JP2009069071A - Manufacturing method of pointer board and manufacturing method of display panel for pointer board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance sealability of an organic EL element in the case that an organic EL display panel is used for a pointer board. <P>SOLUTION: Pixel electrodes 3 are formed on one surface of a transparent substrate 2 and a resist 8 is formed in an area where a pointer driving shaft is to be formed, of the surface on which the pixel electrodes 3 are formed, and a frame-shaped mask 9 is put on the circumference of the resist. In the state wherein the resist 8 and the mast 9 are provided, an organic EL layer 10 and an opposite electrode 12 are deposited on the pixel electrodes 3 sequentially. After the resist 8 and the mask 9 are removed, a center seal 15 is formed in the place where the resist 8 has been present, while a frame-shaped seal 16 is formed in the place where the mask 9 has been present, and a cover 17 is put from above on the center seal 15 and the frame-shaped seal 16. The transparent substrate 2 and the cover 17 are bored in portions where they are superposed on the center seal 15. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、指針盤の製造方法及び指針盤用表示パネルの製造方法に関し、特にディスプレイ機能付きの指針盤の製造方法及びその指針盤に用いられる表示パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a pointer panel and a method for manufacturing a display panel for a pointer panel, and more particularly to a method for manufacturing a pointer panel with a display function and a method for manufacturing a display panel used for the pointer panel.

針式腕時計、針式壁掛け時計、針式置き時計、針式計測器等において、針の位置によって時刻、計測値等が表される。針の裏側には指針盤が設けられており、指針盤には目盛り等が設けられている。指針盤の背面には指針駆動部が取り付けられており、指針盤の指針が形成される領域が穿孔されており、その孔に指針駆動部の駆動軸が通され、指針盤の正面側において針が駆動軸に取り付けられている。   In a needle type wristwatch, a needle type wall clock, a needle type clock, a needle type measuring instrument, etc., the time, measured value, etc. are represented by the position of the hand. A pointer board is provided on the back side of the needle, and a scale or the like is provided on the pointer board. A pointer drive unit is attached to the back of the pointer board, and a region where the pointer of the pointer board is formed is perforated, and a drive shaft of the pointer drive unit is passed through the hole, and a needle is provided on the front side of the pointer board. Is attached to the drive shaft.

また、各種の表示機能付きの指針盤も用いられている。例えば、指針盤の前面側に液晶ディスプレイパネルが設けられ、その液晶ディスプレイパネルで各種の表示が行われる。
特開平11−202059号公報
In addition, pointer boards with various display functions are also used. For example, a liquid crystal display panel is provided on the front side of the pointer board, and various displays are performed on the liquid crystal display panel.
JP-A-11-202059

ところで、液晶ディスプレイだけでなく、有機EL(EL:Electro-Luminescence:エレクトロ ルミネッセンス)素子アレイを利用したディスプレイパネルも指針盤に利用したいという要望がある。ところが、ディスプレイパネルの有機EL素子に外気が接触すると、有機EL素子が劣化しやすいという問題があり、そのような劣化を防止するべく、有機EL素子を封止する必要がある。その封止の方法としては、基板に形成された有機EL素子アレイの周辺部に枠状のシールを形成し、そのシールの上からカバーを被せる方法がある。   By the way, there is a demand for not only a liquid crystal display but also a display panel using an organic EL (EL: Electro-Luminescence) element array for a pointer board. However, when outside air comes into contact with the organic EL element of the display panel, there is a problem that the organic EL element is likely to deteriorate, and it is necessary to seal the organic EL element in order to prevent such deterioration. As a sealing method, there is a method in which a frame-like seal is formed around the organic EL element array formed on the substrate and a cover is placed on the seal.

しかしながら、有機ELディスプレイパネルを指針盤に用いる場合、針の駆動軸を通すための孔をディスプレイパネルの中央部に貫通させる必要がある。そのためには、有機EL素子アレイの中央部やカバーの中央部に孔を形成し、その孔の周囲にシールを設け、その孔の周囲においてそのシールを有機EL素子アレイとカバーとの間に挟持する必要がある。ところが、有機EL素子アレイとシールの密着性は高くないので、そのシール性が高くない。更に、その孔の壁面には有機EL素子アレイの断面が存するので有機EL素子が外気に接してしまう。
そこで、本願は、シール性を高められるようにすることを課題とする。
However, when an organic EL display panel is used for the pointer board, it is necessary to penetrate a hole for passing the drive shaft of the needle through the center of the display panel. For this purpose, a hole is formed in the center of the organic EL element array or the center of the cover, a seal is provided around the hole, and the seal is sandwiched between the organic EL element array and the cover around the hole. There is a need to. However, since the adhesion between the organic EL element array and the seal is not high, the sealability is not high. Furthermore, since the cross section of the organic EL element array exists on the wall surface of the hole, the organic EL element comes into contact with the outside air.
Therefore, an object of the present application is to improve the sealing performance.

以上の課題を解決するために、請求項1に係る発明によれば、
基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記レジストを残留させた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜し、
前記レジストを除去した後に、前記レジストがあった箇所にセンターシールを形成し、
前記センターシールに重なる部分において前記基板を穿孔する、ことを特徴とする指針盤の製造方法が提供される。
In order to solve the above problems, according to the invention according to claim 1,
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
With the resist remaining, an organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode,
After removing the resist, forming a center seal where the resist was,
A method for manufacturing a pointer board is provided, wherein the substrate is perforated at a portion overlapping the center seal.

請求項2に係る発明によれば、
前記基板の穿孔の前に前記センターシールの上からカバーを被せ、前記基板の穿孔に際して前記センターシールに重なる部分において前記カバーも穿孔する、ことを特徴とする請求項1に記載の指針盤の製造方法が提供される。
According to the invention of claim 2,
2. The pointer board according to claim 1, wherein a cover is placed on the center seal before drilling the substrate, and the cover is also drilled at a portion overlapping the center seal when the substrate is drilled. A method is provided.

請求項3に係る発明によれば、
基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記画素電極が形成された面の周囲部に枠状のマスクを重ね、
前記レジストを残留させ且つ前記マスクを重ねた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜し、
前記レジスト及び前記マスクを除去した後に、前記レジストがあった箇所にセンターシールを形成し、前記マスクがあった箇所に枠状シールを形成し、
前記センターシールに重なる部分において前記基板を穿孔する、ことを特徴とする指針盤の製造方法が提供される。
According to the invention of claim 3,
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
A frame-shaped mask is superimposed on the periphery of the surface on which the pixel electrode is formed,
An organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode with the resist remaining and the mask being overlaid,
After removing the resist and the mask, forming a center seal where the resist was, forming a frame-shaped seal where the mask was,
A method for manufacturing a pointer board is provided, wherein the substrate is perforated at a portion overlapping the center seal.

請求項4に係る発明によれば、
前記基板の穿孔の前に前記センターシール及び前記枠状シールの上からカバーを被せ、前記基板の穿孔に際して前記センターシールに重なる部分において前記カバーも穿孔する、ことを特徴とする請求項3に記載の指針盤の製造方法が提供される。
According to the invention of claim 4,
4. The cover according to claim 3, wherein a cover is placed on the center seal and the frame-shaped seal before the substrate is drilled, and the cover is also drilled at a portion overlapping the center seal when the substrate is drilled. A method for manufacturing the pointer board is provided.

請求項5に係る発明によれば、
前記センターシールを形成するに際してそのセンターシールをリング状に形成し、
前記基板の穿孔に際して、前記センターシールの中央部の穴に重なる部分において前記基板を穿孔する、ことを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の指針盤の製造方法が提供される。
According to the invention of claim 5,
When forming the center seal, the center seal is formed in a ring shape,
5. The method for manufacturing a pointer board according to claim 1, wherein, when the substrate is drilled, the substrate is drilled in a portion overlapping a hole in a center portion of the center seal. The

請求項6に係る発明によれば、
基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記レジストを残留させた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜する、ことを特徴とする指針盤用表示パネルの製造方法が提供される。
According to the invention of claim 6,
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
An organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode in a state where the resist is left, and a method for manufacturing a display panel for a pointer board is provided.

請求項7に係る発明によれば、
基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記画素電極が形成された面の周囲部に枠状のマスクを重ね、
前記レジストを残留させ且つ前記マスクを重ねた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜する、ことを特徴とする指針盤用表示パネルの製造方法が提供される。
According to the invention of claim 7,
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
A frame-shaped mask is superimposed on the periphery of the surface on which the pixel electrode is formed,
An organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode in a state where the resist is left and the mask is overlaid, and a method for manufacturing a pointer panel display panel is provided.

本発明によれば、指針駆動軸が形成される領域にレジストを残留させ且つマスクを重ねた状態で画素電極の上に有機EL層、対向電極を積層したので、レジストやマスクに重なった部分には有機EL層や対向電極が形成されない。そして、レジストがあった箇所にセンターシールを形成し、マスクがあった箇所に枠状シールを形成したので、センターシールや枠状シールの密着性が高い。そのため、シール性を高くすることができる。
指針駆動軸が形成される領域に島状に設けられたレジストは周囲のマスクから離れているが、レジストであるがゆえに、有機EL層や対向電極の成膜の際にそのレジストがずれにくい。そのため、決められた中央部に有機EL層や対向電極を成膜しないようにすることを確実に行える。
また、センターシールに重なる部分が穿孔されるが、その部分には有機EL層や対向電極が形成されていないので、その孔の壁面には有機EL層や対向電極が露出していない。そのため、有機EL層や対向電極の外気への接触を防止することができる。
According to the present invention, the organic EL layer and the counter electrode are stacked on the pixel electrode in a state where the resist remains in the region where the pointer drive shaft is formed and the mask is overlaid. No organic EL layer or counter electrode is formed. And since the center seal | sticker was formed in the location with a resist and the frame-shaped seal was formed in the location with a mask, the adhesiveness of a center seal or a frame-shaped seal is high. Therefore, the sealing performance can be increased.
The resist provided in an island shape in the region where the pointer drive shaft is formed is separated from the surrounding mask. However, since the resist is a resist, the resist is not easily displaced when the organic EL layer or the counter electrode is formed. Therefore, it is possible to reliably prevent the organic EL layer and the counter electrode from being formed in the determined central portion.
Moreover, although the part which overlaps with a center seal is perforated, since the organic EL layer and the counter electrode are not formed in that part, the organic EL layer and the counter electrode are not exposed on the wall surface of the hole. Therefore, it is possible to prevent the organic EL layer and the counter electrode from contacting the outside air.

以下に、本発明を実施するための好ましい形態について図面を用いて説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。   Hereinafter, preferred embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

マトリクスディスプレイ機能付きの指針盤を製造するに際して、まず、図1、図2に示すように、ガラス製又はプラスチック製の透明基板2を準備する。基板として透明基板2を用いるが、基板として透明な可撓性シートを用いてもよい。   When manufacturing a pointer board with a matrix display function, first, a transparent substrate 2 made of glass or plastic is prepared as shown in FIGS. Although the transparent substrate 2 is used as the substrate, a transparent flexible sheet may be used as the substrate.

透明基板2の一方の面に対し、透明な導電性膜を気相成長法(例えば、スパッタリング法、蒸着法等)によって成膜し、その導電性膜をフォトリソグラフィー法及びエッチング法によって複数の画素電極3に形状加工する。画素電極3を形成するに際して、これら画素電極3を二次元アレイ状に配列するようにする。画素電極3は、例えば、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム(In23)、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)又はカドミウム−錫酸化物(CTO)からなるものである。なお、画素電極3が、有機EL素子のアノード電極になる。 A transparent conductive film is formed on one surface of the transparent substrate 2 by a vapor deposition method (for example, sputtering method, vapor deposition method, etc.), and the conductive film is formed into a plurality of pixels by a photolithography method and an etching method. Shape the electrode 3. When the pixel electrodes 3 are formed, the pixel electrodes 3 are arranged in a two-dimensional array. The pixel electrode 3 is made of, for example, tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide, indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), or cadmium-tin oxide (CTO). It consists of Note that the pixel electrode 3 becomes an anode electrode of the organic EL element.

続いて、透明基板2の一方の面に対して気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法、レジスト除去工程を適宜行うことによって透明基板2の一方の面にトランジスタ層4を形成する。トランジスタ層4はアクティブマトリクス駆動回路を構成するものであって、アクティブマトリクス駆動回路は複数の信号線、平面視してそれら信号線に直交する複数の走査線、信号線と走査線の各交差部に配置された薄膜トランジスタ5等を有するものである。アクティブマトリクス駆動回路の回路構成はどのようなものであってもよく、1画素につき設けられる薄膜トランジスタ5の数は本発明を限定するものでない。   Subsequently, the transistor layer 4 is formed on one surface of the transparent substrate 2 by appropriately performing a vapor deposition method, a photolithography method, an etching method, and a resist removing process on one surface of the transparent substrate 2. The transistor layer 4 constitutes an active matrix driving circuit. The active matrix driving circuit includes a plurality of signal lines, a plurality of scanning lines orthogonal to the signal lines in plan view, and intersections of the signal lines and the scanning lines. The thin film transistor 5 and the like disposed in the. The active matrix driving circuit may have any circuit configuration, and the number of thin film transistors 5 provided per pixel does not limit the present invention.

トランジスタ層4を形成するに際しては、オーバーコート層6を成膜し、そのオーバーコート層6によって薄膜トランジスタ5を被覆する。また、そのオーバーコート層6をパターニングすることによって、それぞれの画素電極3に対応する箇所に開口7を形成する。これにより、画素電極3を露出させる。   In forming the transistor layer 4, an overcoat layer 6 is formed, and the thin film transistor 5 is covered with the overcoat layer 6. Further, the overcoat layer 6 is patterned to form openings 7 at locations corresponding to the respective pixel electrodes 3. Thereby, the pixel electrode 3 is exposed.

なお、トランジスタ層4を形成した後に、複数の画素電極3をオーバーコート層6の上に形成してもよい。   A plurality of pixel electrodes 3 may be formed on the overcoat layer 6 after forming the transistor layer 4.

次に、これらトランジスタ層4が形成された面にネガ型レジスト膜を形成し、そのネガ型レジスト膜の中央部を円形状に露光する。露光するに際して、光量を低めにするとよい。そして、レジスト膜を現像剤で現像すると、図3〜4に示すように、露光しなかった部分が除去され、露光した部分8が残留する。ここで、露光時の光量を低めにすると、残留したレジスト8の形状は、透明基板2側に向かうにつれて径が小さくなる円錐台状となる。このように、フォトレジスト法を用いたので、残留レジスト8を指針駆動軸が形成される領域において島状に形成することができ、残留レジスト8がずれたりしにくい。なお、レジストはポジ型であってもよいが、その場合、露光する箇所と露光しない箇所はネガ型に対して反転させる。   Next, a negative resist film is formed on the surface on which these transistor layers 4 are formed, and the central portion of the negative resist film is exposed in a circular shape. When exposing, it is preferable to reduce the amount of light. When the resist film is developed with a developer, the unexposed part is removed and the exposed part 8 remains as shown in FIGS. Here, when the amount of light at the time of exposure is lowered, the shape of the remaining resist 8 becomes a truncated cone shape whose diameter decreases toward the transparent substrate 2 side. Thus, since the photoresist method is used, the residual resist 8 can be formed in an island shape in the region where the pointer drive shaft is formed, and the residual resist 8 is not easily displaced. The resist may be a positive type, but in that case, the exposed portion and the unexposed portion are reversed with respect to the negative type.

次に、枠状のマスク9を透明基板2の縁部分に沿って透明基板2の上に重ねる。なお、このマスク9を重ねるのが好ましいが、このマスク9を重ねなくてもよい。
次に、図5に示すように、有機EL層10を蒸着法によって成膜する。そうすると、残留レジスト8及びマスク9の重なっていない部分では、複数の画素電極3の上に有機EL層10が積層され、残留レジスト8及びマスク9の上には、有機EL層10と同材料の層11が形成される。ここで、有機EL層10を成膜するに際して、発光層だけを成膜してその発光層を有機EL層10としてもよいし、正孔輸送層及び発光層を順に積層してその積層物を有機EL層10としてもよいし、発光層及び電子輸送層を順に積層してその積層物を有機EL層10としてもよいし、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を順に積層してその積層物を有機EL層10としてもよい。なお、他の気相成長法によって有機EL層10を成膜してもよいし、塗布法によって有機EL層10を成膜してもよい。また、有機EL層10を複数の画素に共通するよう一面に成膜するのではなく、印刷法によって有機EL層10を画素ごとに形成してもよい。
Next, the frame-shaped mask 9 is overlaid on the transparent substrate 2 along the edge portion of the transparent substrate 2. In addition, although it is preferable to overlap this mask 9, it is not necessary to overlap this mask 9. FIG.
Next, as shown in FIG. 5, the organic EL layer 10 is formed by vapor deposition. Then, in the portion where the residual resist 8 and the mask 9 do not overlap, the organic EL layer 10 is laminated on the plurality of pixel electrodes 3, and the same material as the organic EL layer 10 is formed on the residual resist 8 and the mask 9. Layer 11 is formed. Here, when forming the organic EL layer 10, only the light emitting layer may be formed and the light emitting layer may be used as the organic EL layer 10, or the hole transport layer and the light emitting layer are sequentially laminated to form the laminate. The organic EL layer 10 may be used, the light emitting layer and the electron transport layer may be stacked in order, and the laminate may be used as the organic EL layer 10, or the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer may be stacked in order. The laminate may be the organic EL layer 10. Note that the organic EL layer 10 may be formed by another vapor deposition method, or the organic EL layer 10 may be formed by a coating method. In addition, the organic EL layer 10 may be formed for each pixel by a printing method instead of forming the organic EL layer 10 on one side so as to be common to a plurality of pixels.

次に、対向電極12を気相成長法(蒸着法、スパッタリング法等)によって成膜する。そうすると、残留レジスト8及びマスク9の重なっていない部分において、有機EL層10の上に対向電極12が積層され、残留レジスト8及びマスク9の上には、対向電極12と同材料の層13が形成される。成膜された対向電極12が有機EL素子のカソード電極となる。以上の工程を経ることで、指針盤用の表示パネル40が得られる。なお、マスク9を重ねずに、有機EL層10と対向電極12を順に成膜してもよい。
次に、マスク9を外すとともに、残留レジスト8を除去液で除去する。
Next, the counter electrode 12 is formed by vapor deposition (evaporation, sputtering, etc.). Then, the counter electrode 12 is laminated on the organic EL layer 10 in the portion where the residual resist 8 and the mask 9 do not overlap, and the layer 13 of the same material as the counter electrode 12 is formed on the residual resist 8 and the mask 9. It is formed. The counter electrode 12 thus formed serves as a cathode electrode of the organic EL element. The display panel 40 for the pointer board is obtained through the above steps. The organic EL layer 10 and the counter electrode 12 may be sequentially formed without overlapping the mask 9.
Next, the mask 9 is removed and the residual resist 8 is removed with a removing solution.

次に、図6に示すように、有機EL層10や対向電極12が形成されていない中央部の指針駆動軸が形成される領域(残留レジスト8があった箇所)に保護メタル膜14を成膜する。
次に、図6〜7に示すように、有機EL層10や対向電極12が形成されていない中央部の指針駆動軸が形成される領域(残留レジスト8があった箇所)にリング状のセンターシール15を印刷するとともに、有機EL層10や対向電極12が形成されていない周囲部(マスク9があった箇所)に枠状のシール16を印刷する。なお、シール15はリング状でなく、円形状であってもよいが、シール15がリング状であると、ドリルにシール15が絡み付くことがなくなる。なお、マスク9を重ねずに、有機EL層10と対向電極12を成膜した場合、対向電極12の上であってその周囲部に枠状シール16を印刷することになる。
Next, as shown in FIG. 6, a protective metal film 14 is formed in a region where the pointer driving shaft is formed in the central portion where the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are not formed (where the residual resist 8 is present). Film.
Next, as shown in FIGS. 6 to 7, a ring-shaped center is formed in a region where the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are not formed and where the pointer drive shaft is formed (where the residual resist 8 is present). While printing the seal | sticker 15, the frame-shaped seal | sticker 16 is printed in the surrounding part (location | part with the mask 9) in which the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are not formed. The seal 15 may be circular instead of ring-shaped, but when the seal 15 is ring-shaped, the seal 15 does not get tangled with the drill. In addition, when the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are formed without overlapping the mask 9, the frame-shaped seal 16 is printed on the counter electrode 12 and in the periphery thereof.

次に、図8に示すように、有機EL層10、対向電極12が形成された面をシール15,16の上からガラス製のカバー17で覆い、シール15,16にカバー17を接合する。なお、カバー17の中央部に予め孔が形成されていてもよく、その場合、シール15の周囲部分がカバー17の孔の縁部分に重ねる。   Next, as shown in FIG. 8, the surface on which the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are formed is covered with a glass cover 17 from above the seals 15 and 16, and the cover 17 is joined to the seals 15 and 16. Note that a hole may be formed in advance in the center of the cover 17, and in this case, the peripheral portion of the seal 15 overlaps the edge portion of the hole of the cover 17.

次に、図9に示すように、ドリルによって透明基板2及びカバー17の中央部を穿孔し、残留レジスト8の直径よりも小さい直径のセンターホール18をその中央部に形成する。このように、透明基板2、カバー17、オーバーコート層6、保護メタル膜14を同時に穿孔することができる。ここで、穿孔する箇所は、シール15の中央部の穴19に重なる部分である。以上により、指針盤1が完成する。
なお、シール15がリング状でなく、円形状である場合、シール15の中央部もドリルによって穿孔する。また、カバー17の中央部に予め孔が形成されている場合、透明基板2にセンターホール18を形成し、カバー17に予め形成された孔とそのセンターホール18が連なる。
Next, as shown in FIG. 9, the center portion of the transparent substrate 2 and the cover 17 is drilled with a drill, and a center hole 18 having a diameter smaller than the diameter of the residual resist 8 is formed in the center portion. Thus, the transparent substrate 2, the cover 17, the overcoat layer 6, and the protective metal film 14 can be drilled simultaneously. Here, the portion to be perforated is a portion that overlaps the hole 19 at the center of the seal 15. Thus, the pointer board 1 is completed.
In addition, when the seal | sticker 15 is not ring shape but circular shape, the center part of the seal | sticker 15 is also drilled with a drill. When a hole is formed in advance in the center of the cover 17, a center hole 18 is formed in the transparent substrate 2, and the hole formed in the cover 17 and the center hole 18 are connected.

次に、図10〜11に示すように、得られた指針盤1に対して半透明化粧板20を貼り付ける。具体的には、トランジスタ層4が形成された面とは反対側の面に、中央部に穴の開いた半透明化粧板20を貼り付ける。   Next, as shown to FIGS. 10-11, the translucent decorative board 20 is affixed with respect to the obtained pointer board 1. FIG. Specifically, a translucent decorative board 20 having a hole in the center is attached to the surface opposite to the surface on which the transistor layer 4 is formed.

次に、指針駆動部21の駆動軸22をセンターホール18に通して、指針駆動部21をカバー17に取り付ける。次に、駆動軸22に指針23を取り付ける。指針駆動部21は指針23を回転させるものである。   Next, the pointer drive unit 21 is attached to the cover 17 by passing the drive shaft 22 of the pointer drive unit 21 through the center hole 18. Next, the pointer 23 is attached to the drive shaft 22. The pointer driving unit 21 rotates the pointer 23.

この指針盤1は時計用、計測用等に用いられるものであり、指針23の数、指針駆動部21の動作、半透明化粧板20の表示等は指針盤1の用途に応じたものである。この指針盤1においては、透明基板2が表示面となる。なお、カバー17が表示面となってもよい。この場合、透明基板2や画素電極3は透明でなくてもよいが、カバー17及び対向電極12を透明にする必要がある。   The pointer board 1 is used for timepieces, measurements, and the like. The number of hands 23, the operation of the pointer driving unit 21, the display of the translucent decorative board 20, and the like are in accordance with the use of the pointer board 1. . In this pointer board 1, the transparent substrate 2 serves as a display surface. The cover 17 may be a display surface. In this case, the transparent substrate 2 and the pixel electrode 3 may not be transparent, but the cover 17 and the counter electrode 12 need to be transparent.

以上のように、本実施形態によれば、中央部のレジスト8を残留させ且つマスク9を重ねた状態で画素電極3の上に有機EL層10、対向電極12を積層したので、有機EL層10や対向電極12を積層した後でも、レジスト8やマスク9に重なった部分には有機EL層や対向電極が形成されず、オーバーコート層6が露出している。そして、レジスト8があった箇所にセンターシール15を形成し、マスク9があった箇所に枠状シール16を形成したので、センターシール15や枠状シール16の密着性が高い。そのため、シール性を高くすることができる。   As described above, according to the present embodiment, since the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are stacked on the pixel electrode 3 with the resist 8 remaining in the center and the mask 9 overlapped, the organic EL layer Even after laminating 10 and the counter electrode 12, the organic EL layer and the counter electrode are not formed in the portion overlapping the resist 8 and the mask 9, and the overcoat layer 6 is exposed. And since the center seal | sticker 15 was formed in the location with the resist 8, and the frame-shaped seal | sticker 16 was formed in the location with the mask 9, the adhesiveness of the center seal | sticker 15 and the frame-shaped seal | sticker 16 is high. Therefore, the sealing performance can be increased.

また、透明基板2やカバー17はセンターシール15に重なる部分において穿孔されるが、その部分には有機EL層10や対向電極12が形成されていないので、そのセンターホール18の壁面には有機EL層10や対向電極12が露出していない。そのため、有機EL層10や対向電極12の外気への接触を防止することができる。   In addition, the transparent substrate 2 and the cover 17 are perforated in a portion overlapping the center seal 15, but the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 are not formed in the portion, so that the organic EL is formed on the wall surface of the center hole 18. The layer 10 and the counter electrode 12 are not exposed. Therefore, the organic EL layer 10 and the counter electrode 12 can be prevented from contacting the outside air.

また、センターホール18の形成前に、カバー17、センターシール15及び枠状シール16を設けたので、穿孔時の切り屑が対向電極12の上に付着しない。そのため、対向電極12を保護することができる。   In addition, since the cover 17, the center seal 15 and the frame-shaped seal 16 are provided before the formation of the center hole 18, chips during drilling do not adhere to the counter electrode 12. Therefore, the counter electrode 12 can be protected.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記実施形態に対して種々の設計変更を行ったものも本発明の範囲に含まれる。
上記実施形態では、センターホール18の形成前にカバー17を重ねて接合したが、カバー17を重ねずにセンターホール18をドリルにより形成してもよい。その場合、センターホール18の形成後にカバー17を重ねるのがより好ましい。センターホール18の形成後に重ねるカバー17の中央部には予め孔が形成されており、カバー17を重ねて接合する際には、カバー17の孔がセンターホール18に重なる。
In addition, this invention is not limited to the said embodiment, What changed various design with respect to the said embodiment is also contained in the scope of the present invention.
In the above embodiment, the cover 17 is overlapped and joined before the center hole 18 is formed, but the center hole 18 may be formed by a drill without overlapping the cover 17. In that case, it is more preferable to overlap the cover 17 after the center hole 18 is formed. A hole is formed in advance in the center of the cover 17 to be overlapped after the formation of the center hole 18, and the hole of the cover 17 overlaps the center hole 18 when the cover 17 is overlapped and joined.

図1は、指針盤の製造方法において画素電極を形成した状態を示した平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a state in which pixel electrodes are formed in a method for manufacturing a pointer board. 図2は、図1のII−II線に沿った面の矢視断面図である。2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 図3は、指針盤の製造方法においてレジスト及びマスクを施した状態を示した平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a state where a resist and a mask are applied in the method of manufacturing the pointer board. 図4は、図3のIV−IV線に沿った面の矢視断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 図5は、指針盤の製造方法において有機EL層及び対向電極を形成した状態を示した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the organic EL layer and the counter electrode are formed in the method for manufacturing the pointer board. 図6は、指針盤の製造方法においてシールを施した状態の状態を示した断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a seal is applied in the method of manufacturing the pointer board. 図7は、指針盤の製造方法においてシールを施した状態の状態を示した平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a state in which a seal is applied in the method of manufacturing the pointer board. 図8は、指針盤の製造方法においてカバーを施した状態の状態を示した断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which a cover is applied in the method for manufacturing the pointer board. 図9は、指針盤の製造方法において孔を施した状態の状態を示した断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which a hole is provided in the method for manufacturing the pointer board. 図10は、指針盤に指針等を取り付けた状態を示した平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a state in which a pointer or the like is attached to the pointer board. 図11は、図10のXI−XI線に沿った面の矢視断面図である。11 is a cross-sectional view taken along the line XI-XI in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2 透明基板
3 画素電極
8 レジスト
9 マスク
10 有機EL層
12 対向電極
15 センターシール
16 枠状シール
17 カバー
18 センターホール
19 穴
40 表示パネル
2 transparent substrate 3 pixel electrode 8 resist 9 mask 10 organic EL layer 12 counter electrode 15 center seal 16 frame-shaped seal 17 cover 18 center hole 19 hole 40 display panel

Claims (7)

基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記レジストを残留させた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜し、
前記レジストを除去した後に、前記レジストがあった箇所にセンターシールを形成し、
前記センターシールに重なる部分において前記基板を穿孔する、ことを特徴とする指針盤の製造方法。
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
With the resist remaining, an organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode,
After removing the resist, forming a center seal where the resist was,
A method for manufacturing a pointer board, wherein the substrate is perforated at a portion overlapping the center seal.
前記基板の穿孔の前に前記センターシールの上からカバーを被せ、前記基板の穿孔に際して前記センターシールに重なる部分において前記カバーも穿孔する、ことを特徴とする請求項1に記載の指針盤の製造方法。   2. The pointer board according to claim 1, wherein a cover is placed on the center seal before drilling the substrate, and the cover is also drilled at a portion overlapping the center seal when the substrate is drilled. Method. 基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記画素電極が形成された面の周囲部に枠状のマスクを重ね、
前記レジストを残留させ且つ前記マスクを重ねた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜し、
前記レジスト及び前記マスクを除去した後に、前記レジストがあった箇所にセンターシールを形成し、前記マスクがあった箇所に枠状シールを形成し、
前記センターシールに重なる部分において前記基板を穿孔する、ことを特徴とする指針盤の製造方法。
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
A frame-shaped mask is superimposed on the periphery of the surface on which the pixel electrode is formed,
An organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode with the resist remaining and the mask being overlaid,
After removing the resist and the mask, forming a center seal where the resist was, forming a frame-shaped seal where the mask was,
A method for manufacturing a pointer board, wherein the substrate is perforated at a portion overlapping the center seal.
前記基板の穿孔の前に前記センターシール及び前記枠状シールの上からカバーを被せ、前記基板の穿孔に際して前記センターシールに重なる部分において前記カバーも穿孔する、ことを特徴とする請求項3に記載の指針盤の製造方法。   4. The cover according to claim 3, wherein a cover is placed on the center seal and the frame-shaped seal before the substrate is drilled, and the cover is also drilled at a portion overlapping the center seal when the substrate is drilled. Method of manufacturing the pointer board. 前記センターシールを形成するに際してそのセンターシールをリング状に形成し、
前記基板の穿孔に際して、前記センターシールの中央部の穴に重なる部分において前記基板を穿孔する、ことを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の指針盤の製造方法。
When forming the center seal, the center seal is formed in a ring shape,
5. The method for manufacturing a pointer board according to claim 1, wherein, when the substrate is drilled, the substrate is drilled in a portion overlapping with a hole in a center portion of the center seal.
基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記レジストを残留させた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜する、ことを特徴とする指針盤用表示パネルの製造方法。
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
An organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode in a state where the resist is left. A method for manufacturing a display panel for a pointer board, comprising:
基板の一方の面側に画素電極を形成し、
前記画素電極が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジストを形成し、
前記画素電極が形成された面の周囲部に枠状のマスクを重ね、
前記レジストを残留させ且つ前記マスクを重ねた状態で前記画素電極の上に有機EL層及び対向電極を順に成膜する、ことを特徴とする指針盤用表示パネルの製造方法。
Forming a pixel electrode on one side of the substrate;
Forming a resist in a region where the pointer drive shaft is formed on the surface on which the pixel electrode is formed;
A frame-shaped mask is superimposed on the periphery of the surface on which the pixel electrode is formed,
A method for manufacturing a display panel for a pointer board, wherein an organic EL layer and a counter electrode are sequentially formed on the pixel electrode in a state where the resist is left and the mask is overlaid.
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