JP2009036950A

JP2009036950A - Opaque screen and manufacturing method therefor

Info

Publication number: JP2009036950A
Application number: JP2007200451A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Takiguchi; 宏志瀧口; Yasushi Takano; 靖高野
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2007-08-01
Filing date: 2007-08-01
Publication date: 2009-02-19

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problems wherein it is difficult to form a smooth reflective surface with a fine form and uniform thickness and an image obtained by reflected light, having disturbances on the reflective surface due to irregular reflection, has low contrast and becomes blurred. <P>SOLUTION: Since an underlying film 9 is formed on part of the surface of a projecting part 3, exposed by removing part of a liquid-repellent layer 6, the smooth reflective surface 4 with a uniform thickness can be formed accurately on the underlying film 9 through electroless deposition. Thus, the projection light emitted onto a reflective screen 1 is reflected equally by the reflective surface 4. As a result, a light other than the projection light emitted to the reflective screen 1, ambient light, such as illumination around the reflective screen 1 will not be reflected by the reflective screen 1 but will be transmitted or absorbed. Accordingly, the image obtained from the light reflected by the reflective screen 1 has a high contrast and becomes clear. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射スクリーンおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a reflective screen and a method for manufacturing the same.

従来、反射投影システムに用いる反射スクリーンとしては、透明シートの前面に光透過拡散層、背面側に光反射用のリニアフレネルレンズ面を設けた反射ものが知られていた。
また、好適な視野角を得ることを目的として偏心した反射スクリーンが開示されている。
このような反射スクリーンでは、光量が少ない場合であってもコントラストの高い画像を得るために、投影側からの光を効率的に反射するための光学設計と、不要な映り込みを排除することが、常に要求されてきた。
ところで、主にリアプロジェクションテレビ用にその奥行きを薄くするために、極端な斜め方向から映像を投射して反射スクリーンに投影する投影機が開発され、発売されている。この投影技術を応用することで、極端に斜め前方から反射スクリーンに映像を投射する光学系をフロントプロジェクタとして利用することが考えられ、この場合、設置スペースを小さくすることと、視聴者が真正面の最適な位置から映像を観察することができる点が、大きな利点と考えられている。
しかしながら、通常よりも遙かに斜め前方から映像を投射するため、反射スクリーンで反射した光は。反射スクリーン面に対する投射光の入射角度が大きいことから、大きな反射角で出射してしまう。したがって、反射スクリーンは、スクリーンの法線方向付近へは、映像がほとんど届かなくなってしまう。反射スクリーンは、スクリーンの法線方向から観察されることが多く、環境光の写り込みと相まって、極端にコントラストを低下させてしまうという問題点があった。
この問題を解決するために、反射スクリーンの表面に大きな入射角からの光をスクリーンに対して法線方向に反射する形状を多数設け、外部からの環境光はこの形状以外の部分で吸収するような構成が考えられている。 Conventionally, as a reflective screen used in a reflective projection system, a reflective screen in which a light transmission diffusion layer is provided on the front side of a transparent sheet and a linear Fresnel lens surface for light reflection is provided on the back side has been known.
Further, an eccentric reflecting screen is disclosed for the purpose of obtaining a suitable viewing angle.
In such a reflection screen, in order to obtain an image with high contrast even when the amount of light is small, an optical design for efficiently reflecting light from the projection side and unnecessary reflection can be eliminated. Has always been requested.
By the way, a projector for projecting an image from an extremely oblique direction and projecting it on a reflection screen has been developed and put on the market in order to reduce the depth mainly for a rear projection television. By applying this projection technology, it is conceivable to use an optical system that projects an image on a reflective screen from an extremely oblique front as a front projector. In this case, the installation space is reduced and the viewer is directly in front. The point that an image can be observed from an optimal position is considered to be a great advantage.
However, the light reflected from the reflective screen is projected from an obliquely far front than usual. Since the incident angle of the projection light with respect to the reflective screen surface is large, the light is emitted with a large reflection angle. Therefore, the reflective screen hardly reaches the image near the normal direction of the screen. Reflecting screens are often observed from the normal direction of the screen, and there is a problem that the contrast is extremely reduced in combination with the reflection of ambient light.
In order to solve this problem, a large number of shapes that reflect light from a large incident angle in the direction normal to the screen are provided on the surface of the reflective screen, and external ambient light is absorbed by portions other than this shape. Is considered.

この反射スクリーンの基板の表面には、半球形状の凸部が複数形成されている。そして、凸部の表面の一部には、効率よく光を法線方向に反射するための反射面が形成されている。反射スクリーンに照射される投射光を反射面で反射する一方で、反射面以外には光を吸収しやすい材料を用いることで、室内の照明光などの環境光を吸収させる。このようにして、反射スクリーンに照射される投射光を、高いコントラストの映像として得ることを図っている。
ここで、反射面は、スプレーコート法またはオフセット印刷などにより、反射面を構成する材料を塗布することにより形成されている（たとえば、特許文献１参照）。 A plurality of hemispherical convex portions are formed on the surface of the substrate of the reflective screen. A reflection surface for efficiently reflecting light in the normal direction is formed on a part of the surface of the convex portion. While the projection light applied to the reflection screen is reflected by the reflection surface, environmental light such as indoor illumination light is absorbed by using a material that easily absorbs light other than the reflection surface. In this way, the projection light applied to the reflection screen is obtained as a high contrast image.
Here, the reflecting surface is formed by applying a material constituting the reflecting surface by spray coating or offset printing (for example, see Patent Document 1).

特開２００６−２１５１６２号公報（７頁）JP 2006-215162 A (page 7)

しかしながら、反射スクリーンの高コントラスト化などにより、反射面の形状の微細化が必要とされ、様々な仕様の反射スクリーンが開発されている。上記従来の反射スクリーンの製造方法では、均一な厚さで滑らかな反射面を形成することが困難であり、反射面で乱反射などによる乱れを生じた反射光により得られる映像は、コントラストが低く不鮮明になるという課題がある。 However, due to the high contrast of the reflection screen, it is necessary to refine the shape of the reflection surface, and various types of reflection screens have been developed. In the above conventional reflection screen manufacturing method, it is difficult to form a smooth reflective surface with a uniform thickness, and the image obtained from the reflected light that has been disturbed by irregular reflection on the reflective surface has a low contrast and is unclear. There is a problem of becoming.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものである。以下の形態または適用例により実現することが可能である。 The present invention has been made to solve at least a part of the above problems. It can be realized by the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例にかかる反射スクリーンの製造方法であって、基板上に複数の凸部を形成する凸部形成工程と、前記基板上の少なくとも前記凸部の表面に撥液処理剤を塗布して撥液膜を形成する撥液膜形成工程と、前記撥液膜の一部を除去して前記凸部の表面の一部を露出させる凸部露出工程と、前記凸部の表面の一部に下地膜を形成する下地形成工程と、前記下地膜に無電解めっきを施すことにより反射面を形成する反射面形成工程とを備えることを要旨とする。 [Application Example 1] A method of manufacturing a reflective screen according to this application example, in which a convex portion forming step of forming a plurality of convex portions on a substrate, and a liquid repellent treatment agent on at least the surface of the convex portion on the substrate A liquid-repellent film forming step of forming a liquid-repellent film by applying a coating, a convex portion exposing step of removing a part of the liquid-repellent film to expose a portion of the surface of the convex portion, and a surface of the convex portion And a reflective surface forming step of forming a reflective surface by applying electroless plating to the base film.

これによれば、撥液膜の一部を除去することで露出させた凸部の表面の一部に、下地膜を形成するので、下地膜の上に、無電解めっきにより均一な厚さで滑らかな反射面を精度良く形成することができる。このため、反射スクリーンに照射される投射光が、反射面で均等に反射される。つまり、反射スクリーンの一定方向、たとえば基板上の略垂線方向に反射される。そして、反射面以外の凸部の表面および基板上に照射される投射光は反射されない。このため、反射スクリーンに照射される投射光以外の光、たとえば反射スクリーン周辺の照明などの環境光が、反射スクリーンで反射されることがなく、透過するまたは吸収される。これにより、反射スクリーンで反射された反射光により得られる映像は、コントラストが高く鮮明になる。このため、反射スクリーンに照射される投射光を、視認性の優れた映像として得ることが可能な反射スクリーンの製造方法を提供することができる。 According to this, since the base film is formed on a part of the surface of the convex portion exposed by removing a part of the liquid repellent film, the base film is formed with a uniform thickness by electroless plating. A smooth reflecting surface can be formed with high accuracy. For this reason, the projection light irradiated to the reflective screen is reflected uniformly by the reflective surface. That is, the light is reflected in a certain direction of the reflective screen, for example, in a substantially perpendicular direction on the substrate. And the projection light irradiated on the surface of a convex part other than a reflective surface and a board | substrate is not reflected. For this reason, light other than the projection light irradiated on the reflection screen, for example, ambient light such as illumination around the reflection screen is transmitted or absorbed without being reflected by the reflection screen. As a result, the image obtained by the reflected light reflected by the reflecting screen has a high contrast and becomes clear. For this reason, the manufacturing method of the reflective screen which can obtain the projection light irradiated to a reflective screen as an image | video with excellent visibility can be provided.

［適用例２］上記適用例にかかる反射スクリーンの製造方法であって、前記撥液膜形成工程は、液滴吐出法により撥液処理剤を前記凸部の表面に塗布することが好ましい。 Application Example 2 In the method for manufacturing a reflective screen according to the application example, it is preferable that the liquid repellent film forming step is performed by applying a liquid repellent treatment agent to the surface of the convex portion by a droplet discharge method.

これによれば、液滴吐出法により撥液処理剤を、凸部の表面だけに塗布して撥液膜を形成するので、基板上に塗布することなく、撥液処理剤の使用量を削減できるとともに、前述と同様の効果を奏することが可能な反射スクリーンの製造方法を提供することができる。 According to this, since the liquid repellent treatment agent is applied only to the surface of the convex portion by the droplet discharge method to form the liquid repellent film, the amount of the liquid repellent treatment agent used is reduced without being applied on the substrate. In addition, it is possible to provide a method for manufacturing a reflective screen that can achieve the same effects as described above.

［適用例３］上記適用例にかかる反射スクリーンの製造方法であって、前記撥液膜形成工程は、液滴吐出法により撥液処理剤を前記凸部の表面に部分的に塗布することが好ましい。 [Application Example 3] A method for manufacturing a reflective screen according to the above application example, wherein the liquid repellent film forming step includes partially applying a liquid repellent treatment agent to the surface of the convex portion by a droplet discharge method. preferable.

これによれば、液滴吐出法により撥液処理剤を、凸部の表面に部分的に塗布するので、撥液処理剤の使用量をさらに削減できるとともに、前述と同様の効果を奏することが可能な反射スクリーンの製造方法を提供することができる。 According to this, since the liquid repellent treatment agent is partially applied to the surface of the convex portion by the droplet discharge method, the amount of the liquid repellent treatment agent used can be further reduced and the same effect as described above can be achieved. It is possible to provide a method for manufacturing a reflective screen.

［適用例４］上記適用例にかかる反射スクリーンの製造方法であって、前記凸部露出工程は、前記基板上の略垂線方向に対して傾斜した方向から露光することが好ましい。 Application Example 4 In the reflection screen manufacturing method according to the application example described above, it is preferable that the protrusion exposing step is performed from a direction inclined with respect to a substantially perpendicular direction on the substrate.

これによれば、反射スクリーンに照射される投射光の角度にあわせて露光するので、凸部の表面のうち露光される部分と、隣接する凸部によって遮られ露光されない部分が生じる。このため、隣接する凸部によって遮られることなく露光される部分である凸部の表面の一部に、下地膜を形成することができる。つまり、凸部の表面の一部は、投射光が照射される部分と一致する。このため、マスクを用いることなく露光し、凸部の表面の一部に反射面を形成することができる。これにより、反射スクリーンの仕様の１つとして、投射光の角度に合わせた反射面を形成することができる。このため、反射スクリーンの仕様が変更されても、露光する角度を変更するだけで容易に変更でき、様々な仕様の反射スクリーンの製造に適応させることが可能な反射スクリーンの製造方法を提供することができる。 According to this, since it exposes according to the angle of the projection light irradiated to a reflective screen, the exposed part and the part which is obstruct | occluded by the adjacent convex part among the surfaces of a convex part arise. For this reason, a base film can be formed in a part of surface of the convex part which is a part exposed without being interrupted by the adjacent convex part. That is, a part of the surface of the convex part coincides with the part irradiated with the projection light. For this reason, it can expose, without using a mask, and can form a reflective surface in a part of surface of a convex part. Thereby, the reflective surface matched with the angle of the projection light can be formed as one of the specifications of the reflective screen. For this reason, even if the specification of the reflection screen is changed, it is possible to easily change the exposure angle by simply changing the exposure angle, and to provide a method for manufacturing the reflection screen that can be adapted to manufacture of the reflection screen of various specifications. Can do.

［適用例５］本適用例にかかる反射スクリーンの製造方法であって、基板上に複数の凸部を形成する凸部形成工程と、前記凸部の表面に液滴吐出法により撥液処理剤を部分的に塗布して撥液膜を形成する撥液部分塗布工程と、前記凸部の表面の一部に下地膜を形成する下地形成工程と、前記下地膜に無電解めっきを施すことにより反射面を形成する反射面形成工程とを備えることを要旨とする。 Application Example 5 A method for manufacturing a reflective screen according to this application example, wherein a convex portion forming step of forming a plurality of convex portions on a substrate, and a liquid repellent treatment agent by a droplet discharge method on the surface of the convex portion A liquid-repellent partial coating step for forming a liquid-repellent film by partially coating the substrate, a base-forming step for forming a base film on a part of the surface of the convex portion, and electroless plating on the base film And a reflective surface forming step for forming the reflective surface.

これによれば、凸部の表面に、部分的に撥液膜を形成するので、撥液膜の一部除去を行わずして、撥液膜を形成しない部分、つまり凸部の表面の一部を、露出させることができる。そして、露出させた凸部の表面の一部に、下地膜を形成し、下地膜の上に反射面を形成することができる。このため、反射スクリーンの製造方法を簡略化できるとともに、前述と同様の効果を奏することが可能な反射スクリーンの製造方法を提供することができる。 According to this, since the liquid-repellent film is partially formed on the surface of the convex part, the liquid-repellent film is not partially removed, and the part where the liquid-repellent film is not formed, that is, the surface of the convex part. The part can be exposed. And a base film can be formed in a part of surface of the exposed convex part, and a reflective surface can be formed on a base film. For this reason, while being able to simplify the manufacturing method of a reflective screen, the manufacturing method of the reflective screen which can show | play the effect similar to the above can be provided.

［適用例６］上記適用例にかかる反射スクリーンの製造方法であって、前記凸部形成工程は、液滴吐出法により凸部形成材料を塗布して前記凸部を形成することが好ましい。 Application Example 6 In the method for manufacturing a reflective screen according to the application example, it is preferable that the convex portion forming step forms the convex portion by applying a convex portion forming material by a droplet discharge method.

これによれば、金型を用いずに、液滴吐出法により凸部を形成することにより、様々な仕様の反射スクリーンを得る製造方法を煩雑にすることなく、反射スクリーンの仕様変更に伴う凸部の形状および配置などの変更を容易にすることができる。 According to this, by forming the convex portion by the droplet discharge method without using a mold, the convexity associated with the change in the specifications of the reflective screen can be obtained without complicating the manufacturing method for obtaining the reflective screen having various specifications. It is possible to easily change the shape and arrangement of the parts.

［適用例７］本適用例にかかる反射スクリーンは、基板と、前記基板上に形成された複数の凸部と、前記凸部の表面の一部に形成された下地膜と、前記下地膜に無電解ニッケルめっきにより形成された反射面とを備えることを要旨とする。 Application Example 7 A reflective screen according to this application example is provided on a substrate, a plurality of convex portions formed on the substrate, a base film formed on a part of the surface of the convex portion, and the base film. And a reflective surface formed by electroless nickel plating.

これによれば、凸部の表面の一部に、均一な厚さで滑らかな反射面が形成されているので、凸部に形成された反射面の方向から反射スクリーンに投射光を照射することで、視認性の優れた映像として得ることができる。そして、複数の方向から反射スクリーンに投射光を照射する場合であっても、それぞれの方向に面する反射面で反射した反射光により得られる映像は、コントラストが高くなる。これにより、反射スクリーンに照射される投射光を、コントラストが高く、視認性の優れた映像として得ることが可能な反射スクリーンを得ることができる。また、凸部の表面の一部に、めっき用触媒により下地膜が形成されているので、樹脂からなる凸部と無電解ニッケルめっきからなる反射面との密着性を維持させることができ、長期使用に耐えうる信頼性の高い反射スクリーンを提供することができる。 According to this, since a smooth reflective surface with a uniform thickness is formed on a part of the surface of the convex portion, the projection screen is irradiated with projection light from the direction of the reflective surface formed on the convex portion. Thus, it can be obtained as an image with excellent visibility. And even if it is a case where projection light is irradiated to a reflective screen from a plurality of directions, a picture obtained by reflected light reflected by a reflective surface facing each direction becomes high in contrast. Thereby, it is possible to obtain a reflection screen that can obtain the projection light applied to the reflection screen as an image with high contrast and excellent visibility. In addition, since the base film is formed by a plating catalyst on a part of the surface of the convex portion, the adhesion between the convex portion made of resin and the reflecting surface made of electroless nickel plating can be maintained for a long time. A highly reliable reflective screen that can withstand use can be provided.

［適用例８］上記適用例にかかる反射スクリーンであって、前記下地膜は、前記基板の一方向に面して形成されていることが好ましい。 Application Example 8 In the reflection screen according to the application example, it is preferable that the base film is formed so as to face one direction of the substrate.

これによれば、基板上の一方向に面して下地膜および反射面が形成されているので、この一方向から反射スクリーンに照射される投射光が、反射面で均等に、たとえば基板上の略垂線方向に反射する。そして、反射面以外の凸部の表面および基板上に照射される投射光、ならびに投射光以外の光として反射スクリーン周辺の照明などの環境光は、反射スクリーンで反射することなく吸収される。または、反射スクリーンを透過する。これにより、反射スクリーンに照射される投射光を、コントラストが高く、視認性の優れた映像として得ることが可能な反射スクリーンを提供することができる。 According to this, since the base film and the reflection surface are formed so as to face one direction on the substrate, the projection light irradiated on the reflection screen from this one direction is evenly reflected on the reflection surface, for example, on the substrate. Reflects in a substantially perpendicular direction. And the projection light irradiated on the surface of a convex part other than a reflective surface and a board | substrate, and ambient light, such as illumination around a reflective screen as light other than a projection light, are absorbed without reflecting with a reflective screen. Or, it passes through the reflective screen. Accordingly, it is possible to provide a reflective screen that can obtain the projection light irradiated on the reflective screen as an image with high contrast and excellent visibility.

以下の実施形態では、反射スクリーンとして、いわゆる斜方入射用反射スクリーンを一例に挙げて説明する。
（第１実施形態） In the following embodiment, a so-called oblique incident reflection screen will be described as an example of the reflection screen.
(First embodiment)

図１（ａ）は、本実施形態にかかる反射スクリーン１の構成を示す概略平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面図であり、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。
図１に示すように、反射スクリーン１は、基板２と、凸部３と、反射面４とを備えている。 FIG. 1A is a schematic plan view showing the configuration of the reflective screen 1 according to the present embodiment, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1A, and FIG. ) Is a BB cross-sectional view of FIG.
As shown in FIG. 1, the reflective screen 1 includes a substrate 2, a convex portion 3, and a reflective surface 4.

基板２は、略矩形の薄板である。基板２の材質は、たとえばポリエチレンテレフタレートなどの樹脂である。そして、基板２の表面の色は、たとえば黒色などの濃色であり、光反射防止性または光吸収性を有している。 The substrate 2 is a substantially rectangular thin plate. The material of the substrate 2 is a resin such as polyethylene terephthalate. And the color of the surface of the board | substrate 2 is dark colors, such as black, for example, and has light reflection preventing property or light absorptivity.

凸部３は、略半球形状に形成されている。そして、基板２の表面に複数個形成されている。凸部３は、隣接して配置されている。凸部３の材質は、たとえばエポキシ系またはアクリル系の紫外線硬化型樹脂である。凸部３の色は、たとえば黒色などの濃色であり、光反射防止性または光吸収性を有している。 The convex part 3 is formed in a substantially hemispherical shape. A plurality of substrates 2 are formed on the surface of the substrate 2. The convex part 3 is arrange | positioned adjacently. The material of the convex portion 3 is, for example, an epoxy or acrylic ultraviolet curable resin. The color of the convex portion 3 is a dark color such as black, for example, and has light reflection preventing property or light absorbing property.

反射面４は、凸部３の表面の一部に、無電解ニッケルめっきを施すことにより形成されている。そして、反射面４は、基板２上の一方向に面して形成されており、本実施形態では、基板２上の外周を構成する一辺に面して形成されている。このため、反射面４は、反射スクリーン１に照射される投射光が入射する領域に形成されている。反射面４の厚さは、たとえば０．０５μｍ以上１μｍ以下であり、本実施形態では、０．１μｍである。 The reflecting surface 4 is formed by performing electroless nickel plating on a part of the surface of the convex portion 3. And the reflective surface 4 is formed facing one direction on the board | substrate 2, and is formed facing one side which comprises the outer periphery on the board | substrate 2 in this embodiment. For this reason, the reflection surface 4 is formed in a region where the projection light applied to the reflection screen 1 is incident. The thickness of the reflecting surface 4 is, for example, 0.05 μm or more and 1 μm or less, and is 0.1 μm in this embodiment.

図１（ｂ）に、矢印で示す一方向、つまり図の右下方向から反射スクリーン１に照射される投射光は、反射面４で基板２上の略垂線方向に、均等に反射する構成となっている。図１（ｃ）に示す矢印は、この反射をＢ−Ｂ方向から示している。 In FIG. 1B, the projection light irradiated on the reflection screen 1 from one direction indicated by an arrow, that is, the lower right direction in the figure, is reflected evenly in the substantially perpendicular direction on the substrate 2 by the reflection surface 4. It has become. The arrow shown in FIG. 1C indicates this reflection from the BB direction.

第１実施形態の反射スクリーン１の製造方法について、図２、図３、および図４を参照して説明する。
図２は、第１実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示すフローチャートである。図３は、第１実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示す概略図である。図４は、反射スクリーン１にかかる製造方法に用いる液滴吐出装置３０の構成を示す概略斜視図である。 The manufacturing method of the reflective screen 1 of 1st Embodiment is demonstrated with reference to FIG.2, FIG.3 and FIG.4.
FIG. 2 is a flowchart illustrating an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the first embodiment. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the first embodiment. FIG. 4 is a schematic perspective view showing the configuration of the droplet discharge device 30 used in the manufacturing method for the reflective screen 1.

撥液処理工程（Ｓ１０１）を実施する。図３（ａ）に示す基板２の表面に、撥液処理を施す。これにより、基板２の表面に、撥液性を付与する。撥液処理としては、大気雰囲気中で処理ガスとしてフルオロカーボン系のガスを用いる方法があり、たとえば四フッ化炭素（テトラフルオロメタン）を用いるＣＦ₄プラズマ処理法が一例として挙げられる。ＣＦ₄プラズマ処理の条件は、たとえば、プラズマパワーを５０ｋＷ〜１０００ｋＷ、ＣＦ₄ガス流量を５０ｍｌ／ｍｉｎ〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、プラズマ放電電極に対する基板２の搬送速度を０．５ｍｍ／ｓｅｃ〜２０ｍｍ／ｓｅｃ、基板２の温度を７０℃〜９０℃とする。 A liquid repellent treatment step (S101) is performed. Liquid repellent treatment is performed on the surface of the substrate 2 shown in FIG. This imparts liquid repellency to the surface of the substrate 2. As the liquid repellent treatment, there is a method of using a fluorocarbon-based gas as a treatment gas in the air atmosphere. For example, a CF ₄ plasma treatment method using carbon tetrafluoride (tetrafluoromethane) can be given as an example. The conditions for the CF ₄ plasma treatment are, for example, a plasma power of 50 kW to 1000 kW, a CF ₄ gas flow rate of 50 ml / min to 100 ml / min, a transport speed of the substrate 2 to the plasma discharge electrode of 0.5 mm / sec to 20 mm / sec, The temperature of the board | substrate 2 shall be 70 to 90 degreeC.

次に、凸部形成工程（Ｓ１０２）を実施する。図３（ｂ）に示すように、液滴吐出法を用いて液滴吐出ノズル２０から、エポキシ系またはアクリル系の紫外線硬化型樹脂などからなる数滴の凸部形成材料５を、基板２の表面に滴下する。基板２の表面は撥液性を付与されているため、滴下された凸部形成材料５は、基板２の表面で濡れ拡がりにくく、略半球形状に形成される。そして、たとえば波長が３６５ｎｍの低エネルギーの紫外線を照射し、基板２の表面に形成された凸部形成材料５を硬化させる。このようにして、基板２の表面に複数の凸部３を形成する。このとき、波長が３６５ｎｍの低エネルギーの紫外線を照射しているため、基板２の表面の撥液性は維持される。 Next, a convex part formation process (S102) is implemented. As shown in FIG. 3 (b), several droplets of the convex forming material 5 made of an epoxy-based or acrylic-based ultraviolet curable resin are transferred from the droplet discharge nozzle 20 using the droplet discharge method to the substrate 2. Drip on the surface. Since the surface of the substrate 2 is imparted with liquid repellency, the dropped convex portion forming material 5 is difficult to spread on the surface of the substrate 2 and is formed in a substantially hemispherical shape. Then, for example, low-energy ultraviolet light having a wavelength of 365 nm is irradiated to cure the convex forming material 5 formed on the surface of the substrate 2. In this way, a plurality of convex portions 3 are formed on the surface of the substrate 2. At this time, since the low energy ultraviolet light having a wavelength of 365 nm is irradiated, the liquid repellency of the surface of the substrate 2 is maintained.

ここで、液滴吐出法の吐出技術は様々あるが、オンデマンドで微細な形状が形成可能なインクジェット法を用いることが好ましい。インクジェット法としては、電気機械変換式、電気熱変換方式などが挙げられる。電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して液滴吐出ノズルから吐出させるものである。 Here, although there are various ejection techniques for the droplet ejection method, it is preferable to use an inkjet method capable of forming a fine shape on demand. Examples of the ink jet method include an electromechanical conversion method and an electrothermal conversion method. The electromechanical conversion method utilizes the property that a piezo element (piezoelectric element) deforms in response to a pulsed electric signal, and the piezoelectric element is deformed by pressure through a flexible substance in a space where material is stored. The material is extruded from this space and discharged from the droplet discharge nozzle.

以下、液滴吐出ノズル２０を備えた液滴吐出装置３０について、図４を参照して説明する。
図４に示すように、液滴吐出装置３０は、基台３１、ステージ３３、案内部材３６、およびキャリッジ３９を備えている。 Hereinafter, the droplet discharge device 30 including the droplet discharge nozzle 20 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4, the droplet discharge device 30 includes a base 31, a stage 33, a guide member 36, and a carriage 39.

基台３１は、略直方体形状に形成されている。基台３１の上面３１ａには、一対の案内レール３２ａ，３２ｂが、Ｙ軸方向に沿って配置されている。 The base 31 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. A pair of guide rails 32 a and 32 b are arranged on the upper surface 31 a of the base 31 along the Y-axis direction.

ステージ３３は、基台３１の上側に配置されている。ステージ３３は、一対の案内レール３２ａ，３２ｂに沿って移動可能な直動機構を備えている。ステージ３３の直動機構は、たとえば駆動軸と、ネジ軸と螺合するボールナットとを備えたネジ式直動機構である。この駆動軸は、所定のパルス信号を受けてステップ単位で回転駆動するＹ軸モータに連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＹ軸モータに入力されることにより、Ｙ軸モータが回転して、ステージ３３がステップ数に相当する分、Ｙ軸方向に沿って直線移動する。
ステージ３３の上面に設けられている載置面３４には、吸引式の基板チャック機構が設けられている。基板チャック機構によって、基板２が、載置面３４の所定位置に位置決め固定される。 The stage 33 is disposed on the upper side of the base 31. The stage 33 includes a linear motion mechanism that can move along a pair of guide rails 32a and 32b. The linear motion mechanism of the stage 33 is a screw-type linear motion mechanism including, for example, a drive shaft and a ball nut screwed with the screw shaft. The drive shaft is connected to a Y-axis motor that receives a predetermined pulse signal and rotates in step units. Then, when a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the Y-axis motor, the Y-axis motor rotates, and the stage 33 moves linearly along the Y-axis direction by an amount corresponding to the number of steps.
A suction-type substrate chuck mechanism is provided on the mounting surface 34 provided on the upper surface of the stage 33. The substrate 2 is positioned and fixed at a predetermined position on the mounting surface 34 by the substrate chuck mechanism.

案内部材３６は、基台３１およびステージ３３の上方に配置され、一対の支持台３５ａ，３５ｂに架設されている。案内部材３６の上部に、吐出する凸部形成材料５を供給可能に収納する収容タンク３７が配置されている。案内部材３６の下側に、Ｘ軸方向に沿って案内レール３８が配置されている。 The guide member 36 is disposed above the base 31 and the stage 33, and is installed on the pair of support bases 35a and 35b. A storage tank 37 that stores the ejected convex portion forming material 5 so as to be capable of being supplied is disposed on the guide member 36. A guide rail 38 is disposed below the guide member 36 along the X-axis direction.

キャリッジ３９は、略直方体形状に形成され、案内部材３６の下方に配置されている。キャリッジ３９は、案内レール３８に沿って移動可能な直動機構を備えている。キャリッジ３９の直動機構は、ステージ３３の直動機構と同様に構成され、キャリッジ３９を、Ｘ方向に沿って直線移動する。
キャリッジ３９の下面３９ａに、液滴吐出ノズル２０，２１，２２，２３が、それぞれ複数配置されている。 The carriage 39 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape and is disposed below the guide member 36. The carriage 39 includes a linear motion mechanism that can move along the guide rail 38. The linear movement mechanism of the carriage 39 is configured similarly to the linear movement mechanism of the stage 33, and moves the carriage 39 linearly along the X direction.
A plurality of droplet discharge nozzles 20, 21, 22, and 23 are disposed on the lower surface 39 a of the carriage 39.

撥液膜形成工程として、全面撥液塗布工程（Ｓ１０３）を実施する。図３（ｃ）に示すように、基板２上の少なくとも凸部３の表面、つまり凸部３の表面および基板２上に、撥液処理剤を塗布して、撥液膜６を形成する。これにより、基板２および凸部３の表面に、撥液性を付与する。ここで、撥液処理剤は、感光した部分が溶解するポジタイプの感光性撥液処理剤を用いる。この感光性撥液処理剤は、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂を含有するフォトレジスト材料が、一例として挙げられる。 As the liquid repellent film forming step, the entire liquid repellent coating step (S103) is performed. As shown in FIG. 3C, a liquid repellent treatment agent is applied to at least the surface of the convex portion 3 on the substrate 2, that is, the surface of the convex portion 3 and the substrate 2 to form the liquid repellent film 6. Thereby, the liquid repellency is imparted to the surfaces of the substrate 2 and the convex portion 3. Here, as the liquid repellent treatment agent, a positive type photosensitive liquid repellent treatment agent in which the exposed portion is dissolved is used. An example of the photosensitive liquid repellent agent is a photoresist material containing a fluororesin such as polytetrafluoroethylene.

凸部露出工程として、マスク露光工程（Ｓ１０４）を、図３（ｄ）に示すように、マスク５０を用いて露光する。マスク５０を透過する露光により、感光した部分の撥液膜６が溶解し、現像液を用いて除去する。そして、マスク５０を透過せず露光が遮られることにより、感光しない部分の撥液膜６が残る。その後、純水を用いて洗浄して、たとえば６０℃で３０ｍｉｎの乾燥処理を施す。このようにして、撥液膜６が溶解した部分、つまり凸部３の表面の一部を露出させて、下地領域７を得る。 As a convex portion exposure step, a mask exposure step (S104) is exposed using a mask 50 as shown in FIG. The exposed liquid repellent film 6 is dissolved by exposure through the mask 50 and removed using a developer. Then, since the exposure is interrupted without passing through the mask 50, the non-photosensitive portion of the liquid repellent film 6 remains. Then, it wash | cleans using a pure water, for example, performs the drying process for 30 minutes at 60 degreeC. In this way, a portion where the liquid repellent film 6 is dissolved, that is, a part of the surface of the convex portion 3 is exposed to obtain the base region 7.

下地形成工程を実施する。ここで、下地形成工程は、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）および触媒塗布工程（Ｓ１０６）を備えている。 A ground formation step is performed. Here, the base formation step includes a coupling agent application step (S105) and a catalyst application step (S106).

まず、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）を実施する。図３（ｅ）に示すように、液滴吐出法としてオンデマンドで微細な形状が形成可能なインクジェット法を用いて、液滴吐出ノズル２１から、アミノ基を有するシランカップリング剤８を、下地領域７に塗布する。その後、純水を用いて洗浄して、たとえば６０℃で１時間の乾燥処理を施す。これにより、凸部３の表面の一部である下地領域７に、アミノ基を有するシランカップリング剤８を定着させる。 First, a coupling agent application step (S105) is performed. As shown in FIG. 3E, by using an ink jet method capable of forming a fine shape on demand as a droplet discharge method, a silane coupling agent 8 having an amino group is applied from a droplet discharge nozzle 21 to a base. Apply to area 7. Then, it wash | cleans using a pure water, for example, performs the drying process for 1 hour at 60 degreeC. Thereby, the silane coupling agent 8 having an amino group is fixed to the base region 7 which is a part of the surface of the convex portion 3.

ここで、液滴吐出ノズル２１からアミノ基を有するシランカップリング剤８を塗布する方法は、図４に示す液滴吐出装置３０を用いて前述の凸部形成材料５を滴下する方法と略同じであり、収容タンク３７内にアミノ基を有するシランカップリング剤８を収納して液滴吐出ノズル２１から塗布する点が相違するものである。さらには、吐出量および液滴数などの液滴吐出条件も相違するものである。
そして、アミノ基を有するシランカップリング剤８は、有機質材料と結合する反応基としてのアミノ基と、有機物や無機物などの水酸基と結合する反応基とを有している。有機物や無機物などの水酸基と結合する反応基は、ハロゲンやアルコキシ基などが挙げられる。この有機物や無機物などの水酸基と結合する反応基は、一種類または複数種類のいずれであってもよい。そして、被めっき物品である凸部３の表面との結合が可能な反応基であればよい。
アミノ基を有するシランカップリング剤８と凸部３の表面の反応性が低い場合は、あらかじめ凸部３を酸素プラズマなどの処理を行うことで反応性を高めておくことができる。反応性を高めておいてアミノ基を有するシランカップリング剤８を反応させることで、凸部３の一部に形成した無電解めっきによる反射面４の膜剥がれが予防でき、反射面４の均一性が高まる。
アミノ基を有するシランカップリング剤８の具体例としては、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、または３−アミノプロピルトリエトキシシランなどが一例として挙げられる。 Here, the method of applying the amino group-containing silane coupling agent 8 from the droplet discharge nozzle 21 is substantially the same as the method of dropping the convex portion forming material 5 using the droplet discharge device 30 shown in FIG. The difference is that the silane coupling agent 8 having an amino group is stored in the storage tank 37 and applied from the droplet discharge nozzle 21. Furthermore, the droplet discharge conditions such as the discharge amount and the number of droplets are also different.
And the silane coupling agent 8 which has an amino group has an amino group as a reactive group couple | bonded with an organic material, and a reactive group couple | bonded with hydroxyl groups, such as organic substance and an inorganic substance. Examples of the reactive group bonded to a hydroxyl group such as an organic substance or an inorganic substance include a halogen and an alkoxy group. The reactive group that binds to a hydroxyl group such as an organic substance or an inorganic substance may be one kind or plural kinds. And what is necessary is just a reactive group which can be couple | bonded with the surface of the convex part 3 which is a to-be-plated article.
When the reactivity of the surface of the convex part 3 with the silane coupling agent 8 which has an amino group is low, the reactivity can be raised previously by processing the convex part 3 with oxygen plasma. By increasing the reactivity and reacting the silane coupling agent 8 having an amino group, peeling of the reflective surface 4 due to electroless plating formed on a part of the convex portion 3 can be prevented, and the reflective surface 4 is uniform. Increases nature.
Specific examples of the silane coupling agent 8 having an amino group include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3 Examples include -aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.

次に、触媒塗布工程（Ｓ１０６）を実施する。パラジウム系触媒を含有するｐＨ４程度の酸性溶液中に浸漬する。これにより、パラジウム系触媒を塗布する。その後、純水を用いて洗浄する。このようにして、凸部３の表面の一部である下地領域７に定着させたアミノ基を有するシランカップリング剤８上に、パラジウムを定着させる。これにより、図３（ｆ）に示すように、凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成する。
ここで、パラジウム系触媒は、塩化パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウム、またはテトラクロロパラジウム酸ナトリウムなどのパラジウム塩の水溶液が一例として挙げられる。 Next, a catalyst coating step (S106) is performed. It is immersed in an acidic solution having a pH of about 4 containing a palladium catalyst. Thereby, a palladium-based catalyst is applied. Then, it wash | cleans using a pure water. In this manner, palladium is fixed on the silane coupling agent 8 having an amino group fixed on the base region 7 which is a part of the surface of the convex portion 3. Thereby, as shown in FIG. 3F, the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3.
Here, examples of the palladium-based catalyst include an aqueous solution of a palladium salt such as palladium chloride, palladium bromide, palladium acetate, or sodium tetrachloropalladate.

その後、反射面形成工程（Ｓ１０７）を実施する。図３（ｇ）に示すように、下地膜９上に無電解ニッケルめっきを施す。その後、純水を用いて洗浄し、たとえば６０℃で１時間の乾燥処理を施す。これにより、反射面４を、凸部３の表面の一部に形成する。このようにして、図１に示す反射スクリーン１を得る。
ここで、無電解ニッケルめっきの処理方法は、たとえば塩化ニッケル（ＮｉＣｌ₂）または硫酸ニッケル（ＮｉＳＯ₄）などのニッケル塩を含む水溶液から、次亜リン酸塩などの還元剤の作用により、化学的にニッケルを析出させる方法が挙げられる。 Then, a reflective surface formation process (S107) is implemented. As shown in FIG. 3G, electroless nickel plating is performed on the base film 9. Then, it wash | cleans using a pure water, for example, performs the drying process for 1 hour at 60 degreeC. Thereby, the reflecting surface 4 is formed on a part of the surface of the convex portion 3. In this way, the reflection screen 1 shown in FIG. 1 is obtained.
Here, the treatment method of electroless nickel plating is performed by chemical action from an aqueous solution containing a nickel salt such as nickel chloride (NiCl ₂ ) or nickel sulfate (NiSO ₄ ) by the action of a reducing agent such as hypophosphite. And a method of depositing nickel.

したがって、本実施形態によれば、撥液膜６の一部を除去することで露出させた凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成するので、下地膜９の上に、無電解めっきにより均一な厚さで滑らかな反射面４を精度良く形成することができる。このため、反射スクリーン１に照射される投射光が、反射面４で均等に反射される。つまり、反射スクリーン１の一定方向、たとえば基板２上の略垂線方向に反射される。そして、反射面４以外の凸部３の表面および基板２上に照射される投射光は反射されない。このため、反射スクリーン１に照射される投射光以外の光、たとえば反射スクリーン１周辺の照明などの環境光が、反射スクリーン１で反射されることがなく、透過するまたは吸収される。これにより、反射スクリーン１で反射された反射光により得られる映像は、コントラストが高く鮮明になる。このため、反射スクリーン１に照射される投射光を、視認性の優れた映像として得ることが可能な反射スクリーン１の製造方法を提供することができる。 Therefore, according to the present embodiment, since the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3 exposed by removing a part of the liquid repellent film 6, there is no film on the base film 9. The smooth reflecting surface 4 with a uniform thickness can be formed with high accuracy by electrolytic plating. For this reason, the projection light irradiated to the reflective screen 1 is reflected uniformly by the reflective surface 4. That is, the light is reflected in a certain direction of the reflective screen 1, for example, in a substantially perpendicular direction on the substrate 2. And the projection light irradiated on the surface of the convex part 3 other than the reflective surface 4 and the board | substrate 2 is not reflected. For this reason, light other than the projection light applied to the reflection screen 1, for example, ambient light such as illumination around the reflection screen 1, is transmitted or absorbed without being reflected by the reflection screen 1. Thereby, the image obtained by the reflected light reflected by the reflection screen 1 has a high contrast and becomes clear. For this reason, the manufacturing method of the reflective screen 1 which can obtain the projection light irradiated to the reflective screen 1 as an image | video with excellent visibility can be provided.

本実施形態によれば、金型を用いずに、液滴吐出法により凸部３を形成するので、様々な仕様の反射スクリーン１を得る製造方法を煩雑にすることなく、反射スクリーン１の仕様変更に伴う凸部３の形状および配置などの変更を容易にすることができる。 According to this embodiment, since the convex part 3 is formed by the droplet discharge method without using a mold, the specifications of the reflective screen 1 are obtained without complicating the manufacturing method for obtaining the reflective screen 1 having various specifications. It is possible to easily change the shape and arrangement of the protrusions 3 due to the change.

本実施形態によれば、凸部３の表面の一部に、アミノ基を有するシランカップリング剤８およびパラジウム系触媒により下地膜９が形成されているので、樹脂からなる凸部３と無電解ニッケルめっきからなる反射面４との密着性を維持させることができ、長期使用に耐えうる信頼性の高い反射スクリーン１を提供することができる。
（第２実施形態） According to the present embodiment, since the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3 by the silane coupling agent 8 having an amino group and the palladium-based catalyst, the convex portion 3 made of resin and the electroless Adhesiveness with the reflective surface 4 made of nickel plating can be maintained, and a highly reliable reflective screen 1 that can withstand long-term use can be provided.
(Second Embodiment)

第２実施形態の反射スクリーン１は、図１に示した第１実施形態と同様の構成であるが、製造方法が相違する。このため、同一の符号を付与し、構成の説明を省略する。 The reflective screen 1 of the second embodiment has the same configuration as that of the first embodiment shown in FIG. 1, but the manufacturing method is different. For this reason, the same code | symbol is provided and description of a structure is abbreviate | omitted.

図５は、第２実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示すフローチャートである。図６は、第２実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示す概略図である。なお、図５および図６において、第１実施形態の反射スクリーン１の製造方法と同様の工程および構成については、図２および図３に示した同一の工程名称および符号を付与し説明を省略する。 FIG. 5 is a flowchart showing an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the second embodiment. FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the second embodiment. 5 and 6, the same process names and reference numerals as those shown in FIGS. 2 and 3 are assigned to the same processes and configurations as those of the manufacturing method of the reflective screen 1 of the first embodiment, and the description thereof is omitted. .

第２実施形態の反射スクリーン１の製造方法について、図５および図６を参照して説明する。
撥液処理工程（Ｓ１０１）、凸部形成工程（Ｓ１０２）、および全面撥液塗布工程（Ｓ１０３）を、第１実施形態と同様にして順次、図６（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）に示すように実施する。 The manufacturing method of the reflective screen 1 of 2nd Embodiment is demonstrated with reference to FIG. 5 and FIG.
The liquid repellent treatment step (S101), the convex portion forming step (S102), and the entire liquid repellent application step (S103) are sequentially performed in the same manner as in the first embodiment, as shown in FIGS. 6 (a), 6 (b), and (c). ).

次に、凸部露出工程として、斜め露光工程（Ｓ２０４）を実施する。図６（ｄ）に示すように、光源５７から照射された光を、反射器５２および反射器５３で反射させ、マスクを用いずに略垂線方向に対して傾斜した方向から斜めに露光する。ここで、反射器５３に対して、基板２を、図示する白抜き矢印の方向に移動させることで、凸部３の表面および基板２上に塗布された撥液膜６を、順に露光する。露光により、感光した部分の撥液膜６が溶解し、現像液を用いて除去する。そして、隣接する凸部３により露光が遮られることで、感光しない部分の撥液膜６が残る。その後、純水を用いて洗浄し、たとえば６０℃で１時間の乾燥処理を施す。このようにして、撥液膜６が溶解した部分、つまり凸部３の表面の一部を露出させて、下地領域７を得る。 Next, an oblique exposure step (S204) is performed as the convex portion exposure step. As shown in FIG. 6D, the light emitted from the light source 57 is reflected by the reflector 52 and the reflector 53, and exposed obliquely from the direction inclined with respect to the substantially normal direction without using a mask. Here, the surface of the convex portion 3 and the liquid-repellent film 6 applied on the substrate 2 are sequentially exposed by moving the substrate 2 in the direction of the outlined arrow with respect to the reflector 53. The exposed liquid-repellent film 6 is dissolved by the exposure, and is removed using a developer. Then, the exposure is blocked by the adjacent convex portion 3, so that the non-photosensitive portion of the liquid repellent film 6 remains. Then, it wash | cleans using a pure water, for example, performs the drying process for 1 hour at 60 degreeC. In this way, a portion where the liquid repellent film 6 is dissolved, that is, a part of the surface of the convex portion 3 is exposed to obtain the base region 7.

その後、下地形成工程として、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）および触媒塗布工程（Ｓ１０６）を、第１実施形態と同様にして順次、図６（ｅ）および（ｆ）に示すように実施する。これにより、下地膜９を形成する。 Thereafter, as a base formation step, a coupling agent coating step (S105) and a catalyst coating step (S106) are sequentially performed as shown in FIGS. 6E and 6F in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the base film 9 is formed.

そして、反射面形成工程（Ｓ１０７）を、第１実施形態と同様にして、図６（ｇ）に示すように実施する。これにより、反射面４を、凸部３の表面の一部に形成する。このようにして、図１に示す反射スクリーン１を得る。 Then, the reflective surface forming step (S107) is performed as shown in FIG. 6G in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the reflecting surface 4 is formed on a part of the surface of the convex portion 3. In this way, the reflection screen 1 shown in FIG. 1 is obtained.

本実施形態によれば、反射スクリーン１に照射される投射光の角度にあわせて露光するので、凸部３の表面のうち露光される部分と、隣接する凸部３によって遮られ露光されない部分が生じる。このため、隣接する凸部３によって遮られることなく露光される部分である凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成することができる。つまり、凸部３の表面の一部は、投射光が照射される部分と一致する。このため、マスク５０を用いることなく露光し、凸部３の表面の一部に反射面４を形成することができる。これにより、反射スクリーン１の仕様の１つとして、投射光の角度に合わせた反射面４を形成することができる。このため、反射スクリーン１の仕様が変更されても、露光する角度を変更するだけで容易に変更でき、様々な仕様の反射スクリーン１の製造に適応させることが可能な反射スクリーン１の製造方法を提供することができる。 According to the present embodiment, the exposure is performed according to the angle of the projection light irradiated on the reflection screen 1, so that the exposed portion of the surface of the convex portion 3 and the portion that is blocked by the adjacent convex portion 3 and is not exposed. Arise. For this reason, the base film 9 can be formed on a part of the surface of the convex portion 3 which is a portion exposed without being blocked by the adjacent convex portion 3. That is, a part of the surface of the convex portion 3 coincides with a portion irradiated with the projection light. For this reason, it can expose, without using the mask 50, and can form the reflective surface 4 in a part of surface of the convex part 3. FIG. Thereby, the reflective surface 4 matched with the angle of the projection light can be formed as one of the specifications of the reflective screen 1. For this reason, even if the specification of the reflective screen 1 is changed, the manufacturing method of the reflective screen 1 can be easily changed only by changing the exposure angle and can be adapted to the manufacture of the reflective screen 1 having various specifications. Can be provided.

本実施形態によれば、凸部３の表面の一部に、アミノ基を有するシランカップリング剤８およびパラジウム系触媒により下地膜９が形成されているので、樹脂からなる凸部３と無電解ニッケルめっきからなる反射面４との密着性を維持させることができ、長期使用に耐えうる信頼性の高い反射スクリーン１を提供することができる。
（第３実施形態） According to the present embodiment, since the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3 by the silane coupling agent 8 having an amino group and the palladium-based catalyst, the convex portion 3 made of resin and the electroless Adhesiveness with the reflective surface 4 made of nickel plating can be maintained, and a highly reliable reflective screen 1 that can withstand long-term use can be provided.
(Third embodiment)

第３実施形態の反射スクリーン１は、図１に示した第１実施形態と同様の構成であるが、製造方法が相違する。このため、同一の符号を付与し、構成の説明を省略する。 The reflective screen 1 of the third embodiment has the same configuration as that of the first embodiment shown in FIG. 1, but the manufacturing method is different. For this reason, the same code | symbol is provided and description of a structure is abbreviate | omitted.

図７は、第３実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示すフローチャートである。図８は、第３実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示す概略図である。なお、図７および図８において、第１実施形態の反射スクリーン１の製造方法と同様の工程および構成については、図２および図３に示した同一の工程名称および符号を付与し説明を省略する。 FIG. 7 is a flowchart showing an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the third embodiment. FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the third embodiment. 7 and 8, the same process names and reference numerals as those shown in FIGS. 2 and 3 are assigned to the same processes and configurations as those of the manufacturing method of the reflective screen 1 of the first embodiment, and the description thereof is omitted. .

第３実施形態の反射スクリーン１の製造方法について、図７および図８を参照して説明する。
撥液処理工程（Ｓ１０１）および凸部形成工程（Ｓ１０２）を、第１実施形態と同様にして順次、図８（ａ）および（ｂ）に示すように実施する。 The manufacturing method of the reflective screen 1 of 3rd Embodiment is demonstrated with reference to FIG. 7 and FIG.
The liquid repellent treatment step (S101) and the convex portion forming step (S102) are sequentially performed as shown in FIGS. 8A and 8B in the same manner as in the first embodiment.

次に、撥液膜形成工程として、凸部撥液塗布工程（Ｓ２０３）を実施する。図８（ｃ）に示すように、液滴吐出法としてオンデマンドで微細な形状が形成可能なインクジェット法を用いて、液滴吐出ノズル２２から、撥液処理剤１６を塗布して、撥液膜６を形成する。これにより、凸部３の表面に、撥液性を付与する。撥液処理剤１６は、感光した部分が溶解するポジタイプの感光性撥液処理剤を用いる。この感光性撥液処理剤は、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂を含有するフォトレジスト材料が、一例として挙げられる。
ここで、撥液処理剤１６を塗布する方法は、図４に示す液滴吐出装置３０を用いて前述の凸部形成材料５を滴下する方法と略同じであり、収容タンク３７内に撥液処理剤１６を収納して液滴吐出ノズル２２から塗布する点が相違するものである。さらには、吐出量および液滴数などの液滴吐出条件も相違するものである。 Next, as the liquid repellent film forming step, a convex liquid repellent coating step (S203) is performed. As shown in FIG. 8C, a liquid repellent treatment agent 16 is applied from a droplet discharge nozzle 22 by using an inkjet method capable of forming a fine shape on demand as a droplet discharge method. A film 6 is formed. Thereby, the liquid repellency is imparted to the surface of the convex portion 3. As the liquid repellent agent 16, a positive type photosensitive liquid repellent agent that dissolves the exposed portion is used. An example of the photosensitive liquid repellent agent is a photoresist material containing a fluororesin such as polytetrafluoroethylene.
Here, the method of applying the liquid repellent treatment agent 16 is substantially the same as the method of dropping the convex portion forming material 5 using the droplet discharge device 30 shown in FIG. The point which accommodates the processing agent 16 and apply | coats from the droplet discharge nozzle 22 is different. Furthermore, the droplet discharge conditions such as the discharge amount and the number of droplets are also different.

その後、凸部露出工程として、マスク露光工程（Ｓ１０４）を、図８（ｄ）に示すように、第１実施形態と同様に実施する。このようにして、撥液膜６が溶解した部分、つまり凸部３の表面の一部を露出させて、下地領域７を得る。その後、下地形成工程として、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）および触媒塗布工程（Ｓ１０６）を、第１実施形態と同様にして順次、図８（ｅ）および（ｆ）に示すように実施する。これにより、凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成する。 Then, as a convex part exposure process, as shown in FIG.8 (d), a mask exposure process (S104) is implemented similarly to 1st Embodiment. In this way, a portion where the liquid repellent film 6 is dissolved, that is, a part of the surface of the convex portion 3 is exposed to obtain the base region 7. Thereafter, as a base formation step, a coupling agent coating step (S105) and a catalyst coating step (S106) are sequentially performed as shown in FIGS. 8E and 8F in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3.

そして、反射面形成工程（Ｓ１０７）を、第１実施形態と同様にして、図８（ｇ）に示すように実施する。これにより、反射面４を、凸部３の表面の一部に形成する。このようにして、図１に示す反射スクリーン１を得る。 Then, the reflective surface forming step (S107) is performed as shown in FIG. 8G in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the reflecting surface 4 is formed on a part of the surface of the convex portion 3. In this way, the reflection screen 1 shown in FIG. 1 is obtained.

本実施形態によれば、液滴吐出法により撥液処理剤１６を、凸部３の表面だけに塗布して撥液膜６を形成するので、基板２上に塗布することなく、撥液処理剤１６の使用量を削減できる反射スクリーン１の製造方法を提供することができる。 According to the present embodiment, the liquid repellent treatment agent 16 is applied only to the surface of the convex portion 3 by the droplet discharge method to form the liquid repellent film 6, so that the liquid repellent treatment is not performed on the substrate 2. The manufacturing method of the reflective screen 1 which can reduce the usage-amount of the agent 16 can be provided.

本実施形態によれば、凸部３の表面の一部に、アミノ基を有するシランカップリング剤８およびパラジウム系触媒により下地膜９が形成されているので、樹脂からなる凸部３と無電解ニッケルめっきからなる反射面４との密着性を維持させることができ、長期使用に耐えうる信頼性の高い反射スクリーン１を提供することができる。
（第４実施形態） According to the present embodiment, since the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3 by the silane coupling agent 8 having an amino group and the palladium-based catalyst, the convex portion 3 made of resin and the electroless Adhesiveness with the reflective surface 4 made of nickel plating can be maintained, and a highly reliable reflective screen 1 that can withstand long-term use can be provided.
(Fourth embodiment)

第４実施形態の反射スクリーン１は、図１に示した第１実施形態と同様の構成であるが、製造方法が相違する。このため、同一の符号を付与し、構成の説明を省略する。 The reflective screen 1 of the fourth embodiment has the same configuration as that of the first embodiment shown in FIG. 1, but the manufacturing method is different. For this reason, the same code | symbol is provided and description of a structure is abbreviate | omitted.

図９は、第４実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示すフローチャートである。図１０は、第４実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示す概略図である。なお、第１から第３実施形態の反射スクリーン１の製造方法と同様の工程および構成については、図２および図３、または図５から図８に示した同一の工程名称および符号を付与し説明を省略する。 FIG. 9 is a flowchart showing an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the fourth embodiment. FIG. 10 is a schematic view illustrating an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the fourth embodiment. In addition, about the process and structure similar to the manufacturing method of the reflective screen 1 of 1st to 3rd embodiment, the same process name and code | symbol shown in FIG. 2 and FIG. 3, or FIG. Is omitted.

第４実施形態の反射スクリーン１の製造方法について、図９および図１０を参照して説明する。
撥液処理工程（Ｓ１０１）、凸部形成工程（Ｓ１０２）、および凸部撥液塗布工程（Ｓ２０３）を、第３実施形態と同様にして順次、図１０（ａ）、（ｂ）、および（ｃ）に示すように実施する。 The manufacturing method of the reflective screen 1 of 4th Embodiment is demonstrated with reference to FIG. 9 and FIG.
The liquid repellent treatment step (S101), the convex portion forming step (S102), and the convex portion liquid repellent application step (S203) are sequentially performed in the same manner as in the third embodiment, as shown in FIGS. Perform as shown in c).

次に、凸部露出工程として、斜め露光工程（Ｓ２０４）を、図１０（ｄ）に示すように、第２実施形態と同様に実施する。これにより、凸部３の表面の一部を露出させて、下地領域７を得る。 Next, as the convex portion exposure step, an oblique exposure step (S204) is performed in the same manner as in the second embodiment, as shown in FIG. Thereby, a part of surface of the convex part 3 is exposed, and the base region 7 is obtained.

その後、下地形成工程として、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）および触媒塗布工程（Ｓ１０６）を、第１実施形態と同様にして順次、図１０（ｅ）および（ｆ）に示すように実施する。これにより、下地膜９を形成する。 Thereafter, as a base formation step, a coupling agent application step (S105) and a catalyst application step (S106) are sequentially performed as shown in FIGS. 10 (e) and (f) in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the base film 9 is formed.

そして、反射面形成工程（Ｓ１０７）を、第１実施形態と同様にして順次、図１０（ｇ）に示すように実施する。これにより、反射面４を、凸部３の表面の一部に形成する。このようにして、図１に示す反射スクリーン１を得る。 Then, the reflective surface forming step (S107) is sequentially performed as shown in FIG. 10 (g) in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the reflecting surface 4 is formed on a part of the surface of the convex portion 3. In this way, the reflection screen 1 shown in FIG. 1 is obtained.

本実施形態によれば、液滴吐出法により凸部３の表面だけに撥液処理剤１６を塗布して撥液膜６を形成するので、基板２上に塗布することなく、撥液処理剤１６の使用量を削減できる反射スクリーン１の製造方法を提供することができる。 According to the present embodiment, since the liquid repellent film 16 is formed by applying the liquid repellent treatment agent 16 only to the surface of the convex portion 3 by the droplet discharge method, the liquid repellent treatment agent is not applied on the substrate 2. The manufacturing method of the reflective screen 1 which can reduce the usage-amount of 16 can be provided.

本実施形態によれば、凸部３の表面の一部に、アミノ基を有するシランカップリング剤８およびパラジウム系触媒により下地膜９が形成されているので、樹脂からなる凸部３と無電解ニッケルめっきからなる反射面４との密着性を維持させることができ、長期使用に耐えうる信頼性の高い反射スクリーン１を提供することができる。
（第５実施形態） According to the present embodiment, since the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3 by the silane coupling agent 8 having an amino group and the palladium-based catalyst, the convex portion 3 made of resin and the electroless Adhesiveness with the reflective surface 4 made of nickel plating can be maintained, and a highly reliable reflective screen 1 that can withstand long-term use can be provided.
(Fifth embodiment)

第５実施形態の反射スクリーン１は、図１に示した第１実施形態と同様の構成であるが、製造方法が相違する。このため、同一の符号を付与し、構成の説明を省略する。 The reflective screen 1 of the fifth embodiment has the same configuration as that of the first embodiment shown in FIG. 1, but the manufacturing method is different. For this reason, the same code | symbol is provided and description of a structure is abbreviate | omitted.

図１１は、第５実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示すフローチャートである。図１２は、第５実施形態にかかる反射スクリーン１の製造方法の一例を示す概略図である。なお、図１１および図１２において、第１実施形態の反射スクリーン１の製造方法と同様の工程および構成については、図２および図３に示した同一の工程名称および符号を付与し説明を省略する。 FIG. 11 is a flowchart showing an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the fifth embodiment. FIG. 12 is a schematic view illustrating an example of a manufacturing method of the reflective screen 1 according to the fifth embodiment. In FIGS. 11 and 12, the same process names and symbols as shown in FIGS. 2 and 3 are assigned to the same processes and configurations as those of the manufacturing method of the reflective screen 1 of the first embodiment, and the description thereof is omitted. .

第５実施形態の反射スクリーン１の製造方法について、図１１および図１２を参照して説明する。
撥液処理工程（Ｓ１０１）および凸部形成工程（Ｓ１０２）を、第１実施形態と同様にして順次、図１２（ａ）および（ｂ）に示すように実施する。 The manufacturing method of the reflective screen 1 of 5th Embodiment is demonstrated with reference to FIG. 11 and FIG.
The liquid repellent treatment step (S101) and the convex portion forming step (S102) are sequentially performed as shown in FIGS. 12A and 12B in the same manner as in the first embodiment.

次に、撥液膜形成工程として、撥液部分塗布工程（Ｓ３０３）を実施する。図１２（ｃ）に示すように、液滴吐出法としてオンデマンドで微細な形状が形成可能なインクジェット法を用いて、液滴吐出ノズル２２から、撥液処理剤１６を凸部３の表面に部分塗布し、撥液膜６を形成する。これにより、凸部３の表面に、部分的に撥液性を付与する。このようにして、撥液膜６が形成されていない部分、つまり凸部３の表面の一部を露出させて、下地領域７を得る。
ここで、撥液処理剤１６を塗布する方法は、図４に示す液滴吐出装置３０を用いて前述の凸部形成材料５を滴下する方法と略同じであり、収容タンク３７内に撥液処理剤１６を収納して液滴吐出ノズル２２から塗布する点が相違するものである。さらには、吐出量および液滴数などの液滴吐出条件も相違するものである。 Next, a liquid repellent partial coating process (S303) is performed as a liquid repellent film forming process. As shown in FIG. 12C, the liquid repellent agent 16 is applied from the droplet discharge nozzle 22 to the surface of the convex portion 3 by using an inkjet method capable of forming a fine shape on demand as the droplet discharge method. Partial coating is performed to form the liquid repellent film 6. Thereby, the surface of the convex part 3 is partially provided with liquid repellency. In this way, a portion where the liquid repellent film 6 is not formed, that is, a part of the surface of the convex portion 3 is exposed to obtain the base region 7.
Here, the method of applying the liquid repellent treatment agent 16 is substantially the same as the method of dropping the convex portion forming material 5 using the droplet discharge device 30 shown in FIG. The point which accommodates the processing agent 16 and apply | coats from the droplet discharge nozzle 22 is different. Furthermore, the droplet discharge conditions such as the discharge amount and the number of droplets are also different.

その後、下地形成工程として、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）および触媒塗布工程（Ｓ１０６）を、第１実施形態と同様にして順次、図１２（ｄ）および（ｅ）に示すように実施する。これにより、下地膜９を形成する。 Thereafter, as a base formation step, a coupling agent coating step (S105) and a catalyst coating step (S106) are sequentially performed as shown in FIGS. 12D and 12E in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the base film 9 is formed.

そして、反射面形成工程（Ｓ１０７）を、第１実施形態と同様にして、図１２（ｆ）に示すように実施する。これにより、反射面４を、凸部３の表面の一部に形成する。このようにして、図１に示す反射スクリーン１を得る。 Then, the reflective surface forming step (S107) is performed as shown in FIG. 12 (f) in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the reflecting surface 4 is formed on a part of the surface of the convex portion 3. In this way, the reflection screen 1 shown in FIG. 1 is obtained.

本実施形態によれば、液滴吐出法により撥液処理剤１６を、凸部３の表面に部分的に塗布するので、撥液処理剤１６の使用量をさらに削減できる反射スクリーン１の製造方法を提供することができる。 According to the present embodiment, since the liquid repellent treatment agent 16 is partially applied to the surface of the convex portion 3 by the droplet discharge method, the method for manufacturing the reflective screen 1 that can further reduce the amount of liquid repellent treatment agent 16 used. Can be provided.

本実施形態によれば、凸部３の表面に、部分的に撥液膜６を形成するので、撥液膜６の一部除去を行わずして、撥液膜６を形成しない部分、つまり凸部３の表面の一部を、露出させることができる。そして、露出させた凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成し、下地膜９の上に反射面４を形成することができる。このため、反射スクリーン１の製造方法を簡略化できる。 According to the present embodiment, since the liquid repellent film 6 is partially formed on the surface of the convex portion 3, a part where the liquid repellent film 6 is not formed without removing the liquid repellent film 6, that is, A part of the surface of the convex portion 3 can be exposed. Then, the base film 9 can be formed on a part of the exposed surface of the convex portion 3, and the reflective surface 4 can be formed on the base film 9. For this reason, the manufacturing method of the reflective screen 1 can be simplified.

本実施形態によれば、凸部３の表面の一部に、アミノ基を有するシランカップリング剤８およびパラジウム系触媒により下地膜９が形成されているので、樹脂からなる凸部３と無電解ニッケルめっきからなる反射面４との密着性を維持させることができ、長期使用に耐えうる信頼性の高い反射スクリーン１を提供することができる。 According to the present embodiment, since the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex portion 3 by the silane coupling agent 8 having an amino group and the palladium-based catalyst, the convex portion 3 made of resin and the electroless Adhesiveness with the reflective surface 4 made of nickel plating can be maintained, and a highly reliable reflective screen 1 that can withstand long-term use can be provided.

また、第５実施形態において、撥液部分塗布工程（Ｓ３０３）の次に、凸部露出工程として、マスク露光工程（Ｓ１０４）または斜め露光工程（Ｓ２０４）を実施するとしてもよい。その後、第１実施形態と同様にして順次、カップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）、触媒塗布工程（Ｓ１０６）、および反射面形成工程（Ｓ１０７）を実施する。このようにしても、前述と同様の効果を奏することができる。 In the fifth embodiment, a mask exposure step (S104) or an oblique exposure step (S204) may be performed as a convex portion exposure step after the liquid repellent partial application step (S303). Thereafter, the coupling agent coating step (S105), the catalyst coating step (S106), and the reflective surface forming step (S107) are sequentially performed in the same manner as in the first embodiment. Even if it does in this way, there can exist an effect similar to the above-mentioned.

以下、前記実施形態における下地形成工程に関する変形例、および感光性撥液処理剤に関する変形例をそれぞれ記載する。
（変形例１） Hereinafter, the modification regarding the base | substrate formation process in the said embodiment and the modification regarding a photosensitive liquid-repellent processing agent are each described.
(Modification 1)

前記実施形態における下地形成工程として、アミノ基を有するシランカップリング剤を用いるカップリング剤塗布工程（Ｓ１０５）およびパラジウム系触媒を用いる触媒塗布工程（Ｓ１０６）の２つの工程を実施するとしたが、触媒機能付きシランカップリング剤を用いることで、この２つの工程を１つの工程にした触媒機能付きカップリング剤塗布工程を実施する。 As the base formation step in the embodiment, the two steps of the coupling agent application step (S105) using an amino group-containing silane coupling agent and the catalyst application step (S106) using a palladium-based catalyst are performed. By using a silane coupling agent with a function, a coupling agent coating process with a catalytic function, in which these two steps are made into one step, is carried out.

前記いずれかの実施形態と同様に、撥液処理工程（Ｓ１０１）、凸部形成工程（Ｓ１０２）、および全面撥液塗布工程（Ｓ１０３）または凸部撥液塗布工程（Ｓ２０３）または撥液部分塗布工程（Ｓ３０３）、およびマスク露光工程（Ｓ１０４）または斜め露光工程（Ｓ２０４）を実施する。
その後、変形例１の触媒機能付きカップリング剤塗布工程を実施する。 As in any of the above-described embodiments, the liquid repellent treatment step (S101), the convex portion forming step (S102), the entire surface liquid repellent coating step (S103), the convex portion liquid repellent coating step (S203), or the liquid repellent partial coating. Step (S303) and mask exposure step (S104) or oblique exposure step (S204) are performed.
Then, the coupling agent application process with a catalyst function of the modification 1 is implemented.

図１３は、変形例１の触媒機能付きカップリング剤塗布工程の一例を示す概略図である。図１３に示すように、触媒機能付きカップリング剤塗布工程を実施する。液滴吐出法としてオンデマンドで微細な形状が形成可能なインクジェット法を用いて液滴吐出ノズル２３から、触媒機能付きシランカップリング剤１８を、凸部３の表面の一部に塗布する。 FIG. 13 is a schematic view illustrating an example of a coupling agent coating process with a catalyst function according to the first modification. As shown in FIG. 13, a coupling agent coating step with a catalytic function is performed. A silane coupling agent 18 with a catalytic function is applied to a part of the surface of the convex portion 3 from the droplet discharge nozzle 23 using an inkjet method capable of forming a fine shape on demand as a droplet discharge method.

触媒機能付きシランカップリング剤１８は、金属捕捉能を持つ官能基と無機質材料と結合する反応基とを有するシランカップリング剤、ならびに貴金属化合物を含んでいる。金属捕捉能を有する官能基は、アミノ基、カルボキシル基、アゾール基、水酸基、メルカプト基などの有機質材料と結合する反応基が一例として挙げられ、アゾール基がより好ましい。さらに、アゾール基としては、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、トリアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール、ベンダゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、またはベンゾトリアゾールなどが一例として挙げられ、イミダゾール基がより好ましい。無機質材料と結合する反応基は、アルキル基、ハロゲンやアルコキシ基などが一例として挙げられる。この無機質材料と結合する反応基は、一種類または複数種類のいずれであってもよい。そして、被めっき物品である基板２との結合が可能な反応基であればよい。貴金属化合物は、パラジウム、銀、白金、あるいは金などの塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、またはアンモニウム塩などのアンミン錯体が一例として挙げられ、塩化パラジウムがより好ましい。 The silane coupling agent 18 with a catalytic function includes a silane coupling agent having a functional group having a metal scavenging ability and a reactive group that binds to an inorganic material, and a noble metal compound. Examples of the functional group having a metal scavenging ability include reactive groups that bind to an organic material such as an amino group, a carboxyl group, an azole group, a hydroxyl group, and a mercapto group, and an azole group is more preferable. In addition, examples of the azole group include imidazole, oxazole, thiazole, selenazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole, triazole, oxadiazole, thiadiazole, tetrazole, oxatriazole, thiatriazole, benzazole, indazole, benzimidazole, and benzotriazole. Is an example, and an imidazole group is more preferable. Examples of the reactive group bonded to the inorganic material include an alkyl group, a halogen, and an alkoxy group. The reactive group that binds to the inorganic material may be one type or a plurality of types. And what is necessary is just a reactive group which can be couple | bonded with the board | substrate 2 which is a to-be-plated article. Examples of the noble metal compound include chlorides such as palladium, silver, platinum, and gold, and ammine complexes such as hydroxides, oxides, sulfates, and ammonium salts, and palladium chloride is more preferable.

その後、純水を用いて洗浄して、凸部３の表面の一部にパラジウムを定着させることにより、凸部３の表面の一部に、下地膜９を形成する。
そして、前記実施形態と同様に、反射面形成工程（Ｓ１０７）を実施する。これにより、反射面４を、凸部３の表面の一部に形成する。このようにして、図１に示す反射スクリーン１を得る。
（変形例２） Thereafter, the base film 9 is formed on a part of the surface of the convex part 3 by cleaning with pure water and fixing palladium on a part of the surface of the convex part 3.
And the reflective surface formation process (S107) is implemented similarly to the said embodiment. Thereby, the reflecting surface 4 is formed on a part of the surface of the convex portion 3. In this way, the reflection screen 1 shown in FIG. 1 is obtained.
(Modification 2)

マスク露光工程（Ｓ１０４）において、露光された部分の溶融性を増して、露光されない部分が残るポジタイプの感光性撥液処理剤を一例に挙げて説明したが、露光されない部分の溶融性を増して、露光された部分が残るネガタイプの感光性撥液処理剤であってもよい。 In the mask exposure step (S104), the positive-type photosensitive liquid repellent treatment agent has been described as an example in which the meltability of the exposed portion is increased and the unexposed portion remains, but the meltability of the unexposed portion is increased. Further, it may be a negative type photosensitive liquid repellent agent in which an exposed portion remains.

これによれば、前記実施形態の変形例１および変形例２においても、前述の実施形態と同様の効果を奏することができる。 According to this, also in the modification 1 and the modification 2 of the said embodiment, there can exist an effect similar to the above-mentioned embodiment.

なお、上記課題の少なくとも一部を解決できる範囲での変形、改良などは前述の実施形態に含まれるものである。
たとえば、前述の実施形態では、反射面４の形状および配置の説明をわかりやすくするため、図１に示すように凸部３の表面の略半分に、反射面４を形成するとしたが、必ずしも反射面４の形状および配置を明確にするものではない。たとえば、反射面４の面積が、凸部の表面の半分以上としてもよく、または半分以下としてもよい。そして、反射面４は、基板２上に形成されていてもよく、または基板２上に接することなく形成されていてもよい。
そして、凸部３の形状および配置は、図１４（ａ）に示す変形例３のように、矩形状の凸部３が複数配置されていてもよい。図１５（ａ）に示す変形例４のように、基板２上の外周を構成する一辺の一点を中心に、凸部３が円弧状に複数配置されていてもよい。また、図１６（ａ）に示す変形例５のように、凸部３が長円形状に配置されていてもよい。そして、図１４（ａ）、図１５（ａ）、および図１６（ａ）それぞれのＡ−Ａ断面図である図１４（ｂ）、図１５（ｂ）、および図１６（ｂ）に示すように、凸部３の表面の一部に形成されている反射面４は、基板２上の一定方向、つまり、基板２上の外周を構成する一辺または一辺の一点に面していることが好ましい。図１４（ｂ）、図１５（ｂ）、および図１６（ｂ）に、矢印で示す一方向、つまり図の右下方向から反射スクリーン１に照射される投射光は、反射面４で基板２上の略垂線方向に、均等に反射する構成となっている。
また、凸部３の形状は、略半球形状に形成されているとしたが、円錐または多面体などであってもよい。
そして、基板２の表面は、光反射防止性または光吸収性を有しているとしたが、光反射防止性および透光性を有しているとしてもよい。 In addition, the deformation | transformation in the range which can solve at least one part of the said subject, improvement, etc. are contained in above-mentioned embodiment.
For example, in the above-described embodiment, in order to make the explanation of the shape and arrangement of the reflecting surface 4 easier to understand, the reflecting surface 4 is formed on substantially half of the surface of the convex portion 3 as shown in FIG. The shape and arrangement of the surface 4 are not clarified. For example, the area of the reflective surface 4 may be half or more of the surface of the convex portion, or may be half or less. The reflective surface 4 may be formed on the substrate 2 or may be formed without being in contact with the substrate 2.
And as for the shape and arrangement | positioning of the convex part 3, the multiple rectangular convex parts 3 may be arrange | positioned like the modification 3 shown to Fig.14 (a). As in Modification 4 shown in FIG. 15A, a plurality of convex portions 3 may be arranged in a circular arc shape around one point that constitutes the outer periphery on the substrate 2. Moreover, the convex part 3 may be arrange | positioned in the ellipse shape like the modification 5 shown to Fig.16 (a). 14 (a), 15 (a), and 16 (a) are cross-sectional views taken along the line AA of FIG. 14 (b), FIG. 15 (b), and FIG. 16 (b). In addition, the reflecting surface 4 formed on a part of the surface of the convex portion 3 preferably faces a certain direction on the substrate 2, that is, one side constituting an outer periphery on the substrate 2 or one point on one side. . In FIG. 14B, FIG. 15B, and FIG. 16B, the projection light irradiated on the reflection screen 1 from one direction indicated by the arrow, that is, the lower right direction of the figure, is reflected on the substrate 2 by the reflection surface 4. It is configured to reflect evenly in the substantially vertical direction above.
Moreover, although the shape of the convex part 3 was formed in the substantially hemispherical shape, it may be a cone or a polyhedron.
And although the surface of the board | substrate 2 was said to have light reflection preventing property or light absorptivity, it is good also as having light reflection preventing property and translucency.

第１実施形態にかかる反射スクリーンの構成を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the structure of the reflective screen concerning 1st Embodiment. 第１実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 1st Embodiment. 第１実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 1st Embodiment. 第１実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法に用いる液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the structure of the droplet discharge apparatus used for the manufacturing method of the reflective screen concerning 1st Embodiment. 第２実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 2nd Embodiment. 第２実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 2nd Embodiment. 第３実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 3rd Embodiment. 第３実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 3rd Embodiment. 第４実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 4th Embodiment. 第４実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 4th Embodiment. 第５実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示すフローチャート。The flowchart which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 5th Embodiment. 第５実施形態にかかる反射スクリーンの製造方法の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the manufacturing method of the reflective screen concerning 5th Embodiment. 変形例１の下地形成工程の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the base | substrate formation process of the modification 1. FIG. 変形例３の反射スクリーンを示す概略図。Schematic which shows the reflective screen of the modification 3. FIG. 変形例４の反射スクリーンを示す概略図。Schematic which shows the reflective screen of the modification 4. FIG. 変形例５の反射スクリーンを示す概略図。Schematic which shows the reflective screen of the modification 5. FIG.

Explanation of symbols

１…反射スクリーン、２…基板、３…凸部、４…反射面、５…凸部形成材料、６…撥液膜、７…下地領域、８…アミノ基を有するシランカップリング剤、９…下地膜、１６…撥液処理剤、１８…触媒機能付きシランカップリング剤、２０，２１，２２，２３…液滴吐出ノズル、３０…液滴吐出装置、３１…基台、３１ａ…上面、３２ａ…案内レール、３３…ステージ、３４…載置面、３５ａ…支持台、３６…案内部材、３７…収容タンク、３８…案内レール、３９…キャリッジ、３９ａ…下面、５０…マスク、５２，５３…反射器、５７…光源。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Reflective screen, 2 ... Substrate, 3 ... Convex part, 4 ... Reflective surface, 5 ... Convex part forming material, 6 ... Liquid-repellent film, 7 ... Base region, 8 ... Silane coupling agent which has an amino group, 9 ... Undercoat film 16 ... Liquid repellent treatment agent 18 ... Silane coupling agent with catalytic function 20, 21, 22, 23 ... Droplet discharge nozzle, 30 ... Droplet discharge device, 31 ... Base, 31a ... Top surface, 32a ... guide rail, 33 ... stage, 34 ... mounting surface, 35a ... support base, 36 ... guide member, 37 ... receiving tank, 38 ... guide rail, 39 ... carriage, 39a ... lower surface, 50 ... mask, 52, 53 ... Reflector, 57 ... light source.

Claims

A protrusion forming step of forming a plurality of protrusions on the substrate;
A liquid repellent film forming step of forming a liquid repellent film by applying a liquid repellent treatment agent to at least the surface of the convex portion on the substrate;
A protrusion exposing step of removing a part of the liquid repellent film to expose a part of the surface of the protrusion;
A base formation step of forming a base film on a part of the surface of the convex portion;
A reflective surface forming step of forming a reflective surface by applying electroless plating to the base film.

It is a manufacturing method of the reflective screen of Claim 1, Comprising:
In the liquid repellent film forming step, a liquid repellent treatment agent is applied to the surface of the convex portion by a droplet discharge method.

A method for producing a reflective screen according to claim 1 or 2,
In the liquid repellent film forming step, a liquid repellent treatment agent is partially applied to the surface of the convex portion by a droplet discharge method.

It is a manufacturing method of the reflective screen as described in any one of Claims 1-3,
The method of manufacturing a reflective screen, wherein the projecting portion exposing step performs exposure from a direction inclined with respect to a substantially perpendicular direction on the substrate.

A protrusion forming step of forming a plurality of protrusions on the substrate;
A liquid repellent partial application step of partially applying a liquid repellent treatment agent to the surface of the convex portion by a droplet discharge method to form a liquid repellent film;
A base formation step of forming a base film on a part of the surface of the convex portion;
A reflective surface forming step of forming a reflective surface by applying electroless plating to the base film.

It is a manufacturing method of the reflective screen as described in any one of Claims 1-5,
The method for producing a reflective screen is characterized in that, in the projecting portion forming step, the projecting portion is formed by applying a projecting portion forming material by a droplet discharge method.

A substrate,
A plurality of convex portions formed on the substrate;
A base film formed on a part of the surface of the convex portion;
A reflective screen comprising: a reflective surface formed by electroless nickel plating on the base film.

The reflective screen according to claim 7,
The reflective screen according to claim 1, wherein the base film is formed facing one direction of the substrate.