JP2008197632A - Electrophotographic photoreceptor, image forming method using the same, image forming apparatus, and process cartridge for image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, image forming method using the same, image forming apparatus, and process cartridge for image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor which has such high durability and high performance as to be excellent in abrasion resistance, have satisfactory electric characteristics and further be excellent in environmental accommodation. <P>SOLUTION: The electrophotographic photoreceptor has at least a photosensitive layer which is not radically crosslinked and a crosslinked surface layer containing a radically crosslinked composition on an conductive substrate, wherein a unit of specified bisphenol structure is included in the radically crosslinked composition in the crosslinked surface layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、極めて耐摩耗性の高い有機電子写真感光体に関するものであり、さらに帯電性、感度、残留電位蓄積性等の電気特性にも優れ、且つ、電気特性及び画像流れに対する環境安定性が良好であり、加えて電子写真プロセスから発生する酸化性ガスに対して解像度低下や中間調濃度低下等の画像欠陥が生じにくい、高耐久、高性能且つ高安定な電子写真感光体に関するものである。また、その長寿命、高安定な電子写真感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。   The present invention relates to an organic electrophotographic photosensitive member having extremely high wear resistance, and is excellent in electrical characteristics such as chargeability, sensitivity, residual potential accumulation and the like, and has environmental stability against electrical characteristics and image flow. Further, the present invention relates to a highly durable, high-performance and highly stable electrophotographic photosensitive member that is good and is less susceptible to image defects such as reduced resolution and reduced halftone density with respect to oxidizing gas generated from the electrophotographic process. . The present invention also relates to an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for the image forming apparatus using the long-life, highly stable electrophotographic photosensitive member.

近年、有機感光体(OPC)は良好な性能、様々な利点から、無機感光体に換わり複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば(1)光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、(2)高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、(3)材料の選択範囲の広さ、(4)製造の容易さ、(5)低コスト、(6)無毒性、等が挙げられる。一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、電荷輸送層が低分子電荷輸送物質と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を挙げる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇が余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。この様な感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。そこで、有機感光体の耐摩耗性を向上させる試みが、様々な方向から検討されてきた。   In recent years, organic photoreceptors (OPC) have been widely used in copying machines, facsimile machines, laser printers, and composite machines in place of inorganic photoreceptors because of their good performance and various advantages. This is because, for example, (1) optical characteristics such as the light absorption wavelength range and the amount of absorption, (2) electrical characteristics such as high sensitivity and stable charging characteristics, and (3) material selection range (4) Ease of manufacturing, (5) Low cost, (6) Non-toxicity, and the like. On the other hand, the diameter of the photoconductor has recently been reduced due to the downsizing of the image forming apparatus, and the high speed of the machine and the maintenance-free movement have been added to increase the durability of the photoconductor. From this point of view, organophotoreceptors are generally soft because the charge transport layer is mainly composed of a low molecular charge transport material and an inert polymer. There is a drawback that wear is likely to occur due to a mechanical load. In addition, due to the demand for higher image quality, the cleaning blade is required to increase its rubber hardness and contact pressure for the purpose of improving the cleaning property as the particle size of the toner particles is reduced. This also promotes wear of the photoreceptor. It is a factor. Such abrasion of the photoreceptor deteriorates electrical characteristics such as sensitivity deterioration and chargeability, and causes abnormal images such as image density reduction and background stains. Further, scratches where wear is locally generated cause streak-like stain images due to poor cleaning. Therefore, attempts to improve the wear resistance of the organic photoreceptor have been studied from various directions.

中でも多官能のラジカル硬化性モノマーを硬化した架橋表面層を有するもの(例えば、特許文献1参照。)は、官能基量の多いモノマーを使用でき緻密な3次元網目構造が形成され高い耐摩耗性が発揮できること、光、熱、放射線で瞬時に硬化膜が形成可能なこと、硬化反応に酸や塩基の触媒を必要とせず硬化材料が電気特性に悪影響を及ぼさないこと等で注目される。更に、この架橋表面層の電気特性を改良する目的でラジカル重合性官能基を有する電荷輸送物質を併用し、電荷輸送構造を架橋構造中に固定したもの(例えば、特許文献2、3参照。)が提案され、この技術により耐摩耗性と電荷輸送性とを両立でき、架橋表面層の残留電位上昇、傷に対する膜厚余裕度が向上した。   Among them, those having a cross-linked surface layer obtained by curing a polyfunctional radical curable monomer (see, for example, Patent Document 1) can use a monomer having a large amount of functional groups to form a dense three-dimensional network structure and high wear resistance. It is noted that a cured film can be instantly formed by light, heat, and radiation, and that a cured material does not require an acid or base catalyst for the curing reaction and does not adversely affect electrical characteristics. Furthermore, in order to improve the electrical properties of the crosslinked surface layer, a charge transport material having a radical polymerizable functional group is used in combination, and the charge transport structure is fixed in the crosslinked structure (see, for example, Patent Documents 2 and 3). This technique can achieve both wear resistance and charge transport properties, and increase the residual potential of the cross-linked surface layer and improve the film thickness margin against scratches.

一方、ラジカル硬化性組成物からなる架橋表面層は高度に架橋した3次元網目構造を形成でき高い耐摩耗性が得られるものの、元来硬化組成物中には極性基が多量に存在し誘電率が大きいため、温湿度等の環境変動や帯電器から発生する酸化性ガスで低抵抗化、感度低下などの電気特性劣化、濃度変化、画像流れ、解像度低下などの画像劣化が起こりやすいという課題がある。これに対し、官能基の一部をアルキル置換した多官能モノマーを用いる技術(例えば、特許文献4参照。)により、官能基の代わりに不活性な置換基を導入し環境変動の影響を緩和している。更に、ビスフェノールA誘導体2官能モノマーを併用したもの(例えば、特許文献5、6参照。)により架橋表面層の環境安定性や下層との接着性を向上させる技術が提案され、画像濃度変動や表面層の剥離を抑制している。   On the other hand, a cross-linked surface layer made of a radical curable composition can form a highly cross-linked three-dimensional network structure and high wear resistance can be obtained. However, the curable composition originally has a large amount of polar groups and has a dielectric constant. Therefore, there are problems such as environmental fluctuations such as temperature and humidity and electrical characteristics deterioration such as low resistance and sensitivity reduction due to oxidizing gas generated from the charger, image deterioration such as density change, image flow, resolution reduction etc. is there. On the other hand, by using a polyfunctional monomer in which a part of the functional group is alkyl-substituted (for example, see Patent Document 4), an inert substituent is introduced instead of the functional group to reduce the influence of environmental fluctuations. ing. Furthermore, a technique for improving the environmental stability of the cross-linked surface layer and the adhesion to the lower layer by using a bifunctional monomer with a bisphenol A derivative bifunctional monomer (see, for example, Patent Documents 5 and 6) has been proposed. The peeling of the layer is suppressed.

上記のような技術により架橋表面層の環境対応性や酸化性ガスに対する安定性を改良してきたが、高い耐摩耗性を狙い官能基量を増やすと極性基や未反応官能基が増加し、反対に官能基量を減らすと機械的強度が低下するため、依然として温湿度や酸化性ガスに対する環境安定性と耐摩耗性は相反関係にあり、両特性を十分に両立させるものには至っていない。
また近年の高画質化、高耐久化の要望が高まり、環境安定性と耐摩耗性を高度なレベルで両立させる必要が切望されている。
特許第3262488号公報 特許第3194392号公報 特開2000−66425号公報 特開2006−3863号公報 特許第2896823号公報 特開2006−71856号公報
Although the technologies described above have improved the environmental compatibility of the crosslinked surface layer and the stability against oxidizing gas, increasing the amount of functional groups with the aim of high wear resistance increases the number of polar groups and unreacted functional groups. If the amount of functional groups is reduced, the mechanical strength is lowered. Therefore, the environmental stability and the wear resistance against temperature and humidity and oxidizing gas are still in a contradictory relationship, and the two properties have not been sufficiently compatible.
In recent years, there has been a growing demand for higher image quality and higher durability, and there is an urgent need to achieve both environmental stability and wear resistance at a high level.
Japanese Patent No. 3262488 Japanese Patent No. 3194392 JP 2000-66425 A JP 2006-3863 A Japanese Patent No. 2896823 JP 2006-71856 A

本発明の課題は、耐摩耗特性に優れ且つ電気的特性が良好で、更に優れた環境対応性を有する高耐久、高性能な電子写真感光体を提供することである。より詳しくは、多官能モノマーを用いた架橋表面層の高い耐摩耗性を維持したまま、温湿度環境や帯電器から発生する酸化性ガスに対し高い安定性を有し、画像濃度変動や画像流れ及び解像度低下が起こりにくい電子写真感光体を提供することである。
また、かかる高耐久、高安定な長寿命感光体を使用し、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することである。
An object of the present invention is to provide a highly durable and high performance electrophotographic photoreceptor having excellent wear resistance and electrical characteristics, and having excellent environmental compatibility. In more detail, while maintaining the high abrasion resistance of the cross-linked surface layer using polyfunctional monomer, it has high stability against oxidizing gas generated from the temperature and humidity environment and charger, image density fluctuation and image flow And providing an electrophotographic photosensitive member in which a reduction in resolution is unlikely to occur.
Another object of the present invention is to provide an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for an image forming apparatus that use such a highly durable and highly stable long-life photoconductor and realize high image quality over a long period of time.

本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、次の(1)〜(11)により上記目的を達成できることを見出して、本発明を完成するに至った。
すなわち、上記課題は、以下の本発明によって解決される。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by the following (1) to (11), and have completed the present invention.
That is, the said subject is solved by the following this invention.

(1)導電性支持体上に少なくとも、ラジカル硬化されていない感光層と、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する電子写真感光体において、該架橋表面層のラジカル硬化組成物中に少なくとも下記一般式(A)で表される構造単位を含有することを特徴とする電子写真感光体。
(式中、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子であるものは除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
(1) In an electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer that is not radically cured on a conductive support and a crosslinked surface layer containing a radically cured composition, at least in the radically cured composition of the crosslinked surface layer An electrophotographic photoreceptor comprising a structural unit represented by the following general formula (A).
(Expressed in the formula, R 5, R 6, R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear or branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, a halogen atom, an aryl group, R 9 And R 10 represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, except that all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms, and the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2. is there.)

(2)前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(B)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする前記(1)記載の電子写真感光体。
(式中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状アルキレン基、1−ケトへキシレン基を表し、R3及びR4は水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表し、n、mはそれぞれ0〜4の整数を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合を除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
(2) The radical curable composition is a composition formed by applying at least a radically polymerizable compound represented by the following general formula (B) to the photosensitive layer surface, followed by radical curing. The electrophotographic photosensitive member as described in (1) above, wherein
(Wherein R 1 and R 2 each represent a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, 1-ketohexylene group, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a methyl group, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, a halogen atom or an aryl group, and R 9 and R 10 are hydrogen atoms. Represents an atom, a methyl group, or an ethyl group, and n and m each represent an integer of 0 to 4, except when all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms, the number of carbon atoms of R 9 and the carbon number of R 10 The sum of the numbers is 0-2.)

(3)前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(C)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする前記(1)記載の電子写真感光体。
(式中、R11、R12、R13及びR14はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合は除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
(3) The radical curable composition is a composition formed by applying at least a radically polymerizable compound represented by the following general formula (C) to the surface of the photosensitive layer, followed by radical curing. The electrophotographic photosensitive member as described in (1) above, wherein
(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom and a straight chain having 1 to 6 carbon atoms. Or a branched or cyclic alkyl group, an allyl group, a halogen atom, or an aryl group, and R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, provided that all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms. (The sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2.)

(4)前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(D)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする前記(1)記載の電子写真感光体。
(式中、R21、R22はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表し、nは1〜50の整数を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合は除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
(4) The above-mentioned radical curable composition is a composition formed by applying at least a coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the following general formula (D) to the surface of the photosensitive layer, followed by radical curing. The electrophotographic photosensitive member as described in (1) above, wherein
(Wherein R 21 and R 22 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 6 carbon atoms. A group, an allyl group, a halogen atom, and an aryl group, R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group, and n represents an integer of 1 to 50, provided that all of R 5 to R 8 are hydrogen. (When it is an atom, the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2.)

(5)前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも上記一般式(B)、(C)、(D)で表されるラジカル重合性化合物のいずれかと、更にラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマーを含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする前記(2)〜(4)のいずれかに記載の電子写真感光体。
(6)前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも上記一般式(B)、(C)、(D)で表されるラジカル重合性化合物のいずれかと、更にラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする前記(2)〜(5)のいずれかに記載の電子写真感光体。
(5) The radical curable composition includes at least one of the radical polymerizable compounds represented by the general formulas (B), (C), and (D), and a monomer having three or more radical polymerizable functional groups. The electrophotographic photosensitive member according to any one of the above (2) to (4), which is a composition formed by applying a coating solution to the surface of the photosensitive layer and then radical-curing it.
(6) Charge transport in which the radical curable composition has at least one of the radical polymerizable compounds represented by the general formulas (B), (C), and (D), and one or more radical polymerizable functional groups. The electrophotography according to any one of the above (2) to (5), which is a composition formed by applying a coating solution containing a functional compound to the surface of the photosensitive layer and then radical curing. Photoconductor.

(7)前記ラジカル硬化組成物が、光のエネルギーを用いた手段で硬化されていることを特徴とする前記(1)〜(6)のいずれかに記載の電子写真感光体。
(8)前記ラジカル硬化されていない感光層が、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した構成をとることを特徴とする前記(1)〜(7)のいずれかに記載の電子写真感光体。
(7) The electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (6), wherein the radical curable composition is cured by means using light energy.
(8) Any of the above (1) to (7), wherein the non-radically cured photosensitive layer has a structure in which at least a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated on a conductive support. The electrophotographic photoreceptor described in 1.

(9)電子写真感光体を用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が前記(1)〜(8)いずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法。
(10)少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体が前記(1)〜(8)のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
(11)前記(1)〜(8)のいずれかに記載の電子写真感光体と、更に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段から選択される少なくとも1つの手段とが一体となり、画像形成装置と着脱自在であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
(9) An image forming method using an electrophotographic photosensitive member, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (8).
(10) An image forming apparatus comprising at least a charging unit, an exposing unit, a developing unit, a transfer unit, and an electrophotographic photosensitive member, wherein the electrophotographic photosensitive member is any one of (1) to (8). An image forming apparatus characterized by being an electrophotographic photosensitive member.
(11) The electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (8), and at least one unit selected from a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit, a cleaning unit, and a charge eliminating unit Is a process cartridge for an image forming apparatus, characterized by being integrated with the image forming apparatus and detachable from the image forming apparatus.

本発明のラジカル硬化されていない感光層と、一般式(A)の構造を含むラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する電子写真感光体を用いることによって、耐摩耗性が高く、良好な電気特性を有し、更に環境安定性、耐ガス性が優れた電子写真感光体が実現される。したがってこの感光体を用いることで、より高画質な画像を長期にわたり提供できる高性能で且つ信頼性の高い画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供できる。   By using an electrophotographic photosensitive member having a non-radical-cured photosensitive layer of the present invention and a crosslinked surface layer containing a radical-curing composition containing the structure of the general formula (A), the abrasion resistance is high and good. An electrophotographic photosensitive member having electrical characteristics and excellent environmental stability and gas resistance is realized. Therefore, by using this photoreceptor, it is possible to provide a high-performance and highly reliable image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for an image forming apparatus that can provide a higher quality image over a long period of time.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明においては、架橋表面層を形成するラジカル硬化組成物の構造中に下記一般式(A)の化学構造を組み込むことにより、優れた耐摩耗性と同時に、温湿度に広く対応できる環境安定性を有し、また帯電器から発生するオゾンガス、窒素酸化物ガス(NOxガス)等の酸化性ガスに強く、画像濃度の変動、画像流れ、及び解像度低下を抑制できることが判明した。
(式中、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子であるものは除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, by incorporating the chemical structure of the following general formula (A) into the structure of the radical curable composition that forms the crosslinked surface layer, it has excellent wear resistance and environmental stability that can be widely applied to temperature and humidity. It was also found that it is resistant to oxidizing gas such as ozone gas and nitrogen oxide gas (NOx gas) generated from the charger, and can suppress fluctuations in image density, image flow, and resolution reduction.
(Expressed in the formula, R 5, R 6, R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear or branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, a halogen atom, an aryl group, R 9 And R 10 represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, except that all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms, and the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2. is there.)

<耐摩耗性発現理由に関して>
まず本発明の架橋表面層が高い耐摩耗性を有することを説明する。
従来、ラジカル硬化性組成物からなる架橋表面層は、緻密な3次元網目構造が形成でき、これにより高い耐摩耗性が発揮されることが知られていた。特許第3262488号公報(特許文献1)及び特開2006−227761号公報に記載されているように、耐摩耗性を支配する要因は硬化組成物中のラジカル硬化性官能基量であり、例えばアクリル基の場合アクリル当量(モノマー分子量を官能基数で割った値)の小さいモノマーを用いることで、より緻密な3次元架橋構造が形成され、高い耐摩耗性が達成されることが開示されている。また、官能基数が多いモノマー、例えば3官能以上のモノマー、更には6官能モノマーを用いることも耐摩耗性向上には有効であり、これは官能基の中の少なくとも1つが重合することで分子量が増大する確率が高まることによる。例えば、2官能以下のモノマーを主成分として用いると機械的強度が低下し、先の特許文献にも記載されているように架橋表面層の耐摩耗性が低下することが予想されるものであった。
<Reason for the expression of wear resistance>
First, it will be explained that the crosslinked surface layer of the present invention has high wear resistance.
Conventionally, it has been known that a crosslinked surface layer made of a radically curable composition can form a dense three-dimensional network structure, and thereby exhibits high wear resistance. As described in Japanese Patent No. 3262488 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-227761, the factor governing the wear resistance is the amount of radical curable functional groups in the cured composition. In the case of a group, it is disclosed that a denser three-dimensional cross-linked structure is formed and high wear resistance is achieved by using a monomer having a small acrylic equivalent (a value obtained by dividing the monomer molecular weight by the number of functional groups). It is also effective to improve the wear resistance by using a monomer having a large number of functional groups, for example, a monomer having three or more functional groups, and further a hexafunctional monomer. This is because the probability of increasing increases. For example, when a bifunctional or lower monomer is used as a main component, the mechanical strength is lowered, and the abrasion resistance of the crosslinked surface layer is expected to be lowered as described in the previous patent document. It was.

これに対し、本発明ではラジカル硬化組成物中に一般式(A)で表される構造単位を含有させることで、前記多官能モノマーを用いた場合に匹敵する高い耐摩耗性が得られることが判明した。これは、従来の技術にはみられないものである。この理由は明らかではないが以下のように推測される。硬化組成物中に一般式(A)の構造単位を含有させる場合、上記公報文献記載の多官能脂肪族モノマーに比べ官能基の割合は希薄となり、機械的強度が低下すると考えられていた。しかし、架橋密度は低下するものの、直鎖状ポリマーでみられる分子間の絡み合いの効果(この場合は一般式(A)の構造間の絡み合い)が発現するものと推定される。感光体の摩耗は、クリーニング作用からの熱や帯電器の放電により切断された分子が現像剤やクリーニングブレードで引き抜かれることで起こるため、絡み合いやスタッキングの力が分子の引き抜きを防止し、摩耗を抑制に繋がったと推測される。   On the other hand, in the present invention, by containing the structural unit represented by the general formula (A) in the radical curable composition, high wear resistance comparable to that obtained when the polyfunctional monomer is used can be obtained. found. This is not seen in the prior art. The reason for this is not clear, but is presumed as follows. In the case where the structural unit of the general formula (A) is contained in the cured composition, the ratio of the functional group is diluted as compared with the polyfunctional aliphatic monomer described in the above publication, and the mechanical strength is considered to decrease. However, although the crosslink density decreases, it is presumed that the effect of entanglement between molecules observed in the linear polymer (in this case, entanglement between structures of the general formula (A)) appears. Photoreceptor wear occurs when molecules cut by heat from the cleaning action or discharge of the charger are pulled out by the developer or the cleaning blade, so the entanglement and stacking forces prevent the molecules from being pulled out and wear out. Presumed to have led to suppression.

更にまた、硬化組成物中に電荷輸送性物質(官能基を有するもの又は官能基を有しないものいずれにおいても)を含有させる場合、ベンゼン環を有する一般式(A)の構造単位を含有させることにより、広いπ電子共役構造からなる電荷輸送物質はマトリックスとの相溶性が向上する。このため架橋表面層の均一性が向上し、機械的強度が増加したと考えられる。   Furthermore, when a charge transporting substance (whether having a functional group or not having a functional group) is included in the cured composition, the structural unit of the general formula (A) having a benzene ring is included. Thus, the charge transport material having a wide π-electron conjugated structure is improved in compatibility with the matrix. For this reason, it is considered that the uniformity of the crosslinked surface layer is improved and the mechanical strength is increased.

<環境安定性発現理由に関して>
次に、本発明の架橋表面層が環境変動や酸化性ガスに強い理由を記載する。
元来耐摩耗性の高い架橋表面層では、ウレタン硬化、アクリル硬化、シロキサン硬化、エポキシ硬化など架橋構造を問わず、緻密な網目構造を形成するため多量の反応性置換基が必要となり、得られた架橋膜も極性基が多くなる。このため環境変動や酸化性ガスに弱い。
<Reasons for environmental stability>
Next, the reason why the crosslinked surface layer of the present invention is resistant to environmental fluctuations and oxidizing gases will be described.
A cross-linked surface layer with high wear resistance originally requires a large amount of reactive substituents to form a dense network structure regardless of the cross-linked structure such as urethane curing, acrylic curing, siloxane curing, and epoxy curing. The crosslinked film also has a large number of polar groups. For this reason, it is vulnerable to environmental fluctuations and oxidizing gases.

先に記したラジカル硬化組成物中の官能基を増やす方向や官能基数の多い多官能モノマーを多量に用いる方向は、更に極性基(例えばエステル基)の増加を招き、水分吸着性が高まり結果として高湿環境で画像流れが発生しやすくなる。また、非常に緻密な架橋構造が形成されると分子の運動性が凍結され、特に低温状態で電荷輸送物質の立体構造変化が抑制され、感度低下を招く。また、硬化組成物中の官能基を増やすと硬化後に残存する未反応官能基が増加し、これに伴い帯電器から発生する反応性の高い酸化性ガスの吸着量が増加し、架橋表面層の低抵抗化や解像度低下を招く。   The direction of increasing the functional groups in the radical curing composition described above and the direction of using a large amount of polyfunctional monomers having a large number of functional groups further increase the polar groups (for example, ester groups), resulting in an increase in moisture adsorption. Image flow is likely to occur in a high humidity environment. In addition, when a very dense cross-linked structure is formed, the mobility of the molecule is frozen, and the change of the three-dimensional structure of the charge transport material is suppressed particularly at a low temperature, resulting in a decrease in sensitivity. Further, when the functional group in the cured composition is increased, the unreacted functional group remaining after the curing is increased, and accordingly, the adsorption amount of the highly reactive oxidizing gas generated from the charger is increased, and the crosslinked surface layer is increased. Lowers resistance and lowers resolution.

これに対し、本発明の硬化組成物中に一般式(A)の構造単位を含有させることで、環境変動や酸化性ガスによる影響が緩和される。この理由は明らかではないが以下のように推測される。硬化組成物中に一般式(A)の構造単位を含有させる場合、先の多官能脂肪族モノマーを用いたものに比べ、官能基濃度が薄められ架橋表面層の環境安定性が向上すると考えられる。また、実際の網目の間隔も広がることで分子が動きやすい状態が保たれ、加えて極性基が減ることで誘電率も上がらず、従って高い電荷輸送性を維持できるため低温での感度低下を抑制できると考えられる。更に嵩高い構造が網目構造の空間を埋めることにより、膜内部へのガス浸透性が低く酸化性ガスの影響を低減できたと考えられる。加えてビスフェノールA構造と異なり、ベンゼン核の水素を、それより嵩高い直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基等で置換することにより、極性基である酸素原子への酸化性ガスの吸着を抑制し、更に耐ガス性が向上できたと考えられる。   On the other hand, by including the structural unit of the general formula (A) in the cured composition of the present invention, the influence of environmental fluctuations and oxidizing gas is alleviated. The reason for this is not clear, but is presumed as follows. When the structural unit of the general formula (A) is contained in the cured composition, it is considered that the environmental stability of the cross-linked surface layer is improved by reducing the functional group concentration as compared with the one using the polyfunctional aliphatic monomer. . In addition, the distance between the actual meshes is widened to keep the molecules easy to move. In addition, the decrease in the polar group does not increase the dielectric constant, so that high charge transportability can be maintained. It is considered possible. Further, it is considered that the bulky structure fills the space of the network structure, so that the gas permeability into the membrane is low and the influence of the oxidizing gas can be reduced. In addition, unlike the bisphenol A structure, the hydrogen atom of the benzene nucleus is substituted with a bulky linear, branched or cyclic alkyl group, allyl group, halogen atom, aryl group, etc., so that an oxygen atom which is a polar group It is considered that the adsorption of the oxidizing gas to the gas was suppressed and the gas resistance was further improved.

上記のような理由から、本発明の硬化組成物中に一般式(A)の構造単位を含有させることで、耐摩耗性に優れ、環境変動や酸化性ガスにも強い、両特性を同時に改良された架橋表面層が達成できたと考えられる。   For the reasons as described above, by incorporating the structural unit of the general formula (A) in the cured composition of the present invention, it is excellent in wear resistance, resistant to environmental fluctuations and oxidizing gases, and simultaneously improves both characteristics. It is thought that the crosslinked surface layer thus obtained could be achieved.

<ラジカル硬化組成物に関して>
次に、本発明の架橋表面層を形成するラジカル硬化組成物の構成成分について説明する。
本発明は、前記ラジカル硬化組成物中に一般式(A)の構造単位を含有させるものであるが、かかる構造単位を有するラジカル重合性モノマー、ラジカル重合性オリゴマー又はラジカル重合性官能基を有するポリマー等のラジカル重合性化合物を、光、熱又は電子線のエネルギーにより硬化することで、架橋表面層中の硬化物構造中に導入される。この硬化に際し、一般式(A)の構造単位は分解することなく固定化され、硬化表面層を熱分解GC分析によるマススペクトル測定、赤外分光分析による特性吸収測定等で確認できる。一般式(A)の構造単位は全ラジカル硬化組成物量に対し5〜80質量%、好ましくは10〜50質量%である。硬化組成物中の一般式(A)の構造単位が5質量%未満では、目的とする環境変動や酸化性ガスに対する電気特性や画像劣化を抑制できない。また、80質量%を超えると硬化性官能基が少なくなり耐摩耗性、耐傷性などの機械的強度が低下する。
<Regarding the radical curable composition>
Next, the components of the radical curable composition that forms the crosslinked surface layer of the present invention will be described.
In the present invention, the radical curable composition contains the structural unit of the general formula (A), and the radical polymerizable monomer, radical polymerizable oligomer, or polymer having a radical polymerizable functional group having such a structural unit. A radically polymerizable compound such as is cured by light, heat, or electron beam energy to be introduced into the cured product structure in the crosslinked surface layer. At the time of this curing, the structural unit of the general formula (A) is fixed without being decomposed, and the cured surface layer can be confirmed by mass spectrum measurement by pyrolysis GC analysis, characteristic absorption measurement by infrared spectroscopic analysis, or the like. The structural unit of the general formula (A) is 5 to 80% by mass, preferably 10 to 50% by mass, based on the total amount of the radical curable composition. If the structural unit of the general formula (A) in the cured composition is less than 5% by mass, it is not possible to suppress the intended environmental change, electrical characteristics against oxidizing gas, and image deterioration. On the other hand, when it exceeds 80% by mass, the curable functional group is decreased and the mechanical strength such as abrasion resistance and scratch resistance is lowered.

上記ラジカル重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーはラジカル重合性官能基を有しているが、この官能基とは炭素−炭素2重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。これらラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す1−置換エチレン官能基、1,1−置換エチレン官能基等が挙げられる。   The radical polymerizable monomer, oligomer and polymer have a radical polymerizable functional group, and any functional group may be used as long as it has a carbon-carbon double bond and is capable of radical polymerization. Examples of these radical polymerizable functional groups include 1-substituted ethylene functional groups and 1,1-substituted ethylene functional groups shown below.

(1)1−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表される官能基(P)が挙げられる。
官能基(P)
CH2=CH−X1
(ただし、式中、X1は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−CO−基、−COO−基、−CON(R30)−基(R30は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わす。)、または−S−基を表わす。)
これらの置換基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、2−メチル−1,3−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。
(1) Examples of the 1-substituted ethylene functional group include a functional group (P) represented by the following formula.
Functional group (P)
CH 2 = CH-X 1 -
(In the formula, X 1 is an arylene group such as a phenylene group or a naphthylene group which may have a substituent, an alkenylene group which may have a substituent, a —CO— group, a —COO— group. , —CON (R 30 ) — group (R 30 represents an alkyl group such as hydrogen, methyl group or ethyl group, an aralkyl group such as benzyl group, naphthylmethyl group or phenethyl group, or an aryl group such as phenyl group or naphthyl group. Or the —S— group.)
Specific examples of these substituents include a vinyl group, a styryl group, a 2-methyl-1,3-butadienyl group, a vinylcarbonyl group, an acryloyloxy group, an acryloylamide group, and a vinyl thioether group.

(2)1,1−置換エチレン官能基としては、例えば以下の式で表される官能基(R)が挙げられる。
官能基(R)
CH2=C(Y)−X2
(ただし、式中、Yは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基あるいはエトキシ基等のアルコキシ基、−COOR31基(R31は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基)、または−CONR3233(R32およびR33は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わし、互いに同一または異なっていてもよい。)、また、X2は官能基(P)のX1と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表わす。ただし、Y,X2の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、及び芳香族環である。)
これらの置換基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
(2) Examples of the 1,1-substituted ethylene functional group include a functional group (R) represented by the following formula.
Functional group (R)
CH 2 = C (Y) -X 2 -
(In the formula, Y is an aryl group such as an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group. Group, halogen atom, cyano group, nitro group, alkoxy group such as methoxy group or ethoxy group, -COOR 31 group (R 31 is a hydrogen atom, an alkyl such as an optionally substituted methyl group or ethyl group) Group, an aralkyl group such as benzyl and phenethyl group which may have a substituent, an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group which may have a substituent, or -CONR 32 R 33 (R 32 and R 33 is a hydrogen atom, an alkyl group such as an optionally substituted methyl group, an ethyl group, an aralkyl group such as an optionally substituted benzyl group, naphthylmethyl group, or phenethyl group; Also Substituent a phenyl group which may have a represents an aryl group such as a naphthyl group, which may be the same or different from each other.) Further, X 2 is X 1 same substituent functional group (P) And a single bond or an alkylene group, provided that at least one of Y and X 2 is an oxycarbonyl group, a cyano group, an alkenylene group, and an aromatic ring.)
Specific examples of these substituents include an α-acryloyloxy chloride group, a methacryloyloxy group, an α-cyanoethylene group, an α-cyanoacryloyloxy group, an α-cyanophenylene group, and a methacryloylamino group.

なお、これらX1、X2、Yについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えばハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用であり、アクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がある化合物とアクリル酸(塩)、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル化反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、メタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。ラジカル硬化性官能基を複数有する場合、それらが同一であっても異なっても良い。
In addition, examples of the substituent further substituted with the substituent for X 1 , X 2 , and Y include alkyl groups such as halogen atom, nitro group, cyano group, methyl group, and ethyl group, methoxy group, and ethoxy group. And an aryloxy group such as a phenoxy group, an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group, and an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group.
Among these radical polymerizable functional groups, acryloyloxy group and methacryloyloxy group are particularly useful. For example, a compound having an acryloyloxy group includes a compound having a hydroxyl group and acrylic acid (salt), acrylic acid halide, acrylic acid. It can be obtained by esterification or transesterification using an ester. A compound having a methacryloyloxy group can be obtained in the same manner. When there are a plurality of radically curable functional groups, they may be the same or different.

<一般式(B)のラジカル重合性化合物に関して>
一般式(A)の構造単位を導入するには、下記一般式(B)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層上に塗工した後、ラジカル硬化させることが特に好ましい。
(式中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状アルキレン基、1−ケトヘキシレン基を表し、R3及びR4は水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表し、n、mはそれぞれ0〜4の整数を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合を除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
<Regarding the radically polymerizable compound of the general formula (B)>
In order to introduce the structural unit of the general formula (A), it is particularly preferable to apply radical curing after coating a coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the following general formula (B) on the photosensitive layer. preferable.
(Wherein R 1 and R 2 each represent a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, 1-ketohexylene group, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a methyl group, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, a halogen atom, an aryl group, R 9 and R 10 are a hydrogen atom, Represents a methyl group or an ethyl group, and n and m each represent an integer of 0 to 4, except when all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms, and the number of carbon atoms of R 9 and the number of carbon atoms of R 10 The sum is 0-2.)

一般式(B)で表されるラジカル重合性化合物は、例えば以下の製造法により容易に合成することができる。
<n、mがいずれも0の場合>
B1−1工程
The radically polymerizable compound represented by the general formula (B) can be easily synthesized, for example, by the following production method.
<When n and m are both 0>
Process B1-1

<n、mが0以外の場合>
B2−1工程
<When n and m are other than 0>
B2-1 process

B2−2工程
B2-2 process

一般式(B)で表されるラジカル重合性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Although the following are illustrated as a radically polymerizable compound represented by general formula (B), it is not limited to these compounds.

<一般式(C)のラジカル重合性化合物に関して>
一般式(A)の構造単位を導入するには、下記一般式(C)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層上に塗工した後、ラジカル硬化させることが特に好ましい。
(式中、R11、R12、R13及びR14はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合を除き、R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
<Regarding the radically polymerizable compound of the general formula (C)>
In order to introduce the structural unit of the general formula (A), it is particularly preferable to perform radical curing after coating a coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the following general formula (C) on the photosensitive layer. preferable.
(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom and a straight chain having 1 to 6 carbon atoms. Or a branched or cyclic alkyl group, an allyl group, a halogen atom, or an aryl group, and R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, provided that all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms. Except for, the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0-2.)

一般式(C)で表されるラジカル重合性化合物は、例えば以下の製造法により容易に合成することができ・BR>驕B
C1−1工程
The radically polymerizable compound represented by the general formula (C) can be easily synthesized, for example, by the following production method.
Process C1-1

この時エポキシ環の開環方向により、下記類似構造体が副生する。
これらの分離は容易では無く、混合体として使用する事もできる。混合体として使用しても特性に影響が無く、コスト的に有利である。
At this time, the following similar structure is by-produced depending on the opening direction of the epoxy ring.
These separations are not easy and can also be used as a mixture. Even if it is used as a mixture, there is no effect on the properties, which is advantageous in terms of cost.

C1−2工程
Process C1-2

また、C1−1工程を次の方法(C2−1&C2−2)に変えても容易に合成出来る。
C2−1工程
C2−2工程
Moreover, it can synthesize | combine easily even if C1-1 process is changed into the following method (C2-1 & C2-2).
Process C2-1
Process C2-2

この時エポキシ環の開環方向により、下記類似構造体が副生する。
At this time, the following similar structure is by-produced depending on the opening direction of the epoxy ring.

C2−3工程
C2-3 process

また、一般式(C)のR11〜R14が全て同じ基である場合は、下記C3工程により合成することができる。
C3−1工程
Further, R 11 to R 14 in the general formula (C) is If all the same group, can be synthesized by the following C3 step.
C3-1 process

C3−2工程
C3-2 process

以上の各工程における反応条件は、従来公知のエポキシ環のヒドロキシ基への開環付加反応や酸クロリドとヒドロキシ基によるエステル化反応の条件にて行うことができる。
また、工程に記載以外の従来合成方法を適用することも可能である。例えば、(メタ)アクリロイル化の工程を上記工程では、酸クロリドとヒドロキシ基との反応を用いて例示したが、適応する酸とヒドロキシ基との脱水縮合反応を用いることも可能であり、また、アクリロイル化では、下記(C4)に示す反応を適用することもできる。
C4工程
The reaction conditions in each of the above steps can be carried out under the conditions of a conventionally known ring-opening addition reaction of an epoxy ring to a hydroxy group or an esterification reaction with an acid chloride and a hydroxy group.
In addition, conventional synthesis methods other than those described in the steps can be applied. For example, although the (meth) acryloylation step is exemplified in the above step using a reaction between an acid chloride and a hydroxy group, it is also possible to use a dehydration condensation reaction between a suitable acid and a hydroxy group, In acryloylation, the reaction shown in the following (C4) can also be applied.
C4 process

一般式(C)で表されるラジカル重合性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Although the following are illustrated as a radically polymerizable compound represented by general formula (C), it is not limited to these compounds.

<一般式(D)のラジカル重合性化合物に関して>
一般式(A)の構造単位を導入するには、下記一般式(D)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層上に塗工した後、ラジカル硬化させることが特に好ましい。
(式中、R21、R22はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表し、nは1〜50の整数を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合は除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
<Regarding the radically polymerizable compound of the general formula (D)>
In order to introduce the structural unit represented by the general formula (A), it is particularly preferable to apply a coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the following general formula (D) on the photosensitive layer and then to perform radical curing. preferable.
(Wherein R 21 and R 22 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 6 carbon atoms. A group, an allyl group, a halogen atom, and an aryl group, R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group, and n represents an integer of 1 to 50, provided that all of R 5 to R 8 are hydrogen. (When it is an atom, the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2.)

一般式(D)のラジカル重合性化合物は下記の経路で合成される。
D1−1工程
The radically polymerizable compound of the general formula (D) is synthesized by the following route.
D1-1 process

D1−2工程
D1-2 process

一般式(D)で表されるラジカル重合性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Although the following are illustrated as a radically polymerizable compound represented by general formula (D), It is not limited to these compounds.

本発明に好適に用いられる一般式(B)、(C)、(D)のラジカル重合性化合物は、硬化性を有する構成物質全量に対し10〜100質量%、好ましくは20〜70質量%である。これらのラジカル重合性化合物が10質量%未満では、硬化組成物中における一般式(A)の構造単位が希薄となり、目的とする環境変動や酸化性ガスに対する電気特性や画像劣化を抑制できない。また、70質量%を超えると硬化性官能基が少ないため耐摩耗性、耐傷性などの機械的強度が低下することがある。   The radically polymerizable compounds of the general formulas (B), (C), and (D) that are preferably used in the present invention are 10 to 100% by mass, preferably 20 to 70% by mass, based on the total amount of the constituent materials having curability. is there. If these radically polymerizable compounds are less than 10% by mass, the structural unit of the general formula (A) in the cured composition becomes dilute, and it is not possible to suppress target environmental fluctuations, electrical characteristics with respect to oxidizing gas, and image deterioration. On the other hand, if it exceeds 70% by mass, the mechanical strength such as wear resistance and scratch resistance may be lowered due to the small number of curable functional groups.

<ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマーに関して>
本発明の架橋表面層は一般式(A)の構造単位を有する硬化組成物を含有しているが、耐摩耗性、硬度、塗工液粘度、硬化速度等を調節する目的で、架橋表面層塗工液に、ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマーを混合使用することができる。このラジカル重合性官能基としては、先の一般式(A)の構造単位を有するラジカル重合性化合物で示したものが挙げられ、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。
3官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
<Regarding monomer having three or more radical polymerizable functional groups>
The crosslinked surface layer of the present invention contains a cured composition having the structural unit of the general formula (A), but for the purpose of adjusting the wear resistance, hardness, coating solution viscosity, curing rate, etc., the crosslinked surface layer. A monomer having three or more radically polymerizable functional groups can be mixed and used in the coating solution. Examples of the radical polymerizable functional group include those shown for the radical polymerizable compound having the structural unit of the general formula (A), and acryloyloxy group and methacryloyloxy group are particularly useful.
Examples of the tri- or higher functional radical polymerizable monomer include the following, but are not limited to these compounds.

すなわち、本発明において好適に用いられる3官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性(以後EO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性(以後PO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性(以後ECH変性)トリアクリレート、グリセロールEO変性トリアクリレート、グリセロールPO変性トリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸EO変性トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は2種類以上を混合使用しても差し支えない。   That is, examples of the tri- or higher functional radical polymerizable monomer suitably used in the present invention include trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane alkylene-modified triacrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy. Modified (hereinafter EO modified) triacrylate, trimethylolpropane propyleneoxy modified (hereinafter PO modified) triacrylate, trimethylolpropane caprolactone modified triacrylate, trimethylolpropane alkylene modified trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) ), Glycerol triacrylate, glycerol epichlorohydrin modified ECH modified) triacrylate, glycerol EO modified triacrylate, glycerol PO modified triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol caprolactone modified hexaacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate Alkylated dipentaerythritol pentaacrylate, alkylated dipentaerythritol tetraacrylate, alkylated dipentaerythritol triacrylate, dimethylolpropane tetraacrylate (DTMPTA), pentaerythritol ethoxytetraacrylate, EO-modified triacrylate phosphate, 2,2 , 5,5-Tetrahydroxymethylcyclopentanone Such as tigers acrylate and the like, which, no problem even by mixing using a single or two or more kinds.

本発明に混合使用できるラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマーの量は、硬化性を有する構成物質全量に対し0〜90質量%、好ましくは0〜50質量%であり、本発明の目的とする環境変動や酸化性ガスに対する電気特性や画像の安定性を十分発揮させるには、一般式(B)、(C)、(D)のラジカル重合性化合物に対し等量以下にすることが好ましい。   The amount of the monomer having three or more radically polymerizable functional groups that can be mixed and used in the present invention is 0 to 90% by mass, preferably 0 to 50% by mass, based on the total amount of the curable constituent material. In order to fully exhibit the electrical characteristics and image stability with respect to environmental fluctuations and oxidizing gases, the amount of the radical polymerizable compound represented by the general formulas (B), (C), and (D) should be equal or less. preferable.

<ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物に関して>
本発明の架橋表面層は一般式(A)の構造単位を有する硬化組成物を含有しているが、架橋表面層の電荷輸送性を向上し良好な感度や低い残留電位を長期にわたり維持する目的で、ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物を混合使用することができる。更に、これにより架橋表面層の膜厚を厚くでき、架橋表面層が摩耗消失するまでの更なる長寿命化が達成される。また、架橋表面層を厚膜化できることにより、キャリアや紙粉付着による傷の影響も緩和できる。
<Regarding a charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups>
The crosslinked surface layer of the present invention contains a curable composition having the structural unit of the general formula (A), but is intended to improve the charge transport property of the crosslinked surface layer and maintain good sensitivity and low residual potential over a long period of time. Thus, a charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups can be mixed and used. Furthermore, this makes it possible to increase the thickness of the cross-linked surface layer and to achieve a longer life until the cross-linked surface layer is worn away. In addition, since the cross-linked surface layer can be thickened, the influence of scratches due to adhesion of carrier and paper powder can be reduced.

本発明に用いられるラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物とは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しており、且つラジカル重合性官能基を有する化合物を指す。このラジカル重合性官能基としては、先のラジカル重合性化合物で示したものが挙げられ、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。1分子中のラジカル重合性官能基の数は、1個以上複数個でも良いが、架橋表面層の内部応力を抑え平滑な表面性を得やすいため、また良好な電気特性を持続させるためには、ラジカル重合性官能基が1個である方が好ましい。電荷輸送性化合物が2個以上ラジカル重合性官能基を有する場合、嵩高い正孔輸送性化合物が複数の結合で架橋結合中に固定されるためによる大きな歪みからその余裕度が低下する場合があり、電荷輸送性構造や官能基数から凹凸やクラック、膜剥がれが起こる場合がある。また、この大きな歪みは電荷輸送時の中間体構造(カチオンラジカル)が安定して保てず、電荷のトラップによる感度の低下、残留電位の上昇が起こりやすくなる。ラジカル重合性官能基を有する電荷輸送性化合物の電荷輸送性構造としてはトリアリールアミン構造が高移動度性から好適で、中でも下記一般式(1)又は(2)の構造で示される化合物を用いた場合、感度、残留電位等の電気的特性が良好に持続される。   The charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups used in the present invention is a hole transporting structure such as triarylamine, hydrazone, pyrazoline, carbazole, such as condensed polycyclic quinone, diphenoquinone, cyano group. And a compound having an electron transport structure such as an electron-withdrawing aromatic ring having a nitro group and a radically polymerizable functional group. Examples of the radical polymerizable functional group include those described above for the radical polymerizable compound, and acryloyloxy group and methacryloyloxy group are particularly useful. The number of radically polymerizable functional groups in one molecule may be one or more, but it is easy to obtain a smooth surface property by suppressing the internal stress of the crosslinked surface layer, and in order to maintain good electrical characteristics. It is preferable that the number of radical polymerizable functional groups is one. When the charge transporting compound has two or more radically polymerizable functional groups, the margin may decrease due to large distortion due to the bulky hole transporting compound being fixed in the cross-linking by a plurality of bonds. Depending on the charge transporting structure and the number of functional groups, irregularities, cracks, and film peeling may occur. In addition, the intermediate structure (cation radical) at the time of charge transport cannot be stably maintained due to the large strain, and the sensitivity is lowered and the residual potential is easily increased due to charge trapping. As the charge transporting structure of the charge transporting compound having a radical polymerizable functional group, a triarylamine structure is preferable because of its high mobility, and among them, a compound represented by the following general formula (1) or (2) is used. If so, electrical characteristics such as sensitivity and residual potential are favorably sustained.

〔式中、R101は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−COOR41(R41は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。)、ハロゲン化カルボニル基若しくはCONR4243(R42及びR43は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい。)を表わし、Ar1、Ar2は置換もしくは未置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ar3、Ar4は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Zは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル2価基を表わす。m、nは0〜3の整数を表わす。〕 [In the formula, R 101 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a cyano group, a nitro group, A group, an alkoxy group, —COOR 41 (R 41 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. ), A halogenated carbonyl group or CONR 42 R 43 (R 42 and R 43 have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an aryl group which may be the same or different, and Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted arylene group, which may be the same or different. . Ar 3 and Ar 4 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and may be the same or different. X represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group. Z represents a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, or an alkyleneoxycarbonyl divalent group. m and n represent an integer of 0 to 3. ]

以下に、一般式(1)、(2)の具体例を示す。
前記一般式(1)、(2)において、R101の置換基中、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。
101の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子、メチル基である。
Specific examples of general formulas (1) and (2) are shown below.
In the general formulas (1) and (2), in the substituent of R 101 , examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. The aralkyl group includes a benzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group, and the alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and the like. These include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, and a methyl group. Substituted with an alkyl group such as an ethyl group, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group, etc. May be.
Among the substituents for R 101 , particularly preferred are a hydrogen atom and a methyl group.

Ar3、Ar4は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、本発明においては該アリール基としては縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基及び複素環基が含まれるものとする。
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が18個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、as(asym)−インダセニル基、s(sym)−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。
Ar 3 and Ar 4 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and in the present invention, the aryl group includes a condensed polycyclic hydrocarbon group, a non-fused cyclic hydrocarbon group, and a heterocyclic group. .
The condensed polycyclic hydrocarbon group preferably has 18 or less carbon atoms forming a ring, for example, a pentanyl group, an indenyl group, a naphthyl group, an azulenyl group, a heptaenyl group, a biphenylenyl group, an as (asym) -Indacenyl group, s (sym) -indacenyl group, fluorenyl group, acenaphthylenyl group, preadenyl group, acenaphthenyl group, phenalenyl group, phenanthryl group, anthryl group, fluoranthenyl group, acephenanthrenyl group, aceanthrylenyl group , Triphenylyl group, pyrenyl group, chrycenyl group, naphthacenyl group and the like.

該非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の1価基、あるいはビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、1,1−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の1価基、あるいは9,9−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の1価基が挙げられる。
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の1価基が挙げられる。
Examples of the non-fused cyclic hydrocarbon group include monovalent groups of monocyclic hydrocarbon compounds such as benzene, diphenyl ether, polyethylene diphenyl ether, diphenyl thioether and diphenyl sulfone, or biphenyl, polyphenyl, diphenylalkane, diphenylalkene, diphenylalkyne, Monovalent groups of non-condensed polycyclic hydrocarbon compounds such as triphenylmethane, distyrylbenzene, 1,1-diphenylcycloalkane, polyphenylalkane, and polyphenylalkene, or ring assemblies such as 9,9-diphenylfluorene And monovalent groups of hydrocarbon compounds.
Examples of the heterocyclic group include monovalent groups such as carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, oxadiazole, and thiadiazole.

また、前記Ar3、Ar4で表わされるアリール基は例えば以下に示すような置換基を有してもよい。
(1)ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
(2)アルキル基;
好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、n−ブチル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−プロピル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
The aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 may have a substituent as shown below, for example.
(1) Halogen atom, cyano group, nitro group and the like.
(2) an alkyl group;
Preferably, C 1 -C 12 especially C 1 -C 8, more preferably a straight or branched alkyl group of C 1 -C 4, in the alkyl group a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, C 1 -C 4 alkoxy group which may have a phenyl group or a halogen atom, C 1 -C 4 alkyl or C 1 -C 4 phenyl group substituted with an alkoxy group. Specifically, methyl group, ethyl group, n-butyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n-propyl group, trifluoromethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-ethoxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like.

(3)アルコキシ基(−OR44);
44は(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
(4)アリールオキシ基;
アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
(5)アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基;
具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
(3) an alkoxy group (—OR 44 );
R 44 represents an alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, i-butoxy group, 2-hydroxyethoxy group, benzyloxy group And a trifluoromethoxy group.
(4) aryloxy group;
Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. It may contain an alkoxy group having C 1 -C 4, alkyl group, or a halogen atom C 1 -C 4 as a substituent. Specific examples include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 4-methoxyphenoxy group, and a 4-methylphenoxy group.
(5) an alkyl mercapto group or an aryl mercapto group;
Specific examples include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group.

(6)以下の式で表される置換基
(式中、R45及びR46は各々独立に水素原子、前記(2)で定義したアルキル基、またはアリール基を表わす。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。R45及びR46は共同で環を形成してもよい。)
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(トリール)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
(6) Substituent represented by the following formula
(In the formula, R 45 and R 46 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group defined in (2) above, or an aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. these C 1 -C 4 alkoxy groups, C 1 -C good .R 45 and R 46 may contain, as a substituent, an alkyl group or a halogen atom 4 may be linked to form a ring.)
Specifically, amino group, diethylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-diphenylamino group, N, N-di (tolyl) amino group, dibenzylamino group, piperidino group, morpholino group And pyrrolidino group.

(7)メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等。
(8)置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
(7) An alkylenedioxy group or an alkylenedithio group such as a methylenedioxy group or a methylenedithio group.
(8) A substituted or unsubstituted styryl group, a substituted or unsubstituted β-phenylstyryl group, a diphenylaminophenyl group, a ditolylaminophenyl group, and the like.

一方、前記Ar1、Ar2で表わされるアリーレン基としては、前記Ar3、Ar4で表されるアリール基から誘導される2価基である。
前記Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、C1〜C12、好ましくはC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキレン基であり、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチレン基、エチレン基、n−ブチレン基、i−プロピレン基、t−ブチレン基、s−ブチレン基、n−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、2−ヒドロキシエチレン基、2−エトキシエチレン基、2−シアノエチレン基、2−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、4−クロロフェニルエチレン基、4−メチルフェニルエチレン基、4−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
On the other hand, the arylene group represented by Ar 1 or Ar 2 is a divalent group derived from the aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 .
X represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group.
The substituted or unsubstituted alkylene group is a C 1 to C 12 , preferably C 1 to C 8 , more preferably a C 1 to C 4 linear or branched alkylene group, and these alkylene groups include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group of C 1 -C 4, a phenyl group or a halogen atom, a phenyl group substituted with an alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group C 1 -C 4 It may be. Specifically, methylene group, ethylene group, n-butylene group, i-propylene group, t-butylene group, s-butylene group, n-propylene group, trifluoromethylene group, 2-hydroxyethylene group, 2-ethoxyethylene. Group, 2-cyanoethylene group, 2-methoxyethylene group, benzylidene group, phenylethylene group, 4-chlorophenylethylene group, 4-methylphenylethylene group, 4-biphenylethylene group and the like.

置換もしくは無置換のシクロアルキレン基としては、C5〜C7の環状アルキレン基であり、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、C1〜C4のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基を有していても良い。具体的にはシクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、3,3−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted cycloalkylene group is a C 5 to C 7 cyclic alkylene group, and these cyclic alkylene groups include a fluorine atom, a hydroxyl group, a C 1 to C 4 alkyl group, and a C 1 to C 4 alkyl group. It may have an alkoxy group. Specific examples include a cyclohexylidene group, a cyclohexylene group, and a 3,3-dimethylcyclohexylidene group.

置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基としては、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等のアルキレンオキシ2価基、あるいはエチレングリコール、プロピレングリコール等から誘導されるアルキレンジオキシ2価基、若しくはジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導される、ジ又はポリ(オキシアルキレン)オキシ2価基等が挙げられ、アルキレンエーテル2価基のアルキレン基はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。   Examples of the substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group include an alkyleneoxy divalent group such as an ethyleneoxy group and a propyleneoxy group, an alkylenedioxy divalent group derived from ethylene glycol, propylene glycol, and the like, or diethylene glycol, tetra Examples include di- or poly (oxyalkylene) oxy divalent groups derived from ethylene glycol, tripropylene glycol, etc. The alkylene group of the alkylene ether divalent group has a substituent such as a hydroxyl group, a methyl group, or an ethyl group. You may have.

ビニレン基は、
で表わされ、式中、R47は水素、アルキル基(前記(2)で定義されるアルキル基と同じ)、アリール基(前記Ar3、Ar4で表わされるアリール基と同じ)、aは1または2、bは1〜3を表わす。
The vinylene group is
Wherein R 47 is hydrogen, an alkyl group (the same as the alkyl group defined in (2) above), an aryl group (the same as the aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 above), a is 1 or 2, b represents 1-3.

前記Zは置換もしくは未置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル基2価を表わす。
置換もしくは未置換のアルキレン基としては、前記Xのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基としては、前記Xのアルキレンエーテル2価基が挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル2価基としては、カプロラクトン変性2価基が挙げられる。
Z represents a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, or an alkyleneoxycarbonyl group divalent.
Examples of the substituted or unsubstituted alkylene group include the same alkylene groups as those described above for X.
Examples of the substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group include the alkylene ether divalent group of X.
Examples of the alkyleneoxycarbonyl divalent group include a caprolactone-modified divalent group.

また、本発明のラジカル重合性官能基を有する電荷輸送性化合物として更に好ましくは、下記一般式(3)の構造の化合物が挙げられる。
(式中、o、p、qはそれぞれ0又は1の整数、Raは水素原子、メチル基を表わし、Rb、Rcは水素原子以外の置換基で炭素数1〜6のアルキル基を表わし、複数の場合は異なっても良い。s、tは0〜3の整数を表わす。Zaは単結合、メチレン基、エチレン基、
を表わす。)
上記一般式で表わされる化合物としては、Rb、Rcの置換基として、特にメチル基、エチル基である化合物が好ましい。
Further, the charge transporting compound having a radical polymerizable functional group of the present invention is more preferably a compound having the structure of the following general formula (3).
(Wherein, o, p and q are each an integer of 0 or 1, Ra represents a hydrogen atom or a methyl group, Rb and Rc represent a substituent other than a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, And s and t each represents an integer of 0 to 3. Za is a single bond, a methylene group, an ethylene group,
Represents. )
As the compound represented by the above general formula, a compound having a methyl group or an ethyl group as a substituent for Rb and Rc is particularly preferable.

本発明で用いる上記一般式(1)及び(2)特に(3)のラジカル重合性官能基を有する電荷輸送性化合物は、炭素−炭素間の二重結合が両側に開放されて重合するため、末端構造とはならず、連鎖重合体中に組み込まれ、3官能以上のラジカル重合性モノマーとの重合で架橋形成された重合体中では、高分子の主鎖中に存在し、かつ主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在(この架橋鎖には1つの高分子と他の高分子間の分子間架橋鎖と、1つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と主鎖中でこれから離れた位置に重合したモノマー由来の他の部位とが架橋される分子内架橋鎖とがある)するが、主鎖中に存在する場合であってもまた架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも3つのアリール基を有し、バルキーであるが、鎖部分に直接結合しておらず鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため立体的位置取りに融通性ある状態で固定されているので、これらトリアリールアミン構造は重合体中で相互に程よく隣接する空間配置が可能であるため、分子内の構造的歪みが少なく、また、電子写真感光体の表面層とされた場合に、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造を採りうるものと推測される。   The charge transporting compound having the radically polymerizable functional group represented by the general formulas (1) and (2), particularly (3) used in the present invention is polymerized because the double bond between carbon and carbon is opened on both sides. In a polymer that does not become a terminal structure, is incorporated in a chain polymer, and is crosslinked by polymerization with a radically polymerizable monomer having three or more functions, it exists in the main chain of the polymer, and the main chain- Present in the cross-linked chain between the main chains (this cross-linked chain includes an inter-molecular cross-linked chain between one polymer and another polymer, a site with a main chain folded in one polymer, and a main chain. There are intramolecular cross-linked chains that are cross-linked with other sites derived from the polymerized monomer at positions away from this in the chain), but they are also present in the cross-linked chain even if they are present in the main chain Even if the triarylamine structure suspended from the chain moiety is released from the nitrogen atom, It has at least three aryl groups arranged in the shape direction and is bulky, but is not directly bonded to the chain part, but is suspended from the chain part via a carbonyl group etc. Since they are fixed in a certain state, these triarylamine structures can be arranged spatially adjacent to each other in the polymer, so there is little structural distortion in the molecule, and the surface layer of the electrophotographic photoreceptor In this case, it is presumed that an intramolecular structure that is relatively free from interruption of the charge transport pathway can be adopted.

ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物としては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。
Examples of the charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups include the following, but are not limited to these compounds.

また、本発明に用いられるラジカル重合性官能基を有する電荷輸送性化合物は、架橋表面層が4μmより薄い場合は必ずしも含有させる必要はないが、架橋表面層が4μm以上の場合には電荷輸送性能を付与するために重要となる。架橋表面層が4μm以上の場合、この成分は架橋表面層全量に対し20〜80質量%、好ましくは30〜70質量%になるように塗工液成分の含有量を調整する。この成分が20質量%未満では架橋表面層の電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用で感度低下、残留電位上昇などの電気特性の劣化が現れる。また、80質量%を超えると一般式(A)で示される構造単位を有する硬化組成物の含有量が低下し、高い耐摩耗性が発揮されない。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると30〜70質量%の範囲が最も好ましい。   The charge transporting compound having a radically polymerizable functional group used in the present invention is not necessarily contained when the cross-linked surface layer is thinner than 4 μm. However, when the cross-linked surface layer is 4 μm or more, the charge transport performance It becomes important to grant. When the cross-linked surface layer is 4 μm or more, the content of the coating liquid component is adjusted so that this component is 20 to 80% by mass, preferably 30 to 70% by mass, based on the total amount of the cross-linked surface layer. If this component is less than 20% by mass, the charge transport performance of the crosslinked surface layer cannot be maintained sufficiently, and deterioration of electrical characteristics such as a decrease in sensitivity and an increase in residual potential appear with repeated use. Moreover, when it exceeds 80 mass%, content of the hardening composition which has a structural unit shown by general formula (A) will fall, and high abrasion resistance will not be exhibited. Although the electrical characteristics and wear resistance required by the process used are different, it cannot be said unconditionally, but the range of 30 to 70% by mass is most preferable considering the balance of both characteristics.

<その他のラジカル重合性官能基を有する添加剤に関して>
本発明の架橋表面層は、上記一般式(A)で表される構造単位を含有するものであるが、これ以外に塗工時の粘度調整、架橋表面層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で1官能及び2官能のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー及びラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、公知のものが利用できる。
<Regarding Additives Having Other Radical Polymerizable Functional Groups>
The crosslinked surface layer of the present invention contains the structural unit represented by the above general formula (A), but besides this, viscosity adjustment during coating, stress relaxation of the crosslinked surface layer, lower surface energy, Monofunctional and bifunctional radically polymerizable monomers, functional monomers and radically polymerizable oligomers can be used in combination for the purpose of imparting a function such as a reduction in friction coefficient. Known radical polymerizable monomers and oligomers can be used.

1官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。   Examples of the monofunctional radically polymerizable monomer include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, benzyl acrylate, Examples include cyclohexyl acrylate, isoamyl acrylate, isobutyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxytetraethylene glycol acrylate, cetyl acrylate, isostearyl acrylate, stearyl acrylate, and styrene monomer.

2官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールA−EO変性ジアクリレート、ビスフェノールF−EO変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。   Examples of the bifunctional radical polymerizable monomer include 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1, Examples include 6-hexanediol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, bisphenol A-EO modified diacrylate, bisphenol F-EO modified diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and the like.

機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、2−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平5−60503号公報、特公平6−45770号公報記載のシロキサン繰り返し単位:20〜70のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。   Examples of the functional monomer include those substituted with a fluorine atom such as octafluoropentyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 2-perfluoroisononylethyl acrylate, No. 60503, JP-B-6-45770, siloxane repeating units: 20-70 acryloyl polydimethylsiloxane ethyl, methacryloyl polydimethylsiloxane ethyl, acryloyl polydimethylsiloxane propyl, acryloyl polydimethylsiloxane butyl, diacryloyl polydimethylsiloxane Examples include vinyl monomers having a polysiloxane group such as diethyl, acrylates and methacrylates.

ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
但し、1官能及び2官能のラジカル重合性モノマーやラジカル重合性オリゴマーを多量に含有させると架橋表面層の3次元架橋結合密度が実質的に低下し、耐摩耗性の低下を招く。このためこれらのモノマーやオリゴマーの含有量は、架橋表面層の硬化性を有する構成物質全量に対し30質量%以下、好ましくは20質量%以下に制限される。
Examples of the radical polymerizable oligomer include epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate oligomers.
However, when a large amount of monofunctional and bifunctional radically polymerizable monomers and radically polymerizable oligomers are contained, the three-dimensional cross-linking density of the cross-linked surface layer is substantially reduced, resulting in a decrease in wear resistance. For this reason, the content of these monomers and oligomers is limited to 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, based on the total amount of the curable constituent material of the crosslinked surface layer.

<重合開始剤に関して>
また、本発明の架橋表面層はラジカル硬化組成物中に少なくとも上記一般式(A)で表される構造単位を含有するものであるが、必要に応じて硬化反応を効率よく進行させるために架橋表面層塗布液中に重合開始剤を含有させても良い。
<Regarding the polymerization initiator>
The crosslinked surface layer of the present invention contains at least the structural unit represented by the above general formula (A) in the radical curable composition, but is crosslinked to efficiently advance the curing reaction as necessary. A polymerization initiator may be contained in the surface layer coating solution.

光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルフォリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2 -Hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2- Acetophenone-based or ketal-based photopolymerization initiators such as methyl-2-morpholino (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether Benzoin ether photopolymerization initiators such as benzoin isopropyl ether, benzophenone, 4-hydroxybenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, 4-benzoylphenyl ether, acrylated benzophenone, Benzophenone photopolymerization initiators such as 1,4-benzoylbenzene, thioxanthones such as 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone Examples of photopolymerization initiators and other photopolymerization initiators include ethyl anthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoic acid. Phenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,4-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, methylphenylglyoxyester, 9,10 -Phenanthrene, an acridine type compound, a triazine type compound, an imidazole type compound is mentioned. Moreover, what has a photopolymerization acceleration effect can also be used individually or in combination with the said photoinitiator. Examples include triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, (2-dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, and the like.

熱重合開始剤としては、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(パーオキシベンゾイル)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルベルオキサイド、t−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシ)プロパンなどの過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸などのアゾ系開始剤が挙げられる。
これらの重合開始剤は1種又は2種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物100質量部に対し、0.5〜40質量部、好ましくは1〜20質量部である。
As the thermal polymerization initiator, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di ( Peroxybenzoyl) hexyne-3, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, lauroyl peroxide, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) B) Peroxide-based initiators such as propane, azo-based compounds such as azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, methyl azobisisobutyrate, azobisisobutylamidine hydrochloride, 4,4′-azobis-4-cyanovaleric acid Initiators are mentioned.
These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Content of a polymerization initiator is 0.5-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total inclusions which have radical polymerizability, Preferably it is 1-20 mass parts.

<その他の添加剤に関して>
更に、本発明の架橋表面層塗工液は必要に応じて、各種可塑剤(応力緩和や接着性向上の目的)、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質、バインダー樹脂などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し20質量%以下、好ましくは10質量%以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し3質量%以下が適当である。低分子電荷輸送物質は架橋表面層の電荷輸送性を向上し露光部電位を下げるために有効であるが、添加により硬化性材料が少なくなることから高い耐摩耗性の効果が減じられる。このため添加量は用いるプロセスで調整されるが、架橋表面層全成分の50質量%以下、好ましくは30質量%以下で使用される。バインダー樹脂は架橋表面層の内部応力を減らし均一性を上げ、クラックや傷の発生を抑制する効果がある。但し、他の添加剤と同様に添加により高い耐摩耗性の効果が減じられるため、添加量は20質量%以下、好ましくは10質量%以下に抑えられる。
<Other additives>
Furthermore, the cross-linked surface layer coating liquid of the present invention can be applied to various plasticizers (for the purpose of stress relaxation and adhesion improvement), leveling agents, low molecular charge transport materials having no radical reactivity, binder resins, etc. Additives can be included. As these additives, known additives can be used, and as plasticizers, those used in general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used, and the amount used is the total solid content of the coating liquid. To 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less. As leveling agents, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain can be used, and the amount used is based on the total solid content of the coating liquid. On the other hand, 3% by mass or less is appropriate. Although the low molecular charge transport material is effective for improving the charge transport property of the crosslinked surface layer and lowering the exposed portion potential, the effect of high wear resistance is reduced because the addition of the curable material decreases. For this reason, the addition amount is adjusted by the process to be used, but it is used at 50% by mass or less, preferably 30% by mass or less, based on the total components of the crosslinked surface layer. The binder resin has the effect of reducing the internal stress of the crosslinked surface layer and increasing the uniformity, and suppressing the occurrence of cracks and scratches. However, since the effect of high wear resistance is reduced by addition as in the case of other additives, the addition amount is suppressed to 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less.

<塗工溶媒に関して>
本発明の架橋表面層は、少なくとも上記一般式(A)の構造単位を含有するラジカル重合性化合物を含む塗工液を後に記載の感光層上に塗布、硬化することにより形成される。かかる塗工液はラジカル重合性化合物が液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または2種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
<Regarding coating solvent>
The crosslinked surface layer of the present invention is formed by applying and curing a coating solution containing at least a radical polymerizable compound containing the structural unit of the general formula (A) on the photosensitive layer described later. When the radically polymerizable compound is a liquid, such a coating liquid can be applied by dissolving other components in the liquid, but if necessary, it is diluted with a solvent and applied. Solvents used at this time include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane and propyl ether. And ethers such as dichloromethane, dichloroethane, trichloroethane and chlorobenzene, aromatics such as benzene, toluene and xylene, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and cellosolve acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The dilution ratio with the solvent varies depending on the solubility of the composition, the coating method, and the target film thickness, and is arbitrary. The application can be performed by dip coating, spray coating, bead coating, ring coating, or the like.

本発明においては、かかる架橋表面層塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させ、架橋表面層を形成するものであるが、このとき用いられる外部エネルギーとしては、光、熱又は放射線がある。光のエネルギーとしては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのUV照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は50mW/cm2以上、1000mW/cm2以下が好ましく、50mW/cm2未満では硬化反応に時間を要する。1000mW/cm2より強いと反応の進行が不均一となり、架橋表面層の表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生ずる。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となる。照射時間は構成材料や膜厚によるUV光の浸透性に依存するが、5秒〜5分が好ましく、短すぎると硬化が不十分となり、長すぎると構成材料が分解し電気特性が低下する。また硬化時の温度上昇を50℃以下に制御し、構成材料の分解や不均一な硬化反応を抑えることが望ましい。 In the present invention, after applying such a cross-linked surface layer coating solution, energy is applied from the outside and cured to form a cross-linked surface layer. The external energy used at this time is light, heat, or radiation. is there. As the energy of light, UV irradiation light sources such as high-pressure mercury lamps and metal halide lamps, which mainly have an emission wavelength in ultraviolet light, can be used, but a visible light source can also be selected according to the absorption wavelength of radically polymerizable substances and photopolymerization initiators. Is possible. Irradiation light amount is 50 mW / cm 2 or more, preferably 1000 mW / cm 2 or less, it takes time for the curing reaction is less than 50 mW / cm 2. If it is higher than 1000 mW / cm 2, the progress of the reaction becomes non-uniform, and local flaws are generated on the surface of the crosslinked surface layer, and many unreacted residues and reaction termination ends are generated. In addition, internal stress increases due to rapid crosslinking, which causes cracks and film peeling. The irradiation time depends on the UV light penetrability depending on the constituent material and the film thickness, but is preferably 5 seconds to 5 minutes. If it is too short, curing will be insufficient, and if it is too long, the constituent material will be decomposed and the electrical properties will deteriorate. In addition, it is desirable to control the temperature rise during curing to 50 ° C. or less to suppress decomposition of the constituent materials and uneven curing reaction.

熱のエネルギーを用い硬化する場合、100〜170℃で10分〜3時間が好ましく、100℃より低い温度又は10分より短い時間では、硬化が不十分となる。また、逆に170℃より高い温度又は3時間より長い時間では構成材料の分解や不均一な硬化反応が進行し、良好な架橋表面層が得られない。
放射線のエネルギーとしては電子線が好適に用いられる。電子線の加速電圧は300KV以下、好ましくは150KV以下、線量は1〜100Mradの条件で硬化される。加速電圧が300KVを超える又は線量が100Mradを超えると構成材料の分解が進み、本発明の効果が発揮されない。
これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから光のエネルギーを用いたものが有用である。
When curing using thermal energy, 10 minutes to 3 hours are preferable at 100 to 170 ° C., and curing is insufficient at a temperature lower than 100 ° C. or a time shorter than 10 minutes. On the other hand, when the temperature is higher than 170 ° C. or longer than 3 hours, decomposition of the constituent materials and uneven curing reaction proceed, and a good crosslinked surface layer cannot be obtained.
An electron beam is preferably used as the energy of radiation. The acceleration voltage of the electron beam is 300 KV or less, preferably 150 KV or less, and the dose is cured under the conditions of 1 to 100 Mrad. When the acceleration voltage exceeds 300 KV or the dose exceeds 100 Mrad, the decomposition of the constituent materials proceeds, and the effect of the present invention is not exhibited.
Among these energies, those using light energy are useful because of the ease of reaction rate control and the simplicity of the apparatus.

架橋表面層塗工液の組成物としては、前述した一般式(A)で表される構造単位を有するラジカル重合性化合物以外に、ラジカル重合性官能基を有しないバインダー樹脂、酸化防止剤、可塑剤等の添加剤を多量に含有させると、架橋密度の低下、反応により生じた硬化物と上記添加物との相分離が生じ、有機溶剤に対し可溶性となる。具体的には塗工液の総固形分に対し上記総含有量を20質量%以下に抑えることが重要である。   As the composition of the crosslinked surface layer coating solution, in addition to the radical polymerizable compound having the structural unit represented by the general formula (A) described above, a binder resin having no radical polymerizable functional group, an antioxidant, a plasticizer. When an additive such as an agent is contained in a large amount, the crosslinking density is lowered, the cured product generated by the reaction and the additive are phase-separated and become soluble in an organic solvent. Specifically, it is important to suppress the total content to 20% by mass or less with respect to the total solid content of the coating liquid.

架橋表面層塗工液の希釈溶媒に関しては、蒸発速度の遅い溶剤を用いた場合、残留する溶媒が硬化の妨げとなったり、下層成分の混入量を増加させることがあり、不均一硬化や硬化密度低下をもたらす。このため有機溶剤に対し、可溶性となりやすい。具体的には、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフランとメタノール混合溶媒、酢酸エチル、メチルエチルケトン、エチルセロソルブなどが有用であるが、塗工法と合わせて選択される。また、固形分濃度に関しては、同様な理由で低すぎる場合、有機溶剤に対し可溶性となりやすい。逆に膜厚、塗工液粘度の制限から上限濃度の制約をうける。具体的には、10〜50質量%の範囲で用いることが望ましい。架橋表面層の塗工方法としては、同様な理由で塗工膜形成時の溶媒含有量、溶媒との接触時間を少なくする方法が好ましく、具体的にはスプレーコート法、塗工液量を規制したリングコート法が好ましい。また、下層成分の混入量を抑えるためには、電荷輸送層として高分子電荷輸送物質を用いること、架橋表面層の塗工溶媒に対し不溶性の中間層を設けることも有効である。   Regarding the diluted solvent for the cross-linked surface layer coating solution, if a solvent with a low evaporation rate is used, the remaining solvent may interfere with curing or increase the amount of the lower layer component mixed, causing uneven curing or curing. Reduces density. For this reason, it tends to be soluble in organic solvents. Specifically, tetrahydrofuran, a mixed solvent of tetrahydrofuran and methanol, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, ethyl cellosolve and the like are useful, but are selected according to the coating method. Moreover, regarding the solid content concentration, if it is too low for the same reason, it tends to be soluble in an organic solvent. Conversely, the upper limit concentration is constrained by the limitations of film thickness and coating solution viscosity. Specifically, it is desirable to use in the range of 10-50 mass%. As a method for coating the crosslinked surface layer, for the same reason, a method of reducing the solvent content at the time of forming the coating film and the contact time with the solvent is preferable. Specifically, the spray coating method and the amount of the coating liquid are regulated. The ring coating method is preferred. In order to suppress the amount of the lower layer component to be mixed, it is also effective to use a polymer charge transport material as the charge transport layer and to provide an insoluble intermediate layer with respect to the coating solvent for the crosslinked surface layer.

架橋表面層の硬化条件としては、加熱または光照射のエネルギーが低いと硬化が完全に終了せず、有機溶剤に対し溶解性があがる。逆に非常に高いエネルギーにより硬化させた場合、硬化反応が不均一となり未架橋部やラジカル停止部の増加や微小な硬化物の集合体となりやすい。このため有機溶剤に対し溶解性となることがある。有機溶剤に対し不溶性化するには、熱硬化の条件としては100〜170℃、10分〜3時間が好ましく、UV光照射による硬化条件としては50〜1000mW/cm2、5秒〜5分で且つ温度上昇を50℃以下に制御し、不均一な硬化反応を抑えることが望ましい。 As curing conditions for the cross-linked surface layer, if the energy of heating or light irradiation is low, the curing is not completely completed and the solubility in the organic solvent is increased. On the other hand, when cured with very high energy, the curing reaction becomes non-uniform, and it tends to increase the number of uncrosslinked parts and radical stopping parts and to form an aggregate of minute cured products. For this reason, it may become soluble in an organic solvent. In order to insolubilize in an organic solvent, the heat curing conditions are preferably 100 to 170 ° C. and 10 minutes to 3 hours, and the curing conditions by UV light irradiation are 50 to 1000 mW / cm 2 and 5 seconds to 5 minutes. In addition, it is desirable to control the temperature rise to 50 ° C. or less to suppress non-uniform curing reaction.

本発明の架橋表面層の膜厚は、下層のラジカル硬化されていない感光層の構成によって異なるため、感光層の構成に合わせ後で記載する。
以下、本発明をその層構造に従い説明する。
<電子写真感光体の層構造について>
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
図1、2は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図である。
図1−Aは導電性支持体上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層が設けられた単層構造で、架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層を表し、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表す。図1−Bは、導電性支持体上に、感光層として電荷発生機能を有する電荷発生層が設けられた単層構造で、電荷輸送性化合物を有する架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生層を表し、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表す。
図2は、導電性支持体上に、感光層として、電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送物機能を有する電荷輸送層とが積層された積層構造の感光体である。架橋表面層が電荷輸送層の表面部分である場合を示す。すなわち、ラジカル硬化されていない感光層は、図の電荷発生層と電荷輸送層を表し、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層は、図の架橋表面層を表す。
Since the thickness of the crosslinked surface layer of the present invention varies depending on the structure of the underlying non-radical-cured photosensitive layer, it will be described later in accordance with the structure of the photosensitive layer.
Hereinafter, the present invention will be described according to the layer structure.
<About the layer structure of the electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photosensitive member used in the present invention will be described with reference to the drawings.
1 and 2 are sectional views showing the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
FIG. 1-A shows a case where a photosensitive layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time is provided on a conductive support, and the crosslinked surface layer is the surface portion of the photosensitive layer. That is, the photosensitive layer that is not radically cured represents a photosensitive layer having the charge generation function and the charge transport function at the same time in the figure, and the crosslinked surface layer containing the radical curable composition represents the crosslinked surface layer in the figure. FIG. 1-B shows a single layer structure in which a charge generation layer having a charge generation function is provided as a photosensitive layer on a conductive support, and a crosslinked surface layer having a charge transporting compound is the surface portion of the photosensitive layer. Show the case. That is, the photosensitive layer that is not radically cured represents the charge generation layer in the figure, and the crosslinked surface layer containing the radical curable composition represents the crosslinked surface layer in the figure.
FIG. 2 shows a photoreceptor having a laminated structure in which a charge generation layer having a charge generation function and a charge transport layer having a charge transport material function are laminated as a photosensitive layer on a conductive support. The case where the cross-linked surface layer is the surface portion of the charge transport layer is shown. That is, the photosensitive layer that is not radically cured represents the charge generation layer and the charge transport layer in the figure, and the crosslinked surface layer containing the radical curable composition represents the crosslinked surface layer in the figure.

<導電性支持体について>
導電性支持体としては、体積抵抗1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭52−36016号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
<About conductive support>
Examples of the conductive support include those having a volume resistance of 10 10 Ω · cm or less, such as metals such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, gold, silver, and platinum, tin oxide, and indium oxide. After metal oxide is deposited or sputtered, film or cylindrical plastic, paper coated, or aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel, etc. Pipes that have been subjected to surface treatment such as cutting, super-finishing, and polishing can be used. Further, endless nickel belts and endless stainless steel belts disclosed in JP-A-52-36016 can also be used as the conductive support.

この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体として用いることができる。
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
In addition, those obtained by dispersing and coating conductive powder in an appropriate binder resin on the support can also be used as the conductive support of the present invention.
Examples of the conductive powder include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc and silver, or metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned. The binder resin used at the same time is polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. , Polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinyl carbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, Examples thereof include thermoplastic, thermosetting resins, and photocurable resins such as melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin. Such a conductive layer can be provided by dispersing and coating these conductive powder and binder resin in a suitable solvent such as tetrahydrofuran, dichloromethane, methyl ethyl ketone, and toluene.

更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン(登録商標)などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。   Furthermore, it is electrically conductive by a heat shrinkable tube in which the conductive powder is contained in a material such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, Teflon (registered trademark) on a suitable cylindrical substrate. Those provided with a conductive layer can also be used favorably as the conductive support of the present invention.

<感光層について>
次に感光層について説明する。感光層は積層構造でも単層構造でもよい。
積層構造の場合には、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層、又は電荷発生機能を有する層から構成される。
以下、積層構造の感光層及び単層構造の感光層のそれぞれについて述べる。
<About photosensitive layer>
Next, the photosensitive layer will be described. The photosensitive layer may have a laminated structure or a single layer structure.
In the case of a laminated structure, the photosensitive layer is composed of a charge generation layer having a charge generation function and a charge transport layer having a charge transport function. In the case of a single layer structure, the photosensitive layer is composed of a layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time, or a layer having a charge generation function.
Hereinafter, each of the photosensitive layer having a laminated structure and the photosensitive layer having a single layer structure will be described.

<感光層が積層構成のもの>
(1)電荷発生層について
電荷発生層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
<Photosensitive layer with a laminated structure>
(1) Charge generation layer The charge generation layer is a layer mainly composed of a charge generation material having a charge generation function, and a binder resin can be used in combination as necessary. As the charge generation material, inorganic materials and organic materials can be used.
Inorganic materials include crystalline selenium, amorphous selenium, selenium-tellurium, selenium-tellurium-halogen, selenium-arsenic compounds, and amorphous silicon. In amorphous silicon, dangling bonds that are terminated with hydrogen atoms or halogen atoms, or those that are doped with boron atoms, phosphorus atoms, or the like are preferably used.

一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。   On the other hand, a known material can be used as the organic material. For example, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine, azulenium salt pigments, squaric acid methine pigments, azo pigments having carbazole skeleton, azo pigments having triphenylamine skeleton, azo pigments having diphenylamine skeleton, dibenzothiophene skeleton Azo pigments having a fluorenone skeleton, azo pigments having an oxadiazole skeleton, azo pigments having a bis-stilbene skeleton, azo pigments having a distyryl oxadiazole skeleton, azo pigments having a distyrylcarbazole skeleton, perylene Pigments, anthraquinone or polycyclic quinone pigments, quinoneimine pigments, diphenylmethane and triphenylmethane pigments, benzoquinone and naphthoquinone pigments, cyanine and azomethine pigments, Goido based pigments, and bisbenzimidazole pigments. These charge generation materials can be used alone or as a mixture of two or more.

電荷発生層に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。   As a binder resin used as necessary for the charge generation layer, polyamide, polyurethane, epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene, poly-N-vinylcarbazole, Examples include polyacrylamide. These binder resins can be used alone or as a mixture of two or more. In addition to the binder resin described above as a binder resin for the charge generation layer, a polymer charge transport material having a charge transport function, such as an arylamine skeleton, benzidine skeleton, hydrazone skeleton, carbazole skeleton, stilbene skeleton, pyrazoline skeleton, etc. Polymer materials such as polycarbonate, polyester, polyurethane, polyether, polysiloxane, and acrylic resin, polymer materials having a polysilane skeleton, and the like can be used.

前者の具体的な例としては、特開平01−001728号公報、特開平01−009964号公報、特開平01−013061号公報、特開平01−019049号公報、特開平01−241559号公報、特開平04−011627号公報、特開平04−175337号公報、特開平04−183719号公報、特開平04−225014号公報、特開平04−230767号公報、特開平04−320420号公報、特開平05−232727号公報、特開平05−310904号公報、特開平06−234836号公報、特開平06−234837号公報、特開平06−234838号公報、特開平06−234839号公報、特開平06−234840号公報、特開平06−234841号公報、特開平06−239049号公報、特開平06−236050号公報、特開平06−236051号公報、特開平06−295077号公報、特開平07−056374号公報、特開平08−176293号公報、特開平08−208820号公報、特開平08−211640号公報、特開平08−253568号公報、特開平08−269183号公報、特開平09−062019号公報、特開平09−043883号公報、特開平09−71642号公報、特開平09−87376号公報、特開平09−104746号公報、特開平09−110974号公報、特開平09−110976号公報、特開平09−157378号公報、特開平09−221544号公報、特開平09−227669号公報、特開平09−235367号公報、特開平09−241369号公報、特開平09−268226号公報、特開平09−272735号公報、特開平09−302084号公報、特開平09−302085号公報、特開平09−328539号公報等に記載の電荷輸送性高分子材料が挙げられる。   Specific examples of the former include JP-A-01-001728, JP-A-01-009964, JP-A-01-013061, JP-A-01-019049, JP-A-01-241559, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 04-011627, 04-175337, 04-183719, 04-2225014, 04-230767, 04-320420, 05 -232727, JP-A 05-310904, JP-A 06-234836, JP-A 06-234837, JP-A 06-234838, JP-A 06-234839, JP-A 06-234840. No. 1, JP-A 06-234841, JP-A 06-239049, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 06-236050, 06-236051, 06-295077, 07-0756374, 08-176293, 08-208820, 08 No. -21640, JP 08-253568, JP 08-269183, JP 09-062019, JP 09-043883, JP 09-71642, JP 09-87376. JP-A 09-104746, JP-A 09-110974, JP-A 09-110976, JP-A 09-157378, JP-A 09-221544, JP-A 09-227669. JP 09-235367 A, JP 09-241369 A Charge transporting polymer materials described in JP 09-268226 A, JP 09-272735 A, JP 09-302084 A, JP 09-302085 A, JP 09-328539 A, etc. Can be mentioned.

また、後者の具体例としては、例えば特開昭63−285552号公報、特開平05−19497号公報、特開平05−70595号公報、特開平10−73944号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。   Specific examples of the latter include polysilylene polymers described in, for example, JP-A No. 63-285552, JP-A No. 05-19497, JP-A No. 05-70595, JP-A No. 10-73944, and the like. Illustrated.

また、電荷発生層には低分子電荷輸送物質を含有させることができる。
電荷発生層に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。
The charge generation layer may contain a low molecular charge transport material.
Low molecular charge transport materials that can be used in the charge generation layer include hole transport materials and electron transport materials.
Examples of the electron transporting material include chloroanil, bromanyl, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4 , 5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-trinitro-4H-indeno [1,2-b] thiophen-4-one, 1,3,7-tri Examples thereof include electron-accepting substances such as nitrodibenzothiophene-5,5-dioxide and diphenoquinone derivatives. These electron transport materials can be used alone or as a mixture of two or more.

正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。   Examples of the hole transporting material include the electron donating materials shown below and are used favorably. As hole transport materials, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, monoarylamine derivatives, diarylamine derivatives, triarylamine derivatives, stilbene derivatives, α-phenylstilbene derivatives, benzidine derivatives, diarylmethane derivatives, triaryls Other known materials such as methane derivatives, 9-styrylanthracene derivatives, pyrazoline derivatives, divinylbenzene derivatives, hydrazone derivatives, indene derivatives, butadiene derivatives, pyrene derivatives, bisstilbene derivatives, enamine derivatives, and the like can be given. These hole transport materials can be used alone or as a mixture of two or more.

電荷発生層を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、CVD法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
Methods for forming the charge generation layer include a vacuum thin film preparation method and a casting method from a solution dispersion system.
As the former method, a vacuum deposition method, a glow discharge decomposition method, an ion plating method, a sputtering method, a reactive sputtering method, a CVD method, or the like is used, and the above-described inorganic materials and organic materials can be satisfactorily formed.

また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ましくは0.05〜2μmである。
In addition, in order to provide a charge generation layer by the casting method described later, if necessary, the inorganic or organic charge generation material together with a binder resin, tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, toluene, dichloromethane, monochlorobenzene, dichloroethane, cyclohexanone, cyclohexane. Can be formed by dispersing with a ball mill, attritor, sand mill, bead mill, etc. using a solvent such as pentanone, anisole, xylene, methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, butyl acetate, etc. . Moreover, leveling agents, such as a dimethyl silicone oil and a methylphenyl silicone oil, can be added as needed. The application can be performed by dip coating, spray coating, bead coating, ring coating, or the like.
The thickness of the charge generation layer provided as described above is suitably about 0.01 to 5 μm, preferably 0.05 to 2 μm.

(2)電荷輸送層について
電荷輸送層は電荷輸送機能を有する電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成される。
電荷輸送物質としては、前記電荷発生層で記載した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。特に高分子電荷輸送物質を用いることは、架橋表面層塗工時の下層の溶解性を低減効果を示し、とりわけ有用である。
(2) Charge Transport Layer The charge transport layer is formed by dissolving or dispersing a charge transport material having a charge transport function and a binder resin in a suitable solvent, and applying and drying the solution on the charge generation layer.
As the charge transport material, the electron transport material, hole transport material and polymer charge transport material described in the charge generation layer can be used. In particular, the use of a polymer charge transport material is particularly useful because it has an effect of reducing the solubility of the lower layer during coating of the crosslinked surface layer.

結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられる。   As the binder resin, polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, Polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinyl carbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin And thermoplastic resins such as phenol resins and alkyd resins.

電荷輸送物質の量は結着樹脂100質量部に対し、20〜300質量部、好ましくは40〜150質量部が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。
電荷輸送層の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても2種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の形成には電荷発生層と同様な塗工法が可能である。
The amount of the charge transport material is appropriately 20 to 300 parts by mass, preferably 40 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. However, when a polymer charge transport material is used, it can be used alone or in combination with a binder resin.
As the solvent used for coating the charge transport layer, the same solvent as that used for the charge generation layer can be used, but a solvent that dissolves the charge transport material and the binder resin well is suitable. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The charge transport layer can be formed by the same coating method as that for the charge generation layer.

また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
電荷輸送層に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂100質量部に対して0〜30質量部程度が適当である。
電荷輸送層に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂100質量部に対して0〜1質量部程度が適当である。
電荷輸送層の膜厚は、5〜40μm程度が適当であり、好ましくは10〜30μm程度が適当である。
If necessary, a plasticizer and a leveling agent can be added.
As a plasticizer that can be used in combination with the charge transport layer, those used as a plasticizer for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used as they are, and the amount used is 0 with respect to 100 parts by mass of the binder resin. About 30 parts by mass is appropriate.
Leveling agents that can be used in combination with the charge transport layer include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, and polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain. The amount used is a binder resin. About 0 to 1 part by mass is appropriate for 100 parts by mass.
The thickness of the charge transport layer is suitably about 5 to 40 μm, preferably about 10 to 30 μm.

(3)架橋表面層について
架橋表面層は、前述の架橋表面層作製方法に記載したように、かかる電荷輸送層の上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱又は放射線のエネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。感光層が積層構造では架橋表面層は電荷輸送性化合物(ラジカル重合性官能基を有しているもの又は有していいないものに関わらず)を含有して電荷輸送性機能を付与しても、含有せずに保護層としても良い。このとき架橋表面層の膜厚は、電荷輸送機能を付与する場合、1μm以上、15μm以下、さらに好ましくは2μm以上、13μm以下である。15μmより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。電荷輸送機能を付与せず保護層として用いる場合、更に架橋密度が高くすることができ、耐摩耗性を高めることができる。この場合の架橋表面層の膜厚は、1μm以上、5μm以下、さらに好ましくは2μm以上、4μm以下で使用される。5μmより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなり、また電荷輸送能がないため大幅な感度低下が起きる。架橋表面層の膜厚が1μmより薄いと膜厚ムラによって耐久性がばらつく。
(3) About the crosslinked surface layer As described in the above-mentioned crosslinked surface layer preparation method, the crosslinked surface layer is coated with the crosslinked surface layer coating liquid of the present invention on the charge transport layer and, if necessary, dried. Then, the curing reaction is initiated by the energy of light, heat or radiation to form a crosslinked surface layer. In the case where the photosensitive layer is a laminated structure, the crosslinked surface layer contains a charge transporting compound (regardless of having or not having a radical polymerizable functional group) and imparting a charge transporting function, It is good also as a protective layer, without containing. At this time, the film thickness of the cross-linked surface layer is 1 μm or more and 15 μm or less, more preferably 2 μm or more and 13 μm or less when the charge transport function is imparted. When it is thicker than 15 μm, cracks and film peeling tend to occur. When it is used as a protective layer without imparting a charge transport function, the crosslinking density can be further increased and the wear resistance can be enhanced. In this case, the thickness of the crosslinked surface layer is 1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 2 μm or more and 4 μm or less. When it is thicker than 5 μm, cracks and film peeling are likely to occur as described above, and since there is no charge transporting capability, a significant decrease in sensitivity occurs. When the film thickness of the cross-linked surface layer is less than 1 μm, durability varies due to film thickness unevenness.

<感光層が単層のもの>
単層構造の感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層、又は電荷発生機能を有する電荷発生層である。
(1)電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する単層構造の場合
感光層が電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である場合、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生物質と電荷輸送機能を有する電荷輸送物質と結着樹脂を適当な溶媒に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。電荷発生物質の分散方法、それぞれ電荷発生物質、電荷輸送物質、可塑剤、レベリング剤は前記電荷発生層、電荷輸送層において既に述べたものと同様なものが使用できる。結着樹脂としては、先に電荷輸送層の項で挙げた結着樹脂のほかに、電荷発生層で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。また、先に挙げた高分子電荷輸送物質も使用可能で、架橋表面層への感光層組成物の混入を低減できる点で有用である。
感光層中に含有される電荷発生物質は感光層全量に対し1〜30質量%が好ましく、感光層の下層部分に含有される結着樹脂は全量の20〜80質量%、電荷輸送物質は10〜70質量部が良好に用いられる。
かかる感光層の膜厚は、5〜30μm程度が適当であり、好ましくは10〜25μm程度が適当である。
<Single photosensitive layer>
The photosensitive layer having a single layer structure is a layer having a charge generation function and a charge transport function at the same time, or a charge generation layer having a charge generation function.
(1) In the case of a single layer structure having both a charge generation function and a charge transport function When the photosensitive layer is a layer having both a charge generation function and a charge transport function, the photosensitive layer has a charge generation function and a charge transport function. It can be formed by dissolving or dispersing a charge transport material having a function and a binder resin in an appropriate solvent, and applying and drying the solution. Moreover, a plasticizer, a leveling agent, etc. can also be added as needed. As the charge generation material dispersion method, the charge generation material, the charge transport material, the plasticizer, and the leveling agent may be the same as those already described in the charge generation layer and the charge transport layer. As the binder resin, in addition to the binder resin previously mentioned in the section of the charge transport layer, the binder resin mentioned in the charge generation layer may be mixed and used. In addition, the polymer charge transport materials listed above can also be used, which is useful in that the mixing of the photosensitive layer composition into the crosslinked surface layer can be reduced.
The charge generation material contained in the photosensitive layer is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total amount of the photosensitive layer, the binder resin contained in the lower layer portion of the photosensitive layer is 20 to 80% by mass, and the charge transport material is 10%. -70 mass parts is used favorably.
The film thickness of the photosensitive layer is suitably about 5 to 30 μm, preferably about 10 to 25 μm.

架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、前述のようにかかる感光層上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱又は放射線のエネルギーにより硬化し、架橋表面層を形成する。感光層が上記単層構造では架橋表面層は電荷輸送性化合物(ラジカル重合性官能基を有しているもの又は有していいないものに関わらず)を含有して電荷輸送性機能を付与しても、含有せずに保護層としても良い。このとき架橋表面層の膜厚は、電荷輸送機能を付与する場合、1μm以上、15μm以下、さらに好ましくは2μm以上、13μm以下である。15μmより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。電荷輸送機能を付与せず保護層として用いる場合、更に架橋密度を高くすることができ、耐摩耗性を高めることができる。この場合の、架橋表面層の膜厚は、1μm以上、5μm以下、さらに好ましくは2μm以上、4μm以下である。5μmより厚い場合、前述のようにクラックや膜剥がれが発生しやすくなる、また、電荷輸送能がないため大幅な感度低下が起きる。架橋表面層の膜厚が、1μmより薄いと膜厚ムラによって耐久性がばらつく。   When the cross-linked surface layer is a surface portion of a photosensitive layer having a single layer structure, the cross-linked surface layer coating solution of the present invention is applied onto the photosensitive layer as described above, and after drying, if necessary, light, heat or radiation It cures by the energy of and forms a crosslinked surface layer. When the photosensitive layer has the single layer structure, the crosslinked surface layer contains a charge transporting compound (regardless of having or not having a radical polymerizable functional group) and imparting a charge transporting function. However, it is good also as a protective layer, without containing. At this time, the film thickness of the cross-linked surface layer is 1 μm or more and 15 μm or less, more preferably 2 μm or more and 13 μm or less when the charge transport function is imparted. When it is thicker than 15 μm, cracks and film peeling tend to occur. When it is used as a protective layer without imparting a charge transport function, the crosslink density can be further increased, and the wear resistance can be enhanced. In this case, the thickness of the crosslinked surface layer is 1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 2 μm or more and 4 μm or less. If it is thicker than 5 μm, cracks and film peeling are likely to occur as described above, and a significant reduction in sensitivity occurs due to lack of charge transport capability. When the film thickness of the cross-linked surface layer is less than 1 μm, durability varies due to film thickness unevenness.

(2)電荷発生機能を有する電荷発生層の単層構造の場合
感光層が電荷発生機能を有する電荷発生層である場合、電荷発生層には、前記積層構成で上げた電荷発生層と同様なものが使用できる。電荷発生層上に設けられる架橋表面層は電荷輸送性機能を持たせるため、電荷輸送性化合物を含有させる。このとき電荷輸送性化合物はラジカル重合性官能基を有していても又は有していなくても良い。但し、電荷輸送性化合物としてラジカル重合性官能基を有しているものを用いる場合、本発明の高い耐摩耗性効果が更に優れて発揮でき、好適である。電荷輸送機能を有する架橋表面層は、前述の架橋表面層作製方法に記載したように電荷発生層上に本発明の架橋表面層塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光、熱、又は放射線のエネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、10〜30μm、好ましくは10〜25μmである。10μmより薄いと充分な帯電電位が維持できず、30μmより厚いと硬化時の体積収縮により下層との剥離が生じやすくなる。
(2) In the case of a single-layer structure of a charge generation layer having a charge generation function When the photosensitive layer is a charge generation layer having a charge generation function, the charge generation layer has the same structure as the charge generation layer raised in the laminated structure. Things can be used. The cross-linked surface layer provided on the charge generation layer contains a charge transporting compound in order to have a charge transporting function. At this time, the charge transporting compound may or may not have a radical polymerizable functional group. However, when a compound having a radical polymerizable functional group is used as the charge transporting compound, the high wear resistance effect of the present invention can be exhibited more excellently, which is preferable. The cross-linked surface layer having a charge transport function is coated with the cross-linked surface layer coating solution of the present invention on the charge generation layer as described in the above cross-linked surface layer preparation method, and after drying, if necessary, light, heat, Alternatively, the curing reaction is initiated by the energy of radiation, and a crosslinked surface layer is formed. At this time, the film thickness of the crosslinked surface layer is 10 to 30 μm, preferably 10 to 25 μm. If it is thinner than 10 μm, a sufficient charging potential cannot be maintained, and if it is thicker than 30 μm, peeling from the lower layer tends to occur due to volume shrinkage during curing.

<中間層について>
本発明の感光体においては、架橋表面層が感光層の表面部分となる場合、架橋表面層と感光層との間に中間層を設けることが可能である。この中間層はラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層中にラジカル硬化されていない感光層組成物の混入により生ずる、硬化反応の阻害や架橋表面層の凹凸を防止する。また、下層の感光層と架橋表面層の接着性を向上させることも可能である。
中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは0.05〜2μm程度が適当である。
<About the intermediate layer>
In the photoreceptor of the present invention, when the crosslinked surface layer becomes the surface portion of the photosensitive layer, an intermediate layer can be provided between the crosslinked surface layer and the photosensitive layer. This intermediate layer prevents inhibition of the curing reaction and unevenness of the crosslinked surface layer caused by mixing of the photosensitive layer composition that is not radically cured in the crosslinked surface layer containing the radical curable composition. It is also possible to improve the adhesion between the underlying photosensitive layer and the crosslinked surface layer.
In the intermediate layer, a binder resin is generally used as a main component. Examples of these resins include polyamide, alcohol-soluble nylon, water-soluble polyvinyl butyral, polyvinyl butyral, and polyvinyl alcohol. As a method for forming the intermediate layer, a generally used coating method is employed as described above. In addition, about 0.05-2 micrometers is suitable for the thickness of an intermediate | middle layer.

<下引き層について>
本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
<About the undercoat layer>
In the photoreceptor of the present invention, an undercoat layer can be provided between the conductive support and the photosensitive layer. In general, the undercoat layer is mainly composed of a resin. However, considering that the photosensitive layer is coated with a solvent on these resins, the resin may be a resin having high solvent resistance with respect to a general organic solvent. desirable. Examples of such resins include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein, and sodium polyacrylate, alcohol-soluble resins such as copolymer nylon and methoxymethylated nylon, polyurethane, melamine resin, phenol resin, alkyd-melamine resin, and epoxy. Examples thereof include a curable resin that forms a three-dimensional network structure such as a resin. Further, a metal oxide fine powder pigment exemplified by titanium oxide, silica, alumina, zirconium oxide, tin oxide, indium oxide and the like may be added to the undercoat layer in order to prevent moire and reduce residual potential.

これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Al23を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン(パリレン)等の有機物やSiO2、SnO2、TiO2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は0〜5μmが適当である。 These undercoat layers can be formed using an appropriate solvent and a coating method like the above-mentioned photosensitive layer. Furthermore, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a chromium coupling agent, or the like can be used as the undercoat layer of the present invention. In addition, in the undercoat layer of the present invention, Al 2 O 3 is provided by anodic oxidation, organic substances such as polyparaxylylene (parylene), SiO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ITO, CeO 2 A material provided with an inorganic material such as a vacuum thin film can also be used favorably. In addition, known ones can be used. The thickness of the undercoat layer is suitably from 0 to 5 μm.

<各層への酸化防止剤の添加について>
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、架橋表面層、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
<Addition of antioxidant to each layer>
Further, in the present invention, in order to improve environmental resistance, in order to prevent a decrease in sensitivity and an increase in residual potential, in particular, a crosslinked surface layer, a charge generation layer, a charge transport layer, an undercoat layer, an intermediate layer, etc. Antioxidants can be added to each layer.
The following are mentioned as antioxidant which can be used for this invention.

(フェノール系化合物)
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。
(Phenolic compounds)
2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylene-bis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4, 4'-thiobis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris- (2-methyl-4 -Hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene- -(3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3'-bis (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid ] Cryol ester, tocopherols and the like.

(パラフェニレンジアミン類)
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
(Paraphenylenediamines)
N-phenyl-N'-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N'-di-sec-butyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N-sec-butyl-p-phenylenediamine, N, N'- Di-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N′-dimethyl-N, N′-di-t-butyl-p-phenylenediamine and the like.

(ハイドロキノン類)
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
(Hydroquinones)
2,5-di-t-octylhydroquinone, 2,6-didodecylhydroquinone, 2-dodecylhydroquinone, 2-dodecyl-5-chlorohydroquinone, 2-t-octyl-5-methylhydroquinone, 2- (2-octadecenyl) ) -5-methylhydroquinone and the like.

(有機硫黄化合物類)
ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオープロピオネート)など。
(Organic sulfur compounds)
Dilauryl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, ditetradecyl-3,3′-thiodipropionate, penta Erythritol tetrakis (3-laurylthio-propionate) and the like.

(有機燐化合物類)
トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリ(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2―エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、ジフェニルモノ(2−エチルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、トリス(2,4、ジーt−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4,ジーt―ブチルフェニル)ペンタエリスリトールホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジーt−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、テトラキス(2,4−ジーt−ブチルフェニル)4,4‘−ビフェニレンージーホスホナイト、ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイドロゲンホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルテトラ(トリデシル)ペンタエリスリトールテトラホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールA・ペンタエリスリトールホスファイトポリマーなど。
(Organic phosphorus compounds)
Triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tri (dinonylphenyl) phosphite, tris (2-ethylhexyl) phosphite, tridecyl phosphite, tris (tridecyl) phosphite, diphenyl mono (2-ethylhexyl) Phosphite, diphenyl monodecyl phosphite, tris (2,4, di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, bis (2,4, di-t-butylphenyl) pentaerythritol phosphite, 2 , 2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite, dilauryl hydrogen phosphite, diphenyl Hydrogen phosphite, tetraphenyldipropylene glycol diphosphite, tetraphenyltetra (tridecyl) pentaerythritol tetraphosphite, tetra (tridecyl) -4,4′isopropylidene diphenyldiphosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphos Phyto, hydrogenated bisphenol A, pentaerythritol phosphite polymer, etc.

これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
本発明における酸化防止剤の添加量は、添加する層の総質量に対して0.01〜10質量%である。
These compounds are known as antioxidants such as rubbers, plastics and fats and oils, and commercially available products can be easily obtained.
The addition amount of the antioxidant in this invention is 0.01-10 mass% with respect to the total mass of the layer to add.

<画像形成方法及び装置について>
次に図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。
本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、本発明のラジカル硬化されていない感光層と、特定のラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体(転写紙)へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。
場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
<Image Forming Method and Apparatus>
Next, the image forming method and the image forming apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
The image forming method and the image forming apparatus of the present invention use a photoconductor having a non-radical-cured photosensitive layer of the present invention and a crosslinked surface layer containing a specific radical-curing composition. An image forming method and an image forming apparatus comprising processes of image exposure and development, followed by a process of transferring a toner image onto an image carrier (transfer paper), fixing, and cleaning of the surface of the photoreceptor.
In some cases, an image forming method or the like in which an electrostatic latent image is directly transferred to a transfer member and developed does not necessarily have the above-described process arranged on the photosensitive member.

図3は、画像形成装置の一例を示す概略図である。感光体を平均的に帯電させる手段として、帯電チャージャ(3)が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラー帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
次に、均一に帯電された感光体(1)上に静電潜像を形成するために画像露光部(5)が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード(LED)、半導体レーザー(LD)、エレクトロルミネッセンス(EL)などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of an image forming apparatus. A charging charger (3) is used as a means for charging the photoconductor on average. As the charging means, a corotron device, a scorotron device, a solid discharge element, a needle electrode device, a roller charging device, a conductive brush device, or the like is used, and a known method can be used.
Next, the image exposure unit (5) is used to form an electrostatic latent image on the uniformly charged photoreceptor (1). As the light source, all luminescent materials such as a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a mercury lamp, a sodium lamp, a light emitting diode (LED), a semiconductor laser (LD), and an electroluminescence (EL) can be used. Various types of filters such as a sharp cut filter, a band pass filter, a near infrared cut filter, a dichroic filter, an interference filter, and a color temperature conversion filter can be used to irradiate only light in a desired wavelength range.

次に、感光体(1)上に形成された静電潜像を可視化するために現像ユニット(6)が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に正(負)帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正(負)の静電潜像が形成される。これを負(正)極性のトナー(検電微粒子)で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正(負)極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
次に、感光体上で可視化されたトナー像を転写体(9)上に転写するために転写チャージャ(10)が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ(7)を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。
Next, the developing unit (6) is used to visualize the electrostatic latent image formed on the photoreceptor (1). Development methods include a one-component development method using a dry toner, a two-component development method, and a wet development method using a wet toner. When the photosensitive member is positively (negatively) charged and image exposure is performed, a positive (negative) electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive member. A positive image can be obtained by developing this with negative (positive) toner (electrodetection fine particles), and a negative image can be obtained by developing with positive (negative) toner.
Next, a transfer charger (10) is used to transfer the toner image visualized on the photoconductor onto the transfer body (9). In addition, a pre-transfer charger (7) may be used for better transfer. As these transfer means, a transfer charger, an electrostatic transfer method using a bias roller, a mechanical transfer method such as an adhesive transfer method and a pressure transfer method, and a magnetic transfer method can be used. As the electrostatic transfer method, the charging means can be used.

次に、転写体(9)を感光体(1)より分離する手段として分離チャージャ(11)、分離爪(12)が用いられる。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ(11)としては、前記帯電手段が利用可能である。
次に、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためにファーブラシ(14)、クリーニングブレード(15)が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ(13)を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。
次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ(2)、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
Next, a separation charger (11) and a separation claw (12) are used as means for separating the transfer body (9) from the photoreceptor (1). As other separation means, electrostatic adsorption induction separation, side end belt separation, tip grip conveyance, curvature separation, and the like are used. As the separation charger (11), the charging means can be used.
Next, a fur brush (14) and a cleaning blade (15) are used to clean the toner remaining on the photoreceptor after transfer. Further, a pre-cleaning charger (13) may be used in order to perform cleaning more efficiently. As other cleaning means, there are a web system, a magnet brush system, and the like, but a single system or a plurality of systems may be used together.
Next, a neutralizing unit is used for the purpose of removing the latent image on the photoconductor as necessary. As the charge removal means, a charge removal lamp (2) and a charge removal charger are used, and the exposure light source and the charging means can be used respectively.
In addition, known processes can be used for reading, feeding, fixing, paper discharge and the like that are not close to the photoconductor.

本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置である。
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。プロセスカートリッジの一例を図4に示す。
画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体(101)を内蔵し、他に帯電手段(102)、現像手段(104)、転写手段(106)、クリーニング手段(107)、除電手段(図示せず)の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置(部品)である。
図4に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体(101)は、矢印方向に回転しながら、帯電手段(102)による帯電、露光手段(103)による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段(104)でトナー現像され、該トナー現像は転写手段(106)により、転写体(105)に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段(107)によりクリーニングされ、更に除電手段(図示せず)により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
The present invention is an image forming method and an image forming apparatus using the electrophotographic photoreceptor according to the present invention for such image forming means.
This image forming means may be fixedly incorporated in a copying apparatus, facsimile, or printer, but may be incorporated in these apparatuses in the form of a process cartridge and detachable. An example of the process cartridge is shown in FIG.
The process cartridge for the image forming apparatus includes a photoreceptor (101), and in addition, a charging unit (102), a developing unit (104), a transfer unit (106), a cleaning unit (107), and a discharging unit (not shown). ), And an apparatus (part) that can be attached to and detached from the image forming apparatus main body.
Referring to the image forming process by the apparatus illustrated in FIG. 4, the surface of the photoreceptor (101) is exposed by charging by the charging means (102) and exposure by the exposure means (103) while rotating in the direction of the arrow. An electrostatic latent image corresponding to the image is formed, and the electrostatic latent image is developed with toner by the developing means (104). The toner development is transferred to the transfer body (105) by the transfer means (106), and printed. Out. Next, the surface of the photoconductor after the image transfer is cleaned by a cleaning unit (107), and is further neutralized by a neutralizing unit (not shown), and the above operation is repeated again.

本発明は、ラジカル硬化されていない感光層と、特定のラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する本発明に係る電子写真感光体と、帯電、現像、転写、クリーニング、除電手段の少なくとも一つを一体化した画像形成装置用プロセスカートリッジを提供するものである。
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、CRTプリンター、LEDプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
The present invention relates to at least one of a photosensitive layer that is not radically cured, an electrophotographic photosensitive member according to the present invention having a crosslinked surface layer containing a specific radical curable composition, and charging, developing, transferring, cleaning, and neutralizing means. The present invention provides a process cartridge for an image forming apparatus in which the two are integrated.
As is apparent from the above description, the electrophotographic photosensitive member of the present invention is not only used in electrophotographic copying machines, but also in electrophotographic application fields such as laser beam printers, CRT printers, LED printers, liquid crystal printers, and laser plate making. Can also be used widely.

<本発明で使用される例示化合物B−1−1の合成例1>
(1)B−1−1の合成
2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン30gをテトラヒドロフラン200mlに溶解し、窒素気流中で水酸化ナトリウム(NaOH:118.7g,水:75ml)を滴下した。この溶液を6℃に冷却し、アクリル酸クロライド42.4gを1時間かけて滴下した。その後、2.5時間攪拌し反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、トルエンにて抽出した。この抽出液を水で繰り返し洗浄した。この反応液を水に注ぎ、トルエンにて抽出した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:トルエン/酢酸エチル(1/1))にて精製した。得られた無色のオイルにメタノールを加え、結晶を析出させた。このようにして例示化合物NO.B−1−1の白色結晶21.43g(収率=50.2%)を得た。得られた化合物の融点及び元素分析値を以下に示す。また、赤外吸収スペクトルを図5に示す。
融点:50.5〜51.5℃
<Synthesis example 1 of exemplary compound B-1-1 used in the present invention>
(1) Synthesis of B-1-1
30 g of 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran, and sodium hydroxide (NaOH: 118.7 g, water: 75 ml) was added dropwise in a nitrogen stream. This solution was cooled to 6 ° C., and 42.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise over 1 hour. Thereafter, the reaction was terminated by stirring for 2.5 hours. The reaction solution was poured into water and extracted with toluene. This extract was repeatedly washed with water. The reaction solution was poured into water and extracted with toluene. Thereafter, the solvent was removed from the toluene solution, and purification was performed by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: toluene / ethyl acetate (1/1)). Methanol was added to the obtained colorless oil to precipitate crystals. Thus, Exemplified Compound NO. 21.43 g (yield = 50.2%) of white crystals of B-1-1 were obtained. The melting point and elemental analysis value of the obtained compound are shown below. An infrared absorption spectrum is shown in FIG.
Melting point: 50.5-51.5 ° C

<本発明で使用される例示化合物C−1−1の合成例1>
(1)2,2-ビス{3-メチル-4-(2,3-ジヒドロキシプロピルオキシ)フェニル}プロパンの合成
2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン8.57gとグリシジルメタクリレート11.01gをトルエン50mlに溶解させ、トリエチルアミン0.3mlを加え、アルゴン気流中、95℃で9時間攪拌した。その後、室温で10wt%水酸化ナトリウム水溶液33ml、トルエン30mlを加え、92℃で6時間攪拌し反応を終了させた。この反応液を塩酸で中和した後、酢酸エチルにて抽出し、水で繰り返し洗浄した。その後、この酢酸エチル溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:酢酸エチル/THF(1/1))にて精製した。このようにして無色粉末状の下記構造式Aを8.64g(収率87%)得た。得られた化合物の赤外吸収スペクトルを図6に示す。
<Synthesis example 1 of exemplary compound C-1-1 used in the present invention>
(1) Synthesis of 2,2-bis {3-methyl-4- (2,3-dihydroxypropyloxy) phenyl} propane
8.57 g of 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane and 11.01 g of glycidyl methacrylate were dissolved in 50 ml of toluene, 0.3 ml of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 95 ° C. for 9 hours in an argon stream. . Thereafter, 33 ml of a 10 wt% sodium hydroxide solution and 30 ml of toluene were added at room temperature, and the mixture was stirred at 92 ° C. for 6 hours to complete the reaction. The reaction solution was neutralized with hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and washed repeatedly with water. Thereafter, the solvent was removed from the ethyl acetate solution, and purification was performed by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: ethyl acetate / THF (1/1)). In this way, 8.64 g (yield 87%) of the following structural formula A in the form of a colorless powder was obtained. The infrared absorption spectrum of the obtained compound is shown in FIG.

(2)C−1−1の合成
2,2-ビス{3-メチル-4-(2,3-ジヒドロキシプロピルオキシ)フェニル}プロパン8.64gをジメチルアセトアミド87mlに溶解させた。3−クロロプロピオン酸クロリド16.75gをアルゴン気流中3℃で加え、室温で7時間攪拌した。その後トリエチルアミン29mlを3℃で加え、60で5時間攪拌し、反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出した。この抽出液を水で繰り返し洗浄した。その後、このジクロロメタン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル(2/1))にて精製した。このようにして、オイル状の例示化合物C−1−1を10.19g(収率=77%)得た。得られた化合物の元素分析値を以下に示す。また、赤外吸収スペクトルを図7に示す。
(2) Synthesis of C-1-1
8.64 g of 2,2-bis {3-methyl-4- (2,3-dihydroxypropyloxy) phenyl} propane was dissolved in 87 ml of dimethylacetamide. 16.75 g of 3-chloropropionic acid chloride was added at 3 ° C. in an argon stream and stirred at room temperature for 7 hours. Thereafter, 29 ml of triethylamine was added at 3 ° C., and the mixture was stirred at 60 for 5 hours to complete the reaction. The reaction solution was poured into water and extracted with dichloromethane. This extract was repeatedly washed with water. Thereafter, the solvent was removed from the dichloromethane solution, and purification was performed by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: n-hexane / ethyl acetate (2/1)). In this way, 10.19 g (yield = 77%) of oily exemplary compound C-1-1 was obtained. Elemental analysis values of the obtained compound are shown below. An infrared absorption spectrum is shown in FIG.

<本発明で使用される例示化合物D−1−1の合成例>
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン5.1g(0.020mol)とエピクロルヒドリン18.51g(200mmol)、トルエン20mlを入れ、窒素気流下、110℃で加熱攪拌した。これに反応系内の温度が100℃〜120℃を維持するように20wt%水酸化ナトリウム水溶液9.60g(48mmol)を30分間かけて滴下し、110℃で4時間反応させた。これを室温まで放冷し、過剰のエピクロルヒドリンを減圧回収した後、トルエンを加えて有機層を水洗浄した。このトルエン溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。この液をカラムクロマトグラフィー処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:n−トルエン/酢酸エチル(1/1))し、原料と高分子量成分を除去した。これにより無色のオイル状物質5.05gを得た。
<The synthesis example of exemplary compound D-1-1 used by this invention>
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer and dropping funnel, 5.1 g (0.020 mol) of 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 18.51 g (200 mmol) of epichlorohydrin, 20 ml of toluene. And heated and stirred at 110 ° C. under a nitrogen stream. To this, 9.60 g (48 mmol) of a 20 wt% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 30 minutes so that the temperature in the reaction system was maintained at 100 ° C. to 120 ° C., and reacted at 110 ° C. for 4 hours. This was allowed to cool to room temperature, and excess epichlorohydrin was recovered under reduced pressure, and then toluene was added to wash the organic layer with water. The toluene solution was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. This liquid was subjected to column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: n-toluene / ethyl acetate (1/1)) to remove the raw materials and high molecular weight components. This gave 5.05 g of a colorless oily substance.

このオイル状物質を再度トルエン80mlに溶解させ、アクリル酸0.72g(10mmol)、トリエチルアミン0.2mlと共に反応容器に入れて、80℃で3時間反応させた。放冷後、水洗し、減圧下で濃縮した。これを、再度トルエン溶液と、活性白土5gを加えて室温で30間吸着処理した後、カラムクロマトグラフィー処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:n−トルエン/酢酸エチル(3/1))にて精製した。このようにして、無色のオイル状のD−1−1を4.5g得た。この物をゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分子量を測定したところ、nが1〜10の混合物を主成分とする組成物である値を示した。
以上のように他のジフェノール体についても同様にして合成できる。
This oily substance was dissolved again in 80 ml of toluene, put into a reaction vessel together with 0.72 g (10 mmol) of acrylic acid and 0.2 ml of triethylamine, and reacted at 80 ° C. for 3 hours. After standing to cool, it was washed with water and concentrated under reduced pressure. The solution was again adsorbed with toluene solution and 5 g of activated clay and adsorbed at room temperature for 30 minutes, followed by column chromatography (adsorption medium: silica gel, developing solvent: n-toluene / ethyl acetate (3/1)). Purified. In this way, 4.5 g of colorless oily D-1-1 was obtained. When the molecular weight of this product was measured by gel permeation chromatography, it showed a value which is a composition mainly composed of a mixture having n of 1 to 10.
As described above, other diphenol compounds can be synthesized in the same manner.

次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例中において使用する「部」は、すべて質量部を表す。
<実施例1>
φ30mmのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、3.5μmの下引き層、0.2μmの電荷発生層、18μmの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層上に下記組成の架橋表面層塗工液をスプレー塗工し、20分自然乾燥した後、メタルハライドランプ:160W/cm、照射距離:120mm、照射強度:500mW/cm2、照射時間:60秒の条件で光照射を行ない塗布膜を硬化させた。更に130℃で20分乾燥を加え10μmの架橋表面層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example. In addition, all "parts" used in an Example represent a mass part.
<Example 1>
By coating and drying an undercoat layer coating solution, a charge generation layer coating solution, and a charge transport layer coating solution in the following order on a φ30 mm aluminum cylinder in sequence, an undercoat layer of 3.5 μm A 0.2 μm charge generation layer and an 18 μm charge transport layer were formed. On this charge transport layer, a cross-linked surface layer coating solution having the following composition is spray-coated and naturally dried for 20 minutes, and then a metal halide lamp: 160 W / cm, irradiation distance: 120 mm, irradiation intensity: 500 mW / cm 2 , irradiation time : Light irradiation was performed under the condition of 60 seconds to cure the coating film. Further, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to provide a 10 μm cross-linked surface layer to obtain the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

[下引き層塗工液]
アルキッド樹脂: 6部
(ベッコゾール1307−60−EL、大日本インキ化学工業製)
メラミン樹脂: 4部
(スーパーベッカミン G−821−60、大日本インキ化学工業製)
酸化チタン: 40部
メチルエチルケトン: 50部
[Undercoat layer coating solution]
Alkyd resin: 6 parts (Beccosol 1307-60-EL, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Melamine resin: 4 parts (Super Becamine G-821-60, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Titanium oxide: 40 parts Methyl ethyl ketone: 50 parts

[電荷発生層用塗工液]
下記構造のビスアゾ顔料: 2.5部
ポリビニルブチラール(XYHL、UCC製): 0.5部
シクロヘキサノン: 200部
メチルエチルケトン: 80部
[Coating liquid for charge generation layer]
Bisazo pigment with the following structure: 2.5 parts
Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part Cyclohexanone: 200 parts Methyl ethyl ketone: 80 parts

[電荷輸送層用塗工液]
ビスフェノールZ型ポリカーボネート: 10部
(パンライトTS−2050、帝人化成製)
下記構造式の電荷輸送物質: 7部
テトラヒドロフラン: 100部
1%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液: 1部
(KF50−100CS、信越化学工業製)
[Coating fluid for charge transport layer]
Bisphenol Z-type polycarbonate: 10 parts (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals)
Charge transport material of the following structural formula: 7 parts
Tetrahydrofuran: 100 parts Tetrahydrofuran solution of 1% silicone oil: 1 part (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

[架橋表面層塗工液]
下記構造式(例示化合物B−1−1)のラジカル重合性化合物: 5部
ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 5部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
[Crosslinked surface layer coating solution]
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound B-1-1): 5 parts
Monomer having three or more radically polymerizable functional groups: 5 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例2>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式(例示化合物B−1−2)のラジカル重合性化合物: 5部
ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 5部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 2>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound B-1-2): 5 parts
Monomer having three or more radically polymerizable functional groups: 5 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例3>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した
下記構造式(例示化合物B−1−3)のラジカル重合性化合物: 5部
ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 5部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 3>
An electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following: Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound B-1-3): 5 copies
Monomer having three or more radically polymerizable functional groups: 5 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例4>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式(例示化合物B−1−4)のラジカル重合性化合物: 5部
ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 5部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 4>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound B-1-4): 5 parts
Monomer having three or more radically polymerizable functional groups: 5 parts Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例5>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式(例示化合物B−1−25)のラジカル重合性化合物: 10部
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 5>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound B-1-25): 10 parts
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例6>
実施例1の架橋表面層膜厚を3μm、架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式(例示化合物B−1−44)のラジカル重合性化合物: 10部
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 6>
An electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the crosslinked surface layer in Example 1 was changed to 3 μm and the crosslinked surface layer coating solution was changed to the following.
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound B-1-44): 10 parts
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例7>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式(例示化合物C−1−1)のラジカル重合性化合物: 10部
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 7>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound C-1-1): 10 parts
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<実施例8>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式(例示化合物D−1−1)のラジカル重合性化合物: 10部
(ゲルろ過クロマトグラフィーで測定したところnは3〜10の混合物であった。)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Example 8>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Radical polymerizable compound of the following structural formula (Exemplary Compound D-1-1): 10 parts
(As measured by gel filtration chromatography, n was a mixture of 3 to 10.)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<比較例1>
実施例1の架橋表面層膜厚を3μm、架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式のラジカル重合性モノマー: 10部
エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート(ABE−300、新中村化学工業)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Comparative Example 1>
An electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the crosslinked surface layer in Example 1 was changed to 3 μm and the crosslinked surface layer coating solution was changed to the following.
Radical polymerizable monomer having the following structural formula: 10 parts
Ethoxylated bisphenol A diacrylate (ABE-300, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<比較例2>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
ラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマー: 10部
ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート
(KAYARAD DPCA−120、日本化薬製)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Comparative example 2>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Monomer having three or more radical polymerizable functional groups: 10 parts Dipentaerythritol caprolactone-modified hexaacrylate (KAYARAD DPCA-120, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<比較例3>
実施例1の架橋表面層塗工液を下記のものに変えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
下記構造式のラジカル重合性モノマー: 10部
(KAYARAD NPGDA、日本化薬製)
ラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物: 10部
(例示化合物NO.54)
光重合開始剤: 1部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
テトラヒドロフラン: 100部
<Comparative Example 3>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer coating solution of Example 1 was changed to the following.
Radical polymerizable monomer having the following structural formula: 10 parts
(KAYARAD NPGDA, Nippon Kayaku)
Charge transporting compound having one or more radically polymerizable functional groups: 10 parts (Exemplary Compound NO. 54)
Photopolymerization initiator: 1 part 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Tetrahydrofuran: 100 parts

<比較例4>
実施例1の架橋表面層を設けず、電荷輸送層の膜厚を28μmとした以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 4>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the crosslinked surface layer of Example 1 was not provided and the thickness of the charge transport layer was 28 μm.

以上のように作製した実施例1〜8、比較例1〜4の電子写真感光体についてA4サイズ10万枚の通紙試験を実施した。まず、前記感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として655nmの半導体レーザーを用いたリコー性imagio Neo270改造機にて初期暗部電位を−750Vに設定した。その後通紙試験を開始し、初期と10万枚複写後の暗部及び露光部電位測定を行った。その結果を下記表に示す。   The electrophotographic photosensitive members of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 manufactured as described above were subjected to a sheet passing test of 100,000 A4 size sheets. First, the photosensitive member was mounted on a process cartridge for an electrophotographic apparatus, and the initial dark portion potential was set to -750 V with a Ricoh imaging iogio Neo 270 remodeling machine using a 655 nm semiconductor laser as an image exposure light source. Thereafter, a paper passing test was started, and the initial portion and the dark portion and exposed portion potentials after copying 100,000 sheets were measured. The results are shown in the table below.

次に、通紙試験を実施した実施例1〜8、比較例1〜4のうち、実施例1、5、6、7、8と比較例1〜3の感光体を30℃90%RHの環境中で画像評価を行った。その結果を下記表に示す。
Next, among Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 in which the paper passing test was performed, the photoreceptors of Examples 1, 5, 6, 7, and 8 and Comparative Examples 1 to 3 were subjected to 30 ° C. and 90% RH. Image evaluation was performed in the environment. The results are shown in the table below.

次に、30℃90%RHの環境中で画像評価を行った感光体を、ダイレック製(DY―0102N)NOx暴露試験を行った。NOx環境下(NO:40ppm、NO2:10ppm)で48時間放置し、暗部電位、露光部電位測定を行った。その結果を下記表に示す。
Next, a photoconductor subjected to image evaluation in an environment of 30 ° C. and 90% RH was subjected to a NOEX exposure test (DY-0102N) manufactured by Direc. The sample was left for 48 hours in a NOx environment (NO: 40 ppm, NO 2 : 10 ppm), and the dark part potential and the exposed part potential were measured. The results are shown in the table below.

以上、実施例1〜8に示されるように、架橋表面層が上記一般式(A)の構造を含むことによって、比較例2、3と比較し、1分子あたりに含むラジカル重合性官能基量が少なくとも同等以上の耐久性を示す。比較例4の架橋表面層を設けず、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた感光体は、本発明の感光体に比べ耐久性が劣る。また、本発明の感光体は、比較例1、2、3と比較し環境安定性、耐ガス性とも優れている。
したがって、本発明のラジカル硬化されていない感光層と、一般式(A)の構造を含むラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する電子写真感光体を用いることによって、耐摩耗性が高く、良好な電気特性を有し、更に環境安定性、耐ガス性が優れた感光体が実現された。したがってこの感光体を用いることで、より高画質な画像を長期にわたり提供できる高性能で且つ信頼性の高い画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供できる。
As described above, as shown in Examples 1 to 8, the cross-linked surface layer contains the structure of the general formula (A), so that the amount of radical polymerizable functional group contained per molecule as compared with Comparative Examples 2 and 3 Shows at least equivalent durability. The photoreceptor using the conventional thermoplastic binder resin without providing the crosslinked surface layer of Comparative Example 4 is inferior in durability to the photoreceptor of the present invention. Further, the photoreceptor of the present invention is superior in environmental stability and gas resistance as compared with Comparative Examples 1, 2, and 3.
Therefore, by using an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer that is not radically cured of the present invention and a crosslinked surface layer containing a radically cured composition containing the structure of the general formula (A), the abrasion resistance is high, A photoconductor having good electrical characteristics and excellent environmental stability and gas resistance was realized. Therefore, by using this photoreceptor, it is possible to provide a high-performance and highly reliable image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge for an image forming apparatus that can provide a higher quality image over a long period of time.

Aは本発明の電子写真感光体の断面図の一例である。また、Bは本発明の電子写真感光体の断面図の他の例である。A is an example of a cross-sectional view of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. B is another example of a cross-sectional view of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 本発明の電子写真感光体の断面図の他の例である。It is another example of sectional drawing of the electrophotographic photosensitive member of this invention. 本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。1 is a schematic diagram illustrating an example of an image forming apparatus of the present invention. 本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジの一例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a process cartridge for an image forming apparatus according to the present invention. 本発明で使用される例示化合物の合成例で得られたB−1−1の赤外吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of B-1-1 obtained by the synthesis example of the exemplary compound used by this invention. 本発明で使用される例示化合物C−1−1の合成例で得られた中間体2,2-ビス{3-メチル-4-(2,3-ジヒドロキシプロピルオキシ)フェニル}プロパンの赤外吸収スペクトルである。Infrared absorption of intermediate 2,2-bis {3-methyl-4- (2,3-dihydroxypropyloxy) phenyl} propane obtained in the synthesis example of exemplary compound C-1-1 used in the present invention It is a spectrum. 本発明で使用される例示化合物の合成例で得られたC−1−1の赤外吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of C-1-1 obtained by the synthesis example of the exemplary compound used by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 感光体
2 除電ランプ
3 帯電チャージャ
4 イレーサ
5 画像露光部
6 現像ユニット
7 転写前チャージャ
8 レジストローラ
9 転写紙
10 転写チャージャ
11 分離チャージャ
12 分離爪
13 クリーニング前チャージャ
14 ファーブラシ
15 クリーニングブレード
101 感光ドラム
102 帯電装置
103 露光
104 現像装置
105 転写体
106 転写装置
107 クリーニングブレード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photoconductor 2 Static elimination lamp 3 Charger charger 4 Eraser 5 Image exposure part 6 Developing unit 7 Charger before transfer 8 Registration roller 9 Transfer paper 10 Transfer charger 11 Separation charger 12 Separation claw 13 Charger before cleaning 14 Fur brush 15 Cleaning blade 101 Photosensitive drum 102 Charging device 103 Exposure 104 Developing device 105 Transfer body 106 Transfer device 107 Cleaning blade

Claims (11)

導電性支持体上に少なくとも、ラジカル硬化されていない感光層と、ラジカル硬化組成物を含有する架橋表面層を有する電子写真感光体において、該架橋表面層のラジカル硬化組成物中に少なくとも下記一般式(A)で表される構造単位を含有することを特徴とする電子写真感光体。
(式中、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子であるものは除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
In an electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer that is not radically cured on a conductive support and a crosslinked surface layer containing a radically cured composition, at least the following general formula is contained in the radically cured composition of the crosslinked surface layer: An electrophotographic photoreceptor comprising the structural unit represented by (A).
(Expressed in the formula, R 5, R 6, R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear or branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, a halogen atom, an aryl group, R 9 And R 10 represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, except that all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms, and the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2. is there.)
前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(B)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。
(式中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状アルキレン基、1−ケトへキシレン基を表し、R3及びR4は水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表し、n、mはそれぞれ0〜4の整数を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合を除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
The radical curable composition is a composition formed by applying at least a radically cured coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the following general formula (B) to the surface of the photosensitive layer, followed by radical curing. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
(Wherein R 1 and R 2 each represent a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, 1-ketohexylene group, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a methyl group, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each represent a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, a halogen atom or an aryl group, and R 9 and R 10 are hydrogen atoms. Represents an atom, a methyl group, or an ethyl group, and n and m each represent an integer of 0 to 4, except when all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms, the number of carbon atoms of R 9 and the carbon number of R 10 The sum of the numbers is 0-2.)
前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(C)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。
(式中、R11、R12、R13及びR14はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合は除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
The radical curing composition is a composition formed by applying radical curing after coating a coating solution containing at least a radical polymerizable compound represented by the following general formula (C) on the surface of the photosensitive layer. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom and a straight chain having 1 to 6 carbon atoms. Or a branched or cyclic alkyl group, an allyl group, a halogen atom, or an aryl group, and R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, provided that all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms. (The sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2.)
前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも下記一般式(D)で表されるラジカル重合性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。
(式中、R21、R22はそれぞれ水素原子又はメチル基を表し、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状または環状アルキル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基を表し、R9及びR10は水素原子、メチル基、エチル基を表し、nは1〜50の整数を表す。但しR5〜R8の全てが水素原子である場合は除く。R9の炭素数とR10の炭素数の和は0〜2である。)
The radical curable composition is a composition formed by applying at least a coating solution containing a radical polymerizable compound represented by the following general formula (D) to the surface of the photosensitive layer, followed by radical curing. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
(Wherein R 21 and R 22 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 6 carbon atoms. A group, an allyl group, a halogen atom, and an aryl group, R 9 and R 10 represent a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group, and n represents an integer of 1 to 50, provided that all of R 5 to R 8 are hydrogen. (When it is an atom, the sum of the carbon number of R 9 and the carbon number of R 10 is 0 to 2.)
前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも上記一般式(B)、(C)、(D)で表されるラジカル重合性化合物のいずれかと、更にラジカル重合性官能基を3つ以上有するモノマーを含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の電子写真感光体。   The radical curable composition contains at least one of the radical polymerizable compounds represented by the general formulas (B), (C), and (D), and further contains a monomer having three or more radical polymerizable functional groups. The electrophotographic photosensitive member according to claim 2, wherein the electrophotographic photosensitive member is a composition formed by applying a working solution to the surface of the photosensitive layer and then performing radical curing. 前記ラジカル硬化組成物が、少なくとも上記一般式(B)、(C)、(D)で表されるラジカル重合性化合物のいずれかと、更にラジカル重合性官能基を1つ以上有する電荷輸送性化合物を含有する塗工液を感光層表面に塗工した後、ラジカル硬化させて形成された組成物であることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載の電子写真感光体。   The radical curable composition comprises at least one of the radical polymerizable compounds represented by the general formulas (B), (C), and (D), and a charge transporting compound further having one or more radical polymerizable functional groups. 6. The electrophotographic photosensitive member according to claim 2, wherein the electrophotographic photosensitive member is a composition formed by applying a coating solution to the surface of the photosensitive layer, followed by radical curing. 前記ラジカル硬化組成物が、光のエネルギーを用いた手段で硬化されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the radical curable composition is cured by means using light energy. 前記ラジカル硬化されていない感光層が、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した構成をとることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の電子写真感光体。   8. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the photosensitive layer that is not radically cured has a structure in which at least a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated on a conductive support. body. 電子写真感光体を用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が請求項1〜8のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法。   An image forming method using an electrophotographic photosensitive member, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 8. 少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体が請求項1〜8のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。   The image forming apparatus comprising at least a charging unit, an exposing unit, a developing unit, a transfer unit, and an electrophotographic photosensitive member, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 8. An image forming apparatus, comprising: 請求項1〜8のいずれかに記載の電子写真感光体と、更に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段から選択される少なくとも1つの手段とが一体となり、画像形成装置と着脱自在であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。   An electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 8, and at least one means selected from a charging means, an exposure means, a developing means, a transfer means, a cleaning means, and a charge eliminating means are integrated to form an image. A process cartridge for an image forming apparatus, wherein the process cartridge is detachable from the apparatus.
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