JP2008227518A - Circuit board for high-frequency signal - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、高周波信号を伝達するための高周波信号用回路基板に関するものであり、特に、再配線を有する半導体装置に好適な高周波信号用回路基板に関する。 The present invention relates to a high-frequency signal circuit board for transmitting a high-frequency signal, and more particularly to a high-frequency signal circuit board suitable for a semiconductor device having rewiring.
例えばCSP(chip size package)と呼ばれる半導体装置には、一例として、半導体基板上に設けられた絶縁膜上に再配線が設けられ、再配線の先端パッド部上にバンプ電極(ポスト)が設けられた構造のものがある。このような半導体装置では、バンプ電極を回路基板上に設けられた接続端子に直接ボンディングすることが可能であり、実装面積がチップサイズの高密度実装を実現することができる。ところで、最近では、上記構成の半導体装置を備えた携帯電話等の電子機器において、ブルートゥース等の送受信信号回路を内蔵するようになっている。このような携帯型電子機器では、高周波が伝送される高周波回路における減衰を低減するために、高周波配線を有する配線基板を半導体装置の上面に密着して配置したものがある(例えば、特許文献1参照)。 For example, in a semiconductor device called CSP (chip size package), as an example, a rewiring is provided on an insulating film provided on a semiconductor substrate, and a bump electrode (post) is provided on a tip pad portion of the rewiring. There are things with different structures. In such a semiconductor device, bump electrodes can be directly bonded to connection terminals provided on a circuit board, and high-density mounting with a mounting area of a chip size can be realized. Recently, electronic devices such as mobile phones equipped with the semiconductor device having the above configuration have built-in transmission / reception signal circuits such as Bluetooth. In such portable electronic devices, there is one in which a wiring board having high-frequency wiring is disposed in close contact with the upper surface of a semiconductor device in order to reduce attenuation in a high-frequency circuit in which high-frequency is transmitted (for example, Patent Document 1). reference).
しかしながら、上記のような構成では、配線基板と半導体装置の一体化のため、複雑な多数の工程が必要とされるばかりでなく、半導体装置に伝送された高周波信号の減衰も大きい。
そこで、この発明は、高周波信号の減衰を抑制することができる高周波信号用回路基板を提供することを目的とする。
However, in the configuration as described above, since the wiring substrate and the semiconductor device are integrated, not only a number of complicated processes are required, but also the attenuation of the high frequency signal transmitted to the semiconductor device is large.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-frequency signal circuit board capable of suppressing attenuation of a high-frequency signal.
請求項1に記載の発明は、基板上に高周波信号を伝達するための高周波信号配線が設けられ、該高周波信号配線の端部にポストが形成され、該高周波信号配線の途中に、高周波信号の減衰を抑制するための、前記高周波信号配線よりも幅広とされたダミーパッド部が設けられ、前記ダミーパッド部上にダミーポストが設けられていることを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記高周波信号配線には、5GHz以上の高周波信号が伝達されることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記ダミーポストと前記ポストとは同一の高さを有することを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記ダミーパッド部は、1つの前記高周波信号配線上に、所定の間隔で、複数個設けられていることを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記高周波信号配線の配置面上に前記高周波信号配線に沿ってグラウンドパターンが設けられていることを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記グラウンドパターンは前記高周波信号配線の両側に設けられていることを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の発明において、前記ダミーパッド部上にダミーポストが形成されていることを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、前記高周波信号配線には、5GHz〜25GHzの高周波信号が伝達されることを特徴とするものである。
請求項9に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記高周波信号配線は屈曲部を有し、前記ダミーパッド部は前記屈曲部に設けられていることを特徴とするものである。
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の発明において、前記高周波信号配線には、5GHz〜27GHzの高周波信号が伝達されることを特徴とするものである。
請求項11に記載の発明は、請求項9に記載の発明において、前記ダミーパッド部は、前記屈曲部のほぼ中心に位置することを特徴とするものである。
請求項12に記載の発明は、請求項9に記載の発明において、前記ダミーパッド部は、前記屈曲部の内側に位置することを特徴とするものである。
請求項13に記載の発明は、請求項12に記載の発明において、前記高周波信号配線には、19GHz〜23GHzの高周波信号が伝達されることを特徴とするものである。
According to the first aspect of the present invention, a high-frequency signal wiring for transmitting a high-frequency signal is provided on a substrate, a post is formed at an end of the high-frequency signal wiring, and a high-frequency signal is placed in the middle of the high-frequency signal wiring. In order to suppress attenuation, a dummy pad portion that is wider than the high-frequency signal wiring is provided, and a dummy post is provided on the dummy pad portion.
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, a high frequency signal of 5 GHz or more is transmitted to the high frequency signal wiring.
The invention according to
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, a plurality of the dummy pad portions are provided on the one high-frequency signal wiring at a predetermined interval. It is.
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, a ground pattern is provided along the high-frequency signal wiring on the arrangement surface of the high-frequency signal wiring.
According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, the ground pattern is provided on both sides of the high-frequency signal wiring.
The invention according to
The invention according to
The invention according to
A tenth aspect of the invention is characterized in that, in the ninth aspect of the invention, a high frequency signal of 5 GHz to 27 GHz is transmitted to the high frequency signal wiring.
The invention according to
The invention according to
The invention according to claim 13 is the invention according to
この発明によれば、高周波信号を伝達するための高周波信号配線の途中に、高周波信号の減衰を抑制するためのダミーパッド部を設け、該ダミーパッド部上にダミーポストを設けているので、高周波信号配線が幅狭であっても、高周波信号の減衰を抑制することができる。 According to the present invention, the dummy pad portion for suppressing the attenuation of the high frequency signal is provided in the middle of the high frequency signal wiring for transmitting the high frequency signal, and the dummy post is provided on the dummy pad portion. Even if the signal wiring is narrow, attenuation of the high-frequency signal can be suppressed.
図1(A)はこの発明の一実施形態としての半導体装置の要部の透過平面図を示し、図1(B)は図1(A)のB−B線に沿う一部の断面図を示したものである。この半導体装置は平面正方形状のシリコン基板(半導体基板)1を備えている。シリコン基板1の上面周辺部にはアルミニウムからなる複数の接続パッド2が設けられている。接続パッド2の中央部を除くシリコン基板1の上面には酸化シリコンからなる酸化膜3およびポリイミドからなる保護膜4が設けられている。接続パッド2の中央部は、酸化膜3および保護膜4に設けられた開口部5を介して露出されている。
FIG. 1A is a transparent plan view of a main part of a semiconductor device as one embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view taken along line BB in FIG. It is shown. This semiconductor device includes a silicon substrate (semiconductor substrate) 1 having a planar square shape. A plurality of
開口部5を介して露出された接続パッド2の上面から保護膜4の上面の所定の箇所にかけて銅からなる第1〜第3の再配線6、7、8が設けられている。この場合、第1の再配線(高周波信号配線)6は、例えば、ブルートゥース等に組み込まれた高周波処理回路に接続される送受信信号線であり、接続パッド2に接続された部分からなる正方形状の接続部6aと、円形状のダミーパッド部6bと、接続部6aとダミーパッド部6bとを接続する引き回し線6cと、円形状の外部接続用パッド部6dと、両パッド部6b、6dを接続する引き回し線6eとからなっている。
First to
第2の再配線7は、グラウンド線であり、2つの接続パッド2に接続された部分からなる正方形状の接続部7aと、両接続部7aを接続し、第1の再配線6を囲むように配置された引き回し線7bとからなっている。第3の再配線8は、送受信配線以外の回路用配線であり、接続パッド2に接続された部分からなる正方形状の接続部8aと、円形状の先端パッド部8bと、接続部8aと外部接続用パッド部8bとを接続する引き回し線8cとからなっている。
The second rewiring 7 is a ground line, and connects the
なお、上記において、第1の再配線6を送受信信号線として、1本のみ図示してあるが、送信信号線および受信信号線を別々に形成したものでもよく、その場合、第1の再配線6は、それぞれ、グラウンド線である第2の再配線7によって囲まれた領域に配置される。 In the above description, only one transmission / reception signal line is shown as the first rewiring 6; however, the transmission signal line and the reception signal line may be formed separately. 6 are respectively arranged in regions surrounded by the second rewiring 7 that is a ground line.
第1の再配線6の外部接続用パッド部6dの上面には銅等からなる円柱形状のポスト9が設けられている。第1の再配線6のダミーパッド部6bの上面には銅等からなるダミーポスト10が設けられている。第3の再配線8の外部接続用パッド部8bの上面には銅等からなる円柱形状のポスト11が設けられている。ポスト9、11およびダミーポスト10は、めっき等により同時に形成されるものであり、実質的に同一の高さを有する。また、ポスト9、11とダミーポスト10とは、同一の直径であっても、あるいは、異なる直径であってもよい。
A
ポスト9、11およびダミーポスト10を除いて再配線6、7、8を含む保護膜4の上面にはエポキシ系樹脂からなる封止膜12がその上面がポスト9、11およびダミーポスト10の上面とほぼ面一となるように設けられている。ここで、ダミーパッド部およびダミーポストなる用語は、本発明においては、当該回路の終端に位置し、他の回路に接続されることのないパッド部およびポストと定義付けされる。
Except for the
次に、ダミーパッド部6bおよびダミーポスト10の役目について、実験結果と併せて説明する。まず、第1の実験のために、図2(A)、(B)に示す半導体装置を用意した。この半導体装置は平面正方形状のシリコン基板21を備えている。シリコン基板21の上面には酸化シリコンからなる酸化膜22およびポリイミドからなる保護膜23が設けられている。
Next, the roles of the
保護膜23の上面の図2(A)において上下方向の中央部には銅からなる再配線24が左右方向に延びて設けられている。この場合、再配線24の中央部には円形状のダミーパッド部25が設けられている。再配線24の両端部には正方形状の接続端子26、27が設けられている。ダミーパッド部25の上面には銅からなる円柱形状のダミーポスト28が設けられている。
In FIG. 2A on the upper surface of the
保護膜23の上面において再配線24の幅方向両側には銅からなるグラウンド配線(グラウンドパターン)29、30が再配線24に沿って平行に設けられている。グラウンド配線29、30の各両端部において接続端子26、27と対向する側には、接続端子の一部となる突出部29a、30aが設けられている。
On the upper surface of the
ここで、再配線24は、図1に示す第1の再配線6に対応する。ダミーパッド部25は、図1に示すダミーパッド部6bに対応する。ダミーポスト28は、図1に示すダミーポスト10に対応する。グラウンド配線29、30は、図1に示す第2の再配線7に対応する。
Here, the rewiring 24 corresponds to the first rewiring 6 shown in FIG. The
次に、上記構成の半導体装置の寸法の一例について説明する。シリコン基板21の平面サイズは2400×2400μm、厚さは600μmである。酸化膜22の厚さは0.5μmである。保護膜23の厚さは6μmである。接続端子26、27およびダミーパッド部25を含む再配線24の厚さは5μmである。再配線24の幅は10μmである。ダミーパッド部25を含む再配線24の長さは1800μmである。接続端子26、27の平面サイズは170×170μmである。ダミーパッド部25およびダミーポスト28の直径は300μmである。ダミーポスト28の高さは100μmである。
Next, an example of the dimensions of the semiconductor device having the above configuration will be described. The planar size of the
グラウンド配線29、30の長さは2140μmである。グラウンド配線29、30の突出部29a、30aを除く部分の長さは1800μmである。したがって、突出部29a、30aの長さは、対向する接続端子26、27の一辺の長さと同じで170μmである。グラウンド配線29、30の突出部29a、30aを含む部分の幅は340μmである。突出部29a、30aと接続端子26、27との間隔は130μmである。
The length of the ground wirings 29 and 30 is 2140 μm. The length of the portion of the ground wirings 29, 30 excluding the protruding
次に、上記構成の半導体装置の高周波信号の透過特性S21について、ネットワークアナライザ等の測定器具を用いて調べた。この場合、接続端子26、27および突出部29a、30aの部分に測定用のプローブを接触させた。また、本発明の半導体装置は、ダミーパッド部25上にダミーポスト28を有するもの(以下、ポスト有りCSPという。)と、ダミーパッド部25は有するが、その上にダミーポスト28が形成されていないもの(以下、ポスト無しCSPという。)とを用意し、また、比較のために、図3に示すように、ダミーポスト28およびダミーパッド部25を有せず、再配線24のみを有する半導体装置(以下、再配線のみCSPという。)を用意した。
Next, the high frequency signal transmission characteristic S 21 of the semiconductor device having the above-described configuration was examined using a measuring instrument such as a network analyzer. In this case, the measurement probe was brought into contact with the
そして、各CSPの高周波信号の透過特性S21を測定したところ、図4に示す結果が得られた。図4において、実線はポスト有りCSPの透過特性S21を示し、点線はポスト無しCSPの透過特性S21を示し、一点鎖線は再配線のみCSPの透過特性S21を示す。 Then, measurement of the transmission characteristics S 21 of each CSP in the high-frequency signal, the result shown in FIG. 4 were obtained. 4, the solid line post there shows the transmission characteristic S 21 of CSP, the dotted line indicates the transmission characteristic S 21 without posts CSP, the dashed line shows the transmission characteristic S 21 of CSP only rewiring.
さて、図4から明らかなように、高周波信号の減衰量は、約5GHzまでは、一点鎖線で示す再配線のみCSPの方が実線で示すポスト有りCSPおよび点線で示すポスト無しCSPよりも小さいが、約5GHzを越えると、逆転し、実線で示すポスト有りCSPおよび点線で示すポスト無しCSPの方が一点鎖線で示す再配線のみCSPよりも小さくなる。したがって、約5GHz以上の周波数帯域では、ポスト有りCSPおよびポスト無しCSPでの高周波信号の減衰は再配線のみCSPの場合と比較して抑制することができる。 As is clear from FIG. 4, the attenuation amount of the high-frequency signal is smaller than the CSP with the post indicated by the solid line and the CSP without the post indicated by the dotted line only for the rewiring indicated by the alternate long and short dash line up to about 5 GHz. When the frequency exceeds approximately 5 GHz, the CSP with a post indicated by a solid line and the CSP without a post indicated by a dotted line are smaller than the CSP only in the rewiring indicated by a one-dot chain line. Therefore, in a frequency band of about 5 GHz or more, attenuation of the high-frequency signal in the post-attached CSP and post-postless CSP can be suppressed as compared with the case of the rewiring only CSP.
次に、実線で示すポスト有りCSPと点線で示すポスト無しCSPとについて見ると、高周波信号の減衰量は、約5GHz〜約25GHzの周波数帯域では、実線で示すポスト有りCSPの方が点線で示すポスト無しCSPよりもやや小さい。したがって、約5GHz〜約25GHzの周波数帯域では、ポスト有りCSPでの高周波信号の減衰はポスト無しCSPの場合と比較してやや抑制することができる。 Next, looking at the CSP with a post indicated by a solid line and the CSP without a post indicated by a dotted line, the attenuation amount of a high-frequency signal is indicated by a dotted line in a CSP with a post indicated by a solid line in a frequency band of about 5 GHz to about 25 GHz. Slightly smaller than postless CSP. Therefore, in the frequency band of about 5 GHz to about 25 GHz, the attenuation of the high frequency signal in the post CSP can be somewhat suppressed as compared with the case of the post CSP.
なお、上記第1の実験では、再配線24を直線としたが、次に、第2の実験として、再配線が屈曲部を有する場合について説明する。この場合、図5に示す半導体装置を用意した。この図5に示す半導体装置において、図1(A)に示す半導体装置と同一名称部分には同一の符号を付して説明する。なお、この半導体装置の断面形状は、基本的には、図1(B)に示す場合と同じである。
In the first experiment, the
この半導体装置では、再配線24の中央部はほぼ90°に折り曲げられ、その屈曲部となる部分に円形状のダミーパッド部25が設けられている。この場合、ダミーパッド部25の中心は、シリコン基板21の中心で、再配線24の屈曲部となる点に配置されている。したがって、ダミーパッド部25上に設けられた円柱形状のダミーポスト28の中心も、再配線24の屈曲部となる点に配置されている。2つのグラウンド配線29、30は、再配線24を囲むように設けられ、全体として、ほぼ正方形枠状に配置されている。
In this semiconductor device, the central portion of the
次に、上記構成の半導体装置の寸法の一例について説明する。シリコン基板21の平面サイズは2400×2400μmである。再配線24の幅は10μmである。接続端子26、27の平面サイズは170×170μmである。ダミーパッド部25およびダミーポスト28の直径は300μmである。ダミーポスト28の高さは100μmである。
Next, an example of the dimensions of the semiconductor device having the above configuration will be described. The planar size of the
グラウンド配線29、30の幅は、接続端子26、27の一辺の長さと同じで170μmである。一方のつまり図5の左上のグラウンド配線9の一辺の長さは、それぞれ、855μmである。他方のグラウンド配線10の長辺の長さは、それぞれ、1755μmであり、短辺の長さは、それぞれ、470μmである。グラウンド配線29、30と接続端子26、27との間隔は130μmである。接続端子26、27を除く各再配線24の長さは、屈曲部となる位置に形成された円形状のダミーパッド部25の中心まで、それぞれ、895μmである。
The width of the ground wirings 29 and 30 is 170 μm, which is the same as the length of one side of the
次に、上記構成の半導体装置の高周波信号の透過特性S21について、ネットワークアナライザ等の測定器具を用いて調べた。この場合、本発明の半導体装置は、ダミーパッド部25上にダミーポスト28を有するもの(以下、ポスト有りCSPという。)と、ダミーパッド部25は有するが、その上にダミーポスト28が形成されていないもの(以下、ポスト無しCSPという。)とを用意し、また、比較のために、図6に示すように、ダミーポスト28およびダミーパッド部25を有せず、再配線24のみを有する半導体装置(以下、再配線のみCSPという。)を用意した。
Next, the high frequency signal transmission characteristic S 21 of the semiconductor device having the above-described configuration was examined using a measuring instrument such as a network analyzer. In this case, the semiconductor device of the present invention has a
そして、各CSPの高周波信号の透過特性S21を測定したところ、図7に示す結果が得られた。図7において、実線はポスト有りCSPの透過特性S21を示し、点線はポスト無しCSPの透過特性S21を示し、一点鎖線は再配線のみCSPの透過特性S21を示す。 Then, measurement of the transmission characteristics S 21 of each CSP in the high-frequency signal, the result shown in FIG. 7 was obtained. 7, the solid line post there shows the transmission characteristic S 21 of CSP, the dotted line indicates the transmission characteristic S 21 without posts CSP, the dashed line shows the transmission characteristic S 21 of CSP only rewiring.
さて、図7から明らかなように、高周波信号の減衰量は、約5GHzまでと約27GHz以上とでは、一点鎖線で示す再配線のみCSPの方が実線で示すポスト有りCSPおよび点線で示すポスト無しCSPよりも小さいが、その間の周波数帯域では、逆転し、実線で示すポスト有りCSPおよび点線で示すポスト無しCSPの方が一点鎖線で示す再配線のみCSPよりも小さくなる。 As is clear from FIG. 7, the attenuation amount of the high-frequency signal is up to about 5 GHz and about 27 GHz or more, and only the rewiring indicated by the alternate long and short dash line has CSP with a post indicated by a solid line and no post indicated by a dotted line. Although smaller than the CSP, in the frequency band in the meantime, the CSP with the post indicated by the solid line and the CSP without the post indicated by the dotted line are smaller than the CSP only in the rewiring indicated by the alternate long and short dash line.
したがって、約5GHz〜約27GHzの周波数帯域では、ポスト有りCSPおよびポスト無しCSPでの高周波信号の減衰は再配線のみCSPの場合と比較して抑制することができる。この結果、図1において、ブルートゥースの送受信信号線としての第1の再配線6の幅が例えば10μm程度と極めて狭くても、高周波信号の減衰を抑制することができる。なお、約5GHz以下の周波数帯域では、再配線のみCSPが好ましいことは言うまでもない。
Therefore, in the frequency band of about 5 GHz to about 27 GHz, the attenuation of the high frequency signal in the post-attached CSP and post-postless CSP can be suppressed as compared with the case of the CSP with only rewiring. As a result, in FIG. 1, even if the width of the
次に、実線で示すポスト有りCSPと点線で示すポスト無しCSPとについて見ると、高周波信号の減衰量は、約5GHz〜約23GHzの周波数帯域では、実線で示すポスト有りCSPの方が点線で示すポスト無しCSPよりもやや小さい。したがって、約5GHz〜約23GHzの周波数帯域では、ポスト有りCSPでの高周波信号の減衰はポスト無しCSPの場合と比較してやや抑制することができる。 Next, looking at the CSP with a post indicated by a solid line and the CSP without a post indicated by a dotted line, the attenuation amount of a high-frequency signal is indicated by a dotted line in a CSP with a post indicated by a solid line in a frequency band of about 5 GHz to about 23 GHz. Slightly smaller than postless CSP. Therefore, in the frequency band of about 5 GHz to about 23 GHz, the attenuation of the high-frequency signal in the post-attached CSP can be somewhat suppressed as compared to the case of the post-postless CSP.
なお、上記第2の実験では、ダミーパッド部25の中心を再配線24の屈曲部となる点に配置した場合について説明したが、次に、第3の実験として、ダミーパッド部25を再配線24の屈曲部の内側および外側に配置した場合について説明する。この場合、図8(A)、(B)にそれぞれ示す半導体装置を用意した。すなわち、図8(A)に示す半導体装置では、ダミーパッド部25は再配線24の屈曲部の内側に配置され図8(B)に示す半導体装置では、ダミーパッド部25は再配線24の屈曲部の外側に配置されている。ただし、この場合、ダミーパッド部25のみを有し、その上にはポストは設けられていない。
In the second experiment, the case where the center of the
なお、ここでは、1つの高周波信号配線の2本の線分が交差する点を屈曲部とし、ダミーパッドの中心が前記屈曲部を中心とする2本の線分の交差角の小さい側に位置する場合を屈曲部の内側に位置するとし、前記屈曲部を中心とする2本の線分の交差角の大きい側に位置する場合を屈曲部の外側に位置するとする。 Here, a point where two line segments of one high-frequency signal wiring intersect is defined as a bent portion, and the center of the dummy pad is located on the side where the intersecting angle of the two line segments centering on the bent portion is small. The case where it is located is located inside the bent portion, and the case where it is located on the side where the crossing angle of the two line segments centering on the bent portion is large is located outside the bent portion.
次に、図8(A)、(B)にそれぞれ示す半導体装置の高周波信号の透過特性S21を測定したところ、図9に示す結果が得られた。図9において、実線は図8(A)に示す半導体装置(以下、パッド内側CSPという。)の透過特性S21を示し、一点鎖線は図8(B)に示す半導体装置(以下、パッド外側CSPという。)の透過特性S21を示す。この場合、図9に示す点線は、図5に示す場合において、ダミーパッド部25のみを有し、その上にポストが設けられていない半導体装置(以下、パッド中心CSPという。)の透過特性S21を示し、図7に示す点線と同じである。
Next, when the transmission characteristic S 21 of the high frequency signal of the semiconductor device shown in FIGS. 8A and 8B was measured, the result shown in FIG. 9 was obtained. In FIG. 9, the solid line indicates the transmission characteristic S 21 of the semiconductor device shown in FIG. 8A (hereinafter referred to as pad inner CSP), and the alternate long and short dash line indicates the semiconductor device shown in FIG. 8B (hereinafter referred to as pad outer CSP). The transmission characteristic S 21 of the above. In this case, the dotted line shown in FIG. 9 indicates the transmission characteristic S of the semiconductor device (hereinafter referred to as the pad center CSP) which has only the
さて、図9から明らかなように、約19GHzまでは、各CSPとも高周波信号がほぼ同じように減衰するが、約19GHzを越えると、実線で示すパッド内側CSPの高周波信号の減衰がほぼ一定となり、一点鎖線で示すパッド外側CSPの高周波信号の減衰が急激に大きくなり、点線で示すパッド中心CSPの高周波信号の減衰はその中間的な性質を示す。したがって、ダミーパッド部25は、再配線24の屈曲部の外側に配置するよりも、再配線24の屈曲部となる点または再配線24の屈曲部の内側に配置する方がより好ましい。
As is apparent from FIG. 9, the high-frequency signal attenuates in the same manner for each CSP up to about 19 GHz. However, when the frequency exceeds about 19 GHz, the attenuation of the high-frequency signal in the pad inner CSP indicated by the solid line becomes almost constant. The attenuation of the high-frequency signal at the pad outer side CSP indicated by the alternate long and short dash line increases rapidly, and the attenuation of the high-frequency signal at the pad center CSP indicated by the dotted line indicates an intermediate property. Therefore, it is more preferable that the
なお、上記実験では、図2に示すように、保護膜23上にグラウンド配線29、30を設けた場合について説明したが、次に、保護膜下にグラウンドプレーンを設けた場合について説明する。
In the above experiment, as shown in FIG. 2, the case where the ground wirings 29 and 30 are provided on the
まず、第4の実験のために、図10(A)、(B)に示す半導体装置を用意した。この半導体装置は平面正方形状のシリコン基板31を備えている。シリコン基板31の上面には酸化シリコンからなる酸化膜32、アルミニウムからなるグラウンドプレーン(グラウンドパターン)33およびポリイミドからなる保護膜34が設けられている。グラウンドプレーン33は、接続端子37、38の内側のシリコン基板31上にベタ状に形成されているか、接続端子37、38に対応する領域を除くシリコン基板31上全面にベタ状に形成されている。
First, a semiconductor device shown in FIGS. 10A and 10B was prepared for the fourth experiment. The semiconductor device includes a
保護膜34の上面の図10(A)において上下方向の中央部には銅からなる再配線35が左右方向に延びて設けられている。再配線35の中央部には円形状のダミーパッド部36が設けられている。再配線35の両端部には正方形状の接続端子37、38が設けられている。ダミーパッド部36の上面には銅からなる円柱形状のダミーポスト39が設けられている。
In FIG. 10A on the upper surface of the
保護膜34の上面において接続端子37、38の各上下方向両側には銅からなる長方形状の接続端子(グラウンド端子)40が再配線35と平行に設けられている。接続端子40は、保護膜34に設けられた円形状の開口部41を介してグラウンドプレーン33に接続されている。
On the upper surface of the
次に、上記構成の半導体装置の寸法の一例について説明する。シリコン基板31の平面サイズは2400×2400μm、厚さは600μmである。酸化膜32の厚さは0.5μmである。グラウンドプレーン33の厚さは1μmである。保護膜34の厚さは6μmである。接続端子37、38およびダミーパッド部36を含む再配線35の厚さは5μmである。再配線35の幅は10μmである。ダミーパッド部36を含む再配線35の長さは1800μmである。
Next, an example of the dimensions of the semiconductor device having the above configuration will be described. The planar size of the
接続端子37、38の平面サイズは170×170μmである。ダミーパッド部36およびダミーポスト39の直径は300μmである。ダミーポスト39の高さは100μmである。接続端子40の平面サイズは340×170μmである。接続端子40と接続端子37、38との間隔は130μmである。開口部41の直径は130μmである。
The planar size of the
次に、上記構成の半導体装置の高周波信号の透過特性S21について、ネットワークアナライザ等の測定器具を用いて調べた。この場合、接続端子37、38、40に測定用のプローブを接触させた。また、本発明の半導体装置は、ダミーパッド部25上にダミーポスト28を有するもの(以下、ポスト有りCSPという。)と、ダミーパッド部25は有するが、その上にダミーポスト28が形成されていないもの(以下、ポスト無しCSPという。)とを用意し、また、比較のために、図11に示すように、ダミーポスト39およびダミーパッド部36を有せず、再配線35のみを有する半導体装置(以下、再配線のみCSPという。)を用意した。
Next, the high frequency signal transmission characteristic S 21 of the semiconductor device having the above-described configuration was examined using a measuring instrument such as a network analyzer. In this case, the measurement probe was brought into contact with the
そして、各CSPの高周波信号の透過特性S21を測定したところ、図12に示す結果が得られた。図12において、実線はポスト有りCSPの透過特性S21を示し、一点鎖線は再配線のみCSPの透過特性S21を示す。この場合、ポスト無しCSPの透過特性S21は、実線で示すポスト有りCSPの透過特性S21とほぼ同じであるので、当該実線で示すこととする。 Then, measurement of the transmission characteristics S 21 of each CSP in the high-frequency signal, the result shown in FIG. 12 were obtained. In FIG. 12, the solid line shows the transmission characteristic S 21 of the post-attached CSP, and the alternate long and short dash line shows the transmission characteristic S 21 of the CSP only for rewiring. In this case, the transmission characteristic S 21 without posts CSP, since the transmission characteristic S 21 of the post there CSP indicated by the solid line is approximately the same and is represented by the solid line.
さて、図12から明らかなように、高周波信号の減衰量は、約19GHzまでは、一点鎖線で示す再配線のみCSPの方が実線で示すポスト有りCSPおよびポスト無しCSPよりも小さいが、約19GHzを越えると、逆転し、実線で示すポスト有りCSPおよびポスト無しCSPの方が一点鎖線で示す再配線のみCSPよりも小さくなる。 As is apparent from FIG. 12, the attenuation amount of the high-frequency signal is smaller than the CSP with a post and the CSP without a post indicated by a solid line only in the rewiring shown by a one-dot chain line up to about 19 GHz, but about 19 GHz. In the case of exceeding, only the rewiring indicated by the alternate long and short dash line is smaller than the CSP in the CSP with a post and the CSP without a post indicated by a solid line.
したがって、約19GHz以上の周波数帯域では、ポスト有りCSPおよびポスト無しCSPでの高周波信号の減衰は再配線のみCSPの場合と比較して抑制することができる。また、ポスト有りCSPの透過特性S21とポスト無しCSPの透過特性S21とはほぼ同じであるので、ポスト39の有無による差はほとんど見られない。
Therefore, in the frequency band of about 19 GHz or more, attenuation of the high-frequency signal in the post-attached CSP and post-postless CSP can be suppressed as compared with the case of the rewiring only CSP. Further, the transmission characteristic S21 of the post CSP and the transmission characteristic S21 of the postless CSP are substantially the same, so there is almost no difference due to the presence or absence of the
なお、上記第4の実験では、再配線35を直線としたが、次に、第5の実験として、再配線が屈曲部を有する場合について説明する。この場合、図13に示す半導体装置を用意した。この図13に示す半導体装置において、図10(A)に示す半導体装置と同一名称部分には同一の符号を付して説明する。なお、この半導体装置の断面形状は、基本的には、図10(B)に示す場合と同じである。ただし、この場合、ダミーパッド部36のみを有し、その上にはポストは設けられていない。
In the fourth experiment, the
この半導体装置では、再配線35の中央部はほぼ90°に折り曲げられ、その屈曲部となる部分に円形状のダミーパッド部36が設けられている。この場合、ダミーパッド部36の中心は、シリコン基板31の中心で、再配線35の屈曲部となる点に配置されている。
In this semiconductor device, the central portion of the
次に、上記構成の半導体装置の高周波信号の透過特性S21について、ネットワークアナライザ等の測定器具を用いて調べた。この場合、比較のために、図14(A)、(B)にそれぞれ示す半導体装置を用意した。すなわち、図14(A)に示す半導体装置では、ダミーパッド部36は再配線35の屈曲部の内側に配置され、図14(B)に示す半導体装置では、ダミーパッド部36は再配線35の屈曲部の外側に配置されている。
Next, the high frequency signal transmission characteristic S 21 of the semiconductor device having the above-described configuration was examined using a measuring instrument such as a network analyzer. In this case, semiconductor devices shown in FIGS. 14A and 14B were prepared for comparison. That is, in the semiconductor device shown in FIG. 14A, the
次に、図13および図14(A)、(B)にそれぞれ示す半導体装置の高周波信号の透過特性S21を測定したところ、図15に示す結果が得られた。図15において、実線は図14(A)に示す半導体装置(以下、パッド内側CSPという。)の透過特性S21を示し、点線は図13に示す半導体装置(以下、パッド中心CSPという。)の透過特性S21を示し、一点鎖線は図14(B)に示す半導体装置(以下、パッド外側CSPという。)の透過特性S21を示す。 Next, the transmission characteristics S 21 of the high frequency signals of the semiconductor devices shown in FIG. 13 and FIGS. 14A and 14B were measured, and the results shown in FIG. 15 were obtained. In FIG. 15, the solid line indicates the transmission characteristic S 21 of the semiconductor device (hereinafter referred to as pad inner CSP) shown in FIG. 14A, and the dotted line indicates the semiconductor device shown in FIG. 13 (hereinafter referred to as pad center CSP). shows the transmission characteristic S 21, the dashed line a semiconductor device shown in FIG. 14 (B) shows the transmission characteristic S 21 (hereinafter, referred to as the pad outer CSP.).
さて、図15から明らかなように、約19GHzまでは、各CSPとも高周波信号がほぼ同じように減衰するが、約19GHzを越えると、実線で示すパッド内側CSPの高周波信号の減衰が一番小さく、次いで点線で示すパッド中心CSPの高周波信号の減衰が小さいが、一点鎖線で示すパッド外側CSPの高周波信号の減衰は急激に大きくなる。したがって、ダミーパッド部36は、再配線35の屈曲部となる点に配置してもよいが、再配線35の屈曲部の内側に配置する方が好ましく、再配線35の屈曲部の外側に配置するのは好ましくない。
As is apparent from FIG. 15, the high-frequency signal attenuates in the same manner for each CSP up to about 19 GHz. However, when the frequency exceeds about 19 GHz, the attenuation of the high-frequency signal in the pad inner CSP indicated by the solid line is the smallest. Then, the attenuation of the high-frequency signal at the pad center CSP indicated by the dotted line is small, but the attenuation of the high-frequency signal at the pad outer side CSP indicated by the alternate long and short dash line increases rapidly. Therefore, the
なお、上記実施形態では、ダミーパッド部およびダミーポストを高周波信号用の配線に1個のみ形成しているが、高周波信号用の配線が長い場合には、所定の間隔、例えば、1mm程度の間隔で、複数個設けるようにしてもよい。また、高周波信号配線に沿って形成するグラウンドパターンは、実際の半導体装置では、高周波信号配線用以外の各ポストおよび該ポストに接続される回路用配線の周囲にパターン状に形成されたグラウンドパターンと一体化された形状となすことが効率的である。また、上記各実施形態では、高周波信号を伝達するための再配線を備えた半導体装置について説明したが、この発明は、半導体装置以外の高周波回路を備えた回路基板等にも適用することができる。 In the above embodiment, only one dummy pad portion and dummy post are formed in the high-frequency signal wiring. However, when the high-frequency signal wiring is long, a predetermined interval, for example, an interval of about 1 mm is used. Thus, a plurality of them may be provided. The ground pattern formed along the high-frequency signal wiring is, in an actual semiconductor device, a ground pattern formed in a pattern around each post other than the high-frequency signal wiring and the circuit wiring connected to the post. It is efficient to form an integrated shape. In each of the above embodiments, a semiconductor device provided with rewiring for transmitting a high-frequency signal has been described. However, the present invention can also be applied to a circuit board provided with a high-frequency circuit other than the semiconductor device. .
21 シリコン基板
24 再配線
25 ダミーパッド部
28 ダミーポスト
29、30 グラウンド配線
31 シリコン基板
33 グラウンドプレーン
35 再配線
36 ダミーパッド部
39 ダミーポスト
21
Claims (13)
Priority Applications (1)
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JP2008097782A JP2008227518A (en) | 2002-05-23 | 2008-04-04 | Circuit board for high-frequency signal |
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Related Parent Applications (1)
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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-
2008
- 2008-04-04 JP JP2008097782A patent/JP2008227518A/en active Pending
Non-Patent Citations (1)
Title |
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JPN7010004180, 西角紗耶香, "高周波におけるウエハレベルCSPの電気特性", 2002年度大学院博士前期課程 電子情報学専攻 修士論文発表会要旨集, 20020206, p.45−1〜45−4, JP * |
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Legal Events
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