JP2009053673A - Xy stage and photographing apparatus - Google Patents

Xy stage and photographing apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2009053673A
JP2009053673A JP2008169371A JP2008169371A JP2009053673A JP 2009053673 A JP2009053673 A JP 2009053673A JP 2008169371 A JP2008169371 A JP 2008169371A JP 2008169371 A JP2008169371 A JP 2008169371A JP 2009053673 A JP2009053673 A JP 2009053673A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
yoke
magnet
fixed
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008169371A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5140502B2 (en
Inventor
Hideo Kobayashi
英雄 小林
Yukitaka Takeshita
幸孝 竹下
Keiji Okubo
恵慈 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujinon Corp
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujinon Corp
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujinon Corp, Fujifilm Corp filed Critical Fujinon Corp
Priority to JP2008169371A priority Critical patent/JP5140502B2/en
Publication of JP2009053673A publication Critical patent/JP2009053673A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5140502B2 publication Critical patent/JP5140502B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an XY stage that includes a driving mechanism smaller in size than the former one, and a photographing apparatus including the XY stage. <P>SOLUTION: A first substrate fixing part 1130A which is spread in a Z direction and an X direction to creep to the outside of an outer wall of a base substance 111, on which a first coil substrate 1131A is fixed, and whose dimension in the Z direction is shorter than the dimension of the base substance 111 in the Z direction, is provided on an X stage 113A. As for an X stage driving mechanism, a third yoke Y12 is disposed at a position where it avoids interference with the first substrate fixing part 1130A in the Z direction between the outer wall of the base substance 111 and the first coil substrate 1131A. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基体と、その基体をZ方向に貫く中心軸に直交するXY平面内で基体に対し相対的に移動される被移動ステージを備えたXYステージおよびそのXYステージを備えた撮影装置に関する。   The present invention relates to an XY stage including a base, a movable stage that is moved relative to the base in an XY plane perpendicular to a central axis that penetrates the base in the Z direction, and an imaging apparatus including the XY stage. .

撮影装置の中には、ユーザの手ぶれ等による撮影画像の乱れを抑制するために手振れ補正機構が内蔵されているものがある。この手ぶれ補正機構としてはレンズ又は撮像素子といった光学部品を光軸に対して直交する平面内で移動自在にしておいて、手ぶれに応じてそのレンズ又は撮像素子を動かすことにより手ぶれの補正が行なわれるものが多い。   Some imaging apparatuses have a built-in camera shake correction mechanism to suppress disturbance of a captured image due to a user's camera shake or the like. As this camera shake correction mechanism, an optical component such as a lens or an image sensor is movable within a plane orthogonal to the optical axis, and the camera shake is corrected by moving the lens or the image sensor in accordance with the camera shake. There are many things.

上記光学部品を動かすにあたっては特許文献1にあるようなXステージとYステージとを備えたXYステージが良く用いられる。   In moving the optical component, an XY stage having an X stage and a Y stage as disclosed in Patent Document 1 is often used.

その特許文献1では、なるべく小さな駆動力で各ステージを駆動して被移動部材を手ぶれに応じて機敏に動かすことができるようにするために駆動源として非常に応答性の良いボイスコイルモータが用いられている。さらにこの特許文献1では、このボイスコイルモータの動きに同調して被移動部材を俊敏に動かすことができるようにするために、4本のガイド軸を撮像素子の周囲に配設してそれらのガイド軸に沿ってXステージ、Yステージを独立に駆動することで被移動部材を俊敏に動かすことができるようにすることを提案している。さらに特許文献2では、ボイスコイルモータを構成する、電流の供給を受けてマグネットとの相互作用により駆動力を発生するコイルに、充分な駆動力を発生させるためにコの字型のヨークが用いられている。   In Patent Document 1, a highly responsive voice coil motor is used as a drive source in order to drive each stage with a drive force as small as possible and to move a moved member quickly according to hand movement. It has been. Furthermore, in this patent document 1, in order to be able to move a moving member quickly in synchronization with the movement of the voice coil motor, four guide shafts are arranged around the image pickup element and those members are moved. It has been proposed that the moved member can be moved quickly by independently driving the X stage and the Y stage along the guide axis. Further, in Patent Document 2, a U-shaped yoke is used to generate a sufficient driving force for a coil that constitutes a voice coil motor and generates a driving force by interaction with a magnet upon receiving a current. It has been.

しかしこのコの字型のヨークを採用すると、充分な駆動力は得られるものの、コの字型のヨークを配設するスペースが必要になって必要以上にXステージ駆動機構、Yステージ駆動機構が大型化してXYステージ全体の大きさが大きくなってしまって小型の機器に搭載することができなくなる恐れがある。
特開2006−215095号公報 特開2005−242325号公報
However, when this U-shaped yoke is adopted, sufficient driving force can be obtained, but a space for arranging the U-shaped yoke is required, and the X stage driving mechanism and Y stage driving mechanism are more than necessary. There is a risk that the overall size of the XY stage becomes large due to an increase in size and cannot be mounted on a small device.
JP 2006-215095 A JP 2005-242325 A

本発明は、上記事情に鑑み、今までよりも小型の駆動機構を備えたXYステージ、およびそのXYステージを備えたコンパクトな撮影装置を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide an XY stage having a smaller driving mechanism than before and a compact photographing apparatus having the XY stage.

上記目的を達成するための本発明のXYステージは、基体と、その基体をZ方向に貫く中心軸に直交するXY平面内でその基体に対し相対的に移動される被移動ステージを備えたXYステージにおいて、
上記中心軸を半周にわたって取り巻き、X方向にスライド自在に上記基体に支持されるとともに、上記被移動ステージをX方向に拘束しY方向にスライド自在に支持して、X方向へのスライドによりその被移動ステージをX方向に移動させるXステージと、
上記中心軸を半周にわたって取り巻くことにより上記Xステージと共同してその中心軸を全周にわたって取り巻き、Y方向にスライド自在に上記基体に支持されるとともに、上記被移動ステージをY方向に拘束しX方向にスライド自在に支持してY方向へのスライドによりその被移動ステージをY方向に移動させるYステージと、
上記XステージをX方向に駆動するXステージ駆動機構と、
上記YステージをY方向に駆動するYステージ駆動機構とを備え、
上記Xステージ駆動機構が、
X−Z平面に広がって上記Xステージに対向した第1のマグネットと、該第1のマグネットの、上記Xステージから見たときの裏面に固定された第1のヨークとからなる第1の接合体と、
上記Xステージの、上記第1のマグネットに対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、上記第1のマグネットとの相互作用により該XステージをX方向に駆動する力を発生する第1のコイルが形成された第1のコイル基板とを備え、
上記Yステージ駆動機構が、
Y−Z平面に広がって上記Yステージに対向した第2のマグネットと、その第2のマグネットの、上記Yステージから見たときの裏面に固定された第2のヨークとからなる第2の接合体と、
上記Yステージの、上記第2のマグネットに対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、上記第2のマグネットとの相互作用によりそのYステージをY方向に駆動する力を発生する第2のコイルが形成された第2のコイル基板とを備え、
上記Xステージが、上記基体の外壁外側に回り込んでZ方向およびX方向に広がり上記第1のコイル基板が固定された、Z方向の寸法が上記基体のZ方向の寸法よりも短い第1の基板固定部を有し、
上記Xステージ駆動機構が、上記基体の外壁と上記第1のコイル基板との間の、Z方向について上記第1の基板固定部との干渉が免れた位置に配置された第3のヨークを備え、
上記Yステージが、上記基体の外壁外側に回り込んでZ方向およびY方向に広がり上記第2のコイル基板が固定された、Z方向の寸法が上記基体のZ方向の寸法よりも短い第2の基板固定部を有し、
上記Yステージ駆動機構が、上記基体の外壁と上記第2のコイル基板との間の、Z方向について上記第2の基板固定部との干渉が免れた位置に配置された第4のヨークを備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, an XY stage of the present invention includes an XY stage including a base body and a movable stage that is moved relative to the base body in an XY plane perpendicular to a central axis that penetrates the base body in the Z direction. On stage
The central axis is wrapped around a half circumference and supported by the base body so as to be slidable in the X direction. The movable stage is restrained in the X direction and slidably supported in the Y direction. An X stage for moving the moving stage in the X direction;
Surrounding the central axis over a half circumference, the central axis is wrapped around the entire circumference in cooperation with the X stage and supported by the base body slidably in the Y direction, and the stage to be moved is constrained in the Y direction. A Y stage that slidably supports in the direction and moves the movable stage in the Y direction by sliding in the Y direction;
An X stage drive mechanism for driving the X stage in the X direction;
A Y stage drive mechanism for driving the Y stage in the Y direction,
The X stage drive mechanism is
A first joint comprising a first magnet that extends in the XZ plane and faces the X stage, and a first yoke fixed to the back surface of the first magnet as viewed from the X stage. Body,
The X stage is fixed at a position facing the first magnet, receives a supply of current, and generates a force for driving the X stage in the X direction by interaction with the first magnet. And a first coil substrate on which the coil is formed,
The Y stage drive mechanism is
A second joint comprising a second magnet that spreads in the YZ plane and faces the Y stage, and a second yoke of the second magnet fixed to the back surface when viewed from the Y stage. Body,
A second stage of the Y stage that is fixed at a position facing the second magnet, receives a supply of electric current, and generates a force that drives the Y stage in the Y direction by interaction with the second magnet. And a second coil substrate on which the coil is formed,
The X stage extends to the outside of the outer wall of the base and extends in the Z direction and the X direction. The first coil substrate is fixed, and the first dimension is shorter than the first dimension of the base in the Z direction. Having a substrate fixing part,
The X stage driving mechanism includes a third yoke disposed between the outer wall of the base and the first coil substrate at a position where interference with the first substrate fixing part is avoided in the Z direction. ,
The Y stage wraps around the outside of the outer wall of the base and extends in the Z and Y directions. The second coil substrate is fixed, and the second dimension is shorter than the Z dimension of the base. Having a substrate fixing part,
The Y stage driving mechanism includes a fourth yoke disposed between the outer wall of the base body and the second coil substrate at a position where interference with the second substrate fixing portion is avoided in the Z direction. It is characterized by that.

上記本発明のXYステージによれば、いままでのコの字型のヨークの代わりに、Xステージ駆動機構が備える第3のヨークが、上記第1のヨークに対向したところに配設され、Yステージ駆動機構が備える第4のヨークが、上記第2のヨークに対向した位置に配設される。しかも、上記第3のヨークが、上記Xステージの、Z方向の寸法が基体のZ方向の寸法よりも短いので上記第1の基板固定との干渉が免れた位置に高密度に実装され、上記第4のヨークは、上記Yステージの、Z方向の寸法が基体のZ方向の寸法よりも短いので、上記第2の基板固定との干渉が免れた位置に高密度に実装される。   According to the XY stage of the present invention, instead of the conventional U-shaped yoke, the third yoke provided in the X stage drive mechanism is disposed at a position facing the first yoke, and Y A fourth yoke provided in the stage drive mechanism is disposed at a position facing the second yoke. Moreover, the third yoke is mounted at a high density at a position free from interference with the first substrate fixing because the dimension of the X stage in the Z direction is shorter than the dimension of the base in the Z direction. Since the dimension of the Y stage in the Z direction is shorter than the dimension of the base in the Z direction, the fourth yoke is mounted at a high density at a position where interference with the second substrate fixing is avoided.

そうすると、いわばデッドスペース的な狭いスペースに高密度にヨークが実装され、駆動力を保ちつつ、今までよりも小型の駆動機構を備えるXYステージが実現する。   Then, an XY stage having a small-sized drive mechanism than before can be realized while the yoke is mounted at a high density in a narrow space like a dead space.

ここで、上記第1のヨークが、上記第1のマグネットよりもX方向に幅広の部材であって、
上記第1の接合体が、上記第1のヨークの、上記第1のマグネットから見たときの裏面の、その第1のマグネットと対向する位置に固定された、その第1のヨークよりもX方向に幅狭の第1のサブヨークを備え、
上記第2のヨークが、上記第2のマグネットよりもX方向に幅広の部材であって、
上記第2の接合体が、上記第2のヨークの、上記第2のマグネットから見たときの裏面の、その第2のマグネットと対向する位置に固定された、その第2のヨークよりもX方向に幅狭の第2のサブヨークを備えた態様であることが好ましい。
Here, the first yoke is a member wider in the X direction than the first magnet,
The first joined body is fixed to the back surface of the first yoke as viewed from the first magnet, at a position facing the first magnet, more than the first yoke. A first sub-yoke narrow in the direction,
The second yoke is a member wider in the X direction than the second magnet,
The second joined body is fixed to the second yoke on the back surface when viewed from the second magnet, at a position facing the second magnet, more than the second yoke. It is preferable that the second sub yoke is narrow in the direction.

上記第1、第2のヨークに厚みを持たせても良いがそうすると大型化してしまう。かといってあまり薄型の構造にすると磁束の漏れが大きくなってしまう。これらを考えて上記第1のヨークには上記第1のマグネットと対向するように上記第1のサブヨークを設け上記第2のヨークには上記第2のマグネットと対向するように上記第2のサブヨークを設けて磁束の漏れを防止する構造にすると良い。   Although the thickness of the first and second yokes may be increased, this increases the size. However, if the structure is too thin, magnetic flux leakage will increase. Considering these, the first sub yoke is provided on the first yoke so as to face the first magnet, and the second sub yoke is provided on the second yoke so as to face the second magnet. It is preferable to provide a structure that prevents leakage of magnetic flux.

また、上記被移動ステージに固定された、被写体の結像を受けその被写体を表わす画像信号を出力する撮像素子を備えた態様であっても良い。   In addition, an aspect may be provided that includes an imaging element that is fixed to the movable stage and receives an image of a subject and outputs an image signal representing the subject.

また、上記目的を達成する本発明の撮影装置は、
上記XYステージと、
上記撮像素子に被写体を結像する撮影レンズと、
上記撮像素子から出力される画像信号により表わされる画像のぶれが補正されるように上記XYステージを駆動する駆動部とを備えたことを特徴とする。
In addition, the imaging device of the present invention that achieves the above-described object provides:
The XY stage,
A photographic lens for imaging a subject on the image sensor;
And a driving unit that drives the XY stage so that blurring of an image represented by an image signal output from the imaging element is corrected.

そうすると、手ぶれが発生したときには、例えばXYステージの駆動部になる上記ボイスコイルモータによって上記XYステージが応答良く駆動されて手ぶれが的確に補正される。   Then, when camera shake occurs, for example, the XY stage is driven with good response by the voice coil motor serving as a drive unit for the XY stage, and camera shake is accurately corrected.

本発明によれば、今までよりも小型の駆動機構を備えたXYステージ、およびそのXYステージを備えたコンパクトな撮影装置が実現する。   According to the present invention, an XY stage having a smaller driving mechanism than before and a compact photographing apparatus having the XY stage are realized.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明のXYステージを備えた撮影装置1の外観を示す図である。   FIG. 1 is a diagram showing an appearance of a photographing apparatus 1 having an XY stage according to the present invention.

図1の撮影装置1は、本発明のXYステージを備えたものである。本実施形態においてはそのXYステージによって撮像素子が保持される例が示されており、撮影時の手ぶれに応じてそのXYステージが駆動され撮像素子が動かされることによって手ぶれが補正される。   The imaging apparatus 1 in FIG. 1 includes the XY stage of the present invention. In this embodiment, an example in which the image sensor is held by the XY stage is shown, and the camera shake is corrected by driving the XY stage and moving the image sensor in accordance with camera shake at the time of shooting.

図1の撮影装置においては、撮像素子を保持するXYステージがレンズ鏡胴100とカメラ本体190との接続部付近に配備されている。図2から図10は、本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。なお図2〜図4にはXYステージ110のX方向、Y方向を明確にするためにX軸とY軸さらにZ軸が示されている。図2と図4の3つの軸の方向は同じであるが、図3にはフレキシブル基板FPCの構成をより分かり易くするために異なる方向から見た図が示されているので、3つの軸の方向が異なる。以降の説明においては、これらの軸を使って方向を示すことにする。   In the photographing apparatus of FIG. 1, an XY stage that holds an image sensor is provided in the vicinity of a connection portion between the lens barrel 100 and the camera body 190. 2 to 10 are diagrams showing the configuration of the XY stage 110 according to an embodiment of the present invention. 2 to 4 show an X axis, a Y axis, and a Z axis in order to clarify the X direction and the Y direction of the XY stage 110. Although the directions of the three axes in FIGS. 2 and 4 are the same, FIG. 3 shows a view from different directions in order to make the configuration of the flexible substrate FPC easier to understand. The direction is different. In the following description, directions will be indicated using these axes.

図2には、XYステージ110の分解図が示されており、図3には、図2中のフレキシブル基板FPCの拡大図が示されており、図4には図2の分解図に加えてそのXYステージ110が組み込まれるレンズ鏡胴100が示されている。なお図4には、ズームモータZMやフォーカスモータFM、さらにそれらのモータをレンズ鏡胴100に組み込むときの部品や図1の撮影装置1内の制御部とを接続するためのメインFPC118や防塵テープ117等も図示されている。また本実施形態においては撮像素子としてCCD固体撮像素子112Aが用いられているので以降の説明においては撮像素子をCCD112Aと記載する。   2 shows an exploded view of the XY stage 110, FIG. 3 shows an enlarged view of the flexible substrate FPC in FIG. 2, and FIG. 4 adds to the exploded view of FIG. A lens barrel 100 in which the XY stage 110 is incorporated is shown. 4 shows a zoom motor ZM, a focus motor FM, and a main FPC 118 and a dustproof tape for connecting components when these motors are incorporated into the lens barrel 100 and a control unit in the photographing apparatus 1 of FIG. 117 and the like are also illustrated. In the present embodiment, since the CCD solid-state image sensor 112A is used as the image sensor, the image sensor is referred to as the CCD 112A in the following description.

また、図5には、XYステージ110が組立てられるとともにそのXYステージ110がレンズ鏡胴100に組み込まれた後の状態を、蓋部材114を透明にして蓋部材114側からZ方向に沿って見た図が示されており、図6から図10には、図5中の符号Pで示す線に沿って切断した断面を示すX断面図、図5中の符号Qで示す線に沿って切断した断面を示すX断面図、右側面図、図5中の符号Rで示す線に沿って切断した切断面を示すY断面図、および図5の底面図がそれぞれ示されている。   Further, FIG. 5 shows the state after the XY stage 110 is assembled and the XY stage 110 is assembled in the lens barrel 100 as viewed along the Z direction from the lid member 114 side with the lid member 114 being transparent. FIGS. 6 to 10 are X sectional views showing a section cut along a line indicated by symbol P in FIG. 5, and cut along a line indicated by symbol Q in FIG. X cross-sectional view showing the cross section, right side view, Y cross-sectional view showing the cut surface cut along the line indicated by the symbol R in FIG. 5, and the bottom view of FIG. 5 are respectively shown.

まず図2を参照してXYステージ110を構成する各部材を説明する。   First, each member constituting the XY stage 110 will be described with reference to FIG.

XYステージ110には、図2に示す様に基体111ほか多数の部材が備えられており、その基体111上にその多数の部材の中のCCDホルダー112やXステージ113A,Yステージ113B等の各部材が組み込まれていってXYステージになり、組立てられたXYステージ110が図4に示すレンズ鏡胴100に組み込まれると、図5から図10に示す構成になる。   As shown in FIG. 2, the XY stage 110 includes a base 111 and a large number of members. On the base 111, each of the CCD holder 112, the X stage 113A, the Y stage 113B, and the like among the numerous members. When the members are assembled into an XY stage, and the assembled XY stage 110 is assembled into the lens barrel 100 shown in FIG. 4, the configuration shown in FIGS. 5 to 10 is obtained.

まず図2を参照してXYステージ110の構成を説明する。   First, the configuration of the XY stage 110 will be described with reference to FIG.

図2の中央には、被移動ステージであるCCDホルダー112が示されている。このCCDホルダ112内のCCD112Aには、下方に示されているフレキシブル基板115が半田接続される構成になっており、そのフレキシブル基板115はCCDプレート116によってCCD112A側に押さえつけられるようにしてCCDホルダー112に固定される。なお上記フレキシブル基板115には接着用の穴があいておりその穴に接着剤が流し込まれてフレキシブル基板115が挟み込まれるようにしてCCDプレート116がCCD112Aに接着固定される。またCCD112Aから引き出されたフレキシブル基板115には、撓み部115Aが設けられており、その撓み部115AにはスリットSLが設けられている。このためこのフレキシブル基板115が組み込まれた後においては、その撓み部115AによってCCD112Aがスライドしている最中のフレキシブル基板115に加えられるX方向のストレスが吸収され、スリットSLによってCCD112Aがスライドしているときのフレキシブル基板115に加えられるY方向のストレスが吸収される。   In the center of FIG. 2, a CCD holder 112 which is a stage to be moved is shown. A flexible substrate 115 shown below is soldered to the CCD 112A in the CCD holder 112. The flexible substrate 115 is pressed against the CCD 112A side by the CCD plate 116. Fixed to. The flexible substrate 115 has a bonding hole, and an adhesive is poured into the hole so that the flexible substrate 115 is sandwiched between the CCD plate 116 and the CCD 112A. Further, the flexible substrate 115 drawn out from the CCD 112A is provided with a bending portion 115A, and the bending portion 115A is provided with a slit SL. For this reason, after the flexible substrate 115 is assembled, the stress in the X direction applied to the flexible substrate 115 while the CCD 112A is sliding is absorbed by the bent portion 115A, and the CCD 112A is slid by the slit SL. The stress in the Y direction applied to the flexible substrate 115 is absorbed.

つまり本実施形態においては、Xステージ113AとYステージ113Bそれぞれのスライドに応じてCCD112AとそのCCD112Aを保持するCCDホルダー112とCCD112Aに半田接続されているフレキシブル基板115とCCDプレート116とがすべてスライドすることになる。   In other words, in this embodiment, the CCD 112A, the CCD holder 112 holding the CCD 112A, the flexible substrate 115 soldered to the CCD 112A, and the CCD plate 116 slide in accordance with the slides of the X stage 113A and the Y stage 113B. It will be.

一方、図2の中央には、その被移動ステージとなるCCDホルダー112等をX方向とY方向とに各々移動させるためのXステージ113AとYステージ113Bが示されている。図2のXステージ113Aは、中心軸を半周にわたって取り巻き、X方向にスライド自在に基体111に支持されるとともに、CCDホルダー112をX方向に拘束しY方向にスライド自在に支持して、X方向へのスライドによりCCDホルダー112をX方向に移動させるものであり、図2のYステージ113Bは、中心軸を半周にわたって取り巻き、Y方向にスライド自在に基体111に支持されるとともに、CCDホルダー112をY方向に拘束しX方向にスライド自在に支持して、Y方向へのスライドによりCCDホルダー112をY方向に移動させるものである。これらのステージ113A,113Bが基体111に組み込まれた後の状態については図5を参照したときに詳述する。なお、これらのXステージ113AおよびYステージ113Bをスライドさせるにあたっては、従来例にも記載したボイスコイルモータが用いられる。   On the other hand, an X stage 113A and a Y stage 113B are shown in the center of FIG. The X stage 113A shown in FIG. 2 surrounds the central axis over a half circumference, is supported by the base 111 so as to be slidable in the X direction, and constrains the CCD holder 112 in the X direction and supports it slidable in the Y direction. 2 moves the CCD holder 112 in the X direction, and the Y stage 113B in FIG. 2 is supported by the base 111 so as to be slidable in the Y direction, surrounding the central axis over a half circumference. It is restrained in the Y direction and supported so as to be slidable in the X direction, and the CCD holder 112 is moved in the Y direction by sliding in the Y direction. The state after these stages 113A and 113B are incorporated into the base 111 will be described in detail with reference to FIG. Note that when the X stage 113A and the Y stage 113B are slid, the voice coil motor described in the conventional example is used.

このボイスコイルモータは、周知の通り、マグネットと、コイルと、ヨークとからなるものであり、本実施形態では、Xステージ113AとYステージ113Bとにそれぞれ、第1の基板固定部1130A、第2の基板固定部1130Bが備えられそれらの基板固定部1130A,1130Bにボイスコイルモータの移動子となる第1のコイル基板1131Aと第2のコイル基板1131Bがそれぞれ固定され、さらにそれらのコイル基板1131A,1131Bを駆動するためのマグネットMG1,MG2とヨークY11〜Y13、Y21〜Y23とXステージ113AとYステージ113Bそれぞれが基体111に組み込まれることによってボイスコイルモータが組み立てられてる。つまり本実施形態においては、ボイスコイルモータによってXステージ駆動機構およびYステージ駆動機構が構成される。   As is well known, this voice coil motor is composed of a magnet, a coil, and a yoke. In this embodiment, the X stage 113A and the Y stage 113B have a first substrate fixing portion 1130A and a second substrate fixing portion, respectively. The first and second coil substrates 1131A and 1131B, which are the moving elements of the voice coil motor, are fixed to the substrate fixing portions 1130A and 1130B, respectively. The voice coil motor is assembled by incorporating magnets MG1 and MG2 for driving 1131B, yokes Y11 to Y13, Y21 to Y23, X stage 113A and Y stage 113B into base 111. That is, in the present embodiment, the voice coil motor constitutes the X stage driving mechanism and the Y stage driving mechanism.

図2の左側には、基体111の外壁部の外側にXステージ113AとYステージ113Bそれぞれのコイル基板1131A,1131Bに対応するように、それぞれ、上記Xステージ駆動機構、上記Yステージ駆動機構それぞれを構成するマグネットMG1,MG2と3種類のヨークY11〜Y13,Y21〜Y23が示されている。なおXステージ113AとYステージ113Bとのそれぞれに設けられる第1のコイル基板1131Aと第2のコイル基板1131Bとに対応してそれぞれヨークY11〜Y13,Y21〜Y23が3種類づつ設けられているので、以降においては、Xステージ駆動機構側の符号Y11のヨークを第1のヨークと記載し、Yステージ駆動機構側の符号Y21のヨークを第2のヨークと記載し、Xステージ駆動機構側の符号Y12のヨークを第3のヨーク(以降においては第1のマグネットに対向して配設されるので対向ヨークということもある)と記載し、Yステージ駆動機構側の符号Y22のヨークを第4のヨーク(以降においては第2のマグネットに対向して配設されるので対向ヨークということもある)と記載することにし、Xステージ駆動機構側の符合Y13のヨークを第1のサブヨークと記載し、Yステージ駆動機構側の符号Y23のヨークを第2のサブヨークと記載することにする。また、第1のヨークY11は第1のマグネットMG1に接着固定され、第2のヨークY21は第2のマグネットMG2に接着固定されるので、それらを含めて第1の接合体YM1、第2の接合体YM2と記載することがある。   On the left side of FIG. 2, the X stage driving mechanism and the Y stage driving mechanism are respectively arranged on the outside of the outer wall portion of the base 111 so as to correspond to the coil substrates 1131A and 1131B of the X stage 113A and the Y stage 113B, respectively. Magnets MG1 and MG2 and three types of yokes Y11 to Y13 and Y21 to Y23 are shown. Three types of yokes Y11 to Y13 and Y21 to Y23 are provided corresponding to the first coil substrate 1131A and the second coil substrate 1131B provided on the X stage 113A and the Y stage 113B, respectively. In the following description, the Y11 yoke on the X stage drive mechanism side is referred to as the first yoke, the Y21 yoke on the Y stage drive mechanism side is referred to as the second yoke, and the X stage drive mechanism side code is referred to as the Y yoke. The Y12 yoke is referred to as a third yoke (hereinafter, sometimes referred to as a counter yoke because it is disposed to face the first magnet), and the Y-stage drive mechanism side Y22 yoke is referred to as a fourth yoke. Yoke (hereinafter referred to as a counter yoke because it is disposed opposite to the second magnet) and the X stay The yoke of the driving mechanism side tally Y13 described as the first sub-yoke, the yoke of the Y stage driving mechanism side code Y23 to be referred to as a second sub-yoke. Further, since the first yoke Y11 is bonded and fixed to the first magnet MG1, and the second yoke Y21 is bonded and fixed to the second magnet MG2, the first joined body YM1, the second yoke Y11, It may be described as a joined body YM2.

つまり本実施形態においては、Xステージ駆動機構が、X−Z平面に広がってXステージ113Aに対向した第1のマグネットMG1と、その第1のマグネットMG1の、Xステージ113Aから見たときの裏側に固定された第1のヨークY11とからなる第1の接合体YM1と、Xステージ113Aの、第1のマグネットMG1に対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、第1のマグネットMG1との相互作用によりそのXステージ113AをX方向に駆動する力を発生する第1のコイルが形成された第1のコイル基板1131Aとを備え、Yステージ駆動機構が、Y−Z平面に広がってYステージに対向した第2のマグネットMG2と、その第2のマグネットMG2の、Yステージ113Bから見たときの裏側に固定された第2のヨークY21とからなる第2の接合体YM2と、Yステージ113Bの、第2のマグネットMG2に対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、第2のマグネットMG2との相互作用によりそのYステージ113BをY方向に駆動する力を発生する第2のコイルが形成された第2のコイル基板1131Bとを備えたものということになる。   In other words, in the present embodiment, the X stage driving mechanism extends in the XZ plane and faces the X stage 113A, and the back side of the first magnet MG1 when viewed from the X stage 113A. The first joint YM1 composed of the first yoke Y11 fixed to the first stage YA1 and the X stage 113A are fixed at positions facing the first magnet MG1 and are supplied with current to receive the first magnet MG1. And a first coil substrate 1131A on which a first coil that generates a force for driving the X stage 113A in the X direction is formed by the interaction with the Y stage, and the Y stage drive mechanism extends in the YZ plane. A second magnet MG2 facing the Y stage, and a second magnet MG2 fixed to the back side of the second magnet MG2 when viewed from the Y stage 113B. The second joined body YM2 composed of the magnet Y21 and the Y stage 113B are fixed to a position facing the second magnet MG2 and are supplied with electric current to interact with the second magnet MG2. This means that it includes a second coil substrate 1131B on which a second coil that generates a force for driving the Y stage 113B in the Y direction is formed.

その第1のヨークY11が、第1のマグネットMG1よりもX方向に幅広の部材であって、Xステージ駆動機構が、第1のヨークY11の、第1のマグネットMG1から見たときの裏面の、その第1のマグネットMG1と対向する位置に固定された、その第1のヨークY11よりもX方向に幅狭の第1のサブヨークY13を備え、第2のヨークY21が、第2のマグネットMG2よりもX方向に幅広の部材であって、Yステージ駆動機構が、第2のヨークY21の、第2のマグネットMG2から見たときの裏面の、その第2のマグネットMG2と対向する位置に固定された、その第2のヨークY21よりもX方向に幅狭の第2のサブヨークY23を備えている。   The first yoke Y11 is a member that is wider in the X direction than the first magnet MG1, and the X stage drive mechanism is on the back surface of the first yoke Y11 when viewed from the first magnet MG1. The first yoke Y13, which is fixed at a position facing the first magnet MG1 and is narrower in the X direction than the first yoke Y11, is provided, and the second yoke Y21 includes the second magnet MG2. The Y stage drive mechanism is fixed at a position on the back surface of the second yoke Y21 as viewed from the second magnet MG2 and facing the second magnet MG2. The second sub-yoke Y23, which is narrower in the X direction than the second yoke Y21, is provided.

図2の、Xステージ駆動機構とYステージ駆動機構がそれぞれ示されているところの基体111の外壁部には、図示はされていないが上記マグネットMG1、MG2と3種類のヨークY11〜Y13,Y21〜Y23を収容する凹みが、Xステージ113AとYステージ113Bとに対応してそれぞれ設けられており、それらの凹みに、まず対向ヨークY12,Y22がそれぞれ配設されて各凹みの内壁面にネジ止めされる。次にマグネットMG1,MG2と第1のヨークY11,Y22とからなる第1の接合体YM1と第2の接合体YM2が基体111の外壁面にそれぞれネジ止めされ、さらにそれらの接合体の第1、第2のヨークY11,Y22の、マグネット側から見た裏面のそのマグネットと対向した位置に、第1、第2のヨークよりもX方向、Y方向の長さが短い第1、第2のサブヨークY13,Y23がそれぞれ固定される。上記第1、上記第2の接合体YM1,YM2とそれらの接合体の面に対向する位置にある対向ヨークY13,Y23との間に形成されるギャップに、Xステージ113A、Yステージ113Bの基板固定部1130A,1130Bに固定されたコイル基板1131A,1131Bが基体111の外壁を回りこんで配設されることにより、Xステージ113AとYステージ113Bが基体111に組み込まれる。   Although not shown, the magnets MG1 and MG2 and the three types of yokes Y11 to Y13 and Y21 are shown on the outer wall portion of the base 111 where the X stage driving mechanism and the Y stage driving mechanism are shown in FIG. ˜Y23 is provided corresponding to each of the X stage 113A and the Y stage 113B. First, opposing yokes Y12 and Y22 are provided in the dents, and screws are provided on the inner wall surfaces of the dents. Stopped. Next, the first joined body YM1 and the second joined body YM2 composed of the magnets MG1 and MG2 and the first yokes Y11 and Y22 are screwed to the outer wall surface of the base 111, respectively, and further, the first joined body 1 The first and second lengths of the second yokes Y11 and Y22 facing the magnet on the back surface as viewed from the magnet side are shorter than those of the first and second yokes in the X and Y directions. The sub yokes Y13 and Y23 are fixed respectively. The substrates of the X stage 113A and the Y stage 113B are formed in a gap formed between the first and second joined bodies YM1 and YM2 and the opposing yokes Y13 and Y23 that are opposed to the surfaces of the joined bodies. Coil substrates 1131A and 1131B fixed to the fixing portions 1130A and 1130B are disposed around the outer wall of the base 111, so that the X stage 113A and the Y stage 113B are incorporated into the base 111.

このためコイル基板1131A、1131Bが通電されると、フレミング左手の法則によりコイル基板1131A,1131BがマグネットMG1,MG2に沿って平行(X方向、Y方向)にスライドするようになる。その結果、各ステージ113A,113Bの基板固定部1130A,1130Bに固定されたコイル基板1131A,1131Bの動きに応じて被移動ステージであるCCDホルダー112並びにCCDホルダー112に保持されているCCD112Aが移動することとなる。   Therefore, when the coil substrates 1131A and 1131B are energized, the coil substrates 1131A and 1131B slide in parallel (X direction and Y direction) along the magnets MG1 and MG2 according to the Fleming left-hand rule. As a result, the CCD holder 112 which is the stage to be moved and the CCD 112A held by the CCD holder 112 move according to the movement of the coil substrates 1131A and 1131B fixed to the substrate fixing portions 1130A and 1130B of the stages 113A and 113B. It will be.

こうしてXステージ113A,Yステージ113BおよびCCDホルダー112が、コイル基板1131A,1131B上のコイルの通電に応じて素早く動くことができるように基体111に組み込まれる。   In this way, the X stage 113A, the Y stage 113B, and the CCD holder 112 are incorporated into the base 111 so that they can move quickly in response to energization of the coils on the coil substrates 1131A, 1131B.

ここでXステージ113AとYステージ113Bに挿通されるか、又は固定されるガイド軸G1、G3、G4、G6および、支持軸G2、G5がどのようにして基体111に組み込まれていくかを簡単に説明しておく。   Here, how the guide shafts G1, G3, G4, and G6 and the support shafts G2 and G5 that are inserted into or fixed to the X stage 113A and the Y stage 113B are incorporated into the base body 111 is simply described. I will explain in detail.

まず、X方向に延びる2本のガイド軸G1,G3およびおよび1本の支持軸G2がどのようにして基体側に配設されて基体111に組み込まれていくかを図2を参照して簡単に説明する。   First, referring to FIG. 2, how the two guide shafts G1 and G3 extending in the X direction and the one support shaft G2 are arranged on the substrate side and incorporated into the substrate 111 will be described with reference to FIG. Explained.

まず、Xステージ113Aには、2つの軸受(後述する)が備えられており、それら2つの軸受にX方向に延び基体111に固定的に支持される第1のガイド軸G1が挿通されその第1のガイド軸G1の両端が基体111が備える軸受に嵌入され基体111に固定的に支持される。さらにX方向に突出してX方向へのスライドが自在に基体111に支持される第1の支持軸G2の一端がXステージ113Aに固定的に支持される。第1のガイド軸G1は、その両端が基体111のU溝形状の軸受にそれぞれ嵌入され、さらに蓋部材の押さえ部(後述する)に押さえられることにより基体111に固定的に支持される。   First, the X stage 113A is provided with two bearings (which will be described later). A first guide shaft G1 extending in the X direction and fixedly supported by the base 111 is inserted through the two bearings. Both ends of one guide shaft G1 are fitted into bearings provided in the base 111 and fixedly supported by the base 111. Further, one end of the first support shaft G2 that protrudes in the X direction and is supported by the base 111 so as to be freely slidable in the X direction is fixedly supported by the X stage 113A. Both ends of the first guide shaft G1 are respectively fitted into U-groove bearings of the base 111, and further supported by the base 111 by being pressed by a pressing portion (described later) of the lid member.

さらに、X方向に延びる第2のガイド軸G3の両端が、Yステージ113Bに固定的に支持され、CCDホルダー112に設けられている2つの軸受(後述する)がその第2のガイド軸G3にX方向にスライド自在に連結されることによりCCDホルダー112がYステージ113Bに連結される。この第2のガイド軸G3は、上述した様に被移動ステージであるCCDホルダー112をY方向に拘束してX方向のみの移動を補助する役目を担う。   Further, both ends of the second guide shaft G3 extending in the X direction are fixedly supported by the Y stage 113B, and two bearings (described later) provided on the CCD holder 112 are connected to the second guide shaft G3. The CCD holder 112 is connected to the Y stage 113B by being slidably connected in the X direction. As described above, the second guide shaft G3 serves to assist the movement only in the X direction by restraining the CCD holder 112, which is the stage to be moved, in the Y direction.

一方、Y方向に延びる3本の軸の方の第3のガイド軸G6は、その両端がXステージ113Aに固定され、CCDホルダー112に設けられているもう一つの軸受(後述する)がその第3のガイド軸G6にY方向にスライド自在に連結されることによりCCDホルダー112がXステージ113Aに連結される。このY方向に延びる第3のガイド軸G6は、Xステージ113Aに固定的に支持されることによりCCDホルダー112をX方向に拘束してY方向のみの移動を補助する役目を担う。   On the other hand, the third guide shaft G6 of the three shafts extending in the Y direction has both ends fixed to the X stage 113A, and another bearing (described later) provided on the CCD holder 112. The CCD holder 112 is connected to the X stage 113A by being slidably connected to the three guide shafts G6 in the Y direction. The third guide shaft G6 extending in the Y direction is fixedly supported by the X stage 113A, thereby restraining the CCD holder 112 in the X direction and assisting movement only in the Y direction.

また第4のガイド軸G4は、Yステージ113Bが備える2つの軸受に挿通されその両端が基体111のU溝形状の軸受に嵌入され蓋部材114の押さえ部(後述する)により押さえられることにより基体111に固定的に支持される。また第2の支持軸G5は、Yステージ113Bに固定される。   The fourth guide shaft G4 is inserted into two bearings provided in the Y stage 113B, and both ends of the fourth guide shaft G4 are fitted into U-shaped bearings of the base body 111 and pressed by a pressing portion (described later) of the lid member 114. 111 is fixedly supported. The second support shaft G5 is fixed to the Y stage 113B.

こうして各ステージ113A,113Bおよび被移動ステージであるCCDホルダー112をスライド自在にするためのガイド軸G1、G4および支持軸G2,G5が基体111に組み込まれるとともに、CCDホルダー112の一方向の動きを拘束するガイド軸G3,G6がそれぞれYステージ113B及びXステージ113Aに固定的に支持されて各ステージ113A,113BとCCDホルダー112とがそれぞれ基体111に組み込まれることになる。組み込まれた後の状態については図5を参照したときに詳述する。   In this way, the guide shafts G1 and G4 and the support shafts G2 and G5 for allowing the stages 113A and 113B and the CCD holder 112 as the moving stage to be slidable are incorporated in the base 111, and the movement of the CCD holder 112 in one direction is controlled. The constraining guide shafts G3 and G6 are fixedly supported by the Y stage 113B and the X stage 113A, respectively, and the stages 113A and 113B and the CCD holder 112 are respectively incorporated in the base 111. The state after being assembled will be described in detail when referring to FIG.

また、各ステージが備えるコイル基板1131A,1131Bにはコイル基板上のコイルを通電するための配線を行なわなければならないので、図2にはそのためのフレキシブル基板FPCが図示されている。このフレキシブル基板FPCは、図3に示す様に第1のコイル基板1131Aに固定される第1の固定部FPC1を有し、第1のコイルに供給される電流の流路が形成され、第2のコイル基板1131Bに固定される第2の固定部FPC2とを有し、第2のコイルに供給される電流の流路が形成されたものである。本実施形態においては、1本のフレキシブル基板FPCで2つのコイル基板1131A,1131Bの接続を行なうことができるようにしているが、2本別々であっても良い。   Further, since wiring for energizing the coils on the coil substrate must be provided on the coil substrates 1131A and 1131B provided in each stage, FIG. 2 shows a flexible substrate FPC for that purpose. As shown in FIG. 3, the flexible substrate FPC has a first fixing portion FPC1 fixed to the first coil substrate 1131A, and a flow path for current supplied to the first coil is formed. The second fixed portion FPC2 fixed to the coil substrate 1131B is formed, and a flow path for current supplied to the second coil is formed. In the present embodiment, the two coil substrates 1131A and 1131B can be connected by one flexible substrate FPC, but two may be separated.

図3に示す1本のフレキシブル基板FPCには、Z方向に撓み撓んだ場合の面が互いにX方向に対面した第1の撓み部FPC3と、Z方向に撓み撓んだ場合の面が互いにY方向に対面した第2の撓み部FPC4とが設けられている。なおこのフレキシブル基板FPCには、第1、第2のコイル基板1131A,1131Bに固定された部分に第1、第2のマグネットMG1,MG2の磁力を検出することによりXステージ、YステージのX方向、Y方向の位置を検出するための第1のホール素子h1、第2のホール素子h2が搭載されているのでそれらのホール素子h1,h2で得られた検出信号を伝送する伝送路も形成されている。   The single flexible substrate FPC shown in FIG. 3 has a first bent portion FPC3 whose surfaces when bent in the Z direction face each other in the X direction and a surface when bent and bent in the Z direction. A second flexible portion FPC4 facing the Y direction is provided. The flexible substrate FPC detects the magnetic force of the first and second magnets MG1 and MG2 in the portions fixed to the first and second coil substrates 1131A and 1131B, thereby causing the X stage and the Y stage in the X direction. Since the first Hall element h1 and the second Hall element h2 for detecting the position in the Y direction are mounted, a transmission path for transmitting the detection signals obtained by these Hall elements h1 and h2 is also formed. ing.

Xステージ113AがX方向に移動しているときには上記第1の撓み部FPC3によってフレキシブル基板FPCに加えられるストレスが吸収され、YステージがY方向に移動しているときには上記第2の撓み部FPC4によってフレキシブル基板FPCに加えられるY方向のストレスが吸収される。   When the X stage 113A is moving in the X direction, the stress applied to the flexible substrate FPC is absorbed by the first flexible portion FPC3, and when the Y stage is moving in the Y direction, the second flexible portion FPC4 is used. The stress in the Y direction applied to the flexible substrate FPC is absorbed.

このフレキシブル基板FPCによる配線が終了したら、最後にXステージ113A、Yステージ113B、CCDホルダー112をZ方向から覆うように蓋部材114が被せられて組立が終了する。   When the wiring by the flexible substrate FPC is completed, the lid member 114 is finally covered so as to cover the X stage 113A, the Y stage 113B, and the CCD holder 112 from the Z direction, and the assembly is completed.

ここで、基体111に各ステージ113A,133Bが組み込まれXYステージ110が組み立てられ、さらにそのXYステージ110がレンズ鏡胴100に組み込まれた後の状態を図5を参照して説明する。   Here, a state after the stages 113A and 133B are assembled on the base body 111, the XY stage 110 is assembled, and the XY stage 110 is incorporated into the lens barrel 100 will be described with reference to FIG.

前述した様に図5には、XYステージ110がレンズ鏡胴100に組み込まれた後の状態を、蓋部材114を透明にして図2、図4の右上方向から、つまりZ方向に沿って見た図が示されている。   As described above, FIG. 5 shows the state after the XY stage 110 is incorporated into the lens barrel 100 from the upper right direction of FIGS. 2 and 4, that is, along the Z direction with the lid member 114 transparent. The figure is shown.

図2で説明したように、第1から第4のガイド軸および第1,第2の支持軸G1〜G6が各ステージ113A,113Bとともに基体111に組み込まれていって各ステージが基体111に支持されるので、まずガイド軸と支持軸を含めた軸周りの構造を説明する。   As described with reference to FIG. 2, the first to fourth guide shafts and the first and second support shafts G1 to G6 are incorporated in the base body 111 together with the stages 113A and 113B, and each stage is supported by the base body 111. Therefore, the structure around the shaft including the guide shaft and the support shaft will be described first.

図5に示す様に、Xステージ113AとYステージ113Bには、それぞれ、第1のガイド軸G1、第4のガイド軸G4が挿通される2つの軸受A1、A2,A3,A4がそれぞれ備えられている。   As shown in FIG. 5, the X stage 113A and the Y stage 113B are respectively provided with two bearings A1, A2, A3, and A4 through which the first guide shaft G1 and the fourth guide shaft G4 are inserted. ing.

また、図5に示す基体111には、その第1のガイド軸G1の両端を固定的に支持する、上記蓋部材114に向かって開口したU溝形状の2つの第1の支持部BE1,BE2と、上記第4のガイド軸G4の両端を固定的に支持する、上記蓋部材114に向かって開口したU溝形状の2つの第2の支持部BE3,BE4と、上記第1の支持軸G2をX方向にスライド自在に支持する、上記蓋部材114に向かって開口したU溝形状の第3の支持部BE5と、上記第2の支持軸G5をY方向にスライド自在に支持する、上記蓋部材114に向かって開口したU溝形状の第4の支持部BE6とが備えられている。図5には上記第1の支持部BE1,BE2と第2の支持部BE3,BE4の構造が同じであるので第2の支持部BE3,BE4のうちの一方の支持部BE4の構造を示す拡大図が示されており、上記第3の支持部BE5と第4の支持部BE6の構造が同じであるので第3の支持部BE5の構造を示す拡大図が示されている。また、図5には、CCDホルダー112の、第2のガイド軸G3に支持された2つの軸受B1、B2の構造を示す拡大図やCCDホルダー112の、第1のガイド軸G1に支持されたもう一つの軸受B3の構造を示す拡大図も示されている。   Further, the base 111 shown in FIG. 5 has two U-shaped first support portions BE1 and BE2 which open toward the lid member 114 and which support both ends of the first guide shaft G1 in a fixed manner. Two U-shaped second support portions BE3 and BE4 that open toward the lid member 114, which support both ends of the fourth guide shaft G4 in a fixed manner, and the first support shaft G2. The U-shaped third support portion BE5 that opens toward the lid member 114, and the second support shaft G5 is slidably supported in the Y direction. A U-shaped fourth support portion BE6 that opens toward the member 114 is provided. In FIG. 5, the structure of the first support part BE4 is the same among the second support parts BE3 and BE4 because the first support parts BE1 and BE2 and the second support parts BE3 and BE4 have the same structure. Since the third support part BE5 and the fourth support part BE6 have the same structure, an enlarged view showing the structure of the third support part BE5 is shown. FIG. 5 is an enlarged view showing the structure of the two bearings B1 and B2 of the CCD holder 112 supported by the second guide shaft G3. The CCD holder 112 is supported by the first guide shaft G1. An enlarged view showing the structure of another bearing B3 is also shown.

つまり、Xステージ113Aの2つの軸受A1,A2に第1のガイド軸G1が挿通されてその第1のガイド軸G1の両端が第1の支持部BE1,BE2に嵌入されて第1のガイド軸G1およびXステージ113Aが基体111に支持され、Yステージ113Bに第4のガイド軸G4が軸受A3,A4に挿通されてその第4のガイド軸G4の両端が第2の支持部BE3,BE4に嵌入されて第4のガイド軸G4およびYステージ113Bが基体111に支持される。   That is, the first guide shaft G1 is inserted into the two bearings A1 and A2 of the X stage 113A, and both ends of the first guide shaft G1 are inserted into the first support portions BE1 and BE2, so that the first guide shaft G1 and X stage 113A are supported by base 111, and fourth guide shaft G4 is inserted into bearings A3 and A4 through Y stage 113B, and both ends of fourth guide shaft G4 are connected to second support portions BE3 and BE4. The fourth guide shaft G4 and the Y stage 113B are inserted and supported by the base 111.

本実施形態においては、最後に図5の表面側から蓋部材114が被せられるため、蓋部材114には、上記第1のガイド軸G1の、上記2つの第1の支持部BE1,BE2それぞれに支持された各部分を押さえる2つの第1の押え部114Aと、上記第4のガイド軸G4の、上記2つの第2の支持部BE3,BE4それぞれに支持された各部分を押さえる2つの第2の押え部114Aと、上記第3の支持部BE5の、当該蓋部材114に向かう開口を塞ぎその第3の支持部BE5と共同して上記第1の支持軸G2が貫通する第1の支持孔114Bを形成する第1の塞ぎ片と、上記第4の支持部BE6の、当該蓋部材114に向かう開口を塞ぎ第4の支持部BE6と共同して上記第2の支持軸G5が貫通する第2の支持孔114Bを形成する第2の塞ぎ片とが備えられているので、その蓋部材114と上記基体111に設けられている軸受とによってXステージ113A、Yステージ113Bが好適に支持されることになる。   In the present embodiment, since the lid member 114 is finally covered from the front surface side in FIG. 5, the lid member 114 is provided on each of the two first support portions BE1 and BE2 of the first guide shaft G1. Two first presser portions 114A for pressing the supported portions, and two second pressers for pressing the portions of the fourth guide shaft G4 supported by the two second support portions BE3 and BE4, respectively. 114A and the first support hole through which the first support shaft G2 penetrates in cooperation with the third support portion BE5 by closing the opening of the third support portion BE5 toward the lid member 114. The first closing piece forming 114B and the opening of the fourth support part BE6 toward the lid member 114 are closed so that the second support shaft G5 penetrates in cooperation with the fourth support part BE6. Forming the second support hole 114B Since closing piece and are provided, so that the X stage 113A by a bearing provided on the lid member 114 and the base 111, Y stage 113B is suitably supported.

さらに、蓋部材114には、この蓋部材114に固定され、CCDホルダー112をZ方向に付勢する付勢部材として作用するバネ部材SP1が備えられており、CCDホルダー112の、上記第2のガイド軸G3に支持された2つの軸受B1,B2それぞれには、図5中の拡大図に示す様にZ方向とY方向とに角を有し上記第2のガイド軸が貫通した矩形の貫通穴が設けられている。こうしておくと、丸いガイド棒G2が矩形の4つの辺のうちの2つの辺の、2箇所の点で押さえられるようになって、Y方向のがたが吸収されるように支持されるとともにフリクションが軽減されるように支持される。   Further, the lid member 114 is provided with a spring member SP1 fixed to the lid member 114 and acting as a biasing member for biasing the CCD holder 112 in the Z direction. Each of the two bearings B1 and B2 supported by the guide shaft G3 has a rectangular penetrating shape with an angle in the Z direction and the Y direction as shown in the enlarged view in FIG. A hole is provided. In this way, the round guide rod G2 is held at two points on two sides of the four sides of the rectangle, and is supported so that rattling in the Y direction is absorbed and friction. Is supported to be reduced.

またCCDホルダー112をXステージに対してX方向に片寄せするための付勢部材として作用するバネSP2が設けられており、そのバネSP2によってCCDホルダー112がX方向に片寄せされている。こうしておくと、Xステージが絶えず一方方向に付勢された状態になるので、被移動ステージとなるCCDホルダー112が移動しているときのX方向のがたが吸収される。   Further, a spring SP2 is provided that acts as a biasing member for biasing the CCD holder 112 with respect to the X stage in the X direction, and the CCD holder 112 is biased in the X direction by the spring SP2. In this way, the X stage is constantly biased in one direction, so that the X-direction rattle when the CCD holder 112 serving as the stage to be moved is absorbed is absorbed.

こうして、バネSP1、およびXステージ113AとYステージ113Bと基体111、Xステージ113AとYステージ113BとCCDホルダー112とを繋ぐ軸受によって、CCDホルダー112の、スライド中のガタが抑制されるようにCCDホルダー112が程よく支持される。   In this way, the CCD that causes the backlash of the CCD holder 112 during the slide is suppressed by the spring SP1 and the bearing that connects the X stage 113A, the Y stage 113B, the base 111, and the X stage 113A, the Y stage 113B, and the CCD holder 112. The holder 112 is supported moderately.

また図2のところで説明したが、組み立てられた後の構成をより明確にするためにXステージ駆動機構とYステージ駆動機構についてもその構成を図5を参照して説明しておく。   Although described with reference to FIG. 2, the structure of the X stage driving mechanism and the Y stage driving mechanism will be described with reference to FIG. 5 in order to clarify the structure after assembly.

図5に示すXステージ駆動機構には、前述した様に、X−Z平面に広がってXステージに対向した第1のマグネットMG1と、その第1のマグネットMG1の、Xステージ113Aから見たときの裏面に固定された第1のヨークY11とからなる第1の接合体YM1と、Xステージ113Aの、上記第1のマグネットMG1に対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、第1のマグネットMG1との相互作用によりそのXステージ113AをX方向に駆動する力を発生する第1のコイルが形成された第1のコイル基板1131Aとが備えられており、また、Yステージ駆動機構には、Y−Z平面に広がってYステージに対向した第2のマグネットMG2と、その第2のマグネットMG2の、上記Yステージ113Bから見たときの裏面に固定された第2のヨークY21とからなる第2の接合体YM2と、Yステージ113Bの、第2のマグネットMG2に対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、第2のマグネットMG2との相互作用によりそのYステージ113BをY方向に駆動する力を発生する第2のコイルが形成された第2のコイル基板1131Bとが備えられている。   In the X stage drive mechanism shown in FIG. 5, as described above, when viewed from the X stage 113A of the first magnet MG1 spreading in the XZ plane and facing the X stage, and the first magnet MG1. The first joined body YM1 composed of the first yoke Y11 fixed to the back surface of the first stage YA1 and the X stage 113A are fixed at positions facing the first magnet MG1 and supplied with current, And a first coil substrate 1131A on which a first coil that generates a force for driving the X stage 113A in the X direction by the interaction with the magnet MG1 is provided. Are spread on the YZ plane and face the Y stage, and the back surface of the second magnet MG2 when viewed from the Y stage 113B. The second joined body YM2 including the fixed second yoke Y21 and the Y stage 113B are fixed at positions facing the second magnet MG2 and are supplied with electric current to receive the second magnet MG2. And a second coil substrate 1131B on which a second coil that generates a force for driving the Y stage 113B in the Y direction is formed.

第1のヨークY11は、第1のマグネットMG1よりもX方向に幅広の部材であって、Xステージ駆動機構には第1のヨークY11の、第1のマグネットMG1から見たときの裏面の、その第1のマグネットMG1と対向する位置に固定された、その第1のヨークY11よりもX方向に幅狭の第1のサブヨークYM13が備えられており、第2のヨークY21は、第2のマグネットMG2よりもX方向に幅広の部材であって、Yステージ駆動機構には、第2のヨークY21の、第2のマグネットMG2から見たときの裏面の、その第2のマグネットMG2と対向する位置に固定された、その第2のヨークY21よりもX方向に幅狭の第2のサブヨークY23が備えられている。   The first yoke Y11 is a member wider in the X direction than the first magnet MG1, and the X stage drive mechanism has a back surface of the first yoke Y11 when viewed from the first magnet MG1. A first sub-yoke YM13, which is fixed in a position facing the first magnet MG1 and is narrower in the X direction than the first yoke Y11, is provided, and the second yoke Y21 has a second yoke Y21. A member that is wider in the X direction than the magnet MG2 and faces the second stage MG2 on the back surface of the second yoke Y21 when viewed from the second magnet MG2 to the Y stage drive mechanism. A second sub-yoke Y23 that is fixed in position and narrower in the X direction than the second yoke Y21 is provided.

こうして第1の基板固定部1130Aと第2の基板固定部1130Bとに固定された第1のコイル基板1131Aと第2のコイル基板1131Bが、第1のマグネットMG1と、その第1のマグネットMG1に対向する第2のヨークY12、第2のマグネットMG2とその第2のマグネットMG2に対向する第4のヨークY22との間に要領よく配設され各ステージを駆動するためのボイスコイルモータと各ステージとが基体に組み込まれる。   Thus, the first coil substrate 1131A and the second coil substrate 1131B fixed to the first substrate fixing portion 1130A and the second substrate fixing portion 1130B are connected to the first magnet MG1 and the first magnet MG1. Voice coil motor and each stage that are arranged between the second yoke Y12 and the second magnet MG2 facing each other and the fourth yoke Y22 facing the second magnet MG2 to drive each stage. Are incorporated into the substrate.

本実施形態においては、マグネットMG1,MG2を挟んで第1のヨークY11と第3のヨークY12、第2のヨークY21と第4のヨークY22を対向して配設することに加えて、マグネットMG1に対向して第1のヨークY11、第2のヨークY21の裏面側に第1のサブヨークY13、第2のサブヨークY23を追加することで、コイルを駆動するときの磁束の漏れを最小限に抑えることができるようにしてコイル基板1130Aに対して効率良く磁力を加えることができるようにしている。   In the present embodiment, in addition to arranging the first yoke Y11 and the third yoke Y12, the second yoke Y21 and the fourth yoke Y22 facing each other with the magnets MG1 and MG2 interposed therebetween, the magnet MG1. The first sub yoke Y13 and the second sub yoke Y23 are added to the back side of the first yoke Y11 and the second yoke Y21 so as to minimize the leakage of magnetic flux when the coil is driven. Thus, a magnetic force can be efficiently applied to the coil substrate 1130A.

このようにしてガイド軸および支持軸、さらにX駆動機構、Y駆動機構が基体に組み込まれてXYステージが組立てられる。   In this way, the XY stage is assembled by incorporating the guide shaft, the support shaft, the X drive mechanism, and the Y drive mechanism into the base.

ここで、図6から図10までの図を参照して、レンズ鏡胴100に組み込まれた後のXYステージ110の構成を簡単に説明しておく。   Here, the configuration of the XY stage 110 after being incorporated in the lens barrel 100 will be briefly described with reference to FIGS.

図6には、図5中の符号Pで示す線に沿って切断した断面を示すX断面図、図7には図5中の符号Qで示す線に沿って切断した断面を示すX断面図、図8には図5の右側面図、図9には図5中の符号Rで示す線に沿って切断した切断面を示すY断面図、および図10には、図5の底面図がそれぞれ示されている。   6 is an X cross-sectional view showing a cross section cut along a line indicated by reference symbol P in FIG. 5, and FIG. 7 is an X cross-sectional view showing a cross section cut along a line indicated by reference character Q in FIG. 8 is a right side view of FIG. 5, FIG. 9 is a Y sectional view showing a cut surface cut along a line indicated by reference numeral R in FIG. 5, and FIG. 10 is a bottom view of FIG. Each is shown.

図6から図10を参照してXYステージ110を構成する各部材の位置関係を簡単に説明しておく。   The positional relationship of each member constituting the XY stage 110 will be briefly described with reference to FIGS.

図6、図9に示す様に、レンズ鏡胴100の後方にXYステージ110が組み込まれており、最後に被せられる蓋部材114に設けられたバネSP1によってCCDプレート116およびCCDホルダー110がレンズ鏡胴100側に付勢されるようにしてXYステージ110を構成する各部材がレンズ鏡胴に組み込まれている。   As shown in FIGS. 6 and 9, an XY stage 110 is incorporated in the rear of the lens barrel 100, and the CCD plate 116 and the CCD holder 110 are attached to the lens mirror by a spring SP1 provided on a lid member 114 that is finally covered. Each member constituting the XY stage 110 is incorporated in the lens barrel so as to be biased toward the barrel 100 side.

図6に示す様に、CCDホルダ110には、CCD110Aが装着されそのCCD112Aにはフレキシブル基板115が接続されている。このフレキシブル基板115を剥き出しにしたまま外部へと引き出すとCCD110AがCCDホルダー110とともに移動しているときにフレキシブル基板115が暴れてキズが付いてしまう恐れがあるので、フレキシブル基板115をCCDプレート116で挟み込む様にして蓋部材114のバネSP1でそのCCDプレート116をCCDホルダー112側に押してフレキシブル基板の姿勢を矯正している。   As shown in FIG. 6, a CCD 110A is mounted on the CCD holder 110, and a flexible substrate 115 is connected to the CCD 112A. If the flexible substrate 115 is pulled out and the CCD 110A is moved together with the CCD holder 110, the flexible substrate 115 may be violated and scratched. The CCD plate 116 is pushed toward the CCD holder 112 by the spring SP1 of the lid member 114 so as to be sandwiched so as to correct the posture of the flexible substrate.

さらに、フレキシブル基板115には、図2でも説明した様に、X方向にコの字状の撓み115Aが設けられており、そのコの字状の撓みが蓋部材114と基体111とで構成される空きスペース内に巧みに組み込まれている。前述した様にその撓みが設けられている部分にはY方向にスリットが設けられているので、CCDホルダー110がスライドしているときにフレキシブルケーブル115にX方向、Y方向のストレスが加えられるようなことがあってもそれらのストレスがその撓み115AとスリットSL(図2参照)により緩和される。また、配線スペースを確保するためにわざわざ基体側の大きさを大きくする必要がなくなって、XYステージの小型化を図ることが可能となる。   Further, as described in FIG. 2, the flexible substrate 115 is provided with a U-shaped bend 115 </ b> A in the X direction, and the U-shaped bend is configured by the lid member 114 and the base body 111. Skillfully incorporated into the available free space. As described above, since the slit is provided in the Y direction in the portion where the deflection is provided, the stress in the X direction and the Y direction is applied to the flexible cable 115 when the CCD holder 110 is slid. Even if there is nothing, those stresses are relieved by the deflection 115A and the slit SL (see FIG. 2). Also, it is not necessary to increase the size of the substrate side in order to secure the wiring space, and the XY stage can be downsized.

また、図7には、図2で説明した様に対向ヨーク(第4のヨーク)Y22が基体111の外壁の凹みの内壁にネジで固定され、その後マグネットMG2と第2のヨークY21が接着された第2の接合体YM2が基体111の外壁面に固定された後の状態が示されている。   In FIG. 7, as described in FIG. 2, the counter yoke (fourth yoke) Y22 is fixed to the inner wall of the recess of the outer wall of the base 111 with screws, and then the magnet MG2 and the second yoke Y21 are bonded. The state after the second joined body YM2 is fixed to the outer wall surface of the base 111 is shown.

Yステージ113Bには、基体111の外壁外側に回り込んでZ方向およびY方向に広がり第1のコイル基板1131Aが固定された、Z方向の寸法が基体111のZ方向の寸法よりも短い第2の基板固定部1130Bが備えられている。   On the Y stage 113B, the first coil substrate 1131A is fixed around the outer wall of the base 111 and spreads in the Z direction and the Y direction. The second dimension is shorter than the dimension of the base 111 in the Z direction. Substrate fixing portion 1130B is provided.

また、Yステージ駆動機構には、基体111の外壁と第2のコイル基板1131Bとの間の、Z方向について第2の基板固定部1130Bとの干渉が免れた位置に配置された第4のヨークY22が備えられている。   Further, the Y stage driving mechanism includes a fourth yoke disposed at a position between the outer wall of the base 111 and the second coil substrate 1131B so as to avoid interference with the second substrate fixing portion 1130B in the Z direction. Y22 is provided.

そのマグネットMG2と上記対向ヨーク(第4のヨーク)Y22との間のギャップにコイル基板1131Bが基体111の外壁を回りこんで挿入されている。なお、基体にはマグネットMAG2の裏面に第2のヨークY21が接着されて接合体YM2にされてから組み込まれている。   A coil substrate 1131B is inserted around the outer wall of the base 111 in the gap between the magnet MG2 and the counter yoke (fourth yoke) Y22. The base is assembled after the second yoke Y21 is bonded to the back surface of the magnet MAG2 to form a joined body YM2.

図示はしないが、Xステージ113A側の構造も図7と同じである。   Although not shown, the structure on the X stage 113A side is the same as FIG.

図7のコイル基板1131Bに連結されているYステージ113Bが、コイル基板1131Bとともに紙面に向かって表から裏へ、あるいは裏から表に向かって移動するとYステージ113Bが共にY方向にスライドすることになる。   When the Y stage 113B coupled to the coil substrate 1131B of FIG. 7 moves together with the coil substrate 1131B from the front to the back or from the back to the front, the Y stage 113B slides in the Y direction. Become.

このように本実施形態においては、Xステージ駆動機構を構成するボイスコイルモータとYステージ駆動機構を構成するボイスコイルモータが非常に狭いスペースに高密度に実装され、従来に比べて小型の駆動機構がXYステージに組み込まれることによってXYステージの小型化が図られている。   As described above, in this embodiment, the voice coil motor constituting the X stage driving mechanism and the voice coil motor constituting the Y stage driving mechanism are mounted in a very narrow space with a high density, and the driving mechanism is smaller than the conventional one. Is incorporated into the XY stage, thereby reducing the size of the XY stage.

ここで本実施形態においては、フレキシブル基板FPCに装備されたホール素子h1,h2でコイル基板つまり各ステージ1131A,1131Bの位置を精度良く検出することができるようにするためにホール素子h1,h2の出力調整(直線性を得る)を簡単に行なうことができる構成を採用しているのでその構造を説明する。   Here, in the present embodiment, in order to accurately detect the position of the coil substrate, that is, each of the stages 1131A and 1131B, with the hall elements h1 and h2 provided in the flexible board FPC, Since a configuration capable of easily performing output adjustment (obtaining linearity) is employed, the structure will be described.

図8には、図5の右側面図が示されている。図5の右側にはYステージ113Bを駆動するYステージ駆動機構が備えられているので、図8にはそのYステージ駆動機構が備える第1のヨークY21およびその裏面に貼着された追加ヨークY23が示されている。この第1のヨークY21は、前述した様に内部のマグネットMG2に接着固定されている。Xステージ駆動機構側も同じ構成であるので、図8のYステージ駆動機構側の構造の方を説明する。   FIG. 8 is a right side view of FIG. Since the Y stage drive mechanism for driving the Y stage 113B is provided on the right side of FIG. 5, in FIG. 8, the first yoke Y21 provided in the Y stage drive mechanism and the additional yoke Y23 attached to the back surface thereof. It is shown. As described above, the first yoke Y21 is bonded and fixed to the internal magnet MG2. Since the X stage drive mechanism side has the same configuration, the structure on the Y stage drive mechanism side in FIG. 8 will be described.

この図8にはフレキシブル基板FPCの第2の撓み部FPC4が基体111とレンズ鏡鏡100とで形成される僅かなスペースに要領よく組み込まれていることが示されている。   FIG. 8 shows that the second bent portion FPC4 of the flexible substrate FPC is incorporated in a small space formed by the base 111 and the lens mirror 100 in a proper manner.

前述した様にこのフレキシブル基板FPCを通して通電されるコイル基板を磁場中で運動させるためのYステージ駆動機構が基体111には組み込まれており、図8にはそのYステージ駆動機構が備える第2のヨークY21と第2のサブヨークY23とが示されている。前述した様にこの第2のヨークY21にはマグネットMG2(図5参照)が接着固定され第2の接合体YM2が構成されている。   As described above, a Y stage drive mechanism for moving the coil substrate energized through the flexible substrate FPC in a magnetic field is incorporated in the base 111. FIG. 8 shows a second stage provided in the Y stage drive mechanism. A yoke Y21 and a second sub-yoke Y23 are shown. As described above, the magnet MG2 (see FIG. 5) is bonded and fixed to the second yoke Y21 to form the second joined body YM2.

図8に示す基体111には第2の接合体YM2の、Y方向に延びる一辺に接してその第2の接合体のY方向への位置調整時のガイドとなるガイド部111Gが備えられており、さらに、蓋部材114には基体111のガイド部111Gとの間に第2の接合体YM2を挟みそのガイド部111Gと協同してその第2の接合体YM2のY方向への位置調整時のガイドとして作用するガイド片114Cが備えられている。この蓋部材114には、さらに第2の接合体の、Yステージから見たときの背面に接して第2の接合体の背面をガイドする第1の背面ガイド部114Dも備えられている。   The base 111 shown in FIG. 8 is provided with a guide portion 111G that is in contact with one side extending in the Y direction of the second bonded body YM2 and serves as a guide when adjusting the position of the second bonded body in the Y direction. Further, the lid member 114 sandwiches the second joined body YM2 between the guide part 111G of the base body 111 and cooperates with the guide part 111G to adjust the position of the second joined body YM2 in the Y direction. A guide piece 114C acting as a guide is provided. The lid member 114 is further provided with a first back guide portion 114D that contacts the back surface of the second joined body as viewed from the Y stage and guides the back surface of the second joined body.

ここで、図番が前後するが、その感度調整を行なう部分の構成を説明しておく。   Here, although the figure numbers are mixed, the configuration of the portion for adjusting the sensitivity will be described.

図11は、マグネットMG1,MG2の構成と、接合体YM1,YM2とホール素子h1,h2と、第1、第3、第2、第4のヨークY11,Y12,Y21,Y22と第1、第2のサブヨークY13,Y23との間の位置関係を示す図である。   FIG. 11 shows the configurations of the magnets MG1 and MG2, the joined bodies YM1 and YM2, the hall elements h1 and h2, the first, third, second, and fourth yokes Y11, Y12, Y21, and Y22, and the first and first. It is a figure which shows the positional relationship between 2 subyokes Y13 and Y23.

図11(a)には、図7で説明したコイル基板1131A,1131Bと各ヨークY11〜Y13,Y21〜Y23の位置関係およびホール素子h1,h2の位置が示されており、図11(b)には、第1のヨークY11又は第2のヨークY21と、第3のヨークY12又は第4のヨークY22と、第1のコイル基板1131A又は第2のコイル基板1131Bの位置関係が示されている。また図10(c)、図10(d)には、マグネットMG1又はMG2の配列が示されている。   FIG. 11A shows the positional relationship between the coil substrates 1131A and 1131B described in FIG. 7 and the yokes Y11 to Y13 and Y21 to Y23, and the positions of the hall elements h1 and h2, and FIG. Shows the positional relationship among the first yoke Y11 or the second yoke Y21, the third yoke Y12 or the fourth yoke Y22, and the first coil substrate 1131A or the second coil substrate 1131B. . FIGS. 10C and 10D show the arrangement of magnets MG1 or MG2.

また図12は、接合体を図8に示すガイド111G等に沿って動かしているとき(図中の矢印の方向)のホール素子h1又はh2の出力の変化を説明する図である。   FIG. 12 is a diagram for explaining a change in the output of the Hall element h1 or h2 when the joined body is moved along the guide 111G or the like shown in FIG. 8 (in the direction of the arrow in the figure).

第1の接合体YM1又は第2の接合体YM2には、基体側のネジ穴と連通する、締結部を構成する長穴HL1が設けられている。この長穴HL1に偏芯ピンP1を挿入してガイド111G(図8参照)に沿って接合体YM1又はYM2をX方向又はY方向に移動させることにより位置調整が行なわれる。また位置調整が行なわれた後にあっては、偏芯ピンが取り除かれて締結部にネジが挿入されて第1、第2の接合体が基体に固定されるようにもなっている。   The first joined body YM1 or the second joined body YM2 is provided with an elongated hole HL1 that constitutes a fastening portion and communicates with a screw hole on the base side. Position adjustment is performed by inserting the eccentric pin P1 into the elongated hole HL1 and moving the joined body YM1 or YM2 in the X direction or the Y direction along the guide 111G (see FIG. 8). Further, after the position adjustment is performed, the eccentric pin is removed and a screw is inserted into the fastening portion so that the first and second joined bodies are fixed to the base.

また、図11(a)に示す様に、Xステージ駆動機構やYステージ駆動機構には、第1のマグネットMG1や第2のマグネットMG2よりもX方向やY方向に幅広の部材であって、第1の接合体YM1や第2の接合体YM2が、第1のヨークY11や第2のヨークY21の、第1のマグネットMG1や第2のマグネットMG2から見たときの裏面の、その第1のマグネットMG1やその第2のマグネットMG2と対向する位置に固定された、その第1のヨークY11、その第2のヨークY21よりもX方向やY方向に幅狭の第1のサブヨークY13や第2のサブヨークY23が備えられている。これらのサブヨークY13,Y23はマグネットMG1,MG2の極の変化する範囲(図11(c)参照)をカバーすることができるところに設けられている。ここでは、第1のヨークと第2のヨークを厚くするとヨークが大型化してしまうので、薄くして、必要なところだけに第1のサブヨークY13、第2のサブヨークY13を設けることで、狭いスペースへの組み込みを可能にするとともに、それらのサブヨークでマグネットMG1,MG2とヨークY11〜Y13,Y21〜Y23とで形成される磁気回路中の磁束の漏れを低減させ、より効率的にコイルに対して磁力を加えることができるようにしている。   Further, as shown in FIG. 11A, the X stage driving mechanism and the Y stage driving mechanism are members wider in the X direction and the Y direction than the first magnet MG1 and the second magnet MG2. The first joined body YM1 and the second joined body YM2 are the first on the back surface of the first yoke Y11 and the second yoke Y21 when viewed from the first magnet MG1 and the second magnet MG2. The first sub-yoke Y13 and the first sub-yoke Y13 which are narrower in the X direction and the Y direction than the first yoke Y11 and the second yoke Y21, which are fixed at positions facing the magnet MG1 and the second magnet MG2. Two sub yokes Y23 are provided. These sub-yokes Y13 and Y23 are provided where they can cover the range in which the poles of the magnets MG1 and MG2 change (see FIG. 11C). Here, if the thickness of the first yoke and the second yoke is increased, the yoke is increased in size. Therefore, the first sub yoke Y13 and the second sub yoke Y13 are provided only where necessary to reduce the space. In addition, the magnetic flux leakage in the magnetic circuit formed by the magnets MG1 and MG2 and the yokes Y11 to Y13 and Y21 to Y23 can be reduced by the sub-yoke, and the coil can be more efficiently Magnetic force can be applied.

また、本実施形態のボイスコイルモータのマグネットには図11(c),(d)に示す様に、2極(S,N)の磁石が交互に並べて設けられており、各ステージが各ステージのストロークの範囲の中心に位置した時に、ホール素子h1,h2がその2極の磁石のN極とS極との境界に対向した位置(図中の符号B1で示した方)にくるように各接合体の位置が調整される。なお、コイル基板1131A,1131Bは、ホール素子h1,h2がマグネットの境界(B1)を中心にして上側のS極と下側のN極と対向する範囲内しか移動しない。   Further, as shown in FIGS. 11C and 11D, the magnet of the voice coil motor according to the present embodiment is provided with two pole (S, N) magnets arranged alternately, and each stage is a stage. So that the Hall elements h1 and h2 are located at the position facing the boundary between the N pole and the S pole of the two pole magnets (the direction indicated by reference numeral B1 in the figure). The position of each joined body is adjusted. The coil substrates 1131A and 1131B move only within a range in which the Hall elements h1 and h2 are opposed to the upper S pole and the lower N pole with the boundary (B1) of the magnet as the center.

図12には、調整時に接合体が動かされているときのホール素子の出力の変化が示されている。   FIG. 12 shows a change in the output of the Hall element when the joined body is moved during adjustment.

例えばホール素子の出力を電気的にモニターしておいて、接合体YM1,YM2をいずれか一方の方向に移動させホール素子の最大出力を検出していって最大出力を検出したら今度は反対方向に移動させていってホール素子の最小出力を検出する。双方の出力が得られたら、その出力値を2で割ってその値が得られる位置に接合体を移動させるとちょうどマグネットMG1,MG2のN極とS極との境界に対向した位置(図11の符号B1で示す方の境界)にホール素子h1,h2が位置するように調整が行なわれることになる。   For example, when the output of the Hall element is electrically monitored and the joined bodies YM1 and YM2 are moved in either direction to detect the maximum output of the Hall element and the maximum output is detected, this time, in the opposite direction The minimum output of the Hall element is detected by moving. When both outputs are obtained, the output value is divided by 2 and the joined body is moved to a position where the value is obtained, and the position just opposite to the boundary between the N pole and S pole of the magnets MG1 and MG2 (FIG. 11). The adjustment is performed so that the Hall elements h1 and h2 are positioned on the boundary indicated by the reference numeral B1.

このような調整が行なわれると、実際にコイル基板が最大ストローク動いたとしてもホール素子の出力が飽和することなく、位置の変化に応じてホール素子の出力がリニア(直線性)に得られるので、位置の検出精度が非常に高くなる。   If such adjustment is performed, the output of the Hall element will not be saturated even if the coil substrate has actually moved the maximum stroke, and the output of the Hall element can be obtained linearly (linearly) according to the change in position. The position detection accuracy becomes very high.

こうして今までの駆動力を保ったままのボイスコイルモータがいままでよりも狭いスペースに高密度に実装される。   In this way, the voice coil motor that maintains the conventional driving force is mounted in a narrower space with higher density than before.

ここで話を元に戻して図9、図10を参照してXYステージの構成を説明する。   The configuration of the XY stage will now be described with reference to FIGS. 9 and 10.

図9には図5中の符号Rで示す線に沿って切断し切断した面を見たY断面図が示されている。図10には、図5の底面図が示されている。   FIG. 9 shows a Y cross-sectional view of the cut surface taken along the line indicated by the symbol R in FIG. FIG. 10 is a bottom view of FIG.

図9は、図6と同様の図であるが、図9には、図6とは見る方向が異なるのでズームモータZMの配置が示されている。また図10には、図8と同様の図であってXステージ駆動機構の構成が示されている。図8と同様にフレキシブル基板FPCの第1の撓み部FPC3が狭いスペース内に要領よく実装されていることが分かる。   FIG. 9 is a view similar to FIG. 6, but FIG. 9 shows the arrangement of the zoom motor ZM because the viewing direction is different from FIG. FIG. 10 is a view similar to FIG. 8 and shows the configuration of the X stage drive mechanism. It can be seen that the first flexible portion FPC3 of the flexible board FPC is mounted in a narrow space as in the case of FIG.

このようにレンズ鏡胴100にXYステージ110が組み込まれて図1の撮影装置1が構成される。   In this way, the XY stage 110 is incorporated into the lens barrel 100 to constitute the photographing apparatus 1 of FIG.

ところで、従来においては4本のガイド軸のアライメント調整を個別に行なう必要があったために組立が難しいという問題を抱えていた。そこで、本実施形態においては、前述した様に、Xステージ、Yステージ、CCDホルダーをすべて3点で支持することによって、アライメント調整を不要にして組立の簡素化を図っている。   By the way, in the past, since it was necessary to individually adjust the alignment of the four guide shafts, there was a problem that assembly was difficult. Therefore, in the present embodiment, as described above, the X stage, the Y stage, and the CCD holder are all supported at three points, thereby eliminating the need for alignment adjustment and simplifying the assembly.

再び図5を参照して、本実施形態のXYステージが如何に組み立てやすいものであるかということを説明する。   With reference to FIG. 5 again, how the XY stage of this embodiment is easy to assemble will be described.

また、図5に示す様に中心軸を取り巻くようにXステージ113A、Yステージ113Bが配設されている。これらのステージ113A,113Bは、基体に設けられているU字形状の溝に各ガイド軸が嵌入されることにより基体に支持される。基体の加工においては直角度および平行度の精度を出すことは容易であるので、直角度および平行度を持つU溝を基体に予め設けてそのU字状の溝にガイド軸および支持軸を嵌め入れることにより、各軸の直角度、平行度を容易く得ることができるようにしておく。こうしておくと、従来例のように各軸の調整を個別に行なう必要がなくなる。   Further, as shown in FIG. 5, an X stage 113A and a Y stage 113B are disposed so as to surround the central axis. These stages 113A and 113B are supported by the base by inserting each guide shaft into a U-shaped groove provided in the base. Since it is easy to obtain the accuracy of perpendicularity and parallelism in the processing of the base, a U-groove having the squareness and parallelism is provided in advance in the base, and the guide shaft and the support shaft are fitted into the U-shaped groove. By inserting, the perpendicularity and parallelism of each axis can be easily obtained. In this way, it is not necessary to individually adjust each axis as in the conventional example.

こうしてそれらの溝に、Xステージが備える2つの軸受A1、A2を貫通するようにして挿通された第1のガイド軸G1の両端部が嵌め入れられ、さらに第1のガイド軸G1に対してX方向に突出した第1の支持軸G2も嵌め入れられる。こうして軸受A1,A2および支持軸G2の3点でXステージ113Aが基体111に支持されると、Xステージ113Aは高い平面度で基体に支持されることになる。   In this way, both ends of the first guide shaft G1 inserted so as to pass through the two bearings A1 and A2 included in the X stage are fitted in these grooves, and further, the X guide is inserted into the first guide shaft G1. The first support shaft G2 protruding in the direction is also fitted. Thus, when the X stage 113A is supported by the base 111 at the three points of the bearings A1, A2 and the support shaft G2, the X stage 113A is supported by the base with high flatness.

またYステージ113Bは、同様にYステージが備える2つの軸受A3,A4を貫通するようにして挿通された第4のガイド軸G4の両端部が嵌め入れられ、さらに第4のガイド軸G4に対してY方向に突出した第2の支持軸G5も嵌め入れられる。こうして2つの軸受A3,A4と支持軸G5の3点でYステージが基体に支持されると、Yステージ113Bは高い平面度で基体111に支持されることになる。   Similarly, the Y stage 113B is fitted with both ends of the fourth guide shaft G4 inserted so as to pass through the two bearings A3 and A4 provided in the Y stage, and further, with respect to the fourth guide shaft G4. The second support shaft G5 protruding in the Y direction is also fitted. Thus, when the Y stage is supported by the base at the three points of the two bearings A3 and A4 and the support shaft G5, the Y stage 113B is supported by the base 111 with high flatness.

こうしてXステージ113AとYステージ113Bの平面が高い精度で保たれたら、これらのステージで被移動ステージを支持することにより被移動ステージであるCCDホルダーにも高い平面度を得ることができるようになる。   If the planes of the X stage 113A and the Y stage 113B are maintained with high accuracy in this way, a high flatness can be obtained also for the CCD holder as the moving stage by supporting the moving stage with these stages. .

さらに図5の例では、Yステージ113BにX方向に延びYステージ113Bに固定的に支持された第2のガイド軸G3が備えられているので、被移動ステージであるCCDホルダー112に、Y方向に拘束されX方向にスライド自在に上記第2のガイド軸G3に支持される2つの軸受B1,B2が設けられるとともに、X方向およびY方向の双方に非拘束に第1のガイド軸G1に支持される1つの軸受B3が設けられ、第2のガイド軸G3に支持される2つの軸受B1,B2と第1のガイド軸G1に支持される1つの軸受B3との合計3点で支持されることにより、基体111に対する姿勢が規定される。図中に示されているように、軸受B1、B2にはZ方向とY方向とに角を持つ軸受が構成されており、軸受B3には、U字形状の軸受が設けられている。さらに蓋部材114によって設けられているバネSP1によって紙面裏側にCCDプレートを含むCCDホルダ等が付勢されるので、双方の軸受ともに被移動部材のZ方向の姿勢を規定する作用を担うことになる。このため、より高い平面が得られるようになる。   Further, in the example of FIG. 5, since the second guide shaft G3 extending in the X direction on the Y stage 113B and fixedly supported on the Y stage 113B is provided, the CCD holder 112 as the movable stage is provided with the Y direction. And two bearings B1 and B2 supported by the second guide shaft G3 so as to be slidable in the X direction are provided and supported by the first guide shaft G1 unconstrained in both the X direction and the Y direction. One bearing B3 is provided, and is supported at a total of three points of two bearings B1, B2 supported by the second guide shaft G3 and one bearing B3 supported by the first guide shaft G1. Thus, the posture with respect to the base 111 is defined. As shown in the drawing, the bearings B1 and B2 are formed with bearings having angles in the Z direction and the Y direction, and the bearing B3 is provided with a U-shaped bearing. Furthermore, since the CCD holder including the CCD plate on the back side of the paper is urged by the spring SP1 provided by the lid member 114, both bearings have an action of defining the attitude of the moved member in the Z direction. . For this reason, a higher plane can be obtained.

こうして、高い平面度が得られているYステージ側の2点と、同じく高い平面度が得られているXステージ側の1点とのCCDホルダーを挟んだ、対向する3点でCCDホルダーが支持されると、CCDホルダーに高精度の平面度が得られる。   In this way, the CCD holder is supported by three opposing points that sandwich the CCD holder between two points on the Y stage side where high flatness is obtained and one point on the X stage side where high flatness is also obtained. As a result, high-precision flatness can be obtained in the CCD holder.

また上記構造によりXステージ、Yステージ並びにCCDホルダーに基体に対して同程度の平面度が得られたとしても、軸受部のがたが大きくなると、被移動ステージであるCCDホルダー、又はXステージ、Yステージがいずれかの方向にスライドしている最中にがたついてXステージとYステージの動きが鈍くなるとともにCCDホルダーの動きが鈍くなる恐れがある。   Further, even if the X stage, the Y stage, and the CCD holder have the same degree of flatness with respect to the base body due to the above structure, if the backlash of the bearing portion increases, the CCD holder or the X stage, While the Y stage is sliding in either direction, the movement of the X stage and the Y stage may become dull and the movement of the CCD holder may become dull.

そこで、本実施形態においては、前述した様にXステージ、Yステージのスライド中のがたつきをとることができるように、蓋部材114と蓋部材114に設けたバネSP1と軸受の形状を用いて被移動ステージであるCCDホルダー等のスライド中のがたつきをできる限り小さくすることができるように工夫している。   Therefore, in the present embodiment, as described above, the shape of the lid member 114, the spring SP1 provided on the lid member 114 and the shape of the bearing are used so that the rattling during the sliding of the X stage and the Y stage can be taken. Therefore, the device is devised so that the rattling in the slide of the CCD holder or the like that is the moving stage can be minimized.

前述した様に、基体には第1のガイド軸G1の両端を固定的に支持する、蓋部材114に向かって開口したU溝形状の2つの第1の支持部BE1,BE2と、第4のガイド軸G4の両端を固定的に支持する、蓋部材114に向かって開口したU溝形状の2つの第2の支持部BE3,BE4と、第1の支持軸G2をX方向にスライド自在に支持する、蓋部材114に向かって開口したU溝形状の第3の支持部BE5と、第2の支持軸G5をY方向にスライド自在に支持する、蓋部材114に向かって開口したU溝形状の第4の支持部BE6とが設けられている。   As described above, the base has two U-shaped first support portions BE1 and BE2 that open toward the lid member 114, which fixedly support both ends of the first guide shaft G1, and the fourth Two U-shaped second support portions BE3 and BE4 that open toward the lid member 114, which support both ends of the guide shaft G4 in a fixed manner, and the first support shaft G2 are slidably supported in the X direction. The U-shaped third support portion BE5 that opens toward the lid member 114 and the second support shaft G5 that slidably support in the Y direction and that open toward the lid member 114 A fourth support part BE6 is provided.

また、蓋部材114には、それらに対応して、第1のガイド軸G1の、2つの第1の支持部BE1,BE2それぞれに支持された各部分を押さえる2つの第1の押え部と、第4のガイド軸G4の、2つの第2の支持部BE3,BE4それぞれに支持された各部分を押さえる2つの第2の押え部と、第3の支持部BE5の、当該蓋部材114に向かう開口を塞ぎその第3の支持部BE5と共同して前記第1の支持軸G2が貫通する第1の支持孔114Bを形成する第1の塞ぎ片と、第4の支持部BE6の、当該蓋部材114に向かう開口を塞ぎその第4の支持部BE6と共同して第2の支持軸G5が貫通する第2の支持孔114Bを形成する第2の塞ぎ片とが設けられている。   In addition, the lid member 114 has two first pressing portions that press the respective portions of the first guide shaft G1 supported by the two first support portions BE1 and BE2, respectively, The second guide portion of the fourth guide shaft G4 that is supported by each of the two second support portions BE3 and BE4, and the second support portion BE5 of the third support portion BE5 are directed to the lid member 114. A first closing piece that closes the opening and forms a first support hole 114B through which the first support shaft G2 passes in cooperation with the third support portion BE5, and the lid of the fourth support portion BE6 A second closing piece is provided which closes the opening toward the member 114 and forms a second support hole 114B through which the second support shaft G5 penetrates in cooperation with the fourth support portion BE6.

図5の紙面表側つまりZ方向へXステージ113A、Yステージ113Bおよび被移動ステージ112を覆うようにして蓋部材114が装着されて蓋部材114と基体111とが協同して軸受が構成される。   The cover member 114 is mounted so as to cover the X stage 113A, the Y stage 113B, and the moved stage 112 in the front side of FIG. 5, that is, in the Z direction, and the cover member 114 and the base body 111 cooperate to form a bearing.

図5には、そのことを示すために各支持部BE1〜BE6の構造が抜粋して示されている。   FIG. 5 shows an excerpt of the structure of each of the support portions BE1 to BE6 to show this.

第1の押さえ部と第2の押さえ部の構造は同じなので、図5には、第4のガイド軸G4の、2つの第2の支持部BE3,BE4のうちの一方が示されている。図5の拡大図に示す様に、U溝のところにガイド軸G4が嵌め入れられ、蓋部材114の、端部の段差で構成される押さえ部114Aによってガイド軸G4が弾力的に押さえ込まれる。こうして第1の支持部と第2の支持部によって第1のガイド軸と第4のガイド軸が支持されると、第1のガイド軸G1と第4のガイド軸G4が基体111に対して固定的に支持される。   Since the structures of the first pressing portion and the second pressing portion are the same, FIG. 5 shows one of the two second support portions BE3 and BE4 of the fourth guide shaft G4. As shown in the enlarged view of FIG. 5, the guide shaft G4 is fitted into the U groove, and the guide shaft G4 is elastically pressed by the pressing portion 114A formed by a step at the end of the lid member 114. Thus, when the first guide shaft and the fourth guide shaft are supported by the first support portion and the second support portion, the first guide shaft G1 and the fourth guide shaft G4 are fixed to the base 111. Supported.

さらに第3の支持部BE5と第1の塞ぎ片の構造と第4の支持部BE6と第2の塞ぎ片の構造は同じなので、第3の支持部BE5と第1の塞ぎ片が示されている。図5中の拡大図に示す様に、蓋部材114の塞ぎ片によってU溝が塞がれることにより支持孔114Bが形成され、その支持孔114Bを貫通するようにして第1の支持軸G2、第2の支持軸G5がスライド自在に支持されると、Xステージ113A、Yステージ113Bそれぞれがスムーズにスライドするように基体111に支持される。   Further, since the structure of the third support part BE5 and the first closing piece and the structure of the fourth support part BE6 and the second closing piece are the same, the third support part BE5 and the first closing piece are shown. Yes. As shown in the enlarged view in FIG. 5, the support groove 114B is formed by closing the U groove by the closing piece of the lid member 114, and the first support shaft G2 extends through the support hole 114B. When the second support shaft G5 is slidably supported, the X stage 113A and the Y stage 113B are supported by the base body 111 so as to slide smoothly.

また、各ステージ113A,113Bと被移動ステージであるCCDホルダー112との連結部にも工夫が凝らされている。この例ではXステージ113AとYステージ113Bの動きに応じてCCDホルダー112が敏感に反応して動くように、CCDホルダー112を3点で支持するとともに、3点の軸受部B1,B2,B3の形状に工夫が凝らされている。   Further, the connection between each stage 113A, 113B and the CCD holder 112, which is a stage to be moved, is also devised. In this example, the CCD holder 112 is supported at three points so that the CCD holder 112 moves sensitively according to the movement of the X stage 113A and the Y stage 113B, and the three bearing portions B1, B2, B3 are supported. The shape is devised.

前述した様にCCDホルダー112には、X方向に延びYステージ113Bに固定的に支持された第2のガイド軸G3に、Y方向に拘束されX方向にスライド自在に支持された2つの軸受B1,B2と、第1のガイド軸G1に、X方向およびY方向の双方に非拘束に支持された1つの軸受B3との3点で支持されることによりCCDホルダー112の基体111に対する姿勢が規定されている。   As described above, the CCD holder 112 has two bearings B1 supported in the Y direction and slidably supported in the X direction by the second guide shaft G3 extending in the X direction and fixedly supported by the Y stage 113B. , B2 and the first guide shaft G1 with one bearing B3 supported unconstrained in both the X and Y directions, the attitude of the CCD holder 112 relative to the base 111 is defined. Has been.

そこで、蓋部材114に設けられたバネSP1によりCCDホルダー112が紙面裏側に向かって付勢されていることを利用して、そのCCDホルダー112の、第1のガイド軸G1に支持された軸受B3をY方向に開口してその第1のガイド軸G1を挟むU溝形状の軸受にしてU字の一方の側にガイド軸を片寄らせる様にしてCCDホルダー112のZ方向の姿勢を定めるように支持させている。またCCDホルダー112の、第2のガイド軸G3に支持された2つの軸受B1,B2それぞれに、Z方向とY方向とに角を有し第2のガイド軸G3が貫通した矩形の貫通穴を設けて矩形の貫通穴の一方の側に寄らせるようにしてCCDホルダーが移動している最中のY方向のがたつきを吸収させるようにしてCCDホルダーを支持させている。   Therefore, by utilizing the fact that the CCD holder 112 is urged toward the back side of the drawing by the spring SP1 provided on the lid member 114, the bearing B3 of the CCD holder 112 supported by the first guide shaft G1. Is formed in a U-groove shape so as to sandwich the first guide shaft G1, and the posture of the CCD holder 112 in the Z direction is determined so that the guide shaft is offset to one side of the U-shape. I support it. Further, each of the two bearings B1 and B2 supported by the second guide shaft G3 of the CCD holder 112 is provided with a rectangular through-hole having an angle in the Z direction and the Y direction through which the second guide shaft G3 passes. The CCD holder is supported so as to absorb the shakiness in the Y direction during the movement of the CCD holder so as to be close to one side of the rectangular through hole.

またCCDホルダー112の、第3のガイド軸G6に支持された軸受部B4を、Z方向に開口して第3のガイド軸G6を挟むU溝形状の軸受にして、そのU溝内に第3のガイド軸G6を常に位置させるようにしてZ方向に非拘束にするとともにX方向への動きを拘束するようにしてCCDホルダー112を支持させてもいる。   The bearing B4 of the CCD holder 112 supported by the third guide shaft G6 is a U-groove bearing that opens in the Z direction and sandwiches the third guide shaft G6. The CCD holder 112 is supported such that the guide shaft G6 is always positioned so as to be unconstrained in the Z direction and to restrain movement in the X direction.

上述のように、CCDホルダー112はバネSP2によってX方向に付勢されている。このため、第3のガイド軸G6が軸受部B4のU溝の一方の側に片寄せされている。これによってCCDホルダー112が移動しているときのX方向のがたが吸収される。   As described above, the CCD holder 112 is biased in the X direction by the spring SP2. For this reason, the third guide shaft G6 is offset to one side of the U groove of the bearing portion B4. As a result, rattling in the X direction when the CCD holder 112 is moving is absorbed.

この軸受部B4は、CCDホルダー112を第1のガイド軸G1と第3のガイド軸G3に沿ってX方向にスライドさせているときの、双方のガイド軸G1,G3からCCDホルダー112に加えられるモーメントがちょうど打ち消される位置に設けられているので、CCDホルダー112がX方向に円滑に動く。   This bearing portion B4 is added to the CCD holder 112 from both guide shafts G1, G3 when the CCD holder 112 is slid in the X direction along the first guide shaft G1 and the third guide shaft G3. Since it is provided at a position where the moment is just canceled, the CCD holder 112 moves smoothly in the X direction.

こうして、X方向、Y方向のがたを吸収すると共に被移動ステージであるCCDホルダーのZ方向の姿勢をスライド中であっても常に保つことができるようにすることによって、CCDホルダー112の円滑かつ俊敏な反応が約束されるXYステージが構成される。   In this way, the CCD holder 112 can be smoothly and smoothly moved by absorbing the play in the X direction and the Y direction and maintaining the posture of the CCD holder, which is the stage to be moved, in the Z direction even during sliding. An XY stage is set up in which an agile reaction is promised.

以上説明した様に、本発明のXYステージによれば、平面度を得ながらの組立が容易であって製造費の低減が図られたXYステージ、そのXYステージを備えた撮影装置が実現する。   As described above, according to the XY stage of the present invention, an XY stage that can be easily assembled while obtaining flatness and the manufacturing cost is reduced, and a photographing apparatus including the XY stage are realized.

また、フリクション等の余計な力が発生することがほとんどない、ステージの動きに同調して敏感にCCDホルダーを動かすことができるXYステージが実現する。   In addition, an XY stage in which extra force such as friction is hardly generated and the CCD holder can be moved sensitively in synchronization with the movement of the stage is realized.

本発明のXYステージを備えた撮影装置1の外観を示す図である。It is a figure which shows the external appearance of the imaging device 1 provided with the XY stage of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 図2のフレキシブル基板の拡大図である。It is an enlarged view of the flexible substrate of FIG. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態であるXYステージ110の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the XY stage 110 which is one Embodiment of this invention. マグネットMAG1,MAG2の配列と、接合体YM1,YM2とホール素子h1,h2と対向ヨークY12,Y22と追加ヨークY13,Y23の位置関係を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning of magnet MAG1, MAG2, and the positional relationship of joined body YM1, YM2, Hall element h1, h2, counter yoke Y12, Y22, and additional yoke Y13, Y23. 調整時のホール素子の出力を説明する図である。It is a figure explaining the output of a Hall element at the time of adjustment.

符号の説明Explanation of symbols

1 撮影装置
100 レンズ鏡胴
110 XYステージ
111 基体
112 CCDホルダー
113A Xステージ
1130A 第1の基板固定部
1131A 第1のコイル基板
113B Yステージ
1130B 第2の基板固定部
1131B 第2のコイル基板
114 蓋部材
YM1 第1の接合体
MG1 第1のマグネット
Y11 第1のヨーク
YM2 第2の接合体
MG2 第2のマグネット
Y21 第2のヨーク
Y12 第3のヨーク
Y22 第4のヨーク
Y13 第1のサブヨーク
Y23 第2のサブヨーク
G1 第1のガイド軸
G2 第1の支持軸
G3 第2のガイド軸
G4 第4のガイド軸
G5 第2の支持軸
G6 第3のガイド軸
h1 h2 ホール素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Imaging device 100 Lens barrel 110 XY stage 111 Base | substrate 112 CCD holder 113A X stage 1130A 1st board | substrate fixing | fixed part 1131A 1st coil board | substrate 113B Y stage 1130B 2nd board | substrate fixing | fixed part 1131B 2nd coil board | substrate 114 Cover member YM1 first joined body MG1 first magnet Y11 first yoke YM2 second joined body MG2 second magnet Y21 second yoke Y12 third yoke Y22 fourth yoke Y13 first sub yoke Y23 second Sub yoke G1 First guide shaft G2 First support shaft G3 Second guide shaft G4 Fourth guide shaft G5 Second support shaft G6 Third guide shaft h1 h2 Hall element

Claims (4)

基体と、該基体をZ方向に貫く中心軸に直交するXY平面内で該基体に対し相対的に移動される被移動ステージを備えたXYステージにおいて、
前記中心軸を半周にわたって取り巻き、X方向にスライド自在に前記基体に支持されるとともに、前記被移動ステージをX方向に拘束しY方向にスライド自在に支持して、X方向へのスライドにより該被移動ステージをX方向に移動させるXステージと、
前記中心軸を半周にわたって取り巻くことにより前記Xステージと共同して該中心軸を全周にわたって取り巻き、Y方向にスライド自在に前記基体に支持されるとともに、前記被移動ステージをY方向に拘束しX方向にスライド自在に支持してY方向へのスライドにより該被移動ステージをY方向に移動させるYステージと、
前記XステージをX方向に駆動するXステージ駆動機構と、
前記YステージをY方向に駆動するYステージ駆動機構とを備え、
前記Xステージ駆動機構が、
X−Z平面に広がって前記Xステージに対向した第1のマグネットと、該第1のマグネットの、前記Xステージから見たときの裏面に固定された第1のヨークとからなる第1の接合体と、
前記Xステージの、前記第1のマグネットに対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、前記第1のマグネットとの相互作用により該XステージをX方向に駆動する力を発生する第1のコイルが形成された第1のコイル基板とを備え、
前記Yステージ駆動機構が、
Y−Z平面に広がって前記Yステージに対向した第2のマグネットと、該第2のマグネットの、前記Yステージから見たときの裏面に固定された第2のヨークとからなる第2の接合体と、
前記Yステージの、前記第2のマグネットに対面した位置に固定され、電流の供給を受けて、前記第2のマグネットとの相互作用により該YステージをY方向に駆動する力を発生する第2のコイルが形成された第2のコイル基板とを備え、
前記Xステージが、前記基体の外壁外側に回り込んでZ方向およびX方向に広がり前記第1のコイル基板が固定された、Z方向の寸法が前記基体のZ方向の寸法よりも短い第1の基板固定部を有し、
前記Xステージ駆動機構が、前記基体の外壁と前記第1のコイル基板との間の、Z方向について前記第1の基板固定部との干渉が免れた位置に配置された第3のヨークを備え、
前記Yステージが、前記基体の外壁外側に回り込んでZ方向およびY方向に広がり前記第2のコイル基板が固定された、Z方向の寸法が前記基体のZ方向の寸法よりも短い第2の基板固定部を有し、
前記Yステージ駆動機構が、前記基体の外壁と前記第2のコイル基板との間の、Z方向について前記第2の基板固定部との干渉が免れた位置に配置された第4のヨークを備えたことを特徴とするXYステージ。
In an XY stage comprising: a base body; and a movable stage that is moved relative to the base body in an XY plane perpendicular to a central axis that penetrates the base body in the Z direction.
The central axis is wrapped around a half circumference and supported by the base body so as to be slidable in the X direction, and the movable stage is restrained in the X direction and slidably supported in the Y direction. An X stage for moving the moving stage in the X direction;
By surrounding the central axis over a half circumference, the central axis is wrapped around the entire circumference in cooperation with the X stage, and is supported by the base body so as to be slidable in the Y direction, and the movable stage is constrained in the Y direction. A Y stage that slidably supports in the direction and moves the moved stage in the Y direction by sliding in the Y direction;
An X stage drive mechanism for driving the X stage in the X direction;
A Y stage drive mechanism for driving the Y stage in the Y direction,
The X stage drive mechanism is
A first joint comprising a first magnet that extends in the XZ plane and faces the X stage, and a first yoke fixed to the back surface of the first magnet when viewed from the X stage. Body,
The X stage is fixed at a position facing the first magnet, receives a supply of current, and generates a force for driving the X stage in the X direction by interaction with the first magnet. And a first coil substrate on which the coil is formed,
The Y stage drive mechanism is
A second joint comprising a second magnet that extends in the YZ plane and faces the Y stage, and a second yoke of the second magnet fixed to the back surface when viewed from the Y stage. Body,
A second stage of the Y stage that is fixed at a position facing the second magnet, receives a supply of electric current, and generates a force that drives the Y stage in the Y direction by interaction with the second magnet. And a second coil substrate on which the coil is formed,
The X stage extends to the outside of the outer wall of the base body and extends in the Z direction and the X direction. The first coil substrate is fixed, and the first dimension is shorter than the first dimension of the base body in the Z direction. Having a substrate fixing part,
The X stage drive mechanism includes a third yoke disposed between the outer wall of the base body and the first coil substrate at a position where interference with the first substrate fixing portion is avoided in the Z direction. ,
The Y stage extends to the outside of the outer wall of the base and extends in the Z direction and the Y direction. The second coil substrate is fixed, and the second dimension is shorter than the Z dimension of the base. Having a substrate fixing part,
The Y stage driving mechanism includes a fourth yoke disposed between the outer wall of the base body and the second coil substrate at a position where interference with the second substrate fixing portion is avoided in the Z direction. XY stage characterized by that.
前記第1のヨークが、前記第1のマグネットよりもX方向に幅広の部材であって、
前記第1の接合体が、前記第1のヨークの、前記第1のマグネットから見たときの裏面の、該第1のマグネットと対向する位置に固定された、該第1のヨークよりもX方向に幅狭の第1のサブヨークを備え、
前記第2のヨークが、前記第2のマグネットよりもX方向に幅広の部材であって、
前記第2の接合体が、前記第2のヨークの、前記第2のマグネットから見たときの裏面の、該第2のマグネットと対向する位置に固定された、該第2のヨークよりもX方向に幅狭の第2のサブヨークを備えたことを特徴とする請求項1記載のXYステージ。
The first yoke is a member wider in the X direction than the first magnet,
The first joined body is fixed at a position opposite to the first magnet on the back surface of the first yoke as viewed from the first magnet, rather than the first yoke. A first sub-yoke narrow in the direction,
The second yoke is a member wider in the X direction than the second magnet,
The second joined body is fixed to the back surface of the second yoke as viewed from the second magnet, at a position facing the second magnet, more than the second yoke. The XY stage according to claim 1, further comprising a second sub-yoke having a narrow width in the direction.
前記被移動ステージに固定された、被写体の結像を受け該被写体を表わす画像信号を出力する撮像素子を備えたことを特徴とする請求項1又は2項記載のXYステージ。   The XY stage according to claim 1, further comprising an imaging element that is fixed to the stage to be moved and receives an image of a subject and outputs an image signal representing the subject. 請求項3記載のXYステージと、
前記撮像素子に被写体を結像する撮影レンズと、
前記撮像素子から出力される画像信号により表わされる画像のぶれが補正されるように前記XYステージを駆動する駆動部とを備えたことを特徴とする撮影装置。
XY stage according to claim 3,
A photographic lens for imaging a subject on the image sensor;
An imaging apparatus comprising: a drive unit that drives the XY stage so that blurring of an image represented by an image signal output from the imaging element is corrected.
JP2008169371A 2007-07-27 2008-06-27 XY stage and photographing apparatus Expired - Fee Related JP5140502B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008169371A JP5140502B2 (en) 2007-07-27 2008-06-27 XY stage and photographing apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007196645 2007-07-27
JP2007196645 2007-07-27
JP2008169371A JP5140502B2 (en) 2007-07-27 2008-06-27 XY stage and photographing apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009053673A true JP2009053673A (en) 2009-03-12
JP5140502B2 JP5140502B2 (en) 2013-02-06

Family

ID=40504763

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008169371A Expired - Fee Related JP5140502B2 (en) 2007-07-27 2008-06-27 XY stage and photographing apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5140502B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11962904B2 (en) 2019-04-25 2024-04-16 Fujifilm Corporation Image blur correction device, imaging device, and lens device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08304868A (en) * 1995-05-08 1996-11-22 Canon Inc Image blurring preventing device
JPH1115037A (en) * 1997-06-26 1999-01-22 Asahi Optical Co Ltd Camera shake correcting mechanism for optical device
JPH11167071A (en) * 1997-12-02 1999-06-22 Asahi Optical Co Ltd Binocular instrument and monocular instrument having ocular shake correcting mechanism
JP2005242325A (en) * 2004-01-30 2005-09-08 Pentax Corp Image blur correction device
JP2006243704A (en) * 2005-02-04 2006-09-14 Fujinon Corp Device for image blur correction and image pickup device
JP2007025099A (en) * 2005-07-14 2007-02-01 Sony Corp Lens barrel and imaging apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08304868A (en) * 1995-05-08 1996-11-22 Canon Inc Image blurring preventing device
JPH1115037A (en) * 1997-06-26 1999-01-22 Asahi Optical Co Ltd Camera shake correcting mechanism for optical device
JPH11167071A (en) * 1997-12-02 1999-06-22 Asahi Optical Co Ltd Binocular instrument and monocular instrument having ocular shake correcting mechanism
JP2005242325A (en) * 2004-01-30 2005-09-08 Pentax Corp Image blur correction device
JP2006243704A (en) * 2005-02-04 2006-09-14 Fujinon Corp Device for image blur correction and image pickup device
JP2007025099A (en) * 2005-07-14 2007-02-01 Sony Corp Lens barrel and imaging apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11962904B2 (en) 2019-04-25 2024-04-16 Fujifilm Corporation Image blur correction device, imaging device, and lens device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5140502B2 (en) 2013-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7747149B2 (en) Optical apparatus having image-blur correction/reduction system
JP3728094B2 (en) Image blur correction device, optical device, lens barrel and photographing device
JP2021103271A (en) Imaging apparatus with camera-shake correction function
JP2007017874A (en) Image blurring correction device, lens unit and imaging apparatus
JP2009053671A (en) Xy stage and photographing apparatus
JP4661915B2 (en) Image blur correction device, lens barrel device, and camera device
JP2007286318A (en) Camera shake correction device, lens unit, and imaging apparatus
JP2007017873A (en) Method for manufacturing image blurring correction device
JP2009086319A (en) Vibration control unit, photographing unit, and photographing device
WO2006025161A1 (en) Lens drive device, imaging device, and lens position adjustment method for imaging device
US20090027506A1 (en) XY stage and image-taking apparatus
JP2009086320A (en) Vibration control unit, photographing unit, and photographing device
JP5021022B2 (en) Image stabilization apparatus and imaging unit
US20090027507A1 (en) XY stage and image-taking apparatus
JP4324885B2 (en) Blur correction mechanism and imaging apparatus
JP2009086325A (en) Photographing unit and photographing device
JP5140502B2 (en) XY stage and photographing apparatus
JP2010278667A (en) Solid-state imaging unit, image capturing apparatus, and method of fixing solid-state image sensor
JP5117450B2 (en) Image stabilization device, imaging lens unit, and camera unit
JP5140501B2 (en) XY stage and photographing apparatus
JP2009053674A (en) Xy stage and photographing apparatus
JP2000193875A (en) Lens barrel, and optical instrument having the lens barrel
JP2006133797A (en) Lens driving device and imaging apparatus
JP4856035B2 (en) Anti-vibration unit, photographing unit, and photographing device
JP5117809B2 (en) Prevention unit, photographing unit, and photographing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100617

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110118

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121030

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121119

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5140502

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151122

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees