JP2009035575A - Polyphenylene sulfide film roll for capacitor - Google Patents

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隆晃 吉井
Toshiya Yashiro
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film roll that can improve a capacitor processing yield with high lamination accuracy by suppressing meandering during film travel in manufacturing a laminated film capacitor. <P>SOLUTION: This polyphenylene sulfide film roll for the capacitor is formed of a polyphenylene sulfide film with a film thickness of 10 μm or less, with a specially defined air entangling index X[%] expressed by expressions 1, 2, wherein the expression 1 is (-2.5×10<SP>-4</SP>×L)+22<X<(-2.5×10<SP>-4</SP>×L)+32, the expression 2 is (-3.44×10<SP>-2</SP>×D)+26<X<(-3.44×10<SP>-2</SP>×D)+36, L is a film length [m], and D is a film roll diameter [mm]. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明はコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールに関し、フィルム搬送時の蛇行を抑制することにより、優れた加工特性を持つフィルムロールを提供する。   The present invention relates to a polyphenylene sulfide film roll for capacitors, and provides a film roll having excellent processing characteristics by suppressing meandering during film conveyance.

ポリフェニレンスルフィドフィルムは、フィルムコンデンサの誘電体として好適に用いられ、従来からその性質を改善するために、不活性粒子を配合することが知られている。例えば、粒子形状を規定した2種類の粒子を用いることにより、滑り性、走行性と絶縁欠陥が少ないことを両立させたポリフェニレンスルフィドフィルムが開示されている(特許文献1、特許文献2)。また、炭酸カルシウム微粒子を用いて、粗粒の抑制やボイド低減を行ったポリフェニレンスルフィドフィルムが知られている(特許文献3)。   A polyphenylene sulfide film is suitably used as a dielectric for a film capacitor, and it has been conventionally known to incorporate inert particles in order to improve its properties. For example, a polyphenylene sulfide film is disclosed in which two types of particles having a defined particle shape are used to achieve both slipperiness, runnability, and low insulation defects (Patent Documents 1 and 2). Further, a polyphenylene sulfide film in which coarse particles are suppressed and voids are reduced using calcium carbonate fine particles is known (Patent Document 3).

しかしながら、このような方法では、フィルムロールの層間に存在するエアの抜け性が十分でないことにより、昨今主流となってきた積層コンデンサを製造する際に、フィルムの走行蛇行、積層精度不良により、コンデンサ加工収率が悪化するなどの欠点があった。
特開平5−163370号公報 特開平6−136146号公報 特開2004−149740号公報
However, in such a method, when the multilayer capacitor which has become mainstream these days is manufactured due to insufficient release of air existing between the layers of the film roll, There were drawbacks such as a worse processing yield.
JP-A-5-163370 JP-A-6-136146 JP 2004-149740 A

本発明は、積層フィルムコンデンサを製造する際のフィルム走行時の蛇行を抑制することにより、積層精度が良く、コンデンサ加工収率を改善できるフィルムロールを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a film roll that has good lamination accuracy and can improve the capacitor processing yield by suppressing meandering during film travel when producing a laminated film capacitor.

上記課題を解決するため本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールは次の構成を有する。すなわち、フィルム厚みが10μm以下のポリフェニレンスルフィドフィルムからなるロールであって、明細書中で定義するエアかみ指数X[%]が式1、式2で表されるコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールである。
(式1) (−2.5×10−4×L)+22<X<(−2.5×10−4×L)+32
(式2) (−3.44×10−2×D)+26<X<(−3.44×10−2×D)+36
L:フィルム長さ[m]
D:フィルムロール直径[mm]
In order to solve the above problems, the polyphenylene sulfide film roll for capacitors of the present invention has the following constitution. That is, it is a roll made of a polyphenylene sulfide film having a film thickness of 10 μm or less, and an air pocket index X [%] defined in the specification is a polyphenylene sulfide film roll for a capacitor represented by Formulas 1 and 2.
(Formula 1) (−2.5 × 10 −4 × L) +22 <X <(− 2.5 × 10 −4 × L) +32
(Formula 2) (−3.44 × 10 −2 × D) +26 <X <(− 3.44 × 10 −2 × D) +36
L: Film length [m]
D: Film roll diameter [mm]

本発明で提供されるフィルムロールを用いることにより、積層フィルムコンデンサを製造する際のフィルム走行時の蛇行が抑制され、積層精度が良く、コンデンサ加工収率を改善することができる。   By using the film roll provided in the present invention, meandering during film travel when producing a laminated film capacitor is suppressed, the lamination accuracy is good, and the capacitor processing yield can be improved.

以下に本発明の最良の実施形態を説明する。
本発明において、ポリフェニレンスルフィドとは、繰り返し単位80モル%以上(好ましくは90モル%以上)が次の化学式で示される構成単位からなる重合体をいう。
The best embodiment of the present invention will be described below.
In the present invention, polyphenylene sulfide refers to a polymer in which 80 mol% or more (preferably 90 mol% or more) of repeating units are composed of structural units represented by the following chemical formula.

Figure 2009035575
Figure 2009035575

かかる成分が80モル%未満ではポリマーの結晶性、軟化点が低くなり、得られるフィルムの耐熱性、寸法安定性および機械的特性などを損なう。繰り返し単位の20モル%未満(好ましくは10モル%未満)であれば、共重合可能なスルフィド結合を含有する単位が含まれていても差し支えない。該重合体の共重合の仕方はランダム、ブロックを問わない。 If the component is less than 80 mol%, the crystallinity and softening point of the polymer are lowered, and the heat resistance, dimensional stability and mechanical properties of the resulting film are impaired. As long as it is less than 20 mol% (preferably less than 10 mol%) of the repeating unit, a unit containing a copolymerizable sulfide bond may be contained. The copolymerization method of the polymer may be random or block.

本発明においてポリフェニレンスルフィド樹脂組成物とは上記ポリフェニレンスルフィド(好ましくはポリ−p−フェニレンスルフィド)を90重量%以上含む樹脂組成物をいう。樹脂組成物中の残りの10重量%未満は、ポリフェニレンスルフィド以外のポリマーおよび/または充填剤、着色剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤等の添加物であってもかまわない。また、本発明のポリフェニレンスルフィド樹脂組成物の溶融粘度は温度300℃、せん断速度200sec−1のもとで100〜50000ポイズ、さらには500〜12000ポイズの範囲が製膜性の面で好ましい。 In the present invention, the polyphenylene sulfide resin composition refers to a resin composition containing 90% by weight or more of the polyphenylene sulfide (preferably poly-p-phenylene sulfide). The remaining less than 10% by weight in the resin composition may be a polymer other than polyphenylene sulfide and / or an additive such as a filler, a colorant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, and an antioxidant. The melt viscosity of the polyphenylene sulfide resin composition of the present invention is preferably in the range of 100 to 50000 poises, more preferably 500 to 12000 poises at a temperature of 300 ° C. and a shear rate of 200 sec −1 in terms of film forming properties.

本発明のポリフェニレンスルフィドフィルムとは、上記ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物を溶融成形した二軸延伸フィルムである。コンデンサ用途として十分に足る電気特性を得るためには、無延伸フィルムや一軸延伸フィルムではなく、二軸延伸フィルムであることが好ましい。該フィルムの厚さは10μm以下、さらには0.5〜6.0μmの範囲が本発明の目的を効果的に達成する点で好ましい。また、易接着効果を持たせる目的で、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理を単体または複合の表面処理が施されてもよい。   The polyphenylene sulfide film of the present invention is a biaxially stretched film obtained by melt-molding the polyphenylene sulfide resin composition. In order to obtain electrical characteristics sufficient for capacitor use, a biaxially stretched film is preferable instead of an unstretched film or a uniaxially stretched film. The thickness of the film is preferably 10 μm or less, and more preferably in the range of 0.5 to 6.0 μm from the viewpoint of effectively achieving the object of the present invention. Further, for the purpose of providing an easy-adhesion effect, a single or composite surface treatment may be applied to the corona treatment, the plasma treatment, and the primer treatment.

本発明においてコンデンサとは、電気回路の一種で、誘電体を挟んで導体からなる一対の電極を設けることにより、両電極間に一定の静電気量を与えるものを意味し、蓄電器、キャパシタなどと呼ばれるものである。   In the present invention, a capacitor is a kind of electric circuit, and means a capacitor that provides a certain amount of static electricity between two electrodes by providing a pair of electrodes made of a conductor with a dielectric sandwiched between them. Is.

本発明のポリフェニレンスルフィドフィルムには、不活性粒子を用いることが望ましい。本発明に用いられる不活性粒子としては、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、カオリン、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、タルク、酸化亜鉛などの無機粒子や架橋ポリスチレン系粒子のような300℃までは溶融しない有機粒子が挙げられる。好ましくは、コロイダルシリカに起因するシリカ粒子、球状炭酸カルシウム、架橋ポリスチレン系粒子である。これらの粒子はポリマーとの親和性も良好で延伸時に粒子周辺にボイドを生成しにくいのでコンデンサ用フィルムとして耐電圧の良好なフィルムとなる。   It is desirable to use inert particles in the polyphenylene sulfide film of the present invention. The inert particles used in the present invention do not melt up to 300 ° C. like inorganic particles such as silica, alumina, calcium carbonate, kaolin, calcium phosphate, barium sulfate, titanium oxide, talc, zinc oxide and crosslinked polystyrene particles. Organic particles are mentioned. Preferred are silica particles resulting from colloidal silica, spherical calcium carbonate, and crosslinked polystyrene-based particles. Since these particles have a good affinity with the polymer and do not easily generate voids around the particles during stretching, the film has a good withstand voltage as a capacitor film.

本発明には上記の様な種類の粒子を用い、粒径の異なる2種類の不活性粒子を用いるのが好ましい。粒子種の組み合わせは特に問わないが、粒子の脱落、ボイドの低減のために、粒子形状は球状又は扁平状の粒子が望ましい。   In the present invention, it is preferable to use the above types of particles and two types of inert particles having different particle sizes. The combination of the particle types is not particularly limited, but the particle shape is preferably a spherical or flat particle in order to drop the particle and reduce voids.

本発明に用いる第1の不活性粒子(以下、不活性粒子Aと呼ぶことがある。)の平均粒径は0.3〜0.8μmの範囲であり、さらに好ましくは0.4〜0.6μmの範囲である。平均粒径が0.3μm未満では、フィルムの滑り性が十分でなく、フィルムに金属蒸着する際にフィルム切れの原因となる。また0.8μmを超えるとコンデンサに加工した際に、層間密着力が得られずフィルムめくれが発生してしまう。第2の不活性粒子(以下、不活性粒子Bと呼ぶことがある。)は、不活性粒子Aよりも平均粒径の大きな粒子からなり、平均粒径は1.0〜1.5μmの範囲が好ましく、さらには1.0〜1.2μmの範囲が好ましい。不活性粒子Bが1.0μm未満であると、フィルムロールとする際に十分な滑り性が得られず、シワや帯電欠点が発生する。また、1.2μmを超えると粒子に隣接してできるボイドが大きくなるため、粒子脱落の増加や絶縁欠陥の増加となりやすい。   The average particle size of the first inert particles (hereinafter sometimes referred to as inert particles A) used in the present invention is in the range of 0.3 to 0.8 μm, more preferably 0.4 to 0.00. The range is 6 μm. If the average particle size is less than 0.3 μm, the slipperiness of the film is not sufficient, which causes film breakage when metal is deposited on the film. On the other hand, when the thickness exceeds 0.8 μm, the interlayer adhesion cannot be obtained and the film is turned over when processed into a capacitor. The second inactive particles (hereinafter sometimes referred to as inactive particles B) are composed of particles having an average particle size larger than that of the inactive particles A, and the average particle size is in the range of 1.0 to 1.5 μm. Is more preferable, and the range of 1.0 to 1.2 μm is more preferable. When the inert particle B is less than 1.0 μm, sufficient slipperiness cannot be obtained when forming a film roll, and wrinkles and charging defects are generated. On the other hand, when the thickness exceeds 1.2 μm, voids formed adjacent to the particles become large, so that the dropout of particles and the increase of insulation defects are likely to occur.

本発明において、かかる不活性微粒子の添加量は、不活性微粒子Aが0.4〜0.8重量%、好ましくは0.5〜0.7重量%である。不活性微粒子Aの添加量が0.4重量%未満では、フィルムの滑り性が十分でなく、0.8重量%を超えると該微粒子の周囲にできるボイドの増加や不活性微粒子自身の電気抵抗が低いためにフィルムの絶縁耐圧が低下する。また、不活性微粒子Bの添加量は0.05〜0.3重量%、好ましくは0.1〜0.2重量%である。不活性微粒子Bの添加量が0.05重量%未満では良好な滑り性が得られず、0.3重量%を超えるとやはりボイド増加のおそれがある。   In the present invention, the inert fine particles A are added in an amount of 0.4 to 0.8% by weight, preferably 0.5 to 0.7% by weight. If the addition amount of the inert fine particles A is less than 0.4% by weight, the slipperiness of the film is not sufficient, and if it exceeds 0.8% by weight, the voids formed around the fine particles and the electrical resistance of the inert fine particles themselves are increased. Is low, the dielectric strength of the film is reduced. The addition amount of the inert fine particles B is 0.05 to 0.3% by weight, preferably 0.1 to 0.2% by weight. If the added amount of the inert fine particles B is less than 0.05% by weight, good slipperiness cannot be obtained, and if it exceeds 0.3% by weight, there is a risk of increasing voids.

本発明では、上記の範囲を満たす粒子を用いることが必要であるが、不活性粒子A、Bともに球状シリカを用いることが、コンデンサ用フィルムの耐電圧、コンデンサを製造する際のフィルム走行時の蛇行抑制から、特に望ましい。   In the present invention, it is necessary to use particles satisfying the above range, but it is necessary to use spherical silica for both the inert particles A and B. This is particularly desirable from the viewpoint of meandering suppression.

本発明におけるフィルムロールは、コンデンサの生産性の観点から、幅は300〜1400mm、長さは4000〜40000mであることが望ましい。また、ロール表層硬度は、85〜95度、好ましくは88〜92度である。85度未満では真空蒸着時の巻きズレが発生し易く、95度を超えるとブロッキングが起こり、フィルム切れの原因となる。   The film roll in the present invention preferably has a width of 300 to 1400 mm and a length of 4000 to 40000 m from the viewpoint of capacitor productivity. The roll surface layer hardness is 85 to 95 degrees, preferably 88 to 92 degrees. If it is less than 85 degrees, winding deviation at the time of vacuum deposition is likely to occur, and if it exceeds 95 degrees, blocking occurs, causing film breakage.

本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールは、フィルム厚みが10μm以下のポリフェニレンスルフィドフィルムからなるロールであって、エアかみ指数X[%]が式1、式2で表されるコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールである。
(式1) (−2.5×10−4×L)+22<X<(−2.5×10−4×L)+32
(式2) (−3.44×10−2×D)+26<X<(−3.44×10−2×D)+36
L:フィルム長さ[m]
D:フィルムロール直径[mm]
式1、式2ともに実験的に得られた関係式であるが、本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールが式1、式2をともに満足することにより、フィルム層間のエア抜け性が改善され、積層フィルムコンデンサを製造する際のフィルム走行時の蛇行が抑制され、積層精度が良く、コンデンサ加工収率を改善することが判った。エアかみ指数Xはフィルム長さLとの間に、(−2.5×10−4×L)+22<X<(−2.5×10−4×L)+32で表されることが必要であるが、好ましくは(−2.5×10−4×L)+22<X<(−2.5×10−4×L)+26である。ここで、X≦(−2.5×10−4×L)+22であると、フィルム層間のエア抜け性が悪いため、フィルムとフィルムあるいはフィルムとロール間にエアが巻き込まれ、コンデンサ製造時にフィルムが走行蛇行を起こし、フィルムが積層された際に積層ズレとなり、コンデンサの加工収率が著しく低下する。また、X≧(−2.5×10−4×L)+32であると、フィルムロール間のかみ込みエア量が多くなりすぎてしまい、フィルムに蒸着を行う際の真空排気時に、フィルムズレが起こり易くなる。
The polyphenylene sulfide film roll for a capacitor of the present invention is a roll made of a polyphenylene sulfide film having a film thickness of 10 μm or less, and the air pocket index X [%] is represented by the formulas 1 and 2 as follows. It is.
(Formula 1) (−2.5 × 10 −4 × L) +22 <X <(− 2.5 × 10 −4 × L) +32
(Formula 2) (−3.44 × 10 −2 × D) +26 <X <(− 3.44 × 10 −2 × D) +36
L: Film length [m]
D: Film roll diameter [mm]
Both formulas 1 and 2 are experimentally obtained relational expressions, but when the polyphenylene sulfide film roll for capacitors of the present invention satisfies both formulas 1 and 2, the air release between the film layers is improved, It has been found that meandering during film travel during production of a laminated film capacitor is suppressed, the lamination accuracy is good, and the capacitor processing yield is improved. The air bit index X needs to be expressed by (−2.5 × 10 −4 × L) +22 <X <(− 2.5 × 10 −4 × L) +32 with the film length L. However, (−2.5 × 10 −4 × L) +22 <X <(− 2.5 × 10 −4 × L) +26 is preferable. Here, when X ≦ (−2.5 × 10 −4 × L) +22, air is not easily released between the film layers, so air is caught between the film and the film or the film and the roll. Causes running meandering and laminating when the films are laminated, and the processing yield of the capacitor is significantly reduced. Further, if X ≧ (−2.5 × 10 −4 × L) +32, the amount of air trapped between the film rolls becomes too large, and film displacement may occur at the time of vacuum evacuation when performing vapor deposition on the film. It tends to happen.

また、エアかみ指数Xとフィルムロール径Dとの間は、(−3.44×10−2×D)+26<X<(−3.44×10−2×D)+36である必要がある。好ましくは(−3.44×10−2×D)+26<X<(−3.44×10−2×D)+30である。X≦(−3.44×10−2×D)+26であると、式1の場合と同様に、コンデンサ製造時にフィルムが走行蛇行を起こし、積層コンデンサとしての積層精度が悪化し、コンデンサの加工収率が著しく低下する。また、X≧(−3.44×10−2×D)+36の場合も、真空蒸着時のフィルムズレを引き起こし易くなる。
本発明のフィルム表面の表面粗さパラメータSRaは30〜80nm、好ましくは40〜60nmである。SRaが30nm未満では、フィルムの滑り性が十分でなく、フィルムに金属蒸着する際にフィルム切れの原因となる。SRaが80nmを超えると、コンデンサに加工した際に、層間密着力が得られずフィルムめくれが発生してしまう。
Further, the distance between the air bit index X and the film roll diameter D needs to be (−3.44 × 10 −2 × D) +26 <X <(− 3.44 × 10 −2 × D) +36. . Preferably, (−3.44 × 10 −2 × D) +26 <X <(− 3.44 × 10 −2 × D) +30. When X ≦ (−3.44 × 10 −2 × D) +26, as in the case of Equation 1, the film causes a meandering during the production of the capacitor, the lamination accuracy as a multilayer capacitor deteriorates, and the capacitor is processed. The yield is significantly reduced. Moreover, also when X ≧ (−3.44 × 10 −2 × D) +36, it is easy to cause a film shift at the time of vacuum deposition.
The surface roughness parameter SRa of the film surface of the present invention is 30 to 80 nm, preferably 40 to 60 nm. If SRa is less than 30 nm, the slipperiness of the film is not sufficient, and this causes film breakage when metal is deposited on the film. If SRa exceeds 80 nm, the interlayer adhesion cannot be obtained and the film is turned over when processed into a capacitor.

さらに、本発明のフィルム表面の表面粗さパラメータSRmaxは1000〜1300nm、好ましくは1000〜1200nmである。SRmaxが1000nm未満であると、フィルムロールとする際に十分な滑り性が得られず、シワや帯電欠点が発生する。また、1300nmを超えるとコンデンサ加工時のシワ欠点による耐電圧低下となり、好ましくない。   Furthermore, the surface roughness parameter SRmax on the film surface of the present invention is 1000 to 1300 nm, preferably 1000 to 1200 nm. When SRmax is less than 1000 nm, sufficient slipperiness cannot be obtained when forming a film roll, and wrinkles and charging defects occur. On the other hand, if it exceeds 1300 nm, the withstand voltage is lowered due to a wrinkle defect during processing of the capacitor, which is not preferable.

次に、本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールおよび該フィルムロールを用いたコンデンサの好ましい製造方法の例を説明する。ただし、本発明の製造方法はこの方法に限定されるものではない。   Next, an example of a preferable method for producing a capacitor using the polyphenylene sulfide film roll for capacitors of the present invention and the film roll will be described. However, the production method of the present invention is not limited to this method.

まず、ポリフェニレンスルフィドフィルムの製造方法について述べる。
ポリフェニレンスルフィドの重合方法としては、硫化アルカリとp−ジハロベンゼンを極性溶媒中で高温に反応させる方法を用いる。特に、硫化ナトリウムとジクロロベンゼン(好ましくはp−ジクロロベンゼン)をN−メチル−2−ピロリドン等のアミド系極性溶媒中で反応させるのが好ましい。この場合、重合度を調節するために、苛性アルカリ、カルボン酸アルカリ金属塩等のいわゆる重合助剤を添加して230〜280℃で反応させるのが最も好ましい。重合系内の圧力および重合時間は、使用する助剤の種類や量をおよび所望する重合度などによって適宜決定される。重合を終わったポリマーを例えばN−メチルピロリドンのようなポリフェニレンスルフィドと親和性のある溶媒で高温洗浄した後に水洗、乾燥することでポリフェニレンスルフィド粉末が得られる。不活性粒子は、これらの任意の段階で、いかなる添加方法によっても添加することができるが、液体に分散された不活性粒子を上記ポリフェニレンスルフィド粉末に混合して、ヘンシェルミキサのような高速撹拌手段により均一に混合した後、得られた混合物を少なくとも、1段のベント孔を有する押出機に供給し、該押出機中でまず溶融混練後、ベント孔から該液体成分を除去し、適当な口金から押出して、不活性粒子が微分散されたポリフェニレンスルフィド組成物を得る方法が、粗大粒子の生成、混入を防ぐ点で好ましい。不活性粒子のスラリー化に用いる液体としては、沸点が180〜290℃のものが好ましく、180〜250℃が特に好ましい。具体的には、エチレングリコール、N−メチル−2−ピロリドンが好ましい。
First, a method for producing a polyphenylene sulfide film will be described.
As a polymerization method of polyphenylene sulfide, a method of reacting alkali sulfide and p-dihalobenzene at a high temperature in a polar solvent is used. In particular, sodium sulfide and dichlorobenzene (preferably p-dichlorobenzene) are preferably reacted in an amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone. In this case, in order to adjust the degree of polymerization, it is most preferable to add a so-called polymerization aid such as caustic alkali or alkali metal carboxylate and react at 230 to 280 ° C. The pressure in the polymerization system and the polymerization time are appropriately determined depending on the type and amount of the auxiliary agent used and the desired degree of polymerization. The polymer after the polymerization is washed at a high temperature with a solvent having affinity for polyphenylene sulfide, such as N-methylpyrrolidone, and then washed with water and dried to obtain a polyphenylene sulfide powder. The inert particles can be added at any stage by any addition method. However, the inert particles dispersed in the liquid are mixed with the polyphenylene sulfide powder, and a high-speed stirring means such as a Henschel mixer is used. After the mixture is uniformly mixed, the obtained mixture is supplied to an extruder having at least one stage of vent holes, and after melt-kneading in the extruder, the liquid component is removed from the vent holes, and an appropriate base is obtained. A method of obtaining a polyphenylene sulfide composition in which inert particles are finely dispersed by extrusion from the viewpoint of preventing generation and mixing of coarse particles is preferable. The liquid used for slurrying the inert particles preferably has a boiling point of 180 to 290 ° C, particularly preferably 180 to 250 ° C. Specifically, ethylene glycol and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.

このようにして得られた不活性粒子を含むポリフェニレンスルフィド組成物は、そのままあるいは粒子を含有しないプレーンペレットと混合して、二軸延伸することができる。不活性粒子が分散されたポリフェニレンスルフィド組成物ペレットそのまま、あるいは不活性粒子を含まないポリフェニレンスルフィド組成物からなるプレーンペレットを混合して、押出機に供給して溶融し、口金から吐出する。   The polyphenylene sulfide composition containing the inert particles thus obtained can be biaxially stretched as it is or mixed with plain pellets containing no particles. The polyphenylene sulfide composition pellets in which inert particles are dispersed are mixed as they are or plain pellets made of a polyphenylene sulfide composition not containing inert particles are mixed, supplied to an extruder, melted, and discharged from a die.

口金から吐出された溶融樹脂は、表面温度20〜30℃、直径800〜2000mmの冷却ドラム上で静電印加を用いて冷却固化されるが、本発明に係るコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールにおいて必要とされるフィルム厚み10μm以下の薄物フィルムにおいては、冷却ドラム上で水膜を形成し、密着力を高めることにより、高速製膜をはかる方法を用いることが必要である。本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールにおいては、フィルムの厚みムラを極力低減させることが必要であり、そのために必要な冷却ドラム上での水膜厚みを検討した結果、水膜の厚みは、0.5〜2.0μm以下、好ましくは0.8〜1.5μmがよいことを見出した。   The molten resin discharged from the die is cooled and solidified using electrostatic application on a cooling drum having a surface temperature of 20 to 30 ° C. and a diameter of 800 to 2000 mm, but is necessary in the polyphenylene sulfide film roll for capacitors according to the present invention. In a thin film having a film thickness of 10 μm or less, it is necessary to use a method for forming a high-speed film by forming a water film on a cooling drum and increasing the adhesion. In the polyphenylene sulfide film roll for capacitors of the present invention, it is necessary to reduce the film thickness unevenness as much as possible, and as a result of examining the water film thickness on the cooling drum required for that purpose, the water film thickness is 0. It has been found that the thickness is preferably 5 to 2.0 μm or less, preferably 0.8 to 1.5 μm.

次いで、この未延伸フィルムを長手方向並びに長手方向と直交方向に延伸する。本発明のエアかみ指数、フィルム表面粗さを達成するために、長手方向の延伸条件が非常に重要であり、最適な延伸条件においてのみ本発明の効果を達成できる。長手方向の延伸条件は、駆動ロール間に表面温度が90℃以上120℃未満の複数本のフリーロール群に巻き付け、延伸区間を50mm〜500mm、好ましくは200mm〜300mmとなるようにフリーロールの本数を調整し、長手方向に3〜5倍に延伸し一軸延伸フィルムとする。
次に、90〜130℃のテンター内で長手直交方向に2〜4倍延伸して二軸延伸フィルムとし、引き続きテンター内で200℃以上融点以下の温度範囲で2〜60秒間定長熱処理し、必要に応じて引き続き200℃以上融点以下の温度範囲で制限収縮させてポリフェニレンスルフィドフィルムを巻き取る。
Next, the unstretched film is stretched in the longitudinal direction and in the direction orthogonal to the longitudinal direction. In order to achieve the air bit index and film surface roughness of the present invention, the stretching conditions in the longitudinal direction are very important, and the effects of the present invention can be achieved only under the optimal stretching conditions. The stretching condition in the longitudinal direction is the number of free rolls wound around a plurality of free roll groups having a surface temperature of 90 ° C. or more and less than 120 ° C. between driving rolls, and the stretching section is 50 mm to 500 mm, preferably 200 mm to 300 mm. And is stretched 3 to 5 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film.
Next, a biaxially stretched film is stretched 2 to 4 times in the longitudinal direction in a 90 to 130 ° C. tenter, followed by a constant length heat treatment for 2 to 60 seconds in a temperature range of 200 ° C. or higher and a melting point or lower in the tenter, If necessary, the polyphenylene sulfide film is wound up after being subjected to limited shrinkage in a temperature range of 200 ° C. or higher and a melting point or lower.

巻き取られたポリフェニレンスルフィドフィルムを所定の幅、長さにスリットし、円筒状のコアに巻き付ける。このとき、本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロールにおいて、エアかみ指数をコントロールするために、スリット条件が極めて重要になる。巻き取られたポリフェニレンスルフィドフィルムロームのスリット条件は、巻き取り時の張力が0.5〜10.0kg/m、巻き取り時の面圧が5〜60kg/m、スリット速度50〜250m/minであることが好ましい。また、面圧付与方法としてコンタクトロール方式が望ましく、本発明のエアかみ指数を達成するためには、コンタクトロールとして金属メッキロールを用いることが好ましい。   The wound polyphenylene sulfide film is slit to a predetermined width and length and wound around a cylindrical core. At this time, in the polyphenylene sulfide film roll for a capacitor of the present invention, the slit condition is extremely important for controlling the air bit index. The slit conditions of the wound polyphenylene sulfide film loom are as follows: the tension during winding is 0.5 to 10.0 kg / m, the surface pressure during winding is 5 to 60 kg / m, and the slit speed is 50 to 250 m / min. Preferably there is. Further, a contact roll method is desirable as the surface pressure applying method, and it is preferable to use a metal plating roll as the contact roll in order to achieve the air contact index of the present invention.

次に、本発明のコンデンサの好ましい製造方法の例について述べる。
コンデンサの内部電極としては、金属箔が用いられる場合は金属箔と本発明のフィルムを箔はみだし巻回法や巻回途中でタブを挿入する方法などによって交互に重ね合わせて巻き取るなどして誘電体と電極を交互に重ね合わせ、かつ外部に電極が引き出せるような構造となるように巻回してコンデンサ素子あるいはコンデンサ母素子を得る。
Next, an example of a preferable method for manufacturing the capacitor of the present invention will be described.
As the internal electrode of the capacitor, when a metal foil is used, the dielectric of the metal foil and the film of the present invention is alternately overlapped and wound by a method such as winding a foil or inserting a tab in the middle of winding. A capacitor element or a capacitor mother element is obtained by alternately stacking a body and an electrode and winding the electrode so that the electrode can be drawn to the outside.

また、コンデンサの内部電極として金属薄膜が用いられる場合は、まず上述した本発明のフィルムを金属化する。金属化の方法は蒸着による方法が好ましい。蒸着する金属はアルミニウムを主たる成分とする金属が好ましい。金属化する際、予め金属化する側のフィルム表面にコロナ放電処理、プラズマ処理などの処理を施し、金属薄膜とフィルムとの密着力を向上させることもできる。金属化する際、あるいは金属化後に対向電極が短絡しないようにテープマスク、オイルマージンあるいはレーザービーム等により非金属部分(いわゆるマージン)を設けることもできる。その後、一方の端にマージン部分がくるように細幅のテープ状にスリットすることもある。   When a metal thin film is used as the internal electrode of the capacitor, the above-described film of the present invention is first metallized. The metallization method is preferably a vapor deposition method. The metal to be deposited is preferably a metal mainly composed of aluminum. When metallizing, the film surface on the side to be metallized in advance can be subjected to treatment such as corona discharge treatment or plasma treatment to improve the adhesion between the metal thin film and the film. A non-metal portion (so-called margin) may be provided by a tape mask, an oil margin, a laser beam, or the like so that the counter electrode is not short-circuited during or after metallization. After that, the tape may be slit into a narrow tape shape so that a margin part comes to one end.

次にコンデンサ素子を製造する。積層型コンデンサの場合は、ドラムあるいは平板に巻回した母素子を熱処理する、あるいはリング等で締め付ける、あるいは平行平板等でプレスするなどフィルムの厚さ方向に圧力を加えて成形する。その際の温度範囲は常温からフィルムの融点以下である。この後、外部電極の取り付け工程(金属溶射、導電性樹脂等による)、個々の素子切り出し工程、必要なら樹脂または油含浸工程を経てコンデンサを得ることができる。   Next, a capacitor element is manufactured. In the case of a multilayer capacitor, the mother element wound around a drum or a flat plate is heat-treated, fastened with a ring or the like, or pressed with a parallel flat plate or the like, and is formed by applying pressure in the thickness direction of the film. The temperature range in that case is from normal temperature to below the melting point of the film. Thereafter, the capacitor can be obtained through an external electrode attaching step (by metal spraying, conductive resin, etc.), individual element cutting steps, and if necessary, a resin or oil impregnation step.

[物性の測定方法]
1.フィルム厚み
まず、フィルム製品ロールの重量を測定する。次いで校正した巻き尺でフィルム幅を、フィルムを巻き出して長さを測定する。さらにコアの重量を測定する。フィルム重量はフィルム製品ロールの重量からコアの重量を差し引いた値を用いる。密度はロール表層からフィルムをサンプリングし、臭化リチウム/水からなる無機塩水溶液25℃での密度勾配管により測定した。下記計算式よりフィルム厚みを求める。
T=フィルム重量/(フィルム幅×フィルム長さ×密度)
T:フィルム厚み[μm]。
[Measurement method of physical properties]
1. Film thickness First, the weight of the film product roll is measured. Next, the film width is measured with the calibrated tape measure, and the length is measured by unwinding the film. Further, the core weight is measured. The film weight is obtained by subtracting the core weight from the film product roll weight. The density was measured by sampling the film from the roll surface layer and using a density gradient tube at 25 ° C. of an aqueous inorganic salt solution composed of lithium bromide / water. The film thickness is obtained from the following formula.
T = film weight / (film width × film length × density)
T: Film thickness [μm].

2.エアかみ指数
ポリフェニレンスルフィドフィルムロールの外周長さをロール幅方向の中心位置で巻き尺を用いて測定し、外周より直径を求める。フィルム厚み、フィルム長さは上記1の方法で測定する。エアかみ指数は下記の式で表される。
X=(100π(D−D )/4TL)−100
X:エアかみ指数[%]
D:フィルムロール直径[mm]
:コア直径[mm]
T:フィルム厚み[μm]
L:フィルム長さ[m]。
2. The outer peripheral length of the air bit index polyphenylene sulfide film roll is measured using a tape measure at the center position in the roll width direction, and the diameter is determined from the outer periphery. The film thickness and film length are measured by the above method 1. The air bit index is expressed by the following formula.
X = (100π (D 2 −D 0 2 ) / 4TL) −100
X: Air contact index [%]
D: Film roll diameter [mm]
D 0 : Core diameter [mm]
T: Film thickness [μm]
L: Film length [m].

3.フィルムの表面粗さ(中心面平均粗さSRa,最大高さSRmax)
ポリフェニレンスルフィドフィルムロールの表層からサンプリングし、小坂研究所製触針式微細形状測定機ET−4000AKを用い、以下の条件で3回測定し、その平均値を求めた。
測定方向:フィルム長手方向と直行方向
送り方向:フィルム長手方向
触針先端径:2[μm]
触針加重:20[μN]
測定長:0.5[mm]
測定ピッチ:1[μm]
送りピッチ:5[μm]
測定本数:100[本]
低域カットオフ値:0.25[mm]
上記の条件で、粗さ曲面f(x,y)が得られたとき、SRaは下記の式で表される。
3. Film surface roughness (central surface average roughness SRa, maximum height SRmax)
It sampled from the surface layer of the polyphenylene sulfide film roll, measured 3 times on the following conditions using the stylus type fine shape measuring machine ET-4000AK made from a Kosaka laboratory, and calculated | required the average value.
Measurement direction: Film longitudinal direction and perpendicular direction Feed direction: Film longitudinal direction stylus tip diameter: 2 [μm]
Stylus load: 20 [μN]
Measurement length: 0.5 [mm]
Measurement pitch: 1 [μm]
Feed pitch: 5 [μm]
Number of measurement: 100 [pieces]
Low frequency cut-off value: 0.25 [mm]
When the roughness curved surface f (x, y) is obtained under the above conditions, SRa is expressed by the following equation.

Figure 2009035575
Figure 2009035575

lx:測定長[mm]
ly:送りピッチ[μm]×測定本数[本]
S:lx×ly
上記測定範囲の最大の山と最深の谷を平均面と平行な2面で挟み、その間隔を最大高さSRmaxとする。
lx: Measurement length [mm]
ly: Feed pitch [μm] x number of measurement [lines]
S: lx x ly
The maximum peak and the deepest valley of the measurement range are sandwiched between two planes parallel to the average plane, and the interval is defined as the maximum height SRmax.

4.不活性粒子の平均粒径
ポリフェニレンスルフィドフィルムロールの表層からサンプリングし、走査型電子顕微鏡の試料台に固定した測定フィルム表面を、スパッタリング装置を用いて真空度10−3Torr、電圧0.25KV、電流12.5mAの条件にて10分間、イオンエッチング処理を施す。次に、同装置にて該表面に金スパッタを施し、走査型電子顕微鏡にて10000〜30000倍の写真を撮影する。平均粒径dは、上記写真から100個以上n個の粒子の面積円相当径diを求め、下記式により求める。ここで面積円相当径diは個々の外接円の直径である。
4). The average particle diameter of the inert particles Sampled from the surface layer of the polyphenylene sulfide film roll, and fixed to the sample stage of the scanning electron microscope, the surface of the measurement film was measured using a sputtering apparatus with a degree of vacuum of 10 −3 Torr, a voltage of 0.25 KV, and an electric current. Ion etching treatment is performed for 10 minutes under the condition of 12.5 mA. Next, the surface is sputtered with gold using the same apparatus, and photographs of 10,000 to 30,000 times are taken with a scanning electron microscope. The average particle diameter d is determined from the above formula by obtaining the area circle equivalent diameter di of 100 or more particles and n particles. Here, the area circle equivalent diameter di is the diameter of each circumscribed circle.

Figure 2009035575
Figure 2009035575

d:平均粒径[μm]
di:面積円相当径[μm]
n:測定粒子個数[個]
5.不活性粒子の添加量
ポリフェニレンスルフィドフィルムロールの表層からサンプリングし、測定フィルムをα−クロロナフタレンに溶解し、熱時に濾過を行って粒子を分離し、フィルム全重量に対する比率(重量%)で表す。また、必要に応じて赤外分光法、蛍光X線法、SEM−XMAを利用して定量することもできる。
d: Average particle diameter [μm]
di: equivalent area circle diameter [μm]
n: Number of measured particles [pieces]
5). The amount of inert particles added Sampled from the surface layer of the polyphenylene sulfide film roll, the measurement film was dissolved in α-chloronaphthalene, filtered while hot to separate the particles, and expressed as a ratio (% by weight) to the total film weight. Moreover, it can also quantify using infrared spectroscopy, a fluorescent X ray method, and SEM-XMA as needed.

6.水膜厚み
水膜厚みは,倉敷紡績株式会社製インキ厚・含水率計「RX−220」を用いて測定を行った。
6). Water Film Thickness The water film thickness was measured using an ink thickness / water content meter “RX-220” manufactured by Kurashiki Boseki Co., Ltd.

7.コンデンサ製造時の走行蛇行量
ポリフェニレンスルフィドフィルムロールの片面に、連続式真空蒸着装置を用い表面抵抗が2Ω/□となるようにアルミニウムを蒸着した(蒸着幅8mm、マージン幅1.0mm)。この蒸着フィルムを蒸着幅4mm、マージン幅0.5mmとなるようにスリットし、リールサンプル2組をマージン部分が外側になるように重ね、径300mmのドラムに30m巻き取り、これを20回積層した。巻回装置の途中に目盛りを取り付け、リールサンプル30mを20回積層する間のフィルム走行中の左右への最大振れ量を蛇行量とし、蛇行量が0.5mm未満であれば優◎、蛇行量が0.5〜1.0mmであれば良○、1.0mm以上であれば不良×とした。
7). Aluminum was vapor-deposited on one side of a polyphenylene sulfide film roll running at the time of capacitor production so as to have a surface resistance of 2Ω / □ using a continuous vacuum vapor deposition apparatus (evaporation width 8 mm, margin width 1.0 mm). This vapor deposition film was slit so that the vapor deposition width was 4 mm and the margin width was 0.5 mm, and two sets of reel samples were stacked so that the margin portion was on the outside, and wound 30 m around a drum having a diameter of 300 mm, and this was laminated 20 times. . A scale is attached in the middle of the winding device, and the maximum deflection to the left and right during film running during the stacking of the reel sample 30m 20 times is defined as the meandering amount. If it is 0.5 to 1.0 mm, it is judged as “good”, and if it is 1.0 mm or more, it is judged as “bad”.

8.コンデンサ加工収率
積層後、金属製のバンドをはめ、100Paの圧力で固定した後、200℃のオーブン中で1時間熱処理を行った。その後、リールの両端面にメタリコンを吹き付け、各層を取り外した。それを長さ5mmの大きさに裁断し、メタリコン部分にリード線を取り付けコンデンサを作成した。得られたコンデンサを目視により形状を確認し、シワやズレが発生したものを不合格とし、不合格となったものの数の製造数全体に対する割合を百分率で示し加工性の指標とした(以下、加工収率とする)。加工収率は高いほど好ましく、加工収率が95%以上を優◎、85〜95%であれば良○、85%未満であれば不良×とした。
8). After the capacitor processing yield was stacked, a metal band was fitted and fixed at a pressure of 100 Pa, and then heat-treated in an oven at 200 ° C. for 1 hour. Thereafter, metallicon was sprayed on both end faces of the reel, and each layer was removed. It was cut into a size of 5 mm in length, and a lead wire was attached to the metallicon part to produce a capacitor. The shape of the obtained capacitor was confirmed by visual inspection, and those with wrinkles and deviations were rejected, and the ratio of the number of rejected products to the total number of production was expressed as a percentage as a workability index (hereinafter, Processing yield). The higher the processing yield, the better. The processing yield of 95% or more is excellent. If the processing yield is 85 to 95%, the result is good.

以下に、本発明をより理解しやすくするために実施例、比較例を示す。 In order to make the present invention easier to understand, examples and comparative examples are shown below.

(実施例1)
(1)ポリフェニレンスルフィドの作製
50Lオートクレーブ(SUS316製)に水硫化ナトリウム(NaSH)56.25モル、水酸化ナトリウム54.8モル、酢酸ナトリウム16モル、およびN−メチル−2−ピロリドン(NMP)170モルを仕込む。次に、窒素ガス気流下に攪拌しながら内温を220℃まで昇温させ脱水を行った。脱水終了後、系を170℃まで冷却した後、55モルのp−ジクロロベンゼン(p−DCB)と0.055モルの1,2,4−トリクロロベンゼン(TCB)を2.5LのNMPとともに添加し、窒素気流下に系を2.0kg/cmまで加圧封入した。235℃にて1時間、さらに270℃にて2〜5時間攪拌下にて加熱後、系を室温まで冷却、得られたポリマーのスラリーを水200モル中に投入し、70℃で30分間攪拌後、ポリマーを分離する。このポリマーをさらに約70℃のイオン交換水(ポリマー重量の9倍)で攪拌しながら5回洗浄後、約70℃の酢酸リチウムの5重量%水溶液にて窒素気流下にて約1時間攪拌した。さらに、約70℃のイオン交換水で3回洗浄後、分離し、120℃、0.8〜1.0torrの雰囲気下で20時間乾燥することによって白色のポリフェニレンスルフィド粉末が得られた。
次に、このポリフェニレンスルフィド粉末を市販の窒素ガス雰囲気下20〜90℃のNMP(ポリフェニレンスルフィドポリマー重量の3倍量)にて5分間〜1時間の攪拌処理を1〜5回行った。このポリフェニレンスルフィド粉末をさらに約70℃のイオン交換水で4回洗浄した後分離し、上記のようにして乾燥することによって白色のポリフェニレンスルフィド粉末を得た。このポリフェニレンスルフィド粉末の300℃における溶融粘度は5000ポイズであった。
Example 1
(1) Preparation of polyphenylene sulfide A 50 L autoclave (manufactured by SUS316) was mixed with sodium hydrosulfide (NaSH) 56.25 mol, sodium hydroxide 54.8 mol, sodium acetate 16 mol, and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) 170. Charge the mole. Next, dehydration was performed by raising the internal temperature to 220 ° C. while stirring under a nitrogen gas stream. After dehydration, the system was cooled to 170 ° C., and 55 mol of p-dichlorobenzene (p-DCB) and 0.055 mol of 1,2,4-trichlorobenzene (TCB) were added together with 2.5 L of NMP. Then, the system was pressurized and sealed to 2.0 kg / cm 2 under a nitrogen stream. After heating at 235 ° C. for 1 hour and further at 270 ° C. for 2 to 5 hours with stirring, the system was cooled to room temperature, and the resulting polymer slurry was poured into 200 mol of water and stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the polymer is separated. The polymer was further washed five times with stirring at about 70 ° C. ion-exchanged water (9 times the polymer weight), and then stirred for about 1 hour under a nitrogen stream with a 5% by weight aqueous solution of lithium acetate at about 70 ° C. . Further, after washing with ion-exchanged water at about 70 ° C. three times, it was separated and dried under an atmosphere of 120 ° C. and 0.8 to 1.0 torr for 20 hours to obtain white polyphenylene sulfide powder.
Next, this polyphenylene sulfide powder was stirred 1 to 5 times for 5 minutes to 1 hour in NMP (3 times the weight of polyphenylene sulfide polymer) at 20 to 90 ° C. in a commercially available nitrogen gas atmosphere. This polyphenylene sulfide powder was further washed four times with ion-exchanged water at about 70 ° C. and then separated and dried as described above to obtain a white polyphenylene sulfide powder. The melt viscosity at 300 ° C. of this polyphenylene sulfide powder was 5000 poise.

(2)ペレットの作製
平均粒径0.6μmの球状シリカ(不活性粒子A)をエチレングリコール中に40重量%微分散させたスラリーを調製した。このスラリーを上述のポリフェニレンスルフィド粉末にヘンシェルミキサを用いてシリカが6.0重量%となるよう混合した。次いで、2個所のベント孔を有する2軸押出機に供給し、溶融混練と同時にベント孔よりエチレングリコールを除去し、ガット状に押出し、水中で冷却後切断して粒子ペレットとした。
平均粒径1.0μmの球状シリカ(不活性粒子B)をエチレングリコール中に40重量%微分散させたスラリーを調製した。このスラリーを上述のポリフェニレンスルフィド粉末にヘンシェルミキサを用いてシリカが1.0重量%となるよう混合した。次いで、2個所のベント孔を有する2軸押出機に供給し、溶融混練と同時にベント孔よりエチレングリコールを除去し、ガット状に押出し、水中で冷却後切断して粒子ペレットとした。
また、ポリフェニレンスルフィド粉末のみを上記同様に溶融押出し、無粒子ペレットとした。
(2) Preparation of pellets A slurry was prepared in which spherical silica (inert particles A) having an average particle diameter of 0.6 μm was finely dispersed in ethylene glycol by 40% by weight. This slurry was mixed with the above polyphenylene sulfide powder using a Henschel mixer so that the silica content was 6.0 wt%. Next, the mixture was supplied to a twin screw extruder having two vent holes, and ethylene glycol was removed from the vent holes simultaneously with melt kneading, extruded into a gut shape, cooled in water, and then cut into particle pellets.
A slurry was prepared by finely dispersing 40% by weight of spherical silica (inert particles B) having an average particle diameter of 1.0 μm in ethylene glycol. This slurry was mixed with the above polyphenylene sulfide powder using a Henschel mixer so that the silica content was 1.0 wt%. Next, the mixture was supplied to a twin screw extruder having two vent holes, and ethylene glycol was removed from the vent holes simultaneously with melt kneading, extruded into a gut shape, cooled in water, and then cut into particle pellets.
Further, only the polyphenylene sulfide powder was melt-extruded in the same manner as described above to obtain particle-free pellets.

(ポリフェニレンスルフィドフィルムロールの作製)
上記の粒子ペレット2種類と無粒子ペレットを平均粒径0.6μmの球状シリカが0.6重量%、平均粒径1.0μmの球状シリカが0.2重量%となるよう混合し、180℃、0.5kPaの減圧下で15時間乾燥した後、押出機に供給し溶融温度330℃で押出し、口金から吐出させた。吐出したポリマーを、表面温度25℃で1.0μmの膜厚の水が均一に塗布された冷却ドラム(ドラム径1000mm)上に、静電印可させながら冷却・固化し、厚み約25μmの未延伸フィルムを得た。
(Preparation of polyphenylene sulfide film roll)
Two types of the above particle pellets and non-particle pellets are mixed so that spherical silica having an average particle diameter of 0.6 μm is 0.6% by weight and spherical silica having an average particle diameter of 1.0 μm is 0.2% by weight, and 180 ° C. , Dried for 15 hours under reduced pressure of 0.5 kPa, then supplied to an extruder, extruded at a melting temperature of 330 ° C., and discharged from a die. The discharged polymer is cooled and solidified while being electrostatically applied onto a cooling drum (drum diameter 1000 mm) on which water having a thickness of 1.0 μm is uniformly applied at a surface temperature of 25 ° C., and is unstretched with a thickness of about 25 μm. A film was obtained.

得られた未延伸フィルムを表面温度95℃の複数のフリーロールに巻きつけ、延伸区間が250mmとなるようにし、フィルムの長手方向に3.5倍に延伸した。次いで、テンターで100℃の熱風が循環する室内でフィルムの長手と直行方向に3.5倍延伸し、引き続いて260℃の熱風が循環する室内で10秒間定長熱処理して厚さ約2μmのポリフェニレンスルフィドフィルムを得た。   The obtained unstretched film was wound around a plurality of free rolls having a surface temperature of 95 ° C. so that the stretched section was 250 mm and stretched 3.5 times in the longitudinal direction of the film. Next, the film is stretched 3.5 times in the longitudinal and orthogonal directions of the film in a room where hot air of 100 ° C. circulates in a tenter, and then subjected to constant length heat treatment for 10 seconds in a room where hot air of 260 ° C. circulates to a thickness of about 2 μm A polyphenylene sulfide film was obtained.

このフィルムを、速度130m/min、巻出張力2.5kg/m、巻取張力3.0kg/m、面圧35kg/m、コンタクトロールとして金属コンタクトロールを用いる条件でスリットし、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.00μm、フィルム長さ:12250m、フィルムロール径:256mm、エアかみ指数:20.7%、SRa:49nm、SRmax:1132nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、走行蛇行量0.2mm、コンデンサ加工収率98%であり、ともに良好な結果となった。
This film was slit under the conditions of a speed of 130 m / min, unwinding tension of 2.5 kg / m, winding tension of 3.0 kg / m, surface pressure of 35 kg / m, using a metal contact roll as a contact roll, and a polyphenylene sulfide film roll Got.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.00 μm, film length: 12250 m, film roll diameter: 256 mm, air bit index: 20.7%, SRa: 49 nm, SRmax: 1132 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, running meandering The amount was 0.2 mm and the capacitor processing yield was 98%, both of which were good results.

(実施例2)
不活性粒子Aを球状炭酸カルシウムに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.01μm、フィルム長さ:4250m、フィルムロール径:203mm、エアかみ指数:23.0%、SRa:52nm、SRmax:1068nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、走行蛇行量0.4mm、コンデンサ加工収率96%であり、ともに良好な結果となった。
(Example 2)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the inert particles A were changed to spherical calcium carbonate.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.01 μm, film length: 4250 m, film roll diameter: 203 mm, air bite index: 23.0%, SRa: 52 nm, SRmax: 1068 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, running meandering The amount was 0.4 mm and the capacitor processing yield was 96%, both of which were good results.

(実施例3)
不活性粒子Bの添加量を0.3重量%に変更した以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.00μm、フィルム長さ:12250m、フィルムロール径:260mm、エアかみ指数:26.9%、SRa:64nm、SRmax:1260nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、走行蛇行量0.6mm、コンデンサ加工収率91%であり、ともに問題ない結果となった。
(Example 3)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the inert particles B was changed to 0.3% by weight.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.00 μm, film length: 12250 m, film roll diameter: 260 mm, air bite index: 26.9%, SRa: 64 nm, SRmax: 1260 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, running meandering The amount was 0.6 mm and the capacitor processing yield was 91%.

(比較例1)
不活性粒子Aの平均粒径を0.1μmに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.00μm、フィルム長さ:12250m、フィルムロール径:253mm、エアかみ指数:15.8%、SRa:28nm、SRmax:1027nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、フィルムロールのブロッキングにより、蒸着時フィルム切れを起こし、コンデンサ加工を行うことができなかった。
(Comparative Example 1)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the average particle diameter of the inert particles A was changed to 0.1 μm.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.00 μm, film length: 12250 m, film roll diameter: 253 mm, air bite index: 15.8%, SRa: 28 nm, SRmax: 1027 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, film roll Due to this blocking, the film was cut during vapor deposition, and the capacitor could not be processed.

(比較例2)
不活性粒子Aの添加量を1.0重量%に変更した以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.01μm、フィルム長さ:12250m、フィルムロール径:262mm、エアかみ指数:29.4%、SRa:83nm、SRmax:954nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、蒸着時に真空排気を行った際に、フィルムズレが発生し、コンデンサ加工を行うことができなかった。
(Comparative Example 2)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the inert particles A was changed to 1.0% by weight.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.01 μm, film length: 12250 m, film roll diameter: 262 mm, air bite index: 29.4%, SRa: 83 nm, SRmax: 954 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, When evacuation was performed, film displacement occurred and capacitor processing could not be performed.

(比較例3)
不活性粒子Bの平均粒径を2.0μmに変更した以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:1.96μm、フィルム長さ:12250m、フィルムロール径:252mm、エアかみ指数:16.5%、SRa:55nm、SRmax:1922nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、走行蛇行量0.9mmで問題ない結果であったが、コンデンサ加工時にシワが発生し、コンデンサ加工収率が82%と低い結果になった。
(Comparative Example 3)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the average particle diameter of the inert particles B was changed to 2.0 μm.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 1.96 μm, film length: 12250 m, film roll diameter: 252 mm, air bite index: 16.5%, SRa: 55 nm, SRmax: 1922 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, running meandering The amount of 0.9 mm was satisfactory, but wrinkles were generated during capacitor processing, and the capacitor processing yield was as low as 82%.

(比較例4)
不活性粒子Bの添加量を0.03重量%に変更した以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.00μm、フィルム長さ:8500m、フィルムロール径:236mm、エアかみ指数:28.2%、SRa:37nm、SRmax:983nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、走行蛇行量1.5mmと大きく、コンデンサ加工収率も76%と低い結果になった。
(Comparative Example 4)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the inert particles B was changed to 0.03% by weight.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.00 μm, film length: 8500 m, film roll diameter: 236 mm, air bit index: 28.2%, SRa: 37 nm, SRmax: 983 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, running meandering The amount was as large as 1.5 mm, and the capacitor processing yield was as low as 76%.

(比較例5)
不活性粒子Bを使用しないこと以外は実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.02μm、フィルム長さ:12250m、フィルムロール径:253mm、エアかみ指数:14.6%、SRa:43nm、SRmax:705nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、走行蛇行量1.2mmと大きく、コンデンサ加工収率も80%と低い結果になった。
(Comparative Example 5)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the inert particles B were not used.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.02 μm, film length: 12250 m, film roll diameter: 253 mm, air bite index: 14.6%, SRa: 43 nm, SRmax: 705 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, running meandering The amount was as large as 1.2 mm, and the capacitor processing yield was as low as 80%.

(比較例6)
実施例1と同様の原料を用い、未延伸フィルムの厚みを約150μmに調整して、約12μmのポリフェニレンスルフィドフィルムを得ることを試みたが、フィルム破断により、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得ることができなかった。
(Comparative Example 6)
An attempt was made to obtain a polyphenylene sulfide film of about 12 μm by adjusting the thickness of the unstretched film to about 150 μm using the same raw material as in Example 1, but a polyphenylene sulfide film roll can be obtained by film breakage. There wasn't.

(比較例7)
冷却ドラムへの水膜付与を行わないこと以外は、実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得た。
このポリフェニレンスルフィドフィルムロールの組成、製造条件、評価結果を表1、2に示す。フィルム厚み:2.05μm、フィルム長さ:6000m、フィルムロール径:221mm、エアかみ指数:32.4%、SRa:56nm、SRmax:1119nmであり、このポリフェニレンスルフィドフィルムロールを用いた結果、蒸着時に真空排気を行った際に、フィルムズレが発生し、コンデンサ加工を行うことができなかった。
(Comparative Example 7)
A polyphenylene sulfide film roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the water film was not applied to the cooling drum.
Tables 1 and 2 show the composition, production conditions, and evaluation results of this polyphenylene sulfide film roll. Film thickness: 2.05 μm, film length: 6000 m, film roll diameter: 221 mm, air bit index: 32.4%, SRa: 56 nm, SRmax: 1119 nm. As a result of using this polyphenylene sulfide film roll, When evacuation was performed, film displacement occurred and capacitor processing could not be performed.

(比較例8)
長手方向の延伸区間を40mmとした以外は、実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムを得ることを試みたが、フィルム破断により、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得ることができなかった。
(Comparative Example 8)
An attempt was made to obtain a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1 except that the lengthwise extending section was 40 mm, but a polyphenylene sulfide film roll could not be obtained due to film breakage.

(比較例9)
スリット時のコンタクトロールとしてゴムロールを用いた以外は、実施例1と同様にして、ポリフェニレンスルフィドフィルムを得ることを試みたが、スリット中にシワが発生し、ポリフェニレンスルフィドフィルムロールを得ることができなかった。
(Comparative Example 9)
Except for using a rubber roll as a contact roll at the time of slitting, an attempt was made to obtain a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1, but wrinkles were generated in the slit and a polyphenylene sulfide film roll could not be obtained. It was.

Figure 2009035575
Figure 2009035575

Figure 2009035575
Figure 2009035575

本発明のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムは、最近の小型電子機器用のチップコンデンサやハイブリッド自動車用のフィルムコンデンサ用などに好ましく用いられる。   The polyphenylene sulfide film for capacitors of the present invention is preferably used for chip capacitors for recent small electronic devices, film capacitors for hybrid vehicles, and the like.

Claims (2)

フィルム厚みが10μm以下のポリフェニレンスルフィドフィルムからなるロールであって、明細書中で定義するエアかみ指数X[%]が式1、式2を満足することを特徴とするコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロール。
(式1) (−2.5×10−4×L)+22<X<(−2.5×10−4×L)+32
(式2) (−3.44×10−2×D)+26<X<(−3.44×10−2×D)+36
L:フィルム長さ[m]
D:フィルムロール直径[mm]
A roll of a polyphenylene sulfide film having a film thickness of 10 μm or less, wherein an air contact index X [%] defined in the specification satisfies Formulas 1 and 2.
(Formula 1) (−2.5 × 10 −4 × L) +22 <X <(− 2.5 × 10 −4 × L) +32
(Formula 2) (−3.44 × 10 −2 × D) +26 <X <(− 3.44 × 10 −2 × D) +36
L: Film length [m]
D: Film roll diameter [mm]
フィルム表面の表面粗さパラメータSRaが30〜80nm、SRmaxが1000〜1300nmである請求項1記載のコンデンサ用ポリフェニレンスルフィドフィルムロール。 The polyphenylene sulfide film roll for a capacitor according to claim 1, wherein the film surface has a surface roughness parameter SRa of 30 to 80 nm and SRmax of 1000 to 1300 nm.
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