realized.

請求項６に記載の発明は、前記光スキャナ及び前記光源を複数組有することを特徴とする請求項５に記載の光走査装置である。それぞれの光スキャナの共振周波数のばらつきが小さく駆動周波数が揃うため、各光スキャナによる走査の継ぎ目の乱れの少ない光走査装置を実現できる。 The invention according to claim 6 is the optical scanning device according to claim 5, wherein the optical scanner has a plurality of sets of the optical scanner and the light source. Since the variation of the resonance frequency of each optical scanner is small and the driving frequency is uniform, an optical scanning device with less disturbance of the scanning seam by each optical scanner can be realized.

また、請求項７に記載の発明は、請求項５又は６に記載の光走査装置と、該光走査装置により走査されて静電潜像が形成される感光体と、該静電潜像をトナー像にする現像手段と、該トナー像を用紙に転写する転写手段とを備えることを特徴とする画像形成装置である。光走査装置の駆動周波数のバラツキが少なく、また、各光スキャナによる走査の継ぎ目の乱れが少ないため、安定した性能の画像形成装置を実現できる。 According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an optical scanning device according to the fifth or sixth aspect, a photoconductor that is scanned by the optical scanning device to form an electrostatic latent image, and the electrostatic latent image. An image forming apparatus comprising: a developing unit that forms a toner image; and a transfer unit that transfers the toner image onto a sheet. Since there is little variation in the driving frequency of the optical scanning device and there is little disturbance in the scanning seams by each optical scanner, an image forming apparatus with stable performance can be realized.

以上に述べたように、本発明によれば、共振周波数のばらつきの小さい光スキャナを提供することができ、かかるスキャナの好適な製造方法を提供することができ、かかるスキャナを用いた動作の安定した光走査装置を提供することができ、また、かかる光走査装置を用い良好な画質の画像形成を行う画像形成装置を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide an optical scanner with a small variation in resonance frequency, to provide a suitable manufacturing method for such a scanner, and to stabilize operation using such a scanner. In addition, it is possible to provide an image forming apparatus that can form an image with good image quality using the optical scanning apparatus.

以下、本発明の実施形態について添付図面を用い説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図１及び図２は本発明の光スキャナの斜視図及び平面図である。図３は、図２のＡ−Ａ’断面図である。なお、図１乃至図３は光スキャナの主要部のみを示すものであって、駆動用電極等は省略されている。 1 and 2 are a perspective view and a plan view of the optical scanner of the present invention. 3 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. 2. 1 to 3 show only the main part of the optical scanner, and drive electrodes and the like are omitted.

この光スキャナは、シリコン単結晶の基板を用い一体的に形成されるものであって、ミラー部材としての可動板１０１、フレーム部１０５と、可動板１０１をフレーム部１０５に揺動可能に支持する一対のトーションバー３とを備える。可動板１０１の一方の面には反射面１０４が形成され、その反対側の面１０６には断面矩形の複数の凹部１０２が形成されている。各凹部１０２の壁部がリブとして作用する。 This optical scanner is integrally formed using a silicon single crystal substrate, and supports a movable plate 101 and a frame portion 105 as mirror members, and the movable plate 101 swingably supported on the frame portion 105. And a pair of torsion bars 3. A reflective surface 104 is formed on one surface of the movable plate 101, and a plurality of concave portions 102 having a rectangular cross section are formed on the opposite surface 106. The wall part of each recessed part 102 acts as a rib.

トーションバー１０３と凹部１０２は基板の同一面側から同一工程で加工されることにより、図３に示すように、凹部１０２の底面１０９と可動板１０１の反射面１０４との距離１０８（凹部底部の厚さ）と、トーションバー１０３の厚さ（基板厚み方向のサイズ）１０７は等しくなっている。換言すれば、凹部１０２の底面１０９とトーションバー１０３の一面（図３における上面）が基板厚さ方向の同一位置にある。 The torsion bar 103 and the recess 102 are processed in the same process from the same surface side of the substrate, and as shown in FIG. 3, the distance 108 between the bottom surface 109 of the recess 102 and the reflecting surface 104 of the movable plate 101 (the bottom of the recess). The thickness) and the thickness (size in the substrate thickness direction) 107 of the torsion bar 103 are equal. In other words, the bottom surface 109 of the recess 102 and one surface (the upper surface in FIG. 3) of the torsion bar 103 are at the same position in the substrate thickness direction.

また、トーションバー１０３の上部１１０の形状と凹部の底面９の面積について、請求項２の関係、すなわちΔＩ＝（ΔＫ／Ｋ）Ｉを満たすように、トーションバー１０３と凹部１０２が設計されている。 Further, the torsion bar 103 and the recess 102 are designed so as to satisfy the relationship of claim 2 regarding the shape of the upper portion 110 of the torsion bar 103 and the area of the bottom surface 9 of the recess, that is, ΔI = (ΔK / K) I. .

次に、この光スキャナの製作方法について説明する。 Next, a method for manufacturing this optical scanner will be described.

［製作方法１］
図４を参照し、本発明の光スキャナの製作方法１について説明する。 [Production Method 1]
With reference to FIG. 4, the manufacturing method 1 of the optical scanner of this invention is demonstrated.

工程（ａ）：シリコン単結晶の基板２２０の片面にレジスト膜をスピンコートで形成し、その後、フォトリソグラフィ法で、フレーム部１０５、可動板１０１を形成するためのフォトマスクを用いてレジストを現像定着することにより、パターニングされたレジスト膜２２０を形成する。 Step (a): A resist film is formed on one surface of a silicon single crystal substrate 220 by spin coating, and then the resist is developed by photolithography using a photomask for forming the frame portion 105 and the movable plate 101. By fixing, a patterned resist film 220 is formed.

工程（ｂ）：このレジスト膜２２０をマスクとして用いて、ドライエッチング法で基板が貫通するまでエッチングし、可動板１０１、フレーム部１０５、トーションバー１０３を形成する。この時点では、トーションバー１０７は可動板１０１及びフレーム部１０５と同じ厚さである。このレジスト膜の残りはエッチング加工後に除去する。 Step (b): Using this resist film 220 as a mask, etching is performed by dry etching until the substrate penetrates to form the movable plate 101, the frame portion 105, and the torsion bar 103. At this time, the torsion bar 107 has the same thickness as the movable plate 101 and the frame portion 105. The remaining resist film is removed after the etching process.

工程（ｃ）：可動板１０１、フレーム部１０５、トーションバー１０３の加工が済んだ基板に更にレジスト膜をスピンコートで形成し、その後、フォトリソグラフィ法で、凹部１０２、トーションバー１０７を形成するためのフォトマスクを用いてレジストを現像定着し、パターニングされたレジスト膜２３０を形成する。 Step (c): A resist film is further formed by spin coating on the substrate on which the movable plate 101, the frame portion 105, and the torsion bar 103 have been processed, and then the recess 102 and the torsion bar 107 are formed by photolithography. The resist is developed and fixed using the photomask, and a patterned resist film 230 is formed.

工程（ｄ）：このレジスト膜２３０を用いて、ドライエッチング法で所定の深さまでエッチングし、凹部１０２を形成する。このときに、トーションバー１０３も所定の深さまでエッチングされるため、トーションバー１０３の上面と凹部１０２の底面は同じ高さ位置にある。 Step (d): The resist film 230 is used to etch the resist film 230 to a predetermined depth by dry etching, thereby forming the recess 102. At this time, since the torsion bar 103 is also etched to a predetermined depth, the upper surface of the torsion bar 103 and the bottom surface of the recess 102 are at the same height.

工程（ｅ）：レジスト膜の残りをエッチング加工後に除去する。これで、反射面１０４を形成すれば図１乃至図３に示した光スキャナを得られる。 Step (e): The remaining resist film is removed after etching. Thus, if the reflecting surface 104 is formed, the optical scanner shown in FIGS. 1 to 3 can be obtained.

なお、工程（ｅ）でエッチング誤差が生じ、凹部１０２の底部の厚さに誤差が生じても、トーションバー１０３の厚さに同じ誤差が生じるため、ミラー部である可動板１０１の慣性モーメントへの加工誤差の影響とトーションバー１０３のバネ定数への加工誤差による影響は相殺され、したがって光スキャナの共振周波数の変動は抑えられる。 Even if an etching error occurs in the step (e) and an error occurs in the thickness of the bottom of the recess 102, the same error occurs in the thickness of the torsion bar 103. The influence of the machining error and the influence of the machining error on the spring constant of the torsion bar 103 are canceled out, and hence the fluctuation of the resonance frequency of the optical scanner can be suppressed.

［製作方法２］
図５を参照し、本発明の光スキャナの製作方法２について説明する。 [Production method 2]
With reference to FIG. 5, the manufacturing method 2 of the optical scanner of this invention is demonstrated.

工程（ａ）：シリコン単結晶の基板３１０の片面にレジスト膜をスピンコートで形成し、その後、フォトリソグラフィ法で、凹部１０２、トーションバー１０７を形成するためのフォトマスクを用いてレジストを現像定着し、パターニングされたレジスト膜３３０を形成する。 Step (a): A resist film is formed on one surface of a silicon single crystal substrate 310 by spin coating, and then the resist is developed and fixed by a photolithography method using a photomask for forming the recess 102 and the torsion bar 107. Then, a patterned resist film 330 is formed.

工程（ｂ）：このレジスト膜３３０を用いて、ドライエッチング法で所定の深さまでエッチングし、凹部１０２、トーションバー１０３の上面を形成する。このレジスト膜の残りはエッチング加工後に除去する。凹部１０２の底面とトーションバー１０３の上面は同じ高さ位置になる。 Step (b): Using this resist film 330, etching is performed to a predetermined depth by a dry etching method to form the upper surfaces of the recess 102 and the torsion bar 103. The remaining resist film is removed after the etching process. The bottom surface of the recess 102 and the top surface of the torsion bar 103 are at the same height.

工程（ｃ）：加工後の基板に更にレジスト膜をスピンコートで形成し、その後、フォトリソグラフィ法で、フレーム部１０５、可動板１０１を形成するためのフォトマスクを用いてレジストを現像定着し、パターンニングされたレジスト膜３２０を形成する。 Step (c): A resist film is further formed on the processed substrate by spin coating, and then the resist is developed and fixed by a photolithographic method using a photomask for forming the frame portion 105 and the movable plate 101. A patterned resist film 320 is formed.

工程（ｄ）このレジスト膜３２０を用いて、ドライエッチング法で基板を貫通するまでエッチングし、可動板１０１、フレーム部１０５、トーションバー１０７を形成する。 Step (d) Using this resist film 320, etching is performed by a dry etching method until it penetrates the substrate, thereby forming the movable plate 101, the frame portion 105, and the torsion bar 107.

工程（ｅ）レジスト膜の残りをエッチング加工後に除去する。これで、反射面１０４を形成すれば図１乃至図３に示した光スキャナを得られる。 Step (e) The remaining resist film is removed after etching. Thus, if the reflecting surface 104 is formed, the optical scanner shown in FIGS. 1 to 3 can be obtained.

この製作方法においても、工程（ｂ）でエッチング誤差により凹部１０２の底部の厚さに誤差が生じても、トーションバー１０３の厚さにも同じ誤差を生じるため、可動板１０１の慣性モーメントへの加工誤差の影響とトーションバー１０３のバネ定数への加工誤差による影響は相殺され、したがって光スキャナの共振周波数の変動は抑えられる。 Even in this manufacturing method, even if an error occurs in the thickness of the bottom of the recess 102 due to an etching error in the step (b), the same error occurs in the thickness of the torsion bar 103. The influence of the machining error and the influence of the machining error on the spring constant of the torsion bar 103 are canceled out, and therefore the fluctuation of the resonance frequency of the optical scanner can be suppressed.

［製作方法３］
図６を参照し、本発明の光スキャナの製作方法３について説明する。 [Production Method 3]
With reference to FIG. 6, the manufacturing method 3 of the optical scanner of this invention is demonstrated.

工程（ａ）：シリコン単結晶の基板４１０の片面に酸化シリコン膜を形成し、更にその上にレジスト膜をスピンコートで形成し、その後、フォトリソグラフィ法で、フレーム部１０５、可動板１０１、トーションバー１０７、凹部１０２を形成するフォトマスクを用いてレジストを現像定着し、その後、そのレジストマスクを用いて酸化シリコン膜をエッチングし、パターニングされた酸化シリコン膜マスク４４０を形成する。この酸化シリコン膜マスク４０は、可動板１０１とフレーム部１０５との分離部及びトーションバー１０７の外周は貫通しているが、凹部１０２とトーションバー１０７の上面は途中の深さまでエッチングされている２段エッチング用のマスクである。 Step (a): A silicon oxide film is formed on one surface of a silicon single crystal substrate 410, a resist film is further formed thereon by spin coating, and then the frame portion 105, the movable plate 101, and the torsion are formed by photolithography. The resist is developed and fixed using a photomask for forming the bar 107 and the recess 102, and then the silicon oxide film is etched using the resist mask to form a patterned silicon oxide film mask 440. The silicon oxide film mask 40 penetrates the separation part of the movable plate 101 and the frame part 105 and the outer periphery of the torsion bar 107, but the upper surface of the concave part 102 and the torsion bar 107 is etched to a halfway depth. It is a mask for step etching.

工程（ｂ）：この酸化シリコン膜マスク４０を用いて、ドライエッチング法で、フレーム部１０５と可動板１０１との分離部をエッチングする。この場合、エッチングによりシリコン基板がエッチングされるが、同時に酸化シリコン膜マスク４４０もエッチングされる。この酸化シリコン膜マスク４４０の途中までエッチングされている部分が、シリコン基板のエッチングで同時にエッチングされ、エッチングの途中で凹部１０２及びトーションバー１０３上面に対応する部分の酸化シリコン膜が無くなる。 Step (b): Using this silicon oxide film mask 40, the separation portion between the frame portion 105 and the movable plate 101 is etched by dry etching. In this case, the silicon substrate is etched by etching, but at the same time, the silicon oxide film mask 440 is also etched. The portion etched to the middle of the silicon oxide film mask 440 is simultaneously etched by the etching of the silicon substrate, and the silicon oxide film corresponding to the upper surface of the recess 102 and the torsion bar 103 disappears during the etching.

工程（ｃ）：可動板１０１とフレーム部１０５の分離部が貫通するまでエッチングを進める。これにより、可動板１０１とフレーム部１０５が形成されると同時にトーションバー１０７と凹部１０２も形成される。このときのトーションバーの上面と凹部１０２の底面は同じ高さ位置にある。エッチング加工後にレジスト膜の残りを除去する。 Step (c): Etching is advanced until the separation part of the movable plate 101 and the frame part 105 penetrates. As a result, the movable plate 101 and the frame portion 105 are formed, and at the same time, the torsion bar 107 and the concave portion 102 are formed. At this time, the top surface of the torsion bar and the bottom surface of the recess 102 are at the same height. The remaining resist film is removed after the etching process.

工程（ｄ）：酸化シリコン膜の残りをエッチング加工後に除去する。これで、反射面１０４を形成すれば、図１乃至図３に示した光スキャナを得られる。 Step (d): The remaining silicon oxide film is removed after etching. Thus, if the reflecting surface 104 is formed, the optical scanner shown in FIGS. 1 to 3 can be obtained.

この製作方法においても、工程（ｂ）（ｃ）でエッチング誤差が生じ、凹部１０２の底部の厚さに誤差が生じても、トーションバー１０３の厚さにも同じ誤差が生じるため、可動板１０１の慣性モーメントへの加工誤差の影響とトーションバー１０３のバネ定数への加工誤差による影響は相殺され、したがって光スキャナの共振周波数の変動は抑えられる。 Also in this manufacturing method, an etching error occurs in steps (b) and (c), and even if an error occurs in the thickness of the bottom of the recess 102, the same error also occurs in the thickness of the torsion bar 103. The influence of the machining error on the moment of inertia and the influence of the machining error on the spring constant of the torsion bar 103 are canceled out, and therefore the fluctuation of the resonance frequency of the optical scanner is suppressed.

以上、本発明の光スキャナとその製造方法について実施形態を説明した。しかし、本発明はそれら実施形態にのみ限定されるものではなく、様々な変形が可能である。かかる変形した態様も本発明に包含される。 The embodiments of the optical scanner of the present invention and the manufacturing method thereof have been described above. However, the present invention is not limited only to these embodiments, and various modifications are possible. Such modified embodiments are also encompassed by the present invention.

本発明の光スキャナは共振振動数のばらつきが少ないため、例えば図８に示したような光走査装置用の光スキャナとして好適である。本発明の光スキャナと光源を１組以上備える図８に示したような光走査装置も本発明に包含される。また、かかる光走査装置を用いた図９に示すような画像形成装置も本発明に包含される。 Since the optical scanner of the present invention has little variation in the resonant frequency, it is suitable as an optical scanner for an optical scanning device as shown in FIG. 8, for example. An optical scanning apparatus as shown in FIG. 8 having at least one set of the optical scanner and the light source of the present invention is also included in the present invention. Further, an image forming apparatus as shown in FIG. 9 using such an optical scanning device is also included in the present invention.

本発明の光スキャナの概略斜視図である。1 is a schematic perspective view of an optical scanner of the present invention. 本発明の光スキャナの概略平面図である。It is a schematic plan view of the optical scanner of the present invention. 図２のＡ−Ａ’断面図である。It is A-A 'sectional drawing of FIG. 本発明の光スキャナの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the optical scanner of this invention. 本発明の光スキャナの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the optical scanner of this invention. 本発明の光スキャナの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the optical scanner of this invention. 光スキャナの説明図である。It is explanatory drawing of an optical scanner. 複数の光スキャナを用いた光走査装置の説明図である。It is explanatory drawing of the optical scanning apparatus using a some optical scanner. 光走査装置を用いる画像形成装置の説明図である。It is explanatory drawing of the image forming apparatus using an optical scanning device. 画像形成装置における光走査装置及び感光体の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of an optical scanning device and a photoreceptor in the image forming apparatus. 光スキャナの共振周波数のばらつきを示す図である。It is a figure which shows the dispersion | variation in the resonant frequency of an optical scanner. 従来技術を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a prior art. 従来技術を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a prior art. 従来技術を示す平面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing which show a prior art. 従来技術を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a prior art. 従来技術を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a prior art. 従来技術を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a prior art. リブの深さと共振周波数の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the depth of a rib, and the resonant frequency.

Explanation of symbols

１０１可動板（ミラー部）
１０２凹部
１０３トーションバー
１０４反射面
１０５フレーム部 101 Movable plate (mirror part)
102 Concave part 103 Torsion bar 104 Reflecting surface 105 Frame part

Claims

By processing the substrate, a movable plate, a frame portion, and a torsion bar that supports the movable plate on the frame portion are integrally formed, and the movable plate reciprocally vibrates using the torsion bar as a rotational axis. An optical scanner that
On the surface opposite to the reflective surface of the movable plate, there is a recess having a predetermined depth processed from the first surface side of the substrate,
The optical scanner characterized in that the surface of the torsion bar on the first surface side of the substrate and the bottom surface of the recess are at the same position in the thickness direction of the substrate.

The optical scanner according to claim 1.
When the design value of the moment of inertia of the movable plate is I, the design value of the spring constant of the torsion bar is K, and the processing error in the thickness direction of the substrate of the recess and the torsion spring is ΔD,
The difference ΔK between the design value of the moment of inertia of the movable plate caused by the machining error ΔD and the design value of the spring constant of the torsion bar is:
ΔI = (ΔK / K) I
An optical scanner having a relationship between a bottom area of the recess and a to-be-processed area of the torsion bar.

A method of manufacturing an optical scanner according to claim 1,
The manufacturing method, wherein the surface of the torsion bar on the first surface side of the substrate and the bottom surface of the recess are formed by the same processing step.

4. The manufacturing method according to claim 3, wherein the processing step is an etching step.

An optical scanning device comprising: the optical scanner according to claim 1; and a light source that irradiates the optical scanner with light.

The optical scanning device according to claim 5, comprising a plurality of sets of the optical scanner and the light source.

The optical scanning device according to claim 5, a photosensitive member that is scanned by the optical scanning device to form an electrostatic latent image, a developing unit that converts the electrostatic latent image into a toner image, and the toner image An image forming apparatus comprising: transfer means for transferring the image to a sheet.