JP2008268545A - Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display panel - Google Patents
Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008268545A JP2008268545A JP2007111219A JP2007111219A JP2008268545A JP 2008268545 A JP2008268545 A JP 2008268545A JP 2007111219 A JP2007111219 A JP 2007111219A JP 2007111219 A JP2007111219 A JP 2007111219A JP 2008268545 A JP2008268545 A JP 2008268545A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- black matrix
- colored layer
- color filter
- liquid crystal
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
本発明は、カラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルに関し、特に、樹脂製のカラーフィルターを有するカラーフィルター基板及び液晶表示パネルに関するものである。 The present invention relates to a color filter substrate, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display panel, and particularly relates to a color filter substrate having a resin color filter and a liquid crystal display panel.
一般的な液晶表示パネルは、例えば、マトリクス状に設けられた複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、そのアクティブマトリクス基板に対向して配置され、共通電極及びカラーフィルターを有する対向基板と、それらの両基板の間に設けられた液晶層とを備えている。 A general liquid crystal display panel includes, for example, an active matrix substrate having a plurality of pixel electrodes provided in a matrix, a counter substrate disposed opposite to the active matrix substrate and having a common electrode and a color filter, and these And a liquid crystal layer provided between the two substrates.
対向基板を構成するカラーフィルターは、アクティブマトリクス基板の各画素電極に対応して例えばストライプ配列された赤(R)・緑(G)・青(B)の着色層と、各着色層の間に設けられたブラックマトリクスとを備えている。 The color filter constituting the counter substrate includes, for example, a red (R), green (G), and blue (B) colored layer arranged in a stripe corresponding to each pixel electrode of the active matrix substrate, and between the colored layers. And a provided black matrix.
例えば、特許文献1には、着色遮光性樹脂を用いたブラックマトリクスと、上記着色層に対応する着色透明樹脂を用いたカラーフィルター層とを備えたカラーフィルターにおいて、カラーフィルター層のパターン外形が、ブラックマトリクスの開口部周縁より内側にあり、且つブラックマトリクスのパターン最上部輪郭と、カラーフィルター層のパターン外形形状との間隙の幅が1μm〜5μmの範囲となるカラーフィルター及びその製造方法が開示されている。そして、これによれば、適切に着色画素部とブラックマトリクスとの境界が最小化され、且つ大きな突起も生じないカラーフィルター表面が得られる、と記載されている。
ところで、カラーフィルターを構成するブラックマトリクスとして、黒色に着色した遮光性を有する樹脂を用いる場合には、その遮光性を確保するために、例えば、0.1μm程度の金属クロムなどの薄膜を用いた場合よりも、その膜厚が、例えば、1μm程度に厚くなってしまう。そのため、絶縁基板上に複数の開口領域を有する樹脂製のブラックマトリクスを形成した後に、その各開口領域に着色層を形成する際には、アライメントずれなどの製造工程におけるバラツキにより、ブラックマトリクスの内周端に着色層の周端が乗り上げてしまうおそれがある。そうなると、カラーフィルターの表面に凸部が形成されるので、その凸部によって、カラーフィルター基板の表面に接触する液晶層の配向が不安定になる液晶層の配向不良、及び液晶層を挟持するアクティブマトリクス基板及びカラーフィルター基板の間隔が部分的に広がるセル厚不良などの不具合が発生してしまう。 By the way, when using a black colored light-shielding resin as the black matrix constituting the color filter, for example, a thin film of metal chromium or the like of about 0.1 μm is used in order to ensure the light shielding property. The film thickness becomes thicker than about 1 μm, for example. For this reason, after forming a resin black matrix having a plurality of opening areas on an insulating substrate, when forming a colored layer in each opening area, due to variations in the manufacturing process such as misalignment, the black matrix contains There is a possibility that the peripheral edge of the colored layer may ride on the peripheral edge. As a result, a convex portion is formed on the surface of the color filter, and the convex portion causes unstable alignment of the liquid crystal layer in contact with the surface of the color filter substrate, and active alignment that sandwiches the liquid crystal layer. Inconveniences such as a cell thickness defect in which the distance between the matrix substrate and the color filter substrate is partially increased occur.
ここで、図20に示すように、特許文献1に記載された技術を用いて、ブラックマトリクス106の内周端と着色層107の周端との間に間隙C(例えば、1μm〜5μm)を設けた場合には、着色層107の乗り上げ部分による突起が確かに形成されなくなるものの、ブラックマトリクス106の内周端と着色層107の周端との間隙Cが形成する全周に亘る段差(凹部)によって、各着色層107が構成する画素では、液晶層の配向不良が全周に亘って発生することになるので、画素単位で液晶層の配向不良が発生するおそれがある。
Here, as shown in FIG. 20, a gap C (for example, 1 μm to 5 μm) is formed between the inner peripheral edge of the
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及的に抑制することにある。 The present invention has been made in view of such points, and an object of the present invention is to suppress as little as possible the alignment failure of the liquid crystal layer caused by the color filter.
上記目的を達成するために、本発明は、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えるようにしたものである。 In order to achieve the above object, according to the present invention, a black matrix includes a matching portion that coincides with the peripheral edge of the colored layer, a separation portion that is spaced apart from the peripheral edge, and a peripheral edge of at least one side of each opening region. And at least one of the superimposing portions that are superimposed on each other.
具体的に本発明に係るカラーフィルター基板は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板であって、上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とする。 Specifically, the color filter substrate according to the present invention is a color filter substrate comprising a black matrix provided with a plurality of opening regions and a colored layer provided in each opening region, wherein the black matrix comprises: In at least one side of each of the opening regions, a matching portion that coincides with the peripheral end of the colored layer, a separation portion that is separated from the peripheral end, and at least one of an overlapping portion that overlaps the peripheral end are provided. Features.
上記の構成によれば、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えているので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなっているので、その基板表面に接触する液晶層の配向が正常な状態にある。そのため、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有していることになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。 According to the above configuration, the black matrix has a matching portion that coincides with the peripheral end of the colored layer, a separation portion that is separated from the peripheral end, and an overlapping portion that overlaps with the peripheral end on at least one side of each opening region. Therefore, in each pixel constituted by each opening region of the black matrix or the colored layer, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix coincide at least at the matching portion. . Here, in the coincidence portion, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix are in an ideal finish state without running or gaps, and the unevenness of the substrate surface is reduced, so that the substrate surface is in contact The alignment of the liquid crystal layer is normal. Therefore, each pixel has a region in which the liquid crystal layer is normally aligned, and the alignment failure of the liquid crystal layer that occurs in units of pixels is suppressed, so the alignment failure of the liquid crystal layer caused by the color filter is suppressed. Suppressed as much as possible.
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域が矩形状に設けられ、上記着色層の少なくとも一辺は、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていてもよい。 In the black matrix, each opening region is provided in a rectangular shape, and at least one side of the colored layer includes a plurality of linear portions for forming the matching portion and at least one of the separation portion and the overlapping portion. And each of the linear portions may be arranged in a step shape.
上記の構成によれば、ブラックマトリクスの各開口領域が矩形状に設けられ、着色層の少なくとも一辺が段状に配置された複数の線状部を有しているので、ブラックマトリクスの内周端と、着色層の周端の一辺における各線状部との位置関係により、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが具体的に構成される。 According to the above configuration, each opening region of the black matrix is provided in a rectangular shape and has a plurality of linear portions in which at least one side of the colored layer is arranged stepwise. And the matching portion where the inner peripheral edge of the black matrix coincides with the peripheral edge of the colored layer, and the inner peripheral edge of the black matrix is the peripheral edge of the colored layer. And at least one of a separating portion that is separated from the overlapping portion and an overlapping portion in which the inner peripheral end of the black matrix overlaps the peripheral end of the colored layer.
上記着色層は、矩形状に設けられ、上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺が、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていてもよい。 The colored layer is provided in a rectangular shape, and the black matrix includes a plurality of linear portions in which at least one side of each opening region constitutes the matching portion and at least one of the separation portion and the overlapping portion. The linear portions may be arranged in a step shape.
上記の構成によれば、着色層が矩形状に設けられ、ブラックマトリクスの各開口領域の少なくとも一辺が段状に配置された複数の線状部を有しているので、着色層の周端と、ブラックマトリクスの内周端の一辺における各線状部との位置関係により、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが具体的に構成される。 According to the above configuration, since the colored layer is provided in a rectangular shape and has a plurality of linear portions in which at least one side of each opening region of the black matrix is arranged stepwise, the peripheral edge of the colored layer and A matching portion in which the inner peripheral edge of the black matrix coincides with the peripheral edge of the colored layer according to the positional relationship with each linear portion on one side of the inner peripheral edge of the black matrix, and the inner peripheral edge of the black matrix is the peripheral edge of the colored layer And at least one of a separating portion that is separated from the overlapping portion and an overlapping portion in which the inner peripheral end of the black matrix overlaps the peripheral end of the colored layer.
上記ブラックマトリクスは、遮光性を有する樹脂により構成されていてもよい。 The black matrix may be made of a light-shielding resin.
上記の構成によれば、遮光性を確保するために、ブラックマトリクスの膜厚が厚くなる。そして、ブラックマトリクスの各開口領域に着色層が設けられたカラーフィルター基板では、その表面がブラックマトリクスの膜厚に起因して凹凸に形成され、その凹凸に形成された領域で液晶層の配向不良が発生し易くなるので、本発明の作用効果が有効に奏される。 According to said structure, in order to ensure light-shielding property, the film thickness of a black matrix becomes thick. In a color filter substrate in which a colored layer is provided in each opening region of the black matrix, the surface is formed to be uneven due to the film thickness of the black matrix, and the liquid crystal layer is poorly aligned in the region formed in the unevenness. Since it becomes easy to generate | occur | produce, the effect of this invention is show | played effectively.
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されると共に、該複数の線状部の少なくとも一つが上記ブラックマトリクスの内周端に一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とする。 The color filter substrate manufacturing method according to the present invention is a method of manufacturing a color filter substrate including a black matrix provided with a plurality of opening regions and a colored layer provided in each opening region. Then, by forming a light shielding film on the transparent substrate and patterning the light shielding film, the black matrix forming step for forming the black matrix and each opening region of the black matrix formed in the black matrix forming step are covered By forming the transparent colored film as described above and patterning the transparent colored film, at least one side of each peripheral end has a plurality of linear portions, and each linear portion is arranged in a step shape, A colored layer forming step of forming the colored layer so that at least one of the plurality of linear portions coincides with the inner peripheral edge of the black matrix. And wherein the door.
上記の方法によれば、ブラックマトリクス形成工程において、複数の開口領域を有するブラックマトリクスを形成し、着色層形成工程において、各周端の少なくとも一辺が段状に配置された複数の線状部を有し、それらの線状部の少なくとも一つがブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの内周端に一致するように、着色層を形成するので、ブラックマトリクスの内周端と、着色層の周端の一辺における各線状部との位置合わせにより、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板では、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、一致部と、離間部及び重畳部の少なくとも一方とを備えることになるので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなるので、その基板表面に接触する液晶層の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。 According to the above method, in the black matrix forming step, a black matrix having a plurality of opening regions is formed, and in the colored layer forming step, the plurality of linear portions in which at least one side of each peripheral end is arranged in a step shape. The colored layer is formed so that at least one of the linear portions coincides with the inner peripheral edge of the black matrix formed in the black matrix forming step. A matching portion where the inner peripheral edge of the black matrix coincides with the peripheral edge of the colored layer by alignment with each linear portion on one side of the peripheral edge, and a separation portion where the inner peripheral edge of the black matrix is separated from the peripheral edge of the colored layer And at least one of overlapping portions in which the inner peripheral edge of the black matrix overlaps the peripheral edge of the colored layer. Therefore, in the manufactured color filter substrate, the black matrix includes a matching portion and at least one of the separation portion and the overlapping portion on at least one side of each opening region. In each pixel constituted by the colored layer, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix coincide at least at the coincidence portion. Here, in the coincidence portion, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix are in an ideal finish state without any running or gaps, and the unevenness of the substrate surface is reduced, so that the liquid crystal in contact with the substrate surface The layer orientation is in a normal state. As a result, each pixel has a region in which the liquid crystal layer is normally aligned, and the alignment failure of the liquid crystal layer that occurs in units of pixels is suppressed, so that the alignment failure of the liquid crystal layer caused by the color filter is possible. Is suppressed.
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記各開口領域の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されるように、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端が上記各開口領域に形成された複数の線状部の少なくとも一つに一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とする。 The color filter substrate manufacturing method according to the present invention is a method of manufacturing a color filter substrate including a black matrix provided with a plurality of opening regions and a colored layer provided in each opening region. Then, by forming a light shielding film on the transparent substrate and patterning the light shielding film, at least one side of each of the opening regions has a plurality of linear portions, and the linear portions are arranged in a step shape. A black matrix forming step for forming the black matrix, and forming a transparent colored film so as to cover each opening region of the black matrix formed in the black matrix forming step, and patterning the transparent colored film A colored layer forming step of forming the colored layer so that each peripheral end coincides with at least one of the plurality of linear portions formed in each of the opening regions. Characterized in that it comprises.
上記の方法によれば、ブラックマトリクス形成工程において、各開口領域の少なくとも一辺が、段状に配置された複数の線状部を有するようにブラックマトリクスを形成し、着色層形成工程において、各周端がブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域の一辺における複数の線状部の少なくとも一つに一致するように着色層を形成するので、ブラックマトリクスの内周端の一辺における各線状部と、着色層の周端との位置合わせにより、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板では、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、一致部と、離間部及び重畳部の少なくとも一方とを備えることになるので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなるので、その基板表面に接触する液晶層の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。 According to the above method, in the black matrix forming step, the black matrix is formed so that at least one side of each opening region has a plurality of linear portions arranged in a step shape. Since the colored layer is formed so that the end matches at least one of the plurality of linear portions in one side of each opening region of the black matrix formed in the black matrix forming step, each line on one side of the inner peripheral edge of the black matrix By aligning the shape portion with the peripheral edge of the colored layer, the matching portion where the inner peripheral edge of the black matrix coincides with the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix are separated from the peripheral edge of the colored layer. And at least one of overlapping portions in which the inner peripheral edge of the black matrix overlaps with the peripheral edge of the colored layer. Therefore, in the manufactured color filter substrate, the black matrix includes a matching portion and at least one of the separation portion and the overlapping portion on at least one side of each opening region. In each pixel constituted by the colored layer, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix coincide at least at the coincidence portion. Here, in the coincidence portion, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix are in an ideal finish state without any running or gaps, and the unevenness of the substrate surface is reduced, so that the liquid crystal in contact with the substrate surface The layer orientation is in a normal state. As a result, each pixel has a region in which the liquid crystal layer is normally aligned, and the alignment failure of the liquid crystal layer that occurs in units of pixels is suppressed, so that the alignment failure of the liquid crystal layer caused by the color filter is possible. Is suppressed.
また、本発明に係る液晶表示パネルは、互いに対向して配置された一対の基板と、上記一対の基板の間に設けられた液晶層とを備えた液晶表示パネルであって、上記一方の基板は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、該各開口領域に設けられた着色層とを備え、上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とする。 The liquid crystal display panel according to the present invention is a liquid crystal display panel comprising a pair of substrates disposed opposite to each other and a liquid crystal layer provided between the pair of substrates, wherein the one substrate Comprises a black matrix provided with a plurality of opening regions and a colored layer provided in each opening region, and the black matrix coincides with the peripheral edge of the colored layer on at least one side of each opening region. A matching portion, a separation portion spaced from the peripheral end, and at least one of an overlapping portion overlapping the peripheral end.
上記の構成によれば、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えているので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、一方の基板における表面の凹凸が小さくなっているので、一方の基板と他方の基板との間に設けられた液晶層の配向が正常な状態にある。そのため、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有していることになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、液晶表示パネルにおいて、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。 According to the above configuration, the black matrix has a matching portion that coincides with the peripheral end of the colored layer, a separation portion that is separated from the peripheral end, and an overlapping portion that overlaps with the peripheral end on at least one side of each opening region. Therefore, in each pixel constituted by each opening region of the black matrix or the colored layer, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix coincide at least at the matching portion. . Here, in the coincidence portion, the peripheral edge of the colored layer and the inner peripheral edge of the black matrix are in an ideal finish state without running or gaps, and the unevenness of the surface on one substrate is small, The alignment of the liquid crystal layer provided between the substrate and the other substrate is in a normal state. Therefore, in each pixel, the liquid crystal layer has a region in which the liquid crystal layer is normally aligned, and the alignment failure of the liquid crystal layer that occurs on a pixel basis is suppressed. The orientation failure of the layer is suppressed as much as possible.
上記他方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていてもよい。 Display wiring may be provided on the other substrate so as to overlap the side including the matching portion in each opening region of the black matrix.
上記の構成によれば、ブラックマトリクスの各開口領域における一致部を含む辺において、着色層の周端から離間して一方の基板表面に凹部を形成する離間部、及び着色層の周端に重畳して一方の基板表面に凸部を形成する重畳部の少なくとも一方を有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層の配向不良が発生し易い領域に他方の基板に設けられた表示用配線が重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下が抑制される。 According to the above configuration, the side including the coincidence portion in each opening region of the black matrix is separated from the peripheral edge of the colored layer and overlapped with the peripheral edge of the colored layer and the spaced portion that forms a recess on one substrate surface. Since there is at least one of the overlapping portions that form the convex portion on the surface of one of the substrates, the concave portion or the convex portion tends to cause misalignment of the liquid crystal layer, but it is caused by the concave portion or the convex portion. As a result, the display wiring provided on the other substrate is superimposed on the region where the alignment defect of the liquid crystal layer is likely to occur, and the region does not directly contribute to the display, so that the display quality can be prevented from deteriorating.
上記一方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていてもよい。 Display wiring may be provided on the one substrate so as to overlap with a side including the coincidence portion in each opening region of the black matrix.
上記の構成によれば、ブラックマトリクスの各開口領域における一致部を含む辺において、着色層の周端から離間して一方の基板表面に凹部を形成する離間部、及び着色層の周端に重畳して一方の基板表面に凸部を形成する重畳部の少なくとも一方を有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層の配向不良が発生し易い領域に一方の基板に設けられた表示用配線が重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下が抑制される。 According to the above configuration, the side including the coincidence portion in each opening region of the black matrix is separated from the peripheral edge of the colored layer and overlapped with the peripheral edge of the colored layer and the spaced portion that forms a recess on one substrate surface. Since there is at least one of the overlapping portions that form the convex portion on the surface of one of the substrates, the concave portion or the convex portion tends to cause misalignment of the liquid crystal layer, but it is caused by the concave portion or the convex portion. As a result, the display wiring provided on one of the substrates is superimposed on a region where the alignment defect of the liquid crystal layer is likely to occur, and the region does not directly contribute to the display, so that the display quality is prevented from deteriorating.
本発明によれば、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えているので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及的に抑制することができる。 According to the present invention, the black matrix includes, on at least one side of each opening region, a matching portion that coincides with the peripheral end of the colored layer, a separation portion that is separated from the peripheral end, and an overlapping portion that overlaps the peripheral end. Since at least one is provided, the alignment defect of the liquid crystal layer resulting from a color filter can be suppressed as much as possible.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiments.
《発明の実施形態1》
図1〜図6は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態1を示している。
Embodiment 1 of the Invention
1 to 6 show Embodiment 1 of a color filter substrate, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display panel according to the present invention.
図1は、本実施形態の液晶表示パネル50aの平面図であり、図2〜図5は、図1中の各断面箇所を示す線(II−II線、III−III線、IV−IV線及びV−V線)に沿った断面図である。
FIG. 1 is a plan view of the liquid
液晶表示パネル50aは、図1〜図5に示すように、互いに対向して配置された一対の基板として設けられたアクティブマトリクス基板20a及び対向基板30aと、それらの両基板20a及び30aの間に設けられた液晶層40とを備えている。
As shown in FIGS. 1 to 5, the liquid
アクティブマトリクス基板20aは、図1に示すように、マトリクス状に設けられた複数の画素電極4aと、各画素電極4aの間(図中横方向)に延びるように設けられた複数のゲート線1aと、各画素電極4aの間(図中縦方向)に延びるように設けられた複数のソース線2と、各画素電極4a毎にそれぞれ設けられた複数の薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と省略する)3と、各ゲート線1aの間に延びるように設けられた容量線1bとを備えている。
As shown in FIG. 1, the
TFT3は、図4に示すように、透明基板10a上に設けられたゲート電極(1a)と、ゲート電極(1a)を覆うように設けられたゲート絶縁膜11と、ゲート絶縁膜11上でゲート電極(1a)に対応する位置に島状に設けられた半導体層12と、その半導体層12上で互いに対峙するように設けられたソース電極2a及びドレイン電極2bとを備えている。ここで、図1に示すように、上記ゲート電極(1a)は、ゲート線1aの一部であり、ソース電極2aは、ソース線2の側方にL字状に突出した部分である。また、ドレイン電極2bは、第1層間絶縁膜13及び第2層間絶縁膜14の積層膜に形成されたコンタクトホールを介して画素電極4aに接続されていると共に、ゲート絶縁膜11を介して容量線1bに重畳することにより補助容量を構成している。
As shown in FIG. 4, the
対向基板30aは、図1〜図5に示すように、透明基板10b、透明基板10b上に設けられたブラックマトリクス6と、ブラックマトリクス6の各開口領域A(図6(b)参照)に着色層としてそれぞれ設けられた赤色層7R、青色層7B及び緑色層7Gとを含むカラーフィルターF、並びにカラーフィルターFを覆うように設けられた共通電極8aを備えたカラーフィルター基板である。
1 to 5, the
赤色層7R、青色層7B及び緑色層7Gは、図1に示すように、略矩形状にそれぞれ形成され、その周端の各一辺(図中下辺)が、段状に配置された複数の線状部Sを有している。 As shown in FIG. 1, the red layer 7 </ b> R, the blue layer 7 </ b> B, and the green layer 7 </ b> G are each formed in a substantially rectangular shape, and each side of the peripheral edge (the lower side in the drawing) is a plurality of lines arranged in a step shape. A shaped portion S is provided.
ブラックマトリクス6の各開口領域Aは、図1に示すように、矩形状に形成され、その下辺が各着色層(7R、7B及び7G)の周端から離間する離間部P、各着色層(7R、7B及び7G)の周端に一致する一致部M、並びに各着色層(7R、7B及び7G)の周端に重畳する重畳部Lを有している。本実施形態では、具体的に図1に示すように、各着色層(7R、7B及び7G)の下辺における左側の二つの線状部Sがブラックマトリクス6の内周端の下辺から離間し(図3中の離間部P参照)、また、各着色層(7R、7B及び7G)の下辺における中央の一つの線状部Sがブラックマトリクス6の内周端の下辺に一致し(図4中の一致部M参照)、さらに、各着色層(7R、7B及び7G)の下辺における右側の二つの線状部Sがブラックマトリクス6の内周端の下辺に重畳している(図5中の重畳部L参照)。ここで、ブラックマトリクス6の各開口領域Aは、例えば、縦200μm×横90μmであり、各着色層(7R、7B及び7G)は、例えば、縦195μm〜205μm×横100μmである。また、各線状部Sは、その長さが、例えば、20μmであり、その段差が、例えば、2.5μmである。
As shown in FIG. 1, each opening area A of the
また、アクティブマトリクス基板20aの各容量線1bは、対向基板30aのブラックマトリクス6の各開口領域Aにおける一致部Mを含む下辺に重畳するように配置されている。
In addition, each
液晶層40は、電気光学特性を有するネマチック液晶(液晶材料)などにより構成されている。
The
上記構成の液晶表示パネル50aでは、各画素電極4aなどにより構成される各画素において、ゲート線1aからゲート信号がゲート電極(1a)に送られて、TFT3がオン状態になったときに、ソース線2からソース信号がソース電極2aに送られることにより、半導体層12及びドレイン電極2bを介して、画素電極4aに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示パネル50aでは、アクティブマトリクス基板20aの各画素電極4aと、対向基板30aの共通電極8aとの間において電位差が生じ、液晶層40に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネル50aでは、液晶層40に印加された電圧の大きさによって液晶層40の配向状態を変えることにより、液晶層40の光透過率を調整して画像が表示される。
In the liquid
次に、本実施形態の液晶表示パネル50aを製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程及びパネル作製工程を備えている。
Next, a method for manufacturing the liquid
<アクティブマトリクス基板作製工程>
まず、ガラス基板などの透明基板10a上の基板全体に、例えば、アルミニウムを含む金属膜(厚さ50nm〜500nm程度)をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線(ゲート電極)1a及び容量線1bを形成する。
<Active matrix substrate manufacturing process>
First, for example, a metal film (thickness of about 50 nm to 500 nm) containing aluminum is formed on the entire substrate on the
続いて、ゲート線(ゲート電極)1a及び容量線1bが形成された基板全体に、プラズマCVD法により窒化シリコン膜(厚さ100nm〜500nm程度)などを成膜し、ゲート絶縁膜11を形成する。
Subsequently, a silicon nitride film (having a thickness of about 100 nm to 500 nm) or the like is formed by plasma CVD on the entire substrate on which the gate line (gate electrode) 1a and the
さらに、ゲート絶縁膜11が形成された基板全体に、プラズマCVD法により真性アモルファスシリコン膜(厚さ50nm〜200nm程度)と、リンなどがドープされたn+アモルファスシリコン膜(厚さ50nm〜100nm程度)とを連続して成膜した後に、フォトリソグラフィによりゲート電極(1a)上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層とn+アモルファスシリコン層とにより構成された半導体層12を形成する。
Further, an intrinsic amorphous silicon film (thickness of about 50 nm to 200 nm) and an n + amorphous silicon film doped with phosphorus or the like (thickness of about 50 nm to 100 nm) are formed on the entire substrate on which the
ここで、半導体層12は、上記のようにアモルファスシリコン膜から形成させてもよいが、ポリシリコン膜を成膜させてもよく、また、アモルファスシリコン膜及びポリシリコン膜にレーザーアニール処理を行って結晶性を向上させてもよい。
Here, although the
続いて、半導体層12が形成されたゲート絶縁膜11上の基板全体に、例えば、アルミニウムを含む金属膜(厚さ50nm〜500nm程度)をスパッタリング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線2、ソース電極2a及びドレイン電極2bを形成する。
Subsequently, for example, a metal film (thickness: about 50 nm to 500 nm) containing aluminum is formed on the entire substrate on the
さらに、ソース電極2a及びドレイン電極2bをマスクとして半導体層12のn+アモルファスシリコン層をエッチング除去して、チャネル部を設けることにより、TFT3を形成する。
Further, using the
その後、TFT3が形成された基板全体に、プラズマCVD法を用いて、窒化シリコン膜(厚さ100nm〜300nm程度)などを成膜した後に、スピンコーティング法によりアクリル系樹脂膜(厚さ1000nm〜5000nm程度)などを成膜して、第1層間絶縁膜13及び第2層間絶縁膜14を順に形成する。
Thereafter, a silicon nitride film (thickness of about 100 nm to 300 nm) or the like is formed on the entire substrate on which the
続いて、第1層間絶縁膜13及び第2層間絶縁膜14の積層膜におけるドレイン電極2bに重畳する領域の一部をエッチング除去して、コンタクトホールを形成する。
Subsequently, a part of a region overlapping the
さらに、コンタクトホールが形成された第2層間絶縁膜14上の基板全体に、ITO(Indium Tin Oxide)膜などの透明導電膜(厚さ100nm〜200nm程度)をスパッタリング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極4aを形成する。
Further, a transparent conductive film (thickness of about 100 nm to 200 nm) such as an ITO (Indium Tin Oxide) film is formed on the entire substrate on the second
最後に、画素電極4aが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜(不図示)を形成する。
Finally, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the
以上のようにして、本実施形態のアクティブマトリクス基板20aを作製することができる。
As described above, the
<対向基板作製工程>
ここで、対向基板作製工程については、図6を用いて説明する。なお、図6は、図1中のVI−VI線に沿った対向基板30aの製造工程の一部を示す断面図である。
<Counter substrate manufacturing process>
Here, the counter substrate manufacturing process will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a part of the manufacturing process of the
まず、ガラス基板などの透明基板10b上に、図6(a)に示すように、黒色の顔料を含有する感光性樹脂(厚さ1μm程度)をスピンコーティング法により成膜して遮光膜6fを形成する。
First, as shown in FIG. 6A, a photosensitive resin (thickness of about 1 μm) containing a black pigment is formed on a
続いて、図6(b)に示すように、遮光膜6fをフォトリソグラフィによりパターニングして、複数の開口領域Aがマトリクス状に設けられたブラックマトリクス6を形成する(ブラックマトリクス形成工程)。
Subsequently, as shown in FIG. 6B, the
さらに、ブラックマトリクス6が形成された基板全体に、図6(c)に示すように、例えば、赤色の顔料を含有する感光性樹脂(厚さ1μm程度)をスピンコーティング法により成膜して、透明着色膜7Rfを形成する。
Further, as shown in FIG. 6C, for example, a photosensitive resin containing a red pigment (thickness of about 1 μm) is formed on the entire substrate on which the
その後、図6(d)に示すように、透明着色膜7Rfをフォトリソグラフィによりパターニングして、赤色層7Rを形成する(着色層形成工程)。さらに、緑色(G)及び青色(B)についても、赤色層7Rと同様な工程を行って、緑色層7G及び青色層7Bをそれぞれ設けることにより、カラーフィルターFを形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 6D, the transparent colored film 7Rf is patterned by photolithography to form a
ここで、カラーフィルターFを構成する各着色層(7R、7G及び7R)の周端の一辺(図1中の下辺)は、各線状部Sによって段状に形成されるので、それらの複数の線状部Sの一つをブラックマトリクス6の各内周端(開口領域Aの下辺)に容易に一致させることができる。これにより、ブラックマトリクス6の各開口領域Aの下辺において、各着色層(7R、7G及び7R)の周端(下辺)に一致する一致部Mを確実に構成させることができる。
Here, one side (the lower side in FIG. 1) of each colored layer (7R, 7G, and 7R) constituting the color filter F is formed in a step shape by each linear portion S. One of the linear portions S can be easily matched with each inner peripheral edge (the lower side of the opening region A) of the
さらに、カラーフィルターFが形成された基板に、ITO膜などの透明導電膜(厚さ100nm程度)をマスクを用いたスパッタリング法により成膜して、共通電極8aを形成する。
Further, a transparent conductive film (thickness of about 100 nm) such as an ITO film is formed on the substrate on which the color filter F is formed by a sputtering method using a mask to form the
最後に、共通電極8aが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜(不図示)を形成する。
Finally, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the
以上のようにして、本実施形態の対向基板30aを作製することができる。
As described above, the
<パネル作製工程>
まず、アクティブマトリクス基板20a及び対向基板30aのうちの一方の基板にスクリーン印刷により、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなるシール材を液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布し、他方の基板に液晶層40の厚さに相当する直径を持ち、樹脂などからなる球状のスペーサーを散布する。
<Panel manufacturing process>
First, a seal material made of a thermosetting epoxy resin or the like is applied to one of the
続いて、アクティブマトリクス基板20aと対向基板30aとを貼り合わせた後に、シール材を硬化させることにより、空セルを形成する。
Subsequently, after the
最後に、空セルを構成するアクティブマトリクス基板20a及び対向基板30aの間に、真空注入法により液晶材料を注入した後に、液晶注入口をUV硬化樹脂などにより封止して、液晶層40を形成する。
Finally, a liquid crystal material is injected between the
以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置50aを製造することができる。
As described above, the liquid
以上説明したように、本実施形態のカラーフィルター基板(対向基板30a)、その製造方法、及び液晶表示パネル50aによれば、ブラックマトリクス形成工程において、複数の開口領域Aを有するブラックマトリクス6を形成し、着色層形成工程において、各周端の下辺が、段状に配置された複数の線状部Sを有し、それらの線状部Sの一つがブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクス6の各内周端の下辺に一致するように、各着色層(7R、7G及び7B)を形成するので、ブラックマトリクス6の内周端の下辺と、着色層(7R、7G及び7B)の周端の下辺における各線状部Sとの位置合わせにより、ブラックマトリクス6の各内周端が着色層(7R、7G及び7B)の周端に一致する一致部M、ブラックマトリクス6の各内周端が着色層(7R、7G及び7B)の周端から離間する離間部P、及びブラックマトリクス6の各内周端が着色層(7R、7G及び7B)の周端に重畳する重畳部Lがそれぞれ構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板(対向基板30a)では、ブラックマトリクス6が、その各開口領域Aの下辺において、一致部M、離間部P及び重畳部Lを備えることになるので、ブラックマトリクス6の各開口領域A又は着色層(7R、7G及び7B)により構成される各画素において、着色層(7R、7G及び7B)の周端とブラックマトリクス6の内周端とが少なくとも一致部Mで一致することになる。ここで、一致部Mでは、着色層(7R、7G及び7B)の周端とブラックマトリクス6の内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、対向基板30a表面の凹凸が小さくなるので、その対向基板30a表面に接触する液晶層40の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層40が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層40の配向不良を抑制することができるので、カラーフィルターFに起因する液晶層40の配向不良を可及的に抑制することができる。
As described above, according to the color filter substrate (counter
また、本実施形態によれば、ブラックマトリクス6の各開口領域Aにおける一致部Mを含む下辺において、着色層(7R、7G及び7B)の周端から離間して対向基板30a表面に凹部を形成する離間部P、及び着色層(7R、7G及び7B)の周端に重畳して対向基板30a表面に凸部を形成する重畳部Lを有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層40の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層40の配向不良が発生し易い領域にアクティブマトリクス基板20aに設けられた容量線1bが重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下を抑制することができる。
Further, according to the present embodiment, a concave portion is formed on the surface of the
《発明の実施形態2》
図7〜図11は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態2を示している。ここで、上記実施形態1では、カラーフィルターが対向基板に形成されていたが、本実施形態では、カラーフィルターがアクティブマトリクス基板に形成されたカラーフィルターオンアレイ構造を例示している。なお、以下の各実施形態において、図1〜図6と同じ部分については、同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
<<
7 to 11
図7は、本実施形態の液晶表示パネル50bを構成するアクティブマトリクス基板20bの平面図であり、図8〜図11は、図7中の各断面箇所を示す線(VIII−VIII線、IX−IX線、X−X線及びXI−XI線)に沿った液晶表示パネル50bの断面図である。
FIG. 7 is a plan view of the
液晶表示パネル50bは、図8〜図11に示すように、互いに対向して配置された一対の基板として設けられたアクティブマトリクス基板20b及び対向基板30bと、それらの両基板20b及び30bの間に設けられた液晶層40とを備えている。
As shown in FIGS. 8 to 11, the liquid
アクティブマトリクス基板20bは、図7に示すように、マトリクス状に設けられた複数の画素電極4bと、各画素電極4bの間(図中横方向)に延びるように設けられた複数のゲート線1aと、各画素電極4bの間(図中縦方向)に延びるように設けられた複数のソース線2と、各画素電極4b毎にそれぞれ設けられた複数のTFT3と、各ゲート線1aの間に延びるように設けられた容量線1bと、各ゲート線1a、ソース線2、TFT3、及び容量線1bの下側の一部を覆うように設けられたブラックマトリクス15、並びにブラックマトリクス15の各開口領域Aに着色層として各画素電極4bに重畳するようにそれぞれ設けられた赤色層16R、青色層16B及び緑色層16Gを含むカラーフィルターFと備えたカラーフィルター基板である。
As shown in FIG. 7, the
TFT3は、図10に示すように、透明基板10a上に設けられたゲート電極(1a)と、ゲート電極(1a)を覆うように設けられたゲート絶縁膜11と、ゲート絶縁膜11上でゲート電極(1a)に対応する位置に島状に設けられた半導体層12と、その半導体層12上で互いに対峙するように設けられたソース電極2a及びドレイン電極2bとを備えている。ここで、ドレイン電極2bは、第1層間絶縁膜13及びブラックマトリクス15の積層膜に形成されたコンタクトホールを介して画素電極4bに接続されていると共に、ゲート絶縁膜11を介して容量線1bに重畳することにより補助容量を構成している。
As shown in FIG. 10, the
赤色層16R、青色層16B及び緑色層16Gは、図7に示すように、略矩形状にそれぞれ形成され、その周端の各一辺(図中下辺)が、段状に配置された複数の線状部Sを有している。
As shown in FIG. 7, each of the
ブラックマトリクス15の各開口領域Aは、図7に示すように、矩形状に形成され、その下辺が各着色層(16R、16G及び16B)の周端から離間する離間部P、各着色層(16R、16G及び16B)の周端に一致する一致部M、及び各着色層(16R、16G及び16B)の周端に重畳する重畳部Lを有している。本実施形態では、具体的に図7に示すように、各着色層(16R、16G及び16B)の下辺における左側の二つの線状部Sがブラックマトリクス15の内周端の下辺から離間し(図9中の離間部P参照)、各着色層(16R、16G及び16B)の下辺における中央の一つの線状部Sがブラックマトリクス15の内周端の下辺に一致し(図10中の一致部M参照)、各着色層(16R、16G及び16B)の下辺における右側の二つの線状部Sがブラックマトリクス15の内周端の下辺に重畳している(図11中の重畳部L参照)。
As shown in FIG. 7, each opening region A of the
各容量線1bは、ブラックマトリクス15の各開口領域Aにおける一致部Mを含む下辺に重畳するように配置されている。
Each
対向基板30bは、図8〜図11に示すように、透明基板10bと、透明基板10b上に設けられた共通電極8bとを備えている。
As shown in FIGS. 8 to 11, the
上記構成の液晶表示パネル50bでは、各画素電極4bなどにより構成される各画素において、ゲート線1aからゲート信号がゲート電極(1a)に送られて、TFT3がオン状態になったときに、ソース線2からソース信号がソース電極2aに送られることにより、半導体層12及びドレイン電極2bを介して、画素電極4bに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示パネル50bでは、アクティブマトリクス基板20bの各画素電極4bと、対向基板30bの共通電極8bとの間において電位差が生じ、液晶層40に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネル50bでは、液晶層40に印加された電圧の大きさによって液晶層40の配向状態を変えることにより、液晶層40の光透過率を調整して画像が表示される。
In the liquid
次に、本実施形態の液晶表示パネル50bを製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程及びパネル作製工程を備えている。
Next, a method for manufacturing the liquid
<アクティブマトリクス基板作製工程>
ここで、本実施形態のアクティブマトリクス基板作製工程では、上記実施形態1と同様に、第1層間絶縁膜13を成膜した後に、以下に続く各工程を行うことになる。
<Active matrix substrate manufacturing process>
Here, in the active matrix substrate manufacturing process of the present embodiment, after the first
上記実施形態1の第1層間絶縁膜13が成膜された基板全体に、黒色の顔料を含有する感光性樹脂(厚さ1μm程度)をスピンコーティング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、複数の開口領域Aがマトリクス状に設けられたブラックマトリクス15を形成する(ブラックマトリクス形成工程)。
A photosensitive resin (thickness of about 1 μm) containing a black pigment is formed on the entire substrate on which the first
続いて、ブラックマトリクス15が形成された基板全体に、例えば、赤色の顔料を含有する感光性樹脂(厚さ1μm程度)をスピンコーティング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、赤色層16Rを形成する(着色層形成工程)。さらに、緑色(G)及び青色(B)についても、赤色層16Rと同様な工程を行って、緑色層16G及び青色層16Bをそれぞれ設けることにより、カラーフィルターFを形成する。
Subsequently, for example, a photosensitive resin containing a red pigment (thickness of about 1 μm) is formed on the entire substrate on which the
ここで、カラーフィルターFを構成する各着色層(16R、16G及び16B)の周端の一辺(図7中の下辺)は、各線状部Sによって段状に形成されるので、それらの複数の線状部Sの一つをブラックマトリクス15の各内周端(開口領域Aの下辺)に容易に一致させることができる。これにより、ブラックマトリクス15の各開口領域Aの下辺において、各着色層(16R、16G及び16B)の周端(下辺)に一致する一致部Mを確実に構成させることができる。
Here, since one side (lower side in FIG. 7) of the peripheral edge of each colored layer (16R, 16G, and 16B) constituting the color filter F is formed in a step shape by each linear portion S, a plurality of those One of the linear portions S can be easily matched with each inner peripheral edge (the lower side of the opening region A) of the
その後、カラーフィルターFにおけるドレイン電極2bに重畳する領域の一部をエッチング除去して、コンタクトホールを形成する。
Thereafter, a part of the color filter F overlapping with the
さらに、コンタクトホールが形成されたカラーフィルターF上の基板全体に、ITO膜などの透明導電膜(厚さ100nm〜200nm程度)をスパッタリング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極4bを形成する。 Further, a transparent conductive film (thickness of about 100 nm to 200 nm) such as an ITO film is formed on the entire substrate on the color filter F in which the contact holes are formed by sputtering, and then patterned by photolithography to obtain pixel electrodes. 4b is formed.
最後に、画素電極4bが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜(不図示)を形成する。
Finally, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the
以上のようにして、本実施形態のアクティブマトリクス基板20bを作製することができる。
As described above, the
<対向基板作製工程>
まず、ガラス基板などの透明基板10b上に、ITO膜などの透明導電膜(厚さ100nm程度)をマスクを用いたスパッタリング法により成膜して、共通電極8bを形成する。
<Counter substrate manufacturing process>
First, a transparent conductive film (thickness of about 100 nm) such as an ITO film is formed on a
さらに、共通電極8bが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜(不図示)を形成する。
Further, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the
以上のようにして、本実施形態の対向基板30bを作製することができる。
As described above, the
<パネル作製工程>
まず、アクティブマトリクス基板20b及び対向基板30bのうちの一方の基板にスクリーン印刷により、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなるシール材を液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布し、他方の基板に液晶層40の厚さに相当する直径を持ち、樹脂などからなる球状のスペーサーを散布する。
<Panel manufacturing process>
First, a seal material made of a thermosetting epoxy resin or the like is applied to one of the
続いて、アクティブマトリクス基板20bと対向基板30bとを貼り合わせた後に、シール材を硬化させることにより、空セルを形成する。
Subsequently, after the
最後に、空セルを構成するアクティブマトリクス基板20b及び対向基板30bの間に、真空注入法により液晶材料を注入した後に、液晶注入口をUV硬化樹脂などにより封止して、液晶層40を形成する。
Finally, a liquid crystal material is injected between the
以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置50bを製造することができる。
As described above, the liquid
以上説明したように、本実施形態のカラーフィルター基板(アクティブマトリクス基板20b)、その製造方法、及び液晶表示パネル50bによれば、ブラックマトリクス15の各開口領域Aにおける一致部Mを含む下辺において、着色層(16R、16G及び16B)の周端から離間してアクティブマトリクス基板20b表面に凹部を形成する離間部、並びに着色層(16R、16G及び16B)の周端に重畳してアクティブマトリクス基板20b表面に凸部を形成する重畳部Lを有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層40の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層40の配向不良が発生し易い領域にアクティブマトリクス基板20bに設けられた容量線1bが重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下を抑制することができる。
As described above, according to the color filter substrate (
《発明の実施形態3》
図12〜図15は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態3を示している。ここで、上記実施形態1及び2では、着色層の周端の下辺が、段状に配置された複数の線状部を有していたが、本実施形態では、着色層の周端の上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部をそれぞれ有している。
<<
12 to 15
図12は、本実施形態のカラーフィルター基板及び液晶表示パネルを構成するカラーフィルターFの平面図であり、図13〜図15は、図12中の各断面箇所を示す線(XIII−XIII線、XIV−XIV線及びXV−XV線)に沿ったカラーフィルターFの断面図である。 FIG. 12 is a plan view of the color filter F constituting the color filter substrate and the liquid crystal display panel of this embodiment, and FIGS. 13 to 15 are lines (XIII-XIII line, It is sectional drawing of the color filter F along XIV-XIV line | wire and XV-XV line | wire.
本実施形態のカラーフィルターFは、図12に示すように、矩形状の開口領域Aが設けられたブラックマトリクス6aと、その開口領域Aに略矩形状に設けられた着色層7aとを備えている。
As shown in FIG. 12, the color filter F of the present embodiment includes a
着色層7aは、図12に示すように、その上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部Sをそれぞれ有している。
As shown in FIG. 12, the
ブラックマトリクス6aの開口領域Aは、図12に示すように、その上辺及び下辺が着色層7aの周端から離間する離間部P、着色層7aの周端に一致する一致部M、及び着色層7aの周端に重畳する重畳部Lをそれぞれ有している。具体的には、図12に示すように、着色層7aの上辺及び下辺における左側の線状部Sがブラックマトリクス6aの内周端における上辺及び下辺からそれぞれ離間し(図13中の離間部P参照)、着色層7aの上辺及び下辺における中央の線状部Sがブラックマトリクス6aの内周端における上辺及び下辺にそれぞれ一致し(図14中の一致部M参照)、着色層7aの上辺及び下辺における右側の線状部Sがブラックマトリクス6aの内周端における上辺及び下辺にそれぞれ重畳している(図15中の重畳部L参照)。
As shown in FIG. 12, the opening area A of the
本実施形態のカラーフィルターFは、上記実施形態1及び2において、着色層のパターン形状を変更すれば、製造することができるので、その製造方法の説明を省略する。 Since the color filter F of the present embodiment can be manufactured by changing the pattern shape of the colored layer in the first and second embodiments, description of the manufacturing method is omitted.
本実施形態のカラーフィルターFによれば、ブラックマトリクス6aの内周端における上辺及び下辺の2辺において、着色層7aの周端に一致する一致部M、着色層7aの周端から離間する離間部P、及び着色層7aの周端に重畳する重畳部Lがそれぞれ構成されているので、着色層7aの上辺及び下辺に配置された複数の線状部Sの一つをブラックマトリクス6aの内周端により確実に一致させることができる。
According to the color filter F of the present embodiment, the two sides of the upper side and the lower side at the inner peripheral edge of the
《発明の実施形態4》
図16〜図19は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態4を示している。ここで、上記実施形態1〜3では、ブラックマトリクスの開口領域が矩形状に形成され、且つ着色層の周端の一部が段状に形成されていたが、本実施形態では、着色層が矩形状に形成され、且つブラックマトリクスの内周端の一部が段状に形成されている。
<< Embodiment 4 of the Invention >>
16 to 19 show Embodiment 4 of a color filter substrate, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display panel according to the present invention. Here, in Embodiments 1 to 3, the black matrix opening region is formed in a rectangular shape and a part of the peripheral edge of the colored layer is formed in a step shape. It is formed in a rectangular shape, and a part of the inner peripheral edge of the black matrix is formed in a step shape.
図16は、本実施形態のカラーフィルター基板及び液晶表示パネルを構成するカラーフィルターFの平面図であり、図17〜図19は、図17中の各断面箇所を示す線(XVII−XVII線、XVIII−XVIII線及びXIX−XIX線)に沿ったカラーフィルターFの断面図である。 FIG. 16 is a plan view of the color filter F constituting the color filter substrate and the liquid crystal display panel of the present embodiment, and FIGS. 17 to 19 are lines (XVII-XVII line, It is sectional drawing of the color filter F along XVIII-XVIII line and XIX-XIX line.
本実施形態のカラーフィルターFは、図16に示すように、略矩形状の開口領域Aが設けられたブラックマトリクス6bと、その開口領域Aに矩形状に設けられた着色層7bとを備えている。
As shown in FIG. 16, the color filter F of the present embodiment includes a
ブラックマトリクス6bの開口領域Aは、図16に示すように、その上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部Sを有している。
As shown in FIG. 16, the opening area A of the
また、ブラックマトリクス6bの開口領域Aは、その上辺及び下辺が着色層7bの周端から離間する離間部P、着色層7bの周端に一致する一致部M、及び着色層7bの周端に重畳する重畳部Lを有している。具体的には、図16に示すように、ブラックマトリクス6bの内周端の上辺及び下辺における右側の線状部Sが着色層7bの周端における上辺及び下辺からそれぞれ離間し(図19中の離間部P参照)、ブラックマトリクス6bの内周端の上辺及び下辺における中央の線状部Sが着色層7bの周端における上辺及び下辺にそれぞれ一致し(図18中の一致部M参照)、ブラックマトリクス6bの内周端の上辺及び下辺における左側の線状部Sが着色層7bの周端における上辺及び下辺にそれぞれ重畳している(図17中の重畳部L参照)。
In addition, the opening area A of the
本実施形態のカラーフィルターFは、上記実施形態1及び2において、ブラックマトリクス及び着色層のパターン形状を変更すれば、製造することができるので、その製造方法の説明を省略する。 The color filter F of the present embodiment can be manufactured by changing the pattern shape of the black matrix and the colored layer in the first and second embodiments. Therefore, the description of the manufacturing method is omitted.
本実施形態のカラーフィルターFによれば、ブラックマトリクス形成工程において、各開口領域Aの上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部Sを有するようにブラックマトリクス6bを形成し、着色層形成工程において、各周端がブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクス6bの各開口領域Aの上辺及び下辺における複数の線状部Sの一つに一致するように着色層7bを形成するので、ブラックマトリクス6bの内周端の上辺及び下辺における各線状部Sと、着色層7bの周端における上辺及び下辺との位置合わせにより、ブラックマトリクス6bの内周端が着色層7bの周端に一致する一致部M、ブラックマトリクス6bの内周端が着色層7bの周端から離間する離間部P、及びブラックマトリクス6bの内周端が着色層7bの周端に重畳する重畳部Lが構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板では、ブラックマトリクス6bが、その各開口領域Aの上辺及び下辺において、一致部M、離間部P及び重畳部Lを備えることになるので、ブラックマトリクス6bの各開口領域A又は着色層7bにより構成される各画素において、着色層7bの周端とブラックマトリクス6bの内周端とが少なくとも一致部Mで一致することになる。ここで、一致部Mでは、着色層7bの周端とブラックマトリクス6bの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなるので、その基板表面に接触する液晶層40の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層40が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層40の配向不良を抑制することができるので、カラーフィルターFに起因する液晶層40の配向不良を可及的に抑制することができる。
According to the color filter F of the present embodiment, in the black matrix forming step, the
なお、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の一辺及び二辺において、線状部Sを形成したが、本発明は、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の三辺及び四辺において線状部Sを形成してもよい。 In each of the embodiments described above, the linear portion S is formed on the inner peripheral edge of the black matrix or on one side and two sides of the peripheral edge of the colored layer. You may form the linear part S in the three sides and four sides of the peripheral edge of a layer.
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の一辺における線状部Sの個数が三個又は五個であったが、本発明は、これに限定されず、二個以上の複数であればよく、さらに、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の辺が、無数個の線状部Sを有することに相当する斜めの線状に形成されていてもよい。 Further, in each of the above embodiments, the number of the linear portions S on the inner peripheral edge of the black matrix or one side of the peripheral edge of the colored layer is three or five. However, the present invention is not limited to this. In addition, the number may be two or more, and the inner peripheral edge of the black matrix or the peripheral edge of the colored layer is formed in an oblique linear shape corresponding to the innumerable linear portions S. It may be.
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端における各辺の長さ方向に沿って、順に段が低くなる(高段、中段及び低段)又は高くなる連続な段形状を例示したが、中段、高段及び低段というように、段が不連続に配置していてもよい。 Moreover, in each said embodiment, a level | step becomes low (a high level, a middle level, and a low level) in order along the length direction of each edge | side in the inner peripheral edge of a black matrix, or the peripheral edge of a colored layer, or the continuous which becomes high. Although an example of a step shape is illustrated, the steps may be discontinuously arranged such as a middle step, a high step, and a low step.
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端における各辺の段形状の段差量がほぼ均等配分であったが、本発明は、カラーフィルターの仕様に合わせて、任意に段形状を設定してもよい。 In each of the above embodiments, the stepped amount of the step shape of each side at the inner peripheral edge of the black matrix or the peripheral edge of the colored layer is substantially evenly distributed, but the present invention conforms to the specifications of the color filter. The step shape may be arbitrarily set.
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの各開口領域のおける一致部Mを含む辺に、容量線1bを重畳させたが、本発明は、ゲート線1aやソース線2などのその他の表示用配線を重畳させてもよい。
In each of the above embodiments, the
なお、上記各実施形態では、基板上にブラックマトリクスを形成した後に、各着色層を形成する製造方法を例示したが、本発明は、基板上に各着色層を形成した後に、ブラックマトリクスを形成する製造方法にも適用することができる。 In each of the above embodiments, the manufacturing method in which each colored layer is formed after the black matrix is formed on the substrate is exemplified. However, in the present invention, the black matrix is formed after each colored layer is formed on the substrate. It is applicable also to the manufacturing method to do.
以上説明したように、本発明は、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及抑制することができるので、樹脂製のカラーフィルターを有するカラーフィルター基板及び液晶表示パネルについて有用である。 As described above, the present invention can suppress the alignment defect of the liquid crystal layer caused by the color filter as much as possible, and thus is useful for the color filter substrate and the liquid crystal display panel having the resin color filter.
A 開口領域
F カラーフィルター
L 重畳部
M 一致部
P 離間部
S 線状部
1b 容量線(表示用配線)
6,6a,6b,15 ブラックマトリクス
6f 遮光膜
7a,7b 着色層
7R,16R 赤色層(着色層)
7G,16G 緑色層(着色層)
7B,16B 青色層(着色層)
7Rf 透明着色膜
10,10a,10b ガラス基板(透明基板)
20b アクティブマトリクス基板(カラーフィルター基板)
30a 対向基板(カラーフィルター基板)
50a,50b 液晶表示パネル
A Opening area F Color filter L Superimposition part M Matching part P Separation part
6, 6a, 6b, 15
7G, 16G green layer (colored layer)
7B, 16B Blue layer (colored layer)
7Rf transparent
20b Active matrix substrate (color filter substrate)
30a Counter substrate (color filter substrate)
50a, 50b LCD panel
Claims (9)
上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板であって、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とするカラーフィルター基板。 A black matrix provided with a plurality of opening regions;
A color filter substrate provided with a colored layer provided in each opening region,
The black matrix includes, on at least one side of each of the opening regions, a matching portion that coincides with the peripheral end of the colored layer, a separation portion that is separated from the peripheral end, and at least one of an overlapping portion that overlaps the peripheral end. A color filter substrate comprising:
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域が矩形状に設けられ、
上記着色層の少なくとも一辺は、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていることを特徴とするカラーフィルター基板。 In the color filter substrate according to claim 1,
In the black matrix, each opening region is provided in a rectangular shape,
At least one side of the colored layer has a plurality of linear portions for constituting the matching portion and at least one of the separation portion and the overlapping portion, and each linear portion is arranged in a step shape. Color filter substrate characterized by.
上記着色層は、矩形状に設けられ、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺が、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていることを特徴とするカラーフィルター基板。 In the color filter substrate according to claim 1,
The colored layer is provided in a rectangular shape,
The black matrix has a plurality of linear portions on which at least one side of each opening region constitutes the matching portion and at least one of the separation portion and the overlapping portion, and each linear portion is stepped. A color filter substrate characterized by being arranged in
上記ブラックマトリクスは、遮光性を有する樹脂により構成されていることを特徴とするカラーフィルター基板。 In the color filter substrate according to claim 1,
The color filter substrate, wherein the black matrix is made of a light-shielding resin.
上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、
透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されると共に、該複数の線状部の少なくとも一つが上記ブラックマトリクスの内周端に一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。 A black matrix provided with a plurality of opening regions;
A method of manufacturing a color filter substrate provided with a colored layer provided in each opening region,
A black matrix forming step of forming the black matrix by forming a light shielding film on the transparent substrate and patterning the light shielding film;
A transparent colored film is formed so as to cover each opening region of the black matrix formed in the black matrix forming step, and the transparent colored film is patterned, so that at least one side of each peripheral edge has a plurality of linear portions. A colored layer forming step of forming the colored layer so that each of the linear portions is arranged in a step shape and at least one of the plurality of linear portions coincides with an inner peripheral end of the black matrix. A method for producing a color filter substrate, comprising:
上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、
透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記各開口領域の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されるように、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端が上記各開口領域に形成された複数の線状部の少なくとも一つに一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。 A black matrix provided with a plurality of opening regions;
A method of manufacturing a color filter substrate provided with a colored layer provided in each opening region,
By forming a light-shielding film on the transparent substrate and patterning the light-shielding film, at least one side of each of the opening regions has a plurality of linear parts, and the linear parts are arranged in steps. A black matrix forming step for forming the black matrix;
A transparent colored film was formed so as to cover each opening region of the black matrix formed in the black matrix forming step, and each transparent edge was formed in each opening region by patterning the transparent colored film. And a colored layer forming step of forming the colored layer so as to coincide with at least one of the plurality of linear portions.
上記一対の基板の間に設けられた液晶層とを備えた液晶表示パネルであって、
上記一方の基板は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、該各開口領域に設けられた着色層とを備え、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とする液晶表示パネル。 A pair of substrates disposed opposite each other;
A liquid crystal display panel comprising a liquid crystal layer provided between the pair of substrates,
The one substrate includes a black matrix provided with a plurality of opening regions, and a colored layer provided in each opening region,
The black matrix includes, on at least one side of each of the opening regions, a matching portion that coincides with the peripheral end of the colored layer, a separation portion that is separated from the peripheral end, and at least one of an overlapping portion that overlaps the peripheral end. A liquid crystal display panel comprising:
上記他方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 7,
A liquid crystal display panel, wherein a display wiring is provided on the other substrate so as to overlap with a side including the matching portion in each opening region of the black matrix.
上記一方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 7,
The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein display wiring is provided on the one substrate so as to overlap with a side including the matching portion in each opening region of the black matrix.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007111219A JP2008268545A (en) | 2007-04-20 | 2007-04-20 | Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007111219A JP2008268545A (en) | 2007-04-20 | 2007-04-20 | Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008268545A true JP2008268545A (en) | 2008-11-06 |
Family
ID=40048132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007111219A Pending JP2008268545A (en) | 2007-04-20 | 2007-04-20 | Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008268545A (en) |
-
2007
- 2007-04-20 JP JP2007111219A patent/JP2008268545A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9977280B2 (en) | COT type liquid crystal display device | |
JP4283020B2 (en) | Liquid crystal panel and manufacturing method thereof | |
KR100905409B1 (en) | Liquid Crystal Display Device and Method for fabricating the same | |
US8169569B2 (en) | Method of making liquid crystal display and liquid crystal display thereof | |
TWI451155B (en) | Liquid crystal display device and fabricating method thereof | |
US7440073B2 (en) | Substrate for liquid crystal display device and liquid crystal display device having the same | |
JP2000122097A (en) | Liquid crystal display device | |
KR100752950B1 (en) | LCD with color-filter on TFT and method of fabricating of the same | |
KR101980773B1 (en) | Thin film transistor substrate having color filter and method of fabricating the same | |
US9046714B2 (en) | Thin film transistor substrate and method for fabricating the same | |
JP2001133787A (en) | Liquid crystal display panel | |
JP2005266011A (en) | Color filter substrate and display device using the same | |
KR20090041337A (en) | Liquid crystal display panel | |
KR20080025544A (en) | Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same | |
JP4881475B2 (en) | Active matrix substrate and liquid crystal display device | |
US8179514B2 (en) | Liquid crystal display device with first and second protruding walls surrounding spherical spacers | |
US20120069260A1 (en) | Active matrix substrate, liquid crystal display device including the same, and method for fabricating active matrix substrate | |
WO2010079540A1 (en) | Liquid-crystal display panel | |
JP2000122096A (en) | Reflective liquid crystal display device and its manufacture | |
US20080149933A1 (en) | Display panel | |
US20160195748A1 (en) | Display device and method of manufacturing the same | |
JPH07175088A (en) | Substrate for liquid crystal panel and its production | |
JP4156722B2 (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device | |
JP2008268545A (en) | Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display panel | |
JP2009288483A (en) | Liquid crystal device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus |