JP2008209543A - Optical isolator apparatus and integrated semiconductor optical apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光アイソレータ装置及び集積化半導体光装置に関し、特に、他の半導体光装置と同一半導体基板上に集積化可能な光アイソレータ装置及び他の半導体光装置とその光アイソレータ装置が集積化された集積化半導体光装置に関する。 The present invention relates to an optical isolator device and an integrated semiconductor optical device, and in particular, an optical isolator device and another semiconductor optical device that can be integrated on the same semiconductor substrate as other semiconductor optical devices and the optical isolator device are integrated. The present invention relates to an integrated semiconductor optical device.
半導体レーザや半導体光増幅器等の光能動素子を具備し光信号を発生又は処理する光装置は、光装置内(又は光装置が接続された光伝送路内)で生じる僅かな反射光すなわち戻り光によっても光能動素子の動作が不安定になる。光アイソレータは、この戻り光を遮断し光能動素子の動作を安定化するためのものである。従って、光アイソレータは光装置には必須の光部品であり、特に半導体レーザや半導体光増幅器を備えた光装置では、その光出射口には必ず光アイソレータが接続されている。 An optical device that includes an optical active element such as a semiconductor laser or a semiconductor optical amplifier and generates or processes an optical signal is a small amount of reflected light, that is, return light generated in the optical device (or in the optical transmission line to which the optical device is connected) This also makes the operation of the optical active element unstable. The optical isolator is for blocking the return light and stabilizing the operation of the optical active element. Therefore, the optical isolator is an indispensable optical component for the optical device. In particular, in an optical device equipped with a semiconductor laser or a semiconductor optical amplifier, an optical isolator is always connected to the light exit port.
光アイソレータ1は、図8に示すように一対の光偏光子2,4とファラデー回転子10によって構成されている。そして、ファラデー回転子10には、光の進行方向に平行な磁界6が印加されている。
As shown in FIG. 8, the
光アイソレータ1では、第1の偏光子2の透過軸3が、入射光8の偏光方向9と一致するように設定されている。このため入射光8は、第1の偏光子2を通過する。入射光8が次に通過するファラデー回転子10では、偏波回転角度が45°に設定されている。従って、ファラデー回転子10を通過した入射光8は、偏波方向が45°回転している。次に、入射光8は第2の偏光子4に入射する。第2の偏光子4の透過軸5は、45°傾けられている。このため入射光8は、第2の偏光子4を通過し光アイソレータ1から出射される。
In the
光装置内(又は光装置が接続された光伝送路)で生じた戻り光12は、光アイソレータ1に入射し第2の偏光子4を通過する。戻り光12は、ファラデー回転子10に入射し偏波面が更に45°回転する。このためファラデー回転子10を通過して時点で、戻り光12の偏波面は、入射光の最初の偏波面に対して90°回転している。すなわち、戻り光12の偏波方向13は第1の偏光子2の透過軸3と直交している。このため、戻り光12は、第1の偏光子2を通過することができない。従って、戻り光12が、光アイソレータ1の入射口から出射されることはない。
The
このようにして光アイソレータ1は戻り光を遮断し、光アイソレータ1に接続された半導体光装置の動作を安定化する。
光アイソレータ1を構成するファラデー回転子10は、YIG(イットリウム・鉄・ガーネット)等の磁性体によって構成される。このような磁性体を半導体基板上に形成し、半導体光装置と光アイソレータを集積化しようとする試みがなされている(特許文献1)。しかし、この試みは未だ研究段階に止まっている。
The Faraday
しかも、ファラデー回転子10を機能させるためには、強い磁場を印加する必要がある。この磁場を発生するため、強磁性金属を半導体基板上に形成することが必要である。しかし、半導体光装置が形成された基板上に金属を形成してしまうと、光損失が大きくなり半導体光装置の機能が損なわれてしまう。
Moreover, in order to make the Faraday
このように、ファラデー回転子10からなる光アイソレータと半導体光装置を同一半導体基板上に集積化することは極めて困難である。
Thus, it is extremely difficult to integrate the optical isolator comprising the Faraday
そこで、本発明の目的は、ファラデー回転子を必要としない、他の半導体光装置との同一半導体基板上への集積化が容易な、光アイソレータ装置を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical isolator device that does not require a Faraday rotator and can be easily integrated on the same semiconductor substrate with other semiconductor optical devices.
上記の目的を達成するために、本発明の第1の側面は、光アイソレータ装置において、第1の周波数を有する信号光と、前記信号光と同一方向に進行し第2の周波数を有する励起光を混合し、第3の周波数を有する第1の周波数変換光を生成し、前記信号光、前記励起光、及び第1の周波数変換光からなる第1の出射光を出射する、非線形媒質からなる第1の光周波数変換器と、第1の光周波数変換器が出射する第1の出射光が入射され、前記信号光を遮断し、前記励起光および第1の周波数変換光からなる第2の出射光を出射する第1の光周波数選択器と、第1の光周波数選択器が出射する第2の出射光が入射され、同一方向に進行する前記励起光と第1の周波数変換光を混合し、第1の周波数を有する第2の周波数変換光を生成し、前記励起光と第1及び第2の周波数変換光からなる第3の出射光を出射する、非線形媒質からなる第2の光周波数変換器と、第2の光周波数変換器が出射する第3の出射光が入射され、第2の周波数変換光を出射し、前記励起光及び第1の周波数変換光を遮断する第2の光周波数選択器と、前記信号光が入射される光入射口と、第2の周波数変換光が出射される光出射口を具備し、第2の光周波数選択器が、第2の周波数変換光が反射され前記光出射口に戻った戻り光を透過し、第2の光周波数変換器が、第2の光周波数選択器が透過した前記戻り光を、前記励起光と混合せずに透過し、第1の光周波数選択器が、第2の光周波数変換器が透過した前記戻り光を遮断することを特徴とする。 In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, there is provided an optical isolator device including a signal light having a first frequency and a pumping light traveling in the same direction as the signal light and having a second frequency. To generate a first frequency-converted light having a third frequency, and to emit a first output light composed of the signal light, the excitation light, and the first frequency-converted light. The first optical frequency converter and the first outgoing light emitted from the first optical frequency converter are incident, the signal light is blocked, and the second light consisting of the excitation light and the first frequency converted light A first optical frequency selector that emits outgoing light and a second outgoing light that is emitted from the first optical frequency selector are incident, and the excitation light and the first frequency converted light that travel in the same direction are mixed. Generating a second frequency-converted light having a first frequency, A second optical frequency converter made of a nonlinear medium that emits a third outgoing light consisting of an electromotive light and first and second frequency converted light; and a third output emitted by the second optical frequency converter. A second optical frequency selector that emits incident light, emits second frequency-converted light, and blocks the excitation light and the first frequency-converted light; a light entrance that receives the signal light; And a second optical frequency selector transmits the return light reflected from the second frequency converted light and returned to the light output port, and the second optical frequency selector An optical frequency converter transmits the return light transmitted by the second optical frequency selector without mixing with the pumping light, and the first optical frequency selector transmits the second optical frequency converter. The return light is blocked.
第1の側面によれば、ファラデー回転子を用いずに、半導体基板上に形成可能な半導体光装置のみによって光アイソレータを構成することができるので、半導体光装置と光アイソレータを同一半導体基板上に集積化することが可能になる。 According to the first aspect, since the optical isolator can be configured only by the semiconductor optical device that can be formed on the semiconductor substrate without using the Faraday rotator, the semiconductor optical device and the optical isolator are formed on the same semiconductor substrate. It becomes possible to integrate.
本発明の第2の側面は、第1の側面における光アイソレータ装置において、第1及び第2の光周波数変換器が、半導体光増幅器であることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the optical isolator device according to the first aspect, the first and second optical frequency converters are semiconductor optical amplifiers.
第1の側面によれば、第1及び第2の光周波数変換器が小型になるので、光アイソレータ装置全体の小型化が可能になる。 According to the first aspect, since the first and second optical frequency converters are reduced in size, the entire optical isolator device can be reduced in size.
第3の側面は、第1乃至第2の側面における光アイソレータ装置において、第1及び第2の光周波数変換器、第1及び第2の光周波数選択器、前記光入射口および前記光出射口が同一の半導体基板上に形成されたことを特徴とする。 According to a third aspect, in the optical isolator device according to the first or second aspect, the first and second optical frequency converters, the first and second optical frequency selectors, the light incident port, and the light output port. Are formed on the same semiconductor substrate.
第3の側面によれば、ファラデー回転子を用いずに、半導体光装置と光アイソレータを同一半導体基板上に集積化することが可能になる。 According to the third aspect, the semiconductor optical device and the optical isolator can be integrated on the same semiconductor substrate without using the Faraday rotator.
第4の側面は、第1乃至3の光アイソレータ装置において、前記基板が、インジウム燐からなる基板であることを特徴とする。 According to a fourth aspect, in the first to third optical isolators, the substrate is a substrate made of indium phosphorus.
第5の側面は、第3又は第4の側面における光アイソレータ装置と、前記半導体基板上に集積化され、前記光入射口に光出射口が光学的に接続された半導体光装置を有することを特徴とする。 The fifth aspect includes an optical isolator device according to the third or fourth aspect and a semiconductor optical device integrated on the semiconductor substrate and having a light exit opening optically connected to the light entrance. Features.
本発明によれば、ファラデー回転子を用いずに、半導体基板上に形成可能な半導体光装置のみによって光アイソレータを構成することができるので、他の半導体光装置と光アイソレータを同一半導体基板上に集積化することが可能になる。 According to the present invention, since the optical isolator can be configured only by the semiconductor optical device that can be formed on the semiconductor substrate without using the Faraday rotator, the other semiconductor optical device and the optical isolator can be formed on the same semiconductor substrate. It becomes possible to integrate.
以下、図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。但し、本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。尚、同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the technical scope of the present invention is not limited to these embodiments, but extends to the matters described in the claims and equivalents thereof. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part and the description is abbreviate | omitted.
(基本構成)
図1は、本実施の形態に係る光アイソレータ装置の概念図である。
(Basic configuration)
FIG. 1 is a conceptual diagram of an optical isolator device according to the present embodiment.
本実施の形態に係る光アイソレータ装置11は、第1の周波数f1を有する信号光14と、前記信号光と同一方向に進行し第2の周波数f2を有する励起光16を混合し、第3の周波数f3を有する第1の周波数変換光18を生成し、信号光14、励起光16、及び第1の周波数変換光18からなる第1の出射光20を出射する、非線形媒質(例えば半導体光増幅器)からなる第1の光周波数変換器22を備えている。
The
また、本実施の形態に係る光アイソレータ装置11は、第1の光周波数変換器22が出射する第1の出射光20が入射され、信号光14を遮断し、励起光16および第1の周波数変換光18からなる第2の出射光24を出射する第1の光周波数選択器26を備えている。
Further, in the
また、本実施の形態に係る光アイソレータ装置11は、第1の光周波数選択器26が出射する第2の出射光24が入射され、励起光16と第1の周波数変換光18を混合し、第1の周波数f1を有する第2の周波数変換光28を生成し、励起光16と第1および第2の周波数変換光18,28からなる第3の出射光30を出射する、非線形媒質(例えば半導体光増幅器)からなる第2の光周波数変換器32を具備している。
Further, the
また、第2の光周波数変換器32が出射する第3の出射光30が入射され、第2の周波数変換光28を出射し、励起光16と第1の周波数変換光18を遮断する第2の光周波数選択器34を具備している。
In addition, the third
更に、本実施の形態に係る光アイソレータ装置11は、信号光14が入射される光入射口36と、第2の周波数変換光が出射される光出射口38を具備している。
Furthermore, the
そして、本実施の形態に係る光アイソレータ装置11では、第2の光周波数選択器34が、第2の周波数変換光が反射され光出射口38に戻った戻り光12を透過し、第2の光周波数変換器32が、第2の光周波数選択器34が透過した戻り光12を、励起光16と混合せずに透過し、第1の光周波数選択器26が、第2の光周波数変換器32が透過した戻り光12を遮断する。
In the
このような構成を採用することにより、本実施の形態に係る光アイソレータ装置11は、光入射口36から戻り光12が出射されることを阻止し、光アイソレータとして機能する。
By adopting such a configuration, the
しかも、本実施の形態に係る光アイソレータ装置11、半導体光増幅器等の半導体基板上に形成可能な半導体光装置のみによって構成可能である。このため、本実施の形態に係る光アイソレータ装置は、半導体基板上への集積化が容易である。
図1に示した構成は、信号光14と励起光16を予め合波し、光入射口36から両者を入射する構成になっている。しかし、励起光16は、同一基板上に集積化した光発生装置、例えば半導体レーザによって供給してもよい。
In addition, the
The configuration shown in FIG. 1 is a configuration in which the
次に、上記構成によって、どうのようにして光アイソレータ機能が実現されるか、その原理を説明する。
(原理)
以下、本実施の形態における光アイソレータ装置の原理について、図1にしたがって説明する。
Next, the principle of how the optical isolator function is realized by the above configuration will be described.
(principle)
Hereinafter, the principle of the optical isolator device according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
本実施の形態における光アイソレータ装置の動作原理を、信号光14の挙動に注目して説明する。
The operation principle of the optical isolator device in the present embodiment will be described by paying attention to the behavior of the
(1)概 要
まず、動作原理の概要を説明する。
(1) Outline First, the outline of the operating principle will be described.
図1に示すように、信号光14の周波数は、まず第1の光周波数変換器22によってf1からf3に変換される(すなわち、信号光14が、第1の周波数変換光に変換される。)。更に、第2の光周波数変換器32によって、周波数がf3から元の周波数f1に戻され、光出射口28から出射される(すなわち、第1の周波数変換光が第2の周波数変換光に変換される。)。
As shown in FIG. 1, the frequency of the
から周波数変換光28として出力される。
Is output as frequency-converted
この過程で、信号光14は、第1の光周波数選択器26によって除去される。また、第1の周波数変換光18及び励起光16は、第2の光周波数選択器34によって除去される。
In this process, the
一方、光アイソレータ装置11に再入射した戻り光12は、第2の周波数変換光28と同じ周波数f1を有しているので、第2の光周波数選択器34は通過することができる。しかし、周波数f1の信号光14を遮断する第1の光周波数選択器26は通過することができない。
On the other hand, since the
しかも、戻り光12は励起光16と逆方向に進行するため、第2の周波数変換器32によって周波数f1がf3に変換されることもない。すなわち、戻り光12が、第2の周波数変換器32によって第1の光周波数選択器26を透過可能な周波数f3に変換されることもない。
Moreover, since the
その結果、戻り光12は第1の光周波数選択器26を透過することができず、光入射口36に到達することができない。すなわち、戻り光12(又は、戻り光12に由来する光)が、入射口36から出射されることはない。従って、図1に示す光アイソレートでは、光アイソレート機能が実現される。
As a result, the
以上が、本実施の形態における光アイソレータ装置の原理の概要である。以下、この原理を詳しく説明する。 The above is the outline of the principle of the optical isolator device in the present embodiment. Hereinafter, this principle will be described in detail.
(2)詳 細
まず、周波数f1を有する信号光14が、入射口36を経由して、例えば半導体光増幅器等からなる光周波数変換器22に入射する。光周波数変換器22には、周波数f2を有する励起光16も入射される。但し、励起光16は必ずしも外部から入射する必要はなく、例えば光アイソレータ装置11が分布帰還型半導体レーザを備え自ら生成してもよい。但し、励起光16は、信号光14と同一方向に進行するものでなければならない。
第1の光周波数変換器22は、図1及び表1に示すように、周波数f1の信号光14と周波数f2の励起光16を混合(四光波混合)し、周波数f3(=2f2-f1)を有する第1の周波数変換光18を生成し、信号光14及び励起光16を一緒に第1の周波数変換光18を出射する。尚、表1は、第1及び第2の光周波数変換器22,32の動作を説明する表である。
(2) Details First, the
First
すなわち、周波数変換光28は、2つの光周波数変換器22,32によって、信号光14が順次周波数変換されたものである。ここで、光周波数変換器22,32で用いられる励起光が同じものなので、第2の周波数変換光28の周波数は、信号光14の周波数と同じ周波数f1になる。
第2の光周波数変換器32からは、励起光16と両方の周波数変換光18,28が出射される。しかし、図1及び表2に示すように、第2の光周波数選択器34によって周波数f3の第1の周波数変換光18と周波数f2の励起光16は遮断され、信号光14と同じ周波数f1を有する第2の周波数変換光28のみが第2の光周波数選択器34透過する。
That is, the frequency-converted
From the second
第2の周波数変換光28は、光アイソレータ装置11の光出射口38から出射され、光アイソレータ装置11が備え付けられた光装置内(図示せず)に入射する。第2の周波数変換光28は、この光装置の内部又は光装置が接続された光伝送路内で反射され、光出射口38に戻り光12として再入射する。
The second frequency converted
戻り光12は、第2の周波数変換光28が反射されたものである。従って、その周波数は第2の周波数変換光28と同じf1である。このため戻り光12は、第2の光周波数選択器34を透過する(図1及び表2参照)。
The
次に、第2の光周波数選択器34を透過した戻り光12は、第2の光周波数変換器32に入射する。しかし、以下に説明するように、戻り光12は、励起光16とは進行方向が逆なので第2の光周波数変換器32によっては周波数変換されない。従って、第2の光周波数変換器32は、戻り光12に基づく周波数変換光は生成せずに、戻り光12のみ第1の光周波数選択器26に出射する。
Next, the
第2の光周波数変換器32を出射した戻り光12は、第1の光周波数選択器26に入射する。ここで周波数f1を有する戻り光12は、第1の光周波数選択器26によって遮断される(図1及び表2参照)。
The
従って、戻り光12は、光アイソレータ装置11の光入射口36に到達することはできない。このようにして、図1に示すような構成によって、光アイソレートとしての機能が実現される。
Therefore, the
(3)光周波数変換器の動作
次に、第1及び第2の光周波数変換器22,32が、戻り光12を周波数変換しない理由について説明する。
(3) Operation of Optical Frequency Converter Next, the reason why the first and second
第1及び第2の光周波数変換器22,32は、例えば半導体光増幅器のように、三次の非線形感受率が大きな(少なくても、零ではない)非線形媒質によって構成される。そして、第1及び第2の光周波数変換器22,32は、入射光(プローブ光)と強い励起光(ポンプ光)を、三次の非線形効果によって混合(四光波混合)し、周波数変換光を生成する。
The first and second
非線形媒質の分極は、光の電界に対して非線形に応答する。従って、非線形媒質中には、プローブ光およびポンプ光とは異なった周波数で振動する非線形分極が励起される。この様な周波数で振動する非線形分極が励起源となって、プローブ光およびポンプ光とは異なる周波数で振動する光すなわち周波数変換光が発生する。 The polarization of the nonlinear medium responds nonlinearly to the electric field of light. Therefore, nonlinear polarization that vibrates at a frequency different from that of the probe light and pump light is excited in the nonlinear medium. Nonlinear polarization that vibrates at such a frequency serves as an excitation source, and light that vibrates at a frequency different from the probe light and pump light, that is, frequency-converted light is generated.
光周波数変換器の通常の動作条件では、非線形分極は、プローブ光およびポンプ光の進行方向に沿って均一に分布している。すなわち非線形分極による周波数変換光の励起源は、プローブ光およびポンプ光の進行方向に沿って分布している。このように分布している励起源が生成する光の位相が揃うと、プローブ光の進行にしたがって周波数変換光が成長する。すなわち、周波数変換が実現される。このように、非線形分極によって生成される光の位相が揃うことは、位相整合と呼ばれている。 Under normal operating conditions of the optical frequency converter, the non-linear polarization is uniformly distributed along the traveling direction of the probe light and the pump light. That is, the excitation source of the frequency converted light by nonlinear polarization is distributed along the traveling direction of the probe light and the pump light. When the phases of the light generated by the distributed excitation sources are aligned, the frequency converted light grows as the probe light advances. That is, frequency conversion is realized. Such alignment of light generated by nonlinear polarization is called phase matching.
プローブ光およびポンプ光の周波数が接近している場合、非線形媒質の屈折率分散は無視し得る。従って、このような場合、位相整合条件は無視することができる。例えば、半導体光増幅器からなる光周波数変換器では、プローブ光とポンプ光の周波数差が、波長換算で数十nmしかない。従って、位相整合条件を考慮する必要なない。 When the frequencies of the probe light and the pump light are close, the refractive index dispersion of the nonlinear medium can be ignored. Therefore, in such a case, the phase matching condition can be ignored. For example, in an optical frequency converter composed of a semiconductor optical amplifier, the frequency difference between the probe light and the pump light is only a few tens of nm in terms of wavelength. Therefore, it is not necessary to consider the phase matching condition.
しかし、これは、プローブ光とポンプ光の進行方向が一致する通常の使用状態が前提となる。プローブ光とポンプ光の進行方向が逆の場合には、たとえ屈折率差がなくても位相整合条件は満たされない。従って、このような場合には、周波数変換光は生成されない。
本実施の形態では、戻り光12と励起光16は進行方向が逆である。このため、第1および第2の光周波数変換器22,32は、戻り光12を周波数変換しない。
However, this is premised on a normal use state in which the traveling directions of the probe light and the pump light coincide. When the traveling directions of the probe light and the pump light are opposite, the phase matching condition is not satisfied even if there is no difference in refractive index. Therefore, in such a case, frequency converted light is not generated.
In the present embodiment, the traveling directions of the
(3)位相整合条件
最後に、プローブ光とポンプ光の進行方向が逆の場合には、位相整合条件が満たされない理由について説明する。
(3) Phase matching condition Finally, the reason why the phase matching condition is not satisfied when the traveling directions of the probe light and the pump light are opposite will be described.
最初に、プローブ光とポンプ光の進行方向が一致する場合について、位相整合条件とはどのようなものであるか、マックスウェルの方程式に基づいて詳しく説明する。次に、プローブ光とポンプ光の進行方向が逆の場合、位相整合条件が満たされなくなる理由について説明する。 First, in the case where the traveling directions of the probe light and the pump light coincide with each other, what the phase matching condition is will be described in detail based on Maxwell's equations. Next, the reason why the phase matching condition is not satisfied when the traveling directions of the probe light and the pump light are opposite will be described.
広く知られているように、光の電界強度E(z,t)を記述する方程式は、マックスウェルの方程式に基づいて、次式のように表される。 As is widely known, an equation describing the electric field intensity E (z, t) of light is expressed as follows based on Maxwell's equation.
電束密度は次式で表すことができる。 The electric flux density can be expressed by the following equation.
この分極P(z,t)は、次式のように、電界強度E(z,t)に対する線形部分と非線形な部分に分けて表すわすことができる。 This polarization P (z, t) can be expressed separately as a linear part and a non-linear part with respect to the electric field intensity E (z, t) as shown in the following equation.
更に、非線形分極PNL(z,t)は、次式で表すことができる。 Further, the nonlinear polarization P NL (z, t) can be expressed by the following equation.
同様に、プローブ光Es(z,t)を次式で表すことができる。 Similarly, the probe light E s (z, t) can be expressed by the following equation.
同様に、周波数変換光Ec(z,t)は次式で表すことができる。 Similarly, the frequency converted light E c (z, t) can be expressed by the following equation.
次に、式(6)に式(7)〜式(9)を代入し、四光波混合状態における電界強度E(z,t)を求める。次に、得られたE(z,t)を式(4)の左辺に代入する。その結果は、三つの角周波数ωp,ωs,ωcで振動する電界成分の和になる。 Next, the formulas (7) to (9) are substituted into the formula (6) to obtain the electric field strength E (z, t) in the four-wave mixing state. Next, the obtained E (z, t) is substituted into the left side of the equation (4). The result is the sum of the electric field components oscillating at the three angular frequencies ω p , ω s and ω c .
ここで、角周波数ωcで振動する成分を抽出し、次式のような仮定をおく。 Here, a component that vibrates at the angular frequency ω c is extracted, and an assumption such as the following equation is made.
次に、式(4)の右辺すなわち非線形分極PNL(z,t)について考える。 Next, consider the right side of equation (4), that is, the nonlinear polarization P NL (z, t).
非線形分極PNL(z,t)は、式(5)によって表される。四光波混合は三次の非線形効果なので、式(5)の右辺第2項に着目する。 The nonlinear polarization P NL (z, t) is expressed by the equation (5). Since four-wave mixing is a third-order nonlinear effect, attention is focused on the second term on the right side of Equation (5).
そこで、式(5)の右辺第2項に式(6)を代入する。すると、式(5)の右辺第2項(P(3) NL(z,t))は次式のようになる。 Therefore, Expression (6) is substituted into the second term on the right side of Expression (5). Then, the second term (P (3) NL (z, t)) on the right side of the equation (5) is expressed by the following equation.
またEp(z,t)>> Es(z,t)なので、Ep(z,t)・ E2 s(z,t)は無視することができる。 Since E p (z, t) >> E s (z, t), E p (z, t) · E 2 s (z, t) can be ignored.
従って、式(12)は次式のようになる。 Therefore, the equation (12) becomes the following equation.
第3項は、プローブ光と同じ周波数を有している。従って、この項には、プローブ光を増幅する作用はあるが、周波数変換光を生成する作用ない。 The third term has the same frequency as the probe light. Therefore, although this term has an effect of amplifying the probe light, it has no effect of generating the frequency converted light.
従って、式(14)で表される非線形分極P(3) NL(z,t)の内で、周波数変換光の励起源となりうるのは第2項のみである。 Therefore, in the nonlinear polarization P (3) NL (z, t) represented by the equation (14), only the second term can be the excitation source of the frequency converted light.
従って、周波数変換光が生成されている状態では、次式が成立する。 Therefore, in the state where the frequency converted light is generated, the following equation is established.
このΔk=0という条件が満たされることを、位相整合と呼ぶ。 Satisfying this condition of Δk = 0 is called phase matching.
ところで、式(15)に示した通りωc=2ωp−ωsである。しかも上述したように、光周波数変換器が半導体増幅器で構成されている場合には、屈折率分散は無視できる。従って、kc=2kp−ksも成立する。このため、Δk=0となり周波数変換光が発生する。 Incidentally, ω c = 2ω p −ω s as shown in the equation (15). Moreover, as described above, when the optical frequency converter is composed of a semiconductor amplifier, the refractive index dispersion can be ignored. Therefore, k c = 2k p -k s also established. Therefore, Δk = 0 and frequency converted light is generated.
以上が四光波混合による周波数変換の原理である。 The above is the principle of frequency conversion by four-wave mixing.
ここで、ポンプ光とプローブ光が逆方向に進行する場合について考える。この場合、式(20)に相当する条件は、ksを−ksで置き換えたものでなる。すなわち、プローブ光の進行方向がポンプ光と逆の場合、式(20)は次式のようになる。 Here, consider the case where the pump light and the probe light travel in opposite directions. In this case, the conditions corresponding to the formula (20) is in replaces the k s at -k s. That is, when the traveling direction of the probe light is opposite to that of the pump light, Expression (20) becomes as follows.
すなわち、プローブ光とポンプ光の進行方向が逆の場合、位相整合条件は満たされない。 That is, when the traveling directions of the probe light and the pump light are opposite, the phase matching condition is not satisfied.
(実施の形態例1)
(1)構 成
本実施の形態例は、他の半導体光装置と同一半導体基板上に集積化可能な光アイソレータ装置に係るものである。図2は、本実施の形態例における光アイソレータ装置11の平面構造を表した模式図である。
(Embodiment 1)
(1) Configuration This embodiment relates to an optical isolator device that can be integrated on the same semiconductor substrate as other semiconductor optical devices. FIG. 2 is a schematic diagram showing a planar structure of the
本実施の形態における光アイソレータ装置11は、図2に示すように、InP基板42の上に形成され複数の半導体光装置によって構成されている。
As shown in FIG. 2, the
光アイソレータ装置11は、第1の周波数f1(波長1.55μm)を有する信号光14と、この信号光と同一方向に進行し第2の周波数f2(波長1.57μm)を有する励起光16を混合し、第3の周波数f3(波長1.59μm)を有する第1の周波数変換光18を生成し、信号光14、励起光16、及び第1の周波数変換光18からなる第1の出射光20を出射する、半導体光増幅器44(非線形媒質)からなる第1の光周波数変換器22を備えている。
The
また、光アイソレータ装置11は、励起光16を生成する、分布帰還型(Distributed Feedback;DFB)半導体レーザ43を備えている。また、光アイソレータ装置11は、信号光14と励起光16を結合し第1の光周波数変換器22に出射する多モード干渉 (Multi Mode Interference coupler; MMI)カプラ54を備えている。
The
また、光アイソレータ装置11は、第1の光周波数変換器22が出射する第1の出射光20が入射され、信号光14を遮断し、励起光16および第1の周波数変換光18からなる第2の出射光24を出射する、アレイ導波路回折格子46(Arrayed Waveguide Grating;AWG)と多モード干渉カプラ48カプラからなる第1の光周波数選択器26を備えている。
Also, the
また、光アイソレータ装置11は、第1の光周波数選択器26が出射する第2の出射光24が入射され、同一方向に進行する励起光16と第1の周波数変換光18を混合し、第1の周波数f1(波長1.55μm)を有する第2の周波数変換光28を生成し、励起光16と第1及び第2の周波数変換光18,28からなる第3の出射光30を出射する、半導体光増幅器50(非線形媒質)からなる第2の光周波数変換器32を備えている。
Further, the
また、光アイソレータ装置11は、第2の光周波数変換器32が出射する第3の出射光30が入射され、第2の周波数変換光28を出射し、励起光16及び第1の周波数変換光18を遮断するアレイ導波路回折格子52からなる第2の光周波数選択器34を備えている。
Further, the
また、光アイソレータ装置11は、信号光14が入射される光入射口36と、第2の周波数変換光が出射される光出射口38を具備している。
In addition, the
更に、光アイソレータ装置11は、上述した各半導体光装置を光学的に接続する複数の光導波路56,59,61,63,65,67,69,71,73を備えている。
Furthermore, the
(2)動 作
次に、本実施の形態例に係る光アイソレータ装置11の動作について説明する。
(2) Operation Next, the operation of the
まず、波長1.57μmで光強度20mWの励起光16が、分布帰還型半導体レーザ43によって生成される。生成された励起光16は、光導波路59を通って、MMIカプラ54の一方側の光入射口に入射する。
First, the pumping
一方、波長1.55μmで光強度1mWの信号光14が、光アイソレータ装置11の光入射口36に入射する。光入射口36に入射した信号光14は、光導波路56を通って、MMIカプラ54の他方側の光入射口に入射する。
On the other hand, the
励起光16と信号光14は、MMIカプラ54によって結合され、光導波路61に出射される。光導波路61に出射された励起光16と信号光14は、第1の光周波数変換器22に入射する。
The
第1の光周波数変換器22に入射した信号光14と励起光16は、第1の光周波数変換器22内を同一方向に進行する。そして、信号光14と励起光16は、非線形媒質として機能する半導体増幅器44からなる光周波数変換器22によって混合(四光波混合)され、第3の周波数f3(波長1.59μm)を有する第1の周波数変換光18が生成される。ここで、信号光14から第1の周波数変換光18への変換効率は、−5dBである。
The
次に、信号光14、励起光16、および第1の周波数変換光18からなる第1の出射光20が、第1の光周波数変換器22から光導波路63に出射される。
Next, the first emitted light 20 composed of the
次に、光導波路63に出射された第1の出射光20は、第1の光周波数選択器26を構成するアレイ導波路回折格子46に入射する。第1の出射光20を構成する励起光16は、アレイ導波路回折格子46の第1の光出射口から出射され、光導波路67を通って、第1の光周波数選択器26を構成するMMIカプラ48の一方側の光入射口に入射する。
Next, the first
また、第1の出射光20を構成する第1の周波数変換光18は、アレイ導波路回折格子46の第2の光出射口から出射され、光導波路65を通って、第1の光周波数選択器26を構成するMMIカプラ48の他方側の光入射口に入射する。
The first frequency converted
一方、第1の出射光20を構成する信号光14は、アレイ導波路回折格子46の図示されていない第3の光出射口から出射される。しかし、アレイ導波路回折格子46の第3の光出射口は、MMIカプラ48には接続されていない。従って、信号光14はInP基板中に廃棄される。
On the other hand, the
MMIカプラ48の一方側および他方側の光入射口に入射した励起光16及び第1の光周波数変換光18は、このようにしてMMIカプラ48によって結合される。そして、励起光16と第1の周波数変換光18からなる第2の出射光24が、第1の光周波数選択器26から光導波路69に出射される。
The pumping
すなわち、第1の光周波数選択器26によって、第1の光周波数変換器22が出射する第1の出射光20中の信号光14は遮断され、励起光16および第1の周波数変換光18は第2の出射光24として光導波路69に出射される。
That is, the
次に、光導波路69に出射された第2の出射光24は、半導体光増幅器50からなる第2の光周波数変換器32に入射する。
Next, the second emitted light 24 emitted to the
第2の光周波数変換器32に入射した励起光16と第1の周波数変換光18は、光周波数変換器32内を同一方向に進行する。そして、励起光16と第1の周波数変換光18は、非線形媒質として機能する半導体増幅器50からなる第2の光周波数変換器32によって混合(四光波混合)され、第1の周波数f1(波長1.55μm)を有する第2の周波数変換光28が生成される。ここで、第1の周波数変換光18から第2の周波数変換光28への変換効率は、−5dBである。
The
次に、励起光16と第1及び第2の周波数変換光18,28からなる第3の出射光30が、第2の光周波数変換器32から光導波路71に出射される。
Next, the third emitted light 30 composed of the
次に、光導波路71に出射された第2の出射光30は、アレイ導波路回折格子52からなる第2の光周波数選択器34に入射する。第3の出射光30を構成する第2の周波数変換光28(波長1.55μm)は、アレイ導波路回折格子52の第1の光出射口から出射され、光導波路73を通って、光アイソレータ装置11の光出射口38から出射される。
Next, the second emitted light 30 emitted to the
一方、第3の出射光30を構成する励起光16(波長1.57μm)及び第1の周波数変換光18(波長1.59μm)は、アレイ導波路回折格子52の図示しない第2及び3の光出射口から出射される。しかし、アレイ導波路回折格子52の第2及び3の光出射口は、光アイソレータ装置1の光出射口38には接続されていない。このため、励起光16及び第1の周波数変換光18は、InP基板中に廃棄される。
On the other hand, the excitation light 16 (wavelength 1.57 μm) and the first frequency converted light 18 (wavelength 1.59 μm) constituting the third
すなわち、第2の光周波数変換器32が出射する第3の出射光30は、第2の光周波数選択器34に入射される。そして、第3の出射光30を構成する第2の周波数変換光28は、第2の光周波数選択器34から出射され、光アイソレータ装置11の光出射口38から出射される。一方、第3の出射光30を構成する励起光16及び第1の周波数変換光18は、第2の光周波数選択器34によって遮断される。
That is, the third
光出射口38から出射された第2の周波数変換光28は、図示されていない光装置内に送出される。その後、第2の周波数変換光28は、その伝播経路上に存在する光学部材等の接続点で反射され、光出射口38に戻り光12として再入射する。
The second frequency converted light 28 emitted from the
光出射口38に入射した戻り光12は、光導波路73を通って、第2の光周波数選択器34を構成するアレイ導波路回折格子52の第1の光出射口に入射する。アレイ導波路回折格子52の第1の光出射口に入射した戻り光は、アレイ導波路回折格子52内を同じ周波数f1を有する第2の周波数変換光28とは逆の経路を辿り、アレイ導波路回折格子52の光入射口から光導波路71に出射される。すなわち、戻り光12は、第2の光周波数選択器34を透過する。但し、アレイ導波路回折格子52の透過率は、あまり高くなく−13dBである。
The
光導波路71に出射された戻り光12は、光増幅器50からなる第2の光周波数変換器32に入射する。
The
光導波路71から入射した戻り光12は、光周波数変換器32内を、光導波路71とは反対側に接続された光導波路69から入射する励起光16と逆方向に進行する。このため、戻り光12は励起光16とは混合されず、光周波数変換器32を透過し、光導波路69に出射される。
The
光導波路69に出射された戻り光12は、第1の光周波数選択器26を構成するMMIカプラ48に入射する。MMIカプラ48に入射した戻り光12は、光導波路65および光導波路67に出射される。
The
光導波路65および光導波路67に出射された戻り光12は、第1の光周波数選択器26を構成するアレイ導波路回折格子46の第1及ぶ第2の光出射口に入射する。アレイ導波路回折格46の第1及ぶ第2の光出射口に入射した戻り光12は、アレイ導波路回折格子内を導波路63の接続された光入射口に向かって進む。
The
しかし、戻り光12の周波数(波長1.55μm)は、アレイ導波路回折格子46の第3の光出射口に出射される信号光14の周波数(波長1.55μm)と同じである。従って、第1および第2の光出射口に入射された戻り光14は、光導波路63の接続された(アレイ導波路回折格46の)光入射口に到達することはない。すなわち、戻り光12は、第1の光周波数選択器26によって遮断される。この時、戻り光12は−40dB減衰する。
However, the frequency (wavelength 1.55 μm) of the
このため、戻り光12は、光アイソレータ装置11内を、これ以上進行することはない。すなわち、戻り光12は、光入射口36には到達しない。このようにして、光アイソレートとしての動作が実現される。なお、光アイソレータ装置11の分離比は、以上の説明から明らかなように、−53dB(=−13dB−40dB)である。
For this reason, the
本実施の形態例における光アイソレータ装置11は、総て半導体基板上に形成可能な半導体光装置によって構成されている。従って、本実施の形態例における光アイソレータ装置11は、他の半導体光装置と共に半導体基板上に集積化可能である。
The
(実施の形態例2)
本実施の形態例は、上述した光アイソレータ装置11と他の半導体光装置が集積化された集積化半導体光装置58に係るものである。
(Embodiment 2)
The present embodiment relates to an integrated semiconductor
(1)装置構成
図3は、本実施の形態例における集積化半導体光装置58の斜視図である。
(1) Device Configuration FIG. 3 is a perspective view of an integrated semiconductor
集積化半導体光装置58は、実施の形態例1で説明した光アイソレータ装置11と、光アイソレータ装置11が形成された半導体基板(n型InP基板42)上に形成された半導体モードロックレーザ60によって構成されている。更に、光アイソレータ装置11の光入射口には、半導体モードロックレーザ60の光出射口36が、光導波路56を介して光学的に接続されている。
The integrated semiconductor
光アイソレータ装置11の構成は、実施の形態例1に示したものと同じである。ここで、分布帰還型半導体レーザ43及び半導体光増幅器44、50の活性層は、InGaAs/InGaAs多重量井戸活性層によって構成されている。また、MMI48,54、AWG(アレイ導波路回折格子)46,52、及び光導波路56,59,61,63,65,67,69,71,73は、InGaAsコア層とi−InPクラッド層によって構成されている。また、半導体光増幅器44、50の長さは1mmである。
The configuration of the
一方、半導体モードロックレーザ60は、利得部62と可飽和吸収部64によって構成されている。利得部62の活性層及び可飽和吸収部64の光吸収層は、分布帰還型半導体レーザ43及び半導体光増幅器44、50の活性層と同じInGaAs/InGaAs多重量井戸活性層によって構成されている。
On the other hand, the semiconductor mode-locked
なお、光アイソレータ装置11及び半導体モードロックレーザ60は、鉄(Fe)がドーピングされた高抵抗InP66によって埋め込まれている。
The
(2)使用方法
次に、本実施の形態例における集積化半導体光装置58の使用方法について説明する。
(2) Usage Method Next, a usage method of the integrated semiconductor
集積化半導体光装置58は、従来の光アイソレータ(図8)を介することなく、例えば高速光時分割多重(OTDM)光通信システムに直接接続して、光源として使用することができる。
The integrated semiconductor
高速光時分割多重(OTDM)光通信システムは、半導体モードロックレーザ60のような光パルス光源が生成する光パルス列を、信号光として使用する。しかし、半導体モードロックレーザ60から出射される光パルス列を、OTDM光通信システムに直接入射すると、システム内で発生した戻り光によって、半導体モードロックレーザ60が出射する光パルス列にジッターが生じてしまう。
A high-speed optical time division multiplexing (OTDM) optical communication system uses an optical pulse train generated by an optical pulse light source such as a semiconductor mode-locked
本実施の形態例における集積化半導体光装置58は、半導体モードロックレーザ60が生成した光パルス列を、同一基板上に集積化した光アイソレータ装置11を介して出射する。従って、戻り光は光アイソレータ装置11によって遮断され、半導体モードロックレーザ60には入射しない。このため、半導体モードロックレーザ60の生成する光パルス列にジッターは発生しない。
The integrated semiconductor
すなわち、本実施の形態例における集積化半導体光装置58は、半導体モードロックレーザ60と光アイソレータ装置11が集積化されているので、OTDM光通信システムに直接接続しても、パルス列にジッターが生じることはない。
That is, in the integrated semiconductor
(3)製造方法
最後に、図4〜図7に示す断面工程図にしたがって、図3に示した集積化半導体光装置58の製造方法を説明する。
ここで、図4及び図5は、図3に示したA−A´線における断面を矢印の方向から見て模式的に示したものでる。また、図6及び図7は、図3に示したB−B´線における断面を矢印の方向から見て模式的に示したものでる。
(3) Manufacturing Method Finally, a method for manufacturing the integrated semiconductor
Here, FIG. 4 and FIG. 5 schematically show the cross section taken along the line AA ′ shown in FIG. 3 from the direction of the arrow. 6 and 7 schematically show a cross section taken along the line BB ′ shown in FIG. 3 when viewed from the direction of the arrow.
まず、図4(a)及ぶ図6(a)のように、n型InP基板42上に、有機金属化学気相法(MO−CVD法)を用いて、n型InPクラッド層68、InGaAsP/InGaAs多重量子井戸(λg=1.55μm)からなる活性層70、p型InPクラッド層72、p型コンタクト層74を順次平坦に成長する(第1の工程)。
First, as shown in FIG. 4A and FIG. 6A, an n-type InP clad
これらの成長層は、以下の工程によって、モードロックレーザ60、分布帰還型半導体レーザ43、及び半導体光増幅器44,50に加工される。尚、λgは、バンドギャップを波長に換算した値である。
These growth layers are processed into the mode-locked
次に、図4(b)及ぶ図6(b)のように、誘導結合プラズマエッチング(Inductively Coupled Plasma:ICP)技術とフォトリソグラフィ技術を用いて、MMI48,54、AWG46,52、及び光導波路56,59,61,63,65,67,69,71,73を形成する予定部分をエッチングし、第1の工程で成長した層を除去する(第2の工程)。
Next, as shown in FIG. 4B and FIG. 6B, using the Inductively Coupled Plasma (ICP) technique and the photolithography technique, the
次に、図4(c)及ぶ図6(c)のように、第2の工程によって除去した部分に、MO−CVD法を用いて、i−InP下部クラッド層76、InGaAsP/InGaAs多重量子井戸(λg=1.35μm)からなるコア層78、i−InP上部クラッド層80を成長する(第3の工程)。
Next, as shown in FIG. 4C and FIG. 6C, the i-InP
次に、図5(a)及ぶ図7(a)のように、ICP技術とフォトリソグラフィ技術を用いて、モードロックレーザ60、分布帰還型半導体レーザ43、半導体光増幅器44,50、MMI48,54、AWG46,52、及び光導波路59,61,63,65,66,69,71,73となる部分を除いて、第1及び第2の工程で成長した層をエッチングし除去する(第4の工程)。
Next, as shown in FIG. 5A and FIG. 7A, using the ICP technique and the photolithography technique, the mode-locked
次に、図5(b)及ぶ図7(b)に示すように、第4の工程で除去した部分に、MO−CVD法を用いて、Feをドープした高抵抗InP66を成長する(第5の工程)。
Next, as shown in FIG. 5B and FIG. 7B, Fe-doped high-
最後に、図5(c)及ぶ図7(c)のように、モードロックレーザ60、分布帰還型半導体レーザ43、及び半導体光増幅器44,50となる予定部分のp型コンタクト層74にp型電極82(Ti/Pt/Au)を形成する。更に、n型InP基板の裏面に、n型電極84(AuGe/Au)を形成する。
Finally, as shown in FIG. 5C and FIG. 7C, the p-
以上説明した通り、本実施の形態では、第1および第2の光周波数変換器22、32は3次の非線形効果による四光波混合を利用して周波数変換を行っている。しかし、周波数変換に利用できる現象は四光波混合に限られるものではない。例えば、光周波数変換器22、32は、2次の非線形効果による差周波生成を利用するものであってもよい。
As described above, in the present embodiment, the first and second
また、第1および第2の周波数変換器を構成する非線形媒質は、SOAの活性層のような利得媒質に限定されるものでない。InxGa1-xAsyP1-yをコア層とするパッシブな光導波路であってもよい。 Further, the nonlinear medium constituting the first and second frequency converters is not limited to a gain medium such as an SOA active layer. It may be a passive optical waveguide having In x Ga 1-x As y P 1-y as a core layer.
本発明は、半導体光装置の製造業、特に、半導体光装置の製造業において利用可能である。 The present invention can be used in the semiconductor optical device manufacturing industry, particularly in the semiconductor optical device manufacturing industry.
1 従来の光アイソレータ装置
2 第1の偏光子
3 第1の偏光子の透過軸
4 第2の偏光子
5 第2の偏光子の透過軸
6 磁界
8 入射光
9 入射光の偏光方向
10 ファラデー回転子
11 光アイソレータ装置
12 戻り光
13 戻り光の偏光方向
14 信号光
16 励起光
18 第1の周波数変換光
20,24,30 出射光
22 第1の光周波数変換器
26 第1の光周波数選択器
28 第2の周波数変換光
32 第2の光周波数変換器
34 第2の光周波数選択器
36 光入射口
38 光出射口
42 n型InP基板
43 分布帰還型半導体レーザ
44,50 半導体光増幅器
46,52 アレイ導波路回折格子
48,54 多モード干渉カプラ
56,59,61,63,65,67,69,71,73,80 光導波路
58 集積化半導体光装置
60 半導体モードロックレーザ
62 利得部
64 可飽和吸収部
66 鉄(Fe)がドーピングされた高抵抗InP
68 n型InPクラッド層
70 活性層
72 p型InPクラッド層
74 p型コンタクト層
76 i−InP下部クラッド
78 コア層
80 i−InP上部クラッド層
DESCRIPTION OF
68 n-type
Claims (5)
第1の光周波数変換器が出射する第1の出射光が入射され、前記信号光を遮断し、前記励起光および第1の周波数変換光からなる第2の出射光を出射する第1の光周波数選択器と、
第1の光周波数選択器が出射する第2の出射光が入射され、同一方向に進行する前記励起光と第1の周波数変換光を混合し、第1の周波数を有する第2の周波数変換光を生成し、前記励起光と第1及び第2の周波数変換光からなる第3の出射光を出射する、非線形媒質からなる第2の光周波数変換器と、
第2の光周波数変換器が出射する第3の出射光が入射され、第2の周波数変換光を出射し、前記励起光及び第1の周波数変換光を遮断する第2の光周波数選択器と、
前記信号光が入射される光入射口と、
第2の周波数変換光が出射される光出射口を具備し、
第2の光周波数選択器が、第2の周波数変換光が反射され前記光出射口に戻った戻り光を透過し、
第2の光周波数変換器が、第2の光周波数選択器が透過した前記戻り光を、前記励起光と混合せずに透過し、
第1の光周波数選択器が、第2の光周波数変換器が透過した前記戻り光を遮断する光アイソレータ装置。 The signal light having the first frequency and the pumping light having the second frequency traveling in the same direction as the signal light are mixed to generate the first frequency converted light having the third frequency, and the signal light A first optical frequency converter made of a nonlinear medium that emits first emitted light made of the excitation light and the first frequency converted light;
The first light emitted from the first optical frequency converter is incident, blocks the signal light, and emits the second emitted light composed of the excitation light and the first frequency converted light. A frequency selector;
The second outgoing light emitted from the first optical frequency selector is incident, the pumping light traveling in the same direction and the first frequency converted light are mixed, and the second frequency converted light having the first frequency is mixed. A second optical frequency converter made of a nonlinear medium that emits a third outgoing light consisting of the excitation light and the first and second frequency converted lights,
A second optical frequency selector that receives the third emitted light emitted from the second optical frequency converter, emits the second frequency converted light, and blocks the excitation light and the first frequency converted light; ,
A light entrance through which the signal light is incident;
Comprising a light exit through which the second frequency converted light is emitted;
A second optical frequency selector transmits the return light reflected by the second frequency converted light and returned to the light exit;
A second optical frequency converter transmits the return light transmitted by the second optical frequency selector without being mixed with the excitation light;
An optical isolator device in which a first optical frequency selector blocks the return light transmitted by a second optical frequency converter.
前記半導体基板上に集積化され、前記光入射口に光出射口が光学的に接続された半導体光装置を有することを特徴とする集積化半導体光装置。
An optical isolator device according to claim 3 or 4,
An integrated semiconductor optical device comprising a semiconductor optical device integrated on the semiconductor substrate and having a light exit opening optically connected to the light entrance opening.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JP4825152B2 JP4825152B2 (en) | 2011-11-30 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4825152B2 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04204834A (en) * | 1990-11-30 | 1992-07-27 | Ngk Insulators Ltd | Wavelength convertor and wavelength converting type laser light source device |
JPH0772427A (en) * | 1993-06-30 | 1995-03-17 | Kyocera Corp | Non-reciprocal circuit |
JP2001077754A (en) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Fujitsu Ltd | Optical demultiplexing device and optical demultiplexing and multiplexing device |
-
2007
- 2007-02-26 JP JP2007044993A patent/JP4825152B2/en active Active
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JPH04204834A (en) * | 1990-11-30 | 1992-07-27 | Ngk Insulators Ltd | Wavelength convertor and wavelength converting type laser light source device |
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JP2001077754A (en) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Fujitsu Ltd | Optical demultiplexing device and optical demultiplexing and multiplexing device |
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Publication number | Publication date |
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