JP2008198700A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

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Toru Sakai
透 酒井
Yuichiro Nariyoshi
雄一郎 成吉
Yoshiyuki Amanuma
佳幸 天沼
Shunsuke Ota
俊介 大田
Masaru Hirose
勝 広瀬
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for avoiding attack by condensed light. <P>SOLUTION: A plurality of photodetectors (2) are used to detect the irradiated lights. The plurality of photodetectors are scattered in arrangement on the semiconductor integrated circuit device. Each photodetector includes a photodetecting element (23) of the thyristor structure that is made conductive using a leak current generated by irradiation of light to a well boundary on the semiconductor substrate as a trigger. The photodetector of such a structure can be formed in a small region and many photodetectors can be uniformly arranged on the semiconductor chip. Therefore, attack of the condensed lights can be avoided. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体集積回路装置に係り、例えばICカード用マイクロコンピュータのような半導体集積回路が保有する暗号鍵等のリバースエンジニアリングの防止に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a technique that is effective when applied to prevention of reverse engineering of an encryption key or the like possessed by a semiconductor integrated circuit such as an IC card microcomputer.

半導体技術の発展により、クレジットカード、有価証券等にIC(Integrated Circuits)を組み込み、情報を暗号化して通信することで、安全で確実な決済を行うことが一般的になってきた。ICを用いたこの方法は、従来の磁気記録を用いた方法に比べ、偽造、なりすまし等が困難であり、エンドユーザー、サービス提供者双方にメリットがある。   With the development of semiconductor technology, it has become common to make secure and reliable settlement by incorporating IC (Integrated Circuits) into credit cards, securities, etc., and encrypting information for communication. This method using an IC is more difficult for counterfeiting and impersonation than a method using a conventional magnetic recording, and has advantages for both end users and service providers.

暗号アルゴリズムについては長年研究が行われており、通信経路上で傍受した信号から、暗号鍵等を推定することは非常に困難であり、このリスクは事実上無視できる程小さい。問題はICを開封し、リバースエンジニアリングを行うことで、IC上の内部情報や暗号鍵を直接読み出そうという試みである。   Research on cryptographic algorithms has been conducted for many years, and it is very difficult to estimate a cryptographic key or the like from a signal intercepted on a communication path, and this risk is so small that it can be virtually ignored. The problem is an attempt to directly read internal information and an encryption key on the IC by opening the IC and performing reverse engineering.

従来は、ICカードへ不正な周波数のクロックを供給したり、電源電圧を急激に上下させたり、強力な電磁波を照射したりで、ICカードを異常動作させ、内部情報や暗号鍵を読み出すという手法が考案された。それに対し、IC側はそれらの異常な状態を検出することで、内部情報や暗号鍵を読み出されることを防いできた。   Conventionally, an IC card is abnormally operated by supplying a clock with an illegal frequency to the IC card, a power supply voltage is suddenly increased or decreased, or a strong electromagnetic wave is irradiated, and internal information and an encryption key are read. Was devised. On the other hand, the IC side can prevent reading out the internal information and the encryption key by detecting these abnormal states.

例えば特許文献1には、ICカード用ICチップ内に開封センサを設け、開封を検出した場合にCPUがメモリに対して消去動作を行って、機密保護に対する安全性を高める技術が記載される。   For example, Patent Document 1 describes a technique in which an unsealing sensor is provided in an IC chip for an IC card, and when the unsealing is detected, the CPU performs an erasing operation on the memory to increase security against security.

特許文献2には、回路構成を封止及び遮光するパッケージの一部に光検出のセンサ部のみに光が照射されるように小窓を形成しておき、光の検出状態で通常に動作するようにすると、不正解析を行う場合にはパッケージを開封し光の悪影響を避けるため暗所で解析が行われるため、光非検出状態では通常とは異なる動作が行なわれるようになり、この異なる動作故に動作解析を行うことができず、記憶情報の不正な読み出しも不可能にするという技術が記載される。   In Patent Document 2, a small window is formed in a part of a package that seals and shields a circuit configuration so that light is irradiated only to a light detection sensor unit, and operates normally in a light detection state. In this case, when performing illegal analysis, the package is opened and analysis is performed in the dark to avoid the adverse effects of light. Therefore, a technique is described in which operation analysis cannot be performed and illegal reading of stored information is impossible.

特許文献3は、ICに分散して複数の受光素子が集積され、複数の各受光素子が不揮発性メモリセルに接続された接続ライン、ロジック回路に接続された接続ライン或はロジックエレメントに接続された接続ラインの何れかの接続ラインに接続されて、この接続ラインを遮断し、導通し或は接地ラインに接続することにより接続ラインに関係する回路の正常な動作を阻害することでICが開封されたときに内部情報を保護する技術を開示する。   In Patent Document 3, a plurality of light receiving elements are integrated in a distributed manner in an IC, and each of the plurality of light receiving elements is connected to a connection line connected to a nonvolatile memory cell, a connection line connected to a logic circuit, or a logic element. Connected to any of the connected lines, the connection line is interrupted, and the IC is opened by interrupting the normal operation of the circuit related to the connection line by conducting or connecting to the ground line. Disclose technology to protect internal information when

しかしながら、これらの文献は光の照射よって積極的に誤動作を誘発して統計的な手法で解析を試みるという新たなカードハッキングに対しては考慮されていない。   However, these documents do not take into account new card hacking in which a malfunction is actively induced by light irradiation and analysis is attempted by a statistical method.

これに対して特許文献4は、光照射により積極的に誤動作を誘発して機密保護情報を不正に獲得するというカードハッキングに対する防御が可能な半導体集積回路を開示する。   On the other hand, Patent Document 4 discloses a semiconductor integrated circuit capable of defending against card hacking in which erroneous operation is actively induced by light irradiation to illegally acquire security protection information.

特開平10−320293号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-320293 特開2000−216345号公報(段落0009〜0011)JP 2000-216345 A (paragraphs 0009 to 0011) 特開平11−102324号公報JP-A-11-102324 特開平2004−206680号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-206680

チップメーカは、光が照射されたときにP型半導体とN型半導体との接合部で発生する漏れ電流を検出する回路を半導体集積回路に搭載することで耐タンパー性の向上を図る。この光検出器は、面積が大きいためチップ面内に1〜2個を搭載するのが限界とされるLSI内に実装できる光検出器の個数は1個から2個程度と少ないため、集光した光では回避される。例えばレーザ光源と光学顕微鏡を併用して、高エネルギな光を数百μm程度に集光することで光検出器を回避しつつアタックに成功する事例が報告されている。また光検出器の複数配置は、チップ面積が著しく増加するためコスト低減が困難である。さらに現行の光検出器はアナログ回路のためスタンダードセルのスケーリング則にのらず、今後チップをシュリンクしてもチップ面積の低減に限界がある。   A chip manufacturer aims to improve tamper resistance by mounting a circuit for detecting a leakage current generated at a junction between a P-type semiconductor and an N-type semiconductor when irradiated with light on a semiconductor integrated circuit. Since this photodetector has a large area, the number of photodetectors that can be mounted in an LSI, which is limited to mounting one or two in the chip surface, is as small as about one to two. Avoided with light. For example, a case has been reported in which a laser light source and an optical microscope are used in combination, and high-energy light is condensed to about several hundreds μm to succeed in an attack while avoiding a photodetector. In addition, it is difficult to reduce the cost of a plurality of photodetectors because the chip area increases remarkably. Furthermore, since the current photodetector is an analog circuit, it does not follow the standard cell scaling rule, and there is a limit to reducing the chip area even if the chip is shrunk in the future.

本発明の目的は、集光した光によるアタックを回避するための技術を提供することにある。   The objective of this invention is providing the technique for avoiding the attack by the condensed light.

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち代表的なものについて簡単に説明すれば下記のとおりである。   A representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、それぞれ照射された光を検出可能な複数の光検出器を半導体集積回路装置において分散配置する。このとき、上記各光検出器は、半導体基板上のウエル境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するサイリスタ構造の光検出素子を含んで成る。かかる構成によれば、光検出器を小さな領域に形成することができ、半導体チップにおいて多くの光検出素子を分散配置することができる。   That is, a plurality of photodetectors each capable of detecting the irradiated light are dispersedly arranged in the semiconductor integrated circuit device. At this time, each of the photodetectors includes a photodetector having a thyristor structure that conducts using a leakage current caused by light irradiation to the well boundary on the semiconductor substrate as a trigger. According to such a configuration, the photodetector can be formed in a small area, and a large number of photodetector elements can be dispersedly arranged in the semiconductor chip.

本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。   The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、本発明によれば、半導体チップにおいて多くの光検出素子を分散配置することにより、集光した光によるアタックを回避することができる。   That is, according to the present invention, it is possible to avoid an attack due to the collected light by disposing a large number of light detection elements in the semiconductor chip.

1.代表的な実施の形態
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。代表的な実施の形態についての概要説明で括弧を付して参照する図面の参照符号はそれが付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。
1. Representative Embodiment First, an outline of a typical embodiment of the invention disclosed in the present application will be described. The reference numerals in the drawings referred to with parentheses in the outline description of the representative embodiments merely exemplify what are included in the concept of the components to which the reference numerals are attached.

〔1〕本発明の代表的な実施の形態に係る半導体集積回路装置(1)は、それぞれ照射された光を検出可能な複数の光検出器(2)を含み、上記複数の光検出器は上記半導体集積回路装置において分散配置され、上記各光検出器は、半導体基板上のウエル境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するサイリスタ構造の光検出素子(23)を含んで成る。   [1] A semiconductor integrated circuit device (1) according to a typical embodiment of the present invention includes a plurality of photodetectors (2) each capable of detecting irradiated light, and the plurality of photodetectors are Dispersively arranged in the semiconductor integrated circuit device, each of the photodetectors includes a thyristor-structured photodetector (23) that conducts with a leakage current caused by light irradiation to the well boundary on the semiconductor substrate as a trigger. .

上記の構成によれば、例えば100μm程度(10μm×10μm)の小さな領域に形成することができ、半導体チップにおいて多くの光検出素子を均一に配置することができる。このため、例えばレーザ光源と光学顕微鏡を併用して高エネルギな光を数百μm程度に集光した場合でも、光検出を回避することが困難になる。 According to the above configuration, it can be formed in a small region of, for example, about 100 μm 2 (10 μm × 10 μm), and many photodetecting elements can be uniformly arranged in the semiconductor chip. For this reason, it becomes difficult to avoid light detection even when, for example, a laser light source and an optical microscope are used together and high-energy light is condensed to about several hundred μm.

〔2〕このとき、上記光検出器は、上記光検出素子の導通により遷移された論理状態を保持可能なラッチ回路(24)を含んで構成することができる。   [2] At this time, the photodetector can be configured to include a latch circuit (24) capable of holding a logic state transitioned by conduction of the photodetector element.

〔3〕別の観点によれば、半導体集積回路装置(1)は、それぞれ照射された光を検出可能な複数の光検出器(2)を含み、上記複数の光検出器は上記半導体集積回路装置において分散配置され、上記各光検出器は、半導体基板上のウエル境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するサイリスタ構造の光検出素子(23)を含み、上記光検出素子の光検出範囲にはラッチ回路(24)が配置され、上記ラッチ回路は、上記光検出素子とは、異なる位置に配置された別の光検出素子の導通により遷移された論理状態を保持可能に接続されて成る。   [3] According to another aspect, the semiconductor integrated circuit device (1) includes a plurality of photodetectors (2) each capable of detecting irradiated light, and the plurality of photodetectors are the semiconductor integrated circuit. Each of the photodetectors dispersedly arranged in the apparatus includes a photodetection element (23) having a thyristor structure that conducts with a leakage current caused by light irradiation to the well boundary on the semiconductor substrate as a trigger. A latch circuit (24) is arranged in the photodetection range, and the latch circuit is connected to the photodetection element so as to be able to hold a logic state transitioned by conduction of another photodetection element arranged at a different position. Made up.

〔4〕上記光検出素子は、Nウエルと、上記Nウエルに隣接するPウエルと、上記Nウエルに形成されたP型領域と、上記Pウエルに形成されたN型領域と、を含むサイリタ構造とされ、上記Nウエルと上記Pウエルとの境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するように構成することができる。 [4] The photodetecting element includes an N well, a P well adjacent to the N well, a P + type region formed in the N well, and an N + type region formed in the P well. The thyristor structure includes a leakage current caused by light irradiation to the boundary between the N-well and the P-well, and can be configured to conduct as a trigger.

〔5〕また、上記光検出素子毎の光検出範囲と、攻撃を想定している光の照射範囲とを考慮して上記光検出素子の形成位置を決定することができる。   [5] Further, the formation position of the light detection element can be determined in consideration of the light detection range for each of the light detection elements and the light irradiation range assumed to be an attack.

2.実施の形態の説明
次に、実施の形態について更に詳述する。
2. Next, the embodiment will be described in more detail.

図1には、本発明にかかる半導体集積回路装置の構成例が示される。   FIG. 1 shows a configuration example of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

半導体集積回路装置1は、特に制限されないが、マイクロコンピュータなどとされ、ダイシングによってウエハから切出されたもの(「半導体チップ」という)である。この半導体集積回路装置1には、リバースエンジニアリングを目的とするような不所望な光が照射された場合に、その光を検出するための光検出器2が複数個配置されている。個々の光検出器2は、それぞれ所定の検出領域3を有しており、この検出領域3へ光照射が行われた場合に、対応する光検出器2によって検出されるようになっている。いずれからの光検出器2によって光が検出された場合、この半導体集積回路装置1における論理回路(図示せず)がリセットされるようになっている。   The semiconductor integrated circuit device 1 is not particularly limited, and is a microcomputer or the like that is cut from a wafer by dicing (referred to as “semiconductor chip”). The semiconductor integrated circuit device 1 is provided with a plurality of photodetectors 2 for detecting light that is undesired for the purpose of reverse engineering. Each of the photodetectors 2 has a predetermined detection area 3, and when the detection area 3 is irradiated with light, it is detected by the corresponding photodetector 2. When any of the photodetectors 2 detects light, a logic circuit (not shown) in the semiconductor integrated circuit device 1 is reset.

図2には、上記光検出器2の構成例が示される。   FIG. 2 shows a configuration example of the photodetector 2.

高電位側電源Vddに結合されたpチャンネル型MOSトランジスタ21と、低電位側電源Vssに結合されたnチャネル型MOSトランジスタ22とが直列されてインバータが形成される。このインバータの出力ノード26と、低電位側電源Vssとの間に、光検出素子23が設けられる。さらに上記出力ノード26には、上記出力ノード26の論理状態を保持可能なラッチ回路24が結合される。そしてこのラッチ回路24の後段には、上記ラッチ回路24の出力信号に基づいて、半導体集積回路装置1における中央処理装置などの論理回路(図示せず)がリセットされるようになっている。光検出素子22は、半導体基板上のウエル境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するサイリスタ構造とされる。具体的には、例えば図3に示されるように、半導体基板上に分離領域(NiSO)を介してNウエル(Nwell)とPウエル(Pwell)が形成される。Nウエル及びPウエルには、N型領域やP型領域が形成される。ここで、P型領域、Nウエル、Pウエル、N型領域とが接合されることによってサイリタが構成される。この場合において、P型領域からアノード31が引き出され、N型領域からカソードが引き出される。このサイリタは、例えば100μm程度(10μm×10μm)の小さな領域に形成することができるので、半導体チップにおいてもともと存在する論理回路に影響を与えることなく、多くの光検出素子23を均一に配置することができる。 A p-channel type MOS transistor 21 coupled to the high potential side power source Vdd and an n channel type MOS transistor 22 coupled to the low potential side power source Vss are connected in series to form an inverter. A photodetecting element 23 is provided between the output node 26 of the inverter and the low potential side power source Vss. Further, a latch circuit 24 capable of holding the logic state of the output node 26 is coupled to the output node 26. A logic circuit (not shown) such as a central processing unit in the semiconductor integrated circuit device 1 is reset at the subsequent stage of the latch circuit 24 based on the output signal of the latch circuit 24. The photodetecting element 22 has a thyristor structure that conducts using a leakage current caused by light irradiation to the well boundary on the semiconductor substrate as a trigger. Specifically, for example, as shown in FIG. 3, an N well (Nwell) and a P well (Pwell) are formed on a semiconductor substrate via an isolation region (NiSO). An N + type region and a P + type region are formed in the N well and the P well. Here, the thyristor is configured by joining the P + type region, the N well, the P well, and the N + type region. In this case, the anode 31 is withdrawn from the P + -type region, the cathode is withdrawn from the N + -type region. Since this thyristor can be formed in a small region of, for example, about 100 μm 2 (10 μm × 10 μm), many photodetecting elements 23 are arranged uniformly without affecting the logic circuit originally present in the semiconductor chip. be able to.

上記の構成において、Nウエルと上記Pウエルとの境界へレーザ光などの光照射が行われた場合、それに起因して漏れ電流が流れる。P型領域、Nウエル、Pウエル、N型領域によるサイリタ構造においては、上記漏れ電流がトリガとなって導通状態になり、アノード31からカソード32に向かって大きな電流を流すことができる。従って、図2に示される構成においては、Nウエルと上記Pウエルとの境界へレーザ光などの光照射が行われない場合には、インバータの出力ノード26がハイレベルとされるが、Nウエルと上記Pウエルとの境界へレーザ光などの光照射が行われることでサイリタが導通された場合には、インバータの出力ノード26の電荷が、光検出素子23を介して低電位側電源Vss側に引き抜かれることで、インバータの出力ノード26がハイレベルからローレベルに遷移される。そしてこのローレベルがラッチ回路24ににラッチされ、それに基づいて半導体集積回路装置1における論理回路(図示せず)がリセットされる。これにより、リバースエンジニアリングが防止される。 In the above configuration, when light irradiation such as laser light is performed on the boundary between the N well and the P well, a leakage current flows due to the irradiation. In the thyristor structure including the P + -type region, the N well, the P well, and the N + -type region, the leakage current becomes a trigger and becomes conductive, and a large current can flow from the anode 31 toward the cathode 32. Therefore, in the configuration shown in FIG. 2, when light such as laser light is not irradiated to the boundary between the N well and the P well, the output node 26 of the inverter is set to the high level. When the thyristor is turned on by irradiating laser light or the like to the boundary between the P well and the P well, the charge at the output node 26 of the inverter is transferred to the low potential side power supply Vss side via the light detecting element 23. As a result, the output node 26 of the inverter is changed from the high level to the low level. This low level is latched by the latch circuit 24, and a logic circuit (not shown) in the semiconductor integrated circuit device 1 is reset based on the latched low level. Thereby, reverse engineering is prevented.

上記の例によれば、以下の作用効果を得ることができる。   According to the above example, the following effects can be obtained.

(1)図3に示されるサイリタは、例えば100μm程度(10μm×10μm)の小さな領域に形成することができるので、半導体チップにおいてもともと存在する論理回路に影響を与えることなく、多くの光検出素子23を均一に配置することができる。このため、例えばレーザ光源と光学顕微鏡を併用して高エネルギな光を数百μm程度に集光した場合でも、光検出を回避することが困難になり、光検出が行われることになる。 (1) The thyristor shown in FIG. 3 can be formed in a small region of, for example, about 100 μm 2 (10 μm × 10 μm), so that it can detect a lot of light without affecting the logic circuit originally existing in the semiconductor chip. The elements 23 can be arranged uniformly. For this reason, for example, even when a high-energy light is condensed to about several hundred μm using a laser light source and an optical microscope in combination, it is difficult to avoid light detection, and light detection is performed.

(2)上記(1)の作用効果により、耐タンパー性を向上させることができるので、例えばICカード用マイクロコンピュータのような半導体集積回路が保有する暗号鍵等のリバースエンジニアリングの防止を図ることができる。   (2) Since the tamper resistance can be improved by the effect of (1) above, it is possible to prevent reverse engineering of encryption keys held by a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer for an IC card. it can.

図4には、上記光検出器2の別の構成が示される。図4に示される光検出器2が、図2に示されるのと大きく相違するのは、nチャンネル型MOSトランジスタ22が省略されている点である。pチャンネル型MOSトランジスタ21は、ゲートがローレベルとされることでオン状態とされ、プルアップ抵抗として機能する。かかる構成においても、Nウエルと上記Pウエルとの境界へレーザ光などの光照射が行われた場合、それに起因して漏れ電流が流れ、サイリタ構造においては上記漏れ電流がトリガとなって導通状態になり、アノード31からカソード32に向かって大きな電流を流すことができるので(図3参照)、図2に示される場合と同様の作用効果を得ることができる。   FIG. 4 shows another configuration of the photodetector 2. The photodetector 2 shown in FIG. 4 is greatly different from that shown in FIG. 2 in that the n-channel MOS transistor 22 is omitted. The p-channel MOS transistor 21 is turned on when the gate is at a low level, and functions as a pull-up resistor. Even in such a configuration, when light such as laser light is applied to the boundary between the N well and the P well, a leakage current flows due to this, and in the thyristor structure, the leakage current triggers the conduction state. Thus, since a large current can flow from the anode 31 to the cathode 32 (see FIG. 3), the same effect as that shown in FIG. 2 can be obtained.

次に、上記光検出器2の別の配置例について説明する。   Next, another arrangement example of the photodetector 2 will be described.

例えば、図5に示されるように、マイクロコンピュータなどの半導体集積回路装置における中央処理装置(CPU)や、コプロセッサ(COP)などの主要ブロック形成領域の中央部に、光検出器2を配置することができる。この場合において、光検出器2の光検出範囲3は、中央処理装置(CPU)や、コプロセッサ(COP)などの主要ブロック形成領域をカバーするものとする。これにより、マイクロコンピュータなどの半導体集積回路装置における主要ブロックに対して光照射が行われた場合には、半導体集積回路装置1における論理回路(図示せず)をリセットすることができる。また、図5に示される構成では、図1に示される配置に比べて、光検出器2の個数を減らすことができる。   For example, as shown in FIG. 5, the photodetector 2 is arranged in the central portion of a main block formation region such as a central processing unit (CPU) or a coprocessor (COP) in a semiconductor integrated circuit device such as a microcomputer. be able to. In this case, the light detection range 3 of the light detector 2 covers a main block formation region such as a central processing unit (CPU) or a coprocessor (COP). Thereby, when light irradiation is performed on a main block in a semiconductor integrated circuit device such as a microcomputer, a logic circuit (not shown) in the semiconductor integrated circuit device 1 can be reset. In the configuration shown in FIG. 5, the number of photodetectors 2 can be reduced as compared with the arrangement shown in FIG.

図2や図4において、光検出素子23と、その他の素子とを分離して配置することができる。その場合において、細長の空き領域があるとき、それを有効利用するため、例えば図6(a)に示されるように、PウエルとNウエルとの細長の境界部を利用して細長の光検出素子(サイリタ)23を構成するとよい。このように細長の光検出素子23の光検出範囲3は、図6(b)に示されるように、細長の光検出素子23に対応して楕円形状になる。   2 and 4, the light detection element 23 and other elements can be arranged separately. In that case, when there is a slender empty area, in order to use it effectively, for example, as shown in FIG. 6 (a), slender light detection is performed using a slender boundary between the P well and the N well. The element (thyristor) 23 may be configured. In this way, the light detection range 3 of the elongated photodetecting element 23 has an elliptical shape corresponding to the elongated photodetecting element 23 as shown in FIG. 6B.

また、図7(a)に示されるように、複数の光検出素子(サイリタ)23を並列接続して用いることができる。この場合、個々の光検出素子23で許容できる電流が十分ではない場合でも、複数の光検出素子23を並列接続して用いることで、許容電流を増やすことができる。   Further, as shown in FIG. 7A, a plurality of light detection elements (thyristors) 23 can be connected in parallel. In this case, even if the current that can be tolerated by the individual light detection elements 23 is not sufficient, the allowable current can be increased by using a plurality of light detection elements 23 connected in parallel.

図8に示されるように、互いに隣接する光検出器2を結ぶ線(破線で示す)によって正三角形が形成されるように、複数の光検出器2を配置することで光検出器2の配置を最適化することができる。例えば攻撃を想定しているレーザ光の照射範囲をL1とし、光検出器2毎の光検出範囲3の半径をD1とし、互いに隣接する光検出器2における中央部をそれぞれA,Bとし、A,B間の距離を|A−B|とするとき、次式が成立するように、複数の光検出器2を配置すると良い。それにより、複数の光検出器2を効率良く配置することができる。尚、80は、光照射を検出したい領域を示している。
|A−B|≦√3(L1+D1)
光検出器2の配置においては、検出素子の検出能力や、攻撃を想定しているレーザ光の照射範囲が考慮される。図8に示される場合に比べて、攻撃を想定しているレーザ光の照射範囲が狭い場合には、図9に示されるように、複数の光検出器2の配置密度を高くすれば良い。
As shown in FIG. 8, by arranging a plurality of photodetectors 2 so that an equilateral triangle is formed by a line (shown by a broken line) connecting the photodetectors 2 adjacent to each other, the arrangement of the photodetectors 2 Can be optimized. For example, the irradiation range of the laser beam assuming an attack is L1, the radius of the light detection range 3 for each light detector 2 is D1, the central portions of the light detectors 2 adjacent to each other are A, B, and A , B is a plurality of photodetectors 2 arranged so that the following formula is satisfied. Thereby, the some photodetector 2 can be arrange | positioned efficiently. Reference numeral 80 denotes a region where light irradiation is desired to be detected.
| A−B | ≦ √3 (L1 + D1)
In the arrangement of the photodetector 2, the detection capability of the detection element and the irradiation range of the laser light that is assumed to be an attack are taken into consideration. Compared to the case shown in FIG. 8, when the irradiation range of the laser light that assumes an attack is narrow, as shown in FIG. 9, the arrangement density of the plurality of photodetectors 2 may be increased.

また、レーザ光の照射により、ラッチ回路24が誤動作する場合が考えられる。もし、光検出器2を構成する光検出素子23と、その検出結果をラッチするためのラッチ回路24とが近接して配置されていた場合には、レーザ光の照射を光検出素子23で検出したにもかかわらず、ラッチ回路24の誤動作により、光検出結果を適切にラッチすることができなくなる。これを回避するため、図10に示されるように、光検出素子23と、その検出結果をラッチするためのラッチ回路24との間に所定の距離をとることが考えられる。つまり、光検出素子23の近傍であってその光検出素子23の光検出範囲に配置されたラッチ回路24は、その光検出素子23とは異なる位置に配置された光検出素子23の導通により遷移された論理状態をラッチするように配線される。そのようにすれば、光検出素子23での光検出結果をラッチするラッチ回路の誤動作を防止することができるので、光検出の信頼性を向上させることができる。さらに、ラッチ回路24を配線層で覆うようにすれば、ラッチ回路24に照射されるレーザ光を減衰させることができるので、ラッチ回路24の誤動作防止を強化することができる。   Further, there may be a case where the latch circuit 24 malfunctions due to laser light irradiation. If the light detection element 23 constituting the light detector 2 and the latch circuit 24 for latching the detection result are arranged close to each other, the light detection element 23 detects the irradiation of the laser beam. Nevertheless, the malfunction of the latch circuit 24 makes it impossible to properly latch the light detection result. In order to avoid this, as shown in FIG. 10, it is conceivable to take a predetermined distance between the light detection element 23 and the latch circuit 24 for latching the detection result. That is, the latch circuit 24 arranged in the vicinity of the light detection element 23 and in the light detection range of the light detection element 23 is changed by conduction of the light detection element 23 arranged at a position different from the light detection element 23. Routed to latch the logic state generated. By doing so, it is possible to prevent malfunction of the latch circuit that latches the light detection result in the light detection element 23, so that the reliability of light detection can be improved. Furthermore, if the latch circuit 24 is covered with a wiring layer, the laser light applied to the latch circuit 24 can be attenuated, so that the malfunction prevention of the latch circuit 24 can be enhanced.

一つの光検出素子23の検出結果を、複数のラッチ回路でラッチすようにしても良い。また、一つのラッチ回路24を複数の光検出素子23で共有することによって、複数の光検出素子23の検出結果を一つのラッチ回路24で受けるようにしても良い。図11に示されるように、複数の光検出素子23をカスケード接続しても良い。   The detection result of one photodetecting element 23 may be latched by a plurality of latch circuits. In addition, a single latch circuit 24 may be shared by a plurality of light detection elements 23 so that the detection results of the plurality of light detection elements 23 are received by one latch circuit 24. As shown in FIG. 11, a plurality of photodetecting elements 23 may be cascade-connected.

光検出素子23の検出範囲3を矩形状に近似することができ、その場合には、図12又は図13に示されるように、複数の光検出素子23を格子状に配置することができる。   The detection range 3 of the light detection element 23 can be approximated to a rectangular shape, and in this case, as shown in FIG. 12 or FIG. 13, a plurality of light detection elements 23 can be arranged in a lattice shape.

光検出器2の特性として検出しやすい方向がある場合、もしくは製造した半導体集積回路装置の特性において電流の流れやすい方向がある場合などには、図8に示される正三角形を図14に示されるように変形することができる。図14に示される例では、個々の光検出器2の特性として、矢印X方向が検出しやすくなっているため、その分、光検出器2の配置数が低減される。   When there is a direction that is easy to detect as a characteristic of the photodetector 2, or when there is a direction in which a current easily flows in the characteristic of the manufactured semiconductor integrated circuit device, the equilateral triangle shown in FIG. 8 is shown in FIG. Can be deformed. In the example shown in FIG. 14, as the characteristics of the individual photodetectors 2, the direction of the arrow X is easily detected, and accordingly, the number of the photodetectors 2 is reduced accordingly.

図8や図9に示される例では、互いに隣接する光検出器2を結ぶ線(破線で示す)によって正三角形が形成されるように、複数の光検出器2を配置したが、図15に示されるように、互いに隣接する光検出器2を結ぶ線(破線で示す)によって正六角形が形成されるように複数の光検出器2を配置することによって最適化しても良いし、図16に示されるように、互いに隣接する光検出器2を結ぶ線(破線で示す)によって正四角形が形成されるように複数の光検出器2を配置することによって最適化しても良い。   In the example shown in FIGS. 8 and 9, a plurality of photodetectors 2 are arranged so that equilateral triangles are formed by lines (shown by broken lines) connecting the photodetectors 2 adjacent to each other. As shown, a plurality of photodetectors 2 may be optimized so that a regular hexagon is formed by a line (shown by a broken line) connecting the photodetectors 2 adjacent to each other. As shown, a plurality of photodetectors 2 may be optimized so that a regular square is formed by a line (shown by a broken line) connecting the photodetectors 2 adjacent to each other.

次に、上記光検出器2及びその周辺の別の構成例について説明する。   Next, another configuration example of the photodetector 2 and the periphery thereof will be described.

図17(a)に示されるように、オア回路171により複数の光検出器2の出力のオア論理を求め、そのオア論理結果に基づいて、リセット生成回路172において、システム全体をリセットするためのリセット信号を生成するようにしても良い。   As shown in FIG. 17A, an OR circuit 171 obtains an OR logic of the outputs of the plurality of photodetectors 2, and a reset generation circuit 172 resets the entire system based on the OR logic result. A reset signal may be generated.

図17(b)に示されるように、オア回路171により複数の光検出器2の出力のオア論理を求め、そのオア論理結果に基づいて、割り込み生成回路173において、中央処理装置に対して所定の割り込み要求を行うための割り込み信号を生成するようにしても良い。   As shown in FIG. 17B, an OR logic of the outputs of the plurality of photodetectors 2 is obtained by the OR circuit 171, and based on the OR logic result, the interrupt generation circuit 173 determines a predetermined value for the central processing unit. An interrupt signal for making an interrupt request may be generated.

図17(c)に示されるように、オア回路171により複数の光検出器2の出力のオア論理を求め、そのオア論理結果をラッチ回路174でラッチするようにしても良い。この場合、ラッチ回路174のラッチ情報は中央処理装置によってリードされて状況の解析が行われる。   As shown in FIG. 17C, the OR logic of the outputs of the plurality of photodetectors 2 may be obtained by the OR circuit 171, and the OR logic result may be latched by the latch circuit 174. In this case, the latch information of the latch circuit 174 is read by the central processing unit to analyze the situation.

図17(d)に示されるように、個々の光検出器2毎に、対応する割り込み生成回路175を配置することによって、半導体集積回路装置のどこに不所望な光照射が行われたのかを解析するようにしても良い。   As shown in FIG. 17 (d), by disposing a corresponding interrupt generation circuit 175 for each photodetector 2, it is analyzed where undesired light irradiation is performed in the semiconductor integrated circuit device. You may make it do.

図17(a)〜図17(c)に示される例では、複数の光検出器2の出力のオア論理を求めることで、例えば、リセット回路を個々の光検出器に用意する場合と比較して、光検出に必要とされる面積を低減することが可能となる。結果として、チップ上に多数の光検出器を配置することで、光検出精度をあげ、且つ、チップ面積の増大を抑制することが可能となり、セキュリティ性の高いチップを提供することが可能となる。   In the example shown in FIGS. 17A to 17C, the OR logic of the outputs of the plurality of photodetectors 2 is obtained, for example, compared with a case where a reset circuit is prepared for each photodetector. Thus, the area required for light detection can be reduced. As a result, by disposing a large number of photodetectors on the chip, it is possible to improve the light detection accuracy and suppress an increase in the chip area, and to provide a chip with high security. .

図18(a)に示されるように、オア回路171により複数の光検出器2の出力のオア論理を求め、そのオア回路171の出力に基づいて検出信号生成回路181により、検出信号を生成することができる。この検出信号は中央処理装置などに出力する他に、カウンタ182により検出回数がカウントされる。このカウント数が所定値を越える場合には、不所望な光照射が頻繁に行われているものと判断し、リセット状態、あるいはスリープ・スタンバイ状態に遷移させることにより、プログラム誤動作の可能性をさらに低減することができる。   As shown in FIG. 18A, the OR logic of the outputs of the plurality of photodetectors 2 is obtained by the OR circuit 171, and the detection signal is generated by the detection signal generation circuit 181 based on the output of the OR circuit 171. be able to. In addition to outputting this detection signal to a central processing unit or the like, the counter 182 counts the number of detections. If this count exceeds a predetermined value, it is determined that undesired light irradiation is frequently performed, and a transition to the reset state or sleep / standby state further increases the possibility of program malfunction. Can be reduced.

また、図18(b)に示されるように、後段回路に伝達されるのをカウンタ182の出力信号に限定することができる。   Further, as shown in FIG. 18B, the signal transmitted to the subsequent circuit can be limited to the output signal of the counter 182.

さらに、図18(c)に示されるように、複数の検出器2の出力を個別的にカウンタ182でカウントするようにしても良い。   Furthermore, as shown in FIG. 18C, the outputs of the plurality of detectors 2 may be individually counted by a counter 182.

尚、図18(a),(b)において破線で示されるようにオア回路171の出力信号をカウンタ182でカウントするようにしても良い。   Note that the output signal of the OR circuit 171 may be counted by the counter 182 as indicated by broken lines in FIGS. 18 (a) and 18 (b).

以上本発明者によってなされた発明を具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   Although the invention made by the present inventor has been specifically described above, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the invention.

本発明にかかる半導体集積回路装置の一例であるマイクロコンピュータにおける光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of the example of photodetector arrangement | positioning in the microcomputer which is an example of the semiconductor integrated circuit device concerning this invention. 上記マイクロコンピュータにおける光検出器の構成例回路図である。It is a circuit diagram of a configuration example of a photodetector in the microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける光検出器に含まれる光検出素子の構成例説明図である。It is explanatory drawing of the structural example of the photon detection element contained in the photon detector in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける光検出器に含まれる光検出素子の構成例説明図である。It is explanatory drawing of the structural example of the photon detection element contained in the photon detector in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記マイクロコンピュータにおける別の光検出器配置例の説明図である。It is explanatory drawing of another example of photodetector arrangement | positioning in the said microcomputer. 上記光検出器及びその周辺の別の構成例回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram illustrating another configuration example of the photodetector and the periphery thereof. 上記光検出器及びその周辺の別の構成例回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram illustrating another configuration example of the photodetector and the periphery thereof.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体集積回路装置
2 光検出器
3 光検出範囲
21 pチャネル型MOSトランジスタ
22 nチャネル型MOSトランジスタ
23 光検出素子
24 ラッチ回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor integrated circuit device 2 Photodetector 3 Photodetection range 21 p channel type MOS transistor 22 n channel type MOS transistor 23 Photodetection element 24 Latch circuit

Claims (5)

それぞれ照射された光を検出可能な複数の光検出器を含み、
上記複数の光検出器の検出結果に基づいてリセット可能に形成された半導体集積回路装置であって、
上記複数の光検出器は上記半導体集積回路装置において分散配置され、
上記各光検出器は、半導体基板上のウエル境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するサイリスタ構造の光検出素子を含んで成ることを特徴とする半導体集積回路装置。
Including a plurality of photodetectors each capable of detecting irradiated light,
A semiconductor integrated circuit device formed so as to be resettable based on detection results of the plurality of photodetectors,
The plurality of photodetectors are distributed in the semiconductor integrated circuit device,
Each of the photodetectors comprises a photodetector having a thyristor structure that conducts with a leakage current caused by light irradiation to a well boundary on a semiconductor substrate as a trigger.
上記光検出器は、上記光検出素子の導通により遷移された論理状態を保持可能なラッチ回路を含む請求項1記載の半導体集積回路装置。   2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the photodetector includes a latch circuit capable of holding a logic state transitioned by conduction of the photodetector element. それぞれ照射された光を検出可能な複数の光検出器を含み、
上記複数の光検出器の検出結果に基づいてリセット可能に形成された半導体集積回路装置であって、
上記複数の光検出器は上記半導体集積回路装置において分散配置され、
上記各光検出器は、半導体基板上のウエル境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するサイリスタ構造の光検出素子を含み、
上記光検出素子の光検出範囲にはラッチ回路が配置され、
上記ラッチ回路は、上記光検出素子とは、異なる位置に配置された別の光検出素子の導通により遷移された論理状態を保持可能に接続されて成ることを特徴とする半導体集積回路装置。
Including a plurality of photodetectors each capable of detecting irradiated light,
A semiconductor integrated circuit device formed so as to be resettable based on detection results of the plurality of photodetectors,
The plurality of photodetectors are distributed in the semiconductor integrated circuit device,
Each of the photodetectors includes a photodetector having a thyristor structure that conducts with a leakage current caused by light irradiation to the well boundary on the semiconductor substrate as a trigger,
A latch circuit is disposed in the light detection range of the light detection element,
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the latch circuit is connected so as to be able to hold a logic state transitioned by conduction of another photodetection element arranged at a different position from the photodetection element.
上記光検出素子は、Nウエルと、
上記Nウエルに隣接するPウエルと、
上記Nウエルに形成されたP型領域と、
上記Pウエルに形成されたN型領域と、を含むサイリタ構造とされ、
上記Nウエルと上記Pウエルとの境界への光照射に起因する漏れ電流をトリガとして導通するものである請求項1又は3記載の半導体集積回路装置。
The photodetecting element includes an N well,
A P well adjacent to the N well;
A P + -type region formed in the N-well;
An N + -type region formed in the P-well,
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device conducts by using a leakage current caused by light irradiation to the boundary between the N well and the P well as a trigger.
上記光検出素子毎の光検出範囲と、攻撃を想定している光の照射範囲とを考慮して上記光検出素子の形成位置が決定されて成る請求項1又は3記載の半導体集積回路装置。   4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein a formation position of the light detection element is determined in consideration of a light detection range for each of the light detection elements and a light irradiation range assuming an attack.
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