JP2008264607A - Droplet coating device and method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布対象物に複数の液滴を吐出して塗布する液滴塗布装置及び液滴塗布方法に関する。 The present invention relates to a droplet coating apparatus and a droplet coating method for discharging and applying a plurality of droplets to an object to be coated.
液滴塗布装置は、液晶表示装置、有機EL(Electro Luminescence)表示装置、電子放出表示装置及びプラズマ表示装置等の表示装置や半導体装置等を製造する場合、例えば、カラーフィルタを形成する場合、あるいは、ガラス基板や半導体ウェハ等の基板に配向膜やレジスト等の機能性薄膜を形成する場合等に用いられている。 In the case of manufacturing a display device such as a liquid crystal display device, an organic EL (Electro Luminescence) display device, an electron emission display device, a plasma display device, or a semiconductor device, for example, when forming a color filter, It is used when a functional thin film such as an alignment film or a resist is formed on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer.
この液滴塗布装置は、基板等の塗布対象物に向けて複数の吐出孔(ノズル)からそれぞれ液滴を吐出(噴射)する塗布ヘッド(例えば、インクジェットヘッド)を備えており、その塗布ヘッドと塗布対象物とを相対移動させながら、塗布ヘッドにより塗布対象物の塗布領域に複数の液滴を順次着弾させ、所定の塗布パターンを塗布する。 This droplet coating apparatus includes a coating head (for example, an inkjet head) that discharges (sprays) droplets from a plurality of ejection holes (nozzles) toward a coating target such as a substrate. While relatively moving the application object, a plurality of droplets are sequentially landed on the application area of the application object by the application head to apply a predetermined application pattern.
塗布ヘッドは、相対移動方向に対して水平面内で所定の傾斜角度だけ傾斜可能に形成されている。この傾斜角度で決まる塗布ヘッドの傾斜位置を変更することによって、相対移動方向に直交する方向の液滴の塗布ピッチを調整することができる。例えば、カラーフィルタの製造では、着色する各画素の画素ピッチに合わせて塗布ヘッドを傾斜させ、画素ピッチに液滴の塗布ピッチ(着弾間隔)を一致させる技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 The coating head is formed so as to be tiltable by a predetermined tilt angle within a horizontal plane with respect to the relative movement direction. By changing the tilt position of the coating head determined by the tilt angle, the droplet coating pitch in the direction orthogonal to the relative movement direction can be adjusted. For example, in the manufacture of color filters, a technique has been proposed in which the coating head is tilted in accordance with the pixel pitch of each pixel to be colored, and the droplet coating pitch (landing interval) matches the pixel pitch (for example, Patent Documents). 1).
このような塗布ヘッドと塗布対象物とが相対移動する場合には、塗布ヘッドが所定の傾斜角度だけ傾いているため、塗布ヘッドと塗布対象物との相対移動に応じて、塗布対象物の塗布領域に対向する吐出孔の数は徐々に増加していき、全ての吐出孔が塗布領域に対向すると最大となり、その後、徐々に減少していく。このとき、塗布ヘッドは塗布領域に対向する吐出孔からのみ液滴を吐出するため、塗布対象物と塗布ヘッドとの相対移動に応じて、液滴を吐出する吐出孔の数は変化することになる。 When such a coating head and the coating object are relatively moved, the coating head is inclined by a predetermined inclination angle, so that the coating object is coated according to the relative movement between the coating head and the coating object. The number of discharge holes facing the region gradually increases, and becomes maximum when all the discharge holes face the application region, and then gradually decreases. At this time, since the coating head ejects droplets only from the ejection holes facing the coating region, the number of ejection holes for ejecting droplets changes according to the relative movement between the coating object and the coating head. Become.
ここで、圧電素子を用いる圧電方式の塗布ヘッドは、吐出孔に連通する液室内の容積を圧電素子の駆動により増減させ(液室を拡大/復元させ)、容積増加動作(拡大動作)により液室内に溶液を引き込み、容積減少動作(復元動作)により液室内の溶液を押し出し、吐出孔から液滴として吐出する。各液室は、単一の主管路に枝管路を介して連通されている。このような塗布ヘッドでは、各吐出孔から吐出する液滴の吐出量は、液滴を同時に吐出する同時吐出孔数が多いほど少なくなる。通常、全ての吐出孔が塗布領域に対向する場合、すなわち全ての吐出孔から同時に液滴が吐出する場合に、必要量の液滴が塗布対象物に塗布されるように液滴の吐出量は設定されている。
しかしながら、前述のように、全ての吐出孔から同時に液滴を吐出する場合に必要量の液滴が塗布対象物に塗布されるように液滴の吐出量が設定されていると、全ての吐出孔が塗布領域に対向するまで、必要量を超える液滴が塗布対象物に塗布されるため、液滴の塗布量が多い領域が塗布領域内に生じ、すなわち液滴の塗布量のバラツキが生じるため、着色ムラ(厚みムラ)等の塗布不良が発生してしまう。 However, as described above, if the droplet discharge amount is set so that the required amount of droplets is applied to the application target when droplets are discharged simultaneously from all the discharge holes, all the discharges Until the hole faces the application area, more than the required amount of liquid droplets are applied to the application object, so that an area where the liquid droplet application amount is large is generated in the application area, that is, the liquid droplet application amount varies. Therefore, application defects such as coloring unevenness (thickness unevenness) occur.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的は、液滴の塗布量のバラツキに起因する塗布不良を防止することができる液滴塗布装置及び液滴塗布方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a droplet coating apparatus and a droplet coating method capable of preventing a coating failure caused by variation in the amount of droplets applied. is there.
本発明の実施の形態に係る第1の特徴は、液滴塗布装置において、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に向けて、直線状に並ぶ複数の吐出孔からそれぞれ液滴を吐出するヘッドであって、塗布対象物との相対移動に応じて塗布領域に対向する吐出孔の数が徐々に変化するように設けられた塗布ヘッドと、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する吐出孔の数に応じて液滴の吐出タイミング間隔を変更し、吐出タイミング間隔の変更に応じて塗布対象物と塗布ヘッドとの相対移動速度を変更する手段とを備えることである。 A first feature according to an embodiment of the present invention is that in a droplet coating apparatus, a head that discharges droplets from a plurality of ejection holes arranged linearly toward a coating region on a relatively moving coating target. A coating head provided such that the number of ejection holes facing the coating area gradually changes according to relative movement with the coating object, and a coating area on the relatively moving coating object. Means for changing the droplet discharge timing interval according to the number of discharge holes for discharging droplets at the same time, and changing the relative movement speed between the coating object and the coating head according to the change of the discharge timing interval; It is.
本発明の実施の形態に係る第2の特徴は、液滴塗布装置において、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に向けて、直線状に並ぶ複数の吐出孔からそれぞれ液滴を吐出するヘッドであって、塗布対象物との相対移動に応じて塗布領域に対向する吐出孔の数が徐々に変化するように設けられた塗布ヘッドと、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する吐出孔の数に応じて、吐出孔から吐出される液滴の吐出量を変更する手段とを備えることである。 A second feature according to the embodiment of the present invention is that, in the droplet applying apparatus, a head that discharges droplets from a plurality of discharge holes arranged in a straight line toward a coating region on a relatively moving coating object. A coating head provided such that the number of ejection holes facing the coating area gradually changes according to relative movement with the coating object, and a coating area on the relatively moving coating object. And a means for changing the discharge amount of the liquid droplets discharged from the discharge holes in accordance with the number of the discharge holes discharging the liquid droplets at the same time.
本発明の実施の形態に係る第3の特徴は、液滴塗布方法において、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に向けて、直線状に並ぶ複数の吐出孔からそれぞれ液滴を吐出するヘッドであって、塗布対象物との相対移動に応じて塗布領域に対向する吐出孔の数が徐々に変化するように設けられた塗布ヘッドと塗布対象物とを相対移動させるステップと、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する吐出孔の数に応じて液滴の吐出タイミング間隔を変更し、吐出タイミング間隔の変更に応じて塗布対象物と塗布ヘッドとの相対移動速度を変更しながら、塗布ヘッドにより塗布対象物に液滴を塗布するステップとを有することである。 A third feature according to the embodiment of the present invention is that in the droplet coating method, a head that ejects droplets from a plurality of ejection holes arranged in a straight line toward a coating region on a relatively moving coating object. And a step of relatively moving the coating head and the coating target provided so that the number of ejection holes facing the coating region gradually change according to the relative movement with the coating target, and relative movement The droplet discharge timing interval is changed according to the number of discharge holes that are opposite to the application region on the application target and simultaneously discharge droplets, and the application target and the application head are relatively changed according to the change of the discharge timing interval. A step of applying droplets to the object to be applied by the application head while changing the moving speed.
本発明の実施の形態に係る第4の特徴は、液滴塗布方法において、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に向けて、直線状に並ぶ複数の吐出孔からそれぞれ液滴を吐出するヘッドであって、塗布対象物との相対移動に応じて塗布領域に対向する吐出孔の数が徐々に変化するように設けられた塗布ヘッドと塗布対象物とを相対移動させるステップと、相対移動する塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する吐出孔の数に応じて、吐出孔から吐出される液滴の吐出量を変更しながら、塗布ヘッドにより塗布対象物に液滴を塗布するステップとを有することである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the droplet coating method, a head that ejects droplets from a plurality of ejection holes arranged in a straight line toward a coating region on a relatively moving coating object. And a step of relatively moving the coating head and the coating target provided so that the number of ejection holes facing the coating region gradually change according to the relative movement with the coating target, and relative movement Depending on the number of discharge holes that discharge the droplets at the same time, facing the application area on the application object, the droplets are applied to the application object by the application head while changing the discharge amount of the droplets discharged from the discharge holes. Applying.
本発明によれば、液滴の塗布量のバラツキに起因する塗布不良を防止することができる。 According to the present invention, it is possible to prevent application failure due to variations in the application amount of droplets.
本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。 An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1に示すように、本発明の実施の形態に係る液滴塗布装置1は、塗布対象物である基板Kが水平状態(図1中、X軸方向とそれに直交するY軸方向に沿う状態)で載置される移動テーブル2と、その移動テーブル2を保持してX軸方向に移動させるX軸移動機構3と、移動テーブル2のX軸方向の位置を検出する検出部4と、移動テーブル2を駆動する駆動ドライバ5と、移動テーブル2上の基板K上における矩形状の塗布領域R(図3参照)に向けて液滴を吐出する塗布ヘッド6と、その塗布ヘッド6をθ方向(図1中、水平面に沿う回転方向)に回転させる回転機構7と、それらのX軸移動機構3、駆動ドライバ5、塗布ヘッド6及び回転機構7を制御する制御部8とを備えている。
As shown in FIG. 1, in the
移動テーブル2は、X軸移動機構3上に積層され、X軸方向に移動可能に設けられている。この移動テーブル2はX軸移動機構3によりX軸方向に移動する。なお、移動テーブル2には、基板Kが自重により載置されるが、これに限るものではなく、例えば、その基板Kを保持するため、静電チャックや吸着チャック等の機構を設けるようにしてもよい。
The moving table 2 is stacked on the
X軸移動機構3は、移動テーブル2をX軸方向に案内して移動させる機構である。このX軸移動機構3は駆動ドライバ5に電気的に接続されている。なお、X軸移動機構3としては、例えば、リニアモータを駆動源とするリニアモータ移動機構やモータを駆動源とする送りネジ機構等を用いる。
The
検出部4は、複数の目盛りを有するリニアスケール4a及びそれらの目盛りを検出するセンサヘッド4bを備えている。リニアスケール4aは、その目盛りがX軸方向に並ぶようにX軸移動機構3に取付けられている。また、センサヘッド4bはリニアスケール4aの目盛りを検出可能に移動テーブル2に取付けられ、駆動ドライバ5に電気的に接続されている。この検出部4は、センサヘッド4bによりリニアスケール4aの各目盛りを検出して移動テーブル2のX軸方向の位置を取得し、位置情報(位置信号)として駆動ドライバ5に送信する。なお、検出部4としては、例えば、光学式のリニアエンコーダや静電式のリニアエンコーダ等を用いる。
The detection unit 4 includes a
駆動ドライバ5は、制御部8からの指令(制御信号)に応じてX軸移動機構3を駆動する駆動装置である。この駆動ドライバ5は、検出部4から送信された移動テーブル2の位置情報に基づいてX軸移動機構3を駆動し、移動テーブル2をX軸方向に沿って移動させる。また、駆動ドライバ5は、制御部8に電気的に接続されており、検出部4から送信された移動テーブル2の位置情報(例えば、パルス信号)を制御部8に送信する。
The
塗布ヘッド6は、インク等の溶液を収容する溶液タンク(図示せず)から供給される液体を複数の吐出孔(ノズル)N(図2参照)からそれぞれ液滴として吐出するインクジェットヘッドである。この塗布ヘッド6は、回転機構7によりθ方向に回転可能に支持されており、制御部8に電気的に接続されている。なお、インク等の溶液は、基板K上に残留物として残留する溶質と、その溶質を溶解(分散)させる溶媒とにより構成されている。例えば、溶液であるインクは、顔料、溶剤(インク溶剤)、分散剤及び添加剤等の各種の成分により構成されている。
The coating head 6 is an inkjet head that discharges liquid supplied from a solution tank (not shown) containing a solution such as ink as droplets from a plurality of discharge holes (nozzles) N (see FIG. 2). The coating head 6 is supported by the rotation mechanism 7 so as to be rotatable in the θ direction, and is electrically connected to the
この塗布ヘッド6は、図2に示すように、液滴を吐出するための複数の吐出孔Nを有するノズルプレート6aと、それらの吐出孔Nにそれぞれ連通する複数の液室Eを有するヘッド本体6bと、それらの液室Eの容積を変化させる可撓板6cと、各液室Eに対応させて可撓板6cにそれぞれ設けられた複数の圧電素子6dとを備えている。
As shown in FIG. 2, the coating head 6 has a
ノズルプレート6aには、吐出孔Nが所定のピッチ(間隔)で直線状に並べて形成されている。例えば、吐出孔Nの数は数十個から数百個程度であり、吐出孔Nの直径は数μmから数十μm程度であり、さらに、吐出孔Nのピッチは数十μmから数百μm程度である。
In the
ヘッド本体6bには、溶液を収容する各液室Eに枝管路M1を介して連通する主管路M2と、その主管路M2の一端に連通して溶液タンクから溶液を供給するための給液管路M3と、その主管路M2の他端に連通して溶液を溶液タンクに戻すための排液管路M4とが形成されている。なお、給液管路M3はチューブやパイプ等の供給管P1を介して溶液タンクに接続されており、同様に、排液管路M4もチューブやパイプ等の排出管P2を介して溶液タンクに接続されている。
The head
可撓板6cは、その変形により各液室Eの容積を増減させるための板部材である。この可撓板6cは撓み変形可能にヘッド本体6bに取付けられており、各液室Eの壁部として機能する。また、各圧電素子6dは、各液室Eにそれぞれ対向させて可撓板6cに固着されている。これらの圧電素子6dは制御部8に電気的に接続されており、その駆動が制御部8により制御される。このような圧電素子6dの駆動により、可撓板6cは撓んで変形し、液室Eの容積が増減する(液室Eが拡大/復元する)。
The
このような塗布ヘッド6は、各圧電素子6dに対する駆動電圧の印加に応じて、各液室E内の溶液を対応する吐出孔Nから液滴(インク滴)として吐出する。ここで、溶液タンクから供給管P1、給液管路M3、主管路M2及び枝管路M1を介して各液室E内に溶液が供給され、各液室Eは溶液により満たされる。この状態で、圧電素子6dが駆動されると、駆動した圧電素子6dに対応する液室E内から溶液が押し出され、吐出孔Nから液滴として吐出される。
Such a coating head 6 discharges the solution in each liquid chamber E as a droplet (ink droplet) from the corresponding discharge hole N according to the application of the drive voltage to each
詳述すると、圧電素子6dに対する電圧の印加により圧電素子6dが収縮し、これに応じて可撓板6cが上方(図2中)に撓み変形することによって(容積増加動作、すなわち拡大動作)、液室E内の容積が増大し、液室E内に主管路M2から枝管路M1を介して溶液が引き込まれる。その後、電圧印加の解除により圧電素子6dが復元し、これに応じて可撓板6cも復元することによって(容積減少動作、すなわち復元動作)、液室E内の容積も減少して元に戻る。このとき、液室E内の溶液が押し出され、吐出孔Nから液滴として吐出される。なお、余剰の溶液は排液管路M4及び排出管P2を介して溶液タンクに戻される。
More specifically, the
図1に戻り、回転機構7は、塗布ヘッド6をθ方向(図1中、水平面に沿う回転方向)、すなわち基板Kと塗布ヘッド6とが相対移動する相対移動方向であるX軸方向に対して全ての吐出孔Nが並ぶ整列方向が水平面内で傾斜するように塗布ヘッド6を傾ける傾斜機構である。この回転機構7は、Y軸移動機構(図示せず)によりY軸方向に移動可能に支持されており、制御部8に電気的に接続されている。
Returning to FIG. 1, the rotation mechanism 7 moves the coating head 6 in the θ direction (the rotation direction along the horizontal plane in FIG. 1), that is, the X-axis direction that is the relative movement direction in which the substrate K and the coating head 6 move relative to each other. The tilting mechanism tilts the coating head 6 so that the alignment direction in which all the discharge holes N are aligned is tilted in a horizontal plane. The rotating mechanism 7 is supported by a Y-axis moving mechanism (not shown) so as to be movable in the Y-axis direction, and is electrically connected to the
例えば、塗布ヘッド6の傾斜位置は、図3に示すように、吐出孔Nの整列方向の直線L1がX軸方向の基準線L2に対して傾斜する位置である。この傾斜位置は、X軸方向の基準線L2からの傾斜角度θ1により規定される位置である。なお、その傾斜角度θ1、すなわち塗布ヘッド6の傾斜位置を変更することによって、X軸方向に直交するY軸方向の液滴の塗布ピッチを調整することができる。また、液滴の吐出周波数(吐出タイミング間隔)を変更することによって、X軸方向の塗布ピッチを調整することができる。このように、塗布ヘッド6は、所定の傾斜位置、すなわち基板Kとの相対移動に応じて塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数が徐々に変化するように位置付けられる。 For example, the inclination position of the coating head 6 is a position where the straight line L1 in the alignment direction of the ejection holes N is inclined with respect to the reference line L2 in the X-axis direction as shown in FIG. This tilt position is a position defined by the tilt angle θ1 from the reference line L2 in the X-axis direction. Note that by changing the inclination angle θ1, that is, the inclination position of the application head 6, the application pitch of droplets in the Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction can be adjusted. Further, the application pitch in the X-axis direction can be adjusted by changing the droplet discharge frequency (discharge timing interval). Thus, the coating head 6 is positioned such that the number of ejection holes N facing the coating region R gradually changes according to a predetermined tilt position, that is, relative movement with the substrate K.
再び図1に戻り、制御部8は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、塗布に関する塗布情報や各種のプログラム等を記憶する記憶部と(いずれも図示せず)を備えている。塗布情報は、ドットパターン等の所定の塗布パターン、塗布ヘッド6の傾斜位置(傾斜角度θ1)、塗布ヘッド6の吐出周波数及び基板Kの移動速度(塗布速度)に関する情報等を含んでいる。
Returning to FIG. 1 again, the
この制御部8は、塗布情報に基づいて、駆動ドライバ5を介してX軸移動機構3を制御し、移動テーブル2をX軸方向に移動させながら、塗布ヘッド6を制御して移動テーブル2上の基板Kに液滴を塗布する。このとき、所定の傾斜位置に位置する塗布ヘッド6は、X軸方向に相対移動する基板Kに向けて液滴を吐出してY軸方向に並ぶドット列をX軸方向に順次形成し、所定の塗布パターンを基板Kの塗布領域R(図3参照)上に塗布する。
The
ここで、例えば、塗布ヘッド6により着色する画素が基板Kの塗布領域Rに縦横(XY軸)の行列状に配置されており、この塗布領域Rの各画素に対する液滴(インク滴)の塗布が塗布ヘッド6により基板Kの相対移動に応じて行われる場合について説明する。 Here, for example, pixels to be colored by the coating head 6 are arranged in a matrix of vertical and horizontal (XY axes) in the coating region R of the substrate K, and droplets (ink droplets) are applied to the pixels in the coating region R. Will be described in accordance with the relative movement of the substrate K by the coating head 6.
図3に示すように、塗布ヘッド6が基板KのX軸方向の相対移動に応じて、移動開始位置A1から塗布開始位置A2まで移動すると、まず、塗布ヘッド6の左端(図3中)の吐出孔Nが画素(すなわち塗布領域R)に対向し、次いで、左端から2番目の吐出孔N、3番目の吐出孔Nという具合に、画素に対向する吐出孔Nが徐々に増加していく。さらに、塗布ヘッド6が基板KのX軸方向の相対移動に応じて全吐出位置A3まで移動すると、右端の吐出孔Nが画素に対向し、全ての吐出孔Nがそれぞれ画素に対向することになる。このようにして、塗布ヘッド6では、液滴を吐出する吐出孔Nの数が徐々に増加していくことになる。 As shown in FIG. 3, when the coating head 6 moves from the movement start position A1 to the coating start position A2 according to the relative movement of the substrate K in the X-axis direction, first, the left end (in FIG. 3) of the coating head 6 is detected. The discharge holes N face the pixels (that is, the application region R), and then the discharge holes N facing the pixels gradually increase, such as the second discharge hole N and the third discharge hole N from the left end. . Further, when the coating head 6 moves to the full discharge position A3 in accordance with the relative movement of the substrate K in the X-axis direction, the rightmost discharge hole N faces the pixel, and all the discharge holes N face the pixel, respectively. Become. In this way, in the coating head 6, the number of ejection holes N that eject droplets gradually increases.
その後、塗布ヘッド6が基板KのX軸方向の相対移動に応じて全吐出終端位置A4まで移動すると、それ以降、まず、塗布ヘッド6の左端の吐出孔Nが画素に対向しなくなり、次いで、左端から2番目の吐出孔N、3番目の吐出孔Nという具合に、画素に対向する吐出孔Nが徐々に減少していく。さらに、塗布ヘッド6が基板KのX軸方向の相対移動に応じて塗布完了位置A5まで移動すると、それ以降、右端の吐出孔Nが画素に対向しなくなり、全ての吐出孔Nがそれぞれ画素に対向しなくなる。その後、塗布ヘッド6は基板KのX軸方向の相対移動に応じて停止位置A6まで移動して停止する。このようにして、塗布ヘッド6では、液滴を吐出する吐出孔Nの数が徐々に減っていくことになる。 Thereafter, when the coating head 6 moves to the full discharge end position A4 in accordance with the relative movement of the substrate K in the X-axis direction, the discharge hole N at the left end of the coating head 6 does not first face the pixel, and then The discharge holes N facing the pixels gradually decrease, such as the second discharge hole N and the third discharge hole N from the left end. Further, when the coating head 6 moves to the coating completion position A5 in accordance with the relative movement of the substrate K in the X-axis direction, the rightmost discharge hole N no longer faces the pixel, and all the discharge holes N become pixels. They will not face each other. Thereafter, the coating head 6 moves to the stop position A6 according to the relative movement of the substrate K in the X-axis direction and stops. In this way, in the coating head 6, the number of ejection holes N that eject droplets is gradually reduced.
ここで、塗布ヘッド6の同時吐出孔数と各吐出孔Nの吐出量との関係は、図4に示すような曲線B1になる。同時吐出孔数は、液滴を同時に吐出するときの吐出孔Nの数であり、各吐出孔Nの吐出量は、液滴の同時吐出のときの各吐出孔Nから吐出される液滴の吐出量である。図4に示す曲線B1から同時吐出孔数が大きくなるほど、各吐出孔Nの吐出量が少なくなることがわかる。したがって、画素に塗布する液滴の塗布量を一定にするためには、基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数に応じて、液滴の吐出量を変化させる必要がある。なお、図4に示す曲線B1となる要因の1つとしては、複数の吐出孔Nから液滴を同時に吐出させるとき、主管路M2から液室E内への溶液の引き込みが同時に行われることになるため、溶液の引き込みによる主管路M2内での溶液の流れが相互に干渉し合い、これが液室E内への溶液の引き込みの妨げとなり、この作用が同時に吐出する吐出孔Nの数が多くなるほど強くなることが挙げられる。 Here, the relationship between the number of simultaneous ejection holes of the coating head 6 and the ejection amount of each ejection hole N is a curve B1 as shown in FIG. The number of simultaneous ejection holes is the number of ejection holes N when ejecting droplets simultaneously, and the ejection amount of each ejection hole N is the number of droplets ejected from each ejection hole N during simultaneous ejection of droplets. Discharge amount. It can be seen from the curve B1 shown in FIG. 4 that the discharge amount of each discharge hole N decreases as the number of simultaneous discharge holes increases. Therefore, in order to make the application amount of the droplet applied to the pixel constant, it is necessary to change the discharge amount of the droplet according to the number of the discharge holes N facing the application region R on the substrate K. One of the factors that cause the curve B1 shown in FIG. 4 is that when the droplets are simultaneously ejected from the plurality of ejection holes N, the solution is simultaneously drawn into the liquid chamber E from the main channel M2. Therefore, the flow of the solution in the main pipe M2 due to the drawing of the solution interferes with each other, which prevents the drawing of the solution into the liquid chamber E, and this action simultaneously increases the number of discharge holes N that are discharged simultaneously. It will be stronger.
次いで、塗布ヘッド6の吐出周波数と各吐出孔Nの吐出量との関係は、図5に示すような曲線B2になる。吐出周波数は、各吐出孔Nに対応して配置され吐出孔Nからインクを吐出するための圧電素子に対して駆動電圧を印加する印加タイミング間隔である。図5に示す曲線B2から吐出周波数が高くなるほど、各吐出孔Nの吐出量が少なくなることがわかる。したがって、液滴の吐出量を減少させるためには、吐出周波数を高くする必要がある。 Next, the relationship between the discharge frequency of the coating head 6 and the discharge amount of each discharge hole N is a curve B2 as shown in FIG. The ejection frequency is an application timing interval at which a driving voltage is applied to a piezoelectric element that is arranged corresponding to each ejection hole N and ejects ink from the ejection hole N. It can be seen from the curve B2 shown in FIG. 5 that the discharge amount of each discharge hole N decreases as the discharge frequency increases. Therefore, in order to reduce the discharge amount of the droplets, it is necessary to increase the discharge frequency.
ここで、液滴の吐出周波数を変更した場合には、それに応じてインクが吐出される吐出タイミング間隔が変わる。例えば、吐出周波数を高くした場合には、吐出タイミング間隔がその分だけ短くなる。逆に、吐出周波数を低くした場合には、吐出タイミング間隔はその分だけ長くなる。このため、吐出周波数を変えた場合には、基板Kの移動速度が一定のままであると、画素内での液滴のX軸方向の塗布ピッチが変わってしまうため、画素に対して塗布する液滴の塗布量(総量)が変わることになる。 Here, when the droplet ejection frequency is changed, the ejection timing interval at which ink is ejected changes accordingly. For example, when the discharge frequency is increased, the discharge timing interval is shortened accordingly. On the other hand, when the discharge frequency is lowered, the discharge timing interval is increased accordingly. For this reason, when the ejection frequency is changed, if the moving speed of the substrate K remains constant, the application pitch in the X-axis direction of the droplets in the pixel changes, so that the application is performed on the pixel. The application amount (total amount) of droplets changes.
そこで、制御部8は、吐出周波数(吐出タイミング間隔)の変更に応じて、基板Kの移動速度を変更し、液滴の塗布ピッチを所望の塗布ピッチに維持する。ここで、吐出周波数fと移動速度vと塗布ピッチPとの関係は、P=v/fとなる。Pを一定に保つためには、fを大きくした場合、その分だけvを大きくし、一方、fを小さくした場合、その分だけvを小さくすればよい。
Therefore, the
これらのことから、吐出周波数は、塗布ヘッド6の位置(塗布ヘッド位置)に応じて、図6に示すような波形B3に設定されている。この波形B3の吐出周波数の変化に基づいて、基板Kの移動速度(塗布速度)は、塗布ヘッド6の位置(塗布ヘッド位置)に応じて、図7に示すような波形B4に設定されている。これらの波形B3、B4、すなわち塗布ヘッド6の位置に応じた吐出周波数の設定値及び基板Kの移動速度の設定値は、制御部8の記憶部に塗布情報として格納されている。なお、塗布ヘッド6の位置は、塗布ヘッド6と基板Kとの相対位置を示す。
Accordingly, the ejection frequency is set to a waveform B3 as shown in FIG. 6 according to the position of the coating head 6 (coating head position). Based on the change in the ejection frequency of the waveform B3, the moving speed (coating speed) of the substrate K is set to a waveform B4 as shown in FIG. 7 according to the position of the coating head 6 (coating head position). . These waveform B3, B4, that is, the setting value of the ejection frequency corresponding to the position of the coating head 6 and the setting value of the moving speed of the substrate K are stored in the storage unit of the
次に、前述の液滴塗布装置1が行う塗布動作(塗布工程)について説明する。なお、液滴塗布装置1の制御部8が塗布処理を実行して各部の駆動を制御する。例えば、基板Kはカラーフィルタ基板であり、その基板Kの塗布領域Rには、塗布ヘッド6により着色する画素が縦横(XY軸)の行列状に配置されている。
Next, the application operation (application process) performed by the above-described
図8に示すように、制御部8は、塗布情報に基づいて回転機構7を制御し、塗布ヘッド6をθ方向に回転させて所定の傾斜角度θ1で決まる傾斜位置まで傾ける(ステップS1)。この傾斜角度θ1は、液滴のY軸方向の塗布ピッチ(着弾間隔)が所望の塗布ピッチ(画素ピッチ)になる角度である。
As shown in FIG. 8, the
その後、制御部8は、塗布情報に基づいてX軸移動機構3及び塗布ヘッド6を制御し、相対移動する基板Kの塗布領域Rに液滴を塗布する(ステップS2)。すなわち、塗布ヘッド6は、X軸方向に相対移動する基板Kに向けて液滴を吐出してY軸方向に並ぶドット列をX軸方向に順次形成し、カラーフィルタ用の所定の塗布パターンを基板Kに形成する。
Thereafter, the
このとき、制御部8は、図6に示す波形B3及び図7に示す波形B4、すなわち塗布ヘッド6の位置に応じた吐出周波数の設定値及び基板Kの移動速度の設定値に基づいて、相対移動する基板Kの塗布領域Rに対向し同時に液滴を吐出する吐出孔Nの数(同時吐出孔数)に応じて液滴の吐出周波数(吐出タイミング間隔)を変更し、その吐出周波数の変更に応じて基板Kと塗布ヘッド6との相対移動速度を変更する。ここでは、塗布ヘッド6が固定されているので、基板Kの移動速度(塗布速度)を変更する。
At this time, the
すなわち、制御部8は、図6に示すように、相対移動する基板Kの塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数の増加に応じて吐出周波数を低くし、図7に示すように、吐出周波数の低下に応じて基板Kの移動速度を下げ、さらに、図6に示すように、相対移動する基板Kの塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数の減少に応じて吐出周波数を高くし、図7に示すように、吐出周波数の上昇に応じて相対移動速度を上げる(図4参照)。
That is, as shown in FIG. 6, the
ここで、図6に示すように、全吐出位置A3から全吐出終端位置A4までの吐出周波数は、塗布ヘッド6の全吐出孔Nから同時に液滴を吐出する場合に、必要量の液滴が基板Kに塗布されるように液滴の吐出量が設定されている。また、塗布開始位置A2の吐出周波数及び塗布完了位置A5の吐出周波数は、塗布ヘッド6の1つの吐出孔Nから液滴を吐出する場合に、必要量の液滴が基板Kに塗布されるように液滴の吐出量が設定されている。 Here, as shown in FIG. 6, the discharge frequency from the total discharge position A3 to the total discharge end position A4 is such that when a droplet is simultaneously discharged from all the discharge holes N of the coating head 6, a necessary amount of droplets The droplet discharge amount is set so as to be applied to the substrate K. The ejection frequency at the application start position A2 and the ejection frequency at the application completion position A5 are such that when a droplet is ejected from one ejection hole N of the coating head 6, a necessary amount of droplet is applied to the substrate K. The discharge amount of droplets is set in.
図4に示すように、塗布ヘッド6が塗布開始位置A2から全吐出位置A3まで移動する間では、基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数が徐々に増加していくため、図6に示すように、吐出周波数は徐々に低くなるように設定されており、さらに、図7に示すように、基板Kの移動速度(塗布速度)も徐々に下がるように設定されている。これにより、同時吐出孔数が増えていくが、各吐出孔Nから吐出された液滴の吐出量は一定となり、必要量の液滴が基板Kに塗布され、さらに、液滴のX軸方向の塗布ピッチは、吐出周波数の低下に依存することなく、所望の塗布ピッチに維持される。 As shown in FIG. 4, while the coating head 6 moves from the coating start position A2 to the total ejection position A3, the number of ejection holes N facing the coating region R on the substrate K gradually increases. As shown in FIG. 6, the discharge frequency is set to be gradually lowered, and further, as shown in FIG. 7, the moving speed (coating speed) of the substrate K is also set to be gradually lowered. As a result, the number of simultaneous ejection holes increases, but the ejection amount of the droplets ejected from each ejection hole N is constant, the required amount of droplets is applied to the substrate K, and further the X-axis direction of the droplets The coating pitch is maintained at a desired coating pitch without depending on a decrease in the discharge frequency.
加えて、図4に示すように、塗布ヘッド6が全吐出終端位置A4から塗布完了位置A5まで移動する間では、基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数が徐々に減少していくため、図6に示すように、吐出周波数は徐々に高くなるように設定されており、さらに、図7に示すように、基板Kの移動速度(塗布速度)も徐々に上がるように設定されている。これにより、同時吐出孔数が減少していくが、各吐出孔Nから吐出された液滴の吐出量は一定となり、必要量の液滴が基板Kに塗布され、さらに、液滴のX軸方向の塗布ピッチは、吐出周波数の上昇に依存することなく、所望の塗布ピッチに維持される。 In addition, as shown in FIG. 4, while the coating head 6 moves from the full discharge end position A4 to the coating completion position A5, the number of discharge holes N facing the coating region R on the substrate K gradually decreases. Therefore, as shown in FIG. 6, the discharge frequency is set to be gradually increased, and further, as shown in FIG. 7, the moving speed (coating speed) of the substrate K is also set to be gradually increased. Has been. As a result, the number of simultaneous ejection holes decreases, but the ejection amount of the droplets ejected from each ejection hole N becomes constant, the required amount of droplets is applied to the substrate K, and the X axis of the droplets The coating pitch in the direction is maintained at a desired coating pitch without depending on the increase in the discharge frequency.
このようにして、各画素に対する液滴(インク滴)の塗布量が必要量に一定に保たれ、すなわち各画素に対して塗布する液滴の塗布量(総量)が均一になり、加えて、液滴のX軸方向の塗布ピッチが所望の塗布ピッチに維持される。これにより、液滴の塗布量のバラツキに起因する着色ムラを防止することができ、その結果として、カラーフィルタ基板の品質を向上させることができる。 In this way, the application amount of droplets (ink droplets) to each pixel is kept constant at the required amount, that is, the application amount (total amount) of droplets applied to each pixel becomes uniform, in addition, The coating pitch in the X-axis direction of the droplet is maintained at a desired coating pitch. As a result, it is possible to prevent uneven coloring due to variations in the coating amount of droplets, and as a result, the quality of the color filter substrate can be improved.
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、相対移動する基板K上の塗布領域Rに対向し同時に液滴を吐出する吐出孔Nの数、すなわち同時吐出孔数に応じて液滴の吐出周波数(吐出タイミング間隔)を変更し、吐出周波数の変更に応じて基板Kと塗布ヘッド6との相対移動速度を変更することによって、基板Kの相対移動に応じて塗布領域Rと対向する吐出孔Nの数が徐々に増加したり、徐々に減少したりする場合であっても、その吐出孔Nの数に依存することなく、吐出孔Nから吐出される液滴の吐出量は一定になり、さらに、吐出周波数の変更により液滴のX軸方向の塗布ピッチが変動することも防止される。これにより、必要量の液滴が基板Kの塗布領域Rに均一に塗布され、さらに、液滴のX軸方向の塗布ピッチが所望の塗布ピッチに維持されるので、液滴の塗布量のバラツキに起因する塗布不良を防止することができる。 As described above, according to the embodiment of the present invention, the number of discharge holes N that face the coating region R on the relatively moving substrate K and simultaneously discharge liquid droplets, that is, the number of simultaneous discharge holes is determined. The droplet ejection frequency (ejection timing interval) is changed, and the relative movement speed between the substrate K and the coating head 6 is changed in accordance with the change in the ejection frequency, thereby facing the coating region R in accordance with the relative movement of the substrate K. Even when the number of discharge holes N to be increased or decreased gradually, the discharge amount of the liquid droplets discharged from the discharge holes N is not dependent on the number of the discharge holes N. Further, it is possible to prevent the coating pitch of the droplets from changing in the X-axis direction due to the change in the ejection frequency. As a result, the required amount of droplets is uniformly applied to the application region R of the substrate K, and the application pitch in the X-axis direction of the droplets is maintained at a desired application pitch. It is possible to prevent poor coating due to the above.
特に、図4に示す曲線B1及び図5に示す曲線B2のような特性となる塗布ヘッド6及びインクの種類を用いた場合でも、相対移動する基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数の増加に応じて吐出周波数を低くし(すなわち吐出タイミング間隔を長くし)、その吐出周波数の低下(すなわち吐出タイミング間隔の延長)に応じて基板Kの移動速度を下げ、さらに、相対移動する基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数の減少に応じて吐出周波数を高くし(すなわち吐出タイミング間隔を短くし)、その吐出周波数の上昇(すなわち吐出タイミング間隔の短縮)に応じて基板Kの移動速度を上げることから、必要量の液滴が基板Kの塗布領域Rに均一に塗布され、さらに、液滴のX軸方向の塗布ピッチが所望の塗布ピッチに確実に維持されるので、液滴の塗布量のバラツキに起因する塗布不良を確実に防止することができる。 In particular, even when the coating head 6 and the type of ink having characteristics such as the curve B1 shown in FIG. 4 and the curve B2 shown in FIG. 5 are used, the ejection holes N facing the coating region R on the substrate K that moves relatively. The discharge frequency is lowered (that is, the discharge timing interval is lengthened) in accordance with the increase in the number of the substrate K, the moving speed of the substrate K is lowered according to the decrease in the discharge frequency (that is, the discharge timing interval is extended), and further the relative movement The discharge frequency is increased (that is, the discharge timing interval is shortened) in response to a decrease in the number of discharge holes N facing the coating region R on the substrate K to be increased, that is, the discharge frequency is increased (that is, the discharge timing interval is shortened). Accordingly, since the moving speed of the substrate K is increased, a necessary amount of droplets are uniformly applied to the coating region R of the substrate K, and furthermore, the coating pitch in the X-axis direction of the droplets is reliably set to a desired coating pitch. Since the lifting, it is possible to reliably prevent coating defects caused by variations in the droplet of the coating amount.
また、吐出周波数及び移動テーブル2の移動速度の切り換え処理という簡単な制御により、必要量の液滴を塗布することが可能になるので、制御データの増大や処理時間の長大等を抑えることができる。 In addition, since it is possible to apply a required amount of droplets by a simple control of switching the ejection frequency and the moving speed of the moving table 2, it is possible to suppress an increase in control data and a long processing time. .
(他の実施の形態)
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
(Other embodiments)
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
例えば、前述の実施の形態においては、吐出周波数を変更することによって各吐出孔Nからの吐出量を調整しているが、これに限るものではなく、圧電素子6dに印加する電圧の大きさを変更することによって各吐出孔Nからの吐出量を調整するようにしてもよい。すなわち、圧電素子6dに印加する電圧を増加させることにより、吐出孔Nからの吐出量は増加するので、液滴を同時に吐出させる吐出孔Nの数と、吐出孔Nからの吐出量との間に、図4に示す曲線B1のような特性がある場合、液滴を同時に吐出させる吐出孔Nの数が少なくなるほど圧電素子6dに印加する電圧を減少させるようにする。
For example, in the above-described embodiment, the discharge amount from each discharge hole N is adjusted by changing the discharge frequency. However, the present invention is not limited to this, and the magnitude of the voltage applied to the
具体的には、図3に示すように、塗布ヘッド6が塗布開始位置A2から全吐出位置A3まで移動する間では、基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数が徐々に増加していく。そこで、液滴を吐出させる吐出孔Nに対応する圧電素子6dに印加する電圧を個々に制御し、吐出孔Nの増加に合わせて圧電素子6dに印加する電圧を段階的に増加させる。一方、図3に示すように、塗布ヘッド6が全吐出終端位置A4から塗布完了位置A5まで移動する間では、基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数が徐々に減少していく。そこで、液滴を吐出させる吐出孔Nに対応する圧電素子6dに印加する電圧を個々に制御し、吐出孔Nの減少に合わせて圧電素子6dに印加する電圧を段階的に減少させる。このように、相対移動する基板K上の塗布領域Rに対向し同時に液滴を吐出する吐出孔Nの数、すなわち同時吐出孔数に応じて、吐出孔Nから吐出される液滴の吐出量を変更することによって、前述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
Specifically, as shown in FIG. 3, while the coating head 6 moves from the coating start position A2 to the total ejection position A3, the number of ejection holes N facing the coating region R on the substrate K gradually increases. I will do it. Therefore, the voltage applied to the
また、前述の実施の形態においては、図4に示す曲線B1及び図5に示す曲線B2のような特性となる塗布ヘッド6及びインクの種類を用いた場合に関して、相対移動する基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数に応じて液滴の吐出周波数を変更し、吐出周波数の変更に応じて基板Kと塗布ヘッド6との相対移動速度を変更しているが、これに限るものではなく、図4に示す曲線B1及び図5に示す曲線B2のような特性と異なる場合でも、それに合わせて、相対移動する基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数に応じて液滴の吐出周波数を変更し、吐出周波数の変更に応じて基板Kと塗布ヘッド6との相対移動速度を変更することができる。例えば、図5に示す曲線B2が異なり、吐出周波数の上昇に応じて各吐出孔Nの吐出量も増加する場合には、それに合わせて、図6に示す波形B3及び図7に示す波形B4、すなわち塗布ヘッド6の位置に応じた吐出周波数の設定値及び基板Kの移動速度の設定値を変更する。 Further, in the above-described embodiment, the coating on the substrate K that moves relative to the case where the coating head 6 and the ink type having characteristics such as the curve B1 shown in FIG. 4 and the curve B2 shown in FIG. 5 are used is used. The droplet discharge frequency is changed according to the number of discharge holes N facing the region R, and the relative movement speed between the substrate K and the coating head 6 is changed according to the change of the discharge frequency, but this is not limited thereto. Even if the characteristics are different from those of the curve B1 shown in FIG. 4 and the curve B2 shown in FIG. 5, depending on the number of ejection holes N facing the coating region R on the substrate K that moves relative to the characteristics. Thus, the droplet discharge frequency can be changed, and the relative movement speed of the substrate K and the coating head 6 can be changed according to the change of the discharge frequency. For example, when the curve B2 shown in FIG. 5 is different and the discharge amount of each discharge hole N increases as the discharge frequency increases, the waveform B3 shown in FIG. 6 and the waveform B4 shown in FIG. That is, the setting value of the ejection frequency and the setting value of the moving speed of the substrate K corresponding to the position of the coating head 6 are changed.
さらに、前述の実施の形態においては、塗布ヘッド6に対して基板Kを移動させるようにしているが、これに限るものではなく、基板Kに対して塗布ヘッド6を移動させるようにしてもよく、基板Kと塗布ヘッド6とを相対移動させるようにすればよい。 Furthermore, in the above-described embodiment, the substrate K is moved with respect to the coating head 6. However, the present invention is not limited to this, and the coating head 6 may be moved with respect to the substrate K. The substrate K and the coating head 6 may be moved relative to each other.
最後に、前述の実施の形態においては、回転機構7により塗布ヘッド6をθ方向(水平方向に沿う回転方向)に回転可能に設けているが、これに限るものではなく、例えば、所定の回転角度で固定して設けるようにしてもよい。すなわち、塗布ヘッド6は、その塗布ヘッド6と基板Kとの相対移動により、基板K上の塗布領域Rに対向する吐出孔Nの数、すなわち同時に液滴を吐出する吐出孔Nの数が徐々に変化するように(徐々に増加したり減少したりするように)配置されればよい。 Finally, in the above-described embodiment, the coating head 6 is provided so as to be rotatable in the θ direction (rotation direction along the horizontal direction) by the rotation mechanism 7. However, the present invention is not limited to this. It may be fixed at an angle. That is, in the coating head 6, the relative number of the coating head 6 and the substrate K causes the number of ejection holes N facing the coating region R on the substrate K, that is, the number of ejection holes N that simultaneously eject droplets, gradually. It may be arranged so as to change to (increase or decrease gradually).
1 液滴塗布装置
6 塗布ヘッド
K 塗布対象物(基板)
R 塗布領域
N 吐出孔
DESCRIPTION OF
R Application area N Discharge hole
Claims (6)
相対移動する前記塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する前記吐出孔の数に応じて前記液滴の吐出タイミング間隔を変更し、前記吐出タイミング間隔の変更に応じて前記塗布対象物と前記塗布ヘッドとの相対移動速度を変更する手段と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。 A head for discharging droplets from a plurality of discharge holes arranged in a straight line toward a coating area on a coating object to be moved relative to the coating area, and facing the coating area according to relative movement with the coating object. An application head provided so that the number of the ejection holes to be changed gradually;
The droplet discharge timing interval is changed in accordance with the number of the discharge holes that discharge the droplets at the same time, facing the application region on the coating object to be relatively moved, and the application in accordance with the change in the discharge timing interval Means for changing the relative movement speed between the object and the coating head;
A droplet applying apparatus comprising:
相対移動する前記塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する前記吐出孔の数に応じて、前記吐出孔から吐出される前記液滴の吐出量を変更する手段と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。 A head for discharging droplets from a plurality of discharge holes arranged in a straight line toward a coating area on a coating object to be moved relative to the coating area, and facing the coating area according to relative movement with the coating object. An application head provided so that the number of the ejection holes to be changed gradually;
Means for changing the discharge amount of the liquid droplets discharged from the discharge holes in accordance with the number of the discharge holes that simultaneously discharge the liquid droplets while facing the application region on the application object to be relatively moved;
A droplet applying apparatus comprising:
相対移動する前記塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する前記吐出孔の数に応じて前記液滴の吐出タイミング間隔を変更し、前記吐出タイミング間隔の変更に応じて前記塗布対象物と前記塗布ヘッドとの相対移動速度を変更しながら、前記塗布ヘッドにより前記塗布対象物に前記液滴を塗布するステップと、
を有することを特徴とする液滴塗布方法。 A head for discharging droplets from a plurality of discharge holes arranged in a straight line toward a coating area on a coating object to be moved relative to the coating area, and facing the coating area according to relative movement with the coating object. The relative movement of the coating head and the coating object provided so that the number of the discharge holes to gradually change,
The droplet discharge timing interval is changed in accordance with the number of the discharge holes that discharge the droplets at the same time, facing the application region on the coating object to be relatively moved, and the application in accordance with the change in the discharge timing interval Applying the droplets to the application object by the application head while changing the relative movement speed between the object and the application head;
A droplet coating method comprising:
相対移動する前記塗布対象物上の塗布領域に対向し同時に液滴を吐出する前記吐出孔の数に応じて、前記吐出孔から吐出される前記液滴の吐出量を変更しながら、前記塗布ヘッドにより前記塗布対象物に前記液滴を塗布するステップと、
を有することを特徴とする液滴塗布方法。 A head for discharging droplets from a plurality of discharge holes arranged in a straight line toward a coating area on a coating object to be moved relative to the coating area, and facing the coating area according to relative movement with the coating object. The relative movement of the coating head and the coating object provided so that the number of the discharge holes to gradually change,
The coating head while changing the ejection amount of the droplets ejected from the ejection holes in accordance with the number of ejection holes that simultaneously eject the droplets facing the coating area on the coating object to be relatively moved Applying the droplets to the application object by:
A droplet coating method comprising:
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