JP2009032829A - Substrate detection device and substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate detection device which can accurately detect the holding state of a substrate under processing. <P>SOLUTION: The substrate detection device includes: a picked-up image generation means to photograph a held substrate plural times under different exposure conditions and generate a plurality of picked-up image data; an image synthesizing means to synthesize the picked-up image data and generate a synthesized image data; a holding position specification means to specify the holding position of the substrate in a holding means on the basis of the synthesized image; and a holding condition determination means to compare the holding position of the specified substrate with the supposed holding position and to generate a detection result indicating that the holding condition of the substrate is normal or not according to that both positions are matched or not. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に対して洗浄、エッチング等の所定の処理を行う基板処理装置において基板の保持状態を検出する装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for detecting a holding state of a substrate in a substrate processing apparatus that performs predetermined processing such as cleaning and etching on the substrate.

基板処理装置において基板が収納される複数の収納棚を有する基板収納容器との間で、基板の受け渡しを行う基板搬入搬出装置であって、基板収納容器の種類によらず、複数段の基板収納位置のそれぞれにおける基板の有無を検出することができる装置がすでに公知である(例えば特許文献1参照)。   A substrate loading / unloading apparatus for transferring a substrate to / from a substrate storage container having a plurality of storage shelves in which substrates are stored in a substrate processing apparatus, and storing a plurality of stages of substrates regardless of the type of the substrate storage container Devices that can detect the presence or absence of a substrate at each position are already known (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1に開示された装置においては、照明が点灯された状態で基板収納容器を撮像することによって得られた画像データから、照明が消灯された状態で基板収納容器を撮像することによって得られた画像データを差し引くことにより、基板のエッジ部分の画像データを抽出して、該画像データに基づいて各収容位置における基板の有無を判定するようになっている。   In the apparatus disclosed in Patent Document 1, it is obtained by imaging the substrate storage container with the illumination turned off from the image data obtained by imaging the substrate storage container with the illumination turned on. By subtracting the image data, the image data of the edge portion of the substrate is extracted, and the presence / absence of the substrate at each accommodation position is determined based on the image data.

特開平11−312725号公報JP 11-31725 A

特許文献1に開示の技術は、基板処理装置における基板の搬出入部において、基板が載置されている基板収容容器を撮像することで、基板収容容器における基板の有無を検出するものであるが、基板処理装置において基板の有無の検出が求められる部位は、これに限られるものではない。すなわち、ある処理プロセスの途中において、基板が脱落等することなく投入時と同様に保持されているか否かを把握することは重要である。例えば、複数の基板を薬液に浸漬することによって基板に対して薬液処理を行うバッチ式の基板処理装置の場合であれば、複数の基板が薬液に浸漬された後、引き上げられた時点で、浸漬前と同じ保持位置に基板が保持されていることを確認する必要がある。仮に、浸漬前後で基板の保持状態に違いがあるとすると、薬液処理中に何らかの理由に基板が薬液中に落下してしまっていることになり、問題となる。   The technique disclosed in Patent Document 1 detects the presence or absence of a substrate in the substrate container by imaging the substrate container on which the substrate is placed in the substrate carry-in / out section of the substrate processing apparatus. The part for which the presence or absence of the substrate is required in the substrate processing apparatus is not limited to this. That is, in the middle of a certain processing process, it is important to grasp whether or not the substrate is held in the same manner as when the substrate is loaded without dropping off. For example, in the case of a batch type substrate processing apparatus that performs chemical processing on a substrate by immersing a plurality of substrates in a chemical solution, the substrate is immersed when the plurality of substrates are pulled up after being immersed in the chemical solution. It is necessary to confirm that the substrate is held at the same holding position as before. If there is a difference in the holding state of the substrate before and after the immersion, the substrate has dropped into the chemical solution for some reason during the chemical treatment, which causes a problem.

しかしながら、特許文献1に開示された技術は、このような処理プロセスの途中における基板検出に必ずしもそのまま適用できるものではない。例えば薬液処理プロセスを例にとれば、特許文献1に開示の技術を適用しようとすると、撮像手段や照明手段が直接に薬液処理雰囲気に曝される態様で設けることになるが、これはそれらの手段の薬液耐性の点から困難であるため、撮像手段および照明手段と、薬液槽や保持手段との配置関係、さらには検出実行位置の設定を工夫する必要がある。   However, the technique disclosed in Patent Document 1 is not always applicable to substrate detection in the middle of such a processing process. For example, taking the chemical treatment process as an example, when the technique disclosed in Patent Document 1 is applied, the imaging means and the illumination means are provided in a mode in which they are directly exposed to the chemical treatment atmosphere. Since it is difficult from the viewpoint of the chemical resistance of the means, it is necessary to devise the arrangement relationship between the imaging means and the illumination means, the chemical tank and the holding means, and further the setting of the detection execution position.

また、上記各手段の配置構成を好適なものとしたうえで撮像処理を行った場合に、得られる撮像画像データは、特許文献1に係る技術において得られるものと必ずしも同じではないので、保持状態を判定するために行うデータ処理についても、取得される撮像画像データの特徴に応じたものとする必要がある。   In addition, when imaging processing is performed with the arrangement configuration of each means described above being suitable, the captured image data obtained is not necessarily the same as that obtained in the technique according to Patent Document 1, and thus the holding state The data processing performed to determine whether or not the image data must be in accordance with the characteristics of the acquired captured image data.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、基板処理装置において処理プロセスの途中にある基板の保持状態を正確に、かつ簡素化された処理で検出することができる基板検出装置およびこれを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and a substrate detection apparatus capable of accurately and simply detecting a holding state of a substrate in the middle of a processing process in a substrate processing apparatus, and the same It aims at providing the substrate processing apparatus provided with.

上記課題を解決するため、請求項1の発明は、基板に対し所定の処理を行う基板処理装置において複数の基板を保持可能な所定の保持手段に保持されている基板の保持状態を検出する装置であって、所定の検出実行位置において、前記保持手段に保持されている基板に対し照明光を照射する照明手段と、前記照明光が照射された基板を相異なる露光条件で複数回撮像することにより複数の撮像画像データを生成する撮像画像生成手段と、前記複数の撮像画像データを合成して合成画像データを生成する画像合成手段と、前記合成画像データによって表現される合成画像に基づいて、前記保持手段における基板の保持位置を特定する保持位置特定手段と、前記保持位置特定手段によって特定された基板の保持位置と、前記基板の保持位置としてあらかじめ想定されている想定保持位置とを比較し、両者が合致する場合に前記基板の保持状態が正常であるという検出結果を生成し、両者が合致しない場合には前記基板の保持状態に異常があるという検出結果を生成する保持状態判定手段と、を備えることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 1 is an apparatus for detecting a holding state of a substrate held by a predetermined holding means capable of holding a plurality of substrates in a substrate processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate. In the predetermined detection execution position, the illumination unit that irradiates illumination light to the substrate held by the holding unit and the substrate that is irradiated with the illumination light are imaged a plurality of times under different exposure conditions. On the basis of a captured image generating means for generating a plurality of captured image data, an image combining means for combining the plurality of captured image data to generate composite image data, and a composite image represented by the composite image data, The holding position specifying means for specifying the holding position of the substrate in the holding means, the holding position of the substrate specified by the holding position specifying means, and the holding position of the substrate Compared with an assumed holding position that is assumed in advance, a detection result indicating that the holding state of the substrate is normal is generated when both match, and when the two do not match, the holding state of the substrate is set. Holding state determining means for generating a detection result indicating that there is an abnormality.

請求項2の発明は、請求項1に記載の基板検出装置であって、前記画像合成手段は、前記複数の撮像画像データのそれぞれが表現する画像において同一位置にある画素同士の画素値のうち所定の上限値未満の範囲内で最大の画素値と当該画素値を与える撮像画像データを生成した露光時間との積に基づいて定まる値が前記合成画像の対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、ことを特徴とする。   A second aspect of the present invention is the substrate detection apparatus according to the first aspect, wherein the image synthesizing unit includes pixel values of pixels at the same position in an image represented by each of the plurality of captured image data. A value determined based on a product of a maximum pixel value within a range less than a predetermined upper limit value and an exposure time for generating captured image data that gives the pixel value is a pixel value at a corresponding position of the composite image. The composite image data is generated.

請求項3の発明は、請求項2に記載の基板検出装置であって、前記画像合成手段が、前記最大の画素値と前記露光時間との積の対数値に基づいて定まる値が前記合成画像の前記対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、ことを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the substrate detection apparatus according to the second aspect, wherein the image composition means determines a value determined based on a logarithmic value of a product of the maximum pixel value and the exposure time. The composite image data is generated so that the pixel value becomes the pixel value at the corresponding position.

請求項4の発明は、請求項1に記載の基板検出装置であって、前記画像合成手段が、前記複数の撮像画像データのそれぞれが表現する画像において同一位置にある画素同士の画素値の平均値が前記合成画像の対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、ことを特徴とする。   A fourth aspect of the present invention is the substrate detection apparatus according to the first aspect, wherein the image synthesizing unit averages pixel values of pixels at the same position in an image represented by each of the plurality of captured image data. The composite image data is generated so that the value becomes a pixel value at a corresponding position of the composite image.

請求項5の発明は、請求項1に記載の基板検出装置であって、前記画像合成手段が、前記複数の撮像画像データのそれぞれが表現する画像において同一位置にある画素同士の画素値の中央値が前記合成画像の対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、ことを特徴とする。   A fifth aspect of the present invention is the substrate detection apparatus according to the first aspect, wherein the image synthesizing unit is configured to center pixel values of pixels at the same position in an image represented by each of the plurality of captured image data. The composite image data is generated so that the value becomes a pixel value at a corresponding position of the composite image.

請求項6の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の基板検出装置であって、前記保持位置特定手段は、前記合成画像において基板の像を構成する画素の画素値をあらかじめ定められた基板の円周方向について積算する操作を、あらかじめ定められた基板の配列方向に沿って行うことによって、前記配列方向に対する積算値の変化を示すピークプロファイルデータを生成したうえで、前記ピークプロファイルデータに表れるピーク位置に基づいて前記基板の保持位置を特定する、ことを特徴とする。   A sixth aspect of the present invention is the substrate detection apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein the holding position specifying means previously determines pixel values of pixels constituting an image of the substrate in the composite image. By performing an operation of integrating in the circumferential direction of the predetermined substrate along the predetermined arrangement direction of the substrate, peak profile data indicating a change in the integrated value with respect to the arrangement direction is generated, and then the peak A holding position of the substrate is specified based on a peak position appearing in profile data.

請求項7の発明は、請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板検出装置であって、前記検出実行位置が、前記基板処理装置において前記所定の処理を行うチャンバの内部の所定位置であるとともに、前記撮像画像生成手段が、前記チャンバの壁を介して前記検出実行位置に保持されている基板を撮像する、ことを特徴とする。   A seventh aspect of the present invention is the substrate detection apparatus according to any one of the first to sixth aspects, wherein the detection execution position is a predetermined position inside a chamber that performs the predetermined processing in the substrate processing apparatus. In addition, the captured image generation means images the substrate held at the detection execution position via the chamber wall.

請求項8の発明は、基板処理装置が、請求項7に記載の基板検出装置と、前記保持手段として機能する基板搬送手段と、前記チャンバ内に設けられた薬液槽と、を備え、前記所定の処理として、前記薬液槽に前記基板を浸漬することによる薬液処理を行い、前記基板検出装置が、前記薬液処理後に前記基板搬送手段に保持されている基板の保持状態を検出する、ことを特徴とする。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising: the substrate detection apparatus according to the seventh aspect; a substrate transfer unit that functions as the holding unit; and a chemical solution tank provided in the chamber. As the treatment, a chemical solution treatment is performed by immersing the substrate in the chemical solution tank, and the substrate detection device detects a holding state of the substrate held by the substrate transfer means after the chemical solution treatment. And

請求項1ないし請求項8の発明によれば、照明光が照射された基板を相異なる露光条件で複数回撮像することにより複数の撮像画像データを生成する撮像画像生成手段と、複数の撮像画像データを合成して合成画像データを生成する画像合成手段と、合成画像データによって表現される合成画像に基づいて、保持手段における基板の保持位置を特定する保持位置特定手段とを備えるので、照明手段と検出実行位置との位置関係によって、保持手段に保持されている基板を撮像して得られる撮像画像に、保持位置による明暗が生じてしまうことに起因する、基板の保持位置の特定精度の低下が抑制され、より高い精度での基板検出が実現できる。   According to invention of Claim 1 thru | or 8, the picked-up image production | generation means which produces | generates several picked-up image data by picking up the board | substrate with which illumination light was irradiated several times on different exposure conditions, and several picked-up image Since the image synthesizing unit that synthesizes the data to generate the composite image data and the holding position specifying unit that specifies the holding position of the substrate in the holding unit based on the composite image expressed by the composite image data, the illumination unit Decrease in the accuracy of specifying the holding position of the substrate due to the occurrence of light and darkness due to the holding position in the captured image obtained by imaging the substrate held by the holding means depending on the positional relationship between the holding position and the detection execution position And substrate detection with higher accuracy can be realized.

特に、請求項2および請求項3の発明によれば、照明手段からの距離によらず、良好な特定精度で基板の保持位置を特定できるようになるので、より高い精度での基板検出が実現できる。   In particular, according to the second and third aspects of the invention, since the holding position of the substrate can be specified with good specific accuracy regardless of the distance from the illumination means, the substrate detection with higher accuracy is realized. it can.

特に、請求項7の発明によれば、検出実行位置が、基板処理装置において所定の処理を行うチャンバの内部の所定位置であるとともに、撮像画像生成手段が、チャンバの壁を介して検出実行位置に保持されている基板を撮像するので、照明手段や撮像画像生成手段を処理槽内に配置するのが難しいために、照明手段と撮像画像生成手段と検出実行位置との位置関係によって、保持手段に保持されている基板を撮像して得られる撮像画像に保持位置による明暗が生じてしまうような場合であっても、基板の保持位置の特定精度の低下が抑制され、より高い精度での基板検出が実現できる。   In particular, according to the invention of claim 7, the detection execution position is a predetermined position inside the chamber where the predetermined processing is performed in the substrate processing apparatus, and the captured image generating means is detected via the chamber wall. Since the substrate held by the camera is imaged, it is difficult to arrange the illumination unit and the captured image generation unit in the processing tank. Therefore, the holding unit depends on the positional relationship between the illumination unit, the captured image generation unit, and the detection execution position. Even when the captured image obtained by imaging the substrate held on the substrate is bright and dark due to the holding position, the decrease in the accuracy of specifying the holding position of the substrate is suppressed, and the substrate with higher accuracy. Detection can be realized.

特に、請求項8の発明によれば、薬液雰囲気に曝されてしまうのが好ましくないなどの理由で、撮像画像生成手段をチャンバ外に配置せざるを得ないために、照明手段と撮像画像生成手段と検出実行位置との位置関係によって、保持手段に保持されている基板を撮像して得られる撮像画像に保持位置による明暗が生じてしまうような場合であっても、基板の保持位置の特定精度の低下が抑制されるので、より高い精度での基板検出が実現できる。   In particular, according to the invention of claim 8, since the captured image generating means must be arranged outside the chamber because it is not preferable to be exposed to a chemical atmosphere, the illumination means and the captured image generation Even if the captured image obtained by imaging the substrate held by the holding means may be bright and dark due to the holding position depending on the positional relationship between the means and the detection execution position, the holding position of the substrate is specified. Since a decrease in accuracy is suppressed, substrate detection with higher accuracy can be realized.

<基板処理装置の構成概要>
図1は、本発明の実施の形態に係る基板処理装置100を模式的に示す図である。基板処理装置100は、洗浄装置101と基板検出装置102とを主として備える。なお、基板処理装置100は、装置全体を統括的に制御するメインホスト103を備えているが、後述するように、その一部の構成要素も基板検出装置102の構成要素として作用する。
<Outline of configuration of substrate processing apparatus>
FIG. 1 is a diagram schematically showing a substrate processing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus 100 mainly includes a cleaning device 101 and a substrate detection device 102. The substrate processing apparatus 100 includes a main host 103 that controls the entire apparatus in an integrated manner, but some of the constituent elements also function as constituent elements of the substrate detection apparatus 102 as described later.

洗浄装置101は、薬液槽111を有するチャンバ110を少なくとも1つ備える(図1では1つのチャンバ110を備える場合を例示している)。洗浄装置101は、チャンバ110に備わる薬液槽111に貯留されてなるリン酸や硫酸加水などの所定の薬液SOLに複数の基板(以下、単に「基板」とする)Wを一括して浸漬させることによって基板の洗浄を行う、いわゆるバッチ式の洗浄処理を行う装置である。   The cleaning apparatus 101 includes at least one chamber 110 having a chemical tank 111 (FIG. 1 illustrates the case where one chamber 110 is provided). The cleaning apparatus 101 immerses a plurality of substrates (hereinafter simply referred to as “substrates”) in a batch in a predetermined chemical solution SOL such as phosphoric acid or sulfuric acid water stored in a chemical solution tank 111 provided in the chamber 110. This is an apparatus for performing a so-called batch type cleaning process for cleaning a substrate.

また、洗浄装置101は、チャンバ110と外部(例えば他のチャンバ110)との間で基板Wを搬送する搬送手段(搬送チャック)114を備えている。なお、図1においては図示を省略するが、搬送手段114は、複数の保持溝115を有し(図9参照)、それぞれの保持溝115によって基板Wを起立姿勢で保持することで、基板Wを複数枚同時に搬送する。なお、搬送手段114は図1に示す姿勢aのときに基板Wを保持しており、姿勢bのときに基板Wを保持していないものとする。チャンバ110には、基板Wを保持した状態で矢印AR1のようにz軸方向に昇降動作するリフタ112が設けられている。チャンバ110における洗浄処理は、搬送手段114がチャンバ110上部の所定の基板受け渡し位置にまで搬送してきた基板Wを、当該チャンバ110に備わるリフタ112が受け取り、リフタ112が、受けとった基板Wを保持したまま薬液槽111内に下降して、薬液槽111に貯留された薬液SOLに基板Wを所定時間が経過するまでの間浸漬させることによって実現される。所定時間経過後、薬液SOLに浸漬していた基板Wはリフタ112が上昇することによって薬液SOLから引き上げられ、受け渡し位置において搬送手段114に受け渡されて、搬送手段114によって他へと搬送される。なお、搬送手段114による搬送動作およびリフタ112の昇降動作は、メインホスト103に備わる搬送制御部170の制御に基づいて動作する、いずれも図示しない所定の駆動手段によって実現される。また、薬液槽111の外周上部にはオーバーフロー槽113が設けられており、基板Wの浸漬によってあふれた薬液SOLをオーバーフロー槽113で回収し、循環路(図示省略)により薬液槽111へと循環供給される。   In addition, the cleaning apparatus 101 includes a transport unit (transport chuck) 114 that transports the substrate W between the chamber 110 and the outside (for example, another chamber 110). Although not shown in FIG. 1, the transport unit 114 has a plurality of holding grooves 115 (see FIG. 9), and holds the substrate W in an upright position by each holding groove 115. Transport multiple sheets at the same time. It is assumed that the transport unit 114 holds the substrate W in the posture a shown in FIG. 1 and does not hold the substrate W in the posture b. The chamber 110 is provided with a lifter 112 that moves up and down in the z-axis direction as indicated by an arrow AR1 while holding the substrate W. In the cleaning process in the chamber 110, the lifter 112 provided in the chamber 110 receives the substrate W transported to the predetermined substrate delivery position above the chamber 110 by the transport unit 114, and the lifter 112 holds the received substrate W. This is realized by descending into the chemical bath 111 and immersing the substrate W in the chemical solution SOL stored in the chemical bath 111 until a predetermined time elapses. After a predetermined time has elapsed, the substrate W that has been immersed in the chemical solution SOL is lifted from the chemical solution SOL when the lifter 112 is raised, transferred to the transfer means 114 at the transfer position, and transferred to the other by the transfer means 114. . The transport operation by the transport unit 114 and the lifting / lowering operation of the lifter 112 are realized by a predetermined drive unit (not shown) that operates based on the control of the transport control unit 170 provided in the main host 103. Further, an overflow tank 113 is provided on the outer periphery of the chemical liquid tank 111. The chemical liquid SOL overflowed by the immersion of the substrate W is collected in the overflow tank 113 and circulated and supplied to the chemical liquid tank 111 through a circulation path (not shown). Is done.

なお、本実施の形態に係る基板処理装置100においては、次述する撮像処理を行う必要から、チャンバ110の側面(槽壁)の少なくとも一部が、光透過性を有する材質、例えば透明アクリルによって構成されてなる。   In the substrate processing apparatus 100 according to the present embodiment, at least a part of the side surface (tank wall) of the chamber 110 is made of a light-transmitting material, for example, transparent acrylic, because it is necessary to perform the imaging process described below. Consists of.

基板検出装置102は、それぞれのチャンバ110において所定の洗浄処理を終えた基板Wの保持状態の検出(基板検出処理)を行う装置である。なお、本実施の形態において、基板Wの保持状態の検出とは、チャンバ110において薬液SOLに浸漬された後、リフタ112により引き上げられた基板Wの保持位置および保持枚数を特定し、浸漬前と同じ枚数だけ存在するか否かを確認する処理のことをいう。換言すれば、薬液SOLへの浸漬に際して、薬液槽111内に基板Wが落下していないことを確認する処理である。具体的には、チャンバ110において洗浄処理がなされた後、リフタ112から搬送手段114に受け渡された時点で(図1において搬送手段114が姿勢aをとって基板を保持している状態で)基板Wのエッジ部分を撮像し、得られた撮像画像に対し所定の画像処理を行い、得られた画像処理結果に基づいて基板の有無が確認される。   The substrate detection apparatus 102 is an apparatus that detects the holding state (substrate detection process) of the substrate W that has finished a predetermined cleaning process in each chamber 110. In the present embodiment, the detection of the holding state of the substrate W is to specify the holding position and the holding number of the substrate W that is lifted by the lifter 112 after being immersed in the chemical solution SOL in the chamber 110, and before the immersion. This is a process for checking whether or not the same number exists. In other words, it is a process for confirming that the substrate W has not dropped into the chemical solution tank 111 during the immersion in the chemical solution SOL. Specifically, after the cleaning process is performed in the chamber 110, when it is transferred from the lifter 112 to the transport unit 114 (in a state where the transport unit 114 takes the posture a and holds the substrate in FIG. 1). The edge portion of the substrate W is imaged, predetermined image processing is performed on the obtained captured image, and the presence or absence of the substrate is confirmed based on the obtained image processing result.

基板検出装置102は、係る基板検出のための撮像処理を担う構成要素として、基板Wを撮像するための例えばCCDカメラやCMOSカメラなどからなる撮像手段120と、撮像に際して基板Wに対し照明光を照射するための例えばLEDなどからなる照明手段121とを備える。   The substrate detection apparatus 102 includes, as components responsible for imaging processing for substrate detection, an imaging unit 120 such as a CCD camera or a CMOS camera for imaging the substrate W, and illumination light to the substrate W during imaging. The illumination means 121 which consists of LED etc. for irradiating is provided.

図2および図3は、撮像手段120と照明手段121の配置関係を説明するための図である。図2はチャンバ110の上部において搬送手段114に保持されている基板Wをz軸正方向(鉛直上方向)から見た上面図(xy平面図)であり、図3は、図1の基板Wをy軸負方向から(図1の左側方から見た図)見た図(zx平面図)である。ただし、薬液槽111、リフタ112および搬送手段114の図示は省略している。また、図2および図3において一点鎖線で示すのは、搬送手段114によって保持されている基板Wの配列方向Pである。すなわち、図2および図3においては、基板Wの配列方向Pがx軸方向に一致する場合を示している。なお、図1に示す撮像手段120と照明手段121のチャンバ110に対する配置関係は、図示の都合上のものであって、基板処理装置100における実際の配置位置を反映したものではない。   2 and 3 are diagrams for explaining the arrangement relationship between the imaging unit 120 and the illumination unit 121. FIG. 2 is a top view (xy plan view) of the substrate W held by the transfer means 114 in the upper part of the chamber 110 as seen from the positive z-axis direction (vertically upward), and FIG. 3 is the substrate W of FIG. FIG. 3 is a diagram (zx plan view) seen from the negative y-axis direction (viewed from the left side of FIG. 1). However, illustration of the chemical tank 111, the lifter 112, and the transport means 114 is omitted. 2 and 3, the one-dot chain line indicates the arrangement direction P of the substrates W held by the transport unit 114. That is, FIG. 2 and FIG. 3 show a case where the arrangement direction P of the substrates W coincides with the x-axis direction. Note that the arrangement relationship between the imaging unit 120 and the illumination unit 121 shown in FIG. 1 with respect to the chamber 110 is for convenience of illustration, and does not reflect the actual arrangement position in the substrate processing apparatus 100.

図3に示すように、撮像手段120と照明手段121とは、いずれも、チャンバ110の外側上方に配置される。これは、チャンバ110の内部を高いクリーン度に保つ必要があることや、薬液雰囲気に直接に曝されることによって撮像手段120や照明手段121が悪影響を受けることを避けるためである。係る配置関係のもとでの撮像を良好に行えるよう、チャンバ110は、上述したように側面の少なくとも一部が、光透過性を有する材質、例えば透明アクリルによって構成されてなる。好ましくは、チャンバ110あるいは薬液槽111は、基板Wの搬出入時以外は図示を省略する遮蔽手段で遮蔽される。   As shown in FIG. 3, both of the imaging unit 120 and the illumination unit 121 are disposed on the outer upper side of the chamber 110. This is because it is necessary to keep the interior of the chamber 110 at a high degree of cleanliness, and to prevent the imaging unit 120 and the illumination unit 121 from being adversely affected by direct exposure to a chemical solution atmosphere. As described above, at least a part of the side surface of the chamber 110 is made of a light-transmitting material, for example, transparent acrylic so that imaging under such an arrangement relationship can be performed satisfactorily. Preferably, the chamber 110 or the chemical bath 111 is shielded by a shielding means (not shown) except when the substrate W is carried in and out.

加えて、図2および図3に示すように、撮像手段120と照明手段121とは、x軸方向について見た場合にチャンバ110を挟むように配置されている。なお、本実施の形態においては、照明手段121は配列方向Pを含むz−x平面内に配置されてなるのに対して、撮像手段120は、当該平面からずれた場所に配置されている。実際には、撮像手段120の配置位置に合わせて照明手段121の配置位置は適宜に調整すればよい。   In addition, as shown in FIGS. 2 and 3, the imaging unit 120 and the illumination unit 121 are arranged so as to sandwich the chamber 110 when viewed in the x-axis direction. In the present embodiment, the illumination unit 121 is arranged in the zx plane including the arrangement direction P, whereas the imaging unit 120 is arranged at a location shifted from the plane. Actually, the arrangement position of the illumination unit 121 may be adjusted as appropriate in accordance with the arrangement position of the imaging unit 120.

図1に戻って、基板検出装置102は、撮像処理の制御と、撮像画像に基づく画像処理とを行う制御部130をさらに備える。制御部130は、撮像手段120、照明手段121、およびメインホスト103と電気的に接続されてなる。   Returning to FIG. 1, the substrate detection apparatus 102 further includes a control unit 130 that performs control of imaging processing and image processing based on the captured image. The control unit 130 is electrically connected to the imaging unit 120, the illumination unit 121, and the main host 103.

制御部130は、画像入力部140と、画像処理部150と、ホストIF160と、メモリM1とを備えている。   The control unit 130 includes an image input unit 140, an image processing unit 150, a host IF 160, and a memory M1.

画像入力部140は、撮像手段120による撮像を制御する。具体的には、撮像手段120に撮像命令(撮像制御信号)を与える一方、撮像手段120から画像信号を取得して撮像画像データを生成する。なお、本実施の形態においては、撮像画像データはそれぞれの画素が0から255までのいずれかの階調値(画素値)をとる多値階調データとして生成されるものとする。撮像画像データによって表現される撮像画像においては通常、基板Wのエッジ部分が明るく(白っぽく)、他の部分が暗く(黒っぽく)観察される。   The image input unit 140 controls imaging by the imaging unit 120. Specifically, an imaging command (imaging control signal) is given to the imaging unit 120, and an image signal is acquired from the imaging unit 120 to generate captured image data. In the present embodiment, the captured image data is generated as multi-value gradation data in which each pixel takes any gradation value (pixel value) from 0 to 255. In the captured image represented by the captured image data, the edge portion of the substrate W is usually observed bright (white) and the other portion dark (black).

画像処理部150は、画像入力部140で生成された撮像画像データを受け取り、該撮像画像データに基づいて、搬送手段114に保持されている基板Wの保持位置を特定する処理を担う。なお、保持位置を特定することで、搬送手段114に保持されている基板Wの枚数も特定される。画像処理部150における処理の結果、洗浄処理に供された後の時点において実際に搬送手段114に保持されている基板Wの保持位置が特定される(その際、自ずから保持枚数も特定されることになる)ので、画像処理部150における処理が、基板検出装置102における基板検出処理に相当する。また、得られた処理結果を検出基板情報と称する。画像処理部150の構成、および画像処理部150において行われる、検出基板情報の生成に係る種々の処理の詳細については、後述する。   The image processing unit 150 receives the captured image data generated by the image input unit 140 and performs processing for specifying the holding position of the substrate W held by the transport unit 114 based on the captured image data. By specifying the holding position, the number of substrates W held by the transport unit 114 is also specified. As a result of the processing in the image processing unit 150, the holding position of the substrate W actually held by the transport unit 114 at the time after being subjected to the cleaning process is specified (in this case, the number of held sheets is also specified by itself). Therefore, the processing in the image processing unit 150 corresponds to the substrate detection processing in the substrate detection apparatus 102. The obtained processing result is referred to as detection board information. The configuration of the image processing unit 150 and details of various processes relating to the generation of detection board information performed in the image processing unit 150 will be described later.

ホストIF160は、メインホスト103との間の通信インターフェースである。メインホスト103から搬送手段114における搬送タイミングに応じて与えられる、撮像手段120による撮像の実行指示は、ホストIF160を介して画像入力部140に与えられる。また、画像処理部150における画像処理の結果は、ホストIF160を通じてメインホスト103へ送信される。   The host IF 160 is a communication interface with the main host 103. An instruction to execute imaging by the imaging unit 120, which is given from the main host 103 in accordance with the conveyance timing in the conveyance unit 114, is given to the image input unit 140 via the host IF 160. Further, the result of the image processing in the image processing unit 150 is transmitted to the main host 103 through the host IF 160.

メモリM1は、基板検出処理に関する種々の情報を記憶する記憶領域である。メモリM1は、基板検出処理に必要な情報を、あらかじめ、もしくは、基板検出処理の実施中に必要に応じて取得し、これを記憶する。メモリM1に記憶された情報は、基板検出処理の実施中に適宜読み出される。   The memory M1 is a storage area for storing various information related to the substrate detection process. The memory M1 acquires information necessary for the substrate detection processing in advance or as necessary during execution of the substrate detection processing, and stores this. Information stored in the memory M1 is appropriately read during the substrate detection process.

なお、洗浄装置101がチャンバ110を複数備える場合、撮像手段120と照明手段121はそれぞれのチャンバ110に対応して設けられ、制御部130は全ての撮像手段120および照明手段121とを統括的に制御する。   When the cleaning apparatus 101 includes a plurality of chambers 110, the imaging unit 120 and the illumination unit 121 are provided corresponding to the respective chambers 110, and the control unit 130 centralizes all the imaging unit 120 and the illumination unit 121. Control.

メインホスト103は、基板処理装置100の全体を統括的に制御する制御部である。メインホスト103は、上述のようにリフタ112や搬送手段114の動作を制御する搬送制御部170を備えるほか、通信部180と、基板情報保持部190と、検出処理命令部200と、基板有無判定部210とを備えている。   The main host 103 is a control unit that comprehensively controls the entire substrate processing apparatus 100. The main host 103 includes the transport control unit 170 that controls the operations of the lifter 112 and the transport unit 114 as described above, as well as the communication unit 180, the substrate information holding unit 190, the detection processing command unit 200, and the substrate presence / absence determination. Part 210.

通信部180は、制御部130その他、基板処理装置100の各部との間で種々の信号の授受を行う際の通信インターフェースである。   The communication unit 180 is a communication interface used when various signals are exchanged with the control unit 130 and other units of the substrate processing apparatus 100.

基板情報保持部190は、搬送手段114によってチャンバ110に搬送された基板Wの枚数および、搬送手段114の基板保持部が保持可能な最大枚数の基板を保持した状態での各基板位置に関する情報(以下、「処理基板情報」と称する)を保持する。すなわち、処理基板情報は、洗浄処理に供される前の時点における基板Wの保持枚数および保持位置についての情報である。換言すれば、基板情報保持部190が有している洗浄処理に供される前の基板Wの保持位置についての情報は、洗浄処理後の基板Wの保持位置として想定される保持位置(想定保持位置)についての情報である。   The substrate information holding unit 190 is information regarding the number of substrates W transferred to the chamber 110 by the transfer unit 114 and the position of each substrate in a state where the maximum number of substrates that can be held by the substrate holding unit of the transfer unit 114 is held ( Hereinafter referred to as “processed substrate information”). In other words, the processing substrate information is information about the number of substrates W held and the holding position before the cleaning process. In other words, the information about the holding position of the substrate W before the cleaning process that the substrate information holding unit 190 has is the holding position (assumed holding) that is assumed as the holding position of the substrate W after the cleaning process. Position).

検出処理命令部200は、基板検出装置102に対する基板検出処理の実行を命令する。具体的には、洗浄処理終了後、リフタ112から搬送手段114に基板Wが受け渡されたことを示す信号が搬送制御部170から与えられると、検出処理命令部200は、基板検知装置の制御部130に対して、基板検出処理の実行を命令する信号を与える。   The detection processing instruction unit 200 instructs the substrate detection apparatus 102 to execute a substrate detection process. Specifically, when a signal indicating that the substrate W has been transferred from the lifter 112 to the transport unit 114 is given from the transport control unit 170 after the cleaning process is completed, the detection processing command unit 200 controls the substrate detection apparatus. A signal for instructing execution of substrate detection processing is given to the unit 130.

基板有無判定部210は、基板情報保持部190に保持されている処理基板情報と、画像処理部150によって生成された検出基板情報とに基づいて、洗浄処理に供された基板Wが全て、該洗浄処理後に搬送手段114に保持されているか否かを判定する。すなわち、何らかの理由で、チャンバ110内に脱落した基板がないかを判定する。基板有無判定部210は、基板検出処理によって特定された基板の保持位置と、基板の保持位置としてあらかじめ基板情報保持部190によって保持されている保持位置とを比較し、両者が合致する場合に基板Wの保持状態が正常であるという検出結果を生成し、両者が合致しない場合には基板Wの保持状態に異常があるという検出結果を生成する。   The substrate presence / absence determination unit 210 is configured so that all the substrates W subjected to the cleaning process are based on the processing substrate information held in the substrate information holding unit 190 and the detection substrate information generated by the image processing unit 150. It is determined whether or not it is held by the conveying means 114 after the cleaning process. That is, it is determined whether there is a substrate dropped in the chamber 110 for some reason. The substrate presence / absence determination unit 210 compares the holding position of the substrate specified by the substrate detection process with the holding position held in advance by the substrate information holding unit 190 as the holding position of the substrate. A detection result that the holding state of W is normal is generated, and if the two do not match, a detection result that there is an abnormality in the holding state of the substrate W is generated.

基板情報保持部190と検出処理命令部200と基板有無判定部210とはいずれも、基板検出に係る処理を担う構成要素であり、本実施の形態においては、基板検出装置102の構成要素として作用する。   The substrate information holding unit 190, the detection processing command unit 200, and the substrate presence / absence determination unit 210 are all components that perform processing related to substrate detection. In the present embodiment, the substrate information holding unit 190, the detection processing command unit 200, and the substrate presence / absence determination unit 210 function as components of the substrate detection apparatus 102. To do.

<画像処理部の構成>
図4は、画像処理部150のより詳細な構成を示す図である。画像処理部150は、画像入力部140によって生成された撮像画像データを受け取り、該撮像画像データから、搬送手段114に保持された基板Wの保持位置および枚数を特定し(つまりは搬送手段114に保持された基板Wの保持状態を検出し)、その結果を検出基板情報として出力する。基板Wの保持状態の検出は、撮像画像データから、基板Wの位置を特定するための1次元データ(ピークプロファイルデータ)を生成し、該1次元データにおけるピーク位置に基づいて行う。
<Configuration of image processing unit>
FIG. 4 is a diagram showing a more detailed configuration of the image processing unit 150. The image processing unit 150 receives the captured image data generated by the image input unit 140, and specifies the holding position and the number of substrates W held by the transport unit 114 from the captured image data (that is, the transport unit 114). The holding state of the held substrate W is detected), and the result is output as detection substrate information. The detection of the holding state of the substrate W is performed based on the peak position in the one-dimensional data by generating one-dimensional data (peak profile data) for specifying the position of the substrate W from the captured image data.

図5は、撮像手段120によって撮像され画像入力部140によって生成された、基板Wの撮像画像データD1の一例を示す図である。図5においては、基板Wのエッジ部分の像(エッジ部分からの反射光成分を主とする像)が白く観察される。なお、図中の2つの座標軸は、後述する基板検出処理の際に特定され、使用されるものであり、必ずしも撮像画像データD1自体が係る座標軸についての情報を有するものではない。   FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the captured image data D1 of the substrate W captured by the imaging unit 120 and generated by the image input unit 140. In FIG. 5, an image of an edge portion of the substrate W (an image mainly including a reflected light component from the edge portion) is observed in white. Note that the two coordinate axes in the figure are specified and used in the substrate detection process described later, and the captured image data D1 itself does not necessarily have information on the coordinate axes concerned.

図6は、画像処理部150において生成される1次元データD2の一例を示す図である。1次元データD2は、後述する方法で特定される基板Wの配列方向における位置座標(配列方向座標)と、各位置座標ごとに同様に後述する方法で特定される基板Wの円周方向に積算した基板Wのエッジ部分を構成する画素値(積算画素値)との関係を示すデータである。図6においては、前者を横軸に取り、後者を縦軸に取っている。なお、図6に示す直交座標空間は、図5に示す2つの座標軸からなる座標空間を変換したものに相当する。図6に示す1次元データD2に現れるピークが、搬送手段114に保持されている1つ1つの基板Wに対応するので、それぞれのピーク位置を特定することで、基板Wの保持位置が特定されることになる。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the one-dimensional data D2 generated by the image processing unit 150. The one-dimensional data D2 is integrated in a position coordinate (array direction coordinate) in the array direction of the substrate W specified by a method described later and the circumferential direction of the substrate W similarly specified by the method described later for each position coordinate. This is data indicating a relationship with pixel values (integrated pixel values) constituting the edge portion of the substrate W. In FIG. 6, the former is taken on the horizontal axis and the latter is taken on the vertical axis. Note that the orthogonal coordinate space shown in FIG. 6 corresponds to a transformation of the coordinate space consisting of the two coordinate axes shown in FIG. Since the peaks appearing in the one-dimensional data D2 shown in FIG. 6 correspond to the individual substrates W held by the transport unit 114, the holding position of the substrate W is specified by specifying each peak position. Will be.

画像処理部150は、図4に示すように、係る基板検出処理を実現するための構成要素として、検出力判定処理部151と、画像合成部152と、検出処理部153と、補正処理部154とを備えている。   As shown in FIG. 4, the image processing unit 150 includes, as components for realizing the substrate detection processing, a detection power determination processing unit 151, an image composition unit 152, a detection processing unit 153, and a correction processing unit 154. And.

検出力判定処理部151は、画像入力部140で生成された撮像画像データについて、該撮像画像データを検出基板情報の生成に用いてもよいか否かを判定する処理、つまりは、該撮像画像データによって表現される撮像画像が、基板の保持状態の検出に十分な検出力を有する画像であるか否かを判定する処理(検出力判定処理)を担う。例えば、チャンバ110に汚れが付着している状態で得られた撮像画像データなどは、検出処理部153において基板の保持位置を正確に特定できるだけのコントラスト(シャープネス)を有していない場合がある。検出力判定処理部151は、このような品質の悪い撮像画像データを排除し、良好なコントラストを有する撮像画像データのみを基板検出処理に供するために、撮像画像データを峻別する処理を担う。具体的には、検出力判定処理部151は、撮像画像データD1における、像のコントラストの度合いを数値化し、この値が所定の閾値を超える場合に、検出力を有すると判定する。検出力判定処理の詳細については後述する。   The detection power determination processing unit 151 determines whether the captured image data generated by the image input unit 140 may be used for generating detection board information, that is, the captured image. It is responsible for processing (detection power determination processing) for determining whether or not the captured image represented by the data is an image having sufficient power for detecting the holding state of the substrate. For example, captured image data obtained in a state where dirt is attached to the chamber 110 may not have a contrast (sharpness) that can accurately specify the holding position of the substrate in the detection processing unit 153. The power determination processing unit 151 performs processing for distinguishing the captured image data in order to eliminate such poor quality captured image data and use only captured image data having a good contrast for the substrate detection process. Specifically, the power determination processing unit 151 digitizes the degree of image contrast in the captured image data D1, and determines that the image has power when the value exceeds a predetermined threshold. Details of the power determination process will be described later.

画像合成部152は、画像入力部140から得られる複数の撮像画像データを所定の方法で合成して、一の画像データ(合成画像データ)を生成する。   The image composition unit 152 composes a plurality of captured image data obtained from the image input unit 140 by a predetermined method, and generates one image data (composite image data).

基板処理装置100においては、照明手段121と基板Wとが図2および図3に示した位置関係にあることから、照明手段121から基板Wに光を照射して撮像手段120による撮像を行うと、得られる撮像画像においては照明手段121との距離に応じて基板Wの像に明暗が生じてしまうことになる。すなわち、照明手段121に近い基板Wからは大きな光量の反射光が得られるので撮像画像における基板Wのエッジ部の像は明るいものの、照明手段121から遠い基板Wから得られる反射光の光量は小さいために該基板Wのエッジ部の像は暗くなるので、照明手段121との距離に応じて基板Wの位置の特定精度が異なってしまうという問題が起こりうる。仮に、露光量や露光時間を増やした場合、照明手段121から遠い基板Wの像は明るくなるが、その場合には照明手段から近い基板Wからの反射光量が大きくなりすぎ飽和してしまうという問題が生じる。   In the substrate processing apparatus 100, since the illumination unit 121 and the substrate W are in the positional relationship shown in FIGS. 2 and 3, when the imaging unit 120 performs imaging by irradiating the substrate W with light from the illumination unit 121. In the obtained captured image, brightness and darkness occur in the image of the substrate W according to the distance from the illumination means 121. That is, since a large amount of reflected light is obtained from the substrate W close to the illumination unit 121, the image of the edge portion of the substrate W in the captured image is bright, but the amount of reflected light obtained from the substrate W far from the illumination unit 121 is small. Therefore, since the image of the edge portion of the substrate W becomes dark, the problem that the accuracy of specifying the position of the substrate W varies depending on the distance from the illumination unit 121 may occur. If the exposure amount and the exposure time are increased, the image of the substrate W far from the illumination unit 121 becomes bright, but in this case, the amount of reflected light from the substrate W near the illumination unit becomes too large and becomes saturated. Occurs.

図7は、露光時間(つまりはシャッタースピード)を違えることによって露光量を変化させた場合の撮像画像データの変化を模式的に示す図である。撮像画像データは本来2次元データであるが、ここでは、説明の簡単のために1次元データで示している。図7においては、横軸の値が大きいほど、搬送手段114に保持されている基板Wの配列において照明手段121から遠い位置を表すものとする。また、図7において、位置PT1は照明手段121に近い側にある基板Wのエッジ部分の位置(エッジ位置)を指し示し、位置PT3は照明手段121から遠い側にある基板Wのエッジ位置を指し示し、位置PT2は両者の中間にある基板Wのエッジ位置を指し示すものとする。一方、位置BG1は照明手段121に近い側における基板Wのエッジ部分とエッジ部分の間の位置(エッジ間位置)を指し示し、位置BG3は照明手段121から遠い側における基板Wのエッジ間位置を指し示し、位置BG2は両者の中間における基板Wのエッジ間位置を指し示している。   FIG. 7 is a diagram schematically showing changes in captured image data when the exposure amount is changed by changing the exposure time (that is, the shutter speed). The captured image data is originally two-dimensional data, but is shown here as one-dimensional data for the sake of simplicity. In FIG. 7, the larger the value on the horizontal axis, the farther from the illumination unit 121 in the arrangement of the substrates W held by the transport unit 114. In FIG. 7, the position PT1 indicates the position (edge position) of the edge portion of the substrate W on the side close to the illumination means 121, the position PT3 indicates the edge position of the substrate W on the side far from the illumination means 121, The position PT2 indicates the edge position of the substrate W located between the two. On the other hand, the position BG1 indicates the position between the edge portions of the substrate W on the side close to the illumination means 121 (inter-edge position), and the position BG3 indicates the position between the edges of the substrate W on the side far from the illumination means 121. , BG2 indicates the position between the edges of the substrate W in the middle of both.

図7(a)は、シャッタースピードを相対的に遅く(露光時間=1/30秒)することによって、照明手段121から遠い側の基板Wが適正露光量で露光されるようにした場合のピークプロファイルを示す図である。この場合、位置PT1における画素値と位置BG1における画素値との差(ピークボトム差)が「5」であって、位置PT2における画素値と位置BG2における画素値との差「110」、および位置PT3における画素値と位置BG3における画素値との差「100」に比して、著しく小さくなっている。これは、照明手段121から近い基板位置においては過剰露光のために基板Wからの反射光量が飽和しており、十分なピークボトム差が得られないことを意味している。   FIG. 7A shows a peak when the substrate W far from the illumination unit 121 is exposed with an appropriate exposure amount by relatively slowing down the shutter speed (exposure time = 1/30 seconds). It is a figure which shows a profile. In this case, the difference (peak bottom difference) between the pixel value at the position PT1 and the pixel value at the position BG1 is “5”, the difference “110” between the pixel value at the position PT2 and the pixel value at the position BG2, and the position It is significantly smaller than the difference “100” between the pixel value at PT3 and the pixel value at position BG3. This means that the amount of reflected light from the substrate W is saturated at the substrate position close to the illumination unit 121 due to overexposure, and a sufficient peak-bottom difference cannot be obtained.

図7(c)は、シャッタースピードを相対的に速く(露光時間=1/120秒)することによって、照明手段121から近い側の基板Wが適正露光量で露光されるようにした場合のピークプロファイルを示す図である。この場合、照明手段121から遠いエッジ位置である位置PT3における画素値が「50」と小さくなっているため、ピークボトム差が「40」と小さくなっている。   FIG. 7C shows a peak when the substrate W closer to the illumination means 121 is exposed with an appropriate exposure amount by relatively increasing the shutter speed (exposure time = 1/120 seconds). It is a figure which shows a profile. In this case, since the pixel value at the position PT3 which is the edge position far from the illumination unit 121 is as small as “50”, the peak bottom difference is as small as “40”.

図7(b)は、シャッタースピードを図7(a)の場合と図7(c)の場合との中間程度(露光時間=1/60秒)にすることによって、配列の中央部分にある基板Wが適正露光量で露光されるようにした場合のピークプロファイルを示す図である。この場合、位置によらずピークボトム差はある程度得られるものの、やはり、照明手段121から遠いエッジ位置である位置におけるピークボトム差は「50」と、若干小さくなっている。   FIG. 7B shows a substrate in the central portion of the array by setting the shutter speed to an intermediate level between the case of FIG. 7A and the case of FIG. 7C (exposure time = 1/60 seconds). It is a figure which shows the peak profile at the time of making it expose with W by appropriate exposure amount. In this case, although the peak bottom difference can be obtained to some extent regardless of the position, the peak bottom difference at the position that is the edge position far from the illumination unit 121 is slightly small as “50”.

本実施の形態に係る基板処理装置100においては、係る不具合を解消すべく、搬送手段114が基板Wを保持している状況を相異なる露光量で複数回撮像し、得られた複数の撮像画像データを画像合成部152において1つの画像データに合成し、これによって生成された合成画像データを検出用画像データとして後段の処理に供することができるようになっている。この合成画像データを基板Wの検出処理に用いることで、搬送手段114に保持されている個々の基板Wについての照明手段121との距離の相違が基板Wの保持位置の特定精度に与える影響が抑制される。合成画像データの生成処理(画像合成処理)の詳細については後述する。   In the substrate processing apparatus 100 according to the present embodiment, in order to solve such a problem, the situation in which the transport unit 114 holds the substrate W is imaged a plurality of times with different exposure amounts, and a plurality of captured images obtained. The image composition unit 152 synthesizes the data into one image data, and the synthesized image data generated thereby can be used as detection image data for subsequent processing. By using this composite image data for the detection processing of the substrate W, the difference in distance from the illumination unit 121 for each substrate W held by the transport unit 114 has an influence on the accuracy of specifying the holding position of the substrate W. It is suppressed. Details of the composite image data generation process (image composition process) will be described later.

検出処理部153は、画像入力部140にて得られた撮像画像データもしくは画像合成部152において得られた合成画像データを検出用画像データとして、検出用画像データから、図6に示したような1次元データD2を生成し、該1次元データD2が表現するピークプロファイルにおけるピーク位置を特定する処理を担う。検出処理部153によって特定されるピーク位置が、搬送手段114における基板の保持位置に対応することになる。なお、検出用画像データから1次元データを生成する方法についての詳細は後述する。   The detection processing unit 153 uses the captured image data obtained by the image input unit 140 or the synthesized image data obtained by the image synthesis unit 152 as detection image data, and uses the detection image data as shown in FIG. One-dimensional data D2 is generated, and processing for specifying a peak position in a peak profile represented by the one-dimensional data D2 is performed. The peak position specified by the detection processing unit 153 corresponds to the substrate holding position in the transport unit 114. Details of the method for generating one-dimensional data from the detection image data will be described later.

補正処理部154は、保持している基板Wの枚数の多少によって(すなわち搬送手段114に掛かる負荷の大小によって)搬送手段114における基板Wの保持位置が鉛直方向(重力方向)において変化してしまうことに起因する、1次元データのピーク位置のずれを補正する処理を行う。   The correction processing unit 154 changes the holding position of the substrate W in the transport unit 114 in the vertical direction (gravity direction) depending on the number of substrates W held (that is, depending on the load applied to the transport unit 114). Processing for correcting the deviation of the peak position of the one-dimensional data due to the above is performed.

図8、図9、図10および図11は、1次元データのピーク位置のずれについて説明する図である。図8は、搬送手段114が基板Wを保持する状態を例示する図である。図8においては、搬送手段114が16個の保持溝115を有する場合を図示しているが、搬送手段114が備える保持溝115の数はこれに限られるものではない。図8(a)には13枚の基板Wが保持されている場合を示しており、図8(b)には3枚の基板Wが保持される場合を示しているが、前者が比較的多数の基板Wを保持している状態(多数基板保持時)を例示し、後者が比較的少数の基板Wを保持している状態(少数基板保持時)を例示するものとする。また、図8においては、それぞれの保持溝115に、識別のための番号(基板スロット番号)を付している。   8, 9, 10 and 11 are diagrams for explaining the shift of the peak position of the one-dimensional data. FIG. 8 is a diagram illustrating a state in which the transport unit 114 holds the substrate W. Although FIG. 8 illustrates the case where the transport unit 114 has 16 holding grooves 115, the number of the holding grooves 115 provided in the transport unit 114 is not limited to this. FIG. 8A shows a case where 13 substrates W are held, and FIG. 8B shows a case where 3 substrates W are held. A state where a large number of substrates W are held (when holding a large number of substrates) is illustrated, and a state where the latter holds a relatively small number of substrates W (when a small number of substrates are held) is illustrated. In FIG. 8, each holding groove 115 is given a number for identification (substrate slot number).

図9は、図8に示すように基板Wが保持された場合の基板Wの保持枚数と鉛直方向(重力方向)における基板Wの保持位置との対応関係を示す図である。図9(a)が図8(a)の多数基板保持時に対応し、図9(b)が図8(b)の少数基板保持時に対応している。図9に示すように、基板保持枚数が多い前者における基板Wの重心P1よりも、後者における基板Wの重心P2の方が、鉛直方向(重力方向)においてより上側に位置することになる。これは、後者の方が搬送手段114に係る負荷が小さいことによるものである。   FIG. 9 is a diagram showing the correspondence between the number of substrates W held when the substrate W is held as shown in FIG. 8 and the holding position of the substrate W in the vertical direction (gravity direction). FIG. 9A corresponds to the case of holding a large number of substrates in FIG. 8A, and FIG. 9B corresponds to the case of holding a small number of substrates in FIG. As shown in FIG. 9, the center of gravity P2 of the substrate W in the latter is positioned higher in the vertical direction (gravity direction) than the center of gravity P1 of the substrate W in the former where the number of substrates held is large. This is because the latter has a smaller load on the conveying means 114.

図10は、搬送手段114が図8に示す態様で基板Wを保持している場合に得られる1次元データを示す図である。図10においては、実線で示すピークプロファイルが図8(a)に示すように多数の基板Wが保持されている場合の1次元データを表しており、破線で示すピークプロファイルが図8(b)の少数の基板Wが保持されている場合の1次元データを表している。また、図11は、図10のそれぞれの1次元データに基づいて、ピーク位置の補正処理なしに基板の有無を判定した場合の判定結果を示す図である。図11においては、○がその基板スロット番号の保持溝115に基板が存在すると判定された場合を示しており、×がそのスロット番号の保持溝115には基板は存在しないと判定された場合を示している。   FIG. 10 is a diagram showing one-dimensional data obtained when the transport unit 114 holds the substrate W in the manner shown in FIG. In FIG. 10, the peak profile indicated by a solid line represents one-dimensional data when a large number of substrates W are held as shown in FIG. 8A, and the peak profile indicated by a broken line is shown in FIG. Represents one-dimensional data when a small number of substrates W are held. FIG. 11 is a diagram showing a determination result when the presence / absence of a substrate is determined without correcting the peak position based on the one-dimensional data of FIG. In FIG. 11, ◯ indicates a case where it is determined that a substrate is present in the holding groove 115 of the substrate slot number, and X is a case where it is determined that there is no substrate in the holding groove 115 of the slot number. Show.

図10の実線で表されるピークプロファイルからは、そのピーク位置より、図10の上方に点線を付したように、保持溝115が対応することが想定される。図11に示す判定結果も、これに対応する内容を表している。すなわち、「0」、「2」、「3」、「4」、「5」、「7」、「8」、「10」、「11」、「12」、「13」、「14」、「15」という基板スロット番号が付された保持溝115に、基板Wが保持されていると判定される。これは、図8(a)に示した実際の保持状態と合致する結果である。   From the peak profile represented by the solid line in FIG. 10, it is assumed that the holding groove 115 corresponds from the peak position as indicated by a dotted line above FIG. The determination result shown in FIG. 11 also shows the content corresponding to this. That is, “0”, “2”, “3”, “4”, “5”, “7”, “8”, “10”, “11”, “12”, “13”, “14”, It is determined that the substrate W is held in the holding groove 115 with the substrate slot number “15”. This is a result that matches the actual holding state shown in FIG.

一方、図10の破線で表されるピークプロファイルからは、そのピーク位置より、図11に示すように「9」、「10」、「12」という基板スロット番号が付された保持溝115に基板Wが保持されていると判定される。しかしながら、これは、図8(b)に示した実際の保持状態とは合致しない結果である。図8(b)に示す実際の保持状態は、「7」、「8」、「10」という基板スロット番号が付された保持溝115に基板Wを保持するものであるので、例えば「7」という基板スロット番号の保持溝115に保持されている基板Wであれば、「9」という基板スロット番号の保持溝115に保持されていると、判定されていることになる。これは、本来は図10に示す位置x1に存在するはずの、「7」という基板スロット番号の保持溝115に保持されている基板Wに由来するピークが、「9」という基板スロット番号の保持溝115に基板Wが保持されている場合のピーク位置に相当する位置x2に存在することによるものである。   On the other hand, from the peak profile represented by the broken line in FIG. 10, the substrate is inserted into the holding groove 115 to which the substrate slot numbers “9”, “10”, and “12” are attached as shown in FIG. It is determined that W is held. However, this is a result that does not match the actual holding state shown in FIG. The actual holding state shown in FIG. 8B is to hold the substrate W in the holding groove 115 to which the substrate slot numbers “7”, “8”, and “10” are attached. If the substrate W is held in the holding slot 115 having the substrate slot number, it is determined that the substrate W is held in the holding groove 115 having the substrate slot number “9”. This is because the peak derived from the substrate W held in the holding groove 115 having the substrate slot number of “7”, which should originally exist at the position x1 shown in FIG. 10, is the holding of the substrate slot number of “9”. This is due to the presence at the position x2 corresponding to the peak position when the substrate W is held in the groove 115.

図10および図11に示す結果は、図9に示すように、保持枚数が異なることによって基板Wが保持されていると判定される保持溝115が異なってしまうことを意味している。本実施の形態に係る基板処理装置100においては、係る不具合を避けるべく、補正処理部154によって、検出処理部153において特定されたピーク位置を、所定の枚数の基板Wが保持されている場合を基準として補正する補正処理が行える。補正処理の詳細については後述する。   The results shown in FIGS. 10 and 11 mean that, as shown in FIG. 9, the holding groove 115 that is determined to hold the substrate W varies depending on the number of held sheets. In the substrate processing apparatus 100 according to the present embodiment, a case where a predetermined number of substrates W are held at the peak position specified by the detection processing unit 153 by the correction processing unit 154 in order to avoid such a problem. Correction processing for correcting as a reference can be performed. Details of the correction processing will be described later.

<基板検出装置における処理の概略>
図12は基板検出装置102において行われる処理の概略的な流れを示す図である。
<Outline of processing in substrate detection apparatus>
FIG. 12 is a diagram showing a schematic flow of processing performed in the substrate detection apparatus 102.

まず最初に、検出処理の対象である洗浄処理後の基板Wの撮像が行われ、撮像画像データが生成される(ステップS1)。撮像画像データが得られると、続いて、検出力判定処理部151による、検出力判定処理が行われる(ステップS2)。   First, the substrate W after the cleaning process, which is the target of the detection process, is imaged, and captured image data is generated (step S1). When the captured image data is obtained, detection power determination processing is performed by the detection power determination processing unit 151 (step S2).

検出力判定処理の結果、問題がなかった場合、画像合成部152によって、検出用画像データが取得される(ステップS3)。撮像が1回のみ行われた場合には、画像入力部140によって生成された撮像画像データがそのまま検出用画像データとされる。一方、上述したように、1次元データにおけるピーク位置の特定精度を高めるべく、撮像手段120によって異なる露光量で撮像することで得られた複数の撮像画像データから、合成画像データを生成し、該合成画像データを検出用画像データとすることも可能である。   If there is no problem as a result of the detection power determination process, the image composition unit 152 acquires image data for detection (step S3). When the imaging is performed only once, the captured image data generated by the image input unit 140 is used as detection image data as it is. On the other hand, as described above, in order to increase the accuracy of specifying the peak position in the one-dimensional data, composite image data is generated from a plurality of captured image data obtained by imaging with different exposure amounts by the imaging unit 120, The composite image data can also be used as detection image data.

検出用画像データが得られると、検出処理部153が、該検出用画像データに基づいて基板Wの保持位置の特定に用いる1次元データ(検出用1次元データ)を生成し、さらに、検出用1次元データに現れるピークの位置を特定することによって、搬送手段114に保持されている基板Wの保持位置を特定する処理(基板検出処理)を行う(ステップS4)。そして、さらに、補正処理部154において、検出処理部153によって特定された基板Wのピーク位置を補正する補正処理が行われる(ステップS5)。これにより、基板Wの保持位置が正しく特定される。なお、上述したようなピーク位置のずれが問題とならず、基板の保持位置を正しく特定することができるような場合は、補正処理を省略し、検出処理部153によって特定された基板Wのピーク位置から保持位置を特定することも可能である。   When the detection image data is obtained, the detection processing unit 153 generates one-dimensional data (detection one-dimensional data) used for specifying the holding position of the substrate W based on the detection image data. By specifying the position of the peak appearing in the one-dimensional data, a process (substrate detection process) for specifying the holding position of the substrate W held by the transport unit 114 is performed (step S4). Further, the correction processing unit 154 performs correction processing for correcting the peak position of the substrate W specified by the detection processing unit 153 (step S5). Thereby, the holding position of the substrate W is correctly specified. When the above-described shift in the peak position is not a problem and the holding position of the substrate can be correctly specified, the correction process is omitted and the peak of the substrate W specified by the detection processing unit 153 is omitted. It is also possible to specify the holding position from the position.

このようにして特定された、搬送手段114に保持されている基板Wの保持位置(および枚数)の情報が、検出基板情報として、ホストIF160を介してメインホスト103に送られる。メインホスト103においては、基板有無判定部210が、通信部180から受け取った検出基板情報と基板情報保持部190が保持している処理基板情報とを比較することによって、各保持位置における基板の有無を判定する(ステップS6)。具体的には、基板有無判定部210は、検出基板情報に記述されている基板Wの保持位置が、処理基板情報において基板の保持位置と記述されている位置を基準とする所定のしきい値の範囲内に含まれる場合に、当該位置に基板Wが存在すると判定する。   Information on the holding position (and the number of sheets) of the substrate W held on the transport unit 114 specified in this way is sent to the main host 103 via the host IF 160 as detection substrate information. In the main host 103, the substrate presence / absence determination unit 210 compares the detected substrate information received from the communication unit 180 with the processing substrate information held by the substrate information holding unit 190, thereby determining whether or not there is a substrate at each holding position. Is determined (step S6). Specifically, the substrate presence / absence determination unit 210 has a predetermined threshold value based on the position where the holding position of the substrate W described in the detection substrate information is described as the holding position of the substrate in the processing substrate information. If it is included in the range, it is determined that the substrate W exists at the position.

これにより、洗浄処理に供された基板Wが、処理後において搬送手段114に保持されているか否かが判定されることになる。   As a result, it is determined whether or not the substrate W subjected to the cleaning process is held by the transport unit 114 after the process.

<撮像処理>
図13は、図12のステップS1で行われる基板Wの撮像処理の流れを示す図である。
<Imaging process>
FIG. 13 is a diagram illustrating a flow of the imaging process of the substrate W performed in step S1 of FIG.

まず、リフタ112に保持されて薬液槽111の薬液SOLに浸漬されることで洗浄処理に供されていた基板Wが、洗浄処理の終了に伴い薬液槽111から引き上げられる(ステップS11)。続いて、基板Wはリフタ112から搬送手段114へと受け渡される(ステップS12)。その際、受け渡しが完了したことを示す信号が搬送制御部170から検出処理命令部200に与えられる。検出処理命令部200はこれに応答して、撮像命令を発する(ステップS13)。撮像命令は、通信部180を通して制御部130内のホストIF160に送信され、ホストIF160は画像入力部140にこれを与える。   First, the substrate W that has been held in the lifter 112 and immersed in the chemical solution SOL in the chemical solution tank 111 and has been subjected to the cleaning process is pulled up from the chemical solution tank 111 as the cleaning process ends (step S11). Subsequently, the substrate W is transferred from the lifter 112 to the transport unit 114 (step S12). At this time, a signal indicating that the delivery has been completed is given from the transport control unit 170 to the detection processing command unit 200. In response to this, the detection processing command unit 200 issues an imaging command (step S13). The imaging command is transmitted to the host IF 160 in the control unit 130 through the communication unit 180, and the host IF 160 gives this to the image input unit 140.

撮像命令を受けた画像入力部140は、照明手段121を点灯させる(ステップS14)。照明手段121からは、あらかじめ定められた光量の照明光が、チャンバ110側面の透明部分を透過し、搬送手段114に保持されている基板Wに向けて照射される。このように照明光が照射されると、基板Wの鉛直方向(z軸方向)上側のエッジ部分(端縁部)が照明光を撮像手段120側に反射し、主表面は照明光をチャンバ110の底方向(図1〜図3のz軸負方向)へ反射する。   Receiving the imaging command, the image input unit 140 turns on the illumination unit 121 (step S14). From the illumination unit 121, illumination light having a predetermined light amount passes through the transparent portion on the side surface of the chamber 110 and is irradiated toward the substrate W held by the transport unit 114. When the illumination light is irradiated in this way, the edge portion (edge portion) on the upper side in the vertical direction (z-axis direction) of the substrate W reflects the illumination light toward the imaging means 120, and the main surface transmits the illumination light to the chamber 110. Is reflected in the bottom direction (negative z-axis direction in FIGS. 1 to 3).

この状況のもと、画像入力部140は、撮像手段120に対して基板Wの撮像を指示する(ステップS15)。具体的には、あらかじめ設定され、メモリM1に記憶されている撮像回数とそれぞれの撮像の際の露光量(露光時間、シャッタースピード)とを読み込み、読み込んだ条件に基づく撮像の実行を撮像手段120に対して指示する。   Under this situation, the image input unit 140 instructs the imaging unit 120 to image the substrate W (step S15). Specifically, the imaging unit 120 reads the number of times of imaging set in advance and stored in the memory M1 and the exposure amount (exposure time, shutter speed) at the time of each imaging, and executes the imaging based on the read conditions. To instruct.

撮像手段120は、指定された露光量で所定の回数だけ基板Wを撮像する(ステップS16)。検出用画像データとして合成画像データを用いる場合には、相異なる露光量で複数回の撮像が行われる。撮像手段120が撮像を行うことで得られた画像信号(撮像信号)は、画像入力部140へ送信される。画像入力部140は、受信した画像信号に基づいて撮像画像データを生成する(ステップS17)。上述のように、基板Wのエッジ部分における反射光が撮像手段120の側に向かうので、撮像画像においては、基板Wのエッジ部分が明るく観察される。得られた撮像画像データは、メモリM1に記憶される。   The imaging unit 120 images the substrate W a predetermined number of times with the designated exposure amount (step S16). When composite image data is used as detection image data, imaging is performed a plurality of times with different exposure amounts. An image signal (imaging signal) obtained by imaging by the imaging unit 120 is transmitted to the image input unit 140. The image input unit 140 generates captured image data based on the received image signal (step S17). As described above, since the reflected light at the edge portion of the substrate W is directed toward the imaging means 120, the edge portion of the substrate W is observed brightly in the captured image. The obtained captured image data is stored in the memory M1.

<検出力判定処理>
次に、図12のステップS2において実施される検出力判定処理について、詳しく説明する。検出力判定処理は、上述のように、撮像画像データが、搬送手段114における基板の保持位置を特定するに十分なものであるか否かを判定する処理である。係る検出力判定処理は、検出力判定処理部151において実行される。
<Power detection processing>
Next, the power determination process performed in step S2 of FIG. 12 will be described in detail. As described above, the detection power determination process is a process of determining whether the captured image data is sufficient to specify the holding position of the substrate in the transport unit 114. Such power determination processing is executed in the power determination processing unit 151.

図14は、検出力判定処理の流れを示す図である。検出力判定処理を実施する場合、まず、ステップS1で生成された撮像画像データが画像処理部150によって取得される(ステップS21)。なお、このようにして取得され、検出力判定処理の対象とされた撮像画像データを特に、検出力判定対象データと称し、該検出力判定対象データが表現する画像を特に、判定対象画像とも称する。   FIG. 14 is a diagram illustrating the flow of the power determination process. When performing the power determination process, first, the captured image data generated in step S1 is acquired by the image processing unit 150 (step S21). The captured image data acquired in this way and used as a target of the power determination process is particularly referred to as power determination target data, and an image represented by the power determination target data is also referred to as a determination target image. .

検出力判定対象データが取得されると、判定対象画像のエッジを強調する処理(エッジ強調処理)が施される(ステップS22)。判定対象画像のエッジとは、該画像において画素値(濃度値)の変化の大きい領域のことをいう。本実施の形態においては、このエッジ強調処理を、検出力判定対象データに対してSobelフィルタなどの一般的なエッジ強調用のフィルタを作用させることによって行う。これは、判定対象画像における基板Wの反射光成分を主とする明るい部分と、基板Wの反射光成分以外を主とする暗い部分との境界を、より明確にする処理であって、以下のステップで行う処理のための前処理に相当する。   When the power determination target data is acquired, processing for enhancing the edge of the determination target image (edge enhancement processing) is performed (step S22). The edge of the determination target image refers to an area where the pixel value (density value) changes greatly in the image. In the present embodiment, this edge enhancement processing is performed by applying a general edge enhancement filter such as a Sobel filter to the power determination target data. This is a process for further clarifying the boundary between a bright part mainly including the reflected light component of the substrate W and a dark part mainly including other than the reflected light component of the substrate W in the determination target image. This corresponds to pre-processing for processing performed in steps.

次に、このようにエッジ強調処理が施された検出力判定対象データに基づき、濃度ヒストグラムが生成される(ステップS23)。濃度ヒストグラムは、判定対象画像が取りうる全ての画素値(濃度値)を横軸にとり、それぞれの画素値について、判定対象画像が有する画素数(度数)をカウントすることによって得られる。図15は、異なる2つの検出力判定対象データについての濃度ヒストグラムを例示する図である。なお、図15においては、画素値が大きいほど白い(明るい)ものとする。   Next, a density histogram is generated based on the power determination target data that has been subjected to the edge enhancement processing in this way (step S23). The density histogram is obtained by taking all the pixel values (density values) that can be taken by the determination target image on the horizontal axis and counting the number of pixels (frequency) of the determination target image for each pixel value. FIG. 15 is a diagram illustrating density histograms for two different detection power determination target data. In FIG. 15, it is assumed that the larger the pixel value, the whiter (brighter).

濃度ヒストグラムが得られると、該濃度ヒストグラムに基づいて、その2値化閾値とクラス分離度とが算出される(ステップS24)。2値化閾値とは、濃度ヒストグラムを与える判定対象画像を2値化する場合の閾値である。またクラス分離度とは、2値化閾値の妥当性の程度を表す指標である。クラス分離度は、値が大きいほど、2値化閾値を境にして2つのクラスがより分離されることを、換言すれば、画素値ヒストグラムの双峰性が高いことを表している。本実施の形態においては、2値化閾値とクラス分離度との算出を、判別分析法に基づいて行うものとする。   When the density histogram is obtained, the binarization threshold value and the class separation degree are calculated based on the density histogram (step S24). The binarization threshold is a threshold for binarizing a determination target image that provides a density histogram. The class separation degree is an index representing the degree of validity of the binarization threshold. The class separation degree indicates that the larger the value, the more the two classes are separated at the binarization threshold, in other words, the higher the bimodality of the pixel value histogram. In the present embodiment, the binarization threshold value and the class separation degree are calculated based on the discriminant analysis method.

具体的には、判定対象画像がL段階の階調値(レベル)で表現されているとし、レベルkを2値化閾値とするときにレベルk以下の画素値(クラス)を取る確率をω1、k+1以上の画素値(クラス)を取る確率をω2、それぞれのクラスについての画素数の平均値をμ1、μ2とするときに、次の(数1)で表される、kの関数である値(クラス間分散)σB 2を最大とするレベルkが、2値化閾値として採用される。 Specifically, it is assumed that the determination target image is expressed by gradation values (levels) at L levels, and the probability of taking a pixel value (class) of level k or less when level k is a binarization threshold is ω. 1 , where the probability of taking pixel values (classes) of k + 1 or more is ω 2 , and the average value of the number of pixels for each class is μ 1 and μ 2 , k expressed by the following (Equation 1), A level k that maximizes the value (interclass variance) σ B 2 that is a function of is used as the binarization threshold.

ただし、レベルiの画素数をniとし、全画素数をNとし、レベルiの確率分布をPiとすると、 However, if the number of pixels at level i is n i , the total number of pixels is N, and the probability distribution at level i is P i ,

である。なお、(数2)はレベルkまでの濃度分布の0次のモーメントである。 It is. (Equation 2) is the 0th-order moment of the concentration distribution up to level k.

を用いると、 Using

である。なお、(数4)はレベルkまでの濃度分布の1次のモーメントであり、(数5)は全画素値についての画素数の平均値である。 It is. (Equation 4) is the first moment of the density distribution up to level k, and (Equation 5) is the average value of the number of pixels for all pixel values.

また、σB 2が最大であるときの、次の(数8)で与えられる値が、クラス分離度になる。なお、(数8)による演算の結果、クラス分離度は、0と1との間の値として求まる。 Further, when σ B 2 is maximum, the value given by the following (Equation 8) is the class separation degree. As a result of the calculation according to (Equation 8), the class separation degree is obtained as a value between 0 and 1.

ただし、σT 2は、全画素値についての画素数の分散であり、次の(数9)で与えられる。 However, σ T 2 is the variance of the number of pixels for all pixel values, and is given by the following (Equation 9).

実際には、(数1)において逐次kの値を変えてやることにより、順次σB 2の値を求め、最大値を与えるkを2値化閾値として採用する。そして、このときのkの値を用いて(数8)からクラス分離度ηを求める。換言すれば、クラス分離度ηが最大となるように2値化閾値を決定する。 Actually, by sequentially changing the value of k in (Equation 1), the value of σ B 2 is sequentially obtained, and k giving the maximum value is adopted as the binarization threshold. And class separation degree (eta) is calculated | required from (Equation 8) using the value of k at this time. In other words, the binarization threshold is determined so that the class separation degree η is maximized.

図15に示す2つの画素値ヒストグラムについてみれば、図15(a)の画素値ヒストグラムでは、低画素値側と高画素値側とに度数(画素数)が極大となる箇所があり、両者の中間の度数が極小となるところに2値化閾値が位置することで、低画素値側と高画素値側とが明瞭に分離されている。係る場合に、高いクラス分離度が得られることになる。画素値ヒストグラムでは高画素値側ほど明るいので、図15(a)の場合、基板のエッジ部分を表現すると見られる画素が高画素値側の極大を形成し、それ以外のバックグラウンド部分が低画素値側の極大を形成しているものとみられる。一方、図15(b)の画素値ヒストグラムにおいては、高画素値側に行くほど度数が単調に減少するのみで、2値化閾値の近傍画素値においても相当の度数がカウントされている。係る場合のクラス分離度は低くなることになる。この場合、撮像画像において、基板Wのエッジ部分とそれ以外の部分とが明瞭には分離されないことになる。   Looking at the two pixel value histograms shown in FIG. 15, in the pixel value histogram of FIG. 15A, there are locations where the frequency (number of pixels) is maximized on the low pixel value side and the high pixel value side. The low threshold value side and the high pixel value side are clearly separated because the binarization threshold value is located where the intermediate frequency becomes minimum. In such a case, high class separation can be obtained. In the pixel value histogram, the higher the pixel value side, the brighter the pixel value. In the case of FIG. 15A, the pixels that appear to represent the edge portion of the substrate form the local maximum on the high pixel value side, and the other background portions are the low pixels. It seems to form the maximum on the value side. On the other hand, in the pixel value histogram of FIG. 15B, the frequency decreases monotonously as it goes to the higher pixel value side, and a considerable frequency is counted even in the neighboring pixel values of the binarization threshold. In such a case, the class separation will be low. In this case, in the captured image, the edge portion of the substrate W and other portions are not clearly separated.

2値化閾値とクラス分離度とが得られると、次に、シャープネス値を算出する(ステップS25)。シャープネス値とは、判定対象画像のコントラストの度合いを表す値である。シャープネス値は、2値化閾値以上の値を有する画素値についての平均値(これをエッジ平均値と称する)に、クラス分離度を乗じることによって算出される。   When the binarization threshold and the class separation degree are obtained, next, a sharpness value is calculated (step S25). The sharpness value is a value representing the degree of contrast of the determination target image. The sharpness value is calculated by multiplying the average value (referred to as edge average value) for pixel values having a value equal to or higher than the binarization threshold by the class separation degree.

図15に示す2つの画素値ヒストグラムについてみれば、上述のようにクラス分離度は異なるものの、エッジ平均値はそれぞれ同じ値mである。従って、エッジ平均値mを直接に検出力判定の基準とすると、両者を識別することはできない。しかしながら、このような場合でも、クラス分離度は、それぞれの画素値ヒストグラムの形状を反映して異なる値となっていることから、エッジ平均値にクラス分離度を乗じた値、つまりはシャープネス値を検出力判定の基準とすることで、より的確に検出力を判定することができる。   With regard to the two pixel value histograms shown in FIG. 15, although the class separation is different as described above, the edge average values are the same value m. Therefore, if the edge average value m is directly used as a criterion for determining the power, both cannot be identified. However, even in such a case, since the class separation degree is a different value reflecting the shape of each pixel value histogram, the value obtained by multiplying the edge average value by the class separation degree, that is, the sharpness value is used. By using the detection power criterion, the detection power can be determined more accurately.

シャープネス値が得られると、検出力判定が行われる(ステップS26)。具体的には、得られたシャープネス値が、基板検出処理を行う前にあらかじめメモリM1に記憶しておいた基準値とを比較する。係る基準値は、例えば、気化した薬液SOLなどによるチャンバ110の汚れの許容限度とされる状態をあらかじめ想定し、係る状態におけるシャープネス値を算出することによって得ることができる。あるいは、理想的な状態におけるシャープネス値を算出し、この値に所定の係数(許容限度係数)を掛けた値を基準値として用いるなどの態様であっても良い。   When the sharpness value is obtained, the power detection is performed (step S26). Specifically, the obtained sharpness value is compared with a reference value stored in advance in the memory M1 before performing the substrate detection process. Such a reference value can be obtained by, for example, assuming in advance a state that is an allowable limit of contamination of the chamber 110 due to the vaporized chemical solution SOL and the like, and calculating a sharpness value in such a state. Alternatively, the sharpness value in an ideal state may be calculated, and a value obtained by multiplying this value by a predetermined coefficient (allowable limit coefficient) may be used as the reference value.

シャープネス値が基準値よりも大きい場合(ステップS26でYES)、検出力判定対象データが基板の保持位置を特定するに十分な検出力を有すると判定されることになるので、図12のステップS3に進むことになる。一方、シャープネス値が基準値以下である場合(ステップS26でNO)、検出力判定対象データは検出力を有しないと判定されることになる。この場合、以降の基板検出処理は中止される。例えば、検出力判定処理部151からホストIF160を通してメインホスト103に対し当該結果が通知されると、メインホスト103は、以降の基板検出処理の実行指示を行う代わりに、チャンバ110の洗浄等、所定の処置を促す所定の警告処理(警告音の発生や警告表示の実行など)を行う。   When the sharpness value is larger than the reference value (YES in step S26), it is determined that the detection power determination target data has a sufficient detection power for specifying the holding position of the substrate, so step S3 in FIG. Will proceed to. On the other hand, when the sharpness value is equal to or less than the reference value (NO in step S26), it is determined that the detection power determination target data does not have detection power. In this case, the subsequent substrate detection process is stopped. For example, when the detection result determination unit 151 notifies the main host 103 of the result through the host IF 160, the main host 103 performs predetermined processing such as cleaning the chamber 110 instead of instructing execution of the subsequent substrate detection processing. Predetermined warning processing (such as generation of warning sound or execution of warning display) is performed to prompt the user to take action.

本実施の形態に係る基板処理装置においては、このような検出力判定処理を行うことで、撮像画像の品質が十分ではなく、基板の検出に適していない撮像画像データを、基板の検出処理の対象から除外することができる。これにより、高い精度での基板検出が実現される。また、十分なコントラストを有する撮像画像データが基板検出に供されるので、照明光を消灯した状態での画像データを用いて基板のエッジ部分の像を強調した画像を作成せずとも、基板検出が可能となる。   In the substrate processing apparatus according to the present embodiment, by performing such a detection power determination process, the quality of the captured image is not sufficient, and the captured image data that is not suitable for the detection of the substrate is used for the substrate detection process. Can be excluded from the target. Thereby, the substrate detection with high accuracy is realized. Also, since the captured image data with sufficient contrast is used for substrate detection, substrate detection is possible without creating an image that emphasizes the image of the edge portion of the substrate using the image data with the illumination light turned off. Is possible.

なお、検出力判定処理を行うに際して、撮像手段120による撮像が複数回行われた場合には、最初に得られた撮像画像データのみを検出力判定処理の対象とする態様であっても、複数のあるいは全ての撮像画像データについて検出力判定処理を行う態様であってもよい。あるいは、S3で実施される合成処理によって得られた1枚の画像データに対して検出力判定を行うことも可能である。   Note that, when performing the power determination process, if the imaging unit 120 performs a plurality of times of image capturing, even if the first captured image data is the target of the power determination process, Alternatively, the detection power determination process may be performed for all or all captured image data. Alternatively, it is also possible to make a power determination on one piece of image data obtained by the combining process performed in S3.

また、例えば、薬液槽111の壁面が常に正常に保たれる場合など、撮像画像データの品質が常に良好に保たれるような場合は、検出力判定処理は不要である。すなわち、検出力判定処理は、基板位置の特定において必須の処理ではなく、場合によっては省略可能である。検出力判定処理の要否についての情報は、例えば、作業者がメインホスト103に対して所定の入力指示を行うことによって与えられ、メモリM1に記憶される。   In addition, for example, when the quality of the captured image data is always kept good, such as when the wall surface of the chemical tank 111 is always kept normal, the power determination process is unnecessary. That is, the detection power determination process is not an essential process for specifying the substrate position, and may be omitted depending on circumstances. Information about whether or not the power determination process is necessary is given, for example, by an operator giving a predetermined input instruction to the main host 103, and stored in the memory M1.

<画像合成処理>
次に、図12のステップS3における検出用画像データの取得の際に実施される画像合成処理について説明する。画像合成処理は、画像合成部152において実行される。なお、画像合成処理の対象となる複数の撮像画像データを特に、合成対象画像データと称し、それぞれの合成対象画像データによって表現される撮像画像を特に、合成対象画像と称することとする。また、合成画像データによって表現される画像を特に、合成画像と称することとする。
<Image composition processing>
Next, the image composition process that is performed when the detection image data is acquired in step S3 in FIG. 12 will be described. The image composition processing is executed in the image composition unit 152. Note that a plurality of captured image data to be subjected to image synthesis processing is particularly referred to as synthesis target image data, and a captured image represented by each synthesis target image data is specifically referred to as a synthesis target image. An image expressed by the composite image data is particularly referred to as a composite image.

画像合成処理にはいくつかの手法が適用可能であるが、本実施の形態においては、高ダイナミックレンジ手法(HDR手法)と呼ばれる手法を用いる場合を例に説明する。まず、複数の合成対象画像のそれぞれにおいて同一位置にある画素同士の画素値(0から255の値をとるものとする)のなかで、あらかじめ定められた上限値未満の範囲内で最大の画素値を特定する。上限値には、240〜250程度の値が設定される。なお、このように上限値を定めるのは、画素値が飽和した状態にある画素を除外するためである。そして、この特定された画素値を用いて真の明度を算出し、これを例えば0から255の間で規格化した値を、合成対象画像の当該画素位置における画素値として採用する。なお、撮像を行う際の露光時間eおよび、画素値の最大値を特定する際の上限値は、あらかじめメモリM1に記憶されている。   Although several methods can be applied to the image composition processing, in this embodiment, a case where a method called a high dynamic range method (HDR method) is used will be described as an example. First, among the pixel values of pixels at the same position in each of a plurality of compositing target images (assuming values of 0 to 255), the maximum pixel value within a range less than a predetermined upper limit value Is identified. A value of about 240 to 250 is set as the upper limit value. The reason why the upper limit value is determined in this way is to exclude pixels in which the pixel value is saturated. Then, the true brightness is calculated using the specified pixel value, and a value obtained by normalizing the true brightness between 0 and 255, for example, is adopted as the pixel value at the pixel position of the compositing target image. Note that the exposure time e when imaging and the upper limit value for specifying the maximum pixel value are stored in the memory M1 in advance.

図16は、係る画像合成処理における具体的な処理の流れを示す図である。まず最初に、画像合成処理の対象となる複数の合成対象画像データを取得する(ステップS31)。なお、以下の説明においては、それぞれの合成対象画像データによって表現される合成対象画像はN個の画素から構成されているものとし、そのうちの任意の画素をj番目の画素(1≦j≦N)と称することとする。まず、1番目の画素を処理の対象とすべく、j=1とする(ステップS32)。   FIG. 16 is a diagram showing a specific processing flow in the image composition processing. First, a plurality of compositing target image data to be subjected to image compositing processing is acquired (step S31). In the following description, it is assumed that a compositing target image represented by each compositing target image data is composed of N pixels, and an arbitrary pixel among them is designated as a jth pixel (1 ≦ j ≦ N ). First, j = 1 is set to process the first pixel (step S32).

以降は、j番目の画素についての処理が行われる場合を説明する。まず、それぞれの合成対象画像のj番目の画素の画素値のなかから、上限値の範囲内での最大値o(j)を特定し、該最大値を与える合成対象画像を撮像した際の露光時間e(j)をメモリM1から読み出す(ステップS33)。   Hereinafter, a case where the process for the jth pixel is performed will be described. First, the maximum value o (j) within the range of the upper limit value is specified from the pixel values of the j-th pixel of each compositing target image, and exposure when the compositing target image that gives the maximum value is captured. Time e (j) is read from the memory M1 (step S33).

続いて、次の関係式から、j番目の画素の真の明るさi(j)が算出される(ステップS34)。   Subsequently, the true brightness i (j) of the jth pixel is calculated from the following relational expression (step S34).

係る処理が、N個の画素の全てについて行われる(ステップS35)。すなわち、真の明るさiを求めていない画素が存在する場合は、j+1番目の画素について、ステップS33およびステップS34の処理が繰り返される(ステップS38)。   Such processing is performed for all N pixels (step S35). That is, when there is a pixel for which the true brightness i is not obtained, the processes of step S33 and step S34 are repeated for the j + 1-th pixel (step S38).

N個の画素の全てについて、真の明るさi(j)が求められた場合(ステップS35でYES)は、全ての画素についてi(j)の値を正規化する処理が行われる(ステップS36)。例えば、i(1)〜i(N)というN個のi(j)のうちの最大値をiM、最小値をimとし、i(j)の正規化後の画素値をI(j)とすると、I(j)は、次の演算式によって定めることができる。   When true brightness i (j) is obtained for all N pixels (YES in step S35), processing for normalizing the value of i (j) is performed for all pixels (step S36). ). For example, the maximum value of i (1) to i (N) i (j) is iM, the minimum value is im, and the normalized pixel value of i (j) is I (j). Then, I (j) can be determined by the following arithmetic expression.

このようにして得られたI(j)の値が、合成画像のj番目の画素における画素値を表現することになる。すなわち、各画素の配置位置とそれぞれの画素についてのI(j)とを対応づけることで、合成画像データが生成されることになる(ステップS37)。   The value of I (j) obtained in this way represents the pixel value in the jth pixel of the composite image. That is, the composite image data is generated by associating the arrangement position of each pixel with I (j) for each pixel (step S37).

図17は、図7において模式的に1次元データとして示す異なる3つの撮像画像データに基づいて、合成画像データを生成した場合の結果を示す図である。図17(a)が、高ダイナミックレンジ手法を適用した場合の結果である。なお、図17(b)は、後述する変形例における合成画像データの生成例である。図17においても、横軸の値が大きいほど、搬送手段114に保持されている基板Wの配列において照明手段121から遠い位置を表すものとする。   FIG. 17 is a diagram illustrating a result in a case where composite image data is generated based on three different captured image data schematically illustrated as one-dimensional data in FIG. FIG. 17A shows the result when the high dynamic range method is applied. Note that FIG. 17B is a generation example of composite image data in a modified example described later. Also in FIG. 17, it is assumed that the larger the value on the horizontal axis, the farther from the illumination unit 121 in the arrangement of the substrates W held by the transport unit 114.

図17(a)に示す合成画像データにおいては、照明手段121から近い位置においてピークボトム差が「148」あるとともに、照明手段から遠い位置においてもピークボトム差が「85」もあり、図7のいずれの場合よりも、位置によらず比較的良好なピークボトム差が得られていることがわかる。   In the composite image data shown in FIG. 17A, the peak bottom difference is “148” at a position close to the illumination unit 121, and the peak bottom difference is “85” at a position far from the illumination unit. It can be seen that a relatively good peak-bottom difference is obtained regardless of the position, in any case.

このように、合成画像データは良好なピークボトム差を有するものとして生成されるので、該合成画像データを検出処理の対象とすることで、より正確な基板検出が実現されることになる。また、ピークボトム差を有する検出用画像データが基板検出に供されることになるので、照明光を消灯した状態での画像データを用いて基板のエッジ部分の像を強調した画像を作成せずとも、基板検出が可能となる。   As described above, since the composite image data is generated as having a good peak-bottom difference, more accurate substrate detection can be realized by using the composite image data as a target of detection processing. In addition, since detection image data having a peak-bottom difference is used for substrate detection, an image in which the image of the edge portion of the substrate is emphasized using image data in a state where the illumination light is turned off is not created. In both cases, the substrate can be detected.

<基板検出処理>
次に、図12のステップS4において実施される基板検出処理(厳密には、搬送手段114における基板位置の特定処理)について、詳しく説明する。図18は、基板検出処理の流れを示す図である。まず、例えば図5に示す撮像画像データD1のようなデータである検出用画像データが取得される(ステップS41)。なお、上述のように、検出用画像データとしては、撮像処理によって得られた一の撮像画像データを用いる態様であっても良いし、合成画像データを用いる態様であってもよい。なお、検出用画像データによって表現される画像を特に、検出用画像と称することとする。
<Substrate detection processing>
Next, a detailed description will be given of the substrate detection process (strictly, the process of specifying the substrate position in the transport unit 114) performed in step S4 of FIG. FIG. 18 is a diagram showing the flow of the substrate detection process. First, for example, detection image data such as captured image data D1 shown in FIG. 5 is acquired (step S41). As described above, the detection image data may be an aspect using one captured image data obtained by the imaging process, or may be an aspect using composite image data. An image expressed by the detection image data is particularly referred to as a detection image.

次に、検出用画像データに基づいて、1次元データ(ピークプロファイルデータ)が生成される(ステップS42)。係る1次元データの生成は、検出用画像において基板Wの像(エッジ部分の像)を構成すると判断される画素(図5の場合であれば白い部分を構成する画素)の画素値を基板Wの円周方向について積算するという操作を、基板Wの配列方向に沿って行い、得られた積算値と配列方向の座標とを対応させることで実現される。例えば、図6に示すような1次元データD2が生成される。   Next, one-dimensional data (peak profile data) is generated based on the detection image data (step S42). The generation of such one-dimensional data is performed by using the pixel value of a pixel (a pixel constituting a white portion in the case of FIG. 5) determined to constitute an image of the substrate W (image of an edge portion) in the detection image. This operation is performed along the arrangement direction of the substrates W, and the obtained integrated value is associated with the coordinates in the arrangement direction. For example, one-dimensional data D2 as shown in FIG. 6 is generated.

本実施の形態では、この1次元データの生成に用いる円周方向と配列方向とを、あらかじめ基準となる検出用画像(基準検出用画像)を用いて決定しておき、検出処理に際しては、対象となる検出用画像データによらず、このあらかじめ決定された円周方向と配列方向とに基づいて1次元データを生成するものとする。   In the present embodiment, the circumferential direction and the array direction used for generating this one-dimensional data are determined in advance using a reference detection image (reference detection image), and in the detection process, It is assumed that one-dimensional data is generated based on the predetermined circumferential direction and arrangement direction, regardless of the detection image data.

図19は、基準検出用画像に基づいて配列方向と円周方向とを決定する処理の流れを示す図である。図20および図21は、係る処理において取り扱われる画像を模式的に示す図である。   FIG. 19 is a diagram showing a flow of processing for determining the arrangement direction and the circumferential direction based on the reference detection image. 20 and 21 are diagrams schematically showing images handled in such processing.

まず、搬送手段114の保持溝115の全てに基板Wが収納された状態(全収納状態)で、上述の撮像処理と同様に撮像手段120による撮像を行うことで、基準検出用画像を与える撮像画像データ(基準検出用画像データ)を生成する(ステップS421)。図20(a)が、基準検出用画像IM1の模式図である。基準検出用画像IM1は通常、基板Wのエッジ部分が明るく(白っぽく)、他の部分が暗く(黒っぽく)観察される、多値階調画像である。   First, in a state in which the substrate W is stored in all the holding grooves 115 of the transport unit 114 (all stored state), imaging by the imaging unit 120 is performed in the same manner as the imaging process described above, thereby providing a reference detection image. Image data (reference detection image data) is generated (step S421). FIG. 20A is a schematic diagram of the reference detection image IM1. The reference detection image IM1 is usually a multi-value gradation image in which the edge portion of the substrate W is observed to be bright (white) and the other portion is dark (black).

基準検出用画像データが生成されると、基板Wのエッジ部分が抽出されやすくなるように明度補正(ステップS422)を行った上で、基準検出用画像を2値化する(ステップS423)。図20(b)は、図20(a)に示す基準検出用画像IM1に対して明度補正を施すことによって得られた明度補正後画像IM2の模式図である。さらに、図20(c)は、図20(b)に示す明度補正後画像IM2に対して2値化を行うことによって得られた2値化画像IM3の模式図である。   When the reference detection image data is generated, brightness correction (step S422) is performed so that the edge portion of the substrate W is easily extracted, and the reference detection image is binarized (step S423). FIG. 20B is a schematic diagram of a lightness-corrected image IM2 obtained by performing lightness correction on the reference detection image IM1 shown in FIG. Further, FIG. 20C is a schematic diagram of a binarized image IM3 obtained by performing binarization on the lightness-corrected image IM2 shown in FIG. 20B.

2値化画像IM3が得られると、高画素値の閉領域(2値化画像IM3において白く見える領域)を一意に識別するためのラベリング処理を行う(ステップS424)。ラベリング処理には、公知の技術を適用可能である。   When the binarized image IM3 is obtained, a labeling process for uniquely identifying a closed region having a high pixel value (a region that appears white in the binarized image IM3) is performed (step S424). A known technique can be applied to the labeling process.

ラベリングされた領域(ラベリング領域)は、主として基板Wのエッジ部分を表現するものである(これをエッジ部ラベル領域と称する)が、元の基準検出用画像が含んでいたノイズする領域も存在しうる(これをノイズラベル領域と称する)。こうしたノイズラベル領域はエッジ部分の特定に不要であるので、これを除去する(低画素値に置き換える)フィルタリング処理を2値化画像IM3に対して施す(ステップS425)。フィルタリング処理は、各ラベル領域の位置やサイズ、主軸方向などに基づいて行われる。図20(d)は、図20(c)に示す2値化画像IM3に対してフィルタリング処理を施すことによって得られたフィルタリング後画像IM4の模式図である。図20(d)に例示するように、フィルタリング後画像IM4においては、エッジ部ラベル領域のみが高画素値の領域として存在する。   The labeled region (labeling region) mainly represents the edge portion of the substrate W (this is referred to as an edge portion label region), but there is also a noisy region included in the original reference detection image. (This is referred to as a noise label region). Since such a noise label region is unnecessary for specifying the edge portion, a filtering process for removing it (replacement with a low pixel value) is performed on the binarized image IM3 (step S425). The filtering process is performed based on the position and size of each label area, the main axis direction, and the like. FIG. 20D is a schematic diagram of the filtered image IM4 obtained by performing the filtering process on the binarized image IM3 illustrated in FIG. As illustrated in FIG. 20D, in the post-filtering image IM4, only the edge label region exists as a region having a high pixel value.

フィルタリング後画像IM4が得られると、各エッジ部ラベル領域の重心位置が特定される(ステップS426)。あるエッジ部ラベル領域Rに属する画素の座標を(x,y)、該エッジ部ラベル領域に属する画素の全画素数をMとし、該エッジ部ラベル領域の重心を(xg,yg)とすると、以下の関係により該エッジ部ラベル領域の重心が求められる。 When the filtered image IM4 is obtained, the barycentric position of each edge label area is specified (step S426). The coordinates of pixels belonging to a certain edge part label area R are (x, y), the total number of pixels belonging to the edge part label area is M, and the center of gravity of the edge part label area is (x g , y g ). Then, the center of gravity of the edge portion label area is obtained by the following relationship.

ただし、Rは重心を求める対象となっているラベル領域を表す。 However, R represents the label area | region used as the object which calculates | requires a gravity center.

それぞれのエッジラベル領域の重心が求まると、搬送手段114で保持されている基板Wの配列方向が特定される。具体的には、各エッジ部ラベル領域の重心位置を求め、各重心位置の分布を近似する直線(回帰直線)を、基板Wの配列方向を与える直線として特定する(ステップS427)。回帰直線は、例えば最小二乗法などの公知の手法によって求めることができる。図21(a)は、図20(d)に示すフィルタリング後画像IM4に存在するラベル領域L1〜L7の重心G1〜G7の分布に基づいて得られた、配列方向を示す直線y=ax+bを例示する図である。   When the center of gravity of each edge label area is obtained, the arrangement direction of the substrates W held by the transport unit 114 is specified. Specifically, the centroid position of each edge portion label area is obtained, and a straight line (regression line) that approximates the distribution of each centroid position is specified as a straight line that gives the arrangement direction of the substrates W (step S427). The regression line can be obtained by a known method such as a least square method. FIG. 21A illustrates a straight line y = ax + b indicating the arrangement direction obtained based on the distribution of the centroids G1 to G7 of the label regions L1 to L7 existing in the filtered image IM4 illustrated in FIG. It is a figure to do.

配列方向が特定されると、搬送手段114で保持されている基板Wの円周方向(主軸方向)が特定される。具体的には、それぞれのエッジ部ラベル領域についての主軸方向を表す角度(主軸角θ)を求めた上で、全てのエッジ部ラベル領域についての主軸角θを統計的に代表する値を、搬送手段114で保持されている基板Wの円周方向を規定する角度(円周方向角θ0と称する)を定める(ステップS428)。 When the arrangement direction is specified, the circumferential direction (main axis direction) of the substrate W held by the transport unit 114 is specified. Specifically, after obtaining the angle (main axis angle θ) representing the main axis direction for each edge part label area, a value representative of the main axis angle θ for all edge part label areas is conveyed. An angle that defines the circumferential direction of the substrate W held by the means 114 (referred to as a circumferential angle θ 0 ) is determined (step S428).

それぞれのエッジ部ラベル領域についての主軸角θは、次のように求められる。   The principal axis angle θ for each edge portion label area is obtained as follows.

ただし、   However,

である。全てのエッジ部ラベル領域についての主軸角θが求まると、例えばそれらの平均値や中央値を採用することによって、円周方向角が規定できる。 It is. When the principal axis angle θ for all the edge part label regions is obtained, the circumferential direction angle can be defined by adopting, for example, an average value or a median value thereof.

以上のように得られた、配列方向と円周方向とに関する情報(具体的には、配列方向を特定する直線y=ax+bの傾きaおよび切片bと、円周方向を特定する円周方向角θ0)は、メモリM1に記憶される。 Information on the arrangement direction and the circumferential direction obtained as described above (specifically, the slope a and the intercept b of the straight line y = ax + b specifying the arrangement direction, and the circumferential angle specifying the circumferential direction) θ 0 ) is stored in the memory M1.

このように特定された配列方向と円周方向とを用い、検出用画像において基板Wのエッジ部分の像を構成すると判断される画素の画素値を円周方向角θ0の方向について積算するという操作を、配列方向を特定して定められている直線y=ax+bに沿って行うことで、図18に示すステップS42における1次元データの生成が実現されることになる。 Using the arrangement direction and the circumferential direction specified in this way, the pixel values of the pixels determined to constitute the image of the edge portion of the substrate W in the detection image are integrated in the direction of the circumferential angle θ 0. By performing the operation along the straight line y = ax + b determined by specifying the arrangement direction, the generation of the one-dimensional data in step S42 shown in FIG. 18 is realized.

ただし、検出用画像においてエッジ部分は弓形や三日月形のような曲線的な形状を有するので、これを構成する全ての画素を積算対象とした場合、1次元データが不要なピークを与えてしまうことが起こりうる。本実施の形態においては、これを避けるべく、円周方向における画素の積算をエッジ部分が直線的に近似される所定範囲に限定して行うようにしている。図22は、係る画素の積算範囲を例示する図である。図22においては、円周方向についての画素値の積算を、配列方向を特定する直線y=ax+bを中心とする範囲αの内部に属する領域(斜線部)についてのみ行うようにする場合を示している。なお、係る積算範囲は、少なくとも基板Wのノッチ部分が含まれるように設定されるのが好ましい。   However, since the edge portion in the detection image has a curved shape such as a bow shape or a crescent shape, if all pixels constituting the edge portion are to be integrated, one-dimensional data may give an unnecessary peak. Can happen. In the present embodiment, in order to avoid this, the integration of pixels in the circumferential direction is limited to a predetermined range in which the edge portion is linearly approximated. FIG. 22 is a diagram illustrating the integration range of such pixels. FIG. 22 shows a case where the integration of pixel values in the circumferential direction is performed only for a region (shaded portion) belonging to the range α centered on a straight line y = ax + b that specifies the arrangement direction. Yes. Note that the integrated range is preferably set so that at least the notch portion of the substrate W is included.

以上のような処理によって、図6に示すような1次元データが得られると、そのピーク位置を特定することで、搬送手段114における基板Wの保持位置を特定することは可能となる。ただし、1次元データには、基板Wのエッジ部分からの反射光に由来する成分以外に、撮像時における、外部からチャンバ110内に透過する光や散乱光等の外乱などの反射光成分などの存在に起因して、ノイズ成分がバックグランド部分に重畳している。本実施の形態においては、より正確なピーク位置の特定を目的として、得られた1次元データから背景ノイズに相当するバックグラウンド成分を除去する処理を行う(ステップS43)。   When the one-dimensional data as shown in FIG. 6 is obtained by the process as described above, the holding position of the substrate W in the transport unit 114 can be specified by specifying the peak position. However, in the one-dimensional data, in addition to the components derived from the reflected light from the edge portion of the substrate W, reflected light components such as disturbances such as light transmitted from the outside into the chamber 110 and scattered light at the time of imaging, etc. Due to the presence, noise components are superimposed on the background portion. In the present embodiment, for the purpose of specifying a more accurate peak position, a process of removing a background component corresponding to background noise from the obtained one-dimensional data is performed (step S43).

図23は、背景ノイズを除去する処理の流れを示す図である。まず、1次元データ上のそれぞれのデータ点について、該データ点を中心とした局所領域(配列方向座標における所定範囲)を設定し、該局所領域の範囲内に属する画素値から、該データ点についての背景ノイズに相当する画素値(背景画素値)を決定する(ステップS431)。また、それぞれの局所領域についての背景画素値を決定する方法としては、該局所領域における各画素値の最小値を用いるのが好適な一例である。   FIG. 23 is a diagram showing a flow of processing for removing background noise. First, for each data point on the one-dimensional data, a local region (predetermined range in the arrangement direction coordinates) centered on the data point is set, and the data point is determined from the pixel values belonging to the range of the local region. A pixel value (background pixel value) corresponding to the background noise is determined (step S431). Further, as a method for determining the background pixel value for each local region, it is a preferable example to use the minimum value of each pixel value in the local region.

図24は、図6に示した1次元データD2を部分的に拡大したものを用いて、背景画素値の決定を方法を説明する図である。図24においては、局所領域のサイズdは、1次元データに表れるピークのピーク幅と同程度に設定されているものとする。なおサイズdは適宜に調整されてよい。   FIG. 24 is a diagram for explaining a method for determining a background pixel value using a partially enlarged version of the one-dimensional data D2 shown in FIG. In FIG. 24, the size d of the local region is set to be approximately the same as the peak width of the peak appearing in the one-dimensional data. The size d may be adjusted as appropriate.

図24においては3つのデータ点A、B、およびCについての背景画素値abk、bbk、およびcbkを例示している。なお、データ点Aは局所領域にピークを含まないデータ点である。データ点Bは、ピーク位置のデータ点である。データ点Cは、局所領域にピークの一部を含むデータ点である。これらのデータ点における積算画素値には大きな相違があるものの、背景画素値の間の差異は比べて非常に小さくなっている。 FIG. 24 illustrates background pixel values a bk , b bk , and c bk for three data points A, B, and C. The data point A is a data point that does not include a peak in the local region. Data point B is a data point at the peak position. Data point C is a data point including a part of a peak in a local region. Although there are significant differences in the accumulated pixel values at these data points, the differences between the background pixel values are much smaller.

背景画素値が得られると、それぞれのデータ点について、その画素値から背景画素値を減算する(ステップS432)。   When the background pixel value is obtained, the background pixel value is subtracted from the pixel value for each data point (step S432).

1次元データの全データ点について得られたこの減算値をプロットすることで、背景ノイズが除去された1次元データ(検出用1次元データ)が生成される(ステップS433)。   By plotting the subtraction values obtained for all the data points of the one-dimensional data, one-dimensional data (one-dimensional data for detection) from which background noise has been removed is generated (step S433).

図25は、図6に示す1次元データD2を対象に、局所領域のサイズdをピーク幅と同程度にして検出用1次元データを生成した場合を示す図である。図25(a)は、検出用1次元データに基づいて得られた背景画素値と配列方向座標における座標値との関係を示す背景画素値データDbを示す図である。すなわち、図25(a)は、図6に示す1次元データD2における背景ノイズを表していることになる。図25(a)は、背景ノイズがほぼなめらかで変動の少ない曲線として捉えられることを示している。一方、図25(b)は、図6に示す1次元データD2から、それぞれのデータ点における背景画素値を減算することによって得られた1次元データである検出用1次元データD3を示す図である。図6と図25(b)とを対比すると、検出用1次元データD3をプロットした図25(b)においては、背景ノイズが好適に除去されており、全範囲においてピークが明瞭に観察されることがわかる。   FIG. 25 is a diagram illustrating a case where the one-dimensional data for detection is generated by setting the size d of the local region to be approximately equal to the peak width for the one-dimensional data D2 illustrated in FIG. FIG. 25A is a diagram showing background pixel value data Db indicating the relationship between the background pixel value obtained based on the one-dimensional data for detection and the coordinate value in the arrangement direction coordinate. That is, FIG. 25A represents the background noise in the one-dimensional data D2 shown in FIG. FIG. 25A shows that the background noise can be understood as a smooth curve with little fluctuation. On the other hand, FIG. 25B is a diagram showing detection one-dimensional data D3 which is one-dimensional data obtained by subtracting the background pixel value at each data point from the one-dimensional data D2 shown in FIG. is there. When FIG. 6 is compared with FIG. 25B, in FIG. 25B in which the detection one-dimensional data D3 is plotted, background noise is suitably removed, and peaks are clearly observed in the entire range. I understand that.

図26および図27は、同じく図6に示す1次元データD2を対象に、局所領域のサイズdを違えた場合の結果を示す図である。   FIG. 26 and FIG. 27 are diagrams showing the results when the size d of the local region is changed for the one-dimensional data D2 shown in FIG.

図26は、局所領域のサイズdをピーク幅より小さく設定した場合の結果を示す図である。図26(a)が背景ノイズを表す図であるが、図25(a)に示す場合とは異なり、細かい変動が現れている。これは、データ点によっては背景画素値にピークの影響が現れていることを意味する結果である。これに伴って、図26(b)に示す背景画素値の減算結果では、背景ノイズ成分のみならず、ピーク成分までもが減算されてしまい、ピークが小さくなってしまっている。   FIG. 26 is a diagram illustrating a result when the size d of the local region is set smaller than the peak width. FIG. 26A is a diagram showing background noise. Unlike the case shown in FIG. 25A, fine fluctuations appear. This is a result which means that the influence of the peak appears in the background pixel value depending on the data point. Accordingly, in the background pixel value subtraction result shown in FIG. 26B, not only the background noise component but also the peak component is subtracted, and the peak becomes small.

図27は(a)は、局所領域のサイズdをピーク幅より大きく設定した場合の結果を示す図である。図27(a)に示すように、背景ノイズはなめらかな曲線として捉えられているが、背景画素値自体のレベルが、図25(a)に示す場合よりも小さくなっている。これに伴って、図27(b)に示す背景画素値除去後の1次元データにおいては、まだ背景ノイズの成分が残ってしまっている。すなわち、これは、十分に背景ノイズを除去しきれていないことを示している。   FIG. 27A is a diagram showing a result when the size d of the local region is set larger than the peak width. As shown in FIG. 27 (a), the background noise is captured as a smooth curve, but the level of the background pixel value itself is smaller than that shown in FIG. 25 (a). Accordingly, the background noise component still remains in the one-dimensional data after the background pixel value removal shown in FIG. That is, this indicates that background noise has not been sufficiently removed.

これらの結果は、局所領域のサイズdをピーク幅と同程度にすることが好適であることを示している。   These results indicate that it is preferable that the size d of the local region is approximately the same as the peak width.

図18に戻って、得られた検出用1次元データD3のピーク位置の検出処理が行われる(ステップS44)。具体的には、得られた検出用1次元データD3によって表現されるピークプロファイルを微分し、極大点を求めることによってピーク位置を特定する。係る処理によって得られたピーク位置が、搬送手段114によって保持されている基板Wの位置と対応することになる。得られたピーク位置の情報は、検出基板情報としてメモリM1に記憶される。   Returning to FIG. 18, the peak position of the obtained one-dimensional data for detection D3 is detected (step S44). Specifically, the peak position is specified by differentiating the peak profile expressed by the obtained one-dimensional data for detection D3 and obtaining the maximum point. The peak position obtained by such processing corresponds to the position of the substrate W held by the transport unit 114. The obtained peak position information is stored in the memory M1 as detection board information.

以上、説明したように、本実施の形態においては、あらかじめ基板の配列方向と円周方向とする方向を求めておき、基板のエッジ部分の像を構成すると判断される画素の画素値を該円周方向について積算する操作を、該配列方向に沿って行うことによって検出用1次元データを生成するので、撮像画像データを得るたびに該撮像画像データの内容から基板の配列方向と円周方向とを算出する必要がなく、基板検出処理が簡略化される。これにより、例えば、得られたエッジ部分の像が複雑な形状を有してなり、その配列方向と円周方向とを直接に特定することが煩雑な場合であっても、そのような配列方向と円周方向とを特定せずとも、必要な1次元データを生成することができる。その際、積算範囲を円周方向についてエッジ部分の像が直線的に近似される範囲内ついてのみ行うことで、検出用1次元データに不要なピークが現れることは抑制されてなる。   As described above, in the present embodiment, the substrate arrangement direction and the circumferential direction are obtained in advance, and the pixel values of the pixels that are determined to constitute the image of the edge portion of the substrate are set in the circle. Since the one-dimensional data for detection is generated by performing the operation of accumulating in the circumferential direction along the arrangement direction, each time the captured image data is obtained, the arrangement direction of the substrate and the circumferential direction are determined from the contents of the captured image data. Need not be calculated, and the substrate detection process is simplified. Thereby, for example, even when the obtained image of the edge portion has a complicated shape and it is complicated to directly specify the arrangement direction and the circumferential direction, such arrangement direction Necessary one-dimensional data can be generated without specifying the circumferential direction. At this time, by performing the integration range only within the range in which the image of the edge portion is linearly approximated in the circumferential direction, it is possible to suppress unnecessary peaks from appearing in the one-dimensional data for detection.

また、背景ノイズを除去した検出用1次元データを生成することで、基板の保持位置に対応するピーク位置をより正確に特定できるようになっている。しかも、照明光を消灯した状態での画像データを用いて基板のエッジ部分の像を強調した画像を作成せずとも、背景ノイズの除去とされてなる。   Further, by generating one-dimensional data for detection from which background noise is removed, the peak position corresponding to the holding position of the substrate can be specified more accurately. In addition, the background noise is removed without creating an image that emphasizes the image of the edge portion of the substrate using the image data in a state where the illumination light is turned off.

<補正処理>
最後に、図12のステップS5における補正処理について説明する。係る補正処理は、上述したように、搬送手段114に保持される基板Wの総重量に依存して図9に示すように基板Wの保持位置がずれが生じることに起因する、搬送手段114の個々の保持溝115に保持されるそれぞれの基板Wに対応する検出用1次元データのピーク位置のずれを補正する処理である。
<Correction process>
Finally, the correction process in step S5 of FIG. 12 will be described. As described above, such correction processing is performed by the transport unit 114 due to the shift of the holding position of the substrate W as shown in FIG. 9 depending on the total weight of the substrate W held by the transport unit 114. This is a process for correcting the shift of the peak position of the one-dimensional data for detection corresponding to each substrate W held in each holding groove 115.

この補正処理は、それぞれの保持溝115に保持されている個々の基板Wについて想定される保持位置はいずれも、基板Wの総重量にのみ依存して線形的に変動する、という仮定の下に行う処理である。なお、保持される個々の基板Wの重量は一定と考えられるので、結局のところ、この仮定は、個々の基板Wについての保持位置は搬送手段114に保持される基板Wの枚数にのみ依存して変動する、という仮定と等価である。   This correction process is based on the assumption that all the holding positions assumed for the individual substrates W held in the holding grooves 115 vary linearly only depending on the total weight of the substrates W. This is the process to be performed. Since the weight of the individual substrates W to be held is considered to be constant, after all, this assumption depends only on the number of the substrates W held by the transport means 114. Equivalent to the assumption that

図28は、この仮定の下における、搬送手段114のある保持溝115に保持される基板W(これを特に、着目基板と称する)について、検出処理部153によって特定されるピーク位置と、搬送手段114が保持している基板Wの枚数との対応関係を示す図である。   FIG. 28 shows the peak position specified by the detection processing unit 153 for the substrate W held in the holding groove 115 with the transport unit 114 under this assumption (this is particularly referred to as a target substrate), and the transport unit. FIG. 11 is a diagram showing a correspondence relationship with the number of substrates W held by 114.

図28に示すように、搬送手段114がN1枚、N2枚(N1≠N2)の基板Wを保持している場合の、着目基板についての保持位置(配列方向座標における位置)をそれぞれX1、X2とし、Nk枚の基板Wを保持しているときの保持位置をXkとした場合、Xkの値は次式によって求まる。   As shown in FIG. 28, when the transport means 114 holds N1 and N2 (N1 ≠ N2) substrates W, the holding positions (positions in the arrangement direction coordinates) for the target substrate are X1 and X2, respectively. Assuming that the holding position when holding the Nk substrates W is Xk, the value of Xk is obtained by the following equation.

例えば、搬送手段114がN個の保持溝115を有している場合に、N1=2(両端の保持溝115にのみ基板Wが保持されている場合に相当)、N2=N(全ての保持溝に基板Wが保持されている場合に相当)とし、それぞれの場合の保持位置X1、X2を1次元データからあらかじめ求めておくと、上式より得られる位置Xkが、任意のNk枚の基板Wが保持されている場合に着目基板についての保持位置を指し示すことになる。   For example, when the transport unit 114 has N holding grooves 115, N1 = 2 (corresponding to the case where the substrate W is held only in the holding grooves 115 at both ends), N2 = N (all holdings) When the holding positions X1 and X2 in each case are obtained in advance from one-dimensional data, the position Xk obtained from the above formula is an arbitrary Nk number of substrates. When W is held, the holding position of the target substrate is indicated.

また、この場合において、差分値Xk−X2(実際には数14の右辺第1項から求まる値)は、N枚の基板Wが保持されている場合の着目基板の保持位置と、Nk枚の基板Wが保持されている場合の保持位置とのずれを表すことになる。   Further, in this case, the difference value Xk−X2 (actually a value obtained from the first term on the right side of Equation 14) is the holding position of the target substrate when N substrates W are held, and Nk This represents a deviation from the holding position when the substrate W is held.

すなわち、検出処理部153において特定される、Nk枚の基板Wが保持されている場合の1次元データについてのピーク位置は、N枚の基板Wが保持されている場合のピーク位置に対して上述の差分値に相当するずれを含んでいるものとみなすことができるので、特定されたピーク位置を示す座標値から、上述の差分値を差し引くことで、全ての保持溝115に基板Wが保持されている場合に検出されると想定される位置を示す座標値が得られることになる。   That is, the peak position for the one-dimensional data when the Nk substrates W are held, which is specified by the detection processing unit 153, is the above-described peak position when the N substrates W are held. Therefore, the substrate W is held in all the holding grooves 115 by subtracting the above-described difference value from the coordinate value indicating the specified peak position. Thus, a coordinate value indicating a position assumed to be detected is obtained.

この、全ての保持溝115に基板Wが保持されている状態における着目基板の実際の保持位置(つまりは着目基板を保持している保持溝115の位置、もしくは基板スロット番号)は、1次元データから求めた位置X2と必ず一対一に対応するので、任意のNk枚の基板Wが保持されている場合の着目基板の位置Xkから、上述の差分値を差し引けば、位置Xkにおいて検出されたピークが、どの保持位置に基板Wが存在することを示すピークであるのかを、確実に特定することが可能となる。すなわち、係る演算処理が、着目基板についての補正処理に相当することになる。   The actual holding position of the target substrate (that is, the position of the holding groove 115 holding the target substrate or the substrate slot number) in a state where the substrate W is held in all the holding grooves 115 is one-dimensional data. Since the position X2 always corresponds to the position X2 obtained from the above, if the above difference value is subtracted from the position Xk of the target substrate when any Nk substrates W are held, the position Xk is detected. It is possible to reliably identify the holding position at which the peak indicates the presence of the substrate W. That is, the calculation process corresponds to a correction process for the substrate of interest.

ただし、それぞれの保持溝115に基板が保持されている場合について、数15の式を立てて補正を行うことは煩雑である。そこで、本実施の形態においては、搬送手段114のある特定の2箇所の保持溝115に保持される基板W(これらを、補正基準基板と称する)についてのピーク位置の補正にのみ上述の関係を用い、他の保持溝115に保持されている基板W(着目基板)については、2つの補正基準基板と着目基板との位置関係と、2つの補正基準基板についての補正後の保持位置とに基づいて、保持位置を補正するようにする。なお、補正基準基板が保持される保持溝115の位置は、特に限定されるものではないが、補正の精度を鑑みると、両端の保持溝115が選択される態様がもっとも好適である。従って、以下の説明においては、N個の保持溝115の両端に補正基準基板が保持される場合を例として説明する。係る場合、着目基板は、2つの補正基準基板の間が保持される保持溝115の間の保持溝115に保持される基板Wということになる。   However, in the case where the substrate is held in each holding groove 115, it is complicated to make the correction by using the equation (15). Therefore, in the present embodiment, the above-described relationship is applied only to the correction of the peak position for the substrate W (these are referred to as correction reference substrates) held in two specific holding grooves 115 of the transport unit 114. The substrate W (target substrate) held in the other holding groove 115 is based on the positional relationship between the two correction reference substrates and the target substrate and the corrected holding positions of the two correction reference substrates. The holding position is corrected. Note that the position of the holding groove 115 where the correction reference substrate is held is not particularly limited, but in view of the accuracy of correction, a mode in which the holding grooves 115 at both ends are selected is most preferable. Therefore, in the following description, a case where the correction reference substrate is held at both ends of the N holding grooves 115 will be described as an example. In this case, the target substrate is the substrate W held in the holding groove 115 between the holding grooves 115 held between the two correction reference substrates.

図29は、係る場合の補正処理の流れを示す図である。また、図30は、搬送手段114によって保持される2つの補正基準基板および着目基板の保持位置と、搬送手段114が保持している基板Wの枚数との対応関係を示す図である。図30においては、N個の保持溝115を有する搬送手段114が両端の保持溝115に計2枚の基板Wを保持している場合(つまりは補正基準基板のみを保持している場合)の、保持溝115の第1端に保持されている補正基準基板についてのピーク位置がそれぞれXa1であり、第2端に保持されている補正基準基板についてのピーク位置がそれぞれXb1であるとする。また、該搬送手段114が全ての保持溝115に基板Wを保持している場合の、保持溝115の第1端に保持されている補正基準基板についてのピーク位置がそれぞれXa2であり、第2端に保持されている補正基準基板についてのピーク位置がそれぞれXb2であるとする。   FIG. 29 is a diagram showing a flow of correction processing in such a case. FIG. 30 is a diagram showing a correspondence relationship between the holding positions of the two correction reference substrates and the target substrate held by the transport unit 114 and the number of substrates W held by the transport unit 114. In FIG. 30, the transport means 114 having N holding grooves 115 holds a total of two substrates W in the holding grooves 115 at both ends (that is, when only the correction reference substrate is held). The peak positions for the correction reference substrate held at the first end of the holding groove 115 are each Xa1, and the peak positions for the correction reference substrate held at the second end are each Xb1. Further, when the transport unit 114 holds the substrate W in all the holding grooves 115, the peak positions of the correction reference substrates held at the first end of the holding groove 115 are Xa2, respectively. It is assumed that the peak positions for the correction reference substrates held at the ends are Xb2.

補正処理においては、まず、実際の処理に先だって、これら2枚の基板が収容されている場合、および、N枚の基板が全て収納される場合について、検出処理部153において基板検出処理を行うことによって、ピーク位置Xa1、Xb1、Xa2、Xb2を事前に求めておき、メモリM1にその結果を記憶しておく(ステップS51、S52)。係るXa1、Xb1、Xa2、Xb2の値は、同一の搬送手段114について搬送される基板Wについて同一の条件で基板検出を行う場合に、繰り返し使用されるものである。   In the correction processing, first, prior to the actual processing, the detection processing unit 153 performs the substrate detection processing when these two substrates are accommodated and when all the N substrates are accommodated. Thus, the peak positions Xa1, Xb1, Xa2, and Xb2 are obtained in advance, and the results are stored in the memory M1 (steps S51 and S52). The values of Xa1, Xb1, Xa2, and Xb2 are repeatedly used when substrate detection is performed under the same conditions for the substrates W that are transported by the same transporting unit 114.

そして、実際に補正処理を実行するに際しては、まず、検出処理部153において特定された、基板検出処理の対象とされている保持状態における基板Wの保持位置に対応するピーク位置の情報を取得する(ステップS53)。なお、その際には、ピーク位置のデータの数(つまりはピークの本数)から、保持枚数Nkについての情報も併せて取得されることになる。   When actually executing the correction process, first, information on the peak position corresponding to the holding position of the substrate W in the holding state, which is the target of the substrate detection process, specified by the detection processing unit 153 is acquired. (Step S53). In this case, information on the number of stored sheets Nk is also acquired from the number of peak position data (that is, the number of peaks).

ここで、図30に示すように、Nk枚の基板が保持されているときの任意の保持溝115に保持されている着目基板のピーク位置をXkとし、第1端と第2端とに保持されている補正基準基板のピーク位置をそれぞれXak、Xbkとし、全ての保持溝115に基板Wが保持されているときの着目基板のピーク位置をXk’とする。   Here, as shown in FIG. 30, the peak position of the target substrate held in an arbitrary holding groove 115 when Nk substrates are held is Xk, and held at the first end and the second end. The peak positions of the corrected reference substrate are Xak and Xbk, respectively, and the peak position of the target substrate when the substrate W is held in all the holding grooves 115 is Xk ′.

第1端に保持されている補正基準基板のピーク位置Xakは、数14においてX1=Xa1、X2=Xa2とすることによって求められる線分La上の点であり、第2端に保持されている補正基準基板のピーク位置Xbkは、数14においてX1=Xb1、X2=Xb2とすることによって求められる線分Lb上の点である。   The peak position Xak of the correction reference substrate held at the first end is a point on the line segment La obtained by setting X1 = Xa1 and X2 = Xa2 in Equation 14, and is held at the second end. The peak position Xbk of the correction reference substrate is a point on the line segment Lb obtained by setting X1 = Xb1 and X2 = Xb2 in Equation 14.

一方、着目基板についても、そのピーク位置は同様に直線的に変化するものと想定される。Nk枚の基板Wが保持されているときのピーク位置Xkは、位置Xakと位置Xbkとの間に存在する一方、全ての保持溝115に基板Wが保持されているときのピーク位置Xk’は位置Xa2と位置Xb2の間に存在することから、両者を結ぶ線分が、着目基板についてのピーク位置の変化を示すと考えるのが妥当である。これはすなわち、次の比例関係が成り立つことを意味している。   On the other hand, the peak position of the target substrate is also assumed to change linearly. The peak position Xk when the Nk substrates W are held exists between the position Xak and the position Xbk, while the peak position Xk ′ when the substrates W are held in all the holding grooves 115 is Since it exists between the position Xa2 and the position Xb2, it is reasonable to think that the line segment connecting the two indicates a change in the peak position for the substrate of interest. This means that the following proportional relationship holds.

この式より、ピーク位置Xk’は次のように求められる。   From this equation, the peak position Xk 'is obtained as follows.

右辺は全て既知であるので、それぞれの値を代入することで、搬送手段114がNk枚の基板を保持している場合にピーク位置Xkを与える基板Wが、全ての保持溝115に基板Wが保持されている場合のピーク位置Xk’が特定される(ステップS54)。この特定されたピーク位置Xk’は、全ての保持溝115に基板Wが保持されている状態における実際の保持位置と必ず対応することになる(実際の保持位置を基準としたある閾値範囲に収まる)ので、取得された全てのピークについて上式よりピーク位置Xk’を特定することによって、Nk枚の基板Wが、搬送手段114のどの保持溝に保持されているのかを特定することができる(ステップS55)。   Since the right side is all known, by substituting the respective values, the substrate W that gives the peak position Xk when the transport means 114 holds Nk substrates, and the substrate W is placed in all the holding grooves 115. The peak position Xk ′ when it is held is specified (step S54). The specified peak position Xk ′ always corresponds to the actual holding position in a state where the substrate W is held in all the holding grooves 115 (contains within a certain threshold range based on the actual holding position. Therefore, by specifying the peak position Xk ′ from the above equation for all the acquired peaks, it is possible to specify which holding groove of the transfer means 114 holds the Nk substrates W ( Step S55).

上述したように、図10において破線で示す1次元データに基づいて特定されるピーク位置を、補正することなくそのまま基板Wの保持位置に表しているとした場合には、図11に示すように誤って保持位置が判定されることになるが、特定されたピーク位置について、上述のような補正処理を施すことで、正しい保持位置の特定が可能となる。すなわち、基板の保持位置の特定精度の向上が実現される。   As described above, when the peak position specified based on the one-dimensional data indicated by the broken line in FIG. 10 is represented as it is as the holding position of the substrate W without correction, as shown in FIG. Although the holding position is erroneously determined, the correct holding position can be specified by performing the correction processing as described above for the specified peak position. That is, improvement in the accuracy of specifying the holding position of the substrate is realized.

<合成画像処理の変形例>
上述の実施の形態においては、高ダイナミックレンジ手法(HDR手法)を用いて合成画像データを生成しているが、その際に用いている数10の式によれば、各合成対象画像についての画素の最大値o(j)の値が一定の場合、露光時間e(j)が小さいほど、真の明るさi(j)は大きくなる。一般的に、露光時間が小さいほど撮像画像の精度は悪いので、短い露光時間で得られた合成対象画像の画素値がo(j)として多く採用されるような場合、結果的に合成画像の精度が悪くなってしまう。そこで、係る不具合を解消すべく、i(j)に代えて、i(j)の常用対数値log10i(j)を算出し、得られた値を正規化するようにしてもよい。
<Modified example of composite image processing>
In the above-described embodiment, the composite image data is generated using the high dynamic range method (HDR method), but according to the equation (10) used at that time, the pixel for each composition target image When the maximum value o (j) is constant, the true brightness i (j) increases as the exposure time e (j) decreases. In general, the smaller the exposure time, the worse the accuracy of the captured image. Therefore, when many pixel values of the compositing target image obtained with a short exposure time are adopted as o (j), as a result, Accuracy will deteriorate. Therefore, in order to solve such a problem, the common logarithm value log 10 i (j) of i (j) may be calculated instead of i (j), and the obtained value may be normalized.

あるいは、高ダイナミックレンジ手法に代えて、複数の合成対象画像のそれぞれにおいて同一位置にある画素同士の画素値の平均値を、合成画像の対応位置における画素値とするようにしてもよい。図17(b)は、係る場合における合成画像データの生成例である。   Alternatively, instead of the high dynamic range method, an average value of pixel values of pixels at the same position in each of a plurality of composition target images may be set as a pixel value at a corresponding position of the composite image. FIG. 17B is an example of generating composite image data in such a case.

あるいは、複数の合成対象画像のそれぞれにおいて同一位置にある画素同士の画素値の中央値を、合成画像の対応位置における画素値とするようにしてもよい。   Or you may make it make the median value of the pixel value of the pixels in the same position in each of several synthetic | combination object images be a pixel value in the corresponding position of a synthesized image.

また、上述の実施の形態においては、異なる露光量で撮像した複数の撮像画像データを用いて合成画像データの生成を行っているが、これに代わり、露光量を一定に保ち、照明手段121からの照明光の光量を調整し、相異なる光量で撮像を行った複数の撮像画像データを用いて合成画像データを生成する態様であってもよい。この場合、上述の実施の形態において画像入力部140における撮像手段120の制御が単純化される。   In the above-described embodiment, the composite image data is generated using a plurality of captured image data captured with different exposure amounts. Instead, the exposure amount is kept constant, and the illumination unit 121 The aspect which produces | generates synthetic | combination image data using the some picked-up image data which adjusted the light quantity of this illumination light and imaged with a different light quantity may be sufficient. In this case, in the above-described embodiment, the control of the imaging unit 120 in the image input unit 140 is simplified.

本発明の実施の形態に係る基板処理装置100を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the substrate processing apparatus 100 which concerns on embodiment of this invention. 撮像手段120と照明手段121の配置関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the arrangement | positioning relationship between the imaging means 120 and the illumination means 121. FIG. 撮像手段120と照明手段121の配置関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the arrangement | positioning relationship between the imaging means 120 and the illumination means 121. FIG. 画像処理部150のより詳細な構成を示す図である。2 is a diagram illustrating a more detailed configuration of an image processing unit 150. FIG. 基板Wの撮像画像データD1の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the captured image data D1 of the board | substrate W. FIG. 1次元データD2の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the one-dimensional data D2. 露光時間(シャッタースピード)を違えることによって露光量を変化させた場合の撮像画像データの変化を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the change of the captured image data at the time of changing exposure amount by changing exposure time (shutter speed). 1次元データのピーク位置のずれについて説明する図である。It is a figure explaining the shift | offset | difference of the peak position of one-dimensional data. 1次元データのピーク位置のずれについて説明する図である。It is a figure explaining the shift | offset | difference of the peak position of one-dimensional data. 1次元データのピーク位置のずれについて説明する図である。It is a figure explaining the shift | offset | difference of the peak position of one-dimensional data. 1次元データのピーク位置のずれについて説明する図である。It is a figure explaining the shift | offset | difference of the peak position of one-dimensional data. 基板検出処理の概略的な流れを示す図である。It is a figure which shows the schematic flow of a board | substrate detection process. 基板Wの撮像処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the imaging process of the board | substrate W. 検出力判定処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of a detection power determination process. 異なる2つの検出力判定対象データについての濃度ヒストグラムを例示する図である。It is a figure which illustrates the density | concentration histogram about two different detection power determination object data. 画像合成処理における具体的な処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the specific process in an image composition process. 異なる3つの撮像画像データに基づいて、合成画像データを生成した場合の結果を示す図である。It is a figure which shows the result at the time of producing | generating synthetic | combination image data based on three different captured image data. 基板検出処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of a board | substrate detection process. 基準検出用画像に基づいて配列方向と円周方向とを決定する処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the process which determines an arrangement | sequence direction and a circumferential direction based on the image for a reference | standard detection. 配列方向と円周方向とを決定する処理において取り扱われる画像を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the image handled in the process which determines an arrangement | sequence direction and a circumferential direction. 配列方向と円周方向とを決定する処理において取り扱われる画像を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the image handled in the process which determines an arrangement | sequence direction and a circumferential direction. 配列方向を決定する際の画素の積算範囲を例示する図である。It is a figure which illustrates the integration range of the pixel at the time of determining an arrangement direction. 1次元データから背景ノイズを除去する処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the process which removes background noise from one-dimensional data. 背景画素値の決定を方法を説明する図である。It is a figure explaining the method of determining a background pixel value. 局所領域のサイズをピーク幅と同程度にして検出用1次元データを生成した場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the size of a local region is made into the same grade as a peak width, and the one-dimensional data for a detection are produced | generated. 局所領域のサイズを違えた場合の結果を示す図である。It is a figure which shows the result at the time of changing the size of a local region. 局所領域のサイズを違えた場合の結果を示す図である。It is a figure which shows the result at the time of changing the size of a local region. 搬送手段114のある保持溝115に保持される着目基板について、検出処理部153によって特定されるピーク位置と、搬送手段114が保持している基板Wの枚数との対応関係を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a correspondence relationship between a peak position specified by a detection processing unit 153 and the number of substrates W held by a transport unit 114 for a target substrate held in a holding groove 115 provided with a transport unit 114. 補正処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of a correction process. 搬送手段114によって保持される2つの補正基準基板および着目基板の保持位置と、搬送手段114が保持している基板Wの枚数との対応関係を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a correspondence relationship between the holding positions of two correction reference substrates and a target substrate held by a transport unit 114 and the number of substrates W held by the transport unit 114.

符号の説明Explanation of symbols

100 基板処理装置
101 洗浄装置
102 基板検出装置
103 メインホスト
110 チャンバ
111 薬液槽
112 リフタ
113 オーバーフロー槽
114 搬送手段
115 保持溝
120 撮像手段
121 照明手段
130 制御部
D1 撮像画像データ
D2 1次元データ
D3 検出用1次元データ
Db 背景画素値データ
G1〜G7 重心
IM1 基準検出用画像
IM2 明度補正後画像
IM3 2値化画像
IM4 フィルタリング後画像
L1〜L7 ラベル領域
SOL 薬液
W 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Substrate processing apparatus 101 Cleaning apparatus 102 Substrate detection apparatus 103 Main host 110 Chamber 111 Chemical solution tank 112 Lifter 113 Overflow tank 114 Conveying means 115 Holding groove 120 Imaging means 121 Illuminating means 130 Control part D1 Captured image data D2 One-dimensional data D3 For detection One-dimensional data Db Background pixel value data G1 to G7 Center of gravity IM1 Image for reference detection IM2 Image after brightness correction IM3 Binary image IM4 Image after filtering L1 to L7 Label region SOL Chemical solution W Substrate

Claims (8)

基板に対し所定の処理を行う基板処理装置において複数の基板を保持可能な所定の保持手段に保持されている基板の保持状態を検出する装置であって、
所定の検出実行位置において、前記保持手段に保持されている基板に対し照明光を照射する照明手段と、
前記照明光が照射された基板を相異なる露光条件で複数回撮像することにより複数の撮像画像データを生成する撮像画像生成手段と、
前記複数の撮像画像データを合成して合成画像データを生成する画像合成手段と、
前記合成画像データによって表現される合成画像に基づいて、前記保持手段における基板の保持位置を特定する保持位置特定手段と、
前記保持位置特定手段によって特定された基板の保持位置と、前記基板の保持位置としてあらかじめ想定されている想定保持位置とを比較し、両者が合致する場合に前記基板の保持状態が正常であるという検出結果を生成し、両者が合致しない場合には前記基板の保持状態に異常があるという検出結果を生成する保持状態判定手段と、
を備えることを特徴とする基板検出装置。
An apparatus for detecting a holding state of a substrate held by a predetermined holding unit capable of holding a plurality of substrates in a substrate processing apparatus that performs predetermined processing on a substrate,
Illuminating means for irradiating illumination light to the substrate held by the holding means at a predetermined detection execution position;
Picked-up image generation means for generating a plurality of picked-up image data by picking up the substrate irradiated with the illumination light a plurality of times under different exposure conditions;
Image combining means for combining the plurality of captured image data to generate combined image data;
Holding position specifying means for specifying the holding position of the substrate in the holding means based on the composite image represented by the composite image data;
The holding position of the substrate specified by the holding position specifying means is compared with an assumed holding position that is assumed in advance as the holding position of the substrate, and when both match, the holding state of the substrate is normal. Generating a detection result, and if the two do not match, holding state determination means for generating a detection result that the holding state of the substrate is abnormal;
The board | substrate detection apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項1に記載の基板検出装置であって、
前記画像合成手段は、前記複数の撮像画像データのそれぞれが表現する画像において同一位置にある画素同士の画素値のうち所定の上限値未満の範囲内で最大の画素値と当該画素値を与える撮像画像データを生成した露光時間との積に基づいて定まる値が前記合成画像の対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、
ことを特徴とする基板検出装置。
It is a board | substrate detection apparatus of Claim 1, Comprising:
The image synthesizing unit is configured to capture a maximum pixel value and a pixel value within a range less than a predetermined upper limit among pixel values of pixels at the same position in an image represented by each of the plurality of captured image data. Generating the composite image data so that a value determined based on a product of the exposure time for generating the image data is a pixel value at a corresponding position of the composite image;
A substrate detection apparatus.
請求項2に記載の基板検出装置であって、
前記画像合成手段が、前記最大の画素値と前記露光時間との積の対数値に基づいて定まる値が前記合成画像の前記対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、
ことを特徴とする基板検出装置。
It is a board | substrate detection apparatus of Claim 2, Comprising:
The image composition means generates the composite image data such that a value determined based on a logarithmic value of a product of the maximum pixel value and the exposure time is a pixel value at the corresponding position of the composite image;
A substrate detection apparatus.
請求項1に記載の基板検出装置であって、
前記画像合成手段が、前記複数の撮像画像データのそれぞれが表現する画像において同一位置にある画素同士の画素値の平均値が前記合成画像の対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、
ことを特徴とする基板検出装置。
It is a board | substrate detection apparatus of Claim 1, Comprising:
The composite image data is such that the image composition means has an average value of pixel values of pixels at the same position in an image represented by each of the plurality of captured image data as a pixel value at a corresponding position of the composite image. Generate
A substrate detection apparatus.
請求項1に記載の基板検出装置であって、
前記画像合成手段が、前記複数の撮像画像データのそれぞれが表現する画像において同一位置にある画素同士の画素値の中央値が前記合成画像の対応位置における画素値となるように、前記合成画像データを生成する、
ことを特徴とする基板検出装置。
It is a board | substrate detection apparatus of Claim 1, Comprising:
The composite image data is set so that the median of the pixel values of the pixels at the same position in the image represented by each of the plurality of captured image data is the pixel value at the corresponding position of the composite image. Generate
A substrate detection apparatus.
請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の基板検出装置であって、
前記保持位置特定手段は、前記合成画像において基板の像を構成する画素の画素値をあらかじめ定められた基板の円周方向について積算する操作を、あらかじめ定められた基板の配列方向に沿って行うことによって、前記配列方向に対する積算値の変化を示すピークプロファイルデータを生成したうえで、前記ピークプロファイルデータに表れるピーク位置に基づいて前記基板の保持位置を特定する、
ことを特徴とする基板検出装置。
A substrate detection apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The holding position specifying unit performs an operation of accumulating pixel values of pixels constituting an image of the substrate in the composite image in a predetermined circumferential direction of the substrate along a predetermined arrangement direction of the substrates. By generating peak profile data indicating a change in integrated value with respect to the arrangement direction, and specifying the holding position of the substrate based on the peak position appearing in the peak profile data,
A substrate detection apparatus.
請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板検出装置であって、
前記検出実行位置が、前記基板処理装置において前記所定の処理を行うチャンバの内部の所定位置であるとともに、前記撮像画像生成手段が、前記チャンバの壁を介して前記検出実行位置に保持されている基板を撮像する、
ことを特徴とする基板検出装置。
The substrate detection apparatus according to any one of claims 1 to 6,
The detection execution position is a predetermined position inside a chamber that performs the predetermined processing in the substrate processing apparatus, and the captured image generation unit is held at the detection execution position via a wall of the chamber. Image the board,
A substrate detection apparatus.
請求項7に記載の基板検出装置と、
前記保持手段として機能する基板搬送手段と、
前記チャンバ内に設けられた薬液槽と、
を備え、
前記所定の処理として、前記薬液槽に前記基板を浸漬することによる薬液処理を行い、前記基板検出装置が、前記薬液処理後に前記基板搬送手段に保持されている基板の保持状態を検出する、
ことを特徴とする基板処理装置。
A substrate detection apparatus according to claim 7,
A substrate transfer means that functions as the holding means;
A chemical bath provided in the chamber;
With
As the predetermined processing, chemical processing is performed by immersing the substrate in the chemical bath, and the substrate detection device detects the holding state of the substrate held by the substrate transporting means after the chemical processing.
A substrate processing apparatus.
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