JP2009003723A - Layout design method of semiconductor integrated circuit, automatic layout design device for semiconductor integrated circuit, layout design assistance system of semiconductor integrated circuit, photomask, photomask manufacturing method, semiconductor integrated circuit, semiconductor integrated circuit manufacturing method, control program, and readable storage medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To perform a freeze-silicon ECO so as to satisfy timing restrictions in the logic change of mask layout. <P>SOLUTION: A direction range of a spare cell to be replaced is detected by a spare cell direction range detection block 22, and a distance range satisfying timing restrictions is detected within the direction range by a timing restriction-satisfying range detection block 23. When no spare cell exists within the distance range satisfying the timing restrictions, an instance closest to a spare cell or a connection object is detected among used instances of the same kind as spare cells by a used replacement cell instance detection block 24, and both terminals of the detected instance are disconnected by a used replacement instance replacing block 25, and the instance is used instead of a spare cell. Disconnected terminal parts (unused circuit parts) are to be replaced to set a connection object again by a reference terminal coordinate resetting block 26, and each process is repeated one or a plurality of times. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、大規模半導体集積回路(LSI)などのレイアウト設計において、論理変更が行われた箇所に対してのみ配置配線処理を行う手法(以下、ECOと呼ぶ)の中でも、レイアウト設計時に、論理変更の際に用いる置き換え用の冗長セル(以下、スペアセルと呼ぶ)を予め配置しておき、その配置素子(以下、インスタンスと呼ぶ)を用いて配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更することにより論理変更を行うECO手法(以下、フリーズシリコンECOと呼ぶ)において、設計装置内部で実行される静的タイミング解析によりタイミング制約を満足させることができなかった場合に、タイミング制約が満足されるようにフリーズシリコンECOを行う半導体集積回路のレイアウト設計方法、このレイアウト設計方法に用いる半導体集積回路のレイアウト設計補助システム、このレイアウト設計補助システムが搭載された半導体集積回路の自動レイアウト設計装置、この自動レイアウト設計装置を用いて生成されたマスクパターンを有するフォトマスク、このフォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法、フォトマスクを用いて製造された半導体集積回路、フォトマスクを用いて半導体集積回路を製造する半導体集積回路の製造方法、上記半導体集積回路のレイアウト設計方法の各工程をコンピュータに実行させるための制御プログラムおよびこの制御プログラムが格納されたコンピュータ読み取り可能な可読記憶媒体に関する。   In the layout design of a large-scale semiconductor integrated circuit (LSI) or the like, the present invention is a method of performing placement and routing processing only on a place where logic has been changed (hereinafter referred to as ECO). Replacement redundant cells (hereinafter referred to as spare cells) to be used at the time of change are arranged in advance, and the mask layer in the manufacturing process is changed for the wiring layer and contact layer using the arrangement elements (hereinafter referred to as instances). In the ECO method (hereinafter referred to as “freeze silicon ECO”) in which the logic is changed, the timing constraint is satisfied when the timing constraint cannot be satisfied by the static timing analysis executed in the design apparatus. Layout design method for semiconductor integrated circuit that performs freeze silicon ECO Semiconductor integrated circuit layout design assisting system used in the design method, semiconductor integrated circuit automatic layout designing apparatus equipped with the layout design assisting system, photomask having a mask pattern generated using the automatic layout designing apparatus, Photomask manufacturing method for manufacturing this photomask, semiconductor integrated circuit manufactured using photomask, semiconductor integrated circuit manufacturing method for manufacturing semiconductor integrated circuit using photomask, and layout design method for semiconductor integrated circuit The present invention relates to a control program for causing a computer to execute each of the steps and a computer-readable readable storage medium storing the control program.

この種の半導体集積回路(以下、LSIという)のレイアウト設計に用いられるフリーズシリコンECOにおいて、例えば特許文献1に開示されているように、スペアセル(特許文献1内では回路変更用論理素子と呼ばれている)を用意するということが一般的に行われているが、通常、その使用に関しては、タイミング制約は考慮されていない。   In freeze silicon ECO used for layout design of this type of semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI), as disclosed in Patent Document 1, for example, a spare cell (referred to as a circuit changing logic element in Patent Document 1). In general, timing constraints are not considered for its use.

例えば、特許文献1においては、図15に示すように、実際の論理演算のために使用されている論理素子101の他に、回路変更用論理素子102を各スタンダードセルの列に配置し、コンタクト部103を用いて電源ライン104に各端子を接続させるという方法が記載されているが、そのスペアセルを使用する際にスペアセルを選択する方法やタイミング制約に関しては記載されていない。   For example, in Patent Document 1, as shown in FIG. 15, in addition to the logic element 101 used for the actual logic operation, a circuit changing logic element 102 is arranged in each standard cell column, and the contact is made. Although a method of connecting each terminal to the power supply line 104 using the unit 103 is described, a method of selecting a spare cell and timing constraints when using the spare cell are not described.

また、例えば特許文献2においては、図16に示すように、既存の論理素子111、112、113および114を用いた論理回路と組み合わせるようにスペアセル(特許文献2内ではダミー素子と呼ばれている)112aおよび114aを配置することによって、スペアセルを分散して配置させるという方法が記載されている。この方法では、論理変更を行う際にタイミング制約を満足させるような範囲でスペアセルが存在する可能性を高めることが可能であるが、それでも、タイミング制約を満足させないような論理変更が行われてしまうことが全く無いという保証はなく、特許文献1の場合と同様にスペアセルを選択する方法やタイミング制約に関しては記載されていない。   For example, in Patent Document 2, as shown in FIG. 16, a spare cell (referred to as a dummy element in Patent Document 2) is combined with a logic circuit using existing logic elements 111, 112, 113, and 114. ) A method of distributing spare cells by arranging 112a and 114a is described. In this method, it is possible to increase the possibility that a spare cell exists in a range that satisfies the timing constraint when performing the logic change, but the logic change that does not satisfy the timing constraint is still performed. There is no guarantee that there is nothing at all, and there is no description regarding a method of selecting a spare cell and timing constraints as in the case of Patent Document 1.

現在、フリーズシリコンECO機能が実現されているCADツールの一つであるSynopsys社の「Astro;アストロ」というソフトウェアでは、論理変更された入力ネットリスト(素子間の接続関係などを記述したテキストデータ)が読み込まれると、後述する図5に示すような現状のレイアウトのネットリストと、後述する図6に示すようなフリーズシリコンECOの入力ネットリストとの差異が検知される。   At present, the software called “Astr” by Synopsys, one of the CAD tools that realizes the freeze silicon ECO function, has a logically changed input netlist (text data describing the connection relationship between elements). Is read, a difference between a netlist of the current layout as shown in FIG. 5 described later and an input netlist of freeze silicon ECO as shown in FIG. 6 described later is detected.

後述する図5および図7に示すように、1列目X1はNORセル201の入力がネットn1とn2に接続され、出力がネットn3に接続されている。また、2列目X2はNANDセル202の入力がネットn3とn4に接続され、出力がネットn5に接続されている。さらに、3列目X3はINVセル203の入力がネットn6に接続され、その出力がネットn7に接続されている。さらに、4列目X4はNANDセル204の入力がネットn8とn9に接続され、その出力がネットn10に接続されている。さらに、5列目X5はINVセル205の入力がネットn10に接続され、その出力がネットn11に接続されている。さらに、6列目X6はINVセル208の入力がネットn12に接続され、その出力がネットn13に接続されている。さらに、7列目X7はNANDセル206の入力がネットn11とn13に接続され、その出力がネットn14に接続されている。さらに、8列目X8はNORセル209の入力がネットn15とn16に接続され、その出力がネットn17に接続されている。さらに、9列目X9はINVセル210の入力がネットn17に接続され、その出力がネットn18に接続されている。さらに、10列目X10はNORセル207の入力がネットn14とn18に接続され、その出力がネットn19に接続されている。   As shown in FIGS. 5 and 7 to be described later, in the first column X1, the input of the NOR cell 201 is connected to the nets n1 and n2, and the output is connected to the net n3. In the second column X2, the input of the NAND cell 202 is connected to the nets n3 and n4, and the output is connected to the net n5. Further, in the third column X3, the input of the INV cell 203 is connected to the net n6, and the output thereof is connected to the net n7. Further, in the fourth column X4, the input of the NAND cell 204 is connected to the nets n8 and n9, and the output thereof is connected to the net n10. Further, in the fifth column X5, the input of the INV cell 205 is connected to the net n10, and its output is connected to the net n11. Further, in the sixth column X6, the input of the INV cell 208 is connected to the net n12, and its output is connected to the net n13. Further, in the seventh column X7, the input of the NAND cell 206 is connected to the nets n11 and n13, and the output thereof is connected to the net n14. Further, in the eighth column X8, the input of the NOR cell 209 is connected to the nets n15 and n16, and the output thereof is connected to the net n17. Further, in the ninth column X9, the input of the INV cell 210 is connected to the net n17, and its output is connected to the net n18. Further, in the 10th column X10, the input of the NOR cell 207 is connected to the nets n14 and n18, and the output thereof is connected to the net n19.

したがって、図5の1列目のNORセル201の出力端子201bと2行目のNANDセル202の入力端子202aがネットn3を介して接続され、4列目のNANDセル204の出力端子204bと5列目のINVセル205の入力端子205aがネットn10を介して接続され、6列目のINVセル208の出力端子208bと7列目のNANDセル206の入力端子206aがネットn13を介して接続され、8列目のNORセル209の出力端子209bと9列目のINVセル210の入力端子210aがネットn17を介して接続され、9列目のINVセル210の出力端子210bと10列目のNORセル207の入力端子207aとがネットn18を介して接続されていることが分かる。   Therefore, the output terminal 201b of the NOR cell 201 in the first column in FIG. 5 and the input terminal 202a of the NAND cell 202 in the second row are connected via the net n3, and the output terminals 204b and 5 of the NAND cell 204 in the fourth column are connected. The input terminal 205a of the INV cell 205 in the column is connected via the net n10, the output terminal 208b of the INV cell 208 in the sixth column and the input terminal 206a of the NAND cell 206 in the seventh column are connected via the net n13. , The output terminal 209b of the NOR cell 209 in the eighth column and the input terminal 210a of the INV cell 210 in the ninth column are connected via the net n17, and the output terminal 210b of the INV cell 210 in the ninth column and the NOR in the tenth column. It can be seen that the input terminal 207a of the cell 207 is connected via the net n18.

これに対して、図6では、1列目X1と2列目X2の間にX11が挿入されて、X11のINVセル211の入力がネットn3に接続され、その出力がネットnx3に接続されている。また、X2のNANDセル202の入力がネットnx3に接続されている。したがって、1列目X1のNORセル201の出力端子201bと2行目X11のINVセル211の入力端子211aがネットn3を介して接続され、2列目X11のINVセル211の出力端子211bと3列目X2のNANDセル202の入力端子202aがネットnx3を介して接続されていることが分かる。   On the other hand, in FIG. 6, X11 is inserted between the first column X1 and the second column X2, the input of the INV cell 211 of X11 is connected to the net n3, and the output is connected to the net nx3. Yes. The input of the NAND cell 202 of X2 is connected to the net nx3. Therefore, the output terminal 201b of the NOR cell 201 in the first column X1 and the input terminal 211a of the INV cell 211 in the second row X11 are connected via the net n3, and the output terminals 211b and 3 of the INV cell 211 in the second column X11 are connected. It can be seen that the input terminal 202a of the NAND cell 202 in the column X2 is connected via the net nx3.

要するに、CADベンダー各社の自動レイアウトツールにおける、メタル以降のレイヤのみを変更して論理変更を行うフリーズシリコンECO機能では、予め論理変更の際に入れ替えを行うために冗長に配置されたスペアセルのみを対象としてする。例えば、図17に示すように、配置されているスペアセルの中で、使用したいセルが近くになかった場合、遠くのスペアセルを使いに行かざるを得ず、クロック信号に係るタイミング制約を満足できる修正が不可能なケースも存在している。   In short, the freeze silicon ECO function that changes the logic by changing only the layers after the metal in the automatic layout tool of each CAD vendor company targets only spare cells that are redundantly arranged in advance for replacement when the logic is changed. To do. For example, as shown in FIG. 17, when a cell to be used is not nearby among the arranged spare cells, it is inevitably necessary to use a far spare cell and can satisfy the timing constraint related to the clock signal. There are cases where this is impossible.

図7において、検出されたインスタンス(図6ではX11のインスタンスが相当)を変更するためには、その検出されたインスタンスから最も近くに存在するスペアセルのインスタンスが使用されるようになっている。しかしながら、その結果として得られるレイアウトがタイミング制約を満足させていなかったとしても、そのタイミング制約を満足させるために何か特別な処理が為されるということはない。   In FIG. 7, in order to change the detected instance (corresponding to the instance of X11 in FIG. 6), an instance of a spare cell that is closest to the detected instance is used. However, even if the resulting layout does not satisfy the timing constraints, no special processing is performed to satisfy the timing constraints.

フリーズシリコンECO実施後のレイアウトにおいて、タイミング制約を満足させることができなかった場合には、設計者が手作業によりフリーズシリコンECOの入力ネットリストを変更することによって、より能力が高いスペアセルのインスタンスを用いてタイミング制約を調整したり、近くに存在するスペアセルのインスタンスのみを用いるように論理の組み替えを行ったりしている。しかしながら、いずれの手法を用いても、人手による多大な労力が必要とされることになる。また、その場合、使用素子数が増加し、消費電力も増加することになり、さらに、複雑な作業を人手で行うことによる設計期間の増長や人為的ミスを招くことにもなり兼ねない。さらに、フリーズシリコンECO機能を行わずに金属配線層およびコンタクト層以外の層を変更するということも考えられるが、その場合には、金属配線層およびコンタクト層以外の層を製造する工程においてマスクを再作成するためのコストが余分にかかる。   If the timing constraint cannot be satisfied in the layout after the freeze silicon ECO is performed, the designer can manually change the input net list of the freeze silicon ECO to create an instance of a spare cell having a higher capacity. The timing constraints are adjusted using the logic, or the logic is rearranged so that only instances of spare cells existing nearby are used. However, regardless of which method is used, a great deal of labor is required manually. In this case, the number of elements used increases and the power consumption also increases, and further, it may lead to an increase in design period and human error due to complicated work performed manually. Furthermore, it is conceivable to change the layers other than the metal wiring layer and the contact layer without performing the freeze silicon ECO function. In that case, in the process of manufacturing the layers other than the metal wiring layer and the contact layer, a mask is used. Extra cost to recreate.

さらに、スペアセルのインスタンスを使用して、特許文献2により得られる以上の効果によりタイミング制約を高確率で満足させようとする場合、予め従来よりも多くのスペアセルのインスタンスをレイアウト上に配置しておくという解決方法も考えられる。しかしながら、現状では、使用セルのインスタンスに対するスペアセルのインスタンスの割合は、経験上、使用セルのインスタンスのみを配置した場合と比べて、チップ面積を増大させずにスペアセルのインスタンスを配置可能な範囲内という割合になっており、スペアセルのインスタンスを現在以上に配置するということは、即ち、チップ面積を増大させるということにつながる。チップ面積の増大は、ウェハに形成されるチップ数の減少につながり、1チップ当たりのコスト増大につながる。
特開平2−7542号公報 特開2003−132110号公報
Furthermore, when using the spare cell instances to satisfy the timing constraint with a high probability by the effect more than that obtained by Patent Document 2, more spare cell instances are arranged on the layout in advance than in the prior art. A solution is also conceivable. However, at present, the ratio of the instance of the spare cell to the instance of the used cell is based on experience that it is within the range in which the instance of the spare cell can be arranged without increasing the chip area as compared with the case where only the instance of the used cell is arranged. The number of spare cell instances is more than the present, that is, the chip area is increased. An increase in chip area leads to a decrease in the number of chips formed on the wafer, leading to an increase in cost per chip.
Japanese Patent Laid-Open No. 2-7542 JP 2003-132110 A

しかしながら、上記従来技術には、以下のような問題がある。   However, the above prior art has the following problems.

上述したように、従来技術では、特許文献1や特許文献2に開示されているか、もしくは既に製品化されているソフトウェアの機能としてのフリーズシリコンECOを行う際に、タイミング制約が満足されなかった場合に、そのままタイミング制約が満足されていないレイアウトが出力されてしまう。このため、人手によりフリーズシリコンECOの入力ネットリストを変更してフリーズシリコンECOを再実行することになる。したがって、これらの従来技術では、消費電力が増加し、設計期間が長大化し、さらに人為的な設計作業ミスを誘発することも懸念される。   As described above, in the prior art, the timing constraints are not satisfied when performing freeze silicon ECO as disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2 or as a software function that has already been commercialized. In addition, a layout that does not satisfy the timing constraint is output as it is. For this reason, the freeze silicon ECO is re-executed by manually changing the input net list of the freeze silicon ECO. Therefore, in these conventional techniques, there is a concern that power consumption increases, the design period becomes longer, and that artificial design work mistakes are induced.

また、フリーズシリコンECO機能を行わず、金属配線層およびコンタクト層以外の層を変更する場合、マスクコストが増大するという問題がある。   Further, when the layers other than the metal wiring layer and the contact layer are changed without performing the freeze silicon ECO function, there is a problem that the mask cost increases.

さらに、特許文献1や特許文献2に開示されているようなスペアセルのインスタンスを、現状よりも多く配置しておく場合、実際に回路で使用しているセル数のおよそ1割程度をスペアセルとして配置しているのが現状であり、これではチップ面積が増大するため、チップのコストが増大し、さらに、フリーズシリコンECO機能を行う際にタイミング制約が満足されない虞も残される。   Furthermore, in the case where more spare cell instances as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 are arranged than in the current situation, about 10% of the number of cells actually used in the circuit is arranged as spare cells. However, since the chip area increases, the cost of the chip increases, and there is a possibility that the timing constraint is not satisfied when the freeze silicon ECO function is performed.

本発明は、上記従来の問題を解決するもので、従来技術のようなスペアセルの配置においても、タイミング制約を満足させるように、フリーズシリコンECOにおける入力ネットリストを自動的に変更させ、そのネットリストを用いてフリーズシリコンECOを行うことができる半導体集積回路のレイアウト設計方法、これを用いた半導体集積回路の自動レイアウト設計装置、これに用いる半導体集積回路のレイアウト設計補助システム、この自動レイアウト設計装置を用いて製造されたフォトマスク、この自動レイアウト設計装置を用いたフォトマスクの製造方法、このフォトマスクを用いて製造された半導体集積回路、このフォトマスクを用いた半導体集積回路の製造方法、この半導体集積回路のレイアウト設計方法をコンピュータに実行させるための制御プログラムおよびこの制御プログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な可読記憶媒体を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned conventional problem. Even in the arrangement of spare cells as in the prior art, the input netlist in freeze silicon ECO is automatically changed so as to satisfy the timing constraint, and the netlist is changed. Layout design method for semiconductor integrated circuit capable of performing freeze silicon ECO using semiconductor, automatic layout design apparatus for semiconductor integrated circuit using the same, layout design assisting system for semiconductor integrated circuit used therefor, and automatic layout design apparatus Photomask manufactured using the photomask, method for manufacturing photomask using the automatic layout design apparatus, semiconductor integrated circuit manufactured using the photomask, method for manufacturing semiconductor integrated circuit using the photomask, and semiconductor Implementation of integrated circuit layout design method on a computer And to provide a computer readable readable storage medium in which a control program and the control program is recorded for causing.

本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法は、半導体集積回路の自動レイアウト設計後に、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行うために、セルのレイアウト設計時に、論理変更時に用いる冗長セルを予め配置しておき、該冗長セルを接続対象に接続可能とするレイアウト設計方法において、レイアウト設計補助コンピュータシステムが、自動レイアウト設計後のマスクパターンに対して論理変更を行う際に、該冗長セルによりタイミング制約を満足させることができない場合に、該タイミング制約を満足させるような位置範囲にある、該冗長セルと同種類の既使用セルの中から、該接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを検出し、該冗長セルの代わりに用いた検出既使用セルを新たな接続対象として、当該新たな接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを接続する処理を、該タイミング制約を満足させるような位置範囲内に該冗長セルが現れるまで繰り返し行って、最後に該冗長セルを用いるレイアウト設計補助ステップを有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。   According to the layout design method for a semiconductor integrated circuit of the present invention, the logic is changed by changing the mask layer in the manufacturing process for the wiring layer and the contact layer after the automatic layout design of the semiconductor integrated circuit. In the layout design method in which redundant cells to be used at the time of change are arranged in advance and the redundant cells can be connected to the connection target, when the layout design auxiliary computer system performs logic change on the mask pattern after the automatic layout design In addition, when the timing constraint cannot be satisfied by the redundant cell, the connection target or the redundancy is selected from the already used cells of the same type as the redundant cell in the position range that satisfies the timing constraint. Detected used cell that is used in place of the redundant cell by detecting the used cell closest to the cell As the new connection target, the process of connecting the new connection target or the used cell closest to the redundant cell is repeated until the redundant cell appears in a position range that satisfies the timing constraint. The layout design assisting step using the redundant cell is provided, and the above object is achieved.

また、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるレイアウト設計補助ステップは、スペアセル検知手段が、前記接続対象に接続すべき冗長セルを検知するスペアセル検知ステップと、スペアセル方向範囲検知手段が、該接続対象の位置から該冗長セルの方向を含む方向範囲を検知するスペアセル方向範囲検知ステップと、タイミング制約満足範囲検知手段が、該検知された方向範囲の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲を検知するタイミング制約満足範囲検知ステップと、既使用置換セルインスタンス検知手段が、該検知された距離範囲に該冗長セルが存在しない場合に、回路中に組み込まれて既に存在する、該冗長セルと同種類のセルの中から、該距離範囲内の該接続対象または該冗長セルから最も近いセルを検知する既使用置換セルインスタンス検知ステップと、既使用インスタンス置換手段が、該検知されたセルを切り離して該接続対象に接続する既使用インスタンス置換ステップと、置換伝播手段が、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように最終的に該冗長セルに置き換えを行うまで各ステップを一または複数回繰り返し行わせる置換伝播ステップとを有する。   Preferably, in the layout design assisting step in the semiconductor integrated circuit layout design method of the present invention, the spare cell detection means includes a spare cell detection step for detecting a redundant cell to be connected to the connection target, and a spare cell direction range detection means. A spare cell direction range detection step for detecting a direction range including the direction of the redundant cell from the position to be connected, and a timing constraint satisfaction range detection means further relate to the clock signal in the detected direction range. A timing constraint satisfaction range detection step for detecting a distance range that satisfies a timing constraint and an already used replacement cell instance detection means are incorporated in a circuit when the redundant cell does not exist in the detected distance range. Already existing within the distance range from the same type of cells as the redundant cell. A used replacement cell instance detection step for detecting a cell closest to the target or the redundant cell; a used instance replacement step in which a used instance replacement unit separates the detected cell and connects to the connection target; The propagation means has a replacement propagation step that repeats each step one or more times until the redundancy cell is finally replaced so as to satisfy the timing constraint relating to the clock signal.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル検知ステップは、前記接続対象からの直線距離が最も近い箇所に存在する冗長セルを検知する。   Still preferably, in a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the spare cell detection step detects a redundant cell existing at a location where the straight line distance from the connection target is the shortest.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル検知ステップは、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行う自動レイアウトツールを用いて前記接続対象に接続されるべき冗長セルを検知する。   Further preferably, the spare cell detection step in the layout design method of the semiconductor integrated circuit according to the present invention is performed by using an automatic layout tool for changing a mask layer in a manufacturing process for a wiring layer and a contact layer to change the connection target using the automatic layout tool. Detect redundant cells to be connected.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル方向範囲検知ステップは、前記方向範囲を、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係として検出する。   Still preferably, in a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the spare cell direction range detecting step detects the direction range as a positional relationship between the connection target and the redundant cell.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル方向範囲検知ステップは、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係を検出する際に、ネットリストまたは回路図情報上で、該冗長セルの端子と該接続対象の端子との間の関係を検出する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the spare cell direction range detection step may be performed on the netlist or circuit diagram information when detecting the positional relationship between the connection target and the redundant cell. The relationship between the redundant cell terminal and the connection target terminal is detected.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル方向範囲検知ステップは、前記半径として、前記冗長セルの端子座標とこれに接続されるべき前記接続対象の端子座標とを結ぶ直線の長さをそれぞれの座標から算出する。   Further preferably, in the semiconductor integrated circuit layout design method of the present invention, the spare cell direction range detection step includes, as the radius, a straight line connecting the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target to be connected thereto. Is calculated from the respective coordinates.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における接続対象の所定位置を中心として、該冗長セルと該接続対象とを結ぶ直線距離を半径とし、該接続対象から該冗長セルの方向を角度として算出し、算出された角度から正方向および負方向にそれぞれ所定範囲の角度を指定してその合計を中心角とし、該冗長セル側を円弧側として、前記方向範囲を、該半径を有する扇形領域として算出する。   Further preferably, in a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, a radius that is a straight line connecting the redundant cell and the connection target with a predetermined position of the connection target as a center, and a direction from the connection target to the redundancy cell. From the calculated angles, specifying a predetermined range of angles in the positive direction and the negative direction, respectively, and using the total as the central angle, the redundant cell side as the arc side, and the directional range as the radius It is calculated as a sector area.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル方向範囲検知ステップは、前記接続対象から前記冗長セルへの方向を、該冗長セルの端子座標とこれに接続されるべき前記接続対象の端子座標とから三角関数を用いて該冗長セルの方向を角度として算出する。   Further preferably, the spare cell direction range detection step in the layout design method of the semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises the direction from the connection target to the redundant cell, the terminal coordinates of the redundant cell, and the connection to be connected thereto. The direction of the redundant cell is calculated as an angle from the target terminal coordinates using a trigonometric function.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル方向範囲検知ステップは、前記正方向および負方向の所定範囲の角度としてそれぞれ、0度以上180度以下の範囲内の角度をそれぞれ指定する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the spare cell direction range detection step may be performed by setting angles within a range of 0 degrees or more and 180 degrees or less as angles of the predetermined range in the positive direction and the negative direction, respectively. specify.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるスペアセル方向範囲検知ステップは、前記扇形領域を図形演算処理により検出する際に、前記接続対象の中心座標を通る一次方程式の直線と、該中心座標を通る他の一次方程式の直線に挟まれた前記中心角の領域から、該中心座標からの距離が前記半径の値よりも小さい領域を検出する。   Further preferably, the spare cell direction range detection step in the layout design method of the semiconductor integrated circuit of the present invention, when detecting the fan-shaped region by graphic calculation processing, a straight line of a linear equation passing through the center coordinates of the connection target, A region having a distance from the central coordinate smaller than the radius is detected from the central angle region sandwiched between straight lines of other linear equations passing through the central coordinate.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるタイミング制約満足範囲検知ステップは、前記接続対象に接続される配線の幅と長さから抵抗および容量を試算して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させる該接続対象からの距離範囲を算出し、前記検知された方向範囲の中で、タイミング制約を満足させる距離範囲を検知する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the timing constraint satisfaction range detecting step relates to a clock signal by calculating a resistance and a capacitance from the width and length of the wiring connected to the connection target. A distance range from the connection target that satisfies the timing constraint is calculated, and a distance range that satisfies the timing constraint is detected in the detected direction range.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法におけるタイミング制約満足範囲検知ステップは、元の回路図に対して静的タイミング解析を実行することにより、前記接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から割り出される遅延値を用いて、現状タイミングのセットアップタイムおよびホールドタイムからの余裕度を割り出し、該余裕度から割り出される、タイミング制約を満足させる範囲の配線長さを、該接続対象と前記冗長セルの各座標の差の絶対値の総和を2点間の距離とするマンハッタン距離により算出後、該各座標の始点および終点の2点間の直線距離を算出し、算出された直線距離を前記中心からの距離として前記扇形領域内部の範囲を検知する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the timing constraint satisfaction range detection step performs static timing analysis on the original circuit diagram to thereby detect the wiring connected to the connection target. Using the delay value calculated from the resistance and capacitance per length, calculate the margin from the setup time and hold time of the current timing, and calculate the wiring length within the range satisfying the timing constraint calculated from the margin Is calculated by a Manhattan distance in which the sum of absolute values of differences between the coordinates of the connection target and the redundant cell is a distance between two points, and then a linear distance between the two points of the start point and the end point of each coordinate is calculated. The range within the sector area is detected using the calculated linear distance as the distance from the center.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで検知された距離範囲に存在する、前記冗長セルと同種類のセルを全て探知し、それぞれの端子座標について前記接続対象の端子座標との直線距離をそれぞれ算出して、各直線距離の中で最も短いまたは最も長い該同種類のセルの端子座標を検知する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the used replacement cell instance detection step is a cell of the same type as the redundant cell that exists in the distance range detected in the timing constraint satisfaction range detection step. Are detected, and a straight line distance from the terminal coordinates of the connection target is calculated for each terminal coordinate, and the shortest or longest terminal coordinate of the same type cell is detected in each straight line distance.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで検知された距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、エラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the used replacement cell instance detection step, a cell of the same type as the redundant cell is already used in the distance range detected in the timing constraint satisfaction range detection step. If there is no existing state, the used replacement cell instance detection process is canceled as an error process.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで検知された距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルの端子が既に使用された状態で存在しなかった場合に、前記正方向および負方向の所定範囲の角度として指定される角度をより大きい値に変更して該距離範囲を広げる。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the used replacement cell instance detection step, a terminal of a cell of the same type as the redundant cell is located in the distance range detected in the timing constraint satisfaction range detection step. If it does not exist in the already used state, the distance range is expanded by changing the angle designated as the angle of the predetermined range in the positive direction and the negative direction to a larger value.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度以下の場合に、前記スペアセル方向範囲検知ステップに対して、該角度が85度以下であれば5度加えて指定させ、該角度が85度よりも大きく90度以下であれば90度に指定させる。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the used replacement cell instance detection step may detect the spare cell direction range when the angles specified in the positive direction and the negative direction are 90 degrees or less, respectively. If the angle is 85 degrees or less, the step is designated by 5 degrees, and if the angle is greater than 85 degrees and 90 degrees or less, 90 degrees is designated.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度よりも大きい場合にエラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止処理する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the used replacement cell instance detection step is used as error processing when the angles specified in the positive direction and the negative direction are each greater than 90 degrees. The replacement cell instance detection process is canceled.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用インスタンス置換ステップは、前記既使用置換セルインスタンス検知ステップで検知したセルの両端子(例えばインバータの入出力端子や、2入力ゲートの2入力端子または、2入力ゲートの2入力端子および出力端子などの場合を含む)への配線を切り離し、該切り離したセルの端子と、前記接続対象の端子とを配線により接続するように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the used instance replacement step includes both terminals of the cell detected in the used replacement cell instance detection step (for example, an input / output terminal of an inverter or a two-input gate). The two input terminals or the two input terminals and the output terminals of the two input gates), and the terminal of the disconnected cell and the connection target terminal are connected by wiring. Change the netlist used for automatic placement and routing.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用インスタンス置換ステップは、前記既使用置換セルインスタンス検知ステップで検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されないインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されないインスタンスの直前のインスタンスの出力端子と該次に論理変更されないインスタンスの入力端子が接続されるように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する。   Further preferably, when the used instance replacement step in the semiconductor integrated circuit layout design method of the present invention includes an instance that is not logically changed next as an instance of the cell detected in the used replacement cell instance detection step, The netlist used for the automatic placement and routing process is changed so that the output terminal of the instance immediately before the next instance whose logic is not changed is connected to the input terminal of the next instance whose logic is not changed.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における既使用インスタンス置換ステップは、前記既使用置換セルインスタンス検知ステップで検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されるインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されるインスタンスの出力端子を、今回の論理変更が加えられる箇所の直前のインスタンスの出力端子として再設定して、前記スペアセル検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各処理を行う。   Further preferably, in the case where the used instance replacement step in the semiconductor integrated circuit layout design method of the present invention includes an instance that is logically changed next as an instance of the cell detected in the used replacement cell instance detection step. Then, the output terminal of the instance whose logic is changed next is reset as the output terminal of the instance immediately before the location where the current logic change is applied, and each processing from the spare cell detection step to the used instance replacement step is performed. I do.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における置換伝播ステップは、前記スペアセル方向範囲検知ステップによる処理の際に方向を求める基準となる座標として、前記既使用インスタンス置換ステップにより置き換えられるインスタンスの位置座標が設定される。   Still preferably, in a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the replacement propagation step is replaced by the used instance replacement step as a reference coordinate for obtaining a direction in the processing by the spare cell direction range detection step. The position coordinates of the instance are set.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における置換伝播ステップは、前記既使用インスタンス置換ステップで切り離されたインスタンスを、前記スペアセル方向範囲検知ステップにおける新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで前記冗長セルが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各ステップの処理を繰り返し行う。   Further preferably, the replacement propagation step in the semiconductor integrated circuit layout design method of the present invention resets the instance separated in the used instance replacement step as a new connection target in the spare cell direction range detection step, Until the redundant cell is detected in the timing constraint satisfaction range detection step, the process of each step from the spare cell direction range detection step to the used instance replacement step is repeated one or more times.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における置換伝播ステップは、前記既使用インスタンス置換ステップで切り離される直前のインスタンスの端子座標を、前記スペアセル方向範囲検知ステップにおける新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各ステップの処理を繰り返し行う。   Further preferably, in the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the replacement propagation step uses the terminal coordinates of the instance immediately before being disconnected in the used instance replacement step as a new connection target in the spare cell direction range detection step. Reset, and repeat the processing of each step from the spare cell direction range detection step to the used instance replacement step one or more times until the redundant cell instance is detected in the timing constraint satisfaction range detection step. .

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路のレイアウト設計方法における置換伝播ステップは、前記既使用インスタンス置換ステップで置き換えられて空いた回路部分の座標を、前記スペアセル方向範囲検知ステップにおける新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各ステップの処理を繰り返し行う。   Still preferably, in a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, in the replacement propagation step, the coordinates of the circuit portion that has been replaced by the used instance replacement step are used as a new connection target in the spare cell direction range detection step. And the process of each step from the spare cell direction range detection step to the used instance replacement step is repeated one or more times until the redundant cell instance is detected in the timing constraint satisfaction range detection step. Do.

本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置は、半導体集積回路の自動レイアウト設計後に、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行うために、セルのレイアウト設計時に、論理変更時に用いる冗長セルを予め配置しておき、該冗長セルを接続対象に接続制御する半導体集積回路の自動レイアウト設計装置において、自動レイアウト設計後のマスクパターンに対して論理変更を行う際に、該冗長セルによりタイミング制約を満足させることができない場合に、該タイミング制約を満足させるような位置範囲にある、該冗長セルと同種類の既使用セルの中から、該接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを検出し、該冗長セルの代わりに用いた検出既使用セルを新たな接続対象として、当該新たな接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを接続する処理を、該タイミング制約を満足させるような位置範囲内に該冗長セルが現れるまで繰り返し行って、最後に該冗長セルを用いるレイアウト設計補助コンピュータシステムを有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention performs a logic change by changing a mask layer in a manufacturing process for a wiring layer and a contact layer after an automatic layout design of a semiconductor integrated circuit. In an automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit that preliminarily arranges redundant cells to be used at the time of logic change and controls connection of the redundant cells to a connection target, when performing logic change on a mask pattern after automatic layout design, When the timing constraint cannot be satisfied by the redundant cell, the connection target or the redundant cell is selected from the used cells of the same type as the redundant cell in the position range that satisfies the timing constraint. The closest used cell is detected, and the detected used cell used in place of the redundant cell is set as a new connection target. The process of connecting the newly connected cell or the used cell closest to the redundant cell is repeated until the redundant cell appears in a position range that satisfies the timing constraint, and finally the redundant cell is It has a layout design auxiliary computer system to be used, whereby the above object is achieved.

また、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるレイアウト設計補助コンピュータシステムは、前記接続対象に接続すべき冗長セルを検知するスペアセル検知手段と、該接続対象の位置から該冗長セルの方向を含む方向範囲を検知するスペアセル方向範囲検知手段と、該検知された方向範囲の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲を検知するタイミング制約満足範囲検知手段と、該検知された距離範囲に該冗長セルが存在しない場合に、回路中に組み込まれて既に存在する、該冗長セルと同種類のセルの中から、該距離範囲内の該接続対象または該冗長セルから最も近いセルを検知する既使用置換セルインスタンス検知手段と、該検知されたセルを切り離して該接続対象に接続する既使用インスタンス置換手段と、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように最終的に該冗長セルに置き換えを行うまで各処理を一または複数回繰り返し行わせる置換伝播手段とを有する。   Preferably, the layout design auxiliary computer system in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus of the present invention comprises a spare cell detection means for detecting a redundant cell to be connected to the connection target, and the redundant cell from the position of the connection target. Spare cell direction range detection means for detecting a direction range including the direction of the signal, and a timing constraint satisfaction range detection means for detecting a distance range that satisfies a timing constraint related to the clock signal in the detected direction range. And when the redundant cell does not exist in the detected distance range, the connection target within the distance range or the cell from the same type of cells as the redundant cell already included in the circuit is included in the circuit. Used replacement cell instance detection means for detecting the closest cell from the redundant cell and the connection by disconnecting the detected cell It has a previously used instance substitution means connected to the elephants, and substituted propagation means for repeated one or more times each process until the replacement eventually the redundant cells to satisfy the timing constraints related to the clock signal.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル検知手段は、前記接続対象からの直線距離が最も近い箇所に存在する冗長セルを検知する。   Further preferably, the spare cell detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention detects a redundant cell existing at a location where the straight line distance from the connection target is the shortest.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル検知手段は、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行う自動レイアウトツールを用いて前記接続対象に接続されるべき冗長セルを検知する。   Further preferably, the spare cell detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention uses the automatic layout tool for changing the mask layer in the manufacturing process for the wiring layer and the contact layer to change the connection target. A redundant cell to be connected to is detected.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル方向範囲検知手段は、前記方向範囲を、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係として検出する。   Further preferably, the spare cell direction range detecting means in the semiconductor integrated circuit automatic layout designing apparatus of the present invention detects the direction range as a positional relationship between the connection object and the redundant cell.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル方向範囲検知手段は、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係を検出する際に、ネットリストまたは回路図情報上で、該冗長セルの端子と該接続対象の端子との間の関係を検出する。   Further preferably, the spare cell direction range detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, when detecting the positional relationship between the connection object and the redundant cell, on the netlist or circuit diagram information, The relationship between the redundant cell terminal and the connection target terminal is detected.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における接続対象の位置を中心として、該冗長セルと該接続対象とを結ぶ直線距離を半径とし、該接続対象からの該冗長セルの方向を角度として算出し、算出された角度から正方向および負方向にそれぞれ所定範囲の角度を指定してその合計を中心角とし、該冗長セル側を円弧側として、前記方向範囲を、該半径を有する扇形領域として算出する。   Further preferably, in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the radius of a straight line connecting the redundant cell and the connection target with the position of the connection target as a center, and the redundancy cell from the connection target. The direction is calculated as an angle, and a predetermined range of angles is designated in the positive direction and the negative direction from the calculated angle, the sum thereof is defined as the central angle, the redundant cell side is defined as the arc side, and the direction range is defined as the radius. It is calculated as a sector area having

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル方向範囲検知手段は、前記半径として、前記冗長セルの端子座標と前記接続対象の端子座標を結ぶ直線の長さをそれぞれの座標から算出する。   Further preferably, the spare cell direction range detecting means in the semiconductor integrated circuit automatic layout designing apparatus of the present invention is configured such that the radius is a length of a straight line connecting the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target. Calculate from the coordinates.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル方向範囲検知手段は、前記接続対象から前記冗長セルへの方向を、該冗長セルの端子座標と前記接続対象の端子座標から三角関数を用いて該冗長セルの方向を角度として算出する。   Further preferably, the spare cell direction range detection means in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus of the present invention determines the direction from the connection target to the redundant cell from the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target. The direction of the redundant cell is calculated as an angle using a trigonometric function.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル方向範囲検知手段は、前記正方向および負方向の所定範囲の角度としてそれぞれ、0度以上180度以下の範囲内の角度をそれぞれ指定する。   Further preferably, the spare cell direction range detecting means in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus of the present invention is configured to set angles within a range of 0 degrees or more and 180 degrees or less as the predetermined range angles in the positive direction and the negative direction, respectively. Specify each.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるスペアセル方向範囲検知手段は、前記扇形領域を図形演算処理により検出する際に、前記接続対象の中心座標を通る一次方程式の直線と、該中心座標を通る他の一次方程式の直線に挟まれた前記中心角の領域から、該中心座標からの距離が前記半径の値よりも小さい領域を検出する。   Further preferably, the spare cell direction range detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, when detecting the fan-shaped area by graphic operation processing, a straight line of a linear equation passing through the center coordinates of the connection target, Then, a region having a distance from the central coordinate smaller than the radius value is detected from the central angle region sandwiched between straight lines of other linear equations passing through the central coordinate.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるタイミング制約満足範囲検知手段は、前記接続対象に接続される配線の幅と長さから抵抗および容量を試算して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させる該接続対象からの距離範囲を算出し、前記検知された方向範囲の中で、タイミング制約を満足させる距離範囲を検知する。   Further preferably, the timing constraint satisfaction range detecting means in the semiconductor integrated circuit automatic layout designing apparatus of the present invention calculates the resistance and the capacitance from the width and length of the wiring connected to the connection target, and generates the clock signal. A distance range from the connection target that satisfies the related timing constraint is calculated, and a distance range that satisfies the timing constraint is detected in the detected direction range.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置におけるタイミング制約満足範囲検知手段は、元の回路図に対して静的タイミング解析を実行することにより、前記接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から割り出される遅延値を用いて、現状タイミングのセットアップタイムおよびホールドタイムからの余裕度を割り出し、該余裕度から割り出される、タイミング制約を満足させる範囲の配線長さを、該接続対象と前記冗長セルの各座標の差の絶対値の総和を2点間の距離とするマンハッタン距離により算出後、該各座標の始点および終点の2点間の直線距離を算出し、算出された直線距離を前記中心からの距離として前記扇形領域内部の範囲を検知する。   Further preferably, the timing constraint satisfaction range detection means in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus according to the present invention is a wiring connected to the connection target by performing a static timing analysis on the original circuit diagram. Using the delay value calculated from the resistance and capacitance per length, calculate the margin from the setup time and hold time of the current timing, and the wiring length within the range satisfying the timing constraint calculated from the margin After calculating the Manhattan distance using the sum of the absolute values of the differences between the coordinates of the connection target and the redundant cell as the distance between the two points, the linear distance between the two points of the start point and the end point of each coordinate is calculated. Then, the range within the sector area is detected using the calculated straight line distance as the distance from the center.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記タイミング制約満足範囲検知手段で検知した距離範囲に存在する、前記冗長セルと同種類のセルを全て探知し、それぞれの端子座標について前記接続対象の端子座標との直線距離をそれぞれ算出して、各直線距離の中で最も短いまたは最も長い該同種類のセルの端子座標を検知する。   Further preferably, the used replacement cell instance detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a cell of the same type as the redundant cell, present in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection means. Are detected, and a straight line distance from the terminal coordinates of the connection target is calculated for each terminal coordinate, and the shortest or longest terminal coordinate of the same type cell is detected in each straight line distance.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記タイミング制約満足範囲検知手段で検知した距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、エラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止する。   Further preferably, in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the used replacement cell instance detection means is already used by the same type of cell as the redundant cell in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection means. If there is no existing state, the used replacement cell instance detection process is canceled as an error process.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記タイミング制約満足範囲検知手段で検知された距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、前記正方向および負方向の所定範囲の角度として指定される角度をより大きい値に変更して該距離範囲を広げる。   Further preferably, in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the already used replacement cell instance detection means has a cell of the same type as the redundant cell already in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection means. If it does not exist in the used state, the angle designated as the angle of the predetermined range in the positive direction and the negative direction is changed to a larger value to widen the distance range.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度以下の場合に、前記スペアセル方向範囲検知手段に対して、該角度が85度以下であれば5度加えて指定させ、該角度が85度よりも大きく90度以下であれば90度に指定させる。   Furthermore, it is preferable that the used replacement cell instance detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention has the spare cell direction range when the angles specified in the positive direction and the negative direction are 90 degrees or less, respectively. If the angle is 85 degrees or less, the detection means is designated by adding 5 degrees, and if the angle is greater than 85 degrees and 90 degrees or less, the detection means is designated 90 degrees.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度よりも大きい場合にエラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止処理する。   Further preferably, the used replacement cell instance detection means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention preferably performs error processing as error processing when the angles specified in the positive direction and the negative direction are each greater than 90 degrees. Cancel the used replacement cell instance detection process.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用インスタンス置換手段は、前記既使用置換セルインスタンス検知手段で検知したセルの両端子(例えばインバータの入出力端子や、2入力ゲートの2入力端子または、2入力ゲートの2入力端子および出力端子などの場合を含む)への配線を切り離し、該切り離したセルの端子と、前記接続対象の端子とを配線により接続するように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する。   Further preferably, the used instance replacement means in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus of the present invention is configured so that both terminals of the cells detected by the used replacement cell instance detection means (for example, input / output terminals of an inverter and two inputs The wiring to the two input terminals of the gate or the two input terminals and the output terminal of the two-input gate) is separated, and the terminal of the separated cell and the connection target terminal are connected by the wiring. The net list used for the automatic placement and routing process is changed.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用インスタンス置換手段は、前記既使用置換セルインスタンス検知手段で検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されないインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されないインスタンスの直前のインスタンスの出力端子と該次に論理変更されないインスタンスの入力端子が接続されるように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する。   Further preferably, when the used instance replacement means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes an instance that is not logically changed next as an instance of the cell detected by the used replacement cell instance detection means. The netlist used for the automatic placement and routing process is changed so that the output terminal of the instance immediately before the next instance whose logic is not changed is connected to the input terminal of the next instance whose logic is not changed.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における既使用インスタンス置換手段は、前記既使用置換セルインスタンス検知手段で検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されるインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されたインスタンスの出力端子を、今回の論理変更が加えられる箇所の直前のインスタンスの出力端子として再設定して、前記スペアセル検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を行う。   Further preferably, the used instance replacement means in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus of the present invention includes an instance that is logically changed next as an instance of a cell detected by the used replacement cell instance detection means. Resets the output terminal of the instance whose logic has been changed next as the output terminal of the instance immediately before the location where the current logic change is made, and from each of the spare cell detection means to the already used instance replacement means Process.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における置換伝播手段は、前記スペアセル方向範囲検知手段による処理の際に方向を求める基準となる座標として、前記既使用インスタンス置換手段により置き換えられるインスタンスの位置座標が設定される。   Further preferably, the replacement propagation means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is replaced by the used instance replacement means as coordinates serving as a reference for obtaining a direction in the processing by the spare cell direction range detection means. The position coordinates of the instance to be set are set.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における置換伝播手段は、前記既使用インスタンス置換手段で切り離されたインスタンスを、前記スペアセル方向範囲検知手段における新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知手段で前記冗長セルが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を繰り返し行う。   Further preferably, the replacement propagation means in the semiconductor integrated circuit automatic layout design apparatus of the present invention resets the instance separated by the used instance replacement means as a new connection target in the spare cell direction range detection means. Each process from the spare cell direction range detection means to the already used instance replacement means is repeated one or more times until the redundant cell is detected by the timing constraint satisfaction range detection means.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における置換伝播手段は、前記既使用インスタンス置換手段で切り離される直前のインスタンスの端子座標を、前記スペアセル方向範囲検知手段における新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知手段で前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を繰り返し行う。   Further preferably, the replacement propagation means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is configured such that the terminal coordinates of the instance immediately before being disconnected by the already-used instance replacement means are set as new connection targets in the spare cell direction range detection means. And the processing from the spare cell direction range detection means to the used instance replacement means is repeated one or more times until the timing constraint satisfaction range detection means detects the redundant cell instance.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置における置換伝播手段は、前記既使用インスタンス置換手段で置き換えられて空いた回路部分の座標を、前記スペアセル方向範囲検知手段における新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知手段で前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を繰り返し行う。   Further preferably, the replacement propagation means in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is configured such that the coordinates of the vacant circuit portion replaced by the used instance replacement means are newly connected in the spare cell direction range detection means. The target is reset, and each process from the spare cell direction range detection unit to the used instance replacement unit is repeated one or more times until the timing constraint satisfaction range detection unit detects the redundant cell instance. .

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置において、前記レイアウト設計補助コンピュータシステムが搭載された演算処理装置と、該演算処理装置の演算処理に関する画面を表示可能とするディスプレイ部と、該演算処理装置の演算処理に対して操作入力指令を行うための操作入力部とを有する。   Further preferably, in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, an arithmetic processing device on which the layout design auxiliary computer system is mounted, and a display unit capable of displaying a screen related to arithmetic processing of the arithmetic processing device, And an operation input unit for issuing an operation input command to the arithmetic processing of the arithmetic processing unit.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置において、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような条件で最終的に前記冗長セルに置き換えるように、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層のみを変更して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように論理変更処理を行う。   Further preferably, in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, the wiring layer and the contact layer are manufactured so as to be finally replaced with the redundant cell under a condition satisfying a timing constraint relating to a clock signal. Only the mask layer is changed, and the logic change process is performed so as to satisfy the timing constraint relating to the clock signal.

さらに、好ましくは、本発明の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置において、マスクパターンデータベースに格納されたマスクパターンと、各セル間の接続関係が記述されたテキストデータであるネットリストとが入力されて、セルの配置および各セル間の配線をレイアウト設計する際の論理変更時に用いる冗長セルが配置された回路図情報またはネットリスト(概念的には回路図、実際の処理上は回路図が反映された回路図情報としてのネットリスト)を生成する自動配置配線処理部と、該ネットリストが記憶されたネットリスト記憶部および前記スペアセル方向範囲検知手段への入力パラメータを外部から操作入力可能とされ、該マスクパターンデータベースからマスクパターンデータを外部へ出力可能とするインターフェース部と、該自動配置配線処理部からの回路図情報またはネットリスト(概念的には回路図、実際の処理上は回路図が反映された回路図情報としてのネットリスト)を用いて静的タイミング解析を実行し、前記接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から遅延値を割り出して前記タイミング制約満足範囲検知手段に供給する静的タイミング解析処理部とをさらに有する。   Further preferably, in the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, a mask pattern stored in a mask pattern database and a net list which is text data describing a connection relation between cells are input. Circuit diagram information or netlist (conceptual circuit diagram, circuit diagram is reflected in actual processing) in which redundant cells used for logic change when designing the layout of the cells and the wiring between each cell The automatic placement and routing processing unit for generating the net list as circuit diagram information), the net list storage unit storing the net list and the input parameters to the spare cell direction range detecting means can be operated and input from the outside, Interface unit capable of outputting mask pattern data from the mask pattern database to the outside Static timing analysis is performed using circuit diagram information or a net list (conceptually a circuit diagram, or a net list as circuit diagram information reflecting the circuit diagram in actual processing) from the automatic placement and routing processing unit. A static timing analysis processing unit that executes the delay value from the resistance and capacitance per length of the wiring connected to the connection target and supplies the delay value to the timing constraint satisfaction range detection unit.

本発明の半導体集積回路のレイアウト設計補助システムは、コンピュータシステムで構成されており、前記接続対象に接続すべき冗長セルを検知するスペアセル検知手段と、
該接続対象の位置から該冗長セルの方向を含む方向範囲を検知するスペアセル方向範囲検知手段と、該検知された方向範囲の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲を検知するタイミング制約満足範囲検知手段と、該検知された距離範囲に該冗長セルが存在しない場合に、回路中に組み込まれて既に存在する、該冗長セルと同種類のセルの中から、該距離範囲内の該接続対象または該冗長セルから最も近いセルを検知する既使用置換セルインスタンス検知手段と、該検知されたセルを切り離して該接続対象に接続する既使用インスタンス置換手段と、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように最終的に該冗長セルに置き換えを行うまで各処理を一または複数回繰り返し行わせる置換伝播手段とを有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
A semiconductor integrated circuit layout design assistance system according to the present invention comprises a computer system, and spare cell detection means for detecting a redundant cell to be connected to the connection target,
Spare cell direction range detecting means for detecting a direction range including the direction of the redundant cell from the connection target position, and a distance range satisfying a timing constraint related to a clock signal in the detected direction range A timing constraint satisfaction range detecting means for detecting the redundant cell, and when the redundant cell does not exist in the detected distance range, the redundant cell already included in the circuit and the same type as the redundant cell, A used replacement cell instance detection means for detecting the connection target within the distance range or a cell closest to the redundant cell; a used instance replacement means for disconnecting the detected cell and connecting to the connection target; and a clock signal In order to satisfy the timing constraints related to the above, a replacement transmission that repeats each process one or more times until the redundant cell is finally replaced. Are those having the unit, the objects can be achieved.

本発明のフォトマスクは、本発明の上記半導体集積回路の自動レイアウト設計装置を用いて設計されたマスクパターン情報に基づいて作製されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The photomask of the present invention is produced based on mask pattern information designed by using the automatic layout design apparatus for semiconductor integrated circuits of the present invention, thereby achieving the above object.

本発明のフォトマスクの製造方法は、本発明の上記半導体集積回路の自動レイアウト設計装置によりフォトマスクパターンを設計し、この設計情報によりパターニングしてフォトマスクを製造するものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The photomask manufacturing method of the present invention is a method of designing a photomask pattern by the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, and manufacturing the photomask by patterning with this design information. The objective is achieved.

本発明の半導体集積回路は、本発明の上記フォトマスクを用いて製造されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The semiconductor integrated circuit of the present invention is manufactured using the photomask of the present invention, and thereby the above-described object is achieved.

本発明の半導体集積回路の製造方法は、本発明の上記半導体集積回路の自動レイアウト設計装置によりフォトマスクパターンを設計し、この設計情報によりパターニングしたレジストパターンを用いて、半導体基板上または基板に設けられた半導体層上に半導体集積回路を形成するものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The method for manufacturing a semiconductor integrated circuit according to the present invention includes a photomask pattern designed by the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, and a resist pattern patterned by this design information is used to provide the semiconductor integrated circuit on or on the semiconductor substrate. A semiconductor integrated circuit is formed on the formed semiconductor layer, and thereby the above object is achieved.

本発明の制御プログラムは、本発明の上記半導体集積回路のレイアウト設計方法の各工程をコンピュータに実行させるための各処理手順が記録されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The control program according to the present invention records each processing procedure for causing a computer to execute each step of the layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, thereby achieving the above object.

本発明の可読記憶媒体は、本発明の上記制御プログラムが格納されたコンピュータ読み取り可能なものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The readable storage medium of the present invention is a computer-readable storage medium storing the control program of the present invention, thereby achieving the above object.

上記構成により、以下に、本発明の作用について説明する。   The operation of the present invention will be described below with the above configuration.

本発明にあっては、冗長セル(スペアセル)を用いたフリーズシリコンECO機能により論理変更を行う際に、置き換え対象となるスペアセルを用いた場合にタイミング制約を満足させることができないときに、タイミング制約を満足させることができるような範囲で、その代替となり得る、置き換え対象スペアセルと同種類の既使用セルの中から、接続対象またはスペアセルに最も近いセルの接続を切断し、置き換え対象スペアセルの代わりに接続するためのネットリストを作成する。この処理を、スペアセルがタイミング制約を満足させることができるような範囲に現れるまで繰り返し行うことによって、スペアセルと同種類の既使用セルを「玉突き式」に順次移植していくようなネットリストを作成することが可能となる。そのネットリストを入力してフリーズシリコンECO機能を行うことによって、全てのタイミング制約を満足させることが可能となる。   In the present invention, when the logic change is performed by the freeze silicon ECO function using the redundant cell (spare cell), the timing constraint cannot be satisfied when the spare cell to be replaced is used. In the range that can satisfy the condition, disconnect the connection cell or the cell closest to the spare cell from the same type of used cells as the replacement target spare cell, and replace it with the replacement target spare cell. Create a netlist to connect. By repeating this process until the spare cells appear in a range that can satisfy the timing constraints, a netlist is created in which used cells of the same type as the spare cells are sequentially transplanted into a “ball-throw” type. It becomes possible to do. By inputting the net list and performing the freeze silicon ECO function, all timing constraints can be satisfied.

以上により、本発明によれば、フリーズシリコンECO機能においてタイミング制約が満足されなかった場合に、人手によりネットリスト変更をする必要がある従来技術のような膨大な手間が不要である。また、配線層およびコンタクト層以外の層を修正したり、現状以上に多くのスペアセルのインスタンスを予め配置しておくことなく、高確率でフリーズシリコンECOによってタイミング制約を満足させることができる。自動的にタイミング制約を満足させるようにフリーズシリコンECOを行うことができるため、論理変更における設計期間やマスクコストの増大、人為的ミスの発生、さらには初期設計のチップ面積の増大などを効果的に防ぐことができる。したがって、効率的に動作ミスが少ない半導体装置やその半導体装置が搭載された電子機器を低コストで作製することができて、このフリーズシリコンECOの普及に大いに貢献することができる。   As described above, according to the present invention, when the timing constraint is not satisfied in the freeze silicon ECO function, the enormous effort like the prior art that requires manual change of the net list is unnecessary. In addition, it is possible to satisfy the timing constraint with the freeze silicon ECO with a high probability without modifying layers other than the wiring layer and the contact layer, or arranging in advance more spare cell instances than the current level. Freeze silicon ECO can be performed to automatically satisfy timing constraints, so it is effective to increase the design period and mask cost in the logic change, cause human error, and increase the chip area of the initial design. Can be prevented. Therefore, it is possible to manufacture a semiconductor device with few operational errors efficiently and an electronic device on which the semiconductor device is mounted at low cost, and can greatly contribute to the spread of this freeze silicon ECO.

以下に、本発明のレイアウト設計補助システム部が搭載された半導体集積回路の自動レイアウト設計装置の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments of an automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit on which a layout design assistance system unit of the present invention is mounted will be described in detail below with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施形態に係る半導体集積回路の自動レイアウト設計装置の要部機能構成例を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram illustrating an exemplary functional configuration of an automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

図1において、本実施形態の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置1は、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような条件で最終的に冗長セル(スペアセル)に置き換えを行い、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層のみを変更して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように論理変更処理を行うことができる演算処理装置2と、この演算処理装置2の演算処理に関する画面を表示可能とする表示部としてのディスプレイ部3と、この演算処理装置2の演算処理に対して各種操作入力指令を行うための操作入力部としてのキーボード4およびマウス5とを備えている。   In FIG. 1, an automatic layout design apparatus 1 for a semiconductor integrated circuit according to the present embodiment finally replaces a redundant cell (spare cell) under a condition that satisfies the timing constraint related to a clock signal, and a wiring layer and a contact layer It is possible to display an arithmetic processing unit 2 that can perform logic change processing so as to satisfy a timing constraint related to a clock signal by changing only the mask layer in the manufacturing process, and a screen related to the arithmetic processing of the arithmetic processing unit 2 And a keyboard 4 and a mouse 5 as operation input units for issuing various operation input commands to the arithmetic processing of the arithmetic processing unit 2.

演算処理装置2には、マスクパターンデータベース11と、自動配置配線処理部12と、ネットリスト記憶部13と、インターフェース部14と、静的タイミング解析処理部15と、レイアウト設計補助コンピュータシステムとしてのレイアウト設計補助システム部20とが搭載されている。   The arithmetic processing unit 2 includes a mask pattern database 11, an automatic placement and routing processing unit 12, a net list storage unit 13, an interface unit 14, a static timing analysis processing unit 15, and a layout design auxiliary computer system. The design auxiliary system unit 20 is mounted.

自動配置配線処理部12は、フリーズシリコンECO機能が実装されている既存の自動配置配線ソフトウェアの処理部であり、マスクパターンデータベース11に格納されたマスクパターンと、素子間(セル間)の接続関係が記述されたテキストデータであるネットリスト記憶部13のネットリストとが入力され、素子(セル)の配置および素子間(セル間)の配線がレイアウト設計されるようになっている。さらに、自動配置配線処理部12では、ネットリスト記憶部13からの入力ネットリストと、マスクパターンデータベース11からのマスクパターンとの差分から、論理変更時に置き換えるべきスペアセルが決定されて後述するスペアセル検知ブロック21に供給されると共に、論理変更時に用いるスペアセルが配置された回路図情報またはネットリスト(概念的には回路図、実際の処理上は回路図が反映された回路図情報としてのネットリスト)が生成される。   The automatic placement and routing processing unit 12 is a processing unit of existing automatic placement and routing software in which the freeze silicon ECO function is implemented, and the connection relationship between the mask pattern stored in the mask pattern database 11 and the elements (between cells). The netlist of the netlist storage unit 13 which is text data in which is described is input, and the layout of the arrangement of elements (cells) and the wiring between elements (between cells) is designed. Further, in the automatic placement and routing processing unit 12, a spare cell to be replaced at the time of logic change is determined from the difference between the input net list from the net list storage unit 13 and the mask pattern from the mask pattern database 11, and a spare cell detection block described later. 21 is a circuit diagram information or net list (conceptually a circuit diagram, and a net list as circuit diagram information reflecting the circuit diagram in actual processing) in which spare cells used when changing logic are arranged. Generated.

インターフェース部14では、ネットリスト記憶部13や後述するスペアセル方向範囲検知ブロック22への入力パラメータが入力操作手段としてのキーボード4およびマウス5などを介して外部から入力され、マスクパターンデータベース11のマスクパターンデータが外部に出力可能とされる。   In the interface unit 14, input parameters to the net list storage unit 13 and a spare cell direction range detection block 22 described later are input from the outside via a keyboard 4 and a mouse 5 as input operation means, and the mask pattern in the mask pattern database 11 is input. Data can be output to the outside.

静的タイミング解析部15は、自動配置配線処理部12と連動している既存の静的タイミング解析ソフトウェアの処理部であり、自動配置配線処理部12からの回路図情報またはネットリスト(概念的には回路図、実際の処理上は回路図が反映された回路図情報としてのネットリスト)とインターフェース部14から入力されたタイミング制約などの入力データを用いて静的タイミング解析が実行される。この静的タイミング解析の結果、接続対象の箇所に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量が求められ、これによって遅延値が割り出されて、後述するタイミング制約満足範囲検知ブロック23にその遅延値が供給される。   The static timing analysis unit 15 is a processing unit of existing static timing analysis software linked with the automatic placement and routing processing unit 12, and circuit diagram information or netlist (conceptually) from the automatic placement and routing processing unit 12. Is a circuit diagram, and in actual processing, a net list as circuit diagram information reflecting the circuit diagram) and input data such as timing constraints input from the interface unit 14 are used to perform static timing analysis. As a result of the static timing analysis, the resistance and capacitance per length of the wiring connected to the connection target location are obtained, and the delay value is calculated by this, and the timing constraint satisfaction range detection block 23 described later receives the delay value. A delay value is provided.

レイアウト設計補助システム部20は、自動レイアウト設計後のマスクパターンに対してフリーズシリコンECO機能により論理変更を行う際に、スペアセル(冗長セル)によりタイミング制約を満足させることができない場合に、タイミング制約を満足させるような位置範囲で、置き換え対象のスペアセルと同種類の既使用セルのインスタンスの中から、接続対象またはスペアセルに最も近い同種類の既使用セルを検出し、これをスペアセルのインスタンスの代わりに用いることによって空いた回路部分に、この空いた回路部分を新たな接続対象として、その接続対象またはスペアセルに最も近い同種類の既使用セルを用いる処理を、タイミング制約を満足させるような位置範囲に冗長セルが現れるまで繰り返し行って、冗長セルが現れた時点で最後に空いた回路部分に冗長セルを用いる。この処理により得られたネットリストを用いてフリーズシリコンECO機能を行うことにより、全てのタイミング制約を満足させることができる。   The layout design assisting system unit 20 sets the timing constraint when the timing constraint cannot be satisfied by the spare cell (redundant cell) when the logic change is performed on the mask pattern after the automatic layout design by the freeze silicon ECO function. In the position range that satisfies the condition, the existing cell of the same type closest to the connection target or spare cell is detected from the instances of the same type of used cell as the spare cell to be replaced, and this is used instead of the spare cell instance. By using this unused circuit part as a new connection target for the unused circuit part, the processing using the same type of used cell that is closest to the connection target or spare cell is placed in a position range that satisfies the timing constraints. Repeat until a redundant cell appears, and a redundant cell appears Using redundant cells to the last empty circuit portion at point. All timing constraints can be satisfied by performing the freeze silicon ECO function using the netlist obtained by this processing.

このレイアウト設計補助システム部20には、後述する制御プログラムによって、スペアセル検知手段としてのスペアセル検知ブロック21と、スペアセル方向範囲検知手段としてのスペアセル方向範囲検知ブロック22と、タイミング制約満足範囲検知手段としてのタイミング制約満足範囲検知ブロック23と、既使用置換セルインスタンス検知手段としての既使用置換セルインスタンス検知ブロック24と、既使用置換インスタンス置換手段としての既使用置換インスタンス置換ブロック25と、置換伝播手段としての基準端子座標再設定ブロック26との各機能を実行する。   The layout design assisting system unit 20 includes a spare cell detection block 21 as a spare cell detection unit, a spare cell direction range detection block 22 as a spare cell direction range detection unit, and a timing constraint satisfaction range detection unit according to a control program described later. Timing constraint satisfaction range detection block 23, used replacement cell instance detection block 24 as used replacement cell instance detection means, used replacement instance replacement block 25 as used replacement instance replacement means, and replacement propagation means Each function with the reference terminal coordinate resetting block 26 is executed.

スペアセル検知ブロック21では、自動配置配線処理部12によってネットリスト記憶部13の入力ネットリストと、マスクパターンデータベース11のマスクパターンデータとの差分から決定されたスペアセル(冗長セル)のインスタンスが検知される。この場合、スペアセル検知ブロック21は、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行う自動レイアウトツールを用いて、接続対象からの直線距離が最も近い箇所に存在するスペアセルを検知する。   In the spare cell detection block 21, an instance of a spare cell (redundant cell) determined from the difference between the input net list in the net list storage unit 13 and the mask pattern data in the mask pattern database 11 is detected by the automatic placement and routing processing unit 12. . In this case, the spare cell detection block 21 uses the automatic layout tool that changes the mask layer in the manufacturing process for the wiring layer and the contact layer, and uses the automatic layout tool to change the spare cell that is present at the closest linear distance from the connection target. Detect.

スペアセル方向範囲検知ブロック22では、スペアセル検知ブロック21により検知されたスペアセルのインスタンスの端子に接続される接続対象からの適切な位置から、スペアセルのインスタンスへの方向を含む方向の範囲が検知される。この処理には、インターフェース部14から入力された所定範囲の角度θ1がパラメータとして用いられる。   In the spare cell direction range detection block 22, a range in the direction including the direction to the spare cell instance is detected from an appropriate position from the connection target connected to the terminal of the spare cell instance detected by the spare cell detection block 21. In this process, an angle θ1 within a predetermined range input from the interface unit 14 is used as a parameter.

スペアセル方向範囲検知ブロック22は、接続対象とスペアセルとの位置関係を検出する際に、マスクパターンデータベース11上で、スペアセルの入力端子座標と接続対象の出力端子座標との間の位置関係を検出するものであり、接続対象の所定位置を中心として、スペアセルと接続対象とを結ぶ直線距離を半径とし、接続対象からスペアセルの方向を角度として算出し、算出された角度から正方向および負方向にそれぞれ所定範囲の角度θ1を外部または内部で指定してその合計を中心角とし、スペアセル側を円弧側として、その半径の値を有する扇形領域として方向範囲を算出する。その半径としては、スペアセルの入力端子座標とこれに接続されるべき接続対象の出力端子座標とを結ぶ直線の長さをそれぞれの座標から算出する。また、接続対象からスペアセルへの方向を、スペアセルの入力端子座標とこれに接続されるべき接続対象の出力端子座標とから三角関数を用いてスペアセルの方向を角度として算出することができる。   When detecting the positional relationship between the connection target and the spare cell, the spare cell direction range detection block 22 detects the positional relationship between the input terminal coordinates of the spare cell and the output terminal coordinates of the connection target on the mask pattern database 11. Centered on the predetermined position of the connection target, the straight line connecting the spare cell and the connection target is used as the radius, the direction of the spare cell from the connection target is calculated as the angle, and the positive angle and the negative direction from the calculated angle respectively. The direction range is calculated as a sector region having a radius value with the angle θ1 of the predetermined range designated externally or internally and the total as the central angle, the spare cell side as the arc side. As the radius, the length of a straight line connecting the input terminal coordinates of the spare cell and the output terminal coordinates of the connection target to be connected thereto is calculated from the respective coordinates. Further, the direction from the connection target to the spare cell can be calculated from the spare cell input terminal coordinates and the connection target output terminal coordinates to be connected to the spare cell direction as an angle using a trigonometric function.

タイミング制約満足範囲検知ブロック23では、スペアセル方向範囲検知ブロック22により検知された方向範囲と、静的タイミング解析処理部15による静的タイミング解析結果を用いて、マスクパターンデータベース11から、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲が検知される。即ち、タイミング制約満足範囲検知ブロック23は、静的タイミング解析の結果を用い、接続対象に接続される配線の幅と長さから抵抗および容量を試算して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させる接続対象からの距離範囲を算出し、検知された方向範囲の中で、タイミング制約を満足させる距離範囲を検知する。さらには、タイミング制約満足範囲検知ブロック23は、元の回路図に対して静的タイミング解析を実行することにより、接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から割り出される遅延値を用いて、現状タイミングのセットアップタイムおよびホールドタイムからの余裕度を割り出し、この余裕度から割り出される、タイミング制約を満足させる範囲の配線長さを、接続対象とスペアセルの各座標の差の絶対値の総和を2点間の距離とするマンハッタン距離により算出後、各座標の始点および終点の2点間の直線距離を算出し、算出された直線距離を接続対象の中心からの距離として扇形領域内部の範囲を検知する。   The timing constraint satisfaction range detection block 23 relates to the clock signal from the mask pattern database 11 using the direction range detected by the spare cell direction range detection block 22 and the static timing analysis result by the static timing analysis processing unit 15. A distance range is detected that satisfies the timing constraints. That is, the timing constraint satisfaction range detection block 23 uses the result of the static timing analysis to estimate the resistance and capacitance from the width and length of the wiring connected to the connection target, thereby satisfying the timing constraint related to the clock signal. A distance range from the connection target is calculated, and a distance range that satisfies the timing constraint is detected in the detected direction range. Further, the timing constraint satisfaction range detection block 23 performs a static timing analysis on the original circuit diagram, thereby calculating a delay value calculated from the resistance and capacitance per length of the wiring connected to the connection target. Is used to determine the margin from the setup time and hold time of the current timing, and the wiring length within the range that satisfies the timing constraint calculated from this margin is the absolute difference between the coordinates of the connection target and the spare cell. After calculating the Manhattan distance with the sum of the values as the distance between the two points, calculate the straight line distance between the start point and the end point of each coordinate, and use the calculated straight line distance as the distance from the center of the connection target. Detect internal range.

既使用置換セルインスタンス検知ブロック24では、タイミング制約満足範囲検知ブロック23により検知された距離範囲と、スペアセルのインスタンスの位置とを用いて、マスクパターンデータベース11のマスクパターンデータ内で置き換え対象が検知される。このとき、タイミング制約満足範囲検知ブロック23により検知された距離範囲内にスペアセルが存在する場合には、そのスペアセルのインスタンスが検知される。この場合には、スペアセルが用いられ、スペアセルの代わりに既使用セルが用いられないため、次の既使用インスタンス置換ブロック25による既使用セルとの置換処理は不要であるが、既使用インスタンス置換ブロック25によって既使用セルの代わりに、接続対象(または、空いた回路部分を新たな接続対象として)にスペアセルが接続処理される。また、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24では、タイミング制約満足範囲検知ブロック23により検知された距離範囲内にスペアセルが存在しなかった場合には、マスクパターンデータベース11のマスクパターンデータから、回路中に組み込まれて存在するスペアセルと同種類のセルのインスタンスの中から、そのタイミング制約の満足範囲内において接続対象またはスペアセルから最も近い箇所に存在する同種類のセルのインスタンスが検知される。即ち、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24は、タイミング制約の満足範囲(距離範囲)に存在する、スペアセルと同種類のセルを全て探知し、それぞれの入力端子座標について接続対象の出力端子座標との直線距離をそれぞれ算出して、各直線距離の中で最も短いまたは最も長い同種類のセルの端子座標を検知する。また、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24は、タイミング制約の満足範囲(距離範囲)にスペアセルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、エラー処理としてこの既使用置換セルインスタンス検知処理を中止する。なお、タイミング制約の満足範囲内において、スペアセルから最も近い箇所に存在する、スペアセルと同種類のセルを検知する方が、接続対象から最も近い箇所(またはスペアセルから最も遠い箇所)に存在する、スペアセルと同種類のセルを検知するよりも、最終的にスペアセルを用いて接続を完了するまでの工程が簡略化されて好ましい。   In the used replacement cell instance detection block 24, the replacement target is detected in the mask pattern data of the mask pattern database 11 using the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection block 23 and the position of the spare cell instance. The At this time, if a spare cell exists within the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection block 23, an instance of the spare cell is detected. In this case, since a spare cell is used and no used cell is used in place of the spare cell, the replacement process with the used cell by the next used instance replacement block 25 is not necessary. 25, the spare cell is connected to the connection target (or the unused circuit portion as a new connection target) instead of the used cell. Further, in the used replacement cell instance detection block 24, if there is no spare cell within the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection block 23, the mask pattern data in the mask pattern database 11 is used in the circuit. Among the instances of the same type of cells as the spare cells that are incorporated, instances of the same type of cells that are present at the closest location to the connection target or spare cell within the satisfaction range of the timing constraints are detected. In other words, the used replacement cell instance detection block 24 detects all cells of the same type as the spare cell that exist in the satisfaction range (distance range) of the timing constraint, and sets each input terminal coordinate to the output terminal coordinate to be connected. The straight line distance is calculated, and the terminal coordinates of the same type of cell that is the shortest or longest among the straight line distances are detected. In addition, the used replacement cell instance detection block 24 performs error processing for this used replacement cell when a cell of the same type as the spare cell has not already been used in the timing constraint satisfaction range (distance range). Cancel instance detection processing. In addition, within the satisfaction range of the timing constraints, a spare cell that is present in the closest location from the spare cell and in the location closest to the connection target (or the location farthest from the spare cell) is detected. It is preferable that the process until the connection is finally completed using the spare cell is simplified rather than detecting the same type of cells.

既使用インスタンス置換ブロック25では、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24により検知された結果を用いて、検知されたセルのインスタンスの両端子への配線が切り離されて、スペアセルの代わりとして使用されるように、検知したセルの入力端子と、接続対象の出力端子とを配線により接続することにより、自動配置配線処理に用いられるネットリスト記憶部13のネットリストを変更する。また、詳細に後述するが、その検知されたセルのインスタンス以降の論理についても(検知されたセルが例えば二つのインバータや、一方はインバータで他方はナンドゲートなど複数のインスタンスである場合など)、論理変更の対象であった場合には、スペアセル検知ブロック21に処理が引き継がれる。また、その検知されたセルのインスタンス以降の論理について、論理変更の対象ではない場合には、基準端子座標再設定ブロック26に処理が引き継がれる。   The used instance replacement block 25 uses the result detected by the used replacement cell instance detection block 24 so that the wiring to both terminals of the detected cell instance is disconnected and used as a spare cell. Further, the net list of the net list storage unit 13 used for the automatic placement and routing process is changed by connecting the input terminal of the detected cell and the output terminal to be connected by wiring. As will be described in detail later, the logic after the detected instance of the cell (for example, when the detected cell is, for example, two inverters, one of which is an inverter and the other is a plurality of instances such as a NAND gate). If it is a change target, the process is taken over by the spare cell detection block 21. Further, when the logic after the detected instance of the cell is not the target of the logic change, the process is taken over by the reference terminal coordinate resetting block 26.

基準端子座標再設定ブロック26では、スペアセル方向範囲検知ブロック22による処理の際に方向を求める基準となる座標(接続対象の出力座標;中心座標)として、既使用インスタンス置換ブロック25により置き換えられたインスタンス(スペアセルと同種類のセルを新たな接続対象として)の出力端子座標が設定される。即ち、基準端子座標再設定ブロック26は、既使用インスタンス置換ブロック25で切り離されたインスタンス(スペアセルと同種類のセル)を、スペアセル方向範囲検知ブロック22における接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ブロック22でスペアセルが検知されるまで、一または複数回、スペアセル方向範囲検知ブロック22から既使用インスタンス置換ブロック25までの各処理を繰り返し行うようにしてもよい。または、基準端子座標再設定ブロック26は、既使用インスタンス置換ブロック25で切り離される直前のインスタンスの出力端子座標を、スペアセル方向範囲検知ブロック22における新たな接続対象として再設定し、タイミング制約満足範囲検知ブロック22でスペアセルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、スペアセル方向範囲検知ブロック22から既使用インスタンス置換ブロック25までの各処理を繰り返し行うようにしてもよい。または、基準端子座標再設定ブロック26は、既使用インスタンス置換ブロック25で置き換えられて空いた回路部分の座標を、スペアセル方向範囲検知ブロック22における新たな接続対象として再設定し、タイミング制約満足範囲検知ブロック22でスペアセルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、スペアセル方向範囲検知ブロック22から既使用インスタンス置換ブロック25までの各処理を繰り返し行うようにしてもよい。   In the reference terminal coordinate reset block 26, the instance replaced by the used instance replacement block 25 is used as a reference coordinate (output coordinate of connection target; center coordinate) for obtaining a direction in the processing by the spare cell direction range detection block 22. The output terminal coordinates of the same type of cell as the spare cell are set. That is, the reference terminal coordinate resetting block 26 resets the instance (the same type of cell as the spare cell) separated by the used instance replacement block 25 as a connection target in the spare cell direction range detection block 22, and satisfies the timing constraint. Each process from the spare cell direction range detection block 22 to the used instance replacement block 25 may be repeated one or more times until a spare cell is detected by the range detection block 22. Alternatively, the reference terminal coordinate reset block 26 resets the output terminal coordinates of the instance immediately before being disconnected by the used instance replacement block 25 as a new connection target in the spare cell direction range detection block 22 and detects the timing constraint satisfaction range detection. Each process from the spare cell direction range detection block 22 to the used instance replacement block 25 may be repeated one or more times until a spare cell instance is detected in the block 22. Alternatively, the reference terminal coordinate reset block 26 resets the coordinates of the circuit portion that has been replaced by the used instance replacement block 25 as a new connection target in the spare cell direction range detection block 22 and detects the timing constraint satisfaction range detection. Each process from the spare cell direction range detection block 22 to the used instance replacement block 25 may be repeated one or more times until a spare cell instance is detected in the block 22.

以上の図1の説明に対して、さらに、本発明の原理について図2を用いて簡単に説明する。   In addition to the above description of FIG. 1, the principle of the present invention will be briefly described with reference to FIG.

図2に示すように、論理変更の場合に接続対象に対して追加で使用したい、一番近いスペアセルを探し、それを使ったときにタイミング的に問題がある場合、クロック信号に係わるタイミング制約に問題がないギリギリの範囲で、既に元から回路に組み込まれて使用されている最も近いセル(ここではインバータINV)をスペアセルの代わりに使用しに行く。そのスペアセルの代わりに使われるセルを、更にタイミングが遅延しない範囲で、最初に見つかったスペアセルの方向に探しに行き、既に元から回路に使われているセルがあればそのセルをさらに使用しに行く、という処理を繰り返して、玉突き式にセルを置き換えて順次移植し、最終的に最初に検出したスペアセルまで使用しに行くというフリーズシリコンECO手法を用いている。   As shown in FIG. 2, in the case of a logic change, if the closest spare cell that you want to use additionally for the connection target is found and there is a timing problem when using it, the timing constraint on the clock signal To the extent that there is no problem, the closest cell (inverter INV in this case) that has already been incorporated and used in the circuit is used instead of the spare cell. Look for a cell to be used in place of the spare cell in the direction of the first spare cell found within the range where the timing is not delayed, and if there is a cell already used in the circuit, use that cell further. The freeze silicon ECO method is used in which the process of going is repeated, cells are replaced in a ball-throw type, and the cells are sequentially transplanted, and finally the spare cell detected first is used.

これによって、従来技術の図17のように予め均等配置したスペアセルからのみの使用であると、使用したいスペアセルが遠くに存在する可能性があってタイミング的に問題がある場合があり得るが、本発明のようにタイミング制約に違反しない範囲で、そのスペアセルの方向に存在する回路に既に組み込まれているセル(スペアセルと同じ種類のセル)を使用するため、スペアセルを必要以上に多く配置しなくて済み、レイアウトのフリーズシリコンECO機能でクロック信号に係わるタイミング制約の違反を減らしたり防止したりすることができる。   As a result, if the use is made only from spare cells that are arranged in advance as shown in FIG. 17 of the prior art, there is a possibility that there is a possibility that the spare cells to be used exist far away, and there may be a timing problem. Since cells that are already incorporated in the circuit existing in the direction of the spare cell (the same type of cells as the spare cell) are used as long as the timing constraints are not violated as in the invention, it is not necessary to arrange more spare cells than necessary. In addition, the layout freeze silicon ECO function can reduce or prevent violations of timing constraints related to the clock signal.

図3は、図1の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置の要部ハード構成例を示すブロック図である。   FIG. 3 is a block diagram showing a hardware configuration example of a main part of the automatic layout design apparatus for the semiconductor integrated circuit of FIG.

本実施形態の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置1は、コンピュータシステムで構成されており、全体の制御を行う制御手段としてのCPU(中央演算処理装置)2Aと、CPU2Aに対して入力指令を行うためのキーボード4、マウス5、タッチパネルおよびペン入力装置、さらには通信ネットワーク(例えばインターネットやイントラネット)を介して受信入力する入力装置などの操作入力部と、表示画面上に、各処理に関する初期画面、選択場面、CPU2Aによる制御結果画面および操作入力画面などを表示するCRTや液晶表示装置、さらにはプラズマ表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示部としてのディスプレイ部3と、制御プログラムおよびそのデータなどが記憶されたコンピュータ読み出し可能な可読記録媒体としてのROM6と、起動時に制御プログラムおよびそのデータなどが読み出されて、CPU2Aによる制御毎にデータを読み出し・記憶するワークメモリとして働く記憶部としてのRAM7とを有している。   The automatic layout design apparatus 1 for a semiconductor integrated circuit according to the present embodiment is configured by a computer system, and issues a CPU (Central Processing Unit) 2A as a control means for performing overall control and an input command to the CPU 2A. Keyboard 4, mouse 5, touch panel and pen input device, as well as an operation input unit such as an input device that receives and inputs via a communication network (for example, the Internet or an intranet), and an initial screen for each process on the display screen, A display unit 3 as a display unit such as a CRT or a liquid crystal display device for displaying a selection scene, a control result screen and an operation input screen by the CPU 2A, a plasma display device, an electroluminescence display device, a control program and its data, etc. Stored computer readable And ROM6 of the read recording medium, such as is read control program and its data at startup, and a RAM7 as a storage unit acting as a work memory for reading and storing data for each control by CPU 2A.

可読記録媒体としてのROM6は、ハードディスクの他、携帯自在な光ディスク、光磁気ディスク、磁気ディスクおよびICメモリのいずれかまたはこれらの組合せなどで構成されていてもよい。この制御プログラムおよびそのデータなどがROM6に記憶されるが、この制御プログラムおよびそのデータは、他の可読記録媒体から、または、無線、有線またはインターネット、さらにはイントラネットなどを介してROM6にダウンロードされてもよい。なお、マスクパターンデータベース11およびネットリスト記憶部13はRAM5と一体で同じ記憶手段として構成されていてもよく、別に構成されていてもよい。   The ROM 6 as a readable recording medium may be configured by a hard disk, a portable optical disk, a magneto-optical disk, a magnetic disk, an IC memory, or a combination thereof. The control program and its data are stored in the ROM 6, and the control program and its data are downloaded to the ROM 6 from another readable recording medium or via a wireless, wired or Internet, or intranet. Also good. Note that the mask pattern database 11 and the net list storage unit 13 may be configured as the same storage unit integrally with the RAM 5 or may be configured separately.

次に、本実施形態の半導体集積回路のレイアウト設計方法の処理手順について、図4〜図14を用いて詳細に説明する。   Next, the processing procedure of the layout design method for the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS.

図4は、本実施形態の半導体集積回路のレイアウト設計方法における処理手順例を説明するためのフローチャートである。図5は、レイアウトのネットリストであり、図6は、フリーズシリコンECO機能を実行するために、図1の自動配置配線処理部12に入力される論理変更されたネットリストである。図7は、フリーズシリコンECO処理前のマスクレイアウトを論理形式で簡略化して示す回路図である。図8は、図1のスペアセル方向範囲検知ブロック22による処理を論理形式で簡略化して示す回路図であり、図9は、図1のタイミング制約満足範囲検知ブロック23による処理を論理形式で簡略化して示す回路図である。図10は、図1の既使用インスタンス置換ブロック25による処理を論理形式で簡略化して示す回路図であり、図11は、図1の既使用インスタンス置換ブロック25により変更された自動配置配線処理部12に入力されるネットリストである。図12は、図1の基準端子座標再設定ブロック26により各処理を1度または複数回繰り返し行わせた結果を論理形式で簡略化して示す回路図であり、図13は、図1の既使用インスタンス置換ブロック25により変更され、自動配置配線処理部12に入力されるネットリストを示す図である。   FIG. 4 is a flowchart for explaining a processing procedure example in the layout design method of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment. FIG. 5 is a layout netlist, and FIG. 6 is a logic-changed netlist input to the automatic placement and routing processing unit 12 of FIG. 1 in order to execute the freeze silicon ECO function. FIG. 7 is a circuit diagram showing a simplified mask layout in logical form before freeze silicon ECO processing. FIG. 8 is a circuit diagram showing the processing by the spare cell direction range detection block 22 in FIG. 1 in a simplified logical form. FIG. 9 shows the process by the timing constraint satisfaction range detection block 23 in FIG. 1 in a logical form. FIG. FIG. 10 is a circuit diagram showing the processing by the used instance replacement block 25 of FIG. 1 in a simplified logical form. FIG. 11 shows an automatic placement and routing processing unit changed by the used instance replacement block 25 of FIG. 12 is a net list that is input to 12. FIG. 12 is a circuit diagram showing the result of repeating each process once or a plurality of times by the reference terminal coordinate resetting block 26 of FIG. 1 in a logical format, and FIG. FIG. 4 is a diagram showing a net list that is changed by an instance replacement block 25 and input to the automatic placement and routing processing unit 12.

図7において、NORセルの既使用インスタンス201は図5の1列目に記載され、NANDセルの既使用インスタンス202は図5の2列目に記載されており、NORセルの既使用インスタンス201の出力端子201bはNANDセルの既使用インスタンス202の入力端子202aに接続されている。さらに、INVセルの既使用インスタンス203は図5の3列目に記載されている。NANDセルの既使用インスタンス204は図5の4列目に記載され、INVセルの既使用インスタンス205は図5の5列目に記載され、INVセルの既使用インスタンス208は図5の6列目に記載され、NANDセルの既使用インスタンス206は図5の7列目に記載され、NORセルの既使用インスタンス209は図5の8列目に記載され、INVセルの既使用インスタンス210は図5の9列目に記載され、NORセルの既使用インスタンス207は図4の10列目に記載されている。211はスペアセルとしてのINVセルのインスタンスである。   In FIG. 7, the used instance 201 of the NOR cell is described in the first column of FIG. 5, the used instance 202 of the NAND cell is described in the second column of FIG. 5, and the used instance 201 of the NOR cell The output terminal 201b is connected to the input terminal 202a of the used instance 202 of the NAND cell. Further, the used instance 203 of the INV cell is described in the third column in FIG. The used instance 204 of the NAND cell is described in the fourth column of FIG. 5, the used instance 205 of the INV cell is described in the fifth column of FIG. 5, and the used instance 208 of the INV cell is displayed in the sixth column of FIG. The used instance 206 of the NAND cell is described in the seventh column of FIG. 5, the used instance 209 of the NOR cell is described in the eighth column of FIG. 5, and the used instance 210 of the INV cell is shown in FIG. The used instance 207 of the NOR cell is described in the 10th column of FIG. 211 is an instance of an INV cell as a spare cell.

NANDセルの既使用インスタンス204の出力端子204bは、INVセルの既使用インスタンス205の入力端子205aに接続されている。また、INVセルの既使用インスタンス205の出力端子205bはNANDセルの既使用インスタンス206の一方の入力端子206aに接続されている。また、INVセルの既使用インスタンス208の出力端子208bはNANDセルの既使用インスタンス206の他方の入力端子206aに接続されている。さらに、NORセルの既使用インスタンス209の出力端子209bは、INVセルの既使用インスタンス210の入力端子210aに接続されている。また、INVセルの既使用インスタンス210の出力端子210bは、NORセルの既使用インスタンス207の他方の入力端子207aに接続されている。   The output terminal 204b of the used instance 204 of the NAND cell is connected to the input terminal 205a of the used instance 205 of the INV cell. The output terminal 205b of the used instance 205 of the INV cell is connected to one input terminal 206a of the used instance 206 of the NAND cell. The output terminal 208b of the used instance 208 of the INV cell is connected to the other input terminal 206a of the used instance 206 of the NAND cell. Further, the output terminal 209b of the used instance 209 of the NOR cell is connected to the input terminal 210a of the used instance 210 of the INV cell. The output terminal 210b of the used instance 210 of the INV cell is connected to the other input terminal 207a of the used instance 207 of the NOR cell.

本実施形態において、レイアウト設計後に論理変更が加えられた場合にフリーズシリコンECOを行うために、まず、ステップS1において、スペアセル検知ブロック21によって、通常のフリーズシリコンECOと同様に、置き換えるべきスペアセルのインスタンスが発見される。その際に用いられる探索アルゴリズムとしては、現在既に製品化されているフリーズシリコンECO機能を有するソフトウェアに搭載されている技術を用いることができる。または、論理変更が加わえられる箇所の直前に配置されたインスタンスから最も直線距離が近い箇所に存在するスペアセルのインスタンスが検知される。   In this embodiment, in order to perform freeze silicon ECO when a logic change is made after layout design, first, in step S1, the spare cell detection block 21 performs an instance of a spare cell to be replaced in the same manner as normal freeze silicon ECO. Is discovered. As a search algorithm used at that time, a technology installed in software having a freeze silicon ECO function that has already been commercialized can be used. Alternatively, an instance of a spare cell that is present at a place where the straight line distance is the shortest from an instance placed immediately before the place where the logic change is applied is detected.

次に、ステップS2において、スペアセル方向範囲検知ブロック22によって、置き換え対象スペアセルのインスタンス211の入力端子211aに接続される接続対象(NORセルの既使用インスタンス201)の適切な位置(出力端子201b)から、スペアセルのインスタンス211への方向を含む方向の範囲が検知される。この処理では、まず、置き換え対象スペアセルのインスタンス211の入力端子211aと、接続対象のインスタンス201からの適切な位置(ここでは出力端子201bであるが、入力端子201でもよい)との間の位置関係を検出するために、マスクパターンデータベース11のマスクパターンデータから、置き換え対象スペアセルのインスタンス211の入力端子座標と、論理変更が加わえられる箇所の直前のインスタンス(接続対象のインスタンス201)の出力端子座標とが検出される。論理変更が加わえられる箇所の直前のインスタンス(接続対象のインスタンス201)の出力端子201bが中心(中心座標)とされ、スペアセルのインスタンス211の入力端子211aと論理変更が加わえらる箇所の直前のインスタンス(接続対象のインスタンス201)の出力端子201bとを結ぶ直線Lの距離が半径とされて、論理変更が加わえられる箇所の直前のインスタンス(接続対象のインスタンス201)の出力端子201bからスペアセルのインスタンス211の入力端子211aへの方向が角度として算出される。算出された角度から正方向および負方向に各々所定範囲の角度θ1が指定されてそれらの合計が中心角2θ1とされ、スペアセルのインスタンス211の入力端子211a側を円弧として、上記スペアセル方向範囲が、上記半径を有する扇形領域A1として算出される。   Next, in step S2, the spare cell direction range detection block 22 starts from the appropriate position (output terminal 201b) of the connection target (used instance 201 of the NOR cell) connected to the input terminal 211a of the instance 211 of the replacement target spare cell. A range of directions including the direction to the spare cell instance 211 is detected. In this process, first, the positional relationship between the input terminal 211a of the instance 211 of the replacement target spare cell and an appropriate position from the instance 201 to be connected (here, the output terminal 201b may be the input terminal 201). Is detected from the mask pattern data in the mask pattern database 11 and the input terminal coordinates of the instance 211 of the replacement target spare cell and the output terminal coordinates of the instance immediately before the location where the logical change is added (the connection target instance 201). Are detected. The output terminal 201b of the instance immediately before the location where the logic change is applied (the connection target instance 201) is the center (center coordinate), and the input terminal 211a of the spare cell instance 211 is immediately before the location where the logic change is applied. The distance of the straight line L connecting the output terminal 201b of the instance (connection target instance 201) is set as the radius, and the spare cell is connected to the spare cell from the output terminal 201b of the instance (connection target instance 201) immediately before the place where the logical change is applied. The direction of the instance 211 toward the input terminal 211a is calculated as an angle. A predetermined range of angles θ1 is specified in the positive direction and the negative direction from the calculated angles, and the sum of them is set as the central angle 2θ1, and the spare cell direction range is defined as an arc on the input terminal 211a side of the instance 211 of the spare cell. It is calculated as a sector area A1 having the radius.

例えば、図5に示すレイアウトのネットリストに対して図6に示すような論理変更が加えられた際に、図7に示すように、接続対象のインスタンス201の出力端子201bとインスタンス202の入力端子202aとの間に新たな論理としてINVセルのインスタンスをスペアセルのインスタンス211により追加する場合には、出力端子201bの位置の座標が検出される。図8に示すように、スペアセルのインスタンス211の入力端子211aが接続する側の位置が目標位置とされ、論理変更が加わえられる箇所の直前のインスタンス201の出力端子201bの座標が原点(中心座標)とされ、スペアセルのインスタンス211の入力端子211aと論理変更が加わえられている箇所の直前のインスタンス201の出力端子201bとを結ぶ直線Lの距離が半径とされて、インスタンス201の出力端子201bの中心座標からスペアセルのインスタンス211の入力端子211aの座標への方向が、2点間の関係から、三角関数を用いて直交座標上の角度として求められる。さらに、入力パラメータとして、この2点間の直線に対して中心振り分けとして、角度θ1が0度以上180度以下(通常は0度以上90度以下であるが逆方向も含む場合として0度以上180度以下としている)の範囲内の所定角度、例えば40度として指定され、求められた上記直線Lの角度が例えば300度であった場合、その正方向および負方向それぞれに対してその指定角度40度が加減算されてその合計が中心角とされる。この例では、260度から340度までの80度が中心角となる。論理変更が加わえられる箇所の直前のインスタンス201の出力端子201bの座標を中心点とし、論理変更が加わえられている箇所の直前のインスタンス201の出力端子201bの座標から接続される側の位置211aの座標の直線距離を半径とした扇形領域A1が図形演算により求められる。この扇形領域A1を求める図形演算においては、中心座標(接続対象のインスタンス201の出力端子201b)を通る一次方程式の直線と、同じ中心座標を通る他の一次方程式の直線に挟まれた中心角2θ1の領域の中から、中心座標からの距離が半径の値よりも小さいものが検出される。   For example, when the logic change as shown in FIG. 6 is applied to the netlist of the layout shown in FIG. 5, as shown in FIG. 7, the output terminal 201b of the instance 201 to be connected and the input terminal of the instance 202 When an instance of the INV cell is added as a new logic to the 202a by the spare cell instance 211, the coordinates of the position of the output terminal 201b are detected. As shown in FIG. 8, the position on the side to which the input terminal 211a of the spare cell instance 211 is connected is the target position, and the coordinates of the output terminal 201b of the instance 201 immediately before the place where the logic change is applied are the origin (center coordinates). ), And the radius of the straight line L connecting the input terminal 211a of the instance 211 of the spare cell and the output terminal 201b of the instance 201 immediately before the location where the logic change is applied is defined as the radius, and the output terminal 201b of the instance 201 The direction from the center coordinates to the coordinates of the input terminal 211a of the spare cell instance 211 is obtained as an angle on orthogonal coordinates using a trigonometric function from the relationship between the two points. Further, as an input parameter, the angle θ1 is 0 degree or more and 180 degrees or less (usually 0 degree or more and 90 degrees or less but including the reverse direction as a center distribution with respect to the straight line between the two points, and the reverse direction is also included. Specified angle within a range of, for example, 40 degrees, and the obtained angle of the straight line L is, for example, 300 degrees, the specified angle 40 for each of the positive and negative directions. The degrees are added and subtracted, and the sum is taken as the central angle. In this example, the central angle is 80 degrees from 260 degrees to 340 degrees. The position on the side connected from the coordinates of the output terminal 201b of the instance 201 immediately before the location to which the logic change is applied, with the coordinate of the output terminal 201b of the instance 201 immediately before the location to which the logic change is applied as the center point A sector area A1 having the radius of the linear distance of coordinates 211a as a radius is obtained by graphic calculation. In the graphic calculation for obtaining the sector area A1, the central angle 2θ1 sandwiched between the straight line of the linear equation passing through the central coordinates (the output terminal 201b of the instance 201 to be connected) and the straight line of another linear equation passing through the same central coordinates. Among these areas, those having a distance from the center coordinate smaller than the radius value are detected.

さらに、ステップS3において、タイミング制約満足範囲検知ブロック23によって、ステップ2により求められたスペアセル方向範囲(扇形領域A1)の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲が検知される。例えば、図9に示すように、配線長さがインスタンス201の出力端子201bとスペアセルのインスタンス211の入力端子211aの座標の差の絶対値の総和を2点間の距離とするマンハッタン距離により算出された後、その始点および終点の2点間の直線Lの距離が算出されてそれが半径とされる。タイミング制約を満足させる距離範囲が、上記扇形領域A1の内部に、接続される側の適切な位置の出力端子201bを中心とした扇形領域A2として、図形演算により求められる。このとき、タイミング制約満足範囲検知ブロック24では、静的タイミング解析処理部15によって元の回路図またはネットリスト(概念的には回路図、実際の処理上は回路図が反映されたネットリスト)に対して静的タイミング解析が実行された結果として得られる、接続対象の箇所(出力端子201b)に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から割り出される遅延値を用いて、現状タイミングのセットアップタイムおよびホールドタイムからの余裕度が割り出される。その余裕度から割り出される、タイミング制約を満足させる範囲の配線長さがマンハッタン距離により算出され、その始点および終点の2点間の直線Lの距離が算出され、その直線距離が中心座標からの距離として上記扇形領域A1の内部の範囲が検知されることにより、タイミング制約満足範囲(上記距離範囲)である扇形領域A2が求められる。   Furthermore, in step S3, the timing constraint satisfaction range detection block 23 detects a distance range that satisfies the timing constraint related to the clock signal in the spare cell direction range (fan area A1) obtained in step 2. Is done. For example, as shown in FIG. 9, the wiring length is calculated by a Manhattan distance in which the sum of absolute values of the difference in coordinates between the output terminal 201b of the instance 201 and the input terminal 211a of the instance 211 of the spare cell is a distance between two points. After that, the distance of the straight line L between the start point and the end point is calculated and set as the radius. A distance range that satisfies the timing constraint is obtained by graphic calculation as a sector region A2 centered on the output terminal 201b at an appropriate position on the connected side inside the sector region A1. At this time, in the timing constraint satisfaction range detection block 24, the static timing analysis processing unit 15 converts the original circuit diagram or netlist (conceptually, a circuit diagram, and a netlist reflecting the circuit diagram in actual processing). Using the delay value calculated from the resistance and capacitance per length of the wiring connected to the connection target location (output terminal 201b), which is obtained as a result of executing the static timing analysis on the current timing, A margin from the setup time and hold time is determined. The wiring length within the range satisfying the timing constraint calculated from the margin is calculated by the Manhattan distance, the distance of the straight line L between the start point and the end point is calculated, and the straight line distance is calculated from the center coordinate. By detecting the range within the sector area A1 as the distance, the sector area A2 that is the timing constraint satisfaction range (the distance range) is obtained.

さらに、ステップS4において、タイミング制約満足範囲検知ブロック23によって、ステップS3により求められた範囲内にスペアセルのインスタンス211の入力端子211aが存在するか否かという判断が行われる。例えば、図9の例では、上記距離範囲である扇形領域A2にスペアセルのインスタンス211の入力端子211aは存在しない。この判断により、スペアセルのインスタンス211の入力端子211aがステップS3により求められた上記距離範囲である扇形領域A2内に存在する場合(YESの場合)にはステップS8の処理へ進み、スペアセルのインスタンス211の入力端子211aがステップS3により求められた上記距離範囲である扇形領域内に存在しない場合(NOの場合)にはステップS5の処理へと移行する。   Further, in step S4, the timing constraint satisfaction range detection block 23 determines whether or not the input terminal 211a of the spare cell instance 211 exists within the range obtained in step S3. For example, in the example of FIG. 9, the input terminal 211a of the spare cell instance 211 does not exist in the sector area A2 that is the distance range. As a result of this determination, if the input terminal 211a of the spare cell instance 211 exists in the sector area A2 that is the distance range obtained in step S3 (in the case of YES), the process proceeds to step S8, and the spare cell instance 211 is reached. If the input terminal 211a does not exist within the fan-shaped area that is the distance range obtained in step S3 (in the case of NO), the process proceeds to step S5.

次に、ステップS5においては、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24によって、ステップS3により求められた範囲内にスペアセルのインスタンス211と同一種類のセルのインスタンスの入力端子が既使用状態で存在するか否かという判断が行われる。例えば、図9の例では、上記距離範囲である扇形領域A2内に、インスタンス203およびインスタンス205が存在する。この判断により、スペアセルと同一種類のセルのインスタンス(図9の例ではインスタンス203およびインスタンス205)の入力端子が既使用状態でステップS3により求められた扇形領域A2内に存在する場合(YESの場合)にはステップS6の処理へ進み、スペアセルと同一種類のセルのインスタンス(図9の例ではインスタンス203およびインスタンス205)の入力端子が既使用状態でステップS3により求められた扇形領域A2内に存在しない場合(NOの場合)にはエラーとして処理が中止される。エラーとして処理が中止された場合には、タイミング制約が満足されないレイアウトが出力される。その場合に、θ1をより大きい値に変更して処理を再実行することによって、エラーが生じない可能性もあるが、さらにエラーが生じる場合には、従来技術のように、能力が高いセルを用いるように入力ネットリストを手動により変更したり、フリーズシリコンECOを諦めて金属配線層およびコンタクト層以外の層を修正する必要がある。   Next, in step S5, whether or not an input terminal of an instance of the same type of cell as the spare cell instance 211 exists in the used state within the range obtained in step S3 by the used replacement cell instance detection block 24. Judgment is made. For example, in the example of FIG. 9, the instance 203 and the instance 205 exist in the sector area A2 that is the distance range. As a result of this determination, when the input terminals of the instances of the same type of cells as the spare cells (instance 203 and instance 205 in the example of FIG. 9) exist in the sector area A2 obtained in step S3 in the already used state (in the case of YES) ), The process proceeds to step S6, and the input terminal of the same type of cell as the spare cell (in the example of FIG. 9, instance 203 and instance 205) exists in the sector area A2 obtained in step S3 in the already used state. If not (NO), the process is canceled as an error. When processing is stopped as an error, a layout that does not satisfy the timing constraint is output. In that case, there is a possibility that an error does not occur by changing θ1 to a larger value and re-executing the process. It is necessary to manually change the input netlist to use or to give up freeze silicon ECO and modify layers other than the metal wiring layer and the contact layer.

さらに、ステップS5において、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24によって(セル選択は既使用置換セルインスタンス検知ブロック24で行われ、切断置換は既使用インスタンス置換ブロック25で行われる)検知された、スペアセルのインスタンス211と同一種類のセルのインスタンスの入力端子の中で、スペアセルのインスタンス211の入力端子211aに最も近いインスタンス205の入力端子205aが選択される。このとき、ステップS5で既使用置換セルインスタンス検知ブロック24によって検知された全てのインスタンスの入力端子座標と、置き換え対象スペアセルのインスタンス211の入力端子座標との直線Lの直線距離が算出されて、その距離が最も短い箇所に存在するインスタンスの入力端子座標が検知されて、その入力端子を有するインスタンスが選択される。図9の例では、インスタンス205が該当する。なお、接続対象のインスタンス201の出力端子201bに最も近い、スペアセルのインスタンス211と同一種類のセルのインスタンスの入力端子が選択されるのであれば、図9の例では、インスタンス203が該当する。   Further, in step S5, the spare cell detected by the used replacement cell instance detection block 24 (cell selection is performed in the used replacement cell instance detection block 24 and disconnection replacement is performed in the used instance replacement block 25). Of the input terminals of the same type of cell as the instance 211, the input terminal 205a of the instance 205 closest to the input terminal 211a of the spare cell instance 211 is selected. At this time, the straight line distance of the straight line L between the input terminal coordinates of all the instances detected by the used replacement cell instance detection block 24 in step S5 and the input terminal coordinates of the instance 211 of the replacement target spare cell is calculated. The input terminal coordinates of the instance existing at the shortest distance are detected, and the instance having the input terminal is selected. In the example of FIG. 9, the instance 205 corresponds. If the input terminal of the same type of cell as the spare cell instance 211 that is closest to the output terminal 201b of the instance 201 to be connected is selected, the instance 203 corresponds to the example of FIG.

さらに、ステップS6で、既使用インスタンス置換ブロック25によって、ステップS5で検知されたインスタンス205が切り離されて、スペアセルのインスタンス211の代わりに接続対象のインスタンス201に接続されて用いられる。また、ステップS6で切断されたインスタンス205の出力端子205bに接続されるインスタンスを例えば別に含み、このインスタンスが論理変更されていないインスタンスである場合には、その論理変更されていないインスタンスの入力端子と、論理変更されていないインスタンスの直前のインスタンス205の出力端子205bとが接続されるように、ネットリスト記憶部13のネットリストが変更される。   Further, in step S6, the instance 205 detected in step S5 is disconnected by the used instance replacement block 25 and connected to the connection target instance 201 instead of the spare cell instance 211. Further, for example, an instance connected to the output terminal 205b of the instance 205 disconnected in step S6 is included separately. If this instance is an instance whose logic has not been changed, an input terminal of the instance whose logic has not been changed is The net list in the net list storage unit 13 is changed so that the output terminal 205b of the instance 205 immediately before the instance whose logic has not been changed is connected.

例えば、ステップS5で図9に示すインスタンス205が選択された場合、図10に示すように、インスタンス205の入出力端子への接続が全て切断される。その出力端子205bに接続されているインスタンスを別に含み、この別のインスタンスが次に論理的に変更されていないインスタンスであるため、次に論理的に変更されていないインスタンスの直前のインスタンス205の出力端子205bとその別のインスタンスの入力端子とが接続されるため、図11に示すようなネットリストが作成される。図11においては、5列目X5のINVセルの入力および出力が図6の6列目X5に示すn10およびn11からn3およびnx3に変更されている。また、6列目X11のINVセルの入力および出力が図6の2列目X11に示すn3およびnx3から図6の6列目X5に示されていたn10およびn11に変更されている。   For example, when the instance 205 shown in FIG. 9 is selected in step S5, all the connections to the input / output terminals of the instance 205 are disconnected as shown in FIG. Since another instance connected to the output terminal 205b is included, and this another instance is an instance that is not logically changed next, the output of the instance 205 immediately before the next instance that is not logically changed Since the terminal 205b and the input terminal of another instance thereof are connected, a net list as shown in FIG. 11 is created. In FIG. 11, the input and output of the INV cell in the fifth column X5 are changed from n10 and n11 shown in the sixth column X5 in FIG. 6 to n3 and nx3. Further, the input and output of the INV cell in the sixth column X11 are changed from n3 and nx3 shown in the second column X11 of FIG. 6 to n10 and n11 shown in the sixth column X5 of FIG.

一方、変更された論理が複数インスタンスの複合論理であり、ステップS6で切断されたインスタンス205の出力端子205bに接続されているインスタンス206を別に含み、この別のインスタンスが次に論理変更されるインスタンスである場合には、その箇所についても以上と同様の処理を行う必要があるため、その論理変更されるインスタンスの出力端子が、今回の論理変更が加えられている箇所の直前のインスタンス205の出力端子205bとして再設定されて、ステップS1の処理に戻る。   On the other hand, the changed logic is a composite logic of a plurality of instances, which includes another instance 206 connected to the output terminal 205b of the instance 205 disconnected in step S6, and this other instance is the next logically changed instance. In this case, since it is necessary to perform the same processing as above for the location, the output terminal of the instance whose logic is changed is the output of the instance 205 immediately before the location where the current logic change is applied. The terminal 205b is reset, and the process returns to step S1.

その後、ステップS7では、基準端子座標再設定ブロック26によって、ステップS6により切り離されたインスタンス205の入力端子205aからの適切な位置が、ステップ2のスペアセル方向範囲検知処理における接続対象の適切な位置(中心座標)として再設定されて、ステップS2の処理に戻る。例えば、図10に示すように、出力端子204bと入力端子206aのように、ステップS6により切断されて浮いた状態の端子(スペアセルの変わりにそれと同一種類のセルが用いられて空いた回路部分または配線部分)から、出力端子204bの位置が論理変更が加わえられている箇所の直前のインスタンスの出力端子として再設定される。このステップS7の処理が終了後、ステップS2の処理に移行することによって、タイミング制約満足範囲検知処理により置き換え対象となるスペアセルのインスタンスが検知されるまで、タイミング制約満足範囲検知処理以降の各処理が繰り返されることになる。   After that, in step S7, the reference terminal coordinate reset block 26 determines that the appropriate position from the input terminal 205a of the instance 205 disconnected in step S6 is the appropriate position to be connected in the spare cell direction range detection processing in step 2 ( The center coordinates are reset, and the process returns to step S2. For example, as shown in FIG. 10, like the output terminal 204b and the input terminal 206a, a terminal that has been cut and floated in step S6 (a circuit portion that is vacant by using the same type of cell instead of a spare cell, or From the wiring part), the position of the output terminal 204b is reset as the output terminal of the instance immediately before the location where the logic change is applied. After the process of step S7 is completed, the process after the timing constraint satisfaction range detection process is performed until an instance of a spare cell to be replaced is detected by the timing constraint satisfaction range detection process by moving to the process of step S2. Will be repeated.

さらに、ステップS8では、ステップS4により確認されたスペアセルのインスタンスの端子が接続対象に接続されるように、例えば図13に示すようなネットリストが作成されて、既使用インスタンス置換ブロック25からネットリスト記憶部14に出力される。図13において、2列目X2のNANDセルの入力が図5の2列目X2に示すn3からnnx3に変更されている。また、5列目X5のINVセルの入力および出力が図5の5列目X5に示すn10およびn11からn3およびnx3に変更されている。さらに、9列目X9のINVセルの入力および出力であるn17およびn18が図5の5列目X5に示すn10およびn11に変更されている。さらに、9列目と10列目の間にX11として入力がネットn17に接続され、出力がネットn18に接続されたINVセルが挿入されている。このようなネットリストを用いてフリーズシリコンECOを行うことにより、タイミング制約を全て満足させるように、論理変更を行うことができる。   Further, in step S8, for example, a net list as shown in FIG. 13 is created so that the terminal of the spare cell instance confirmed in step S4 is connected to the connection target. The data is output to the storage unit 14. In FIG. 13, the input of the NAND cell in the second column X2 is changed from n3 shown in the second column X2 in FIG. 5 to nnx3. Further, the inputs and outputs of the INV cells in the fifth column X5 are changed from n10 and n11 shown in the fifth column X5 in FIG. 5 to n3 and nx3. Further, n17 and n18 which are inputs and outputs of the INV cell in the ninth column X9 are changed to n10 and n11 shown in the fifth column X5 in FIG. Further, an INV cell having an input connected to the net n17 and an output connected to the net n18 is inserted as X11 between the ninth and tenth columns. By performing freeze silicon ECO using such a netlist, logic changes can be made to satisfy all timing constraints.

図14は、本実施形態の半導体集積回路のレイアウト設計方法における他の処理手順例を説明するためのフローチャートである。   FIG. 14 is a flowchart for explaining another processing procedure example in the layout design method of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment.

ステップS5とステップS9以外は、上記図3に示すフローチャートの場合とその動作が同様であるため、ここではその説明を省略する。   Except for step S5 and step S9, the operation is the same as in the case of the flowchart shown in FIG.

図14に示すように、ステップS5では、既使用置換セルインスタンス検知ブロック25によって、ステップS3により求められた範囲内に、スペアセルのインスタンス211と同一種類のセルのインスタンスの入力端子が既使用状態で存在するか否かという判断が行われる。例えば、図9の例では、インスタンス203およびインスタンス205が該当する。この判断により、スペアセルと同一種類のセルのインスタンスの入力端子が既使用状態でステップS3により求められた範囲内に存在する場合(YESの場合)にはステップS6の処理に移行し、また、スペアセルと同一種類のセルのインスタンスの入力端子が既使用状態でステップS3により求められた範囲内に存在しない場合(NOの場合)にはステップS9の処理に移行する。   As shown in FIG. 14, in step S5, an input terminal of an instance of a cell of the same type as the spare cell instance 211 falls within the range determined by the used replacement cell instance detection block 25 in step S3. A determination is made whether or not it exists. For example, in the example of FIG. 9, the instance 203 and the instance 205 correspond. As a result of this determination, if the input terminal of an instance of the same type of cell as the spare cell is in the used state and is within the range obtained in step S3 (in the case of YES), the process proceeds to step S6. If the input terminal of the instance of the same type of cell does not exist within the range determined in step S3 in the used state (NO), the process proceeds to step S9.

次に、ステップS9では、指定されたθ1が90度以下であるかどうかが判定されて、θ1が90度以下の場合にはステップS2のスペアセル方向範囲検知処理に移行して、指定されたθ1が85度以下であればθ1に5度加えて設定し、θ1が85度よりも大きく90度以下であればθ1を90度に設定する。また、ステップS9で、指定されたθ1が90度よりも大きい場合(YESの場合)はエラーとして処理が中止される。エラーとして処理が中止された場合には、タイミング制約が満足されないレイアウトが出力される。この場合には、従来技術のように、能力が高いセルを用いるように入力ネットリストを手動により変更したり、フリーズシリコンECOを諦めて金属配線層およびコンタクト層以外の層を修正する必要がある。   Next, in step S9, it is determined whether or not the designated θ1 is 90 degrees or less, and if θ1 is 90 degrees or less, the process proceeds to the spare cell direction range detection process in step S2 and the designated θ1. If it is 85 degrees or less, it is set by adding 5 degrees to θ1, and if θ1 is greater than 85 degrees and 90 degrees or less, θ1 is set to 90 degrees. If the designated θ1 is greater than 90 degrees (YES) in step S9, the process is canceled as an error. When processing is stopped as an error, a layout that does not satisfy the timing constraint is output. In this case, as in the prior art, it is necessary to manually change the input netlist so as to use a cell with high capability, or to give up freeze silicon ECO and modify layers other than the metal wiring layer and the contact layer. .

以上のように、本実施形態によれば、レイアウト設計後のマスクパターンに論理変更をフリーズシリコンECOにて行う際に、スペアセル方向範囲検知ブロック22で置き換え対象スペアセルの方向範囲を検知し、その方向範囲の中でタイミング制約満足範囲検知ブロック23でタイミング制約を満足する距離範囲を検知する。このタイミング制約を満足する距離範囲内にスペアセルが存在しない場合に、それと同種類の既使用インスタンスの中で、既使用置換セルインスタンス検知ブロック24でスペアセルまたは接続対象に最も近い箇所に存在するインスタンスを検知し、既使用置換インスタンス置換ブロック25でその検知したインスタンスの両端子を切り離し、スペアセルの代わりに使用する。基準端子座標再設定ブロック26で、切り離された端子箇所(空いた回路部分)を置き換え対象として接続対象を再設定し、各処理を一または複数回繰り返して、タイミング制約を満足させる条件で最終的にスペアセルまで置き換える。   As described above, according to the present embodiment, when a logical change is performed on the mask pattern after layout design by freeze silicon ECO, the spare cell direction range detection block 22 detects the direction range of the spare cell to be replaced, and the direction Within the range, the timing constraint satisfaction range detection block 23 detects a distance range that satisfies the timing constraint. When there is no spare cell within the distance range that satisfies this timing constraint, among the already used instances of the same type, the instance that is present at the closest location to the spare cell or the connection target in the used replacement cell instance detection block 24 Then, the detected replacement instance replacement block 25 disconnects both terminals of the detected instance and uses them instead of the spare cell. In the reference terminal coordinate resetting block 26, the connection target is reset with the disconnected terminal portion (vacant circuit portion) as the replacement target, and each process is repeated one or more times, and finally the conditions satisfying the timing constraints are satisfied. Replace up to spare cell.

これによって、エラーとならない限り、手作業を介することなく、自動的に、クロック信号に係わるタイミング制約を全て満足させるような条件で最終的に置き換え可能なスペアセルのインスタンスに置き換えを行うことが可能となり、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更するフリーズシリコンECOにより、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように論理変更を行うことができる。   This makes it possible to automatically replace a spare cell instance that can be finally replaced under conditions that satisfy all timing constraints related to the clock signal, without manual intervention, unless an error occurs. The logic change can be made so as to satisfy the timing constraint related to the clock signal by the freeze silicon ECO that changes the mask layer in the manufacturing process for the wiring layer and the contact layer.

さらに、本実施形態のレイアウト設計補助システムを用いて生成されたマスクパターンを有するフォトマスクを用いることにより、回路面積を増大させることなく、フリーズシリコンECOによりクロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように論理変更が行われた半導体集積回路を製造することができる。   Furthermore, by using a photomask having a mask pattern generated by using the layout design assisting system of the present embodiment, the freeze silicon ECO can satisfy the timing constraint related to the clock signal without increasing the circuit area. A semiconductor integrated circuit in which the logic is changed can be manufactured.

なお、上記実施形態でも説明したが、自動レイアウト設計後のマスクパターンに対して論理変更を行う際に、スペアセルによりタイミング制約を満足させることができない場合に、タイミング制約を満足させるような位置範囲にある、スペアセルと同種類の既使用セルの中から、接続対象またはスペアセルに最も近い既使用セルを検出し、スペアセルの代わりに用いた検出既使用セルを新たな接続対象として、新たな接続対象またはスペアセルに最も近い既使用セルを接続する処理を、タイミング制約を満足させるような位置範囲内にスペアセルが現れるまで繰り返し行って、最後にスペアセルを用いるレイアウト設計補助システム部20を有すれば、従来技術のようなスペアセルの配置においても、タイミング制約を満足させるように、フリーズシリコンECOにおける入力ネットリストを自動的に変更させ、そのネットリストを用いてフリーズシリコンECOを行うことができる本発明の目的を達成することができる。   As described in the above embodiment, when a logical change is performed on a mask pattern after automatic layout design, if the timing constraint cannot be satisfied by a spare cell, the position range satisfies the timing constraint. Detect a used cell closest to the connection target or spare cell from existing cells of the same type as a spare cell, and use the detected used cell used instead of the spare cell as a new connection target. If the layout design auxiliary system unit 20 using the spare cell is finally provided by repeatedly performing the process of connecting the used cell closest to the spare cell until the spare cell appears in a position range that satisfies the timing constraint, the conventional technology Even in spare cell arrangements such as Automatically to change the input netlist in Zushirikon ECO, can achieve the object of the present invention capable of performing freeze silicon ECO using the net list.

以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。   As mentioned above, although this invention has been illustrated using preferable embodiment of this invention, this invention should not be limited and limited to this embodiment. It is understood that the scope of the present invention should be construed only by the claims. It is understood that those skilled in the art can implement an equivalent range from the description of specific preferred embodiments of the present invention based on the description of the present invention and common general technical knowledge. Patents, patent applications, and documents cited herein should be incorporated by reference in their entirety, as if the contents themselves were specifically described herein. Understood.

本発明は、大規模半導体集積回路(LSI)などのレイアウト設計において、論理変更が行われた箇所に対してのみ配置配線処理を行う手法(以下、ECOと呼ぶ)の中でも、レイアウト設計時に、論理変更の際に用いる置き換え用の冗長セル(以下、スペアセルと呼ぶ)を予め配置しておき、その配置素子(以下、インスタンスと呼ぶ)を用いて配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更することにより論理変更を行うECO手法(以下、フリーズシリコンECOと呼ぶ)において、設計装置内部で実行される静的タイミング解析によりタイミング制約を満足させることができなかった場合に、タイミング制約が満足されるようにフリーズシリコンECOを行う半導体集積回路のレイアウト設計方法、このレイアウト設計方法に用いる半導体集積回路のレイアウト設計補助システム、このレイアウト設計補助システムが搭載された半導体集積回路の自動レイアウト設計装置、この自動レイアウト設計装置を用いて生成されたマスクパターンを有するフォトマスク、このフォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法、フォトマスクを用いて製造された半導体集積回路、フォトマスクを用いて半導体集積回路を製造する半導体集積回路の製造方法、上記半導体集積回路のレイアウト設計方法の各工程をコンピュータに実行させるための制御プログラムおよびこの制御プログラムが格納されたコンピュータ読み取り可能な可読記憶媒体の分野において、フリーズシリコンECO機能においてタイミング制約が満足されなかった場合に、人手によりネットリスト変更をする必要がある従来技術のような膨大な手間が不要である。また、配線層およびコンタクト層以外の層を修正したり、現状以上に多くのスペアセルのインスタンスを予め配置しておくことなく、高確率でフリーズシリコンECOによってタイミング制約を満足させることができる。自動的にタイミング制約を満足させるようにフリーズシリコンECOを行うことができるため、論理変更における設計期間やマスクコストの増大、人為的ミスの発生、さらには初期設計のチップ面積の増大などを効果的に防ぐことができる。したがって、効率的に動作ミスが少ない半導体装置やその半導体装置が搭載された電子機器を低コストで作製することができて、このフリーズシリコンECOの普及に大いに貢献することができる。   In the layout design of a large-scale semiconductor integrated circuit (LSI) or the like, the present invention is a method of performing placement and routing processing only on a place where logic has been changed (hereinafter referred to as ECO). Replacement redundant cells (hereinafter referred to as spare cells) to be used at the time of change are arranged in advance, and the mask layer in the manufacturing process is changed for the wiring layer and contact layer using the arrangement elements (hereinafter referred to as instances). In the ECO method (hereinafter referred to as “freeze silicon ECO”) in which the logic is changed, the timing constraint is satisfied when the timing constraint cannot be satisfied by the static timing analysis executed in the design apparatus. Layout design method for semiconductor integrated circuit that performs freeze silicon ECO Semiconductor integrated circuit layout design assisting system used in the design method, semiconductor integrated circuit automatic layout designing apparatus equipped with the layout design assisting system, photomask having a mask pattern generated using the automatic layout designing apparatus, Photomask manufacturing method for manufacturing this photomask, semiconductor integrated circuit manufactured using photomask, semiconductor integrated circuit manufacturing method for manufacturing semiconductor integrated circuit using photomask, and layout design method for semiconductor integrated circuit In the field of a control program for causing a computer to execute each step of the above and a computer-readable readable storage medium storing the control program, if the timing constraint is not satisfied in the freeze silicon ECO function, Enormous labor as in the prior art that needs to be bets change is not required. In addition, it is possible to satisfy the timing constraint with the freeze silicon ECO with a high probability without modifying layers other than the wiring layer and the contact layer, or arranging in advance more spare cell instances than the current level. Freeze silicon ECO can be performed to automatically satisfy timing constraints, so it is effective to increase the design period and mask cost in the logic change, cause human error, and increase the chip area of the initial design. Can be prevented. Therefore, it is possible to manufacture a semiconductor device with few operational errors efficiently and an electronic device on which the semiconductor device is mounted at low cost, and can greatly contribute to the spread of this freeze silicon ECO.

本発明の実施形態に係る半導体集積回路の自動レイアウト設計装置の要部機能構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part function structural example of the automatic layout design apparatus of the semiconductor integrated circuit which concerns on embodiment of this invention. 本発明の原理を簡単に説明するための回路構成例を示す模式図である。It is a schematic diagram showing a circuit configuration example for simply explaining the principle of the present invention. 図1の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置の要部ハード構成例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram illustrating a hardware configuration example of a main part of the automatic layout design apparatus for the semiconductor integrated circuit of FIG. 1. 本発明の実施形態に係る半導体集積回路のレイアウト設計方法における処理手順例を説明するためのフローチャートである。5 is a flowchart for explaining an example of a processing procedure in a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、論理変更される前のレイアウトのネットリスト例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a netlist example of a layout before logical change in the semiconductor integrated circuit layout design method of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、フリーズシリコンECOを行うために自動配置配線処理部に入力される論理変更されたネットリスト例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a netlist whose logic is changed and inputted to an automatic placement and routing processing unit in order to perform freeze silicon ECO in the layout design method of the semiconductor integrated circuit of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、フリーズシリコンECO処理前のマスクレイアウトを論理形式で簡略化して示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing a mask layout before freeze silicon ECO processing in a logical format in the layout design method for the semiconductor integrated circuit of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、スペアセル方向範囲検知ブロックによる処理を論理形式で簡略化して示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing, in logical form, simplified processing by a spare cell direction range detection block in the layout design method for the semiconductor integrated circuit of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、タイミング制約満足範囲検知ブロックによる処理を論理形式で簡略化して示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing processing by a timing constraint satisfaction range detection block in a logical format in the semiconductor integrated circuit layout design method of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、既使用インスタンス置換ブロックによる処理を論理形式で簡略化して示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing, in a logical form, simplified processing by an used instance replacement block in the semiconductor integrated circuit layout design method of FIG. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、既使用インスタンス置換ブロックにより変更された自動配置配線処理部に入力されるネットリスト例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an example of a netlist input to an automatic placement and routing processing unit changed by an already used instance replacement block in the semiconductor integrated circuit layout design method of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、置換伝播手段により各処理を一または複数回繰り返し行わせた結果を論理形式で簡略化して示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram schematically showing, in logical form, a result of repeating each process one or more times by a replacement propagation means in the layout design method for the semiconductor integrated circuit of FIG. 4. 図4の半導体集積回路のレイアウト設計方法において、置換伝播手段により変更された自動配置配線処理部に入力されるネットリスト例を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a net list input to an automatic placement and routing processing unit changed by a replacement propagation unit in the semiconductor integrated circuit layout design method of FIG. 4. 本発明の実施形態に係る半導体集積回路のレイアウト設計方法における他の処理手順例を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the other process sequence example in the layout design method of the semiconductor integrated circuit which concerns on embodiment of this invention. 特許文献1に開示されている従来の半導体集積回路のレイアウト設計方法について説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a conventional layout design method for a semiconductor integrated circuit disclosed in Patent Document 1; 特許文献2に開示されている従来の半導体集積回路のレイアウト設計方法について説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a conventional layout design method for a semiconductor integrated circuit disclosed in Patent Document 2. 従来技術の場合の原理を簡単に説明するための回路構成例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of a circuit structure for demonstrating briefly the principle in the case of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 自動レイアウト設計装置
2 演算処理装置
20 レイアウト設計補助システム部(レイアウト設計補助コンピュータシステム)
21 スペアセル検知ブロック(スペアセル検知手段)
22 スペアセル方向範囲検知ブロック(スペアセル方向範囲検知手段)
23 タイミング制約満足範囲検知ブロック(タイミング制約満足範囲検知手段)
24 既使用置換セルインスタンス検知ブロック(既使用置換セルインスタンス検知手段)
25 既使用置換インスタンス置換ブロック(既使用置換インスタンス置換手段)
26 基準端子座標再設定ブロック(基準端子座標再設定手段;置換伝播手段)
3 ディスプレイ部
4 キーボード
5 マウス
6 ROM(可読記録媒体)
7 RAM
11 マスクパターンデータベース
12 自動配置配線処理部
13 ネットリスト記憶部
14 インターフェース部
15 静的タイミング解析処理部
201 NORセルの既使用インスタンス
202 NANDセルの既使用インスタンス
203 INVセルの既使用インスタンス
204 NANDセルの既使用インスタンス
205 INVセルの既使用インスタンス
206 NANDセルの既使用インスタンス
207 NORセルの既使用インスタンス
208 INVセルの既使用インスタンス
209 NORセルの既使用インスタンス
210 INVセルの既使用インスタンス
211 INVセルのスペアセルのインスタンス(冗長セル)
A1 スペアセルのインスタンス方向を含む方向範囲
A2 タイミング制約を満足する距離範囲
θ1 スペアセルのインスタンス方向を含む方向の特定範囲に設定される角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Automatic layout design apparatus 2 Arithmetic processing apparatus 20 Layout design auxiliary system part (layout design auxiliary computer system)
21 Spare cell detection block (spare cell detection means)
22 Spare cell direction range detection block (spare cell direction range detection means)
23 Timing constraint satisfaction range detection block (timing constraint satisfaction range detection means)
24 Used replacement cell instance detection block (used replacement cell instance detection means)
25 Used replacement instance replacement block (used replacement instance replacement means)
26 Reference terminal coordinate reset block (reference terminal coordinate reset means; replacement propagation means)
3 Display 4 Keyboard 5 Mouse 6 ROM (Readable Recording Medium)
7 RAM
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Mask pattern database 12 Automatic placement and routing processing unit 13 Netlist storage unit 14 Interface unit 15 Static timing analysis processing unit 201 Used instance of NOR cell 202 Used instance of NAND cell 203 Used instance of INV cell 204 NAND cell Used instance 205 used instance of INV cell 206 used instance of NAND cell 207 used instance of NOR cell 208 used instance of INV cell 209 used instance of NOR cell 210 used instance of INV cell 211 spare cell of INV cell Instances (redundant cells)
A1 Direction range including instance direction of spare cell A2 Distance range satisfying timing constraint θ1 Angle set to specific range of direction including instance direction of spare cell

Claims (60)

半導体集積回路の自動レイアウト設計後に、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行うために、セルのレイアウト設計時に、論理変更時に用いる冗長セルを予め配置しておき、該冗長セルを接続対象に接続可能とするレイアウト設計方法において、
レイアウト設計補助コンピュータシステムが、自動レイアウト設計後のマスクパターンに対して論理変更を行う際に、該冗長セルによりタイミング制約を満足させることができない場合に、該タイミング制約を満足させるような位置範囲にある、該冗長セルと同種類の既使用セルの中から、該接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを検出し、該冗長セルの代わりに用いた検出既使用セルを新たな接続対象として、当該新たな接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを接続する処理を、該タイミング制約を満足させるような位置範囲内に該冗長セルが現れるまで繰り返し行って、最後に該冗長セルを用いるレイアウト設計補助ステップを有する半導体集積回路のレイアウト設計方法。
After the automatic layout design of the semiconductor integrated circuit, in order to change the logic by changing the mask layer in the manufacturing process for the wiring layer and the contact layer, redundant cells used for the logic change are arranged in advance during the cell layout design, In the layout design method that enables the redundant cell to be connected to the connection target,
When the layout design auxiliary computer system makes a logical change to the mask pattern after the automatic layout design, if the timing constraint cannot be satisfied by the redundant cell, the position range is set to satisfy the timing constraint. Among the used cells of the same type as the redundant cell, the connection target or the used cell closest to the redundant cell is detected, and the detected used cell used instead of the redundant cell is newly connected The process of connecting the newly connected cell or the used cell closest to the redundant cell is repeated until the redundant cell appears in a position range that satisfies the timing constraint, and finally the redundant cell A layout design method for a semiconductor integrated circuit having a layout design auxiliary step using
前記レイアウト設計補助ステップは、
スペアセル検知手段が、前記接続対象に接続すべき冗長セルを検知するスペアセル検知ステップと、
スペアセル方向範囲検知手段が、該接続対象の位置から該冗長セルの方向を含む方向範囲を検知するスペアセル方向範囲検知ステップと、
タイミング制約満足範囲検知手段が、該検知された方向範囲の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲を検知するタイミング制約満足範囲検知ステップと、
既使用置換セルインスタンス検知手段が、該検知された距離範囲に該冗長セルが存在しない場合に、回路中に組み込まれて既に存在する、該冗長セルと同種類のセルの中から、該距離範囲内の該接続対象または該冗長セルから最も近いセルを検知する既使用置換セルインスタンス検知ステップと、
既使用インスタンス置換手段が、該検知されたセルを切り離して該接続対象に接続する既使用インスタンス置換ステップと、
置換伝播手段が、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように最終的に該冗長セルに置き換えを行うまで各ステップを一または複数回繰り返し行わせる置換伝播ステップとを有する請求項1に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。
The layout design auxiliary step includes
Spare cell detection means detects a redundant cell to be connected to the connection target, a spare cell detection step;
Spare cell direction range detection means detects a direction range including the direction of the redundant cell from the position to be connected, a spare cell direction range detection step;
A timing constraint satisfaction range detection step in which the timing constraint satisfaction range detection means detects a distance range that satisfies a timing constraint related to the clock signal in the detected direction range; and
When the used replacement cell instance detection means does not have the redundant cell in the detected distance range, the distance range is selected from the same type of cells as the redundant cell already incorporated in the circuit. A used replacement cell instance detection step of detecting a cell closest to the connection target or the redundant cell in
A used instance replacement means for disconnecting the detected cell and connecting to the connection target;
2. The semiconductor according to claim 1, wherein the replacement propagation means includes a replacement propagation step in which each step is repeatedly performed one or more times until the redundant cell is finally replaced so as to satisfy a timing constraint relating to the clock signal. Integrated circuit layout design method.
前記スペアセル検知ステップは、前記接続対象からの直線距離が最も近い箇所に存在する冗長セルを検知する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the spare cell detecting step detects a redundant cell existing at a location where the straight line distance from the connection target is the shortest. 前記スペアセル検知ステップは、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行う自動レイアウトツールを用いて前記接続対象に接続されるべき冗長セルを検知する請求項2または3に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   4. The spare cell detection step detects redundant cells to be connected to the connection target using an automatic layout tool that changes a mask layer in a manufacturing process for a wiring layer and a contact layer to change logic. The layout design method of the semiconductor integrated circuit as described. 前記スペアセル方向範囲検知ステップは、前記方向範囲を、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係として検出する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the spare cell direction range detection step detects the direction range as a positional relationship between the connection target and the redundant cell. 前記スペアセル方向範囲検知ステップは、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係を検出する際に、回路図情報またはネットリスト上で、該冗長セルの端子と該接続対象の端子との間の関係を検出する請求項5に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   In the spare cell direction range detection step, when detecting the positional relationship between the connection target and the redundant cell, the relationship between the terminal of the redundant cell and the terminal of the connection target on the circuit diagram information or the netlist The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein the method is detected. 前記接続対象の所定位置を中心として、該冗長セルと該接続対象とを結ぶ直線距離を半径とし、該接続対象から該冗長セルの方向を角度として算出し、算出された角度から正方向および負方向にそれぞれ所定範囲の角度を指定してその合計を中心角とし、該冗長セル側を円弧側として、前記方向範囲を、該半径を有する扇形領域として算出する請求項2、5および6のいずれかに記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   Centering on a predetermined position of the connection target, a straight line connecting the redundant cell and the connection target is used as a radius, and the direction of the redundant cell from the connection target is calculated as an angle. The angle of a predetermined range is specified for each direction, the sum is used as a central angle, the redundant cell side is calculated as an arc side, and the direction range is calculated as a sector area having the radius. A layout design method for a semiconductor integrated circuit according to any one of the above. 前記スペアセル方向範囲検知ステップは、前記半径として、前記冗長セルの端子座標とこれに接続されるべき前記接続対象の端子座標とを結ぶ直線の長さをそれぞれの座標から算出する請求項7に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   8. The spare cell direction range detection step calculates, as the radius, the length of a straight line connecting the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target to be connected to the radius from the coordinates. Layout design method for semiconductor integrated circuit. 前記スペアセル方向範囲検知ステップは、前記接続対象から前記冗長セルへの方向を、該冗長セルの端子座標とこれに接続されるべき前記接続対象の端子座標とから三角関数を用いて該冗長セルの方向を角度として算出する請求項7に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   In the spare cell direction range detection step, the direction from the connection target to the redundant cell is determined using a trigonometric function from the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target to be connected to the redundant cell. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein the direction is calculated as an angle. 前記スペアセル方向範囲検知ステップは、前記正方向および負方向の所定範囲の角度としてそれぞれ、0度以上180度以下の範囲内の角度をそれぞれ指定する請求項7に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   8. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein in the spare cell direction range detection step, an angle within a range of 0 degrees or more and 180 degrees or less is specified as an angle of the predetermined range in the positive direction and the negative direction, respectively. . 前記スペアセル方向範囲検知ステップは、前記扇形領域を図形演算処理により検出する際に、前記接続対象の中心座標を通る一次方程式の直線と、該中心座標を通る他の一次方程式の直線に挟まれた前記中心角の領域から、該中心座標からの距離が前記半径の値よりも小さい領域を検出する請求項7に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The spare cell direction range detection step is sandwiched between a straight line of a linear equation passing through the central coordinates of the connection target and a straight line of another linear equation passing through the central coordinates when detecting the sector area by graphic calculation processing. 8. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein an area having a distance from the center coordinate smaller than the radius value is detected from the area of the center angle. 前記タイミング制約満足範囲検知ステップは、前記接続対象に接続される配線の幅と長さから抵抗および容量を試算して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させる該接続対象からの距離範囲を算出し、前記検知された方向範囲の中で、タイミング制約を満足させる距離範囲を検知する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The timing constraint satisfaction range detection step calculates a distance range from the connection target that satisfies a timing constraint related to a clock signal by calculating a resistance and a capacitance from the width and length of the wiring connected to the connection target. 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a distance range that satisfies a timing constraint is detected in the detected direction range. 前記タイミング制約満足範囲検知ステップは、元の回路図に対して静的タイミング解析を実行することにより、前記接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から割り出される遅延値を用いて、現状タイミングのセットアップタイムおよびホールドタイムからの余裕度を割り出し、該余裕度から割り出される、タイミング制約を満足させる範囲の配線長さを、該接続対象と前記冗長セルの各座標の差の絶対値の総和を2点間の距離とするマンハッタン距離により算出後、該各座標の始点および終点の2点間の直線距離を算出し、算出された直線距離を前記中心からの距離として前記扇形領域内部の範囲を検知する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The timing constraint satisfaction range detection step uses a delay value calculated from resistance and capacitance per length of wiring connected to the connection target by performing static timing analysis on the original circuit diagram. Then, the margin from the setup time and hold time of the current timing is determined, and the wiring length within the range satisfying the timing constraint calculated from the margin is determined by the difference between the coordinates of the connection target and the redundant cell. After calculating the Manhattan distance with the sum of absolute values as the distance between the two points, the linear distance between the two starting and ending points of each coordinate is calculated, and the calculated linear distance is the distance from the center. 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a range inside the region is detected. 前記既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで検知された距離範囲に存在する、前記冗長セルと同種類のセルを全て探知し、それぞれの端子座標について前記接続対象の端子座標との直線距離をそれぞれ算出して、各直線距離の中で最も短いまたは最も長い該同種類のセルの端子座標を検知する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The used replacement cell instance detection step detects all cells of the same type as the redundant cell that exist in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection step, and the connection target terminal for each terminal coordinate 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a straight line distance to the coordinates is calculated, and a terminal coordinate of the cell of the same type that is the shortest or longest in each straight line distance is detected. 前記既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで検知された距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、エラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The used replacement cell instance detection step is an error process that is performed when the same type of cells as the redundant cells are not already used in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection step. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the used replacement cell instance detection process is stopped. 前記既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで検知された距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルの端子が既に使用された状態で存在しなかった場合に、前記正方向および負方向の所定範囲の角度として指定される角度をより大きい値に変更して該距離範囲を広げる請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The used replacement cell instance detecting step is performed when the terminal of the same type of cell as the redundant cell is not already used in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detecting step. 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein an angle designated as an angle in a predetermined direction in the direction and the negative direction is changed to a larger value to widen the distance range. 前記既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度以下の場合に、前記スペアセル方向範囲検知ステップに対して、該角度が85度以下であれば5度加えて指定させ、該角度が85度よりも大きく90度以下であれば90度に指定させる請求項16に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The used replacement cell instance detection step is 5 if the angle specified in the positive direction and the negative direction is 90 degrees or less, and the angle is 85 degrees or less with respect to the spare cell direction range detection step. 17. The method of designing a layout of a semiconductor integrated circuit according to claim 16, wherein if the angle is greater than 85 degrees and not greater than 90 degrees, the angle is specified as 90 degrees. 前記既使用置換セルインスタンス検知ステップは、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度よりも大きい場合にエラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止処理する請求項16または17に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   18. The used replacement cell instance detection step performs the stop processing of the used replacement cell instance detection process as an error process when the angles specified in the positive direction and the negative direction are each greater than 90 degrees. The layout design method of the semiconductor integrated circuit as described. 前記既使用インスタンス置換ステップは、前記既使用置換セルインスタンス検知ステップで検知したセルの両端子への配線を切り離し、該切り離したセルの端子と、前記接続対象の端子とを配線により接続するように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   In the used instance replacement step, the wiring to both terminals of the cell detected in the used replacement cell instance detection step is disconnected, and the terminal of the disconnected cell and the connection target terminal are connected by wiring. 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a net list used for automatic placement and routing processing is changed. 前記既使用インスタンス置換ステップは、前記既使用置換セルインスタンス検知ステップで検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されないインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されないインスタンスの直前のインスタンスの出力端子と該次に論理変更されないインスタンスの入力端子が接続されるように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   In the case where the used instance replacement step includes an instance that is not logically changed next as an instance of the cell detected in the used replacement cell instance detecting step, an output terminal of an instance immediately before the next instance that is not logically changed; 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a net list used for automatic placement and routing processing is changed so that an input terminal of an instance that is not logically changed next is connected. 前記既使用インスタンス置換ステップは、前記既使用置換セルインスタンス検知ステップで検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されるインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されるインスタンスの出力端子を、今回の論理変更が加えられる箇所の直前のインスタンスの出力端子として再設定して、前記スペアセル検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各処理を行う請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   In the case where the used instance replacement step includes an instance that is logically changed next as an instance of the cell detected in the used replacement cell instance detection step, the output terminal of the next logically changed instance is 3. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the processing is performed again from the spare cell detection step to the used instance replacement step by resetting as an output terminal of the instance immediately before the location where the logic change is applied. . 前記置換伝播ステップは、前記スペアセル方向範囲検知ステップによる処理の際に方向を求める基準となる座標として、前記既使用インスタンス置換ステップにより置き換えられるインスタンスの位置座標が設定される請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   3. The semiconductor according to claim 2, wherein in the replacement propagation step, a position coordinate of an instance replaced by the used instance replacement step is set as a reference coordinate for obtaining a direction in the processing by the spare cell direction range detection step. Integrated circuit layout design method. 前記置換伝播ステップは、前記既使用インスタンス置換ステップで切り離されたインスタンスを、前記スペアセル方向範囲検知ステップにおける新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで前記冗長セルが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各ステップの処理を繰り返し行う請求項22に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   In the replacement propagation step, the instance disconnected in the used instance replacement step is reset as a new connection target in the spare cell direction range detection step, and the redundant cell is detected in the timing constraint satisfaction range detection step. 23. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 22, wherein the processing of each step from the spare cell direction range detection step to the used instance replacement step is repeated once or a plurality of times. 前記置換伝播ステップは、前記既使用インスタンス置換ステップで切り離される直前のインスタンスの端子座標を、前記スペアセル方向範囲検知ステップにおける新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各ステップの処理を繰り返し行う請求項22に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The replacement propagation step resets the terminal coordinates of the instance immediately before being disconnected in the used instance replacement step as a new connection target in the spare cell direction range detection step, and the redundant cell in the timing constraint satisfaction range detection step 23. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 22, wherein the processing of each step from the spare cell direction range detection step to the used instance replacement step is repeated one or more times until an instance is detected. 前記置換伝播ステップは、前記既使用インスタンス置換ステップで置き換えられて空いた回路部分の座標を、前記スペアセル方向範囲検知ステップにおける新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知ステップで前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知ステップから該既使用インスタンス置換ステップまでの各ステップの処理を繰り返し行う請求項22に記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。   The replacement propagation step re-sets the coordinates of the circuit part that has been replaced by the used instance replacement step as a new connection target in the spare cell direction range detection step, and the redundancy restriction is detected in the timing constraint satisfaction range detection step. 23. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 22, wherein the processing of each step from the spare cell direction range detection step to the used instance replacement step is repeated one or more times until a cell instance is detected. 半導体集積回路の自動レイアウト設計後に、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行うために、セルのレイアウト設計時に、論理変更時に用いる冗長セルを予め配置しておき、該冗長セルを接続対象に接続制御する半導体集積回路の自動レイアウト設計装置において、
自動レイアウト設計後のマスクパターンに対して論理変更を行う際に、該冗長セルによりタイミング制約を満足させることができない場合に、該タイミング制約を満足させるような位置範囲にある、該冗長セルと同種類の既使用セルの中から、該接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを検出し、該冗長セルの代わりに用いた検出既使用セルを新たな接続対象として、当該新たな接続対象または該冗長セルに最も近い既使用セルを接続する処理を、該タイミング制約を満足させるような位置範囲内に該冗長セルが現れるまで繰り返し行って、最後に該冗長セルを用いるレイアウト設計補助コンピュータシステムを有する半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。
After the automatic layout design of the semiconductor integrated circuit, in order to change the logic by changing the mask layer in the manufacturing process for the wiring layer and the contact layer, redundant cells used for the logic change are arranged in advance during the cell layout design, In an automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit that controls connection of the redundant cell to a connection target,
When a logical change is made to the mask pattern after the automatic layout design, if the timing constraint cannot be satisfied by the redundant cell, it is the same as the redundant cell in the position range that satisfies the timing constraint. From the types of used cells, the connection target or the used cell closest to the redundant cell is detected, and the detected used cell used in place of the redundant cell is used as a new connection target. Alternatively, the layout design auxiliary computer system using the redundant cell at the end is performed by repeatedly performing the process of connecting the used cell closest to the redundant cell until the redundant cell appears in a position range that satisfies the timing constraint. An automatic layout design apparatus for semiconductor integrated circuits.
前記レイアウト設計補助コンピュータシステムは、
前記接続対象に接続すべき冗長セルを検知するスペアセル検知手段と、
該接続対象の位置から該冗長セルの方向を含む方向範囲を検知するスペアセル方向範囲検知手段と、
該検知された方向範囲の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲を検知するタイミング制約満足範囲検知手段と、
該検知された距離範囲に該冗長セルが存在しない場合に、回路中に組み込まれて既に存在する、該冗長セルと同種類のセルの中から、該距離範囲内の該接続対象または該冗長セルから最も近いセルを検知する既使用置換セルインスタンス検知手段と、
該検知されたセルを切り離して該接続対象に接続する既使用インスタンス置換手段と、
クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように最終的に該冗長セルに置き換えを行うまで各処理を一または複数回繰り返し行わせる置換伝播手段とを有する請求項26に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。
The layout design auxiliary computer system includes:
Spare cell detection means for detecting redundant cells to be connected to the connection target;
Spare cell direction range detecting means for detecting a direction range including the direction of the redundant cell from the position to be connected;
Timing constraint satisfaction range detection means for detecting a distance range that satisfies the timing constraint related to the clock signal in the detected direction range; and
When the redundant cell does not exist in the detected distance range, the connection target or the redundant cell within the distance range is selected from the same type of cells as the redundant cell that are already included in the circuit. Used replacement cell instance detection means for detecting the closest cell from
Used instance replacement means for disconnecting the detected cell and connecting to the connection target;
27. An automatic layout of a semiconductor integrated circuit according to claim 26, further comprising replacement propagation means for repeatedly performing each processing one or more times until the redundant cell is finally replaced so as to satisfy the timing constraint relating to the clock signal. Design equipment.
前記スペアセル検知手段は、前記接続対象からの直線距離が最も近い箇所に存在する冗長セルを検知する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein the spare cell detecting means detects a redundant cell existing at a location where a linear distance from the connection target is the shortest. 前記スペアセル検知手段は、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層を変更して論理変更を行う自動レイアウトツールを用いて前記接続対象に接続されるべき冗長セルを検知する請求項27または28に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The spare cell detection means detects a redundant cell to be connected to the connection target using an automatic layout tool that changes a mask layer in a manufacturing process for a wiring layer and a contact layer to change a logic. The automatic layout design apparatus of the semiconductor integrated circuit as described. 前記スペアセル方向範囲検知手段は、前記方向範囲を、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係として検出する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein the spare cell direction range detecting means detects the direction range as a positional relationship between the connection target and the redundant cell. 前記スペアセル方向範囲検知手段は、前記接続対象と前記冗長セルとの位置関係を検出する際に、回路図情報またはネットリスト上で、該冗長セルの端子と該接続対象の端子との間の関係を検出する請求項30に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   When the spare cell direction range detection means detects the positional relationship between the connection target and the redundant cell, the relationship between the terminal of the redundant cell and the terminal of the connection target on the circuit diagram information or netlist 32. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 30, wherein the automatic layout design apparatus detects the signal. 前記接続対象の位置を中心として、該冗長セルと該接続対象とを結ぶ直線距離を半径とし、該接続対象からの該冗長セルの方向を角度として算出し、算出された角度から正方向および負方向にそれぞれ所定範囲の角度を指定してその合計を中心角とし、該冗長セル側を円弧側として、前記方向範囲を、該半径を有する扇形領域として算出する請求項26、30および31のいずれかに記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   Centering on the position of the connection target, a straight line connecting the redundant cell and the connection target is used as a radius, and the direction of the redundant cell from the connection target is calculated as an angle. From the calculated angle, a positive direction and a negative direction are calculated. 32. Any one of claims 26, 30 and 31, wherein an angle within a predetermined range is specified for each direction, the sum of the angles is set as a central angle, the redundant cell side is set as an arc side, and the direction range is calculated as a sector area having the radius. An automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 1. 前記スペアセル方向範囲検知手段は、前記半径として、前記冗長セルの端子座標と前記接続対象の端子座標を結ぶ直線の長さをそれぞれの座標から算出する請求項32に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   33. The automatic layout of a semiconductor integrated circuit according to claim 32, wherein the spare cell direction range detecting means calculates, as the radius, the length of a straight line connecting the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target from the respective coordinates. Design equipment. 前記スペアセル方向範囲検知手段は、前記接続対象から前記冗長セルへの方向を、該冗長セルの端子座標と前記接続対象の端子座標から三角関数を用いて該冗長セルの方向を角度として算出する請求項32に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The spare cell direction range detecting means calculates a direction from the connection target to the redundant cell, and uses a trigonometric function from the terminal coordinates of the redundant cell and the terminal coordinates of the connection target as an angle. Item 33. An automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to Item 32. 前記スペアセル方向範囲検知手段は、前記正方向および負方向の所定範囲の角度としてそれぞれ、0度以上180度以下の範囲内の角度をそれぞれ指定する請求項32に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   33. The automatic layout design of a semiconductor integrated circuit according to claim 32, wherein the spare cell direction range detection means designates an angle within a range of 0 degrees or more and 180 degrees or less as an angle of the predetermined range in the positive direction and the negative direction, respectively. apparatus. 前記スペアセル方向範囲検知手段は、前記扇形領域を図形演算処理により検出する際に、前記接続対象の中心座標を通る一次方程式の直線と、該中心座標を通る他の一次方程式の直線に挟まれた前記中心角の領域から、該中心座標からの距離が前記半径の値よりも小さい領域を検出する請求項32に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The spare cell direction range detection means is sandwiched between a straight line of a linear equation passing through the central coordinates of the connection target and a straight line of another linear equation passing through the central coordinates when detecting the sector area by graphic calculation processing. 33. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 32, wherein an area having a distance from the center coordinate smaller than the value of the radius is detected from the area of the center angle. 前記タイミング制約満足範囲検知手段は、前記接続対象に接続される配線の幅と長さから抵抗および容量を試算して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させる該接続対象からの距離範囲を算出し、前記検知された方向範囲の中で、タイミング制約を満足させる距離範囲を検知する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The timing constraint satisfaction range detection means calculates resistance and capacitance from the width and length of the wiring connected to the connection target, and calculates a distance range from the connection target that satisfies the timing constraint related to the clock signal. 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein a distance range that satisfies a timing constraint is detected in the detected direction range. 前記タイミング制約満足範囲検知手段は、元の回路図に対して静的タイミング解析を実行することにより、前記接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から割り出される遅延値を用いて、現状タイミングのセットアップタイムおよびホールドタイムからの余裕度を割り出し、該余裕度から割り出される、タイミング制約を満足させる範囲の配線長さを、該接続対象と前記冗長セルの各座標の差の絶対値の総和を2点間の距離とするマンハッタン距離により算出後、該各座標の始点および終点の2点間の直線距離を算出し、算出された直線距離を前記中心からの距離として前記扇形領域内部の範囲を検知する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The timing constraint satisfaction range detecting means uses a delay value calculated from resistance and capacitance per length of wiring connected to the connection target by performing static timing analysis on the original circuit diagram. Then, the margin from the setup time and hold time of the current timing is determined, and the wiring length within the range satisfying the timing constraint calculated from the margin is determined by the difference between the coordinates of the connection target and the redundant cell. After calculating the Manhattan distance with the sum of absolute values as the distance between the two points, the linear distance between the two starting and ending points of each coordinate is calculated, and the calculated linear distance is the distance from the center. 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein a range inside the area is detected. 前記既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記タイミング制約満足範囲検知手段で検知した距離範囲に存在する、前記冗長セルと同種類のセルを全て探知し、それぞれの端子座標について前記接続対象の端子座標との直線距離をそれぞれ算出して、各直線距離の中で最も短いまたは最も長い該同種類のセルの端子座標を検知する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The used replacement cell instance detection means detects all cells of the same type as the redundant cell that exist in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection means, and the terminal coordinates of the connection target for each terminal coordinate 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein the straight line distance is calculated to detect the terminal coordinates of the cell of the same type that is the shortest or longest in each straight line distance. 前記既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記タイミング制約満足範囲検知手段で検知した距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、エラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The used replacement cell instance detection means is used as error processing when a cell of the same type as the redundant cell does not exist in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection means. 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein the replacement cell instance detection process is stopped. 前記既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記タイミング制約満足範囲検知手段で検知された距離範囲に前記冗長セルと同種類のセルが既に使用された状態で存在しなかった場合に、前記正方向および負方向の所定範囲の角度として指定される角度をより大きい値に変更して該距離範囲を広げる請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   When the used replacement cell instance detection means does not exist in the distance range detected by the timing constraint satisfaction range detection means in a state where a cell of the same type as the redundant cell has already been used, the positive direction and 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein an angle designated as an angle within a predetermined range in the negative direction is changed to a larger value to widen the distance range. 前記既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度以下の場合に、前記スペアセル方向範囲検知手段に対して、該角度が85度以下であれば5度加えて指定させ、該角度が85度よりも大きく90度以下であれば90度に指定させる請求項41に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The used replacement cell instance detection means is 5 if the angle specified in the positive direction and the negative direction is 90 degrees or less, and the angle is 85 degrees or less with respect to the spare cell direction range detection means. 42. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 41, wherein if the angle is greater than 85 degrees and not greater than 90 degrees, 90 degrees is designated. 前記既使用置換セルインスタンス検知手段は、前記正方向および負方向に指定された角度がそれぞれ90度よりも大きい場合にエラー処理として既使用置換セルインスタンス検知処理を中止処理する請求項41または42に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   43. The used replacement cell instance detection means cancels the used replacement cell instance detection process as an error process when the angles specified in the positive direction and the negative direction are each greater than 90 degrees. The automatic layout design apparatus of the semiconductor integrated circuit as described. 前記既使用インスタンス置換手段は、前記既使用置換セルインスタンス検知手段で検知したセルの両端子への配線を切り離し、該切り離したセルの端子と、前記接続対象の端子とを配線により接続するように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The used instance replacement means disconnects the wiring to both terminals of the cell detected by the used replacement cell instance detection means, and connects the terminal of the disconnected cell and the terminal to be connected by wiring. 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein the net list used for the automatic placement and routing process is changed. 前記既使用インスタンス置換手段は、前記既使用置換セルインスタンス検知手段で検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されないインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されないインスタンスの直前のインスタンスの出力端子と該次に論理変更されないインスタンスの入力端子が接続されるように、自動配置配線処理に用いられるネットリストを変更する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   When the used instance replacement means includes an instance that is not logically changed next as an instance of the cell detected by the used replacement cell instance detection means, an output terminal of an instance immediately before the next instance that is not logically changed; 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein a net list used for automatic placement and routing processing is changed so that an input terminal of an instance that is not logically changed next is connected. 前記既使用インスタンス置換手段は、前記既使用置換セルインスタンス検知手段で検知したセルのインスタンスとして次に論理変更されるインスタンスを含む場合には、該次に論理変更されるインスタンスの出力端子を、今回の論理変更が加えられる箇所の直前のインスタンスの出力端子として再設定して、前記スペアセル検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を行う請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   When the used instance replacement means includes an instance that is logically changed next as an instance of the cell detected by the used replacement cell instance detection means, the output terminal of the next logically changed instance is 28. The automatic layout design of a semiconductor integrated circuit according to claim 27, wherein the processing is performed again from the spare cell detection means to the used instance replacement means by resetting it as the output terminal of the instance immediately before the place where the logic change is applied. apparatus. 前記置換伝播手段は、前記スペアセル方向範囲検知手段による処理の際に方向を求める基準となる座標として、前記既使用インスタンス置換手段により置き換えられるインスタンスの位置座標が設定される請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   28. The semiconductor according to claim 27, wherein the replacement propagation means sets a position coordinate of an instance to be replaced by the used instance replacement means as a reference coordinate for obtaining a direction during processing by the spare cell direction range detection means. Integrated circuit automatic layout design equipment. 前記置換伝播手段は、前記既使用インスタンス置換手段で切り離されたインスタンスを、前記スペアセル方向範囲検知手段における新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知手段で前記冗長セルが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を繰り返し行う請求項47に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The replacement propagation unit resets the instance separated by the used instance replacement unit as a new connection target in the spare cell direction range detection unit, and the redundant cell is detected by the timing constraint satisfaction range detection unit. 48. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 47, wherein each process from the spare cell direction range detection means to the used instance replacement means is repeated one or more times. 前記置換伝播手段は、前記既使用インスタンス置換手段で切り離される直前のインスタンスの端子座標を、前記スペアセル方向範囲検知手段における新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知手段で前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を繰り返し行う請求項47に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The replacement propagation means resets the terminal coordinates of the instance immediately before being disconnected by the used instance replacement means as a new connection target in the spare cell direction range detection means, and the timing constraint satisfaction range detection means detects the redundant cell. 48. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 47, wherein each process from the spare cell direction range detection means to the used instance replacement means is repeated one or more times until an instance is detected. 前記置換伝播手段は、前記既使用インスタンス置換手段で置き換えられて空いた回路部分の座標を、前記スペアセル方向範囲検知手段における新たな接続対象として再設定し、前記タイミング制約満足範囲検知手段で前記冗長セルのインスタンスが検知されるまで、一または複数回、該スペアセル方向範囲検知手段から該既使用インスタンス置換手段までの各処理を繰り返し行う請求項47に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   The replacement propagation unit resets the coordinates of the circuit portion that has been replaced by the used instance replacement unit as a new connection target in the spare cell direction range detection unit, and the timing constraint satisfaction range detection unit detects the redundancy. 48. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 47, wherein each process from the spare cell direction range detection means to the used instance replacement means is repeated one or more times until a cell instance is detected. 前記レイアウト設計補助コンピュータシステムが搭載された演算処理装置と、該演算処理装置の演算処理に関する画面を表示可能とするディスプレイ部と、該演算処理装置の演算処理に対して操作入力指令を行うための操作入力部とを有する請求項26または27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   An arithmetic processing device equipped with the layout design auxiliary computer system, a display unit capable of displaying a screen related to the arithmetic processing of the arithmetic processing device, and an operation input command for the arithmetic processing of the arithmetic processing device 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 26, further comprising an operation input unit. クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような条件で最終的に前記冗長セルに置き換えるように、配線層およびコンタクト層について製造工程におけるマスク層のみを変更して、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように論理変更処理を行う請求項26または27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。   Only the mask layer in the manufacturing process is changed in the wiring layer and the contact layer to satisfy the timing constraint related to the clock signal so that the redundant cell is finally replaced under the condition that satisfies the timing constraint related to the clock signal. 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 26, wherein the logic change processing is performed as described above. マスクパターンデータベースに格納されたマスクパターンと、各セル間の接続関係が記述されたテキストデータであるネットリストとが入力されて、セルの配置および各セル間の配線をレイアウト設計する際の論理変更時に用いる冗長セルが配置された回路図情報またはネットリストを生成する自動配置配線処理部と、
該ネットリストが記憶されたネットリスト記憶部および前記スペアセル方向範囲検知手段への入力パラメータを外部から操作入力可能とされ、該マスクパターンデータベースからマスクパターンデータを外部へ出力可能とするインターフェース部と、
該自動配置配線処理部からの回路図情報またはネットリストを用いて静的タイミング解析を実行し、前記接続対象に接続される配線の長さ当たりの抵抗および容量から遅延値を割り出して前記タイミング制約満足範囲検知手段に供給する静的タイミング解析処理部とを有する請求項27に記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置。
The mask pattern stored in the mask pattern database and the netlist, which is text data describing the connection relationship between cells, are input, and the logic changes when designing the layout of cells and the wiring between cells An automatic placement and routing processing unit for generating circuit diagram information or a netlist in which redundant cells are sometimes used; and
An interface unit capable of operating and inputting externally input parameters to the netlist storage unit storing the netlist and the spare cell direction range detecting means, and outputting mask pattern data from the mask pattern database to the outside;
Static timing analysis is performed using circuit diagram information or a net list from the automatic placement and routing processing unit, and a delay value is calculated from the resistance and capacitance per length of the wiring connected to the connection target, and the timing constraint 28. The automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 27, further comprising a static timing analysis processing unit that supplies the satisfaction range detection means.
コンピュータシステムで構成されており、
前記接続対象に接続すべき冗長セルを検知するスペアセル検知手段と、
該接続対象の位置から該冗長セルの方向を含む方向範囲を検知するスペアセル方向範囲検知手段と、
該検知された方向範囲の中で、さらに、クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるような距離範囲を検知するタイミング制約満足範囲検知手段と、
該検知された距離範囲に該冗長セルが存在しない場合に、回路中に組み込まれて既に存在する、該冗長セルと同種類のセルの中から、該距離範囲内の該接続対象または該冗長セルから最も近いセルを検知する既使用置換セルインスタンス検知手段と、
該検知されたセルを切り離して該接続対象に接続する既使用インスタンス置換手段と、
クロック信号に係わるタイミング制約を満足させるように最終的に該冗長セルに置き換えを行うまで各処理を一または複数回繰り返し行わせる置換伝播手段とを有する半導体集積回路のレイアウト設計補助システム。
It consists of a computer system,
Spare cell detection means for detecting redundant cells to be connected to the connection target;
Spare cell direction range detecting means for detecting a direction range including the direction of the redundant cell from the position to be connected;
Timing constraint satisfaction range detection means for detecting a distance range that satisfies the timing constraint related to the clock signal in the detected direction range; and
When the redundant cell does not exist in the detected distance range, the connection target or the redundant cell within the distance range is selected from the same type of cells as the redundant cell that are already included in the circuit. Used replacement cell instance detection means for detecting the closest cell from
Used instance replacement means for disconnecting the detected cell and connecting to the connection target;
A layout design assisting system for a semiconductor integrated circuit, comprising replacement propagation means for repeatedly performing each process one or more times until the redundant cell is finally replaced so as to satisfy the timing constraint relating to the clock signal.
請求項26〜53のいずれかに記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置を用いて設計されたマスクパターン情報に基づいて作製されたフォトマスク。   54. A photomask manufactured based on mask pattern information designed using the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 26. 請求項26〜53のいずれかに記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置によりフォトマスクパターンを設計し、この設計情報によりパターニングしてフォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法。   54. A photomask manufacturing method in which a photomask pattern is designed by the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 26, and the photomask is manufactured by patterning using the design information. 請求項55に記載のフォトマスクを用いて製造された半導体集積回路。   56. A semiconductor integrated circuit manufactured using the photomask according to claim 55. 請求項26〜53のいずれかに記載の半導体集積回路の自動レイアウト設計装置によりフォトマスクパターンを設計し、この設計情報によりパターニングしたレジストパターンを用いて、半導体基板上または基板に設けられた半導体層上に半導体集積回路を形成する半導体集積回路の製造方法。   54. A semiconductor layer provided on or on a semiconductor substrate by using the resist pattern patterned by the photomask pattern designed by the automatic layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 26 and patterned by the design information. A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit, wherein a semiconductor integrated circuit is formed thereon. 請求項1〜25のいずれかに記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法の各工程をコンピュータに実行させるための各処理手順が記録された制御プログラム。   A control program in which each processing procedure for causing a computer to execute each step of the semiconductor integrated circuit layout design method according to any one of claims 1 to 25 is recorded. 請求項59に記載の制御プログラムが格納されたコンピュータ読み取り可能な可読記憶媒体。   60. A computer readable storage medium storing the control program according to claim 59.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102260150B1 (en) * 2021-01-20 2021-06-03 위더맥스(주) System of implementing spare cell logic circuit and creating layout for enhancing the efficiency of engineer change order and method thereof

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