JP2008282962A - Die bonding apparatus and method - Google Patents
Die bonding apparatus and method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008282962A JP2008282962A JP2007125484A JP2007125484A JP2008282962A JP 2008282962 A JP2008282962 A JP 2008282962A JP 2007125484 A JP2007125484 A JP 2007125484A JP 2007125484 A JP2007125484 A JP 2007125484A JP 2008282962 A JP2008282962 A JP 2008282962A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stem
- semiconductor chip
- contact
- die bonding
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 83
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 claims description 43
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y02P10/212—
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
本発明はダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法に係り、スループット向上に適したダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法に関する。 The present invention relates to a die bonding apparatus and a die bonding method thereof, and more particularly to a die bonding apparatus suitable for improving throughput and a die bonding method thereof.
ダイボンディングとは半導体チップを所定の位置に実装する事である。一般に光半導体チップのダイボンディングは、光半導体チップをステムと呼ばれる金属部材に搭載させる事により行われる。実際に光半導体チップをステムに実装するためには前述のステムに付着されたはんだを溶融し、そこへ半導体チップを押し当て冷却する事により行われる事が多い。ダイボンディングを行う装置はダイボンディング装置と呼ばれる。 Die bonding refers to mounting a semiconductor chip at a predetermined position. In general, die bonding of an optical semiconductor chip is performed by mounting the optical semiconductor chip on a metal member called a stem. Actually, in order to actually mount the optical semiconductor chip on the stem, the solder attached to the stem is melted, and the semiconductor chip is pressed against it and cooled. An apparatus for performing die bonding is called a die bonding apparatus.
上述したようなはんだを用いたダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法は特許文献1に記載されている。特許文献1に開示されるダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法は、アライメント冶具を用いる方式を採用している。この方式はレーザー装置認識装置を用いて位置補正する工程を含む。また、ステム等に搭載するべきレーザー素子を実際に発光させることにより搭載位置の補正を行う工程を有している。アライメント冶具を用いる方式は、このように、処理工程がやや複雑ではあるが高精度で半導体チップをダイボンディングできるという利点を有する。
DVD用光半導体素子等においては、製造の低コスト化のために歩留まりを低下させる事なくダイボンディングのスループットを向上させる事が要求される。しかしながら特許文献1に開示されるダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法では、処理が複雑であるし処理工程も多いことからスループットを高める事が困難である。そのため十分なスループットを実現でき無いという問題があった。 In DVD optical semiconductor elements and the like, it is required to improve die bonding throughput without reducing yield in order to reduce manufacturing costs. However, in the die bonding apparatus and the die bonding method disclosed in Patent Document 1, it is difficult to increase the throughput because the processing is complicated and there are many processing steps. Therefore, there is a problem that sufficient throughput cannot be realized.
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、ダイボンディングに要する時間を短縮できるダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法を提供する事を目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a die bonding apparatus and a die bonding method thereof that can shorten the time required for die bonding.
この発明によるダイボンディング装置は、半導体チップを保持してその位置決めを行うコレットと、前述の半導体チップを搭載するステムと、前述のステムに接し前述のステムに熱供給するヒートブロックと、前述の半導体チップの一端を接触させて前述の半導体チップの角度合わせを行う当て付け爪とを有し、前述の当て付け爪は、前述のステムと接する事無く、前述の当て付け爪と前述のステムとの相対位置を固定する場所に接する事を第一の特徴とする。 A die bonding apparatus according to the present invention includes a collet that holds and positions a semiconductor chip, a stem on which the semiconductor chip is mounted, a heat block that contacts the stem and supplies heat to the stem, and the semiconductor An abutment claw for adjusting the angle of the semiconductor chip by contacting one end of the chip, and the abutment claw is not in contact with the stem, and the abutment claw and the stem are The first feature is that it touches a place where the relative position is fixed.
また、この発明によるダイボンディング装置は、半導体チップを搭載するヒートシンクと、前述の半導体チップ又は前述のヒートシンクを保持してそれぞれの位置決めを行うコレットと、前述のヒートシンクを搭載するステムと、前述のステムに接し前述のステムに熱供給するヒートブロックと、前述の半導体チップの一端及び前述のヒートシンクの一端を接触させて前述の半導体チップ及び前述のヒートシンクの角度合わせを行う当て付け爪とを有し、前述の当て付け爪は、前述のステムと接する事無く、前述の当て付け爪と前述のステムとの相対位置を固定する場所に接する事を第二の特徴とする。 The die bonding apparatus according to the present invention includes a heat sink on which a semiconductor chip is mounted, a collet that holds the above-described semiconductor chip or the above-described heat sink and positions each of the semiconductor chip, a stem on which the above-mentioned heat sink is mounted, and the above-described stem A heat block that is in contact with and supplies heat to the stem, and an abutment claw that makes an angle adjustment of the semiconductor chip and the heat sink by contacting one end of the semiconductor chip and one end of the heat sink, A second feature of the abutting claw is that it is in contact with a place where the relative position between the abutting claw and the stem is fixed without contacting the stem.
また、この発明によるダイボンディングの方法は、ヒートブロックをステムに接触させるヒートブロック接触工程と、当て付け爪を前述のステムに接触させることなく前述のヒートブロックに接触させる当て付け爪接触工程と、前述のヒートブロック接触工程と前述の当て付け爪接触工程の後に、前述の当て付け爪の一面を利用して前述のステムに搭載されるべき前述の半導体チップの角度合わせ行う角度合わせ工程と、前述の半導体チップの搭載位置を決める位置決め工程と、前述のヒートブロック接触工程後に前述のヒートブロックで前述のステムを加熱するステム加熱工程と、を有する事を第三の特徴とする。 In addition, the die bonding method according to the present invention includes a heat block contact step in which the heat block is brought into contact with the stem, and an abutment claw contact step in which the abutment claw is brought into contact with the heat block without being brought into contact with the stem. After the heat block contact step and the abutting claw contact step, an angle adjusting step for adjusting the angle of the semiconductor chip to be mounted on the stem using one surface of the abutting claw, and A third feature is that it includes a positioning step for determining the mounting position of the semiconductor chip and a stem heating step for heating the stem with the heat block after the heat block contact step.
本発明によりダイボンディングを高速で行う事ができる。 According to the present invention, die bonding can be performed at high speed.
実施の形態1
図1は本実施形態の構成を説明するための図である。図1は正面図である。図2は図1のA−A矢示図である。本実施形態の構成要素は半導体チップを搭載すべき半導体素子とダイボンディング装置とを備える。以下に半導体素子とダイボンディング装置の構成をそれぞれ説明する。
Embodiment 1
FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of the present embodiment. FIG. 1 is a front view. FIG. 2 is an AA arrow view of FIG. The components of this embodiment include a semiconductor element on which a semiconductor chip is to be mounted and a die bonding apparatus. The configurations of the semiconductor element and the die bonding apparatus will be described below.
前述の半導体素子はステムベース10を有する。ステムベース10は金属部材であり平板状であれば良いが、本実施形態のステムベース10は円形平板状の形状である。半導体素子はさらにステムブロック12を有する。ステムブロック12も金属部材である。ステムブロック12は少なくともその一面がステムベース10と固定されている。ステムブロック12ははんだが塗布された面を有する。このはんだが塗布された面は、ダイボンディング工程において半導体チップ18が搭載される面である。ステムブロック12の形状としてはステムベース10との固定部分と、はんだが塗布された、半導体チップ18が搭載されるべき平面を有していれば良い。また、ステムベース10とステムブロック12は最初から一体となっているものもある。本実施形態では説明の便宜上ステムベース10とステムブロック12を総称してステムと呼ぶ事がある。ステムはNi/Auメッキされた放熱性の良い金属で形成されている。ステムに用いられる金属としてはCuやFeなどが用いられる事が多いが、放熱性が良好である限り限定されない。
The aforementioned semiconductor element has a
半導体素子はさらに金属リード14を有する。金属リード14はガラス封止によりステムに接続されている。そしてリード14はAuワイア等により所定の場所と配線接続されている。
The semiconductor element further has a
一方、ダイボンボンディング装置の構成は以下の通りである。本実施形態のダイボンディング装置はセラミック系材料からなるコレット16を有する。コレット16は半導体チップを保持するための道具である。コレット16の形状は任意であるが本実施形態では先端が尖った細長い円柱状の形状を有する。また、コレット16はその先端に半導体チップ18を吸着するための吸着穴を有する。コレット16はこの吸着穴を半導体チップ18の一面に当てて真空吸着する事により半導体チップ18を保持する事ができる。コレット18は半導体チップ18を保持した状態で任意の場所に移動することができる。
On the other hand, the configuration of the die bonding apparatus is as follows. The die bonding apparatus of this embodiment has a
ダイボンディング装置はさらにヒートブロック22を有する。ヒートブロック22は温冷機能を有する。ヒートブロック22はダイボンディングの際ステムベース10と接触しステムベース10に熱供給する。そのため、ヒートブロック22の形状はステムベース10と接触しやすいように形成されている。ヒートブロック22の昇温の能力は、少なくともステムブロック12に塗布されたはんだを溶融できる程度以上である。図2から分かるように本実施形態のステムブロック22はステムベース10と3箇所で接触する構成としている。前述した3箇所はそれぞれがステムベース10の外周及び平面と接触するようになっている。ステムブロック22がステムベース10と接する箇所や面積は適宜決められる。また、ヒートブロック22はステムを加熱するために設置されるため、ステムのどの部分と接していても良い。
The die bonding apparatus further includes a
ダイボンディング装置はさらに当て付け爪20を有する。当て付け爪20は半導体チップ18のステムへの搭載角度を定めるための部材である。すなわち当て付け爪20はステムと半導体チップ18との角度合わせに用いられる。当て付け爪20は、少なくとも半導体チップ18の側面を突き当ててその角度合わせを行うための面(以後、角度確定面と称する)と、ヒートブロック22に接触する面(以後、ヒートブロック接触面と称する)とを有している。前述のヒートブロック接触面をヒートブロック22に接触させると、前述の角度確定面の位置が確定する。そして位置の確定した角度確定面に半導体チップ18の側面を突き当てることにより、半導体チップのステムとの角度合わせが行われる。また、当て付け爪20はステムと接触することが無いように構成されている。ここで、当て付け爪20の材料は特に限定されないが本実施形態ではFeにより構成されている。
The die bonding apparatus further has an
続いて、前述のダイボンディング装置により前述の半導体素子に半導体チップ18が搭載されるプロセスについて説明する。まず、ヒートブロック22をステムに接触させる。図1、図2に示す通りこの工程により、ヒートブロック22はステムベース10の外周の3箇所と接触する。次に当て付け爪20のヒートブロック接触面がヒートブロック22と接触される。当て付け爪20のヒートブロック接触面がヒートブロックと接触すると、当て付け爪20の角度確定面の場所が確定する。そして場所の確定した角度確定面に半導体チップ18の側面が突き当てられる。半導体チップ18はコレット16により真空吸着されている。そして半導体チップ18を真空吸着したコレット16がX方向に移動することにより、半導体チップ18の角度確定面への突き当てが行われる。
Next, a process for mounting the
なお、本実施形態ではヒートブロック22のステムへの接触後、当て付け爪20のヒートブロック接触面がヒートブロック22と接触されたが逆の順序でそれぞれの接触を行っても良い。
In addition, in this embodiment, after the contact of the
このようにして半導体素子へ搭載されるべき角度合わせが行われた半導体チップ18は次に、コレット16の移動により搭載位置が決められる。ここでコレット16は半導体チップ18を所定の位置に搭載するための位置決めを行う。そして角度合わせと位置決めの済んだ半導体チップ18はステムブロック12に搭載される。半導体チップ18のステムブロック12への搭載は、ステムブロック12に塗布されたはんだを溶融し、そこへコレット16で半導体チップ18を押し付ける事により行われる。ステムブロック12に塗布されたはんだの溶融は、ヒートブロック22から供給される熱がステムブロック12に伝導される事により行われる。そして半導体チップがステムブロック12に強固に固定されるためには、ステムは出来るだけ熱損失なしに昇温される構成となっている事が望ましい。
Thus, the mounting position of the
半導体チップ18は上述のように搭載角度と搭載位置が決定された後にステムブロック12に搭載される。半導体チップ18搭載後の半導体素子の正面図は図3に示されている。また、図4は図3のB−B矢示図である。
The
続いて、本発明の特徴を説明する前に、本発明の比較例として図5、図6で表されるダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法について説明する。図5は比較例の正面図である。図6は図5のC−C矢示図である。比較例の構成は、当て付け爪24がヒートブロック接触面を有さずステムと接する面(以後、ステム接触面と称する)を有している点において図1図2で表される本実施形態の構成と異なる。そして、比較例のヒートブロック22は4箇所でステムベースと接触し、当て付け爪24のステム接触面がステムベース10と接触する部分を確保するような構成となっている。前述の通り比較例においては、当て付け爪24のステム接触面がステムと接触する事により、角度確定面の場所を確定している。さらに、本実施形態のコレット16はセラミック系材料で構成されているところ、比較例のコレット30は金属製である。当て付け爪24における角度確定面の場所が確定した後のダイボンディング方法は図1、2で表される本実施形態の方法と同様である。
Subsequently, before describing the features of the present invention, a die bonding apparatus and a die bonding method thereof shown in FIGS. 5 and 6 will be described as comparative examples of the present invention. FIG. 5 is a front view of a comparative example. FIG. 6 is a CC arrow view of FIG. The configuration of the comparative example is shown in FIG. 1 and FIG. 2 in that the
比較例で示される構成と方法によりダイボンディングを行うと、ヒートブロックによるステムの加熱が十分行われない事がある。これは、ステムを過熱する目的でヒートブロックからステムに供給された熱が、比較例の当て付け爪24のステム接触面を経由して当て付け爪24に逃げ出すからである。また比較例のコレットは金属製のため、半導体チップをステムに押し当てて溶着させる際にコレットを経由して熱が逃げ出す事があった。これにより半導体チップをステムに押し当てた後に追加の過熱を要する場合があった。
When die bonding is performed by the configuration and method shown in the comparative example, the stem may not be sufficiently heated by the heat block. This is because the heat supplied from the heat block to the stem for the purpose of overheating the stem escapes to the
比較例においては、前述した熱損失の結果、ステムブロックに塗布されたはんだの溶融に時間がかかり、ダイボンディングに要する時間(以後、タクトタイムと称する)の短縮が困難となってしまう問題があった。同じくこの熱損失の結果として、はんだの溶融が不十分なために半導体チップのステムへの固定が脆弱になり、製品歩留まりの低下要因ともなっていた。一般にダイボンディングにおいては、高い水準の歩留まりを維持しながらタクトタイムを短縮した、高歩留まり高スループットが要求されている。しかしながら比較例のようなダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法では前述のような理由によりこの要求を満たす事が困難であった。 In the comparative example, as a result of the heat loss described above, there is a problem that it takes time to melt the solder applied to the stem block and it is difficult to shorten the time required for die bonding (hereinafter referred to as tact time). It was. Similarly, as a result of this heat loss, due to insufficient melting of the solder, the fixing of the semiconductor chip to the stem becomes fragile, which has been a factor in reducing the product yield. In general, in die bonding, a high yield and a high throughput are required in which the takt time is shortened while maintaining a high level of yield. However, it is difficult for the die bonding apparatus and the die bonding method as in the comparative example to satisfy this requirement for the reasons described above.
本実施形態のダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法によれば高歩留まり高スループットのダイボンディングを行う事ができる。本実施形態の当て付け爪20はステムと接することなく角度確定面の場所を確定するため、比較例のような当て付け爪を経由した熱損失が抑制されている。故に本発明の構成におけるステムはヒートブロック22からの加熱により速やかに温度上昇する。その結果、ステムブロック12に塗布されたはんだの溶融が速やかかつ十分に行われる。また、本実施形態のコレット16はセラミック系材料で構成されているため、半導体チップ18をステムに押し当てる際にコレット16を経由した熱損失を抑制できる。本実施形態の構成によれば、はんだが高速かつ十分に溶融した状態で半導体チップ18をステムに搭載できるから高歩留まり、高スループットのダイボンディングが可能である。
According to the die bonding apparatus and the die bonding method of the present embodiment, high yield and high throughput die bonding can be performed. Since the
また比較例においては、ステムベース10に、当て付け爪24のステム接触面が接触するためのスペースが必須である。このスペースの要求は半導体素子の小型化を妨げるものである。本実施形態の構成によれば、当て付け爪20はステム接触面に代えてヒートブロック接触面を有しステムと接する事は無いので、前述のスペースを要さない。従って半導体素子の小型化が可能である。
In the comparative example, a space for the
本実施形態の当て付け爪20はヒートブロック接触面を有するが本発明では必須の構成要件ではない。すなわち、当て付け爪をステムに接しない構成とすれば本発明の効果は得られるから、角度確定面を固定できる限りにおいてはヒートブロック接触面に代えて他のステムに接しない接触面を用いてもよい。
Although the
実施の形態2
本実施形態は高歩留まり高スループットかつダイボンディングの容易性を高めたダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法に関する。図7図8は本実施形態のダイボンディング装置及びそのダイボンディング方法を説明するための図である。図7は正面図である。図8は図7のD−D矢示図である。本実施形態の半導体素子及びダイボンディング装置の構成で実施形態1と異なる点は、本実施形態の半導体素子がヒートシンク26を備えている点である。ヒートシンク26は放熱性の良い金属材料で形成されている。本実施形態ではヒートシンク26はAlN又はSiCにより構成されている。ヒートシンク26の表面はTi、Pt、Auのいずれかからなる金属電極を備える。またステムブロック32にはんだが塗布されていない点も実施形態1のステムブロック12と異なる。
Embodiment 2
The present embodiment relates to a die bonding apparatus and a die bonding method for the same that have a high yield, a high throughput, and an easy die bonding. FIG. 7 and FIG. 8 are diagrams for explaining the die bonding apparatus and the die bonding method of the present embodiment. FIG. 7 is a front view. FIG. 8 is a DD arrow view of FIG. The configuration of the semiconductor element and the die bonding apparatus of the present embodiment is different from the first embodiment in that the semiconductor element of the present embodiment includes a
ヒートシンク26は少なくともステムブロック32と接する面と、半導体チップ18を搭載するべき面を有する形状となっている。ヒートシンク26が有するステムブロック32と接する面と、半導体チップ18を搭載するべき面にははんだが塗布されている。ヒートシンク26の他の部分の形状は製造容易性等により適宜定めれば良い。本実施形態のヒートシンク26の形状は直方体である。
The
次に本実施形態のダイボンディングの方法について説明する。当て付け爪20のヒートブロック接触面をヒートブロック22と接触させる。これにより、角度確定面の場所が決まる。そして角度確定面に、コレット16に保持されたヒートシンク26の一端が押し当てられ、ヒートシンク26の角度合わせが行われる。次いで、ヒートシンク26はコレットによって搭載位置が決めされる。搭載角度と搭載位置が決定されたヒートシンクはステムブロック32の所定位置に搭載される。その後、半導体チップ18もヒートシンクと同様にコレット16に保持されたまま搭載角度と搭載位置が決定される。搭載角度と搭載位置が決定された半導体チップ18はヒートシンク26の半導体チップ18を搭載すべき面に搭載される。ヒートシンク26のステムへの搭載と、半導体チップ18のヒートシンク26への搭載は、前述したヒートシンク26に塗布されたはんだの溶融により行われる。本実施形態のダイボンディングの方法は、本実施形態がヒートシンク26を有しているため、上述のような点において実施形態1と異なるが、他の点においては実施形態1と同様である。
Next, the die bonding method of this embodiment will be described. The heat block contact surface of the
本実施形態のようにヒートシンク26を備える構成によれば、ステムブロックに直接はんだを塗布する工数を省略できる。この工程省略によりヒートブロックの設置を要するが、ステムブロックに直接はんだを塗布する工程と比較して作業が簡易になる。
故に本実施形態の構成によれば、ダイボンディングの容易化が可能である。
According to the configuration including the
Therefore, according to the configuration of the present embodiment, die bonding can be facilitated.
10 ステムベース
12 ステムブロック
16 コレット
18 半導体チップ
20 当て付け爪
22 ヒートブロック
26 ヒートシンク
10 stem base
12
Claims (5)
前記半導体チップを搭載するステムと、
前記ステムに接し前記ステムに熱供給するヒートブロックと、
前記半導体チップの一端を接触させて前記半導体チップの角度合わせを行う当て付け爪とを有し、
前記当て付け爪は、
前記ステムと接する事無く、前記当て付け爪と前記ステムとの相対位置を固定する場所に接する事を特徴とするダイボンド装置。 A collet that holds and positions the semiconductor chip;
A stem on which the semiconductor chip is mounted;
A heat block for contacting the stem and supplying heat to the stem;
An abutment claw for bringing one end of the semiconductor chip into contact and adjusting the angle of the semiconductor chip;
The abutment nail is
A die-bonding apparatus that contacts a place for fixing a relative position between the abutment claw and the stem without contacting the stem.
前記半導体チップ又は前記ヒートシンクを保持してそれぞれの位置決めを行うコレットと、
前記ヒートシンクを搭載するステムと、
前記ステムに接し前記ステムに熱供給するヒートブロックと、
前記半導体チップの一端及び前記ヒートシンクの一端を接触させて前記半導体チップ及び前記ヒートシンクの角度合わせを行う当て付け爪とを有し、
前記当て付け爪は、
前記ステムと接する事無く、前記当て付け爪と前記ステムとの相対位置を固定する場所に接する事を特徴とするダイボンド装置。 A heat sink to which a semiconductor chip is mounted;
A collet that holds the semiconductor chip or the heat sink and positions each of them;
A stem on which the heat sink is mounted;
A heat block for contacting the stem and supplying heat to the stem;
An abutting claw for bringing the one end of the semiconductor chip and one end of the heat sink into contact with each other and performing angle alignment of the semiconductor chip and the heat sink;
The abutment nail is
A die-bonding apparatus that contacts a place for fixing a relative position between the abutment claw and the stem without contacting the stem.
当て付け爪を前記ステムに接触させることなく前記ヒートブロックに接触させる当て付け爪接触工程と、
前記ヒートブロック接触工程と前記当て付け爪接触工程の後に、前記当て付け爪の一面を利用して前記ステムに搭載されるべき前記半導体チップの角度合わせを行う角度合わせ工程と、
前記半導体チップの搭載位置を決める位置決め工程と、
前記ヒートブロック接触工程後に前記ヒートブロックで前記ステムを加熱するステム加熱工程と、
を有する事を特徴とするダイボンディング方法。 A heat block contact process for bringing the heat block into contact with the stem;
An abutment claw contact step of contacting the heat block without contacting the abutment claw with the stem;
After the heat block contact step and the abutment claw contact step, an angle adjustment step of performing an angle adjustment of the semiconductor chip to be mounted on the stem using one surface of the abutment claw,
A positioning step for determining a mounting position of the semiconductor chip;
A stem heating step of heating the stem with the heat block after the heat block contact step;
A die bonding method characterized by comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007125484A JP4935491B2 (en) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | Die bonding apparatus and die bonding method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007125484A JP4935491B2 (en) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | Die bonding apparatus and die bonding method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008282962A true JP2008282962A (en) | 2008-11-20 |
JP4935491B2 JP4935491B2 (en) | 2012-05-23 |
Family
ID=40143540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007125484A Active JP4935491B2 (en) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | Die bonding apparatus and die bonding method thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4935491B2 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5870592A (en) * | 1981-10-23 | 1983-04-27 | Hitachi Ltd | Laser diode |
JPH06283819A (en) * | 1992-09-21 | 1994-10-07 | Nec Corp | Die bonder and die bonding method for optical element |
JPH0784160A (en) * | 1993-06-30 | 1995-03-31 | Anritsu Corp | Optical element module and its assembling method |
-
2007
- 2007-05-10 JP JP2007125484A patent/JP4935491B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5870592A (en) * | 1981-10-23 | 1983-04-27 | Hitachi Ltd | Laser diode |
JPH06283819A (en) * | 1992-09-21 | 1994-10-07 | Nec Corp | Die bonder and die bonding method for optical element |
JPH0784160A (en) * | 1993-06-30 | 1995-03-31 | Anritsu Corp | Optical element module and its assembling method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4935491B2 (en) | 2012-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7949023B2 (en) | Semiconductor laser apparatus | |
JP4308161B2 (en) | Die mounting method | |
JP2005183993A (en) | Led package assembly | |
TW201803436A (en) | Transfer method and mounting method | |
JP2016129205A (en) | Semiconductor device manufacturing method | |
JP2010040881A (en) | Positioning tool and method for manufacturing semiconductor device | |
CN105428333A (en) | Semiconductor device | |
JP4935491B2 (en) | Die bonding apparatus and die bonding method thereof | |
WO2015125671A1 (en) | Method for producing semiconductor device, and wire-bonding device | |
JP2005294621A (en) | Apparatus and method for wire bonding | |
US8975176B2 (en) | Gold die bond sheet preform | |
CN112805817A (en) | Die attach system and method of attaching a die to a substrate | |
TWI543284B (en) | Method for producing semiconductor apparatus and wire bonding apparatus | |
JP5790196B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP2008103558A (en) | Semiconductor power module | |
JP2008263165A (en) | Electrode pattern and wire bonding method | |
JP5874428B2 (en) | Calibration target jig and semiconductor manufacturing apparatus | |
JP2010129922A (en) | Method of manufacturing semiconductor laser | |
US9799624B1 (en) | Wire bonding method and wire bonding structure | |
JP2006332329A (en) | Semiconductor laser | |
JP3784739B2 (en) | Die bonding equipment | |
JP2011243860A (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP5017066B2 (en) | Manufacturing method of stem for optical semiconductor element | |
JP2016139658A (en) | Semiconductor device | |
JP2007095968A (en) | Stem for semiconductor laser device and its manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4935491 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |