JP2008296502A - Method for manufacturing resin film having periodic structure - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、周期的な構造が形成された樹脂フィルムを製造する方法に関する。具体的には、ハニカム状多孔質フィルムのハニカムパターンを転写された、ドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮することにより、周期的な構造が形成された樹脂フィルムを製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a resin film in which a periodic structure is formed. Specifically, the present invention relates to a method of manufacturing a resin film having a periodic structure formed by shrinking a resin film having a dot pattern, to which a honeycomb pattern of a honeycomb-like porous film has been transferred.
熱可塑性高分子、光硬化性高分子などの高分子材料や、石英、低融点ガラスなどの無機材料からなり、表面に数nmから数百μmの微細構造が形成された部材は、様々な分野で必要不可欠な部材である。これらの部材は、例えば、回折格子、輝度向上フィルム、偏光反射フィルム、位相差フィルム、導光板などの光学部材;CD、DVD、Blue―ray Diskなどの光記憶媒体;光導波路、光ファイバーなどの光通信部材;細胞培養基材、DNAチップなどのライフサイエンス用部材などとして用いられる。これらの部材を製造するための微細加工技術が、近年活発に研究開発されている。 Members made of polymer materials such as thermoplastic polymers and photo-curable polymers, and inorganic materials such as quartz and low-melting-point glass, with fine structures of several nanometers to several hundred micrometers on the surface, are used in various fields. It is an indispensable member. These members include, for example, optical members such as diffraction gratings, brightness enhancement films, polarization reflection films, retardation films, and light guide plates; optical storage media such as CDs, DVDs, and blue-ray disks; and light such as optical waveguides and optical fibers. Communication member; used as a life science member such as a cell culture substrate or a DNA chip. In recent years, research and development have been actively conducted on microfabrication techniques for manufacturing these members.
微細加工技術として、最もよく用いられる手法はフォトリソグラフィー技術である。フォトリソグラフィー技術とは、フォトレジスト材料を塗布、露光、現像、エッチングという工程で、微細加工を施す技術である。フォトリソグラフィー技術でフォトレジスト材料を露光するために用いられる活性光線には、現在KrFやArFエキシマレーザーが主流であるが、さらに短波長の光線としてF2、極端紫外線(EUV)、電子線(EB)などが研究開発されている。 As the microfabrication technique, the most frequently used technique is a photolithography technique. The photolithographic technique is a technique for performing fine processing in steps of applying, exposing, developing, and etching a photoresist material. Currently, KrF and ArF excimer lasers are the mainstream of actinic rays used to expose photoresist materials in photolithography technology, but F2, extreme ultraviolet rays (EUV), and electron beams (EB) are also used as short-wavelength rays. Etc. are being researched and developed.
フォトリソグラフィー技術は、非常に高価な装置を必要とし、活性光線の波長に応じた新たなレジスト材料の開発を必要とし、膨大な設備投資や運用コストを必要とする。また、加工できる材料の多様性が低く、感光性材料や半導体などの無機材料に限られる。 Photolithographic technology requires a very expensive apparatus, requires development of a new resist material according to the wavelength of actinic rays, and requires enormous capital investment and operation costs. In addition, the variety of materials that can be processed is low, and is limited to inorganic materials such as photosensitive materials and semiconductors.
近年、フォトリソグラフィー技術に代わる微細加工技術として、プレス加工技術を応用したナノインプリント技術が注目されている。ナノインプリント技術は、微細構造を有する金型を樹脂にプレスすることで、金型の微細構造を樹脂に転写する技術であり、一度金型を作製すれば、大量に複製することが可能である。 In recent years, nanoimprint technology applying press working technology has attracted attention as a fine processing technology replacing photolithography technology. The nanoimprint technique is a technique for transferring a fine structure of a mold onto a resin by pressing a mold having a fine structure onto a resin. Once the mold is manufactured, it can be replicated in large quantities.
しかしながらナノインプリントの金型は、電子線リソグラフィー、X線リソグラフィーまたはフォトリソグラフィーを利用して作製されるため、大幅なコスト削減は期待できない。また、解像度が金型に依存する、樹脂の熱収縮や光硬化収縮により寸法精度が低下する、金型と樹脂の離型不良により欠陥が生じる等の問題点がある。 However, since the nanoimprint mold is manufactured using electron beam lithography, X-ray lithography, or photolithography, a significant cost reduction cannot be expected. In addition, there are problems such that the resolution depends on the mold, the dimensional accuracy is lowered due to thermal shrinkage or photocuring shrinkage of the resin, and defects are caused by defective mold release between the mold and the resin.
一方、自己組織化手法によるマイクロパターン形成法が注目されている(例えば、非特許文献1を参照)。自己組織化によるマイクロパターン形成法は、ポリマー溶液を高湿度下でガラス基板上に塗布した後、その表面に気体を吹き付けて、溶媒を蒸発させると共に、凝結した微小水滴を鋳型にしてハニカム構造を形成する方法である。かかる方法は、空気中から自然に凝結する微小水滴と、溶液中から自然に析出するポリマーとを利用しているので、複雑な製造装置を必要とせず、極めて容易かつ安価に製膜できるという利点がある。
本発明は、周期的な微細凹凸を有する樹脂フィルムを形成する方法であって、安価かつ簡便なプロセスを提供する。さらに本発明は、周期的な微細凹凸を有する樹脂フィルムを形成する方法であって、樹脂フィルムの材質や、樹脂フィルムに周期的な構造を形成する材質を、多様な材料から選択することができる製造方法を提供する。また、これらにより光学フィルムに適用することができる樹脂フィルムの製造方法を提供する。 The present invention is a method for forming a resin film having periodic fine irregularities, and provides an inexpensive and simple process. Furthermore, the present invention is a method of forming a resin film having periodic fine irregularities, and the material of the resin film and the material forming the periodic structure on the resin film can be selected from various materials. A manufacturing method is provided. Moreover, the manufacturing method of the resin film which can be applied to an optical film by these is provided.
本発明者らは、高価な装置を必要としない自己組織化手法によって簡便かつ安価に作製される「ハニカム状多孔質フィルム」を鋳型として、そのハニカムパターンを樹脂フィルムに転写することにより、周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを得た。さらに、周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮させることにより、従来は製造が困難であった周期的な構造を有する樹脂フィルムを製造することができることを見出して、本発明を完成させた。 The present inventors use a "honeycomb-like porous film" that is easily and inexpensively manufactured by a self-organization technique that does not require an expensive apparatus as a mold, and transfers the honeycomb pattern to a resin film to obtain periodic A resin film having a simple dot pattern was obtained. Furthermore, it was found that by shrinking a resin film having a periodic dot pattern, a resin film having a periodic structure, which was difficult to manufacture in the past, could be manufactured, and the present invention was completed.
すなわち本発明は、以下に示す樹脂フィルムの製造方法に関する。
[1] 周期的な構造が形成された樹脂フィルムの製造方法であって、
周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを準備するステップ、および前記周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するステップを含み、かつ
前記周期的なドットパターンは、ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として、そのハニカムパターンを転写することにより形成されたパターンである樹脂フィルムの製造方法。
[2] 前記周期的な構造は、周期的なドットを有し、かつ各ドットにしわ状の凹凸を有し、前記凹凸は前記収縮する方向に繰り返される構造である、[1]に記載の製造方法。
[3] 前記ドットパターンを有する樹脂フィルムは、熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するフィルムであり、かつ前記ドットパターンを有する樹脂フィルムの収縮は、熱、光、赤外線またはマイクロ波の照射によって行われる、[1]または[2]に記載の製造方法。
[4] 前記ドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮するステップは、
前記ドットパターンを有するフィルムを、熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するフィルムに貼り合わせて複層フィルムを得る工程、および前記複層フィルムを、熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮させる工程を含む、[1]または[2]に記載の製造方法。
[5] 前記ハニカムパターンの転写は、前記ハニカム状多孔質フィルムをマスクとする物理気相堆積法による転写である、[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6] 前記ハニカムパターンの転写は、前記ハニカム状多孔質フィルムをマスクとする化学気相堆積法による転写である、[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[7] 前記ハニカムパターンの転写は、前記ハニカム状多孔質フィルムをマスクとする、塗布法、スピンキャスト法、ディップ法またはめっき法による転写である、[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[8] 前記熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するフィルムが、異方的に収縮する、[3]または[4]に記載の製造方法。
[9] 前記熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するフィルムが、等方的に収縮する、[3]または[4]に記載の製造方法。
[10] 前記ハニカム状多孔質フィルムを準備するステップであって、
高分子材料を溶解した疎水性有機溶液を高湿度雰囲気下でキャストする工程、前記キャスト液から、キャスト液に含まれる有機溶媒を蒸発させると同時に、キャスト液表面で高湿度雰囲気成分を結露させる工程、および前記結露により生じた微小液滴を蒸発させてキャスト膜を形成する工程、を有するステップをさらに含む、[1]〜[9]のいずれかに記載の製造方法。
[11] 前記ハニカム状多孔質フィルムを準備するステップであって、
高分子材料を溶解した疎水性有機溶液をキャストする工程、前記キャスト液に高湿度ガスを吹き付けて、キャスト液に含まれる有機溶媒を蒸発させると同時に、キャスト液表面で高湿度雰囲気成分を結露させる工程、および前記結露により生じた微小液滴を蒸発させてキャスト膜を形成する工程、を有するステップをさらに含む、[1]〜[9]のいずれかに記載の製造方法。
[12] 前記周期的な構造が形成された樹脂フィルムは光学フィルムである、[1]〜[11]のいずれかに記載の製造方法。
That is, this invention relates to the manufacturing method of the resin film shown below.
[1] A method for producing a resin film in which a periodic structure is formed,
Preparing a resin film having a periodic dot pattern; and shrinking the resin film having a periodic dot pattern by heat, light, infrared rays, or microwaves, and the periodic dot pattern includes: A method for producing a resin film, which is a pattern formed by transferring a honeycomb pattern using a honeycomb-like porous film as a mold.
[2] The periodic structure described in [1], wherein the periodic structure has periodic dots, and each dot has wrinkle-shaped unevenness, and the unevenness is repeated in the contracting direction. Production method.
[3] The resin film having the dot pattern is a film that shrinks by heat, light, infrared rays, or microwaves, and the shrinkage of the resin film having the dot pattern is caused by irradiation with heat, light, infrared rays, or microwaves. The production method according to [1] or [2], which is performed.
[4] The step of shrinking the resin film having the dot pattern includes:
A step of bonding the film having the dot pattern to a film shrinkable by heat, light, infrared or microwave, and a step of shrinking the multilayer film by heat, light, infrared or microwave The production method according to [1] or [2].
[5] The manufacturing method according to any one of [1] to [4], wherein the transfer of the honeycomb pattern is transfer by a physical vapor deposition method using the honeycomb-shaped porous film as a mask.
[6] The manufacturing method according to any one of [1] to [4], wherein the transfer of the honeycomb pattern is transfer by a chemical vapor deposition method using the honeycomb-shaped porous film as a mask.
[7] The transfer of the honeycomb pattern is any one of [1] to [4], which is transfer by a coating method, a spin cast method, a dip method, or a plating method using the honeycomb porous film as a mask. Manufacturing method.
[8] The production method according to [3] or [4], wherein the film that contracts by heat, light, infrared rays, or microwaves contracts anisotropically.
[9] The production method according to [3] or [4], wherein the film that shrinks by heat, light, infrared rays, or microwaves shrinks isotropically.
[10] A step of preparing the honeycomb-shaped porous film,
A step of casting a hydrophobic organic solution in which a polymer material is dissolved in a high-humidity atmosphere, a step of evaporating an organic solvent contained in the casting liquid from the casting liquid, and at the same time condensing a high-humidity atmosphere component on the surface of the casting liquid And a step of forming a cast film by evaporating fine droplets generated by the dew condensation, and the manufacturing method according to any one of [1] to [9].
[11] A step of preparing the honeycomb-shaped porous film,
A step of casting a hydrophobic organic solution in which a polymer material is dissolved. A high-humidity gas is sprayed on the casting solution to evaporate an organic solvent contained in the casting solution, and at the same time, a high-humidity atmosphere component is condensed on the surface of the casting solution. The manufacturing method according to any one of [1] to [9], further including a step including a step of forming a cast film by evaporating the fine droplets generated by the condensation.
[12] The manufacturing method according to any one of [1] to [11], wherein the resin film on which the periodic structure is formed is an optical film.
本発明は、周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮させることにより、従来は製造が困難であった周期的な構造が形成された樹脂フィルムを製造する方法である。周期的な構造とは、好ましくは、周期的なドットを有し、かつ各ドット表面にしわ状の凹凸を有する構造である。
周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムは、ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として用いて、そのハニカムパターンを樹脂フィルムに転写して得ることができる。ハニカム状多孔質フィルムは、自己組織化手法によって作製することができる。また、樹脂フィルムの収縮は、熱、光、赤外線またはマイクロ波の照射によって行なえばよい。したがって本発明の製造方法に含まれる工程はいずれも、簡便かつ安価に行なうことができる。
The present invention is a method for producing a resin film having a periodic structure which has been difficult to produce by shrinking a resin film having a periodic dot pattern. The periodic structure is preferably a structure having periodic dots and wrinkled irregularities on the surface of each dot.
A resin film having a periodic dot pattern can be obtained by transferring the honeycomb pattern to a resin film using a honeycomb-like porous film as a mold. The honeycomb-like porous film can be produced by a self-organizing method. The resin film may be contracted by irradiation with heat, light, infrared rays, or microwaves. Therefore, all the steps included in the production method of the present invention can be performed easily and inexpensively.
よって、従来技術では高価な装置を用いなければなし得なかった構造を有する樹脂フィルムを、簡便で安価に提供できるようになる。さらに、従来の微細加工技術(フォトフォトリソグラフィー技術など)と比較して、使用できる材料が多様になる。 Therefore, it becomes possible to provide a resin film having a structure that could not be achieved without using an expensive apparatus in the prior art at a low cost. Furthermore, the materials that can be used are diversified as compared with conventional microfabrication techniques (such as photo photolithography techniques).
本発明に係る周期的な構造を形成された樹脂フィルムの製造方法は、周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮するステップを有する。 The manufacturing method of the resin film formed with the periodic structure according to the present invention includes a step of shrinking the resin film having a periodic dot pattern.
前記周期的なドットパターンを有するフィルムは、ハニカム状多孔質フィルムを準備し;ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として、そのハニカムパターンを樹脂フィルムに転写して作製することが好ましい。 The film having the periodic dot pattern is preferably prepared by preparing a honeycomb-like porous film; using the honeycomb-like porous film as a mold, and transferring the honeycomb pattern to a resin film.
ハニカム状多孔質フィルムの作製
ハニカム状多孔質フィルムは、自己組織化手法によって作製されることが好ましい。自己組織化手法によるハニカム状多孔質フィルムの製造は、例えば、前述の非特許文献1や特開2001−157574の記載を参照して行われうる。自己組織化手法によるハニカム状多孔質フィルムの製造方法は、溶媒の蒸発過程で発生する散逸構造をフィルムに固定化することを特徴とする。
Production of Honeycomb Porous Film The honeycomb porous film is preferably produced by a self-organizing method. The manufacture of the honeycomb-like porous film by the self-organization method can be performed with reference to the description of Non-Patent Document 1 and JP 2001-157574 A, for example. A method for manufacturing a honeycomb-shaped porous film by a self-organization method is characterized in that a dissipative structure generated in the evaporation process of a solvent is fixed to the film.
自己組織化手法の好ましい手順の第一には、高分子材料を溶解した疎水性有機溶液を、高湿度雰囲気下でキャストする工程;該キャスト液から、キャスト液に含まれる有機溶媒を蒸発させると同時に、キャスト液表面で高湿度雰囲気成分を結露させる工程;該結露により生じた微小液滴を蒸発させてキャスト膜を形成して、ハニカム状多孔質フィルムを製造する工程が含まれる。 The first of the preferable procedures of the self-assembly method is a step of casting a hydrophobic organic solution in which a polymer material is dissolved in a high-humidity atmosphere; when the organic solvent contained in the casting solution is evaporated from the casting solution At the same time, a step of condensing a high-humidity atmosphere component on the surface of the casting liquid; a step of producing a honeycomb film by forming a cast film by evaporating fine droplets generated by the condensation are included.
自己組織化手法の好ましい手順の第二には、高分子材料を溶解した疎水性有機溶液をキャストする工程;該キャスト液に高湿度ガスを吹き付けて、キャスト液に含まれる有機溶媒を蒸発させると同時に、キャスト液表面で高湿度雰囲気成分を結露させる工程;該結露により生じた微小液滴を蒸発させてキャスト膜を形成して、ハニカム状多孔質フィルムを製造する工程が含まれる。 The second preferred procedure of the self-assembly method is a step of casting a hydrophobic organic solution in which a polymer material is dissolved; when high humidity gas is sprayed on the casting solution to evaporate the organic solvent contained in the casting solution. At the same time, a step of condensing a high-humidity atmosphere component on the surface of the casting liquid; a step of producing a honeycomb film by forming a cast film by evaporating fine droplets generated by the condensation are included.
自己組織化手法で用いられる疎水性有機溶液に溶解される高分子材料は、疎水性有機溶媒に可溶であれば特に制限されないが、水には不溶もしくは難溶であることが好ましい。高分子材料の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルエーテル、ポリビニルカルバゾール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、シクロオレフィン共重合体樹脂等のビニル重合樹脂もしくはその共重合体、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリ乳酸、ポイヒドロキシ酪酸、ポリカプロラクトン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドなどが含まれる。 The polymer material dissolved in the hydrophobic organic solution used in the self-assembly method is not particularly limited as long as it is soluble in the hydrophobic organic solvent, but is preferably insoluble or hardly soluble in water. Examples of polymeric materials include polyethylene, polypropylene, polybutadiene, polystyrene, polyacrylate, polymethacrylate, polyacrylamide, polymethacrylamide, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl ether, polyvinyl carbazole, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, Vinyl polymerization resins such as cycloolefin copolymer resins or copolymers thereof, polycarbonate, polyethersulfone, polylactic acid, polyhydroxybutyric acid, polycaprolactone, polyether, polyester, polyamide, polyimide, and the like are included.
前記疎水性有機溶液の高分子材料の濃度は0.01〜10重量%であり、好ましくは0.05〜5重量%である。溶液の高分子材料の濃度が0.01重量%より低いと、得られるハニカム状多孔質フィルムの力学的強度が不足することがある。また、溶液濃度が10重量%より高いと、得られるハニカム状多孔質フィルムの孔の分布や孔の大きさが均一でなくなることがある。 The concentration of the polymer material in the hydrophobic organic solution is 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight. If the concentration of the polymer material in the solution is lower than 0.01% by weight, the resulting honeycomb porous film may have insufficient mechanical strength. On the other hand, if the solution concentration is higher than 10% by weight, the pore distribution and pore size of the resulting honeycomb porous film may not be uniform.
前記疎水性有機溶液の溶媒は、常温で液体の疎水性の有機溶媒であれば特に限定されない。前記溶媒の例には、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン系有機溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;二硫化炭素;アミド系溶剤;エーテル系溶剤等が含まれる。これらの疎水性有機溶媒を単独で使用しても、複数の溶媒を組み合わせて混合溶媒として使用してもよい。
前記疎水性有機溶液をキャストして形成されたキャスト液の膜に、微小水滴を形成させることができるので、その微少水滴を蒸発させればハニカムパターンが得られる。
The solvent of the hydrophobic organic solution is not particularly limited as long as it is a hydrophobic organic solvent that is liquid at room temperature. Examples of the solvent include halogen-based organic solvents such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; ester-based solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; methyl isobutyl ketone, cyclohexanone Such as ketone solvents; carbon disulfide; amide solvents; ether solvents and the like. These hydrophobic organic solvents may be used alone, or a plurality of solvents may be used in combination as a mixed solvent.
Since fine water droplets can be formed on the cast liquid film formed by casting the hydrophobic organic solution, a honeycomb pattern can be obtained by evaporating the fine water droplets.
前記疎水性有機溶液には、両親媒性物質が共存してもよい。共存する両親媒性物質は特に限定されず、低分子物質、高分子物質のいずれも利用することができる。例えば、ドデシルベンゼンスルホンナトリウムやジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリム等の低分子物質;ポリエチレングリコール/ポリプロピレングリコールブロック共重合体、ポリアクリルアミドを主骨格とし、疎水性側鎖としてドデシル基と親水性側鎖としてラクトース基あるいはカルボキシル基を併せ持つ両親媒性高分子;あるいはヘパリンやデキストラン硫酸、DNAやRNAの核酸などのアニオン性高分子と長鎖アルキルアンモニウム塩とのイオンコンプレックス;ゼラチン、コラーゲン、アルブミン等の水溶性タンパク質を親水基とした両親媒性高分子を例示することができる。 An amphiphilic substance may coexist in the hydrophobic organic solution. There are no particular limitations on the coexisting amphiphile, and both low-molecular substances and high-molecular substances can be used. For example, low molecular weight substances such as sodium dodecylbenzenesulfone and sodium di-2-ethylhexylsulfosuccinate; polyethylene glycol / polypropylene glycol block copolymer, polyacrylamide as the main skeleton, dodecyl group and hydrophilic side chain as hydrophobic side chains As an amphiphilic polymer having both a lactose group and a carboxyl group; or an ion complex of an anionic polymer such as heparin, dextran sulfate, DNA or RNA nucleic acid, and a long-chain alkylammonium salt; An amphiphilic polymer having hydrophilic protein as a hydrophilic group can be exemplified.
前記疎水性有機溶液は、基材にキャストされる。基材の例には、ガラス、金属、シリコンウェハー等の無機材料;ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエーテルケトン等の高分子からなる有機材料;MICA等の鉱物系材料などが含まれる。さらに、水、流動パラフィン、液状ポリエーテル等の液体を基材として使用してもよい。さらに、熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するフィルム(収縮性フィルム)を基材としてもよい。収縮性フィルムについては後述する。 The hydrophobic organic solution is cast on a substrate. Examples of the substrate include inorganic materials such as glass, metal, and silicon wafer; organic materials composed of polymers such as polypropylene, polyethylene, and polyetherketone; and mineral materials such as MICA. Furthermore, liquids such as water, liquid paraffin, and liquid polyether may be used as the base material. Furthermore, it is good also considering the film (shrinkable film) which shrink | contracts with a heat | fever, light, infrared rays, or a microwave as a base material. The shrinkable film will be described later.
前記疎水性有機溶液のキャストは、高湿度雰囲気下で行なってもよい。高湿度雰囲気下とは、例えば相対湿度が50〜95%であることを意味する。 The hydrophobic organic solution may be cast in a high humidity atmosphere. The high humidity atmosphere means that the relative humidity is 50 to 95%, for example.
キャスト液は、それに含まれる有機溶媒を蒸発させられることが好ましい。キャスト液に十分な水が含まれていない場合には、高湿度ガスを吹き付けることによって、有機溶媒を蒸発させる。高湿度ガスとは、例えば相対湿度が50〜95%であることを意味する。 The casting liquid is preferably capable of evaporating the organic solvent contained therein. If the casting liquid does not contain sufficient water, the organic solvent is evaporated by blowing high humidity gas. High humidity gas means that relative humidity is 50 to 95%, for example.
いずれにしても、キャスト液から有機溶媒を徐々に蒸発させると同時に、キャスト液の表面に高湿度雰囲気成分を結露させて、微小液滴を形成する。通常は、高湿度雰囲気成分は水分であり、液滴は水滴である。 In any case, the organic solvent is gradually evaporated from the casting liquid, and at the same time, a high humidity atmosphere component is condensed on the surface of the casting liquid to form micro droplets. Usually, the high humidity atmosphere component is moisture and the droplet is a water droplet.
その後、キャスト液の表面に形成された微小液滴を蒸発させると、微小液滴の形状に応じたハニカムパターンが形成された膜(ハニカム状多孔質フィルム)が得られる。 Thereafter, when the microdroplets formed on the surface of the casting liquid are evaporated, a film (honeycomb-like porous film) in which a honeycomb pattern corresponding to the shape of the microdroplets is formed is obtained.
ハニカム状多孔質フィルムの構造について
自己組織化手法により得られるハニカム状多孔質フィルムは、ハニカム状の多孔体である。例えば、微小な孔が規則的にヘキサゴナルに配列したハニカムパターンとなる。孔の直径は、好ましくは0.1〜100μmであり、より好ましくは0.1〜10μmである。孔の直径は、微小液滴の形成の条件を調整することによって制御することができる。
Regarding the structure of the honeycomb-like porous film The honeycomb-like porous film obtained by the self-organization technique is a honeycomb-like porous body. For example, a honeycomb pattern in which minute holes are regularly arranged in hexagonal form. The diameter of the hole is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. The diameter of the hole can be controlled by adjusting the conditions for forming the microdroplet.
ハニカム状多孔質フィルムは、孔が膜を貫通した貫通構造、または孔が膜を貫通しない非貫通構造のいずれでもよい。貫通または非貫通構造かは、形成されるフィルムの膜厚と、微小水滴の大きさによって制御することができる。 The honeycomb-like porous film may have either a through structure in which holes penetrate the membrane or a non-through structure in which pores do not penetrate the membrane. The penetrating or non-penetrating structure can be controlled by the film thickness of the film to be formed and the size of the minute water droplets.
ハニカム状多孔質フィルムのハニカムパターンの転写について
ハニカム状多孔質フィルムは鋳型として用いられ、そのハニカムパターンは樹脂フィルムに転写される。ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として用いるとは、「マスク」として用いることを含む。マスクとして用いるためには、ハニカム状多孔質フィルムの孔が貫通していること(貫通構造)が好ましい。
Transfer of honeycomb pattern of honeycomb-shaped porous film The honeycomb-shaped porous film is used as a mold, and the honeycomb pattern is transferred to a resin film. The use of the honeycomb-like porous film as a mold includes use as a “mask”. In order to use as a mask, it is preferable that the pores of the honeycomb-like porous film are penetrated (penetrating structure).
したがって、ハニカム状多孔質フィルムの孔が貫通している(貫通構造)場合は、ハニカム状多孔質フィルムを、収縮させる樹脂フィルムに貼り合わせるか;またはハニカム状多孔質フィルムを、収縮させる樹脂フィルム上に作製する(前記キャストするための基材として、収縮性フィルムを用いる)ことが好ましい。 Therefore, when the pores of the honeycomb-like porous film are penetrated (penetrating structure), the honeycomb-like porous film is bonded to the resin film to be shrunk; or the honeycomb-like porous film is to be shrunk on the resin film to be shrunk It is preferable to use a shrinkable film as the base material for casting.
一方、ハニカム状多孔質フィルムの孔が貫通していない(非貫通構造)場合は、貫通構造とするための処理を施すことが好ましい。
図2を参照して、貫通構造とするための処理の例を説明する。非貫通構造のハニカム状多孔質フィルムを準備する(ステップ1)。非貫通構造のハニカム状多孔質フィルムをUVオゾン処理して酸化させる(ステップ2)。ハニカム状多孔質フィルムの孔が形成された面を、「収縮させる樹脂フィルム」に貼り合わせて複層フィルムとして、任意に複層フィルムを常温常圧で乾燥させる。さらにハニカム状多孔質フィルムの、孔が形成されていない面にシリコンラバーを接触させて応力を加える(ステップ3)。その後、シリコンラバーを剥がすことにより、収縮させる樹脂フィルムに周期的なドット(ピラー)を形成する(ステップ4)。
On the other hand, when the pores of the honeycomb-shaped porous film are not penetrating (non-penetrating structure), it is preferable to perform a treatment for forming a penetrating structure.
With reference to FIG. 2, the example of the process for setting it as a penetration structure is demonstrated. A honeycomb-like porous film having a non-penetrating structure is prepared (step 1). The honeycomb porous film having a non-penetrating structure is oxidized by UV ozone treatment (step 2). The surface on which the pores of the honeycomb-shaped porous film are formed is bonded to a “resin film to be shrunk” to form a multilayer film, and the multilayer film is optionally dried at room temperature and normal pressure. Further, stress is applied by bringing silicon rubber into contact with the surface of the honeycomb-like porous film where no holes are formed (step 3). Thereafter, the silicon rubber is peeled off to form periodic dots (pillars) on the resin film to be contracted (step 4).
「収縮させる樹脂フィルム」とは、「収縮性フィルム(後述)」であってもよく、通常の非収縮性フィルムであってもよい。収縮性フィルムを用いた場合は、後述の収縮ステップにおいて、そのフィルムに熱などを照射して収縮させることができ;非収縮性フィルムを用いた場合は、非収縮性フィルムを収縮性フィルムに貼り付けて複層フィルムとして、複層フィルムに熱などを照射して収縮させることができる。 The “resin film to be shrunk” may be a “shrinkable film (described later)” or a normal non-shrinkable film. If a shrinkable film is used, the film can be shrunk by applying heat or the like in the shrinking step described below; if a non-shrinkable film is used, the non-shrinkable film is applied to the shrinkable film. As a multilayer film, the multilayer film can be shrunk by irradiation with heat or the like.
収縮性フィルムとは、熱、光、赤外線、マイクロ波などの作用を受けて収縮するフィルムである。収縮性フィルムの材質の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、シクロオレフィン共重合体等のビニル重合樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素系樹脂、熱可塑性エラストマー、シリコーン樹脂、ポリカプロラクトンやポリ乳酸等の生体適合性材料などが含まれる。これらの材質からなるフィルムを、一軸または二軸延伸したフィルムを収縮性フィルムとして用いればよい。 A shrinkable film is a film that shrinks under the action of heat, light, infrared rays, microwaves, and the like. Examples of the material for the shrinkable film include: vinyl polymer resins such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, ethylene-vinyl acetate copolymer, cycloolefin copolymer, and fluorine resins such as polyurethane resin and polyvinylidene fluoride. , Thermoplastic elastomers, silicone resins, biocompatible materials such as polycaprolactone and polylactic acid. A film obtained by uniaxially or biaxially stretching a film made of these materials may be used as the shrinkable film.
収縮性フィルムは、等方的に収縮するフィルムであっても、異方的に収縮するフィルムであってもよい。収縮性フィルムの収縮率は、1.05〜30倍程度であることが好ましく、1.5〜3倍であることがより好ましい。 The shrinkable film may be an isotropically shrinkable film or an anisotropically shrinkable film. The shrinkage ratio of the shrinkable film is preferably about 1.05 to 30 times, and more preferably 1.5 to 3 times.
ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として、そのハニカムパターンを、収縮させる樹脂フィルムに転写する。当該転写は、例えば、ハニカム状多孔質フィルムをマスクとして、所望の材料を、収縮させる樹脂フィルムにパターニングしてドットを形成すればよい。パターニングした後、マスクとしたハニカム状多孔質フィルムを剥がすことで、収縮させる樹脂フィルムにドットパターンを形成することができる。形成されるドットパターンは、ハニカム状多孔質フィルムのハニカムパターンに応じた周期的なドットパターンとなる。 Using the honeycomb-shaped porous film as a mold, the honeycomb pattern is transferred to a shrinking resin film. For the transfer, for example, a honeycomb-shaped porous film may be used as a mask to pattern a desired material on a shrinkable resin film to form dots. After patterning, the honeycomb porous film used as a mask is peeled off, whereby a dot pattern can be formed on the shrinking resin film. The dot pattern to be formed is a periodic dot pattern corresponding to the honeycomb pattern of the honeycomb-like porous film.
パターニングは、物理気相堆積法、化学気相堆積法、塗布法、スピンキャスト法、ディップ法、めっき法などにより行なうことが好ましい。物理気相堆積法の例には、スパッタリング法、蒸着法等が含まれ、化学気相堆積法の例には、熱CVD、プラズマCVD、光CVD等が含まれる。 The patterning is preferably performed by physical vapor deposition, chemical vapor deposition, coating, spin casting, dipping, plating, or the like. Examples of physical vapor deposition include sputtering and vapor deposition, and examples of chemical vapor deposition include thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD.
収縮される樹脂フィルムにパターニングされるドット成分は、特に限定されず、金、銀、銅、白金、鉄、アルミニウム、パラジウム、ケイ素、ニッケル、チタン等の金属や金属合金;酸化ケイ素や酸化チタン等の金属酸化物;窒化ケイ素、窒化チタン、窒化タンタル等の金属窒化物;ポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリアセン誘導体等の有機高分子、オキサゾ−ル誘導体、イミダゾール誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、キナクリドン誘導体、8−キノリノール誘導体やフタロシアニン誘導体の金属錯体等の有機低分子などが挙げられる。 The dot component patterned on the shrinkable resin film is not particularly limited, and is a metal or metal alloy such as gold, silver, copper, platinum, iron, aluminum, palladium, silicon, nickel, titanium; silicon oxide, titanium oxide, etc. Metal oxides such as silicon nitride, titanium nitride, tantalum nitride, etc .; organic polymers such as polythiophene derivatives, polypyrrole derivatives, polyphenylene derivatives, polyacene derivatives, oxazole derivatives, imidazole derivatives, coumarin derivatives, perylene derivatives, Examples thereof include small organic molecules such as quinacridone derivatives, 8-quinolinol derivatives, and metal complexes of phthalocyanine derivatives.
ドットをパターニングされた樹脂フィルムから、鋳型またはマスクとして用いたハニカム状多孔質フィルムを除去する。ハニカム状多孔質フィルムは、粘着テープなどを用いて樹脂フィルムから剥がすことにより除去すればよい。ハニカム状多孔質フィルムの除去は、樹脂フィルムを収縮させる前および後のいずれに行ってもよい。 The honeycomb-like porous film used as a mold or a mask is removed from the resin film on which dots are patterned. The honeycomb-like porous film may be removed by peeling it from the resin film using an adhesive tape or the like. The removal of the honeycomb-like porous film may be performed either before or after the resin film is contracted.
フィルムの収縮について
周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮させることにより、自己組織化手法のみでは困難であった構造が形成された樹脂フィルムを得ることができる。ドットパターンを有する樹脂フィルムが、収縮性フィルムである場合には、そのフィルムに熱、光、赤外線、マイクロ波などを照射して収縮させればよい。一方、ドットパターンを有する樹脂フィルムが、非収縮性フィルムである場合には、例えば収縮性フィルムに貼り付けて複層フィルムとして、複層フィルムを収縮させればよい。
About Shrinkage of Film By shrinking a resin film having a periodic dot pattern, a resin film having a structure that was difficult only by the self-organization method can be obtained. When the resin film having a dot pattern is a shrinkable film, the film may be shrunk by irradiation with heat, light, infrared rays, microwaves, or the like. On the other hand, when the resin film having a dot pattern is a non-shrinkable film, the multilayer film may be shrunk as a multilayer film by being attached to the shrinkable film, for example.
収縮性フィルムの収縮は、融点付近まで加熱して引き延ばされて変形した架橋高分子は、冷却状態では変形状態を保つが、融点近くまで再度加熱すると元の状態に戻るという、高分子の配向状態の変化に基づく現象である。 The shrinkage of the shrinkable film is such that the crosslinked polymer that has been stretched and deformed by heating to near the melting point remains deformed in the cooled state but returns to its original state when heated again to near the melting point. This is a phenomenon based on a change in the orientation state.
周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムは、1回だけでなく、2回以上収縮されてもよい。2回以上収縮する場合には、周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを、収縮性フィルムに貼り合わせて複層フィルムとしてから収縮して;収縮した複層フィルムからドットパターンを有する樹脂フィルムを剥離して;剥離された樹脂フィルムを、再度、収縮性フィルムに貼り合わせて複層フィルムとしてから収縮すればよい。 The resin film having a periodic dot pattern may be contracted not only once but twice or more. When shrinking two or more times, a resin film having a periodic dot pattern is pasted on a shrinkable film to form a multilayer film, and then contracted; the resin film having a dot pattern is peeled off from the contracted multilayer film Then, the peeled resin film may be bonded again to the shrinkable film to form a multilayer film and then contracted.
製造されるフィルムの周期的な構造について
本発明の方法により製造される周期的な構造が形成されたフィルムは、周期的なドットを有し、かつ各ドットにしわ状の凹凸を有する。しわ状の凹凸は、一定の方向に繰り返されていることが好ましい。つまり、前記収縮性フィルムの収縮の方向に、しわ状の凹凸が繰り返される。
About the periodic structure of the film manufactured The film in which the periodic structure manufactured by the method of the present invention is formed has periodic dots, and each dot has wrinkled irregularities. The wrinkle-like irregularities are preferably repeated in a certain direction. That is, wrinkle-like unevenness is repeated in the shrinking direction of the shrinkable film.
ドットの直径は、好ましくは0.1〜100μmであり、より好ましくは0.1〜10μmであるが、特に限定されない。
ドットの周期は、好ましくは0.01〜100μmであり、より好ましくは0.01〜10μmであるが、特に限定されない。
また、しわ状の凹凸の大きさは、特に限定されないが、好ましくは凹凸の幅が0.001〜10μm、凹凸の高さが0.001〜10μm、凹凸の周期が0.001〜10μmであり;より好ましくは凹凸の幅が0.01〜1μm、凹凸の高さが0.01〜1μm、凹凸の周期が0.01〜1μmである。
The diameter of the dot is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.1 to 10 μm, but is not particularly limited.
The dot period is preferably 0.01 to 100 μm, more preferably 0.01 to 10 μm, but is not particularly limited.
Further, the size of the wrinkle-shaped unevenness is not particularly limited, but preferably the unevenness width is 0.001 to 10 μm, the unevenness height is 0.001 to 10 μm, and the unevenness period is 0.001 to 10 μm. More preferably, the width of the unevenness is 0.01 to 1 μm, the height of the unevenness is 0.01 to 1 μm, and the period of the unevenness is 0.01 to 1 μm.
本発明の方法により製造される周期的な構造が形成されたフィルムは、材料やパターンサイズを変えることにより、種々の光学フィルムに適用することができる。例えば、ドットパターンのドット成分を銀やアルミニウムのような反射率の高い材料として、しわ状の凹凸の周期を10〜1000nmに制御すれば、偏光反射フィルムとして利用されうる。凹凸と直交する電場ベクトルを有する光の成分は透過し、凹凸構造と平行な電場ベクトルを有する光の成分は反射されるためである。 The film on which the periodic structure produced by the method of the present invention is formed can be applied to various optical films by changing the material and pattern size. For example, if the dot component of the dot pattern is made of a highly reflective material such as silver or aluminum and the period of wrinkle-like irregularities is controlled to 10 to 1000 nm, it can be used as a polarizing reflection film. This is because a light component having an electric field vector orthogonal to the unevenness is transmitted and a light component having an electric field vector parallel to the uneven structure is reflected.
鋳型を形成した収縮性フィルムを、ハニカムパターンを転写する前に収縮させることによって、ハニカムパターンの間隔を狭小化させてもよい。その後ハニカムパターンを転写すれば、周期の短かいドットパターンを形成することができる。 The interval between the honeycomb patterns may be narrowed by shrinking the shrinkable film on which the template is formed before transferring the honeycomb pattern. Thereafter, if the honeycomb pattern is transferred, a dot pattern with a short cycle can be formed.
実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
ハニカム状多孔質フィルムの作製
高分子材料としてポリスチレン、および以下に示す両親媒性高分子、ならびに溶媒としてクロロホルムを使用して、ハニカム状多孔質フィルムを作製した。
Production of Honeycomb Porous Film A honeycomb porous film was produced using polystyrene as the polymer material, the amphiphilic polymer shown below, and chloroform as the solvent.
(実施例1)
ポリスチレンと上記両親媒性高分子(重量比で10:1)を溶解したクロロホルム溶液(5g/L)5mLを、直径9cmのシャーレにキャストした。その直後に、湿度70%の空気を吹き付けて、非貫通型のハニカム状多孔質フィルムを形成した。
フィルムを形成したシャーレをエタノールに浸漬し、ハニカム状多孔質フィルムを剥離して自己支持性ハニカム状多孔質フィルムを得た。得られたハニカム状多孔質フィルムを走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した(図1)。孔が規則的に配置されていることを確認した(周期:8.0μm)。
Example 1
5 mL of a chloroform solution (5 g / L) in which polystyrene and the amphiphilic polymer (10: 1 by weight) were dissolved was cast into a petri dish having a diameter of 9 cm. Immediately thereafter, air with a humidity of 70% was blown to form a non-penetrating honeycomb porous film.
The petri dish on which the film was formed was immersed in ethanol, and the honeycomb-like porous film was peeled off to obtain a self-supporting honeycomb-like porous film. The obtained honeycomb porous film was observed with a scanning electron microscope (SEM) (FIG. 1). It was confirmed that the holes were regularly arranged (period: 8.0 μm).
収縮性フィルムへのハニカムパターンの転写
作製した非貫通型のハニカム状多孔質フィルム1を準備して(図2ステップ1)、UVオゾン処理2を行うことで酸化させ、酸化したハニカム状多孔質フィルム3を得た(図2ステップ2)。
酸化したハニカム状多孔質フィルム3の孔が形成されている面を、1.5倍に2軸延伸したアペル8008Tフィルム5に貼り合わせて、複層フィルムとした。複層フィルムを常温常圧で乾燥した後、複層フィルムのハニカム状多孔質フィルム面(孔が形成されていない面)に、ポリジメチルシロキサンエラストマー4を介して応力を加えた(図2ステップ3)。その後、ポリジメチルシロキサンエラストマー4を剥がして、1.5倍に2軸延伸したアペル8008Tフィルム5にピラー構造6を形成した(図2ステップ4)。
Transfer of honeycomb pattern to shrinkable film The prepared non-penetrating honeycomb porous film 1 was prepared (step 1 in FIG. 2), oxidized by performing UV ozone treatment 2, and oxidized honeycomb porous film. 3 was obtained (step 2 in FIG. 2).
The surface of the oxidized honeycomb porous film 3 on which the pores were formed was bonded to the Apel 8008T film 5 biaxially stretched 1.5 times to obtain a multilayer film. After the multilayer film was dried at room temperature and normal pressure, stress was applied to the honeycomb porous film surface (the surface where no pores were formed) of the multilayer film through the polydimethylsiloxane elastomer 4 (Step 3 in FIG. 2). ). Thereafter, the polydimethylsiloxane elastomer 4 was peeled off to form a pillar structure 6 on the Apel 8008T film 5 biaxially stretched 1.5 times (step 4 in FIG. 2).
ピラー構造6が形成されたフィルム5に、イオンスパッタリングによってPt/Pdドット7を堆積させた(図2ステップ5)。Pt/Pdドット7を堆積させたフィルム5から、粘着テープでピラーを剥離して、キサゴナルに配列したドットパターンが形成されたフィルムを得た。得られたフィルムをSEMで観察して、周期が8.0μmのドットパターンを確認した(図3)。 Pt / Pd dots 7 were deposited by ion sputtering on the film 5 on which the pillar structure 6 was formed (Step 5 in FIG. 2). From the film 5 on which the Pt / Pd dots 7 were deposited, the pillars were peeled off with an adhesive tape to obtain a film in which dot patterns arranged in a xagonal manner were formed. The obtained film was observed with an SEM, and a dot pattern with a period of 8.0 μm was confirmed (FIG. 3).
一方、Pt/Pdドット7を堆積させたフィルム5からピラー6を剥離することなく、そのフィルムを100℃のホットステージ上で熱処理して収縮させた(図2ステップ6)。収縮後のフィルム5から、粘着テープ8でピラー6を剥離した(図2ステップ7)。ピラー6を剥離したフィルム5(図2ステップ8)をSEMで観察したところ、ドット7の周期が6.5μmに狭小化され、かつ各ドットの表面に、幅約700nm;高さ約300nmのしわ状の凹凸が形成されていることが確認された(図4)。 On the other hand, without peeling off the pillar 6 from the film 5 on which the Pt / Pd dots 7 were deposited, the film was heat-treated on a hot stage at 100 ° C. and contracted (step 6 in FIG. 2). The pillar 6 was peeled off from the film 5 after shrinkage with the adhesive tape 8 (step 7 in FIG. 2). When the film 5 (step 8 in FIG. 2) from which the pillars 6 were peeled was observed by SEM, the period of the dots 7 was narrowed to 6.5 μm, and wrinkles having a width of about 700 nm and a height of about 300 nm were formed on the surface of each dot. It was confirmed that an uneven surface was formed (FIG. 4).
(実施例2)
ポリスチレンと上記両親媒性高分子(重量比で10:1)を溶解したクロロホルム溶液(5g/L)4.5mLをキャストする以外は実施例1と同様の方法で、周期7.8μmのハニカムフィルムを得た。得られたハニカムフィルムと2倍の1軸延伸したアペル8008Tフィルムを用いた以外は実施例1と同様の操作を行ったところ、ドットの周期が3.8μmに狭小化され、かつ各ドットの表面に、数百nmのしわ状の凹凸が形成されていることが確認された(図5)。
(Example 2)
Honeycomb film having a period of 7.8 μm in the same manner as in Example 1 except that 4.5 mL of a chloroform solution (5 g / L) in which polystyrene and the amphiphilic polymer (10: 1 by weight) are dissolved is cast. Got. When the same operation as in Example 1 was performed except that the obtained honeycomb film and a double uniaxially stretched Appel 8008T film were used, the dot period was narrowed to 3.8 μm, and the surface of each dot In addition, it was confirmed that wrinkled irregularities of several hundred nm were formed (FIG. 5).
(実施例3)
ポリスチレンと上記両親媒性高分子(重量比で10:1)を溶解したクロロホルム溶液(5g/L)3mLをキャストする以外は実施例1と同様の方法で、周期5.0μmのハニカムフィルムを得た。得られたハニカムフィルムと2.5倍の1軸延伸したアペル8008Tフィルムを用いた以外は実施例1と同様の操作を行ったところ、ドットの周期が2.0μmに狭小化され、かつ各ドットの表面に、数百nmのしわ状の凹凸が形成されていることが確認された(図6)。
(Example 3)
A honeycomb film having a period of 5.0 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that 3 mL of a chloroform solution (5 g / L) in which polystyrene and the above amphiphilic polymer (10: 1 by weight) were dissolved was cast. It was. The same operation as in Example 1 was performed except that the obtained honeycomb film and the 2.5-fold uniaxially stretched Apel 8008T film were used. As a result, the dot period was narrowed to 2.0 μm, and each dot It was confirmed that wrinkle-like irregularities of several hundred nm were formed on the surface (FIG. 6).
本発明により、従来は高価な装置を用いなければなし得なかった構造が形成された樹脂フィルムが、簡便かつ安価に提供される。例えば、周期的なドットを有し、各ドット表面にしわ状の凹凸を有する構造を形成された樹脂フィルムが提供される。本発明の製法により提供される樹脂フィルムは、偏光フィルム、偏光反射フィルム、回折格子、輝度向上フィルム、光拡散フィルム、細胞培養基材等に応用できる。 According to the present invention, a resin film formed with a structure that could not be achieved without using an expensive apparatus conventionally is provided simply and inexpensively. For example, a resin film having periodic dots and formed with a structure having wrinkled irregularities on the surface of each dot is provided. The resin film provided by the production method of the present invention can be applied to a polarizing film, a polarizing reflection film, a diffraction grating, a brightness enhancement film, a light diffusion film, a cell culture substrate and the like.
Claims (12)
周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを準備するステップ、および前記周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するステップを含み、かつ
前記周期的なドットパターンは、ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として、そのハニカムパターンを転写することにより形成されたパターンである、樹脂フィルムの製造方法。 A method for producing a resin film having a periodic structure,
Preparing a resin film having a periodic dot pattern; and shrinking the resin film having a periodic dot pattern by heat, light, infrared rays, or microwaves, and the periodic dot pattern includes: A method for producing a resin film, which is a pattern formed by transferring a honeycomb pattern using a honeycomb-like porous film as a mold.
前記ドットパターンを有する樹脂フィルムの収縮は、熱、光、赤外線またはマイクロ波の照射によって行われる、請求項1または2に記載の製造方法。 The resin film having the dot pattern is a film that shrinks by heat, light, infrared rays, or microwaves, and the shrinkage of the resin film having the dot pattern is performed by irradiation with heat, light, infrared rays, or microwaves, The manufacturing method of Claim 1 or 2.
前記ドットパターンを有するフィルムを、熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮するフィルムに貼り合わせて複層フィルムを得る工程、および
前記複層フィルムを、熱、光、赤外線またはマイクロ波によって収縮させる工程を含む、請求項1または2に記載の製造方法。 Shrinking the resin film having the dot pattern,
A step of bonding the film having the dot pattern to a film shrinkable by heat, light, infrared rays or microwaves to obtain a multilayer film, and a step of shrinking the multilayer film by heat, light, infrared rays or microwaves The manufacturing method of Claim 1 or 2 containing this.
高分子材料を溶解した疎水性有機溶液を高湿度雰囲気下でキャストする工程、
前記キャスト液から、キャスト液に含まれる有機溶媒を蒸発させると同時に、キャスト液表面で高湿度雰囲気成分を結露させる工程、および
前記結露により生じた微小液滴を蒸発させてキャスト膜を形成する工程、
を有するステップをさらに含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の製造方法。 Preparing the honeycomb-shaped porous film,
A step of casting a hydrophobic organic solution in which a polymer material is dissolved in a high humidity atmosphere;
A step of evaporating an organic solvent contained in the casting liquid from the casting liquid and dewing a high-humidity atmosphere component on the surface of the casting liquid; and a process of evaporating fine droplets generated by the condensation to form a cast film ,
The manufacturing method as described in any one of Claims 1-9 which further includes the step which has these.
高分子材料を溶解した疎水性有機溶液をキャストする工程、
前記キャスト液に高湿度ガスを吹き付けて、キャスト液に含まれる有機溶媒を蒸発させると同時に、キャスト液表面で高湿度雰囲気成分を結露させる工程、および
前記結露により生じた微小液滴を蒸発させてキャスト膜を形成する工程、
を有するステップをさらに含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の製造方法。 Preparing the honeycomb-shaped porous film,
A step of casting a hydrophobic organic solution in which a polymer material is dissolved,
High humidity gas is sprayed on the casting liquid to evaporate the organic solvent contained in the casting liquid, and at the same time, the high humidity atmosphere component is condensed on the casting liquid surface, and the fine droplets generated by the condensation are evaporated. Forming a cast film;
The manufacturing method as described in any one of Claims 1-9 which further includes the step which has these.
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