JP2008282008A - Method for annealing optical fiber grating part - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光ファイバーグレーティング部を容易にアニールできる方法に関するものである。 The present invention relates to a method for easily annealing an optical fiber grating portion.
従来においては、光ファイバーグレーティング部周辺を放射熱又は強制通風熱などで加熱することにより、光ファイバーグレーティング部のアニールを行っていた（例えば、下記特許文献１、２）。このアニールは、製品出荷後の光ファイバーグレーティング部における特性の経時変動を小さくするためには必要な処理である。
しかし、アニールを行う場合に、放射熱又は強制通風熱などで光ファイバーグレーティング部周辺を加熱する方法を採用すると、光ファイバーの被覆部分まで加熱され、該被覆部分が焼けたり溶融したりしてしまうことがあった。また、光ファイバーの被覆部分が焼けたり溶融したりしないようにするためには、加熱温度に上限があるため、アニール時間がかかってしまう（上記特許文献１参照）。また、放射熱を発生させるには、ペルチェ素子を用いたヒーターなどが用いられるが、この場合はバッチ処理となるので、光ファイバーグレーティング部の形成工程とアニール工程とで、光ファイバーの脱着工程が余分に必要であった。 However, when annealing is performed, if the method of heating the periphery of the optical fiber grating part by radiant heat or forced ventilation heat is used, the coated part of the optical fiber is heated, and the coated part may be burned or melted. there were. In addition, in order to prevent the coated portion of the optical fiber from being burned or melted, the heating temperature has an upper limit, and thus annealing time is required (see Patent Document 1). In addition, in order to generate radiant heat, a heater using a Peltier element is used. In this case, since batch processing is performed, the optical fiber grating portion forming process and the annealing process require an extra optical fiber desorption process. It was necessary.
そこで、本発明の目的は、従来に比べ短時間で、光ファイバーグレーティング部を容易にアニールできる方法を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method capable of easily annealing an optical fiber grating portion in a shorter time than conventional.
本発明の光ファイバーグレーティング部のアニール方法は、光ファイバーグレーティング部に、所定の波長を有するレーザー光を照射して加熱する加熱工程を有している。 The method for annealing an optical fiber grating part of the present invention includes a heating step of heating the optical fiber grating part by irradiating a laser beam having a predetermined wavelength.
本発明によれば、光ファイバーグレーティング部を容易にアニールできる方法を提供できる。また、アニール時間も従来に比べ大幅に短縮でき、かつ経時変化に強い光ファイバーグレーティング部を得ることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the method which can anneal the optical fiber grating part easily can be provided. In addition, the annealing time can be greatly shortened compared to the conventional one, and an optical fiber grating portion that is resistant to changes over time can be obtained.
本発明の光ファイバーグレーティング部のアニール方法は、前記加熱工程において、前記レーザー光を発振するレーザー発振器の出力を調整することにより、前記光ファイバーグレーティング部の温度を調整して行うことが好ましい。 The annealing method of the optical fiber grating part of the present invention is preferably performed by adjusting the temperature of the optical fiber grating part by adjusting the output of the laser oscillator that oscillates the laser light in the heating step.
本発明によれば、結果的に、レーザー発振器の出力調整により、アニール時における光ファイバーグレーティング部の屈折率変調の熱緩和を調整することができる。 According to the present invention, as a result, the thermal relaxation of the refractive index modulation of the optical fiber grating portion during annealing can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator.
本発明の光ファイバーグレーティング部のアニール方法は、前記加熱工程の前において、所定箇所に載置した光ファイバーに、前記光ファイバーグレーティング部を形成する形成工程を有しており、前記形成工程を行った後に、前記光ファイバーを前記所定箇所に載置したままの状態で、前記加熱工程を連続して行うことが好ましい。 The annealing method of the optical fiber grating part of the present invention has a forming step of forming the optical fiber grating part on the optical fiber placed in a predetermined place before the heating step, and after performing the forming step, It is preferable that the heating step is continuously performed while the optical fiber is placed on the predetermined location.
本発明によれば、光ファイバーの脱着工程が必要でなく、前記光ファイバーグレーティング部の形成から連続して、前記光ファイバーグレーティング部のアニールを行うことができる。したがって、処理工程の簡素化が可能となる。 According to the present invention, an optical fiber desorption step is not necessary, and the optical fiber grating portion can be annealed continuously from the formation of the optical fiber grating portion. Therefore, the processing process can be simplified.
本発明の光ファイバーグレーティング部のアニール方法は、前記レーザー光が、石英ガラス吸収帯の一部の波長のものであることが好ましく、炭酸ガスレーザー光（ＣＯ２レーザー光）であることがより好ましい。 In the annealing method of the optical fiber grating portion of the present invention, the laser beam is preferably a part of the wavelength of the quartz glass absorption band, and more preferably a carbon dioxide laser beam (CO2 laser beam).
本発明によれば、確実に、従来に比べ短時間で、光ファイバーグレーティング部を容易にアニールできる方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to reliably provide a method capable of easily annealing an optical fiber grating portion in a shorter time than conventional.
以下、図面を参照しながら、本発明に係る実施形態を説明する。図１は本発明の実施形態に係る光ファイバーグレーティング部（以下、単に、グレーティング部と表現する）のアニール方法の説明に用いるための概念図であって、むき出しになったコア及びクラッド部分においては、断面を示す図となっている。まず、図１に示した各部位について説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram for use in explaining an annealing method of an optical fiber grating portion (hereinafter simply referred to as a grating portion) according to an embodiment of the present invention. In the exposed core and cladding portions, It is a figure which shows a cross section. First, each part shown in FIG. 1 will be described.
図１には、コア２ａ、コア２ａの外周に形成されたクラッド２ｂ、及び、クラッド２ｂを被覆した被覆部材２ｃからなる光ファイバー１と、コア２ａに形成されたグレーティング部３と、レーザー発振器４と、レーザー光５とが示されている。なお、図示していないが、光ファイバー１は、軽く張る程度に引っ張った状態で固定されている。 FIG. 1 shows an optical fiber 1 comprising a core 2a, a clad 2b formed on the outer periphery of the core 2a, and a covering member 2c covering the clad 2b, a grating portion 3 formed on the core 2a, and a laser oscillator 4. Laser light 5 is shown. Although not shown, the optical fiber 1 is fixed in a state where it is pulled lightly.
光ファイバー１は、材質が石英系のクラッド（図示せず）に樹脂などで外表面を被覆したものである。コア２ａは、光ファイバー１の断面中央に軸方向に沿って形成されているものであり、光が通過できる領域となっている。 The optical fiber 1 is made of a quartz clad (not shown) made of a material and coated on the outer surface with a resin or the like. The core 2a is formed along the axial direction in the center of the cross section of the optical fiber 1, and is a region through which light can pass.
グレーティング部３は、入射してきた光のうち、所望する光を透過させたり、反射させたりできるという特性を有する部分である。このグレーティング部３の形成方法としては、光ファイバーのクラッドをむき出しにして、該クラッドに紫外線を照射してコア中に形成する方法が一般的であるが、これに限られない。 The grating part 3 is a part which has the characteristic that the desired light can be permeate | transmitted or reflected among the incident light. As a method for forming the grating portion 3, a method is generally used in which the clad of the optical fiber is exposed and the clad is irradiated with ultraviolet rays and formed in the core.
レーザー発振器４は、９．３μｍ〜１０．８μｍの波長のレーザー光５を発振できる装置である。また、レーザー発振器４は、レーザー光５が安定するまで、出力のフィードバックを行う機能を有しているものである。レーザー光５としては、例えば炭酸ガスレーザー光（ＣＯ２レーザー光）などが挙げられる。なお、レーザー光５をグレーティング部３へ照射する際は、図示しないガルバノスキャナとミラーとを用いて、グレーティング部３全体にレーザー光５を照射できるようになっている。ガルバノスキャナについては、後述する。また、レーザー発振器４の出力調整によってレーザー光５は調整されるが、この出力と、レーザー光５を照射されたグレーティング部３の温度とは比例関係にある。したがって、予め、この比例関係を調べておけば、レーザー発振器４の出力調整だけでグレーティング部３の温度を調整することができる。 The laser oscillator 4 is a device that can oscillate a laser beam 5 having a wavelength of 9.3 μm to 10.8 μm. The laser oscillator 4 has a function of performing output feedback until the laser beam 5 is stabilized. Examples of the laser light 5 include carbon dioxide laser light (CO2 laser light). When irradiating the grating unit 3 with the laser beam 5, the entire grating unit 3 can be irradiated with a laser beam (not shown) and a mirror. The galvano scanner will be described later. Further, the laser beam 5 is adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 4, and this output is proportional to the temperature of the grating unit 3 irradiated with the laser beam 5. Therefore, if this proportional relationship is examined in advance, the temperature of the grating section 3 can be adjusted only by adjusting the output of the laser oscillator 4.
ここで、上述したレーザー発振器４の出力とグレーティング部３の温度との比例関係を調べる方法について、具体的に説明する。まず、グレーティング部３の温度を計測できる場所、例えば恒温槽などにグレーティング部３を設置する。次に、多波長の光を入射させながら、グレーティング部３の温度を変化させる。グレーティング部３において反射する光（反射波）の中心波長は、グレーティング部３の温度に依存するため、グレーティング部３の温度を変化させると、反射波の中心波長が変化する。この時のグレーティング部３の温度変化に対する反射波の中心波長の変化値を計測し、図示しないグラフにプロットする。 Here, a method for examining the proportional relationship between the output of the laser oscillator 4 and the temperature of the grating unit 3 will be specifically described. First, the grating unit 3 is installed in a place where the temperature of the grating unit 3 can be measured, for example, a thermostat. Next, the temperature of the grating unit 3 is changed while multi-wavelength light is incident. Since the center wavelength of light (reflected wave) reflected by the grating unit 3 depends on the temperature of the grating unit 3, when the temperature of the grating unit 3 is changed, the center wavelength of the reflected wave changes. At this time, the change value of the center wavelength of the reflected wave with respect to the temperature change of the grating unit 3 is measured and plotted on a graph (not shown).
一方、レーザー光５をグレーティング部３に照射させると、レーザー発振器４の出力に対して、グレーティング部３において反射する光（反射波）の中心波長が変化する。そのため、前述したグレーティング部３の温度変化に対する反射波の中心波長の変化値をプロットしたグラフを用いることにより、レーザー発振器４の出力値からグレーティング部３の温度を推定することが可能となる。即ち、レーザー発振器４の出力調整により、グレーティング部３の温度を調整することが可能となる。 On the other hand, when the laser beam 5 is irradiated onto the grating unit 3, the center wavelength of the light (reflected wave) reflected by the grating unit 3 changes with respect to the output of the laser oscillator 4. Therefore, the temperature of the grating unit 3 can be estimated from the output value of the laser oscillator 4 by using the graph in which the change value of the center wavelength of the reflected wave with respect to the temperature change of the grating unit 3 is plotted. That is, the temperature of the grating unit 3 can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 4.
上述した方法により得られた、グレーティング部３の温度に対するレーザー発振器４の出力値を表１に示す。なお、各温度に調整するためのレーザー発振器４の出力に対応したガルバノスキャナの設定周波数も同時に示している。 Table 1 shows the output value of the laser oscillator 4 with respect to the temperature of the grating section 3 obtained by the method described above. The set frequency of the galvano scanner corresponding to the output of the laser oscillator 4 for adjusting to each temperature is also shown.
また、表１に示したレーザー発振器４の出力値に対するグレーティング部３の温度をグラフ化したものを図２に示す。 FIG. 2 shows a graph of the temperature of the grating section 3 with respect to the output value of the laser oscillator 4 shown in Table 1.
図２より、レーザー発振器４の出力とグレーティング部３の温度とは比例関係にあることが分かる。したがって、予め、この比例関係を調べておけば、レーザー発振器４の出力調整だけでグレーティング部３の温度を調整できることが分かる。 2 that the output of the laser oscillator 4 and the temperature of the grating section 3 are in a proportional relationship. Therefore, it is understood that the temperature of the grating unit 3 can be adjusted only by adjusting the output of the laser oscillator 4 if this proportional relationship is examined in advance.
さらに、図３は、グレーティング部３におけるアニール時間に対する初期屈折率変調からの変化の割合（η）を示したグラフである。なお、図３のグラフは、グレーティング部３の温度が１７０℃、２３０℃、３４０℃の３つの場合の条件についてプロットされている。図３より、初期屈折率変調からの変化の割合（η）は、どの温度条件によっても、類似する曲線を描いてアニール時間の経過とともになだらかになっていることが分かる。さらに、温度条件によって、初期屈折率変調からの変化の割合（η）は、異なることが分かる。これより、アニール時のグレーティング部３の温度を調整することで、初期屈折率変調からの変化の割合（η）を所望の値に調整できることが分かる。ここで、前述したように、レーザー発振器４の出力調整により、グレーティング部３の温度を調整することができるため、結果的に、レーザー発振器４の出力調整により、初期屈折率変調からの変化の割合（η）を所望の値に調整することができる。即ち、結果的に、レーザー発振器４の出力調整により、アニール時におけるグレーティング部３の屈折率変調の熱緩和を調整することが可能となる。 Further, FIG. 3 is a graph showing the rate of change (η) from the initial refractive index modulation with respect to the annealing time in the grating portion 3. The graph of FIG. 3 is plotted with respect to three conditions in which the temperature of the grating portion 3 is 170 ° C., 230 ° C., and 340 ° C. From FIG. 3, it can be seen that the rate of change (η) from the initial refractive index modulation becomes gentle as the annealing time elapses by drawing a similar curve regardless of the temperature conditions. Further, it can be seen that the rate of change (η) from the initial refractive index modulation varies depending on the temperature condition. From this, it can be seen that the rate of change (η) from the initial refractive index modulation can be adjusted to a desired value by adjusting the temperature of the grating portion 3 during annealing. Here, as described above, since the temperature of the grating unit 3 can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 4, as a result, the rate of change from the initial refractive index modulation can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 4. (Η) can be adjusted to a desired value. That is, as a result, the thermal relaxation of the refractive index modulation of the grating part 3 during annealing can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 4.
次に、一例を用いて、グレーティング部３のアニール方法を説明する。まず、図１に示すような位置に、グレーティング部３が形成されている光ファイバー１を固定し、光ファイバー１の一端を光源に、他端をスペクトラムアナライザーに接続する（図示せず）。そして、レーザー発振器４の出力調整により、グレーティング部３の所定範囲にレーザー光５を波長９．３〜１０．８μｍ、出力９．５３ｗで、約５分照射する。これにより、グレーティング部３を約３００℃の温度に調整してアニールできる。その後、アニールされたグレーティング部３のスペクトルをスペクトラムアナライザーで確認し、問題なければ、アニール処理されたグレーティング部３を有する光ファイバー１の製品が完成したことになる。 Next, an annealing method for the grating portion 3 will be described using an example. First, the optical fiber 1 on which the grating portion 3 is formed is fixed at a position as shown in FIG. 1, and one end of the optical fiber 1 is connected to a light source and the other end is connected to a spectrum analyzer (not shown). Then, by adjusting the output of the laser oscillator 4, the laser beam 5 is irradiated to a predetermined range of the grating portion 3 at a wavelength of 9.3 to 10.8 μm and an output of 9.53w for about 5 minutes. Thereby, the grating part 3 can be annealed by adjusting the temperature to about 300 ° C. Thereafter, the spectrum of the annealed grating part 3 is confirmed with a spectrum analyzer. If there is no problem, the product of the optical fiber 1 having the annealed grating part 3 is completed.
本実施形態によれば、グレーティング部３を容易にアニールできる方法を提供できる。また、アニール時間も従来に比べ大幅に短縮でき、かつ経時変化に強いグレーティング部３を得ることができる。 According to the present embodiment, it is possible to provide a method capable of easily annealing the grating portion 3. Also, the annealing time can be greatly shortened compared to the conventional case, and the grating portion 3 that is resistant to changes with time can be obtained.
また、本実施形態によれば、結果的に、レーザー発振器４の出力調整により、アニール時におけるグレーティング部３の屈折率変調の熱緩和を調整することができる。 Further, according to the present embodiment, as a result, the thermal relaxation of the refractive index modulation of the grating portion 3 during annealing can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 4.
なお、一変形例として、グレーティング部３の形成を行ってから、そのまま連続して、上記実施形態と同様に、グレーティング部３のアニールを行ってもよい。具体的には、以下の通りである。まず、上記実施形態と同様に、クラッド２ｂがむき出しになった光ファイバー１を固定し、光ファイバー１の一端を光源に、他端をスペクトラムアナライザーに接続する。そして、コア２ａの中央部に、紫外線を照射し、グレーティング部３を形成する。次に、グレーティング部３にレーザー光５を波長９．３〜１０．８μｍ、出力９．５３ｗで、約５分照射する。その後、アニールされたグレーティング部３のスペクトルをスペクトラムアナライザーで確認し、問題なければ、アニール処理されたグレーティング部３を有する光ファイバー１の製品が完成したことになる。 As a modification, after the formation of the grating portion 3, the grating portion 3 may be annealed as it is in the same manner as in the above embodiment. Specifically, it is as follows. First, as in the above embodiment, the optical fiber 1 with the clad 2b exposed is fixed, and one end of the optical fiber 1 is connected to the light source and the other end is connected to the spectrum analyzer. Then, the grating part 3 is formed by irradiating the central part of the core 2a with ultraviolet rays. Next, the grating portion 3 is irradiated with laser light 5 at a wavelength of 9.3 to 10.8 μm and an output of 9.53 w for about 5 minutes. Thereafter, the spectrum of the annealed grating part 3 is confirmed by a spectrum analyzer. If there is no problem, the product of the optical fiber 1 having the annealed grating part 3 is completed.
本実施形態によれば、光ファイバー１の脱着工程が必要でなく、グレーティング部３の形成から連続して、グレーティング部３のアニールを行うことができる。したがって、処理工程の簡素化が可能となる。 According to this embodiment, the step of detaching the optical fiber 1 is not necessary, and the grating part 3 can be annealed continuously from the formation of the grating part 3. Therefore, the processing process can be simplified.
また、レーザー発振器からのグレーティング部へのレーザー光照射は、図４や図５に示すようなものであってもよい（説明の便宜のため、図４及び図５においては、グレーティング部のみを示している。）。具体的に説明すると、図４においては、以下の通りである。まず、レーザー発振器１２から発せられるレーザー光１４ａの照射方向を、グレーティング部１１の軸方向に沿ったものとする。次に、ミラー１３ａを利用して方向を変化させることによって、グレーティング部１１にレーザー光１４ａを照射する。そして、ミラー１３ａをグレーティング部１１の軸方向に沿って移動（例えば、図４中のミラー１３ｂのように移動（これによりレーザー光１４ｂも照射位置変動））させることによって、グレーティング部１１全体を照射する。これにより、グレーティング部１１全体のアニールを容易に行うことができる。また、レーザー発振器１２とミラー１３ａとを一体にして、グレーティング部１１の軸方向に沿って移動するような態様であってもよい。 In addition, the laser light irradiation from the laser oscillator to the grating portion may be as shown in FIGS. 4 and 5 (for convenience of explanation, only the grating portion is shown in FIGS. 4 and 5). ing.). Specifically, it is as follows in FIG. First, it is assumed that the irradiation direction of the laser light 14 a emitted from the laser oscillator 12 is along the axial direction of the grating portion 11. Next, the grating portion 11 is irradiated with laser light 14a by changing the direction using the mirror 13a. Then, the entire grating unit 11 is irradiated by moving the mirror 13a along the axial direction of the grating unit 11 (for example, moving like the mirror 13b in FIG. 4 (which also changes the irradiation position of the laser beam 14b)). To do. Thereby, annealing of the grating part 11 whole can be performed easily. Alternatively, the laser oscillator 12 and the mirror 13 a may be integrated and moved along the axial direction of the grating portion 11.
次に、図５について説明する。まず、図４の場合と同様に、レーザー発振器２２から発せられるレーザー光２４の照射方向を、グレーティング部２１の軸方向に沿ったものとする。次に、ミラー２３を利用して照射方向を変化させることによって、グレーティング部２１にレーザー光２４を照射する。そして、レーザー光２４の照射を受けつつ、ミラー２３をその場で回動させることにより、レーザー光２４の照射方向の角度を適宜変更（例えば、図５中の点線で囲まれた領域２５の範囲で変更）させることにより、グレーティング部２１全体を照射する。これにより、グレーティング部２１全体のアニールを容易に行うことができる。 Next, FIG. 5 will be described. First, as in the case of FIG. 4, the irradiation direction of the laser light 24 emitted from the laser oscillator 22 is assumed to be along the axial direction of the grating portion 21. Next, the laser beam 24 is irradiated to the grating portion 21 by changing the irradiation direction using the mirror 23. Then, the angle of the irradiation direction of the laser beam 24 is appropriately changed by rotating the mirror 23 on the spot while receiving the irradiation of the laser beam 24 (for example, a range of the region 25 surrounded by a dotted line in FIG. 5). The entire grating part 21 is irradiated by changing the above. Thereby, annealing of the grating part 21 whole can be performed easily.
次に、本発明について実施例を用いて説明する。図６は、図示しないガルバノスキャナを用いたＣＯ２レーザー５０の照射方法を示した概念図である。ここで、ガルバノスキャナとは、ミラー３３の角度を高速かつ高精度に制御し、レーザー発振器４０から出力されたＣＯ２レーザー５０を走査する装置である。図６に示すように、ガルバノスキャナが有するミラー３３と光ファイバー１０との距離は、約３０ｃｍである。また、光ファイバー１０のグレーティング部３０にＣＯ２レーザー５０を照射する範囲は、光ファイバー１０の軸方向に約１．２ｍｍである。さらに、グレーティング部３０への照射を均等にするため、ガルバノスキャナを動作させる電気信号は三角波を使用している。なお、ＣＯ２レーザー５０の照射条件は表２に示す。 Next, the present invention will be described using examples. FIG. 6 is a conceptual diagram showing an irradiation method of the CO2 laser 50 using a galvano scanner (not shown). Here, the galvano scanner is a device that controls the angle of the mirror 33 at high speed and with high accuracy, and scans the CO 2 laser 50 output from the laser oscillator 40. As shown in FIG. 6, the distance between the mirror 33 of the galvano scanner and the optical fiber 10 is about 30 cm. In addition, the range in which the grating portion 30 of the optical fiber 10 is irradiated with the CO2 laser 50 is about 1.2 mm in the axial direction of the optical fiber 10. Furthermore, in order to make the irradiation to the grating unit 30 uniform, an electrical signal for operating the galvano scanner uses a triangular wave. The irradiation conditions of the CO2 laser 50 are shown in Table 2.
また、本実施例においてアニールを施す前に、図１で説明したように、紫外線により予めグレーティング部３０の形成を行ってから、そのまま連続して、アニールを行った。 Further, as described with reference to FIG. 1, before performing the annealing in the present example, the grating portion 30 was previously formed by ultraviolet rays, and then the annealing was performed continuously as it was.
図６および表２に示した本発明の方法によってアニールされたグレーティング部３０及びアニール前のグレーティング部３０において、光の反射（遮断）を図示しないスペクトラムアナライザーで測定した。また、比較対象として、従来方法（図示せず）によるアニール前後のグレーティング部３０の光の反射をスペクトラムアナライザーで測定した。 In the grating part 30 annealed by the method of the present invention shown in FIG. 6 and Table 2 and the grating part 30 before annealing, light reflection (blocking) was measured with a spectrum analyzer (not shown). Further, as a comparison object, light reflection of the grating portion 30 before and after annealing by a conventional method (not shown) was measured with a spectrum analyzer.
ここで、従来方法とは、ペルチェ素子を用いたヒーターによる加熱でグレーティング部３０にアニールを施した方法である。なお、加熱条件は１２０℃の温度で１２時間行った。 Here, the conventional method is a method in which the grating portion 30 is annealed by heating with a heater using a Peltier element. The heating condition was 120 ° C. for 12 hours.
また、本発明の方法とは、図６および表２に示したように、ＣＯ２レーザー５０による加熱でグレーティング部３０にアニールを施した方法である。加熱条件は３００℃の温度で５分行った。 The method of the present invention is a method in which the grating portion 30 is annealed by heating with a CO2 laser 50 as shown in FIG. 6 and Table 2. The heating condition was 300 minutes at a temperature of 5 minutes.
上述した、従来方法によるアニール前後におけるスペクトラムアナライザーの測定結果を図７の（ａ）、（ｂ）に示す。また、本発明の方法によるアニール前後におけるスペクトラムアナライザーの測定結果を図８の（ｃ）、（ｄ）に示す。これらの結果から、両者ともアニール前後におけるグレーティング部の遮断能に差があり、中心波長が短波長にシフトしていることがわかる。 The measurement results of the spectrum analyzer before and after annealing by the conventional method described above are shown in FIGS. Moreover, the measurement results of the spectrum analyzer before and after annealing by the method of the present invention are shown in FIGS. 8 (c) and 8 (d). From these results, it can be seen that there is a difference in the blocking ability of the grating part before and after annealing, and the center wavelength is shifted to a short wavelength.
また、図９は、図７および図８に基づく、従来方法と本発明の方法との比較を示した図である。この結果から、従来方法に比べて本発明の方法によるアニールは、アニール前後におけるグレーティング部の遮断能の差が大きいことが分かる。ここで、アニール前後におけるグレーティング部の遮断能の差が大きい方が経時変化に強いため、本発明の方法によるアニールは、従来方法に比べて短時間で、より経時変化に強い光ファイバーを作製できることが分かる。 FIG. 9 is a diagram showing a comparison between the conventional method and the method of the present invention based on FIGS. 7 and 8. From this result, it can be seen that the annealing according to the method of the present invention has a greater difference in the blocking ability of the grating part before and after annealing than the conventional method. Here, since the larger the difference in the blocking ability of the grating part before and after annealing, the stronger the change over time, annealing according to the method of the present invention can produce an optical fiber that is more resistant to change over time in a shorter time than the conventional method. I understand.
これにより、本発明によれば、従来方法の時間（１２時間）に比べて、はるかに短い時間（５分）でアニールすることが可能となり、アニール時間を従来方法に比べ大幅に短縮することが可能となる。 As a result, according to the present invention, it is possible to anneal in a much shorter time (5 minutes) than the time of the conventional method (12 hours), and the annealing time can be greatly reduced compared to the conventional method. It becomes possible.
また、本発明によれば、アニール前後におけるグレーティング部の遮断能の差を従来よりも大きくすることができるため、経時変化に強いグレーティング部３０を得ることが可能となる。 In addition, according to the present invention, since the difference in the blocking ability of the grating part before and after annealing can be made larger than before, it is possible to obtain the grating part 30 that is resistant to changes with time.
さらに、本発明によれば、レーザー発振器４０の出力調整により、グレーティング部３０の温度を調整することができるため、結果的に、レーザー発振器４０の出力調整により、アニール時におけるグレーティング部３０の屈折率変調の熱緩和を調整することができる。 Furthermore, according to the present invention, the temperature of the grating unit 30 can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 40. As a result, the refractive index of the grating unit 30 during annealing can be adjusted by adjusting the output of the laser oscillator 40. Modulation thermal relaxation can be adjusted.
また、本発明によれば、光ファイバーの脱着工程が必要でなく、グレーティング部３０の形成から連続して、グレーティング部３０のアニールを行うことができる。したがって、処理工程の簡素化が可能となる。 Further, according to the present invention, the step of attaching and detaching the optical fiber is not necessary, and the grating part 30 can be annealed continuously from the formation of the grating part 30. Therefore, the processing process can be simplified.
また、本発明によれば、レーザー光が石英ガラス吸収帯の一部の波長のものである炭酸ガスレーザー光（ＣＯ２レーザー光）を用いているため、確実に、従来に比べ短時間で、光ファイバーグレーティング部を容易にアニールすることが可能となる。 In addition, according to the present invention, since the laser light uses carbon dioxide laser light (CO2 laser light) having a part of the wavelength of the quartz glass absorption band, the optical fiber can be surely shortened in a shorter time than conventional. The grating portion can be easily annealed.
以上より、本発明によれば、従来に比べ短時間で、光ファイバーグレーティング部を容易にアニールできる。 As described above, according to the present invention, the optical fiber grating portion can be easily annealed in a shorter time than conventional.
なお、本発明は、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で設計変更できるものであり、上記実施形態や実施例に限定されるものではない。 The present invention can be changed in design without departing from the scope of the claims, and is not limited to the above-described embodiments and examples.
１、１０ 光ファイバー
２ａ、２０ａ コア
２ｂ クラッド
２ｃ 被覆部材
３、１１、２１、３０ グレーティング部
４、１２、２２、４０ レーザー発振器
５、１４ａ、１４ｂ、２４、５０ レーザー光（ＣＯ２レーザー）
１３ａ、１３ｂ、２３、３３ ミラー
２５ （レーザー光の）照射領域
1, 10 Optical fiber 2a, 20a Core 2b Clad 2c Coating member 3, 11, 21, 30 Grating part 4, 12, 22, 40 Laser oscillator 5, 14a, 14b, 24, 50 Laser light (CO2 laser)
13a, 13b, 23, 33 Mirror 25 (laser light) irradiation area
Claims (5)
前記形成工程を行った後に、前記光ファイバーを前記所定箇所に載置したままの状態で、前記加熱工程を連続して行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の光ファイバーグレーティング部のアニール方法。 Before the heating step, the optical fiber placed in a predetermined location has a forming step of forming the optical fiber grating part,
3. The method of annealing an optical fiber grating part according to claim 1, wherein after the forming step, the heating step is continuously performed in a state where the optical fiber is placed on the predetermined portion. .
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