JP2008191251A - Reflection-type display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、エレクトロクロミズムを利用した反射型表示素子に関する。 The present invention relates to a reflective display element using electrochromism.
近年、液晶表示素子は、ノートパソコン、モニター、カーナビゲーション、携帯電話、TVなど様々な分野に応用されている。 In recent years, liquid crystal display elements have been applied to various fields such as notebook personal computers, monitors, car navigation systems, mobile phones, and TVs.
なかでも、反射型表示素子は、バックライトが不要であることから低消費電力かつ薄型軽量といった利点があり、携帯機器用ディスプレイなどに応用されている。しかしながら、従来の反射型表示素子は、紙、印刷物などと比較して明るさの点で劣る表示性能である。また、反射および透過表示可能な液晶表示素子も、携帯機器用ディスプレイなどに応用されている。しかしながら、バックライトを使用するため、電源となる電池で充分な駆動時間を得ようとするとバックライトの輝度を下げざるをえず、充分な明るさが得られない。 Among these, the reflective display element has advantages such as low power consumption, thinness and light weight because it does not require a backlight, and is applied to displays for portable devices. However, the conventional reflective display element has a display performance inferior in terms of brightness as compared with paper, printed matter, and the like. Liquid crystal display elements capable of reflective and transmissive display are also applied to displays for portable devices. However, since a backlight is used, if an attempt is made to obtain a sufficient driving time with a battery serving as a power source, the brightness of the backlight must be lowered, and sufficient brightness cannot be obtained.
これら問題を解決する手段として、ポリマー分散液晶(PDLC:Polymer Dispersed Liquid Crystal)に代表される散乱型液晶表示素子がある。ランダム配列された液晶と屈折率異方性のない等方層との屈折率差、もしくはランダム配列された液晶の分子同志の屈折率差にて、入射した光の散乱および散乱反射を利用するものである。 As means for solving these problems, there is a scattering type liquid crystal display element represented by polymer dispersed liquid crystal (PDLC). Using the scattering and reflection of incident light by the difference in refractive index between the randomly arranged liquid crystal and the isotropic layer without refractive index anisotropy, or the difference in refractive index between the molecules of the randomly arranged liquid crystal It is.
この散乱型液晶表示素子を反射型として用いる場合、液晶層に電界を印加せず、光が入射する方向に対して等方層より液晶層の屈折率が小さく、もしくは液晶層の分子間の屈折率が同様の差があるときに入射光を反射させて明状態とし、一方、液晶層に電界を印加し、光が入射する方向に対して等方層と液晶層との屈折率を等しくし、もしくは液晶層の分子間の屈折率を等しくし、入射光を透過させて素子後方に配置した遮光層により吸収して暗状態を得ている。しかしながら、屈折率差は液晶分子の異常光屈折率および常光屈折率の平均値と常光屈折率との差しか得られず、現在実用的に用いられる液晶材料では、大きくても0.13程度でしかない。このため、充分な反射率を得るには、厚みを厚くする必要があり、駆動電圧が著しく高くなる。従って消費電力が高くなり、携帯機器用ディスプレイに不適となる。 When this scattering-type liquid crystal display element is used as a reflective type, no electric field is applied to the liquid crystal layer, and the refractive index of the liquid crystal layer is smaller than that of the isotropic layer in the direction in which light is incident, or refraction between molecules of the liquid crystal layer. When there is a similar difference in rate, incident light is reflected to make it bright, while an electric field is applied to the liquid crystal layer to make the refractive index of the isotropic layer and the liquid crystal layer equal to the direction in which the light is incident. Alternatively, the refractive index between the molecules of the liquid crystal layer is made equal, and the incident light is transmitted and absorbed by the light shielding layer disposed behind the element to obtain a dark state. However, the difference in refractive index cannot be obtained between the ordinary light refractive index and the average value of the extraordinary refractive index and the ordinary light refractive index of the liquid crystal molecules. There is only. For this reason, in order to obtain a sufficient reflectance, it is necessary to increase the thickness, and the driving voltage becomes extremely high. Therefore, power consumption becomes high and it becomes unsuitable for the display for portable devices.
また、上記散乱型液晶表示素子を透過型として用いる場合、散乱反射で暗状態を得ているが、反射型同様、充分なコントラストを得るには厚みを厚くする必要があり、駆動電圧が著しく高くなる。従って消費電力が高くなり、携帯機器用ディスプレイに不適となる。 Further, when the scattering type liquid crystal display element is used as a transmission type, a dark state is obtained by scattering reflection. However, like the reflection type, it is necessary to increase the thickness to obtain sufficient contrast, and the driving voltage is extremely high. Become. Therefore, power consumption becomes high and it becomes unsuitable for the display for portable devices.
一方で、エレクトロクロミズムを利用した反射型の表示装置が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。この表示装置では、観察側(前面)基板などに形成された発色体の着色と消色とを電気化学的な制御により切り換えて表示をしており、表示時(着色時)は、発色体の色を、非表示時(消色時)は、背面基板上に形成された反射層からの反射光を見ることになる。つまり、鮮明な表示を得るには、高い反射率の反射層と発色層の充分な吸光度が必要となる。 On the other hand, a reflective display device using electrochromism has been proposed (see, for example, Patent Document 1). In this display device, coloring and decoloring of the color former formed on the observation side (front surface) substrate and the like are switched by electrochemical control, and display is performed (when colored). When the color is not displayed (decolored), the reflected light from the reflective layer formed on the back substrate is seen. That is, in order to obtain a clear display, sufficient absorbance of the reflective layer and the color developing layer with high reflectance is required.
このような反射型表示装置の場合、液晶表示装置と比較して、低消費電力、高反射率およびメモリー性といったメリットがあるが、現在の構成では前面と背面反射板間の距離によるセル内散乱により反射率をロスしてしまう。加えて、前記距離により視差を生じ高精細表示において表示劣化を引き起こすおそれがある。また、充分な吸光度を得るためには発色層を厚くする必要があるが、この場合、発色層の膜厚が均一でないと色むらを起こすおそれがあり、このような均一な厚膜を形成することは容易ではない。
上述したように、従来のエレクトロクロミズムを利用した反射型表示装置は、対向基板側に反射層を形成しており、視差、散乱による高精細表示時の表示劣化が課題であった。また、高反射率、高コントラストを得るには、セル内散乱光の抑制、充分な発色層の吸光度が必要となる。 As described above, the conventional reflective display device using electrochromism has a reflective layer formed on the counter substrate side, and display degradation during high-definition display due to parallax and scattering has been a problem. Moreover, in order to obtain a high reflectance and a high contrast, it is necessary to suppress the scattered light in the cell and to have sufficient absorbance of the coloring layer.
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、高コントラストで高反射率かつ高精細な反射型表示素子を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of these points, and an object thereof is to provide a reflective display element having high contrast, high reflectance, and high definition.
本発明は、透光性を有する第1導電層を一主面側に備えるとともに、内部にエレクトロクロミズムを示す発色体を有し連続した凸形状に形成された透明構造体を備えた第1基板と、第2導電層および陽極を一主面側に備え前記第1基板に対向配置される第2基板と、前記透明構造体と前記陽極との間に介在された電解液層とを具備したものである。 The present invention provides a first substrate provided with a transparent structure having a translucent first conductive layer on one main surface side and having a color forming body showing electrochromism inside and having a continuous convex shape. And a second substrate having a second conductive layer and an anode on one main surface side and disposed opposite to the first substrate, and an electrolyte layer interposed between the transparent structure and the anode Is.
そして、給電と非給電との切り換えにて発色体の着色状態と非着色状態とを切り換えて、非給電時の入射光の透明構造体内での全反射と、給電時の透明構造体での吸収とを制御するとともに、透明構造体内での反射によって光学距離を増すことで給電時の吸光度を大きくした着色状態にし、かつ、反射光の内部への侵入を抑制して内部散乱を抑制する。 Then, by switching between feeding and non-feeding, the colored body is switched between the colored state and the non-colored state, so that the total reflection of incident light during non-feeding in the transparent structure and the absorption by the transparent structure during feeding In addition, the optical distance is increased by reflection in the transparent structure, so that the absorbance at the time of power feeding is increased, and the invasion of reflected light into the interior is suppressed to suppress internal scattering.
本発明によれば、高コントラストで高反射率かつ高精細な反射型表示素子を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a reflective display element with high contrast, high reflectance, and high definition.
以下、本発明の一実施の形態の反射型表示素子の構成を図1ないし図4を参照して説明する。 Hereinafter, the configuration of a reflective display element according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1に示すように、反射型表示素子11は、表示面側の第1基板としてのアレイ基板12と、第2基板としての対向基板13と、これらアレイ基板12と対向基板13との間に挟持された電解液層14とを備えている。
As shown in FIG. 1, the
アレイ基板12は、例えば透明なガラス製の透明基板21を備えている。この透明基板21の対向基板13に対向する内面には、複数のスイッチング素子としてのTFT素子、ドレイン電極、共通電極、信号線、ゲート線などが形成されている。さらに、このアレイ基板12の対向基板13に対向する内面には、例えばITO膜などの、透光性を有する第1導電層としての発色層である透明導電層22が形成され、この透明導電層22上にそれぞれ対向基板13側へ向けて突出する複数の透明構造体23が基板面方向に連続して形成されている。
The
透明導電層22には、各TFT素子で制御される複数の電極22aが例えばマトリクス状に形成されている。
In the transparent
また、透明構造体23は、絶縁層である例えばTiO2膜にて、透明導電層22側を底辺として一対の傾斜面23aを有する断面形状が略二等辺三角形に形成されている。透明構造体23の底角θは、電解液層14の屈折率をne、透明構造体23の屈折率をnpとしたとき、arcsin(ne/np)≦θ≦{180−arcsin(ne/np)}/3の関係を有するように形成されている。
In addition, the
さらに、透明構造体23の内部には、図示しない微細孔が形成され、この微細孔の表面が、エレクトロクロミズムを示す発色体24で覆われている。
Furthermore, micropores (not shown) are formed inside the
隣接する透明構造体23間には、アレイ基板12へ向けて拡開するV溝状の凹部25が形成されている。
Between adjacent
アレイ基板12の透明基板21、透明導電層22、透明構造体23の可視光領域での屈折率は、透明基板21<透明導電層22<透明構造体23の大小関係を有している。
The refractive indexes in the visible light region of the
透明基板21の外面には図示しない反射防止フィルムなどの反射防止層が形成されている。
An antireflection layer such as an antireflection film (not shown) is formed on the outer surface of the
アレイ基板12の外面である表示面側から見て各透明構造体23の底辺に対向する領域が画素26として形成されている。
A region facing the bottom side of each
また、対向基板13は、例えばステンレス(SUS)製の基板31を備えている。この基板31のアレイ基板12に対向する内面には、例えばITO膜などの透光性を有する第2導電層としての透明導電層32が形成され、この透明導電層32上に陽極33が形成されている。
The
そして、これら対向基板13とアレイ基板12とは例えばエポキシ系の熱硬化樹脂などの接着剤を用いて所定の位置で貼り合わされ、電解液層14を構成する電解液が注入口を通じて充填された後にその注入口が紫外線硬化樹脂などで封止されている。
Then, the
また、電解液層14には、例えば電解液として、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムの0.2mM水溶液などが用いられている。
In addition, for example, a 0.2 mM aqueous solution of lithium trifluoromethanesulfonate is used for the
次に、本実施の形態の作用について説明する。 Next, the operation of the present embodiment will be described.
まず、反射型表示素子11の製造方法について説明する。
First, a method for manufacturing the
透明基板21上に成膜とパターニングを繰り返す通常のTFTプロセスにより、TFT素子、ドレイン電極、共通電極、信号線およびゲート線などを作成する。
A TFT element, a drain electrode, a common electrode, a signal line, a gate line, and the like are formed by a normal TFT process in which film formation and patterning are repeated on the
さらに、ITO膜を作成して透明導電層22とする。
Further, an ITO film is formed as the transparent
一方で、透明基板21の透明導電層22上に、透明絶縁膜として3μmの微細孔を有するTiO2膜を溶液塗布法により形成し、さらに切削法により6μmピッチのV溝形状に加工して透明構造体23を形成したアレイ基板12とする。そして、アレイ基板12をビオロゲン誘導体の水溶液中に浸し、透明構造体23の微細孔表面に化学吸着させて発色体24とする。
On the other hand, on the transparent
また、対向基板13として、ステンレス製の基板31上に透明導電層32を形成した後、陽極33として微細孔を有するアンチモンドープした酸化スズ層を形成する。
Further, after forming the transparent
このようにして形成したアレイ基板12と対向基板13との周囲を、例えばエポキシ系の熱硬化樹脂からなる接着剤を用いて、所定の位置で20μmの間隔で貼り合わせる。
The periphery of the
次いで、電解液としてトリフルオロメタンスルホン酸リチウムの0.2mM水溶液をアレイ基板12と対向基板13との間に充填し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止して反射型表示素子11を作成する。
Next, a 0.2 mM aqueous solution of lithium trifluoromethanesulfonate as an electrolytic solution is filled between the
次に、反射型表示素子11の表示原理を図2および図3を参照して説明する。
Next, the display principle of the
図2および図3に示すように、アレイ基板12の外方から入射する入射光は、アレイ基板12の透明基板21、透明導電層22、透明構造体23の順に進入し、透明構造体23と電解液層14との界面に達する。
As shown in FIGS. 2 and 3, incident light incident from the outside of the
この間の各層での入射角と屈折角の関係は、次のスネルの式により以下の通り表される。 The relationship between the incident angle and the refraction angle in each layer during this period is expressed as follows by the following Snell equation.
n1・sinθ1=n2・sinθ2 n1 ・ sinθ1 = n2 ・ sinθ2
ここで、n1、n2は入射層の屈折率、屈折層の屈折率を、θ1、θ2は入射角、屈折角を示す。 Here, n1 and n2 denote the refractive index of the incident layer and the refractive index of the refractive layer, and θ1 and θ2 denote the incident angle and the refractive angle.
この式より、高屈折率層から低屈折率層に光が進入した場合、入射角に対して屈折角は大きくなる。 From this equation, when light enters the low refractive index layer from the high refractive index layer, the refraction angle becomes larger than the incident angle.
透明構造体23と電解液層14との界面に達した光も同様にスネルの式に従った振る舞いとなり、図2に示すように、透明構造体23の屈折率が電解液層14の屈折率よりも充分大きく、入射角が大きいときには、透明構造体23と電解液層14との界面で全反射が起こり、透明構造体23から電解液層14への光の進入はなくなる。
Similarly, the light reaching the interface between the
上記透明構造体23の一方の傾斜面23aと電解液層14との界面で全反射した光は、透明構造体23内を進行し、再び透明構造体23の他方の傾斜面23aと電解液層14との界面で全反射し、入射光と同一面側すなわち入射光の入射方向に対して戻る方向へ向けて高効率に入射光を取り出すことができる。
The light totally reflected at the interface between one
一方、図3に示すように、透明構造体23と電解液層14との界面の屈折率差によって、透明構造体23と電解液層14との界面で全反射が起こらない場合は、フレネルの式に従い透明構造体23と電解液層14との界面の屈折率差に拠った反射率となり、その反射率は全反射と比較して充分小さくなる。
On the other hand, as shown in FIG. 3, when total reflection does not occur at the interface between the
入射角θ1=0
R=(n1−n2)2/(n1+n2)2
Incident angle θ1 = 0
R = (n1−n2) 2 / (n1 + n2) 2
入射角θ1≠0
Rs=sin2(θ2−θ1)/sin2(θ2+θ1)
Rp=tan2(θ1−θ2)/tan2(θ1+θ2)
Incident angle θ1 ≠ 0
Rs = sin 2 (θ2−θ1) / sin 2 (θ2 + θ1)
Rp = tan 2 (θ1−θ2) / tan 2 (θ1 + θ2)
ここで、Rs、Rp、θ1、θ2はそれぞれs偏光、p偏光の反射率、入射角、屈折角を示す。 Here, Rs, Rp, θ1, and θ2 represent the reflectance, incident angle, and refraction angle of s-polarized light and p-polarized light, respectively.
透明構造体23が平面の場合でも全反射は起こるが、通常は入射角が大きい場合に限られ、反射型表示素子11として重要な表示面に対して垂直近傍の角度で充分な反射率が得られない。
Total reflection occurs even when the
そして、本実施の形態の反射型表示素子11では、図2に示すように、非給電時、すなわち電源オフの場合、透明構造体23内の発色体24は透明であり、透明構造体23と電解液層14との界面の屈折率差は充分大きいため、透明構造体23と電解液層14との界面に進入した光は、その界面で全反射する。
In the
透明構造体23の一方の傾斜面23aと電解液層14との界面で全反射した光は、透明構造体23内を進行し、再び透明構造体23の他方の傾斜面23aと電解液層14との界面で全反射し、入射光と同一面側つまり入射光の入射方向に対して戻る方向へ向けて高効率に入射光を取り出すことができる。つまり、2度の全反射により、白表示となる。
The light totally reflected at the interface between one
一方、図3に示すように、給電時、すなわち電源オンの場合、透明構造体23内の発色体24が着色し、透明構造体23に進入した光は、この透明構造体23の一方の傾斜面23aと電解液層14との界面で全反射されてさらに透明構造体23内を進行し、再び透明構造体23の他方の傾斜面23aと電解液層14との界面で入射光と同一面側つまり入射光の入射方向に対して戻る方向へ向けて全反射されるが、これら全反射により光が透明構造体23内を通過する光学距離が増し、この通過の間に光が吸収される。つまり、光吸収により、黒表示となる。
On the other hand, as shown in FIG. 3, when power is supplied, that is, when the power is on, the color former 24 in the
このように、電源のオンオフの切り換えにて発色体24の着色状態と非着色状態(無色状態)とを切り換えて、電源オフ状態での入射光の透明構造体23内での全反射と、電源オン状態での透明構造体23内での吸収とを制御することで、高反射率、高精細な反射型表示素子11となる。この時、透明構造体23内での反射によって光学距離を増すことにより、電源オン状態での吸光度をより大きくした着色状態にできるので、着色状態と非着色状態との明暗の差を向上して高コントラストを得ることができる。さらに、反射光の反射型表示素子11内部への進入を抑制できるので、反射型表示素子11内部での散乱を抑制し、高反射率とすることができる。
In this way, the
また、透明構造体23は、断面形状を二等辺三角形とし、その底角θが、電解液層14の屈折率をno、透明構造体23の屈折率をneとしたとき、arcsin(ne/no)≦θ≦{180−arcsin(ne/no)}/3の関係を満たすように形成することにより、入射光を透明構造体23の両側の傾斜面23aと電解液層14との界面で2回全反射させて観察者側に高効率に取り出すことができる範囲を規定することができる。
The
さらに、反射型表示素子11においては、透明構造体23と電解液層14との界面以外の各層間の屈折率差による反射も低コントラストの原因となる。特に、空気層とアレイ基板12の透明基板21との界面の屈折率差が最も大きくなるため、透明基板21の外面に反射防止層を設けることにより、高コントラストが得られる。
Further, in the
そして、アレイ基板12の透明基板21、透明導電層22、透明構造体23の可視光領域での屈折率は、透明基板21<透明導電層22<透明構造体23の大小関係であるため、図4に示すように、アレイ基板12への入射光の入射角が小さくても、透明導電層22と透明構造体23との界面には垂直に近い入射角、すなわち0に近い入射角で入射光を入射させることができ、そのため、入射光を透明構造体23と電解液層14との界面で効率的に全反射させることができ、視野角を大きくできる。
Since the refractive index in the visible light region of the
また、透明構造体23と電解液層14との屈折率差の関係については、透明構造体23の屈折率と電解液層14の屈折率との屈折率差が大きい場合には、より小さな入射角でも全反射して視野角を大きく取ることができ、透明構造体23の屈折率と電解液層14の屈折率との屈折率差が小さい場合には、反射率が低くなり、高コントラストとなる。
In addition, regarding the relationship of the refractive index difference between the
なお、上記一実施の形態において、特定エリア毎に例えばR,G,Bに着色する発色体24を吸着させカラー表示する、あるいはアレイ基板12上にカラーフィルタなどを作成し、カラー表示をするように構成することも可能である。
In the above embodiment, for example,
また、対向基板13の基板31としてステンレスを使用したが、透明基板を用いることも可能であり、また、光を反射する反射層を設けてもよい。
Further, although stainless steel is used as the
さらに、透明構造体23の凸形状は、二等辺三角形状に限らず、半球形状としても同様の作用効果が得られる。
Further, the convex shape of the
そして、アレイ基板12の透明導電層22として透明電極であるITO膜を用いているが、透明構造体23を導電層として用いることもできる。さらに、透明導電層22を透明基板21と透明構造体23との間に配置しているが、透明構造体23の表面に形成することもできる。
An ITO film that is a transparent electrode is used as the transparent
次に、反射型表示素子11の実施例1〜3と、比較例1および比較例2とについて、標準白色板対比の反射率、白黒表示したときのコントラストを測定し、目視評価をした結果を図5に示す。なお、静止画表示時のエッジぼけがないものを良好とした。
Next, for Examples 1 to 3 of the
実施例1は、前記実施の形態に示した構造であり、屈折率1.5の透明基板21上に成膜とパターニングを繰り返す通常のTFTプロセスによりTFT素子およびドレイン電極、共通電極、信号線、ゲート線を作成した。さらに、ITO膜を作成し透明導電層22とした。この透明導電層22となるITO膜の屈折率は、1.8であった。
Example 1 has the structure shown in the above embodiment, and a TFT element and a drain electrode, a common electrode, a signal line, a normal TFT process that repeats film formation and patterning on a
一方で、透明導電層22を形成した透明基板21上に、透明絶縁膜として3μmの微細孔を有するTiO2膜を溶液塗布法により形成し、さらに切削法により6μmピッチのV溝形状に加工してアレイ基板12とした。包絡線法により求めた微細孔を有するTiO2膜の屈折率は2.1であった。このアレイ基板12を、ビオロゲン誘導体の水溶液中に浸し、透明構造体23の微細孔表面に発色体24を化学吸着させた。
On the other hand, a TiO 2 film having fine pores of 3 μm is formed as a transparent insulating film on the
対向基板13として、ステンレス(SUS)により形成された基板31上に透明導電層32を形成した後、陽極33として微細孔を有するアンチモンドープした酸化スズ層を形成した。
After forming the transparent
このようにして作成したアレイ基板12と対向基板13との周囲に、エポキシ系の熱硬化樹脂からなる接着剤を用いて所定の位置で20μmの間隔で貼り合わせた。
The
続いて、電解液層14としてトリフルオロメタンスルホン酸リチウムの0.2mM水溶液をアレイ基板12と対向基板13との間に充填し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止して反射型表示素子11を形成した。
Subsequently, a 0.2 mM aqueous solution of lithium trifluoromethanesulfonate is filled between the
実施例2は、実施例1の透明構造体23の凸形状を半球状にした以外は、実施例1と同様に作成した。
Example 2 was produced in the same manner as Example 1 except that the convex shape of the
実施例3は、実施例1のアレイ基板12の透明基板21の外面に反射防止層として反射防止フィルムを貼り付けた以外は、実施例1と同様に作成した。
Example 3 was prepared in the same manner as Example 1 except that an antireflection film was attached as an antireflection layer on the outer surface of the
比較例1は、実施例1のTiO2粒子に発色体処理し、対向基板側の陽極上に微細孔のあるTiO2反射層を形成した以外は、実施例1と同様に作成した。 Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the TiO 2 particles of Example 1 were subjected to a color development treatment and a TiO 2 reflective layer having fine holes was formed on the anode on the counter substrate side.
比較例2は、実施例1のTiO2の代わりに屈折率1.35の微細孔を有するSiO2によりV溝を形成した以外は、実施例1と同様に作成した。 Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the V-groove was formed of SiO 2 having fine holes with a refractive index of 1.35 instead of TiO 2 of Example 1.
この結果、図5に示すように、実施例1〜3は、いずれの場合にも、反射率、およびコントラストとも高く、表示品位が良好であった。それに対して、比較例1および比較例2は、反射率、およびコントラストとも低く、表示品位が不良であった。 As a result, as shown in FIG. 5, Examples 1 to 3 had high reflectivity and contrast and good display quality in any case. On the other hand, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 had low reflectance and contrast, and the display quality was poor.
11 反射型表示素子
12 第1基板としてのアレイ基板
13 第2基板としての対向基板
14 電解液層
21 透明基板
22 第1導電層としての透明導電層
23 透明構造体
24 発色体
32 第2導電層としての透明導電層
33 陽極
11 Reflective display element
12 Array substrate as first substrate
13 Counter substrate as second substrate
14 Electrolyte layer
21 Transparent substrate
22 Transparent conductive layer as the first conductive layer
23 Transparent structure
24 Chromogen
32 Transparent conductive layer as second conductive layer
33 Anode
Claims (4)
第2導電層および陽極を一主面側に備え前記第1基板に対向配置される第2基板と、
前記透明構造体と前記陽極との間に介在された電解液層と
を具備したことを特徴とした反射型表示素子。 A first substrate provided with a transparent structure having a translucent first conductive layer on one main surface side and having a colored body showing electrochromism inside and having a continuous convex shape;
A second substrate having a second conductive layer and an anode on one main surface side and disposed opposite to the first substrate;
A reflective display element, comprising: an electrolyte layer interposed between the transparent structure and the anode.
ことを特徴とした請求項1記載の反射型表示素子。 The transparent structure has an approximately isosceles triangle cross-section, the refractive index of the electrolyte layer is ne, the refractive index of the transparent structure is np, and the base angle of the transparent structure is θ. The reflective display element according to claim 1, wherein a relationship of ne / np) ≦ θ ≦ {180−arcsin (ne / np)} / 3 is satisfied.
ことを特徴とした請求項1または2記載の反射型表示素子。 The reflection type display element according to claim 1, wherein an antireflection layer is provided on an outer surface of the first substrate.
ことを特徴とした請求項1ないし3いずれか一記載の反射型表示素子。 The first substrate includes a transparent substrate in which the first conductive layer and the transparent structure are sequentially formed on the side facing the second substrate, and the transparent substrate, the first conductive layer, and the visible light of the transparent structure are provided. The reflective display element according to any one of claims 1 to 3, wherein the refractive index in the region has a relationship of transparent substrate <first conductive layer <transparent structure.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007023241A JP2008191251A (en) | 2007-02-01 | 2007-02-01 | Reflection-type display device |
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Cited By (1)
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2007
- 2007-02-01 JP JP2007023241A patent/JP2008191251A/en active Pending
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