JP2009058901A - Multilayer laminate for producing letterpress plate and method for producing letterpress plate - Google Patents

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mask layer
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photosensitive resin
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multilayer laminate
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Kenichi Miyagawa
健一 宮川
Takashi Fujimoto
隆史 藤本
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer laminate for producing a letterpress plate capable of reducing the effect of oxygen in the air on a photosensitive resin layer in exposure and capable of obtaining a good pattern after development, with respect to a multilayer laminate for producing a letterpress plate including a photosensitive resin layer and a mask layer, and to provide a method for producing a letterpress plate using the multilayer laminate. <P>SOLUTION: The multilayer laminate for producing a letterpress plate is obtained by laminating on (A) a support (B) a photosensitive resin layer and (C) a mask layer in this order, wherein the mask layer comprises (a) at least one infrared absorbing material, (b) at least one ultraviolet absorbing material and (c) polyvinyl butyral. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、凸版印刷版製造用多層積層体及び凸版印刷版の製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer laminate for producing a relief printing plate and a method for producing a relief printing plate.

従来、凸版印刷版は、支持体上に感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層上に印刷しようとする文字や画像等のイメージのネガパターンを有するフィルム(ネガマスク)を置き、このネガマスクを介して感光性樹脂層を活性線で露光して露光後の感光性樹脂層を現像することにより製造されていた。しかしながら、ネガマスクを利用した凸版印刷版の製造方法においては、ネガマスクの最終的なイメージに修正が必要となった場合、ネガマスク全体を作り直す必要がある等、修正作業に比較的多くの工数を要するといった問題や、ネガマスクが温度や湿度の変化により、寸法の変化を起こし易いといった問題が指摘されていた。   Conventionally, a relief printing plate is provided with a photosensitive resin layer on a support, and a film (negative mask) having a negative pattern of an image such as characters and images to be printed is placed on the photosensitive resin layer. It was manufactured by exposing the photosensitive resin layer with active rays through and developing the exposed photosensitive resin layer. However, in the method of manufacturing a relief printing plate using a negative mask, if the final image of the negative mask needs to be corrected, the entire negative mask needs to be recreated. It has been pointed out that there is a problem and that the negative mask easily changes in dimensions due to changes in temperature and humidity.

このような問題を解決するため、感光性樹脂層の上層に赤外線感受性材料層であるマスク層が形成された凸版印刷原版を用い、マスク層を赤外線レーザー光でパターニングし、パターニングされたマスク層をネガマスクとして用いて、凸版印刷版を製造する方法が知られている(例えば、特許文献1から5)。
特開平9−166875号公報 特開平11−153865号公報 特開2001−080225号公報 特許第2916408号公報 特許第3511022号公報
In order to solve such problems, a relief printing original plate in which a mask layer, which is an infrared sensitive material layer, is formed on the photosensitive resin layer, the mask layer is patterned with infrared laser light, and the patterned mask layer is formed. A method for producing a relief printing plate using a negative mask is known (for example, Patent Documents 1 to 5).
JP 9-166875 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-153865 JP 2001-080225 A Japanese Patent No. 2916408 Japanese Patent No. 3511022

しかしながら、特許文献1から5に記載された凸版印刷版の製造方法においては、マスク層のパターニングの後、マスク層が除去された部位の感光性樹脂層が空気中の酸素の影響を受け、活性線を露光した際に十分に重合しないことが知られていた。   However, in the method for producing a relief printing plate described in Patent Documents 1 to 5, after the patterning of the mask layer, the photosensitive resin layer in the portion where the mask layer has been removed is affected by oxygen in the air and activated. It has been known that when a line is exposed, it does not fully polymerize.

本発明は、以上の課題に鑑みてなされたものであり、感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体であって、露光時に、感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、現像後に良好なパターンを得ることができる凸版印刷版製造用多層積層体、及びこれを用いて行う凸版印刷版の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is a multi-layer laminate for producing a relief printing plate having a photosensitive resin layer and a mask layer, and in exposure, oxygen in the air with respect to the photosensitive resin layer It is an object of the present invention to provide a multilayer laminate for producing a relief printing plate capable of reducing the influence of the above and capable of obtaining a good pattern after development, and a method for producing a relief printing plate using the same.

本発明者らは、支持体と、感光性樹脂層と、マスク層と、がこの順に積層されてなる凸版印刷版製造用多層積層体であって、上記マスク層に含有されるバインダー樹脂として、ポリビニルブチラールを用いたとき、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors are a multilayer laminate for producing a relief printing plate in which a support, a photosensitive resin layer, and a mask layer are laminated in this order, and as a binder resin contained in the mask layer, When polyvinyl butyral was used, it discovered that the said subject could be solved and came to complete this invention.

具体的には、本発明は以下のものを提供する。   Specifically, the present invention provides the following.

本発明の第一の態様は、(A)支持体上に、(B)感光性樹脂層と、(C)マスク層と、がこの順に積層されてなり、前記マスク層が、(a)少なくとも1種の赤外線吸収性物質、(b)少なくとも1種の紫外線吸収性物質、及び(c)ポリビニルブチラールを含む、凸版印刷版製造用多層積層体である。   In the first aspect of the present invention, (B) a photosensitive resin layer and (C) a mask layer are laminated in this order on (A) a support, and the mask layer comprises (a) at least A multilayer laminate for producing a relief printing plate, comprising one kind of infrared absorbing substance, (b) at least one kind of ultraviolet absorbing substance, and (c) polyvinyl butyral.

また、本発明の第二の態様は、本発明の凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造するための凸版印刷版の製造方法であって、前記マスク層を、赤外線レーザー光でパターニングする工程と、パターニングされた前記マスク層を介して前記感光性樹脂層を紫外線で露光する工程と、前記マスク層を除去すると共に、露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程と、を含む、凸版印刷版の製造方法である。   The second aspect of the present invention is a method for producing a relief printing plate for producing a relief printing plate from the multilayer laminate for producing a relief printing plate of the present invention, wherein the mask layer is irradiated with infrared laser light. A step of patterning; a step of exposing the photosensitive resin layer with ultraviolet light through the patterned mask layer; and a step of removing the mask layer and developing the photosensitive resin layer after exposure. And a method for producing a relief printing plate.

本発明によれば、マスク層を構成するバインダー樹脂として、ポリビニルブチラールを用いたので、赤外線レーザー光を用いてマスク層を選択的に除去した場合でも、マスク層を除去された部位の感光性樹脂層が酸素の影響を受けることがなく、紫外線の照射による重合反応が円滑に進行する。これにより、現像後に微細で良好なパターンを得ることができる。   According to the present invention, since polyvinyl butyral is used as the binder resin constituting the mask layer, even when the mask layer is selectively removed using infrared laser light, the photosensitive resin at the portion where the mask layer is removed The layer is not affected by oxygen, and the polymerization reaction by ultraviolet irradiation proceeds smoothly. Thereby, a fine and favorable pattern can be obtained after development.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、凸版印刷の一例であるフレキソ印刷について、本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, although this invention is demonstrated about the flexographic printing which is an example of letterpress printing, this invention is not limited to this.

<フレキソ印刷版製造用多層積層体>
本発明の凸版印刷版製造用多層積層体であるフレキソ印刷版製造用多層積層体は、(A)支持体上に、(B)感光性樹脂層と、(C)マスク層と、がこの順に積層されてなるものであり、必要に応じて、マスク層の上層に(D)カバーフィルムが積層されていてもよい。
<Multilayer laminate for flexographic printing plate production>
The multilayer laminate for producing a flexographic printing plate, which is a multilayer laminate for producing a relief printing plate according to the present invention, comprises (A) a support, (B) a photosensitive resin layer, and (C) a mask layer in this order. It is formed by lamination, and (D) a cover film may be laminated on the upper layer of the mask layer as necessary.

[(A)支持体]
本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体に用いられる支持体は、従来、フレキソ印刷版用の支持体として用いられているものであって、様々な印刷条件に適した機械強度、物理的性質を満たす材料、例えば金属シート、プラスチックフィルム、紙、及びこれらの複合体等の中から任意に選んで形成させることができる。このような材料の例としては、付加重合ポリマー及び線状縮合ポリマーにより形成されるポリマー性フィルム;発泡体;例えばガラス繊維織物のような織物及び不織布;並びに、鋼及びアルミニウムのような金属を挙げることができる。このような支持体としては、ポリエチレン又はポリエステルフィルムを用いることが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが更に好ましい。支持体は、通常50μmから300μm、好ましくは75μmから200μmの厚みのフィルム又はシート状に形成される。
[(A) Support]
The support used in the multilayer laminate for producing a flexographic printing plate of the present invention is conventionally used as a support for a flexographic printing plate, and has mechanical strength and physical properties suitable for various printing conditions. It can be formed by arbitrarily selecting from satisfying materials such as metal sheet, plastic film, paper, and composites thereof. Examples of such materials include polymeric films formed from addition polymerization polymers and linear condensation polymers; foams; woven and non-woven fabrics such as glass fiber fabrics; and metals such as steel and aluminum. be able to. As such a support, a polyethylene or polyester film is preferably used, and a polyethylene terephthalate film is more preferably used. The support is usually formed into a film or sheet having a thickness of 50 μm to 300 μm, preferably 75 μm to 200 μm.

支持体はまた、必要に応じて、感光性樹脂層との間に薄い粘着促進層を有していてもよい。この粘着促進層としては、例えばアクリル樹脂とポリイソシアネートとの混合物からなる層を挙げることができる。   The support may also have a thin adhesion promoting layer between the photosensitive resin layer, if necessary. As this adhesion promotion layer, the layer which consists of a mixture of an acrylic resin and polyisocyanate can be mentioned, for example.

[(B)感光性樹脂層]
感光性樹脂層としては、特に限定されるものではないが、バインダー樹脂、光重合性モノマー、及び光重合開始剤を含んでいることが好ましい。
[(B) Photosensitive resin layer]
Although it does not specifically limit as a photosensitive resin layer, It is preferable that binder resin, a photopolymerizable monomer, and a photoinitiator are included.

(バインダー樹脂)
感光性樹脂層に含まれるバインダー樹脂としては、スチレン系、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、1,2−ポリブタジエン系、塩化ビニル系、及びポリアミド系等の各種樹脂を挙げることができる。これらのうち特に好ましいバインダー樹脂としては、スチレン系エラストマーがあり、具体的にはスチレン/ブタジエン/スチレンブロック共重合体及びスチレン/イソプレン/スチレンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物を挙げることができる。バインダー樹脂は、感光性樹脂組成物中に30質量%以上95質量%以下、好ましくは50質量%以上85質量%以下の割合で配合される。配合量が30質量%以上であることにより、ゴム弾性に優れた組成物を得ることができ、配合量が95質量%以下であることにより、再現性に優れたパターンの形成が可能となる。
(Binder resin)
Examples of the binder resin contained in the photosensitive resin layer include various resins such as styrene, olefin, polyester, polyurethane, 1,2-polybutadiene, vinyl chloride, and polyamide. Among these, particularly preferable binder resins include styrene-based elastomers, and specifically include styrene / butadiene / styrene block copolymers and styrene / isoprene / styrene block copolymers, and hydrogenated products thereof. it can. The binder resin is blended in the photosensitive resin composition at a ratio of 30% by mass to 95% by mass, preferably 50% by mass to 85% by mass. When the blending amount is 30% by mass or more, a composition excellent in rubber elasticity can be obtained, and when the blending amount is 95% by mass or less, a pattern with excellent reproducibility can be formed.

(光重合性モノマー)
光重合性モノマーとしては、上記バインダー樹脂を架橋可能なモノマーであり、バインダー樹脂と相溶性がよい化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、及びクロトン酸エステル類等があり、付加重合性不飽和結合を有する化合物から選ばれる。上記化合物は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、配合量は、上記バインダー樹脂100質量部に対して、3質量部以上80質量部以下であることが好ましく、5質量部以上20質量部以下であることが更に好ましい。配合量が3質量部以上であることにより、再現性に優れたパターンを得ることができ、80質量部以下であることにより、良好なゴム弾性を得ることができる。
(Photopolymerizable monomer)
The photopolymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a monomer capable of crosslinking the binder resin and has a good compatibility with the binder resin. Specific examples include acrylic acid esters, acrylamides, methacrylic acid esters, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, styrenes, and crotonic acid esters, and addition polymerizable unsaturated bonds. Selected from compounds having The said compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, it is preferable that it is 3 to 80 mass parts with respect to 100 mass parts of said binder resins, and, as for a compounding quantity, it is still more preferable that they are 5 to 20 mass parts. When the amount is 3 parts by mass or more, a pattern with excellent reproducibility can be obtained, and when it is 80 parts by mass or less, good rubber elasticity can be obtained.

(光重合開始剤)
光重合開始剤としては、感光性樹脂組成物に慣用される、公知の化合物の中から任意に選択することができるが、特にベンゾイン系、フェノン系、及びアントラキノン系が好ましい。具体的には、ベンゾイン系の光重合開始剤として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−n−プロピルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−エチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン、及びα−アリルベンゾイン;フェノン系の光重合開始剤として、ベンゾフェノン、ω−ブロモアセトフェノン、及びアセトフェノン;並びに、アントラキノン系の光重合開始剤として、アントラキノン、クロロアントラキノン、メチルアントラキノン、及びエチルアントラキノン等を挙げることができる。これらの光重合開始剤は単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤の配合量は、バインダー樹脂100質量部に対して、0.1質量部以上5質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上2質量部以下であることが更に好ましい。配合量が0.1質量部以上であることにより、実用的な感度を得ることができ、5質量部以下であることにより、良好なパターンを得ることができる。
(Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator can be arbitrarily selected from known compounds commonly used in photosensitive resin compositions, but benzoin, phenone, and anthraquinone are particularly preferable. Specifically, benzoin-based photopolymerization initiators include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin-n-propyl ether, α-methylbenzoin, α-ethylbenzoin, α-phenylbenzoin, and α-allyl. Benzoin: Examples of the phenone photopolymerization initiator include benzophenone, ω-bromoacetophenone, and acetophenone; Examples of the anthraquinone photopolymerization initiator include anthraquinone, chloroanthraquinone, methylanthraquinone, and ethyl anthraquinone. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, and more preferably 0.5 parts by mass or more and 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin. . When the blending amount is 0.1 parts by mass or more, practical sensitivity can be obtained, and when it is 5 parts by mass or less, a good pattern can be obtained.

(その他の成分)
感光性樹脂層には、必要に応じて染料、顔料、重合禁止剤、酸化防止剤、及び光劣化防止剤等を添加し、その性能の改善を図ることもできる。更に、耐摩耗性を改善するために、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、及びポリウレタン樹脂等、バインダー樹脂と相溶性のある樹脂を混入することもできる。
(Other ingredients)
If necessary, dyes, pigments, polymerization inhibitors, antioxidants, photodegradation inhibitors, and the like can be added to the photosensitive resin layer to improve its performance. Furthermore, in order to improve the wear resistance, a resin compatible with the binder resin such as a polyamide resin, an epoxy resin, and a polyurethane resin may be mixed.

(感光性樹脂層の膜厚)
本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体においては、感光性樹脂層の膜厚は、0.4mm以上10mm以下であることが好ましく、0.5mm以上7.5mm以下であることが更に好ましい。感光性樹脂層の膜厚は、上記膜厚の範囲内において、被印刷体や使用する印刷機の種類に応じて適宜選択すればよい。
(Photosensitive resin layer thickness)
In the multilayer laminate for producing a flexographic printing plate of the present invention, the thickness of the photosensitive resin layer is preferably 0.4 mm or more and 10 mm or less, and more preferably 0.5 mm or more and 7.5 mm or less. What is necessary is just to select the film thickness of the photosensitive resin layer suitably according to the kind of to-be-printed body and the printing machine to be used within the said film thickness range.

[(C)マスク層]
本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体においては、マスク層が、(a)少なくとも1種の赤外線吸収性物質、(b)少なくとも1種の紫外線吸収性物質、及び(c)バインダー樹脂であるポリビニルブチラールを含む。
[(C) Mask layer]
In the multilayer laminate for producing a flexographic printing plate of the present invention, the mask layer is (a) at least one infrared absorbing substance, (b) at least one ultraviolet absorbing substance, and (c) a binder resin. Contains polyvinyl butyral.

((a)赤外線吸収性物質)
マスク層に含有される赤外線吸収物質は、赤外線レーザー光を照射したときに、これを吸収して発熱し、マスク層を融解する役割を果たすものである。赤外線吸収物質としては、赤外線レーザー光を吸収するものであれば特に限定されるものではなく、カーボンブラック、アニリンブラック、及びシアニンブラック等の黒色顔料;フタロシアニン及びナフタロシアニン系の緑色顔料;グラファイト、鉄粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、及びケイ酸塩化合物;酸化クロム、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、及び酸化タングステン等の金属酸化物;これらの金属の水酸化物及び硫酸塩;並びに、ビスマス、鉄、マグネシウム、及びアルミニウムの金属粉等を用いることができる。これらの中でも、光熱変換率、経済性、及び取扱い性の観点から、カーボンブラックを用いることが好ましい。カーボンブラックは粒径が10nm以上100nm以下の広い範囲で使用が可能であり、粒径が小さいほど赤外線に対する感度も高くなる。
((A) Infrared absorbing substance)
The infrared absorbing material contained in the mask layer plays a role of absorbing the infrared laser light and generating heat to melt the mask layer. The infrared absorbing material is not particularly limited as long as it absorbs infrared laser light. Black pigments such as carbon black, aniline black, and cyanine black; phthalocyanine and naphthalocyanine-based green pigments; graphite, iron Powder, diamine-based metal complex, dithiol-based metal complex, phenolthiol-based metal complex, mercaptophenol-based metal complex, crystal water-containing inorganic compound, copper sulfate, chromium sulfide, and silicate compound; chromium oxide, titanium oxide, vanadium oxide Metal oxides such as manganese oxide, iron oxide, cobalt oxide, and tungsten oxide; hydroxides and sulfates of these metals; metal powders of bismuth, iron, magnesium, and aluminum can be used. Among these, it is preferable to use carbon black from the viewpoint of photothermal conversion, economic efficiency, and handleability. Carbon black can be used in a wide range of particle diameters of 10 nm or more and 100 nm or less. The smaller the particle diameter, the higher the sensitivity to infrared rays.

また、上記の物質以外に、赤外線又は近赤外線を吸収する染料も、赤外線吸収物質として使用することができる。   In addition to the above substances, dyes that absorb infrared rays or near infrared rays can also be used as infrared absorbing materials.

これら染料としては、700nm以上20000nm以下の範囲に極大吸収波長を有するものであればどのようなものを用いてもよいが、好ましい染料としては、シアニン系、フタロシアニン系、フタロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロシアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、インドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキサジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ系、ケトンイミン系、ジアゾ系、ポリメチン系、オキサジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチルベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオレノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、1:2型金属錯塩系、分子間型CT系、キノリン系、キノフタロン系、及びフルギド系の酸性染料、塩基性染料、色素、及び油溶性染料;トリフェニルメタン系ロイコ色素;カチオン染料;アゾ系分散染料;ベンゾチオピラン系スピロピラン;3,9−ジブロモアントアントロン;インダンスロン;フェノールフタレイン;スルホフタレイン;エチルバイオレット;メチルオレンジ;フルオレッセイン;メチルビオロゲン;メチレンブルー;並びにジムロスベタイン等を挙げることができる。   Any dye may be used as long as it has a maximum absorption wavelength in the range of 700 nm to 20000 nm. Preferred dyes include cyanine, phthalocyanine, phthalocyanine metal complex, naphthalocyanine. , Naphthalocyanine metal complex, dithiol metal complex, naphthoquinone, anthraquinone, indophenol, indoaniline, pyrylium, thiopyrylium, squarylium, croconium, diphenylmethane, triphenylmethane, triphenylmethane Phthalide, triallylmethane, phenothiazine, phenoxazine, fluoran, thiofluorane, xanthene, indolylphthalide, spiropyran, azaphthalide, chromenopyrazole, leuco -Lamin, rhodamine lactam, quinazoline, diazaxanthene, bislactone, fluorenone, monoazo, ketoneimine, diazo, polymethine, oxazine, nigrosine, bisazo, bisazostilbene, bisazooxa Diazole, bisazofluorenone, bisazohydroxyperinone, azochrome complex, trisazotriphenylamine, thioindigo, perylene, nitroso, 1: 2 type metal complex, intermolecular CT, Quinoline-based, quinophthalone-based, and fulgide-based acid dyes, basic dyes, pigments, and oil-soluble dyes; triphenylmethane-based leuco pigments; cationic dyes; azo-based disperse dyes; benzothiopyran-based spiropyrans; ; Indanthrone; Phenol Tarein; sulfo phthalein, ethyl violet, methyl orange; can be given as well as the gym loss betaine; fluorescein; methyl viologen; methylene blue.

これらの赤外線吸収物質の中でも、最大吸収波長が750nm以上2000nm以下の範囲にある、シアニン系染料、アズレニウム系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、アゾ系分散染料、ビスアゾスチルベン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、ペリレン系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン金属錯体系染料、ポリメチン系染料、ジチオールニッケル錯体系染料、インドアニリン金属錯体染料、分子間型CT染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、及びニグロシン染料等を好適に用いることができる。これらの赤外線吸収物質は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、吸収波長の異なる2種以上の赤外線吸収物質を併用することにより、発信波長の異なる2種以上のレーザーに対応することもできる。   Among these infrared absorbing materials, cyanine dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, croconium dyes, azo disperse dyes, bisazostilbene dyes, naphthoquinone dyes having a maximum absorption wavelength in the range of 750 nm to 2000 nm. Dyes, anthraquinone dyes, perylene dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine metal complex dyes, polymethine dyes, dithiol nickel complex dyes, indoaniline metal complex dyes, intermolecular CT dyes, benzothiopyran spiropyran, and nigrosine dyes Etc. can be used suitably. These infrared absorbing materials may be used alone or in combination of two or more. Further, by using two or more types of infrared absorbing materials having different absorption wavelengths, it is possible to cope with two or more types of lasers having different transmission wavelengths.

赤外線吸収物質の含有量は、特に限定されるものではないが、バインダー樹脂100質量部に対し、0.001質量部以上10質量部以下であることが好ましく、0.05質量部以上5質量部以下であることが更に好ましい。上記含有量が0.001質量部以上であることにより赤外線レーザー光に対する感度を十分に向上させることができ、10質量部以下であることにより被膜柔軟性を良好に維持することができる。   The content of the infrared absorbing material is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 10 parts by mass, and 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. More preferably, it is as follows. When the content is 0.001 part by mass or more, the sensitivity to infrared laser light can be sufficiently improved, and when the content is 10 parts by mass or less, the film flexibility can be maintained well.

((b)紫外線吸収性物質)
紫外線吸収性物質としては、紫外線を吸収するものであれば特に限定されるものではないが、カーボンブラック及びグラファイトを用いることが好ましい。ここで、カーボンブラック及びグラファイトは上述した赤外線吸収性物質としての作用と、紫外線吸収性物質としての作用とを有し、経済性及び取り扱いの面からも好ましいため、特に好適に用いることができる。
((B) UV-absorbing substance)
The ultraviolet absorbing substance is not particularly limited as long as it absorbs ultraviolet rays, but carbon black and graphite are preferably used. Here, since carbon black and graphite have the above-described action as an infrared absorbing substance and the action as an ultraviolet absorbing substance, and are preferable from the viewpoint of economy and handling, they can be used particularly suitably.

紫外線吸収性物質は、所定の波長におけるマスク層の光学密度が2.0以上となるように添加することが好ましい。具体的には、バインダー樹脂100質量部に対し、5質量部以上40質量部以下であることが好ましく、15質量部以上25質量部以下であることが更に好ましい。上記含有量が5質量部以上であることにより、紫外線を十分に遮蔽することができ、40質量部以下であることにより被膜柔軟性を良好に維持することができる。また、赤外線吸収性物質と紫外線吸収性物質を同一の物質とする場合には、バインダー樹脂100質量部に対し、10質量部以上30質量部以下であることが好ましい。   The ultraviolet absorbing substance is preferably added so that the optical density of the mask layer at a predetermined wavelength is 2.0 or more. Specifically, it is preferably 5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, and more preferably 15 parts by mass or more and 25 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin. When the content is 5 parts by mass or more, ultraviolet rays can be sufficiently shielded, and when the content is 40 parts by mass or less, the coating flexibility can be favorably maintained. Moreover, when making an infrared absorptive substance and an ultraviolet absorptive substance into the same substance, it is preferable that they are 10 to 30 mass parts with respect to 100 mass parts of binder resin.

((c)ポリビニルブチラール)
本発明において、マスク層は、バインダー樹脂としてポリビニルブチラールを含む。赤外線レーザー光を照射して本発明のマスク層を選択的に除去した場合、感光性樹脂層上にはマスク層の構成材料からなる残存膜が形成される。ここで、当該残存膜が空気中の酸素の透過を遮断することができるので、空気中の酸素により、マスク層を除去された部位の感光性樹脂層の重合反応が阻害されることを防止できる。
((C) polyvinyl butyral)
In the present invention, the mask layer contains polyvinyl butyral as a binder resin. When the mask layer of the present invention is selectively removed by irradiation with infrared laser light, a residual film made of the constituent material of the mask layer is formed on the photosensitive resin layer. Here, since the residual film can block the permeation of oxygen in the air, it can be prevented that the polymerization reaction of the photosensitive resin layer in the portion where the mask layer is removed is hindered by the oxygen in the air. .

マスク層におけるポリビニルブチラールの含有量は、70質量%以上90質量%以下であることが好ましい。ポリビニルブチラールの含有量が70質量%以上であることにより、マスク層の柔軟性を良好に保つことができると共に、マスク層を選択的に除去した後に感光性樹脂層上に残る残存膜の酸素遮断性能を良好に保つことができる。また、上記含有量が90質量%以下であることにより、赤外線吸収性物質や紫外線吸収性物質等の含有量を十分に保つことができ、赤外線レーザー光に対する感度を十分に維持できると共に、紫外線を十分に遮蔽することができる。   The content of polyvinyl butyral in the mask layer is preferably 70% by mass or more and 90% by mass or less. When the content of polyvinyl butyral is 70% by mass or more, the flexibility of the mask layer can be kept good, and oxygen remaining in the remaining film remaining on the photosensitive resin layer after selectively removing the mask layer is blocked. The performance can be kept good. In addition, when the content is 90% by mass or less, the content of the infrared absorbing material, the ultraviolet absorbing material, or the like can be sufficiently maintained, the sensitivity to the infrared laser beam can be sufficiently maintained, and the ultraviolet ray can be prevented. It can be shielded sufficiently.

本発明において、マスク層に用いられるポリビニルブチラールの分子量は、特に限定されるものではないが、40000以上であることが好ましい。ポリビニルブチラールの分子量が40000以上であることにより、皮膜柔軟性を良好に保つことができる。   In the present invention, the molecular weight of polyvinyl butyral used for the mask layer is not particularly limited, but is preferably 40000 or more. When the molecular weight of polyvinyl butyral is 40000 or more, the film flexibility can be kept good.

(その他の成分)
本発明においては、マスク層には、所望に応じ界面活性剤、分散剤、可塑剤、接着性改良剤、及び塗布助剤等を添加することができる。可塑剤は、本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体を曲げたり、たわめたりしたときに、しわが発生することを抑制するために添加するものである。この可塑剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、エチレングリコールジベンゾエート、グリセリルカーボネート、ポリエチレングリコール、トリブチルシトレート、及びウレタン系オリゴマー等を挙げることができる。また、界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が好ましい。
(Other ingredients)
In the present invention, a surfactant, a dispersant, a plasticizer, an adhesion improver, a coating aid, and the like can be added to the mask layer as desired. The plasticizer is added to suppress the generation of wrinkles when the multilayer laminate for producing a flexographic printing plate of the present invention is bent or bent. Examples of the plasticizer include triphenyl phosphite, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ethylene glycol dibenzoate, glyceryl carbonate, polyethylene glycol, tributyl citrate, and urethane oligomer. Further, as the surfactant, a fluorine-based surfactant is preferable.

(マスク層の膜厚)
マスク層の膜厚は、赤外線レーザー光を照射したときに速やかに除去される程度の膜厚であって、紫外線を効果的に遮断できる程度の膜厚とすることが好ましい。具体的には、0.05μm以上20μm以下であることが好ましく、0.1μm以上10μm以下であることが更に好ましい。
(Thickness of mask layer)
The thickness of the mask layer is preferably such that it can be removed quickly when irradiated with infrared laser light and can effectively block ultraviolet rays. Specifically, it is preferably 0.05 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less.

[(D)カバーフィルム]
本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体が有するカバーフィルムとしては、特に限定されるものではなく、凸版印刷版製造用多層積層体に用いられる従来公知のカバーフィルムを用いることができる。即ち、カバーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ナイロン6、ナイロン4、ナイロン66、ナイロン12、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンスフィド、及びポリフェニレンオキサイド等の樹脂を含むフィルムを用いることができる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート、及びポリエチレン−2,6−ナフタレートを好ましく用いることができるが、可撓性に優れ、且つ寸法安定性に優れるという点で、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。上記の樹脂は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。カバーフィルムの膜厚は、50μm以上400μm以下であることが好ましく、75μm以上300μm以下であることが更に好ましい。なお、カバーフィルムとマスク層との間には、必要に応じて剥離層を形成してもよい。
[(D) Cover film]
The cover film of the multilayer laminate for producing a flexographic printing plate of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known cover film used for the multilayer laminate for producing a relief printing plate can be used. That is, as a cover film, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, nylon 6, nylon 4, nylon 66, nylon 12, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyetherimide, polysulfone, polyphenylene A film containing a resin such as sfido and polyphenylene oxide can be used. Among these, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate can be preferably used, but polyethylene terephthalate is particularly preferable in terms of excellent flexibility and excellent dimensional stability. The above resins may be used alone or in combination. The thickness of the cover film is preferably from 50 μm to 400 μm, and more preferably from 75 μm to 300 μm. In addition, you may form a peeling layer between a cover film and a mask layer as needed.

[フレキソ印刷版製造用多層積層体の製造方法]
本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体の製造方法としては、従来公知の方法を採用することができ、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、支持体上に感光性樹脂層を形成し、次いでコーティング又はラミネーション技術により、マスク層を形成することにより製造される。マスク層は、一般に、赤外線吸収物質、紫外線吸収物質、ポリビニルブチラール、及び溶剤を含むマスク層形成用組成物をカバーフィルム上に塗布することにより形成される。この際、マスク層形成用組成物は、スプレーコーティングを含む任意のコーティング技術を使用して塗布することができる。また、マスク層は、感光性樹脂層上にマスク層形成用組成物を塗布することによっても形成することができる。
[Production method of multilayer laminate for flexographic printing plate production]
As a method for producing the multilayer laminate for producing a flexographic printing plate of the present invention, a conventionally known method can be adopted and is not particularly limited. Specifically, for example, it is manufactured by forming a photosensitive resin layer on a support and then forming a mask layer by a coating or lamination technique. The mask layer is generally formed by applying a mask layer forming composition containing an infrared absorbing material, an ultraviolet absorbing material, polyvinyl butyral, and a solvent on a cover film. At this time, the composition for forming a mask layer can be applied using any coating technique including spray coating. Moreover, a mask layer can also be formed by apply | coating the composition for mask layer formation on the photosensitive resin layer.

<フレキソ印刷版の製造方法>
本発明の凸版印刷版の製造方法である、フレキソ印刷版の製造方法は、本発明のフレキソ印刷版製造用多層積層体からフレキソ印刷版を製造するものであって、マスク層を、赤外線レーザー光でパターニングする工程(工程(1))と、パターニングされたマスク層を介して感光性樹脂層を紫外線で露光する工程(工程(2))と、マスク層を除去すると共に、露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程(工程(3))と、を含む。
<Method for producing flexographic printing plate>
The method for producing a flexographic printing plate, which is a method for producing a relief printing plate according to the present invention, is a method for producing a flexographic printing plate from a multilayer laminate for producing a flexographic printing plate according to the present invention. The step of patterning (step (1)), the step of exposing the photosensitive resin layer with ultraviolet rays through the patterned mask layer (step (2)), the mask layer is removed, and the photosensitivity after exposure And a step of developing the functional resin layer (step (3)).

工程(1)において、マスク層をパターニングするために用いられる赤外線レーザーとしては、特に限定されるものではないが、波長が750nm以上2000nm以下の赤外線レーザー光を照射可能な赤外線レーザーを用いることができる。具体的には、アルゴンイオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、ヘリウム−カドミウムレーザー、ルビーレーザー、ガラスレーザー、ガラスレーザー、チタンレーザー、サファイアレーザー、色素レーザー、窒素レーザー、金属蒸気レーザー、半導体レーザー、及びYAGレーザー等の各種レーザーの中から条件に適したものを用いることができる。これらの赤外線レーザーの中でも、750nmから880nmの半導体レーザーや、1060nmのNd−YAGレーザーを好適に用いることができる。これらの赤外線レーザーの発生ユニットは、駆動系ユニットと共にコンピューターで制御されており、感光性樹脂層上のマスク層上に赤外線レーザー光を選択的に照射することにより、フレキソ印刷版製造用多層積層体上に画像を描画することができる。   In the step (1), the infrared laser used for patterning the mask layer is not particularly limited, but an infrared laser capable of irradiating infrared laser light having a wavelength of 750 nm or more and 2000 nm or less can be used. . Specifically, argon ion laser, krypton ion laser, helium-neon laser, helium-cadmium laser, ruby laser, glass laser, glass laser, titanium laser, sapphire laser, dye laser, nitrogen laser, metal vapor laser, semiconductor laser , And various lasers such as a YAG laser, which are suitable for conditions can be used. Among these infrared lasers, a semiconductor laser having a wavelength of 750 to 880 nm and a Nd-YAG laser having a wavelength of 1060 nm can be preferably used. These infrared laser generation units are controlled by a computer together with a drive system unit, and by selectively irradiating infrared laser light onto a mask layer on a photosensitive resin layer, a multilayer laminate for producing a flexographic printing plate An image can be drawn on top.

工程(2)において、感光性樹脂層を露光する紫外線としては、150nm以上400nm以下の波長域の紫外線を用いることが好ましい。このような紫外線の光源としては、高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、及びキセノンランプを挙げることができる。工程(3)における現像時の未硬化部の洗い出しに対して、露光されたレリーフ像の安定性をより向上させるために、工程(2)において支持体の側からも全面露光を行ってもよい。   In the step (2), it is preferable to use an ultraviolet ray having a wavelength range of 150 nm or more and 400 nm or less as the ultraviolet ray for exposing the photosensitive resin layer. Examples of such an ultraviolet light source include a high-pressure mercury lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a carbon arc lamp, and a xenon lamp. In order to further improve the stability of the exposed relief image with respect to washing out uncured portions during development in step (3), the entire surface may be exposed from the support side in step (2). .

工程(3)においては、現像液により、マスク層と未露光の感光性樹脂層とが溶解除去される。現像に用いられる現像液としては、マスク層や未露光の感光性樹脂層を溶解可能なものであれば特に限定されず、有機溶剤、水、及び水性又は半水性溶液のいずれをも用いてもよい。現像液の選択は、除去されるべき樹脂の化学的性質に合わせて、適宜行うことができる。適当な有機溶媒現像液としては、芳香族若しくは脂肪族炭化水素溶媒、芳香族若しくは脂肪族ハロ炭化水素溶媒、又はそれらの溶媒と適当なアルコールとの混合物を挙げることができる。また、適当な半水性溶液としては、水と、水に混和しうる有機溶剤と、アルカリ性材料とを含有している溶液を挙げることができ、適当な水性溶液としては、水と、アルカリ性材料とを含有している溶液を挙げることができる。   In step (3), the mask layer and the unexposed photosensitive resin layer are dissolved and removed by the developer. The developer used for development is not particularly limited as long as it can dissolve the mask layer and the unexposed photosensitive resin layer, and any of organic solvents, water, and aqueous or semi-aqueous solutions may be used. Good. The selection of the developer can be appropriately performed according to the chemical properties of the resin to be removed. Suitable organic solvent developers include aromatic or aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic or aliphatic halohydrocarbon solvents, or mixtures of these solvents with suitable alcohols. Further, as a suitable semi-aqueous solution, a solution containing water, an organic solvent miscible with water, and an alkaline material can be mentioned, and as a suitable aqueous solution, water, an alkaline material and Can be mentioned.

以上の現像液の具体例としては、ヘプチルアセテート及び3−メトキシブチルアセテート等のエステル類;石油留分、トルエン、及びデカリン等の炭化水素類;テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミン等のアミン類;並びに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、及びアンモニア等の水溶液を挙げることができる。これらの溶剤にプロピルアルコール、ブチルアルコール、及びペンチルアルコール等のアルコール類を混合したものを用いることも可能である。現像に際しては、上記現像液に露光後のフレキソ印刷版製造用多層積層体を浸漬してもよいし、露光後のフレキソ印刷版製造用多層積層体に対し、ノズルから上記現像液を噴射してもよい。   Specific examples of the developer include esters such as heptyl acetate and 3-methoxybutyl acetate; hydrocarbons such as petroleum fractions, toluene and decalin; chlorine-based solvents such as tetrachloroethylene; monoethanolamine, diethanolamine, And amines such as triethanolamine; and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and ammonia. A mixture of these solvents with alcohols such as propyl alcohol, butyl alcohol, and pentyl alcohol can also be used. During development, the exposed multilayer laminate for manufacturing a flexographic printing plate may be immersed in the developer, or the developer may be sprayed from a nozzle onto the multilayer stack for manufacturing a flexographic printing plate after exposure. Also good.

本発明の凸版印刷版の製造方法においては、工程(1)においてマスク層をパターニングした際、マスク層が除去された部位の感光性樹脂層上に、マスク層の構成材料から成る残存膜が形成される。ここで、この残存膜にはポリビニルブチラールが含有されているため、残存膜が酸素を十分に遮蔽し、感光性樹脂層が酸素の影響を受けることを防止できる。   In the method for producing a relief printing plate of the present invention, when the mask layer is patterned in the step (1), a residual film made of the constituent material of the mask layer is formed on the photosensitive resin layer in a portion where the mask layer is removed. Is done. Here, since the residual film contains polyvinyl butyral, the residual film sufficiently shields oxygen, and the photosensitive resin layer can be prevented from being affected by oxygen.

以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated, this invention is not limited to a following example at all.

<実施例1>
「ビュートバーB76」(ポリビニルブチラール、ソリューシア社製)をトルエン・エタノール混合溶媒(トルエン/エタノール=1/1)に溶解し、10質量%の均質な溶液を調製した。これに「MHIブラック#217」(カーボンブラック、顔料分濃度30質量%、御国色素社製)を、ポリビニルブチラール100質量部に対してカーボンブラックが30質量部となるように加え、マスク層形成用組成物とした。次いで、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなるカバーフィルム上に上記マスク層形成用組成物を塗布し、80℃で5分間乾燥して、膜厚2μmのマスク層を得た。
<Example 1>
“But Buter B76” (polyvinyl butyral, manufactured by Solusia) was dissolved in a toluene / ethanol mixed solvent (toluene / ethanol = 1/1) to prepare a 10% by mass homogeneous solution. To this, “MHI Black # 217” (carbon black, pigment content concentration of 30% by mass, manufactured by Mikuni Dye Co., Ltd.) was added so that the carbon black was 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyvinyl butyral. It was set as the composition. Subsequently, the said composition for mask layer formation was apply | coated on the cover film which consists of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 100 micrometers, and it dried for 5 minutes at 80 degreeC, and obtained the mask layer with a film thickness of 2 micrometers.

「D−1155」(スチレン−ブタジエン共重合体、質量平均分子量240000、JSRエラストマー社製)100質量部、「ニッソーPB−1000」(1,2−ポリブタジエン、質量平均分子量1000、日ソー社製)70質量部、トリメチロールプロパンアクリレート10質量部、メトキシフェニルアセトン3質量部、2,6−tert−ブチル−4−ヒドロキシルトルエン0.05質量部、「オイルブルー#503」(染料、オリエント化学社製)0.002質量部、及びテトラヒドロフラン0.2質量部を混合して、感光性樹脂組成物を調製した。この感光性樹脂組成物を高粘度ポンプで押出機に圧入し、押出機内で混練しながら、支持体となるポリエチレンテレフタレートシート上にT型ダイスから1.7mmの厚さで押し出して、感光性樹脂層を得た。マスク層と感光性樹脂層とを、ラミネートローラーを用いてラミネートし、凸版印刷版製造用多層積層体を作成した。   "D-1155" (styrene-butadiene copolymer, mass average molecular weight 240000, manufactured by JSR Elastomer Co., Ltd.) 100 parts by mass, "Nissau PB-1000" (1,2-polybutadiene, mass average molecular weight 1000, manufactured by Nisso Corporation) 70 parts by mass, 10 parts by mass of trimethylolpropane acrylate, 3 parts by mass of methoxyphenylacetone, 0.05 parts by mass of 2,6-tert-butyl-4-hydroxyltoluene, “oil blue # 503” (dye, manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.) ) 0.002 part by mass and 0.2 part by mass of tetrahydrofuran were mixed to prepare a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition is pressed into an extruder with a high viscosity pump, and while being kneaded in the extruder, the photosensitive resin composition is extruded from a T-die to a thickness of 1.7 mm onto a polyethylene terephthalate sheet serving as a support. A layer was obtained. The mask layer and the photosensitive resin layer were laminated using a laminating roller to prepare a multilayer laminate for producing a relief printing plate.

<比較例1>
マスク層形成用組成物に用いる「ビュートバーB76」の代わりに、「マクロメルト 6900」(ポリアミド樹脂、ヘンケル社製)を用いた点以外は、実施例1と同様の方法により凸版印刷版製造用多層積層体を製造した。
<Comparative Example 1>
For producing a relief printing plate in the same manner as in Example 1 except that “Macromelt 6900” (polyamide resin, manufactured by Henkel) was used instead of “Butt Bar B76” used in the mask layer forming composition. A multilayer laminate was produced.

<比較例2>
マスク層形成用組成物に用いる「ビュートバーB76」の代わりに、「スミテート HF51」(エチレン−酢酸ビニル共重合体、住友化学社製)を用いた点以外は、実施例1と同様の方法によりマスク層形成用組成物を調製した。次いで、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなるカバーフィルム上に上記マスク層形成用組成物を塗布し、80℃で5分間乾燥して、膜厚2μmのマスク層を形成したところ、マスク層中にカーボンブラックが均一に分散されず、均一なマスク層を形成できなかった。
<Comparative example 2>
In the same manner as in Example 1 except that “Smitate HF51” (ethylene-vinyl acetate copolymer, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was used instead of “Butt Bar B76” used in the composition for forming a mask layer. A composition for forming a mask layer was prepared. Next, the composition for forming a mask layer was applied on a cover film made of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and dried at 80 ° C. for 5 minutes to form a mask layer having a thickness of 2 μm. Carbon black was not uniformly dispersed, and a uniform mask layer could not be formed.

<評価>
実施例1及び比較例1の凸版印刷版製造用多層積層体に対し、370nmに中心波長を有する紫外線ランプにより、75mJ/cmにて支持体側からバック露光した。次いで、凸版印刷版製造用多層積層体のカバーフィルムを剥離し、NIRレーザー書き込み装置(「CDI−spark」、エスコグラフィックス社製)のドラム上に固定し、800rpmで回転させて、19WのエネルギーのNIRレーザーを用いて解像度が2540dpiになるようにレーザーを照射し、マスク層を選択的に除去した。
<Evaluation>
The multilayer laminate for producing a relief printing plate of Example 1 and Comparative Example 1 was back-exposed from the support side at 75 mJ / cm 2 with an ultraviolet lamp having a center wavelength of 370 nm. Next, the cover film of the multilayer laminate for producing a relief printing plate is peeled off, fixed on the drum of a NIR laser writing apparatus (“CDI-spark”, manufactured by Esco Graphics), rotated at 800 rpm, and energy of 19 W The NIR laser was used to irradiate the laser so that the resolution was 2540 dpi, and the mask layer was selectively removed.

次いで、370nmに中心波長を有する紫外線ランプにより、10000mJ/cmにてマスク層側からメイン露光を行った。芳香族炭化水素系現像液「FDO−S2」(東京応化工業社製)を現像液として、液温25℃で4分間現像を行った。得られた版面には、現像残渣等の再付着は認められなかった。現像処理後、55℃で50分間乾燥させた後、250nmに中心波長を有する紫外線ランプを用いて後処理を行い、更に370nmに中心波長を有する紫外線ランプにより、3000mJ/cmにて後露光を行って、凸版印刷版を得た。得られた凸版印刷版について、電子顕微鏡観察を行い、150lpi最小完全再現網点%を評価した。 Next, main exposure was performed from the mask layer side at 10,000 mJ / cm 2 with an ultraviolet lamp having a center wavelength at 370 nm. Development was performed for 4 minutes at a liquid temperature of 25 ° C. using an aromatic hydrocarbon developer “FDO-S2” (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) as a developer. No redeposition of development residue or the like was observed on the obtained plate surface. After the development processing, the film is dried at 55 ° C. for 50 minutes, and then subjected to post-processing using an ultraviolet lamp having a central wavelength at 250 nm, and further post-exposure is performed at 3000 mJ / cm 2 using an ultraviolet lamp having a central wavelength at 370 nm. A letterpress printing plate was obtained. The obtained relief printing plate was observed with an electron microscope, and 150 lpi minimum complete reproduction halftone dot% was evaluated.

Figure 2009058901
Figure 2009058901

表1より、マスク層に含有される樹脂として、ポリビニルブチラールを用いた実施例1では、ポリアミド樹脂を用いた比較例1よりも寸法の小さい網点が再現されていることが分かる。この結果より、本発明の凸版印刷版製造用多層積層体では、感光性樹脂層が酸素の影響を受けにくく、解像度の高いパターンを得られることが分かる。   From Table 1, it can be seen that in Example 1 using polyvinyl butyral as the resin contained in the mask layer, a halftone dot having a smaller size than that of Comparative Example 1 using polyamide resin is reproduced. From this result, it can be seen that in the multi-layer laminate for producing a relief printing plate of the present invention, the photosensitive resin layer is hardly affected by oxygen and a pattern with high resolution can be obtained.

Claims (3)

(A)支持体上に、(B)感光性樹脂層と、(C)マスク層と、がこの順に積層されてなり、
前記マスク層が、
(a)少なくとも1種の赤外線吸収性物質、
(b)少なくとも1種の紫外線吸収性物質、及び
(c)ポリビニルブチラールを含む、凸版印刷版製造用多層積層体。
(A) On the support, (B) a photosensitive resin layer and (C) a mask layer are laminated in this order,
The mask layer is
(A) at least one infrared absorbing substance,
A multilayer laminate for producing a relief printing plate, comprising (b) at least one UV-absorbing substance, and (c) polyvinyl butyral.
前記感光性樹脂層は、バインダー樹脂、光重合性モノマー、及び光重合開始剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の凸版印刷版製造用多層積層体。   The multilayer laminate for producing a relief printing plate according to claim 1, wherein the photosensitive resin layer contains a binder resin, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator. 請求項1又は2に記載の凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造するための凸版印刷版の製造方法であって、
前記マスク層を、赤外線レーザー光でパターニングする工程と、
パターニングされた前記マスク層を介して前記感光性樹脂層を紫外線で露光する工程と、
前記マスク層を除去すると共に、露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程と、を含む、凸版印刷版の製造方法。
A method for producing a relief printing plate for producing a relief printing plate from the multilayer laminate for producing a relief printing plate according to claim 1 or 2,
Patterning the mask layer with infrared laser light;
Exposing the photosensitive resin layer with ultraviolet rays through the patterned mask layer;
Removing the mask layer, and developing the photosensitive resin layer after the exposure.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276916A (en) * 2009-05-29 2010-12-09 Toyobo Co Ltd Photosensitive letterpress printing plate precursor
US8313888B2 (en) * 2008-06-11 2012-11-20 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive flexographic printing original plate
US8850978B2 (en) 2008-07-16 2014-10-07 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive letterpress printing original plate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001260551A (en) * 2000-03-21 2001-09-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Multilayer photosensitive structure for flexography and manufacturing method of plate material for flexography using the same
JP2005112975A (en) * 2003-10-07 2005-04-28 Hakkooru Chemical Kk Ultraviolet light absorber for use in photosensitive laminated printing original plate for letterpress printing and method for producing the ultraviolet light absorber
WO2005101130A1 (en) * 2004-04-10 2005-10-27 Eastman Kodak Company Method of producing a relief image
JP2006251500A (en) * 2005-03-11 2006-09-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Original plate of photosensitive layered printing for letter press print, and method for manufacturing letter press printing plate using original plate of photosensitive layered printing for letter press print

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001260551A (en) * 2000-03-21 2001-09-25 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Multilayer photosensitive structure for flexography and manufacturing method of plate material for flexography using the same
JP2005112975A (en) * 2003-10-07 2005-04-28 Hakkooru Chemical Kk Ultraviolet light absorber for use in photosensitive laminated printing original plate for letterpress printing and method for producing the ultraviolet light absorber
WO2005101130A1 (en) * 2004-04-10 2005-10-27 Eastman Kodak Company Method of producing a relief image
JP2007534012A (en) * 2004-04-10 2007-11-22 イーストマン コダック カンパニー Relief image manufacturing method
JP2006251500A (en) * 2005-03-11 2006-09-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Original plate of photosensitive layered printing for letter press print, and method for manufacturing letter press printing plate using original plate of photosensitive layered printing for letter press print

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8313888B2 (en) * 2008-06-11 2012-11-20 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive flexographic printing original plate
US8850978B2 (en) 2008-07-16 2014-10-07 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive letterpress printing original plate
JP2010276916A (en) * 2009-05-29 2010-12-09 Toyobo Co Ltd Photosensitive letterpress printing plate precursor

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