JP2008241802A - Electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

Electrooptical device and electronic equipment Download PDF

Info

Publication number
JP2008241802A
JP2008241802A JP2007078387A JP2007078387A JP2008241802A JP 2008241802 A JP2008241802 A JP 2008241802A JP 2007078387 A JP2007078387 A JP 2007078387A JP 2007078387 A JP2007078387 A JP 2007078387A JP 2008241802 A JP2008241802 A JP 2008241802A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
electro
substrate
optical device
switching element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007078387A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiro Imai
克浩 今井
Kazuhiro Tanaka
千浩 田中
Takahito Harada
考人 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Epson Imaging Devices Corp
Original Assignee
Epson Imaging Devices Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Epson Imaging Devices Corp filed Critical Epson Imaging Devices Corp
Priority to JP2007078387A priority Critical patent/JP2008241802A/en
Publication of JP2008241802A publication Critical patent/JP2008241802A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrooptical device which is made easy to manufacture by simplifying the constitution of a switching element, and attains display with a wide viewing angle and a high contrast in spite of the easy manufacture and further reduce lateral crosstalk. <P>SOLUTION: A liquid crystal device 1 has a scan line 2 which is provided on a substrate 21 supporting a liquid crystal layer to transmit a scan signal, the switching element 5 electrically connected to the scan line 2, an island-shaped pixel electrode 25 electrically connected to the switching element 5, a dielectric film 26 covering the pixel electrode 25 and switching element 5, and a common electrode 28 extended in a direction crossing the scan line 2 to face the pixel electrode 25 in plan view. The switching element 5 is a TFD element formed by laminating a first conductive film, an insulating film, and a second conductive film, where the common electrode 28 has a plurality of electrode linear portions 28, arranged across a slit 37, in a region opposed to the pixel electrode 25, and is a data line transmitting a data signal. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、横電界型の液晶動作モードであるFFS(Fringe Field Switching)モードの電気光学装置装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いた電子機器に関する。   The present invention relates to an FFS (Fringe Field Switching) mode electro-optical device that is a lateral electric field type liquid crystal operation mode. The present invention also relates to an electronic apparatus using the electro-optical device.

現在、携帯電話機、携帯情報端末機、PDA(Personal Digital Assistant)等といった電子機器に液晶装置、有機EL装置等といった電気光学装置が広く用いられている。この電気光学装置において、誘電体膜を介在させて第1電極と第2電極とを1つの基板上に互いに対向させて設けると共に、間隙をおいて平行に配置された複数の電極線状部によって上記の第2電極を形成し、そして第1電極を面状電極によって形成して成るFFSモードの電気光学装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。また、従来のアクティブマトリクス方式の電気光学装置において、複数の画素を個々にオン(白表示)/オフ(黒表示)駆動するためのスイッチング素子として2端子型のスイッチング素子であるTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)素子を用いた電気光学装置が知られている(例えば、特許文献2参照)。   At present, electro-optical devices such as liquid crystal devices and organic EL devices are widely used in electronic devices such as mobile phones, personal digital assistants, and PDAs (Personal Digital Assistants). In this electro-optical device, the first electrode and the second electrode are provided on one substrate so as to face each other with a dielectric film interposed therebetween, and a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap therebetween. An FFS mode electro-optical device is known in which the second electrode is formed and the first electrode is formed by a planar electrode (see, for example, Patent Document 1). Further, in a conventional active matrix type electro-optical device, a TFD (Thin Film Diode) which is a two-terminal switching element as a switching element for individually driving a plurality of pixels on (white display) / off (black display). : Thin film diode) An electro-optical device using an element is known (for example, see Patent Document 2).

特開2001−83540号公報(第4〜5頁、図3)JP 2001-83540 A (pages 4-5, FIG. 3) 特開2003−29289号公報(第5頁、図1)JP 2003-29289 A (page 5, FIG. 1)

特許文献1に開示された電気光学装置は、その動作モードがFFSモードであるので、TN(Twisted Nematic:ツイステッドネマチック)モードに代表される縦電界方式の動作モードに比較して、広視野角及び高コントラストの表示特性を実現できる。しかしながら、特許文献1に開示された電気光学装置は画素に印加する電圧を制御するためのスイッチング素子として3端子型のスイッチング素子であるTFT素子を用いているので、基板上に形成される要素の構成が複雑であり、製造工程が複雑であり、コストが高くなるという問題があった。また、特許文献2に開示された電気光学装置は縦電界方式の動作モードに従った電気光学装置であり、そのため、FFSモードの電気光学装置に比べて、視野角が狭く、コントラストが低いという問題があった。   Since the operation mode of the electro-optical device disclosed in Patent Document 1 is the FFS mode, compared with a vertical electric field type operation mode represented by a TN (Twisted Nematic) mode, High contrast display characteristics can be realized. However, since the electro-optical device disclosed in Patent Document 1 uses a TFT element which is a three-terminal switching element as a switching element for controlling the voltage applied to the pixel, the element formed on the substrate There is a problem that the configuration is complicated, the manufacturing process is complicated, and the cost is high. Further, the electro-optical device disclosed in Patent Document 2 is an electro-optical device in accordance with a longitudinal electric field type operation mode, and therefore has a problem that the viewing angle is narrower and contrast is lower than that of an FFS mode electro-optical device. was there.

ところで、従来から、電気光学装置においてクロストークの問題がある。クロストークとは、マトリクス状に配置された複数の画素の1つを動作させるために、その画素に対応する一対の電極に表示用の信号電圧を印加したとき、それ以外の非選択画素に電圧が加わるために半選択状態になる現象である。このクロストークとして、縦クロストーク及び横クロストークが従来から知られている。   Conventionally, there is a problem of crosstalk in the electro-optical device. Crosstalk means that when a signal voltage for display is applied to a pair of electrodes corresponding to a pixel in order to operate one of a plurality of pixels arranged in a matrix, a voltage is applied to other non-selected pixels. This is a phenomenon that is in a semi-selected state due to the addition of. As this crosstalk, vertical crosstalk and horizontal crosstalk are conventionally known.

横クロストークは、表示画面内の画素レベルが特定の階調に集中した走査線と、そうでない走査線とにおいて、信号電圧によって同一階調を指示しているにも拘らず、表示画面上では表示レベルが異なってしまう現象である。この現象は、表示画面の1つの走査線の表示中に、その1つの走査線に含まれる画素の階調レベルが特定の階調に集中すると、信号電極線の電位が一斉に変化し、その電位変化が走査線を通じて各画素へ伝搬することが1つの原因であると考えられている。   Lateral crosstalk occurs on the display screen even though the same gray scale is indicated by the signal voltage in the scanning line where the pixel level in the display screen is concentrated on a specific gradation and the scanning line that does not. This is a phenomenon in which the display level is different. This phenomenon is caused when the gradation level of the pixels included in one scanning line is concentrated on a specific gradation during the display of one scanning line on the display screen, the potentials of the signal electrode lines change all at once. One cause is considered to be that the potential change propagates to each pixel through the scanning line.

また、縦クロストークは、画素電極とそれに接続されていない方の隣接する信号線との間に生じる寄生容量の影響によって発生するクロストークである。例えば、灰色等を背景色として赤色、青色、緑色等の単色又は赤色、青色、緑色の各色に対して補色の関係にあるシアン、マゼンタ、イエロー等の色を矩形状に表示したときに、矩形表示領域の上下方向に位置する領域が、本来表示されるべき背景色より明るく表示されてしまい、且つ、微妙に色づいて表示されてしまう現象である。従来、クロストークの発生を防止するために、表示装置の駆動方法に関して種々の提案が成されているが、駆動方法が複雑になるという問題があった。   In addition, vertical crosstalk is crosstalk that occurs due to the influence of parasitic capacitance generated between the pixel electrode and the adjacent signal line that is not connected to the pixel electrode. For example, when a color such as cyan, magenta, or yellow that is complementary to each color of red, blue, and green is displayed in a rectangular shape with a gray color as the background color, a rectangular color This is a phenomenon in which an area positioned in the vertical direction of the display area is displayed brighter than the background color that should be displayed and is displayed in a slightly colored manner. Conventionally, various proposals have been made regarding the driving method of a display device in order to prevent the occurrence of crosstalk, but there has been a problem that the driving method becomes complicated.

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、スイッチング素子の構成を簡単化して製造を容易にし、それにも関らず広視野角及び高コントラストの表示を実現できる電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
また、本発明は、構成が簡単でありながら、横クロストークを効果的に軽減することができる電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is an electro-optical device that can simplify the configuration of the switching element to facilitate manufacture, and nevertheless realize a display with a wide viewing angle and high contrast. An object is to provide an apparatus and an electronic device.
It is another object of the present invention to provide an electro-optical device and an electronic apparatus that can effectively reduce lateral crosstalk while having a simple configuration.

本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板上に設けられており走査信号を伝送する走査線と、前記基板上に設けられており前記走査線に導電接続したスイッチング素子と、前記基板上に設けられており前記スイッチング素子に導電接続した島状の第1電極と、前記第1電極及び前記スイッチング素子を覆って前記基板上に設けられた誘電体膜と、前記誘電体膜上に設けられており、前記走査線に交差する方向に延在し、前記第1電極に平面視で対向する第2電極とを有し、前記スイッチング素子は、第1導電膜と、該第1導電膜上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた第2導電膜とを有する2端子型スイッチング素子であり、前記第2電極は間隙を有して平行に並んだ複数の電極線状部を前記第1電極に対向する領域に有し、前記第2電極はデータ信号を伝送するデータ線であることを特徴とする。   An electro-optical device according to the present invention includes a scanning line that is provided on a substrate that supports an electro-optical material and transmits a scanning signal, a switching element that is provided on the substrate and is conductively connected to the scanning line, An island-shaped first electrode provided on the substrate and conductively connected to the switching element; a dielectric film provided on the substrate covering the first electrode and the switching element; and the dielectric film And a second electrode extending in a direction intersecting the scanning line and opposed to the first electrode in plan view, the switching element comprising: a first conductive film; A two-terminal switching element having an insulating film provided on one conductive film and a second conductive film provided on the insulating film, wherein the second electrodes are arranged in parallel with a gap. The electrode linear portion faces the first electrode. Has to pass, the second electrode is characterized in that it is a data line for transmitting data signals.

上記の電気光学物質は、電気的な入力条件が変化するときに光学的な状態が変化する物質であり、例えば液晶、有機EL(Electro Luminescence)、無機EL等である。電気光学装置として液晶を用いる場合、その液晶は、正の誘電異方性を有するネマチック液晶とすることができる。この液晶を用いれば、FFSモードを実現するためのラビング条件や、偏光軸条件を容易に適切な関係に設定できる。   The electro-optical material is a material whose optical state changes when an electrical input condition changes, and is, for example, a liquid crystal, an organic EL (Electro Luminescence), an inorganic EL, or the like. When a liquid crystal is used as the electro-optical device, the liquid crystal can be a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy. If this liquid crystal is used, the rubbing conditions for realizing the FFS mode and the polarization axis conditions can be easily set in an appropriate relationship.

本発明に係る電気光学装置によれば、TFD素子に代表される2端子型スイッチング素子をスイッチング素子として用いて、FFSモード等といった横電界モードの動作モードを実現できる。スイッチング素子としてTFT素子に代表される3端子型スイッチング素子を用いる従来の横電界モードの電気光学装置は従来から知られているが、3端子型スイッチング素子を用いた電気光学装置は構成が複雑であり、その製造にあたって多くの工数を必要とし、コストアップは避けられない。これに対し、2端子型スイッチング素子を用いた本発明の電気光学装置は少ない工数で容易に低コストで製造できる。   The electro-optical device according to the present invention can realize a lateral electric field mode operation mode such as an FFS mode using a two-terminal switching element represented by a TFD element as a switching element. Conventional lateral electric field mode electro-optical devices using a three-terminal switching element typified by a TFT element as a switching element have been conventionally known. However, an electro-optical device using a three-terminal switching element has a complicated configuration. There are many man-hours required for the production, and an increase in cost is inevitable. In contrast, the electro-optical device of the present invention using a two-terminal switching element can be easily manufactured at low cost with a small number of man-hours.

このように本発明の電気光学装置は低コストで簡単に製造できるにも関らず、その動作モードは電気光学物質の光学的性質を基板と平行な電界、いわゆる横電界によって制御するモードであるので、TNモードに代表される縦電界モードの場合に比べて、広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   As described above, although the electro-optical device of the present invention can be easily manufactured at low cost, the operation mode is a mode in which the optical properties of the electro-optical material are controlled by an electric field parallel to the substrate, a so-called lateral electric field. Therefore, display with a wide viewing angle and high contrast can be realized as compared with the vertical electric field mode represented by the TN mode.

従来から公知の構成によれば、金属材料から成るデータ線がスイッチング素子を介して第1電極に導電接続され、透光性の金属酸化物(例えばITO(Indium Tin Oxide:インジウム・スズ酸化物)から成る第2電極が上記データ線に直交する走査線として第1電極に対向して帯状に配置されていた。第2電極には引回し配線が導電接続されるが、この引回し配線もITO等を含んで形成されていた。このように、従来の電気光学装置では、走査線及びそれにつながった引回し配線がITO等といった金属酸化物によって形成されていたので、走査線の配線抵抗が高かった。   According to a conventionally known configuration, a data line made of a metal material is conductively connected to the first electrode through a switching element, and a light-transmitting metal oxide (for example, ITO (Indium Tin Oxide)) The second electrode is formed in the form of a strip facing the first electrode as a scanning line orthogonal to the data line, and the lead wire is conductively connected to the second electrode. As described above, in the conventional electro-optical device, the scanning line and the lead wiring connected to the scanning line are formed of a metal oxide such as ITO, so that the wiring resistance of the scanning line is high. It was.

画像表示領域を構成する複数の画素を個々に駆動する際には、走査信号とデータ信号との合成電圧(パルス電圧)が個々の画素に印加され、当該画素内の液晶分子の配向が制御される。走査信号を伝送する走査線とデータ信号を伝送するデータ線との間には液晶容量が介在し、さらに走査線及びそれにつながった引回し配線は高抵抗値を有していた。液晶層に印加されるパルス電圧は、液晶容量と走査線の抵抗値との合成量に応じて変動し、特に、1つの走査線に含まれる画素の階調レベルが特定の階調値に集中すると、その変動が大きくなる。このように、複数の走査線間では走査線の配線抵抗等に起因して印加電圧にバラツキが生じ、その結果、走査信号とデータ信号とによって同一階調を指示しているにも関らず、走査線間で表示レベルが異なってしまうという、横クロストークが発生する。この横クロストークは、走査線の配線抵抗が高い程、大きくなる。従来は、走査線及びそれにつながる引回し配線が抵抗値の高い金属酸化物によって形成されていたので、横クロストークが発生し易かった。   When individually driving a plurality of pixels constituting an image display area, a combined voltage (pulse voltage) of a scanning signal and a data signal is applied to each pixel, and the orientation of liquid crystal molecules in the pixel is controlled. The A liquid crystal capacitor is interposed between the scanning line for transmitting the scanning signal and the data line for transmitting the data signal, and the scanning line and the lead wiring connected to the scanning line have a high resistance value. The pulse voltage applied to the liquid crystal layer fluctuates according to the combined amount of the liquid crystal capacitance and the resistance value of the scanning line. In particular, the gradation level of the pixels included in one scanning line is concentrated on a specific gradation value. Then, the fluctuation becomes large. As described above, the applied voltage varies among a plurality of scanning lines due to the wiring resistance of the scanning lines, and as a result, the same gradation is indicated by the scanning signal and the data signal. Lateral crosstalk occurs in which the display level differs between scanning lines. This lateral crosstalk becomes larger as the wiring resistance of the scanning line is higher. Conventionally, since the scanning line and the lead-out wiring connected to the scanning line are formed of a metal oxide having a high resistance value, it is easy for horizontal crosstalk to occur.

これに対し、本発明では、スイッチング素子を介して第1電極につながる線が走査線であり、第1電極に対向して配置された第2電極がデータ線である。スイッチング素子につながる線は、ITO等といった金属酸化物ではなくCr(クロム)、Al(アルミニウム)等といった金属によって形成することができる。この種の金属は金属酸化物に比べて配線抵抗が低いので、走査線を金属によって形成すればその走査線の配線抵抗を低くすることができる。こうして走査線の配線抵抗を低くできれば、横クロストークの発生を軽減でき、階調にばらつきのない高品質の表示を得ることができる。   On the other hand, in the present invention, a line connected to the first electrode via the switching element is a scanning line, and a second electrode arranged to face the first electrode is a data line. A line connected to the switching element can be formed not by a metal oxide such as ITO but by a metal such as Cr (chromium) or Al (aluminum). Since this type of metal has a lower wiring resistance than a metal oxide, if the scanning line is made of metal, the wiring resistance of the scanning line can be lowered. If the wiring resistance of the scanning line can be lowered in this way, the occurrence of lateral crosstalk can be reduced, and a high-quality display with no variation in gradation can be obtained.

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記第2電極の前記電極線状部の個々の一部分又は全部は平面視で前記第1電極に重なり合うことが望ましい。この構成により、FFSモードの動作モードを実現することができる。FFSモードは、第2電極の電極線状部が平面視で第1電極に重なることが必要である。この場合、第1電極がサブ画素の略全面にわたって面状に形成される場合には、第2電極の個々の電極線状部はその全部が第1電極に平面視で重なり合うことになる。他方、第1電極は面状電極ではなく第2電極と同様に間隙と電極線状部とによって形成することができる。このように第1電極と第2電極の両方が間隙及び電極線状部を有する構成の場合には、第2電極の個々の電極線状部の全部ではなくて一部分が平面視で第1電極に重なり合うことがある。この場合にもFFSモードを実現することができる。FFSモードに基づいて駆動される本発明の電気光学装置によれば、広視野角で高コントラストの表示を実現できる。   Next, in the electro-optical device according to the aspect of the invention, it is preferable that each part or all of the electrode linear portions of the second electrode overlap the first electrode in a plan view. With this configuration, an FFS mode operation mode can be realized. The FFS mode requires that the electrode linear portion of the second electrode overlaps the first electrode in plan view. In this case, when the first electrode is formed in a planar shape over substantially the entire surface of the sub-pixel, all of the individual electrode linear portions of the second electrode overlap the first electrode in plan view. On the other hand, the first electrode can be formed not by a planar electrode but by a gap and an electrode linear portion in the same manner as the second electrode. As described above, when both the first electrode and the second electrode have the gap and the electrode linear part, not all of the individual electrode linear parts of the second electrode but a part of the first electrode in plan view. May overlap. Also in this case, the FFS mode can be realized. According to the electro-optical device of the present invention driven based on the FFS mode, a high contrast display with a wide viewing angle can be realized.

次に、本発明に係る電気光学装置は、前記基板上に設けられた配向膜をさらに有し、該配向膜にはラビングが施され、該ラビングの方向と前記電極線状部の延在方向との成す角度をαとするとき、
5°≦α≦20°
であることが望ましい。この構成によれば、FFSモードにおけるオン電圧印加時の液晶分子の配向変化を安定化することができ、しかもその配向変化が生じるしきい値電圧を低減できる。これにより、FFSモードに基づいた表示を安定して行うことができる。
Next, the electro-optical device according to the invention further includes an alignment film provided on the substrate, the alignment film is rubbed, and the rubbing direction and the extending direction of the electrode linear portion Where α is the angle between
5 ° ≦ α ≦ 20 °
It is desirable that According to this configuration, it is possible to stabilize the change in the orientation of liquid crystal molecules when an on-voltage is applied in the FFS mode, and to reduce the threshold voltage at which the orientation change occurs. Thereby, the display based on FFS mode can be performed stably.

次に、本発明に係る電気光学装置において、走査線は導電性金属によって形成されていることが望ましい。導電性金属は、例えば、クロム、クロム合金、アルミニウム、及びアルミニウム合金から選択される1つ又はそれらの組合せとすることができる。また、走査線はスイッチング素子の第1導電膜又は第2導電膜と同じ材料によって形成されていることが望ましい。   Next, in the electro-optical device according to the present invention, it is preferable that the scanning line is formed of a conductive metal. The conductive metal can be, for example, one or a combination selected from chromium, chromium alloy, aluminum, and aluminum alloy. The scanning line is preferably formed of the same material as the first conductive film or the second conductive film of the switching element.

TFD素子等といった2端子型スイッチング素子を用いた従来のアクティブマトリクス方式の電気光学装置において、走査線はITO等といった金属酸化物によって帯状に形成されていた。この走査線は引回し配線に導電接続されることが多かった。引回し配線も金属酸化物によって形成されることが多かった。走査線及び引回し配線が金属酸化物によって形成されていたため、従来の走査線は配線抵抗が高かった。このため、従来の電気光学装置においては、横クロストークが発生して表示の階調に乱れが生じ画像品質が低下するおそれがあった。   In a conventional active matrix type electro-optical device using a two-terminal switching element such as a TFD element, the scanning line is formed in a strip shape from a metal oxide such as ITO. This scanning line is often conductively connected to the lead wiring. In many cases, the routing wiring is also formed of a metal oxide. Since the scanning line and the lead wiring are made of metal oxide, the conventional scanning line has a high wiring resistance. For this reason, in the conventional electro-optical device, there is a possibility that the horizontal crosstalk occurs, the display gradation is disturbed, and the image quality is deteriorated.

このことに関し、上記のように走査線を導電性金属によって形成すれば、横クロストークの発生を低減して高い画素品質を維持できる。また、上記の発明態様によれば、2端子型スイッチング素子と走査線とを基板上の同じ層に形成することができるので、走査線をスイッチング素子の構成要素と同じ金属材料によって形成できる。こうすれば、材料コスト及び製造コストを低減することができる。   In this regard, if the scanning line is formed of a conductive metal as described above, the occurrence of lateral crosstalk can be reduced and high pixel quality can be maintained. Further, according to the above aspect of the invention, since the two-terminal switching element and the scanning line can be formed in the same layer on the substrate, the scanning line can be formed of the same metal material as the constituent elements of the switching element. In this way, material cost and manufacturing cost can be reduced.

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記第1電極は前記基板上に複数設けられ、それらの第1電極は互いに直交する方向へそれぞれ列状に並んで設けられ、前記第2電極は一方向に並んだ前記複数の島状電極と平面視で重なり合う帯状電極であることが望ましい。この構成により、FFSモードを実現するための間隙及び電極線状部を第2電極に正確に形成できる。   Next, in the electro-optical device according to the invention, a plurality of the first electrodes are provided on the substrate, the first electrodes are provided in a line in a direction orthogonal to each other, and the second electrode is It is desirable that the strip-shaped electrode overlaps the plurality of island-shaped electrodes arranged in one direction in plan view. With this configuration, the gap and the electrode linear portion for realizing the FFS mode can be accurately formed in the second electrode.

次に、本発明の電気光学装置においてFFSモードを実現するためには、フリンジフィールドを形成するために第2電極を複数の間隙と複数の電極線状部とによって形成する必要がある。第2電極を帯状電極として形成した場合には、その第2電極内に間隙及び電極線状部を形成するにあたって、それらの間隙及び電極線状部を個々のサブ画素ごとに形成する構成と、複数のサブ画素にわたって間隙及び電極線状部を連続状態で形成する構成とが考えられる。   Next, in order to realize the FFS mode in the electro-optical device of the present invention, it is necessary to form the second electrode by a plurality of gaps and a plurality of electrode linear portions in order to form a fringe field. In the case where the second electrode is formed as a strip electrode, in forming the gap and the electrode linear part in the second electrode, the gap and the electrode linear part are formed for each sub-pixel, A configuration in which gaps and electrode linear portions are continuously formed over a plurality of subpixels is conceivable.

第2電極の間隙及び電極線状部を個々のサブ画素ごとに形成する構成の場合には、第2電極の面積を大きく確保できるので配線抵抗を低く維持できる。一方、第2電極の間隙及び電極線状部を複数のサブ画素にわたって連続して形成する場合には、間隙及び電極線状部のパターニングを容易にできる。   In the case of the configuration in which the gap between the second electrodes and the electrode linear portion are formed for each subpixel, the area of the second electrode can be secured large, so that the wiring resistance can be kept low. On the other hand, when the gap and the electrode linear portion of the second electrode are continuously formed across a plurality of subpixels, the patterning of the gap and the electrode linear portion can be facilitated.

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記複数の島状のサブ画素は互いに直交する方向へそれぞれ列状に並んで配列されて表示領域を形成し、前記表示領域内にある前記第2電極は透光性を有する金属酸化物によって形成され、前記表示領域の外側にある第2電極は導電性金属を含んで形成されることが望ましい。この構成によれば、表示領域内における第2電極の透光性を損なうことなく、当該第2電極の抵抗値を下げることができる。   Next, in the electro-optical device according to the aspect of the invention, the plurality of island-shaped sub-pixels are arranged in a line in a direction orthogonal to each other to form a display area, and the second area is in the display area. Preferably, the electrode is formed of a light-transmitting metal oxide, and the second electrode outside the display region is formed to include a conductive metal. According to this configuration, the resistance value of the second electrode can be lowered without impairing the translucency of the second electrode in the display area.

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記走査線には配線、いわゆる引回し配線、を導電接続することができる。これにより、基板上における走査線の形成位置を自由に設定できる。この配線は平面視で表示領域の両側の側方領域に分けて設けることが望ましい。こうすれば、基板上の狭い領域に多数の配線を効率良く形成できる。また、配線は、平面視で表示領域の片側の側方領域にまとめて設けることもできる。この構成によっても、基板上の狭い領域に多数の配線を効率良く形成できる。なお、配線は走査線と同じ材料によって、又は同じ材料を含んで形成されることが望ましい。こうすれば、材料コスト及び製造コストを低減できる。   Next, in the electro-optical device according to the invention, a wiring, a so-called lead wiring, can be conductively connected to the scanning line. Thereby, the formation position of the scanning line on the substrate can be freely set. This wiring is preferably provided separately in the side regions on both sides of the display region in plan view. In this way, a large number of wirings can be efficiently formed in a narrow area on the substrate. In addition, the wiring can be collectively provided in a side region on one side of the display region in a plan view. Even with this configuration, a large number of wirings can be efficiently formed in a narrow region on the substrate. Note that the wiring is preferably formed using the same material as the scanning line or including the same material. In this way, material costs and manufacturing costs can be reduced.

次に、本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質の層を介在させて互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板上に設けられた走査線と、前記第1基板上に設けられており前記走査線に導電接続したスイッチング素子と、前記第1基板上に設けられており前記スイッチング素子に導電接続した島状の第1電極と、前記第1電極及び前記スイッチング素子を覆って前記第1基板上に設けられた誘電体膜と、前記誘電体膜上に設けられており前記第1電極に対向する第2電極と、前記第1基板上に設けられた第1配向膜及び第1偏光層と、前記第2基板上に設けられた第2配向膜及び第2偏光層とを有し、前記スイッチング素子は、第1導電膜と、該第1導電膜上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた第2導電膜とを有する2端子型スイッチング素子であり、前記第2電極は間隙を有して平行に並んだ複数の電極線状部を前記第1電極に対向する領域に有し、前記第1配向膜にはラビングが施され、該ラビングの方向と前記電極線状部の延在方向との成す角度をαとするとき、
5°≦α≦20°
であり、前記第1偏光層の偏光透過軸の延在方向は前記第1配向膜に施されるラビングの方向と平行であり、前記第2配向膜に施されるラビングの方向は前記第1基板側のラビングの方向に対して逆平行であり、前記第2偏光層の偏光透過軸の延在方向は前記第1偏光層の偏光透過軸の延在方向に直交することを特徴とする。
この構成によりFFSモードを正確に実現できる。具体的には、基板平行方向に電界を形成でき、液晶分子をホモジニアス配向に配向でき、その液晶分子を基板に平行な面内で配向制御でき、そして、高コントラストの表示を実現できる。
Next, an electro-optical device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate that face each other with an electro-optical material layer interposed therebetween, a scanning line provided on the first substrate, and the first substrate. A switching element provided on the scanning line and conductively connected to the scanning line; an island-shaped first electrode provided on the first substrate and conductively connected to the switching element; the first electrode and the switching element; A dielectric film provided on the first substrate, a second electrode provided on the dielectric film and facing the first electrode, and a first electrode provided on the first substrate An alignment film and a first polarizing layer; and a second alignment film and a second polarizing layer provided on the second substrate, wherein the switching element is formed on the first conductive film and the first conductive film. An insulating film provided and a second conductive film provided on the insulating film The second electrode has a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap in a region facing the first electrode, and the first alignment film is rubbed. When the angle between the rubbing direction and the extending direction of the electrode linear portion is α,
5 ° ≦ α ≦ 20 °
The extending direction of the polarization transmission axis of the first polarizing layer is parallel to the rubbing direction applied to the first alignment film, and the rubbing direction applied to the second alignment film is the first direction. It is antiparallel to the rubbing direction on the substrate side, and the extending direction of the polarization transmission axis of the second polarizing layer is orthogonal to the extending direction of the polarization transmission axis of the first polarizing layer.
With this configuration, the FFS mode can be accurately realized. Specifically, an electric field can be formed in the direction parallel to the substrate, the liquid crystal molecules can be aligned in a homogeneous orientation, the orientation of the liquid crystal molecules can be controlled in a plane parallel to the substrate, and a high contrast display can be realized.

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置によれば、FFSモードの動作モードを2端子型スイッチング素子を用いて実現できることになったので、電気光学装置を容易且つ低コストで製造でき、しかも広視野角及び高コントラストの表示を実現できることになった。従って、その電気光学装置を用いた本発明に係る電子機器においても、低コストで簡単に高品質の表示を実現できる。また、本発明に係る電気光学装置によれば、走査線間で横クロストークのない均一な階調表示が行われて高品質の表示が得られるので、この電気光学装置を用いた電子機器においても、高品質の表示が得られる。   Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the electro-optical device having the above-described configuration. According to the electro-optical device according to the present invention, the FFS mode operation mode can be realized by using the two-terminal switching element. Therefore, the electro-optical device can be manufactured easily and at a low cost, and also has a wide viewing angle and a high viewing angle. Contrast display can be realized. Therefore, even in the electronic apparatus according to the present invention using the electro-optical device, high-quality display can be easily realized at low cost. Further, according to the electro-optical device according to the present invention, since uniform gradation display without horizontal crosstalk is performed between scanning lines and high-quality display is obtained, in an electronic apparatus using this electro-optical device In addition, a high-quality display can be obtained.

(電気光学装置の第1実施形態)
以下、本発明に係る電気光学装置を実施形態に基づいて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素を分かり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示す場合がある。
(First embodiment of electro-optical device)
Hereinafter, an electro-optical device according to the invention will be described based on embodiments. Of course, the present invention is not limited to this embodiment. Further, in the following description, the drawings will be referred to as necessary. In this drawing, in order to show the important components of the structure composed of a plurality of components in an easy-to-understand manner, May be indicated by dimensions.

図1は、本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置の平面断面図である。図2は図1のZb−Zb線に従った液晶装置の行方向Xに沿った断面図である。図3は本実施形態の液晶装置の電気的な等価回路を示している。これらの図において、行方向X及び列方向Yは互いに直交する方向である。行方向Xは、走査線の延在方向であり、サブ画素の短手方向である。列方向Yは、データ線の延在方向であり、サブ画素の長手方向である。   FIG. 1 is a plan sectional view of a liquid crystal device which is an embodiment of an electro-optical device according to the invention. FIG. 2 is a cross-sectional view along the row direction X of the liquid crystal device according to the Zb-Zb line of FIG. FIG. 3 shows an electrical equivalent circuit of the liquid crystal device of this embodiment. In these drawings, the row direction X and the column direction Y are directions orthogonal to each other. The row direction X is a scanning line extending direction and a short direction of the sub-pixels. The column direction Y is the direction in which the data lines extend and is the longitudinal direction of the subpixels.

サブ画素、走査線、データ線については後述するが、簡単に説明すれば次の通りである。サブ画素は、ドットマトリクス方式の表示における白表示及び黒表示の制御単位を構成する領域である。走査線は、走査ラインを選択するための走査信号をサブ画素へ供給する信号線である。データ線は、階調データ等といったサブ画素固有のデータであるデータ信号をサブ画素へ供給する信号線である。   Sub-pixels, scanning lines, and data lines will be described later, but will be briefly described as follows. The sub-pixel is an area constituting a control unit for white display and black display in the dot matrix display. The scanning line is a signal line that supplies a scanning signal for selecting a scanning line to a sub-pixel. The data line is a signal line that supplies a data signal that is data specific to the subpixel, such as gradation data, to the subpixel.

図3において、本実施形態の液晶装置1は、スイッチング素子としてTFD素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置として構成されている。液晶装置1は、行方向Xに延びる複数の走査線2と、列方向Yに延びる複数のデータ線3とを有している。走査線2とデータ線3の交差部分にサブ画素Pが形成されている。サブ画素Pは、液晶装置1における白表示と黒表示の制御単位となる領域である。サブ画素Pは走査線2及びデータ線3のそれぞれに沿って複数存在しており、平面内で行列状(いわゆるマトリクス状)に配列されている。この複数のサブ画素Pによって表示領域Vが形成され、この表示領域V内に文字、数字、図形等といった画像が表示される。   In FIG. 3, the liquid crystal device 1 of the present embodiment is configured as an active matrix type liquid crystal device using a TFD element as a switching element. The liquid crystal device 1 includes a plurality of scanning lines 2 extending in the row direction X and a plurality of data lines 3 extending in the column direction Y. Sub-pixels P are formed at the intersections between the scanning lines 2 and the data lines 3. The sub-pixel P is a region serving as a control unit for white display and black display in the liquid crystal device 1. A plurality of sub-pixels P exist along each of the scanning lines 2 and the data lines 3, and are arranged in a matrix (a so-called matrix) in the plane. A display region V is formed by the plurality of sub-pixels P, and images such as letters, numbers, figures, etc. are displayed in the display region V.

各サブ画素Pにおいては、液晶層4と、2端子型スイッチング素子であるTFD素子5とが直列に接続されている。液晶層4は後述する画素電極と共通電極との間に電気的に介在する液晶によって形成されている。各サブ画素Pに青色(B)、緑色(G)、赤色(R)の各色着色膜のうちの1色を対応させてカラー表示を行う場合には、3色のサブ画素Pが集まって1つの表示画素が形成される。一方、白黒又はその他の2色によってモノカラー表示を行う場合にはサブ画素Pの1つが1つの表示画素を形成する。   In each subpixel P, a liquid crystal layer 4 and a TFD element 5 that is a two-terminal switching element are connected in series. The liquid crystal layer 4 is formed of liquid crystal that is electrically interposed between a pixel electrode and a common electrode, which will be described later. When color display is performed by associating each sub-pixel P with one of the colored films of blue (B), green (G), and red (R), the sub-pixels P of three colors are gathered together. Two display pixels are formed. On the other hand, when monochrome display is performed with black and white or other two colors, one of the sub-pixels P forms one display pixel.

図3では、液晶層4が走査線2の側に接続され、TFD素子5がデータ線3の側に接続されているが、接続関係をその逆にしても良い。各走査線2は走査線駆動回路6に接続されている。各データ線3はデータ線駆動回路7に接続されている。走査線駆動回路6及びデータ線駆動回路7はタイミング信号生成回路8からのタイミング信号に従って動作する。また、データ線駆動回路7にはデータ変換回路9が接続されている。   In FIG. 3, the liquid crystal layer 4 is connected to the scanning line 2 side and the TFD element 5 is connected to the data line 3 side. However, the connection relationship may be reversed. Each scanning line 2 is connected to a scanning line driving circuit 6. Each data line 3 is connected to a data line driving circuit 7. The scanning line driving circuit 6 and the data line driving circuit 7 operate according to the timing signal from the timing signal generation circuit 8. A data conversion circuit 9 is connected to the data line driving circuit 7.

走査線駆動回路6は、走査線2に走査電位Vaを印加する。走査電位Vaには、走査ラインを選択するための選択電圧及び選択状態を保持するための保持電圧が含まれる。選択電圧は所定のライン選択期間ごとに各走査線2に対して印加され、これにより各走査線2が順次に選択される。保持電圧はライン選択期間後の所定期間、各走査線2に印加される。全ての走査線2が選択され終わる期間がフィールド期間である。データ線駆動回路7はデータ線3に対して信号電位Vbを印加する。信号電位Vbは個々のサブ画素Pの階調を指示する信号であり、例えば、階調値に応じてパルス幅変調される。具体的には、サブ画素に与えるべき階調が高くなる程(ノーマリーホワイトモードでは暗くなる程)、オン区間の占める割合が大きく設定される。   The scanning line driving circuit 6 applies a scanning potential Va to the scanning line 2. The scanning potential Va includes a selection voltage for selecting a scanning line and a holding voltage for holding a selected state. The selection voltage is applied to each scanning line 2 every predetermined line selection period, whereby each scanning line 2 is sequentially selected. The holding voltage is applied to each scanning line 2 for a predetermined period after the line selection period. A period during which all the scanning lines 2 are selected is a field period. The data line driving circuit 7 applies a signal potential Vb to the data line 3. The signal potential Vb is a signal that indicates the gradation of each sub-pixel P, and is, for example, pulse width modulated in accordance with the gradation value. More specifically, the higher the gradation to be given to the sub-pixel (the darker the normally white mode), the larger the proportion occupied by the ON section.

データ変換回路9は、外部から入力されたカラー画像信号R,G,Bを例えばラインバッファに格納し、さらにデータ線駆動回路7に適合するデータ信号Dr,Dg,Dbに変換した後、データ線駆動回路7に供給する。例えば、カラー画像信号R,G,Bの各色の階調値は「0」から「15」の範囲内の値に区分けされ、各階調値がデータ信号Dr,Dg,Dbにおいて所定のパルス幅のパルス信号として変換される。   The data conversion circuit 9 stores the color image signals R, G, B inputted from the outside in, for example, a line buffer, and further converts them into data signals Dr, Dg, Db suitable for the data line driving circuit 7, and then the data lines This is supplied to the drive circuit 7. For example, the tone values of each color of the color image signals R, G, B are divided into values in the range of “0” to “15”, and each tone value has a predetermined pulse width in the data signals Dr, Dg, Db. It is converted as a pulse signal.

次に、液晶装置1の機械的な構成を図1及び図2に基づいて説明する。図2において、液晶装置1は液晶パネル12及び照明装置13を有する。矢印Aで示す側が観察側であり、照明装置13は観察側と反対側に配置されてバックライトとして作用する。液晶パネル12は互いに対向する素子基板14及びカラーフィルタ基板15を有する。これらの基板は矢印A方向(基板法線方向ということがある)から見て環状すなわち枠状のシール材17によって貼り合わされている。本実施形態では、カラーフィルタ基板15が観察側に配置され、素子基板14が背面側に配置される。   Next, the mechanical configuration of the liquid crystal device 1 will be described with reference to FIGS. In FIG. 2, the liquid crystal device 1 includes a liquid crystal panel 12 and an illumination device 13. The side indicated by the arrow A is the observation side, and the illumination device 13 is disposed on the opposite side to the observation side and acts as a backlight. The liquid crystal panel 12 includes an element substrate 14 and a color filter substrate 15 facing each other. These substrates are bonded together by an annular or frame-like sealing material 17 as viewed from the direction of arrow A (sometimes referred to as a substrate normal direction). In the present embodiment, the color filter substrate 15 is disposed on the observation side, and the element substrate 14 is disposed on the back side.

素子基板14とカラーフィルタ基板15の間には所定(例えば5μm程度)の間隙であるセルギャップが形成され、そのセルギャップ内に液晶が封入されて液晶層4が形成されている。液晶層4は正の誘電異方性を有するネマチック液晶によって形成されている。正の誘電異方性を有する液晶は、電界が作用したときに液晶分子の長軸方向が電界方向と平行になるように旋回移動する性質を有している。   A cell gap which is a predetermined gap (for example, about 5 μm) is formed between the element substrate 14 and the color filter substrate 15, and liquid crystal is sealed in the cell gap to form the liquid crystal layer 4. The liquid crystal layer 4 is formed of a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy. The liquid crystal having positive dielectric anisotropy has a property of rotating so that the major axis direction of liquid crystal molecules is parallel to the electric field direction when an electric field is applied.

素子基板14は、石英ガラス、プラスチック等といった透光性を有する材料によって形成された第1基板21を有している。第1基板21は基板法線方向から見て図1に示すように列方向Yに長い長方形状に形成されている。第1基板21は正方形状であっても良い。図2において第1基板21の外側に第1偏光板22が設けられている。必要に応じて、第1偏光板22と第1基板21との間に、透過光の偏光状態を変調するための位相差膜を設けても良い。   The element substrate 14 includes a first substrate 21 formed of a light-transmitting material such as quartz glass or plastic. The first substrate 21 is formed in a rectangular shape that is long in the column direction Y as shown in FIG. The first substrate 21 may be square. In FIG. 2, a first polarizing plate 22 is provided outside the first substrate 21. A retardation film for modulating the polarization state of transmitted light may be provided between the first polarizing plate 22 and the first substrate 21 as necessary.

第1基板21の内側(液晶層側)には、2端子型スイッチング素子であるTFD素子5と、そのTFD素子5に導電接続された第1電極としての島状の画素電極25とが設けられている。TFD素子5は2つのTFD要素を逆極性で直列に接続した、いわゆるバック・ツー・バック(Back-to-Back)構造(詳しくは後述する)として形成されている。画素電極25は、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム・スズ酸化物)、IZO(Indium Zinc Oxide:インジウム亜鉛酸化物)等といった透光性を有する金属酸化物から成り、例えばフォトエッチング処理によって形成されている。画素電極25は複数形成されており、図1に示すように、個々は基板法線方向から見て列方向Yに長い長方形状の島状であり、それらの複数が行方向X及び列方向Yにそれぞれ列状に並ぶ状態に(いわゆる、ドットマトリクス状に)形成されている。   Inside the first substrate 21 (on the liquid crystal layer side), a TFD element 5 that is a two-terminal switching element and an island-like pixel electrode 25 as a first electrode that is conductively connected to the TFD element 5 are provided. ing. The TFD element 5 is formed as a so-called back-to-back structure (described later in detail) in which two TFD elements are connected in series with opposite polarities. The pixel electrode 25 is made of a light-transmitting metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), and is formed by, for example, a photoetching process. Yes. A plurality of pixel electrodes 25 are formed. As shown in FIG. 1, each pixel electrode 25 has a rectangular island shape that is long in the column direction Y when viewed from the substrate normal direction, and the plurality of pixel electrodes 25 are in the row direction X and the column direction Y. Are arranged in a row (in a so-called dot matrix).

列方向Yに列状に並ぶ画素電極25の間に走査線2が形成されている。走査線2は、Cr(クロム)又はCr合金から成り、例えばフォトエッチング処理によって形成されている。走査線2は、TFD素子5の構成要素を金属材料によって形成する工程において同時に形成することが望ましい。走査線2は複数形成されており、個々は行方向Xに延びる細い線状であり、それらの複数が列方向Yに所定間隔で互いに平行に形成されている。複数のTFD素子5はそれぞれ走査線2に導電接続している。複数の走査線2は図の左右方向へ1本ずつ交互に張り出す状態に形成されている。   A scanning line 2 is formed between the pixel electrodes 25 arranged in a row in the column direction Y. The scanning line 2 is made of Cr (chromium) or a Cr alloy, and is formed by, for example, a photoetching process. The scanning line 2 is desirably formed at the same time in the step of forming the constituent elements of the TFD element 5 with a metal material. A plurality of scanning lines 2 are formed, each of which is a thin line extending in the row direction X, and a plurality of the scanning lines 2 are formed in parallel in the column direction Y at predetermined intervals. Each of the plurality of TFD elements 5 is conductively connected to the scanning line 2. The plurality of scanning lines 2 are formed so as to alternately protrude one by one in the horizontal direction in the drawing.

図2において、TFD素子5及び画素電極25を覆って誘電体膜26が設けられている。誘電体膜26は図1に示すように、走査線2も覆っている。誘電体膜26は、例えばSiNx(窒化シリコン)、SiO(酸化シリコン)等といった窒化膜や、酸化膜や、その他の有機系の透明樹脂によって形成されている。窒化膜及び酸化膜は無機膜である。誘電体膜26はフォトエッチング処理によって、図1に示すように、全ての画素電極25を覆う状態の長方形状に形成されている。 In FIG. 2, a dielectric film 26 is provided so as to cover the TFD element 5 and the pixel electrode 25. As shown in FIG. 1, the dielectric film 26 also covers the scanning line 2. The dielectric film 26 is formed of a nitride film such as SiNx (silicon nitride) or SiO 2 (silicon oxide), an oxide film, or other organic transparent resin. The nitride film and the oxide film are inorganic films. As shown in FIG. 1, the dielectric film 26 is formed in a rectangular shape covering all the pixel electrodes 25 by photoetching.

図2において、第1基板21の左右の両側の側方領域に配線としての複数のコモンライン27が設けられている。これらのコモンライン27は、いわゆる引回し配線である。これらのコモンライン27は、第1層であるCr又はCr合金の配線上に第2層であるITOの配線を積層することによって形成されている。コモンライン27の第1層は走査線2と同じ材料によって走査線2に連続してフォトリソグラフィ処理によって形成されている。場合によっては、走査線2とコモンライン27を別々に形成しても良い。これらのコモンライン27は、図1に示すように列方向Yへ異なった長さで延びる線状に形成されている。コモンライン27は図3では図示を省略しているが、走査線駆動回路6から延びる走査線2の一部となる線である。   In FIG. 2, a plurality of common lines 27 as wirings are provided in lateral regions on both the left and right sides of the first substrate 21. These common lines 27 are so-called lead wirings. These common lines 27 are formed by laminating the ITO wiring as the second layer on the Cr or Cr alloy wiring as the first layer. The first layer of the common line 27 is formed of the same material as the scanning line 2 by photolithography processing continuously from the scanning line 2. In some cases, the scanning line 2 and the common line 27 may be formed separately. These common lines 27 are formed in a linear shape extending in different lengths in the column direction Y as shown in FIG. Although not shown in FIG. 3, the common line 27 is a line that is part of the scanning line 2 extending from the scanning line driving circuit 6.

図2において、誘電体膜26の上に第2電極としての共通電極28が列方向Y(図2の紙面垂直方向)へ延在して形成されている。共通電極28はITO、IZO等といった透光性を有する金属酸化物から成り、例えばフォトエッチング処理によって形成されている。共通電極28は、図1に示すように複数形成されており、個々は列方向Yに延びる帯状であり、それらの複数が行方向Xに沿って間隔をおいて互いに平行に形成されている。各共通電極28は、列方向Yにおいて複数のサブ画素間にわたって設けられる共通の電極である。共通電極28は図3のデータ線3として機能する電極である。   In FIG. 2, a common electrode 28 as a second electrode is formed on the dielectric film 26 so as to extend in the column direction Y (the direction perpendicular to the plane of FIG. 2). The common electrode 28 is made of a light-transmitting metal oxide such as ITO or IZO, and is formed by, for example, a photoetching process. As shown in FIG. 1, a plurality of common electrodes 28 are formed, each having a strip shape extending in the column direction Y, and a plurality of the common electrodes 28 are formed in parallel to each other at intervals along the row direction X. Each common electrode 28 is a common electrode provided across a plurality of sub-pixels in the column direction Y. The common electrode 28 functions as the data line 3 in FIG.

個々が島状に形成された複数の画素電極25は行方向X及び列方向Yのそれぞれに並べて配置されており、いわゆるドットマトリクス状に配置されている。一方、列方向Yに延びる帯状の共通電極28は列方向Yに並んだ複数の画素電極25と平面視で重なっている。画素電極25と共通電極28とが平面視で重なり合うドット状、すなわち島状の領域は複数の画素電極25と同じくドットマトリクス状に行列状に並んでいる。これらの個々の島状領域は液晶駆動の際の制御単位であるサブ画素Pを構成する。そして、ドットマトリクス状に配置された複数のサブ画素Pによって表示領域Vが構成されている。   A plurality of pixel electrodes 25 that are individually formed in an island shape are arranged in the row direction X and the column direction Y, and are arranged in a so-called dot matrix shape. On the other hand, the strip-shaped common electrode 28 extending in the column direction Y overlaps the plurality of pixel electrodes 25 arranged in the column direction Y in plan view. The dot-shaped, that is, island-shaped regions in which the pixel electrode 25 and the common electrode 28 overlap in a plan view are arranged in a matrix in a dot matrix like the plurality of pixel electrodes 25. These individual island regions constitute sub-pixels P that are control units for driving the liquid crystal. A display region V is constituted by a plurality of sub-pixels P arranged in a dot matrix.

共通電極28には、FFSモードを実現するために、個々のサブ画素Pに対応して、間隙としての複数のスリット37及びそれらのスリット37の間に形成された複数の電極線状部38とが形成されている。これらのスリット37及び電極線状部38についての詳細は後述する。   In order to realize the FFS mode, the common electrode 28 includes a plurality of slits 37 as gaps and a plurality of electrode linear portions 38 formed between the slits 37 corresponding to the individual subpixels P. Is formed. Details of the slit 37 and the electrode linear portion 38 will be described later.

例えば、R(赤色),G(緑色),B(青色)の3色を用いてカラー表示を行う場合には、個々のサブ画素Pにそれら3色のうちの各1色が割り当てられ、R,G,Bに対応した3つのサブ画素Pによって1つの表示画素が構成され、その表示画素がドットマトリクス状に集まって表示領域Vが構成される。R,G,Bの3色に他の1色(例えば、青緑)を加えて4色でカラー表示を行う場合は、4つのサブ画素Pによって1つの表示画素が構成される。また、白黒2色やその他の任意の2色によって表示を行う場合には、個々のサブ画素Pがそのまま1つの表示画素になる。   For example, when color display is performed using three colors of R (red), G (green), and B (blue), each of the three colors is assigned to each sub-pixel P, and R , G, and B constitute one display pixel, and the display pixels are gathered in a dot matrix to form a display region V. When color display is performed with four colors by adding another color (for example, blue-green) to the three colors of R, G, and B, one display pixel is configured by the four sub-pixels P. Further, in the case of performing display with two colors of black and white or any other two colors, each sub pixel P becomes one display pixel as it is.

図2において、共通電極28、コモンライン27及び誘電体膜26を覆って第1基板21上に第1配向膜29が設けられている。図1では第1配向膜29の図示を省略している。第1配向膜29は、例えばポリイミドから成り、例えば印刷法や転写法によって所定形状に形成されている。第1配向膜29には、液晶層4内の液晶分子を所望の方向へ配向させるためのラビング処理が施されている。   In FIG. 2, a first alignment film 29 is provided on the first substrate 21 so as to cover the common electrode 28, the common line 27, and the dielectric film 26. In FIG. 1, the first alignment film 29 is not shown. The first alignment film 29 is made of, for example, polyimide, and is formed in a predetermined shape by, for example, a printing method or a transfer method. The first alignment film 29 is subjected to a rubbing process for aligning the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 4 in a desired direction.

次に、素子基板14に対向するカラーフィルタ基板15は、石英ガラス、プラスチック等といった透光性を有する材料によって形成された第2基板32を有している。第2基板32は基板法線方向から見て図1に鎖線で示すように列方向Yに長い長方形状に形成されている。第2基板32は正方形状であっても良い。第2基板32の列方向Yに沿った長さは第1基板21よりも短くなっており、第1基板21は1つの端辺部分において第2基板32の外側へ張り出している。この第1基板21の張出し部分上に駆動用IC31がACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)を用いたCOG(Chip On Glass)技術によって実装されている。   Next, the color filter substrate 15 facing the element substrate 14 has a second substrate 32 formed of a light-transmitting material such as quartz glass or plastic. The second substrate 32 is formed in a rectangular shape that is long in the column direction Y as shown by a chain line in FIG. The second substrate 32 may be square. The length of the second substrate 32 along the column direction Y is shorter than that of the first substrate 21, and the first substrate 21 protrudes outside the second substrate 32 at one end portion. A driving IC 31 is mounted on the projecting portion of the first substrate 21 by a COG (Chip On Glass) technique using an ACF (Anisotropic Conductive Film).

図3に示した走査線駆動回路6、データ線駆動回路7、タイミング生成回路8及びデータ変換回路9は駆動用IC31に内蔵されている。つまり、第1基板21上に設けた共通電極28及びコモンライン27はそれぞれ駆動用IC31の出力端子に導電接続されている。駆動用IC31は、共通電極28にデータ信号を供給し、コモンライン27に走査信号を供給する。コモンライン27に供給された走査信号は走査線2及びTFD素子5を介して各画素電極25へ伝送される。画素電極25と共通電極との間の電位差が、非線形素子であるTFD素子5のしきい値電圧を超えると、該TFD素子5がオン状態となって両電極間に電界が発生する。   The scanning line driving circuit 6, the data line driving circuit 7, the timing generation circuit 8, and the data conversion circuit 9 shown in FIG. 3 are built in the driving IC 31. That is, the common electrode 28 and the common line 27 provided on the first substrate 21 are electrically connected to the output terminal of the driving IC 31. The driving IC 31 supplies a data signal to the common electrode 28 and supplies a scanning signal to the common line 27. The scanning signal supplied to the common line 27 is transmitted to each pixel electrode 25 through the scanning line 2 and the TFD element 5. When the potential difference between the pixel electrode 25 and the common electrode exceeds the threshold voltage of the TFD element 5 which is a non-linear element, the TFD element 5 is turned on and an electric field is generated between both electrodes.

なお、第1基板21及び第2基板32の張出し部以外の3つの辺端は、図1では構造を分かり易く示すために互いに位置がずれた状態で示されているが、実際には、それら3つの辺端は平面視で略一致して重なった状態となっている。   Note that the three edges of the first substrate 21 and the second substrate 32 other than the overhanging portions are shown in FIG. 1 in a state where they are shifted from each other for easy understanding of the structure. The three side edges are substantially coincident and overlap in a plan view.

図2において第2基板32の外側に第2偏光板33が設けられている。必要に応じて、第2偏光板33と第2基板32との間に視角補償用あるいはその他の用途の位相差膜を設けても良い。第2基板32の内側(液晶層側)には、カラーフィルタを構成する着色膜34が設けられ、それらの周囲に遮光膜35が設けられている。着色膜34に括弧書きで付されたR,G,Bの符号は、それらの着色膜がR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の各色を透過する特性を有することを示している。遮光膜35は、互いに隣接するサブ画素P間からの光漏れを防止する。本実施形態では着色膜の配列形態としてストライプ配列が採用されており、行方向Xに沿ってR,G,Bの異なる色が交互に並び、列方向YにR,G,Bの同色が並んでいる。しかしながら、着色膜34の色の配列形態はその他の任意の配列、例えばモザイク配列、デルタ配列でも良い。   In FIG. 2, a second polarizing plate 33 is provided outside the second substrate 32. If necessary, a retardation film for viewing angle compensation or other purposes may be provided between the second polarizing plate 33 and the second substrate 32. On the inner side (liquid crystal layer side) of the second substrate 32, a colored film 34 constituting a color filter is provided, and a light shielding film 35 is provided around them. The symbols R, G, and B given in parentheses to the colored film 34 indicate that these colored films have characteristics of transmitting each color of R (red), G (green), and B (blue). Yes. The light shielding film 35 prevents light leakage from between adjacent sub-pixels P. In this embodiment, a stripe arrangement is adopted as an arrangement form of the colored films, different colors of R, G, and B are alternately arranged along the row direction X, and the same colors of R, G, and B are arranged in the column direction Y. It is out. However, the color arrangement form of the colored film 34 may be any other arrangement, for example, a mosaic arrangement or a delta arrangement.

着色膜34は、例えば感光性樹脂に顔料や染料を混合させて成る樹脂材料から成り、例えばフォトリソグラフィ処理によって所定の配列のパターンに形成されている。遮光膜35は、遮光性の樹脂材料、遮光性の金属材料、又は色の異なる着色膜34を2色又は3色重ねることによって形成されている。   The colored film 34 is made of, for example, a resin material obtained by mixing a pigment or a dye with a photosensitive resin, and is formed in a predetermined array pattern by, for example, photolithography. The light shielding film 35 is formed by overlapping two or three colors of a light shielding resin material, a light shielding metal material, or a colored film 34 having different colors.

着色膜34及び遮光膜35の上にオーバーコート層39が設けられている。オーバーコート層39は着色膜34の層の平坦化及び液晶層4の保護のため等に用いられる。オーバーコート層39は、例えばアクリル系有機樹脂膜や、シリコン酸化膜等といった無機膜等を印刷することによって形成されている。そして、オーバーコート層39の上に第2配向膜40が設けられている。第2配向膜40は、例えばポリイミドから成り、例えば印刷法や転写法によって所定形状に形成されている。第2配向膜40には、液晶層4内の液晶分子を所望の方向へ配向させるためのラビング処理が施される。   An overcoat layer 39 is provided on the coloring film 34 and the light shielding film 35. The overcoat layer 39 is used for flattening the layer of the colored film 34 and protecting the liquid crystal layer 4. The overcoat layer 39 is formed, for example, by printing an inorganic film such as an acrylic organic resin film or a silicon oxide film. A second alignment film 40 is provided on the overcoat layer 39. The second alignment film 40 is made of polyimide, for example, and is formed in a predetermined shape by, for example, a printing method or a transfer method. The second alignment film 40 is subjected to a rubbing process for aligning the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 4 in a desired direction.

素子基板14上の第1配向膜29に対して行われるラビングの方向と、カラーフィルタ基板15上の第2配向膜40に対して行われるラビングの方向は逆平行(アンチパラレル)の関係にあり、これらのラビングによって配向性を持ったそれらの配向膜により、液晶層4はホモジニアス配向に配向する。ホモジニアス配向は、周知の通り、基板に対してプレチルトを持った略平行の配向である。   The direction of rubbing performed on the first alignment film 29 on the element substrate 14 and the direction of rubbing performed on the second alignment film 40 on the color filter substrate 15 are in an antiparallel relationship. The liquid crystal layer 4 is aligned in a homogeneous alignment by these alignment films having alignment by rubbing. As is well known, the homogeneous alignment is a substantially parallel alignment with a pretilt with respect to the substrate.

次に、1つのサブ画素P及びその周辺の構成を図4に基づいて説明する。図4(a)は図1の素子基板14において第1基板21上に誘電体膜26を形成する前の段階の平面構造を示している。図4(b)は第1基板21上に帯状の共通電極28を形成した段階の平面構造を示している。   Next, the configuration of one subpixel P and its periphery will be described with reference to FIG. FIG. 4A shows a planar structure at a stage before the dielectric film 26 is formed on the first substrate 21 in the element substrate 14 of FIG. FIG. 4B shows a planar structure at the stage where the strip-shaped common electrode 28 is formed on the first substrate 21.

図4(a)において、個々のサブ画素Pの隅部にTFD素子5が設けられている。TFD素子5は図5(a)に示すように2つのTFD要素5a及び5bを直列に接続して成る、いわゆるバック・ツー・バック構造に形成されている。TFD素子5は、もちろん、バック・ツー・バック構造でなく1つのTFD要素によって形成することもできる。個々のTFD要素5a,5bは、図5(a)のZd−Zd線に沿った断面図である図5(b)に示すように、第1基板21上に形成された第1導電膜42と、第1導電膜42上に形成された絶縁膜43と、絶縁膜43上に形成された第2導電膜44a,44bとによって形成されている。   In FIG. 4A, TFD elements 5 are provided at the corners of the individual sub-pixels P. As shown in FIG. 5A, the TFD element 5 is formed in a so-called back-to-back structure in which two TFD elements 5a and 5b are connected in series. Of course, the TFD element 5 can also be formed by one TFD element instead of a back-to-back structure. Each of the TFD elements 5a and 5b includes a first conductive film 42 formed on the first substrate 21, as shown in FIG. 5B, which is a cross-sectional view taken along the line Zd-Zd in FIG. And an insulating film 43 formed on the first conductive film 42 and second conductive films 44 a and 44 b formed on the insulating film 43.

第1導電膜42は、例えばTa(タンタル)又はTa合金から成り、例えばフォトエッチング処理によって島状に形成されている。絶縁膜43は、例えば陽極酸化処理によってTaOx(酸化タンタル)として形成されている。第2導電膜44a,44bは、例えばCrによって走査線2及び配線27の第1層をフォトエッチング処理によって形成する際に同時に形成される。第1TFD要素5aと第2TFD要素5bは電気的には逆極性のダイオード素子であり、これらを直列に接続することにより、安定した電圧−電流特性が得られるようになっている。第1TFD要素5aの入力端子である第2導電膜44aは走査線2から一体的に延びている。第2TFD要素5bの出力端子である第2導電膜44bは画素電極25に導電接続されている。画素電極25はサブ画素Pの領域内で面状に形成されている。   The first conductive film 42 is made of, for example, Ta (tantalum) or a Ta alloy, and is formed in an island shape by, for example, a photoetching process. The insulating film 43 is formed as TaOx (tantalum oxide) by, for example, anodizing. The second conductive films 44a and 44b are formed at the same time when the first layer of the scanning line 2 and the wiring 27 is formed by, for example, Cr by photoetching. The first TFD element 5a and the second TFD element 5b are electrically reverse diode elements, and by connecting them in series, a stable voltage-current characteristic can be obtained. A second conductive film 44a that is an input terminal of the first TFD element 5a extends integrally from the scanning line 2. The second conductive film 44b, which is the output terminal of the second TFD element 5b, is conductively connected to the pixel electrode 25. The pixel electrode 25 is formed in a planar shape within the region of the sub-pixel P.

図4(b)において、画素電極25上に重ねて形成された列方向Yに延びる帯状の共通電極28は、個々のサブ画素Pに対応して、間隙としての複数のスリット37と、これらのスリット37の間に形成された複数の電極線状部38とを有している。複数のスリット37及び複数の電極線状部38は互いに平行に形成されている。スリット37の延在方向(従って電極線状部38の延在方向)とサブ画素Pの短手方向(行方向X)との成す角βは
5°≦β≦20°
の範囲内の角度に設定されている。
In FIG. 4B, a strip-shaped common electrode 28 extending in the column direction Y formed so as to overlap the pixel electrode 25 includes a plurality of slits 37 as gaps corresponding to the individual subpixels P, and these And a plurality of electrode linear portions 38 formed between the slits 37. The plurality of slits 37 and the plurality of electrode linear portions 38 are formed in parallel to each other. An angle β formed by the extending direction of the slit 37 (and hence the extending direction of the electrode linear portion 38) and the short direction (row direction X) of the sub-pixel P is
5 ° ≦ β ≦ 20 °
The angle is set within the range.

図6は、図4(b)におけるZe線に従った電極構造の一部分の断面を示している。図6において、画素電極25は面状電極として形成されているので、共通電極28の電極線状部38はその幅全域が平面視で画素電極25に重なり合っている。電極線状部38と画素電極25が平面視で重なり合った部分の誘電体膜26には静電容量が形成される。画素電極25と共通電極28との間にしきい値電圧以上の電圧が印加されると、TFD素子5がオン状態になり、画素電極25と共通電極28の電極線状部38との間に電界Eが形成される。電界Eが生じると、液晶層4を形成する正の誘電異方性の液晶の液晶分子4aの長軸がその電界方向と平行になるように基板平面内で旋回移動して配向が変化する。この液晶分子4aの旋回移動により、液晶層4を通過する偏光が変調される。本実施形態における液晶分子4aの配向制御は上記の通りに基板平面内で行われるので、TNモード等のような基板垂直方向での配向制御に比べて、広視野角及び高コントラストの表示を行うことができる。   FIG. 6 shows a cross section of a part of the electrode structure according to the Ze line in FIG. In FIG. 6, since the pixel electrode 25 is formed as a planar electrode, the entire width of the electrode linear portion 38 of the common electrode 28 overlaps the pixel electrode 25 in plan view. Capacitance is formed in the dielectric film 26 where the electrode linear portion 38 and the pixel electrode 25 overlap in plan view. When a voltage equal to or higher than the threshold voltage is applied between the pixel electrode 25 and the common electrode 28, the TFD element 5 is turned on, and an electric field is generated between the pixel electrode 25 and the electrode linear portion 38 of the common electrode 28. E is formed. When the electric field E is generated, the liquid crystal molecules 4a of the positive dielectric anisotropy forming the liquid crystal layer 4 are swung in the plane of the substrate so that the major axis of the liquid crystal molecules 4a is parallel to the direction of the electric field, and the orientation changes. Due to the rotational movement of the liquid crystal molecules 4a, the polarized light passing through the liquid crystal layer 4 is modulated. Since the alignment control of the liquid crystal molecules 4a in the present embodiment is performed in the substrate plane as described above, a display with a wider viewing angle and higher contrast is performed compared to the alignment control in the substrate vertical direction such as the TN mode. be able to.

横電界モードとしてFFSモードの他にIPS(In-Plain Switching)モードが知られている。IPSモードの場合には、図6において、画素電極25が面状電極ではなく共通電極28と同様な線状電極又は枠状電極として形成される。そして、共通電極28の電極線状部38が画素電極25と平面視で重なり合うことなく、共通電極28の電極線状部38と画素電極25の線状電極部分又は枠状電極部分との間に平面視で大きな間隔が形成される構造となっている。この構成のため、IPSモードの場合には、画素電極と共通電極との間に横電界を発生させることはできるが、共通電極の直上領域に十分な強度の電界を形成することができなかった。これに対し、FFSモードの場合には、共通電極28の電極線状部38が画素電極25に平面視で重なっているので、電極線状部38の直上領域にも十分な強度の電界を形成することができ、該領域を表示領域として十分に活用できる。このため、本実施形態のFFSモードによれば、IPSモードの場合に比べて、より一層の広視野角化、より一層の高コントラスト化、より一層の高透過率化を得ることができる。   In addition to the FFS mode, an IPS (In-Plain Switching) mode is known as the transverse electric field mode. In the case of the IPS mode, in FIG. 6, the pixel electrode 25 is not a planar electrode but is formed as a linear electrode or a frame electrode similar to the common electrode 28. Then, the electrode linear portion 38 of the common electrode 28 does not overlap the pixel electrode 25 in plan view, and the electrode linear portion 38 of the common electrode 28 and the linear electrode portion or the frame electrode portion of the pixel electrode 25 are interposed between them. The structure is such that a large interval is formed in plan view. Due to this configuration, in the case of the IPS mode, a horizontal electric field can be generated between the pixel electrode and the common electrode, but an electric field having a sufficient strength cannot be formed in a region immediately above the common electrode. . On the other hand, in the FFS mode, since the electrode linear portion 38 of the common electrode 28 overlaps the pixel electrode 25 in plan view, an electric field having a sufficient strength is formed also in the region immediately above the electrode linear portion 38. This area can be fully utilized as a display area. For this reason, according to the FFS mode of the present embodiment, it is possible to obtain a wider viewing angle, a higher contrast, and a higher transmittance as compared with the case of the IPS mode.

次に、図2の素子基板21上の第1偏光板22及び第1配向膜29、並びにカラーフィルタ基板15上の第2偏光板33及び第2配向膜40の光軸関係について、図7に基づいて説明する。図7(a)において、符号R1で示す矢印は素子基板14側の第1配向膜29(図2参照)に対して行われるラビングの方向を示している。このラビング方向R1はサブ画素Pの短手方向(行方向X)に対して平行に設定されている。   Next, the optical axis relationship between the first polarizing plate 22 and the first alignment film 29 on the element substrate 21 of FIG. 2 and the second polarizing plate 33 and the second alignment film 40 on the color filter substrate 15 is shown in FIG. This will be explained based on. In FIG. 7A, an arrow indicated by reference symbol R1 indicates the direction of rubbing performed on the first alignment film 29 (see FIG. 2) on the element substrate 14 side. The rubbing direction R1 is set in parallel to the short direction (row direction X) of the sub-pixel P.

そして、素子基板14上の共通電極28内に形成されたスリット37の延在方向(従って電極線状部38の延在方向)とラビング方向R1との成す角度αは
5°≦α≦20°
の範囲内の任意の角度に設定されている。図4(b)においてスリット37の延在方向とサブ画素Pの短手方向(行方向X)との成す角βが
5°≦β≦20°
の範囲内の角度に設定されることは既述したが、サブ画素Pの短手方向(行方向X)に対するスリット37の成す角度βと、スリット37に対するラビング方向R1の成す角度αとが等しければ、ラビング方向R1はサブ画素Pの短手方向と同じ方向である。α≠βであれば、ラビング方向R1はサブ画素Pの短手方向に対してずれた方向となる。
The angle α formed between the extending direction of the slit 37 formed in the common electrode 28 on the element substrate 14 (and hence the extending direction of the electrode linear portion 38) and the rubbing direction R1 is
5 ° ≦ α ≦ 20 °
Is set to an arbitrary angle within the range of. In FIG. 4B, the angle β formed between the extending direction of the slit 37 and the short direction (row direction X) of the sub-pixel P is
5 ° ≦ β ≦ 20 °
As described above, the angle β formed by the slit 37 with respect to the short direction (row direction X) of the sub-pixel P is equal to the angle α formed by the rubbing direction R1 with respect to the slit 37. For example, the rubbing direction R1 is the same direction as the short direction of the sub-pixel P. If α ≠ β, the rubbing direction R1 is shifted from the short direction of the sub-pixel P.

スリット37に対するラビング方向R1の成す角度αを、5°≦α≦20°に設定すれば、FFSモードにおけるオン電圧印加時の液晶分子の配向変化を安定化することができ、しかもその配向変化が生じるしきい値電圧を低減できる。従って、FFSモードに従った動作を安定して行うことが可能となる。   If the angle α formed by the rubbing direction R1 with respect to the slit 37 is set to 5 ° ≦ α ≦ 20 °, the alignment change of the liquid crystal molecules when the on-voltage is applied in the FFS mode can be stabilized. The generated threshold voltage can be reduced. Therefore, the operation according to the FFS mode can be stably performed.

図8は偏光板の透過軸とラビング方向との関係を図式的に描いている。図8に示すように、素子基板14に対向するカラーフィルタ基板15上の第2配向膜40(図2参照)に対して行われるラビングの方向は、符号R2で示すように素子基板14側のラビング方向R1に対して逆平行である。そして、素子基板14側の第1偏光板22の偏光透過軸222は素子基板14側のラビング方向R1と平行であり、カラーフィルタ基板15側の第2偏光板33の偏光透過軸233は素子基板14側の偏光透過軸222に直交している。以上の光軸関係の設定により、FFSモードによる白表示と黒表示の切り替えを安定して実現できる。   FIG. 8 schematically shows the relationship between the transmission axis of the polarizing plate and the rubbing direction. As shown in FIG. 8, the rubbing direction performed on the second alignment film 40 (see FIG. 2) on the color filter substrate 15 facing the element substrate 14 is the element substrate 14 side as indicated by reference numeral R2. It is antiparallel to the rubbing direction R1. The polarization transmission axis 222 of the first polarizing plate 22 on the element substrate 14 side is parallel to the rubbing direction R1 on the element substrate 14 side, and the polarization transmission axis 233 of the second polarizing plate 33 on the color filter substrate 15 side is the element substrate. It is orthogonal to the polarization transmission axis 222 on the 14th side. By setting the optical axis relationship as described above, switching between white display and black display in the FFS mode can be realized stably.

図7(a)は画素電極25と共通電極28との間にオフ電圧を印加した黒表示の状態を示している。このオフ電圧印加時、液晶分子4aはその長軸がラビング方向R1と平行である初期配向状態にある。画素電極25と共通電極28との間に所定のオン電圧が印加されて白表示の状態になると、図7(b)において、スリット37の延在方向(従って電極線状部38の延在方向)に対して直角の方向に基板と平行な電界、いわゆる横電界が発生する。また、本実施形態では、共通電極28の電極線状部38と画素電極25とが平面視で重なり合う位置関係になっているので、スリット37と電極線状部38との境界部分において基板に対して垂直方向の電界(いわゆる横斜め電界、放物線電界等と呼ばれる電界)が発生する。このような基板垂直方向の電界が発生する領域が、いわゆるフリンジフィールドと呼ばれている。正の誘電異方性を有する液晶の液晶分子4aはその長軸が電界方向と同じ方向を向くように、基板と平行な平面内で旋回移動して配向が変化する。   FIG. 7A shows a black display state in which an off voltage is applied between the pixel electrode 25 and the common electrode 28. When this off voltage is applied, the liquid crystal molecules 4a are in an initial alignment state in which the major axis is parallel to the rubbing direction R1. When a predetermined ON voltage is applied between the pixel electrode 25 and the common electrode 28 and a white display state is obtained, the extending direction of the slit 37 (therefore, the extending direction of the electrode linear portion 38 in FIG. 7B). An electric field parallel to the substrate, that is, a so-called transverse electric field is generated in a direction perpendicular to the substrate. In the present embodiment, since the electrode linear portion 38 of the common electrode 28 and the pixel electrode 25 are in a positional relationship overlapping in plan view, the boundary portion between the slit 37 and the electrode linear portion 38 is relative to the substrate. Thus, a vertical electric field (a so-called lateral oblique electric field, a parabolic electric field or the like) is generated. Such a region where an electric field in the direction perpendicular to the substrate is generated is called a so-called fringe field. The orientation of the liquid crystal molecules 4a of the liquid crystal having positive dielectric anisotropy changes by rotating in a plane parallel to the substrate so that the major axis thereof is in the same direction as the electric field direction.

以上に説明した本実施形態の液晶装置によれば、図2において照明装置13から液晶パネル12へ供給された面状の光は第1偏光板22によって偏光された状態で液晶層4へ供給される。そして、図1の駆動用IC31からの走査信号とデータ信号とによって図2の液晶層4に印加する電圧をサブ画素Pごとに制御することにより、液晶層4内の液晶分子4aの配向をサブ画素Pごとに制御し、液晶層4を通過する照明装置13からの光をサブ画素Pごとに変調する。こうして変調された光が第2偏光板33へ供給され、第2偏光板33で吸収されずに当該偏光板を透過した偏光によって図1の表示領域V内に画像が表示される。こうして透過型の表示が行われる。   According to the liquid crystal device of the present embodiment described above, the planar light supplied from the illumination device 13 to the liquid crystal panel 12 in FIG. 2 is supplied to the liquid crystal layer 4 while being polarized by the first polarizing plate 22. The Then, the voltage applied to the liquid crystal layer 4 in FIG. 2 is controlled for each sub-pixel P by the scanning signal and the data signal from the driving IC 31 in FIG. Control is performed for each pixel P, and light from the illumination device 13 that passes through the liquid crystal layer 4 is modulated for each sub-pixel P. The light thus modulated is supplied to the second polarizing plate 33, and an image is displayed in the display region V of FIG. 1 by the polarized light that has passed through the polarizing plate without being absorbed by the second polarizing plate 33. In this way, transmissive display is performed.

本実施形態の液晶装置は、図2に示すように、画素電極25と共通電極28の両電極が1つの基板である素子基板14上に設けられる構成の横電界型の液晶装置であるので、液晶分子は基板に対して平行な面内で配向制御される。このため、本実施形態の液晶装置によれば、TN型に代表される縦電界型の液晶装置に比べて、広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal device of the present embodiment is a lateral electric field type liquid crystal device having a configuration in which both the pixel electrode 25 and the common electrode 28 are provided on the element substrate 14 which is one substrate. The alignment of the liquid crystal molecules is controlled in a plane parallel to the substrate. Therefore, according to the liquid crystal device of the present embodiment, display with a wide viewing angle and high contrast can be realized as compared with a vertical electric field type liquid crystal device typified by a TN type.

さらに、本実施形態の液晶装置は、図4(a)及び図4(b)に示すように、共通電極28の電極線状部38が画素電極25に平面視で重なり合う構造のFFSモードの液晶装置であるので、電極線状部38の直上領域にも十分な電界を形成することができる。このため、電極線状部38の直上領域に十分な電界を形成することができないIPSモードに比べて、本実施形態の液晶装置は、より一層広視野角で、より一層高透過率の表示を実現できる。   Further, as shown in FIGS. 4A and 4B, the liquid crystal device according to the present embodiment is an FFS mode liquid crystal having a structure in which the electrode linear portion 38 of the common electrode 28 overlaps the pixel electrode 25 in plan view. Since it is a device, a sufficient electric field can be formed also in the region immediately above the electrode linear portion 38. For this reason, compared with the IPS mode in which a sufficient electric field cannot be formed in the region immediately above the electrode linear portion 38, the liquid crystal device of this embodiment has a wider viewing angle and a higher transmittance. realizable.

本実施形態の液晶装置1によれば、TFD素子5をスイッチング素子として用いてFFSモードの動作モードを実現できる。従来、スイッチング素子としてTFT素子に代表される3端子型スイッチング素子を用いる液晶装置が知られているが、3端子型スイッチング素子を用いた液晶装置は構成が複雑であり、その製造にあたって多くの工数を必要とし、コストアップは避けられない。これに対し、スイッチング素子としてTFD素子を用いた本実施形態の液晶装置1は少ない工数で容易に低コストで製造できる。   According to the liquid crystal device 1 of the present embodiment, an FFS mode operation mode can be realized using the TFD element 5 as a switching element. Conventionally, a liquid crystal device using a three-terminal switching element typified by a TFT element as a switching element is known. However, a liquid crystal device using a three-terminal switching element has a complicated configuration, and requires a lot of man-hours for manufacturing the liquid crystal device. Cost is inevitable. On the other hand, the liquid crystal device 1 of this embodiment using a TFD element as a switching element can be easily manufactured at a low cost with a small number of man-hours.

このように本実施形態の液晶装置1は低コストで簡単に製造できるにも関らず、その動作モードはFFSモード(すなわち、基板と平行な電界、いわゆる横電界によって液晶分子の配向を制御するモード)であるので、TNモードに代表される縦電界モードの場合に比べて、広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   As described above, although the liquid crystal device 1 of the present embodiment can be easily manufactured at low cost, the operation mode is the FFS mode (that is, the alignment of liquid crystal molecules is controlled by an electric field parallel to the substrate, that is, a so-called lateral electric field). Mode), display with a wider viewing angle and higher contrast can be realized as compared to the vertical electric field mode represented by the TN mode.

本実施形態では、図1に示すように、帯状電極である共通電極28内にスリット37及び電極線状部38が形成され、これらのスリット37及び電極線状部38と、対向する画素電極25との協働により、基板と平行な電界及びフリンジフィールド領域に形成される斜め電界が形成される。本実施形態では、スリット37及び電極線状部38を個々の画素電極25に対応する領域(従って、個々のサブ画素Pに対応する領域)ごとに形成している。しかしながらこの構成に代えて、スリット37及び電極線状部38を複数のサブ画素Pにわたって連続状態で形成することも可能である。本実施形態ではスリット37がサブ画素Pの短手方向(行方向X)に長いスリットとして形成したが、このスリット37を列方向Yに長いスリットとして形成することもできる。この場合には、ラビング方向も列方向Yに沿った方向となる。このように共通電極28内に列方向Yに沿って長いスリットを形成する場合には、1本のスリットを複数のサブ画素Pにわたって形成することもできる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 1, slits 37 and electrode linear portions 38 are formed in a common electrode 28 that is a strip electrode, and the pixel electrodes 25 facing the slits 37 and the electrode linear portions 38. In cooperation with, an electric field parallel to the substrate and an oblique electric field formed in the fringe field region are formed. In the present embodiment, the slit 37 and the electrode linear portion 38 are formed for each region corresponding to each pixel electrode 25 (accordingly, a region corresponding to each sub-pixel P). However, instead of this configuration, the slit 37 and the electrode linear portion 38 can be formed continuously over a plurality of subpixels P. In this embodiment, the slit 37 is formed as a slit that is long in the short direction (row direction X) of the sub-pixel P. However, the slit 37 may be formed as a slit that is long in the column direction Y. In this case, the rubbing direction is also a direction along the column direction Y. Thus, when a long slit is formed in the common electrode 28 along the column direction Y, one slit can be formed over a plurality of subpixels P.

スリット37及び電極線状部38を個々のサブ画素Pごとに形成する場合には、共通電極28の面積を大きく確保できるので、その共通電極28の配線抵抗を低く維持できる。一方、スリット37及び電極線状部38を複数のサブ画素Pにわたって連続して形成する場合には、スリット37及び電極線状部38のパターニングを容易にできる。   When the slit 37 and the electrode linear portion 38 are formed for each sub-pixel P, a large area of the common electrode 28 can be secured, so that the wiring resistance of the common electrode 28 can be kept low. On the other hand, when the slit 37 and the electrode linear portion 38 are formed continuously over the plurality of subpixels P, the patterning of the slit 37 and the electrode linear portion 38 can be facilitated.

本実施形態では、図1に示すように、走査線2へ走査信号を伝送する引回し配線であるコモンライン27が第1基板21の面上で表示領域Vの両側の側方領域に分けて設けられている。この配線構成により、複数の島状の画素電極25、複数の帯状の共通電極28、複数の走査線2、及び複数のコモンライン27を第1基板21上の狭い領域内に効率的に配置できる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the common line 27, which is a lead wiring that transmits a scanning signal to the scanning line 2, is divided into side regions on both sides of the display region V on the surface of the first substrate 21. Is provided. With this wiring configuration, the plurality of island-like pixel electrodes 25, the plurality of strip-like common electrodes 28, the plurality of scanning lines 2, and the plurality of common lines 27 can be efficiently arranged in a narrow region on the first substrate 21. .

本実施形態では、図2の液晶層4を形成する液晶として、正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いた。この正の誘電異方性のネマチック液晶に代えて、負の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いることもできる。どちらの液晶を用いる場合でも、ラビング方向を適切に選定することにより、FFSモードのための液晶分子の適正な初期配向を得ることができる。一般には、適正なラビング方向は両者間で90°異なっている。   In the present embodiment, nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy is used as the liquid crystal forming the liquid crystal layer 4 of FIG. Instead of the nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy, nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy may be used. Regardless of which liquid crystal is used, appropriate initial alignment of liquid crystal molecules for the FFS mode can be obtained by appropriately selecting the rubbing direction. In general, the proper rubbing direction differs by 90 ° between the two.

次に、横クロストークについて考える。図9(a)は液晶装置1を模式的に示している。符号2は走査線、符号27はコモンライン、符号3はデータ線、符号28はデータ線として機能する帯状の共通電極を示している。図9(b)は1本の走査線2の等価回路を示している。走査線2とデータ線3の間に存在する液晶層は両電極間の容量Cとして作用する。つまり、電気的には、走査線1ラインについて、走査線2とデータ線3との間に1ラインの画素数分の容量Cが並列接続された状態となっている。そして、走査線2及びコモンライン27の抵抗Rがこれらの容量に直列に接続された状態となっている。   Next, consider horizontal crosstalk. FIG. 9A schematically shows the liquid crystal device 1. Reference numeral 2 indicates a scanning line, reference numeral 27 indicates a common line, reference numeral 3 indicates a data line, and reference numeral 28 indicates a strip-shaped common electrode that functions as a data line. FIG. 9B shows an equivalent circuit of one scanning line 2. The liquid crystal layer existing between the scanning line 2 and the data line 3 acts as a capacitance C between both electrodes. That is, in terms of one scanning line, the capacitance C corresponding to the number of pixels of one line is connected in parallel between the scanning line 2 and the data line 3. The resistance R of the scanning line 2 and the common line 27 is connected in series to these capacitors.

表示が行われる際、走査線2には走査信号が供給され、データ線3にはデータ信号が供給される。各サブ画素は走査信号とデータ信号が合成されて成る合成電圧パルスによって駆動される。このときの駆動パルス波形は、一般に、抵抗Rと容量Cとの合成量によって決まる変動波形成分を含んでいる。この変動波形成分は、1本の走査線上の複数のサブ画素に印加される合成電圧の階調値に応じて変化する。例えば、今、図10(a)において、液晶装置1の表示領域内の領域A及び領域Cに対して同一階調のグレー信号を与え、領域Bに白信号を与える場合を考える。   When display is performed, a scanning signal is supplied to the scanning line 2 and a data signal is supplied to the data line 3. Each sub-pixel is driven by a combined voltage pulse formed by combining a scanning signal and a data signal. The drive pulse waveform at this time generally includes a fluctuation waveform component determined by the combined amount of the resistor R and the capacitor C. This fluctuation waveform component changes according to the gradation value of the composite voltage applied to a plurality of sub-pixels on one scanning line. For example, in FIG. 10A, consider a case where a gray signal of the same gradation is given to the area A and the area C in the display area of the liquid crystal device 1 and a white signal is given to the area B.

この場合、領域A内の走査線Mには特定のグレー階調値が集中する。そして、領域B及び領域Cを通る走査線Nには特定のグレー階調値と白階調値の信号が与えられる。このとき、個々のサブ画素に印加される合成電圧パルスに含まれる変動波形成分は、走査線Mと走査線Nとで異なった値になる。この結果、領域Aと領域Cに同じ階調値の合成電圧を印加しても、得られる階調表示レベルが異なってしまうという現象が生じる。この現象が横クロストークである。例えば、図10(a)に示すように本来であれば同じ階調のグレーが表示されなければならない領域Aと領域Cとで、図10(b)に示すように異なる階調表示、例えば領域Cがより暗い階調表示、となってしまうことがある。このような横クロストークの程度は、走査線の抵抗値Rが大きい程、顕著に現れる。   In this case, specific gray gradation values are concentrated on the scanning line M in the region A. The scanning line N passing through the region B and the region C is given a specific gray tone value and white tone value signal. At this time, the fluctuation waveform component included in the combined voltage pulse applied to each sub-pixel has different values for the scanning line M and the scanning line N. As a result, even if a composite voltage having the same gradation value is applied to the region A and the region C, a phenomenon occurs in which the obtained gradation display level is different. This phenomenon is lateral crosstalk. For example, as shown in FIG. 10 (a), different gradation display, for example, areas as shown in FIG. C may be a darker gradation display. The degree of such horizontal crosstalk becomes more prominent as the resistance value R of the scanning line increases.

図1に示した本実施形態の液晶装置1では、走査線2及びそれにつながるコモンライン27を導電性の金属材料であるCr又はその合金によって形成した。このため、走査線2の抵抗値は、これをITO等といった金属酸化物によって形成した場合に比べて非常に小さくなっている。つまり、本実施形態では、図9(b)における抵抗値Rが非常に小さくなっている。このため、上述した横クロストークが発生したとしても、その程度は非常に小さく抑えられ、実用上は全く支障がない程度となった。   In the liquid crystal device 1 of the present embodiment shown in FIG. 1, the scanning line 2 and the common line 27 connected to the scanning line 2 are formed of Cr, which is a conductive metal material, or an alloy thereof. For this reason, the resistance value of the scanning line 2 is very small compared to the case where it is formed of a metal oxide such as ITO. That is, in this embodiment, the resistance value R in FIG. 9B is very small. For this reason, even if the above-described lateral crosstalk occurs, the level is suppressed to a very small level, and there is no practical problem.

(電気光学装置の第2実施形態)
次に、本発明に係る電気光学装置の第2の実施形態を説明する。図11は、本発明に係る電気光学装置の第2の実施形態である液晶装置の観察側から見た平面図である。図11において、図1に示した液晶装置1と同じ構成要素は同じ符号を付して示すことにしてそれらについての説明は省略する。
(Second embodiment of electro-optical device)
Next, a second embodiment of the electro-optical device according to the invention will be described. FIG. 11 is a plan view seen from the observation side of the liquid crystal device which is the second embodiment of the electro-optical device according to the invention. In FIG. 11, the same constituent elements as those of the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図1に示した第1実施形態に係る液晶装置1では、素子基板14の構成要素である第1基板21上において、画素電極25につながる走査線2のそれぞれに導電接続する配線としての複数のコモンライン27を、表示領域Vの両側の側方領域に2つに分けて形成した。そして、走査線2は左右方向へ1本ずつ交互に張り出す形状にパターニングし、その張り出した部分にコモンライン27の先端がつながる構成とした。   In the liquid crystal device 1 according to the first embodiment shown in FIG. 1, a plurality of wirings that are conductively connected to each of the scanning lines 2 connected to the pixel electrode 25 on the first substrate 21 that is a component of the element substrate 14. The common line 27 was divided into two in the side regions on both sides of the display region V. Then, the scanning lines 2 are patterned so as to alternately protrude one by one in the left-right direction, and the tip of the common line 27 is connected to the protruding portion.

図11に示す本実施形態は、複数のコモンライン27を表示領域Vの両側の側方領域に2つに分けて形成することについては図1の実施形態の場合と同じである。異なるのは次の点である。すなわち、列方向Yに沿って互いに平行に並ぶ複数の走査線2を、駆動用IC31が実装された基板張出し部から遠く離れる領域に在るもののグループ(以下、第1グループという)と、基板張出し部に近い領域に在るもののグループ(以下、第2グループという)の2つにグループ分けし、第1グループの走査線2につながった複数のコモンライン27を表示領域Vの一方の片側(図の左方の片側)にまとめて形成し、第2グループの走査線2につながった複数のコモンライン27を表示領域Vの他方の片側(図の右方の片側)にまとめて形成した。   This embodiment shown in FIG. 11 is the same as the embodiment shown in FIG. 1 in that the plurality of common lines 27 are divided into two in the side regions on both sides of the display region V. The following points are different. That is, a plurality of scanning lines 2 arranged in parallel with each other along the column direction Y are separated from a group (hereinafter referred to as a first group) in a region far from the substrate overhanging portion on which the driving IC 31 is mounted, and the substrate overhang. One of the display regions V is divided into two groups (hereinafter, referred to as a second group) of those located in the region close to the part, and a plurality of common lines 27 connected to the scanning lines 2 of the first group are displayed on one side of the display region V (see FIG. A plurality of common lines 27 connected to the second group of scanning lines 2 are collectively formed on the other side of the display region V (right side in the drawing).

本実施形態によれば、走査線2とコモンライン27のパターンが簡単になり、パターン設計が行い易くなる。また、本実施形態においても、スイッチング素子は2端子型スイッチング素子であるTFD素子5によって形成され、液晶動作モードとしてはFFSモードが採用されている。従って、本実施形態の液晶装置41は、低コストで簡単に製造できるにも関らず、広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   According to this embodiment, the pattern of the scanning line 2 and the common line 27 is simplified, and the pattern design is facilitated. Also in this embodiment, the switching element is formed by the TFD element 5 that is a two-terminal switching element, and the FFS mode is adopted as the liquid crystal operation mode. Therefore, the liquid crystal device 41 of the present embodiment can realize a wide viewing angle and high contrast display although it can be easily manufactured at low cost.

(電気光学装置の第3実施形態)
次に、本発明に係る電気光学装置の第3の実施形態を説明する。図12は、本発明に係る電気光学装置の第3の実施形態である液晶装置の観察側から見た平面図である。図12において、図1に示した液晶装置1と同じ構成要素は同じ符号を付して示すことにしてそれらについての説明は省略する。
(Third embodiment of electro-optical device)
Next, a third embodiment of the electro-optical device according to the invention will be described. FIG. 12 is a plan view seen from the observation side of the liquid crystal device which is the third embodiment of the electro-optical device according to the invention. In FIG. 12, the same components as those of the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図1に示した第1実施形態に係る液晶装置1では、素子基板14の構成要素である第1基板21上において、画素電極25につながる走査線2のそれぞれにつながった配線としての複数のコモンライン27を、表示領域Vの両側の側方領域に2つに分けて形成した。そして、走査線2は左右方向へ交互に張り出す形状にパターニングし、その張り出した部分にコモンライン17の先端部がつながる構成とした。   In the liquid crystal device 1 according to the first embodiment shown in FIG. 1, a plurality of commons as wirings connected to the scanning lines 2 connected to the pixel electrodes 25 on the first substrate 21 that is a component of the element substrate 14. The line 27 was divided into two in the side regions on both sides of the display region V. The scanning lines 2 are patterned into a shape that alternately protrudes in the left-right direction, and the tip of the common line 17 is connected to the protruding portion.

これに対して図12に示す本実施形態では、複数の走査線2を表示領域Vに対して片方(図の左方)の外側領域へそれぞれに異なる長さで階段状に張り出す状態に形成している。そして、各走査線2につながった配線としての複数のコモンライン27を表示領域Vの片側(図の左側)の側方領域にまとめて形成している。各コモンライン27は対応する走査線2の位置に応じて長さが異なっている。   On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 12, the plurality of scanning lines 2 are formed in a state of projecting in a stepped manner with different lengths to one outer region (left side in the drawing) with respect to the display region V. is doing. A plurality of common lines 27 as wirings connected to each scanning line 2 are collectively formed in a side region on one side (left side in the drawing) of the display region V. Each common line 27 has a different length depending on the position of the corresponding scanning line 2.

本実施形態によれば、走査線2とコモンライン27のパターンが簡単になり、パターン設計が行い易くなる。また、本実施形態においても、スイッチング素子は2端子型スイッチング素子であるTFD素子5によって形成され、液晶動作モードとしてはFFSモードが採用されている。従って、本実施形態の液晶装置51は、低コストで簡単に製造できるにも関らず、広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   According to this embodiment, the pattern of the scanning line 2 and the common line 27 is simplified, and the pattern design is facilitated. Also in this embodiment, the switching element is formed by the TFD element 5 that is a two-terminal switching element, and the FFS mode is adopted as the liquid crystal operation mode. Therefore, the liquid crystal device 51 of the present embodiment can realize a wide viewing angle and high contrast display although it can be easily manufactured at low cost.

(電子機器の第1実施形態)
次に、本発明に係る電子機器の一実施形態を説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。図13は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、電気光学装置としての液晶装置101と、これを制御する制御回路102とを有する。液晶装置101は液晶パネル103及び駆動回路104を有する。また、制御回路102は、表示情報出力源105、表示情報処理回路106、電源回路107及びタイミングジェネレータ108によって構成される。
(First Embodiment of Electronic Device)
Next, an embodiment of an electronic device according to the present invention will be described. In addition, this embodiment shows an example of this invention and this invention is not limited to this embodiment. FIG. 13 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the invention. The electronic apparatus shown here includes a liquid crystal device 101 as an electro-optical device and a control circuit 102 that controls the liquid crystal device 101. The liquid crystal device 101 includes a liquid crystal panel 103 and a drive circuit 104. The control circuit 102 includes a display information output source 105, a display information processing circuit 106, a power supply circuit 107, and a timing generator 108.

表示情報出力源105は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ108により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路106に供給する。   The display information output source 105 includes a memory such as a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and various clock signals generated by the timing generator 108. The display information processing circuit 106 is supplied with display information such as a predetermined format image signal.

表示情報処理回路106は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路104へ供給する。ここで、駆動回路104は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路107は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。   The display information processing circuit 106 includes a number of well-known circuits such as an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like, executes processing of input display information, and converts an image signal into a clock signal CLK. At the same time, it is supplied to the drive circuit 104. Here, the drive circuit 104 is a generic term for an inspection circuit and the like together with a scanning line drive circuit and a data line drive circuit. The power supply circuit 107 supplies a predetermined power supply voltage to each of the above components.

液晶装置101は、例えば、図1に示した液晶装置1を用いて構成する。この液晶装置1によれば、TFD素子5をスイッチング素子として用いてFFSモードの動作モードを実現できる。スイッチング素子としてTFD素子を用いれば、液晶装置1を少ない工数で容易に低コストで製造できる。それにも関らず、液晶装置1はFFSモードの液晶装置であるので、電子機器の表示装置として好適である広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   The liquid crystal device 101 is configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in FIG. According to the liquid crystal device 1, an FFS mode operation mode can be realized by using the TFD element 5 as a switching element. If a TFD element is used as the switching element, the liquid crystal device 1 can be easily manufactured at a low cost with a small number of man-hours. Nevertheless, since the liquid crystal device 1 is an FFS mode liquid crystal device, it is possible to realize display with a wide viewing angle and high contrast that is suitable as a display device for electronic devices.

(電子機器の第2実施形態)
図14は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機110は、本体部111と、この本体部111に対して開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。表示体部112には表示装置113及び受話部114が設けられる。電話通信に関する各種表示は、表示装置113の表示画面115に表示される。表示装置113の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部111又は表示体部112の内部に格納される。本体部111には操作ボタン116及び送話部117が設けられる。
(Second Embodiment of Electronic Device)
FIG. 14 shows a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the invention. A cellular phone 110 shown here includes a main body 111 and a display body 112 that can be opened and closed with respect to the main body 111. The display unit 112 is provided with a display device 113 and a receiver 114. Various displays relating to telephone communication are displayed on the display screen 115 of the display device 113. A control unit for controlling the operation of the display device 113 is stored inside the main body unit 111 or the display body unit 112 as a part of the control unit that controls the entire mobile phone or separately from the control unit. The The main body 111 is provided with an operation button 116 and a transmitter 117.

表示装置113は、例えば、図1に示した液晶装置1を用いて構成する。この液晶装置1によれば、TFD素子5をスイッチング素子として用いてFFSモードの動作モードを実現できる。スイッチング素子としてTFD素子を用いれば、液晶装置1を少ない工数で容易に低コストで製造できる。それにも関らず、液晶装置1はFFSモードの液晶装置であるので、電子機器の表示装置として好適である広視野角及び高コントラストの表示を実現できる。   The display device 113 is configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in FIG. According to the liquid crystal device 1, an FFS mode operation mode can be realized by using the TFD element 5 as a switching element. If a TFD element is used as the switching element, the liquid crystal device 1 can be easily manufactured at a low cost with a small number of man-hours. Nevertheless, since the liquid crystal device 1 is an FFS mode liquid crystal device, it is possible to realize display with a wide viewing angle and high contrast that is suitable as a display device for electronic devices.

以上、好ましい実施形態を挙げて本発明の電子機器を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、本発明は、携帯電話機に限られず、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話装置、POS端末、デジタルスチルカメラ、電子ブック、等といった各種の電子機器に適用できる。
The electronic device of the present invention has been described with reference to the preferred embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
For example, the present invention is not limited to a mobile phone, but a personal computer, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone device, The present invention can be applied to various electronic devices such as a POS terminal, a digital still camera, and an electronic book.

本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置を示す平面断面図である。1 is a plan sectional view showing a liquid crystal device which is an embodiment of an electro-optical device according to the invention. 図1のZb−Zb線に従った液晶装置の行方向Xに沿った断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view along the row direction X of the liquid crystal device according to the Zb-Zb line of FIG. 1. 図1の液晶装置の電気的な等価回路を示す図である。It is a figure which shows the electrical equivalent circuit of the liquid crystal device of FIG. 図1の液晶装置のサブ画素及びその近傍の平面図であり、(a)は共通電極形成前の状態を示し、(b)は共通電極形成後の状態を示している。2A and 2B are plan views of a sub-pixel of the liquid crystal device of FIG. 1 and its vicinity, in which FIG. 1A shows a state before forming a common electrode, and FIG. 2B shows a state after forming the common electrode. TFD素子の一実施形態を示す図であり、(a)は平面図、(b)は断面図である。It is a figure which shows one Embodiment of a TFD element, (a) is a top view, (b) is sectional drawing. 図4(b)におけるZe線に従った電極構造の一部分の断面図である。It is sectional drawing of the part of electrode structure according to Ze line in FIG.4 (b). 液晶分子の配向状態を示す平面図であり、(a)はオフ電圧印加時の初期配向状態、(b)はオン電圧印加時の状態を示している。It is a top view which shows the orientation state of a liquid crystal molecule, (a) shows the initial orientation state at the time of off voltage application, (b) has shown the state at the time of on voltage application. ラビング方向及び偏光透過軸の光軸関係を図式的に示す図である。It is a figure which shows typically the optical axis relationship of a rubbing direction and a polarization transmission axis. 走査線とデータ線に関する等価回路を示す図である。It is a figure which shows the equivalent circuit regarding a scanning line and a data line. 横クロストークの一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows an example of a horizontal crosstalk typically. 本発明に係る電気光学装置の他の実施形態である液晶装置を示す平面断面図である。FIG. 6 is a plan sectional view showing a liquid crystal device which is another embodiment of the electro-optical device according to the invention. 本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態である液晶装置を示す平面断面図である。FIG. 6 is a plan sectional view showing a liquid crystal device which is still another embodiment of the electro-optical device according to the invention. 本発明に係る電子機器の一実施形態を示す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which shows one Embodiment of the electronic device which concerns on this invention. 本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mobile telephone which is other Embodiment of the electronic device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1.液晶装置(電気光学装置)、 2.走査線、 3.データ線、 4.液晶層、
4a.液晶分子、 5.TFD素子、 5a,5b.TFD要素、
12.液晶パネル、 13.照明装置、 14.素子基板、
15.カラーフィルタ基板、 17.シール材、 21.第1基板、
22.第1偏光板、 25.画素電極(第1電極)、 26.誘電体膜、
27.コモンライン(配線)、 28.共通電極(第2電極)、 29.第1配向膜、
31.駆動用IC、 32.第2基板、 33.第2偏光板、 34.着色膜、
35.遮光膜、 37.スリット(間隙)、 38.電極線状部、
39.オーバーコート層、 40.第2配向膜、 41.液晶装置(電気光学装置)
42.第1導電膜、 43.絶縁膜、 44a,44b.第2導電膜、
51.液晶装置(電気光学装置)、 101.液晶装置、 110.携帯電話機
222,233.偏光透過軸、 C.容量、 E.電界、 M,N.走査線、
P.サブ画素、 R1,R2.ラビング方向、 V.表示領域
1. 1. liquid crystal device (electro-optical device), 2. scanning lines; Data line, 4. Liquid crystal layer,
4a. Liquid crystal molecules; TFD element, 5a, 5b. TFD element,
12 Liquid crystal panel, 13. Lighting device, 14. Element substrate,
15. Color filter substrate, 17. 21. sealing material A first substrate,
22. First polarizing plate, 25. Pixel electrode (first electrode), 26. Dielectric film,
27. Common line (wiring), 28. Common electrode (second electrode), 29. A first alignment film,
31. Driving IC, 32. Second substrate, 33. Second polarizing plate, 34. Colored film,
35. Light shielding film, 37. Slit (gap), 38. Electrode linear part,
39. Overcoat layer, 40. Second alignment film, 41. Liquid crystal device (electro-optical device)
42. First conductive film, 43. Insulating films, 44a, 44b. A second conductive film,
51. 101. liquid crystal device (electro-optical device) Liquid crystal device, 110. Mobile phones 222, 233. Polarization transmission axis, C.I. Capacity, E.E. Electric field, M, N. Scan lines,
P. Sub-pixels R1, R2,. Rubbing direction, V. Indicated Area

Claims (18)

電気光学物質を支持する基板上に設けられており走査信号を伝送する走査線と、
前記基板上に設けられており前記走査線に導電接続したスイッチング素子と、
前記基板上に設けられており前記スイッチング素子に導電接続した島状の第1電極と、
前記第1電極及び前記スイッチング素子を覆って前記基板上に設けられた誘電体膜と、
前記誘電体膜上に設けられており、前記走査線に交差する方向に延在し、前記第1電極に平面視で対向する第2電極と、を有し、
前記スイッチング素子は、第1導電膜と、該第1導電膜上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた第2導電膜とを有する2端子型スイッチング素子であり、
前記第2電極は間隙を有して平行に並んだ複数の電極線状部を前記第1電極に対向する領域に有し、
前記第2電極はデータ信号を伝送するデータ線である
ことを特徴とする電気光学装置。
A scanning line provided on a substrate supporting an electro-optic material and transmitting a scanning signal;
A switching element provided on the substrate and conductively connected to the scanning line;
An island-shaped first electrode provided on the substrate and conductively connected to the switching element;
A dielectric film provided on the substrate to cover the first electrode and the switching element;
A second electrode provided on the dielectric film, extending in a direction crossing the scanning line, and facing the first electrode in plan view;
The switching element is a two-terminal switching element having a first conductive film, an insulating film provided on the first conductive film, and a second conductive film provided on the insulating film,
The second electrode has a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap in a region facing the first electrode,
The electro-optical device, wherein the second electrode is a data line for transmitting a data signal.
請求項1記載の電気光学装置において、前記第2電極の前記電極線状部の個々の一部分又は全部は平面視で前記第1電極に重なり合うことを特徴とする電気光学装置。   2. The electro-optical device according to claim 1, wherein each part or all of the electrode linear portions of the second electrode overlaps the first electrode in a plan view. 請求項1又は請求項2記載の電気光学装置において、前記第1電極は間隙及び開口を持たない面状電極であることを特徴とする電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the first electrode is a planar electrode having no gap and no opening. 請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記基板上に設けられた配向膜をさらに有し、該配向膜にはラビングが施され、該ラビングの方向と前記電極線状部の延在方向との成す角度をαとするとき、
5°≦α≦20°
であることを特徴とする電気光学装置。
4. The electro-optical device according to claim 1, further comprising an alignment film provided on the substrate, wherein the alignment film is rubbed, the rubbing direction and the rubbing direction When the angle formed by the extending direction of the electrode linear portion is α,
5 ° ≦ α ≦ 20 °
An electro-optical device characterized by the above.
請求項1から請求項4のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記走査線は導電性金属によって形成されていることを特徴とする電気光学装置。   5. The electro-optical device according to claim 1, wherein the scanning line is formed of a conductive metal. 6. 請求項1又は請求項2記載の電気光学装置において、前記走査線は前記スイッチング素子の第1導電膜又は第2導電膜と同じ材料によって形成されていることを特徴とする電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the scanning line is formed of the same material as the first conductive film or the second conductive film of the switching element. 請求項5又は請求項6記載の電気光学装置において、前記走査線はクロム、クロム合金、アルミニウム、及びアルミニウム合金から選択される1つ又はそれらの組合せによって形成されていることを特徴とする電気光学装置。   7. The electro-optical device according to claim 5, wherein the scanning line is formed of one or a combination selected from chromium, a chromium alloy, aluminum, and an aluminum alloy. apparatus. 請求項1から請求項7記載の電気光学装置において、
前記第1電極は前記基板上に複数設けられ、それらの第1電極は互いに直交する方向へそれぞれ列状に並んで設けられ、
前記第2電極は一方向に並んだ前記複数の島状電極と平面視で重なり合う帯状電極であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
A plurality of the first electrodes are provided on the substrate, and the first electrodes are provided in a row in a direction perpendicular to each other,
The electro-optical device, wherein the second electrode is a strip electrode that overlaps the plurality of island electrodes arranged in one direction in a plan view.
請求項8記載の電気光学装置において、前記第2電極が有する前記間隙及び前記電極線状部は、前記第1電極と前記第2電極とが平面視で重なり合うことによって形成された複数の島状のサブ画素ごとに形成されることを特徴とする電気光学装置。   9. The electro-optical device according to claim 8, wherein the gap and the electrode linear portion of the second electrode are a plurality of island shapes formed by overlapping the first electrode and the second electrode in a plan view. An electro-optical device formed for each sub-pixel. 請求項8記載の電気光学装置において、前記第2電極が有する前記間隙及び前記電極線状部は、前記第1電極と前記第2電極とが平面視で重なり合うことによって形成された複数の島状のサブ画素にわたって連続して形成されることを特徴とする電気光学装置。   9. The electro-optical device according to claim 8, wherein the gap and the electrode linear portion of the second electrode are a plurality of island shapes formed by overlapping the first electrode and the second electrode in a plan view. The electro-optical device is formed continuously over the sub-pixels. 請求項9又は請求項10記載の電気光学装置において、
前記複数の島状のサブ画素は互いに直交する方向へそれぞれ列状に並んで配列されて表示領域を形成し、
前記表示領域内にある前記第2電極は透光性を有する金属酸化物によって形成され、
前記表示領域の外側にある第2電極は導電性金属を含んで形成される
ことを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 9 or 10,
The plurality of island-shaped sub-pixels are arranged in a row in a direction orthogonal to each other to form a display area,
The second electrode in the display region is formed of a light-transmitting metal oxide,
The electro-optical device, wherein the second electrode outside the display region includes a conductive metal.
請求項11記載の電気光学装置において、
前記基板上に設けられており前記走査線に導電接続した配線をさらに有し、
前記配線は平面視で前記表示領域の両側の側方領域に分けて設けられる
ことを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 11.
A wiring provided on the substrate and conductively connected to the scanning line;
The electro-optical device according to claim 1, wherein the wiring is provided separately in a side region on both sides of the display region in a plan view.
請求項11記載の電気光学装置において、
前記基板上に設けられており前記走査線に導電接続した配線をさらに有し、
前記配線は平面視で前記表示領域の片側の側方領域にまとめて設けられる
ことを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 11.
A wiring provided on the substrate and conductively connected to the scanning line;
The electro-optical device, wherein the wirings are collectively provided in a side region on one side of the display region in a plan view.
請求項12又は請求項13記載の電気光学装置において、前記配線は前記走査線と同じ材料によって、又は同じ材料を含んで形成されていることを特徴とする電気光学装置。   14. The electro-optical device according to claim 12, wherein the wiring is formed of the same material as or including the same material as the scanning line. 電気光学物質の層を介在させて互いに対向する第1基板及び第2基板と、
前記第1基板上に設けられた走査線と、
前記第1基板上に設けられており前記走査線に導電接続したスイッチング素子と、
前記第1基板上に設けられており前記スイッチング素子に導電接続した島状の第1電極と、
前記第1電極及び前記スイッチング素子を覆って前記第1基板上に設けられた誘電体膜と、
前記誘電体膜上に設けられており前記第1電極に対向する第2電極と、
前記第1基板上に設けられた第1配向膜及び第1偏光層と、
前記第2基板上に設けられた第2配向膜及び第2偏光層と、を有し、
前記スイッチング素子は、第1導電膜と、該第1導電膜上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた第2導電膜とを有する2端子型スイッチング素子であり、
前記第2電極は間隙を有して平行に並んだ複数の電極線状部を前記第1電極に対向する領域に有し、
前記第1配向膜にはラビングが施され、該ラビングの方向と前記電極線状部の延在方向との成す角度をαとするとき、
5°≦α≦20°
であり、
前記第1偏光層の偏光透過軸の延在方向は前記第1配向膜に施されるラビングの方向と平行であり、
前記第2配向膜に施されるラビングの方向は前記第1基板側のラビングの方向に対して逆平行であり、
前記第2偏光層の偏光透過軸の延在方向は前記第1偏光層の偏光透過軸の延在方向に直交する
ことを特徴とする電気光学装置。
A first substrate and a second substrate facing each other with a layer of electro-optic material interposed therebetween;
A scanning line provided on the first substrate;
A switching element provided on the first substrate and conductively connected to the scanning line;
An island-shaped first electrode provided on the first substrate and conductively connected to the switching element;
A dielectric film provided on the first substrate so as to cover the first electrode and the switching element;
A second electrode provided on the dielectric film and facing the first electrode;
A first alignment layer and a first polarizing layer provided on the first substrate;
A second alignment film and a second polarizing layer provided on the second substrate,
The switching element is a two-terminal switching element having a first conductive film, an insulating film provided on the first conductive film, and a second conductive film provided on the insulating film,
The second electrode has a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap in a region facing the first electrode,
The first alignment film is rubbed, and when the angle formed between the rubbing direction and the extending direction of the electrode linear portion is α,
5 ° ≦ α ≦ 20 °
And
The direction of extension of the polarization transmission axis of the first polarizing layer is parallel to the direction of rubbing applied to the first alignment film,
The rubbing direction applied to the second alignment layer is antiparallel to the rubbing direction on the first substrate side,
An electro-optical device, wherein an extension direction of a polarization transmission axis of the second polarization layer is orthogonal to an extension direction of a polarization transmission axis of the first polarization layer.
請求項1から請求項15のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記電気光学物質は正の誘電異方性を有するネマチック液晶であることを特徴とする電気光学装置。   16. The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical material is a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy. 液晶層を支持する基板上に設けられており走査信号を伝送する走査線と、
前記基板上に設けられており前記走査線に導電接続したスイッチング素子と、
前記基板上に設けられており前記スイッチング素子に導電接続した島状の第1電極と、
前記第1電極及び前記スイッチング素子を覆って前記基板上に設けられた誘電体膜と、
前記誘電体膜上に設けられており、前記走査線に交差する方向に延在し、前記第1電極に平面視で対向する透光性を有する帯状の第2電極と、
前記第2電極の外側の領域に設けられ、該第2電極と略平行に延在し、前記走査線と導電接続した配線と、を有し、
前記スイッチング素子は、第1導電膜と、該第1導電膜上に設けられた絶縁膜と、該絶縁膜上に設けられた第2導電膜とを有する2端子型スイッチング素子であり、
前記第2電極は間隙を有して平行に並んだ複数の電極線状部を前記第1電極に対向する領域に有し、
前記第2電極はデータ信号を伝送するデータ線であり、
前記走査線及び前記配線は導電性金属によって形成され、
前記第2電極は透光性を有する金属酸化物によって形成された
ことを特徴とする電気光学装置。
A scanning line that is provided on a substrate supporting the liquid crystal layer and transmits a scanning signal;
A switching element provided on the substrate and conductively connected to the scanning line;
An island-shaped first electrode provided on the substrate and conductively connected to the switching element;
A dielectric film provided on the substrate to cover the first electrode and the switching element;
A band-shaped second electrode provided on the dielectric film, extending in a direction intersecting with the scanning line, and having a translucency facing the first electrode in plan view;
A wiring provided in a region outside the second electrode, extending substantially parallel to the second electrode, and electrically connected to the scanning line;
The switching element is a two-terminal switching element having a first conductive film, an insulating film provided on the first conductive film, and a second conductive film provided on the insulating film,
The second electrode has a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap in a region facing the first electrode,
The second electrode is a data line for transmitting a data signal;
The scanning line and the wiring are formed of a conductive metal,
The electro-optical device, wherein the second electrode is formed of a light-transmitting metal oxide.
請求項1から請求項17のいずれか1つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
JP2007078387A 2007-03-26 2007-03-26 Electrooptical device and electronic equipment Withdrawn JP2008241802A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007078387A JP2008241802A (en) 2007-03-26 2007-03-26 Electrooptical device and electronic equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007078387A JP2008241802A (en) 2007-03-26 2007-03-26 Electrooptical device and electronic equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008241802A true JP2008241802A (en) 2008-10-09

Family

ID=39913285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007078387A Withdrawn JP2008241802A (en) 2007-03-26 2007-03-26 Electrooptical device and electronic equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008241802A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4572854B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP4717672B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP4434166B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
US7688408B2 (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
USRE45188E1 (en) Electric field driving device and electronic apparatus
JP2007226175A (en) Liquid crystal device and electronic equipment
US8068202B2 (en) Liquid crystal device
KR100962892B1 (en) Liquid crystal device
US7483099B2 (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
JP2007226200A (en) Liquid crystal device, and electronic device
JP4428330B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2011128265A (en) Display device
JP5177984B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP4534411B2 (en) Transflective liquid crystal device and electronic device using the same
JP4470973B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP2007086506A (en) Electrooptical device and electronic equipment
JP2004258365A (en) Electrooptical device and electronic apparatus using it
JP2008233142A (en) Electro-optical device, manufacturing method thereof, and electronic equipment
JP4042725B2 (en) Electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus
JP2008241802A (en) Electrooptical device and electronic equipment
JP4305551B2 (en) Transflective liquid crystal device and electronic device using the same
JP4946520B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP2007065602A (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
JP2007226199A (en) Liquid crystal device, and electronic equipment
JP4552780B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100601