JP2008298938A - Positive photosensitive lithographic printing plate material - Google Patents

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JP2008298938A JP2007143064A JP2007143064A JP2008298938A JP 2008298938 A JP2008298938 A JP 2008298938A JP 2007143064 A JP2007143064 A JP 2007143064A JP 2007143064 A JP2007143064 A JP 2007143064A JP 2008298938 A JP2008298938 A JP 2008298938A
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Yasunobu Kobayashi
康伸 小林
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Konica Minolta Medical and Graphic Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photosensitive lithographic printing plate material which retains good developability and has excellent printing durability. <P>SOLUTION: The positive photosensitive lithographic printing plate material has a lower image forming layer containing an alkali-soluble resin, an acid decomposable compound and an acid generator on an aluminum support, and has an upper image forming layer containing an alkali-soluble resin on the lower image forming layer, wherein the lower image forming layer contains a copolymer containing a repeating unit represented by general formula (1) as the alkali-soluble resin. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明はいわゆるコンピューター・トゥ・プレート(computer−to−plate:以下において、「CTP」という。)システムに用いられるポジ型の画像形成層を有する平版印刷版材料に関し、更に詳しくは近赤外線レーザの露光で画像形成可能である、ポジ型感光性平版印刷版材料に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate material having a positive-type image forming layer used in a so-called computer-to-plate (hereinafter referred to as “CTP”) system, and more particularly to a near-infrared laser. The present invention relates to a positive photosensitive lithographic printing plate material capable of forming an image by exposure.

近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術において、画像のデジタルデータに基づきレーザー光源で平版印刷版原版に直接画像露光を行い、画像記録するCTPシステムが数多く開発され、実用化が進んでいる。   2. Description of the Related Art In recent years, in printing plate preparation techniques for offset printing, a number of CTP systems that directly expose a lithographic printing plate precursor with a laser light source based on digital image data and record the image have been developed and put into practical use.

特に、近赤外領域に発光波長を有する固体レーザー、半導体レーザーの高出力化、小型化、低価格化などに伴い、近赤外光により記録するCTPシステム、いわゆるサーマルCTPシステムの発展と普及はめざましい。   In particular, the development and popularization of so-called thermal CTP systems, CTP systems that record with near-infrared light, with the increase in output, size, and price of solid-state lasers and semiconductor lasers having emission wavelengths in the near-infrared region It's amazing.

赤外線レーザ用の平版印刷版材料として、国際公開第97/39894号パンフレットに記載の(A)クレゾールノボラック樹脂等のフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂および(B)赤外線吸収剤を含有する記録層を有するポジ型平版印刷版原版が知られている。   As a lithographic printing plate material for an infrared laser, a recording layer containing (A) an aqueous alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group such as cresol novolak resin described in WO 97/39894 and (B) an infrared absorber There is known a positive planographic printing plate precursor having:

このポジ型平版印刷用原版は、露光部において赤外線吸収剤により発生した熱の作用でクレゾールノボラック樹脂の会合状態が変化して、非露光部と溶解性の差(溶解速度差)が生じ、それを利用して現像を行い画像形成する。しかしながら、その溶解速度差が小さいために、現像ラチチュードが狭いという問題があった。   In this positive type lithographic printing original plate, the association state of the cresol novolak resin is changed by the action of heat generated by the infrared absorber in the exposed area, resulting in a difference in solubility (dissolution rate difference) from the unexposed area. Is used to develop and form an image. However, since the difference in dissolution rate is small, there is a problem that the development latitude is narrow.

上記問題に対し、特許第3644002号公報、特開平7−285275号公報に記載の、赤外線吸収剤と、発生した熱により活性化されて分解し酸を生成する化合物、例えばオニウム塩、キノンジアジド化合物、トリアジン化合物類と、酸により分解する化合物、例えばケタール基を有する酸により分解する化合物等とを共存させる技術を利用した平版印刷版材料が提案されている。   In order to solve the above problem, an infrared absorber described in Japanese Patent No. 3644002 and JP-A-7-285275, and a compound that is activated by the generated heat to generate an acid, such as an onium salt, a quinonediazide compound, There has been proposed a lithographic printing plate material using a technique in which a triazine compound and a compound that decomposes with an acid, for example, a compound that decomposes with an acid having a ketal group, coexist.

また、光を吸収して熱を発生する化合物を用い、感光層を2層設けた平版印刷版材料が知られている(特許文献1参照)。   Further, a lithographic printing plate material using a compound that absorbs light and generates heat and having two photosensitive layers is known (see Patent Document 1).

しかしながら、これらの平版印刷版材料においては、耐刷性を向上させようとすると、非画像部の現像性が低下するといった問題があり、良好な現像性を維持して高い耐刷性を得ることは困難であった。
特開平11−218914号公報
However, in these lithographic printing plate materials, there is a problem that if the printing durability is improved, the developability of the non-image area is lowered, and high printing durability can be obtained while maintaining good developability. Was difficult.
JP 11-218914 A

本発明の目的は、良好な現像性を維持して、かつ耐刷性に優れたポジ型感光性平版印刷版材料を提供することである。   An object of the present invention is to provide a positive photosensitive lithographic printing plate material that maintains good developability and is excellent in printing durability.

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
1.アルミニウム支持体上に、アルカリ可溶性樹脂、酸分解性化合物および酸発生剤を含む画像形成層下層を有し、該画像形成層下層上にアルカリ可溶性樹脂を含む画像形成層上層を有するポジ型感光性平版印刷版材料であって、該画像形成層下層が、該アルカリ可溶性樹脂として、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含む共重合体を含有することを特徴とするポジ型感光性平版印刷版材料。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
1. A positive photosensitive material having an image forming layer lower layer containing an alkali-soluble resin, an acid-decomposable compound and an acid generator on an aluminum support, and an image forming layer upper layer containing an alkali-soluble resin on the image forming layer lower layer. A lithographic printing plate material, wherein the lower layer of the image-forming layer contains a copolymer containing a repeating unit represented by the following general formula (1) as the alkali-soluble resin: Printing plate material.

Figure 2008298938
Figure 2008298938

(式中、Aは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Xはアルキレン基を表し、更にYはカルボキシル基又はその塩基を有する基、スルホ基又はその塩、ホスホノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシシリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。)
2.前記Xがエチレン基であることを特徴とする1に記載のポジ型感光性平版印刷版材料。
(In the formula, A represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, X represents an alkylene group, and Y represents a carboxyl group or a group having a base thereof, a sulfo group or a salt thereof, a phosphonoxy group, a dialkylphospho group. Represents a nonoxy group, a trialkoxysilyl group, or an alkyldialkoxysilyl group.)
2. 2. The positive photosensitive lithographic printing plate material according to 1, wherein X is an ethylene group.

本発明の上記構成により、現像時の、非画像部における画像形成層の支持体からの除去性の劣化がなく、良好な現像性を維持して、かつ耐刷性に優れたポジ型感光性平版印刷版材料が提供できる。   With the above-described configuration of the present invention, there is no deterioration in the removability of the image forming layer from the support in the non-image area at the time of development, positive photosensitivity that maintains good developability and has excellent printing durability. Lithographic printing plate materials can be provided.

以下、本発明を更に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

本発明は、ポジ型感光性平版印刷版材料であって、アルミニウム支持体上に、アルカリ可溶性樹脂、酸分解性化合物および酸発生剤を含む画像形成層下層(以下単に下層ともいう)を有し、該下層上にアルカリ可溶性樹脂を含む画像形成層上層(以下、単に上層ともいう)を有するポジ型感光性平版印刷版材料であって、該下層が、該アルカリ可溶性樹脂として、上記一般式(1)で示される繰り返し単位を含む共重合体を含有することを特徴とする。   The present invention is a positive photosensitive lithographic printing plate material having an image forming layer lower layer (hereinafter also simply referred to as a lower layer) containing an alkali-soluble resin, an acid-decomposable compound and an acid generator on an aluminum support. , A positive photosensitive lithographic printing plate material having an image-forming layer upper layer (hereinafter also referred to simply as an upper layer) containing an alkali-soluble resin on the lower layer, wherein the lower layer is the above general formula ( It contains a copolymer containing the repeating unit represented by 1).

本発明は、画像形成層を少なくとも2層有するポジ型感光性平版印刷版材料において、画像形成層の下層に上記特定のアルカリ可溶性樹脂を含有させることで、高感度を維持して、かつ耐刷性に優れたポジ型感光性平版印刷版材料が提供できる。   In the positive photosensitive lithographic printing plate material having at least two image forming layers, the present invention contains the specific alkali-soluble resin in the lower layer of the image forming layer, thereby maintaining high sensitivity and printing durability. A positive photosensitive lithographic printing plate material having excellent properties can be provided.

(アルミニウム支持体)
本発明に係るアルミニウム支持体は、純アルミニウム板またはアルミニウム合金板である。
(Aluminum support)
The aluminum support according to the present invention is a pure aluminum plate or an aluminum alloy plate.

アルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられ、各種圧延方法により製造されたアルミニウム板が使用できる。また、近年普及しつつあるスクラップ材およびリサイクル材などの再生アルミニウム地金を圧延した再生アルミニウム板も使用できる。   Various aluminum alloys can be used, for example, alloys of aluminum and metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, etc. An aluminum plate produced by the method can be used. In addition, a recycled aluminum plate obtained by rolling recycled aluminum ingots such as scrap materials and recycled materials that are becoming popular in recent years can also be used.

本発明に係るアルミニウム支持体は、印刷に用いられる際の保水性を高めるため、その表面は、粗面化されていることが好ましい。   The aluminum support according to the present invention preferably has a roughened surface in order to enhance water retention when used in printing.

本発明に係るアルミニウム支持体は粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。   Prior to roughening (graining treatment), the aluminum support according to the present invention is preferably subjected to degreasing treatment in order to remove rolling oil on the surface. As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the support. In this case, the substrate is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. It is preferable to perform the treatment.

次いで粗面化処理が施される。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。本発明では、塩酸を主体とする電解液中での交流電解粗面化処理が好ましいが、それに先立ち、機械的粗面化処理および硝酸を主体とする電解粗面化処理を施しても良い。   Next, a roughening process is performed. Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis. In the present invention, AC electrolytic surface roughening treatment in an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid is preferable, but prior to that, mechanical surface roughening treatment and electrolytic surface roughening treatment mainly composed of nitric acid may be performed.

機械的粗面化方法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、支持体表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 The mechanical roughening method is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is, for example, by rotating a rotating brush using a bristle having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm on water. While supplying the uniformly dispersed slurry, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm in water, injecting pressure from a nozzle, and causing the surface to collide obliquely with the support surface. Can do. Further, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are applied to the support surface so as to be present at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by laminating the sheets and applying a pressure to transfer the rough surface pattern of the sheet.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the mechanical surface roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the support, formed aluminum scraps, and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

硝酸を主体とする電解粗面化処理は、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸、アルミニウムイオン等を加えることができる。 The electrolytic surface-roughening treatment mainly composed of nitric acid can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, aluminum ions, and the like can be added to the electrolytic solution.

上記の硝酸を主体とする電解粗面化処理後は、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the electrolytic surface-roughening treatment mainly composed of nitric acid, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

塩酸を主体とする電解液中での交流電解粗面化処理は、塩酸濃度は5〜20g/lであり、好ましくは6〜15g/lである。電流密度は15〜120A/dm2であり、好ましくは20〜90A/dm2である。電気量は400〜2000C/dm2であり、好ましくは500〜1200C/dm2である。周波数は40〜150Hzの範囲で行うことが好ましい。電解液の温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸、アルミニウムイオン等を加えることができる。 In the AC electrolytic surface roughening treatment in an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid, the hydrochloric acid concentration is 5 to 20 g / l, preferably 6 to 15 g / l. The current density is 15 to 120 A / dm 2 , preferably 20 to 90 A / dm 2 . The quantity of electricity was 400~2000C / dm 2, preferably 500~1200C / dm 2. The frequency is preferably in the range of 40 to 150 Hz. The temperature of the electrolytic solution can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, aluminum ions, and the like can be added to the electrolytic solution.

上記の塩酸を主体とする電解液中で電解粗面化処理を施した後は、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜2g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the electrolytic surface roughening treatment is performed in the above-described electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid, it is preferably immersed in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 2 g / m2. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

得られるアルミニウム支持体の感光層側の表面の算術平均粗さ(Ra)は0.4〜0.6μmが好ましく、粗面化処理での塩酸濃度、電流密度、電気量の組み合わせで制御することが出来る。   The arithmetic average roughness (Ra) of the surface on the photosensitive layer side of the obtained aluminum support is preferably 0.4 to 0.6 μm, and is controlled by a combination of hydrochloric acid concentration, current density, and electric quantity in the roughening treatment. I can do it.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行い、陽極酸化皮膜を形成する。本発明に係る陽極酸化処理の方法は、電解液として硫酸または硫酸を主体とする電解液を用いて行うのが好ましい。硫酸の濃度は、5〜50質量%が好ましく、10〜35質量%が特に好ましい。温度は10〜50℃が好ましい。処理電圧は18V以上であることが好ましく、20V以上であることが更に好ましい。電流密度は1〜30A/dm2が好ましい。電気量は200〜600C/dm2が好ましい。 Following the roughening treatment, an anodizing treatment is performed to form an anodized film. The anodizing method according to the present invention is preferably carried out using sulfuric acid or an electrolytic solution mainly composed of sulfuric acid as the electrolytic solution. The concentration of sulfuric acid is preferably 5 to 50% by mass, particularly preferably 10 to 35% by mass. The temperature is preferably 10 to 50 ° C. The treatment voltage is preferably 18V or more, and more preferably 20V or more. Current density is preferably 1~30A / dm 2. Quantity of electricity is preferably from 200~600C / dm 2.

形成される陽極酸化被覆量は、2〜6g/m2が好ましく、好ましくは3〜5g/m2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸漬し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。陽極酸化皮膜にはマイクロポアが生成されるが、マイクロポアの密度は、400〜700個/μm2が好ましく、400〜600個/μm2が更に好ましい。 The formed anodic oxidation coating amount is preferably 2 to 6 g / m 2 , and preferably 3 to 5 g / m 2 . The anodic oxidation coating amount is obtained by, for example, immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (produced by dissolving 85% phosphoric acid solution: 35 ml, chromium oxide (IV): 20 g in 1 L of water), dissolving the oxide coating, It is calculated | required from the mass change measurement etc. before and after melt | dissolution of the coating. Micropores are generated in the anodized film, and the density of the micropores is preferably 400 to 700 / μm 2, and more preferably 400 to 600 / μm 2 .

陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.

<親水化処理>
アルミニウム支持体は、これらの処理を行った後に、親水化処理を施されることが、感度などの面から好ましい。
<Hydrophilic treatment>
The aluminum support is preferably subjected to a hydrophilization treatment after these treatments in terms of sensitivity and the like.

親水化処理は特に限定されないが、水溶性の樹脂、たとえばポリビニルホスホン酸、ポリビニルアルコール及びその誘導体、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものが使用できる。   Hydrophilization treatment is not particularly limited, but water-soluble resins such as phosphonic acids having amino groups such as polyvinylphosphonic acid, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, sulfonic acid Polymers and copolymers having a group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt (for example, zinc borate), or a primer coated with a yellow dye, an amine salt, or the like can be used.

更に、特開平5−304358号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も用いられる。好適なのは、ポリビニルホスホン酸を含有する水溶液による親水化処理を行うことである。   Furthermore, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A-5-304358 is covalently used. It is preferable to perform a hydrophilic treatment with an aqueous solution containing polyvinylphosphonic acid.

処理としては、塗布式、スプレー式、ディップ式等限定されないが、設備を安価にするにはディップ式が好適である。ディップ式の場合には、ポリビニルホスホン酸を0.05〜3%の水溶液で処理することが好ましい。処理温度は20〜90℃、処理時間は10〜180秒が好ましい。処理後、過剰に積層したポリビニルホスホン酸を除去するため、スキージ処理または水洗処理を行うことが好ましい。更に乾燥処理を行うことが好ましい。   The treatment is not limited to a coating method, a spray method, a dip method, or the like, but a dip method is suitable for making the equipment inexpensive. In the case of a dip type, it is preferable to treat polyvinylphosphonic acid with a 0.05 to 3% aqueous solution. The treatment temperature is preferably 20 to 90 ° C., and the treatment time is preferably 10 to 180 seconds. After the treatment, it is preferable to perform a squeegee treatment or a water washing treatment in order to remove the excessively laminated polyvinylphosphonic acid. Furthermore, it is preferable to perform a drying process.

乾燥温度としては、40〜180℃が好ましく、更に好ましくは50〜150℃である。乾燥処理することで下層との接着性、断熱層としての機能が向上し、耐薬品性、感度が向上するので、好ましい。   As drying temperature, 40-180 degreeC is preferable, More preferably, it is 50-150 degreeC. The drying treatment is preferable because the adhesion to the lower layer and the function as a heat insulating layer are improved, and the chemical resistance and sensitivity are improved.

親水性処理層の膜厚は、接着性、断熱性、感度の面から0.002〜0.1μが好ましく、更に好ましくは0.005〜0.05μである。   The thickness of the hydrophilic treatment layer is preferably from 0.002 to 0.1 μm, more preferably from 0.005 to 0.05 μm from the viewpoints of adhesiveness, heat insulation, and sensitivity.

(画像形成層下層)
本発明に係る画像形成層下層は、上記アルミニウム支持体上に設けられた層であり、アルカリ可溶性樹脂、酸分解性化合物および酸発生剤を含む。
(Image formation layer lower layer)
The lower layer of the image forming layer according to the present invention is a layer provided on the aluminum support and contains an alkali-soluble resin, an acid-decomposable compound and an acid generator.

(アルカリ可溶性樹脂)
本発明に係るアルカリ可溶性樹脂とは、25℃において、pH13を有する水酸化カリウム水溶液に0.1g/l以上溶解する樹脂である。
(Alkali-soluble resin)
The alkali-soluble resin according to the present invention is a resin that dissolves in an aqueous potassium hydroxide solution having a pH of 13 at 25 g at 0.1 g / l or more.

本発明に係る下層は、アルカリ可溶性樹脂として、少なくとも上記一般式(1)で示される繰り返し単位を含む共重合体を含有する。   The lower layer according to the present invention contains a copolymer containing at least a repeating unit represented by the general formula (1) as an alkali-soluble resin.

一般式(1)中、Aは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Xはアルキレン基を表し、更にYはカルボキシル基又はその塩基を有する基、スルホ基又はその塩、ホスホノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシシリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。   In general formula (1), A represents a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, X represents an alkylene group, Y represents a carboxyl group or a group having a base thereof, a sulfo group or a salt thereof, or a phosphonoxy group. Represents a dialkylphosphonoxy group, a trialkoxysilyl group, and an alkyldialkoxysilyl group.

Aで表される炭素数1〜4のアルキルとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられるが、特にメチル基が好ましい。   Examples of the alkyl having 1 to 4 carbon atoms represented by A include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and a methyl group is particularly preferable.

Xで表されるアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、などが挙げられるが、特にエチレン基が好ましく用いられる。Yで表されるカルボキシル基又はその塩基を有する基としては、カルボキシル基、カルボキシル基のカチオンの塩基または、カルボキシル基、カルボキシル基のカチオンの塩基を有するアルコキシ基、アリーロキシ基などが挙げられる。一般式(1)で表される繰り返し単位を含む化合物の具体例を示すがこれらに限定されるものではない。   Examples of the alkylene group represented by X include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group, and an ethylene group is particularly preferably used. Examples of the carboxyl group represented by Y or a group having a base thereof include a carboxyl group, a cation base of a carboxyl group, an alkoxy group having a carboxyl group, a cation base of a carboxyl group, and an aryloxy group. Although the specific example of a compound containing the repeating unit represented by General formula (1) is shown, it is not limited to these.

一般式(1)で表される繰り返し単位は、共重合体中1〜20mol%含まれていることが好ましく、さらに好ましくは1〜5mol%である。   The repeating unit represented by the general formula (1) is preferably contained in the copolymer in an amount of 1 to 20 mol%, more preferably 1 to 5 mol%.

また画像形成層下層に含まれる一般式(1)の繰り返し単位の含有量は、0.001〜0.01mmol/gが好ましい。   The content of the repeating unit of the general formula (1) contained in the lower layer of the image forming layer is preferably 0.001 to 0.01 mmol / g.

一般式(1)で表される繰り返し単位に含まれるYとしては、スルホ基が好ましい。またYが酸基であるとき、塩の形で存在することが特に好ましい。   As Y contained in the repeating unit represented by the general formula (1), a sulfo group is preferable. In addition, when Y is an acid group, it is particularly preferable to exist in the form of a salt.

本発明に係る共重合体の他の共重合成分としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、ラクトン類、等の公知のモノマー成分が挙げられる。   Other copolymer components of the copolymer according to the present invention include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, Known monomer components such as maleic anhydride, maleic imide, and lactones may be mentioned.

用いることのできるアクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−またはi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、が挙げられる。   Specific examples of acrylates that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2 -Ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl Acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl acetate Rate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoyl phenyl acrylate, and the like.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−またはi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate Rate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate and the like.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (p-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N- Examples include phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

ラクトン類の具体例としては、パントイルラクトン(メタ)アクリレート、α−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラクトン、β−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラクトンが挙げられる。   Specific examples of lactones include pantoyl lactone (meth) acrylate, α- (meth) acryloyl-γ-butyrolactone, and β- (meth) acryloyl-γ-butyrolactone.

マレイン酸イミド類の具体例としては,マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of maleic imides include maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。   Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。   Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

アクリルニトリル類の具体例としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。   Specific examples of acrylonitriles include acrylonitrile and methacrylonitrile.

これらのモノマー成分のうち特に好適に使用されるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル類、マレイン酸イミド類などが挙げられる。   Among these monomer components, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitriles, maleic imides having 20 or less carbon atoms are particularly preferably used. Etc.

これらのうちでも特に、アクリロニトリルおよびメタクリル酸エステル類を含む共重合体が好ましく用いられる。   Among these, a copolymer containing acrylonitrile and methacrylic acid esters is particularly preferably used.

画像形成層下層に対する本発明に係る共重合体の含有量としては、感度、現像ラチチュードの面から60質量%以上が好ましく、さらに65質量%以上が好ましく、特に70質量%以上が好ましい。   The content of the copolymer according to the present invention relative to the lower layer of the image forming layer is preferably 60% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, particularly preferably 70% by mass or more from the viewpoint of sensitivity and development latitude.

本発明に係る共重合体の分子量は、好ましくは感度、現像ラチチュードの面から質量平均分子量(Mw)で2000以上であり、更に好ましくは0.5万〜10万の範囲であり、特に好ましくは1万〜5万である。   The molecular weight of the copolymer according to the present invention is preferably 2000 or more in terms of sensitivity and development latitude in terms of mass average molecular weight (Mw), more preferably in the range of 50,000 to 100,000, particularly preferably. 10,000 to 50,000.

本発明に係る共重合体は、単独で用いてもあるいは2種類以上を混合して用いてもよい。   The copolymer according to the present invention may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る共重合体は、一般的な、ラジカル反応重合により得ることができる。即ち一般式(1)で表される繰り返し単位の前駆体である、2重結合を有する単量体と、他の共重合成分と、アゾビスイソブチルニトリルなどのラジカル重合開始剤とを反応溶媒中に存在させ、加熱して重合反応を行うことにより得ることができる。   The copolymer according to the present invention can be obtained by general radical reaction polymerization. That is, a monomer having a double bond, which is a precursor of the repeating unit represented by the general formula (1), another copolymer component, and a radical polymerization initiator such as azobisisobutylnitrile in a reaction solvent. It can be obtained by carrying out the polymerization reaction by heating.

アルカリ可溶性樹脂としては、本発明の共重合体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、他のアルカリ可溶性樹脂を併用してもよい。   As the alkali-soluble resin, in addition to the copolymer of the present invention, other alkali-soluble resins may be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.

他のアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基を有する樹脂、アクリル樹脂、アセタール樹脂が挙げられる。   Examples of other alkali-soluble resins include resins having phenolic hydroxyl groups, acrylic resins, and acetal resins.

(酸発生剤)
本発明に係る酸発生剤は、画像露光により酸を発生する化合物である。
酸発生剤としては、ポリハロゲン化合物、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのBF4 -、PF6 -、SbF6 -、SiF6 2-、ClO4 -などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリドなどが挙げられる。
(Acid generator)
The acid generator according to the present invention is a compound that generates an acid upon image exposure.
Examples of the acid generator include salts of polyhalogen compounds, diazonium, phosphonium, sulfonium, and iodonium such as BF 4 , PF 6 , SbF 6 , SiF 6 2− , ClO 4 , organic halogen compounds, and orthoquinone-di And azidosulfonyl chloride.

これらの中でも特に、ポリハロゲン化合物が好適に用いられ、特に下記一般式(2)で表される化合物が好ましい。   Among these, a polyhalogen compound is particularly preferably used, and a compound represented by the following general formula (2) is particularly preferable.

一般式(2) R1−C(X)2−(C=O)−R2
一般式(2)中、R1は、臭素原子、塩素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノスルホニル基またはシアノ基を表す。R2は水素原子又は一価の有機置換基を表す。R1とR2が結合して環を形成してもよい。Xは、臭素原子または塩素原子を表す。
Formula (2) R 1 —C (X) 2 — (C═O) —R 2
In general formula (2), R 1 represents a bromine atom, a chlorine atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an iminosulfonyl group, or a cyano group. R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic substituent. R 1 and R 2 may combine to form a ring. X represents a bromine atom or a chlorine atom.

一般式(2)で表される化合物のうち、R1が臭素原子又は塩素原子であるものが感度の面から好ましく用いられる。 Among the compounds represented by the general formula (2), those in which R 1 is a bromine atom or a chlorine atom are preferably used in terms of sensitivity.

又R2が表す一価の有機置換基は、特に制限はないが、−R2が−O−R3または−NR4−R3(R3は水素原子または一価の有機置換基を表し、R4は、水素原子またはアルキル基を表す)のものが好ましく用いられる。 The monovalent organic substituent represented by R 2 is not particularly limited, but —R 2 represents —O—R 3 or —NR 4 —R 3 (R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic substituent). , R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group).

又、この場合も特に、R1が臭素原子又は塩素原子であるものが感度の観点より、好ましく用いられる。 Also in this case, in particular, those in which R 1 is a bromine atom or a chlorine atom are preferably used from the viewpoint of sensitivity.

さらにこれらの化合物のうち、分子内にトリブロモアセチル基、ジブロモアセチル基、トリクロロアセチル基及びジクロロアセチル基から選ばれる少なくとも一つのアセチル基を有する化合物が好ましい。また、合成上の観点から、一価もしくは多価のアルコールと該当する酸塩化物との反応により得られる、トリブロモアセトキシ基、ジブロモアセトキシ基、トリクロロアセトキシ基及びジクロロアセトキシ基から選ばれる少なくとも一つのアセトキシ基を有する化合物や、同様に一価もしくは多価の1級アミンと、該当する酸塩化物との反応により得られる、トリブロモアセチルアミド基、ジブロモアセチルアミド基、トリクロロアセチルアミド基及びジクロロアセチルアミド基から選ばれるすくなくとも一つのアセチルアミド基を有する化合物は特に好ましい。又、これらのアセチル基、アセトキシ基、アセトアミド基を複数有する化合物も好ましく用いられる。   Further, among these compounds, compounds having at least one acetyl group selected from a tribromoacetyl group, a dibromoacetyl group, a trichloroacetyl group and a dichloroacetyl group in the molecule are preferable. Further, from the viewpoint of synthesis, at least one selected from a tribromoacetoxy group, a dibromoacetoxy group, a trichloroacetoxy group and a dichloroacetoxy group, which is obtained by reacting a monovalent or polyvalent alcohol with the corresponding acid chloride. Tribromoacetylamide group, dibromoacetylamide group, trichloroacetylamide group and dichloroacetyl obtained by the reaction of a compound having an acetoxy group or a monovalent or polyvalent primary amine with the corresponding acid chloride. A compound having at least one acetylamide group selected from amide groups is particularly preferred. Further, compounds having a plurality of these acetyl groups, acetoxy groups, and acetamide groups are also preferably used.

これらの化合物は、通常のエステル化もしくはアミド化反応の条件により、容易に合成可能である。   These compounds can be easily synthesized under the conditions of ordinary esterification or amidation reaction.

一般式(2)で表される本発明の重合開始剤の代表的な合成方法は、各構造に対応した、トリブロモ酢酸クロリド、ジブロモ酢酸クロリド、トリクロロ酢酸クロリド、ジクロロ酢酸クロリド等の酸クロライドを用いて、アルコール、フェノール、アミン等の誘導体を、エステル化もしくはアミド化する反応である。   A typical synthesis method of the polymerization initiator of the present invention represented by the general formula (2) uses acid chlorides such as tribromoacetic acid chloride, dibromoacetic acid chloride, trichloroacetic acid chloride, dichloroacetic acid chloride corresponding to each structure. In this reaction, a derivative such as alcohol, phenol or amine is esterified or amidated.

上記反応で用いられるアルコール類、フェノール類、アミン類は任意であるが、例えば、エタノール、2−ブタノール、1−アダマンタノール等の一価のアルコール類、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等の多価アルコール類フェノール、ピロガロール、ナフトール等のフェノール類、モルホリン、アニリン、1−アミノデカン等の一価のアミン類2,2−ジメチルプロピレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン等の多価アミン類等が挙げられる。   Alcohols, phenols, and amines used in the above reaction are arbitrary, for example, monovalent alcohols such as ethanol, 2-butanol, 1-adamantanol, diethylene glycol, trimethylolpropane, dipentaerythritol, etc. Polyhydric alcohols Phenols such as phenol, pyrogallol, naphthol, monovalent amines such as morpholine, aniline, 1-aminodecane, polyvalent amines such as 1,2-dimethylpropylenediamine, 1,12-dodecanediamine, etc. Can be mentioned.

一般式(2)表される化合物の例を下記に挙げる。   Examples of the compound represented by the general formula (2) are listed below.

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酸発生剤の含有量としては、感度、明室での取り扱い性の面から、下層に対して、0.1質量%〜30質量%が好ましく、特に1質量%〜15質量%が好ましい。   The content of the acid generator is preferably 0.1% by mass to 30% by mass and particularly preferably 1% by mass to 15% by mass with respect to the lower layer in terms of sensitivity and handleability in a bright room.

(酸分解性化合物)
本発明に係る酸分解性化合物は、画像露光により酸発生剤が発生した酸により、下層中で分解し得る化合物である。
(Acid-decomposable compound)
The acid-decomposable compound according to the present invention is a compound that can be decomposed in the lower layer by an acid generated from an acid generator by image exposure.

具体的には、例えば、特開昭48−89003号、同51−120714号、同53−133429号、同55−12995号、同55−126236号、同56−17345号の明細書中に記載されているC−O−C結合を有する化合物、特開昭60−37549号、同60−121446号の明細書中に記載されているSi−O−C結合を有する化合物、特開昭60−3625号、同60−10247号の明細書中に記載されているその他の酸分解性化合物が挙げられる。   Specifically, for example, it is described in the specifications of JP-A-48-89003, 51-120714, 53-133429, 55-12995, 55-126236, and 56-17345. Compounds having a C—O—C bond, compounds having a Si—O—C bond described in the specifications of JP-A-60-37549 and JP-A-60-121446, JP-A-60- Other acid-decomposable compounds described in the specifications of Nos. 3625 and 60-10247 may be mentioned.

さらにまた特開昭62−222246号の明細書中に記載されているSi−N結合を有する化合物、特開昭62−251743号の明細書中に記載されている炭酸エステル、特開昭62−209451号の明細書中に記載されているオルト炭酸エステル、特開昭62−280841号の明細書中に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭62−280842号の明細書中に記載されているオルトケイ酸エステル、特開2000−221676号の明細書中に記載されているアセタール及びケタール、特開昭62−244038号の明細書中に記載されているC−S結合を有する化合物、特開2005−91802号に記載のフェノールフタレイン、クレゾールフタレイン、フェノールスルホフタレインを熱または酸分解基で保護した化合物などが挙げられる。   Furthermore, compounds having a Si—N bond described in the specification of JP-A-62-222246, carbonate esters described in the specification of JP-A-62-251743, and JP-A-62-2 The ortho carbonate ester described in the specification of No. 209451, the ortho titanate ester described in the specification of JP-A No. 62-280842, and the specification of JP-A No. 62-280842 are described. Orthosilicate esters, acetals and ketals described in the specification of JP-A No. 2000-221676, compounds having a C—S bond described in the specification of JP-A No. 62-244038, Phenolphthalein, cresolphthalein and phenolsulfophthalein described in Kaikai 2005-91802 were protected with heat or acid-decomposable groups. Such compounds, and the like.

上記の中でも酸との反応効率、すなわち感度及び現像ラチテュード向上の点から、アセタール、ケタール基を少なくとも一つ以上有する化合物が好ましい。   Among these, compounds having at least one acetal or ketal group are preferred from the viewpoint of improving reaction efficiency with acid, that is, sensitivity and development latitude.

また感度及び現像性のバランスの点から、−(CH2CH2O)n−基(nは2〜5の整数を表す)を有する化合物が挙げられる。特に上記化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖数nが3又は4の化合物が好ましい。 Also in terms of sensitivity and developability of the balance, - (CH 2 CH 2 O ) n- group (n is an integer of 2 to 5) include compounds having the. Among these compounds, compounds having an ethyleneoxy group chain number n of 3 or 4 are preferred.

上記−(CH2CH2O)n−基を有する化合物の具体例としてはジメトキシシクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれらの置換誘導体と、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール及びペンタエチレングリコールの何れかとの縮合生成物が挙げられる。 The - (CH 2 CH 2 O) dimethoxycyclohexane Specific examples of the compound having an n- group, benzaldehyde and the substituted derivatives thereof, diethylene glycol, triethylene glycol, produce condensation of any of tetraethylene glycol and pentaethylene glycol Things.

本発明に係る酸分解化合物の好ましい化合物としては下記一般式(ADC−1)で表される化合物を挙げることができる。   Preferable compounds of the acid decomposition compound according to the present invention include compounds represented by the following general formula (ADC-1).

Figure 2008298938
Figure 2008298938

(式中、R1、R2、R3、R4は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基で互いに結合して環状となっていてもよい。)
更に好ましいものとしては、下記一般式(ADC−2)の化合物がある。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be bonded to each other through a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group to form a ring.)
More preferred is a compound of the following general formula (ADC-2).

Figure 2008298938
Figure 2008298938

(式中、R5、R6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基で互いに結合して環状となっていてもよい。また、R7はアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基であり、n、mは1以上の整数である。)
本発明において、酸分解化合物の含有量は、感度、耐刷性の面から、下層を形成する組成物の全固形分に対し、0.5〜50質量%が好ましく、特に好ましくは1〜30質量%である。
(In the formula, R 5 and R 6 may be bonded to each other by a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group to form a ring. R 7 is an alkylene group, a cycloalkylene group or an arylene group. And n and m are integers of 1 or more.)
In the present invention, the content of the acid-decomposing compound is preferably 0.5 to 50% by mass, particularly preferably 1 to 30%, based on the total solid content of the composition forming the lower layer, in terms of sensitivity and printing durability. % By mass.

酸分解化合物は1種を用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。また本発明の酸分解化合物は、画像形成層上層に使用してもよい。   The acid decomposition compound may be used alone or in combination of two or more. The acid-decomposable compound of the present invention may be used in the upper layer of the image forming layer.

以下に具体例をあげるが本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples are given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2008298938
Figure 2008298938

(画像形成層上層)
本発明に係る画像形成層上層は、アルカリ可溶性樹脂を含む。アルカリ可溶性樹脂とは、上述したように、pH13を有する水酸化カリウム水溶液に0.1g/l以上溶解する樹脂である。
(Image forming layer upper layer)
The upper layer of the image forming layer according to the present invention contains an alkali-soluble resin. As described above, the alkali-soluble resin is a resin that dissolves in an aqueous potassium hydroxide solution having a pH of 13 or more in an amount of 0.1 g / l.

上層に含まれる、アルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基を有する樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂など用いることができる。   As the alkali-soluble resin contained in the upper layer, a resin having a phenolic hydroxyl group, an acetal resin, a urethane resin, or the like can be used.

フェノール性水酸基を有する樹脂としては、本発明に係る共重合体、ノボラック樹脂、などがあげらる。   Examples of the resin having a phenolic hydroxyl group include a copolymer and a novolak resin according to the present invention.

これらの中でも、上層に用いられる樹脂としては、ノボラック樹脂、上記の本発明に係る共重合体が好ましく、特にノボラック樹脂が好ましい。   Among these, as a resin used for the upper layer, a novolak resin and the copolymer according to the present invention are preferable, and a novolak resin is particularly preferable.

(ノボラック樹脂)
ノボラック樹脂は、フェノール類をアルデヒド類で縮合してなる樹脂である。本発明に用いることができるノボラック樹脂の合成に用いられるフェノール類として、フェノール、m−クレゾール、p−クレゾール、m−/p−混合クレゾール、フェノールとクレゾール(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでもよい)の混合物、ピロガロールなどのフェノール類、イソプロピルフェノール、t−ブチルフェノール、t−アミルフェノール、ヘキシルフェノール、シクロヘキシルフェノール、3−メチル−4−クロロ−6−t−ブチルフェノール、イソプロピルクレゾール、t−ブチルクレゾール、t−アミルクレゾールなどの置換フェノール類が挙げられる。
(Novolac resin)
The novolac resin is a resin obtained by condensing phenols with aldehydes. Phenols used in the synthesis of the novolak resin that can be used in the present invention include phenol, m-cresol, p-cresol, m- / p-mixed cresol, phenol and cresol (m-, p-, or m- / p-mixture), phenols such as pyrogallol, isopropylphenol, t-butylphenol, t-amylphenol, hexylphenol, cyclohexylphenol, 3-methyl-4-chloro-6-t-butylphenol, isopropyl Examples thereof include substituted phenols such as cresol, t-butylcresol, and t-amylresole.

一方、アルデヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド等の脂肪族及び芳香族アルデヒドが挙げられる。好ましくは、ホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドであり、特にホルムアルデヒドであることが最も好ましい。   On the other hand, examples of aldehydes include aliphatic and aromatic aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, acrolein, and crotonaldehyde. Preferred is formaldehyde or acetaldehyde, and most preferred is formaldehyde.

上記組み合わせの中で好ましくは、フェノール−ホルムアルデヒド、m−クレゾール−ホルムアルデヒド、p−クレゾール−ホルムアルデヒド、m−/p−混合クレゾール−ホルムアルデヒド、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい。)混合−ホルムアルデヒドである。   Among the above combinations, preferably phenol-formaldehyde, m-cresol-formaldehyde, p-cresol-formaldehyde, m- / p-mixed cresol-formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / Any of p-mixing, m- / o-mixing and o- / p-mixing.) Mixed-formaldehyde.

特にクレゾール(m−、p−混合)−ホルムアルデヒドであることが好ましい。   Particularly preferred is cresol (m-, p-mixed) -formaldehyde.

これらのノボラック樹脂としては、重量平均分子量は1,000以上、数平均分子量が200以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が1500〜300,000で、数平均分子量が300〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。特に好ましくは、重量平均分子量が2,000〜10,000で、数平均分子量が500〜10,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜5のものである。   These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 1,000 or more and a number average molecular weight of 200 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 1500 to 300,000, the number average molecular weight is 300 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. Particularly preferably, the weight average molecular weight is 2,000 to 10,000, the number average molecular weight is 500 to 10,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 5. .

ノボラック樹脂の製造方法としては、例えば、「新実験化学講座[19] 高分子化学[I]」(1993年、丸善出版)、第300項に記載の如く、フェノール及び置換フェノール類(例えば、キシレノール、クレゾール類など)を溶媒中、酸を触媒として、ホルムアルデヒド水溶液と共に反応させて、フェノールと、置換フェノール成分におけるo−位またはp−位と、ホルムアルデヒドとを、脱水縮合する。こうして得たノボラック樹脂を有機極性溶媒に溶解させたのち、無極性溶媒を適量加え、数時間放置すると、ノボラック樹脂溶液は2層に分離する。分離した溶液の下層のみを濃縮することにより分子量が集約したノボラック樹脂が製造できる。   As a method for producing a novolak resin, for example, as described in “New Experimental Chemistry Course [19] Polymer Chemistry [I]” (1993, Maruzen Publishing), Item 300, phenol and substituted phenols (for example, xylenol) , Cresols, etc.) in a solvent using acid as a catalyst together with an aqueous formaldehyde solution to dehydrate and condense phenol, the o-position or p-position of the substituted phenol component, and formaldehyde. After dissolving the novolak resin thus obtained in an organic polar solvent, an appropriate amount of a nonpolar solvent is added and left for several hours, whereby the novolak resin solution is separated into two layers. By concentrating only the lower layer of the separated solution, a novolak resin with a concentrated molecular weight can be produced.

ノボラック樹脂は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。2種以上組み合わせることにより、膜強度、アルカリ溶解性、薬品に対する溶解性、光熱変換物質との相互作用性等の異なる特性を有効利用することができるので、好ましい。   A novolac resin may be used independently and may use 2 or more types together. By combining two or more kinds, it is possible to effectively use different characteristics such as film strength, alkali solubility, solubility in chemicals, and interaction with a photothermal conversion substance, which is preferable.

(アセタール樹脂)
本発明で使用できるアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化し、さらにその残存ヒドロキシ基と酸無水物とを反応させる方法で合成することができる。
(Acetal resin)
The acetal resin that can be used in the present invention can be synthesized by a method in which polyvinyl alcohol is acetalized with an aldehyde and the remaining hydroxy group is reacted with an acid anhydride.

ここで用いられるアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、グリオキシル酸、N,N−ジメチルホルムアミドジ−n−ブチルアセタール、ブロモアセトアルデヒド、クロルアセトアルデヒド、3−ヒドロキシ−n−ブチルアルデヒド、3−メトキシ−n−ブチルアルデヒド、3−(ジメチルアミノ)−2,2−ジメチルプロピオンアルデヒド、シアノアセトアルデヒド等が挙げられる。   Examples of the aldehyde used herein include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, pentylaldehyde, hexylaldehyde, glyoxylic acid, N, N-dimethylformamide di-n-butyl acetal, bromoacetaldehyde, chloroacetaldehyde, 3-hydroxy- Examples include n-butyraldehyde, 3-methoxy-n-butyraldehyde, 3- (dimethylamino) -2,2-dimethylpropionaldehyde, cyanoacetaldehyde and the like.

(ポリウレタン樹脂)
本発明で使用できるポリウレタン樹脂としては、特開平5−281718号公報及び特開平11−352691号公報に記載のカルボキシル基を0.4meq/g以上含有するアルカリ現像液可溶性のポリウレタン樹脂が挙げられる。
(Polyurethane resin)
Examples of the polyurethane resin that can be used in the present invention include alkali developer-soluble polyurethane resins containing 0.4 meq / g or more of carboxyl groups described in JP-A-5-281718 and JP-A-11-352691.

具体的には、ジイソシアネート化合物とカルボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物で表される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。ジオール化合物としては、カルボキシル基含有量の調整やポリマー物性のコントロールのため、カルボキシル基をもたないジオール化合物を併用することが好ましい。   Specifically, it is a polyurethane resin having as a basic skeleton a structural unit represented by a reaction product of a diisocyanate compound and a diol compound having a carboxyl group. As the diol compound, a diol compound having no carboxyl group is preferably used in combination for the purpose of adjusting the carboxyl group content and controlling the physical properties of the polymer.

本発明に係る上層の膜厚としては、0.01μm〜3.0μmが好ましく、特に0.05μm〜2.0μmが好ましい。   The thickness of the upper layer according to the present invention is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, particularly preferably 0.05 μm to 2.0 μm.

(可視画剤)
本発明に係る上層および下層は、可視画剤として、着色剤を含むことが好ましい。着色剤としては、塩形成性有機染料を含めて、油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。
(Visible paint)
The upper layer and the lower layer according to the present invention preferably contain a colorant as a visible paint. Examples of the colorant include oil-soluble dyes and basic dyes including salt-forming organic dyes.

特にフリーラジカル又は酸と反応して色調が変化するものが好ましく使用できる。「色調が変化する」とは、無色から有色の色調への変化、有色から無色或いは異なる有色の色調への変化の何れをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成して色調を変化するものである。   Particularly preferred are those that change color tone by reacting with free radicals or acids. “Color tone changes” includes both a change from colorless to colored color tone and a change from colored to colorless or different colored tone. Preferred dyes are those that change color tone by forming a salt with an acid.

例えば、ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系又はアントラキノン系の色素が有色から無色或いは異なる有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。   For example, Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue # 603 (Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Violet, Methyl Triphenylmethane series represented by green, erythrosin B, pacific fuchsin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenylacetanilide, etc. , Diphenylmethane-based, oxazine-based, xanthene-based, iminonaphthoquinone-based, azomethine-based or anthraquinone-based pigments that change from colored to colorless or different colored tones And the like to.

一方、無色から有色に変化する変色剤としては、ロイコ色素及び例えば、トリフェニルアミン、ジフェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級又は第2級アリールアミン系色素が挙げられる。これらの化合物は、単独或いは2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素はビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#603である。   On the other hand, examples of the color changing agent that changes from colorless to colored include leuco dyes and, for example, triphenylamine, diphenylamine, o-chloroaniline, 1,2,3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, p, p'-bis. -Dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p, p ', p "-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p', p"- Primary or secondary typified by triamino-o-methyltriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinononaphthylmethane, p, p ', p "-triaminotriphenylmethane These compounds can be used alone or in combination of two or more. It can be used. In addition, particularly preferred dyes are Victoria Pure Blue BOH, an Oil Blue # 603.

上層の着色剤としては、800nm未満、特に600nm未満に吸収極大波長を有する染料を使用するのが好ましい。   As the upper colorant, it is preferable to use a dye having an absorption maximum wavelength of less than 800 nm, particularly less than 600 nm.

これらの染料は、上層または下層の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で印刷版材料中に添加することができる。   These dyes can be added to the printing plate material in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the upper layer or the lower layer.

(現像促進剤)
本発明に係る下層または上層には、必要に応じて溶解性を向上させる目的で低分子量の酸性基を有する化合物を含んでもよい。
(Development accelerator)
The lower layer or the upper layer according to the present invention may contain a compound having a low molecular weight acidic group for the purpose of improving solubility, if necessary.

酸性基としては、チオール基、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性メチレン基等のpKa値が7〜11までの酸性基を挙げることができる。添加量として好ましいのは、下層に対して0.05〜5質量%、より好ましくは0.1〜3質量%である。   Examples of the acidic group include acidic groups having a pKa value of 7 to 11, such as a thiol group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and an active methylene group. The addition amount is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass with respect to the lower layer.

(現像抑制剤)
本発明に係る下層または上層には、溶解性を調節する目的で種々の溶解抑制剤を含んでもよい。溶解抑制剤としては、特開平11−119418号公報に示されるようなジスルホン化合物又はスルホン化合物が好適に用いられ、具体例として、4,4′−ビスヒドロキシフェニルスルホンを用いることが好ましい。添加量として好ましいのは、各層に対して、0.05〜20質量%、より好ましくは0.5〜10質量%である。
(Development inhibitor)
The lower layer or the upper layer according to the present invention may contain various dissolution inhibitors for the purpose of adjusting solubility. As the dissolution inhibitor, a disulfone compound or a sulfone compound as disclosed in JP-A-11-119418 is preferably used, and as a specific example, it is preferable to use 4,4′-bishydroxyphenylsulfone. The addition amount is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass with respect to each layer.

また溶解抑制能を高める目的で、現像抑制剤を含有することができる。本発明に係る現像抑制剤としては、前記アルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、未露光部においては該アルカリ可溶性樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させ、且つ、露光部においては該相互作用が弱まり、現像液に対して可溶となり得るものであれば特に限定はされないが、特に4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。   In addition, a development inhibitor can be contained for the purpose of enhancing dissolution inhibiting ability. The development inhibitor according to the present invention forms an interaction with the alkali-soluble resin, substantially lowers the solubility of the alkali-soluble resin in a developing solution in an unexposed area, and There is no particular limitation as long as the interaction is weakened and can be soluble in the developer, but quaternary ammonium salts, polyethylene glycol compounds and the like are particularly preferably used.

4級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアリールアンモニウム塩、ジアルキルジアリールアンモニウム塩、アルキルトリアリールアンモニウム塩、テトラアリールアンモニウム塩、環状アンモニウム塩、二環状アンモニウム塩が挙げられる。   The quaternary ammonium salt is not particularly limited, and examples thereof include tetraalkylammonium salts, trialkylarylammonium salts, dialkyldiarylammonium salts, alkyltriarylammonium salts, tetraarylammonium salts, cyclic ammonium salts, and bicyclic ammonium salts. .

4級アンモニウム塩の添加量は上層全固形分に対して、現像抑制効果、製膜性の面から、0.1〜50質量%であることが好ましく、1〜30質量%であることがより好ましい。   The addition amount of the quaternary ammonium salt is preferably 0.1 to 50% by mass and more preferably 1 to 30% by mass with respect to the total solid content of the upper layer from the viewpoint of the effect of suppressing development and film forming properties. preferable.

(感度向上剤)
本発明に係る上層および下層は、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を含有してもよい。
(Sensitivity improver)
The upper layer and the lower layer according to the present invention may contain cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids for the purpose of improving sensitivity.

環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。   Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used.

フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。   As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.

更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の組成物中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   Further, examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid Acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbine An acid etc. are mentioned. The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the composition is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, particularly preferably 0.1 to 10%. % By mass.

また特開2005−99298号に記載のトリフルオロメチル基が少なくとも1つα位に置換したアルコール化合物も使用できる。この化合物は、トリフルオロメチル基の電子吸引効果により、α位の水酸基の酸性度が向上し、アルカリ現像液に対する溶解性を向上させる作用を示す。   Also, alcohol compounds in which at least one trifluoromethyl group described in JP-A-2005-99298 is substituted at the α-position can be used. This compound has the effect of improving the solubility in an alkali developer by improving the acidity of the α-position hydroxyl group due to the electron-withdrawing effect of the trifluoromethyl group.

(バックコート層)
本発明の印刷版材料は、支持体の裏面に、現像処理でのアルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出を抑えるために、バックコート層を設けてもよい。バックコート層を設置することにより、現像スラッジが抑えられ、現像液交換期間が短くなったり、補充液量が少なくなったりするので好ましい。好ましいバックコート層の態様は、(a)有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物、(b)コロイダルシリカゾル、(c)有機高分子化合物を含むものである。
(Back coat layer)
In the printing plate material of the present invention, a backcoat layer may be provided on the back surface of the support in order to suppress elution of the anodized film of aluminum during the development process. By providing a backcoat layer, it is preferable because development sludge is suppressed, the developer replacement period is shortened, and the amount of replenisher is reduced. Preferred embodiments of the backcoat layer include (a) a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic metal compound or an inorganic metal compound, (b) a colloidal silica sol, and (c) an organic polymer compound.

バックコート層に用いられる(a)金属酸化物としては、シリカ(酸化ケイ素)、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムや酸化ジルコニウム及びそれらの複合体などが挙げられる。本発明で用いられるバックコート層中の金属酸化物は、有機金属化合物あるいは無機金属化合物を水および有機溶媒中で、酸、またはアルカリなどの触媒で加水分解、及び縮重合反応を起こさせたいわゆるゾル−ゲル反応液を支持体の裏面に塗布、乾燥することにより得られる。ここで用いる有機金属化合物あるいは無機金属化合物としては、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、金属酢酸塩、金属シュウ酸塩、金属硝酸塩、金属硫酸塩、金属炭酸塩、金属オキシ塩化物、金属塩化物およびこれらを部分加水分解してオリゴマー化した縮合物が挙げられる。   Examples of the (a) metal oxide used in the back coat layer include silica (silicon oxide), titanium oxide, boron oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, and a composite thereof. The metal oxide in the backcoat layer used in the present invention is a so-called hydrolytic and polycondensation reaction of an organic metal compound or an inorganic metal compound in water and an organic solvent with a catalyst such as acid or alkali. It is obtained by applying a sol-gel reaction liquid to the back surface of the support and drying it. Examples of the organic metal compound or inorganic metal compound used here include metal alkoxide, metal acetylacetonate, metal acetate, metal oxalate, metal nitrate, metal sulfate, metal carbonate, metal oxychloride, and metal chloride. And condensates obtained by partially hydrolyzing them to form oligomers.

(塗布乾燥)
本発明の平版印刷版材料の上層および下層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、支持体上に順次塗布することにより形成することができる。ここで使用する溶媒としては下記の塗布溶剤が使用できる。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
(Coating drying)
The upper layer and the lower layer of the lithographic printing plate material of the present invention can be formed by usually dissolving each of the above components in a solvent and sequentially applying the solution on a support. As the solvent used here, the following coating solvents can be used. These solvents are used alone or in combination.

(塗布溶剤)
例えばn−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、2−エチル−1−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、n−ヘキサノール、2−ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、1−オクタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−ヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタングリコール、ジメチルトリグリコール、フリフリルアルコール、ヘキシレングリコール、ヘキシルエーテル、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブタノール、ブチルフェニルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトニルアセトン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、炭酸プロピレン、酢酸フェニル、酢酸−sec−ブチル、酢酸シクロヘキシル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−3−エチル−1−ペンタノール、4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒロドキシ−2−ヘキサノン、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、メチルセルソルブ(MC)、エチルセルソルブ(EC)等が挙げられる。
(Coating solvent)
For example, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, sec-butanol, isobutanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 2-methyl-2-butanol, 2-ethyl-1-butanol 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, n-hexanol, 2-hexanol, cyclohexanol, methylcyclohexanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 1-octanol, 4-methyl 2-pentanol, 2-hexyl alcohol, benzyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,5-pentane glycol, dimethyltriglycol, fluoro Furyl alcohol, hexylene glycol, hexyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, butylphenyl ether, ethylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono Propyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol phenyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, methyl carbitol, ethyl Carbitol, ethyl carbitol acetate Butyl carbitol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, diacetone alcohol, acetophenone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetonyl acetone, isophorone, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, propylene carbonate , Phenyl acetate, acetic acid-sec-butyl, cyclohexyl acetate, diethyl oxalate, methyl benzoate, ethyl benzoate, γ-butyllactone, 3-methoxy-1-butanol, 4-methoxy-1-butanol, 3-ethoxy- 1-butanol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-3-ethyl-1-pentanol, 4-ethoxy-1-pentanol, 5-methoxy-1-hex Nord, 3-hydroxy-2-butanone, 4-hydroxy-2-butanone, 4-hydroxy-2-pentanone, 5-hydroxy-2-pentanone, 4-hydroxy-3-pentanone, 6-hydroxy-2-pentanone, Examples include 4-hydroxy-3-pentanone, 6-hydroxy-2-hexanone, 3-methyl-3-hydroxy-2-pentanone, methyl cellosolve (MC), and ethyl cellosolve (EC).

塗布に用いる溶剤としては、上層に用いるアルカリ可溶性高分子と下層に用いるアルカリ可溶性高分子に対して溶解性の異なるものを選ぶことが好ましい。つまり、下層を塗布した後、それに隣接して上層である感熱層を塗布する際、最上層の塗布溶剤として下層のアルカリ可溶性高分子を溶解させうる溶剤を用いると、層界面での混合が無視できなくなり、極端な場合、重層にならず均一な単一層になってしまう場合がある。このように、隣接する2つの層の界面で混合が生じたり、互いに相溶して均一層の如き挙動を示す場合、2層を有することによる本発明の効果が損なわれる虞があり、好ましくない。このため、上部の感熱層を塗布するのに用いる溶剤は、下層に含まれるアルカリ可溶性高分子に対する貧溶剤であることが望ましい。   As the solvent used for coating, it is preferable to select solvents having different solubility with respect to the alkali-soluble polymer used in the upper layer and the alkali-soluble polymer used in the lower layer. In other words, after applying the lower layer and then applying the upper heat-sensitive layer adjacent to it, if a solvent capable of dissolving the lower layer alkali-soluble polymer is used as the uppermost coating solvent, mixing at the layer interface is ignored. In an extreme case, it may become a uniform single layer rather than a multilayer. In this way, when mixing occurs at the interface between two adjacent layers, or when they are compatible with each other and behave like a uniform layer, the effects of the present invention due to having two layers may be impaired, which is not preferable. . For this reason, the solvent used for applying the upper heat-sensitive layer is preferably a poor solvent for the alkali-soluble polymer contained in the lower layer.

上下層の層界面での混合を抑制するために、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつけることや、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール(加熱ロール)よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与えること、あるいはそれらを組み合わせること等により、二層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法を使用できる。   In order to suppress mixing at the upper and lower layer interface, high-pressure air is blown from a slit nozzle installed substantially at right angles to the running direction of the web, or a roll (such as steam) supplied with a heating medium such as steam ( A method of drying the solvent very quickly after coating the second layer can be used by applying thermal energy as conduction heat from the lower surface of the web from the heating roll) or combining them.

2つの層が本発明の効果を十分に発揮するレベルにおいて層間を部分的に相溶させる方法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する方法、2層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法何れにおいても、その程度を調整することができる。   As a method of partially compatibility between the two layers at a level where the effects of the present invention are sufficiently exhibited, a method using the above-mentioned difference in solvent solubility, and drying the solvent very quickly after the second layer is applied In any method, the degree can be adjusted.

各層を塗布する場合の溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。   The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent when applying each layer is preferably 1 to 50% by mass.

調製された塗布組成物(画像形成層塗布液)は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、光重合性感光性平版印刷版材料を作製することができる。塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。   The prepared coating composition (image forming layer coating solution) can be coated on a support by a conventionally known method and dried to produce a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate material. Examples of coating methods for the coating liquid include air doctor coater method, blade coater method, wire bar method, knife coater method, dip coater method, reverse roll coater method, gravure coater method, cast coating method, curtain coater method and extrusion coater method. Can be mentioned.

感光性層の乾燥温度は、60〜160℃の範囲が好ましく、より好ましくは80〜140℃、特に好ましくは90〜120℃の範囲である。また乾燥装置に赤外線放射装置を設置し、乾燥効率の向上を図ることもできる。   The drying temperature of the photosensitive layer is preferably in the range of 60 to 160 ° C, more preferably 80 to 140 ° C, and particularly preferably 90 to 120 ° C. In addition, an infrared radiation device can be installed in the drying device to improve drying efficiency.

支持体上に前記感光層を塗布、乾燥した後、性能を安定させるためにエージング処理を行っても良い。エージング処理は、乾燥ゾーンと連続して実施されてもよく、分けて実施されてもよい。上記エージング処理は、特開2005−17599号に記載の上層の表面に対してOH基を有する化合物を接触させる工程として使用しても良い。エージング工程においては、形成された感光層の表面から水に代表される極性基を有する化合物を浸透、拡散させることで、感光層中において水を仲立ちとした相互作用性の向上が生じるとともに、加熱による凝集力の向上を図ることができ、感光層の特性を改良することができる。   After the photosensitive layer is applied on a support and dried, an aging treatment may be performed to stabilize the performance. The aging treatment may be performed continuously with the drying zone or may be performed separately. The aging treatment may be used as a step of bringing a compound having an OH group into contact with the surface of the upper layer described in JP-A-2005-17599. In the aging process, by penetrating and diffusing a compound having a polar group typified by water from the surface of the formed photosensitive layer, the interaction with water is improved in the photosensitive layer, and heating is performed. Thus, the cohesive force can be improved, and the characteristics of the photosensitive layer can be improved.

エージング工程における温度条件は、拡散すべき化合物が一定量以上気化するように設定することが望ましく、浸透、拡散させる物質としては、水が代表的なものであるが、分子内に極性基、例えば、水酸基、カルボキシル基、ケトン基、アルデヒド基、エステル基などを有する化合物であれば同様に好適に用いることができる。このような化合物としては、好ましくは沸点が200℃以下の化合物であり、更に好ましくは沸点が150℃以下の化合物であり、また、好ましくは沸点が50度以上、更に好ましくは沸点が70度以上である。分子量は150以下が好ましく、100以下が更に好ましい。   The temperature condition in the aging process is desirably set so that the compound to be diffused vaporizes more than a certain amount, and water is a typical example of the substance to be permeated and diffused. Any compound having a hydroxyl group, a carboxyl group, a ketone group, an aldehyde group, an ester group or the like can be suitably used. Such a compound is preferably a compound having a boiling point of 200 ° C. or lower, more preferably a compound having a boiling point of 150 ° C. or lower, preferably a boiling point of 50 ° C. or higher, more preferably 70 ° C. or higher. It is. The molecular weight is preferably 150 or less, and more preferably 100 or less.

(活性剤)
本発明において、上層および下層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特願2001−247351号に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
(Active agent)
In the present invention, the upper layer and the lower layer are described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 in order to improve the coatability and to increase the stability of processing with respect to development conditions. Nonionic surfactants, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149, and siloxane compounds as described in EP950517 Fluorine-containing monomer copolymers as described in JP-A-62-170950, JP-A-11-288093, and Japanese Patent Application No. 2001-247351 can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of amphoteric activators include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).

シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224、DBE−621、DBE−712、DBP−732、DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、0.01〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは0.05〜0.5質量%である。   As the siloxane compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solid content of the lower layer or upper layer is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and still more preferably 0.8. It is 05-0.5 mass%.

<露光現像>
上記のようにして作製された平版印刷版材料は、通常、像露光、現像処理を施され、平版印刷版として用いられる。
<Exposure development>
The lithographic printing plate material produced as described above is usually subjected to image exposure and development treatment and used as a lithographic printing plate.

像露光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。像露光は市販のCTP用セッターを用い、デジタル変換されたデータに基づいて、赤外線レーザー(830nm)で露光した後、現像等の処理をすることにより、アルミニウム板支持体表面に画像を形成し、平版印刷版として供することができる。   As a light source of light used for image exposure, a light source having a light emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable. Image exposure uses a commercially available setter for CTP, based on digitally converted data, after exposure with an infrared laser (830 nm), by processing such as development, an image is formed on the surface of the aluminum plate support, Can be provided as a lithographic printing plate.

製版方法に用いられる露光装置としてはレーザービーム方式であれば特に限定されず、円筒外面(アウタードラム)走査方式、円筒内面(インナードラム)走査方式、平面(フラットベッド)走査方式の何れも用いることができるが、低照度長時間露光による生産性を上げるためにマルチビーム化しやすいアウタードラム方式が好ましく用いられ、特にGLV変調素子を備えたアウタードラム方式の露光装置が好ましい。   The exposure apparatus used in the plate making method is not particularly limited as long as it is a laser beam method, and any of a cylindrical outer surface (outer drum) scanning method, a cylindrical inner surface (inner drum) scanning method, and a flat (flat bed) scanning method may be used. However, in order to increase productivity by low-illumination long-time exposure, an outer drum type that is easy to be multi-beamed is preferably used, and an outer drum type exposure apparatus including a GLV modulation element is particularly preferable.

露光工程において、GLV変調素子を備えたレーザー露光記録装置を用いてマルチチャンネル化することが平版印刷版の生産性を向上させる上で好ましい。GLV変調素子としては、レーザービームを200チャンネル以上に分割できるものが好ましく、500チャンネル以上に分割できるものが更に好ましい。また、レーザービーム径は、15μm以下が好ましく、10μm以下が更に好ましい。レーザー出力は10〜100Wが好ましく、20〜80Wが更に好ましい。ドラム回転数は、20〜300rpmが好ましく、30〜200rpmが更に好ましい。   In the exposure step, it is preferable to use a laser exposure recording apparatus equipped with a GLV modulation element to make it multichannel in order to improve the productivity of the lithographic printing plate. As the GLV modulation element, one that can divide a laser beam into 200 channels or more is preferable, and one that can divide a laser beam into 500 channels or more is more preferable. The laser beam diameter is preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less. The laser output is preferably 10 to 100 W, more preferably 20 to 80 W. The drum rotation speed is preferably 20 to 300 rpm, and more preferably 30 to 200 rpm.

(現像液)
本発明の平版印刷版材料材料に適用できる現像液及び補充液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にあるものである。
(Developer)
The developer and replenisher that can be applied to the lithographic printing plate material of the present invention have a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5.

現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、塩基としては水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は、単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。その他として、例えば、珪酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸カリウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸リチウム、メタ珪酸アンモニウム、燐酸三カリウム、燐酸三ナトリウム、燐酸三リチウム、燐酸三アンモニウム、燐酸二カリウム、燐酸二ナトリウム、燐酸二リチウム、燐酸二アンモニウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸カリウム、硼酸ナトリウム、硼酸リチウム、硼酸アンモニウム等があげられ、予め形成された塩の形で加えられてもよい。この場合も、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムをpH調整に加えることができる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も組み合わせて用いられる。もっとも好ましいものとして珪酸カリウム及び珪酸ナトリウムがあげられる。珪酸塩の濃度は、SiO2濃度換算で2〜4質量%である。また、SiO2とアルカリ金属Mのmol比(SiO2/M)が、0.25〜2の範囲であることがより好ましい。 As the developer (hereinafter referred to as a developer including a replenisher), a conventionally known alkaline aqueous solution can be used. For example, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used as the base. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Other examples include potassium silicate, sodium silicate, lithium silicate, ammonium silicate, potassium metasilicate, sodium metasilicate, lithium metasilicate, ammonium metasilicate, tripotassium phosphate, trisodium phosphate, trilithium phosphate, triammonium phosphate, phosphoric acid. Dipotassium, disodium phosphate, dilithium phosphate, diammonium phosphate, potassium carbonate, sodium carbonate, lithium carbonate, ammonium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate, lithium bicarbonate, ammonium bicarbonate, potassium borate, sodium borate, boric acid Lithium, ammonium borate and the like can be mentioned and may be added in the form of a preformed salt. Again, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium can be added to the pH adjustment. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used in combination. Most preferred are potassium silicate and sodium silicate. The concentration of silicate is 2 to 4% by mass in terms of SiO 2 concentration. Further, the molar ratio of SiO 2 to alkali metal M (SiO 2 / M) is more preferably in the range of 0.25 to 2 .

尚、本発明でいう現像液とは、現像のスタート時に使用される未使用の液だけでなく、赤外レーザー感熱性平版印刷版材の処理によって低下する液の活性度を補正するために補充液が補充され、活性度が保たれた液(いわゆるランニング液)を含む。   The developing solution referred to in the present invention is not only an unused solution used at the start of development, but also replenished to correct the activity of the solution that decreases due to processing of the infrared laser heat-sensitive lithographic printing plate material. The liquid is replenished and the liquid whose activity is maintained (so-called running liquid) is included.

現像液及び補充液には、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。   Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.

現像液及び補充液には、現像性を高めるために前記の他に以下のような添加剤を加えることができ、例えば、特開昭58−75152号公報記載のNaCl、KCl、KBr等の中性塩、特開昭59−121336号公報記載の[Co(NH3)]6Cl3等の錯体、特開昭56−142258号公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭59−75255号公報記載のSi、Ti等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報記載の有機硼素化合物等が挙げられる。 In addition to the above, the following additives can be added to the developer and replenisher, such as NaCl, KCl, KBr, etc. described in JP-A-58-75152. Salt, a complex such as [Co (NH 3 )] 6 Cl 3 described in JP-A-59-121336, a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A-56-142258 And amphoteric polymer electrolytes, organometallic surfactants containing Si, Ti and the like described in JP-A-59-75255, organoboron compounds described in JP-A-59-84241, and the like.

現像液及び補充液には、更に必要に応じて防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水軟化剤などを含有させることもできる。   The developer and replenisher may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like as necessary.

また、現像液及び補充液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当であるが、必要により可溶化剤を加えることが好ましい。可溶化剤としては、特開平6−32081号公報記載のトルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸及びそれらのアルカリ金属塩等のいわゆるヒドロトロープ剤が好ましく用いられる。   In addition, it is advantageous in terms of transportation that the developer and the replenisher are concentrated solutions having a water content less than that in use and are diluted with water during use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not separate or precipitate, but it is preferable to add a solubilizer if necessary. As the solubilizer, so-called hydrotropes such as toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid and alkali metal salts thereof described in JP-A-6-32081 are preferably used.

(ノンシリケート現像液)
本発明の平版印刷版版材料の現像に適用するのには、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」を使用することもできる。この現像液を用いて、平版印刷版原版の現像処理を行うと、記録層の表面を劣化させることがなく、かつ記録層の着肉性を良好な状態に維持することができる。また、平版印刷版原版は、一般には現像ラチチュードが狭く、現像液pHによる画線幅等の変化が大きいが、ノンシリケート現像液にはpHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有利である。更に、非還元糖は、シリケートに比べて液活性度を制御するための電導度センサーやpHセンサー等を汚染し難いため、この点でも、ノンシリケート現像液は有利である。また、ディスクリミネーション向上効果が顕著である。
(Non-silicate developer)
For application to the development of the lithographic printing plate material of the present invention, a so-called “non-silicate developer” which does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base can also be used. When this developer is used to develop the lithographic printing plate precursor, the surface of the recording layer is not deteriorated and the thickness of the recording layer can be maintained in a good state. In addition, the lithographic printing plate precursor generally has a narrow development latitude and a large change in the image line width due to the developer pH, but the non-silicate developer contains a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH. Therefore, it is more advantageous than the case where a developing processing solution containing silicate is used. Furthermore, since non-reducing sugars are less likely to contaminate conductivity sensors, pH sensors and the like for controlling liquid activity compared to silicates, non-silicate developers are advantageous in this respect as well. Further, the effect of improving discrimination is remarkable.

前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において好適に用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。   The non-reducing sugar is a saccharide that does not have a free aldehyde group or a ketone group and does not exhibit reducibility, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other, or a glycoside in which a reducing group of a saccharide is bonded to a non-saccharide. And sugar alcohols reduced by hydrogenation of saccharides and sugars, both of which can be suitably used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、高濃縮化の促進、及び入手性の観点から、0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。   These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1 to 30% by mass and more preferably 1 to 20% by mass from the viewpoint of promoting high concentration and availability.

(処理方法)
本発明の平版印刷版材料のから印刷版を作製する製版方法としては、自動現像機を用いることが好ましい。
(Processing method)
As a plate making method for producing a printing plate from the planographic printing plate material of the present invention, it is preferable to use an automatic processor.

本発明で用いる自動現像機は、好ましくは現像浴に自動的に補充液を必要量補充する機構が付与されており、好ましくは一定量を超える現像液は、排出する機構が付与されており、好ましくは現像浴に自動的に水を必要量補充する機構が付与されており、好ましくは、通版を検知する機構が付与されており、好ましくは通版の検知をもとに版の処理面積を推定する機構が付与されており、好ましくは通版の検知及び/または処理面積の推定をもとに補充しようとする補充液及び/または水の補充量及び/または補充タイミングを制御する機構が付与されており、好ましくは現像液の温度を制御する機構が付与されており、好ましくは現像液のpH及び/または電導度を検知する機構が付与されており、好ましくは現像液のpH及び/または電導度をもとに補充しようとする補充液及び/または水の補充量及び/または補充タイミングを制御する機構が付与されている。   The automatic processor used in the present invention is preferably provided with a mechanism for automatically replenishing a replenisher with a required amount in a developing bath, and preferably provided with a mechanism for discharging a developer exceeding a certain amount, Preferably, a mechanism for automatically replenishing a required amount of water to the developing bath is provided, preferably a mechanism for detecting plate passing is provided, and preferably the processing area of the plate based on detection of plate passing A mechanism for controlling the replenishment amount and / or replenishment timing of the replenisher and / or water to be replenished preferably based on detection of the plate and / or estimation of the processing area is provided. A mechanism for controlling the temperature of the developer, preferably a mechanism for detecting the pH and / or conductivity of the developer, preferably a pH and / or developer. Or electric Mechanism for controlling the replenishment amount and / or replenishment timing of replenishment solution and / or water tries to refill the original is given in degrees.

自動現像機は、現像工程の前に前処理液に版を浸漬させる前処理部を有してもよい。この前処理部は、好ましくは版面に前処理液をスプレーする機構が付与されており、好ましくは前処理液の温度を25℃〜55℃の任意の温度に制御する機構が付与されており、好ましくは版面をローラー状のブラシにより擦る機構が付与されている。またこの前処理液としては、水などが用いられる。   The automatic processor may have a pretreatment unit that immerses the plate in the pretreatment liquid before the development step. The pretreatment unit is preferably provided with a mechanism for spraying the pretreatment liquid onto the plate surface, and preferably provided with a mechanism for controlling the temperature of the pretreatment liquid to an arbitrary temperature of 25 ° C to 55 ° C. Preferably, a mechanism for rubbing the plate surface with a roller-like brush is provided. Moreover, water etc. are used as this pretreatment liquid.

上述の組成からなる現像液で現像処理されたポジ型平版印刷版材料は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明のポジ型平版印刷版材料の後処理には、これらの処理を種々組み合わせて用いることができ、例えば、現像後−水洗−界面活性剤を含有するリンス液処理や現像−水洗−フィニッシャー液による処理が、リンス液やフィニッシャー液の疲労が少なく好ましい。   The positive lithographic printing plate material developed with the developer having the above composition is washed with water, a rinse solution containing a surfactant, etc., and a finisher or protective gum solution mainly composed of gum arabic or starch derivatives. Processed. For the post-treatment of the positive-type planographic printing plate material of the present invention, these treatments can be used in various combinations. For example, post-development-water-wash-surfactant-containing rinse treatment or development-water-wash-finisher solution The treatment by is preferable because there is little fatigue of the rinsing liquid and finisher liquid.

更に、リンス液やフィニッシャー液を用いた多段向流処理も好ましい態様である。これらの後処理は、一般に現像部と後処理部とからなる自動現像機を用いて行われる。後処理液は、スプレーノズルから吹き付ける方法、処理液が満たされた処理槽中を浸漬搬送する方法が用いられる。また、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃液を現像液原液の希釈水として再利用する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の後処理液で処理する、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によって得られた平版印刷版材料は、オフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。   Furthermore, a multi-stage countercurrent process using a rinse liquid or a finisher liquid is also a preferred embodiment. These post-processing are generally performed using an automatic developing machine including a developing unit and a post-processing unit. As the post-treatment liquid, a method of spraying from a spray nozzle or a method of immersing and conveying in a treatment tank filled with the treatment liquid is used. A method is also known in which a certain amount of a small amount of washing water is supplied to the plate surface after the development to wash it, and the waste solution is reused as dilution water for the developer stock solution. In such automatic processing, processing can be performed while each replenisher is replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable treatment method in which treatment is performed with a substantially unused post-treatment liquid is also applicable. The lithographic printing plate material obtained by such treatment is applied to an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

(バーニング処理)
製版され得られた印刷版は、より一層の高耐刷力平版印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
(Burning process)
The printing plate obtained by making a plate is subjected to a burning treatment as desired in order to obtain a higher printing durability lithographic printing plate.

平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。   In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.

その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。   As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

整面液の塗布量は、一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). The In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われている処理を施すことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。   The lithographic printing plate subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like was used. In some cases, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The planographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

(包材−合紙)
本発明の平版印刷版材料は、表面層を塗布乾燥後に、保存中の機械的な衝撃を防ぐために、あるいは搬送中における無用な衝撃を軽減するために、印刷版間に合紙が挿入し、保存、保管、運搬などが行われることが好ましい。合紙については各種合紙を適宜選択して用いることができる。
(Wrapping material-slip paper)
In the lithographic printing plate material of the present invention, after applying and drying the surface layer, in order to prevent mechanical shock during storage or to reduce unnecessary shock during transportation, a slip sheet is inserted between the printing plates, Storage, storage, transportation, etc. are preferably performed. Various slip sheets can be selected and used as appropriate.

合紙には、一般に、材料コストを抑制するために、低コストの原料が選択されることが多く、例えば、木材パルプを100%使用した紙や、木材パルプとともに合成パルプを混合使用した紙、及びこれらの表面に低密度又は高密度ポリエチレン層を設けた紙等を使用することができる。特に合成パルプやポリエチレン層を使用しない紙では材料コストが低くなるので、低コストで合紙を製造することができる。   In general, a low-cost raw material is often selected for the interleaving paper in order to suppress material costs. For example, paper using 100% wood pulp, paper using synthetic pulp mixed with wood pulp, In addition, paper having a low density or high density polyethylene layer on the surface thereof can be used. In particular, a paper that does not use a synthetic pulp or a polyethylene layer has a low material cost, so that a slip sheet can be produced at a low cost.

上記した合紙の仕様の中でも、好ましい仕様としては、坪量が30〜60g/m2、平滑度が、JIS8119に規定されたベックの平滑度測定方法で10〜100秒、水分量がJIS8127に規定された含水率測定方法で4〜8%、密度が0.7〜0.9g/cm3のものである。また、残留溶剤の吸収のため、少なくとも感光層と接触する面がポリマーなどでラミネートされていないものが好ましい。 Among the specifications of the slip sheets described above, preferable specifications include a basis weight of 30 to 60 g / m 2 , a smoothness of 10 to 100 seconds according to a Beck smoothness measuring method defined in JIS 8119, and a moisture content of JIS 8127. It is 4 to 8% and density is 0.7 to 0.9 g / cm 3 according to the specified moisture content measurement method. In order to absorb the residual solvent, it is preferable that at least the surface in contact with the photosensitive layer is not laminated with a polymer or the like.

(印刷)
印刷は、一般的な平版印刷機を用いて行うことができる。
(printing)
Printing can be performed using a general lithographic printing machine.

近年印刷業界においても環境保全が叫ばれ、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物(VOC)を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に顕著である。環境対応の印刷インキとしては大日本インキ化学工業社製の大豆油インキ“ナチュラリス100”、東洋インキ社製のVOCゼロインキ“TKハイエコーNV”、東京インキ社製のプロセスインキ“ソイセルボ”等があげられる。   In recent years, the printing industry has been screaming for environmental protection, and in printing inks, inks that do not use petroleum-based volatile organic compounds (VOC) have been developed and are becoming popular. This is particularly noticeable when the printing inks are used. Examples of environmentally friendly printing inks include soybean oil ink “Naturalis 100” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, VOC zero ink “TK Hi-Echo NV” manufactured by Toyo Ink, and process ink “Soyselbo” manufactured by Tokyo Ink. It is done.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, the aspect of this invention is not limited to this. In the examples, “parts” represents “parts by mass” unless otherwise specified.

「支持体1の作製」
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液で、1分間脱脂処理をおこなった後水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、中和し、更に水洗した。このアルミニウム板を1.0質量%の硝酸水溶液中において、温度25℃、電流密度10A/dm2、処理時間60秒の条件で交流電流により電解粗面化を行なった。
“Preparation of support 1”
A 0.3 mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was degreased with a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C. for 1 minute, washed with water, and maintained at 25 ° C. 10 It was immersed in a 1% aqueous sulfuric acid solution for 1 minute, neutralized, and further washed with water. The aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening with an alternating current in a 1.0% by mass nitric acid aqueous solution at a temperature of 25 ° C., a current density of 10 A / dm 2 , and a treatment time of 60 seconds.

次いで5%水酸化ナトリウム水溶液中で、温度60℃、10秒間のデスマット処理を行ない、その後20%硫酸溶液中で温度20℃、電流密度3A/dm2、処理時間1分間の条件で陽極酸化処理を行った。その後、80℃に保たれた1%酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し、水洗後80℃で3分間乾燥した。更に、85℃に保たれたカルボキシメチルセルロース(CMCと以下略す)の水溶液(濃度0.1質量%)に30秒浸漬した後、80℃で5分間乾燥し、支持体1を作製した。 Next, desmutting is performed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution at a temperature of 60 ° C. for 10 seconds, and then anodizing is performed in a 20% sulfuric acid solution at a temperature of 20 ° C., a current density of 3 A / dm 2 , and a processing time of 1 minute. Went. Then, it was immersed in 1% ammonium acetate aqueous solution kept at 80 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried at 80 ° C. for 3 minutes. Further, the substrate 1 was dipped in an aqueous solution (concentration: 0.1% by mass) of carboxymethyl cellulose (hereinafter abbreviated as CMC) kept at 85 ° C. for 30 seconds, and then dried at 80 ° C. for 5 minutes to prepare a support 1.

(ノボラック樹脂の合成)
300mlのセパラブルフラスコに、フェノール3.48g、メタクレゾール45.84g、パラクレゾール30.56g、ホルマリン(37%水溶液)32.1g、しゅう酸0.16gを仕込み、110℃の油浴で3時間加熱撹拌し反応させ、生成物を減圧乾燥してノボラック樹脂を得た。このようにして得られた樹脂の重量平均分子量は3700だった。
(Synthesis of novolac resin)
A 300 ml separable flask was charged with 3.48 g of phenol, 45.84 g of metacresol, 30.56 g of paracresol, 32.1 g of formalin (37% aqueous solution) and 0.16 g of oxalic acid, and placed in an oil bath at 110 ° C. for 3 hours. The reaction was conducted by heating and stirring, and the product was dried under reduced pressure to obtain a novolak resin. The weight average molecular weight of the resin thus obtained was 3700.

(酸分解性化合物1の合成)
1,1−ジメトキシシクロヘキサン58g、ジエチレングリコール85g、p−トルエンスルホン酸194mgおよびトルエン200mlを混合し、120℃で撹拌させながら11時間反応させた。反応終了後、反応によって生成したメタノールおよび反応溶剤を除去し、200mlの水で洗浄後、400mlの1%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄したのち、中性になるまで飽和食塩水で洗浄した。得られた化合物を無水炭酸カリウムで脱水した後、減圧蒸留して酸分解性化合物1を得た。
(Synthesis of acid-decomposable compound 1)
58 g of 1,1-dimethoxycyclohexane, 85 g of diethylene glycol, 194 mg of p-toluenesulfonic acid and 200 ml of toluene were mixed and reacted for 11 hours while stirring at 120 ° C. After completion of the reaction, methanol and reaction solvent produced by the reaction were removed, washed with 200 ml of water, washed with 400 ml of 1% sodium hydroxide aqueous solution, and then washed with saturated saline until neutral. The obtained compound was dehydrated with anhydrous potassium carbonate and then distilled under reduced pressure to obtain acid-decomposable compound 1.

(共重合体の合成)
表1に示すモノマーを用い、表1に示す共重合体C1〜C13を合成した。表中の数値はモノマーのモル比を表す。
(Synthesis of copolymer)
Copolymers C1 to C13 shown in Table 1 were synthesized using the monomers shown in Table 1. The numerical values in the table represent the molar ratio of monomers.

Figure 2008298938
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(共重合体の合成方法)
攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた100ml三ツ口フラスコに、表1記載のモノマーを、合計9gとなるよう、表1記載のmol比率になるように入れ、N,N−ジメチルアセトアミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合物に「V−65(2,2′−アゾビス(2,4ジメチルバレロニトリル))」(和光純薬(株)製)0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌した。この反応混合物にさらに同様のモノマーを上記同量と、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより、共重合体である白色固体を得た。
(Method of synthesizing copolymer)
In a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube and a dropping funnel, the monomers described in Table 1 are added so as to have a total molar ratio of 9 g, and 20 g of N, N-dimethylacetamide is added. The mixture was stirred while heating to 65 ° C. with a hot water bath. To this mixture, 0.15 g of “V-65 (2,2′-azobis (2,4 dimethylvaleronitrile))” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was kept under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining at 65 ° C. Stir. The same amount of the same monomer as above, and a mixture of 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of “V-65” were added dropwise to the reaction mixture through a dropping funnel over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, cooled, and the resulting mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. After stirring the mixture for 30 minutes, the precipitate was removed by filtration and dried. A white solid as a copolymer was obtained.

(平版印刷版材料の作製)
支持体上1に、下記組成を有する下層−1塗布液を乾燥質量が0.8g/m2になるようにワイヤーバーで塗布し、95℃雰囲気中90秒間乾燥させ平版印刷版材料1を得た。
(Preparation of lithographic printing plate materials)
A lower layer-1 coating solution having the following composition is coated on the support 1 with a wire bar so that the dry mass becomes 0.8 g / m 2 and dried in a 95 ° C. atmosphere for 90 seconds to obtain a lithographic printing plate material 1 It was.

平版印刷版材料1の下層上に、下記組成を有する上層−1塗布液を乾燥質量が0.8g/m2になるようにワイヤーバーで塗布し、95℃雰囲気中90秒間乾燥させ平版印刷版材料2を得た。 On the lower layer of the lithographic printing plate material 1, an upper layer-1 coating solution having the following composition is applied with a wire bar so that the dry mass is 0.8 g / m 2, and is dried in an atmosphere at 95 ° C. for 90 seconds. Material 2 was obtained.

平版印刷版材料1の下層上に、下記組成を有する上層−2塗布液を乾燥質量が0.8g/m2になるようにワイヤーバーで塗布し、95℃雰囲気中90秒間乾燥させ平版印刷版材料3を得た。 On the lower layer of the lithographic printing plate material 1, an upper layer-2 coating solution having the following composition is applied with a wire bar so that the dry mass becomes 0.8 g / m 2, and is dried in a 95 ° C. atmosphere for 90 seconds. Material 3 was obtained.

下層および上層の塗布液を表1に示すものに変えた他は、平版印刷版材料3と同様にして、平版印刷版材料4〜16を得た。   Lithographic printing plate materials 4 to 16 were obtained in the same manner as the lithographic printing plate material 3 except that the lower layer and upper layer coating solutions were changed to those shown in Table 1.

(下層−1塗布液)
赤外線吸収剤(IR25) 1質量部
酸発生剤((III)−1) 3質量部
酸分解性化合物1 20質量部
ノボラック樹脂 76質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 700質量部
メチルエチルケトン 300質量部
(下層−2塗布液)
赤外線吸収剤(IR25) 1質量部
酸発生剤((III)−1) 3質量部
酸分解化合物1 20質量部
ノボラック樹脂 11質量部
表1に示す共重合体(C1) 65質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 700質量部
メチルエチルケトン 300質量部
(下層−3〜14塗布液)
下層−2の共重合体を、表2の通りとした以外は下層−2と同様にして調製した。
(Lower layer-1 coating solution)
Infrared absorber (IR25) 1 part by weight Acid generator ((III) -1) 3 parts by weight Acid-decomposable compound 1 20 parts by weight Novolak resin 76 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 700 parts by weight Methyl ethyl ketone 300 parts by weight (Lower layer-2 Coating liquid)
Infrared absorber (IR25) 1 part by weight Acid generator ((III) -1) 3 parts by weight Acid-decomposable compound 1 20 parts by weight Novolak resin 11 parts by weight Copolymer (C1) shown in Table 1 65 parts by weight Propylene glycol monomethyl 700 parts by mass of ether 300 parts by weight of methyl ethyl ketone (lower layer-3-14 coating solution)
The copolymer of Lower layer-2 was prepared in the same manner as Lower layer-2 except that the copolymer was changed as shown in Table 2.

(上層−1塗布液)
ノボラック樹脂KNC−1(m/p=6/4,分子量4880:住友ベークライト社製) 88.0質量部
赤外線吸収色素 6.0質量部
可視画剤:ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学社製) 0.5質量部
フッソ系界面活性剤:メガファック F−178K(大日本インキ化学工業製)
1.0質量部
溶剤:メチルエチルケトン/1−メトキシ−2−プロパノール(1/2)
903.0質量部
(上層−2塗布液)
ノボラック樹脂KNC−1(m/p=6/4,分子量4880:住友ベークライト社製) 23.0質量部
表1に示す共重合体(C1) 65.0質量部
赤外線吸収色素 6.0質量部
可視画剤:ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学社製) 0.5質量部
フッソ系界面活性剤:メガファック F−178K(大日本インキ化学工業製)
1.0質量部
溶剤:メチルエチルケトン/1−メトキシ−2−プロパノール(1/2)
903.0質量部
(Upper layer-1 coating solution)
Novolac resin KNC-1 (m / p = 6/4, molecular weight 4880: manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) 88.0 parts by mass Infrared absorbing dye 6.0 parts by mass Visible agent: Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts by mass Fluorosurfactant: Megafac F-178K (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
1.0 part by mass Solvent: methyl ethyl ketone / 1-methoxy-2-propanol (1/2)
903.0 parts by mass (upper layer-2 coating solution)
Novolak resin KNC-1 (m / p = 6/4, molecular weight 4880: manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) 23.0 parts by mass Copolymer (C1) shown in Table 1 65.0 parts by mass Infrared absorbing dye 6.0 parts by mass Visible paint agent: Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.5 parts by mass Fluorosurfactant: MegaFac F-178K (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
1.0 part by mass Solvent: methyl ethyl ketone / 1-methoxy-2-propanol (1/2)
903.0 parts by mass

Figure 2008298938
Figure 2008298938

Figure 2008298938
Figure 2008298938

(露光、現像)
上記平版印刷版材料1〜16に、大日本スクリーン製造株式会社製 PTR−4300を用い、ドラム回転数1000rpm、レーザー出力を100mJ/cm2とし、解像度1200dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)で3%網点、50%網点、ベタ画像の露光を行った。露光後の版は、自動現像機(Raptor 85 Thermal GLUNZ & JENSEN社製)、およびPD−1(コダックポリクローム)の現像液を用いて30℃で15秒間、現像処理を行った。
(Exposure, development)
PTR-4300 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. is used as the lithographic printing plate materials 1-16, the drum rotation speed is 1000 rpm, the laser output is 100 mJ / cm 2 , and the resolution is 1200 dpi (dpi is a dot per 2.54 cm) 3% dot, 50% dot, and solid image were exposed. The exposed plate was subjected to development processing at 30 ° C. for 15 seconds using a developing solution of an automatic developing machine (manufactured by Raptor 85 Thermal GLUNZ & JENSEN) and PD-1 (Kodak Polychrome).

<評価>
(現像性)
現像した印刷版の非画像部を、濃度計(X−Rite528)を用いて測定した。測定色をシアンに設定し、濃度を測定する。濃度が0.40以下のものが実用的な範囲である。
<Evaluation>
(Developability)
The non-image area of the developed printing plate was measured using a densitometer (X-Rite 528). Set the measurement color to cyan and measure the density. A concentration of 0.40 or less is a practical range.

(耐刷性)
平版印刷版材料を次に示す条件で印刷を行なった。印刷版材料は露光後そのままの状態で版胴に取り付け、PS版と同じ刷り出しシークエンスを用いて印刷した。耐刷性の評価は、3%網点画像をルーペで観察し、全体の3割の点が無くなった段階を耐刷の終点とした。
(Print life)
The planographic printing plate material was printed under the following conditions. The printing plate material was attached to the plate cylinder as it was after exposure, and printed using the same printing sequence as the PS plate. For evaluation of printing durability, a 3% halftone image was observed with a magnifying glass, and the stage where 30% of the dots disappeared as the end point of printing durability.

印刷機:三菱重工工業(株)製DAIYA F−1
印刷用紙:キンマリSW
印刷速度:9,000枚/時
湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)の2質量%水溶液
インキ:(東洋インキ社製TKハイユニティ紅)
結果を表2に示す。表2より、本発明の平版印刷版材料は、良好な現像性を有し、かつ十分な耐刷性を有していることがわかる。
Printing machine: DAIYA F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.
Printing paper: Kinmari SW
Printing speed: 9,000 sheets / hour Dampening solution: 2% by weight aqueous solution of Astro Mark 3 (manufactured by Nikken Chemical Laboratory) Ink: (TK High Unity Red, manufactured by Toyo Ink)
The results are shown in Table 2. From Table 2, it can be seen that the planographic printing plate material of the present invention has good developability and sufficient printing durability.

Figure 2008298938
Figure 2008298938

Claims (2)

アルミニウム支持体上に、アルカリ可溶性樹脂、酸分解性化合物および酸発生剤を含む画像形成層下層を有し、該画像形成層下層上にアルカリ可溶性樹脂を含む画像形成層上層を有するポジ型感光性平版印刷版材料であって、該画像形成層下層が、該アルカリ可溶性樹脂として、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含む共重合体を含有することを特徴とするポジ型感光性平版印刷版材料。
Figure 2008298938
(式中、Aは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Xはアルキレン基を表し、更にYはカルボキシル基又はその塩基を有する基、スルホ基又はその塩、ホスホノキシ基、ジアルキルホスホノキシ基、トリアルコキシシリル基、アルキルジアルコキシシリル基を表す。)
A positive photosensitive material having an image forming layer lower layer containing an alkali-soluble resin, an acid-decomposable compound and an acid generator on an aluminum support, and an image forming layer upper layer containing an alkali-soluble resin on the image forming layer lower layer. A lithographic printing plate material, wherein the lower layer of the image forming layer contains a copolymer containing a repeating unit represented by the following general formula (1) as the alkali-soluble resin: Printing plate material.
Figure 2008298938
(In the formula, A represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, X represents an alkylene group, and Y represents a carboxyl group or a group having a base thereof, a sulfo group or a salt thereof, a phosphonoxy group, a dialkylphospho group. Represents a nonoxy group, a trialkoxysilyl group, or an alkyldialkoxysilyl group.)
前記Xがエチレン基であることを特徴とする請求項1に記載のポジ型感光性平版印刷版材料。 2. The positive photosensitive lithographic printing plate material according to claim 1, wherein X is an ethylene group.
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