JP2009043138A - Biological information acquisition device - Google Patents

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Nobuhiro Umebayashi
信弘 梅林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem wherein a conventional biological information acquisition device is not designed with consideration of pattern variation of a thin blood vessel, for example, in order to assure the reliability of biometrics authentication, it is necessary to apply complicated imaging processing etc. to biometrics authentication equipment. <P>SOLUTION: The biological information acquisition device D1 is equipped with: an imaging device 31 which has a plurality of pixels PX; a transparent substrate 50 which has a plurality of microlenses 52 prepared corresponding to the plurality of pixels PX; and an optical channel separating layer 32 which is formed so that each of optical channels between a microlens 52 and a pixel PX is separated and has a light shielding structure in which an aperture corresponding to the pixel PX is prepared. The microlens 52 condenses light from a predetermined portion 100 through the aperture to the pixel PX. The minimum lens width of the microlens 52 is 50 μm or more. And distance between adjacent microlenses 52, and distance between apertures corresponding to the distance is nearly equal. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、被検体の所定部分からの反射光又は透過光に基づいて所定部分における静脈パターンを撮像する生体情報取得装置に関する。   The present invention relates to a biological information acquisition apparatus that images a vein pattern in a predetermined portion based on reflected light or transmitted light from a predetermined portion of a subject.

近年、生体認証に関する技術開発の進展が著しい。なお、周知のとおり、生体認証とは、検査対象の個体から取得した生体情報が、あらかじめ設定された生体情報と等しいかどうかという判定に基づいて、ある個体を他の個体から識別する技術である。例えば、ヒトの瞳の虹彩に基づいて個体を特定する方法、ヒトの指等の静脈パターンに基づいて個体を特定する方法、指の指紋パターンに基づいて個体を特定する方法が挙げられる。なかでも、ヒトの指等の静脈パターンを利用したものは、パターンデータの偽装が困難であり、高いセキュリティーを確保することができる。   In recent years, the development of technology related to biometric authentication has been remarkable. As is well known, biometric authentication is a technique for identifying an individual from other individuals based on a determination whether biometric information acquired from an individual to be examined is equal to biometric information set in advance. . For example, there are a method for identifying an individual based on the iris of a human pupil, a method for identifying an individual based on a vein pattern such as a human finger, and a method for identifying an individual based on a fingerprint pattern of a finger. Among them, those using vein patterns such as human fingers are difficult to disguise pattern data, and high security can be ensured.

特許文献1には、生体認証に用いられる撮像装置が開示されている。この撮像装置では、光源(100)、支持台(300)、画像認証部(200)を積層させることで、撮像装置の小型化を図っている。
特開2001−119008号公報
Patent Document 1 discloses an imaging device used for biometric authentication. In this imaging apparatus, the imaging apparatus is downsized by stacking the light source (100), the support base (300), and the image authentication unit (200).
JP 2001-119008 A

一般的に、生体情報を示す画像に基づいて生体認証を実現する場合、画像取得装置の取得画像はより解像度が高いものであると良い。高解像度の画像を取得し、これに基づいて生体認証を実行すれば、生体認証のエラー率を低減させることができるためである。なお、撮像素子の感度特性を向上させるためには、一般的なマイクロレンズ(レンズ径5〜10μm程度)を個々の画素上に配置させると良い。   In general, when biometric authentication is realized based on an image indicating biometric information, the acquired image of the image acquisition device is preferably higher in resolution. This is because an error rate of biometric authentication can be reduced by acquiring a high-resolution image and performing biometric authentication based on the high-resolution image. In order to improve the sensitivity characteristics of the image sensor, a general microlens (lens diameter of about 5 to 10 μm) is preferably arranged on each pixel.

しかしながら、上述の点は、静脈パターンを表す画像に基づいて生体認証を実現する場合には直ちに適用できない。これは、静脈パターンを表す画像に基づいて生体認証を実行する場合、被検体の所定部分における静脈のパターン変動を考慮することが極めて重要だからである。   However, the above points cannot be immediately applied when biometric authentication is realized based on an image representing a vein pattern. This is because, when performing biometric authentication based on an image representing a vein pattern, it is extremely important to consider the vein pattern variation in a predetermined portion of the subject.

静脈は、毛細血管を介して流出する静脈血を心臓に帰還させる血流路である。特にヒトの指又は手部分等の末端部分においては、静脈から多くの毛細血管が分岐している。毛細血管は、季節的な影響やヒトの健康状態の影響などを受けて伸縮すると共に生成/消滅する。従って、毛細血管等に例示される細い血管のパターン変動(以下、単にパターン変動と呼ぶこともある)によって、観察対象とする被検体の所定部分が同一の場合であっても、予め設定されたマスターパターンに対して、その都度取得される取得パターンが一致しなくなることが生じ得る。つまり、観察対象の所定部分における細い血管のパターン変動によって、生体認証装置の信頼性が低下してしまうことが生じ得る。   A vein is a blood flow path that returns venous blood flowing out through capillaries to the heart. In particular, many capillaries diverge from veins at the end portions such as human fingers or hand portions. Capillaries expand / contract and generate / disappear due to seasonal influences and the influence of human health. Therefore, even if the predetermined portion of the subject to be observed is the same due to the variation in the pattern of thin blood vessels exemplified by capillaries (hereinafter sometimes simply referred to as pattern variation), it is set in advance. An acquisition pattern acquired each time may not match the master pattern. That is, the reliability of the biometric authentication device may be reduced due to the variation of the thin blood vessel pattern in a predetermined portion of the observation target.

生体認証の信頼性を確保するためには、例えば、上述のパターン変動の影響を排除するため、後続の信号処理部において画像処理を施すと良いが、毛細血管等の細い血管のパターンを選択的に排除するためには比較的複雑な画像処理を施すことが必要になる。   In order to ensure the reliability of biometric authentication, for example, in order to eliminate the influence of the above-described pattern variation, it is preferable to perform image processing in a subsequent signal processing unit. However, a pattern of thin blood vessels such as capillaries is selectively used. Therefore, it is necessary to perform relatively complicated image processing.

つまり、従来の生体情報取得装置は、細い血管のパターン変動を考慮したものではなく、生体認証の信頼性を確保するために複雑な画像処理等を生体認証装置に適用することが必要になったりしていた。   In other words, the conventional biometric information acquisition device does not take into account the fluctuation of the thin blood vessel pattern, and it may be necessary to apply complex image processing or the like to the biometric authentication device in order to ensure the reliability of biometric authentication. Was.

本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、静脈パターンを表す画像に基づいて生体認証する生体認証装置に用いられる生体情報取得装置に関し、静脈のパターン変動による生体認証の信頼性の低下を抑制可能な生体情報取得装置を提供すること目的とする。   The present invention has been made to solve such problems, and relates to a biometric information acquisition apparatus used for a biometric authentication apparatus that performs biometric authentication based on an image representing a vein pattern. It is an object of the present invention to provide a biological information acquisition apparatus that can suppress a decrease in reliability.

本発明に係る生体情報取得装置は、被検体の所定部分からの反射光又は透過光に基づいて前記所定部分における静脈パターンを撮像する生体情報取得装置であって、複数の画素を有する撮像素子と、複数の前記画素に対応して設けられた複数のマイクロレンズを有する透明基板と、前記マイクロレンズと前記画素間の光チャネル夫々を分離するように形成され、かつ前記画素に対応した開口部が設けられた遮光構造を有する光チャネル分離層と、を備え、複数の前記マイクロレンズ夫々は、前記所定部分からの光を前記画素に前記開口部を通じて集光し、複数の前記マイクロレンズ夫々の最小レンズ幅は50μm以上であり、隣接する前記マイクロレンズ間の距離とそれに対応する前記開口部間の距離が略等しい。   A biological information acquisition apparatus according to the present invention is a biological information acquisition apparatus that images a vein pattern in a predetermined portion based on reflected light or transmitted light from a predetermined portion of a subject, and an imaging element having a plurality of pixels A transparent substrate having a plurality of microlenses provided corresponding to the plurality of pixels, and an opening corresponding to the pixels formed to separate the optical channels between the microlenses and the pixels. An optical channel separation layer having a light shielding structure provided, and each of the plurality of microlenses condenses light from the predetermined portion to the pixel through the opening, and each of the minimum of the plurality of microlenses. The lens width is 50 μm or more, and the distance between the adjacent microlenses and the distance between the corresponding openings are substantially equal.

レンズ幅50μm以上のマイクロレンズを介して所定部分からの光を撮像素子の各画素に開口部を通じて集光させることで、取得される静脈パターンに細い血管のパターンが明確に現れることが抑制される。これにより、生体認証に必要不可欠な静脈パターンが相対的に明確化される。また、隣接する前記マイクロレンズ間の距離とそれに対応する前記開口部間の距離は略等しい。従って、各マイクロレンズ単位で取得される像が互いに重ね合わされることが抑制され、より鮮明な像を取得することができる。   By condensing light from a predetermined portion through each aperture of the image sensor through the opening through a microlens having a lens width of 50 μm or more, it is possible to prevent a thin blood vessel pattern from appearing clearly in the acquired vein pattern. . Thereby, the vein pattern indispensable for biometric authentication is relatively clarified. Further, the distance between the adjacent microlenses and the distance between the corresponding openings are substantially equal. Therefore, the images acquired in units of microlenses are suppressed from being superimposed on each other, and a clearer image can be acquired.

複数の前記マイクロレンズは、前記透明基板の主面上にマトリクス状に形成される、と良い。   The plurality of microlenses are preferably formed in a matrix on the main surface of the transparent substrate.

前記所定部分に対して照射されるべき光を出射する半導体発光素子を更に備える、と良い。レンズ幅50μm以上のマイクロレンズを介して所定部分からの光を撮像素子の各画素に集光させることで、各画素に入力される光量はレンズ幅に応じたものになる。これにより、半導体発光素子の出射光強度をより低く設定することが可能になる。   It is preferable to further include a semiconductor light emitting element that emits light to be irradiated to the predetermined portion. By condensing light from a predetermined portion on each pixel of the image sensor through a microlens having a lens width of 50 μm or more, the amount of light input to each pixel corresponds to the lens width. Thereby, it becomes possible to set the emitted light intensity of the semiconductor light emitting element lower.

前記所定部分に対して照射されるべき光を出射する半導体発光素子と、第1面及び前記所定部分に臨む第2面を有し、前記第1面から前記第2面に前記半導体発光素子の出射光を案内するライトガイドと、を更に備える、と良い。レンズ幅50μm以上のマイクロレンズを介して所定部分からの光を撮像素子の各画素に集光させることで、各画素に入力される光量はレンズ幅に応じたものになる。これにより、半導体発光素子からの出射光強度をより低く設定することが可能になる。   A semiconductor light-emitting element that emits light to be irradiated to the predetermined portion; a first surface; and a second surface that faces the predetermined portion; the first surface to the second surface; And a light guide for guiding the emitted light. By condensing light from a predetermined portion on each pixel of the image sensor through a microlens having a lens width of 50 μm or more, the amount of light input to each pixel corresponds to the lens width. This makes it possible to set the intensity of light emitted from the semiconductor light emitting element to be lower.

前記光チャネル分離層は、前記撮像素子上に積層され、前記透明基板は、前記光チャネル分離層上に積層される、と良い。   The optical channel separation layer may be laminated on the imaging device, and the transparent substrate may be laminated on the optical channel separation layer.

本発明によれば、生体情報取得装置の構成自体によって、静脈のパターン変動による生体認証の信頼性の低下を抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the fall of the reliability of biometric authentication by vein pattern fluctuation | variation can be suppressed with the structure itself of a biometric information acquisition apparatus.

以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。なお、各実施の形態は、説明の便宜上、簡略化されている。図面は簡略的なものであるから、図面の記載を根拠として本発明の技術的範囲を狭く解釈してはならない。図面は、もっぱら技術的事項の説明のためのものであり、図面に示された要素の正確な大きさ等は反映していない。同一の要素には、同一の符号を付し、重複する説明は省略するものとする。上下左右といった方向を示す言葉は、図面を正面視した場合を前提として用いるものとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Each embodiment is simplified for convenience of explanation. Since the drawings are simple, the technical scope of the present invention should not be interpreted narrowly based on the drawings. The drawings are only for explaining the technical matters, and do not reflect the exact sizes or the like of the elements shown in the drawings. The same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Words indicating directions such as up, down, left, and right are used on the assumption that the drawing is viewed from the front.

〔第1の実施形態〕
図1乃至図8を用いて、本発明の第1の実施の形態について説明する。図1は、生体情報取得装置D1の概略的な斜視図である。図2は、生体情報取得装置D1を上面視した構成を説明するための概略的な模式図である。図3は、図1のA点側から生体情報取得装置D1をみた概略的な説明図である。図4は、図1のB点側から生体情報取得装置D1をみた概略的な説明図である。なお、図3及び図4では、説明の便宜上、A点又はB点から生体情報取得装置D1をみた概略的な断面図も合わせて図示されている。図5は、フォトセンサー31の画素の配置構成を説明するための概略的な模式図である。図6は、マイクロレンズの上面視形状を説明するための概略的な模式図である。図7は、レンズの機能を説明するための説明図である。図8は、取得される画像を説明するための説明図である。
[First Embodiment]
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic perspective view of the biological information acquisition apparatus D1. FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the configuration of the biological information acquisition device D1 as viewed from above. FIG. 3 is a schematic explanatory view of the biological information acquisition device D1 as viewed from the point A in FIG. FIG. 4 is a schematic explanatory view of the biological information acquisition device D1 viewed from the point B side in FIG. In FIGS. 3 and 4, for convenience of explanation, a schematic cross-sectional view of the biological information acquisition device D <b> 1 from the point A or the point B is also shown. FIG. 5 is a schematic diagram for explaining an arrangement configuration of pixels of the photosensor 31. FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the top view shape of the microlens. FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the function of the lens. FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining an acquired image.

図1に示すように、生体情報取得装置D1は、光照射デバイス(光照射部)LEa、光照射デバイス(光照射部)LEb、配線基板30、フォトセンサー(撮像素子)31、光チャネル分離層32、レンズアレイ33及びバンドパスフィルタ34を備える。   As shown in FIG. 1, the biological information acquisition apparatus D1 includes a light irradiation device (light irradiation unit) LEa, a light irradiation device (light irradiation unit) LEb, a wiring board 30, a photosensor (imaging device) 31, and an optical channel separation layer. 32, a lens array 33 and a band pass filter 34.

光照射デバイスLEaは、バンドパスフィルタ34の主面34a上に配置されている。光照射デバイスLEbも、同様に、バンドパスフィルタ34の主面34a上に配置されている。光照射デバイスLEaと光照射デバイスLEbとは、表面領域R1を挟んで、互いに対向して配置されている。表面領域R1上には、ヒト(被検体)の指(対象部分)が載せられる。光照射デバイスLEa、LEb夫々は、ヒトの指に照射されるべき検査光を出射する。   The light irradiation device LEa is disposed on the main surface 34 a of the bandpass filter 34. Similarly, the light irradiation device LEb is also disposed on the main surface 34a of the bandpass filter 34. The light irradiation device LEa and the light irradiation device LEb are arranged to face each other across the surface region R1. A human (subject) finger (target portion) is placed on the surface region R1. Each of the light irradiation devices LEa and LEb emits inspection light to be irradiated to a human finger.

光照射デバイスLEaは、遮光板(遮光部材)2a、ライトガイド3a、発光ダイオード4a(4a1、4a2、4a3、4a4)を有する。   The light irradiation device LEa includes a light shielding plate (light shielding member) 2a, a light guide 3a, and a light emitting diode 4a (4a1, 4a2, 4a3, 4a4).

遮光板2aは、発光ダイオード4aからの光を遮断する材料(金属、黒色樹脂等)から構成された板状部材である。遮光板2a上には、ライトガイド3aが固定される。なお、光がライトガイド3aを効率良く伝播するために、遮光板2aとライトガイド3aの間に空気層が存在していても良い。ライトガイド3aの光入射面3a2には、発光ダイオード4a1〜4a4が固定される。   The light shielding plate 2a is a plate-like member made of a material (metal, black resin, etc.) that blocks light from the light emitting diode 4a. A light guide 3a is fixed on the light shielding plate 2a. Note that an air layer may exist between the light shielding plate 2a and the light guide 3a in order for light to efficiently propagate through the light guide 3a. Light emitting diodes 4a1 to 4a4 are fixed to the light incident surface 3a2 of the light guide 3a.

ライトガイド3aは、上面視形状が四辺形状の板状部材である。また、ライトガイド3aは、発光ダイオードから出射される検査光に対して実質的に透明(透過率90%以上、ここでは透過率99%)な部材である。例えば、ライトガイド3は、ポリカーボネイト、アクリル、ポリオレフィン等の樹脂材料、又はガラス基板等から構成される。   The light guide 3a is a plate-like member having a quadrilateral shape when viewed from above. The light guide 3a is a member that is substantially transparent to the inspection light emitted from the light emitting diode (transmittance is 90% or more, and here, the transmittance is 99%). For example, the light guide 3 is made of a resin material such as polycarbonate, acrylic, polyolefin, or a glass substrate.

図2に示すように、ライトガイド3aは、光出射面(第2側面)3a1、光入射面(第1側面)3a2を有する。光出射面3a1は、表面領域R1上に載せられる指に臨む側面である。光入射面3a2は、光出射面3a1に対向する。光出射面3a1及び光入射面3a2は、z軸を長手方向として、z軸に沿って延在する長尺な面である。ライトガイド3aは、x軸に沿う幅WLG1とz軸に沿う幅WLG2とを有する。幅WLG1は、幅WLG2よりも狭い。 As shown in FIG. 2, the light guide 3a has a light emitting surface (second side surface) 3a1 and a light incident surface (first side surface) 3a2. The light emission surface 3a1 is a side surface facing a finger placed on the surface region R1. The light incident surface 3a2 faces the light emitting surface 3a1. The light emitting surface 3a1 and the light incident surface 3a2 are long surfaces extending along the z axis with the z axis as the longitudinal direction. The light guide 3a includes a width W LG2 along the width W LG1 and z axis along the x-axis. The width W LG1 is narrower than the width W LG2 .

発光ダイオード4a1〜4a4は、ほぼ等しい間隔で配置されている。これによって、光出射面3a1から出射される検査光の強度分布は実用可能な程度に均一化される。   The light emitting diodes 4a1 to 4a4 are arranged at substantially equal intervals. Thereby, the intensity distribution of the inspection light emitted from the light emitting surface 3a1 is made uniform to a practical level.

図2に示すように、発光ダイオード4a1から出射される検査光は、光出射面3a1の領域R4a1に導かれる。発光ダイオード4a2から出射される検査光は、光出射面3a1の領域R4a2に導かれる。発光ダイオード4a3から出射される検査光は、光出射面3a1の領域R4a3に導かれる。発光ダイオード4a4から出射される検査光は、光出射面3a1の領域R4a4に導かれる。   As shown in FIG. 2, the inspection light emitted from the light emitting diode 4a1 is guided to the region R4a1 of the light emitting surface 3a1. The inspection light emitted from the light emitting diode 4a2 is guided to the region R4a2 of the light emitting surface 3a1. The inspection light emitted from the light emitting diode 4a3 is guided to the region R4a3 of the light emitting surface 3a1. The inspection light emitted from the light emitting diode 4a4 is guided to the region R4a4 of the light emitting surface 3a1.

光出射面3a1には、領域R4a1と領域R4a2とが重なり合う領域ROが形成される。光出射面3a1には、領域R4a2と領域R4a3とが重なり合う領域ROが形成される。光出射面3a1には、領域R4a3と領域R4a4とが重なり合う領域ROが形成される。つまり、光出射面3a1には、ある発光ダイオードからの検査光と他の発光ダイオードからの検査光とが重なりあう領域が形成される。このように設定することによって、光出射面3a1のほぼ全域から検査光を出射させることができる。   A region RO where the region R4a1 and the region R4a2 overlap is formed on the light emitting surface 3a1. A region RO where the region R4a2 and the region R4a3 overlap is formed on the light emitting surface 3a1. A region RO where the region R4a3 and the region R4a4 overlap is formed on the light emitting surface 3a1. That is, a region where inspection light from one light emitting diode and inspection light from another light emitting diode overlap is formed on the light emitting surface 3a1. By setting in this way, the inspection light can be emitted from almost the entire area of the light emission surface 3a1.

生体情報取得装置D1では、2次元状に配置された複数の画素からの出力信号に基づいて生体情報(静脈パターンを表す画像)が取得される。従って、観察対象となる生体部分には、その全域に亘って均一な検査光を照射すると良い。観察対象となる生体部分に検査光が照射されない部分があると、その部分からの生体情報を得ることができないため、高精度な生体認証を実現することができない。本実施形態では、この点にかんがみて、光出射面3a1に上述の領域ROが形成されるように、ライトガイド3aの幅WLG1を設定している。 In the biological information acquisition device D1, biological information (an image representing a vein pattern) is acquired based on output signals from a plurality of pixels arranged two-dimensionally. Accordingly, it is preferable to irradiate the living body part to be observed with uniform inspection light over the entire area. If there is a part where the inspection light is not irradiated on the biological part to be observed, biometric information cannot be obtained from that part, and thus high-precision biometric authentication cannot be realized. In the present embodiment, in view of this point, the width W LG1 of the light guide 3a is set so that the above-described region RO is formed on the light emitting surface 3a1.

また、発光ダイオード4a1〜4a4からは、ランベルト分布の検査光が出射される。ランベルト分布では、その分布の中央部分の光強度は強く、その分布の裾部分の光強度は弱い。従って、隣り合う発光ダイオードから出射される検査光を互いに重ね合わせることで、光出射面3a1から出射される検査光の強度分布を均一化することができる。すなわち、光出射面3a1に上述の領域ROを形成することによって、光出射面3a1から出射される検査光の強度分布を、光出射面3a1の長手方向に沿って均一化できる。   Also, Lambert distribution inspection light is emitted from the light emitting diodes 4a1 to 4a4. In the Lambert distribution, the light intensity at the center of the distribution is strong, and the light intensity at the bottom of the distribution is weak. Therefore, by superimposing the inspection lights emitted from the adjacent light emitting diodes, the intensity distribution of the inspection light emitted from the light emitting surface 3a1 can be made uniform. That is, by forming the above-described region RO on the light emitting surface 3a1, the intensity distribution of the inspection light emitted from the light emitting surface 3a1 can be made uniform along the longitudinal direction of the light emitting surface 3a1.

上述の光照射デバイスLEaに関する説明は、光照射デバイスLEbにもそのまま当てはまる。ここでは、重複する説明は省略する。   The above description regarding the light irradiation device LEa applies to the light irradiation device LEb as it is. Here, overlapping description is omitted.

図2に示すように、発光ダイオード4a1〜4a4は、光入射面3a2の長手方向に沿って配列された状態で、ライトガイド3a上に配置されている。発光ダイオード4a1〜4a4は、接着剤11を介して、光入射面3a2に取り付けられる。換言すると、発光ダイオード4a1〜4a4は、接着剤11を介して光入射面3a2に光結合されている。発光ダイオード4a1〜4a4から出射された検査光は、ライトガイド3aの光入射面3a2を通過し、ライトガイド3aに導入される。ライトガイド3aは、光入射面3a2から光出射面3a1に検査光を案内する。   As shown in FIG. 2, the light emitting diodes 4a1 to 4a4 are arranged on the light guide 3a in a state of being arranged along the longitudinal direction of the light incident surface 3a2. The light emitting diodes 4a1 to 4a4 are attached to the light incident surface 3a2 through the adhesive 11. In other words, the light emitting diodes 4a1 to 4a4 are optically coupled to the light incident surface 3a2 via the adhesive 11. The inspection light emitted from the light emitting diodes 4a1 to 4a4 passes through the light incident surface 3a2 of the light guide 3a and is introduced into the light guide 3a. The light guide 3a guides inspection light from the light incident surface 3a2 to the light emitting surface 3a1.

なお、接着剤11は、検査光に対して高い透過率を有し、検査光に対して実質的に透明である。従って、光入射面と発光ダイオードとの間で、良好な光結合を確保することができる。また、発光ダイオード4a1〜4a4のそれぞれは、モノリシックの半導体素子がパッケージされた素子である。発光ダイオード4a1〜4a4は、電流が流入されることにより橙色〜近赤外領域の光(580nm又は1000nmのいずれかの光)を発光する半導体発光素子である。   The adhesive 11 has a high transmittance with respect to the inspection light and is substantially transparent with respect to the inspection light. Therefore, good optical coupling can be ensured between the light incident surface and the light emitting diode. Each of the light emitting diodes 4a1 to 4a4 is an element in which a monolithic semiconductor element is packaged. The light-emitting diodes 4a1 to 4a4 are semiconductor light-emitting elements that emit light in an orange to near-infrared region (light of either 580 nm or 1000 nm) when a current flows.

光照射デバイスLEbのライトガイド3bの構成は、光照射デバイスLEaのライトガイド3aの構成と略等しい。すなわち、光出射面3b1が光出射面3a1に対応し、光入射面3b2が光入射面3a2に対応する。   The configuration of the light guide 3b of the light irradiation device LEb is substantially the same as the configuration of the light guide 3a of the light irradiation device LEa. That is, the light emitting surface 3b1 corresponds to the light emitting surface 3a1, and the light incident surface 3b2 corresponds to the light incident surface 3a2.

光照射デバイスLEaでは、発光ダイオード4a1からの検査光は、ライトガイド3a内を次のように伝播する。発光ダイオード4a1から出射された検査光は、接着剤11を通過し、ライトガイド3aの光入射面3a2を通過し、ライトガイド3a内を伝播し、光出射面3a1から出射される。他の発光ダイオード4a2〜4a4についても、発光ダイオード4a1の場合と同様である。   In the light irradiation device LEa, the inspection light from the light emitting diode 4a1 propagates in the light guide 3a as follows. The inspection light emitted from the light emitting diode 4a1 passes through the adhesive 11, passes through the light incident surface 3a2 of the light guide 3a, propagates through the light guide 3a, and is emitted from the light emitting surface 3a1. The other light emitting diodes 4a2 to 4a4 are the same as in the case of the light emitting diode 4a1.

図3に、図1のA点側から生体情報取得装置D1をみた概略的な説明図を示す。図4に、図1のB点側から生体情報取得装置D1をみた概略的な説明図を示す。   FIG. 3 shows a schematic explanatory view of the biological information acquisition device D1 from the point A side in FIG. FIG. 4 shows a schematic explanatory view of the biological information acquisition device D1 from the point B side in FIG.

図3に示すように、配線基板30の上面には、フォトセンサー(撮像素子)31、光チャネル分離層32、レンズアレイ33、バンドパスフィルタ34、光照射デバイスLEaが、この順で配置される。配線基板30の下面には、半導体集積回路35、コネクタ36が配置される。   As shown in FIG. 3, a photosensor (imaging device) 31, an optical channel separation layer 32, a lens array 33, a bandpass filter 34, and a light irradiation device LEa are arranged in this order on the upper surface of the wiring board 30. . A semiconductor integrated circuit 35 and a connector 36 are disposed on the lower surface of the wiring board 30.

光照射デバイスLEa、LEbは、上述したとおりである。   The light irradiation devices LEa and LEb are as described above.

バンドパスフィルタ34は、検査光の波長(橙色〜近赤外線の帯域(580nm〜1000nm、より好ましくは、600nm〜860nm))を選択的に通過させる板状の光学部材である。   The band pass filter 34 is a plate-like optical member that selectively passes the wavelength of the inspection light (orange to near-infrared band (580 nm to 1000 nm, more preferably 600 nm to 860 nm)).

レンズアレイ33は、バンドパスフィルタ34の下層に配置される。レンズアレイ33は、透明基板50、マイクロレンズ(集光レンズ)52、スペーサー51を有する。透明基板50の上面には、フォトセンサー31の各画素PXに対応して、2次元状に配置された複数のマイクロレンズ52、バンドパスフィルタ34を支持するためのスペーサー層が配置される。透明基板50及びマイクロレンズ52は、検査光に対して、実質的に透明な材料から構成される。透明基板50は、いわゆるガラス基板である。   The lens array 33 is disposed below the band pass filter 34. The lens array 33 includes a transparent substrate 50, a microlens (condensing lens) 52, and a spacer 51. On the upper surface of the transparent substrate 50, a spacer layer for supporting the plurality of microlenses 52 and the bandpass filter 34 arranged in a two-dimensional manner is arranged corresponding to each pixel PX of the photosensor 31. The transparent substrate 50 and the microlens 52 are made of a material that is substantially transparent to the inspection light. The transparent substrate 50 is a so-called glass substrate.

光チャネル分離層32は、レンズアレイ33の下層に配置される。光チャネル分離層32は、遮光膜40、第1透明層41、第2透明層42、遮光層43を有する。   The optical channel separation layer 32 is disposed below the lens array 33. The optical channel separation layer 32 includes a light shielding film 40, a first transparent layer 41, a second transparent layer 42, and a light shielding layer 43.

遮光膜40は、レンズアレイ33の下面に格子状に形成された層である。遮光膜40は、レンズアレイ33の各マイクロレンズ52に対応してマトリクス状に形成された複数の開口部OP1を有する。尚、複数の開口部OP1とは、光学的な意味での開口を意味する。ここでは、開口部OP1には、第1透明層41が充填されている。   The light shielding film 40 is a layer formed in a lattice shape on the lower surface of the lens array 33. The light shielding film 40 has a plurality of openings OP1 formed in a matrix corresponding to each microlens 52 of the lens array 33. Note that the plurality of openings OP1 means openings in an optical sense. Here, the opening OP <b> 1 is filled with the first transparent layer 41.

第1透明層41は、樹脂からなる層であって、検査光に対して実質的に透明である。   The first transparent layer 41 is a layer made of resin, and is substantially transparent to inspection light.

第2透明層42は、第1透明層41と同じ材料からなる樹脂層である。よって、第2透明層42も、検査光に対して実質的に透明である。第2透明層42は、複数のランド42aを有する。ランド42aは、フォトセンサー31の各画素PXに対応して2次元状に配置される。なお、ランドとは、溝により規定される島状の部分を意味する。各ランドは、互いに完全に分離されている必要はない。   The second transparent layer 42 is a resin layer made of the same material as the first transparent layer 41. Therefore, the second transparent layer 42 is also substantially transparent to the inspection light. The second transparent layer 42 has a plurality of lands 42a. The land 42a is two-dimensionally arranged corresponding to each pixel PX of the photosensor 31. In addition, a land means the island-shaped part prescribed | regulated by a groove | channel. Each land need not be completely separated from each other.

遮光層43は、ランド42aを覆うように形成される。遮光層43は、レンズアレイ33の各マイクロレンズ52の集光箇所に対応する位置に設けられた開口部OP2を有する。なお、開口部OP2は、フォトセンサー31の各画素PXの配置位置にも対応する。開口部OP2は、フォトセンサー31の各画素PXに対応して、2次元状に配置される。   The light shielding layer 43 is formed so as to cover the land 42a. The light shielding layer 43 has an opening OP <b> 2 provided at a position corresponding to the condensing position of each microlens 52 of the lens array 33. The opening OP2 also corresponds to the arrangement position of each pixel PX of the photosensor 31. The opening OP2 is two-dimensionally arranged corresponding to each pixel PX of the photosensor 31.

フォトセンサー31は、光チャネル分離層32の下層に配置される。フォトセンサー31は、図5に示すように、フォトセンサー31は、マトリクス状に配置された複数の画素を有する撮像装置である。フォトセンサー31は、複数の画素PXが二次元状に配置される撮像領域R2を有する。各画素PXは、遮光層43に形成された開口部OP2に対応する。よって、マイクロレンズ52により集光された光は、効率的に画素PXに入射される。なお、本実施形態では、各画素は、光トランジスタとしてのTFT(Thin Film Transistor)により構成されている。撮像領域R2は、表面領域R1に対応する領域に設けられている。画素PXは、マイクロレンズ52の焦点位置に対応した位置に設けられる。   The photo sensor 31 is disposed below the optical channel separation layer 32. As shown in FIG. 5, the photo sensor 31 is an imaging device having a plurality of pixels arranged in a matrix. The photosensor 31 has an imaging region R2 in which a plurality of pixels PX are arranged two-dimensionally. Each pixel PX corresponds to the opening OP <b> 2 formed in the light shielding layer 43. Therefore, the light condensed by the microlens 52 is efficiently incident on the pixel PX. In the present embodiment, each pixel is configured by a TFT (Thin Film Transistor) as an optical transistor. The imaging region R2 is provided in a region corresponding to the surface region R1. The pixel PX is provided at a position corresponding to the focal position of the microlens 52.

指内で反射された検査光がフォトセンサー31の画素PXに入射すると、画素PXには検査光の強度に応じた電荷が生じる。そして、生成された電荷に対応する信号がフォトセンサー31から出力され、この出力信号に基づいて画像が構成される。その後、後続の演算処理装置における処理結果に基づいて、観察されたヒトがあらかじめ設定された特定のヒトであるのかが判断される。   When the inspection light reflected in the finger enters the pixel PX of the photosensor 31, an electric charge corresponding to the intensity of the inspection light is generated in the pixel PX. Then, a signal corresponding to the generated charge is output from the photosensor 31, and an image is configured based on the output signal. Thereafter, based on the processing result in the subsequent arithmetic processing unit, it is determined whether the observed human is a specific human being set in advance.

配線基板30は、ガラスエポキシ樹脂等から構成される配線基板であって、上下両面に素子が実装される。   The wiring board 30 is a wiring board made of glass epoxy resin or the like, and elements are mounted on both upper and lower surfaces.

なお、フォトセンサー31の上面には、フォトセンサー31の読み出し動作等を制御する駆動回路37が配置される。フォトセンサー31で取得された信号は、ワイヤー38、配線基板30の上面と下面とを接続する貫通電極39、配線基板30の下面に形成された配線を介して、半導体集積回路35に伝達される。コネクタ36は、生体情報取得装置D1と外部の信号処理回路との接続に関するインターフェイス部分を構成する。   Note that a drive circuit 37 that controls the reading operation of the photosensor 31 and the like is disposed on the upper surface of the photosensor 31. A signal acquired by the photosensor 31 is transmitted to the semiconductor integrated circuit 35 through the wire 38, the through electrode 39 that connects the upper surface and the lower surface of the wiring substrate 30, and the wiring formed on the lower surface of the wiring substrate 30. . The connector 36 constitutes an interface part related to the connection between the biological information acquisition device D1 and an external signal processing circuit.

半導体集積回路35は、いわゆるASIC(Application Specific Integrated Circuit)である。半導体集積回路35では、所定の情報処理(例えば、取得した画像情報とあらかじめ記憶された画像情報(マスターデータ)の整合性の判断)が実行される。半導体集積回路35における情報処理結果は、他の情報処理部(不図示)に連絡される。   The semiconductor integrated circuit 35 is a so-called ASIC (Application Specific Integrated Circuit). In the semiconductor integrated circuit 35, predetermined information processing (for example, determination of consistency between acquired image information and pre-stored image information (master data)) is executed. The information processing result in the semiconductor integrated circuit 35 is communicated to another information processing unit (not shown).

また、図3に示すように、光照射デバイスLEa、LEbからバンドパスフィルタ34までの厚みは、1.7mm以下とすると良い。レンズアレイ33からフォトセンサー31までの厚みは1.0mm以下とすると良い。このようにすると、光照射デバイスLEa、LEbからフォトセンサー31までの厚みを3mm以下とすることができる。よって、非常に薄型化された生体情報取得装置を実現することができる。   Further, as shown in FIG. 3, the thickness from the light irradiation devices LEa and LEb to the bandpass filter 34 is preferably 1.7 mm or less. The thickness from the lens array 33 to the photosensor 31 is preferably 1.0 mm or less. If it does in this way, the thickness from light irradiation device LEa, LEb to the photosensor 31 can be 3 mm or less. Therefore, a very thin biometric information acquisition apparatus can be realized.

なお、図3に示すように、表面領域R1のx軸に沿う幅を25mmとした。また、図4に示すように、表面領域R1のz軸に沿う幅を15mmとした。図3及び図4に模式的に示すように、指を表面領域R1上に載せ、生体情報を取得する。このとき、表面領域R1は指により覆われる。従って、表面領域R1に入射する外乱光は抑制される。   In addition, as shown in FIG. 3, the width | variety along the x-axis of surface region R1 was 25 mm. Moreover, as shown in FIG. 4, the width along the z-axis of the surface region R1 was 15 mm. As schematically shown in FIGS. 3 and 4, a finger is placed on the surface region R <b> 1 to obtain biological information. At this time, the surface region R1 is covered with a finger. Therefore, disturbance light incident on the surface region R1 is suppressed.

次に、生体情報取得装置D1の機能について説明する。図3に模式的に示すように、指100の内部領域RPで反射された検査光は、レンズアレイ33のマイクロレンズ52を介して、フォトセンサー31の画素PXに入射される。以下、順を追って説明する。なお、内部領域RPは、指100の下面から1mm程度の深さの領域である。   Next, functions of the biological information acquisition device D1 will be described. As schematically shown in FIG. 3, the inspection light reflected by the internal region RP of the finger 100 is incident on the pixel PX of the photosensor 31 through the microlens 52 of the lens array 33. In the following, description will be given in order. The internal region RP is a region having a depth of about 1 mm from the lower surface of the finger 100.

光照射デバイスLEa、LEbの光出射面から出射された検査光は、ヒトの指100に照射される。ヒトの指100の内部では、内部の散乱体により検査光は反射されたりする。また、ヒトの指100の静脈で、検査光は吸収される。ヒトの指100で反射された検査光は、表面領域R1に入射する。   The inspection light emitted from the light emission surfaces of the light irradiation devices LEa and LEb is applied to the human finger 100. Inside the human finger 100, the inspection light is reflected by an internal scatterer. Further, the inspection light is absorbed by the vein of the human finger 100. The inspection light reflected by the human finger 100 enters the surface region R1.

表面領域R1に入射された検査光は、バンドパスフィルタ34を通過する。なお、検査光以外の外乱光は、バンドパスフィルタ34により遮断される。バンドパスフィルタ34によってノイズ成分を遮断することができるため、より良質な画像を取得することができる。   The inspection light incident on the surface region R1 passes through the band pass filter 34. The disturbance light other than the inspection light is blocked by the band pass filter 34. Since the noise component can be blocked by the band pass filter 34, a higher quality image can be acquired.

バンドパスフィルタ34を通過した検査光は、レンズアレイ33に入射する。レンズアレイ33では、透明基板50の上面に配置された各マイクロレンズ52によってフォトセンサー31の各画素PXに集光される。   The inspection light that has passed through the band pass filter 34 enters the lens array 33. In the lens array 33, the light is condensed on each pixel PX of the photosensor 31 by each microlens 52 disposed on the upper surface of the transparent substrate 50.

レンズアレイ33のマイクロレンズ52により集光された光は、光チャネル分離層32に入射される。光チャネル分離層32は、上述のように、フォトセンサー31の各画素に対応して2次元状に配置された開口部OP1及び開口部OP2を有する。また、フォトセンサー31の各画素に対応して2次元状に配置されたランド42aを有する。また、隣り合うランド42aの間には、遮光層43が充填される。また、ランド42aの下面にも遮光層43が形成される。本実施形態においては、遮光層43には橙〜近赤外領域の光を吸収する材料で構成されている。遮光層43に入射した迷光は、効果的に遮光層43を構成する材料により吸収される。   The light condensed by the microlens 52 of the lens array 33 is incident on the optical channel separation layer 32. As described above, the optical channel separation layer 32 has the opening OP1 and the opening OP2 that are two-dimensionally arranged corresponding to each pixel of the photosensor 31. The photosensor 31 has lands 42 a that are two-dimensionally arranged corresponding to the pixels. A light shielding layer 43 is filled between adjacent lands 42a. A light shielding layer 43 is also formed on the lower surface of the land 42a. In the present embodiment, the light shielding layer 43 is made of a material that absorbs light in the orange to near infrared region. The stray light incident on the light shielding layer 43 is effectively absorbed by the material constituting the light shielding layer 43.

このような遮光構造により、光チャネル分離層32は、レンズアレイ33のマイクロレンズ52からフォトセンサー31の画素PXに至る光路(光チャネル)同士を分離する。そして、光チャネル間で生じうるクロストーク(混信)は抑制される。なお、検査光は、マイクロレンズ52から画素PXに進むに従って集光されるから、開口部OP2の開口幅は、開口部OP1の開口幅よりも狭く設定されている。   With such a light shielding structure, the optical channel separation layer 32 separates optical paths (optical channels) from the microlens 52 of the lens array 33 to the pixel PX of the photosensor 31. Then, crosstalk (interference) that can occur between optical channels is suppressed. Since the inspection light is condensed as it proceeds from the microlens 52 to the pixel PX, the opening width of the opening OP2 is set to be narrower than the opening width of the opening OP1.

フォトセンサー31の各画素に入射された光は、各画素で光電変換される。そして、電気信号として読み出され、上述の半導体集積回路35にて信号処理される。そして、生体からの検査光に基づいて、指100の静脈パターンが現れた画像を取得することができる。   Light incident on each pixel of the photosensor 31 is photoelectrically converted by each pixel. Then, it is read out as an electrical signal and processed by the semiconductor integrated circuit 35 described above. Based on the inspection light from the living body, an image in which the vein pattern of the finger 100 appears can be acquired.

ここで、図6に、マイクロレンズ52らを部分的に上面視した模式図を示す。図7に、マイクロレンズ52の機能を説明するための説明図を示す。図8に取得画像を説明するための説明図を示す。   Here, FIG. 6 shows a schematic view of the microlens 52 and the like partially viewed from above. FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the function of the microlens 52. FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining the acquired image.

図6に示すように、マイクロレンズ52の上面視形状は円形状である。マイクロレンズ52は、球面レンズであり、そのレンズ幅wは50μm以上である。これによって、後述のように、細い血管のパターンが取得画像に明確に現れることが抑制され、生体認証に必要不可欠な静脈パターンを相対的に明確化させることができる。なお、レンズ幅wは、マイクロレンズ52の上面視形状の幅に一致し、ここではマイクロレンズ52のレンズ径に一致する。   As shown in FIG. 6, the top view shape of the microlens 52 is circular. The microlens 52 is a spherical lens, and its lens width w is 50 μm or more. As a result, the thin blood vessel pattern is suppressed from appearing clearly in the acquired image, as will be described later, and the vein pattern indispensable for biometric authentication can be relatively clarified. Note that the lens width w matches the width of the microlens 52 in a top view, and here, the lens width w matches the lens diameter of the microlens 52.

なお、マイクロレンズ52のレンズ幅wは、50μm以上であって300μm以下であると良い。300μm以下に設定することによって、必要な解像度を確保することができ、適切に静脈パターンを表す画像を取得することができる。   The lens width w of the micro lens 52 is preferably 50 μm or more and 300 μm or less. By setting it to 300 μm or less, a necessary resolution can be ensured, and an image representing a vein pattern can be acquired appropriately.

また、レンズ幅wは70μm以上であっても良い。この場合にも、上述したものと同様の効果を得ることができる。また、レンズ幅wは200μm以下であっても良い。この場合にも、上述と同様の効果を得ることができる。   The lens width w may be 70 μm or more. In this case, the same effect as described above can be obtained. The lens width w may be 200 μm or less. In this case, the same effect as described above can be obtained.

すなわち、マイクロレンズ52のレンズ幅wは、好適には50μm以上であって300μm以下である。より好適には、マイクロレンズ52のレンズ幅wは、70μm以上であって200μm以下である。   That is, the lens width w of the microlens 52 is preferably 50 μm or more and 300 μm or less. More preferably, the lens width w of the micro lens 52 is 70 μm or more and 200 μm or less.

図7に模式的に示すように、マイクロレンズ52は、各画素PXに対応して配置される。マイクロレンズ52aは、その上面視形状に対応した領域R1の範囲で光を画素PXaに集光するものとする。マイクロレンズ52bは、その上面視形状に対応した領域R2の範囲で光を画素PXbに集光するものとする。マイクロレンズ52cは、その上面視形状に対応した領域R3の範囲で光を画素PXcに集光するものとする。つまり、マイクロレンズ52は少なくともその上面視形状に対応した範囲の光を各画素に集光するものとする。この場合、各画素に入力される光は、少なくともマイクロレンズ52の上面視形状に応じて平均化される。   As schematically shown in FIG. 7, the microlens 52 is arranged corresponding to each pixel PX. The micro lens 52a condenses light on the pixel PXa in a range of a region R1 corresponding to the top view shape. The microlens 52b collects light on the pixel PXb in a range of a region R2 corresponding to the top view shape. The micro lens 52c condenses light on the pixel PXc in a region R3 corresponding to the top view shape. In other words, the microlens 52 collects at least light in a range corresponding to the top view shape on each pixel. In this case, the light input to each pixel is averaged according to at least the top view shape of the microlens 52.

上述のように、本実施形態に係るマイクロレンズ52夫々は、その上面視形状に対応する範囲(領域R1、領域R2、領域R3)で外部からの光を集光する。これは、マイクロレンズ52は、表皮から浅い距離1〜5mm程に対応した被写界深度を有するからである。更に、図7に模式的に示すように、隣接するマイクロレンズ52間の距離P1とそれに対応する開口部間の距離P2は略等しい。換言すると、マイクロレンズ52の配置間隔と開口部の配置間隔とは実質的に一致する。これにより、例えば領域R1からの像と領域R2からの像とが重ね合わされることが抑制され、フォトセンサー31で取得される像が不鮮明になることを抑制できる。なお、開口部は、光チャネル分離層32の構成に応じて決定されるが、ここでは上述の開口部OP1、開口部OP2、又はランド42aに相当する。   As described above, each of the microlenses 52 according to the present embodiment collects light from the outside in a range (region R1, region R2, region R3) corresponding to the top view shape. This is because the microlens 52 has a depth of field corresponding to a shallow distance of about 1 to 5 mm from the skin. Further, as schematically shown in FIG. 7, the distance P1 between the adjacent microlenses 52 and the distance P2 between the corresponding openings are substantially equal. In other words, the arrangement interval of the microlenses 52 and the arrangement interval of the openings are substantially the same. Thereby, for example, the image from the region R1 and the image from the region R2 are suppressed from being superimposed, and the image acquired by the photosensor 31 can be suppressed from becoming unclear. The opening is determined according to the configuration of the optical channel separation layer 32, and corresponds to the above-described opening OP1, opening OP2, or land 42a here.

毛細血管等がある部分では検査光は吸収されるものの、その毛細血管の周囲の生体組織では検査光は反射又は透過する。よって、マイクロレンズの上面視形状を最小レンズ幅50μm以上に設定すれば、周囲の生体組織からの反射光又は透過光で、50μm以下の毛細血管等における光の吸収は、周囲と平均化されて識別されなくなる。   Although the inspection light is absorbed in a portion where there is a capillary blood vessel or the like, the inspection light is reflected or transmitted through the living tissue around the capillary blood vessel. Therefore, if the top view shape of the microlens is set to a minimum lens width of 50 μm or more, the absorption of light in capillaries or the like of 50 μm or less with the reflected light or transmitted light from the surrounding living tissue is averaged with the surroundings. No longer identified.

そして、図8(a)(b)に示すように、生体情報取得装置で取得される画像自体を修正することができる。つまり、図8(a)に示すように静脈200から分岐する細い血管201を、図8(b)に示すように消すことができる。そして、生体認証に必要不可欠な静脈パターンが相対的に明確化される。すなわち、生体情報取得装置自体の構成によって、静脈のパターン変動による生体認証の信頼性の低下を抑制することを可能にする。   And as shown to Fig.8 (a) (b), the image itself acquired with a biometric information acquisition apparatus can be corrected. That is, the thin blood vessel 201 branched from the vein 200 as shown in FIG. 8A can be erased as shown in FIG. The vein pattern essential for biometric authentication is relatively clarified. That is, the configuration of the biometric information acquisition apparatus itself can suppress a decrease in biometric authentication reliability due to vein pattern fluctuations.

なお、図8は説明の便宜上作成したものであり、必ずしもこのような程度、態様において所望の効果が確認される必要はない。また、実際は、静脈パターンは黒色(暗部)として取得される。   Note that FIG. 8 is created for convenience of explanation, and it is not always necessary to confirm a desired effect in such a degree and manner. In practice, the vein pattern is acquired as black (dark part).

また、各画素に入力される光の強度はレンズ幅に応じたものであって、本実施形態においては、上述のようにマイクロレンズ52はレンズ幅50μm以上に設定される。マイクロレンズ52は、少なくともマイクロレンズ52の上面視形状に対応する範囲の光を画素に集光するため、光照射デバイスLEa、LEbから出射される光の強度をより低い値に設定したとしても、各画素に入力される光の強度をパターン取得のために必要な値にすることができる。従って、生体情報取得装置D1の消費電力を低減させることが可能になる。消費電力の低減は、生体情報取得装置D1を携帯電話などの小型移動型の情報機器に搭載する場合に特に有利である。   Further, the intensity of light input to each pixel depends on the lens width. In this embodiment, the microlens 52 is set to have a lens width of 50 μm or more as described above. Since the microlens 52 collects at least light in a range corresponding to the top view shape of the microlens 52 on the pixel, even if the intensity of light emitted from the light irradiation devices LEa and LEb is set to a lower value, The intensity of light input to each pixel can be set to a value necessary for pattern acquisition. Accordingly, it is possible to reduce the power consumption of the biological information acquisition device D1. The reduction of power consumption is particularly advantageous when the biological information acquisition device D1 is mounted on a small mobile information device such as a mobile phone.

また、各画素にはマイクロレンズ52で集光された光が入力されるのであって、本実施形態においては、上述のようにマイクロレンズ52はレンズ幅50μm以上に設定される。マイクロレンズ52は、少なくともマイクロレンズ52の上面視形状に対応する範囲の光を画素に集光するため、指に対して照射される光の強度分布に部分的なむらがあったとしても、その影響により取得画像に部分的なむらが生じることが抑制される。発光ダイオード4a、4bのような半導体発光素子は、製造条件、使用環境、及び経時変化等の影響を受けて、その特性も変動する可能性がある。本実施形態のように、マイクロレンズ52のレンズ幅を50μm以上に設定すれば、指に対して照射される光の強度分布の部分的なむらの影響を低減することも可能になる。   In addition, light collected by the microlens 52 is input to each pixel, and in the present embodiment, the microlens 52 is set to have a lens width of 50 μm or more as described above. Since the microlens 52 condenses at least light in a range corresponding to the top view shape of the microlens 52 on the pixel, even if there is partial unevenness in the intensity distribution of the light irradiated to the finger, It is possible to suppress partial unevenness in the acquired image due to the influence. The characteristics of semiconductor light emitting devices such as the light emitting diodes 4a and 4b may vary due to the influence of manufacturing conditions, usage environment, changes with time, and the like. If the lens width of the microlens 52 is set to 50 μm or more as in the present embodiment, it is possible to reduce the influence of partial unevenness in the intensity distribution of light irradiated to the finger.

本実施形態においては、マイクロレンズ52を各画素PXに対応して配置する。また、マイクロレンズ52は少なくともその上面視形状に対応した範囲の光を各画素に集光する。これにより、各画素に入力される光は、少なくともマイクロレンズ52の上面視形状の範囲内で平均化される。特に、マイクロレンズ52のレンズ幅を50μm以上という比較的大きな口径のものにすることによって、上述の効果は効果的に実現される。   In the present embodiment, the microlens 52 is disposed corresponding to each pixel PX. Further, the microlens 52 collects light in a range corresponding to at least the top view shape on each pixel. As a result, the light input to each pixel is averaged at least within the range of the top view shape of the microlens 52. In particular, by making the lens width of the microlens 52 have a relatively large aperture of 50 μm or more, the above-described effects are effectively realized.

なお、50μm以上300μm以下(より好適には、70μm以上200μm以下)の範囲でマイクロレンズ52のレンズ径を設定することによって、マイクロレンズ52の被写界深度を、静脈の表皮からの深度に対応したものに設定することもできる。   The depth of field of the microlens 52 corresponds to the depth from the epidermis of the vein by setting the lens diameter of the microlens 52 within a range of 50 μm to 300 μm (more preferably, 70 μm to 200 μm). It can also be set.

なお、表皮からの深度とは、定量的には1〜5mm程度である。図9に本実施形態に係るレンズ径、被写界深度、およびMTF(Modulation Transfer Function)の関係を示す。なお、MTFは解像度を示す指標である。MTF値が大きいほど解像度は高いが、認証度、セキュリティー度などの目的に応じて適宜設定することができる。MTF40%以上であれば様々な要求に対応できるため、MTF40%以上であることが望ましい。本実施形態に係るマイクロレンズのレンズ径は50μm以上(より好ましくは70μm以上)であるが、静脈の表皮からの深度に対応した位置に高いMTFを示す被写界深度を有することがわかる。   The depth from the epidermis is quantitatively about 1 to 5 mm. FIG. 9 shows the relationship between the lens diameter, depth of field, and MTF (Modulation Transfer Function) according to this embodiment. MTF is an index indicating resolution. The larger the MTF value, the higher the resolution, but it can be set appropriately according to the purpose such as the authentication level and the security level. Since MTF 40% or more can meet various requirements, it is desirable that MTF 40% or more. Although the lens diameter of the microlens according to the present embodiment is 50 μm or more (more preferably 70 μm or more), it can be seen that it has a depth of field showing a high MTF at a position corresponding to the depth from the epidermis of the vein.

〔第2の実施形態〕
図10を用いて、本発明の第2の実施の形態について説明する。図10は、マイクロレンズの上面視形状を説明するための概略的な説明図である。第1の実施形態と異なる点は、マイクロレンズの上面視形状のみである。
[Second Embodiment]
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a schematic explanatory diagram for explaining a top view shape of the microlens. The difference from the first embodiment is only the top view shape of the microlens.

図10に示すように、本実施形態においては、マイクロレンズ52の上面視形状は四角形状である。マイクロレンズ52は、幅W1と幅W2を有する。幅W2は、幅W1よりも大きな値である。ここでは、幅W1が、50μm以上に設定される。すなわち、マイクロレンズ52の形状に応じてレンズ幅は所定の範囲を持つが、マイクロレンズ52の最小のレンズ幅を50μm以上に設定すると良い。このようにすることで、第1の実施形態で説明した効果と同様の効果を得ることができる。   As shown in FIG. 10, in the present embodiment, the top view shape of the microlens 52 is a quadrangular shape. The micro lens 52 has a width W1 and a width W2. The width W2 is a larger value than the width W1. Here, the width W1 is set to 50 μm or more. That is, although the lens width has a predetermined range according to the shape of the microlens 52, the minimum lens width of the microlens 52 is preferably set to 50 μm or more. By doing in this way, the effect similar to the effect demonstrated in 1st Embodiment can be acquired.

〔第3の実施形態〕
図11を用いて、本発明の第2の実施の形態について説明する。図11は、マイクロレンズの上面視形状を説明するための概略的な説明図である。第1の実施形態と異なる点は、マイクロレンズの上面視形状のみである。
[Third Embodiment]
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a schematic explanatory diagram for explaining a top view shape of the microlens. The difference from the first embodiment is only the top view shape of the microlens.

図11に示すように、本実施形態においては、マイクロレンズ52の上面視形状は六角形状である。マイクロレンズ52は、幅W1、幅W2、および幅W3を有する。幅W1、幅W2、幅W3らの関係は、W2>W3>W1である。ここでは、幅W1が、50μm以上に設定される。すなわち、マイクロレンズ52の形状に応じてレンズ幅は所定の範囲を持つが、マイクロレンズ52の最小のレンズ幅を50μm以上に設定すると良い。このようにすることで、第1の実施形態で説明した効果と同様の効果を得ることができる。   As shown in FIG. 11, in the present embodiment, the top view shape of the microlens 52 is a hexagonal shape. The microlens 52 has a width W1, a width W2, and a width W3. The relationship among the width W1, the width W2, and the width W3 is W2> W3> W1. Here, the width W1 is set to 50 μm or more. That is, although the lens width has a predetermined range according to the shape of the microlens 52, the minimum lens width of the microlens 52 is preferably set to 50 μm or more. By doing in this way, the effect similar to the effect demonstrated in 1st Embodiment can be acquired.

本発明の技術的な範囲は、上述の実施形態に限定されない。マイクロレンズ52の上面視形状は他の形状であっても良い。光チャネル分離層の具体的な構成は任意である。透明基板とマイクロレンズとは一体成型されるものであっても良いし、透明基板上にマイクロレンズが貼りあわされるものであっても良い。透明基板は、単層に限られず複層であっても良い。光照射デバイスの具体的な構造は任意である。ライトガイドに光反射面を付加し、この光反射面を介して光入射面から光出射面までの光を案内させても良い。取得パターンがマスターパターンに一致するかどうかの具体的な方法は任意である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment. The microlens 52 may have another shape when viewed from above. The specific configuration of the optical channel separation layer is arbitrary. The transparent substrate and the microlens may be integrally molded, or the microlens may be pasted on the transparent substrate. The transparent substrate is not limited to a single layer and may be a multilayer. The specific structure of the light irradiation device is arbitrary. A light reflecting surface may be added to the light guide, and light from the light incident surface to the light emitting surface may be guided through the light reflecting surface. A specific method for determining whether the acquired pattern matches the master pattern is arbitrary.

生体情報取得装置D1の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of biological information acquisition device D1. 生体情報取得装置D1を上面視した構成を説明するための概略的な模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the structure which looked at biometric information acquisition apparatus D1 from the top. 図1のA点側から生体情報取得装置D1をみた概略的な説明図である。It is the schematic explanatory drawing which looked at the biometric information acquisition device D1 from the A point side of FIG. 図1のB点側から生体情報取得装置D1をみた概略的な説明図である。It is the schematic explanatory drawing which looked at the biometric information acquisition device D1 from the B point side of FIG. フォトセンサー31の画素の配置構成を説明するための概略的な模式図である。3 is a schematic diagram for explaining an arrangement configuration of pixels of a photosensor 31. FIG. マイクロレンズの上面視形状を説明するための概略的な模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the top view shape of a micro lens. レンズの機能を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the function of a lens. 取得される画像を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the image acquired. マイクロレンズの特性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the characteristic of a micro lens. マイクロレンズの上面視形状を説明するための概略的な説明図である。It is a schematic explanatory drawing for demonstrating the top view shape of a micro lens. マイクロレンズの上面視形状を説明するための概略的な説明図である。It is a schematic explanatory drawing for demonstrating the top view shape of a micro lens.

符号の説明Explanation of symbols

D1 生体情報取得装置
LEa 光照射デバイス
LEb 光照射デバイス
3a、3b ライトガイド
4a、4b 発光ダイオード
11 接着剤
30 配線基板
31 フォトセンサー
32 光チャネル分離層
33 レンズアレイ
34 バンドパスフィルタ
35 半導体集積回路
36 コネクタ
40 遮光膜
41 透明層
42a ランド
42 透明層
43 遮光層
50 透明基板
51 スペーサー
52 マイクロレンズ
D1 Biological information acquisition apparatus LEa Light irradiation device LEb Light irradiation device 3a, 3b Light guide 4a, 4b Light emitting diode 11 Adhesive 30 Wiring board 31 Photo sensor 32 Optical channel separation layer 33 Lens array 34 Band pass filter 35 Semiconductor integrated circuit 36 Connector 40 light shielding film 41 transparent layer 42a land 42 transparent layer 43 light shielding layer 50 transparent substrate 51 spacer 52 microlens

Claims (5)

被検体の所定部分からの反射光又は透過光に基づいて前記所定部分における静脈パターンを撮像する生体情報取得装置であって、
複数の画素を有する撮像素子と、
複数の前記画素に対応して設けられた複数のマイクロレンズを有する透明基板と、
前記マイクロレンズと前記画素間の光チャネル夫々を分離するように形成され、かつ前記画素に対応した開口部が設けられた遮光構造を有する光チャネル分離層と、
を備え、
複数の前記マイクロレンズ夫々は、前記所定部分からの光を前記画素に前記開口部を通じて集光し、
複数の前記マイクロレンズ夫々の最小レンズ幅は50μm以上であり、
隣接する前記マイクロレンズ間の距離とそれに対応する前記開口部間の距離が略等しいことを特徴とする生体情報取得装置。
A biological information acquisition apparatus that images a vein pattern in a predetermined portion based on reflected light or transmitted light from a predetermined portion of a subject,
An imaging device having a plurality of pixels;
A transparent substrate having a plurality of microlenses provided corresponding to the plurality of pixels;
An optical channel separation layer having a light shielding structure formed so as to separate the optical channels between the microlens and the pixel and provided with an opening corresponding to the pixel;
With
Each of the plurality of microlenses condenses light from the predetermined portion on the pixel through the opening,
The minimum lens width of each of the plurality of microlenses is 50 μm or more,
A biological information acquisition apparatus, wherein a distance between adjacent microlenses is substantially equal to a distance between corresponding openings.
複数の前記マイクロレンズは、前記透明基板の主面上にマトリクス状に形成されることを特徴とする請求項1に記載の生体情報取得装置。   The biological information acquiring apparatus according to claim 1, wherein the plurality of microlenses are formed in a matrix on the main surface of the transparent substrate. 前記所定部分に対して照射されるべき光を出射する半導体発光素子を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の生体情報取得装置。   The biological information acquisition apparatus according to claim 1, further comprising a semiconductor light emitting element that emits light to be irradiated to the predetermined portion. 前記所定部分に対して照射されるべき光を出射する半導体発光素子と、
第1面及び前記所定部分に臨む第2面を有し、前記第1面から前記第2面に前記半導体発光素子の出射光を案内するライトガイドと、
を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の生体情報取得装置。
A semiconductor light emitting element that emits light to be irradiated to the predetermined portion;
A light guide having a first surface and a second surface facing the predetermined portion, and guiding light emitted from the semiconductor light emitting element from the first surface to the second surface;
The biological information acquisition apparatus according to claim 1, further comprising:
前記光チャネル分離層は、前記撮像素子上に積層され、
前記透明基板は、前記光チャネル分離層上に積層されることを特徴とする請求項1に記載の生体情報取得装置。
The optical channel separation layer is stacked on the image sensor,
The biological information acquisition apparatus according to claim 1, wherein the transparent substrate is stacked on the optical channel separation layer.
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