JP2008300979A - Lvds receiver - Google Patents

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Tatsuo Okamoto
龍鎮 岡本
Minoru Takano
実 高野
Kinya Oo
欣也 大尾
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To minimize deterioration in signal quality caused by impedance in a transmission path without using an external resistor. <P>SOLUTION: A differential receiver unit 140 is provided, which has two differential input terminals and outputs a logic signal corresponding to an analog differential voltage signal given between the two differential input terminals. A switch unit 150 is provided, which is formed of a transistor between the two differential input terminals and includes a plurality of switches controllable to be on/off from the outside of the LVDS receiver. The two differential input terminals of the differential receiver unit 140 are given with analog differential voltage signals obtained by applying current-voltage conversion to the analog differential current signals by an ON-resistance of each of the switches of the switch unit 150. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、チップ間の高速信号伝送を実現するLVDS(low Voltage Differential Signal)、あるいはLVDSよりも信号振幅の小さい信号を扱うSub−LVDSなどのアナログ差動電流信号を受信するLVDSレシーバに関するものである。   The present invention relates to an LVDS receiver that receives an analog differential current signal such as LVDS (low voltage differential signal) that realizes high-speed signal transmission between chips, or Sub-LVDS that handles a signal having a smaller signal amplitude than LVDS. is there.

LVDS、あるいはSub−LVDSインターフェース規格では、チップ間信号伝送を差動電流出力で行う。例えば、Sub−LVDS用のLVDSレシーバは、差動電圧入力信号として高速信号(例:500Mbps)を受信する。   In the LVDS or Sub-LVDS interface standard, signal transmission between chips is performed with a differential current output. For example, an LVDS receiver for Sub-LVDS receives a high-speed signal (eg, 500 Mbps) as a differential voltage input signal.

Sub−LVDSインターフェース規格については、詳しくは、非特許文献1などに記載されている。例えば、Sub−LVDSインターフェース規格では、信号振幅が150mV、出力電流値は1.5mAと規定されている。また、送信ブロックが出力した電流に対して電流−電圧変換を行う抵抗の抵抗値は100Ωと規定されている。この抵抗は、抵抗値のばらつきを抑えるため通常はチップ外に設けられた外付け抵抗である。   The Sub-LVDS interface standard is described in detail in Non-Patent Document 1 and the like. For example, the Sub-LVDS interface standard specifies a signal amplitude of 150 mV and an output current value of 1.5 mA. The resistance value of the resistor that performs current-voltage conversion on the current output from the transmission block is defined as 100Ω. This resistor is usually an external resistor provided outside the chip in order to suppress variations in resistance value.

LVDSレシーバなどを含んだLVDS伝送システムを検査するためには、送信ブロック、LVDSレシーバ、さらには伝送路のインピーダンスをプローブ検査ボード上に設ける。   In order to inspect an LVDS transmission system including an LVDS receiver or the like, impedances of a transmission block, an LVDS receiver, and a transmission path are provided on a probe inspection board.

図24は、LVDS伝送システムのプローブ検査ボードの構成の一例を示すブロック図である。プローブ検査ボード上には、図24に示すように、送信ブロック701、伝送路702、レシーバブロック704、及び外付け抵抗705が設けられている。   FIG. 24 is a block diagram illustrating an example of the configuration of the probe inspection board of the LVDS transmission system. As shown in FIG. 24, a transmission block 701, a transmission path 702, a receiver block 704, and an external resistor 705 are provided on the probe inspection board.

送信ブロック701(図24中ではTxと略記)は、伝送路702を介して差動電流信号を出力する。伝送路702は、プローブ検査ボード上の伝送路である。図24におけるインピーダンス703は、伝送路のインピーダンスを示しており、自己及び相互インダクタンス、容量、抵抗からなる。レシーバブロック704(図24中ではRxと略記)は、伝送路702を介して、送信ブロック701が出力した差動信号を受信する。外付け抵抗705は、送信ブロック701の出力に対して電流−電圧変換を行う抵抗(例:100Ω)である。   The transmission block 701 (abbreviated as Tx in FIG. 24) outputs a differential current signal via the transmission path 702. The transmission path 702 is a transmission path on the probe inspection board. An impedance 703 in FIG. 24 indicates the impedance of the transmission line, and includes self, mutual inductance, capacitance, and resistance. The receiver block 704 (abbreviated as Rx in FIG. 24) receives the differential signal output from the transmission block 701 via the transmission path 702. The external resistor 705 is a resistor (for example, 100Ω) that performs current-voltage conversion on the output of the transmission block 701.

なお、本インターフェース規格を用いたチップでは高速信号の送受信を行うので、パッケージを用いないベアーチップ実装が主流となってきている。
「Alliance standard for D−PHY」、MIPI(Mobile Industry Processor Interface)発行、Draft Ver0.79 2006年6月30日
Since chips using this interface standard transmit and receive high-speed signals, bare chip mounting without using a package has become mainstream.
"Alliance standard for D-PHY", published by MIPI (Mobile Industry Processor Interface), Draft Ver0.79 June 30, 2006

しかしながら、上記のプローブ検査ボードは、通信テストを行う場合に、外付け抵抗をレシーバ近傍に配置することが物理的に不可能である。そのため、プローブ検査ボード上の伝送路のインピーダンスが差動信号品質を劣化させて、実使用のスピード(例:500Mbps)での通信テストが困難であった。   However, it is physically impossible for the probe inspection board to place an external resistor near the receiver when performing a communication test. For this reason, the impedance of the transmission line on the probe inspection board deteriorates the differential signal quality, making it difficult to perform a communication test at an actual use speed (eg, 500 Mbps).

これに対しては、レシーバブロックのチップ内部にポリシリコン(PS)抵抗で100Ω程度の抵抗を作成することも考えられるが、抵抗値のばらつきは通常は15%以上あり、実使用時、及びテスト時での使用に問題があった。   For this, it may be possible to create a resistor of about 100Ω with polysilicon (PS) resistance inside the chip of the receiver block, but the variation in resistance value is usually 15% or more. There was a problem in use at the time.

本発明は上記の問題に着目してなされたものであり、LVDSレシーバにおいて、外部抵抗を用いずに、伝送路のインピーダンスによる信号品質の劣化を最小限に抑えるようにすることを目的としている。   The present invention has been made paying attention to the above problem, and an object of the present invention is to minimize signal quality degradation due to impedance of a transmission line without using an external resistor in an LVDS receiver.

上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、
アナログ差動電流信号を受信するLVDSレシーバであって、
2つの差動入力端子を有し、前記2つの差動入力端子間に与えられたアナログ差動電圧信号に応じたロジック信号を出力する差動レシーバ部と、
前記2つの差動入力端子間にトランジスタで形成され、かつ前記LVDSレシーバの外部からオンオフ制御可能な複数個のスイッチを含んだスイッチ部と、
を備え、
前記差動レシーバ部は、前記アナログ差動電流信号が前記複数個のスイッチのオン抵抗により電流−電圧変換されて、前記アナログ差動電圧信号として前記2つの差動入力端子に与えられることを特徴とする。
In order to solve the above problems, one embodiment of the present invention provides:
An LVDS receiver for receiving an analog differential current signal,
A differential receiver having two differential input terminals and outputting a logic signal according to an analog differential voltage signal applied between the two differential input terminals;
A switch unit including a plurality of switches formed by transistors between the two differential input terminals and capable of being turned on / off from the outside of the LVDS receiver;
With
In the differential receiver unit, the analog differential current signal is subjected to current-voltage conversion by ON resistances of the plurality of switches, and is supplied to the two differential input terminals as the analog differential voltage signal. And

本発明によれば、外部抵抗を用いずに、伝送路のインピーダンスによる信号品質の劣化を最小限に抑えることが可能になる。   According to the present invention, it is possible to minimize degradation of signal quality due to the impedance of the transmission line without using an external resistor.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の各実施形態の説明において、一度説明した構成要素と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of each embodiment, components having the same functions as those described once are given the same reference numerals and description thereof is omitted.

《発明の実施形態1》
図1は、本発明の実施形態1に係る通信テストブロック100を示す図である。通信テストブロック100は、Sub−LVDSの通信テストを行なうプローブ検査ボード上に実現される。通信テストブロック100は、同図に示すように、送信ブロック110(図中ではTxと略記)、伝送路120、及びLVDSレシーバ130(図中ではRxと略記)を含んでいる。
Embodiment 1 of the Invention
FIG. 1 is a diagram showing a communication test block 100 according to Embodiment 1 of the present invention. The communication test block 100 is realized on a probe inspection board that performs a sub-LVDS communication test. As shown in the figure, the communication test block 100 includes a transmission block 110 (abbreviated as Tx in the figure), a transmission path 120, and an LVDS receiver 130 (abbreviated as Rx in the figure).

送信ブロック110は、伝送路120を介してアナログ差動電流信号を出力する。   The transmission block 110 outputs an analog differential current signal via the transmission line 120.

伝送路120は、プローブ検査ボード上の伝送路である。図1におけるインピーダンス121は、伝送路120のインピーダンスを示しており、自己及び相互インダクタンス、容量、抵抗からなる。   The transmission path 120 is a transmission path on the probe inspection board. The impedance 121 in FIG. 1 indicates the impedance of the transmission line 120, and includes self, mutual inductance, capacitance, and resistance.

LVDSレシーバ130は、伝送路120を介して、送信ブロック110が出力したアナログ差動電流信号を、アナログ差動電圧信号として受信する。具体的には、LVDSレシーバ130は、差動レシーバ部140とスイッチ部150とを含んでいる。   The LVDS receiver 130 receives the analog differential current signal output from the transmission block 110 via the transmission line 120 as an analog differential voltage signal. Specifically, the LVDS receiver 130 includes a differential receiver unit 140 and a switch unit 150.

差動レシーバ部140は、+側差動入力端子141(DP+)と−側差動入力端子142(DM−)とを有しており、これらの端子から入力されるアナログ差動電圧信号に応じて、“H”あるいは“L“のロジック信号(出力信号S01)を後段のロジックに出力する。   The differential receiver section 140 has a + side differential input terminal 141 (DP +) and a − side differential input terminal 142 (DM−), and corresponds to an analog differential voltage signal input from these terminals. Thus, the logic signal (output signal S01) of “H” or “L” is output to the subsequent logic.

スイッチ部150は、差動レシーバ部140の差動入力端子間をショートさせる複数個のスイッチを含んでいる。それらのスイッチのオン抵抗を利用して、送信ブロック110が出力したアナログ差動電圧信号を、差動レシーバ部140へ入力するアナログ差動電圧信号に変換する。   The switch unit 150 includes a plurality of switches that short-circuit the differential input terminals of the differential receiver unit 140. The analog differential voltage signal output from the transmission block 110 is converted into an analog differential voltage signal input to the differential receiver unit 140 using the on-resistances of these switches.

図2は、スイッチ部150を具現化した回路図である。この例のスイッチ部150は、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタとを1つずつ組み合わせた相補型スイッチを複数個備えており、各相補型スイッチ同士が並列接続されている。各スイッチを構成するMOSトランジスタのゲートは、LVDSレシーバ130の外部から電位の制御、すなわち、オンオフの制御ができるようになっている。   FIG. 2 is a circuit diagram that embodies the switch unit 150. The switch unit 150 of this example includes a plurality of complementary switches in which a PMOS transistor and an NMOS transistor are combined one by one, and the complementary switches are connected in parallel. The gates of the MOS transistors constituting each switch can be controlled from the outside of the LVDS receiver 130, that is, can be turned on / off.

図2には、PMOSトランジスタ151〜153、NMOSトランジスタ154〜156によって構成された3つの相補型スイッチを図示してある。例えばテスト時に、いくつかのトランジスタが選択されて、オンにされることにより差動入力端子間の抵抗を形成する。なお、スイッチ部150内のスイッチの数は、各スイッチのオン抵抗と必要な合成抵抗値に応じて定めればよい(以下の各実施形態においても同じ)。   FIG. 2 shows three complementary switches composed of PMOS transistors 151 to 153 and NMOS transistors 154 to 156. For example, during testing, several transistors are selected and turned on to form a resistor between the differential input terminals. Note that the number of switches in the switch unit 150 may be determined according to the ON resistance of each switch and the required combined resistance value (the same applies to the following embodiments).

また、本実施形態では、それぞれPMOSトランジスタ及び各NMOSトランジスタのサイズ(W/L比)の比率を2倍、4倍、8倍、と2のべき乗に設定している。これにより、それぞれのスイッチの抵抗値に重み付けを与え、各トランジスタのゲートに与える制御信号の十進数表記に対するオン抵抗値を単調減少関数とすることができる。図3は、制御信号の十進数表記と並列抵抗の合成値の関係の一例である。図3において、横軸は6ビット[5:0]の制御信号を十進表記した数値であり、縦軸は差動入力端子間のスイッチのオン抵抗の合成抵抗値を示している。また、図3のグラフにおける3本の線は、NMOSトランジスタ、及びPMOSトランジスタの特性が、共にTypの場合、共にFast−Fastの場合、共にSlow−Slowの場合をそれぞれ示している。   In the present embodiment, the ratio of the size (W / L ratio) of the PMOS transistor and the NMOS transistor is set to 2 times, 4 times, 8 times, and a power of 2, respectively. Thereby, the resistance value of each switch is weighted, and the ON resistance value with respect to the decimal notation of the control signal given to the gate of each transistor can be a monotonously decreasing function. FIG. 3 is an example of the relationship between the decimal notation of the control signal and the composite value of the parallel resistance. In FIG. 3, the horizontal axis is a numerical value representing a 6-bit [5: 0] control signal in decimal notation, and the vertical axis indicates a combined resistance value of the ON resistance of the switch between the differential input terminals. Also, the three lines in the graph of FIG. 3 indicate the case where the characteristics of the NMOS transistor and the PMOS transistor are both Typ, both Fast-Fast, and both Slow-Slow.

Sub−LVDSで使用する抵抗値は80−120Ω程度である。例えば、通常のCMOSプロセスで使用しているポリシリコン(PS)抵抗を、PMOSトランジスタ151やNMOSトランジスタ154に直列に接続すると、NMOSトランジスタ、PMOSトランジスタのサイズが大きくなりすぎて、差動入力端子間の寄生容量により受信信号が著しく劣化する。これに対し、本実施形態では、電圧電流変換抵抗としてトランジスタのオン抵抗のみを利用しているので、プロセスの変動があっても、テストに最適な抵抗値を外部から設定することが可能になる。したがって、本実施形態によれば、外部抵抗を用いずに、伝送路のインピーダンスによる信号品質の劣化を最小限に抑えることが可能になる。   The resistance value used in Sub-LVDS is about 80-120Ω. For example, if a polysilicon (PS) resistor used in a normal CMOS process is connected in series to the PMOS transistor 151 or the NMOS transistor 154, the size of the NMOS transistor or PMOS transistor becomes too large, so that the differential input terminals are not connected. The received signal deteriorates significantly due to the parasitic capacitance. On the other hand, in this embodiment, only the on-resistance of the transistor is used as the voltage-current conversion resistor, so that the optimum resistance value for the test can be set from the outside even if the process varies. . Therefore, according to the present embodiment, it is possible to minimize the degradation of signal quality due to the impedance of the transmission line without using an external resistor.

また、複数のスイッチの中からオンさせるスイッチを選択させることにより、LVDSレシーバの外部からスイッチ部150による抵抗値を制御することができる。これにより、差動レシーバ部に入力されるアナログ差動電圧信号の振幅を自由に変更できるため、テストでの有用性は高い。すなわち、上記の構成により不良チップの選別を容易に行うことが可能となる。   Further, by selecting a switch to be turned on from a plurality of switches, the resistance value by the switch unit 150 can be controlled from the outside of the LVDS receiver. As a result, the amplitude of the analog differential voltage signal input to the differential receiver section can be freely changed, so that the usefulness in the test is high. That is, the defective chip can be easily selected by the above configuration.

なお、図2の例では、入力コモン電圧が変動した時のオン抵抗値の変動を抑えるために、PMOSトランジスタ、NMOSトランジスタの両方のトランジスタを使用しているが、入力コモン電圧が高い場合には、図4のように、PMOSトランジスタのみでスイッチ部を形成してもよい。また、逆に入力コモン電圧が低い場合には、図5のように、NMOSトランジスタのみでスイッチ部を形成してもよい。   In the example of FIG. 2, both the PMOS transistor and the NMOS transistor are used to suppress the fluctuation of the on-resistance value when the input common voltage fluctuates. However, when the input common voltage is high, As shown in FIG. 4, the switch unit may be formed of only PMOS transistors. On the other hand, when the input common voltage is low, as shown in FIG.

《発明の実施形態2》
実施形態2では、実施形態1よりも信号波形の劣化を抑えることができるスイッチ部の例を説明する。図6は、実施形態2に係るスイッチ部150の構成を示す図である。
<< Embodiment 2 of the Invention >>
In the second embodiment, an example of a switch unit that can suppress the deterioration of the signal waveform as compared with the first embodiment will be described. FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of the switch unit 150 according to the second embodiment.

本実施形態のスイッチ部150は、図6に示すように、各トランジスタの基盤が、それぞれのトランジスタのソースに接続されている。   As shown in FIG. 6, in the switch unit 150 of this embodiment, the base of each transistor is connected to the source of each transistor.

これにより、Vt(MOSトランジスタの閾値電圧)の基盤バイアス効果による増加を抑えることが可能になる。それゆえ、トランジスタのオン抵抗を実施形態1のスイッチ部150と比較して小さくすることができ、PMOS、NMOSの両方のトランジスタのサイズを小さくすることが可能になる。その結果、差動入力端子間の寄生容量を低減でき、実施形態1の回路に比べ信号波形の劣化を抑えることが可能になる。   As a result, an increase in Vt (threshold voltage of the MOS transistor) due to the base bias effect can be suppressed. Therefore, the on-resistance of the transistor can be reduced as compared with the switch unit 150 of the first embodiment, and the size of both the PMOS and NMOS transistors can be reduced. As a result, parasitic capacitance between the differential input terminals can be reduced, and signal waveform deterioration can be suppressed as compared with the circuit of the first embodiment.

なお、図6の例では、入力コモン電圧が変動した時のオン抵抗値の変動を抑えるために、PMOS、NMOSの両方のトランジスタを使用しているが、入力コモン電圧が高い場合には、図7のように、PMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。また、逆に入力コモン電圧が低い場合には、図8のように、NMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。   In the example of FIG. 6, both PMOS and NMOS transistors are used to suppress fluctuations in the on-resistance value when the input common voltage fluctuates. However, when the input common voltage is high, As shown in FIG. 7, the switch may be formed only by the PMOS transistor. On the other hand, when the input common voltage is low, a switch may be formed only with an NMOS transistor as shown in FIG.

《発明の実施形態3》
実施形態3では、スイッチ部を形成するNMOS、PMOSトランジスタを、ロジックに使用する例えば1.2V耐圧の低電圧トランジスタで形成した例を説明する。図9は、実施形態3に係るスイッチ部150の構成を示す図である。
<< Embodiment 3 of the Invention >>
In the third embodiment, an example will be described in which the NMOS and PMOS transistors forming the switch section are formed of low voltage transistors having a withstand voltage of, for example, 1.2 V used for logic. FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration of the switch unit 150 according to the third embodiment.

図9において、低電圧PMOSトランジスタ321〜323、低電圧NMOSトランジスタ324〜326は、1.2V耐圧の低電圧トランジスタである。   In FIG. 9, low-voltage PMOS transistors 321 to 323 and low-voltage NMOS transistors 324 to 326 are 1.2V breakdown voltage low-voltage transistors.

また、クランプ回路310は、+側差動入力端子141、−側差動入力端子142の電圧を、スイッチ部を構成する低電圧トランジスタの耐圧よりも低くするようになっている。図10、図11、及び図12は、クランプ回路310の具体的な回路図の一例である。図10、図11、図12に示すように、それぞれのクランプ回路は、基準電源311を有している。基準電源311は、それぞれのクランプ回路におけるクランプ電圧を決定する電源である。   In addition, the clamp circuit 310 is configured to make the voltages of the + side differential input terminal 141 and the − side differential input terminal 142 lower than the withstand voltage of the low voltage transistor constituting the switch unit. 10, FIG. 11, and FIG. 12 are examples of specific circuit diagrams of the clamp circuit 310. FIG. As shown in FIGS. 10, 11, and 12, each clamp circuit has a reference power supply 311. The reference power supply 311 is a power supply that determines a clamp voltage in each clamp circuit.

例えば、図10に例示のクランプ回路310は、第1のダイオード312、第2のダイオード313を有しており、この構成により、+側差動入力端子141、−側差動入力端子142を(基準電源311の電圧+ダイオードの順方向電圧(Vd))でクランプすることができる。   For example, the clamp circuit 310 illustrated in FIG. 10 includes a first diode 312 and a second diode 313. With this configuration, the + side differential input terminal 141 and the − side differential input terminal 142 are ( It can be clamped by the voltage of the reference power supply 311 + the forward voltage (Vd) of the diode.

また、図11に例示のクランプ回路310は、PMOSトランジスタ314〜315を有しており、この構成により、+側差動入力端子141、−側差動入力端子142を(基準電源311の電圧+PMOSトランジスタのゲートソース間電圧(Vgs))でクランプすることができる。   The clamp circuit 310 illustrated in FIG. 11 includes PMOS transistors 314 to 315. With this configuration, the + side differential input terminal 141 and the − side differential input terminal 142 are set to (voltage of the reference power supply 311 + PMOS). The transistor can be clamped by the gate-source voltage (Vgs) of the transistor.

また、図12に例示のクランプ回路310は、比較器316〜317、及びスイッチ318〜319を有している。   Further, the clamp circuit 310 illustrated in FIG. 12 includes comparators 316 to 317 and switches 318 to 319.

比較器316は、+側差動入力端子141と基準電源311の電圧を比較する。比較器317は、−側差動入力端子142と基準電源311の電圧を比較する。   The comparator 316 compares the voltages of the + side differential input terminal 141 and the reference power supply 311. The comparator 317 compares the voltage of the negative differential input terminal 142 and the reference power supply 311.

スイッチ318は、+側差動入力端子141を接地させるためのスイッチである。スイッチ318は、+側差動入力端子141の電圧が基準電源311の電圧よりも高い場合にオンにされて、+側差動入力端子141の電圧を降下させる。スイッチ319は、−側差動入力端子142を接地させるためのスイッチである。−側差動入力端子142の電圧が基準電源311の電圧よりも高い場合にオンにされて、−側差動入力端子142の電圧を降下させる。上記の作用により、+側差動入力端子141、−側差動入力端子142の電圧を常に低電圧トランジスタの耐圧以下に抑えることができる。   The switch 318 is a switch for grounding the + side differential input terminal 141. The switch 318 is turned on when the voltage of the + side differential input terminal 141 is higher than the voltage of the reference power supply 311, and drops the voltage of the + side differential input terminal 141. The switch 319 is a switch for grounding the negative differential input terminal 142. When the voltage of the negative differential input terminal 142 is higher than the voltage of the reference power supply 311, it is turned on to lower the voltage of the negative differential input terminal 142. With the above-described action, the voltages at the + side differential input terminal 141 and the − side differential input terminal 142 can always be kept below the breakdown voltage of the low voltage transistor.

上記のスイッチ部150によれば、低電圧トランジスタを使用する場合は通常のトランジスタに比べ、トランジスタのゲート長(L)を約1/10に設計することができ、小さなサイズのトランジスタで小さなオン抵抗を実現できる。したがって、本実施形態では、この作用により、差動入力端子間の容量を低減でき、信号劣化を抑えることができる。   According to the switch unit 150, when using a low-voltage transistor, the gate length (L) of the transistor can be designed to be about 1/10 as compared with a normal transistor, and the on-resistance is small with a small size transistor. Can be realized. Therefore, in this embodiment, the capacity between the differential input terminals can be reduced by this action, and signal degradation can be suppressed.

通常、送信側のドライバーは、3V系の通常のトランジスタを使用し、出力電流は送信ブロックの3V系の電源より供給される。そのため、本実施形態の副作用として、スタートアップ時等に、差動入力端子の電圧が低電圧トランジスタの耐圧を超え、低電圧トランジスタデバイスの破壊を引き起こすことが考えられる。しかし、本実施形態では、クランプ回路310が挿入されているので、+側差動入力端子141、−側差動入力端子142の電圧が、スイッチを形成している低電圧トランジスタの耐圧を超えないようできる。   Normally, the driver on the transmission side uses a 3V normal transistor, and the output current is supplied from the 3V power supply of the transmission block. Therefore, as a side effect of this embodiment, it is considered that the voltage at the differential input terminal exceeds the withstand voltage of the low voltage transistor at the time of start-up or the like, causing the breakdown of the low voltage transistor device. However, in this embodiment, since the clamp circuit 310 is inserted, the voltages of the + side differential input terminal 141 and the − side differential input terminal 142 do not exceed the withstand voltage of the low voltage transistor forming the switch. I can do it.

なお、図9の例では、入力コモン電圧が変動した時のオン抵抗値の変動を抑えるために、低電圧PMOSトランジスタ、低電圧NMOSの両方のトランジスタを使用しているが、入力コモン電圧が高い場合には、図13のように、低電圧PMOSトランジスタのみでスイッチ部を形成してもよい。また、逆に入力コモン電圧が低い場合には、図14のように低電圧NMOSトランジスタのみでスイッチ部を形成してもよい。   In the example of FIG. 9, both low-voltage PMOS transistors and low-voltage NMOS transistors are used to suppress fluctuations in the on-resistance value when the input common voltage fluctuates, but the input common voltage is high. In this case, as shown in FIG. 13, the switch unit may be formed by only a low voltage PMOS transistor. On the contrary, when the input common voltage is low, the switch unit may be formed by only the low voltage NMOS transistor as shown in FIG.

《発明の実施形態4》
実施形態4では、スイッチ部を形成するNMOS、PMOSトランジスタのVt(MOSトランジスタの閾値電圧)を抑えた例を説明する。図15は、実施形態4に係るスイッチ部150の構成を示す図である。
<< Embodiment 4 of the Invention >>
In the fourth embodiment, an example in which Vt (threshold voltage of the MOS transistor) of the NMOS and PMOS transistors forming the switch unit is suppressed will be described. FIG. 15 is a diagram illustrating a configuration of the switch unit 150 according to the fourth embodiment.

本実施形態のスイッチ部150は、図15に示すように、スイッチを形成しているNMOSトランジスタ、PMOSトランジスタの基盤を、それぞれのトランジスタのソースに接続している。これにより、Vtの基盤バイアス効果による増加を抑えている。   As shown in FIG. 15, the switch unit 150 of the present embodiment connects the bases of the NMOS transistor and PMOS transistor forming the switch to the sources of the respective transistors. Thereby, the increase due to the base bias effect of Vt is suppressed.

上記のように、本実施形態ではVtを低く抑えることが可能になるため、トランジスタのオン抵抗を、実施形態3(図9を参照)と比較して小さくすることができる。それゆえ、低電圧PMOSトランジスタ、低電圧NMOSトランジスタの両方のトランジスタのサイズを小さくすることが可能になる。この結果、差動入力端子間の寄生容量を低減でき、実施形態3の回路に比べ、信号波形の劣化を抑えることができる。   As described above, Vt can be kept low in this embodiment, so that the on-resistance of the transistor can be reduced as compared with Embodiment 3 (see FIG. 9). Therefore, the size of both the low voltage PMOS transistor and the low voltage NMOS transistor can be reduced. As a result, parasitic capacitance between the differential input terminals can be reduced, and signal waveform deterioration can be suppressed as compared with the circuit of the third embodiment.

なお、図15の例では、入力コモン電圧が変動した時のオン抵抗値の変動を抑えるために、低電圧PMOSトランジスタ、低電圧NMOSトランジスタの両方のトランジスタを使用しているが、入力コモン電圧が高い場合には、図16のように、低電圧PMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。また、逆に入力コモン電圧が低い場合には、図17のように、低電圧NMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。   In the example of FIG. 15, both low-voltage PMOS transistor and low-voltage NMOS transistor are used in order to suppress fluctuations in the on-resistance value when the input common voltage fluctuates. If it is high, the switch may be formed by only a low-voltage PMOS transistor as shown in FIG. On the other hand, when the input common voltage is low, the switch may be formed by only the low voltage NMOS transistor as shown in FIG.

《発明の実施形態5》
実施形態5では、差動入力端子の電圧が低電圧トランジスタのD−S間(ドレイン−ソース間)の耐圧を超えた場合に生じるデバイス破壊防止が可能な例を説明する。図18は、実施形態5に係るスイッチ部150の構成を示す図である。
<< Embodiment 5 of the Invention >>
In the fifth embodiment, an example will be described in which device destruction that can occur when the voltage at the differential input terminal exceeds the withstand voltage between the D-S (between the drain and source) of the low-voltage transistor can be described. FIG. 18 is a diagram illustrating a configuration of the switch unit 150 according to the fifth embodiment.

本実施形態のスイッチ部150は、低電圧PMOSトランジスタ321〜323、低電圧PMOSトランジスタ511〜513、低電圧NMOSトランジスタ324〜326、低電圧NMOSトランジスタ514〜516を備えている。低電圧PMOSトランジスタ321と低電圧PMOSトランジスタ511、低電圧NMOSトランジスタ324と低電圧NMOSトランジスタ514、低電圧PMOSトランジスタ322と低電圧PMOSトランジスタ512、低電圧NMOSトランジスタ325と低電圧NMOSトランジスタ515、・・・、低電圧PMOSトランジスタ323と低電圧PMOSトランジスタ513、低電圧NMOSトランジスタ326と低電圧NMOSトランジスタ516は、それぞれ直列に接続されている。   The switch unit 150 of this embodiment includes low voltage PMOS transistors 321 to 323, low voltage PMOS transistors 511 to 513, low voltage NMOS transistors 324 to 326, and low voltage NMOS transistors 514 to 516. Low voltage PMOS transistor 321 and low voltage PMOS transistor 511, low voltage NMOS transistor 324 and low voltage NMOS transistor 514, low voltage PMOS transistor 322 and low voltage PMOS transistor 512, low voltage NMOS transistor 325 and low voltage NMOS transistor 515,. The low voltage PMOS transistor 323 and the low voltage PMOS transistor 513, and the low voltage NMOS transistor 326 and the low voltage NMOS transistor 516 are connected in series.

本実施形態では、図9の例と比べ、ドレイン−ソース間に印加される電圧を半分に低減することができる。また、直列接続によりトータルの合成オン抵抗値は、図9の例に比べて2倍になるが、ドレイン−ソース間の容量も直列接続により半分になる。そのため、信号劣化に関しては図9の例と同等である。   In the present embodiment, the voltage applied between the drain and the source can be reduced to half compared to the example of FIG. Further, the total combined on-resistance value is doubled by the series connection as compared with the example of FIG. 9, but the drain-source capacitance is also halved by the series connection. Therefore, signal degradation is equivalent to the example of FIG.

以上のように、本実施形態のスイッチ部150は、スイッチを形成している低電圧NMOSトランジスタ、低電圧PMOSトランジスタを直列に接続した。それゆえ、差動入力端子の電圧が低電圧トランジスタのドレイン−ソース間耐圧を超えた場合に生じるデバイス破壊を防止することが可能になる。   As described above, in the switch unit 150 of this embodiment, the low voltage NMOS transistor and the low voltage PMOS transistor forming the switch are connected in series. Therefore, it is possible to prevent device destruction that occurs when the voltage at the differential input terminal exceeds the drain-source breakdown voltage of the low-voltage transistor.

なお、本実施形態では、2段の直列接続を例として示しているが、3段以上の直列接続についても同様の効果が得られるのは自明である。   In the present embodiment, two-stage series connection is shown as an example, but it is obvious that the same effect can be obtained with three or more series connections.

また、図18の例では、入力コモン電圧が変動した時のオン抵抗値の変動を抑えるために、低電圧PMOSトランジスタ、低電圧NMOSトランジスタの両方のトランジスタを使用しているが、入力コモン電圧が高い場合には、図19のように、低電圧PMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。また、逆に入力コモン電圧が低い場合には、図20のように、低電圧NMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。   In the example of FIG. 18, both low-voltage PMOS transistor and low-voltage NMOS transistor are used to suppress fluctuations in on-resistance when the input common voltage fluctuates. If it is high, the switch may be formed by only a low-voltage PMOS transistor as shown in FIG. On the other hand, when the input common voltage is low, the switch may be formed by only the low voltage NMOS transistor as shown in FIG.

《発明の実施形態6》
実施形態6では、スイッチ部を形成するNMOS、PMOSトランジスタのVt(MOSトランジスタの閾値電圧)を抑えた例を説明する。図21は、実施形態6に係るスイッチ部150の構成を示す図である。
Embodiment 6 of the Invention
In the sixth embodiment, an example in which Vt (the threshold voltage of the MOS transistor) of the NMOS and PMOS transistors forming the switch unit is suppressed will be described. FIG. 21 is a diagram illustrating a configuration of the switch unit 150 according to the sixth embodiment.

本実施形態のスイッチ部150は、図21に示すように、スイッチを形成しているNMOSトランジスタ、PMOSトランジスタの基盤を、それぞれのトランジスタのソースに接続している。これにより、Vtの基盤バイアス効果による増加を抑えている。   As shown in FIG. 21, the switch unit 150 of the present embodiment connects the bases of NMOS transistors and PMOS transistors forming switches to the sources of the respective transistors. Thereby, the increase due to the base bias effect of Vt is suppressed.

上記のように、本実施形態ではVtを低く抑えることが可能になるため、トランジスタのオン抵抗を、図18の例と比較して小さくすることができる。それゆえ、低電圧PMOSトランジスタ、低電圧NMOSトランジスタの両方のトランジスタのサイズを小さくすることが可能になる。この結果、差動入力端子間の寄生容量を低減でき、図18の回路に比べて、信号波形の劣化を抑えることができる。   As described above, in this embodiment, Vt can be kept low, so that the on-resistance of the transistor can be reduced as compared with the example of FIG. Therefore, the size of both the low voltage PMOS transistor and the low voltage NMOS transistor can be reduced. As a result, the parasitic capacitance between the differential input terminals can be reduced, and the deterioration of the signal waveform can be suppressed as compared with the circuit of FIG.

なお、図21の例では、入力コモン電圧が変動した時のオン抵抗値の変動を抑えるために、低電圧PMOSトランジスタ、低電圧NMOSトランジスタの両方のトランジスタを使用しているが、入力コモン電圧が高い場合には、図22のように、低電圧PMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。また、逆に入力コモン電圧が低い場合には、図23のように、低電圧NMOSトランジスタのみでスイッチを形成してもよい。   In the example of FIG. 21, both the low-voltage PMOS transistor and the low-voltage NMOS transistor are used in order to suppress the fluctuation of the on-resistance value when the input common voltage fluctuates. If it is high, the switch may be formed by only a low-voltage PMOS transistor as shown in FIG. On the contrary, when the input common voltage is low, the switch may be formed by only the low voltage NMOS transistor as shown in FIG.

本発明に係るLVDSレシーバは、外部抵抗を用いずに、伝送路のインピーダンスによる信号品質の劣化を最小限に抑えることが可能になるという効果を有し、チップ間の高速信号伝送を実現するLVDS、あるいはLVDSよりも信号振幅の小さい信号を扱うSub−LVDSなどのアナログ差動電流信号を受信するLVDSレシーバ等として有用である。   The LVDS receiver according to the present invention has an effect that signal quality deterioration due to the impedance of the transmission path can be minimized without using an external resistor, and realizes high-speed signal transmission between chips. Alternatively, it is useful as an LVDS receiver that receives an analog differential current signal such as a Sub-LVDS that handles a signal having a signal amplitude smaller than that of the LVDS.

実施形態1に係る通信テストブロック100を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a communication test block 100 according to Embodiment 1. FIG. スイッチ部150を具現化した回路図である。3 is a circuit diagram that embodies a switch unit 150. FIG. 制御信号の十進数表記と並列抵抗の合成値の関係の一例である。It is an example of the relationship between the decimal notation of a control signal and the composite value of parallel resistance. 実施形態1において、入力コモン電圧が高い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 1, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is high. 実施形態1において、入力コモン電圧が低い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 1, it is an example of a structure of a switch part in case an input common voltage is low. 実施形態2に係るスイッチ部150の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the switch part 150 which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2において、入力コモン電圧が高い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 2, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is high. 実施形態2において、入力コモン電圧が低い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 2, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is low. 実施形態3に係るスイッチ部150の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the switch part 150 which concerns on Embodiment 3. FIG. クランプ回路310の具体的な回路図の一例である。3 is an example of a specific circuit diagram of a clamp circuit 310. FIG. クランプ回路310の具体的な回路図の一例である。3 is an example of a specific circuit diagram of a clamp circuit 310. FIG. クランプ回路310の具体的な回路図の一例である。3 is an example of a specific circuit diagram of a clamp circuit 310. FIG. 実施形態3において、入力コモン電圧が高い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 3, it is the structural example of a switch part in case an input common voltage is high. 実施形態3において、入力コモン電圧が低い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 3, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is low. 実施形態4に係るスイッチ部150の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the switch part 150 which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施形態4において、入力コモン電圧が高い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 4, it is an example of a structure of a switch part in case an input common voltage is high. 実施形態4において、入力コモン電圧が低い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 4, it is an example of a structure of a switch part in case an input common voltage is low. 実施形態5に係るスイッチ部150の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the switch part 150 which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施形態5において、入力コモン電圧が高い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 5, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is high. 実施形態5において、入力コモン電圧が低い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 5, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is low. 実施形態6に係るスイッチ部150の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the switch part 150 which concerns on Embodiment 6. FIG. 実施形態6において、入力コモン電圧が高い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 6, it is an example of a structure of a switch part in case an input common voltage is high. 実施形態6において、入力コモン電圧が低い場合のスイッチ部の構成例である。In Embodiment 6, it is a structural example of a switch part in case an input common voltage is low. LVDS伝送システムのプローブ検査ボードの構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the probe test | inspection board of an LVDS transmission system.

符号の説明Explanation of symbols

100 通信テストブロック
110 送信ブロック
120 伝送路
121 インピーダンス
130 LVDSレシーバ
140 差動レシーバ部
141 +側差動入力端子
142 −側差動入力端子
150 スイッチ部
151〜153 PMOSトランジスタ
154〜156 NMOSトランジスタ
310 クランプ回路
311 基準電源
312 第1のダイオード
313 第2のダイオード
314〜315 PMOSトランジスタ
316〜317 比較器
318〜319 スイッチ
321〜323 低電圧PMOSトランジスタ
324〜326 低電圧NMOSトランジスタ
511〜513 低電圧PMOSトランジスタ
514〜516 低電圧NMOSトランジスタ
S01 出力信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Communication test block 110 Transmission block 120 Transmission path 121 Impedance 130 LVDS receiver 140 Differential receiver part 141 + side differential input terminal 142-side differential input terminal 150 Switch part 151-153 PMOS transistor 154-156 NMOS transistor 310 Clamp circuit 311 Reference power supply 312 First diode 313 Second diode 314 to 315 PMOS transistor 316 to 317 Comparator 318 to 319 Switch 321 to 323 Low voltage PMOS transistor 324 to 326 Low voltage NMOS transistor 511 to 513 Low voltage PMOS transistor 514 to 516 Low voltage NMOS transistor S01 Output signal

Claims (10)

アナログ差動電流信号を受信するLVDSレシーバであって、
2つの差動入力端子を有し、前記2つの差動入力端子間に与えられたアナログ差動電圧信号に応じたロジック信号を出力する差動レシーバ部と、
前記2つの差動入力端子間にトランジスタで形成され、かつ前記LVDSレシーバの外部からオンオフ制御可能な複数個のスイッチを含んだスイッチ部と、
を備え、
前記差動レシーバ部は、前記アナログ差動電流信号が前記複数個のスイッチのオン抵抗により電流−電圧変換されて、前記アナログ差動電圧信号として前記2つの差動入力端子に与えられることを特徴とするLVDSレシーバ。
An LVDS receiver for receiving an analog differential current signal,
A differential receiver having two differential input terminals and outputting a logic signal according to an analog differential voltage signal applied between the two differential input terminals;
A switch unit including a plurality of switches formed by transistors between the two differential input terminals and capable of being turned on / off from the outside of the LVDS receiver;
With
In the differential receiver unit, the analog differential current signal is subjected to current-voltage conversion by ON resistances of the plurality of switches, and is supplied to the two differential input terminals as the analog differential voltage signal. LVDS receiver.
請求項1のLVDSレシーバであって、
前記スイッチ部の各スイッチは、NMOSトランジスタとPMOSトランジスタの相補型スイッチ、NMOSトランジスタのみのスイッチ、及びPMOSトランジスタのみのスイッチのうちの何れかであることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 1,
Each switch of the switch unit is any one of a complementary switch of an NMOS transistor and a PMOS transistor, a switch of only an NMOS transistor, and a switch of only a PMOS transistor.
請求項1のLVDSレシーバであって
前記スイッチ部の各スイッチを構成するトランジスタは、ソースと基盤とが接続されていることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver according to claim 1, wherein a source and a base are connected to each of the transistors constituting each switch of the switch unit.
請求項1のLVDSレシーバであって、
前記差動入力端子間の電圧を、前記スイッチ部を構成するトランジスタの耐圧よりも低くするクランプ回路をさらに備えたことを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 1,
An LVDS receiver, further comprising a clamp circuit for lowering a voltage between the differential input terminals to a withstand voltage of a transistor constituting the switch unit.
請求項4のLVDSレシーバであって、
前記スイッチ部の各スイッチは、NMOSトランジスタとPMOSトランジスタの相補型スイッチ、NMOSトランジスタのみのスイッチ、及びPMOSトランジスタのみのスイッチのうちの何れかであることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 4, wherein
Each switch of the switch unit is any one of a complementary switch of an NMOS transistor and a PMOS transistor, a switch of only an NMOS transistor, and a switch of only a PMOS transistor.
請求項4のLVDSレシーバであって、
前記スイッチ部の各スイッチを構成するトランジスタは、ソースと基盤とが接続されていることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 4, wherein
In the LVDS receiver, a transistor and each base of the switch section are connected to a source and a base.
請求項4のLVDSレシーバであって、
前記クランプ回路は、基準電源とダイオードとの組み合わせ、基準電源とPMOSトランジスタの組み合わせ、及び基準電源とコンパレータとスイッチの組み合わせのうちの何れかの組み合わせであることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 4, wherein
The LVDS receiver, wherein the clamp circuit is any one of a combination of a reference power supply and a diode, a combination of a reference power supply and a PMOS transistor, and a combination of a reference power supply, a comparator, and a switch.
請求項2のLVDSレシーバであって、
前記スイッチ部の各スイッチを構成するトランジスタは、複数個の低電圧トランジスタを直列に接続したものであることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 2, wherein
The LVDS receiver according to claim 1, wherein the transistors constituting each switch of the switch unit are a plurality of low voltage transistors connected in series.
請求項8のLVDSレシーバであって、
前記スイッチ部の各スイッチを構成するトランジスタは、ソースと基盤とが接続されていることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 8, wherein
In the LVDS receiver, a transistor and each base of the switch section are connected to a source and a base.
請求項1のLVDSレシーバであって、
それぞれのスイッチは、抵抗値が大きい方から順に、各スイッチを構成するトランジスタのサイズの比率が2のべき乗単位で大きくなるように設定されていることを特徴とするLVDSレシーバ。
The LVDS receiver of claim 1,
The LVDS receiver is characterized in that each switch is set so that the ratio of the size of the transistors constituting each switch increases in units of powers of 2 in order from the largest resistance value.
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