JP2008226745A - Fluorescent screen with metal back, its manufacturing method, and image display surface - Google Patents

Fluorescent screen with metal back, its manufacturing method, and image display surface Download PDF

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Yasunori Gamo
保則 蒲生
Isamu Tsuchiya
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form a fluorescent screen having a smooth metal back layer excelling in reflectivity to improve luminance of an image display device. <P>SOLUTION: In this fluorescent screen with a metal back, voids of 1-10 μm are formed between a metal film and a phosphor layer constituting the metal back layer. The fluorescent surface with a metal back can be provided by forming a light absorption layer thicker than the phosphor layer, and forming the metal film tightly on the upper surface of the light absorption layer through a smooth resin layer. The voids can be formed by forming a resistance adjustment layer formed of heat-resistant inorganic fine particles on the light absorption layer, and forming the metal film tightly on the upper surface of the resistance adjustment layer through the smooth resin layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、メタルバック付き蛍光面とその製造方法、およびメタルバック付き蛍光面を有する画像表示装置に関する。   The present invention relates to a phosphor screen with a metal back, a method for manufacturing the same, and an image display device having the phosphor screen with a metal back.

近年、次世代の画像表示装置として、多数の電子放出素子を画像表示面と対向配置させた平面型画像表示装置の開発が進められている。電子放出素子にはさまざまな種類があるが、いずれも基本的には電界による電子放出を利用したものであり、これらの電子放出素子を用いた表示装置は、一般にフィールド・エミッション・ディスプレイ(以下、FEDと示す。)と呼ばれている。FEDのうちで、表面伝導型電子放出素子を用いた表示装置は、表面伝導型電子放出ディスプレイ(SED)とも呼ばれている。本発明においては、SEDをも含む総称として、FEDという用語を用いる。   In recent years, as a next-generation image display device, development of a flat image display device in which a large number of electron-emitting devices are arranged to face an image display surface has been underway. There are various types of electron-emitting devices, but all of them basically use electron emission by an electric field, and display devices using these electron-emitting devices are generally field emission displays (hereinafter, referred to as “emission devices”). It is called FED.) Among FEDs, a display device using a surface conduction electron-emitting device is also called a surface conduction electron-emitting display (SED). In the present invention, the term FED is used as a general term including SED.

一般にFEDは、所定の間隔をおいて対向配置されたフェースプレート(前面基板)とリアプレート(背面基板)とを有している。これらの基板は、それぞれの周縁部を矩形枠状の側壁を介して接合され、真空外囲器を構成している。真空外囲器の内部は、真空度が約10−4Pa以下の高真空に維持されている。 In general, an FED has a face plate (front substrate) and a rear plate (back substrate) that are arranged to face each other at a predetermined interval. These substrates are joined to each peripheral portion via a rectangular frame-like side wall to constitute a vacuum envelope. The inside of the vacuum envelope is maintained at a high vacuum with a degree of vacuum of about 10 −4 Pa or less.

フェースプレートの内面には、赤、青、緑にそれぞれ発光する蛍光体層と光吸収層(遮光層)をそれぞれ含む蛍光面が形成されている。また、実用的な表示特性を得るために、蛍光面上にはメタルバック層と呼ばれるアルミニウム薄膜が形成されている。さらに、真空外囲器の内部に残留するガスおよび各基板から放出されるガス(例えば、水素、メタン、酸素、二酸化炭素、水蒸気など)を吸着するために、ゲッタ層と呼ばれるガス吸着特性を有する金属薄膜、例えばBa(バリウム)、V(バナジウム)、Ti(チタン)、Ta(タンタル)などの薄膜が、メタルバック層上に蒸着されている。そして、蛍光体を励起して発光させるための電子を放出する多数の素子が、リアプレートの内面に設けられている。   On the inner surface of the face plate, a phosphor screen including a phosphor layer that emits red, blue, and green, respectively, and a light absorption layer (light-shielding layer) is formed. In order to obtain practical display characteristics, an aluminum thin film called a metal back layer is formed on the phosphor screen. Furthermore, in order to adsorb the gas remaining in the vacuum envelope and the gas released from each substrate (for example, hydrogen, methane, oxygen, carbon dioxide, water vapor, etc.), it has a gas adsorption characteristic called a getter layer. A metal thin film such as Ba (barium), V (vanadium), Ti (titanium), or Ta (tantalum) is deposited on the metal back layer. A number of elements that emit electrons for exciting the phosphor to emit light are provided on the inner surface of the rear plate.

FEDにおいて、蛍光体層およびメタルバック層を含む画像表示面には、数kVから10kV以上のアノード電圧が印加される。そして、電子放出素子から放出された電子ビームが、アノード電圧により加速されて蛍光面に衝突することにより蛍光体が発光し、この蛍光体の発光により画像表示面に画像が表示される。このように構成されるFEDでは、フェースプレートとリアプレートとの間隔(隙間)を数mm程度に設定することができるので、現在テレビやコンピュータのディスプレイとして使用されている陰極線管(CRT)と比べて、大幅な軽量化、薄型化を達成することができる。   In the FED, an anode voltage of several kV to 10 kV or more is applied to an image display surface including a phosphor layer and a metal back layer. Then, the electron beam emitted from the electron-emitting device is accelerated by the anode voltage and collides with the phosphor screen, whereby the phosphor emits light, and an image is displayed on the image display surface by the emission of the phosphor. In the FED configured as described above, the distance (gap) between the face plate and the rear plate can be set to about several millimeters, so that it is compared with a cathode ray tube (CRT) currently used as a display of a television or a computer. Thus, a significant reduction in weight and thickness can be achieved.

ところで、近年薄型ディスプレイの普及が拡大し、付加価値を高めるために高画質化の要求が強まっている。高画質化の中でも高輝度化は、明室コントラストの改善を図るうえで重要な項目となっている。   By the way, in recent years, the spread of thin displays has increased, and the demand for higher image quality has been increasing in order to increase added value. Among the improvements in image quality, increasing brightness is an important item for improving bright room contrast.

自発光型ディスプレイであるFEDにおいては、メタルバック効果を高めることで輝度を改善することが行われている。例えば、熱可塑性樹脂を含有する蛍光体層を加熱しながら加圧することで、蛍光体層表面を平滑化し、メタルバック層の成膜性および密着性を向上させる提案がなされている(特許文献1参照)。
特開2002−343248公報
In an FED that is a self-luminous display, luminance is improved by enhancing a metal back effect. For example, a proposal has been made to smoothen the phosphor layer surface by applying pressure while heating a phosphor layer containing a thermoplastic resin, thereby improving the film formability and adhesion of the metal back layer (Patent Document 1). reference).
JP 2002-343248 A

しかしながら、特許文献1に記載された蛍光面の形成方法においては、光吸収層と蛍光体層の厚さが異なり各層の上面に段差がある場合に、以下に示す問題を生じることがあった。すなわち、光吸収層の厚さに比べて蛍光体層の厚さが薄い場合、光吸収層の上面より蛍光体層の上面が低い位置にあるため、光吸収層の側壁部が障害となり、加熱・加圧により蛍光体層の表面を平滑化することが難しかった。   However, in the method for forming a phosphor screen described in Patent Document 1, the following problems may occur when the thicknesses of the light absorption layer and the phosphor layer are different and there is a step on the upper surface of each layer. That is, when the thickness of the phosphor layer is smaller than the thickness of the light absorption layer, the upper surface of the phosphor layer is located lower than the upper surface of the light absorption layer, so that the side wall of the light absorption layer becomes an obstacle and heating is performed. -It was difficult to smooth the surface of the phosphor layer by pressurization.

また、光吸収層の各パターンの層厚にばらつきがあると、蛍光体層とともに光吸収層が加熱・加圧された際に、層厚が厚い光吸収層に隣接する蛍光体層の平滑化が不十分になるばかりでなく、層厚が厚い光吸収層にも欠けやシワなどの損傷が生じることがあった。   In addition, if the thickness of each pattern of the light absorption layer varies, the phosphor layer adjacent to the thick light absorption layer is smoothed when the light absorption layer is heated and pressurized together with the phosphor layer. Not only is insufficient, but also the light absorption layer having a large layer thickness may be damaged such as chipping or wrinkling.

本発明はこれらの問題を解決するためになされたもので、平滑で反射性が良好なメタルバック層を有する蛍光面を得ることを目的とする。また、そのようなメタルバック付き蛍光面を備え、輝度の高い画像表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve these problems, and an object of the present invention is to obtain a fluorescent screen having a metal back layer that is smooth and has good reflectivity. It is another object of the present invention to provide an image display device having such a phosphor screen with a metal back and high brightness.

本発明の第1の態様のメタルバック付き蛍光面は、フェースプレート内面に少なくとも光吸収層と蛍光体層が形成された蛍光面を有し、この蛍光面上に平滑性樹脂層を介して形成された金属膜からなるメタルバック層を有するメタルバック付き蛍光面であり、前記金属膜と、該金属膜より低い位置にある前記蛍光体層の上面との間に、空隙が設けられていることを特徴とする。   The phosphor screen with a metal back according to the first aspect of the present invention has a phosphor screen in which at least a light absorption layer and a phosphor layer are formed on the inner surface of the face plate, and is formed on the phosphor screen via a smooth resin layer. A phosphor screen with a metal back having a metal back layer made of a metal film, and a gap is provided between the metal film and the upper surface of the phosphor layer at a position lower than the metal film It is characterized by.

本発明の第2の態様のメタルバック付き蛍光面の製造方法は、フェースプレート内面に、所定のパターンを有する光吸収層と該光吸収層よりも薄い層厚を有する蛍光体層をそれぞれ形成し、蛍光面を形成する工程と、ベースフィルム上に少なくとも剥離剤層と平滑性樹脂層および接着剤層が形成された転写フィルムを、前記平滑性樹脂層が前記接着剤層を介して前記蛍光面上に接するように配置し、転写ローラーにより加熱しながら押圧して接着した後前記ベースフィルムを剥ぎ取ることにより、前記平滑性樹脂層を転写する工程と、前記蛍光面上に転写された前記平滑性樹脂層上に金属膜を形成する工程と、前記金属膜が形成されたフェースプレートを加熱処理し、有機分を分解・除去する工程を備えることを特徴とする。   According to the second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a phosphor screen with a metal back, wherein a light absorption layer having a predetermined pattern and a phosphor layer having a thinner thickness than the light absorption layer are formed on the inner surface of the face plate. A step of forming a phosphor screen, and a transfer film in which at least a release agent layer, a smooth resin layer and an adhesive layer are formed on a base film, and the smooth resin layer is interposed between the phosphor screen and the adhesive layer. The step of transferring the smooth resin layer by peeling off the base film after being bonded while being heated and pressed by a transfer roller, and the smooth transferred on the phosphor screen The method includes a step of forming a metal film on the conductive resin layer, and a step of heat-treating the face plate on which the metal film is formed to decompose and remove organic components.

本発明の第3の態様のメタルバック付き蛍光面の製造方法は、フェースプレート内面に、所定のパターンを有する光吸収層とその上に積層された耐熱性無機微粒子を主体とする抵抗調整層とから成る光吸収積層部を形成する工程と、前記光吸収積層部が形成されたフェースプレート内面に、該光吸収積層部よりも薄い層厚を有する蛍光体層を形成し、該蛍光体層と前記光吸収積層部とから成る蛍光面を形成する工程と、ベースフィルム上に少なくとも剥離剤層と平滑性樹脂層および接着剤層が形成された転写フィルムを、前記平滑性樹脂層が前記接着剤層を介して前記抵抗調整層に接するように配置し、転写ローラーにより加熱しながら押圧して接着した後前記ベースフィルムを剥ぎ取ることにより、前記平滑性樹脂層を前記蛍光面上に転写する工程と、前記蛍光面上に転写された前記平滑性樹脂層上に金属膜を形成する工程と、前記金属膜が形成されたフェースプレートを加熱処理し、有機分を分解・除去する工程を備えることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for producing a phosphor screen with a metal back, on a face plate inner surface, a light absorption layer having a predetermined pattern, and a resistance adjustment layer mainly composed of heat-resistant inorganic fine particles laminated thereon. Forming a light-absorbing laminate portion, and forming a phosphor layer having a thinner layer thickness than the light-absorbing laminate portion on the inner surface of the face plate on which the light-absorbing laminate portion is formed, A step of forming a phosphor screen comprising the light-absorbing laminate, a transfer film having at least a release agent layer, a smooth resin layer and an adhesive layer formed on a base film, and the smooth resin layer being the adhesive. The layer is placed in contact with the resistance adjusting layer through a layer, and is pressed and bonded while being heated by a transfer roller, and then the base film is peeled off to transfer the smooth resin layer onto the phosphor screen. A step of forming a metal film on the smooth resin layer transferred onto the phosphor screen, and a step of heat-treating the face plate on which the metal film is formed to decompose and remove organic components. It is characterized by providing.

本発明の画像表示装置は、フェースプレートと、該フェースプレートと対向配置されたリアプレートと、前記リアプレート上に形成された多数の電子放出素子と、前記フェースプレート上に前記リアプレートに対向して形成され、前記電子放出素子から放出される電子線により発光する蛍光面とを備え、前記蛍光面が上記した第1の態様のメタルバック付き蛍光面であることを特徴とする。   An image display device of the present invention includes a face plate, a rear plate disposed to face the face plate, a number of electron-emitting devices formed on the rear plate, and the face plate facing the rear plate. And a phosphor screen that emits light from an electron beam emitted from the electron-emitting device, and the phosphor screen is the phosphor screen with the metal back according to the first aspect described above.

本発明によれば、光吸収層の上面あるいはその上にさらに積層された抵抗調整層の上面に、平滑性樹脂膜を介して金属膜が形成されており、この金属膜とそれより低い位置にある蛍光体層の上面との間に空隙が設けられているので、金属膜にはピッチの長い緩やかな起伏が形成され、蛍光体層の表面(上面)の微小な凹凸に対応した凹凸が形成されることがない。その結果、メタルバック層の反射面の拡散反射が低減され正反射成分が増加される。また、金属膜に亀裂やピンホールなどが生じることがなく、光透過率が低く抑えられるので、輝度が向上する。したがって、このようなメタルバック付き蛍光面を備えることで、輝度の高い画像表示装置を実現することができる。   According to the present invention, the metal film is formed via the smooth resin film on the upper surface of the light absorption layer or the upper surface of the resistance adjustment layer further laminated thereon, and the metal film and a position lower than the metal film are formed. Since a gap is provided between the upper surface of a certain phosphor layer, a gentle undulation with a long pitch is formed in the metal film, and irregularities corresponding to minute irregularities on the surface (upper surface) of the phosphor layer are formed. It will not be done. As a result, the diffuse reflection of the reflection surface of the metal back layer is reduced and the regular reflection component is increased. In addition, no cracks or pinholes are generated in the metal film, and the light transmittance is kept low, so that the luminance is improved. Therefore, by providing such a phosphor screen with a metal back, an image display device with high luminance can be realized.

以下、本発明を実施するための形態について説明する。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.

図1は、本発明の第1の実施形態であるメタルバック付き蛍光面を示す断面図であり、図2は図1の要部を拡大して示す断面図である。これらの図において、符号1はフェースプレートを構成するガラス基板を示す。このガラス基板1の内面には、カーボン等の黒色顔料からなる所定のパターン(例えば、ドット状やストライプ状)の光吸収層2が設けられている。また、光吸収層2のパターンの間には、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の3色の蛍光体層3のパターンが設けられており、これら各色の蛍光体層3と光吸収層2により蛍光面(蛍光体スクリーン)が構成されている。ここで、各色の蛍光体層3の厚さはそれぞれが等しくなるように形成されている。また、これらの蛍光体層3の厚さは光吸収層2の厚さよりも薄くなるように形成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a phosphor screen with a metal back according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of FIG. In these drawings, reference numeral 1 denotes a glass substrate constituting the face plate. On the inner surface of the glass substrate 1, a light absorption layer 2 having a predetermined pattern (for example, a dot shape or a stripe shape) made of a black pigment such as carbon is provided. Further, between the patterns of the light absorption layer 2, there are provided the patterns of the phosphor layers 3 of three colors of red (R), green (G), and blue (B), and the phosphor layers 3 of these colors. The light absorption layer 2 forms a phosphor screen (phosphor screen). Here, the phosphor layers 3 of the respective colors are formed to have the same thickness. Further, the thickness of the phosphor layer 3 is formed to be thinner than the thickness of the light absorption layer 2.

また、このように構成される蛍光体スクリーンの上に、Al膜のような金属膜から成るメタルバック層4が形成されている。メタルバック層4を構成する金属膜は光吸収層2の上面に密接されており、この金属膜と、光吸収層2の上面より低い位置にある蛍光体層3の上面との間には、空隙5が形成されている。この空隙5の厚さ方向の寸法Dは1〜10μmの範囲であることが望ましい。   A metal back layer 4 made of a metal film such as an Al film is formed on the phosphor screen configured as described above. The metal film constituting the metal back layer 4 is in intimate contact with the upper surface of the light absorption layer 2, and between this metal film and the upper surface of the phosphor layer 3 at a position lower than the upper surface of the light absorption layer 2, A void 5 is formed. The dimension D in the thickness direction of the gap 5 is desirably in the range of 1 to 10 μm.

このように構成される第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面においては、メタルバック層4を構成する金属膜と、蛍光体層3の上面との間に空隙5が形成され、金属膜が蛍光体層3の表面の微小な凹凸に密接されていないので、金属膜の反射面は微小な凹凸を持たず平滑に形成される。したがって、メタルバック層4の反射面における拡散反射が低減され、正反射成分が増大されるので、輝度が向上する。   In the phosphor screen with a metal back of the first embodiment configured as described above, a gap 5 is formed between the metal film constituting the metal back layer 4 and the upper surface of the phosphor layer 3, and the metal film is Since the surface of the phosphor layer 3 is not in close contact with the minute unevenness, the reflective surface of the metal film is formed smoothly without having the minute unevenness. Therefore, the diffuse reflection on the reflecting surface of the metal back layer 4 is reduced and the regular reflection component is increased, so that the luminance is improved.

なお、蛍光体層3とメタルバック層4を構成する金属膜との間の空隙5が1μm未満の場合には、後述する金属膜を焼成する工程で、金属膜に生じた撓みあるいは弛みにより、金属膜が蛍光体層3に接触しやすくなる。そして、金属膜が蛍光体層3に接触すると、蛍光体層3表面の凹凸(蛍光体粒子の粒径に起因する)に金属膜が追従する結果、メタルバック層4の表面に微小な凹凸が生じる。そのため、メタルバック層4の拡散反射が増大し反射性が損なわれる。蛍光体層3とメタルバック層4を構成する金属膜との間の空隙5を1μm未満(例えば0)としたメタルバック付き蛍光面を、図3に示す。この図に示すように、メタルバック層4を構成する金属膜が蛍光体層3に接しているので、蛍光体層3表面の凹凸によりメタルバック層4の表面に微小な凹凸が生じ、拡散反射が増大するため、高輝度が得られない。   In addition, when the gap 5 between the phosphor layer 3 and the metal film constituting the metal back layer 4 is less than 1 μm, in the step of firing the metal film, which will be described later, The metal film can easily come into contact with the phosphor layer 3. When the metal film comes into contact with the phosphor layer 3, the metal film follows the irregularities on the surface of the phosphor layer 3 (due to the particle size of the phosphor particles), and as a result, minute irregularities are formed on the surface of the metal back layer 4. Arise. Therefore, the diffuse reflection of the metal back layer 4 is increased and the reflectivity is impaired. FIG. 3 shows a phosphor screen with a metal back in which the gap 5 between the phosphor layer 3 and the metal film constituting the metal back layer 4 is less than 1 μm (for example, 0). As shown in this figure, since the metal film constituting the metal back layer 4 is in contact with the phosphor layer 3, the irregularities on the surface of the phosphor layer 3 cause minute irregularities on the surface of the metal back layer 4 and diffuse reflection. Therefore, high brightness cannot be obtained.

また、メタルバック層4を構成する金属膜と蛍光体層3の上面との間の空隙は、以下に示す理由により10μm以下にすることが好ましい。すなわち、蛍光体層3と金属膜との間の空隙5を10μmより大きく設定するには、蛍光体層3の厚さを薄くするか、あるいは蛍光体層3に隣接する光吸収層2の厚さを厚くする必要がある。蛍光体層3の層厚は、発光輝度を最大にするために、7μmから13μmの範囲(より好ましくは10μm前後)に設定する必要があり、蛍光体層3の層厚を10μm前後から大きく変えることは好ましくないため、蛍光体層3と金属膜との空隙5を10μmを超えて設定するには、実用上蛍光体層3に隣接する光吸収層2の層厚を20μm以上にする必要がある。黒色顔料からなる光吸収層2の層厚を20μm以上に上げると、フォトマスクを介して露光を行う際に、光(一般に紫外光)が光吸収層2の底部まで到達せずに硬化不足を招き、所定の開口部を形成することが困難になる。   Moreover, it is preferable that the space | gap between the metal film which comprises the metal back layer 4, and the upper surface of the fluorescent substance layer 3 shall be 10 micrometers or less for the reason shown below. That is, in order to set the gap 5 between the phosphor layer 3 and the metal film to be larger than 10 μm, the thickness of the phosphor layer 3 is reduced or the thickness of the light absorption layer 2 adjacent to the phosphor layer 3 is set. It is necessary to increase the thickness. The layer thickness of the phosphor layer 3 needs to be set in the range of 7 μm to 13 μm (more preferably around 10 μm) in order to maximize the light emission luminance, and the layer thickness of the phosphor layer 3 is greatly changed from around 10 μm. For this reason, in order to set the gap 5 between the phosphor layer 3 and the metal film to exceed 10 μm, the thickness of the light absorption layer 2 adjacent to the phosphor layer 3 needs to be 20 μm or more in practice. is there. When the layer thickness of the light absorption layer 2 made of black pigment is increased to 20 μm or more, light (generally ultraviolet light) does not reach the bottom of the light absorption layer 2 and is insufficiently cured when exposed through a photomask. Inviting, it becomes difficult to form a predetermined opening.

第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面は、以下に示すように製造することができる。すなわち、まず図4Aに示すように、フェースプレートを構成するガラス基板1の内面に、ドット状またはストライプ状の黒色顔料から成る光吸収層2を、例えばフォトリソ法により形成した後、その上に、ZnS系、Y系、YS系などの各色の蛍光体を含む樹脂ペーストを、所定パターンを施されたスクリーン版を用いて印刷(スクリーン印刷)し乾燥する。こうして、光吸収層2のパターンの間に、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体層3のパターンを、それぞれが隣り合うように配列して形成し、蛍光体スクリーンを形成する。このとき、蛍光体層3の層厚が光吸収層2の層厚より1〜10μm薄くなるように、厚さを調整して形成する。なお、光吸収層2の形成をスクリーン印刷により行うことができ、また、各色の蛍光体層3の形成をスプレー法やフォトリソ法により行うことができる。 The phosphor screen with a metal back according to the first embodiment can be manufactured as follows. That is, first, as shown in FIG. 4A, a light absorption layer 2 made of a dot-like or stripe-like black pigment is formed on the inner surface of the glass substrate 1 constituting the face plate by, for example, a photolithography method, and then, A resin paste containing phosphors of various colors such as ZnS, Y 2 O 3 and Y 2 O 2 S is printed (screen printed) using a screen plate having a predetermined pattern and dried. Thus, between the patterns of the light absorption layer 2, the patterns of the phosphor layers 3 of three colors of red (R), green (G), and blue (B) are arranged so as to be adjacent to each other, A phosphor screen is formed. At this time, the phosphor layer 3 is formed by adjusting the thickness so that the thickness of the phosphor layer 3 is 1 to 10 μm thinner than the thickness of the light absorption layer 2. The light absorption layer 2 can be formed by screen printing, and the phosphor layers 3 of the respective colors can be formed by a spray method or a photolithography method.

次いで、こうして形成された蛍光体スクリーンの上に、図4Bに示すように、平滑性樹脂層6を形成する。第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面を簡易に製造するために、平滑性樹脂層6の形成は、以下に示すような転写方式により行うことが好ましい。   Next, the smooth resin layer 6 is formed on the phosphor screen thus formed as shown in FIG. 4B. In order to easily manufacture the phosphor screen with a metal back according to the first embodiment, the smooth resin layer 6 is preferably formed by a transfer method as described below.

平滑性樹脂層6の形成のための転写フィルムは、ポリエステル樹脂などから成るベースフィルムの上に、離型剤層、平滑性樹脂層および接着剤層が順に積層された構造を有している。   The transfer film for forming the smooth resin layer 6 has a structure in which a release agent layer, a smooth resin layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on a base film made of a polyester resin or the like.

ここで、ベースフィルムの膜厚は、後述する転写工程で転写ローラーによる加熱・押圧を効果的に行うために、5〜50μmとすることが望ましい。離型剤としては、酢酸セルロース、ワックス、脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、ロジン、アクリル樹脂、シリコーン、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの中から、ベースフィルムおよび平滑性樹脂層との剥離性に応じて、適宜選択して使用される。   Here, the film thickness of the base film is desirably 5 to 50 μm in order to effectively perform heating and pressing with a transfer roller in a transfer step described later. Examples of the mold release agent include cellulose acetate, wax, fatty acid, fatty acid amide, fatty acid ester, rosin, acrylic resin, silicone, and fluorine resin. From these, it selects and uses suitably according to peelability with a base film and a smooth resin layer.

離型剤層の上に形成される平滑性樹脂層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂等をベースとするものであることが望ましく、より具体的には、アクリル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル−メラミン共重合体樹脂、メラミン−尿素共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース類、ビニル系樹脂などから選ばれる1種または2種以上の樹脂を主体として構成される。   The smooth resin layer formed on the release agent layer is preferably based on a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photocurable resin, and more specifically, an acrylic resin, 1 type selected from melamine resin, urea resin, acrylic-melamine copolymer resin, melamine-urea copolymer resin, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, alkyd resin, polyamide resin, cellulose, vinyl resin, etc. It is composed mainly of two or more kinds of resins.

また、平滑性樹脂層は柔軟剤を含有することが望ましい。柔軟剤としては、リン酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、二価アルコールエステル、オキシ酸エステル、オレイン酸ブチル、アジピン酸ジブチル、塩化パラフィン、トルエンスルフォンエチルアミド、トルエンスルフォンメチルアミド、アミノベンゼンスルフォンアミド化合物、アビエチン酸メチル、ジノニルナフタレン、アセチルクエン酸トリブチル、アミノトルエンスルフォンアミド化合物、N−ブチルベンゼンスルフォンアミドなどが例示される。柔軟剤の含有割合は、平滑性樹脂層を構成する材料全体に対して1〜30重量%の割合とすることが望ましい。柔軟剤の含有割合が30重量%を超えると、転写性が悪化して好ましくない。   The smooth resin layer preferably contains a softening agent. Softeners include phosphate esters, aliphatic monobasic acid esters, aliphatic dibasic acid esters, dihydric alcohol esters, oxyacid esters, butyl oleate, dibutyl adipate, chlorinated paraffin, toluene sulfone ethylamide, toluene sulfone Examples include methylamide, aminobenzenesulfonamide compound, methyl abietic acid, dinonylnaphthalene, tributyl acetylcitrate, aminotoluenesulfonamide compound, N-butylbenzenesulfonamide and the like. The content ratio of the softening agent is desirably 1 to 30% by weight with respect to the entire material constituting the smooth resin layer. When the content of the softening agent exceeds 30% by weight, transferability is deteriorated, which is not preferable.

接着剤としては、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル酸樹脂、エチレン−酢酸ビニル−アクリル酸三元重合体樹脂等が使用される。   As the adhesive, vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, styrene-acrylic acid resin, ethylene-vinyl acetate-acrylic acid terpolymer resin, or the like is used.

このような転写フィルムを、接着剤層が蛍光体スクリーンの光吸収層2の上面に接するように配置する。そして、転写ローラーにより加熱しながら押圧して平滑性樹脂層6を光吸収層2の上に接着した後、ベースフィルムを剥ぎ取る。   Such a transfer film is disposed so that the adhesive layer is in contact with the upper surface of the light absorption layer 2 of the phosphor screen. And after pressing with the transfer roller heating and adhere | attaching the smooth resin layer 6 on the light absorption layer 2, a base film is peeled off.

転写ローラーとしては、例えば、金属製の芯材の上に、天然ゴムやシリコーンゴムなどの被覆層を有するゴムローラーが使用される。そして、この転写ローラーを、押圧部であるゴム層表面の温度が70〜240℃になるように加熱し、転写フィルムのベースフィルム面上を1〜10kgf/cmの押圧力で押圧しながら1〜20m/分の速度で移動させる。転写ローラーの表面温度および押圧速度についての前記条件は、平滑性樹脂層6が蛍光体スクリーン面に転写されるために必要かつ十分な条件であり、この範囲を外れると、光吸収層2と平滑性樹脂層6との間の密着性が不足し、転写不良やベーキング後の亀裂が発生するおそれがある。 As the transfer roller, for example, a rubber roller having a coating layer such as natural rubber or silicone rubber on a metal core is used. Then, this transfer roller is heated so that the temperature of the rubber layer surface as a pressing portion becomes 70 to 240 ° C., and the surface of the transfer film is pressed on the base film surface with a pressing force of 1 to 10 kgf / cm 2. Move at a speed of ~ 20 m / min. The conditions regarding the surface temperature and pressing speed of the transfer roller are necessary and sufficient conditions for the smooth resin layer 6 to be transferred to the phosphor screen surface. Adhesiveness with the conductive resin layer 6 is insufficient, and there is a possibility that transfer failure or cracks after baking may occur.

すなわち、転写ローラーの表面温度が高すぎたり押圧速度が遅すぎたりすると、ベースフィルムが加熱され過ぎて軟化乃至溶融する。その結果、表面平滑な樹脂層が転写・形成されない。また、転写ローラーの表面温度が低すぎたりあるいは押圧速度が速やすぎたりすると、接着剤の加熱が不十分となり、平滑性樹脂層6の接着が不十分となる。その結果、部分的に転写されないなどの転写不良が生じるため好ましくない。   That is, if the surface temperature of the transfer roller is too high or the pressing speed is too slow, the base film is heated too much and softens or melts. As a result, a smooth resin layer is not transferred / formed. On the other hand, if the surface temperature of the transfer roller is too low or the pressing speed is too high, heating of the adhesive becomes insufficient, and adhesion of the smooth resin layer 6 becomes insufficient. As a result, transfer defects such as partial transfer are not preferable.

なお、このような転写ローラーによる押圧においては、被押圧部であるフェースプレート側を固定し転写ローラーを移動させる態様の他に、転写ローラーの位置を固定し、フェースプレート側を移動・走行させる態様を採ることもできる。したがって、転写ローラーによる押圧速度は、転写ローラーと被押圧部との相対的な移動速度を意味するものとする。   In addition, in such pressing by the transfer roller, in addition to a mode in which the face plate side as a pressed portion is fixed and the transfer roller is moved, a mode in which the position of the transfer roller is fixed and the face plate side is moved and traveled Can also be taken. Therefore, the pressing speed by the transfer roller means the relative moving speed of the transfer roller and the pressed part.

こうして、蛍光体スクリーン上に平滑性樹脂層6を転写した後、さらにプレスローラーにより加熱しながら押圧することができる。このようなプレス処理を行い、平滑性樹脂層6を光吸収層2の表面に加圧して密接することにより、平滑性樹脂層6と光吸収層2との接着性をより高めることができる。   Thus, after the smooth resin layer 6 is transferred onto the phosphor screen, it can be further pressed while being heated by a press roller. By performing such a press treatment and pressing the smooth resin layer 6 against the surface of the light absorption layer 2 to bring it into close contact, the adhesion between the smooth resin layer 6 and the light absorption layer 2 can be further enhanced.

プレスローラーとしては、転写ローラーと同様に、金属製の芯材の上に、天然ゴムやシリコーンゴムなどの被覆層を有するゴムローラーを使用することができる。そして、このプレスローラーを、押圧部であるゴム層表面の温度が70〜250℃になるように加熱した状態で、平滑性樹脂層の上を1〜10kgf/cmの押圧力で押圧しながら1〜20m/分の速度で移動させる。なお、プレスローラーによる押圧においても、被押圧部であるフェースプレート側を固定しプレスローラーを移動させる態様の他に、プレスローラーの位置を固定し、フェースプレート側を移動・走行させる態様を採ることができる。 As the press roller, similarly to the transfer roller, a rubber roller having a coating layer such as natural rubber or silicone rubber on a metal core can be used. And while pressing this press roller on the smooth resin layer with the pressing force of 1-10 kgf / cm < 2 >, in the state heated so that the temperature of the rubber layer surface which is a press part may be 70-250 degreeC, Move at a speed of 1-20 m / min. In addition, in pressing with the press roller, in addition to a mode in which the face plate side that is a pressed portion is fixed and the press roller is moved, a mode in which the position of the press roller is fixed and the face plate side is moved and traveled is adopted. Can do.

このような転写方式を用いることで、平滑性樹脂層6を蛍光体スクリーンの光吸収層2の上面にのみ密接させ、光吸収層2のパターンの間に弛みなく張られた状態で形成することができる。したがって、光吸収層2に比べて1〜10μm薄く形成された蛍光体層3の上面と、平滑性樹脂層6との間には、前記厚さの差に相当する空隙5が形成される。   By using such a transfer method, the smooth resin layer 6 is brought into close contact with only the upper surface of the light absorption layer 2 of the phosphor screen, and is formed in a state in which it is stretched between the patterns of the light absorption layer 2 without slack. Can do. Therefore, a gap 5 corresponding to the difference in thickness is formed between the upper surface of the phosphor layer 3 formed to be 1 to 10 μm thinner than the light absorption layer 2 and the smooth resin layer 6.

次いで、こうして転写・形成された平滑性樹脂層6の上に、図4Cに示すように、Al膜のような金属膜7を形成する。金属膜7の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などの一般的な乾式の金属薄膜形成方法を採ることができる。メタルバック効果の点から、金属膜7の膜厚は80〜150nmとすることが好ましい。すなわち、金属膜7の膜厚を80nm未満とした場合には、メタルバック層にピンホールが発生しやすく、光透過性が高くなるため、蛍光体層3から発した光を反射する性能が劣化し、輝度が低下してしまう。また、金属膜7の膜厚が150nmを超えると、デッドヴォルテージ(発光に必要な電子線加速電圧の下限値)が高くなりすぎるため、メタルバック層に放電現象が発生しやすくなる。このような理由から金属膜7の膜厚は80nm乃至150nmの範囲にすることが好ましい。   Next, a metal film 7 such as an Al film is formed on the smooth resin layer 6 thus transferred and formed, as shown in FIG. 4C. As a method for forming the metal film 7, a general dry metal thin film forming method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method can be employed. From the viewpoint of the metal back effect, the thickness of the metal film 7 is preferably 80 to 150 nm. That is, when the thickness of the metal film 7 is less than 80 nm, pinholes are likely to be generated in the metal back layer and the light transmittance is increased, so that the performance of reflecting the light emitted from the phosphor layer 3 is deteriorated. Then, the luminance is lowered. On the other hand, if the thickness of the metal film 7 exceeds 150 nm, the dead voltage (the lower limit value of the electron beam acceleration voltage necessary for light emission) becomes too high, and a discharge phenomenon is likely to occur in the metal back layer. For this reason, the thickness of the metal film 7 is preferably in the range of 80 nm to 150 nm.

その後、金属膜7が形成されたフェースプレート全体を、約500℃の温度に加熱・焼成(ベーキング)して有機分を分解・除去する。なお、この焼成時に平滑性樹脂層6も分解されて消失するので、蛍光体スクリーン上には、図4Dに示すように金属膜7のみが残留する。この金属膜7は、光吸収層2の上面にのみ密接し、光吸収層2のパターン間に弛みなく張られた状態で配置されており、この金属膜7と蛍光体層3の上面との間には、1〜10μmの空隙5が保持されることになる。   Thereafter, the entire face plate on which the metal film 7 is formed is heated and baked (baked) at a temperature of about 500 ° C. to decompose and remove organic components. Since the smooth resin layer 6 is also decomposed and disappears during the baking, only the metal film 7 remains on the phosphor screen as shown in FIG. 4D. The metal film 7 is disposed in close contact with only the upper surface of the light absorption layer 2 and is stretched between the patterns of the light absorption layer 2 without slack. The metal film 7 and the upper surface of the phosphor layer 3 A gap 5 of 1 to 10 μm is held between them.

こうして、亀裂、しわ、弛みなどがなく、ほぼ平らで緩やかな起伏を有するメタルバック層4が形成され、反射特性に優れたメタルバック付き蛍光面が得られる。   In this way, the metal back layer 4 having no cracks, wrinkles, slack, etc. and having a substantially flat and gentle undulation is formed, and a phosphor screen with a metal back excellent in reflection characteristics can be obtained.

次に、本発明のメタルバック付き蛍光面の第2の実施形態について説明する。   Next, a second embodiment of the phosphor screen with a metal back according to the present invention will be described.

図5は、本発明の第2の実施形態であるメタルバック付き蛍光面を示す断面図であり、図6は図5の要部を拡大して示す断面図である。図5および図6において、第1の実施形態を示す図1および図2と同一の部分には同一の符号を付して説明を省略する。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a phosphor screen with a metal back according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing the main part of FIG. 5 and 6, the same parts as those in FIGS. 1 and 2 showing the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

第2の実施形態においては、蛍光体層3の厚さが光吸収層2の厚さよりも厚くなるように形成されている。なお、蛍光体層3の厚さを光吸収層2の厚さと等しく形成してもよい。そして、光吸収層2の上に、メタルバック層4の電気抵抗値を制御するための抵抗調整層8が形成され、光吸収層2と抵抗調整層8により光吸収積層部9が構成されている。光吸収積層部9の厚さは蛍光体層3の厚さよりも厚くなるように調整されている。   In the second embodiment, the phosphor layer 3 is formed so as to be thicker than the light absorption layer 2. Note that the thickness of the phosphor layer 3 may be formed to be equal to the thickness of the light absorption layer 2. A resistance adjustment layer 8 for controlling the electrical resistance value of the metal back layer 4 is formed on the light absorption layer 2, and the light absorption layer 9 is configured by the light absorption layer 2 and the resistance adjustment layer 8. Yes. The thickness of the light absorption laminated portion 9 is adjusted to be thicker than the thickness of the phosphor layer 3.

抵抗調整層8は耐熱性無機微粒子を主体として構成された層である。耐熱性無機微粒子としては、電気絶縁性を有しかつ封着工程などの高温加熱に耐えるものであれば、特に種類を限定することなく使用することができる。例えば、SiO,TiO,Al,Feなどの金属酸化物の微粒子が例示され、これらの1種または2種以上を組み合わせて使用することができる。抵抗調整層8の形成は、前記耐熱性無機微粒子を含む樹脂ペーストをスクリーン印刷する方法で行うことができる。 The resistance adjustment layer 8 is a layer mainly composed of heat-resistant inorganic fine particles. The heat-resistant inorganic fine particles can be used without any particular limitation as long as they have electrical insulating properties and can withstand high-temperature heating such as a sealing process. For example, fine particles of metal oxides such as SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , Fe 2 O 3 are exemplified, and one or more of these can be used in combination. The resistance adjustment layer 8 can be formed by a method of screen printing a resin paste containing the heat-resistant inorganic fine particles.

そして、メタルバック層4を構成するAl膜のような金属膜は、光吸収積層部9の抵抗調整層8の上面に密接されており、この抵抗調整層2の上面より低い位置にある蛍光体層3の上面と金属膜との間には、空隙5が形成されている。この空隙5の厚さ方向の寸法Dは、1〜10μmの範囲とすることが望ましい。   A metal film such as an Al film constituting the metal back layer 4 is in intimate contact with the upper surface of the resistance adjusting layer 8 of the light absorption laminated portion 9, and the phosphor located at a position lower than the upper surface of the resistance adjusting layer 2. A gap 5 is formed between the upper surface of the layer 3 and the metal film. The dimension D in the thickness direction of the gap 5 is desirably in the range of 1 to 10 μm.

このように構成される第2の実施形態のメタルバック付き蛍光面を製造するには、まず、フェースプレートを構成するガラス基板1の内面に、ドット状またはストライプ状の黒色顔料から成る光吸収層2を形成し、その上に耐熱性無機微粒子を主体とする抵抗調整層8を形成して光吸収積層部9を形成した後、この光吸収積層部9のパターンの間に、3色の蛍光体層3のパターンを形成し、蛍光体スクリーンを形成する。次いで、この蛍光体スクリーンの上に、第1の実施形態の製造と同様にして、転写方式で平滑性樹脂層を形成した後、この平滑性樹脂層の上に金属膜を形成し、しかる後金属膜を有するフェースプレートを加熱・焼成して有機分を分解・除去する。   In order to manufacture the phosphor screen with the metal back according to the second embodiment configured as described above, first, a light absorbing layer made of a black pigment in the form of dots or stripes is formed on the inner surface of the glass substrate 1 constituting the face plate. 2 is formed, and the resistance adjusting layer 8 mainly composed of heat-resistant inorganic fine particles is formed thereon to form the light-absorbing laminated portion 9, and then the three-color fluorescence is formed between the patterns of the light-absorbing laminated portion 9. A pattern of the body layer 3 is formed to form a phosphor screen. Next, a smoothing resin layer is formed on the phosphor screen by the transfer method in the same manner as in the manufacture of the first embodiment, and then a metal film is formed on the smoothing resin layer. A face plate having a metal film is heated and baked to decompose and remove organic components.

この第2の実施形態においても、メタルバック層4を構成する金属膜と蛍光体層3の上面との間に空隙5が形成されており、金属膜が蛍光体層3の表面の微小な凹凸に密接されていないので、金属膜の反射面は凹凸がなく平滑に形成される。したがって、メタルバック層4の反射面の拡散反射が低減され正反射成分が増大されるので、輝度が向上する。   Also in the second embodiment, a gap 5 is formed between the metal film constituting the metal back layer 4 and the upper surface of the phosphor layer 3, and the metal film has minute irregularities on the surface of the phosphor layer 3. Therefore, the reflective surface of the metal film is smooth and has no unevenness. Therefore, the diffuse reflection of the reflection surface of the metal back layer 4 is reduced and the regular reflection component is increased, so that the luminance is improved.

次に、本発明の第3の実施形態であるFEDについて説明する。このFEDは、図7に示すように、ガラス基板1上に前記した第1の実施形態あるいは第2の実施形態のメタルバック付き蛍光面が形成されたフェースプレート11と、基板12上にマトリックス状に配列された多数の電子放出素子13を有するリアプレート14とが、1mm〜数mm程度の狭い間隔をおいて対向配置され、これらのプレートの間に5〜15kVの高電圧が印加されるように構成されている。なお、図中符号15は蛍光体スクリーンを示し、16はメタルバック層を示す。また、符号17は支持枠(側壁)を示す。   Next, an FED that is a third embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 7, this FED has a face plate 11 in which the above-described phosphor screen with a metal back according to the first embodiment or the second embodiment is formed on a glass substrate 1 and a matrix on the substrate 12. And a rear plate 14 having a large number of electron-emitting devices 13 arranged at a distance of 1 mm to several mm, and a high voltage of 5 to 15 kV is applied between these plates. It is configured. In the figure, reference numeral 15 denotes a phosphor screen, and 16 denotes a metal back layer. Reference numeral 17 denotes a support frame (side wall).

この実施形態のFEDでは、メタルバック層16を構成する金属膜と、それより低い位置にある蛍光体層の上面との間に空隙が設けられているので、亀裂がなく、起伏が緩やかでほぼ平滑なメタルバック層16が得られており、反射特性が向上している。すなわち、メタルバック層16の反射面の拡散反射が低減され正反射成分が増大されているので、輝度が向上される。また、メタルバック層16に亀裂やピンホールなどがなく、光透過率が低く抑えられているので、高輝度で信頼性に優れた表示を実現することができる。   In the FED of this embodiment, since a gap is provided between the metal film constituting the metal back layer 16 and the upper surface of the phosphor layer located at a lower position, there is no crack, the undulation is gentle, and almost A smooth metal back layer 16 is obtained, and the reflection characteristics are improved. That is, since the diffuse reflection of the reflection surface of the metal back layer 16 is reduced and the regular reflection component is increased, the luminance is improved. In addition, since the metal back layer 16 has no cracks or pinholes and the light transmittance is kept low, a display with high luminance and excellent reliability can be realized.

次に、本発明をFEDに適用した具体的実施例について説明する。   Next, specific examples in which the present invention is applied to an FED will be described.

実施例1
黒色顔料を、Bi、ZnO、Al、Bから成るガラスフリット粉末に混合し、これにブチルカルビトールアセテートおよびα−テルピネオールの混合溶剤と感光性アクリル樹脂を混合して黒色顔料ペーストを調製した。このペーストを、フェースプレートを構成するガラス基板上にスクリーン印刷し乾燥した後、所定パターンが描画されたフォトマスクを用い、積算光量500mJ/cm(照度8mW/cm)で露光し、炭酸ナトリウム0.2重量%水溶液により未露光部を溶解・除去して、蛍光体層を形成すべき開口部を形成した。次いで、純水によりリンスした後、500℃で加熱・焼成し、有機分を除去した。こうして、15μmの厚さを有するストライプ状の光吸収層を形成した。
Example 1
A black pigment is mixed with a glass frit powder composed of Bi 2 O 3 , ZnO, Al 2 O 3 and B 2 O 3 , and a mixed solvent of butyl carbitol acetate and α-terpineol is mixed with a photosensitive acrylic resin. A black pigment paste was prepared. This paste is screen-printed on a glass substrate constituting the face plate, dried, and then exposed to a total amount of light of 500 mJ / cm 2 (illuminance of 8 mW / cm 2 ) using a photomask on which a predetermined pattern is drawn. The unexposed portion was dissolved and removed with a 0.2 wt% aqueous solution to form an opening where a phosphor layer was to be formed. Subsequently, after rinsing with pure water, the organic component was removed by heating and baking at 500 ° C. Thus, a striped light absorption layer having a thickness of 15 μm was formed.

次に、ZnS系、Y系、YS系などの蛍光体を含むペーストを使用し、光吸収層のパターンの所定部に埋め込むようにスクリーン印刷を行い、乾燥した。こうして、光吸収層のパターンの間に、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体層をそれぞれが隣り合うように形成し、蛍光体スクリーンを作製した。次いで、フェースプレート内面で、このような蛍光体スクリーンの周りの非表示領域に、黒色顔料からなる周辺ブラックマトリクスおよび銀ペースト膜からなる外枠部を順に形成した後、500℃で加熱・焼成を行った。こうして、層厚が10μmとなる蛍光体層を形成した。 Next, a paste containing a phosphor such as ZnS, Y 2 O 3 , or Y 2 O 2 S was used, screen-printed so as to be embedded in a predetermined portion of the pattern of the light absorption layer, and dried. In this way, phosphor layers of three colors of red (R), green (G), and blue (B) were formed adjacent to each other between the patterns of the light absorption layer, thereby producing a phosphor screen. Next, on the inner surface of the face plate, a peripheral black matrix made of a black pigment and an outer frame made of a silver paste film are sequentially formed in a non-display area around such a phosphor screen, and then heated and fired at 500 ° C. went. Thus, a phosphor layer having a layer thickness of 10 μm was formed.

次に、こうして形成された蛍光体スクリーンを有するフェースプレートにおいて、前記周辺ブラックマトリクスおよび外枠部を厚さ12μmのポリエステルフィルムでマスキングした後、ポリエチレンテレフタレート基材のベースフィルム(厚さ12μm)上に離型剤層、ニトロセルロース樹脂からなる平滑性樹脂層、エチレン−酢酸ビニル共重合体を主体とした接着剤層が順に積層された転写フィルムを、接着剤層が蛍光体スクリーンの光吸収層の上面に接するようにして載せた。そして、ベースフィルムの上からシリコーンゴムローラーにより加温加圧した。すなわち、表面温度150℃に加熱された硬度80度のシリコーンゴムローラーを、毎分2mの速度および2.5kgf/cmの圧力でベースフィルムの上を走らせて加圧し、次いでベースフィルムを剥離することにより、平滑性樹脂層を光吸収層の上面に密着させた。こうして、平滑性樹脂層が、光吸収層の上面にのみ密接し、蛍光体層の上方では膜状に張られた状態で形成された。 Next, in the face plate having the phosphor screen thus formed, the peripheral black matrix and the outer frame portion are masked with a polyester film having a thickness of 12 μm, and then formed on a polyethylene terephthalate base film (thickness 12 μm). A release film, a smooth resin layer made of nitrocellulose resin, a transfer film in which an adhesive layer mainly composed of ethylene-vinyl acetate copolymer is laminated in order, and the adhesive layer is a light absorbing layer of the phosphor screen. It was placed in contact with the top surface. And it heated and pressurized with the silicone rubber roller from the base film. That is, a silicone rubber roller having a hardness of 80 degrees heated to a surface temperature of 150 ° C. is pressed on the base film at a speed of 2 m / min and a pressure of 2.5 kgf / cm 2 , and then the base film is peeled off. Thus, the smooth resin layer was brought into close contact with the upper surface of the light absorption layer. Thus, the smooth resin layer was formed in close contact with only the upper surface of the light absorption layer and stretched in the form of a film above the phosphor layer.

次いで、表面温度80℃に加熱された硬度80度のシリコーンゴムローラーを、平滑性樹脂層の上を毎分2mの速度で1kgf/cmの圧力で走らせた。こうして平滑性樹脂層を加温加圧し、光吸収層と平滑性樹脂層との密着性を高めるとともに、平滑性樹脂層をさらに平滑化した。 Next, a silicone rubber roller having a hardness of 80 degrees heated to a surface temperature of 80 ° C. was run on the smooth resin layer at a speed of 2 m / min and a pressure of 1 kgf / cm 2 . In this way, the smooth resin layer was heated and pressurized to improve the adhesion between the light absorption layer and the smooth resin layer, and the smooth resin layer was further smoothed.

その後、平滑化された平滑性樹脂層の上に、120nmの厚さのAl膜をスパッタリングにより形成した後、フェースプレート全体を500℃の温度で焼成(ベーキング)して平滑性樹脂層を含む有機分を分解・除去した。こうして、図1および図2に示す構造を有し、蛍光体層3の上面と金属膜(Al膜)との間の空隙5の寸法Dが4〜5μmであるメタルバック付き蛍光面を備えたフェースプレートを3枚作製した。   Thereafter, an Al film having a thickness of 120 nm is formed on the smoothed smooth resin layer by sputtering, and then the whole face plate is baked (baked) at a temperature of 500 ° C. to include the smooth resin layer. The minute was decomposed and removed. Thus, a phosphor screen with a metal back having the structure shown in FIGS. 1 and 2 and having a dimension D of the gap 5 between the upper surface of the phosphor layer 3 and the metal film (Al film) of 4 to 5 μm was provided. Three face plates were produced.

実施例2
黒色顔料を、Bi、ZnO、Al、Bから成るガラスフリット粉末に混合し、これにブチルカルビトールアセテートおよびα−テルピネオールの混合溶剤と感光性アクリル樹脂を混合して黒色顔料ペーストを調製した。このペーストを、フェースプレートを構成するガラス基板上にスクリーン印刷し乾燥し、乾燥後の厚さが10μmの光吸収層を形成した。次いで、SnOおよびSbの導電層を表面被覆したルチル型球状TiOから成る金属酸化物微粒子に、Bi、ZnO、Al、Bから成るガラスフリット粉末を混合し、さらにブチルカルビトールアセテートおよびα−テルピネオールの混合溶剤と感光性アクリル樹脂を混合して成るペーストを、前記光吸収層の上にスクリーン印刷・乾燥し、抵抗調整層を形成した。なお、乾燥後の光吸収積層部(光吸収層と抵抗調整層との積層部)の層厚が20μmになるように抵抗調整層を形成した。
Example 2
A black pigment is mixed with a glass frit powder composed of Bi 2 O 3 , ZnO, Al 2 O 3 and B 2 O 3 , and a mixed solvent of butyl carbitol acetate and α-terpineol is mixed with a photosensitive acrylic resin. A black pigment paste was prepared. This paste was screen printed on a glass substrate constituting the face plate and dried to form a light absorption layer having a thickness of 10 μm after drying. Next, glass frit powder composed of Bi 2 O 3 , ZnO, Al 2 O 3 , and B 2 O 3 is mixed with metal oxide fine particles composed of rutile spherical TiO 2 whose surface is coated with SnO 2 and Sb conductive layers. Further, a paste prepared by mixing a mixed solvent of butyl carbitol acetate and α-terpineol and a photosensitive acrylic resin was screen-printed and dried on the light absorption layer to form a resistance adjusting layer. In addition, the resistance adjustment layer was formed so that the layer thickness of the light absorption lamination | stacking part (lamination part of a light absorption layer and a resistance adjustment layer) after drying might be set to 20 micrometers.

次いで、所定パターンが描画されたフォトマスクを用い、積算光量500mJ/cm(照度8mW/cm)で露光し、炭酸ナトリウム0.2重量%水溶液により未露光部を溶解・除去して、蛍光体層を形成すべき開口を形成した。次いで、純水によりリンスした後、500℃で加熱・焼成し有機分を除去した。こうして、光吸収層と抵抗調整層とを合わせた層厚が15μmとなるストライプ状の光吸収積層部が得られた。 Next, using a photomask on which a predetermined pattern is drawn, exposure is performed with an integrated light amount of 500 mJ / cm 2 (illuminance of 8 mW / cm 2 ), and unexposed portions are dissolved and removed with a 0.2 wt% sodium carbonate aqueous solution. An opening for forming a body layer was formed. Subsequently, after rinsing with pure water, the organic component was removed by heating and baking at 500 ° C. In this way, a stripe-shaped light absorption laminated portion having a combined thickness of the light absorption layer and the resistance adjustment layer of 15 μm was obtained.

次に、ZnS系、Y系、YS系などの各色の蛍光体を含むペーストを使用してスクリーン印刷を行い、乾燥させた。こうして、光吸収積層部の間に、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体層をそれぞれが隣り合うように形成し、蛍光体スクリーンを作製した。次いで、フェースプレート内面で、このような蛍光体スクリーンの周りの非表示領域に、黒色顔料からなる周辺ブラックマトリクスと銀ペースト膜からなる外枠部を順に形成した後、500℃で加熱・焼成を行った。こうして、厚さが10μmとなる蛍光体層を形成した。 Next, screen printing was performed using a paste containing phosphors of various colors such as ZnS, Y 2 O 3 , and Y 2 O 2 S and dried. In this way, phosphor layers of three colors of red (R), green (G), and blue (B) were formed adjacent to each other between the light-absorbing laminated portions, thereby producing a phosphor screen. Next, on the inner surface of the face plate, a peripheral black matrix made of black pigment and an outer frame part made of silver paste film are sequentially formed in a non-display area around such a phosphor screen, and then heated and fired at 500 ° C. went. Thus, a phosphor layer having a thickness of 10 μm was formed.

次に、こうして形成された蛍光体スクリーンを有するフェースプレートにおいて、前記周辺ブラックマトリクスおよび外枠部を厚さ12μmのポリエステルフィルムでマスキングした後、ポリエチレンテレフタレート基材のベースフィルム(厚さ12μm)上に離型剤層、ニトロセルロース樹脂からなる平滑性樹脂層、エチレン−酢酸ビニル共重合体を主体とした接着剤層が順に積層・形成された転写フィルムを、接着剤層が蛍光体スクリーンの光吸収積層部(抵抗調整層)の上面に接するようにして載せた。そして、ベースフィルムの上から、表面温度150℃に加熱された硬度80度のシリコーンゴムローラーを毎分2mの速度および2.5kgf/cmの圧力で走らせて加圧・圧着し、次いでベースフィルムを剥離することにより、平滑性樹脂層を抵抗調整層の上面に密着させた。こうして、こうして、平滑性樹脂層が、抵抗調整層の上面にのみ密接し、蛍光体層の上方では膜状に張られた状態で形成された。 Next, in the face plate having the phosphor screen thus formed, the peripheral black matrix and the outer frame portion are masked with a polyester film having a thickness of 12 μm, and then formed on a polyethylene terephthalate base film (thickness 12 μm). Release agent layer, smooth resin layer made of nitrocellulose resin, transfer film in which adhesive layer mainly composed of ethylene-vinyl acetate copolymer is laminated and formed in order, adhesive layer absorbs light of phosphor screen The laminated part (resistance adjustment layer) was placed in contact with the upper surface. Then, from the top of the base film, a silicone rubber roller having a hardness of 80 degrees heated to a surface temperature of 150 ° C. is run at a speed of 2 m / min and a pressure of 2.5 kgf / cm 2 to press and press the base film. By peeling off, the smooth resin layer was brought into close contact with the upper surface of the resistance adjustment layer. Thus, in this way, the smooth resin layer was formed in close contact with only the upper surface of the resistance adjusting layer and stretched in a film shape above the phosphor layer.

次いで、平滑性樹脂層の上を、表面温度80℃に加熱された硬度80度のシリコーンゴムローラーを、毎分2mの速度で1kgf/cmの圧力で走らせた。こうして平滑性樹脂層を加温加圧し、光吸収積層部(抵抗調整層)と平滑性樹脂層との密着性を高めるとともに、平滑性樹脂層をさらに平滑化した。 Next, on the smooth resin layer, a silicone rubber roller having a hardness of 80 degrees heated to a surface temperature of 80 ° C. was run at a pressure of 1 kgf / cm 2 at a speed of 2 m / min. In this way, the smoothing resin layer was heated and pressurized to improve the adhesion between the light absorption layered portion (resistance adjusting layer) and the smoothing resin layer, and the smoothing resin layer was further smoothed.

その後、平滑化された平滑性樹脂層の上に、スパッタリングにより120nmの厚さのAl膜を形成した後、フェースプレート全体を500℃の温度で焼成(ベーキング)し、平滑性樹脂層を含む有機分を分解・除去した。こうして、こうして、図5および図6に示す構造を有し、蛍光体層3の上面と金属膜(Al膜)との間の空隙5の寸法Dが4〜5μmであるメタルバック付き蛍光面を備えたフェースプレートを3枚作製した。   Thereafter, an Al film having a thickness of 120 nm is formed on the smoothed smooth resin layer by sputtering, and then the entire face plate is baked (baked) at a temperature of 500 ° C. The minute was decomposed and removed. Thus, a phosphor screen with a metal back having the structure shown in FIGS. 5 and 6 and having a dimension D of the gap 5 between the upper surface of the phosphor layer 3 and the metal film (Al film) of 4 to 5 μm is thus obtained. Three face plates were prepared.

比較例1
実施例1において、焼成後の層厚が10μmとなるように塗布厚を調整して、光吸収層を形成した後、焼成後の層厚が同じく10μmとなるように塗布厚を調整して、蛍光体層を形成した。それ以外は実施例1と同様にして、蛍光体層の上面とAl膜とが密着した構造のメタルバック付き蛍光面を作製した。
Comparative Example 1
In Example 1, the coating thickness was adjusted so that the layer thickness after firing was 10 μm, and after forming the light absorption layer, the coating thickness was adjusted so that the layer thickness after firing was also 10 μm, A phosphor layer was formed. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the phosphor surface with a metal back | bag of the structure where the upper surface of the fluorescent substance layer and Al film | membrane closely_contact | adhered.

比較例2
実施例2において、焼成後の層厚が10μmとなるように塗布厚を調整して、光吸収層と抵抗調整層との積層部を形成した後、焼成後の層厚が同じく10μmとなるように塗布厚を調整して、蛍光体層を形成した。それ以外は実施例2と同様にして、蛍光体層の上面とAl膜とが密着した構造のメタルバック付き蛍光面を作製した。
Comparative Example 2
In Example 2, the coating thickness was adjusted so that the layer thickness after firing was 10 μm, and after the laminated portion of the light absorption layer and the resistance adjustment layer was formed, the layer thickness after firing was similarly 10 μm. The phosphor layer was formed by adjusting the coating thickness. Other than that was carried out similarly to Example 2, and produced the fluorescent surface with a metal back | bag of the structure where the upper surface of the fluorescent substance layer and Al film | membrane closely_contact | adhered.

次に、実施例1,2および比較例1,2で得られたメタルバック付き蛍光面を有するフェースプレートの各サンプル(試料)をそれぞれ使用し、以下に述べる手順でFEDを作製した。まず、基板上に多数の表面伝導型電子放出素子が形成された電子発生源をガラス基板に固定し、リアプレートを作製した。次いで、このリアプレートと実施例1,2および比較例1,2で得られたフェースプレートとを、支持枠およびスペーサを介して対向配置し、フリットガラスにより封着した。その後、封止、排気など必要な処理を施し、10型カラーFEDを完成した。   Next, each sample (specimen) of the face plate having the phosphor screen with the metal back obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 was used, and an FED was manufactured according to the procedure described below. First, an electron generation source in which a number of surface conduction electron-emitting devices were formed on a substrate was fixed to a glass substrate to produce a rear plate. Next, the rear plate and the face plates obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were arranged to face each other via a support frame and a spacer, and sealed with frit glass. Thereafter, necessary processing such as sealing and exhausting was performed to complete a 10-inch color FED.

得られた10型カラーFEDを、電子線加速電圧10kVで白色ラスター表示させ、画面の輝度をそれぞれ測定した。そして、比較例1および2で得られたFEDの輝度を基準にして、実施例1および2で得られたFEDの相対輝度を求めた。なお、相対輝度はそれぞれ次式を用いて算出した。結果を表1に示す。
実施例1の相対輝度=(実施例1のFEDの輝度)÷(比較例1のFEDの輝度)
実施例2の相対輝度=(実施例2のFEDの輝度)÷(比較例2のFEDの輝度)
The obtained 10-inch color FED was displayed as a white raster with an electron beam acceleration voltage of 10 kV, and the brightness of the screen was measured. Then, the relative brightness of the FEDs obtained in Examples 1 and 2 was determined based on the brightness of the FEDs obtained in Comparative Examples 1 and 2. The relative luminance was calculated using the following equation. The results are shown in Table 1.
Relative brightness of Example 1 = (FED brightness of Example 1) ÷ (FED brightness of Comparative Example 1)
Relative brightness of Example 2 = (FED brightness of Example 2) / (FED brightness of Comparative Example 2)

Figure 2008226745
Figure 2008226745

表1から明らかなように、実施例1および2で得られたメタルバック付き蛍光面を備えたFEDは、蛍光体層の上面とメタルバック層とが密着した従来構造のメタルバック付き蛍光面を備えた比較例1および2のFEDに比べて、輝度が22%から27%上昇している。また、実施例1および2のFEDについて、電子線加速電圧5kVで1000時間駆動試験を行ったが、放電現象は発生しなかった。   As is clear from Table 1, the FED having the metal-backed phosphor screen obtained in Examples 1 and 2 has a metal-backed phosphor screen having a conventional structure in which the upper surface of the phosphor layer and the metal-back layer are in close contact with each other. The brightness is increased from 22% to 27% compared to the FEDs of Comparative Examples 1 and 2 provided. Further, the FEDs of Examples 1 and 2 were subjected to a 1000 hour drive test at an electron beam acceleration voltage of 5 kV, but no discharge phenomenon occurred.

本発明によれば、反射特性に優れ光透過率が低く抑えられたメタルバック層を有し、輝度の高いメタルバック付き蛍光面を得ることができる。したがって、このようなメタルバック付き蛍光面を備えることで、輝度の高い画像表示装置を実現することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it has a metal back layer which was excellent in reflective characteristics, and the light transmittance was restrained low, and can obtain the fluorescent screen with a metal back with high brightness | luminance. Therefore, by providing such a phosphor screen with a metal back, an image display device with high luminance can be realized.

本発明の第1の実施形態であるメタルバック付き蛍光面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the fluorescent screen with a metal back which is the 1st Embodiment of this invention. 図1の要部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the principal part of FIG. 従来構造である、蛍光体層とメタルバック層(金属膜)との間に空隙がないメタルバック付き蛍光面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the fluorescent screen with a metal back which is a conventional structure and does not have a space | gap between a fluorescent substance layer and a metal back layer (metal film). 第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面を製造する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of manufacturing the fluorescent screen with a metal back of 1st Embodiment. 第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面を製造する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of manufacturing the fluorescent screen with a metal back of 1st Embodiment. 第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面を製造する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of manufacturing the fluorescent screen with a metal back of 1st Embodiment. 第1の実施形態のメタルバック付き蛍光面を製造する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of manufacturing the fluorescent screen with a metal back of 1st Embodiment. 本発明の第2の実施形態であるメタルバック付き蛍光面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the fluorescent screen with a metal back which is the 2nd Embodiment of this invention. 図5の要部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the principal part of FIG. 本発明の第3の実施形態であるFEDの構造を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of FED which is the 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…ガラス基板、2…光吸収層、3…蛍光体層、4,16…メタルバック層、5…空隙、6…平滑性樹脂層、7…金属膜、8…抵抗調整層、11…フェースプレート、13…電子放出素子、14…リアプレート、15…蛍光体スクリーン。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate, 2 ... Light absorption layer, 3 ... Phosphor layer, 4,16 ... Metal back layer, 5 ... Air gap, 6 ... Smooth resin layer, 7 ... Metal film, 8 ... Resistance adjustment layer, 11 ... Face Plate, 13 ... Electron-emitting device, 14 ... Rear plate, 15 ... Phosphor screen.

Claims (12)

フェースプレート内面に少なくとも光吸収層と蛍光体層が形成された蛍光面を有し、この蛍光面上に平滑性樹脂層を介して形成された金属膜からなるメタルバック層を有するメタルバック付き蛍光面であり、
前記金属膜と、該金属膜より低い位置にある前記蛍光体層の上面との間に、空隙が設けられていることを特徴とするメタルバック付き蛍光面。
A fluorescence with a metal back having a phosphor screen on which at least a light absorption layer and a phosphor layer are formed on the inner surface of the face plate, and a metal back layer made of a metal film formed on the phosphor surface through a smooth resin layer Surface,
A phosphor screen with a metal back, wherein a gap is provided between the metal film and the upper surface of the phosphor layer at a position lower than the metal film.
前記光吸収層の層厚が前記蛍光体層の層厚よりも厚く形成され、かつ前記光吸収層の上面に前記平滑性樹脂層を介して前記金属膜が密接されていることを特徴とする請求項1記載のメタルバック付き蛍光面。   The layer thickness of the light absorption layer is formed larger than the layer thickness of the phosphor layer, and the metal film is in close contact with the upper surface of the light absorption layer via the smoothing resin layer. The fluorescent screen with a metal back according to claim 1. 前記光吸収層の上に、前記メタルバック層の電気抵抗値を制御するための耐熱性無機微粒子を主体とする抵抗調整層を有し、かつこの抵抗調整層の上面に前記平滑性樹脂層を介して前記金属膜が密接されており、該金属膜と前記蛍光体層の上面との間に空隙が設けられていることを特徴とする請求項1記載のメタルバック付き蛍光面。   On the light absorption layer, there is a resistance adjustment layer mainly composed of heat-resistant inorganic fine particles for controlling the electric resistance value of the metal back layer, and the smooth resin layer is provided on the upper surface of the resistance adjustment layer. 2. The phosphor screen with a metal back according to claim 1, wherein the metal film is in close contact with each other, and a gap is provided between the metal film and the upper surface of the phosphor layer. 前記蛍光体層の上面と前記金属膜との間に設けられた空隙が、厚さ方向の寸法で1〜10μmの範囲にあることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のメタルバック付き蛍光面。   The space | gap provided between the upper surface of the said fluorescent substance layer and the said metal film exists in the range of 1-10 micrometers in the dimension of a thickness direction, The any one of Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. Phosphor screen with metal back. 前記金属膜の膜厚が、80〜150nmであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のメタルバック付き蛍光面。 The phosphor screen with a metal back according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal film has a thickness of 80 to 150 nm. 前記平滑性樹脂層が、アクリル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル−メラミン共重合体樹脂、メラミン−尿素共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース類、ビニル系樹脂から選ばれる1種または2種以上の樹脂を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載のメタルバック付き蛍光面。   The smooth resin layer is acrylic resin, melamine resin, urea resin, acrylic-melamine copolymer resin, melamine-urea copolymer resin, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, alkyd resin, polyamide resin, celluloses, The phosphor screen with a metal back according to any one of claims 1 to 5, comprising one or more resins selected from vinyl resins. フェースプレート内面に、所定のパターンを有する光吸収層と該光吸収層よりも薄い層厚を有する蛍光体層をそれぞれ形成し、蛍光面を形成する工程と、
ベースフィルム上に少なくとも剥離剤層と平滑性樹脂層および接着剤層が形成された転写フィルムを、前記平滑性樹脂層が前記接着剤層を介して前記蛍光面上に接するように配置し、転写ローラーにより加熱しながら押圧して接着した後前記ベースフィルムを剥ぎ取ることにより、前記平滑性樹脂層を転写する工程と、
前記蛍光面上に転写された前記平滑性樹脂層上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜が形成されたフェースプレートを加熱処理し、有機分を分解・除去する工程を備えることを特徴とするメタルバック付き蛍光面の製造方法。
Forming a light absorption layer having a predetermined pattern on the inner surface of the face plate and a phosphor layer having a thinner thickness than the light absorption layer, and forming a phosphor screen;
A transfer film in which at least a release agent layer, a smoothing resin layer and an adhesive layer are formed on a base film is disposed so that the smoothing resin layer is in contact with the phosphor screen via the adhesive layer, and then transferred. A step of transferring the smoothing resin layer by peeling off the base film after pressing and bonding while heating with a roller;
Forming a metal film on the smooth resin layer transferred onto the phosphor screen;
A method of manufacturing a phosphor screen with a metal back, comprising a step of heat-treating the face plate on which the metal film is formed to decompose and remove organic components.
フェースプレート内面に、所定のパターンを有する光吸収層とその上に積層された耐熱性無機微粒子を主体とする抵抗調整層とから成る光吸収積層部を形成する工程と、
前記光吸収積層部が形成されたフェースプレート内面に、該光吸収積層部よりも薄い層厚を有する蛍光体層を形成し、該蛍光体層と前記光吸収積層部とから成る蛍光面を形成する工程と、
ベースフィルム上に少なくとも剥離剤層と平滑性樹脂層および接着剤層が形成された転写フィルムを、前記平滑性樹脂層が前記接着剤層を介して前記抵抗調整層に接するように配置し、転写ローラーにより加熱しながら押圧して接着した後前記ベースフィルムを剥ぎ取ることにより、前記平滑性樹脂層を前記蛍光面上に転写する工程と、
前記蛍光面上に転写された前記平滑性樹脂層上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜が形成されたフェースプレートを加熱処理し、有機分を分解・除去する工程を備えることを特徴とするメタルバック付き蛍光面の製造方法。
Forming a light absorption layered portion comprising a light absorption layer having a predetermined pattern and a resistance adjustment layer mainly composed of heat-resistant inorganic fine particles laminated thereon on the inner surface of the face plate;
Forming a phosphor layer having a thinner layer thickness than the light-absorbing laminate on the inner surface of the face plate on which the light-absorbing laminate is formed, and forming a phosphor screen comprising the phosphor layer and the light-absorbing laminate And a process of
A transfer film in which at least a release agent layer, a smoothing resin layer and an adhesive layer are formed on a base film is disposed so that the smoothing resin layer is in contact with the resistance adjusting layer via the adhesive layer, and then transferred. A step of transferring the smoothing resin layer onto the phosphor screen by peeling off the base film after being pressed and bonded while being heated by a roller;
Forming a metal film on the smooth resin layer transferred onto the phosphor screen;
A method of manufacturing a phosphor screen with a metal back, comprising a step of heat-treating the face plate on which the metal film is formed to decompose and remove organic components.
前記平滑性樹脂層は、アクリル樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル−メラミン共重合体樹脂、メラミン−尿素共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース類、ビニル系樹脂から選ばれる1種または2種以上の樹脂を含むことを特徴とする請求項7または8記載のメタルバック付き蛍光面の製造方法。   The smooth resin layer includes acrylic resin, melamine resin, urea resin, acrylic-melamine copolymer resin, melamine-urea copolymer resin, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, alkyd resin, polyamide resin, celluloses, The method for producing a phosphor screen with a metal back according to claim 7 or 8, comprising one or two or more resins selected from vinyl resins. 前記接着剤層が、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル酸樹脂、エチレン−酢酸ビニル−アクリル酸三元重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリブテン樹脂、ポリアミド樹脂から選ばれる1種または2種以上の樹脂を主成分とすることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項記載のメタルバック付き蛍光面の製造方法。   The adhesive layer is made of vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, styrene-acrylic acid resin, ethylene-vinyl acetate-acrylic acid terpolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, polybutene resin, The method for producing a phosphor screen with a metal back according to any one of claims 7 to 9, wherein the main component is one or more resins selected from polyamide resins. 転写された前記平滑性樹脂層上に、蒸着法あるいはスパッタリング法により前記金属膜を形成することを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項記載のメタルバック付き蛍光面の製造方法。   The method for producing a fluorescent screen with a metal back according to any one of claims 7 to 10, wherein the metal film is formed on the transferred smooth resin layer by vapor deposition or sputtering. フェースプレートと、該フェースプレートと対向配置されたリアプレートと、前記リアプレート上に形成された多数の電子放出素子と、前記フェースプレート上に前記リアプレートに対向して形成され、前記電子放出素子から放出される電子線により発光する蛍光面とを備え、前記蛍光面が、請求項1乃至6のいずれか1項記載のメタルバック付き蛍光面であることを特徴とする画像表示装置。   A face plate; a rear plate disposed opposite to the face plate; a plurality of electron-emitting devices formed on the rear plate; and the electron-emitting device formed on the face plate so as to face the rear plate. An image display device comprising: a phosphor screen that emits light by an electron beam emitted from the phosphor screen, wherein the phosphor screen is a phosphor screen with a metal back according to claim 1.
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