JP2008304702A - Electrophotographic photoreceptor, image forming method using the same, image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, image forming method using the same, image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor that has a crosslinked surface layer formed by using a specified radical polymerizable compound, and stably forms an image with less fluctuation in optical attenuation properties, while maintaining high abrasion resistance even if making the crosslinked surface layer thick; and also to provide an image forming method, image forming apparatus and process cartridge for the image forming apparatus, which has achieved high quality for a long period of time by using such a photoreceptor as having high endurance, high stability and long life. <P>SOLUTION: The electrophotographic photoreceptor with a photosensitive layer on an electrically conductive support has a charge-transportable crosslinked surface layer obtained by curing a compound of a specified structure on the surface of the photoreceptor. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、極めて耐摩耗性の高い電子写真感光体に関するものであり、さらに電位の光減衰特性及びその安定性に優れた電子写真感光体に関するものである。また、その長寿命、高感度な電子写真感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member having extremely high wear resistance, and also relates to an electrophotographic photosensitive member excellent in potential light attenuation characteristics and its stability. The present invention also relates to an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for the image forming apparatus using the long-life, high-sensitivity electrophotographic photosensitive member.

近年、有機感光体(OPC)は良好な性能、様々な利点から、無機感光体に換わり複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば(1)光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、(2)高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、(3)材料の選択範囲の広さ、(4)製造の容易さ、(5)低コスト、(6)無毒性、等が挙げられる。一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、電荷輸送層が低分子電荷輸送物質と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を挙げる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇が余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。この様な感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。そこで、有機感光体の耐摩耗性を向上させる試みが、様々な方向から検討されてきた。   In recent years, organic photoreceptors (OPC) have been widely used in copying machines, facsimile machines, laser printers, and composite machines in place of inorganic photoreceptors because of their good performance and various advantages. This is because, for example, (1) optical characteristics such as the light absorption wavelength range and the amount of absorption, (2) electrical characteristics such as high sensitivity and stable charging characteristics, and (3) material selection range (4) Ease of manufacturing, (5) Low cost, (6) Non-toxicity, and the like. On the other hand, the diameter of the photoconductor has recently been reduced due to the downsizing of the image forming apparatus, and the high speed of the machine and the maintenance-free movement have been added to increase the durability of the photoconductor. From this point of view, organophotoreceptors are generally soft because the charge transport layer is mainly composed of a low molecular charge transport material and an inert polymer. There is a drawback that wear is likely to occur due to a mechanical load. In addition, due to the demand for higher image quality, the cleaning blade is required to increase its rubber hardness and contact pressure for the purpose of improving the cleaning property as the particle size of the toner particles is reduced. This also promotes wear of the photoreceptor. It is a factor. Such abrasion of the photoreceptor deteriorates electrical characteristics such as sensitivity deterioration and chargeability, and causes abnormal images such as image density reduction and background stains. Further, scratches where wear is locally generated cause streak-like stain images due to poor cleaning. Therefore, attempts to improve the wear resistance of the organic photoreceptor have been studied from various directions.

中でも多官能のラジカル硬化性モノマーを硬化した架橋表面層を有するもの(例えば、特許文献1参照。)は、官能基量の多いモノマーを使用でき緻密な3次元網目構造が形成され高い耐摩耗性が発揮できること、光、熱、放射線で瞬時に硬化膜が形成可能なこと、硬化反応に酸や塩基の触媒を必要とせず硬化材料が電気特性に悪影響を及ぼさないこと等で注目される。更に、この架橋表面層の電気特性を改良する目的でラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質を併用し、電荷輸送構造を架橋構造中に固定したもの(例えば、特許文献2、3参照。)が提案され、これらの技術により耐摩耗性と電荷輸送性との両立が期待された。   Among them, those having a cross-linked surface layer obtained by curing a polyfunctional radical curable monomer (see, for example, Patent Document 1) can use a monomer having a large amount of functional groups to form a dense three-dimensional network structure and high wear resistance. It is noted that a cured film can be instantly formed by light, heat, and radiation, and that a cured material does not require an acid or base catalyst for the curing reaction and does not adversely affect electrical characteristics. Furthermore, in order to improve the electrical properties of the crosslinked surface layer, a charge transport material having a radical polymerizable functional group is used in combination, and the charge transport structure is fixed in the crosslinked structure (see, for example, Patent Documents 2 and 3). These technologies were expected to achieve both wear resistance and charge transportability.

感光体表面電位の光減衰特性には、これら架橋表面層中の電荷移動性が大きく影響する。しかしながら、通常の電荷輸送層に比べて、架橋表面層中の電荷移動性は悪く、光減衰特性を悪くしている。架橋表面層の膜厚が薄い場合は、影響が少ないが、感光体寿命を延ばすために膜厚を厚くしようとするとその影響により光減衰特性が実用域から外れてしまい、十分な感光体の長寿命化を達成できていなかった。   The charge mobility in these cross-linked surface layers greatly affects the light attenuation characteristics of the photoreceptor surface potential. However, compared with a normal charge transport layer, the charge mobility in the cross-linked surface layer is poor and the light attenuation property is deteriorated. If the film thickness of the cross-linked surface layer is small, the effect is small. However, if the film thickness is increased in order to extend the life of the photoconductor, the light attenuation characteristics deviate from the practical range due to the effect. Life extension was not achieved.

一方、これまで数多くのラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質が提案されてきているが、架橋膜の耐摩耗性と十分な電荷輸送性を満足するものは見い出されていない。
また、その特性は、ラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質の種類により様々であり、その選定は非常に重要となる。
電荷輸送物質の種類により特性が大きく変化する理由は、定かでないが、架橋膜の均一性や熱特性への影響や官能基による電気的な影響等が材料個々で異なるためと予想される。特に光硬化により形成される架橋表面層の場合は、光照射の影響も強く受ける。通常、光硬化の光源として紫外線が使用されるが、電荷輸送物質は紫外線により一部分解し、その構造によって様々な分解物を発生させる。これらの分解物の一部は、架橋表面層中に残存し、様々な特性劣化を引き起こすと考えられる。従って、電荷輸送物質の構造によって生成する分解物も異なるため、電荷輸送物質の種類によって大きな特性差を生じさせるものと予想される。
以上述べたように架橋表面層を厚くすることにより、感光体の寿命をさらに延ばすことが期待されるが、そのためには、露光後の現像部電位を十分下げられるだけの優れた光減衰特性が要求され、現状ではそれを可能にするだけの優れた電荷輸送性と優れた耐摩耗性を有する架橋表面層の形成が達成できていない。
On the other hand, charge transport materials having a large number of radically polymerizable functional groups have been proposed so far, but no material satisfying the wear resistance and sufficient charge transport property of the crosslinked film has been found.
In addition, the characteristics vary depending on the type of charge transport material having a radical polymerizable functional group, and the selection thereof is very important.
The reason why the characteristics change greatly depending on the type of the charge transport material is not clear, but it is expected that the uniformity of the cross-linked film, the influence on the thermal characteristics, the electrical influence by the functional group, etc. are different for each material. In particular, in the case of a crosslinked surface layer formed by photocuring, it is strongly affected by light irradiation. Usually, ultraviolet rays are used as a light source for photocuring, but the charge transport material is partially decomposed by ultraviolet rays, and various decomposition products are generated depending on its structure. Some of these decomposition products remain in the cross-linked surface layer and are considered to cause various characteristic deteriorations. Therefore, the decomposition product generated varies depending on the structure of the charge transport material, and therefore, it is expected that a large characteristic difference is caused depending on the type of the charge transport material.
As described above, by increasing the thickness of the cross-linked surface layer, it is expected to further extend the life of the photoreceptor, but for that purpose, it has excellent light attenuation characteristics that can sufficiently reduce the developed portion potential after exposure. In the present situation, formation of a crosslinked surface layer having an excellent charge transporting property and an excellent wear resistance enough to make it possible has not been achieved.

特許第3262488号公報Japanese Patent No. 3262488 特許第3194392号公報Japanese Patent No. 3194392 特開2000−66425号公報JP 2000-66425 A 特開2006−3863号公報JP 2006-3863 A 特許第2896823号公報Japanese Patent No. 2896823 特開2006−71856号公報JP 2006-71856 A

本発明の課題は、耐摩耗特性に優れ且つ表面電位の光減衰が速く、且つ安定した高耐久、高性能な電子写真感光体を提供することである。より詳しくは、特定のラジカル重合性化合物を用いて形成された架橋表面層を有し、架橋表面層を厚くしても高い耐摩耗性を維持したまま光減衰特性の変動が少なく、安定した画像形成が可能な電子写真感光体を提供することである。
また、かかる高耐久、高安定な長寿命感光体を使用し、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member that is excellent in wear resistance, has a fast light attenuation of surface potential, and is stable, highly durable, and has a high performance. More specifically, it has a cross-linked surface layer formed using a specific radical polymerizable compound, and even if the cross-linked surface layer is thick, there is little fluctuation in light attenuation characteristics while maintaining high wear resistance, and a stable image. It is an object to provide an electrophotographic photosensitive member that can be formed.
Another object of the present invention is to provide an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for an image forming apparatus that use such a highly durable and highly stable long-life photoconductor and realize high image quality over a long period of time.

本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、以下の本発明により上記目的を達成できることを見出して、本発明を完成するに至った。
(1)「導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光体が表面に少なくとも下記一般式(A)で表わされる化合物を硬化させてなる電荷輸送性架橋表面層を有することを特徴とする電子写真感光体;
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by the following present invention, and have completed the present invention.
(1) “In an electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support, the photosensitive member has a charge transport cross-linked surface layer formed by curing at least a compound represented by the following general formula (A) on the surface. An electrophotographic photoreceptor characterized by:

Figure 2008304702

(式中、R〜Rは、それぞれ水素原子又はメチル基を表わし、R〜R17はそれぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)」、
(2)「前記架橋表面層が、少なくとも前記一般式(A)で表わされる化合物と、更にラジカル重合性官能基を有するモノマーとを含有する塗工層を硬化させて形成されたものであることを特徴とする前記第(1)項に記載の電子写真感光体」、
(3)「前記架橋表面層が、硬化されていない感光層の上に形成されていることを特徴とする前記第(1)項又は第(2)項に記載の電子写真感光体」、
(4)「前記架橋表面層が、光のエネルギーを用いた手段で硬化されたものであることを特徴とする前記第(1)項乃至第(3)項のいずれかに記載の電子写真感光体」、
(5)「前記硬化されていない感光層が、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した構成をとることを特徴とする前記第(1)項乃至第(4)項のいずれかに記載の電子写真感光体」、
(6)「電子写真感光体を用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が前記第(1)項乃至第(5)項のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法」、
(7)「少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体が前記第(1)項乃至第(5)項のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置」、
(8)「前記第(1)項乃至第(5)項のいずれかに記載の電子写真感光体と、更に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段から選択される少なくとも1つの手段とが一体となり、画像形成装置と着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ」。
Figure 2008304702

(Wherein R 1 to R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 to R 17 each represent a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) ”
(2) “The crosslinked surface layer is formed by curing a coating layer containing at least the compound represented by the general formula (A) and a monomer having a radical polymerizable functional group. The electrophotographic photosensitive member according to item (1), wherein:
(3) "The electrophotographic photosensitive member according to item (1) or (2), wherein the crosslinked surface layer is formed on an uncured photosensitive layer",
(4) The electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (3), wherein the crosslinked surface layer is cured by means using light energy. body",
(5) The items (1) to (4), wherein the uncured photosensitive layer has a structure in which at least a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated on a conductive support. The electrophotographic photosensitive member according to any one of items
(6) “In an image forming method using an electrophotographic photosensitive member, the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (5)”. Image forming method ",
(7) “In an image forming apparatus comprising at least a charging means, an exposure means, a developing means, a transfer means, and an electrophotographic photosensitive member, the electrophotographic photosensitive member is the above-mentioned items (1) to (5). An image forming apparatus characterized by being an electrophotographic photosensitive member according to any one of
(8) “Selected from the electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items (1) to (5), and further, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit, a cleaning unit, and a static elimination unit. A process cartridge which is integrated with at least one means and is detachable from an image forming apparatus.

本発明の少なくとも一般式(A)で表わされる重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後に、硬化させて形成された電荷輸送性硬化物が含有された架橋表面層を有する電子写真感光体を用いることによって、耐摩耗性が高く且つ表面電位の光減衰が速く、且つ安定した高耐久、高性能な電子写真感光体が実現される。したがってこの感光体を用いることで、より高画質な画像を長期にわたり提供できる高性能で且つ信頼性の高くメンテナンスの容易な画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供できる。   A crosslinked surface layer containing a charge transportable cured product formed by applying a coating solution containing at least the polymerizable compound represented by the general formula (A) of the present invention to the surface of the photosensitive layer and then curing the coating solution. By using the electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic photosensitive member having high wear resistance, fast light attenuation of the surface potential, stable high durability and high performance is realized. Therefore, by using this photoreceptor, it is possible to provide a high-performance, reliable and easy-to-maintain image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for the image forming apparatus that can provide higher-quality images over a long period of time.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明においては、架橋表面層の形成において、前記一般式(A)のラジカル重合性化合物を使用することにより、耐摩耗性と電荷輸送性の高次元での両立を達成できることが判明した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, it has been found that by using the radically polymerizable compound of the general formula (A) in the formation of the crosslinked surface layer, both wear resistance and charge transportability can be achieved in a high dimension.

<耐摩耗性と電荷輸送性の両立発現理由に関して>
従来、ラジカル硬化性組成物からなる架橋表面層は、緻密な3次元網目構造が形成でき、これにより高い耐摩耗性が発揮されることが知られていた。特許第3262488号公報(特許文献1)及び特開2006−227761号公報に記載されているように、耐摩耗性を支配する要因は硬化性組成物中のラジカル硬化性官能基量を増やすことが重要で、例えばアクリル基の場合アクリル当量(モノマー分子量を官能基数で割った値)の小さいモノマーを用いることで、より緻密な3次元架橋構造が形成され、高い耐摩耗性が達成されることが開示されている。また、官能基数が多いモノマー、例えば3官能以上のモノマー、更には6官能モノマーを用いることも耐摩耗性向上には有効であり、これは官能基の中の少なくとも1つが重合することで分子量が増大する確率が高まることによる。
従って、優れた耐摩耗性を発現させるためには、一定以上のラジカル重合性基濃度が必要になる。通常、電荷輸送性を有するラジカル重合性化合物のみのラジカル重合性基濃度だけでは足りず、多官能なラジカル重合性モノマーを混合することで充足を図っている。
<Reasons for achieving both wear resistance and charge transportability>
Conventionally, it has been known that a crosslinked surface layer made of a radically curable composition can form a dense three-dimensional network structure, and thereby exhibits high wear resistance. As described in Japanese Patent No. 3262488 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-227761, the factor governing wear resistance is to increase the amount of radical curable functional groups in the curable composition. Importantly, for example, in the case of an acrylic group, by using a monomer having a small acrylic equivalent (a value obtained by dividing the monomer molecular weight by the number of functional groups), a denser three-dimensional cross-linked structure can be formed and high wear resistance can be achieved. It is disclosed. It is also effective to improve the wear resistance by using a monomer having a large number of functional groups, for example, a monomer having three or more functional groups, and further a hexafunctional monomer. This is because the probability of increasing increases.
Accordingly, in order to develop excellent wear resistance, a radical polymerizable group concentration of a certain level or more is required. Usually, only the radical polymerizable group concentration of the radical polymerizable compound having charge transporting property is not sufficient, and the polyfunctional radical polymerizable monomer is mixed to satisfy the requirement.

一方、電荷輸送性に関しては、電荷輸送物質自体の特性が優れていることが最低必要であるが、それだけでは非架橋系の従来の電荷輸送層に比べて大きく劣っている。この原因は良く判っていないが、架橋膜の熱運動性や電荷輸送物質の均一分散性や架橋膜形成時点での不純物混入や膜欠陥の発生等が起因していると予想される。
特に重合手法としてUV硬化を適用する場合は、光照射により電荷輸送物質が分解し、多くの不純物を発生させる。
これらを加味して次の視点からこれまでの電荷輸送性を有するラジカル重合性化合物を見直し、ラジカル重合性化合物の設計を行なった。
・UV照射時の分解が少ないこと。
・基本骨格の電荷輸送性が優れていること。
・重合性化合物のラジカル反応性基部位の熱運動性が高いこと。
・架橋膜組成物の不均一性を防止するために、単一組成でも十分な架橋密度を得られるだけのラジカル反応性基を有すること。
・結晶性が低く、透明な均一塗工膜の形成ができること。
これらを意図して一般式(A)の重合性化合物を新規に設計合成し、その特性を評価したところ、優れた耐摩耗性と電荷輸送性を両立する架橋表面層の形成が可能なことを見い出した。どの要因が有効であったかは不明であるが、それぞれの要因が総合されて、従来の架橋表面層に比べて優れた特性が発現されたものと考えられる。
On the other hand, with regard to charge transportability, it is at least necessary that the characteristics of the charge transport material itself be excellent, but by itself, it is greatly inferior to a conventional non-crosslinked charge transport layer. Although the cause of this is not well understood, it is expected that this is caused by the thermal mobility of the crosslinked film, the uniform dispersibility of the charge transport material, the incorporation of impurities at the time of forming the crosslinked film, the occurrence of film defects, and the like.
In particular, when UV curing is applied as a polymerization method, the charge transport material is decomposed by light irradiation, and many impurities are generated.
Taking these into consideration, the radical polymerizable compounds having charge transporting properties so far were reviewed from the following viewpoint, and the radical polymerizable compounds were designed.
-Less degradation during UV irradiation.
-The basic skeleton has excellent charge transport properties.
-The thermal mobility of the radical reactive group site of the polymerizable compound is high.
In order to prevent non-uniformity of the crosslinked film composition, it has a radical reactive group sufficient to obtain a sufficient crosslinking density even with a single composition.
-The crystallinity is low and a transparent uniform coating film can be formed.
With the intention of these, the polymerizable compound of the general formula (A) was newly designed and synthesized, and its characteristics were evaluated. As a result, it was found that a crosslinked surface layer having both excellent wear resistance and charge transportability could be formed. I found it. It is unclear which factor was effective, but it is considered that the characteristics were superior compared to the conventional cross-linked surface layer by combining the factors.

<硬化性組成物に関して>
次に、本発明の架橋表面層を形成する硬化性組成物及びその硬化物の構成成分について説明する。
本発明は、導電性支持体上に、少なくとも電荷輸送性ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する電子写真感光体において、該電荷輸送性ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(A)で表わされるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成されていることを特徴とする電子写真感光体を特徴とする。
<Regarding the curable composition>
Next, the curable composition for forming the crosslinked surface layer of the present invention and the components of the cured product will be described.
The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor having a crosslinked surface layer containing at least a charge transporting radical curable composition on a conductive support, wherein the charge transporting radical curable composition is at least represented by the following general formula (A): The electrophotographic photosensitive member is characterized in that it is formed by applying a coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the formula (1) to the surface of the photosensitive layer and then radical curing.

本発明は、前記ラジカル硬化組成物形成に一般式(A)の構造を有するラジカル重合性化合物を使用するものであり、光、熱又は電子線のエネルギーにより硬化することで、架橋表面層中の硬化物構造中に導入される。この硬化に際し、一般式(A)の重合反応基部分を除く中心構造単位は分解することなく固定化され、硬化表面層を熱分解GC分析によるMSスペクトル測定、赤外分光分析による特性吸収測定等で確認できる。一般式(A)の中心構造単位は全硬化物量に対し40〜100質量%、好ましくは50〜100質量%である。硬化物中の一般式(A)の中心構造単位が40質量%未満では、厚膜化にも対応できる電荷輸送特性や電位変動による画像劣化抑制を達成できない。また、一般式(A)の重合性化合物は、他のモノマーを混合させることなく耐摩耗性に優れた架橋表面層の形成が可能であり、重合開始剤やレベリング剤や酸化防止剤等の添加剤を除いてほぼ100%組成で使用するのが電荷輸送性の点から好ましい。
上記ラジカル重合性化合物は一般式(A)で表わされる化合物である。
The present invention uses a radical polymerizable compound having the structure of the general formula (A) for forming the radical curable composition, and is cured by light, heat, or electron beam energy, so that Introduced into the cured structure. During this curing, the central structural unit excluding the polymerization reactive group portion of the general formula (A) is fixed without being decomposed, and the cured surface layer is measured by MS spectrum measurement by pyrolysis GC analysis, characteristic absorption measurement by infrared spectroscopy analysis, etc. It can be confirmed with. The central structural unit of the general formula (A) is 40 to 100% by mass, preferably 50 to 100% by mass, based on the total amount of the cured product. When the central structural unit of the general formula (A) in the cured product is less than 40% by mass, it is impossible to achieve charge transport characteristics that can cope with a thick film and image degradation suppression due to potential fluctuation. In addition, the polymerizable compound of the general formula (A) can form a crosslinked surface layer having excellent wear resistance without mixing other monomers, and can be added with a polymerization initiator, a leveling agent, an antioxidant, or the like. From the viewpoint of charge transporting properties, it is preferable to use almost 100% composition excluding the agent.
The radical polymerizable compound is a compound represented by the general formula (A).

Figure 2008304702
(式中、R〜Rは、それぞれ水素原子又はメチル基を表わし、R〜R17はそれぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)
Figure 2008304702
(In the formula, R 1 to R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 to R 17 each represent a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

一般式(A)で表わされるラジカル重合性化合物は、新規化合物であり、例えば以下の製造法により合成することができる。   The radically polymerizable compound represented by the general formula (A) is a novel compound and can be synthesized, for example, by the following production method.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

Figure 2008304702

一般式(A)で表わされるラジカル重合性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Figure 2008304702

Although the following are illustrated as a radically polymerizable compound represented by general formula (A), It is not limited to these compounds.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

本発明に好適に用いられる一般式(A)の重合性化合物は、硬化性を有する構成物質全量に対し40〜100質量%、好ましくは50〜100質量%である。これらの重合性化合物が40質量%未満では、硬化組成物中における一般式(A)の構造単位が希薄となり、電荷輸送性が不足する。この重合性化合物は、単独での硬化でも良好な耐摩耗性を発揮できるため、電荷輸送性改良を意図する場合、できるだけ高濃度で使用するのが好ましい。   The polymerizable compound of the general formula (A) suitably used in the present invention is 40 to 100% by mass, preferably 50 to 100% by mass, based on the total amount of the curable constituent material. When these polymerizable compounds are less than 40% by mass, the structural unit of the general formula (A) in the cured composition becomes dilute and the charge transportability is insufficient. Since this polymerizable compound can exhibit good wear resistance even when cured alone, it is preferably used at a concentration as high as possible when intended to improve charge transportability.

<その他のラジカル重合性官能基を有する添加剤に関して>
本発明の架橋表面層は、上記一般式(A)で表わされる重合性モノマーを含む塗工液を塗工した後、硬化させて形成されるが、その際、これ以外に塗工時の粘度調整、架橋表面層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で1官能以上のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、及びラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、公知のものが利用できる。
<Regarding Additives Having Other Radical Polymerizable Functional Groups>
The crosslinked surface layer of the present invention is formed by applying a coating liquid containing a polymerizable monomer represented by the general formula (A) and then curing the coating liquid. One or more functional radical polymerizable monomers, functional monomers, and radical polymerizable oligomers can be used in combination for the purpose of adjustment, stress relaxation of the crosslinked surface layer, low surface energy reduction, friction coefficient reduction, and the like. Known radical polymerizable monomers and oligomers can be used.

1官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。   Examples of the monofunctional radically polymerizable monomer include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, benzyl acrylate, Examples include cyclohexyl acrylate, isoamyl acrylate, isobutyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxytetraethylene glycol acrylate, cetyl acrylate, isostearyl acrylate, stearyl acrylate, and styrene monomer.

2官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールA−EO変性ジアクリレート、ビスフェノールF−EO変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。   Examples of the bifunctional radical polymerizable monomer include 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1, Examples include 6-hexanediol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, bisphenol A-EO modified diacrylate, bisphenol F-EO modified diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and the like.

機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、2−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平5−60503号公報、特公平6−45770号公報記載のシロキサン繰り返し単位:20〜70のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。   Examples of the functional monomer include those substituted with a fluorine atom such as octafluoropentyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 2-perfluoroisononylethyl acrylate, No. 60503, JP-B-6-45770, siloxane repeating units: 20-70 acryloyl polydimethylsiloxane ethyl, methacryloyl polydimethylsiloxane ethyl, acryloyl polydimethylsiloxane propyl, acryloyl polydimethylsiloxane butyl, diacryloyl polydimethylsiloxane Examples include vinyl monomers having a polysiloxane group such as diethyl, acrylates and methacrylates.

ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
但し、1官能及び2官能のラジカル重合性モノマーやラジカル重合性オリゴマーを多量に含有させると架橋表面層の3次元架橋結合密度が実質的に低下し、耐摩耗性の低下を招く。このためこれらのモノマーやオリゴマーの含有量は、架橋表面層の硬化性を有する構成物質全量に対し30質量%以下、好ましくは20質量%以下に制限される。
3官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Examples of the radical polymerizable oligomer include epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate oligomers.
However, when a large amount of monofunctional and bifunctional radically polymerizable monomers and radically polymerizable oligomers are contained, the three-dimensional cross-linking density of the cross-linked surface layer is substantially reduced, resulting in a decrease in wear resistance. For this reason, the content of these monomers and oligomers is limited to 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, based on the total amount of the curable constituent material of the crosslinked surface layer.
Examples of the tri- or higher functional radical polymerizable monomer include the following, but are not limited to these compounds.

例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性(以後EO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性(以後PO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性(以後ECH変性)トリアクリレート、グリセロールEO変性トリアクリレート、グリセロールPO変性トリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸EO変性トリアクリレート、2,2,5,5−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は2種類以上を混合使用しても差し支えない。   For example, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane alkylene modified triacrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy modified (hereinafter EO modified) triacrylate, trimethylolpropane propyleneoxy modified (hereinafter PO modified) Triacrylate, trimethylolpropane caprolactone modified triacrylate, trimethylolpropane alkylene modified trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), glycerol triacrylate, glycerol epichlorohydrin modified (hereinafter ECH modified) triacrylate, Glycerol EO-modified triacrylate, glycerol P Modified triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol caprolactone modified hexaacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, alkylated dipentaerythritol pentaacrylate, alkylated dipentaerythritol Tetraacrylate, alkylated dipentaerythritol triacrylate, dimethylolpropane tetraacrylate (DTMPTA), pentaerythritol ethoxytetraacrylate, phosphoric acid EO-modified triacrylate, 2,2,5,5-tetrahydroxymethylcyclopentanone tetraacrylate, etc. These may be used alone or in combination of two or more. There.

本発明に混合使用できるラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマーの量は、硬化性を有する構成物質全量に対し0〜90質量%、好ましくは0〜50質量%であり、本発明の目的を十分発揮させるには、一般式(A)のラジカル重合性化合物に対し等量以下にすることが好ましい。   The amount of the monomer having three or more radically polymerizable functional groups that can be mixed and used in the present invention is 0 to 90% by mass, preferably 0 to 50% by mass, based on the total amount of the curable constituent material. In order to fully exhibit the above, it is preferable to make it equal to or less than the radically polymerizable compound of the general formula (A).

<重合開始剤に関して>
また、本発明の架橋表面層は、上記一般式(A)で表わされる重合性モノマーを含む塗工液を塗工した後、硬化させて形成されるが、その際、必要に応じて硬化反応を効率よく進行させるために架橋表面層塗布液中に重合開始剤を含有させても良い。
<Regarding the polymerization initiator>
The crosslinked surface layer of the present invention is formed by applying a coating liquid containing a polymerizable monomer represented by the above general formula (A) and then curing it. In this case, a curing reaction is performed as necessary. In order to make the process proceed efficiently, a polymerization initiator may be contained in the crosslinked surface layer coating solution.

光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルフォリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2 -Hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2- Acetophenone-based or ketal-based photopolymerization initiators such as methyl-2-morpholino (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether Benzoin ether photopolymerization initiators such as benzoin isopropyl ether, benzophenone, 4-hydroxybenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, 4-benzoylphenyl ether, acrylated benzophenone, Benzophenone photopolymerization initiators such as 1,4-benzoylbenzene, thioxanthones such as 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone Examples of photopolymerization initiators and other photopolymerization initiators include ethyl anthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoic acid. Phenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,4-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, methylphenylglyoxyester, 9,10 -Phenanthrene, an acridine type compound, a triazine type compound, an imidazole type compound is mentioned. Moreover, what has a photopolymerization acceleration effect can also be used individually or in combination with the said photoinitiator. Examples include triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, (2-dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, and the like.

熱重合開始剤としては、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(パーオキシベンゾイル)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルベルオキサイド、t−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシ)プロパンなどの過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸などのアゾ系開始剤が挙げられる。   Examples of the thermal polymerization initiator include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di ( Peroxybenzoyl) hexyne-3, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, lauroyl peroxide, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) B) Peroxide-based initiators such as propane, azo-based compounds such as azobisisobutylnitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, methyl azobisisobutyrate, azobisisobutylamidine hydrochloride, 4,4′-azobis-4-cyanovaleric acid Initiators are mentioned.

これらの重合開始剤は1種又は2種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物100質量部に対し、0.5〜40質量部、好ましくは1〜20質量部である。   These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Content of a polymerization initiator is 0.5-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total inclusions which have radical polymerizability, Preferably it is 1-20 mass parts.

<その他の添加剤に関して>
更に、本発明の架橋表面層塗工液は必要に応じて、各種可塑剤(応力緩和や接着性向上の目的)、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質、バインダー樹脂などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し20質量%以下、好ましくは10質量%以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し3質量%以下が適当である。低分子電荷輸送物質は架橋表面層の電荷輸送性を向上し露光部電位を下げるために有効であるが、添加により硬化性材料が少なくなることから高い耐摩耗性の効果が減じられる。このため添加量は用いるプロセスで調整されるが、架橋表面層全成分の50質量%以下、好ましくは30質量%以下で使用される。バインダー樹脂は架橋表面層の内部応力を減らし均一性を上げ、クラックや傷の発生を抑制する効果がある。但し、他の添加剤と同様に添加により高い耐摩耗性の効果が減じられるため、添加量は20質量%以下、好ましくは10質量%以下に抑えられる。
<Other additives>
Furthermore, the cross-linked surface layer coating liquid of the present invention can be applied to various plasticizers (for the purpose of stress relaxation and adhesion improvement), leveling agents, low molecular charge transport materials having no radical reactivity, binder resins, etc. Additives can be included. As these additives, known additives can be used, and as plasticizers, those used in general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used, and the amount used is the total solid content of the coating liquid. To 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less. As leveling agents, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain can be used, and the amount used is based on the total solid content of the coating liquid. On the other hand, 3% by mass or less is appropriate. Although the low molecular charge transport material is effective for improving the charge transport property of the crosslinked surface layer and lowering the exposed portion potential, the effect of high wear resistance is reduced because the addition of the curable material decreases. For this reason, the addition amount is adjusted by the process to be used, but it is used at 50% by mass or less, preferably 30% by mass or less, based on the total components of the crosslinked surface layer. The binder resin has the effect of reducing the internal stress of the crosslinked surface layer and increasing the uniformity, and suppressing the occurrence of cracks and scratches. However, since the effect of high wear resistance is reduced by addition as in the case of other additives, the addition amount is suppressed to 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less.

<塗工溶媒に関して>
本発明の架橋表面層形成に用いられる塗工液はラジカル重合性化合物が液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または2種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
<Regarding coating solvent>
When the radically polymerizable compound is a liquid, the coating liquid used for forming the crosslinked surface layer of the present invention can be dissolved and coated with other components, but diluted with a solvent as necessary. Applied. Solvents used at this time include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane and propyl ether. And ethers such as dichloromethane, dichloroethane, trichloroethane and chlorobenzene, aromatics such as benzene, toluene and xylene, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and cellosolve acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The dilution ratio with the solvent varies depending on the solubility of the composition, the coating method, and the target film thickness, and is arbitrary. The application can be performed by dip coating, spray coating, bead coating, ring coating, or the like.

本発明においては、かかる架橋表面層塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させ、架橋表面層を形成するものであるが、このとき用いられる外部エネルギーとしては、光、熱又は放射線がある。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのUV照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は50mW/cm以上、1000mW/cm以下が好ましく、50mW/cm未満では硬化反応に時間を要する。1000mW/cmより強いと反応の進行が不均一となり、架橋表面層の表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生ずる。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となる。照射時間は構成材料や膜厚によるUV光の浸透性に依存するが、5秒〜5分が好ましく、短すぎると硬化が不十分となり、長すぎると構成材料が分解し電気特性が低下する。また硬化時の温度上昇を120℃以下に制御し、構成材料の分解や不均一な硬化反応を抑えることが望ましい。 In the present invention, after applying such a cross-linked surface layer coating solution, energy is applied from the outside and cured to form a cross-linked surface layer. The external energy used at this time is light, heat, or radiation. is there. As the energy of light, UV irradiation light sources such as high-pressure mercury lamps and metal halide lamps, which mainly have an emission wavelength in ultraviolet light, can be used, but a visible light source can also be selected according to the absorption wavelength of radically polymerizable substances and photopolymerization initiators. Is possible. Irradiation light amount is 50 mW / cm 2 or more, preferably 1000 mW / cm 2 or less, it takes time for the curing reaction is less than 50 mW / cm 2. If it is higher than 1000 mW / cm 2, the progress of the reaction becomes non-uniform, and local flaws are generated on the surface of the crosslinked surface layer, and many unreacted residues and reaction termination ends are generated. In addition, internal stress increases due to rapid crosslinking, which causes cracks and film peeling. The irradiation time depends on the UV light penetrability depending on the constituent material and the film thickness, but is preferably 5 seconds to 5 minutes. If it is too short, curing will be insufficient, and if it is too long, the constituent material will be decomposed and the electrical properties will deteriorate. It is also desirable to control the temperature rise during curing to 120 ° C. or lower to suppress decomposition of the constituent materials and non-uniform curing reaction.

熱のエネルギーを用い硬化する場合、100〜170℃で10分〜3時間が好ましく、100℃より低い温度又は10分より短い時間では、硬化が不十分となる。また、逆に170℃より高い温度又は3時間より長い時間では構成材料の分解や不均一な硬化反応が進行し、良好な架橋表面層が得られない。
放射線のエネルギーとしては電子線が好適に用いられる。電子線の加速電圧は300KV以下、好ましくは150KV以下、線量は1〜100Mradの条件で硬化される。加速電圧が300KVを超える又は線量が100Mradを超えると構成材料の分解が進み、本発明の効果が発揮されない。
これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから光のエネルギーを用いたものが有用である。
本発明の架橋表面層の膜厚は、下層のラジカル硬化されていない感光層の構成によって異なるため、感光層の構成に合わせ後で記載する。
When curing using thermal energy, 10 minutes to 3 hours are preferable at 100 to 170 ° C., and curing is insufficient at a temperature lower than 100 ° C. or a time shorter than 10 minutes. On the other hand, when the temperature is higher than 170 ° C. or longer than 3 hours, decomposition of the constituent materials and uneven curing reaction proceed, and a good crosslinked surface layer cannot be obtained.
An electron beam is preferably used as the energy of radiation. The acceleration voltage of the electron beam is 300 KV or less, preferably 150 KV or less, and the dose is cured under the conditions of 1 to 100 Mrad. When the acceleration voltage exceeds 300 KV or the dose exceeds 100 Mrad, the decomposition of the constituent materials proceeds, and the effect of the present invention is not exhibited.
Among these energies, those using light energy are useful because of the ease of reaction rate control and the simplicity of the apparatus.
Since the thickness of the crosslinked surface layer of the present invention varies depending on the structure of the underlying non-radical-cured photosensitive layer, it will be described later in accordance with the structure of the photosensitive layer.

以下、本発明をその層構造に従い説明する。
<電子写真感光体の層構造について>
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
図1、2は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図である。
図1−Aは導電性支持体上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層が設けられた単層構造で、架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層を表わし、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表わす。
図1−Bは、導電性支持体上に、感光層として電荷発生機能を有する電荷発生層が設けられた単層構造で、電荷輸送性化合物を有する架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生層を表わし、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表わす。
図2は、導電性支持体上に、感光層として、電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とが積層された積層構造の感光体である。架橋表面層が電荷輸送層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生層と電荷輸送層を表わし、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表わす。
Hereinafter, the present invention will be described according to the layer structure.
<About the layer structure of the electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photosensitive member used in the present invention will be described with reference to the drawings.
1 and 2 are sectional views showing the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
FIG. 1-A shows a case where a photosensitive layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time is provided on a conductive support, and the crosslinked surface layer is the surface portion of the photosensitive layer. That is, the photosensitive layer which is not radically cured represents a photosensitive layer having the charge generating function and the charge transporting function shown in the figure at the same time, and the crosslinked surface layer containing the radical curable composition represents the crosslinked surface layer shown in the figure.
FIG. 1-B shows a single layer structure in which a charge generation layer having a charge generation function is provided as a photosensitive layer on a conductive support, and a crosslinked surface layer having a charge transporting compound is the surface portion of the photosensitive layer. Show the case. That is, the photosensitive layer that is not radically cured represents the charge generation layer in the figure, and the crosslinked surface layer containing the radical curable composition represents the crosslinked surface layer in the figure.
FIG. 2 shows a photoreceptor having a laminated structure in which a charge generation layer having a charge generation function and a charge transport layer having a charge transport function are laminated as a photosensitive layer on a conductive support. The case where the cross-linked surface layer is the surface portion of the charge transport layer is shown. That is, the photosensitive layer that is not radically cured represents the charge generation layer and the charge transport layer in the figure, and the crosslinked surface layer containing the radical curable composition represents the crosslinked surface layer in the figure.

<導電性支持体について>
導電性支持体としては、体積抵抗1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭52−36016号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
<About conductive support>
Examples of the conductive support include those having a volume resistance of 10 10 Ω · cm or less, such as metals such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, gold, silver, and platinum, tin oxide, and indium oxide. After metal oxide is deposited or sputtered, film or cylindrical plastic, paper coated, or aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel, etc. Pipes that have been subjected to surface treatment such as cutting, super-finishing, and polishing can be used. Further, endless nickel belts and endless stainless steel belts disclosed in JP-A-52-36016 can also be used as the conductive support.

この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体として用いることができる。
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
In addition, those obtained by dispersing and coating conductive powder in an appropriate binder resin on the support can also be used as the conductive support of the present invention.
Examples of the conductive powder include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc and silver, or metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned. The binder resin used at the same time is polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. , Polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinyl carbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, Examples thereof include thermoplastic, thermosetting resins, and photocurable resins such as melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin. Such a conductive layer can be provided by dispersing and coating these conductive powder and binder resin in a suitable solvent such as tetrahydrofuran, dichloromethane, methyl ethyl ketone, and toluene.

更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン(登録商標)などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。   Furthermore, it is electrically conductive by a heat shrinkable tube in which the conductive powder is contained in a material such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, Teflon (registered trademark) on a suitable cylindrical substrate. Those provided with a conductive layer can also be used favorably as the conductive support of the present invention.

<感光層について>
次に感光層について説明する。感光層は積層構造でも単層構造でもよい。
積層構造の場合には、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層、又は電荷発生機能を有する層から構成される。
以下、積層構造の感光層及び単層構造の感光層のそれぞれについて述べる。
<About photosensitive layer>
Next, the photosensitive layer will be described. The photosensitive layer may have a laminated structure or a single layer structure.
In the case of a laminated structure, the photosensitive layer is composed of a charge generation layer having a charge generation function and a charge transport layer having a charge transport function. In the case of a single layer structure, the photosensitive layer is composed of a layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time, or a layer having a charge generation function.
Hereinafter, each of the photosensitive layer having a laminated structure and the photosensitive layer having a single layer structure will be described.

<感光層が積層構成のもの>
(1)電荷発生層について
電荷発生層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
<Photosensitive layer having a laminated structure>
(1) Charge generation layer The charge generation layer is a layer mainly composed of a charge generation material having a charge generation function, and a binder resin can be used in combination as necessary. As the charge generation material, inorganic materials and organic materials can be used.
Inorganic materials include crystalline selenium, amorphous selenium, selenium-tellurium, selenium-tellurium-halogen, selenium-arsenic compounds, and amorphous silicon. In amorphous silicon, dangling bonds that are terminated with hydrogen atoms or halogen atoms, or those that are doped with boron atoms, phosphorus atoms, or the like are preferably used.

一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。   On the other hand, a known material can be used as the organic material. For example, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine, azulenium salt pigments, squaric acid methine pigments, azo pigments having carbazole skeleton, azo pigments having triphenylamine skeleton, azo pigments having diphenylamine skeleton, dibenzothiophene skeleton Azo pigments having a fluorenone skeleton, azo pigments having an oxadiazole skeleton, azo pigments having a bis-stilbene skeleton, azo pigments having a distyryl oxadiazole skeleton, azo pigments having a distyrylcarbazole skeleton, perylene Pigments, anthraquinone or polycyclic quinone pigments, quinoneimine pigments, diphenylmethane and triphenylmethane pigments, benzoquinone and naphthoquinone pigments, cyanine and azomethine pigments, Goido based pigments, and bisbenzimidazole pigments. These charge generation materials can be used alone or as a mixture of two or more.

電荷発生層に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。   As a binder resin used as necessary for the charge generation layer, polyamide, polyurethane, epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene, poly-N-vinylcarbazole, Examples include polyacrylamide. These binder resins can be used alone or as a mixture of two or more. In addition to the binder resin described above as a binder resin for the charge generation layer, a polymer charge transport material having a charge transport function, such as an arylamine skeleton, benzidine skeleton, hydrazone skeleton, carbazole skeleton, stilbene skeleton, pyrazoline skeleton, etc. Polymer materials such as polycarbonate, polyester, polyurethane, polyether, polysiloxane, and acrylic resin, polymer materials having a polysilane skeleton, and the like can be used.

前者の具体的な例としては、特開平01−001728号公報、特開平01−009964号公報、特開平01−013061号公報、特開平01−019049号公報、特開平01−241559号公報、特開平04−011627号公報、特開平04−175337号公報、特開平04−183719号公報、特開平04−225014号公報、特開平04−230767号公報、特開平04−320420号公報、特開平05−232727号公報、特開平05−310904号公報、特開平06−234836号公報、特開平06−234837号公報、特開平06−234838号公報、特開平06−234839号公報、特開平06−234840号公報、特開平06−234841号公報、特開平06−239049号公報、特開平06−236050号公報、特開平06−236051号公報、特開平06−295077号公報、特開平07−056374号公報、特開平08−176293号公報、特開平08−208820号公報、特開平08−211640号公報、特開平08−253568号公報、特開平08−269183号公報、特開平09−062019号公報、特開平09−043883号公報、特開平09−71642号公報、特開平09−87376号公報、特開平09−104746号公報、特開平09−110974号公報、特開平09−110976号公報、特開平09−157378号公報、特開平09−221544号公報、特開平09−227669号公報、特開平09−235367号公報、特開平09−241369号公報、特開平09−268226号公報、特開平09−272735号公報、特開平09−302084号公報、特開平09−302085号公報、特開平09−328539号公報等に記載の電荷輸送性高分子材料が挙げられる。
また、後者の具体例としては、例えば特開昭63−285552号公報、特開平05−19497号公報、特開平05−70595号公報、特開平10−73944号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。
Specific examples of the former include JP-A-01-001728, JP-A-01-009964, JP-A-01-013061, JP-A-01-019049, JP-A-01-241559, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 04-011627, 04-175337, 04-183719, 04-2225014, 04-230767, 04-320420, 05 -232727, JP-A 05-310904, JP-A 06-234836, JP-A 06-234837, JP-A 06-234838, JP-A 06-234839, JP-A 06-234840. No. 1, JP-A-06-234841, JP-A-06-239049, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 06-236050, 06-236051, 06-295077, 07-0756374, 08-176293, 08-208820, 08 No. -21640, JP 08-253568, JP 08-269183, JP 09-062019, JP 09-043883, JP 09-71642, JP 09-87376. No. 1, JP-A 09-104746, JP 09-110974, JP 09-110976, JP 09-157378, JP 09-221544, JP 09-227669. JP 09-235367 A, JP 09-241369 A Charge transporting polymer materials described in JP 09-268226 A, JP 09-272735 A, JP 09-302084 A, JP 09-302085 A, JP 09-328539 A, etc. Can be mentioned.
Specific examples of the latter include polysilylene polymers described in, for example, JP-A 63-285552, JP-A 05-19497, JP-A 05-70595, JP-A 10-73944, and the like. Illustrated.

また、電荷発生層には低分子電荷輸送物質を含有させることができる。
電荷発生層に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。
The charge generation layer may contain a low molecular charge transport material.
Low molecular charge transport materials that can be used in the charge generation layer include hole transport materials and electron transport materials.
Examples of the electron transporting material include chloroanil, bromanyl, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4 , 5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-trinitro-4H-indeno [1,2-b] thiophen-4-one, 1,3,7-tri Examples thereof include electron-accepting substances such as nitrodibenzothiophene-5,5-dioxide and diphenoquinone derivatives. These electron transport materials can be used alone or as a mixture of two or more.

正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。   Examples of the hole transporting material include the electron donating materials shown below and are used favorably. As hole transport materials, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, monoarylamine derivatives, diarylamine derivatives, triarylamine derivatives, stilbene derivatives, α-phenylstilbene derivatives, benzidine derivatives, diarylmethane derivatives, triaryls Other known materials such as methane derivatives, 9-styrylanthracene derivatives, pyrazoline derivatives, divinylbenzene derivatives, hydrazone derivatives, indene derivatives, butadiene derivatives, pyrene derivatives, bisstilbene derivatives, enamine derivatives, and the like can be given. These hole transport materials can be used alone or as a mixture of two or more.

電荷発生層を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、CVD法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ましくは0.05〜2μmである。
Methods for forming the charge generation layer include a vacuum thin film preparation method and a casting method from a solution dispersion system.
As the former method, a vacuum deposition method, a glow discharge decomposition method, an ion plating method, a sputtering method, a reactive sputtering method, a CVD method, or the like is used, and the above-described inorganic materials and organic materials can be satisfactorily formed.
In addition, in order to provide a charge generation layer by the casting method described later, if necessary, the inorganic or organic charge generation material together with a binder resin, tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, toluene, dichloromethane, monochlorobenzene, dichloroethane, cyclohexanone, cyclohexane. Can be formed by dispersing with a ball mill, attritor, sand mill, bead mill, etc. using a solvent such as pentanone, anisole, xylene, methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, butyl acetate, etc. . Moreover, leveling agents, such as a dimethyl silicone oil and a methylphenyl silicone oil, can be added as needed. The application can be performed by dip coating, spray coating, bead coating, ring coating, or the like.
The thickness of the charge generation layer provided as described above is suitably about 0.01 to 5 μm, preferably 0.05 to 2 μm.

(2)電荷輸送層について
電荷輸送層は電荷輸送機能を有する電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成される。
電荷輸送物質としては、前記電荷発生層で記載した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。特に高分子電荷輸送物質を用いることは、架橋表面層塗工時の下層の溶解性を低減効果を示し、とりわけ有用である。
(2) Charge Transport Layer The charge transport layer is formed by dissolving or dispersing a charge transport material having a charge transport function and a binder resin in a suitable solvent, and applying and drying the solution on the charge generation layer.
As the charge transport material, the electron transport material, hole transport material and polymer charge transport material described in the charge generation layer can be used. In particular, the use of a polymer charge transport material is particularly useful because it has an effect of reducing the solubility of the lower layer during coating of the crosslinked surface layer.

結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
電荷輸送物質の量は結着樹脂100質量部に対し、20〜300質量部、好ましくは40〜150質量部が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。
Examples of the binder resin include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, Polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinylcarbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin And thermoplastic or thermosetting resins such as phenol resins and alkyd resins.
The amount of the charge transport material is appropriately 20 to 300 parts by mass, preferably 40 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. However, when a polymer charge transport material is used, it can be used alone or in combination with a binder resin.

電荷輸送層の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても2種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の形成には電荷発生層と同様な塗工法が可能である。   As the solvent used for coating the charge transport layer, the same solvent as that used for the charge generation layer can be used, but a solvent that dissolves the charge transport material and the binder resin well is suitable. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The charge transport layer can be formed by the same coating method as that for the charge generation layer.

また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
電荷輸送層に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂100質量部に対して0〜30質量部程度が適当である。
電荷輸送層に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂100質量部に対して0〜1質量部程度が適当である。
電荷輸送層の膜厚は、5〜40μm程度が適当であり、好ましくは10〜30μm程度が適当である。
If necessary, a plasticizer and a leveling agent can be added.
As a plasticizer that can be used in combination with the charge transport layer, those used as a plasticizer for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used as they are, and the amount used is 0 with respect to 100 parts by mass of the binder resin. About 30 parts by mass is appropriate.
Leveling agents that can be used in combination with the charge transport layer include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, and polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain. The amount used is a binder resin. About 0 to 1 part by mass is appropriate for 100 parts by mass.
The thickness of the charge transport layer is suitably about 5 to 40 μm, preferably about 10 to 30 μm.

架橋表面層は、前述の架橋表面層作製方法に記載したように、かかる電荷輸送層の上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱又は放射線のエネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。感光層が積層構造では架橋表面層は電荷輸送性化合物(ラジカル重合性官能基を有しているもの又は有していないものに関わらず)を含有して電荷輸送性機能を付与しても、含有せずに保護層としても良い。このとき架橋表面層の膜厚は、電荷輸送機能を付与する場合、1μm以上、15μm以下、さらに好ましくは2μm以上、13μm以下である。15μmより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。電荷輸送機能を付与せず保護層として用いる場合、更に架橋密度を高くすることができ、耐摩耗性を高めることができる。この場合の、架橋表面層の膜厚は、1μm以上、5μm以下、さらに好ましくは2μm以上、4μm以下である。5μmより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなる。また、電荷輸送能がないため大幅な感度低下が起きる。架橋表面層の膜厚が、1μmより薄いと膜厚ムラによって耐久性がばらつく。   As described above in the method for preparing a crosslinked surface layer, the crosslinked surface layer is coated with the crosslinked surface layer coating solution of the present invention on such a charge transport layer, dried as necessary, and then subjected to light, heat or radiation. The curing reaction is initiated by energy, and a crosslinked surface layer is formed. In the case where the photosensitive layer is a laminated structure, the crosslinked surface layer contains a charge transporting compound (regardless of having or not having a radical polymerizable functional group) and imparting a charge transporting function, It is good also as a protective layer, without containing. At this time, the film thickness of the cross-linked surface layer is 1 μm or more and 15 μm or less, more preferably 2 μm or more and 13 μm or less when the charge transport function is imparted. When it is thicker than 15 μm, cracks and film peeling tend to occur. When it is used as a protective layer without imparting a charge transport function, the crosslink density can be further increased, and the wear resistance can be enhanced. In this case, the thickness of the crosslinked surface layer is 1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 2 μm or more and 4 μm or less. When it is thicker than 5 μm, cracks and film peeling tend to occur as described above. Moreover, since there is no charge transport capability, a significant reduction in sensitivity occurs. When the film thickness of the cross-linked surface layer is less than 1 μm, durability varies due to film thickness unevenness.

<感光層が単層のもの>
単層構造の感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層、又は電荷発生機能を有する電荷発生層である。
(1)電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する単層構造の場合
感光層が電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である場合、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生物質と電荷輸送機能を有する電荷輸送物質と結着樹脂を適当な溶媒に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。電荷発生物質の分散方法、それぞれ電荷発生物質、電荷輸送物質、可塑剤、レベリング剤は前記電荷発生層、電荷輸送層において既に述べたものと同様なものが使用できる。結着樹脂としては、先に電荷輸送層の項で挙げた結着樹脂のほかに、電荷発生層で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。また、先に挙げた高分子電荷輸送物質も使用可能で、架橋表面層への感光層組成物の混入を低減できる点で有用である。感光層中に含有される電荷発生物質は感光層全量に対し1〜30質量%が好ましく、感光層に含有される結着樹脂は全量の20〜80質量%、電荷輸送物質は10〜70質量部が良好に用いられる。
かかる感光層の膜厚は、5〜30μm程度が適当であり、好ましくは10〜25μm程度が適当である。
<Single photosensitive layer>
The photosensitive layer having a single layer structure is a layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time, or a charge generation layer having a charge generation function.
(1) In the case of a single layer structure having both a charge generation function and a charge transport function When the photosensitive layer is a layer having both a charge generation function and a charge transport function, the photosensitive layer has a charge generation function and a charge transport function. It can be formed by dissolving or dispersing a charge transport material having a function and a binder resin in an appropriate solvent, and applying and drying the solution. Moreover, a plasticizer, a leveling agent, etc. can also be added as needed. As the charge generation material dispersion method, the charge generation material, the charge transport material, the plasticizer, and the leveling agent may be the same as those already described in the charge generation layer and the charge transport layer. As the binder resin, in addition to the binder resin previously mentioned in the section of the charge transport layer, the binder resin mentioned in the charge generation layer may be mixed and used. In addition, the polymer charge transport materials listed above can also be used, which is useful in that the mixing of the photosensitive layer composition into the crosslinked surface layer can be reduced. The charge generation material contained in the photosensitive layer is preferably 1 to 30% by mass relative to the total amount of the photosensitive layer, the binder resin contained in the photosensitive layer is 20 to 80% by mass, and the charge transport material is 10 to 70% by mass. Part is used well.
The film thickness of the photosensitive layer is suitably about 5 to 30 μm, preferably about 10 to 25 μm.

架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、前述のようにかかる感光層上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱又は放射線のエネルギーにより硬化し、架橋表面層を形成する。感光層が上記単層構造では架橋表面層は電荷輸送性化合物(ラジカル重合性官能基を有しているもの又は有していないものに関わらず)を含有して電荷輸送性機能を付与しても、含有せずに保護層としても良い。このとき架橋表面層の膜厚は、電荷輸送機能を付与する場合、1μm以上、15μm以下、さらに好ましくは2μm以上、13μm以下である。15μmより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。電荷輸送機能を付与せず保護層として用いる場合、更に架橋密度が高くすることができ、耐摩耗性を高めることができる。この場合の、架橋表面層の膜厚は、1μm以上、5μm以下、さらに好ましくは2μm以上、4μm以下である。5μmより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなる。また、電荷輸送能がないため大幅な感度低下が起きる。架橋表面層の膜厚が、1μmより薄いと膜厚ムラによって耐久性がばらつく。   When the cross-linked surface layer is a surface portion of a photosensitive layer having a single layer structure, the cross-linked surface layer coating solution of the present invention is applied onto the photosensitive layer as described above, and after drying, if necessary, light, heat or radiation It cures by the energy of and forms a crosslinked surface layer. When the photosensitive layer has the single layer structure, the crosslinked surface layer contains a charge transporting compound (regardless of having or not having a radical polymerizable functional group) and imparting a charge transporting function. However, it is good also as a protective layer, without containing. At this time, the film thickness of the cross-linked surface layer is 1 μm or more and 15 μm or less, more preferably 2 μm or more and 13 μm or less when the charge transport function is imparted. When it is thicker than 15 μm, cracks and film peeling tend to occur. When it is used as a protective layer without imparting a charge transport function, the crosslinking density can be further increased and the wear resistance can be enhanced. In this case, the thickness of the crosslinked surface layer is 1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 2 μm or more and 4 μm or less. When it is thicker than 5 μm, cracks and film peeling tend to occur as described above. Moreover, since there is no charge transport capability, a significant reduction in sensitivity occurs. When the film thickness of the cross-linked surface layer is less than 1 μm, durability varies due to film thickness unevenness.

(2)電荷発生機能を有する電荷発生層の単層構造の場合
感光層が電荷発生機能を有する電荷発生層である場合、電荷発生層には、前記積層構成で上げた電荷発生層と同様なものが使用できる。電荷発生層上に設けられる架橋表面層は電荷輸送性機能を持たせるため、電荷輸送性化合物を含有させる。このとき電荷輸送性化合物はラジカル重合性官能基を有していても又は有していなくても良い。但し、電荷輸送性化合物としてラジカル重合性官能基を有しているものを用いる場合、本発明の高い耐摩耗性効果が更に優れて発揮でき、好適である。電荷輸送機能を有する架橋表面層は、前述の架橋表面層作製方法に記載したように電荷発生層上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱または放射線のエネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、10〜30μm、好ましくは10〜25μmである。10μmより薄いと充分な帯電電位が維持できず、30μmより厚いと硬化時の体積収縮により下層との剥離が生じやすくなる。
(2) In the case of a single-layer structure of a charge generation layer having a charge generation function When the photosensitive layer is a charge generation layer having a charge generation function, the charge generation layer has the same structure as the charge generation layer raised in the laminated structure. Things can be used. The cross-linked surface layer provided on the charge generation layer contains a charge transporting compound in order to have a charge transporting function. At this time, the charge transporting compound may or may not have a radical polymerizable functional group. However, when a compound having a radical polymerizable functional group is used as the charge transporting compound, the high wear resistance effect of the present invention can be exhibited more excellently, which is preferable. The cross-linked surface layer having a charge transport function is applied with the cross-linked surface layer coating solution of the present invention on the charge generation layer as described in the above-mentioned cross-linked surface layer preparation method, and if necessary, dried, light, heat or The curing reaction is initiated by the energy of the radiation, and a crosslinked surface layer is formed. At this time, the film thickness of the crosslinked surface layer is 10 to 30 μm, preferably 10 to 25 μm. If it is thinner than 10 μm, a sufficient charging potential cannot be maintained, and if it is thicker than 30 μm, peeling from the lower layer tends to occur due to volume shrinkage during curing.

<中間層について>
本発明の感光体においては、架橋表面層が感光層の表面部分となる場合、架橋表面層と感光層との間に中間層を設けることが可能である。この中間層はラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層中にラジカル硬化されていない感光層組成物の混入により生ずる、硬化反応の阻害や架橋表面層の凹凸を防止する。また、下層の感光層と架橋表面層の接着性を向上させることも可能である。
<About the intermediate layer>
In the photoreceptor of the present invention, when the crosslinked surface layer becomes the surface portion of the photosensitive layer, an intermediate layer can be provided between the crosslinked surface layer and the photosensitive layer. This intermediate layer prevents inhibition of the curing reaction and unevenness of the crosslinked surface layer caused by mixing of the photosensitive layer composition that is not radically cured in the crosslinked surface layer containing the radical curable composition. It is also possible to improve the adhesion between the underlying photosensitive layer and the crosslinked surface layer.

中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは0.05〜2μm程度が適当である。   In the intermediate layer, a binder resin is generally used as a main component. Examples of these resins include polyamide, alcohol-soluble nylon, water-soluble polyvinyl butyral, polyvinyl butyral, and polyvinyl alcohol. As a method for forming the intermediate layer, a generally used coating method is employed as described above. In addition, about 0.05-2 micrometers is suitable for the thickness of an intermediate | middle layer.

<下引き層について>
本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
<About the undercoat layer>
In the photoreceptor of the present invention, an undercoat layer can be provided between the conductive support and the photosensitive layer. In general, the undercoat layer is mainly composed of a resin. However, considering that the photosensitive layer is coated with a solvent on these resins, the resin may be a resin having high solvent resistance with respect to a general organic solvent. desirable. Examples of such resins include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein, and sodium polyacrylate, alcohol-soluble resins such as copolymer nylon and methoxymethylated nylon, polyurethane, melamine resin, phenol resin, alkyd-melamine resin, and epoxy. Examples thereof include a curable resin that forms a three-dimensional network structure such as a resin. Further, a metal oxide fine powder pigment exemplified by titanium oxide, silica, alumina, zirconium oxide, tin oxide, indium oxide and the like may be added to the undercoat layer in order to prevent moire and reduce residual potential.

これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Alを陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン(パリレン)等の有機物やSiO、SnO、TiO、ITO、CeO等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は0〜5μmが適当である。 These undercoat layers can be formed using an appropriate solvent and a coating method like the above-mentioned photosensitive layer. Furthermore, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a chromium coupling agent, or the like can be used as the undercoat layer of the present invention. In addition, in the undercoat layer of the present invention, Al 2 O 3 is provided by anodic oxidation, organic matter such as polyparaxylylene (parylene), SiO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ITO, CeO 2 A material provided with an inorganic material such as a vacuum thin film can also be used favorably. In addition, known ones can be used. The thickness of the undercoat layer is suitably from 0 to 5 μm.

<各層への酸化防止剤の添加について>
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、架橋表面層、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
<Addition of antioxidant to each layer>
Further, in the present invention, in order to improve environmental resistance, in order to prevent a decrease in sensitivity and an increase in residual potential, in particular, a crosslinked surface layer, a charge generation layer, a charge transport layer, an undercoat layer, an intermediate layer, etc. Antioxidants can be added to each layer.

本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
(フェノール系化合物)
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。
The following are mentioned as antioxidant which can be used for this invention.
(Phenolic compounds)
2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylene-bis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4, 4'-thiobis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris- (2-methyl-4 -Hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene- -(3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3'-bis (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid ] Cryol ester, tocopherols and the like.

(パラフェニレンジアミン類)
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
(Paraphenylenediamines)
N-phenyl-N'-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N'-di-sec-butyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N-sec-butyl-p-phenylenediamine, N, N'- Di-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N′-dimethyl-N, N′-di-t-butyl-p-phenylenediamine and the like.

(ハイドロキノン類)
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
(Hydroquinones)
2,5-di-t-octylhydroquinone, 2,6-didodecylhydroquinone, 2-dodecylhydroquinone, 2-dodecyl-5-chlorohydroquinone, 2-t-octyl-5-methylhydroquinone, 2- (2-octadecenyl) ) -5-methylhydroquinone and the like.

(有機硫黄化合物類)
ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオープロピオネート)など。
(Organic sulfur compounds)
Dilauryl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, ditetradecyl-3,3′-thiodipropionate, penta Erythritol tetrakis (3-laurylthio-propionate) and the like.

(有機燐化合物類)
トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリ(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2―エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、ジフェニルモノ(2−エチルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、トリス(2,4、ジーt−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4,ジーt―ブチルフェニル)ペンタエリスリトールホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジーt−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、テトラキス(2,4−ジーt−ブチルフェニル)4,4‘−ビフェニレンージーホスホナイト、ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイドロゲンホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルテトラ(トリデシル)ペンタエリスリトールテトラホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールA・ペンタエリスリトールホスファイトポリマーなど。
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
(Organic phosphorus compounds)
Triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tri (dinonylphenyl) phosphite, tris (2-ethylhexyl) phosphite, tridecyl phosphite, tris (tridecyl) phosphite, diphenyl mono (2-ethylhexyl) Phosphite, diphenyl monodecyl phosphite, tris (2,4, di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, bis (2,4, di-t-butylphenyl) pentaerythritol phosphite, 2 , 2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite, dilauryl hydrogen phosphite, diphenyl Hydrogen phosphite, tetraphenyldipropylene glycol diphosphite, tetraphenyltetra (tridecyl) pentaerythritol tetraphosphite, tetra (tridecyl) -4,4′isopropylidene diphenyldiphosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphos Phyto, hydrogenated bisphenol A, pentaerythritol phosphite polymer, etc.
These compounds are known as antioxidants such as rubbers, plastics and fats and oils, and commercially available products can be easily obtained.

<画像形成方法及び装置について>
次に図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。
本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、本発明のラジカル硬化されていない感光層と、特定のラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体(転写紙)へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。
場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
<Image Forming Method and Apparatus>
Next, the image forming method and the image forming apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
The image forming method and the image forming apparatus of the present invention use a photoconductor having a non-radical-cured photosensitive layer of the present invention and a crosslinked surface layer containing a specific radical-curing composition. An image forming method and an image forming apparatus comprising processes of image exposure and development, followed by a process of transferring a toner image onto an image carrier (transfer paper), fixing, and cleaning of the surface of the photoreceptor.
In some cases, an image forming method or the like in which an electrostatic latent image is directly transferred to a transfer member and developed does not necessarily have the above-described process arranged on the photosensitive member.

図3は、画像形成装置の一例を示す概略図である。感光体を平均的に帯電させる手段として、帯電チャージャ(3)が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラー帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。   FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of an image forming apparatus. A charging charger (3) is used as a means for charging the photoconductor on average. As the charging means, a corotron device, a scorotron device, a solid discharge element, a needle electrode device, a roller charging device, a conductive brush device, or the like is used, and a known system can be used.

次に、均一に帯電された感光体(1)上に静電潜像を形成するために画像露光部(5)が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード(LED)、半導体レーザー(LD)、エレクトロルミネッセンス(EL)などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。   Next, the image exposure unit (5) is used to form an electrostatic latent image on the uniformly charged photoreceptor (1). As the light source, all luminescent materials such as a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a mercury lamp, a sodium lamp, a light emitting diode (LED), a semiconductor laser (LD), and an electroluminescence (EL) can be used. Various types of filters such as a sharp cut filter, a band pass filter, a near infrared cut filter, a dichroic filter, an interference filter, and a color temperature conversion filter can be used to irradiate only light in a desired wavelength range.

次に、感光体(1)上に形成された静電潜像を可視化するために現像ユニット(6)が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に正(負)帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正(負)の静電潜像が形成される。これを負(正)極性のトナー(検電微粒子)で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正(負)極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。   Next, the developing unit (6) is used to visualize the electrostatic latent image formed on the photoreceptor (1). Development methods include a one-component development method using a dry toner, a two-component development method, and a wet development method using a wet toner. When the photosensitive member is positively (negatively) charged and image exposure is performed, a positive (negative) electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive member. A positive image can be obtained by developing this with negative (positive) toner (electrodetection fine particles), and a negative image can be obtained by developing with positive (negative) toner.

次に、感光体上で可視化されたトナー像を転写体(9)上に転写するために転写チャージャ(10)が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ(7)を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。   Next, a transfer charger (10) is used to transfer the toner image visualized on the photoconductor onto the transfer body (9). In addition, a pre-transfer charger (7) may be used for better transfer. As these transfer means, a transfer charger, an electrostatic transfer method using a bias roller, a mechanical transfer method such as an adhesive transfer method and a pressure transfer method, and a magnetic transfer method can be used. As the electrostatic transfer method, the charging means can be used.

次に、転写体(9)を感光体(1)より分離する手段として分離チャージャ(11)、分離爪(12)が用いられる。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ(11)としては、前記帯電手段が利用可能である。   Next, a separation charger (11) and a separation claw (12) are used as means for separating the transfer body (9) from the photoreceptor (1). As other separation means, electrostatic adsorption induction separation, side end belt separation, tip grip conveyance, curvature separation, and the like are used. As the separation charger (11), the charging means can be used.

次に、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためにファーブラシ(14)、クリーニングブレード(15)が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ(13)を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。
次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ(2)、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
Next, a fur brush (14) and a cleaning blade (15) are used to clean the toner remaining on the photoreceptor after transfer. Further, a pre-cleaning charger (13) may be used in order to perform cleaning more efficiently. As other cleaning means, there are a web system, a magnet brush system, and the like, but a single system or a plurality of systems may be used together.
Next, a neutralizing unit is used for the purpose of removing the latent image on the photoconductor as necessary. As the charge removal means, a charge removal lamp (2) and a charge removal charger are used, and the exposure light source and the charging means can be used respectively.
In addition, known processes can be used for reading, feeding, fixing, paper discharge and the like that are not close to the photoconductor.

本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置である。
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。プロセスカートリッジの一例を図4に示す。
画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体(101)を内蔵し、他に帯電手段(102)、露光手段(103)、現像手段(104)、転写手段(106)、クリーニング手段(107)、除電手段(図示せず)の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置(部品)である。
図4に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体(101)は、回転しながら、帯電手段(102)による帯電、露光手段(103)による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段(104)でトナー現像され、該トナー現像は転写手段(106)により、転写体(105)に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段(107)によりクリーニングされ、更に除電手段(図示せず)により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
The present invention is an image forming method and an image forming apparatus using the electrophotographic photoreceptor according to the present invention for such image forming means.
This image forming means may be fixedly incorporated in a copying apparatus, facsimile, or printer, but may be incorporated in these apparatuses in the form of a process cartridge and detachable. An example of the process cartridge is shown in FIG.
The process cartridge for the image forming apparatus includes a photoconductor (101), in addition to a charging unit (102), an exposure unit (103), a developing unit (104), a transfer unit (106), a cleaning unit (107), This is an apparatus (part) that includes at least one static elimination unit (not shown) and is detachable from the image forming apparatus main body.
The image forming process by the apparatus illustrated in FIG. 4 will be described. The photosensitive member (101) corresponds to an exposure image on the surface thereof by rotating by the charging means (102) and exposure by the exposure means (103) while rotating. The electrostatic latent image is formed, and the electrostatic latent image is developed with toner by the developing means (104). The toner development is transferred to the transfer body (105) by the transfer means (106) and printed out. . Next, the surface of the photoconductor after the image transfer is cleaned by a cleaning unit (107), and is further neutralized by a neutralizing unit (not shown), and the above operation is repeated again.

本発明は、ラジカル硬化されていない感光層と、特定のラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する本発明に係る感光体と帯電、現像、転写、クリーニング、除電手段の少なくとも一つを一体化した画像形成装置用プロセスカートリッジを提供するものである。
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、CRTプリンター、LEDプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
The present invention integrates at least one of charging, developing, transferring, cleaning, and neutralizing means with the photosensitive member according to the present invention having a photosensitive layer that is not radically cured and a crosslinked surface layer containing a specific radical curing composition. A process cartridge for an image forming apparatus is provided.
As is apparent from the above description, the electrophotographic photosensitive member of the present invention is not only used in electrophotographic copying machines, but also in electrophotographic application fields such as laser beam printers, CRT printers, LED printers, liquid crystal printers, and laser plate making. Can also be used widely.

<本発明で使用される一般式(A)で表わされるラジカル反応性化合物の合成>
(1)A1−1の合成例
ジフェノール誘導体の2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ化の合成法について説明する。
原料となるジフェノール誘導体の合成は、従来公知の方法で合成される。例えば、特開平9−278723号公報に記載の方法で合成することができる。この公開公報には、[表1]記載の例示化合物No.22やNo.23のような、N原子に置換する2つのフェニル基が相互に異なるジフェノール誘導体の合成法も含めて詳細に記載されている。
フェノール性OH基の2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ化は、下記反応式(1)に記載の様にジフェノール誘導体にメタクリル酸グリシジルの様なカルボン酸グリシジルエステル化合物を開環付加反応させて生成されるヒドロキシ基含有ジカルボン酸ジエステル中間体を加水分解することで容易に高収率で目的のテトラヒドロキシ化合物を合成することができる。
メタクリル酸グリシジルは、工業用試薬として入手可能な試薬であり、好ましいカルボン酸グリシジルエステル化合物の一つである。
反応は、ジオール化合物とメタクリル酸グリシジルを適当な溶媒に溶解させ、加熱攪拌することで行なうことができる。その際、触媒として3級アミン化合物または4級アンモニウム塩化合物を少量添加することが効果的である。
溶媒としては、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が使用できる。
加熱は、室温〜150℃であり、好ましくは60℃〜120℃である。
温度が低過ぎると反応時間が遅くなり、高過ぎると副反応が多くなる。
触媒として使用される3級アミンの具体例としては、トリエチルアミン、ベンジルジエチルアミン等を挙げることができ、4級アンモニウム塩の具体例としては、ベンジルエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド等を挙げることができる。
触媒の添加量としては、ジオール化合物の0.01〜5wt%程度であり、通常1〜2wt%程度で十分である。
反応時間は、数時間から数十時間であり、好ましい温度範囲、触媒添加量であれば5〜10時間で終了する。
このとき得られるヒドロキシ基含有ジカルボン酸ジエステル中間体を速やかに加水分解するためには、水酸化ナトリウムの様な無機塩基の水溶液を添加し、さらに加熱攪拌すればよい。この時の反応温度は室温〜100℃で良く、好ましくは60℃〜95℃である。加水分解は通常数時間で終了する。
<Synthesis of Radical Reactive Compound Represented by Formula (A) Used in the Present Invention>
(1) Synthesis example of A1-1 A synthesis method of 2,3-dihydroxypropyloxylation of a diphenol derivative will be described.
The diphenol derivative used as a raw material is synthesized by a conventionally known method. For example, it can be synthesized by the method described in JP-A-9-278723. In this publication, Exemplified Compound Nos. Described in [Table 1] are listed. 22 or No. 23, including a method for synthesizing diphenol derivatives in which two phenyl groups substituted on the N atom are different from each other.
The 2,3-dihydroxypropyloxylation of the phenolic OH group is produced by ring-opening addition reaction of a carboxylic acid glycidyl ester compound such as glycidyl methacrylate with a diphenol derivative as described in the following reaction formula (1). The desired tetrahydroxy compound can be easily synthesized in high yield by hydrolyzing the hydroxy group-containing dicarboxylic acid diester intermediate.
Glycidyl methacrylate is a reagent available as an industrial reagent and is one of the preferred carboxylic acid glycidyl ester compounds.
The reaction can be carried out by dissolving the diol compound and glycidyl methacrylate in a suitable solvent and stirring with heating. At that time, it is effective to add a small amount of a tertiary amine compound or a quaternary ammonium salt compound as a catalyst.
As the solvent, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, ester solvents such as ethyl acetate, and ether solvents such as tetrahydrofuran can be used.
Heating is from room temperature to 150 ° C, preferably from 60 ° C to 120 ° C.
If the temperature is too low, the reaction time will be slow, and if it is too high, side reactions will increase.
Specific examples of the tertiary amine used as the catalyst include triethylamine and benzyldiethylamine. Specific examples of the quaternary ammonium salt include benzylethylammonium chloride and tetraethylammonium chloride.
The amount of the catalyst added is about 0.01 to 5 wt% of the diol compound, and usually about 1 to 2 wt% is sufficient.
The reaction time is from several hours to several tens of hours, and the reaction is completed in 5 to 10 hours in the preferred temperature range and catalyst addition amount.
In order to rapidly hydrolyze the hydroxy group-containing dicarboxylic acid diester intermediate obtained at this time, an aqueous solution of an inorganic base such as sodium hydroxide may be added and further heated and stirred. The reaction temperature at this time may be room temperature to 100 ° C, preferably 60 ° C to 95 ° C. Hydrolysis is usually complete in a few hours.

Figure 2008304702

また、下記反応式(2)に記載の様にジフェノール誘導体にエピクロロヒドリンを反応させ、得られるエポキシ化合物に水を開環付加させて目的物を得ることもできる。
Figure 2008304702

Further, as described in the following reaction formula (2), epichlorohydrin can be reacted with a diphenol derivative, and water can be subjected to ring-opening addition to the resulting epoxy compound to obtain the desired product.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

以下に具体例として例示化合物No.2の前駆体となるN−{4−[2,2−ビス(4−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ)フェニル)ビニル]フェニル}−N,N−ビス(4−トリル)アミンの合成例について提示する。   As specific examples, Exemplified Compound Nos. Synthesis of N- {4- [2,2-bis (4- (2,3-dihydroxypropyloxy) phenyl) vinyl] phenyl} -N, N-bis (4-tolyl) amine as a precursor of 2 Present about.

<N−{4−[2,2−ビス(4−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ)フェニル)ビニル]フェニル}−N,N−ビス(4−トリル)アミンの合成>
N−{4−[2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ビニル]フェニル}−N,N−ビス(4−トリル)アミン14.51g、メタクリル酸グリシジルエステル9.45g、トルエン20mlを反応容器に入れ、攪拌しながら90℃まで昇温させた後、トリエチルアミン0.24gを加え、その後95℃で7.5時間反応させた。
その後一旦冷却し、10%の水酸化ナトリウム水溶液30mlとトルエン15mlを加え、再度昇温させて90℃で3時間反応させた。
放冷した後、水60ml、0.5N塩酸水溶液100mlを加え、酢酸エチルで生成物を抽出した。得られた有機層を希塩酸水溶液で洗浄した後、飽和食塩水で洗浄し、さらに無水硫酸マグネシウムを加えて脱水した。
その後、濾過、濃縮し、酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合溶媒にてシリカゲルを用いてカラム精製した。その結果、黄色の非晶質固体として13.29gの目的物が得られた。(収率70%)
<Synthesis of N- {4- [2,2-bis (4- (2,3-dihydroxypropyloxy) phenyl) vinyl] phenyl} -N, N-bis (4-tolyl) amine>
A reaction vessel containing 14.51 g of N- {4- [2,2-bis (4-hydroxyphenyl) vinyl] phenyl} -N, N-bis (4-tolyl) amine, 9.45 g of glycidyl methacrylate, and 20 ml of toluene. The mixture was heated to 90 ° C. with stirring, 0.24 g of triethylamine was added, and the mixture was reacted at 95 ° C. for 7.5 hours.
Thereafter, the mixture was once cooled, 30 ml of a 10% aqueous sodium hydroxide solution and 15 ml of toluene were added, the temperature was raised again, and the mixture was reacted at 90 ° C. for 3 hours.
After allowing to cool, 60 ml of water and 100 ml of 0.5N hydrochloric acid aqueous solution were added, and the product was extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with a dilute hydrochloric acid aqueous solution and then with a saturated saline solution, and further dehydrated by adding anhydrous magnesium sulfate.
Thereafter, filtration and concentration were performed, and column purification was performed using silica gel with a mixed solvent of ethyl acetate and tetrahydrofuran. As a result, 13.29 g of the desired product was obtained as a yellow amorphous solid. (Yield 70%)

(2)A1−2の合成例
テトラヒドロキシ誘導体の(メタ)アクリル化について説明する。
アクリル化及びメタアクリル化は、それぞれアクリル酸又はメタアクリル酸とアルコール誘導体とのエステル化反応により合成できる。また、アクリル酸クロリド、メタアクリル酸クロリドを使用しても良い。また、アクリル化の場合、3−クロロプロパン酸クロリドとアルコール誘導体とでエステル化させた後に、塩基の存在下で脱塩化水素させることでも容易に合成できる。以下に例示化合物No.2の合成例を提示する。
(2) Synthesis example of A1-2 The (meth) acrylation of a tetrahydroxy derivative will be described.
Acrylation and methacrylation can be synthesized by esterification reaction of acrylic acid or methacrylic acid and an alcohol derivative, respectively. Acrylic acid chloride and methacrylic acid chloride may also be used. In the case of acrylation, it can be easily synthesized by esterifying with 3-chloropropanoic acid chloride and an alcohol derivative and then dehydrochlorinating in the presence of a base. Exemplified Compound No. Two synthesis examples are presented.

<例示化合物No.2の合成>
かき混ぜ装置、温度計、冷却管をつけた反応容器に、N−{4−[2,2−ビス(4−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ)フェニル)ビニル]フェニル}−N,N−ビス(4−トリル)アミン3.16gとN,N−ジメチルアセトアミド30mlを入れ、氷冷しながら、3−クロロプロピオニルクロリド3.81gをゆっくり滴下した。その後、室温で5時間撹拌した。次にトリエチルアミン6.07gを加え、60℃で5時間反応させた。冷却後、ジクロロメタン100mlで反応液を希釈し、水で2回洗浄した後、有機層を取り出し、硫酸マグネシウムを加えて脱水処理を行った。その後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル(5/2))にて精製した。このようにして例示化合物No.2のアクリル酸エステル誘導体を得た。(黄色オイル、収量2.99g)を得た。
<Exemplary Compound No. Synthesis of 2>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, N- {4- [2,2-bis (4- (2,3-dihydroxypropyloxy) phenyl) vinyl] phenyl} -N, N-bis 3.16 g of (4-tolyl) amine and 30 ml of N, N-dimethylacetamide were added, and 3.81 g of 3-chloropropionyl chloride was slowly added dropwise while cooling with ice. Then, it stirred at room temperature for 5 hours. Next, 6.07 g of triethylamine was added and reacted at 60 ° C. for 5 hours. After cooling, the reaction solution was diluted with 100 ml of dichloromethane and washed twice with water, and then the organic layer was taken out and dehydrated by adding magnesium sulfate. Thereafter, the solvent was removed, and purification was performed by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: n-hexane / ethyl acetate (5/2)). Thus, Exemplified Compound No. 2 acrylate derivatives were obtained. (Yellow oil, yield 2.99 g) was obtained.

以上の合成例と同様にして、A1−1で用いられるジフェノール誘導体の種類とA1−2で用いられるカルボン酸誘導体の種類を変えることで他の例示化合物も容易に合成することができる。   Similar to the above synthesis examples, other exemplary compounds can be easily synthesized by changing the type of diphenol derivative used in A1-1 and the type of carboxylic acid derivative used in A1-2.

次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例中において使用する「部」は、すべて質量部を表わす。
<実施例1>
φ30mmのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、3.5μmの下引き層、0.2μmの電荷発生層、15μmの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層上に下記組成の架橋表面層塗工液をスプレー塗工し、20分自然乾燥した後、メタルハライドランプ:160W/cm、照射距離:120mm、照射強度:500mW/cm、照射時間:120秒の条件で光照射を行ない塗布膜を硬化させた。更に130℃で20分乾燥を加え12μmの架橋表面層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example. Note that “parts” used in the examples all represent parts by mass.
<Example 1>
By coating and drying an undercoat layer coating solution, a charge generation layer coating solution, and a charge transport layer coating solution in the following order on a φ30 mm aluminum cylinder in sequence, an undercoat layer of 3.5 μm A 0.2 μm charge generation layer and a 15 μm charge transport layer were formed. On this charge transport layer, a cross-linked surface layer coating solution having the following composition is spray-coated and naturally dried for 20 minutes, and then a metal halide lamp: 160 W / cm, irradiation distance: 120 mm, irradiation intensity: 500 mW / cm 2 , irradiation time : Irradiated with light for 120 seconds to cure the coating film. Further, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to provide a 12 μm cross-linked surface layer to obtain an electrophotographic photoreceptor of the present invention.

[下引き層塗工液]
・アルキッド樹脂: 6部
(ベッコゾール1307−60−EL、大日本インキ化学工業製)
・メラミン樹脂: 4部
(スーパーベッカミン G−821−60、大日本インキ化学工業製)
・酸化チタン: 40部
・メチルエチルケトン: 50部
[Undercoat layer coating solution]
-Alkyd resin: 6 parts (Beccosol 1307-60-EL, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Melamine resin: 4 parts (Super Becamine G-821-60, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals)
・ Titanium oxide: 40 parts ・ Methyl ethyl ketone: 50 parts

[電荷発生層用塗工液]
・下記構造のビスアゾ顔料: 2.5部
[Coating liquid for charge generation layer]
-Bisazo pigment with the following structure: 2.5 parts

Figure 2008304702
・ポリビニルブチラール(XYHL、UCC製): 0.5部
・シクロヘキサノン: 200部
・メチルエチルケトン: 80部
Figure 2008304702
Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part Cyclohexanone: 200 parts Methyl ethyl ketone: 80 parts

[電荷輸送層用塗工液]
・ビスフェノールZ型ポリカーボネート: 10部
(パンライトTS−2050、帝人化成製)
・下記構造式の電荷輸送物質: 7部
[Coating fluid for charge transport layer]
-Bisphenol Z-type polycarbonate: 10 parts (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals)
-Charge transport material with the following structural formula: 7 parts

Figure 2008304702

・テトラヒドロフラン: 100部
・1%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液: 1部
(KF50−100CS、信越化学工業製)
Figure 2008304702

Tetrahydrofuran: 100 parts Tetrahydrofuran solution of 1% silicone oil: 1 part (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.2)のラジカル重合性化合物: 10部
・ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical polymerizable compound of the structural formula (Exemplary Compound No. 2): 10 parts-Monomer having 3 or more radical polymerizable functional groups: 10 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例2>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 2>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.2)のラジカル重合性化合物: 10部
・ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
・光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical polymerizable compound of the structural formula (Exemplary Compound No. 2): 10 parts-Monomer having 3 or more radical polymerizable functional groups: 10 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例3>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 3>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.2)のラジカル反応性化合物: 10部
・ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
・光重合開始剤1: 0.5部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・光重合開始剤2: 0.5部
(イルガキュア819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・テトラヒドロフラン 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical reactive compound of the structural formula (Exemplary Compound No. 2): 10 parts-Monomer having 3 or more radical polymerizable functional groups: 10 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Photopolymerization initiator 1: 0.5 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Photopolymerization initiator 2: 0.5 part (Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
・ 100 parts of tetrahydrofuran

<実施例4>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 4>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.2)のラジカル重合性化合物: 20部
・光重合開始剤1: 0.5部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・光重合開始剤2: 0.5部
(イルガキュア819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical polymerizable compound of the above structural formula (Exemplary Compound No. 2): 20 parts-Photopolymerization initiator 1: 0.5 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Photopolymerization initiator 2: 0.5 part (Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例5>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 5>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.1)のラジカル反応性化合物: 20部
・光重合開始剤1: 0.5部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・光重合開始剤2: 0.5部
(イルガキュア819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical reactive compound of the structural formula (Exemplary Compound No. 1): 20 parts-Photopolymerization initiator 1: 0.5 part 1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Photopolymerization initiator 2: 0.5 part (Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例6>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 6>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.20)のラジカル反応性化合物: 20部
・光重合開始剤1: 0.5部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・光重合開始剤2: 0.5部
(イルガキュア819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical reactive compound of the structural formula (Exemplary Compound No. 20): 20 parts-Photopolymerization initiator 1: 0.5 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Photopolymerization initiator 2: 0.5 part (Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例7>
φ100mmのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、3.5μmの下引き層、0.2μmの電荷発生層、15μmの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層上に下記組成の架橋表面層塗工液をスプレー塗工し、20分自然乾燥した後、130℃で90分加熱硬化させ、14μmの架橋表面層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
<Example 7>
By coating and drying an undercoat layer coating solution, a charge generation layer coating solution, and a charge transport layer coating solution in the following order on a φ100 mm aluminum cylinder in sequence, an undercoat layer of 3.5 μm A 0.2 μm charge generation layer and a 15 μm charge transport layer were formed. The cross-linked surface layer coating solution having the following composition is spray-coated on this charge transport layer, naturally dried for 20 minutes, and then heated and cured at 130 ° C. for 90 minutes to provide a 14 μm cross-linked surface layer. A photoreceptor was obtained.

[下引き層塗工液]
・アルキッド樹脂: 6部
(ベッコゾール1307−60−EL、大日本インキ化学工業製)
・メラミン樹脂: 4部
(スーパーベッカミン G−821−60、大日本インキ化学工業製)
・酸化チタン: 40部
・メチルエチルケトン: 50部
[Undercoat layer coating solution]
-Alkyd resin: 6 parts (Beccosol 1307-60-EL, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Melamine resin: 4 parts (Super Becamine G-821-60, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals)
・ Titanium oxide: 40 parts ・ Methyl ethyl ketone: 50 parts

[電荷発生層用塗工液]
・Y型チタニルフタロシアニン: 2.5部
・ポリビニルブチラール(XYHL、UCC製): 0.5部
・シクロヘキサノン: 200部
・メチルエチルケトン: 80部
[Coating liquid for charge generation layer]
Y-type titanyl phthalocyanine: 2.5 parts Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 parts Cyclohexanone: 200 parts Methyl ethyl ketone: 80 parts

[電荷輸送層用塗工液]
・ビスフェノールZ型ポリカーボネート: 10部
(パンライトTS−2050、帝人化成製)
・下記構造式の電荷輸送物質: 7部
[Coating fluid for charge transport layer]
-Bisphenol Z-type polycarbonate: 10 parts (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals)
-Charge transport material with the following structural formula: 7 parts

Figure 2008304702

・テトラヒドロフラン: 100部
・1%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液: 1部
(KF50−100CS、信越化学工業製)
Figure 2008304702

Tetrahydrofuran: 100 parts Tetrahydrofuran solution of 1% silicone oil: 1 part (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.11)のラジカル重合性化合物: 20部
・重合開始剤: 1部
アゾビスブチロニトリル
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical polymerizable compound of the above structural formula (Exemplary Compound No. 11): 20 parts-Polymerization initiator: 1 part Azobisbutyronitrile-Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例8>
実施例7の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例7と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 8>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7, except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 7 was changed to the following.

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.12)のラジカル重合性化合物: 20部
・重合開始剤: 1部
過酸化ベンゾイル
・テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical polymerizable compound of the above structural formula (Exemplary Compound No. 12): 20 parts-Polymerization initiator: 1 part Benzoyl peroxide-Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例9>
φ100mmのアルミニウムシリンダーを用い、電荷発生層用塗工液と架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作製した。
<Example 9>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that a φ100 mm aluminum cylinder was used and the charge generation layer coating solution and the crosslinked surface layer coating solution were changed to the following.

[電荷発生層用塗工液]
・Y型チタニルフタロシアニン: 2.5部
・ポリビニルブチラール(XYHL、UCC製): 0.5部
・シクロヘキサノン: 200部
・メチルエチルケトン: 80部
[Coating liquid for charge generation layer]
Y-type titanyl phthalocyanine: 2.5 parts Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 parts Cyclohexanone: 200 parts Methyl ethyl ketone: 80 parts

[架橋表面層塗工液]
・前記構造式(例示化合物No.2)のラジカル反応性化合物: 20部
・光重合開始剤1: 0.5部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・光重合開始剤2: 0.5部
(イルガキュア819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
・テトラヒドロフラン 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
-Radical reactive compound of the above structural formula (Exemplary Compound No. 2): 20 parts-Photopolymerization initiator 1: 0.5 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Photopolymerization initiator 2: 0.5 part (Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
・ 100 parts of tetrahydrofuran

<比較例1>
実施例1の架橋表面層を設けず、電荷輸送層の膜厚を27μmとした以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 1>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer of Example 1 was not provided and the thickness of the charge transport layer was 27 μm.

<比較例2>
実施例7の架橋表面層を設けず、電荷輸送層の膜厚を27μmとした以外は実施例7と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative example 2>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7 except that the cross-linked surface layer of Example 7 was not provided and the thickness of the charge transport layer was 27 μm.

<比較例3>
実施例1の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 3>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例4>
実施例2の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例2と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 4>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 2 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例5>
実施例2の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例2と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 5>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 2 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例6>
実施例2の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例2と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 6>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 2 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例7>
実施例2の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例2と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 7>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 2 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例8>
実施例4の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 8>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 4 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 4 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例9>
実施例4の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 9>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 4 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 4 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例10>
実施例7の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例7と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 10>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 7 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 7 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

<比較例11>
実施例8の架橋表面層塗工液に使用されるラジカル反応性化合物を下記のものに変えた以外は実施例8と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 11>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 8 except that the radical reactive compound used in the crosslinked surface layer coating solution of Example 8 was changed to the following.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

以上のように作製した実施例1〜6、比較例1、3〜9の電子写真感光体についてA4サイズ5万枚の通紙試験(常温、常湿下)を実施した。まず、前記感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として655nmの半導体レーザーを用いたリコー性IpsioCX9000のブラックステーションにて5万枚印刷を行なった。その際の電子写真感光体の摩耗量(初期の感光体膜厚から印刷後の感光体膜厚を引いた値)及び、ベタ書き込み時の現像部表面電位(初期値と5万枚複写後の値)を測定した。その結果を下記表2に示す。   The electrophotographic photoreceptors of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 3 to 9 prepared as described above were subjected to a paper passing test (normal temperature and normal humidity) of 50,000 A4 sizes. First, the photoconductor was mounted on a process cartridge for an electrophotographic apparatus, and 50,000 sheets were printed on a black station of Ricoh's Ipsio CX9000 using a 655 nm semiconductor laser as an image exposure light source. The amount of wear of the electrophotographic photosensitive member at that time (the value obtained by subtracting the photosensitive member film thickness after printing from the initial photosensitive member film thickness) and the developing portion surface potential at the time of solid writing (the initial value and after copying 50,000 sheets) Value). The results are shown in Table 2 below.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

また、以上のように作製した実施例7〜9、比較例2、10〜11の電子写真感光体についてA4サイズ20万枚の通紙試験(常温、常湿下)を実施した。露光光源として780nmの半導体レーザーを用いたリコー性imagio Neo752に感光体をセットし、20万枚複写を行った。その際の電子写真感光体の摩耗量(初期の感光体膜厚から複写後の感光体膜厚を引いた値)及び、ベタ書き込み時の現像部表面電位(初期値と20万枚複写後の値)をプロセスコントロールをOFFにした状態で測定した。その結果を下記表3に示す。   Further, the electrophotographic photosensitive members of Examples 7 to 9 and Comparative Examples 2 and 10 to 11 prepared as described above were subjected to a paper passing test (normal temperature and normal humidity) of 200,000 sheets of A4 size. A photoconductor was set on a ricohic image Neo Neo 752 using a 780 nm semiconductor laser as an exposure light source, and 200,000 copies were made. The amount of wear of the electrophotographic photosensitive member at that time (a value obtained by subtracting the photosensitive member film thickness after copying from the initial photosensitive member film thickness) and the developing portion surface potential at the time of solid writing (the initial value and after copying 200,000 sheets) Value) was measured with the process control turned off. The results are shown in Table 3 below.

Figure 2008304702
Figure 2008304702

以上のように、本発明の実施例は、従来の保護層無しの有機感光体に比べて、格段の耐摩耗性を有する。また、従来の電荷輸送性ラジカル硬化保護層を有する有機感光体に比べ、耐摩耗性は最高レベルであり、且つ、露光時の電位減衰特性に優れ、運転経時での種々疲労を受けながらもその電位減衰特性を保持できている。また、従来の保護層に比べて厚膜にもかかわらず上記特性を発現できている。この様な特性を有することから本発明の電子写真感光体は、極めて長い寿命を有している。
また、実施例4〜6と実施例1〜3を比べると、一般式(A)で表わされる化合物を他の重合性モノマーと混ぜずに使用した場合の方が、ベタ書き込み時の現像部表面電位が初期から低くなっており、優れた電荷輸送性を示すことがわかる。
また、実施例7〜8と実施例9を比較すると、熱硬化により硬化膜を作製する場合に比べ、光エネルギーを用いて硬化させた場合の方が、より耐摩耗性に優れることがわかる。
したがってこの感光体を用いることで、より高画質な画像を長期にわたり提供できる高性能で且つ信頼性の高い画像形成プロセス、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供できる。
As described above, the examples of the present invention have much higher abrasion resistance than conventional organic photoreceptors without a protective layer. In addition, it has the highest level of wear resistance compared to conventional organic photoconductors having a charge transporting radical curing protective layer, and is excellent in potential attenuation characteristics during exposure, while undergoing various fatigue over time. The potential decay characteristic can be maintained. Moreover, the said characteristic can be expressed despite thick film compared with the conventional protective layer. Because of such characteristics, the electrophotographic photosensitive member of the present invention has a very long life.
Further, when Examples 4 to 6 and Examples 1 to 3 are compared, the surface of the developing portion when solid writing is performed when the compound represented by the general formula (A) is used without mixing with other polymerizable monomers. It can be seen that the potential is low from the beginning, and excellent charge transport properties are exhibited.
Moreover, when Examples 7-8 and Example 9 are compared, it turns out that the direction where it hardens | cures using light energy is more excellent in abrasion resistance compared with the case where a cured film is produced by thermosetting.
Therefore, by using this photoreceptor, it is possible to provide a high-performance and highly reliable image forming process, an image forming apparatus, and a process cartridge for an image forming apparatus that can provide a higher quality image over a long period of time.

本発明の電子写真感光体の層構成を表わした図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a layer configuration of an electrophotographic photosensitive member of the present invention. 本発明の電子写真感光体の別の層構成を表わした図である。It is a figure showing another layer structure of the electrophotographic photosensitive member of this invention. 本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。1 is a schematic diagram illustrating an example of an image forming apparatus of the present invention. 本発明のプロセスカートリッジの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the process cartridge of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 感光体
2 除電ランプ
3 帯電チャージャ
4 イレーサ
5 画像露光部
6 現像ユニット
7 転写前チャージャ
8 レジストローラ
9 転写体
10 転写チャージャ
11 分離チャージャ
12 分離爪
13 クリーニング前チャージャ
14 ファーブラシ
15 クリーニングブレード
101 感光体
102 帯電手段
103 露光手段
104 現像手段
105 転写体
106 転写手段
107 クリーニング手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photoconductor 2 Static elimination lamp 3 Charger 4 Eraser 5 Image exposure part 6 Developing unit 7 Pre-transfer charger 8 Registration roller 9 Transfer body 10 Transfer charger 11 Separation charger 12 Separation claw 13 Pre-cleaning charger 14 Fur brush 15 Cleaning blade 101 Photoconductor 102 Charging means 103 Exposure means 104 Development means 105 Transfer body 106 Transfer means 107 Cleaning means

Claims (8)

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光体が表面に少なくとも下記一般式(A)で表わされる化合物を硬化させてなる電荷輸送性架橋表面層を有することを特徴とする電子写真感光体。
Figure 2008304702

(式中、R〜Rは、それぞれ水素原子又はメチル基を表わし、R〜R17はそれぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表わす。)
An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support, wherein the photosensitive member has a charge transport cross-linked surface layer formed by curing at least a compound represented by the following general formula (A) on the surface. An electrophotographic photoreceptor.
Figure 2008304702

(In the formula, R 1 to R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 to R 17 each represent a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
前記架橋表面層が、少なくとも前記一般式(A)で表わされる化合物と、更にラジカル重合性官能基を有するモノマーとを含有する塗工層を硬化させて形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。 The crosslinked surface layer is formed by curing a coating layer containing at least a compound represented by the general formula (A) and a monomer having a radical polymerizable functional group. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1. 前記架橋表面層が、硬化されていない感光層の上に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子写真感光体。 3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the crosslinked surface layer is formed on an uncured photosensitive layer. 前記架橋表面層が、光のエネルギーを用いた手段で硬化されたものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the crosslinked surface layer is cured by means using light energy. 前記硬化されていない感光層が、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した構成をとることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子写真感光体。 5. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the uncured photosensitive layer has a structure in which at least a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated on a conductive support. . 電子写真感光体を用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が請求項1乃至5のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法。 An image forming method using an electrophotographic photosensitive member, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 5. 少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体が請求項1乃至5のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。 6. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein at least a charging unit, an exposing unit, a developing unit, a transferring unit, and an electrophotographic photosensitive member are provided. An image forming apparatus, comprising: 請求項1乃至5のいずれかに記載の電子写真感光体と、更に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段から選択される少なくとも1つの手段とが一体となり、画像形成装置と着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。 6. An image is formed by integrating the electrophotographic photosensitive member according to claim 1 and at least one means selected from a charging means, an exposure means, a developing means, a transfer means, a cleaning means, and a static elimination means. A process cartridge which is detachable from the apparatus.
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