JP2008287768A - Semiconductor storage device - Google Patents

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Fumiyuki Yamane
史之 山根
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a leak current without increasing read access time. <P>SOLUTION: A semiconductor storage device 10 includes: a plurality of word lines WL; a memory cell array 11 including a plurality of static memory cells MC connected to the plurality of word lines WL, respectively, and comprising a plurality of transistors; a plurality of low-potential power supply lines 14 connected to the plurality of memory cells MC, respectively; and a power supply circuit 23 connected to the plurality of low-potential power supply lines 14, setting the low-potential power supply line 14 at a ground voltage for the memory cell MC at a read access destination, and setting the low-potential power supply line 14 at a voltage higher than the ground voltage for the memory cell MC at a write access destination and for the memory cell MC without access. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体記憶装置に係り、例えばスタティック型のメモリセルを備えた半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device, for example, a semiconductor memory device including a static memory cell.

半導体記憶装置の一種としてSRAM(Static Random Access Memory)が知られている。このSRAMを構成するメモリセルには、例えば6個のMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタから構成されるSRAMセル(6Tr.型SRAMセル)が用いられている。   An SRAM (Static Random Access Memory) is known as a kind of semiconductor memory device. For example, an SRAM cell (6Tr. Type SRAM cell) composed of six MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistors is used as a memory cell constituting the SRAM.

また、SRAMセルには、このSRAMセルに電圧を供給するための高位電源線と低位電源線とが接続されている。従来のSRAMにおいては、メモリセルアレイの全てのラインに対して低位電源線の電圧を、読み出しアクセス、書き込みアクセス、及びアクセスなしに関わらず、常に接地電圧VSSに設定している。   The SRAM cell is connected to a high level power line and a low level power line for supplying a voltage to the SRAM cell. In the conventional SRAM, the voltage of the low power supply line is always set to the ground voltage VSS for all lines of the memory cell array regardless of read access, write access, and no access.

従って、従来のSRAMでは、読み出しアクセス、書き込みアクセス、及びアクセスなしに関わらず、全てのラインに対して常に低位電源線の電圧が接地電圧VSSである分のリーク電流が生じている。消費電流はスイッチング電流とリーク電流との合計であり、メモリセルアレイの全てのラインで常に低位電源線の電圧が接地電圧VSSである分のリーク電流が生じているために、SRAMの消費電力が大きくなってしまう。   Therefore, in the conventional SRAM, a leakage current corresponding to the ground voltage VSS is always generated for all lines regardless of read access, write access, or no access. The current consumption is the sum of the switching current and the leakage current. Since the leakage current is always equal to the ground voltage VSS as the voltage of the lower power supply line in all the lines of the memory cell array, the power consumption of the SRAM is large. turn into.

また、この種の関連技術として、SRAMの消費電力を低減する技術が開示されている(特許文献1参照)。
特開平9−147564号公報
In addition, as a related technique of this type, a technique for reducing the power consumption of the SRAM is disclosed (see Patent Document 1).
JP-A-9-147564

本発明は、読み出しアクセス時間を増加させることなく、リーク電流を削減することができる半導体記憶装置を提供する。   The present invention provides a semiconductor memory device capable of reducing leakage current without increasing read access time.

本発明の第1の視点に係る半導体記憶装置は、複数のワード線と、前記複数のワード線にそれぞれ接続され、かつ複数のトランジスタから構成されたスタティック型の複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、前記複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数の低位電源線と、前記低位電源線に接続され、かつ、読み出しアクセス先のメモリセルに対して低位電源線を接地電圧に設定し、書き込みアクセス先及びアクセスがないメモリセルに対して低位電源線を接地電圧より高い電圧に設定する電源回路とを具備する。   A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention includes a plurality of word lines, a memory cell array having a plurality of static memory cells each connected to the plurality of word lines and configured by a plurality of transistors. A plurality of low-level power supply lines connected to the plurality of memory cells, and a low-level power supply line connected to the low-level power supply line and set to a ground voltage with respect to a memory cell to be read access destination, and a write access destination And a power supply circuit that sets a lower power supply line to a voltage higher than the ground voltage for a memory cell that is not accessed.

本発明の第2の視点に係る半導体記憶装置は、複数のワード線と、前記複数のワード線にそれぞれ接続され、かつ複数のトランジスタから構成されたスタティック型の複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、前記複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数の低位電源線と、前記低位電源線に接続され、かつ、読み出しアクセス先及び書き込みアクセス先のメモリセルに対して低位電源線を接地電圧に設定し、アクセスがないメモリセルに対して低位電源線を接地電圧より高い電圧に設定する電源回路とを具備する。   A semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention includes: a plurality of word lines; a memory cell array having a plurality of static memory cells each connected to the plurality of word lines and configured by a plurality of transistors; A plurality of low-level power supply lines connected to the plurality of memory cells, and a low-level power supply line connected to the low-level power supply line and set to the ground voltage for the read access destination and the write access destination memory cell. And a power supply circuit for setting the lower power supply line to a voltage higher than the ground voltage for a memory cell that is not accessed.

本発明によれば、読み出しアクセス時間を増加させることなく、リーク電流を削減することができる半導体記憶装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device capable of reducing leakage current without increasing the read access time.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, elements having the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be given only when necessary.

(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図である。SRAM10は、複数のメモリセル列12から構成されるメモリセルアレイ11を備えている。各メモリセル列12は、スタティック型の複数のメモリセルMCから構成されている。メモリセルアレイ11には、それぞれがロウ方向に延在するように、複数のメモリセル列12に対応する複数のワード線WLが配設されている。また、メモリセルアレイ11には、それぞれがカラム方向に延在するように複数のビット線対BL,/BLが配設されている。メモリセルアレイ11の行の選択は、ワード線WLにより行われる。メモリセルアレイ11の列の選択は、ビット線対BL,/BLにより行われる。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the SRAM 10 according to the first embodiment of the present invention. The SRAM 10 includes a memory cell array 11 composed of a plurality of memory cell columns 12. Each memory cell column 12 is composed of a plurality of static memory cells MC. In the memory cell array 11, a plurality of word lines WL corresponding to the plurality of memory cell columns 12 are arranged so as to extend in the row direction. The memory cell array 11 is provided with a plurality of bit line pairs BL, / BL so as to extend in the column direction. Selection of a row of the memory cell array 11 is performed by the word line WL. The column of the memory cell array 11 is selected by the bit line pair BL, / BL.

図2は、図1に示したメモリセルMCの構成を示す回路図である。メモリセルMCは、6個のMOSトランジスタから構成される6Tr.型SRAMセルである。   FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of memory cell MC shown in FIG. The memory cell MC is a 6Tr. Type SRAM cell.

メモリセルMCは、第1のインバータ回路INV1及び第2のインバータ回路INV2を備えている。第1のインバータ回路INV1は、負荷用PチャネルMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ(PMOSトランジスタ)LD1と駆動用NチャネルMOSトランジスタ(NMOSトランジスタ)DV1とにより構成されている。PMOSトランジスタLD1及びNMOSトランジスタDV1は、高位電源電圧が供給される高位電源線13と、低位電源電圧が供給される低位電源線14との間に直列に接続されている。   The memory cell MC includes a first inverter circuit INV1 and a second inverter circuit INV2. The first inverter circuit INV1 includes a load P-channel MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistor (PMOS transistor) LD1 and a driving N-channel MOS transistor (NMOS transistor) DV1. The PMOS transistor LD1 and the NMOS transistor DV1 are connected in series between a high power supply line 13 to which a high power supply voltage is supplied and a low power supply line 14 to which a low power supply voltage is supplied.

第2のインバータ回路INV2は、負荷用PMOSトランジスタLD2と駆動用NMOSトランジスタDV2とにより構成されている。PMOSトランジスタLD2及びNMOSトランジスタDV2は、高位電源線13と低位電源線14との間に直列に接続されている。   The second inverter circuit INV2 includes a load PMOS transistor LD2 and a driving NMOS transistor DV2. The PMOS transistor LD2 and the NMOS transistor DV2 are connected in series between the high level power supply line 13 and the low level power supply line.

具体的には、PMOSトランジスタLD1のソース端子は、高位電源線13に接続されている。PMOSトランジスタLD1のドレイン端子は、記憶ノードN1を介してNMOSトランジスタDV1のドレイン端子に接続されている。NMOSトランジスタDV1のソース端子は、低位電源線14に接続されている。PMOSトランジスタLD1のゲート端子は、NMOSトランジスタDV1のゲート端子に接続されている。   Specifically, the source terminal of the PMOS transistor LD1 is connected to the high-level power line 13. The drain terminal of the PMOS transistor LD1 is connected to the drain terminal of the NMOS transistor DV1 via the storage node N1. The source terminal of the NMOS transistor DV1 is connected to the low potential power line 14. The gate terminal of the PMOS transistor LD1 is connected to the gate terminal of the NMOS transistor DV1.

PMOSトランジスタLD2のソース端子は、高位電源線13に接続されている。PMOSトランジスタLD2のドレイン端子は、記憶ノードN2を介してNMOSトランジスタDV2のドレイン端子に接続されている。NMOSトランジスタDV2のソース端子は、低位電源線14に接続されている。PMOSトランジスタLD2のゲート端子は、NMOSトランジスタDV2のゲート端子に接続されている。   The source terminal of the PMOS transistor LD2 is connected to the high level power supply line 13. The drain terminal of the PMOS transistor LD2 is connected to the drain terminal of the NMOS transistor DV2 via the storage node N2. The source terminal of the NMOS transistor DV2 is connected to the low power supply line. The gate terminal of the PMOS transistor LD2 is connected to the gate terminal of the NMOS transistor DV2.

PMOSトランジスタLD1のゲート端子は、記憶ノードN2に接続されている。PMOSトランジスタLD2のゲート端子は、記憶ノードN1に接続されている。換言すると、第1のインバータ回路INV1の出力端子は第2のインバータ回路INV2の入力端子に接続され、第2のインバータ回路INV2の出力端子は第1のインバータ回路INV1の入力端子に接続されている。   The gate terminal of the PMOS transistor LD1 is connected to the storage node N2. The gate terminal of the PMOS transistor LD2 is connected to the storage node N1. In other words, the output terminal of the first inverter circuit INV1 is connected to the input terminal of the second inverter circuit INV2, and the output terminal of the second inverter circuit INV2 is connected to the input terminal of the first inverter circuit INV1. .

記憶ノードN1は、NMOSトランジスタからなるトランスファーゲートXF1を介してビット線BLに接続されている。記憶ノードN2は、NMOSトランジスタからなるトランスファーゲートXF2を介してビット線/BLに接続されている。トランスファーゲートXF1及びXF2のゲート端子は、ワード線WLに接続されている。このようにして、メモリセルMCが構成されている。   The storage node N1 is connected to the bit line BL via a transfer gate XF1 made of an NMOS transistor. Storage node N2 is connected to bit line / BL via transfer gate XF2 made of an NMOS transistor. The gate terminals of the transfer gates XF1 and XF2 are connected to the word line WL. In this way, the memory cell MC is configured.

ロウデコーダ15には、アドレス信号ADDが入力されている。ロウデコーダ15は、アドレス信号ADDをデコードし、複数のワード線WLの1本を選択するための行アクセス信号RASを生成する。この行アクセス信号RASは、ワード線ドライバ16に送られる。ワード線ドライバ16には、複数のワード線WLが接続されている。ワード線ドライバ16は、行アクセス信号RASにより選択されたワード線WLを駆動する。   An address signal ADD is input to the row decoder 15. The row decoder 15 decodes the address signal ADD and generates a row access signal RAS for selecting one of the plurality of word lines WL. This row access signal RAS is sent to the word line driver 16. A plurality of word lines WL are connected to the word line driver 16. The word line driver 16 drives the word line WL selected by the row access signal RAS.

カラムデコーダ17には、アドレス信号ADDが入力されている。カラムデコーダ17は、アドレス信号ADDをデコードし、複数のビット線対BL,/BLの1対を選択するための列アクセス信号CASを生成する。この列アクセス信号CASは、入出力(I/O)回路18に送られる。   An address signal ADD is input to the column decoder 17. The column decoder 17 decodes the address signal ADD and generates a column access signal CAS for selecting one pair of a plurality of bit line pairs BL, / BL. This column access signal CAS is sent to an input / output (I / O) circuit 18.

I/O回路18には、入力データDIが入力されている。I/O回路18は、列アクセス信号CASに基づいて、入力データDI及び出力データDOの管理を行う。I/O回路18に入力された入力データDIは、書き込みデータWDとしてセンスアンプ回路19に送られる。センスアンプ回路19は、書き込みデータWDを増幅してメモリセルアレイ11(具体的には、ビット線対BL,/BL)に送る。   Input data DI is input to the I / O circuit 18. The I / O circuit 18 manages the input data DI and the output data DO based on the column access signal CAS. The input data DI input to the I / O circuit 18 is sent to the sense amplifier circuit 19 as write data WD. The sense amplifier circuit 19 amplifies the write data WD and sends it to the memory cell array 11 (specifically, the bit line pair BL, / BL).

メモリセルアレイ11からビット線対BL,/BLを介して読み出された読み出しデータRDは、センスアンプ回路19に送られる。センスアンプ回路19は、読み出しデータRDを増幅してI/O回路18に送る。I/O回路18に入力された読み出しデータRDは、出力データDOとして外部回路に出力される。   Read data RD read from the memory cell array 11 via the bit line pair BL, / BL is sent to the sense amplifier circuit 19. The sense amplifier circuit 19 amplifies the read data RD and sends it to the I / O circuit 18. Read data RD input to the I / O circuit 18 is output to an external circuit as output data DO.

制御回路20は、SRAM10内の各回路を制御する。制御回路20には、外部回路からコマンドCMDが入力される。制御回路20は、コマンドCMDに基づいて、データの書き込み動作、及び読み出し動作等を制御する。   The control circuit 20 controls each circuit in the SRAM 10. The control circuit 20 receives a command CMD from an external circuit. The control circuit 20 controls a data write operation, a read operation, and the like based on the command CMD.

ところで、SRAM10は、アクセス判定回路21、高位電源回路22、低位電源回路23を備えている。高位電源回路22は、高位電源線13に接続されている。高位電源線13は、複数のメモリセル列に共通して設けられている。高位電源回路22は、高位電源線13に電源電圧VDDを供給する。   Incidentally, the SRAM 10 includes an access determination circuit 21, a high power supply circuit 22, and a low power supply circuit 23. The high power supply circuit 22 is connected to the high power supply line 13. The high power supply line 13 is provided in common for a plurality of memory cell columns. The high power supply circuit 22 supplies the power supply voltage VDD to the high power supply line 13.

アクセス判定回路21には、コマンドCMD及びアドレスADDが入力されている。アクセス判定回路21は、コマンドCMD及びアドレスADDに基づいて、各メモリセル列12のアクセス状態(書き込み、読み出し、アクセスなし)を判定する。そして、アクセス判定回路21は、この判定結果に基づいて、2種類の低位電源電圧のうちいずれか1つを選択するための選択信号SSを低位電源回路23に送る。   The access determination circuit 21 receives a command CMD and an address ADD. The access determination circuit 21 determines the access state (write, read, no access) of each memory cell column 12 based on the command CMD and the address ADD. Then, the access determination circuit 21 sends a selection signal SS for selecting one of the two types of low power supply voltages to the low power supply circuit 23 based on the determination result.

低位電源回路23は、複数のメモリセル列12に対応した複数の低位電源回路24を備えている。複数の低位電源回路24にはそれぞれ、複数の低位電源線14が接続されている。各低位電源線14は、これに対応するメモリセル列に接続されている。低位電源回路24は、アクセス判定回路21から送られた選択信号SSに基づいて、2種類の低位電源電圧のうちいずれか1つを低位電源線14に供給する。   The low power supply circuit 23 includes a plurality of low power supply circuits 24 corresponding to the plurality of memory cell columns 12. A plurality of low power supply lines 14 are connected to the plurality of low power supply circuits 24, respectively. Each low power supply line 14 is connected to a corresponding memory cell column. The low power supply circuit 24 supplies one of two types of low power supply voltages to the low power supply line 14 based on the selection signal SS sent from the access determination circuit 21.

図3は、低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図である。低位電源回路23は、メモリセル列12のアクセス状態に応じて、低位電源線14の電圧を設定する。すなわち、低位電源回路23は、読み出しアクセス先のメモリセル列に対して、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定する。また、低位電源回路23は、書き込みアクセス先のメモリセル列に対して、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSより高い電圧VSSHに設定する。また、低位電源回路23は、アクセスなしのメモリセル列に対して、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSより高い電圧VSSHに設定する。   FIG. 3 is a diagram for explaining the voltage supply operation of the low-level power supply circuit 23. The low power supply circuit 23 sets the voltage of the low power supply line 14 according to the access state of the memory cell column 12. That is, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column. Further, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the voltage VSSH higher than the ground voltage VSS for the memory cell column that is the write access destination. Further, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the voltage VSSH higher than the ground voltage VSS for the memory cell column that is not accessed.

電圧VSSHは、接地電圧VSSより高く、インバータ回路INV1(或いはINV2)の閾値電圧より低い電圧であり、かつ、メモリセルMCがデータを保持できる電圧に設定される。電圧VSSHが接地電圧VSSよりも高くなるにつれてメモリセルMCのリーク電流は低減される。しかし、電圧VSSHが高すぎると、メモリセルMCを構成するトランジスタの状態が変化して、メモリセルMCに保持されているデータが破壊されてしまう。よって、「メモリセルMCがデータを保持できる電圧VSSH」とは、メモリセルMCを構成するインバータ回路の閾値電圧からノイズに対する余裕を引いた電圧である。   The voltage VSSH is higher than the ground voltage VSS and lower than the threshold voltage of the inverter circuit INV1 (or INV2), and is set to a voltage at which the memory cell MC can hold data. As the voltage VSSH becomes higher than the ground voltage VSS, the leakage current of the memory cell MC is reduced. However, if the voltage VSSH is too high, the state of the transistors constituting the memory cell MC changes and the data held in the memory cell MC is destroyed. Therefore, “the voltage VSSH at which the memory cell MC can hold data” is a voltage obtained by subtracting a margin for noise from the threshold voltage of the inverter circuit constituting the memory cell MC.

図4は、低位電源回路24の一例を示す回路図である。なお、図4は、1つのメモリセル列に対応する低位電源回路24を抽出して示している。他のメモリセル列についても、図4と同じ回路が接続されている。   FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the low-level power supply circuit 24. FIG. 4 shows an extracted low power supply circuit 24 corresponding to one memory cell column. For the other memory cell columns, the same circuit as that of FIG. 4 is connected.

低位電源回路24は、NMOSトランジスタ24A、及びPMOSトランジスタ24Bを備えている。NMOSトランジスタ24Aのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Aのソースは、接地されている。PMOSトランジスタ24Bのドレインは、接地されている。PMOSトランジスタ24Bのソースは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24A、及びPMOSトランジスタ24Bのゲートには、アクセス判定回路21から選択信号SSが入力される。   The low power supply circuit 24 includes an NMOS transistor 24A and a PMOS transistor 24B. The drain of the NMOS transistor 24A is connected to the low potential power line 14. The source of the NMOS transistor 24A is grounded. The drain of the PMOS transistor 24B is grounded. The source of the PMOS transistor 24B is connected to the low potential power line 14. The selection signal SS is input from the access determination circuit 21 to the gates of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistor 24B.

図5は、メモリセル列12のアクセス状態に応じたNMOSトランジスタ24A及びPMOSトランジスタ24Bの動作を説明する図である。図4及び図5に示した低位電源回路24は、電圧VSSHとして、PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧を用いるようにした構成例である。   FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistor 24B according to the access state of the memory cell column 12. In FIG. The low power supply circuit 24 shown in FIGS. 4 and 5 is a configuration example in which the threshold voltage of the PMOS transistor 24B is used as the voltage VSSH.

図6は、低位電源回路24の他の一例を示す回路図である。低位電源回路24は、NMOSトランジスタ24A、及びNMOSトランジスタ24Cを備えている。NMOSトランジスタ24Aのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Aのソースは、接地されている。NMOSトランジスタ24Cのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Cのソースは、電圧VSSHが供給される電源端子に接続されている。NMOSトランジスタ24A及び24Cのゲートには、アクセス判定回路21から選択信号SSが入力される。   FIG. 6 is a circuit diagram showing another example of the low-level power supply circuit 24. The low power supply circuit 24 includes an NMOS transistor 24A and an NMOS transistor 24C. The drain of the NMOS transistor 24A is connected to the low potential power line 14. The source of the NMOS transistor 24A is grounded. The drain of the NMOS transistor 24C is connected to the low power supply line. The source of the NMOS transistor 24C is connected to a power supply terminal to which the voltage VSSH is supplied. The selection signal SS is input from the access determination circuit 21 to the gates of the NMOS transistors 24A and 24C.

図7は、メモリセル列12のアクセス状態に応じたNMOSトランジスタ24A及び24Cの動作を説明する図である。図6及び図7に示した低位電源回路24は、電圧VSSHとして、外部回路から供給される電圧を用いるようにした構成例である。   FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the NMOS transistors 24A and 24C according to the access state of the memory cell column 12. In FIG. The low power supply circuit 24 shown in FIGS. 6 and 7 is a configuration example in which a voltage supplied from an external circuit is used as the voltage VSSH.

以下に、SRAM10の動作を、読み出しアクセス先のメモリセル列、書き込みアクセス先のメモリセル列、及びアクセスなしのメモリセル列に分けて説明する。なお、以下の動作の説明においては、図4に示した低位電源回路24を用いた場合を例に説明する。   Hereinafter, the operation of the SRAM 10 will be described by dividing it into a memory cell column that is a read access destination, a memory cell column that is a write access destination, and a memory cell column that is not accessed. In the following description of the operation, the case where the low power supply circuit 24 shown in FIG. 4 is used will be described as an example.

<読み出しアクセス先のメモリセル列>
アクセス判定回路21は、読み出しアクセス先のメモリセル列を判定し、低位電源回路24に対して、低位電源線14を接地電圧VSSとする選択信号SSを生成する。この選択信号SSにより、NMOSトランジスタ24Aはオン、PMOSトランジスタ24Bはオフする。これにより、読み出しアクセス先の低位電源線14には、接地電圧VSSが印加される。
<Read-access destination memory cell column>
The access determination circuit 21 determines a read access destination memory cell column and generates a selection signal SS for the low-level power supply circuit 24 with the low-level power supply line 14 as the ground voltage VSS. By this selection signal SS, the NMOS transistor 24A is turned on and the PMOS transistor 24B is turned off. As a result, the ground voltage VSS is applied to the lower power supply line 14 that is the read access destination.

読み出しアクセス先のメモリセル列では、低位電源線14を接地電圧VSSにしているので、通常の読み出し動作と同じ分のリーク電流がメモリセルMCから生じることとなる。ここで、低位電源線14が接地電圧VSSであるために、メモリセルMCからの読み出しアクセスにかかる時間は、通常の読み出し動作と同じに保つことができる。すなわち、読み出しアクセス時間は従来のものと同じであり増加しない。   In the memory cell column that is the read access destination, the low power supply line 14 is set to the ground voltage VSS, so that the same leakage current as that in the normal read operation is generated from the memory cell MC. Here, since the low-level power supply line 14 is at the ground voltage VSS, the time required for the read access from the memory cell MC can be kept the same as the normal read operation. That is, the read access time is the same as the conventional one and does not increase.

<書き込みアクセス先のメモリセル列>
アクセス判定回路21は、書き込みアクセス先のメモリセル列を判定し、低位電源回路24に対して、低位電源線14を接地電圧VSSより高い電圧VSSHとする選択信号SSを生成する。この選択信号SSにより、NMOSトランジスタ24Aはオフ、PMOSトランジスタ24Bはオンする。これにより、書き込みアクセス先の低位電源線14には、接地電圧VSSより高い電圧(PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧)が印加される。
<Write access destination memory cell column>
The access determination circuit 21 determines a memory cell column to be accessed for writing, and generates a selection signal SS for setting the low-level power supply line 14 to a voltage VSSH higher than the ground voltage VSS for the low-level power supply circuit 24. By this selection signal SS, the NMOS transistor 24A is turned off and the PMOS transistor 24B is turned on. As a result, a voltage higher than the ground voltage VSS (a threshold voltage of the PMOS transistor 24B) is applied to the lower power supply line 14 that is the write access destination.

この結果、書き込みアクセス先のメモリセル列では、低位電源線14の電圧が接地電圧VSSから上昇した分だけリーク電流が削減される。また、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSよりも高くすることにより、低位電源線14が接地電圧VSSである場合よりも、メモリセルMCへのデータの書き込みが容易となり、書き込み時間を短縮することができる。   As a result, in the memory cell column that is the write access destination, the leakage current is reduced by the amount that the voltage of the low-level power supply line 14 has increased from the ground voltage VSS. In addition, by making the voltage of the lower power supply line 14 higher than the ground voltage VSS, it becomes easier to write data to the memory cell MC than when the low power supply line 14 is at the ground voltage VSS, and the write time is shortened. be able to.

<アクセスなしのメモリセル列>
アクセス判定回路21は、アクセスなしのメモリセル列を判定し、低位電源回路24に対して、低位電源線14を接地電圧VSSより高い電圧VSSHとする選択信号SSを生成する。この選択信号SSにより、NMOSトランジスタ24Aはオフ、PMOSトランジスタ24Bはオンする。これにより、アクセスなしの低位電源線14には、接地電圧VSSより高い電圧(PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧)が印加される。
<Memory cell row without access>
The access determination circuit 21 determines a memory cell column without access, and generates a selection signal SS for setting the low-level power supply line 14 to a voltage VSSH higher than the ground voltage VSS for the low-level power supply circuit 24. By this selection signal SS, the NMOS transistor 24A is turned off and the PMOS transistor 24B is turned on. As a result, a voltage higher than the ground voltage VSS (the threshold voltage of the PMOS transistor 24B) is applied to the low-level power supply line 14 without access.

この結果、アクセスなしメモリセル列では、低位電源線14の電圧が接地電圧VSSから上昇した分だけリーク電流が削減される。   As a result, in the non-accessed memory cell column, the leakage current is reduced by the amount by which the voltage of the lower power supply line 14 is increased from the ground voltage VSS.

以上詳述したように本実施形態においては、読み出しアクセス先のメモリセル列に対してのみ低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、一方、アクセスなしのメモリセル列と書き込みアクセス先のメモリセル列とに対しては低位電源線14の電圧を接地電圧VSSよりも高い電圧VSSHに設定している。これにより、読み出しアクセス時間を増加させることなく、アクセスなしのメモリセル列と書き込みアクセス先のメモリセル列とのリーク電流を削減することができる。   As described above in detail, in this embodiment, the voltage of the low-level power supply line 14 is set to the ground voltage VSS only for the memory cell column to be read access destination, while the memory cell column to which no access is made and the write access destination For the memory cell column, the voltage of the lower power supply line 14 is set to a voltage VSSH higher than the ground voltage VSS. Thereby, it is possible to reduce the leakage current between the memory cell column without access and the memory cell column as the write access destination without increasing the read access time.

また、書き込みアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSよりも高くすることにより、低位電源線14が接地電圧VSSである場合よりも、メモリセルMCへのデータの書き込みが容易となり、書き込み時間を短縮することができる。   Further, by making the voltage of the lower power supply line 14 higher than the ground voltage VSS with respect to the memory cell column to be accessed for writing, the data of the memory cell MC is transferred more than when the lower power supply line 14 is at the ground voltage VSS. Writing becomes easy and writing time can be shortened.

また、接地電圧VSSより高い電圧VSSHを生成する手段として、PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧を用いるようにしている。よって、微小な回路面積の増加のみで、メモリセルMCのリーク電流を削減することができる。   Further, the threshold voltage of the PMOS transistor 24B is used as means for generating the voltage VSSH higher than the ground voltage VSS. Therefore, the leakage current of the memory cell MC can be reduced only by a small increase in circuit area.

(第2の実施形態)
第2の実施形態は、読み出しアクセス先のメモリセル列と書き込みアクセス先のメモリセル列とに対しては低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、一方、アクセスなしのメモリセル列に対しては低位電源線14の電圧を接地電圧VSSよりも高い電圧VSSHに設定するようにしている。
(Second Embodiment)
In the second embodiment, the voltage of the low-level power supply line 14 is set to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column and the write access destination memory cell column, while the non-accessed memory cell column In contrast, the voltage of the lower power supply line 14 is set to a voltage VSSH higher than the ground voltage VSS.

図8は、本発明の第2の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図である。SRAM10は、低位電源線14に電圧を供給する低位電源回路23を備えている。低位電源回路23は、複数のメモリセル列12に対応した複数の低位電源回路24を備えている。複数の低位電源回路24にはそれぞれ、複数の低位電源線14が接続されている。各低位電源線14は、これに対応するメモリセル列に接続されている。低位電源回路24は、ロウデコーダ15から送られた行アクセス信号RASに基づいて、2種類の低位電源電圧のうちいずれか1つを低位電源線14に供給する。   FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of the SRAM 10 according to the second exemplary embodiment of the present invention. The SRAM 10 includes a low power supply circuit 23 that supplies a voltage to the low power supply line 14. The low power supply circuit 23 includes a plurality of low power supply circuits 24 corresponding to the plurality of memory cell columns 12. A plurality of low power supply lines 14 are connected to the plurality of low power supply circuits 24, respectively. Each low power supply line 14 is connected to a corresponding memory cell column. The low power supply circuit 24 supplies one of two types of low power supply voltages to the low power supply line 14 based on the row access signal RAS sent from the row decoder 15.

図9は、低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図である。低位電源回路23は、メモリセル列12のアクセス状態に応じて、低位電源線14の電圧を設定する。すなわち、低位電源回路23は、読み出しアクセス先のメモリセル列に対して、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定する。また、低位電源回路23は、書き込みアクセス先のメモリセル列に対して、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定する。また、低位電源回路23は、アクセスなしのメモリセル列に対して、低位電源線14の電圧を接地電圧VSSより高い電圧VSSHに設定する。   FIG. 9 is a diagram for explaining the voltage supply operation of the low-level power supply circuit 23. The low power supply circuit 23 sets the voltage of the low power supply line 14 according to the access state of the memory cell column 12. That is, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column. Further, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the memory cell column to be accessed for writing. Further, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the voltage VSSH higher than the ground voltage VSS for the memory cell column that is not accessed.

図10は、低位電源回路24の一例を示す回路図である。なお、図10は、1つのメモリセル列に対応する低位電源回路24を抽出して示している。他のメモリセル列についても、図10と同じ回路が接続されている。   FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of the low-level power supply circuit 24. FIG. 10 shows an extracted low power supply circuit 24 corresponding to one memory cell column. The same circuit as that of FIG. 10 is also connected to the other memory cell columns.

低位電源回路24は、NMOSトランジスタ24A、及びPMOSトランジスタ24Bを備えている。NMOSトランジスタ24Aのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Aのソースは、接地されている。PMOSトランジスタ24Bのドレインは、接地されている。PMOSトランジスタ24Bのソースは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24A、及びPMOSトランジスタ24Bのゲートには、ロウデコーダ15から行アクセス信号RASが入力される。   The low power supply circuit 24 includes an NMOS transistor 24A and a PMOS transistor 24B. The drain of the NMOS transistor 24A is connected to the low potential power line 14. The source of the NMOS transistor 24A is grounded. The drain of the PMOS transistor 24B is grounded. The source of the PMOS transistor 24B is connected to the low potential power line 14. A row access signal RAS is input from the row decoder 15 to the gates of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistor 24B.

図11は、メモリセル列12のアクセス状態に応じたNMOSトランジスタ24A及びPMOSトランジスタ24Bの動作を説明する図である。低位電源回路24は、電圧VSSHとして、PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧を低位電源線14に供給するように構成されている。   FIG. 11 is a diagram for explaining the operation of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistor 24B according to the access state of the memory cell column 12. The low power supply circuit 24 is configured to supply the threshold voltage of the PMOS transistor 24B to the low power supply line 14 as the voltage VSSH.

以下に、SRAM10の動作を、読み出しアクセス先のメモリセル列、書き込みアクセス先のメモリセル列、及びアクセスなしのメモリセル列に分けて説明する。   Hereinafter, the operation of the SRAM 10 will be described by dividing it into a memory cell column that is a read access destination, a memory cell column that is a write access destination, and a memory cell column that is not accessed.

<読み出しアクセス先のメモリセル列>
ロウデコーダ15は、読み出しアクセス先のメモリセル列に対応する行アクセス信号RASを活性化する。この行アクセス信号RASは低位電源回路24に送られ、NMOSトランジスタ24Aはオン、PMOSトランジスタ24Bはオフする。これにより、読み出しアクセス先の低位電源線14には、接地電圧VSSが印加される。
<Read-access destination memory cell column>
The row decoder 15 activates a row access signal RAS corresponding to a read access destination memory cell column. This row access signal RAS is sent to the low power supply circuit 24, the NMOS transistor 24A is turned on, and the PMOS transistor 24B is turned off. As a result, the ground voltage VSS is applied to the lower power supply line 14 that is the read access destination.

読み出しアクセス先のメモリセル列では、低位電源線14を接地電圧VSSにしているので、通常の読み出し動作と同じ分のリーク電流がメモリセルMCから生じることとなる。ここで、低位電源線14が接地電圧VSSであるために、メモリセルMCからの読み出しアクセスにかかる時間は、通常の読み出し動作と同じに保つことができる。すなわち、読み出しアクセス時間は従来のものと同じであり増加しない。   In the memory cell column that is the read access destination, the low power supply line 14 is set to the ground voltage VSS, so that the same leakage current as that in the normal read operation is generated from the memory cell MC. Here, since the low-level power supply line 14 is at the ground voltage VSS, the time required for the read access from the memory cell MC can be kept the same as the normal read operation. That is, the read access time is the same as the conventional one and does not increase.

<書き込みアクセス先のメモリセル列>
ロウデコーダ15は、書き込みアクセス先のメモリセル列に対応する行アクセス信号RASを活性化する。この行アクセス信号RASは低位電源回路24に送られ、NMOSトランジスタ24Aはオン、PMOSトランジスタ24Bはオフする。これにより、書き込みアクセス先の低位電源線14には、接地電圧VSSが印加される。
<Write access destination memory cell column>
The row decoder 15 activates a row access signal RAS corresponding to a write access destination memory cell column. This row access signal RAS is sent to the low power supply circuit 24, the NMOS transistor 24A is turned on, and the PMOS transistor 24B is turned off. As a result, the ground voltage VSS is applied to the lower power supply line 14 of the write access destination.

書き込みアクセス先のメモリセル列では、低位電源線14を接地電圧VSSにしているので、通常の書き込み動作と同じ分のリーク電流がメモリセルMCから生じることとなる。ここで、低位電源線14が接地電圧VSSであるために、メモリセルMCからの書き込みアクセスにかかる時間は、通常の書き込み動作と同じに保つことができる。すなわち、書き込みアクセス時間は従来のものと同じであり増加しない。   In the memory cell column to be accessed for writing, since the low power supply line 14 is set to the ground voltage VSS, the same leakage current as that in the normal writing operation is generated from the memory cell MC. Here, since the low-level power supply line 14 is at the ground voltage VSS, the time required for the write access from the memory cell MC can be kept the same as the normal write operation. That is, the write access time is the same as the conventional one and does not increase.

<アクセスなしのメモリセル列>
ロウデコーダ15は、アクセスなしのメモリセル列に対応する行アクセス信号RASを非活性化する。この行アクセス信号RASは低位電源回路24に送られ、NMOSトランジスタ24Aはオフ、PMOSトランジスタ24Bはオンする。これにより、アクセスなしの低位電源線14には、接地電圧VSSより高い電圧(PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧)が印加される。
<Memory cell row without access>
The row decoder 15 deactivates the row access signal RAS corresponding to the memory cell column without access. The row access signal RAS is sent to the low power supply circuit 24, the NMOS transistor 24A is turned off, and the PMOS transistor 24B is turned on. As a result, a voltage higher than the ground voltage VSS (the threshold voltage of the PMOS transistor 24B) is applied to the low-level power supply line 14 without access.

この結果、アクセスなしメモリセル列では、低位電源線14の電圧が接地電圧VSSから上昇した分だけリーク電流が削減される。   As a result, in the non-accessed memory cell column, the leakage current is reduced by the amount by which the voltage of the lower power supply line 14 is increased from the ground voltage VSS.

以上詳述したように本実施形態においては、読み出しアクセス先のメモリセル列と書き込みアクセス先のメモリセル列とに対してのみ低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、一方、アクセスなしのメモリセル列に対しては低位電源線14の電圧を接地電圧VSSよりも高い電圧VSSHに設定している。これにより、読み出しアクセス時間及び書き込みアクセス時間を増加させることなく、アクセスなしのメモリセル列のリーク電流を削減することができる。   As described above in detail, in the present embodiment, the voltage of the low-level power supply line 14 is set to the ground voltage VSS only for the memory cell column that is the read access destination and the memory cell column that is the write access destination, while there is no access. For these memory cell columns, the voltage of the lower power supply line 14 is set to a voltage VSSH higher than the ground voltage VSS. As a result, the leakage current of the memory cell column without access can be reduced without increasing the read access time and the write access time.

また、低位電源回路23を制御する信号として、ワード線WLを選択するための行アクセス信号RASを利用している。これにより、第1の実施形態と比べて、回路構成を簡単にでき、さらにSRAMの回路面積の増加を抑制することができる。   Further, a row access signal RAS for selecting the word line WL is used as a signal for controlling the low power supply circuit 23. As a result, the circuit configuration can be simplified as compared with the first embodiment, and an increase in the circuit area of the SRAM can be suppressed.

(第3の実施形態)
第3の実施形態は、第1の実施形態の構成を基本とし、さらに、低位電源線14を3種類以上の電圧から選択できるようにすることで、SRAM10が使用される機器の種類や使用条件に応じて、リーク電流削減量及びノイズ耐性のレベルを選択できるようにしている。
(Third embodiment)
The third embodiment is based on the configuration of the first embodiment, and further allows the low-level power supply line 14 to be selected from three or more types of voltages, so that the types and conditions of use of the equipment in which the SRAM 10 is used. The amount of leakage current reduction and the level of noise resistance can be selected according to the above.

図12は、本発明の第3の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図である。SRAM10は、アクセス判定回路21、モード選択回路25、及び低位電源回路23を備えている。   FIG. 12 is a block diagram showing a configuration of the SRAM 10 according to the third exemplary embodiment of the present invention. The SRAM 10 includes an access determination circuit 21, a mode selection circuit 25, and a low power supply circuit 23.

アクセス判定回路21には、コマンドCMD、及びアドレスADDが入力されている。アクセス判定回路21は、コマンドCMDに基づいて、各メモリセル列12のアクセス状態(書き込み、読み出し、アクセスなし)を判定する。そして、アクセス判定回路21は、この判定結果に基づいて、接地電圧VSSと、接地電圧VSSより高い電圧とのうちいずれか1つを選択するための選択信号SS1をモード選択回路25に送る。   A command CMD and an address ADD are input to the access determination circuit 21. The access determination circuit 21 determines the access state (write, read, no access) of each memory cell column 12 based on the command CMD. Then, the access determination circuit 21 sends to the mode selection circuit 25 a selection signal SS1 for selecting one of the ground voltage VSS and a voltage higher than the ground voltage VSS based on the determination result.

モード選択回路25は、複数のメモリセル列12に対応した複数のモード選択回路26を備えている。モード選択回路26には、アクセス判定回路21から選択信号SS1のほかに、外部回路からモード選択信号MSが入力されている。モード選択回路26は、選択信号SS1及びモード選択信号MSに基づいて、複数種類(本実施形態では、3種類)の低位電源電圧のうちいずれか1つを選択するための選択信号SS2を低位電源回路23に送る。   The mode selection circuit 25 includes a plurality of mode selection circuits 26 corresponding to the plurality of memory cell columns 12. In addition to the selection signal SS1 from the access determination circuit 21, a mode selection signal MS is input to the mode selection circuit 26 from an external circuit. Based on the selection signal SS1 and the mode selection signal MS, the mode selection circuit 26 selects the selection signal SS2 for selecting any one of a plurality of types (three types in this embodiment) of the low-level power supply voltage. Send to circuit 23.

低位電源回路23は、複数のモード選択回路26にそれぞれ接続された複数の低位電源回路24を備えている。複数の低位電源回路24にはそれぞれ、複数の低位電源線14が接続されている。各低位電源線14は、これに対応するメモリセル列に接続されている。低位電源回路24は、モード選択回路26から送られた選択信号SS2に基づいて、3種類の低位電源電圧のうちいずれか1つを低位電源線14に供給する。   The low power supply circuit 23 includes a plurality of low power supply circuits 24 connected to a plurality of mode selection circuits 26, respectively. A plurality of low power supply lines 14 are connected to the plurality of low power supply circuits 24, respectively. Each low power supply line 14 is connected to a corresponding memory cell column. The low power supply circuit 24 supplies any one of the three types of low power supply voltages to the low power supply line 14 based on the selection signal SS2 sent from the mode selection circuit 26.

図13は、低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図である。低位電源回路23は、3つのモード(モード1〜3)を有している。この3つのモード(モード1〜3)は、外部回路からのモード選択信号MSにより選択される。   FIG. 13 is a diagram for explaining the voltage supply operation of the low-level power supply circuit 23. The low-level power supply circuit 23 has three modes (modes 1 to 3). These three modes (modes 1 to 3) are selected by a mode selection signal MS from an external circuit.

モード1では、低位電源回路23は、読み出しアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、書き込みアクセス先のメモリセル列及びアクセスなしのメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を電圧VSSH1に設定する。   In mode 1, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column, and for the write access destination memory cell column and the non-accessed memory cell column. Thus, the voltage of the lower power supply line 14 is set to the voltage VSSH1.

モード2では、低位電源回路23は、読み出しアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、書き込みアクセス先のメモリセル列及びアクセスなしのメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を電圧VSSH2に設定する。モード3では、低位電源回路23は、全てのメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定する。   In mode 2, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column, and for the write access destination memory cell column and the non-accessed memory cell column. Thus, the voltage of the lower power supply line 14 is set to the voltage VSSH2. In mode 3, the low power supply circuit 23 sets the voltage of the low power supply line 14 to the ground voltage VSS for all the memory cell columns.

電圧VSSH1及びVSSH2は、接地電圧VSSより高く、インバータ回路INV1(或いはINV2)の閾値電圧より低い電圧であり、かつ、メモリセルMCがデータを保持できる電圧に設定される。さらに、電圧VSSH1は、VSSH2より高く設定される。   The voltages VSSH1 and VSSH2 are set to voltages that are higher than the ground voltage VSS and lower than the threshold voltage of the inverter circuit INV1 (or INV2), and that the memory cell MC can hold data. Further, the voltage VSSH1 is set higher than VSSH2.

図14は、低位電源回路24の一例を示す回路図である。なお、図14は、1つのメモリセル列に対応する低位電源回路24を抽出して示している。他のメモリセル列についても、図14と同じ回路が接続されている。   FIG. 14 is a circuit diagram illustrating an example of the low-level power supply circuit 24. FIG. 14 shows an extracted low power supply circuit 24 corresponding to one memory cell column. For the other memory cell columns, the same circuit as that in FIG. 14 is connected.

低位電源回路24は、NMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B、及びPMOSトランジスタ24Dを備えている。NMOSトランジスタ24Aのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Aのソースは、接地されている。PMOSトランジスタ24B及び24Dのドレインは、接地されている。PMOSトランジスタ24B及び24Dのソースは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B及び24Dのゲートには、モード選択回路26から選択信号SS2が入力される。   The low power supply circuit 24 includes an NMOS transistor 24A, a PMOS transistor 24B, and a PMOS transistor 24D. The drain of the NMOS transistor 24A is connected to the low potential power line 14. The source of the NMOS transistor 24A is grounded. The drains of the PMOS transistors 24B and 24D are grounded. The sources of the PMOS transistors 24B and 24D are connected to the low power supply line. The selection signal SS2 is input from the mode selection circuit 26 to the gates of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistors 24B and 24D.

図15は、メモリセル列12のアクセス状態に応じたNMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B及び24Dの動作を説明する図である。PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧は、PMOSトランジスタ24Dのそれより大きく設定される。また、PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧は電圧VSSH1に対応し、PMOSトランジスタ24Dの閾値電圧は電圧VSSH2に対応する。   FIG. 15 is a diagram for explaining the operation of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistors 24B and 24D according to the access state of the memory cell column 12. The threshold voltage of the PMOS transistor 24B is set larger than that of the PMOS transistor 24D. The threshold voltage of the PMOS transistor 24B corresponds to the voltage VSSH1, and the threshold voltage of the PMOS transistor 24D corresponds to the voltage VSSH2.

このように構成されたSRAM10において、モード1及びモード2では、読み出しアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14が接地電圧VSSに設定される。従って、読み出しアクセス時間は従来のものと同じであり増加しない。   In the SRAM 10 configured as described above, in the mode 1 and the mode 2, the low-level power supply line 14 is set to the ground voltage VSS for the memory cell column to be read access. Therefore, the read access time is the same as the conventional one and does not increase.

また、モード1では、書き込みアクセス先のメモリセル列とアクセスなしのメモリセル列とに対して低位電源線14が電圧VSSH1に設定される。モード2では、書き込みアクセス先のメモリセル列とアクセスなしのメモリセル列とに対して低位電源線14が電圧VSSH2(<VSSH1)に設定される。従って、モード1は、モード2に比べて、リーク電流を削減することができる。また、モード2は、モード1に比べて、ノイズ耐性を大きくすることができる。   In mode 1, the low-level power supply line 14 is set to the voltage VSSH1 for the memory cell column that is the write access destination and the memory cell column that is not accessed. In mode 2, the low-level power supply line 14 is set to the voltage VSSH2 (<VSSH1) for the memory cell column that is the write access destination and the memory cell column that is not accessed. Therefore, the mode 1 can reduce the leakage current compared to the mode 2. Also, mode 2 can increase noise tolerance compared to mode 1.

すなわち、モード1は、ノイズ耐性は小さくてもよく、リーク電流削減量を大きくしたい場合に選択される。モード2は、リーク電流削減量は小さくてもよく、ノイズ耐性を大きくしたい場合に選択される。モード3は、リーク電流削減を行う必要がない場合、或いはノイズ耐性を従来と同じにする必要がある場合に選択される。このように、本実施形態によれば、SRAM10が使用される機器の種類や使用条件に応じて、リーク電流削減量及びノイズ耐性のレベルを選択することが可能となる。その他の効果は、第1の実施形態と同じである。   That is, mode 1 may be selected when the noise tolerance may be small and it is desired to increase the leakage current reduction amount. Mode 2 may be selected when the leakage current reduction amount may be small and noise tolerance is to be increased. Mode 3 is selected when it is not necessary to reduce the leakage current, or when it is necessary to have the same noise tolerance. As described above, according to the present embodiment, it is possible to select the leakage current reduction amount and the noise resistance level according to the type of equipment in which the SRAM 10 is used and the use conditions. Other effects are the same as those of the first embodiment.

なお、電圧VSSH1及びVSSH2を外部回路から供給するようにしてもよい。図16は、低位電源回路24の他の一例を示す回路図である。低位電源回路24は、NMOSトランジスタ24A、24C、及び24Eを備えている。NMOSトランジスタ24Aのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24A、24C、及び24Eのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Aのソースは、接地されている。NMOSトランジスタ24Cのソースは、電圧VSSH1が供給される電源端子に接続されている。NMOSトランジスタ24Eのソースは、電圧VSSH2が供給される電源端子に接続されている。NMOSトランジスタ24A、24C、及び24Eのゲートには、モード選択回路26から選択信号SS2が入力される。   Note that the voltages VSSH1 and VSSH2 may be supplied from an external circuit. FIG. 16 is a circuit diagram showing another example of the low-level power supply circuit 24. The low-level power supply circuit 24 includes NMOS transistors 24A, 24C, and 24E. The drain of the NMOS transistor 24A is connected to the low potential power line 14. The drains of the NMOS transistors 24A, 24C, and 24E are connected to the low power supply line 14. The source of the NMOS transistor 24A is grounded. The source of the NMOS transistor 24C is connected to a power supply terminal to which the voltage VSSH1 is supplied. The source of the NMOS transistor 24E is connected to a power supply terminal to which the voltage VSSH2 is supplied. The selection signal SS2 is input from the mode selection circuit 26 to the gates of the NMOS transistors 24A, 24C, and 24E.

図17は、メモリセル列12のアクセス状態に応じたNMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B及び24Dの動作を説明する図である。図16及び図17に示すように、電圧VSSH1及びVSSH2を外部回路から供給されるように構成した場合でも、図14の回路と同じ動作が可能である。   FIG. 17 is a diagram for explaining the operation of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistors 24B and 24D according to the access state of the memory cell column 12. As shown in FIGS. 16 and 17, even when the voltages VSSH1 and VSSH2 are supplied from an external circuit, the same operation as the circuit of FIG. 14 is possible.

(第4の実施形態)
第4の実施形態は、第2の実施形態の構成を基本とし、さらに、低位電源線14を3種類以上の電圧から選択できるようにすることで、SRAM10が使用される機器の種類や使用条件に応じて、リーク電流削減量及びノイズ耐性のレベルを選択できるようにしている。
(Fourth embodiment)
The fourth embodiment is based on the configuration of the second embodiment, and further enables the low-level power supply line 14 to be selected from three or more types of voltages, so that the types and conditions of use of the equipment in which the SRAM 10 is used. The amount of leakage current reduction and the level of noise resistance can be selected according to the above.

図18は、本発明の第4の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図である。SRAM10は、モード選択回路25、及び低位電源回路23を備えている。   FIG. 18 is a block diagram showing a configuration of the SRAM 10 according to the fourth exemplary embodiment of the present invention. The SRAM 10 includes a mode selection circuit 25 and a low power supply circuit 23.

モード選択回路25は、複数のメモリセル列12に対応した複数のモード選択回路26を備えている。モード選択回路26には、ロウデコーダ15からの行アクセス信号RAS、及び外部回路からのモード選択信号MSが入力されている。モード選択回路26は、行アクセス信号RAS及びモード選択信号MSに基づいて、複数種類(本実施形態では、3種類)の低位電源電圧のうちいずれか1つを選択するための選択信号SSを低位電源回路23に送る。   The mode selection circuit 25 includes a plurality of mode selection circuits 26 corresponding to the plurality of memory cell columns 12. The mode selection circuit 26 receives a row access signal RAS from the row decoder 15 and a mode selection signal MS from an external circuit. Based on the row access signal RAS and the mode selection signal MS, the mode selection circuit 26 selects a selection signal SS for selecting one of a plurality of types (three types in this embodiment) of the low-level power supply voltage. This is sent to the power supply circuit 23.

低位電源回路23は、複数のモード選択回路26にそれぞれ接続された複数の低位電源回路24を備えている。複数の低位電源回路24にはそれぞれ、複数の低位電源線14が接続されている。各低位電源線14は、これに対応するメモリセル列に接続されている。低位電源回路24は、モード選択回路26から送られた選択信号SSに基づいて、3種類の低位電源電圧のうちいずれか1つを低位電源線14に供給する。   The low power supply circuit 23 includes a plurality of low power supply circuits 24 connected to a plurality of mode selection circuits 26, respectively. A plurality of low power supply lines 14 are connected to the plurality of low power supply circuits 24, respectively. Each low power supply line 14 is connected to a corresponding memory cell column. The low-level power supply circuit 24 supplies any one of three types of low-level power supply voltages to the low-level power supply line 14 based on the selection signal SS sent from the mode selection circuit 26.

図19は、低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図である。低位電源回路23は、3つのモード(モード1〜3)を有している。この3つのモード(モード1〜3)は、外部回路からのモード選択信号MSにより選択される。   FIG. 19 is a diagram for explaining the voltage supply operation of the low-level power supply circuit 23. The low-level power supply circuit 23 has three modes (modes 1 to 3). These three modes (modes 1 to 3) are selected by a mode selection signal MS from an external circuit.

モード1では、低位電源回路23は、読み出しアクセス先のメモリセル列及び書き込みアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、アクセスなしのメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を電圧VSSH1に設定する。   In mode 1, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column and the write access destination memory cell column, and the non-accessed memory cell column Thus, the voltage of the lower power supply line 14 is set to the voltage VSSH1.

モード2では、低位電源回路23は、読み出しアクセス先のメモリセル列及び書き込みアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定し、アクセスなしのメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を電圧VSSH2に設定する。モード3では、低位電源回路23は、全てのメモリセル列に対して低位電源線14の電圧を接地電圧VSSに設定する。   In mode 2, the low-level power supply circuit 23 sets the voltage of the low-level power supply line 14 to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column and the write access destination memory cell column, and the non-accessed memory cell column Thus, the voltage of the lower power supply line 14 is set to the voltage VSSH2. In mode 3, the low power supply circuit 23 sets the voltage of the low power supply line 14 to the ground voltage VSS for all the memory cell columns.

図20は、低位電源回路24の一例を示す回路図である。なお、図20は、1つのメモリセル列に対応する低位電源回路24を抽出して示している。他のメモリセル列についても、図20と同じ回路が接続されている。   FIG. 20 is a circuit diagram illustrating an example of the low-level power supply circuit 24. FIG. 20 shows an extracted low power supply circuit 24 corresponding to one memory cell column. The same circuit as that of FIG. 20 is also connected to the other memory cell columns.

低位電源回路24は、NMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B、及びPMOSトランジスタ24Dを備えている。NMOSトランジスタ24Aのドレインは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24Aのソースは、接地されている。PMOSトランジスタ24B及び24Dのドレインは、接地されている。PMOSトランジスタ24B及び24Dのソースは、低位電源線14に接続されている。NMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B及び24Dのゲートには、モード選択回路25から選択信号SSが入力される。   The low power supply circuit 24 includes an NMOS transistor 24A, a PMOS transistor 24B, and a PMOS transistor 24D. The drain of the NMOS transistor 24A is connected to the low potential power line 14. The source of the NMOS transistor 24A is grounded. The drains of the PMOS transistors 24B and 24D are grounded. The sources of the PMOS transistors 24B and 24D are connected to the low power supply line. A selection signal SS is input from the mode selection circuit 25 to the gates of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistors 24B and 24D.

図21は、メモリセル列12のアクセス状態に応じたNMOSトランジスタ24A、PMOSトランジスタ24B及び24Dの動作を説明する図である。PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧は、PMOSトランジスタ24Dのそれより大きく設定される。また、PMOSトランジスタ24Bの閾値電圧は電圧VSSH1に対応し、PMOSトランジスタ24Dの閾値電圧は電圧VSSH2に対応する。   FIG. 21 is a diagram for explaining the operation of the NMOS transistor 24A and the PMOS transistors 24B and 24D according to the access state of the memory cell column 12. The threshold voltage of the PMOS transistor 24B is set larger than that of the PMOS transistor 24D. The threshold voltage of the PMOS transistor 24B corresponds to the voltage VSSH1, and the threshold voltage of the PMOS transistor 24D corresponds to the voltage VSSH2.

このように構成されたSRAM10において、モード1及びモード2では、読み出しアクセス先のメモリセル列及び書き込みアクセス先のメモリセル列に対して低位電源線14が接地電圧VSSに設定される。従って、読み出しアクセス時間及び書き込みアクセス時間は従来のものと同じであり増加しない。   In the SRAM 10 configured as described above, in the mode 1 and the mode 2, the low power supply line 14 is set to the ground voltage VSS for the read access destination memory cell column and the write access destination memory cell column. Therefore, the read access time and the write access time are the same as the conventional one and do not increase.

また、モード1では、アクセスなしのメモリセル列に対して低位電源線14が電圧VSSH1に設定される。モード2では、アクセスなしのメモリセル列に対して低位電源線14が電圧VSSH2(<VSSH1)に設定される。従って、モード1は、モード2に比べて、リーク電流を削減することができる。また、モード2は、モード1に比べて、ノイズ耐性を大きくすることができる。   In mode 1, the low power supply line 14 is set to the voltage VSSH1 for the memory cell column without access. In mode 2, the low-level power supply line 14 is set to the voltage VSSH2 (<VSSH1) for the memory cell column without access. Therefore, the mode 1 can reduce the leakage current compared to the mode 2. Also, mode 2 can increase noise tolerance compared to mode 1.

すなわち、モード1は、ノイズ耐性は小さくてもよく、リーク電流削減量を大きくしたい場合に選択される。モード2は、リーク電流削減量は小さくてもよく、ノイズ耐性を大きくしたい場合に選択される。モード3は、リーク電流削減を行う必要がない場合、或いはノイズ耐性を従来と同じにする必要がある場合に選択される。このように、本実施形態によれば、SRAM10が使用される機器の種類や使用条件に応じて、リーク電流削減量及びノイズ耐性のレベルを選択することが可能となる。その他の効果は、第2の実施形態と同じである。   That is, mode 1 may be selected when the noise tolerance may be small and it is desired to increase the leakage current reduction amount. Mode 2 may be selected when the leakage current reduction amount may be small and noise tolerance is to be increased. Mode 3 is selected when it is not necessary to reduce the leakage current, or when it is necessary to have the same noise tolerance. As described above, according to the present embodiment, it is possible to select the leakage current reduction amount and the noise resistance level according to the type of equipment in which the SRAM 10 is used and the use conditions. Other effects are the same as those of the second embodiment.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で、構成要素を変形して具体化できる。また、実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を構成することができる。例えば、実施形態に開示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention. In addition, various inventions can be configured by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiments. For example, some constituent elements may be deleted from all the constituent elements disclosed in the embodiments, or constituent elements of different embodiments may be appropriately combined.

本発明の第1の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図。1 is a block diagram showing a configuration of an SRAM 10 according to a first embodiment of the present invention. 図1に示したメモリセルMCの構成を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a memory cell MC shown in FIG. 1. 第1の実施形態に係る低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図。The figure explaining the voltage supply operation | movement of the low power supply circuit 23 which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る低位電源回路24の一例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a low-level power supply circuit 24 according to the first embodiment. 図4に示した低位電源回路24におけるメモリセル列12のアクセス状態に応じた動作を説明する図。FIG. 5 is a diagram for explaining an operation according to an access state of a memory cell column 12 in the low-level power supply circuit 24 shown in FIG. 第1の実施形態に係る低位電源回路24の他の一例を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing another example of the low-level power supply circuit 24 according to the first embodiment. 図6に示した低位電源回路24におけるメモリセル列12のアクセス状態に応じた動作を説明する図。FIG. 7 is a diagram for explaining an operation according to the access state of the memory cell column 12 in the low power supply circuit 24 shown in FIG. 本発明の第2の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of SRAM10 which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 第2の実施形態に係る低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図。The figure explaining the voltage supply operation | movement of the low power supply circuit 23 which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る低位電源回路24の一例を示す回路図。The circuit diagram which shows an example of the low power supply circuit 24 which concerns on 2nd Embodiment. 図10に示した低位電源回路24におけるメモリセル列12のアクセス状態に応じた動作を説明する図。FIG. 11 is a diagram illustrating an operation according to an access state of the memory cell column 12 in the low-level power supply circuit 24 illustrated in FIG. 10. 本発明の第3の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of SRAM10 which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 第3の実施形態に係る低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図。The figure explaining the voltage supply operation | movement of the low power supply circuit 23 which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る低位電源回路24の一例を示す回路図。The circuit diagram which shows an example of the low level power supply circuit 24 which concerns on 3rd Embodiment. 図14に示した低位電源回路24におけるメモリセル列12のアクセス状態に応じた動作を説明する図。FIG. 15 is a diagram illustrating an operation according to an access state of the memory cell column 12 in the low-level power supply circuit 24 illustrated in FIG. 14. 第3の実施形態に係る低位電源回路24の他の一例を示す回路図。FIG. 10 is a circuit diagram showing another example of the low-level power supply circuit 24 according to the third embodiment. 図16に示した低位電源回路24におけるメモリセル列12のアクセス状態に応じた動作を説明する図。FIG. 17 is a diagram illustrating an operation according to an access state of the memory cell column 12 in the low-level power supply circuit 24 illustrated in FIG. 16. 本発明の第4の実施形態に係るSRAM10の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of SRAM10 which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 第4の実施形態に係る低位電源回路23の電圧供給動作を説明する図。The figure explaining the voltage supply operation | movement of the low power supply circuit 23 which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施形態に係る低位電源回路24の一例を示す回路図。The circuit diagram which shows an example of the low-order power supply circuit 24 which concerns on 4th Embodiment. 図20に示した低位電源回路24におけるメモリセル列12のアクセス状態に応じた動作を説明する図。FIG. 21 is a diagram illustrating an operation according to an access state of the memory cell column 12 in the low-level power supply circuit 24 illustrated in FIG. 20.

符号の説明Explanation of symbols

MC…メモリセル、LD1,LD2…負荷用PMOSトランジスタ、DV1,DV2…駆動用NMOSトランジスタ、N1,N2…記憶ノード、INV1,INV2…インバータ回路、XF1,XF2…トランスファーゲート、WL…ワード線、BL,/BL…ビット線、10…SRAM、11…メモリセルアレイ、12…メモリセル列、13…高位電源線、14…低位電源線、15…ロウデコーダ、16…ワード線ドライバ、17…カラムデコーダ、18…入出力(I/O)回路、19…センスアンプ回路、20…制御回路、21…アクセス判定回路、22…高位電源回路、23…低位電源回路、24…低位電源回路、24A,24C,24E…NMOSトランジスタ、24B,24D…PMOSトランジスタ、25…モード選択回路、26…モード選択回路。   MC ... memory cell, LD1, LD2 ... load PMOS transistor, DV1, DV2 ... drive NMOS transistor, N1, N2 ... storage node, INV1, INV2 ... inverter circuit, XF1, XF2 ... transfer gate, WL ... word line, BL , / BL... Bit line, 10... SRAM, 11... Memory cell array, 12... Memory cell column, 13... High power line, 14. DESCRIPTION OF SYMBOLS 18 ... Input / output (I / O) circuit, 19 ... Sense amplifier circuit, 20 ... Control circuit, 21 ... Access judgment circuit, 22 ... High power circuit, 23 ... Low power circuit, 24 ... Low power circuit, 24A, 24C, 24E ... NMOS transistor, 24B, 24D ... PMOS transistor, 25 ... mode selection circuit, 2 ... mode selection circuit.

Claims (5)

複数のワード線と、
前記複数のワード線にそれぞれ接続され、かつ複数のトランジスタから構成されたスタティック型の複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数の低位電源線と、
前記低位電源線に接続され、かつ、読み出しアクセス先のメモリセルに対して低位電源線を接地電圧に設定し、書き込みアクセス先及びアクセスがないメモリセルに対して低位電源線を接地電圧より高い電圧に設定する電源回路と
を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
Multiple word lines,
A memory cell array having a plurality of static memory cells each connected to the plurality of word lines and composed of a plurality of transistors;
A plurality of low power lines connected to the plurality of memory cells,
A voltage that is connected to the lower power supply line and is set to the ground voltage for the memory cell that is the read access destination, and a voltage that is higher than the ground voltage for the memory cell that is not the write access destination and the access. A semiconductor memory device comprising: a power supply circuit set to:
前記メモリセルのアクセス状態を判定する判定回路をさらに具備し、
前記電源回路は、前記判定回路による判定結果に基づいて、前記低位電源線の電圧を設定することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
A determination circuit for determining an access state of the memory cell;
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the power supply circuit sets a voltage of the low-order power supply line based on a determination result by the determination circuit.
複数のワード線と、
前記複数のワード線にそれぞれ接続され、かつ複数のトランジスタから構成されたスタティック型の複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記複数のメモリセルにそれぞれ接続された複数の低位電源線と、
前記低位電源線に接続され、かつ、読み出しアクセス先及び書き込みアクセス先のメモリセルに対して低位電源線を接地電圧に設定し、アクセスがないメモリセルに対して低位電源線を接地電圧より高い電圧に設定する電源回路と
を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
Multiple word lines,
A memory cell array having a plurality of static memory cells each connected to the plurality of word lines and composed of a plurality of transistors;
A plurality of low power lines connected to the plurality of memory cells,
A voltage connected to the low power supply line and set to the ground voltage for the read access destination and the write access destination memory cell, and a voltage higher than the ground voltage for the memory cell without access to the low power supply line A semiconductor memory device comprising: a power supply circuit set to:
前記複数のワード線のいずれか1本を選択するロウデコーダをさらに具備し、
前記電源回路は、前記ロウデコーダによる選択結果に基づいて、前記低位電源線の電圧を設定することを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。
A row decoder for selecting any one of the plurality of word lines;
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the power supply circuit sets a voltage of the low-order power supply line based on a selection result by the row decoder.
前記電圧は、前記メモリセルが保持するデータが破壊されない電圧に設定されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体記憶装置。   5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the voltage is set to a voltage that does not destroy data held in the memory cell.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103165178A (en) * 2011-12-09 2013-06-19 国际商业机器公司 Fine granularity power gating
JP2016110674A (en) * 2014-12-08 2016-06-20 株式会社ソシオネクスト Semiconductor device

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