JP2009043612A - Organic el element - Google Patents

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Takeshi Okamoto
健 岡本
Yoshimasa Fujita
悦昌 藤田
Koji Ishizuya
幸司 石津谷
Yumiko Hatanaka
裕美子 畑中
Yasuyuki Onishi
康之 大西
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Sharp Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element excelling in luminous efficiency and life. <P>SOLUTION: This organic EL element is provided with: an intermediate layer formed of a metal oxide containing an alkaline metal or an alkaline earth metal; and first and second organic luminescent element units arranged to sandwich the intermediate layer therebetween, and electrically serially jointed to each other through the intermediate layer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL素子に関する。   The present invention relates to an organic EL element.

近年、液晶表示装置に代わる表示装置として、例えば有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機EL)を用いた自発光型の表示装置が期待されている。有機EL素子は、陽極及び陰極に挟まれた有機EL層に電流を流すことで、有機EL層を構成する有機分子が発光する。有機EL素子を用いた有機EL表示装置は、自発光型であることから薄型化や軽量化、低消費電力化の点で優れている。また、有機EL素子を用いた有機EL表示装置は、広視野角性を有するため、次世代のフラットパネルディスプレイの候補として大きな注目を集めている。実際に、その薄さや広視野角性を生かして、携帯型音楽機器や携帯電話のサブディスプレイとして実用化が広がりつつある。   In recent years, as a display device that replaces a liquid crystal display device, for example, a self-luminous display device using organic electroluminescence (hereinafter, organic EL) is expected. In the organic EL element, an organic molecule constituting the organic EL layer emits light by passing a current through the organic EL layer sandwiched between the anode and the cathode. An organic EL display device using an organic EL element is self-luminous, and thus is excellent in terms of reduction in thickness, weight, and power consumption. In addition, organic EL display devices using organic EL elements have a wide viewing angle, and thus attract much attention as candidates for next-generation flat panel displays. Actually, the practical use is expanding as a sub-display of portable music devices and mobile phones by taking advantage of its thinness and wide viewing angle.

上記有機EL表示装置において、近年、駆動電流を変えずに輝度を上げる、即ち効率を改善する点から、複数の有機発光素子のユニットを中間層を介して電気的に直列に接合する構成の有機EL素子が研究・開発されている。ここで、中間層とは、電圧印加時において、電子輸送層側に配置された発光ユニットに対して電子を注入する一方、正孔輸送層側に配置された発光ユニットに対して正孔を注入する役割を果たす層である。中間層は、例えば、酸化バナジウム(V)や酸化レニウム(Re)のような金属酸化物を用いて構成されている
そして、このような構成の有機EL表示素子が、特許文献1や特許文献2等に開示されている。
特開2006−173550号公報 特開2006−210155号公報
In recent years, the organic EL display device has an organic structure in which a plurality of organic light-emitting element units are electrically connected in series via an intermediate layer in order to increase luminance without changing the drive current, that is, to improve efficiency. EL devices are being researched and developed. Here, the intermediate layer injects electrons into the light emitting unit arranged on the electron transport layer side while applying voltage, while injecting holes into the light emitting unit arranged on the hole transport layer side. It is a layer that plays a role. The intermediate layer is configured using, for example, a metal oxide such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) or rhenium oxide (Re 2 O 7 ). It is disclosed in Document 1, Patent Document 2, and the like.
JP 2006-173550 A JP 2006-210155 A

上述した構成の有機EL素子において、その中間層は、正孔輸送層に対しては容易に正孔を注入できるが、電子輸送層に対しては電子の注入が困難である。これに対し、従来、中間層から電子輸送層への電子注入効率を上げるために、電子注入層を発光ユニットにおける電荷発光層の電子輸送層側に設けると効果的であることが知られている。このような電子注入層としては、例えば、バソクプロイン(BCP)と金属セシウム(Cs)との混合層や、(8−キノリノラト)リチウム錯体(Alq3)と金属マグネシウム(Mg)との混合層が用いられる。   In the organic EL device having the above-described configuration, the intermediate layer can easily inject holes into the hole transport layer, but it is difficult to inject electrons into the electron transport layer. On the other hand, it is conventionally known that it is effective to provide the electron injection layer on the electron transport layer side of the charge light emitting layer in the light emitting unit in order to increase the electron injection efficiency from the intermediate layer to the electron transport layer. . As such an electron injection layer, for example, a mixed layer of bathocuproine (BCP) and metal cesium (Cs) or a mixed layer of (8-quinolinolato) lithium complex (Alq3) and metal magnesium (Mg) is used. .

しかしながら、上述のような構成の有機EL素子では、電子輸送層中の金属が発光ユニットに設けられる有機材料と反応することにより、素子の寿命が低下するという問題がある。   However, the organic EL element having the above-described configuration has a problem that the lifetime of the element is reduced by the reaction of the metal in the electron transport layer with the organic material provided in the light emitting unit.

本発明は、斯かる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、発光効率及び寿命の優れた有機EL素子を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide an organic EL element having excellent luminous efficiency and lifetime.

本発明に係る有機EL素子は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物で構成された中間層と、中間層を挟持するように設けられ、且つ、中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットと、を備えたことを特徴とする。   An organic EL device according to the present invention is provided so as to sandwich an intermediate layer composed of a metal oxide containing an alkali metal or an alkaline earth metal, and electrically interposed through the intermediate layer. And a first organic light emitting element unit and a second organic light emitting element unit joined in series.

このような構成によれば、第1及び第2有機発光素子ユニット間に設けられたアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物で構成された中間層が、従来の有機物とアルカリ金属又はアルカリ土類金属とを混合した層、又は、アルカリ金属やアルカリ土類金属の単体等と比較して、非常に安定して存在する。このため、素子の発光効率及び寿命が良好となる。   According to such a configuration, the intermediate layer made of a metal oxide including an alkali metal or an alkaline earth metal provided between the first and second organic light emitting element units is formed of a conventional organic substance and an alkali metal or Compared with a layer in which an alkaline earth metal is mixed, or an alkali metal or alkaline earth metal alone, it exists very stably. For this reason, the luminous efficiency and lifetime of the device are improved.

また、本発明に係る有機EL素子は、金属酸化物が、酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化インジウム・スズ、酸化モリブデン、酸化鉄、及び、酸化亜鉛のうちの少なくともいずれか1種を含んでいてもよい。   In the organic EL device according to the present invention, the metal oxide may contain at least one of vanadium oxide, rhenium oxide, indium tin oxide, molybdenum oxide, iron oxide, and zinc oxide. Good.

このような構成によれば、金属酸化物が、酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化インジウム・スズ、酸化モリブデン、酸化鉄、及び、酸化亜鉛のうちの少なくともいずれか1種を含んでいるため、アルカリ金属又はアルカリ土類金属と良好に混合されて、安定した中間層を作製することができる。   According to such a configuration, since the metal oxide contains at least one of vanadium oxide, rhenium oxide, indium tin oxide, molybdenum oxide, iron oxide, and zinc oxide, an alkali metal Alternatively, it can be mixed well with alkaline earth metals to produce a stable intermediate layer.

さらに、本発明に係る有機EL素子は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属が、それぞれ単体、塩化物、フッ化物、又は、酸化物として金属酸化物に含まれていてもよい。   Furthermore, in the organic EL device according to the present invention, the alkali metal and the alkaline earth metal may be contained in the metal oxide as a simple substance, chloride, fluoride, or oxide, respectively.

このような構成によれば、アルカリ金属及びアルカリ土類金属が、それぞれ単体、塩化物、フッ化物、又は、酸化物として金属酸化物に含まれるので、より安定した中間層を作製することができ、素子の発光効率及び寿命がより良好となる。   According to such a configuration, since the alkali metal and the alkaline earth metal are contained in the metal oxide as a simple substance, chloride, fluoride, or oxide, respectively, a more stable intermediate layer can be produced. The luminous efficiency and lifetime of the device are better.

また、本発明に係る有機EL素子は、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ部分が構成する膜の中間層全体に対する膜厚比が50%以下であってもよい。   In the organic EL device according to the present invention, the film thickness ratio of the film formed by the portion of the intermediate layer containing alkali metal or alkaline earth metal to the entire intermediate layer may be 50% or less.

このような構成によれば、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ部分が構成する膜の中間層全体に対する膜厚比が50%以下であるため、中間層の電子輸送性を良好に保つことができる。従って、素子の発光効率及び寿命が良好となる。   According to such a configuration, since the film thickness ratio of the portion of the intermediate layer containing the alkali metal or alkaline earth metal to the entire intermediate layer is 50% or less, the electron transport property of the intermediate layer is good. Can be kept in. Therefore, the luminous efficiency and lifetime of the device are improved.

さらに、本発明に係る有機EL素子は、第1及び第2有機発光素子ユニットの一方には、中間層に対向するように電子輸送層が設けられており、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属が、中間層における電子輸送層に対向する部分に含まれていてもよい。   Further, in the organic EL device according to the present invention, an electron transport layer is provided on one of the first and second organic light emitting device units so as to face the intermediate layer, and the alkali metal or alkaline earth of the intermediate layer is provided. The metal may be contained in a portion of the intermediate layer facing the electron transport layer.

このような構成によれば、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属が、中間層における電子輸送層に対向する部分に含まれているため、素子の電子注入障壁が低減される。従って、より安定した中間層を作製することができ、素子の発光効率及び寿命がより良好となる。   According to such a configuration, since the alkali metal or alkaline earth metal of the intermediate layer is included in the portion of the intermediate layer facing the electron transport layer, the electron injection barrier of the device is reduced. Therefore, a more stable intermediate layer can be produced, and the light emission efficiency and lifetime of the element are improved.

また、本発明に係る有機EL素子は、第1及び第2有機発光素子ユニットの一方には、中間層に対向するように電子輸送層が設けられており、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属が、中間層の電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に中間層内での濃度が低くなるように含まれていてもよい。   In the organic EL device according to the present invention, an electron transport layer is provided on one of the first and second organic light emitting device units so as to face the intermediate layer, and the alkali metal or alkaline earth of the intermediate layer is provided. The metal may be contained so that the concentration in the intermediate layer gradually decreases from the side of the intermediate layer facing the electron transport layer toward the opposite side.

このような構成によれば、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属が、中間層の電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に中間層内での濃度が低くなるように含まれているため、素子の電子注入障壁が低減される。従って、より安定した中間層を作製することができ、素子の発光効率及び寿命がより良好となる。   According to such a configuration, the concentration of the alkali metal or alkaline earth metal in the intermediate layer gradually decreases from the side facing the electron transport layer of the intermediate layer toward the opposite side. Therefore, the electron injection barrier of the device is reduced. Therefore, a more stable intermediate layer can be produced, and the light emission efficiency and lifetime of the element are improved.

本発明に係る有機EL素子は、金属酸化物の層と、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、で構成された中間層と、中間層を挟持するように設けられ、且つ、中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットと、を備えたことを特徴とする。   The organic EL device according to the present invention is provided so as to sandwich an intermediate layer composed of a metal oxide layer and a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, and the intermediate layer. And a first organic light emitting element unit and a second organic light emitting element unit electrically connected in series via an intermediate layer.

このような構成によれば、中間層が、金属酸化物の層と、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、で構成されているため、単層にするものよりさらに安定した中間層を作製することができ、素子の発光効率及び寿命がより良好となる。   According to such a configuration, since the intermediate layer is composed of a metal oxide layer and a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, it is more than a single layer. A stable intermediate layer can be produced, and the light emission efficiency and lifetime of the device are improved.

本発明に係る有機EL素子は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層と、で構成された中間層と、中間層を挟持するように設けられ、且つ、中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットと、を備えたことを特徴とする。   An organic EL device according to the present invention includes an intermediate layer composed of a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, a metal oxide layer containing a p-type dopant, and an intermediate layer. And a first organic light emitting element unit and a second organic light emitting element unit which are provided so as to be sandwiched and are electrically connected in series via an intermediate layer.

このような構成によれば、中間層がアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層の他にp型ドーパントを含んだ金属酸化物の層を備えるため、素子の正孔輸送性・電子輸送性が高まる。従って、素子の発光効率がより良好となる。   According to such a configuration, since the intermediate layer includes a metal oxide layer containing a p-type dopant in addition to a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, the hole transport property of the device・ Electron transportability is improved. Therefore, the light emission efficiency of the device becomes better.

また、本発明に係る有機EL素子は、p型ドーパントが、フタロシアニン骨格、p−キノン骨格、o−キノン骨格、又は、キノジメタン骨格を有する有機化合物のうちの少なくともいずれか1種であってもよい。   In the organic EL device according to the present invention, the p-type dopant may be at least one of organic compounds having a phthalocyanine skeleton, a p-quinone skeleton, an o-quinone skeleton, or a quinodimethane skeleton. .

このような構成によれば、p型ドーパントが、フタロシアニン骨格、p−キノン骨格、o−キノン骨格、又は、キノジメタン骨格を有する有機化合物のうちの少なくともいずれか1種であるため、素子の正孔輸送性・電子輸送性がより高まる。従って、素子の発光効率がより良好となる。   According to such a structure, since the p-type dopant is at least one of organic compounds having a phthalocyanine skeleton, a p-quinone skeleton, an o-quinone skeleton, or a quinodimethane skeleton, Improved transportability and electron transportability. Therefore, the light emission efficiency of the device becomes better.

さらに、本発明に係る有機EL素子は、p型ドーパントが、遷移金属の酸化物であってもよい。   Furthermore, in the organic EL device according to the present invention, the p-type dopant may be an oxide of a transition metal.

このような構成によれば、p型ドーパントが、遷移金属の酸化物であるため、素子の正孔輸送性・電子輸送性がより高まる。従って、素子の発光効率がより良好となる。   According to such a configuration, since the p-type dopant is an oxide of a transition metal, the hole transport property / electron transport property of the device is further enhanced. Therefore, the light emission efficiency of the device becomes better.

また、本発明に係る有機EL素子は、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層とが、それぞれ中間層全体に対する膜厚比が50%以下であってもよい。   In the organic EL device according to the present invention, the intermediate layer includes a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal and a metal oxide layer containing a p-type dopant, respectively. The film thickness ratio may be 50% or less.

このような構成によれば、中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層とが、それぞれ中間層全体に対する膜厚比が50%以下であるため、中間層の電子輸送性を良好に保つことができる。従って、素子の発光効率及び寿命が良好となる。   According to such a configuration, the metal oxide layer containing the alkali metal or the alkaline earth metal in the intermediate layer and the metal oxide layer containing the p-type dopant are each in a film thickness ratio with respect to the entire intermediate layer. Therefore, the electron transport property of the intermediate layer can be kept good. Therefore, the luminous efficiency and lifetime of the device are improved.

また、本発明に係る有機EL素子は、第1及び第2有機発光素子ユニットの一方には中間層に対向するように電子輸送層が設けられていると共に、他方には中間層に対向するように正孔輸送層が設けられており、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層が電子輸送層に対向するように設けられ、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層が正孔輸送層に対向するように設けられていてもよい。   In the organic EL device according to the present invention, one of the first and second organic light emitting device units is provided with an electron transport layer so as to face the intermediate layer, and the other is opposed to the intermediate layer. A hole transport layer is provided, a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal is provided so as to face the electron transport layer, and a metal oxide layer containing a p-type dopant is provided. It may be provided so as to face the hole transport layer.

このような構成によれば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層が電子輸送層に対向するように設けられ、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層が正孔輸送層に対向するように設けられているため、素子の正孔輸送性・電子輸送性がより高まる。従って、素子の発光効率がより良好となる。   According to such a configuration, the metal oxide layer containing an alkali metal or alkaline earth metal is provided so as to face the electron transport layer, and the metal oxide layer containing a p-type dopant is transported by holes. Since it is provided so as to face the layer, the hole transport property and electron transport property of the element are further enhanced. Therefore, the light emission efficiency of the device becomes better.

さらに、本発明に係る有機EL素子は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層における電子輸送層に対向する部分に含まれ、p型ドーパントが、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層における正孔輸送層に対向する部分に含まれていてもよい。   Further, in the organic EL device according to the present invention, the alkali metal or alkaline earth metal is contained in a portion facing the electron transport layer in the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal, and is a p-type dopant. May be contained in a portion facing the hole transport layer in the metal oxide layer containing the p-type dopant.

このような構成によれば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層における電子輸送層に対向する部分に含まれ、p型ドーパントが、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層における正孔輸送層に対向する部分に含まれているため、素子の正孔輸送性・電子輸送性がより高まる。従って、素子の発光効率がより良好となる。   According to such a configuration, the alkali metal or alkaline earth metal is contained in the portion facing the electron transport layer in the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal, and the p-type dopant is p Since it is contained in the portion facing the hole transport layer in the metal oxide layer containing the type dopant, the hole transport property and electron transport property of the device are further enhanced. Therefore, the light emission efficiency of the device becomes better.

また、本発明に係る有機EL素子は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層の電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に該金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれ、p型ドーパントが、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層の正孔輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれていてもよい。   Further, in the organic EL device according to the present invention, as the alkali metal or alkaline earth metal moves from the side facing the electron transport layer of the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal to the opposite side. The p-type dopant is contained so that the concentration in the metal oxide layer gradually decreases, and the p-type dopant is included in the metal oxide layer containing the p-type dopant from the side opposite to the hole transport layer. It may be included so that the concentration in the metal oxide layer gradually decreases as it goes to.

このような構成によれば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層の電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に該金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれ、p型ドーパントが、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層の正孔輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれているため、素子の電子注入障壁及び正孔輸送障壁が低減される。従って、より安定した中間層を作製することができ、素子の発光効率及び寿命がより良好となる。   According to such a configuration, the alkali metal or alkaline earth metal gradually increases from the side facing the electron transport layer of the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal toward the opposite side. As the concentration of the metal oxide in the layer is decreased, the p-type dopant moves from the side opposite to the hole transport layer of the metal oxide layer containing the p-type dopant toward the opposite side. Since the metal oxide layer is gradually included in the metal oxide layer, the electron injection barrier and the hole transport barrier of the device are reduced. Therefore, a more stable intermediate layer can be produced, and the light emission efficiency and lifetime of the element are improved.

さらに、本発明に係る有機EL素子は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層及び電子輸送層の間と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層及び正孔輸送層の間と、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層及びp型ドーパントを含んだ金属酸化物の層の間と、のうちの少なくともいずれか一つの間に金属酸化物のみで構成されるバッファ層を備えてもよい。   Furthermore, the organic EL device according to the present invention includes a metal oxide layer and an electron transport layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, and a metal oxide layer and a hole transport layer containing a p-type dopant. Between the metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal and the metal oxide layer containing a p-type dopant. You may provide the buffer layer comprised.

このような構成によれば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層及び電子輸送層の間と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層及び正孔輸送層の間と、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層及びp型ドーパントを含んだ金属酸化物の層の間と、のうちの少なくともいずれか一つの間に金属酸化物のみで構成されるバッファ層を備えるため、バッファ層の上下の層の間で生じる金属と有機材料との反応を良好に抑制することができる。このため、素子の発光効率及び寿命がより良好となる。   According to such a configuration, between the metal oxide layer and the electron transport layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, and between the metal oxide layer and the hole transport layer containing a p-type dopant. Between the metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal and the metal oxide layer containing a p-type dopant, and at least one of them. Since the buffer layer is provided, the reaction between the metal and the organic material that occurs between the upper and lower layers of the buffer layer can be satisfactorily suppressed. For this reason, the luminous efficiency and lifetime of the element become better.

本発明によれば、発光効率及び寿命の優れた有機EL素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic EL element excellent in luminous efficiency and lifetime can be provided.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although embodiment of this invention is described in detail, this invention is not limited to these.

(実施形態)
有機EL素子は、複数の画素領域がマトリクス状に配置された基板を備える。
(Embodiment)
The organic EL element includes a substrate on which a plurality of pixel regions are arranged in a matrix.

基板上には、複数の薄膜トランジスタ(TFT)、信号線等及び平坦化層が形成されており、平坦化層上には、第1電極(陽極又は陰極)が形成されている。これらにより、基板は、アクティブマトリクス基板を構成している。   A plurality of thin film transistors (TFTs), signal lines, and a planarization layer are formed on the substrate, and a first electrode (anode or cathode) is formed on the planarization layer. Accordingly, the substrate constitutes an active matrix substrate.

なお、基板は、アクティブマトリクス基板でなくてもよく、例えば、基板上に複数の信号線と第1電極が形成されたパッシブマトリクス基板を構成していてもよい。   The substrate may not be an active matrix substrate. For example, a passive matrix substrate in which a plurality of signal lines and first electrodes are formed on the substrate may be configured.

各画素領域の第1電極上には、複数の画素領域にそれぞれ設けられた中間層と、中間層を挟持するように設けられ、且つ、中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットとが設けられている。   On the first electrode of each pixel region, an intermediate layer provided in each of the plurality of pixel regions is provided so as to sandwich the intermediate layer, and electrically connected in series via the intermediate layer. 1 and a second organic light emitting element unit are provided.

アクティブマトリクス基板上のTFT等のアクティブ素子部と、中間層、第1及び第2有機発光素子ユニットとは、平坦化層の機能を有する層間絶縁膜で分離されている。アクティブ素子部は、層間絶縁膜に穿たれたコンタクトホールを通し、コンタクトホールを埋める接続用の導電体を介して上層の第1電極に接続されている。このとき、接続用の導電体としては、有機ELの第1電極を用いることも可能である。   An active element portion such as a TFT on the active matrix substrate and the intermediate layer and the first and second organic light emitting element units are separated by an interlayer insulating film having a function of a planarizing layer. The active element portion is connected to the upper first electrode through a contact conductor that fills the contact hole through a contact hole formed in the interlayer insulating film. At this time, it is also possible to use the first electrode of the organic EL as the connecting conductor.

アクティブ素子部のTFTには、アモルファスシリコン薄膜又は多結晶膜等で構成された半導体層が用いられている。TFTは、トップゲート型であってもよく、ボトムゲート型であってもよい。   A semiconductor layer composed of an amorphous silicon thin film or a polycrystalline film is used for the TFT of the active element portion. The TFT may be a top gate type or a bottom gate type.

平坦化層としての機能を有する層間絶縁膜は、単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。TFT等の保護膜として窒化シリコン膜と、主として平坦化層として機能する樹脂等の積層膜が好適に用いられる。層間絶縁膜を平坦化層として機能ならしめるためには、アクリル系、エポキシ系、ポリイミド系等の樹脂層、SOG(Spin on Glass)等の液状ガラス材料等が好適に用いられるが、本発明はこれらに限定するものではない。平坦化層としては、少なくとも2μm以上の膜厚があることが好ましい。平坦化層の凹凸の大きさを本発明の100nm以下にする手法としては、平坦化層を厚くする、あるいは平坦化層表面を研磨すること等で実現できるが、これらに何ら限定するものではない。   The interlayer insulating film having a function as a planarizing layer may have a single layer structure or a multilayer structure. A silicon nitride film as a protective film for a TFT or the like and a laminated film of a resin or the like mainly functioning as a planarizing layer are preferably used. In order to make the interlayer insulating film function as a planarizing layer, resin layers such as acrylic, epoxy, and polyimide, and liquid glass materials such as SOG (Spin on Glass) are preferably used. It is not limited to these. The planarizing layer preferably has a film thickness of at least 2 μm. The method for reducing the unevenness of the planarizing layer to 100 nm or less according to the present invention can be realized by increasing the thickness of the planarizing layer or polishing the surface of the planarizing layer, but is not limited thereto. .

次に、本発明の実施形態に係る有機EL素子の積層構造について、図を用いて詳細に説明する。   Next, the laminated structure of the organic EL element according to the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、有機EL素子10の断面図を示す。有機EL素子10は、基板(不図示)上にそれぞれこの順に形成された、陽極11、第1有機発光素子ユニット12、中間層13、第2有機発光素子ユニット14及び陰極15で構成されている。   FIG. 1 shows a cross-sectional view of the organic EL element 10. The organic EL element 10 includes an anode 11, a first organic light emitting element unit 12, an intermediate layer 13, a second organic light emitting element unit 14, and a cathode 15 that are formed in this order on a substrate (not shown). .

第1及び第2有機発光素子ユニット12,14は、それぞれ低分子材料又は高分子材料が用いられた各種の機能性材料層の積層構造体により構成されている。具体的には、例えば下記(1)〜(4)の構成が挙げられる。   The first and second organic light emitting element units 12 and 14 are each composed of a laminated structure of various functional material layers using a low molecular material or a polymer material. Specifically, the following configurations (1) to (4) are exemplified.

(1) 正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(2) 正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(3) 正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
(4) 正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
ここで、上記有機発光層は、一層でも多層構造でもよい。また母体材料にドーパントをドープした層でも構わない。
(1) Hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer (2) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer (3) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emission Layer / Electron Transport Layer / Electron Injection Layer (4) Hole Transport Layer / Organic Light-Emitting Layer / Electron Transport Layer / Electron Injection Layer Here, the organic light-emitting layer may have a single layer or a multilayer structure. Further, a layer obtained by doping a base material with a dopant may be used.

有機発光層は公知の方法で成膜することが可能である。例えば、低分子有機発光層は、真空蒸着法で成膜することが可能である。また、高分子有機発光層は、有機発光層形成用塗液を用いて、スピンコート法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等のウェットプロセスで成膜することが可能である。   The organic light emitting layer can be formed by a known method. For example, the low molecular organic light emitting layer can be formed by a vacuum deposition method. In addition, the polymer organic light emitting layer is formed by using a coating liquid for forming an organic light emitting layer, a spin coating method, a doctor blade method, a discharge coating method, a spray coating method, an ink jet method, a letterpress printing method, an intaglio printing method, a screen printing method. It is possible to form a film by a wet process such as a micro gravure coating method.

以下、低分子有機発光層を用いた有機ELを例として説明をするが、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、無論、高分子有機発光層を用いても構わない。   Hereinafter, an organic EL using a low molecular organic light emitting layer will be described as an example. However, the present invention is not limited to this, and a high molecular organic light emitting layer may of course be used.

発光材料としては、有機LED素子用の公知の発光材料を用いることができる。このような発光材料には低分子発光材料、低分子発光材料の前駆体等に分類される。以下にこれらの具体的な化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   As a luminescent material, the well-known luminescent material for organic LED elements can be used. Such a light emitting material is classified into a low molecular light emitting material, a precursor of a low molecular light emitting material, and the like. Although these specific compounds are illustrated below, this invention is not limited to these.

低分子発光材料としては、例えば、ポリ(2―デシルオキシー1、4―フェニレン)(DO−PPP)、ポリ[2、5―ビスー[2―(N,N,N−トリエチルアンモニウム)エトキシ]―1、4―フェニルーアルトー1、4―フェニルレン]ジブロマイド(PPP−NEt3+)、ポリ[2―(2’―エチルヘキシルオキシ)―5―メトキシー1、4―フェニレンビニレン](MEH−PPV)等が挙げられる。 Examples of the low molecular light-emitting material include poly (2-decyloxy-1,4-phenylene) (DO-PPP), poly [2,5-bis- [2- (N, N, N-triethylammonium) ethoxy]- 1,4-Phenyl-Alto 1,4-Phenyllene] dibromide (PPP-NEt 3+ ), poly [2- (2′-ethylhexyloxy) -5-methoxy-1,4-phenylene vinylene] (MEH-PPV) Etc.

また、高分子発光材料の前駆体としては例えば、ポリ(P−フェニレンビニレン)前駆体(Pre−PPV)、ポリ(P−ナフタレンビニレン)前駆体(Pre−PNV)等が挙げられる
正孔輸送層及び電子輸送層(合わせて電荷輸送層)は、それぞれ単層構造でも多層構造でも良い。
Examples of the precursor of the polymer light emitting material include a poly (P-phenylene vinylene) precursor (Pre-PPV), a poly (P-naphthalene vinylene) precursor (Pre-PNV), and the like. In addition, each of the electron transport layer (collectively, charge transport layer) may have a single layer structure or a multilayer structure.

電荷輸送層は発光層材料と同様に公知の方法で成膜が可能である。   The charge transport layer can be formed by a known method in the same manner as the light emitting layer material.

電荷輸送材料としては、公知の材料が使用可能である。以下にこれらの具体的な化合物を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。   A known material can be used as the charge transport material. Although these specific compounds are shown below, this invention is not limited to this.

正孔輸送材料としては、例えば、ポルフィリン化合物、N,N’―ビス―(3―メチルフェニル)―N,N’―ビス―(フェニル)―ベンジジン(TPD)、N,N’―ジ(ナフタレン―1―イル)―N,N’―ジフェニル―ベンジジン(NPD)等の芳香族第3級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチルアミン化合物等の低分子材料、ポリアニリン、3,4-ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネート(PEDOT/PSS)、ポリ(トリフェニルアミン誘導体)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等の高分子材料、ポリ(P―フェニレンビニレン)前駆体、ポリ(P―ナフタレンビニレン)前駆体等の高分子材料前駆体が挙げられる。   Examples of hole transport materials include porphyrin compounds, N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalene) -1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine (NPD) and other aromatic tertiary amine compounds, hydrazone compounds, quinacridone compounds, low molecular weight materials such as stilamine compounds, polyaniline, 3,4-polyethylenedioxy Polymer materials such as thiophene / polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS), poly (triphenylamine derivatives), polyvinylcarbazole (PVCz), poly (P-phenylene vinylene) precursor, poly (P-naphthalene vinylene) precursor And high molecular material precursors.

電子輸送材料としては、例えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、フルオレン誘導体等の低分子材料、ポリ[オキサジアゾール]等の高分子材料が挙げられる。   Examples of the electron transport material include low-molecular materials such as oxadiazole derivatives, triazole derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, and fluorene derivatives, and polymer materials such as poly [oxadiazole].

陽極11及び陰極15には、それぞれ公知の電極材料を用いることが可能である。また陽極11及び陰極15と第1及び第2有機発光素子ユニット12,14との界面には必要に応じてキャリア注入層等の膜を挿入することもできる。   A known electrode material can be used for each of the anode 11 and the cathode 15. Further, a film such as a carrier injection layer can be inserted at the interface between the anode 11 and the cathode 15 and the first and second organic light emitting element units 12 and 14 as necessary.

陽極11としては、仕事関数の大きな金属材料(Au,Ni,Pt等)や導電性金属酸化物(ITO,IZO,ZnO,SnO等)を単層あるいは複数の材料の積層膜として用いることができる。また、これらの陽極11上に導電性を大きく妨げない程度の厚み(例えば1nm程度)の酸化物を第1及び第2有機発光素子ユニット12,14に接する側に積層したものを用いてもよい。例えば、SnO等の薄い酸化物層を設けることにより、有機発光材料塗液やキャリア輸送材料塗液の被覆性をさらに良好なものにすることができる。 The anode 11, large metal work function material (Au, Ni, Pt, etc.) or conductive metal oxides (ITO, IZO, ZnO, SnO 2 , etc.) be used as a laminated film of a single layer or a plurality of materials it can. In addition, an oxide having a thickness that does not greatly hinder the conductivity (for example, about 1 nm) on the anode 11 may be stacked on the side in contact with the first and second organic light emitting element units 12 and 14. . For example, by providing a thin oxide layer such as SnO 2 , the coating property of the organic light emitting material coating solution or the carrier transporting material coating solution can be further improved.

陰極15として用いる電極材料としては、仕事関数が4.0eV以下の低仕事関数を有するCa、Ce、Cs、Rb、Sr、Ba、Mg、Li等を用いることが可能であるが、高分子有機発光層に対しては、Ca、Baが好適に用いられる。陰極15は、前述の低仕事関数の電極が酸素や水等による変質を抑えるために、Ni、Os、Pt、Pd、Al、Au、Rh、Ag等の、科学的に比較的安定な金属との合金、あるいは積層構造が好適に用いられる。更に、トップエミッション型の有機ELでは、前述の陰極15には透光性を与えるために薄く形成する必要がある。したがって、電極として十分な導電性を確保するために、ITO、IZO、ZnO、SnO等の導電性金属酸化物を透明電極層として透光性を有する金属層上に形成することが出来る。透明電極層は、単層あるいは複数の材料の積層膜としてもよい。 As the electrode material used as the cathode 15, Ca, Ce, Cs, Rb, Sr, Ba, Mg, Li, etc. having a low work function of 4.0 eV or less can be used. For the light emitting layer, Ca and Ba are preferably used. The cathode 15 is made of a relatively scientifically stable metal such as Ni, Os, Pt, Pd, Al, Au, Rh, Ag, etc., in order to suppress the deterioration of the above-mentioned low work function electrode due to oxygen, water, etc. An alloy or a laminated structure is preferably used. Further, in the top emission type organic EL, it is necessary to form the cathode 15 thin in order to provide translucency. Therefore, in order to ensure sufficient conductivity as an electrode, a conductive metal oxide such as ITO, IZO, ZnO, or SnO 2 can be formed as a transparent electrode layer on a light-transmitting metal layer. The transparent electrode layer may be a single layer or a laminated film of a plurality of materials.

中間層13は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物で構成されている。中間層13の金属酸化物は、酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化インジウム・スズ、酸化モリブデン、酸化鉄、及び、酸化亜鉛のうちの少なくともいずれか1種を含んでいる。アルカリ金属及びアルカリ土類金属は、それぞれ単体、塩化物、フッ化物、又は、酸化物として金属酸化物に含まれている。中間層13は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ部分が構成する膜の、中間層13全体に対する膜厚比が50%以下となるように形成されている。   The intermediate layer 13 is made of a metal oxide containing an alkali metal or an alkaline earth metal. The metal oxide of the intermediate layer 13 includes at least one of vanadium oxide, rhenium oxide, indium tin oxide, molybdenum oxide, iron oxide, and zinc oxide. The alkali metal and the alkaline earth metal are contained in the metal oxide as a simple substance, chloride, fluoride, or oxide, respectively. The intermediate layer 13 is formed so that the film thickness ratio of the film formed by the portion containing the alkali metal or alkaline earth metal to the entire intermediate layer 13 is 50% or less.

また、本発明の実施形態に係る有機EL素子の中間層は、図1に示すものに限らず、例えば、図2〜6に示すようなものであってもよい。   Further, the intermediate layer of the organic EL element according to the embodiment of the present invention is not limited to that shown in FIG. 1, and may be, for example, as shown in FIGS.

図2に示す有機EL素子20の中間層23は、金属酸化物で構成されており、その金属酸化物の第1有機発光素子ユニット12に設けられた電子輸送層に対向する部分に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が含まれている。すなわち、中間層23は、金属酸化物のみの層22と、金属酸化物にアルカリ金属又はアルカリ土類金属が含まれた層21とで構成されている。   The intermediate layer 23 of the organic EL element 20 shown in FIG. 2 is made of a metal oxide, and an alkali metal is formed on a portion of the metal oxide facing the electron transport layer provided in the first organic light emitting element unit 12. Or an alkaline earth metal is contained. That is, the intermediate layer 23 is composed of a metal oxide-only layer 22 and a layer 21 in which the metal oxide contains an alkali metal or an alkaline earth metal.

図3に示す有機EL素子30の中間層33は、第1有機発光素子ユニット12に設けられた電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に中間層33内でのアルカリ金属又はアルカリ土類金属の濃度が低くなるように、すなわち濃度勾配を設けて構成されている。   The intermediate layer 33 of the organic EL element 30 shown in FIG. 3 gradually increases the alkali metal in the intermediate layer 33 from the side facing the electron transport layer provided in the first organic light emitting element unit 12 toward the opposite side. Alternatively, the alkaline earth metal concentration is low, that is, a concentration gradient is provided.

図4に示す有機EL素子40の中間層43は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層41と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層42と、で構成されている。   The intermediate layer 43 of the organic EL element 40 shown in FIG. 4 includes a metal oxide layer 41 containing an alkali metal or an alkaline earth metal and a metal oxide layer 42 containing a p-type dopant. Yes.

アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層41が第1有機発光素子ユニット12の電子輸送層に対向するように設けられ、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層42が第2有機発光素子ユニット14の正孔輸送層に対向するように設けられている。   A metal oxide layer 41 containing an alkali metal or an alkaline earth metal is provided so as to face the electron transport layer of the first organic light emitting device unit 12, and a metal oxide layer 42 containing a p-type dopant is provided in the first layer. Two organic light emitting element units 14 are provided so as to face the hole transport layer.

p型ドーパントは、フタロシアニン骨格、p−キノン骨格、o−キノン骨格、又は、キノジメタン骨格を有する有機化合物のうちの少なくともいずれか1種で構成されている。なお、p型ドーパントは、遷移金属の酸化物で構成されていてもよい。また、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層41と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層42とは、それぞれ中間層43全体に対する膜厚比が50%以下となるように形成されていてもよい。   The p-type dopant is composed of at least one of organic compounds having a phthalocyanine skeleton, a p-quinone skeleton, an o-quinone skeleton, or a quinodimethane skeleton. The p-type dopant may be composed of a transition metal oxide. Further, the metal oxide layer 41 containing an alkali metal or an alkaline earth metal and the metal oxide layer 42 containing a p-type dopant each have a film thickness ratio of 50% or less with respect to the entire intermediate layer 43. It may be formed as follows.

なお、アルカリ金属又はアルカリ土類金属は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層41における電子輸送層に対向する部分に含まれていてもよい。また、p型ドーパントは、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層42における正孔輸送層に対向する部分に含まれていてもよい。   The alkali metal or alkaline earth metal may be contained in a portion of the metal oxide layer 41 containing the alkali metal or alkaline earth metal that faces the electron transport layer. The p-type dopant may be contained in a portion of the metal oxide layer 42 containing the p-type dopant that faces the hole transport layer.

図5に示す有機EL素子50の中間層53は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層51の電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれている。また、p型ドーパントは、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層52の正孔輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれている。すなわち、各金属酸化物の層51,52には、それぞれアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はp型ドーパントの濃度勾配が形成されている。   The intermediate layer 53 of the organic EL element 50 shown in FIG. 5 is opposite from the side where the alkali metal or alkaline earth metal faces the electron transport layer of the metal oxide layer 51 containing the alkali metal or alkaline earth metal. It is contained so that the concentration in the metal oxide layer gradually decreases toward the side. The concentration of the p-type dopant gradually decreases in the metal oxide layer from the side facing the hole transport layer of the metal oxide layer 52 containing the p-type dopant toward the opposite side. Included. That is, a concentration gradient of alkali metal, alkaline earth metal, or p-type dopant is formed in each metal oxide layer 51, 52, respectively.

図6に示す有機EL素子60の中間層63は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層61とp型ドーパントを含んだ金属酸化物の層62との間に、金属酸化物のみで構成されるバッファ層64が設けられている。なお、これに限らず、バッファ層64は、中間層63において、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層61と第1有機発光素子ユニット12の電子輸送層との間に設けられていてもよい。また、バッファ層64は、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層62と第2有機発光素子ユニット14の正孔輸送層との間に設けられていてもよい。さらに、上記の構成から任意に選択される複数の層間に設けられていてもよい。   The intermediate layer 63 of the organic EL element 60 shown in FIG. 6 includes a metal oxide layer between a metal oxide layer 61 containing an alkali metal or an alkaline earth metal and a metal oxide layer 62 containing a p-type dopant. A buffer layer 64 composed only of objects is provided. The buffer layer 64 is not limited to this, and is provided between the metal oxide layer 61 containing alkali metal or alkaline earth metal and the electron transport layer of the first organic light emitting element unit 12 in the intermediate layer 63. It may be done. The buffer layer 64 may be provided between the metal oxide layer 62 containing a p-type dopant and the hole transport layer of the second organic light emitting element unit 14. Furthermore, it may be provided between a plurality of layers arbitrarily selected from the above configuration.

なお、上記実施形態における有機EL素子10〜60において、第1有機発光素子ユニット12、中間層13〜63、及び、第2有機発光素子ユニット14の積層パターンは、さらに何回繰り返してもよい。具体的には、中間層13〜63を介して設けた第1及び第2有機発光素子ユニット12,14の上側又は下側(或いは両側)に、さらに中間層13〜63を介して第3(或いは第3及び第4)有機発光素子ユニットを設けてもよく、それ以上の積層パターンを設けてもよい。   In the organic EL elements 10 to 60 in the above embodiment, the laminated pattern of the first organic light emitting element unit 12, the intermediate layers 13 to 63, and the second organic light emitting element unit 14 may be repeated any number of times. Specifically, on the upper side or the lower side (or both sides) of the first and second organic light emitting element units 12 and 14 provided via the intermediate layers 13 to 63, the third ( Or the 3rd and 4th) organic light emitting element unit may be provided, and the lamination pattern more than that may be provided.

次に、本発明の有機EL素子の実施例1について、図を用いて詳細に説明する。   Next, Example 1 of the organic EL element of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(有機EL素子の構成)
図7は、本発明の実施例1に係る有機EL素子70の断面図を示す。有機EL素子70は、ITOガラス基板(不図示)、陽極71、第1有機発光素子ユニット72、中間層73、第2有機発光素子ユニット74及び陰極75が、この順で積層されている。
(Configuration of organic EL element)
FIG. 7 shows a cross-sectional view of the organic EL element 70 according to Example 1 of the present invention. In the organic EL element 70, an ITO glass substrate (not shown), an anode 71, a first organic light emitting element unit 72, an intermediate layer 73, a second organic light emitting element unit 74, and a cathode 75 are laminated in this order.

(有機EL素子70の製造)
まず、ITOガラス基板(不図示)を準備する。なお、基板としては、ITOガラス基板に限らない。例えば、トップエミッション型有機EL素子では、基板と反対側から光を取出すために基板に透光性を必要としない。このため、シリコンウェハー等の半導体基板を用いてもよい。
(Manufacture of organic EL element 70)
First, an ITO glass substrate (not shown) is prepared. The substrate is not limited to the ITO glass substrate. For example, in a top emission type organic EL element, the substrate does not need translucency in order to extract light from the side opposite to the substrate. For this reason, a semiconductor substrate such as a silicon wafer may be used.

次に、ITOガラス基板上にプラズマCVD法によりシリコン半導体膜を形成し、結晶化処理を施して多結晶シリコン半導体膜を形成した。   Next, a silicon semiconductor film was formed on the ITO glass substrate by plasma CVD, and a crystallization process was performed to form a polycrystalline silicon semiconductor film.

続いて、多結晶シリコン薄膜をエッチング処理し、複数の島状パターンを形成した。   Subsequently, the polycrystalline silicon thin film was etched to form a plurality of island patterns.

次に、複数の島状パターンの上にゲート絶縁膜及びゲート電極層を順次形成し、エッチング処理によってパターニングを行った。   Next, a gate insulating film and a gate electrode layer were sequentially formed on the plurality of island patterns, and patterning was performed by an etching process.

続いて、ドーピングにより島状パターンの多結晶シリコン半導体膜の各島に、ソース領域及びドレイン領域を形成することで複数のTFTを作製し、さらに平坦化層としての機能を有する層間絶縁膜を形成した。本実施例の層間絶縁膜は、プラズマCVD法で形成した窒化シリコン膜とスピンコーターで形成したアクリル系樹脂層との積層で構成される。   Subsequently, a plurality of TFTs are formed by forming a source region and a drain region on each island of the island-shaped polycrystalline silicon semiconductor film by doping, and further, an interlayer insulating film having a function as a planarizing layer is formed. did. The interlayer insulating film of this embodiment is formed by stacking a silicon nitride film formed by a plasma CVD method and an acrylic resin layer formed by a spin coater.

層間絶縁膜の作製としては、まず、窒化シリコン膜を形成した後、ゲート絶縁膜と一緒にエッチングによりソース領域及び/又はドレイン領域に通ずるコンタクトホールを形成した。その後、ソース配線を形成し、さらにアクリル系樹脂層を形成した後、ゲート絶縁膜及び窒化シリコン膜に穿孔したドレイン領域のコンタクトホールと同じ位置にドレイン領域に通ずるコンタクトホールを形成した。平坦化層としての機能は、アクリル系樹脂層で実現される。アクリル系樹脂層は、表面の凹凸の大きさを100nm以下とするために8μmの厚さで形成した。これにより、平坦化層であるアクリル系樹脂層表面の凹凸の大きさは、最大で48nmであった。平坦化層であるアクリル系樹脂層表面の凹凸の大きさは、触針式段差計を用いて計測した。   For the production of the interlayer insulating film, first, after forming a silicon nitride film, a contact hole communicating with the source region and / or drain region was formed by etching together with the gate insulating film. Thereafter, a source wiring was formed, an acrylic resin layer was further formed, and then a contact hole communicating with the drain region was formed at the same position as the contact hole of the drain region drilled in the gate insulating film and the silicon nitride film. The function as the flattening layer is realized by an acrylic resin layer. The acrylic resin layer was formed with a thickness of 8 μm so that the size of the irregularities on the surface was 100 nm or less. As a result, the size of the irregularities on the surface of the acrylic resin layer, which is the planarizing layer, was 48 nm at the maximum. The size of the irregularities on the surface of the acrylic resin layer, which is a flattening layer, was measured using a stylus type step gauge.

次に、平坦化層を形成した基板上に平坦化層に設けたスルーホールを通して、TFTのドレイン電極と接続するように陽極71を形成した。陽極71にはNiを使用し、膜厚は150nmとした。次に陽極71のエッジ部を覆うように、SiO絶縁膜で1画素毎に画素電極を取り囲むようにカバーを形成した。これによって得られた隔壁に囲まれた開口部は、50×50μmであった。 Next, an anode 71 was formed on the substrate on which the planarization layer was formed so as to be connected to the drain electrode of the TFT through a through hole provided in the planarization layer. Ni was used for the anode 71 and the film thickness was 150 nm. Next, a cover was formed so as to surround the pixel electrode for each pixel with a SiO 2 insulating film so as to cover the edge portion of the anode 71. The opening surrounded by the partition wall obtained in this manner was 50 × 50 μm.

続いて、陽極71上に、第1層目の正孔輸送層72aとして、α-NPDを真空蒸着法により30nm( 蒸着速度1Å/sec) の膜厚となるように形成した。さらに、ホストとしてのCBPと、ドーパントとしてIr(ppy)とを、30nm(CBP:蒸着速度1Å/sec、Ir(ppy):蒸着速度0.1Å/sec)の膜厚となるように共蒸着することにより発光層72bを形成した。 Subsequently, α-NPD was formed on the anode 71 as a first hole transport layer 72a by a vacuum deposition method so as to have a film thickness of 30 nm (deposition rate: 1 Å / sec). Further, CBP as the host and Ir (ppy) 3 as the dopant are shared so as to have a film thickness of 30 nm (CBP: vapor deposition rate 1 Å / sec, Ir (ppy) 3 : vapor deposition rate 0.1 Å / sec). The light emitting layer 72b was formed by vapor deposition.

次に、バッファ層72cとしてBCPを10nm(蒸着速度1Å/sec)の膜厚で形成し、その後、電子輸送層72dとしてAlqを40nm(蒸着速度1Å/sec)の膜厚で形成することにより、第1有機発光素子ユニット72を形成した。 Next, BCP is formed as a buffer layer 72c with a film thickness of 10 nm (deposition rate 1 Å / sec), and then Alq 3 is formed as an electron transport layer 72d with a thickness of 40 nm (deposition rate 1 Å / sec). The 1st organic light emitting element unit 72 was formed.

続いて、第1有機発光素子ユニット72上に、共蒸着により中間層73を酸化モリブデン(MoO3)とCaを20nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、Ca:蒸着速度0.1Å/sec)で形成した。 Subsequently, the intermediate layer 73 is formed on the first organic light emitting element unit 72 by co-evaporation with molybdenum oxide (MoO 3 ) and Ca at 20 nm (MoO 3 : deposition rate 1 Å / sec, Ca: deposition rate 0.1 Å / sec). Formed.

次に、中間層73上に第2有機発光素子ユニット74を陽極71上の第1有機発光素子ユニット72の形成と同じ手順で形成した。ここで、図7における第2有機発光素子ユニット74を構成する複数の層(74a〜74d)は、それぞれ第1有機発光素子ユニット72を構成する複数の層(72a〜72d)に対応するものである。   Next, the second organic light emitting element unit 74 was formed on the intermediate layer 73 in the same procedure as the formation of the first organic light emitting element unit 72 on the anode 71. Here, the plurality of layers (74a to 74d) constituting the second organic light emitting element unit 74 in FIG. 7 correspond to the plurality of layers (72a to 72d) constituting the first organic light emitting element unit 72, respectively. is there.

続いて、電子注入層76としてLiFを真空蒸着法により0.5nmの膜厚で形成し( 蒸着速度1Å/sec)、さらに陰極75としてAl膜(陰極75)を500nmの膜厚で形成することにより、有機EL素子70を作製した。   Subsequently, LiF is formed as the electron injection layer 76 with a film thickness of 0.5 nm by a vacuum evaporation method (deposition rate 1 Å / sec), and an Al film (cathode 75) is formed as the cathode 75 with a film thickness of 500 nm. Thus, an organic EL element 70 was produced.

比較例Comparative example

次に、比較例として、図8に示す構成の有機EL素子80を作製した。ここで、有機EL素子80は、上記実施例1の有機EL素子70と比較して、中間層83の金属酸化物にアルカリ金属等が含まれていない点が特徴である。また、有機EL素子80は、第1有機発光素子ユニットの中間層に対向する側にキャリア注入層86が形成されている。これら以外の構成要素は実施例1と同様であるため、同符号を付している。   Next, as a comparative example, an organic EL element 80 having the configuration shown in FIG. 8 was produced. Here, the organic EL element 80 is characterized in that an alkali metal or the like is not contained in the metal oxide of the intermediate layer 83 as compared with the organic EL element 70 of the first embodiment. In the organic EL element 80, a carrier injection layer 86 is formed on the side facing the intermediate layer of the first organic light emitting element unit. Since the other constituent elements are the same as those in the first embodiment, the same reference numerals are given.

有機EL素子80の作製において、陽極71側の電子輸送層72dの形成時に、電子注入能力を上げるために、Alq3を実施例1と同様に40nm(蒸着速度1Å/sec)の膜厚で形成した後、Alq3と金属カルシウム(Ca)を共蒸着により10nm(Alq3:蒸着速度1Å/sec、Li:蒸着速度0.5Å/sec)の膜厚となるように形成した。その後、酸化モリブデン(MoO)を真空蒸着法により、20nm(蒸着速度1Å/sec)の膜厚で形成し、有機EL素子80の中間層83を形成した。
(評価結果1)
In the production of the organic EL element 80, Alq3 was formed with a film thickness of 40 nm (deposition rate 1 Å / sec) in the same manner as in Example 1 in order to increase the electron injection capability when forming the electron transport layer 72d on the anode 71 side. Thereafter, Alq3 and metallic calcium (Ca) were formed by co-evaporation so as to have a film thickness of 10 nm (Alq3: vapor deposition rate 1 Å / sec, Li: vapor deposition rate 0.5 Å / sec). Thereafter, molybdenum oxide (MoO 3 ) was formed with a film thickness of 20 nm (deposition rate: 1 Å / sec) by a vacuum evaporation method to form an intermediate layer 83 of the organic EL element 80.
(Evaluation result 1)

実施例1及び比較例で作製した有機EL素子70,80の発光効率及び素子寿命を比較評価した。発光効率は、実施例1及び比較例の差がほぼ生じなかった(実施例1:62cd/A、比較例1:64cd/A)。ただし、素子寿命については、実施例1の有機EL素子70の方が大幅に延びることが確認された(実施例1:8000時間、比較例:1200時間 at 2000cd/m)。 The light emitting efficiency and device lifetime of the organic EL devices 70 and 80 produced in Example 1 and the comparative example were compared and evaluated. As for the luminous efficiency, there was almost no difference between Example 1 and Comparative Example (Example 1: 62 cd / A, Comparative Example 1: 64 cd / A). However, regarding the device lifetime, it was confirmed that the organic EL device 70 of Example 1 was significantly extended (Example 1: 8000 hours, Comparative Example: 1200 hours at 2000 cd / m 2 ).

この結果から、電子輸送層中に存在する金属が有機材料と反応しやすいために、複数の有機発光素子ユニットを備えたマルチフォトン(タンデム)素子の寿命が良好ではなかったが、本実施例1のように金属酸化物と金属が存在すればそれらの反応が抑えられるために素子の寿命が良好となることがわかった。   From this result, since the metal present in the electron transport layer easily reacts with the organic material, the lifetime of the multiphoton (tandem) element including a plurality of organic light emitting element units was not good. Thus, it has been found that if a metal oxide and a metal are present, the reaction between them is suppressed, so that the lifetime of the device is improved.

有機発光素子ユニットの有機材料は、炭素原子、あるいはシリコン原子と酸素原子、硫黄原子、あるいはハロゲン原子の結合が存在するときは、酸素原子、硫黄原子、あるいはハロゲン原子上でマイナスに局在化しやすい。そして、そのマイナスに局在化した部位に金属のプラスに局在化した部位が配位する。このため、炭素原子、あるいはシリコン原子と酸素原子、硫黄原子、あるいはハロゲン原子の結合が弱まり、有機材料と金属が反応しやすくなる。一方、金属酸化物と金属とを組み合わせたときには、金属酸化物中の酸素原子は、有機材料ほどマイナスに局在化しない。このため、金属酸化物と金属との反応性は、有機材料と金属の反応性に比べて低くなる。金属酸化物と金属との反応性は低いが、金属を比較的高濃度(10〜40%)でドープすることにより、電子注入性を高めることはできる。   The organic material of the organic light-emitting element unit is likely to be negatively localized on the oxygen atom, sulfur atom, or halogen atom when a bond of carbon atom or silicon atom and oxygen atom, sulfur atom, or halogen atom exists. . And the site | part localized to the metal plus coordinate to the site | part localized to the minus. For this reason, the bond between the carbon atom or silicon atom and the oxygen atom, sulfur atom or halogen atom is weakened, and the organic material and the metal are likely to react. On the other hand, when a metal oxide and a metal are combined, oxygen atoms in the metal oxide are not localized as negatively as organic materials. For this reason, the reactivity of a metal oxide and a metal becomes low compared with the reactivity of an organic material and a metal. Although the reactivity between the metal oxide and the metal is low, the electron injection property can be enhanced by doping the metal at a relatively high concentration (10 to 40%).

次に、実施例2に係る有機EL素子90について図を用いて詳細に説明する。   Next, the organic EL element 90 according to Example 2 will be described in detail with reference to the drawings.

図9は、実施例2に係る有機EL素子90の断面図である。実施例2に係る有機EL素子90と、実施例1に係る有機EL素子70とは、その中間層73,93の構成のみ異なっている。   FIG. 9 is a cross-sectional view of an organic EL element 90 according to the second embodiment. The organic EL element 90 according to Example 2 is different from the organic EL element 70 according to Example 1 only in the configuration of the intermediate layers 73 and 93.

実施例2に係る有機EL素子90の中間層93は、陽極71側の第1有機発光素子ユニット72における電子輸送層72dのAlq3と中間層93中の金属との反応、さらに陰極75側の第2有機発光素子ユニット74におけるα―NPDと金属との反応を、それぞれ抑制するように構成されている。具体的には、中間層93は、陽極71側の第1有機発光素子ユニット72を形成した後に、MoOの層97を1nmの膜厚で形成し、その後、MoOとCaとの層98を共蒸着により20nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、Ca:蒸着速度0.1Å/sec)の膜厚で形成した。その後、MoOの層97を1nmの膜厚で形成した。中間層93以外の陽極71、第1及び第2有機発光素子ユニット72,74、及び、陰極75に関しては、それぞれ実施例1と同じ手順で形成した。 The intermediate layer 93 of the organic EL element 90 according to Example 2 is a reaction between Alq3 of the electron transport layer 72d in the first organic light emitting element unit 72 on the anode 71 side and the metal in the intermediate layer 93, and further on the cathode 75 side. 2 The organic light-emitting element unit 74 is configured to suppress the reaction between α-NPD and metal. Specifically, the intermediate layer 93 is formed by forming the first organic light emitting element unit 72 on the anode 71 side, and then forming a MoO 3 layer 97 with a thickness of 1 nm, and then a MoO 3 and Ca layer 98. Was formed by co-evaporation with a film thickness of 20 nm (MoO 3 : evaporation rate 1 Å / sec, Ca: evaporation rate 0.1 Å / sec). Thereafter, a MoO 3 layer 97 having a thickness of 1 nm was formed. The anode 71, the first and second organic light emitting element units 72 and 74, and the cathode 75 other than the intermediate layer 93 were formed in the same procedure as in Example 1.

次に、実施例3に係る有機EL素子100について図を用いて詳細に説明する。   Next, the organic EL element 100 according to Example 3 will be described in detail with reference to the drawings.

図10は、実施例3に係る有機EL素子100の断面図である。実施例3に係る有機EL素子100と、実施例1に係る有機EL素子70とは、その中間層73,103の構成のみ異なっている。   FIG. 10 is a cross-sectional view of the organic EL element 100 according to the third embodiment. The organic EL element 100 according to Example 3 is different from the organic EL element 70 according to Example 1 only in the configuration of the intermediate layers 73 and 103.

本実施例3では、陽極71側の第1有機発光素子ユニット72を形成した後、MoOの層107を1nmの膜厚で形成し、その後、MoOとCaとの層108を共蒸着により10nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、Ca:蒸着速度0.1Å/sec)の膜厚で形成した。続いて、さらにMoOの層107を1nmの膜厚で形成し、その後、MoOとFTCNQとの層109を共蒸着により10nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、FTCNQ:蒸着速度0.1Å/sec)の膜厚で形成した。最後に、MoOの層107を1nmの膜厚で形成し、中間層103を作製した。中間層103以外の陽極71、第1及び第2有機発光素子ユニット72,74、及び、陰極75に関しては、それぞれ実施例1と同じ手順で形成した。
(評価結果2)
In Example 3, after forming the first organic light emitting element unit 72 on the anode 71 side, the MoO 3 layer 107 was formed to a thickness of 1 nm, and then the MoO 3 and Ca layer 108 was co-evaporated. The film was formed with a film thickness of 10 nm (MoO 3 : deposition rate 1 Å / sec, Ca: deposition rate 0.1 Å / sec). Subsequently, a layer 107 of MoO 3 is further formed to a thickness of 1 nm, and then a layer 109 of MoO 3 and F 4 TCNQ is co-evaporated to 10 nm (MoO 3 : evaporation rate 1 Å / sec, F 4 TCNQ: evaporation). The film thickness was 0.1 mm / sec). Finally, the MoO 3 layer 107 was formed to a thickness of 1 nm, and the intermediate layer 103 was produced. The anode 71, the first and second organic light emitting element units 72 and 74, and the cathode 75 other than the intermediate layer 103 were formed in the same procedure as in Example 1.
(Evaluation result 2)

実施例1〜3で作製した有機EL素子70,90,100について、駆動電圧、発光効率、及び、素子寿命をそれぞれ比較評価した。   With respect to the organic EL elements 70, 90, and 100 produced in Examples 1 to 3, the driving voltage, the light emission efficiency, and the element lifetime were comparatively evaluated.

駆動電圧は、実施例1の有機EL素子70が6.4Vであり、実施例2の有機EL素子90が6.5Vであり、両者はほぼ同等であった。これに対し、実施例3の有機EL素子100は6.2Vとなり、実施例1及び2と比較して、低かった。   The driving voltage was 6.4 V for the organic EL element 70 of Example 1 and 6.5 V for the organic EL element 90 of Example 2, and both were substantially equal. On the other hand, the organic EL element 100 of Example 3 was 6.2 V, which was lower than those of Examples 1 and 2.

発光効率は、実施例1の有機EL素子70及び実施例2の有機EL素子90の間でほぼ差がなかった(実施例1:62cd/A、実施例2:64cd/A)。しかし、実施例3の有機EL素子100の発光効率は、実施例1及び2と比較してやや低かった(58cd/A)。   There was almost no difference in luminous efficiency between the organic EL element 70 of Example 1 and the organic EL element 90 of Example 2 (Example 1: 62 cd / A, Example 2: 64 cd / A). However, the light emission efficiency of the organic EL element 100 of Example 3 was slightly lower than that of Examples 1 and 2 (58 cd / A).

素子寿命は、実施例1の有機EL素子70及び実施例2の有機EL素子90の間でほぼ差がなかった。これに対し、実施例3の有機EL素子100の寿命は、大幅に実施例1及び2よりも延びることが確認された(実施例1:8000時間、実施例2:9000時間、実施例3:13000時間 at 2000cd/m)。 There was almost no difference in element lifetime between the organic EL element 70 of Example 1 and the organic EL element 90 of Example 2. On the other hand, it was confirmed that the lifetime of the organic EL element 100 of Example 3 was significantly longer than that of Examples 1 and 2 (Example 1: 8000 hours, Example 2: 9000 hours, Example 3: 13000 hours at 2000 cd / m 2 ).

上記結果から、中間層に存在する金属を隣接する有機材料に近づけなくすることで、金属と有機材料との反応を抑制させ、素子の長寿命化を図れることが確認された(実施例1〜3と比較例との比較から)。また、中間層を、陽極付近では電子注入性が増すように、陰極付近では正孔注入性が増すように、それぞれ配置させることで、より低い電圧で駆動し、発光効率の高い素子を得ることができた(実施例1及び2と実施例3との比較から)。中間層に存在する金属が隣接する有機材料に近づけなくすることで、金属と有機材料との反応を抑制できるメカニズムについては評価結果1で述べたものと同様である。   From the above results, it was confirmed that by preventing the metal present in the intermediate layer from approaching the adjacent organic material, the reaction between the metal and the organic material can be suppressed, and the lifetime of the element can be increased (Examples 1 to 3). 3 and comparison with comparative example). In addition, by arranging the intermediate layer so that the electron injecting property is increased near the anode and the hole injecting property is increased near the cathode, the intermediate layer can be driven at a lower voltage to obtain a device with high luminous efficiency. (Comparison between Examples 1 and 2 and Example 3) The mechanism that can suppress the reaction between the metal and the organic material by preventing the metal present in the intermediate layer from approaching the adjacent organic material is the same as that described in the evaluation result 1.

次に、実施例4に係る有機EL素子110について図を用いて詳細に説明する。   Next, the organic EL element 110 according to Example 4 will be described in detail with reference to the drawings.

図11は、実施例4に係る有機EL素子110の断面図である。実施例4に係る有機EL素子110と、実施例1に係る有機EL素子70とは、その中間層73,113の構成のみ異なっている。   FIG. 11 is a cross-sectional view of the organic EL element 110 according to the fourth embodiment. The organic EL element 110 according to the fourth embodiment is different from the organic EL element 70 according to the first embodiment only in the configuration of the intermediate layers 73 and 113.

本実施例4では、陽極71側の第1有機発光素子ユニット72を形成した後に、MoOの層117を1nmの膜厚で形成した。その後、MoOとCaとの層118を共蒸着により10nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、Ca:蒸着速度0.20Å/secから0.05Å/sec)の膜厚で形成した。その際、Caの蒸着速度は変化させる一方、MoOの蒸着速度は一定にして濃度勾配を設けた。その後、MoOの層117を1nmの膜厚で形成した。続いて、MoOとFTCNQとの層119を共蒸着により10nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、FTCNQ:蒸着速度0.20Å/secから005Å/sec)の膜厚で形成した。この際もFTCNQの蒸着速度を変える一方、MoOの蒸着速度は一定として勾配を設けた。最後にMoOの層117を1nmの膜厚で形成し、中間層113を作製した。中間層113以外の陽極71、第1及び第2有機発光素子ユニット72,74、及び、陰極75に関しては、それぞれ実施例1と同じ手順で形成した。 In Example 4, after the first organic light emitting element unit 72 on the anode 71 side was formed, the MoO 3 layer 117 was formed to a thickness of 1 nm. Then, MoO 3 and 10nm by co-evaporation layer 118 of Ca was formed to have a thickness of (MoO 3:: deposition rate 1 Å / sec, Ca from the deposition rate of 0.20Å / sec 0.05Å / sec). At that time, while the deposition rate of Ca was changed, the deposition rate of MoO 3 was kept constant and a concentration gradient was provided. Thereafter, a layer 117 of MoO 3 was formed with a thickness of 1 nm. Subsequently, a layer 119 of MoO 3 and F 4 TCNQ was formed by co-evaporation with a film thickness of 10 nm (MoO 3 : deposition rate 1 Å / sec, F 4 TCNQ: deposition rate 0.20 0.2 / sec to 005 Å / sec). . At this time, the deposition rate of F 4 TCNQ was changed, while the deposition rate of MoO 3 was constant and a gradient was provided. Finally, the MoO 3 layer 117 was formed to a thickness of 1 nm, and the intermediate layer 113 was produced. The anode 71, the first and second organic light emitting element units 72 and 74, and the cathode 75 other than the intermediate layer 113 were formed in the same procedure as in Example 1.

なお、濃度勾配は、インライン蒸着等の蒸着源が固定され、基板が搬送される方法を利用しても容易に形成できる。
(評価結果3)
The concentration gradient can be easily formed even by using a method in which a deposition source such as in-line deposition is fixed and the substrate is transported.
(Evaluation result 3)

実施例3及び実施例4で作製した有機EL素子100,110の駆動電圧、発光効率、及び、素子寿命を比較評価した。実施例3で作製した有機EL素子100に対して、実施例4で作製した有機EL素子110は、素子寿命が5割長くなり、発光効率は同等であった。   The drive voltage, light emission efficiency, and element lifetime of the organic EL elements 100 and 110 produced in Example 3 and Example 4 were compared and evaluated. Compared with the organic EL element 100 produced in Example 3, the organic EL element 110 produced in Example 4 had an element lifetime of 50% longer and the luminous efficiency was equivalent.

濃度勾配を設けることで電子及びホール注入障壁が低減され、電気化学的に安定になることがわかった。ドープ濃度を変えると、仕事関数が変わり、それにより各地点での電子及びホールの注入又は移動が容易になるためである。また、濃度勾配は、隣接する層同士の仕事関数から均等であることが望ましい。その際の電子およびホール移動の障壁が最も小さくなるためである。(参考文献:K. Okamoto et al. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 7014.)   It was found that providing the concentration gradient reduces the electron and hole injection barrier and makes it electrochemically stable. This is because changing the doping concentration changes the work function, which facilitates the injection or movement of electrons and holes at each point. Further, it is desirable that the concentration gradient is uniform from the work function of adjacent layers. This is because the barrier for electron and hole movement is minimized. (Reference: K. Okamoto et al. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 7014.)

次に、実施例5に係る有機EL素子について説明する。   Next, an organic EL element according to Example 5 will be described.

実施例5に係る有機EL素子と、実施例2に係る有機EL素子90とは、その中間層93の構成のみ異なっている。   The organic EL element according to Example 5 and the organic EL element 90 according to Example 2 differ only in the configuration of the intermediate layer 93.

実施例5に係る有機EL素子の中間層として、まず、実施例2に係る有機EL素子90と同様の陽極71及び第1有機発光素子ユニット72を形成した。続いて、MoOの層を1nmの膜厚で形成し、さらに、MoOとCaとの層を共蒸着により20nm(MoO:蒸着速度1Å/sec、Ca:蒸着速度0.5Å/sec)の膜厚で形成した。次に、MoOの層を1nmの膜厚で形成した。また、第2有機発光素子ユニット74、及び、陰極75に関しては、それぞれ実施例2と同じ手順で形成した。
(評価結果4)
As an intermediate layer of the organic EL element according to Example 5, first, an anode 71 and a first organic light emitting element unit 72 similar to those of the organic EL element 90 according to Example 2 were formed. Subsequently, a layer of MoO 3 is formed with a thickness of 1 nm, and further, a layer of MoO 3 and Ca is formed by co-evaporation to 20 nm (MoO 3 : deposition rate 1 Å / sec, Ca: deposition rate 0.5 Å / sec). The film thickness was formed. Next, a MoO 3 layer was formed to a thickness of 1 nm. Further, the second organic light emitting element unit 74 and the cathode 75 were formed in the same procedure as in Example 2.
(Evaluation result 4)

実施例2及び実施例5でそれぞれ作製した有機EL素子の駆動電圧、発光効率、素子寿命を比較評価した。実施例5では、MoOに対して、相対膜厚比で50%のCaをドープした(実施例2では20%)。実施例2の有機EL素子90に対して、実施例5で作製した有機EL素子は、素子寿命が1割短くなる結果が得られた。 The drive voltage, light emission efficiency, and element lifetime of the organic EL elements produced in Example 2 and Example 5 were comparatively evaluated. In Example 5, 50% Ca was doped with respect to MoO 3 in a relative film thickness ratio (20% in Example 2). With respect to the organic EL element 90 of Example 2, the organic EL element produced in Example 5 has a result that the element lifetime is shortened by 10%.

MoOに対して、金属を50%以上ドープしたあたりから素子寿命が短くなる結果が得られた。つまり、Caが周囲と反応する活性点が増え、反応後に電子輸送性が落ちるために、全体として素子寿命が短くなったと考えられる。 As a result, the device life was shortened from about 50% or more of the metal doped with respect to MoO 3 . That is, it is considered that the active life point at which Ca reacts with the surroundings increases and the electron transport property is lowered after the reaction, so that the device lifetime is shortened as a whole.

次に、実施例6に係る有機EL素子について説明する。   Next, an organic EL element according to Example 6 will be described.

実施例6に係る有機EL素子と、実施例3に係る有機EL素子100とは、その構成要素が同じであり、その中間層103の構成のみ異なっている。   The organic EL element according to Example 6 and the organic EL element 100 according to Example 3 have the same constituent elements, and only the configuration of the intermediate layer 103 is different.

実施例6に係る有機EL素子の中間層は、実施例3係る有機EL素子100の中間層103の作製において、そのMoOとFTCNQとの共蒸着速度をMoO:蒸着速度1Å/sec、FTCNQ:蒸着速度0.5Å/secとし、10nmの膜厚で形成した。
(評価結果5)
In the production of the intermediate layer 103 of the organic EL element 100 according to Example 3, the intermediate layer of the organic EL element according to Example 6 is MoO 3 : the vapor deposition rate of 1 Å / sec as MoO 3 and F 4 TCNQ. , F 4 TCNQ: the deposition rate 0.5 Å / sec, was formed to have a thickness of 10 nm.
(Evaluation result 5)

実施例3及び実施例6でそれぞれ作製した有機EL素子の駆動電圧、発光効率、素子寿命を比較評価した。実施例6ではMoOに対して、相対膜厚比で50%のFTCNQをドープした(実施例3では20%)。実施例3で作製した有機EL素子100に対して、実施例6で作製した有機EL素子は、素子寿命が1割短くなる結果が得られた。 The drive voltage, light emission efficiency, and element lifetime of the organic EL elements produced in Example 3 and Example 6 were comparatively evaluated. In Example 6, 50% F 4 TCNQ in terms of relative film thickness ratio was doped with respect to MoO 3 (20% in Example 3). The organic EL element produced in Example 6 was 10% shorter than the organic EL element 100 produced in Example 3.

MoOに対して、金属を50%以上ドープするあたりから素子寿命が短くなる結果が得られていることから、Caが周囲と反応する活性点が増え、反応後に電子輸送性が低下するために全体として素子寿命が短くなったと考えられる。 Since the result that the device life is shortened from about 50% or more doping of metal with respect to MoO 3 is obtained, the number of active sites where Ca reacts with the surroundings increases, and the electron transport property decreases after the reaction. It is thought that the device life as a whole was shortened.

以上説明したように、本発明は、有機EL素子に関する。   As described above, the present invention relates to an organic EL element.

図1は、本発明の実施形態に係る有機EL素子10の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL element 10 according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の実施形態に係る有機EL素子20の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the organic EL element 20 according to the embodiment of the present invention. 図3は、本発明の実施形態に係る有機EL素子30の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the organic EL element 30 according to the embodiment of the present invention. 図4は、本発明の実施形態に係る有機EL素子40の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the organic EL element 40 according to the embodiment of the present invention. 図5は、本発明の実施形態に係る有機EL素子50の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of an organic EL element 50 according to an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施形態に係る有機EL素子60の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of an organic EL element 60 according to an embodiment of the present invention. 図7は、本発明の実施例1に係る有機EL素子70の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the organic EL element 70 according to Example 1 of the present invention. 図8は、比較例に係る有機EL素子80の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of an organic EL element 80 according to a comparative example. 図9は、本発明の実施例2に係る有機EL素子90の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of an organic EL element 90 according to Example 2 of the present invention. 図10は、本発明の実施例3に係る有機EL素子100の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of an organic EL element 100 according to Example 3 of the present invention. 図11は、本発明の実施例4に係る有機EL素子110の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of an organic EL element 110 according to Example 4 of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10,20,30,40,50,60,70,90,100,110 有機EL素子
11,71 陽極
12,72 第1有機発光素子ユニット
13,23,33,43,53,63,73,93,103,113 中間層
14,74 第2有機発光素子ユニット
15,75 陰極
21,41,51,61 アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層
22 金属酸化物のみの層
42,52,62 p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層
64 バッファ層
72a 正孔輸送層
72b 発光層
72c バッファ層
72d 電子輸送層
76 電子注入層
86 キャリア注入層
97,107,117 MoOの層
98,108,118 MoOとCaとの層
109,119 MoOとFTCNQとの層
10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 90, 100, 110 Organic EL elements 11, 71 Anode 12, 72 First organic light emitting element units 13, 23, 33, 43, 53, 63, 73, 93 , 103, 113 Intermediate layer 14, 74 Second organic light emitting element unit 15, 75 Cathode 21, 41, 51, 61 Metal oxide layer 22 containing alkali metal or alkaline earth metal 22 Metal oxide only layer 42, 52, 62 Metal oxide layer containing p-type dopant 64 Buffer layer 72a Hole transport layer 72b Light emitting layer 72c Buffer layer 72d Electron transport layer 76 Electron injection layer 86 Carrier injection layer 97, 107, 117 MoO 3 layer 98 , 108, 118 MoO 3 and Ca layer 109, 119 MoO 3 and F 4 TCNQ layer

Claims (17)

アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物で構成された中間層と、
上記中間層を挟持するように設けられ、且つ、該中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットと、
を備えた有機EL素子。
An intermediate layer composed of a metal oxide containing an alkali metal or an alkaline earth metal;
First and second organic light-emitting element units that are provided so as to sandwich the intermediate layer and are electrically connected in series via the intermediate layer;
An organic EL device comprising:
請求項1に記載された有機EL素子において、
上記金属酸化物は、酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化インジウム・スズ、酸化モリブデン、酸化鉄、及び、酸化亜鉛のうちの少なくともいずれか1種を含む有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1,
The metal oxide is an organic EL element including at least one of vanadium oxide, rhenium oxide, indium tin oxide, molybdenum oxide, iron oxide, and zinc oxide.
請求項1に記載された有機EL素子において、
上記アルカリ金属及びアルカリ土類金属は、それぞれ単体、塩化物、フッ化物、又は、酸化物として上記金属酸化物に含まれている有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1,
The organic EL element in which the alkali metal and the alkaline earth metal are contained in the metal oxide as a simple substance, chloride, fluoride, or oxide, respectively.
請求項1に記載された有機EL素子において、
上記中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ部分が構成する膜の、該中間層全体に対する膜厚比が50%以下である有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1,
The organic EL element whose film thickness ratio with respect to the whole said intermediate | middle layer of the film | membrane which the part containing the alkali metal or alkaline-earth metal of the said intermediate layer comprises is 50% or less.
請求項1に記載された有機EL素子において、
上記第1及び第2有機発光素子ユニットの一方には、該中間層に対向するように電子輸送層が設けられており、
上記中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属は、該中間層における上記電子輸送層に対向する部分に含まれている有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1,
One of the first and second organic light emitting element units is provided with an electron transport layer so as to face the intermediate layer,
The organic EL element in which the alkali metal or alkaline earth metal of the intermediate layer is contained in a portion of the intermediate layer facing the electron transport layer.
請求項1に記載された有機EL素子において、
上記第1及び第2有機発光素子ユニットの一方には、該中間層に対向するように電子輸送層が設けられており、
上記中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属は、該中間層の上記電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に該中間層内での濃度が低くなるように含まれている有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1,
One of the first and second organic light emitting element units is provided with an electron transport layer so as to face the intermediate layer,
The alkali metal or alkaline earth metal of the intermediate layer is included so that the concentration in the intermediate layer gradually decreases from the side of the intermediate layer facing the electron transport layer toward the opposite side. Organic EL element.
金属酸化物の層と、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、で構成された中間層と、
上記中間層を挟持するように設けられ、且つ、該中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットと、
を備えた有機EL素子。
An intermediate layer composed of a metal oxide layer, a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, and
First and second organic light-emitting element units that are provided so as to sandwich the intermediate layer and are electrically connected in series via the intermediate layer;
An organic EL device comprising:
アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層と、で構成された中間層と、
上記中間層を挟持するように設けられ、且つ、該中間層を介して電気的に直列に接合された第1及び第2有機発光素子ユニットと、
を備えた有機EL素子。
An intermediate layer composed of a metal oxide layer containing an alkali metal or an alkaline earth metal, and a metal oxide layer containing a p-type dopant;
First and second organic light-emitting element units that are provided so as to sandwich the intermediate layer and are electrically connected in series via the intermediate layer;
An organic EL device comprising:
請求項8に記載された有機EL素子において、
上記金属酸化物は、酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化インジウム・スズ、酸化モリブデン、酸化鉄、及び、酸化亜鉛のうちの少なくともいずれか1種を含む有機EL素子。
In the organic EL device according to claim 8,
The said metal oxide is an organic EL element containing at least any one of vanadium oxide, rhenium oxide, indium tin oxide, molybdenum oxide, iron oxide, and zinc oxide.
請求項8に記載された有機EL素子において、
上記p型ドーパントは、フタロシアニン骨格、p−キノン骨格、o−キノン骨格、又は、キノジメタン骨格を有する有機化合物のうちの少なくともいずれか1種である有機EL素子。
In the organic EL device according to claim 8,
The organic EL device, wherein the p-type dopant is at least one of organic compounds having a phthalocyanine skeleton, a p-quinone skeleton, an o-quinone skeleton, or a quinodimethane skeleton.
請求項8に記載された有機EL素子において、
上記p型ドーパントは、遷移金属の酸化物である有機EL素子。
In the organic EL device according to claim 8,
The organic EL device in which the p-type dopant is an oxide of a transition metal.
請求項8に記載された有機EL素子において、
上記アルカリ金属及びアルカリ土類金属は、それぞれ単体、塩化物、フッ化物、又は、酸化物として上記金属酸化物に含まれている有機EL素子。
In the organic EL device according to claim 8,
The organic EL element in which the alkali metal and the alkaline earth metal are contained in the metal oxide as a simple substance, chloride, fluoride, or oxide, respectively.
請求項8に記載された有機EL素子において、
上記中間層のアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層と、p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層とは、それぞれ該中間層全体に対する膜厚比が50%以下である有機EL素子。
In the organic EL device according to claim 8,
The thickness ratio of the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal and the metal oxide layer containing the p-type dopant in the intermediate layer is 50% or less with respect to the entire intermediate layer. Organic EL element.
請求項8に記載された有機EL素子において、
上記第1及び第2有機発光素子ユニットの一方には該中間層に対向するように電子輸送層が設けられていると共に、他方には該中間層に対向するように正孔輸送層が設けられており、
上記アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層が上記電子輸送層に対向するように設けられ、
上記p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層が上記正孔輸送層に対向するように設けられた有機EL素子。
In the organic EL device according to claim 8,
One of the first and second organic light emitting element units is provided with an electron transport layer so as to face the intermediate layer, and the other is provided with a hole transport layer so as to face the intermediate layer. And
A layer of a metal oxide containing the alkali metal or alkaline earth metal is provided to face the electron transport layer;
The organic EL element provided so that the metal oxide layer containing the said p-type dopant might oppose the said positive hole transport layer.
請求項14に記載された有機EL素子において、
上記アルカリ金属又はアルカリ土類金属は、該アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層における上記電子輸送層に対向する部分に含まれ、
上記p型ドーパントは、該p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層における上記正孔輸送層に対向する部分に含まれている有機EL素子。
In the organic EL element according to claim 14,
The alkali metal or alkaline earth metal is contained in a portion facing the electron transport layer in the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal,
The said p-type dopant is an organic EL element contained in the part facing the said hole transport layer in the layer of the metal oxide containing this p-type dopant.
請求項14に記載された有機EL素子において、
上記アルカリ金属又はアルカリ土類金属は、該アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層の上記電子輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に該金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれ、
上記p型ドーパントは、該p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層の上記正孔輸送層に対向する側からその反対側に向かうにつれて、徐々に該金属酸化物の層内での濃度が低くなるように含まれている有機EL素子。
In the organic EL element according to claim 14,
The alkali metal or alkaline earth metal gradually moves from the side facing the electron transport layer to the opposite side of the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal. Contained so that the concentration in the layer is low,
The concentration of the p-type dopant gradually decreases in the metal oxide layer from the side facing the hole transport layer to the opposite side of the metal oxide layer containing the p-type dopant. The organic EL element contained so that it may become.
請求項14に記載された有機EL素子において、
上記アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層及び上記電子輸送層の間と、
上記p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層及び上記正孔輸送層の間と、
上記アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含んだ金属酸化物の層及び上記p型ドーパントを含んだ金属酸化物の層の間と、
のうちの少なくともいずれか一つの間に金属酸化物のみで構成されるバッファ層を備えた有機EL素子。
In the organic EL element according to claim 14,
Between the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal and the electron transport layer;
Between the metal oxide layer containing the p-type dopant and the hole transport layer;
Between the metal oxide layer containing the alkali metal or alkaline earth metal and the metal oxide layer containing the p-type dopant;
An organic EL device comprising a buffer layer composed only of a metal oxide between at least one of the above.
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