JP2008226715A

JP2008226715A - Plasma display panel

Info

Publication number: JP2008226715A
Application number: JP2007065228A
Authority: JP
Inventors: Takashi Hashiguchi; 敬司橋口; Kazuo Yoshikawa; 和生吉川; Akira Otsuka; 晃大塚
Original assignee: Hitachi Plasma Display Ltd
Current assignee: Hitachi Plasma Display Ltd
Priority date: 2007-03-14
Filing date: 2007-03-14
Publication date: 2008-09-25

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To balance a stress in a substrate to reduce a warp of the substrate so that uniformity of a gap of substrates and display performance of a PDP are improved, by forming a film, equivalent to a dielectric film formed on an inner surface of a glass substrate, on an outer surface of the glass substrate. <P>SOLUTION: In a plasma display panel, an inner surface of at least one glass substrate of a pair of glass substrates facing each other via a discharge space is provided with an electrode and a dielectric film covering the electrode, and a discharge gas is encapsulated in the discharge space. An outer surface of one glass substrate, that is not provided with an electrode and a dielectric film, is provided with a film capable of giving the substrate a stress substantially equilibrated with a stress caused by the dielectric film. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と記す）に関する。さらに詳しくは、前面側の基板と背面側の基板とを貼り合わせて内部に放電ガスを封入したＰＤＰに関する。 The present invention relates to a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”). More specifically, the present invention relates to a PDP in which a front-side substrate and a back-side substrate are bonded together and a discharge gas is sealed inside.

ＰＤＰとして、ＡＣ面放電型のＰＤＰがよく知られている。このＰＤＰは、前面側のガラス基板と背面側のガラス基板が貼り合わされ、内部に放電ガスが封入された構造となっている。前面側のガラス基板の内側面には、複数の表示電極が平行に形成され、この表示電極が誘電体膜（誘電体層ともいう）で覆われている。背面側のガラス基板の内側面には、表示電極と交差する方向にアドレス電極が形成されている。そして、その上に放電空間を区画するための隔壁が形成され、隔壁と隔壁との間には３原色である赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の蛍光体層が形成されている。 As the PDP, an AC surface discharge type PDP is well known. This PDP has a structure in which a front glass substrate and a rear glass substrate are bonded together, and a discharge gas is sealed inside. A plurality of display electrodes are formed in parallel on the inner side surface of the front glass substrate, and the display electrodes are covered with a dielectric film (also referred to as a dielectric layer). Address electrodes are formed on the inner side surface of the glass substrate on the back side so as to intersect the display electrodes. A partition wall for partitioning the discharge space is formed thereon, and phosphor layers of three primary colors, red (R), green (G), and blue (B), are formed between the partition walls. ing.

このＰＤＰでは、画面の表示は、電極間に電圧を印加することにより行う。電極間に電圧が印加されると、放電空間で放電が起こり、紫外線が発生され、この紫外線により蛍光体層が励起発光されることによってカラー表示が行われる。誘電体膜は、この電極間の放電特性及び絶縁性を得るために電極を覆うように成膜されている。 In this PDP, screen display is performed by applying a voltage between the electrodes. When a voltage is applied between the electrodes, discharge occurs in the discharge space, ultraviolet rays are generated, and the phosphor layer is excited to emit light by the ultraviolet rays, whereby color display is performed. The dielectric film is formed so as to cover the electrodes in order to obtain discharge characteristics and insulation between the electrodes.

上記誘電体膜は、以下のような方法で基板に形成される。すなわち、ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒などを混合したガラスペーストを、電極が形成された基板上に、スクリーン印刷やスロットコーター法などで塗布して焼成するか、あるいは、ガラスフリットを含有した誘電体シートを使用し、この誘電体シートを電極が形成された基板に貼り付けて焼成することで、基板上に誘電体膜が成膜される（特許文献１参照）。
また、片側の基板上に表示電極とアドレス電極とを誘電体膜を介して配置したＡＣ型面放電ＰＤＰも知られている（特許文献２参照）。 The dielectric film is formed on the substrate by the following method. That is, a glass paste mixed with glass frit, a binder resin, a solvent, etc. is applied to a substrate on which an electrode is formed by screen printing or a slot coater method and fired, or a dielectric containing glass frit A dielectric film is formed on the substrate by using the sheet and attaching the dielectric sheet to the substrate on which the electrodes are formed and firing the sheet (see Patent Document 1).
In addition, an AC type surface discharge PDP in which a display electrode and an address electrode are arranged on one substrate via a dielectric film is also known (see Patent Document 2).

特開平５−２０５６４２号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-205642 特開昭５７−７８７５１号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 57-78751

上述したように、誘電体膜は、誘電体粉末層の焼成工程、あるいは誘電体材料を含む溶剤の焼成工程を経ることで形成される。この焼成工程は高温での処理である。このため、焼成の際に誘電体膜が収縮することがある。また、誘電体膜と基板とは熱膨張係数が異なる。このため、焼成後に室温に戻した際の熱収縮率に差が生じ、誘電体膜に引っ張り応力が生じたり、圧縮応力が生じたりすることがある。 As described above, the dielectric film is formed through a firing process of the dielectric powder layer or a firing process of the solvent containing the dielectric material. This firing step is a high temperature treatment. For this reason, the dielectric film may shrink during firing. Further, the dielectric film and the substrate have different coefficients of thermal expansion. For this reason, there is a difference in the thermal shrinkage rate when the temperature is returned to room temperature after firing, which may cause tensile stress or compressive stress in the dielectric film.

これにより、以下のような問題が生ずる。すなわち、誘電体膜は前面側または背面側のガラス基板の内側面にのみ形成するため、誘電体膜がガラス基板に対して収縮する場合や、誘電体膜の熱膨張係数がガラス基板より大きい場合は、誘電体膜に引っ張り応力がかかる。このため、ガラス基板の誘電体膜形成面側が凹状に反り、前面側の基板と背面側の基板を合わせたときに基板間に部分的にギャップが発生してしまう。 This causes the following problems. That is, since the dielectric film is formed only on the inner surface of the front or rear glass substrate, the dielectric film contracts with respect to the glass substrate, or the thermal expansion coefficient of the dielectric film is larger than the glass substrate. The tensile stress is applied to the dielectric film. For this reason, the dielectric film formation surface side of the glass substrate warps in a concave shape, and when the front substrate and the rear substrate are combined, a gap is partially generated between the substrates.

逆に、誘電体膜の熱膨張係数がガラス基板より小さい場合や、成膜条件で誘電体膜に圧縮応力がかかる場合は、ガラス基板の誘電体膜形成面側が凸状に反り、この場合も、前面側の基板と背面側の基板を合わせたときに基板間に部分的にギャップが発生してしまう。 Conversely, when the dielectric film has a smaller thermal expansion coefficient than the glass substrate or when compressive stress is applied to the dielectric film under the deposition conditions, the dielectric film forming surface side of the glass substrate warps in a convex shape. When the front substrate and the rear substrate are combined, a gap is partially generated between the substrates.

本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、ガラス基板の内側面に形成した誘電体膜と同等の膜をガラス基板の外側面に形成することで、基板に生ずる応力のバランスをとり、これにより基板の反りを軽減して、基板間のギャップの均一性、およびＰＤＰの表示性能を向上させるものである。 The present invention has been made in consideration of such circumstances, and by forming a film equivalent to the dielectric film formed on the inner surface of the glass substrate on the outer surface of the glass substrate, the balance of stress generated on the substrate is achieved. Thus, the warpage of the substrate is reduced, and the uniformity of the gap between the substrates and the display performance of the PDP are improved.

本発明は、放電空間を介して対向する一対のガラス基板の少なくとも一方のガラス基板の内面に電極とその電極を覆う誘電体膜を形成し、前記放電空間に放電ガスを封入したプラズマディスプレイパネルであって、前記一方のガラス基板の電極と誘電体膜が形成されていない外面に、当該誘電体膜によって生ずる応力とほぼ釣合う応力を基板に与え得る膜を形成してなるプラズマディスプレイパネルである。 The present invention provides a plasma display panel in which an electrode and a dielectric film covering the electrode are formed on the inner surface of at least one of the pair of glass substrates facing each other through the discharge space, and a discharge gas is sealed in the discharge space. The plasma display panel is formed by forming, on the outer surface of the glass substrate on which the electrode and the dielectric film are not formed, a film that can give the substrate a stress that substantially matches the stress generated by the dielectric film. .

本発明によれば、ガラス基板に生ずる応力に釣り合いがとれるので、ガラス基板の反りが緩和され、これにより基板間のギャップの均一性が向上され、ＰＤＰの表示特性および信頼性が向上される。 According to the present invention, since the stress generated in the glass substrate is balanced, the warpage of the glass substrate is alleviated, thereby improving the uniformity of the gap between the substrates and improving the display characteristics and reliability of the PDP.

本発明において、ＰＤＰを構成する基板としては、ガラス基板上に、電極、絶縁膜、誘電体膜、保護膜等の所望の構成要素を形成した基板が含まれる。 In the present invention, the substrate constituting the PDP includes a substrate in which desired components such as an electrode, an insulating film, a dielectric film, and a protective film are formed on a glass substrate.

電極は、当該分野で公知の各種の材料と方法を用いて形成することができる。電極に用いられる材料としては、例えば、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂などの透明な導電性材料や、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒなどの金属の導電性材料が挙げられる。電極の形成方法としては、当該分野で公知の各種の方法を適用することができる。たとえば、印刷などの厚膜形成技術を用いて形成してもよいし、物理的堆積法または化学的堆積法からなる薄膜形成技術を用いて形成してもよい。厚膜形成技術としては、スクリーン印刷法などが挙げられる。薄膜形成技術の内、物理的堆積法としては、蒸着法やスパッタ法などが挙げられる。化学的堆積方法としては、熱ＣＶＤ法や光ＣＶＤ法、あるいはプラズマＣＶＤ法などが挙げられる。 The electrode can be formed using various materials and methods known in the art. Examples of the material used for the electrode include transparent conductive materials such as ITO and SnO ₂ and metal conductive materials such as Ag, Au, Al, Cu, and Cr. As a method for forming the electrode, various methods known in the art can be applied. For example, it may be formed using a thick film forming technique such as printing, or may be formed using a thin film forming technique including a physical deposition method or a chemical deposition method. Examples of the thick film forming technique include a screen printing method. Among thin film formation techniques, examples of physical deposition methods include vapor deposition and sputtering. Examples of the chemical deposition method include a thermal CVD method, a photo CVD method, and a plasma CVD method.

誘電体膜は、以下のようにして成膜することができる。まず、低融点ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒などを混合したガラスペーストを、基板全体に電極を覆ってスクリーン印刷やスロットコーター法などで塗布して乾燥させることで誘電体粉末層を形成する。または低融点ガラスフリットとバインダー樹脂とを含むグリーンシート（未焼結の誘電体シート）を使用し、この誘電体シートを電極が形成された基板に貼り付けることで誘電体粉末層を形成する。次に、この誘電体粉末層を焼成し、樹脂成分を焼失させると共に誘電体材料を基板に溶着することで、基板上に誘電体膜を成膜することができる。あるいは、ディッピング法を用いて基板に誘電体材料を含む溶剤を塗布し、これを焼成して溶剤を気化させることで、基板上に誘電体の薄膜を成膜するようにしてもよい。ガラス粉末としては、酸化シリコン、ホウケイ酸ガラス、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化鉛等のガラス材を適用することができる。 The dielectric film can be formed as follows. First, a dielectric paste layer is formed by applying a glass paste mixed with a low-melting glass frit, a binder resin, a solvent, etc., covering the entire substrate with an electrode by screen printing or a slot coater method and drying. Alternatively, a dielectric sheet layer is formed by using a green sheet (unsintered dielectric sheet) containing a low-melting glass frit and a binder resin and affixing the dielectric sheet to a substrate on which an electrode is formed. Next, the dielectric powder layer is baked to burn off the resin component, and the dielectric material is welded to the substrate, whereby a dielectric film can be formed on the substrate. Alternatively, a dielectric thin film may be formed on the substrate by applying a solvent containing a dielectric material to the substrate using a dipping method and baking the solvent to vaporize the solvent. As the glass powder, glass materials such as silicon oxide, borosilicate glass, aluminum oxide, yttrium oxide, and lead oxide can be applied.

上記構成においては、ガラス基板の外面に形成された膜が、当該ガラス基板の内面に形成された誘電体膜と同じ誘電体膜であることが望ましい。 In the above configuration, it is desirable that the film formed on the outer surface of the glass substrate is the same dielectric film as the dielectric film formed on the inner surface of the glass substrate.

一方のガラス基板が前面側のガラス基板である場合、当該前面側ガラス基板の外面に形成された膜は、光学フィルター機能を有していてもよい。また、網目状の導電膜と平面状の誘電体膜との二層構造のＥＩＭフィルター機能を有していてもよい。 When one glass substrate is a front glass substrate, the film formed on the outer surface of the front glass substrate may have an optical filter function. Further, it may have an EIM filter function having a two-layer structure of a mesh-like conductive film and a planar dielectric film.

本発明は、また、一方の面に電極とその電極を覆う誘電体膜を形成した前面側の基板と、一方の面に電極とその電極を覆う誘電体膜を形成した背面側の基板とを、一方の面どうしが対向するように貼り合わせ、内部に形成された放電空間に放電ガスを封入したプラズマディスプレイパネルであって、前記背面側の基板の他方の面に、前記背面側の基板の一方の面に形成された誘電体膜によって生ずる応力とほぼ釣合う応力を基板に与え得る膜を形成してなるプラズマディスプレイパネルである。 The present invention also includes a front substrate having an electrode and a dielectric film covering the electrode on one surface, and a back substrate having an electrode and a dielectric film covering the electrode on one surface. A plasma display panel in which one surface is bonded to each other and a discharge gas is sealed in a discharge space formed inside, and the other surface of the substrate on the back side is connected to the other surface of the substrate on the back surface side. This is a plasma display panel in which a film capable of giving a substrate a stress that substantially balances the stress generated by the dielectric film formed on one surface is formed.

以下、図面に示す実施形態に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。
実施形態１ Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings. In addition, this invention is not limited by this, A various deformation | transformation is possible.
Embodiment 1

図１（ａ）および図１（ｂ）は本発明のＰＤＰの実施形態１を示す説明図である。図１（ａ）は前面基板の部分分解斜視図、図１（ｂ）は背面基板の部分分解斜視図である。このＰＤＰはカラー表示用のＡＣ面放電型のＰＤＰである。本実施形態では、前面側のガラス基板の両面に同じ誘電体膜を形成している。 FIG. 1A and FIG. 1B are explanatory views showing Embodiment 1 of the PDP of the present invention. 1A is a partially exploded perspective view of the front substrate, and FIG. 1B is a partially exploded perspective view of the back substrate. This PDP is an AC surface discharge type PDP for color display. In the present embodiment, the same dielectric film is formed on both surfaces of the front glass substrate.

ＰＤＰは、ＰＤＰとして機能する構成要素が形成された前面基板１と背面基板２から構成されている。 The PDP is composed of a front substrate 1 and a back substrate 2 on which components that function as PDPs are formed.

前面側のガラス基板１１の内側面には、水平方向に表示電極Ｘと表示電極Ｙが等間隔で交互に配置されている。表示電極Ｘは維持放電用の電極であり、表示電極Ｙは走査用の電極である。隣接する表示電極Ｘと表示電極Ｙとの間が全て表示ラインとなる。各表示電極Ｘ，Ｙは、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂などの幅の広い透明電極１２と、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びそれらの積層体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層構造）等からなる金属製の幅の狭いバス電極１３から構成されている。表示電極Ｘ，Ｙは、Ａｇ、Ａｕについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。以後、表示電極ＸをＸ電極と称し、表示電極ＹをＹ電極と称することもある。 On the inner side surface of the glass substrate 11 on the front side, display electrodes X and display electrodes Y are alternately arranged at equal intervals in the horizontal direction. The display electrode X is an electrode for sustain discharge, and the display electrode Y is an electrode for scanning. Between the adjacent display electrode X and display electrode Y is a display line. Each of the display electrodes X and Y is made of a wide transparent electrode 12 such as ITO or SnO ₂ and, for example, Ag, Au, Al, Cu, Cr, and a laminated body thereof (for example, a laminated structure of Cr / Cu / Cr). And a narrow bus electrode 13 made of metal. For the display electrodes X and Y, a desired number and thickness can be obtained by using a thick film forming technique such as screen printing for Ag and Au, and using a thin film forming technique such as vapor deposition and sputtering and an etching technique for others. It can be formed with a width, width and spacing. Hereinafter, the display electrode X may be referred to as an X electrode, and the display electrode Y may be referred to as a Y electrode.

なお、本ＰＤＰでは、表示電極Ｘと表示電極Ｙが等間隔に配置され、隣接する表示電極Ｘと表示電極Ｙとの間が全て表示ラインとなる、いわゆるＡＬＩＳ構造のＰＤＰとなっているが、対となる表示電極Ｘ，Ｙが放電の発生しない間隔（非放電ギャップ）を隔てて配置された構造のＰＤＰであっても、本発明を適用することができる。 In this PDP, the display electrode X and the display electrode Y are arranged at equal intervals, and the PDP has a so-called ALIS structure in which a display line is formed between the adjacent display electrodes X and the display electrode Y. The present invention can also be applied to a PDP having a structure in which the pair of display electrodes X and Y are arranged with a gap (non-discharge gap) at which no discharge occurs.

前面側のガラス基板１１の内側面の表示電極Ｘ，Ｙの上には、表示電極Ｘ，Ｙを覆うように誘電体膜１７が基板全体に形成されている。また、前面側のガラス基板１１の外側面にも、誘電体膜３１が基板全体に形成されている。これらの誘電体膜１７，３１は以下のようにして形成している。すなわち、前面側のガラス基板１１の内側面と外側面に、それぞれ低融点ガラスフリットとバインダー樹脂とを含む未焼結の誘電体シートをラミネートにて貼り付ける。貼り付ける順序は、内側面と外側面のどちらが先であってもよい。その後、貼り付けた誘電体シートを、基板ごと焼成炉に搬入し、約５００℃で焼成して、誘電体膜１７，３１を形成する。 On the display electrodes X and Y on the inner surface of the front glass substrate 11, a dielectric film 17 is formed on the entire substrate so as to cover the display electrodes X and Y. A dielectric film 31 is also formed on the entire surface of the outer surface of the front glass substrate 11. These dielectric films 17 and 31 are formed as follows. That is, an unsintered dielectric sheet containing a low-melting glass frit and a binder resin is bonded to the inner side surface and the outer side surface of the front glass substrate 11 by lamination. Either the inner side surface or the outer side surface may be the first to be attached. Thereafter, the pasted dielectric sheet is carried into a firing furnace together with the substrate and fired at about 500 ° C. to form dielectric films 17 and 31.

上記低融点ガラスフリットとしては、有鉛系のガラスフリットや無鉛系のガラスフリットを使用することができる。有鉛系のガラスフリットとしては、ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯ系あるいはＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−ＢａＯ系のガラスを用いることができる。無鉛系のガラスフリットとしては、Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−ＺｎＯ系ガラス、Ｂｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラス、Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃系ガラス、ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−ＢａＯ系ガラス、またはこれらのガラス系にアルカリ・アルカリ土類酸化物が混入されたガラスを用いることができる。 As the low melting point glass frit, a leaded glass frit or a lead-free glass frit can be used. As the leaded glass frit, PbO—SiO ₂ —B ₂ O ₃ —ZnO or PbO—SiO ₂ —B ₂ O ₃ —ZnO—BaO glass can be used. As the lead-free glass frit, B ₂ O ₃ —SiO ₂ —ZnO glass, Bi ₂ O ₃ —B ₂ O ₃ —SiO ₂ glass, B ₂ O ₃ —SiO ₂ —Al ₂ O ₃ glass, ZnO—B ₂ O ₃ —SiO ₂ —BaO-based glass, or glass in which an alkali / alkaline earth oxide is mixed in these glass systems can be used.

誘電体膜１７，３１の形成は、以下のようにしてもよい。すなわち、ディッピング法を用いて、前面側のガラス基板１１の両面に誘電体材料を含む溶剤を塗布し、これを焼成して溶剤を気化させることで、前面側のガラス基板１１の両面に誘電体の薄膜を成膜するようにしてもよい。 The dielectric films 17 and 31 may be formed as follows. That is, by using a dipping method, a solvent containing a dielectric material is applied to both surfaces of the front glass substrate 11, and this is baked to vaporize the solvent. Alternatively, a thin film may be formed.

誘電体膜１７の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体膜１７を保護するための保護膜１８が形成されている。この保護膜はＭｇＯで形成されている。保護膜は、電子ビーム蒸着法やスパッタ法のような、当該分野で公知の薄膜形成プロセスによって形成することができる。 A protective film 18 is formed on the dielectric film 17 to protect the dielectric film 17 from damage caused by ion collision caused by discharge during display. This protective film is made of MgO. The protective film can be formed by a thin film forming process known in the art, such as an electron beam evaporation method or a sputtering method.

背面側のガラス基板２１の内側面には、平面的にみて表示電極Ｘ，Ｙと交差する方向に複数のアドレス電極Ａが形成され、そのアドレス電極Ａを覆って誘電体膜２４が形成されている。アドレス電極Ａは、Ｙ電極との交差部で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造で形成されている。このアドレス電極Ａは、その他に、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ等で形成することもできる。アドレス電極Ａも、表示電極Ｘ，Ｙと同様に、Ａｇ、Ａｕについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。誘電体膜２４は、誘電体膜１７と同じ材料、同じ方法を用いて形成することができる。 On the inner side surface of the glass substrate 21 on the back side, a plurality of address electrodes A are formed in a direction intersecting the display electrodes X and Y in plan view, and a dielectric film 24 is formed covering the address electrodes A. Yes. The address electrode A generates an address discharge for selecting a light emitting cell at the intersection with the Y electrode, and is formed in a three-layer structure of Cr / Cu / Cr. In addition, the address electrode A can be formed of Ag, Au, Al, Cu, Cr, or the like. As with the display electrodes X and Y, the address electrode A uses a thick film forming technique such as screen printing for Ag and Au, and a thin film forming technique such as vapor deposition and sputtering and an etching technique for the other. Thus, it can be formed with a desired number, thickness, width and interval. The dielectric film 24 can be formed using the same material and the same method as the dielectric film 17.

隣接するアドレス電極Ａとアドレス電極Ａとの間の誘電体膜２４上には、放電空間を列方向に区画するストライプ形の隔壁２９が形成されている。隔壁２９は、たとえばボックスリブやワッフルリブ、メッシュ状リブ、ラダー状リブなどと呼ばれるような閉鎖形の隔壁であってもよい。隔壁２９は、転写法、サンドブラスト法、感光性ペースト法等により形成することができる。例えば、転写法では、隔壁形状の凹部を有する転写凹版を用い、この転写凹版の凹部に、ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを充填して基板に転写し、これを焼成することで隔壁を形成する。サンドブラスト法では、ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを誘電体膜２４上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上に隔壁パターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、この切削したガラスペースト層を焼成することにより隔壁を形成する。また、感光性ペースト法では、切削粒子で切削することに代えて、バインダー樹脂に感光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光及び現像の後、焼成することにより形成する。 On the dielectric film 24 between the address electrodes A adjacent to each other, a stripe-shaped partition wall 29 that partitions the discharge space in the column direction is formed. The partition wall 29 may be a closed partition wall called a box rib, a waffle rib, a mesh rib, a ladder rib, or the like. The partition walls 29 can be formed by a transfer method, a sand blast method, a photosensitive paste method, or the like. For example, in the transfer method, a transfer intaglio having a partition-shaped recess is used, and the recess of the transfer intaglio is filled with a glass paste made of glass frit, binder resin, solvent, etc., transferred to a substrate, and fired. A partition wall is formed. In the sandblasting method, a glass paste made of glass frit, a binder resin, a solvent, and the like is applied on the dielectric film 24 and dried, and then a cutting mask having a partition pattern opening is provided on the glass paste layer. Cutting particles are sprayed to cut the glass paste layer exposed in the opening of the mask, and the cut glass paste layer is fired to form the partition walls. Further, in the photosensitive paste method, instead of cutting with cutting particles, a photosensitive resin is used as a binder resin, and it is formed by baking after exposure and development using a mask.

隔壁２９と隔壁２９との間に形成される細長い溝内の側面及び底面には、紫外線により励起されて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の可視光を発生する蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが形成されている。蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストを隔壁２９間の溝内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成している。この蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー樹脂とを含むシート状の蛍光体層材料（いわゆるグリーンシート）を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応するセル内に各色の蛍光体層を形成することができる。 Phosphor layers that generate red (R), green (G), and blue (B) visible light when excited by ultraviolet rays on the side and bottom surfaces of the elongated groove formed between the barrier ribs 29 and 29. 28R, 28G, and 28B are formed. For the phosphor layers 28R, 28G, and 28B, a phosphor paste containing a phosphor powder, a binder resin, and a solvent is applied in a groove between the partition walls 29 by screen printing or a method using a dispenser, and this is applied to each color. After repeating the above, it is formed by firing. The phosphor layers 28R, 28G, and 28B can be formed by a photolithography technique using a sheet-like phosphor layer material (so-called green sheet) containing phosphor powder, a photosensitive material, and a binder resin. In this case, a phosphor sheet of each color can be formed in the corresponding cell by applying a sheet of a desired color to the entire display area on the substrate, exposing and developing, and repeating this for each color. it can.

ＰＤＰは、上記した前面基板１と背面基板２とを、表示電極Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとが交差するように対向配置し、周囲を封着し、隔壁２９で囲まれた放電空間にＸｅとＮｅとを混合した放電ガスを充填することにより作製されている。このＰＤＰでは、表示電極Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとの交差部の放電空間が、表示の最小単位である１つのセル（単位発光領域）となる。１画素はＲ、Ｇ、Ｂの３つのセルで構成される。なお、放電空間を行方向に区画する横隔壁を有する格子セル構造のＰＤＰであっても、本発明を適用することが可能である。 In the PDP, the front substrate 1 and the back substrate 2 described above are arranged so that the display electrodes X and Y and the address electrode A intersect each other, the periphery is sealed, and the discharge space surrounded by the partition walls 29 is Xe. And a discharge gas mixed with Ne. In this PDP, the discharge space at the intersection of the display electrodes X and Y and the address electrode A is one cell (unit light emitting region) which is the minimum unit of display. One pixel is composed of three cells, R, G, and B. Note that the present invention can also be applied to a PDP having a lattice cell structure having horizontal barrier ribs that divide the discharge space in the row direction.

上記した前面側のガラス基板１１に誘電体膜を形成する際の焼成工程について説明する。誘電体シートの焼成工程は高温での処理であり、誘電体シート中の低融点ガラスが溶けて無機質のガラス誘電体膜が形成される。この誘電体シート中の低融点ガラスが溶けて固まる際に収縮し、また低融点ガラスの熱膨張係数がガラス基板よりやや大きいなどのため、溶けて固まった状態のガラス誘電体膜には引っ張り応力が働いている。すなわち、ガラス基板は誘電体膜から圧縮応力を受ける。 A firing process for forming a dielectric film on the front glass substrate 11 will be described. The firing process of the dielectric sheet is a high-temperature process, and the low-melting glass in the dielectric sheet is melted to form an inorganic glass dielectric film. The low melting point glass in this dielectric sheet shrinks when it melts and hardens, and because the thermal expansion coefficient of the low melting point glass is slightly larger than that of the glass substrate, tensile stress is applied to the melted and hardened glass dielectric film. Is working. That is, the glass substrate receives compressive stress from the dielectric film.

本実施形態では、前面側のガラス基板１１の内側面の誘電体膜１７と全く同じ誘電体膜３１を外側面（表示面）にも形成している。このため、誘電体膜による応力が均衡し、前面側のガラス基板１１が反ることがない。 In this embodiment, the same dielectric film 31 as the dielectric film 17 on the inner side surface of the front glass substrate 11 is also formed on the outer side surface (display surface). For this reason, the stress due to the dielectric film is balanced and the glass substrate 11 on the front side does not warp.

前面側のガラス基板１１の外側面に形成した誘電体膜３１の引っ張り応力の効果により、前面側のガラス基板１１の反りが軽減し、結果的に前面基板１と背面基板２とを貼りあわせた際の基板間のギャップがより均一に形成できる。 Due to the effect of the tensile stress of the dielectric film 31 formed on the outer surface of the front glass substrate 11, the warpage of the front glass substrate 11 is reduced, and as a result, the front substrate 1 and the rear substrate 2 are bonded together. The gap between the substrates can be formed more uniformly.

たとえば、ＰＤＰを構成する基板が反って基板間のギャップが均一でないと、放電強度が変化して輝度分布ができたり、電圧の変化で誤動作が生じたりする。また、隔壁と前面基板との隙間が大きくなり、放電のクロストークが発生して誤表示の原因となる等の不具合が発生する。 For example, if the substrate constituting the PDP is warped and the gap between the substrates is not uniform, the discharge intensity changes to produce a luminance distribution, or a malfunction occurs due to a voltage change. In addition, the gap between the partition walls and the front substrate becomes large, causing crosstalk of discharge and causing problems such as erroneous display.

しかし、本実施形態によれば、基板間のギャップが均一なＰＤＰを形成することができるので、表示均一性及び、表示性能、及び長期信頼性を向上させたＰＤＰとすることができる。 However, according to the present embodiment, a PDP having a uniform gap between the substrates can be formed, so that a PDP with improved display uniformity, display performance, and long-term reliability can be obtained.

本実施形態では、前面側のガラス基板の両面に誘電体膜を形成したが、背面側のガラス基板の両面に誘電体膜を形成してもよい。この場合でも、前面側のガラス基板の両面に誘電体膜を形成したのと同様の効果を得ることができる。
実施形態２ In the present embodiment, the dielectric films are formed on both surfaces of the front glass substrate. However, the dielectric films may be formed on both surfaces of the rear glass substrate. Even in this case, the same effect as that obtained when the dielectric films are formed on both surfaces of the front glass substrate can be obtained.
Embodiment 2

図２（ａ）および図２（ｂ）は本発明のＰＤＰの実施形態２を示す説明図である。本実施形態では、前面側のガラス基板１１の両面に同じ誘電体膜１７，３１を成膜し、さらに背面側のガラス基板２１の両面にも同じ誘電体膜２４，３２を成膜している。他の構成は実施形態１と同じである。誘電体膜３２は、誘電体膜２４を形成する工程で形成する。誘電体膜３２の形成に用いる材料、方法、および形成する膜厚は、誘電体膜２４と同様である。 2 (a) and 2 (b) are explanatory views showing Embodiment 2 of the PDP of the present invention. In this embodiment, the same dielectric films 17 and 31 are formed on both surfaces of the front glass substrate 11, and the same dielectric films 24 and 32 are formed on both surfaces of the rear glass substrate 21. . Other configurations are the same as those of the first embodiment. The dielectric film 32 is formed in the step of forming the dielectric film 24. The material, method, and film thickness to be used for forming the dielectric film 32 are the same as those of the dielectric film 24.

このように、前面側のガラス基板の両面と、背面側のガラス基板の両面に、それぞれ誘電体膜を形成した場合には、基板間のギャップを実施形態１よりもさらに均一に形成することができる。 As described above, when the dielectric films are formed on both the front glass substrate and the rear glass substrate, the gap between the substrates can be formed more uniformly than in the first embodiment. it can.

実施形態１および実施形態２では、前面側のガラス基板と背面側のガラス基板のいずれか一方の基板、または両方の基板に対し、基板の外側面に、基板の内側面に形成した誘電体膜と同じ材料と同じ方法を用いて、同じ膜厚の誘電体膜を同時に形成したが、基板の外側面には、内側面に形成した誘電体膜よりも歪が生じやすい皮膜を薄く形成してもよい。つまり、同じ膜厚であれば内側面に形成した誘電体膜よりも基板に与える応力が大きい膜を外側面に薄く形成して、基板に与える応力のバランスをとってもよい。
実施形態３ In the first and second embodiments, the dielectric film formed on the inner surface of the substrate on the outer surface of the substrate with respect to either the front glass substrate or the rear glass substrate, or both substrates Using the same material and the same method, a dielectric film with the same film thickness was formed at the same time, but a thin film was formed on the outer surface of the substrate that was more susceptible to distortion than the dielectric film formed on the inner surface. Also good. In other words, if the film thickness is the same, a film having a larger stress applied to the substrate than the dielectric film formed on the inner surface may be formed thinner on the outer surface to balance the stress applied to the substrate.
Embodiment 3

図３（ａ）および図３（ｂ）は本発明のＰＤＰの実施形態３を示す説明図である。本実施形態では、前面基板１の外側面に光学フィルター機能を付与した誘電体膜３３を形成している。光学フィルター機能を付与した誘電体膜３３は、光透過率４０％程度で、表面に反射防止機能を持たせている。他の構成は実施形態１または実施形態２と同じである。 FIG. 3A and FIG. 3B are explanatory views showing Embodiment 3 of the PDP of the present invention. In the present embodiment, a dielectric film 33 having an optical filter function is formed on the outer surface of the front substrate 1. The dielectric film 33 provided with the optical filter function has a light transmittance of about 40% and a surface having an antireflection function. Other configurations are the same as those in the first or second embodiment.

本実施形態では、前面基板１の外側面に形成する誘電体膜自体に光学フィルター機能を付与したが、実施形態１または実施形態２で形成した誘電体膜３１の上、つまり表示面外側に、光学フィルター膜を形成するようにしてもよい。
実施形態４ In the present embodiment, an optical filter function is imparted to the dielectric film itself formed on the outer surface of the front substrate 1, but on the dielectric film 31 formed in the first or second embodiment, that is, on the outer side of the display surface. An optical filter film may be formed.
Embodiment 4

図４（ａ）および図４（ｂ）は本発明のＰＤＰの実施形態４を示す説明図である。本実施形態では、前面基板１と誘電体膜との間に、基板全体に透明導電膜３４を形成している。他の構成は実施形態１または実施形態２と同じである。 4 (a) and 4 (b) are explanatory views showing Embodiment 4 of the PDP of the present invention. In the present embodiment, a transparent conductive film 34 is formed on the entire substrate between the front substrate 1 and the dielectric film. Other configurations are the same as those in the first or second embodiment.

透明導電膜３４は、ＩＴＯを蒸着することで成膜したものである。透明導電膜３４を接地してElectro Magnetic Interference（ＥＭＩ：電磁妨害）低減機能を持たせている。ＩＴＯ膜の代わりにメッシュ状の金属電極を形成すると、電気抵抗が小さいために、さらに大きなＥＭＩ低減効果が得られる。 The transparent conductive film 34 is formed by depositing ITO. The transparent conductive film 34 is grounded to have a function of reducing Electro Magnetic Interference (EMI). When a mesh-like metal electrode is formed instead of the ITO film, since the electric resistance is small, an even greater EMI reduction effect can be obtained.

本発明のＰＤＰの実施形態１を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows Embodiment 1 of PDP of this invention. 本発明のＰＤＰの実施形態２を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows Embodiment 2 of PDP of this invention. 本発明のＰＤＰの実施形態３を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows Embodiment 3 of PDP of this invention. 本発明のＰＤＰの実施形態４を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows Embodiment 4 of PDP of this invention.

Explanation of symbols

１前面基板
２背面基板
１１前面側のガラス基板
１２透明電極
１３バス電極
１７，２４，３１，３２誘電体膜
１８保護膜
２１背面側のガラス基板
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ蛍光体層
２９隔壁
３３光学フィルター機能を付与した誘電体膜
３４透明導電膜
Ａアドレス電極
Ｘ，Ｙ表示電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front substrate 2 Back substrate 11 Front side glass substrate 12 Transparent electrode 13 Bus electrode 17, 24, 31, 32 Dielectric film 18 Protective film 21 Back side glass substrate 28R, 28G, 28B Phosphor layer 29 Bulkhead 33 Optical filter Dielectric film provided with function 34 Transparent conductive film A Address electrode X, Y Display electrode

Claims

A plasma display panel in which an electrode and a dielectric film covering the electrode are formed on an inner surface of at least one glass substrate of a pair of glass substrates opposed via a discharge space, and a discharge gas is sealed in the discharge space,
A plasma display panel in which a film capable of applying a stress substantially equal to a stress generated by the dielectric film is formed on an outer surface of the glass substrate on which the electrode and the dielectric film are not formed.

The plasma display panel according to claim 1, wherein the film formed on the outer surface of the glass substrate is the same dielectric film as the dielectric film formed on the inner surface of the glass substrate.

The plasma display panel according to claim 1, wherein the one glass substrate is a front glass substrate, and a film formed on the outer surface of the front glass substrate has an optical filter function.

The one glass substrate is a front glass substrate, and the film formed on the outer surface of the front glass substrate has an EIM filter function of a two-layer structure of a mesh-like conductive film and a planar dielectric film. The plasma display panel according to claim 1.

The front side substrate on which the electrode and the dielectric film covering the electrode are formed on one surface, and the back side substrate on which the electrode and the dielectric film covering the electrode are formed on one surface, A plasma display panel in which a discharge gas is sealed in a discharge space formed inside so as to face each other,
A plasma display panel formed by forming a film on the other surface of the substrate on the back side, which can give the substrate a stress that substantially matches the stress generated by the dielectric film formed on the one surface of the substrate on the back side.