JP2008300442A - Surface treatment method and apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は線状或いはリボン状の長尺物体、更にはコンベア等で搬送される各種物体の表面に、洗浄等の各種処理を、容易に且つ効率良く且つ小型化した装置で行うことができるようにした表面処理方法及び装置に関する。 This invention makes it possible to easily and efficiently perform various treatments such as cleaning on the surface of a long object in the form of a line or ribbon, and further on various objects conveyed by a conveyor or the like, with a small-sized apparatus. The present invention relates to a surface treatment method and apparatus.
従来より半導体製造技術では、坩堝から溶融したシリコンを結晶成長させながら引き上げることが行われ、円柱状の結晶を引き上げて薄く切ることにより円形や最終的に矩形のシリコンウェハの製作が行われている。このようなシリコンウェハの基板を用いて各種の半導体素子をフォトリソグラフィー等によって製造するときには、基板表面の洗浄、レジスト塗布、露光、現像、リンス洗浄、エッチング、レジスト除去等の種々の行程で所定の微細パターンを形成している。 Conventionally, in semiconductor manufacturing technology, silicon melted from a crucible is pulled up while growing the crystal, and a circular or finally rectangular silicon wafer is manufactured by pulling a cylindrical crystal and cutting it into thin pieces. . When various semiconductor elements are manufactured by photolithography or the like using such a silicon wafer substrate, a predetermined process is performed in various processes such as substrate surface cleaning, resist coating, exposure, development, rinse cleaning, etching, and resist removal. A fine pattern is formed.
上記のような行程において、各種洗浄や現像液中での処理に際しては、処理する基板を液体を入れた容器に浸し、その容器を振る等することで洗浄や反応をさせており、バッチ式で処理を行っていた。この方法では、ウェハ或いはチップの一つ一つ毎に処理することとなり、高速化が困難である。 In the above-described process, during various cleaning and processing in a developer, the substrate to be processed is immersed in a container containing liquid, and the container is shaken and reacted to perform cleaning and reaction. We were processing. In this method, each wafer or chip is processed and it is difficult to increase the speed.
一方、前記のようなシリコン基板の製造に際して、近年は坩堝から薄膜のリボン状の結晶を成長させて引き上げることも行われるようになり、太陽光発電等の半導体素子に用いられるようになっている。このようなリボン状ウェハは適宜の大きさに切断し、従来と同様の手法を用いたフォトリソグラフー技術によって半導体素子を製造している。そのため前記のような従来と同様のバッチ処理とならざるを得ず、高速化が困難であることは従来のものと同様である。 On the other hand, in the manufacture of the silicon substrate as described above, in recent years, a thin ribbon-like crystal is grown from a crucible and pulled up, and is used for semiconductor elements such as photovoltaic power generation. . Such a ribbon-shaped wafer is cut into an appropriate size, and a semiconductor element is manufactured by a photolithographic technique using a method similar to the conventional one. For this reason, the same batch processing as described above must be performed, and it is difficult to increase the speed as in the conventional method.
それに対して、上記のようなウェハをコンベアで搬送し、液体中を通過している間にドライエッチング後の残嵯除去を超音波により行う技術が特開2003−273376号公報に開示され、また、複数の処理室を隣接して配置し、コンベア上に基板を載置して順に各処理室を通過させることにより洗浄、リンスシャワー純水シャワー等を行うことができるようにした技術が特開2001−108977号公報に開示されている。更に、帯状の金属薄板を切断することなくエッチング処理後洗浄を行うようにした技術は特開2002−298733号公報に開示されている。なお、流路内壁に傾斜溝を形成して内部の流体を攪拌する技術は下記非特許文献1に記載されている。
前記のように、従来のバッチ式処理を行うことなく連続的な処理を行う技術においても、例えば特許文献1に記載された技術では、基板をトレイに載せてコンベアで液中をそのまま通過させるものであり、その液中で単に超音波振動させるのみであるので、液との接触向上を図ることは考慮されていない。また、特許文献2に記載された技術では、各種洗浄室を順に通過する基板は、ローラーに載置しながら搬送するものであり、しかも各室ではシャワーによって洗浄する技術であって、これも基板と洗浄液との接触を向上することは考慮されていない。更に、特許文献3に記載された技術でも、薄板は帯状に搬送されるものの、スプレーによる洗浄であり、帯状の薄板と液体との効率的な接触については考慮されていないことは前記のものと同様である。なお、非特許文献1には傾斜溝により流路内部の流体を攪拌することは記載されているが、物体表面の処理に用いることは記載されておらず、特に流路中を移動する被処理物体により流体を共に移動させ、更にその流体を攪拌して処理の向上を図ることは記載されていない。
As described above, even in the technology that performs continuous processing without performing conventional batch processing, for example, in the technology described in
したがって本発明は、連続的に搬送される被処理物体を液体中を通過させることにより液体との接触反応、或いは洗浄等の各種処理を行わせるに際して、搬送される物体と液体とを同方向に移動させ、しかも所定の攪拌を行わせることによって液体との接触による反応や洗浄を効率的に行うことができるようにし、またリボン状等の帯状物体の場合には各種処理を帯状のまま処理を行うことができるようにすることを主たる目的とする。 Therefore, the present invention allows the object to be conveyed and the liquid to be in the same direction when various treatments such as contact reaction with the liquid or cleaning are performed by passing the object to be treated being continuously passed through the liquid. It is possible to efficiently carry out reaction and washing by contact with liquid by moving and carrying out predetermined stirring, and in the case of ribbon-like objects such as ribbons, various treatments can be processed while being in the form of belts. The main purpose is to be able to do it.
本発明に係る表面処理方法は、前記課題を解決するため、被処理物体を処理室の片側端面の入口開口から導入し、他側の出口開口から導出するとき、前記片側端面側に設けた液体導入口から導入した液体を処理室内を移動する被処理物体との接触により前記出口開口側に流動させ、前記出口開口側に流動する液体に対して前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部により処理室内の液体流を攪拌することを特徴とする。 In order to solve the above problems, the surface treatment method according to the present invention introduces the liquid to be treated on the one end face side when the object to be treated is introduced from the inlet opening on one end face of the processing chamber and led out from the outlet opening on the other side. The liquid introduced from the inlet is caused to flow to the outlet opening side by contact with the object to be processed moving in the processing chamber, and the liquid flowing to the outlet opening side is perpendicular to the moving direction of the object to be processed. The liquid flow in the processing chamber is agitated by an agitating portion that is inclined.
また、本発明に係る他の表面処理方法は、前記表面処理方法において、前記被処理物体を処理室内において処理室中心から偏在した位置で移動させ、処理室内の攪拌流体との接触を向上したことを特徴とし、また、前記被処理物体は帯状物体、またはベルトに固定した物体、或いは線状物体であることを特徴とする。 According to another surface treatment method of the present invention, in the surface treatment method, the object to be treated is moved at a position unevenly distributed from the center of the treatment chamber in the treatment chamber, thereby improving contact with the stirring fluid in the treatment chamber. The object to be processed is a band-like object, an object fixed to a belt, or a linear object.
また、本発明に係る表面処理装置は、被処理物体を片側端面の入口開口から導入し、他側の出口開口から導出するとともに、前記片側端面側に液体導入口を設けた処理室を備え、前記処理室の壁に、処理室内を移動する前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部を設け、処理室内において前記被処理物体の移動により前記液体導入口からの液体を出口開口側に移動するとき、該攪拌部により処理室内の液体を攪拌することを特徴とする。 Further, the surface treatment apparatus according to the present invention includes a treatment chamber that introduces an object to be treated from an inlet opening on one side end face, leads out from an outlet opening on the other side, and has a liquid introduction port on the one end face side, A stirrer that is inclined with respect to a direction perpendicular to the direction of movement of the object to be processed moving in the processing chamber is provided on the wall of the processing chamber, and the liquid from the liquid inlet is moved by the movement of the object to be processed in the processing chamber. When moving to the outlet opening side, the stirring chamber is used to stir the liquid in the processing chamber.
また、本発明に係る他の表面処理装置は、前記表面処理装置において、前記被処理物体を処理室内において処理室中心から偏在して配置したことを特徴とし、また、前記攪拌部は処理室の外側に突出した流路、または処理室内に突出するガイド板であることを特徴とし、また、前記被処理物体は帯状物体、またはベルトに固定した物体、或いは線状物体であることを特徴とする。 Further, another surface treatment apparatus according to the present invention is characterized in that, in the surface treatment apparatus, the object to be treated is arranged in an uneven manner from the center of the treatment chamber in the treatment chamber, and the stirring unit is disposed in the treatment chamber. It is characterized in that it is a channel projecting outward or a guide plate projecting into the processing chamber, and the object to be treated is a band-like object, an object fixed to a belt, or a linear object .
また、本発明に係る他の表面処理装置は、前記表面処理装置において、前記処理室は断面矩形、または円形状であることを特徴とし、また、前記被処理物体は帯状物体、またはベルトに固定した物体、或いは線状物体であることを特徴とし、また、前記処理装置を被処理物体の移動方向に複数配置し、被処理物に対する複数の処理を連続して行うように構成したことを特徴とする。 Another surface treatment apparatus according to the present invention is characterized in that, in the surface treatment apparatus, the treatment chamber has a rectangular or circular cross section, and the object to be treated is fixed to a belt-like object or a belt. Or a linear object, and a plurality of the processing apparatuses are arranged in the moving direction of the object to be processed, and a plurality of processes are continuously performed on the object to be processed. And
本発明は上記のように構成したので、被処理物体が処理室内を移動するとき、液体が被処理物体の表面に引きずられて移動するため、被処理物体と液体の接触が良く、効率よく処理ができると共に、処理室内で液体が攪拌部により攪拌されることにより、処理液体が被処理物体の表面に滞留することなく、新たな液体の接触によって反応の促進効果が得られる。 Since the present invention is configured as described above, when the object to be processed moves in the processing chamber, the liquid moves while being dragged to the surface of the object to be processed, so that the contact between the object to be processed and the liquid is good and the processing is performed efficiently. In addition, since the liquid is agitated by the agitating unit in the processing chamber, the reaction liquid is not retained on the surface of the object to be processed, and a reaction promoting effect can be obtained by contact with the new liquid.
また、被処理物体が入口開口から高速で処理室内に導入されると、液体導入口から導入される液体の多くが前記のように被処理物体によって出口開口側に引きずられる結果、液体の逆流によって入口開口から漏れ出すことを防止できるとともに、処理室内の液体を出口開口側に供給するポンプが不要となり、しかも費用が安価となり且つ小型化が可能となる。更に被処理物体に合わせた大きさの処理室とすることができ、余分な処理液を用いることが無くなることから処理液の節約となると共に、この点からも小型化が可能となる。 Further, when the object to be processed is introduced into the processing chamber at a high speed from the inlet opening, most of the liquid introduced from the liquid inlet is dragged toward the outlet opening by the object to be processed as described above, and as a result, the liquid flows backward. Leakage from the inlet opening can be prevented, a pump for supplying the liquid in the processing chamber to the outlet opening side is not required, the cost is low, and the size can be reduced. Furthermore, a processing chamber having a size suitable for the object to be processed can be provided, and since no extra processing liquid is used, the processing liquid can be saved, and in this respect, the size can be reduced.
また、前記のように処理室の壁に攪拌部を設けるとともに、更に処理室内で移動する被処理物体が処理室内で処理室中心から偏在しているので、処理室内において外周程強い流れとなっている攪拌流における強い流れと被処理物体が接触し、反応の効率が更に向上する。また、同様の処理室を複数用い、各処理室で異なった処理を行うことも可能となり、例えば現像液による処理、洗浄処理などの工程を連続的に行うことができ、且つ各種の処理システムに容易に拡張が可能となる。 Further, as described above, the stirrer is provided on the wall of the processing chamber, and further, the object to be processed moving in the processing chamber is unevenly distributed from the center of the processing chamber in the processing chamber, so that the flow is stronger toward the outer periphery in the processing chamber. The strong flow in the stirring flow is in contact with the object to be treated, and the reaction efficiency is further improved. In addition, it is possible to use a plurality of similar processing chambers and perform different processing in each processing chamber. For example, it is possible to continuously perform processes such as processing with a developing solution and cleaning processing, and to various processing systems. It can be easily expanded.
本発明は、帯状物体やベルトに固定した物体、或いは線状物体の表面を液体により処理するに際して、効率的に処理を行い、また装置全体を小型化するという課題を、被処理物体を処理室の片側端面の入口開口から導入し、他側の端面の出口開口から導出するとき、前記片側端面側に設けた液体導入口から導入した液体を処理室内を移動する被処理物体との接触により前記出口開口側に流動させ、前記出口開口側に流動する液体に対して前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部により処理室内の液体流を攪拌する方法により実現し、また、被処理物体を片側端面の入口開口から導入し、他側の端面の出口開口から導出するとともに、前記片側端面側に液体導入口を設けた処理室を備え、前記処理室の壁に、処理室内を移動する前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部を設け、処理室内において前記被処理物体の移動により前記液体導入口からの液体を出口開口側に移動するとき、該攪拌部により処理室内の液体を攪拌する装置によって実現した。 The present invention solves the problem of efficiently treating the surface of a band-like object, an object fixed to a belt, or a linear object with a liquid and reducing the size of the entire apparatus. When the liquid is introduced from the inlet opening on one side end face and led out from the outlet opening on the other side end face, the liquid introduced from the liquid introduction port provided on the one side end face side is brought into contact with the object to be processed moving in the processing chamber. Realized by a method in which the liquid flow in the processing chamber is stirred by a stirring portion that is made to flow toward the outlet opening side and tilts with respect to the liquid flowing toward the outlet opening side with respect to the direction perpendicular to the moving direction of the object to be processed. In addition, a processing object is introduced from an inlet opening on one side end face and led out from an outlet opening on the other side end face, and a processing chamber provided with a liquid inlet on the one side end face side is provided with a processing chamber on the wall of the processing chamber. Move the room When the liquid from the liquid inlet is moved to the outlet opening side by the movement of the object to be processed in the processing chamber, the stirring part is provided. This is realized by a device for stirring the liquid in the processing chamber.
本発明の実施例を図面に沿って説明する。図1は本発明の基本構成を模式的に示したものであり、図示実施例では例えばリボン状ウェハ等の帯状の物体を液体中を通過させることにより所定の処理を行うようにした例を示している。図1に示す例においては同図(c)に斜視図で示すように、水平に設置された処理容器1の片側端面2に入口開口3を設け、他端部4を解放して出口開口5とするとともに、片側端面2側の上部に液体導入口6を設けている。また、出口開口5の下部には、液体受け7を設け、排出管8から外部に排出する。なお、排出液体は適宜処理した後再利用することができる。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows the basic configuration of the present invention. In the illustrated embodiment, for example, a predetermined process is performed by passing a band-like object such as a ribbon-shaped wafer through liquid. ing. In the example shown in FIG. 1, as shown in a perspective view in FIG. 1C, an
このような処理容器1の入口開口3側から帯状物体9を導入し、処理容器1の内部の処理室10を貫通して出口開口5から導出して、その後リールへの巻き取り等を行う。帯状物体9の前記のような処理室10内の移動により、液体導入口6からほぼ処理容器1内を満たすように導入される液体は、図1(a)に示すように帯状物体に引きずられるようにして出口開口5側に流れる。
The belt-
処理容器1の上壁11には内部に流体溝12が形成されるように上方に突出する攪拌部13を形成している。この攪拌部13は図1(b)及び(c)に示すように処理容器1の長手方向軸線に対する直角な線に対して角度α傾斜して形成している。なお、この角度αは90度を含まないことは攪拌作用の点から当然である。それにより、処理室10内を満たすように流れる液体導入口6からの液体の一部が、傾斜して形成される流体溝12に入り、この流体溝12に沿って流れる二次流れを生じるため、処理容器1の長手方向への主たる流れに対して、処理容器1の長手方向中心線を中心に回転させる流れを生じさせ、内部の流体を攪拌する作用を生じる。
A stirring
この状態は図2に模式的に示しており、処理容器1内の液体が、図中矢印A方向に移動する帯状物体9の移動方向と同方向の矢印B方向に引きずられるようにして流れようとするとき、処理容器1内の処理室10の上部において、流体溝12に導かれて前記のように傾斜した方向である矢印C方向に二次流れを生じるため、それらの相互作用によって処理容器1内の流体は内部を移動する帯状物体9の周囲を旋回しながら流れる旋回流14となる。このような旋回流によって、例えば帯状物体9を洗浄するとき、効率的な洗浄を行うことができる。また、帯状物体9を処理室10内において、例えば図示するように高さ方向中心より下方に偏在して配置することにより、処理室の中心線より離れた外周位置程強い旋回流を生じるため、効率的な混合と、強い混合位置での表面の反応促進効果を生じさせることができる。
This state is schematically shown in FIG. 2, and the liquid in the
また、処理室10内で帯状物体9が移動することにより帯状物体9の表面と内部の液体の接触によって、液体が帯状物体に引きずられ、帯状物体の移動速度に適した液体が液体導入口6から供給されるとともに、帯状物体の出口開口側への移動によって液体は一定に出口開口方向に流れるため、ポンプ等の動力によって液体を流動させる必要が無く、特別な制御装置も不要となり装置が小型且つ簡素化され、且つシンクタンクのような装置も不要となって液体と接触する最小限の大きさで済み、装置全体を小型化することができる。
Further, when the band-
更に、液体の粘性により高速で移動する帯状物体の移動に引きずられる前記のような液体の流動によって、処理容器1の入口開口3側に流れる液体量は、ほとんど無くなるか或いは極めて少なくなり、特に入口開口開度を適切に設定することにより入口開口3から液体が流出することは無くなる。もしも流出する恐れがあるときには入口開口3の下部に小型の液体受けを配置し、或いは適宜逆流防止型のシールリップを入口海溝に設けて密封しても良い。
Furthermore, the amount of liquid flowing to the
図1及び図2(a)に示す例においては、処理容器1内の上壁11の内面に攪拌部13としての流体溝12を設けた例を示したが、それ以外に例えば図2(b)に示すように上壁11の内面に、処理室10の中心側に突出する複数のガイド板16を、適宜の間隔で配置して攪拌部13としても良い。このガイド板16も前記の例と同様に角度α傾斜させ、それにより前記流体溝12と同様の作用によってガイド板16間に形成される傾斜した流路17により液体流が導かれて二次流れを生じ、図2(a)と同様の作用により旋回流14を形成することができる。
In the example shown in FIG. 1 and FIG. 2A, an example in which the
本発明は更に種々の態様で実施することができ、例えば図3(a)に示すように、処理室10の出口開口5における少なくとも下部に排出規制板18を設け、この高さを任意に設定することにより内部の液体の滞留条件を任意に設定できるようにしても良い。
The present invention can be further implemented in various modes. For example, as shown in FIG. 3A, a
前記各実施例においては処理室10の上方に内部の液体流に旋回流を発生させる攪拌部13を配置した例を示したが、その他例えば図3(b)に示すように処理室10の下方にこれを形成しても同様の作用を行わせることができる。特にこの手法によると、液体流が処理室10内を満たさないときでも確実に液体流を攪拌し、旋回流を生じさせることができる。
In each of the above-described embodiments, the example in which the stirring
前記実施例では帯状物体の表面を処理する例について述べたが、その他線状物体、更には直径がより大きい棒状物体の表面の処理にも用いることができる。なお、このような物体を総称して線状物体と略称する。このような線状物体の処理に際しては、例えば図4(a)(b)に示すように処理容器21を円筒状に形成し、片側端面22に入口開口23を設け、他端部24を解放して出口開口25とするとともに、片側端面22側の上部に液体導入口26を設ける。このような処理容器21の入口開口23側から内部の処理室30内に線状物体29を導入し、出口開口25から導出してリール等に巻き取る。
In the above-described embodiment, an example of processing the surface of a belt-like object has been described. However, the present invention can also be used for processing the surface of other linear objects and rod-like objects having a larger diameter. Such objects are collectively referred to as linear objects. When processing such a linear object, for example, as shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b), the
このような円筒状の処理容器21を用いる場合においても、前記実施例と同様に上部に攪拌部31を設ける。図示の例においては、処理容器21の上部に前記と同様に角度α傾斜した凹嵌部32を設け、それにより処理室30内上部に傾斜した流路33を形成している。それによって、入口開口23から出口開口25方向に処理室30内を移動する線状物体29の表面に、処理室30内の液体が引きずられ、液体導入口26からの液体は処理室30内で出口開口25方向に移動する。
Even when such a
その際に処理室内の液体流の一部は、処理室30の上部に形成した流路33に導かれて旋回流を生じさせる。処理室30内にはこのような旋回流が発生するので、線状物体と液体とが同方向に移動しつつ適宜の液体の攪拌が行われ、線状物体の有効な処理が行われる。このような円筒状の処理容器は、上記のような線状物体の処理に限らず、前記実施例のような帯状物体の処理に際しても利用することができる。その際には処理容器内の液体は、処理室の円筒状内面によって旋回流の発生が容易となる。
At that time, a part of the liquid flow in the processing chamber is guided to the
線状物体の処理に際しては前記のような円筒状の処理容器21を用いる以外に、前記のような断面四角形の処理容器を用いても良く、その際には例えば図4(c)のように複数の線状物体29、29・・・を互いに間隔をもって平行に配置し、等速で、或いは必要に応じて異なった速度で処理室10内を移動させ、前記と同様の作用によって所定の処理を行わせることができる。
When processing a linear object, in addition to using the
前記各実施例においては、処理室内を移動する帯状物体或いは線状物体自体の表面の各種処理を行う例を示したが、その他前記特許文献1記載のように、ベルトに基板を載置して搬送する場合にも本発明を適用することができる。その際には例えば図5に示すように、前記の実施例と同様の処理容器1を用い、ベルト35上に基板等の被処理物体36を固定部材37・・・によってベルト35に固定し、処理室10内を通過させることにより、前記実施例と同様の作用によって、非処理物体36の表面に対して所望の処理を行うことができる。
In each of the above-described embodiments, an example in which various treatments are performed on the surface of a band-like object or a linear object itself that moves in the processing chamber has been described. However, as described in
このときのベルト35の支持に際しては、下方に適宜ローラを配置し、或いはベルトの両側端をピンチローラで上下を挟んで支持しても良い。また、ベルトへの被処理物36の供給は、最初の処理室に入るベルトに対してロボットアーム等で取り付け、最後の処理室から出たところで同様に取り外すようにしても良い。この装置においても、処理室10内で液体が被処理物36と共に移動し、その際攪拌部13によって螺旋状の流れを生じることは前記各実施例と同様である。
When supporting the
図5(a)に示す装置においては被処理物36をベルトに直接固定する例を示したが、例えば同図(b)に示すように、ベルト35にトレイ38を固定し、このトレイ38に対して被処理物36を固定して、ベルトによってこれらを処理室10内に搬送するようにしても良い。この装置においても被処理物36と処理室内の液体流の作用は、前記各実施例と同様である。
In the apparatus shown in FIG. 5A, the example in which the
前記実施例においては1つの処理室における作用、及び各種の実施の態様を述べたものであるが、例えば図6(a)に示すように第1処理容器41の後に第2処理正気42を配置し、リール43からの帯状物体9を第1処理容器41で第1の処理を行った後、更にここから出た帯状物体9を第2処理容器42に入れて第2の処理を行うようにしても良い。同様にして同図(b)に示すように処理容器45を並べる等によって、より多数の処理容器を並べ、それぞれで異なった処理を行うことができるようにし、1つの帯状物体、或いはベルト搬送被処理物体について、所定の一連の処理を一度に行わせることができる。その際には各処理容器での処理時間が異なることに対応し、同図に示すように各処理容器の長さを変えることにより、帯状物体が一定速度で移動しても、各処理に適した処理時間に調節することが可能となる。
In the above embodiment, the operation in one processing chamber and various embodiments are described. For example, as shown in FIG. 6A, the
1 処理容器
2 片側端面
3 入口開口
4 他端部
5 出口開口
6 液体導入口
7 液体受け
8 排出管
9 帯状物体
10 処理室
11 上壁
12 流体溝
13 攪拌部
1 Processing container
2 One-
Claims (10)
前記出口開口側に流動する液体に対して前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部により処理室内の液体流を攪拌することを特徴とする表面処理方法。 When the object to be processed is introduced from the inlet opening on one side end face of the processing chamber and led out from the outlet opening on the other side, the liquid introduced from the liquid inlet provided on the one side end face side is moved with the object to be processed moving inside the processing chamber; To the outlet opening side by contact,
A surface treatment method characterized in that a liquid flow in a processing chamber is agitated by an agitating portion that is inclined with respect to a liquid flowing toward the outlet opening side with respect to a direction perpendicular to a moving direction of the object to be treated.
前記処理室の壁に、処理室内を移動する前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部を設け、処理室内において前記被処理物体の移動により前記液体導入口からの液体を出口開口側に移動するとき、該攪拌部により処理室内の液体を攪拌することを特徴とする表面処理装置。 An object to be treated is introduced from an inlet opening on one side end face, and is led out from an outlet opening on the other side, and includes a processing chamber provided with a liquid inlet on the one side end face side,
A stirrer that is inclined with respect to a direction perpendicular to the moving direction of the object to be processed that moves in the processing chamber is provided on the wall of the processing chamber, and the liquid from the liquid inlet is supplied by the movement of the object to be processed in the processing chamber. A surface treatment apparatus characterized in that the liquid in the processing chamber is agitated by the agitation section when moving to the outlet opening side.
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JPH10280177A (en) * | 1997-04-08 | 1998-10-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Horizontal type pickling device |
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