JP2008169160A - Piperidine compound and method for producing its intermediate - Google Patents

Piperidine compound and method for producing its intermediate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently and inexpensively producing a compound (II) (particularly its optically active substance) or its salt in an industrial scale and to provide a useful intermediate used for the method. <P>SOLUTION: The method for producing the compound (II) or its salt comprises cyclizing a compound (I) or its salt in the presence of a cyclic secondary amine which may have a substituent (wherein Ar is an aromatic group which may have a substituent). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、医薬合成の中間体として有用なピペリジン化合物の製造方法、その中間体として有用な化合物に関する。   The present invention relates to a method for producing a piperidine compound useful as an intermediate for pharmaceutical synthesis and a compound useful as the intermediate.

後掲の一般式(II)で表されるピペリジン化合物は、例えば、NK−1拮抗剤の合成中間体として有用である。   The piperidine compound represented by the following general formula (II) is useful as, for example, a synthetic intermediate of an NK-1 antagonist.

上記ピペリジン化合物を合成する方法として、特許文献1に、高価な4−メトキシピリジンを出発原料とし、有機金属を用いる方法が記載されているが、当該方法は多段階を要する。また、特許文献2には、特許文献1で記載されている方法の他に、4−アミノブタン−2−オンエチレンアセタールを出発原料とする方法も記載されているが、当該方法は、4−アミノブタン−2−オンエチレンアセタール自身の合成に工程数を要する。また、これらの方法は、ラセミ体の合成法であるが、光学活性体を得る場合には、ラセミ体を光学分割等で分離する必要がある。光学活性体を直接合成する方法としては、非特許文献1に記載されている方法に従って合成することが可能と考えられるが、不斉補助基を当量用いる必要がある等の問題がある。   As a method for synthesizing the piperidine compound, Patent Document 1 describes a method using an expensive metal 4-methoxypyridine as a starting material and using an organic metal, but this method requires multiple steps. Patent Document 2 also describes a method using 4-aminobutan-2-one ethylene acetal as a starting material in addition to the method described in Patent Document 1, but this method is not limited to 4-aminobutane. The number of steps is required for the synthesis of 2-one ethylene acetal itself. These methods are racemic synthesis methods. However, in order to obtain an optically active form, it is necessary to separate the racemic form by optical resolution or the like. As a method for directly synthesizing an optically active substance, it is considered possible to synthesize according to the method described in Non-Patent Document 1, but there are problems such as the need to use an equivalent amount of an asymmetric auxiliary group.

特開2005−154380号公報JP 2005-154380 A 特表2005−524636号公報JP 2005-524636 A 「ジャーナルオブアメリカンケミカルソサエティ(Journal of American Chemical Society )」、1994年、第116巻、p.4719“Journal of American Chemical Society”, 1994, vol. 116, p. 4719

本発明の目的は、効率的にかつ工業規模で安価に、一般式(II)で表される化合物(特にその光学活性体)またはその塩を製造する方法、その方法に用いる有用な新規中間体を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for producing a compound represented by the general formula (II) (particularly an optically active substance thereof) or a salt thereof efficiently and inexpensively on an industrial scale, and a useful novel intermediate used in the method Is to provide.

本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、後述するように、一般式(I)で表される化合物(好ましくは、一般式(IV)で表される化合物)またはその塩を、置換基を有していてもよい環状2級アミン(好ましくは、その光学活性体、より好ましくは、酸性プロトンを有する置換基を有し、さらに置換基を有していてもよい光学活性な環状2級アミン)の存在下で反応させることにより、一般式(II)で表される化合物(好ましくは、その光学活性体)またはその塩が簡便に得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors, as will be described later, a compound represented by the general formula (I) (preferably a compound represented by the general formula (IV)) Or a salt thereof may be a cyclic secondary amine optionally having a substituent (preferably an optically active substance thereof, more preferably a substituent having an acidic proton, and further having a substituent. It has been found that by reacting in the presence of a good optically active cyclic secondary amine), the compound represented by the general formula (II) (preferably its optically active substance) or a salt thereof can be easily obtained. The invention has been completed.

即ち、本発明は以下の通りである。
[1] 一般式(I):
That is, the present invention is as follows.
[1] General formula (I):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)
で表される化合物(以下、化合物(I)ともいう)またはその塩を、置換基を有していてもよい環状2級アミンの存在下で環化することを特徴とする、一般式(II):
(In the formula, Ar represents an aromatic group which may have a substituent)
A compound represented by the general formula (II), wherein the compound (hereinafter also referred to as compound (I)) or a salt thereof is cyclized in the presence of an optionally substituted cyclic secondary amine. ):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物(以下、化合物(II)ともいう)またはその塩の製造方法。
(Wherein Ar has the same meaning as above)
Or a salt thereof (hereinafter also referred to as compound (II)).

[2] 一般式(I)で示される化合物が、一般式(IV): [2] The compound represented by the general formula (I) is represented by the general formula (IV):

Figure 2008169160
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(式中、A、A、A、AおよびAは、独立してそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す)
で表される化合物(以下、化合物(IV)ともいう)である、上記[1]記載の製造方法。
(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
The production method of the above-mentioned [1], which is a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (IV)).

[3] Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である、上記[2]記載の製造方法。
[4] 置換基を有していてもよい環状2級アミンが光学活性である、上記[1]記載の製造方法。
[5] 置換基を有していてもよい環状2級アミンが、酸性プロトンを有する置換基を有し、さらに置換基を有していてもよい環状2級アミンである、上記[1]記載の製造方法。
[3] The production method of the above-mentioned [2], wherein A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom.
[4] The production method of the above-mentioned [1], wherein the cyclic secondary amine which may have a substituent is optically active.
[5] The above-mentioned [1], wherein the cyclic secondary amine which may have a substituent is a cyclic secondary amine which has a substituent having an acidic proton and may further have a substituent. Manufacturing method.

[6] 置換基を有していてもよい環状2級アミンが、式(III): [6] The cyclic secondary amine which may have a substituent is represented by the formula (III):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは、独立してそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基または保護されたヒドロキシル基を示す)
で表される化合物(以下、化合物(III)ともいう)である、上記[1]記載の製造方法。
(Wherein, X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group)
The production method of the above-mentioned [1], which is a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (III)).

[7] 置換基を有していてもよい環状2級アミンが、式(IIIa): [7] The cyclic secondary amine which may have a substituent is represented by the formula (IIIa):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは、独立してそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基または保護されたヒドロキシル基を示す)
で表される化合物(以下、化合物(IIIa)ともいう)である、上記[1]記載の製造方法。
(Wherein, X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group)
The production method of the above-mentioned [1], which is a compound represented by the formula (hereinafter also referred to as compound (IIIa)).

[8] Ar−CHO(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)を4−アミノブタン−2−オンまたはその塩と反応させることを特徴とする、一般式(I): [8] Ar—CHO (wherein Ar represents an aromatic group which may have a substituent) is reacted with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof, I):

Figure 2008169160
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(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩の製造方法。
(Wherein Ar has the same meaning as above)
Or a salt thereof.

[9] Ar−CHO(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)を4−アミノブタン−2−オンまたはその塩と反応させて、一般式(I): [9] Ar—CHO (wherein Ar represents an aromatic group which may have a substituent) is reacted with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof to form a compound represented by the general formula (I):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;および
一般式(I)で表される化合物またはその塩を、置換基を有していてもよい環状2級アミンの存在下で環化して、一般式(II):
(Wherein Ar has the same meaning as above)
A compound represented by general formula (I) or a salt thereof; and a compound represented by general formula (I) or a salt thereof cyclized in the presence of an optionally substituted cyclic secondary amine, Formula (II):

Figure 2008169160
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(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;
を包含することを特徴とする、一般式(II)で表される化合物またはその塩の製造方法。
(Wherein Ar has the same meaning as above)
A step of obtaining a compound represented by the formula:
A process for producing a compound represented by the general formula (II) or a salt thereof.

[10] Ar−CHO(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)を4−アミノブタン−2−オンまたはその塩と反応させて、一般式(I): [10] Ar—CHO (wherein Ar represents an aromatic group which may have a substituent) is reacted with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof to form a compound represented by the general formula (I):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;および
一般式(I)で表される化合物またはその塩を、式(IIIa):
(Wherein Ar has the same meaning as above)
A compound represented by formula (I) or a salt thereof; and a compound represented by formula (I) or a salt thereof represented by formula (IIIa):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは、独立してそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基または保護されたヒドロキシル基を示す)
で表される化合物の存在下で環化して、一般式(IIa):
(Wherein, X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group)
Is cyclized in the presence of a compound represented by the general formula (IIa):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物(以下、化合物(IIa)ともいう)またはその塩を得る工程;
を包含することを特徴とする、一般式(IIa)で表される化合物またはその塩の製造方法。
(Wherein Ar has the same meaning as above)
A step of obtaining a compound represented by formula (hereinafter also referred to as compound (IIa)) or a salt thereof;
A process for producing a compound represented by the general formula (IIa) or a salt thereof.

[11] 一般式(I)で示される化合物が、一般式(IV): [11] The compound represented by the general formula (I) is represented by the general formula (IV):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、A、A、A、AおよびAは、独立してそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す)
で表される化合物である、上記[8]〜[10]のいずれかに記載の製造方法。
[12] Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である、上記[11]記載の製造方法。
(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
The manufacturing method in any one of said [8]-[10] which is a compound represented by these.
[12] The production method of the above-mentioned [11], wherein A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom.

[13] 一般式(I): [13] General formula (I):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)
で表される化合物またはその塩。
(In the formula, Ar represents an aromatic group which may have a substituent)
Or a salt thereof.

[14] 一般式(IV): [14] General formula (IV):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、A、A、A、AおよびAは、独立してそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す)
で表される化合物またはその塩。
[15] Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である、上記[14]記載の化合物。
(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
Or a salt thereof.
[15] The compound according to [14] above, wherein A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom.

本発明によれば、化合物(II)またはその塩を、効率的にかつ工業規模で安価に製造することができる。また、置換基を有していてもよい環状2級アミンとして光学活性体を使用すると、光学分割等の手法を用いることなく、化合物(II)の光学活性体またはその塩を簡便に製造することができる。   According to the present invention, compound (II) or a salt thereof can be produced efficiently and inexpensively on an industrial scale. In addition, when an optically active substance is used as a cyclic secondary amine which may have a substituent, an optically active substance of compound (II) or a salt thereof can be easily produced without using a method such as optical resolution. Can do.

以下、本発明について詳細に説明する。
Arで示される「置換基を有していてもよい芳香族基」における「芳香族基」としては、フェニル、ナフチル、アントラセニル等の芳香族炭化水素基;ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ピロリル、フリル、チエニル、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル等の芳香族複素環基等が挙げられ、好ましくは、フェニルである。当該「芳香族基」が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルカノイルオキシ基等が挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The “aromatic group” in the “optionally substituted aromatic group” represented by Ar is an aromatic hydrocarbon group such as phenyl, naphthyl, anthracenyl; pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, quinolyl, Aromatic heterocyclic groups such as isoquinolyl, cinnolinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, quinoxalinyl, pyrrolyl, furyl, thienyl, indolyl, benzofuranyl, benzothiophenyl and the like can be mentioned, and phenyl is preferable. Examples of the substituent that the “aromatic group” may have include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and an alkanoyloxy group having 1 to 8 carbon atoms. Can be mentioned.

ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、好ましくは、フッ素原子である。   Here, as a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, Preferably it is a fluorine atom.

炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル等が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは、メチルである。   Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, and n-octyl. Preferably, it is a C1-C4 alkyl group, More preferably, it is methyl.

炭素数1〜8のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、n−ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ等が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜4のアルコキシ基であり、より好ましくは、メトキシである。   Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy, n-heptyloxy , N-octyloxy and the like, preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably methoxy.

炭素数1〜8のアルカノイルオキシ基としては、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ等が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜4のアルカノイルオキシ基であり、より好ましくは、アセチルオキシである。   Examples of the alkanoyloxy group having 1 to 8 carbon atoms include acetyloxy and pivaloyloxy, preferably an alkanoyloxy group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably acetyloxy.

上記置換基としては、好ましくは、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基等であり、特に好ましくは、フッ素原子、メチル等である。   The substituent is preferably a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably a fluorine atom or methyl.

Arは、好ましくは、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基等で置換されていてもよいフェニル基であり、より好ましくは、フッ素原子、メチル等で置換されていてもよいフェニル基である。   Ar is preferably a phenyl group which may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or the like, and more preferably a phenyl group which may be substituted with a fluorine atom, methyl or the like. .

、A、A、AまたはAで示される「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。中でも、フッ素原子が好ましい。 Examples of the “halogen atom” represented by A 1 , A 2 , A 3 , A 4 or A 5 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Among these, a fluorine atom is preferable.

、A、A、AまたはAで示される「炭素数1〜4のアルキル基」としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチルおよびtert−ブチルが挙げられる。中でも、メチルが好ましい。 Examples of the “alkyl group having 1 to 4 carbon atoms” represented by A 1 , A 2 , A 3 , A 4 or A 5 include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and and tert-butyl. Of these, methyl is preferable.

、A、A、AおよびAは、好ましくは、独立してそれぞれ、水素原子、フッ素原子またはメチルであり、より好ましくは、Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子であるか、またはA、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子であり、特に好ましくは、Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である。 A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 are preferably each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or methyl, more preferably A 1 is methyl, and A 2 , A 4 And A 5 is a hydrogen atom and A 3 is a fluorine atom, or A 1 , A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms and A 3 is a fluorine atom, A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom.

およびXで示される「保護されたヒドロキシル基」におけるヒドロキシル基の保護基としては、例えば、ベンジル、1−フェニルエチル、1−フェニルプロピル、1−フェニルブチル、2−メチル−1−フェニルプロピル、1−フェニルペンチル、2−メチル−1−フェニルブチル、3−メチル−1−フェニルブチル、ジフェニルメチル、1,1−ジフェニルエチル、トリフェニルメチル、ナフチルメチル、1−ナフチルエチル等のアラルキルエーテル系保護基;メチル、tert−ブチル、1−エトキシエチル、3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル、1−メトキシ−1−メチルエチル、メトキシメチル、2−メトキシエトキシメチル等の(置換)アルキルエーテル系保護基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリイソプロピルシリル、トリブチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフェニルシリル等のシリルエーテル系保護基;アセチル、プロパノイル、ブタノイル、イソブタノイル、ピバロイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、ベンゾイル、4−ニトロベンゾイル、4−メトキシベンゾイル、4−メチルベンゾイル、4−tert−ブチルベンゾイル、4−フルオロベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−ブロモベンゾイル、4−トリフルオロメチル、3−ニトロベンゾイル、3−メトキシベンゾイル、3−メチルベンゾイル、3−tert−ブチルベンゾイル、3−フルオロベンゾイル、3−クロロベンゾイル、3−ブロモベンゾイル、2−ニトロベンゾイル、2−メトキシベンゾイル、2−メチルベンゾイル、2−tert−ブチルベンゾイル、2−フルオロベンゾイル、2−クロロベンゾイル、2−ブロモベンゾイル、3,5−ジニトロベンゾイル、3,5−ジメトキシベンゾイル、3,5−ジメチルベンゾイル、3,5−ジ−tert−ブチルベンゾイル、3,5−ジフルオロベンゾイル、3,5−ジクロロベンゾイル、3,5−ジブロモベンゾイル、2,4−ジニトロベンゾイル、2,4−ジメトキシベンゾイル、3,5−ビス(トリフルオロメチル)、2,4−ジメチルベンゾイル、2,4−ジ−tert−ブチルベンゾイル、2,4−ジフルオロベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイル、2,4−ジブロモベンゾイル、2,5−ジニトロベンゾイル、2,5−ジメトキシベンゾイル、2,5−ジメチルベンゾイル、2,5−ジ−tert−ブチルベンゾイル、2,5−ジフルオロベンゾイル、2,5−ジクロロベンゾイル、2,5−ジブロモベンゾイル、3,4,5−トリフルオロベンゾイル、4−フェニルベンゾイル、2−フェニルベンゾイル、4−メトキシカルボニルベンゾイル、3−メトキシカルボニルベンゾイル、2−メトキシカルボニルベンゾイル等のエステル系保護基等が挙げられ、中でも、ベンゾイル、tert−ブチルジメチルシリル等が好ましく、tert−ブチルジメチルシリルがより好ましい。 Examples of the hydroxyl protecting group in the “protected hydroxyl group” represented by X 1 and X 2 include benzyl, 1-phenylethyl, 1-phenylpropyl, 1-phenylbutyl, 2-methyl-1-phenylpropylene. Aralkyl ethers such as 1-phenylpentyl, 2-methyl-1-phenylbutyl, 3-methyl-1-phenylbutyl, diphenylmethyl, 1,1-diphenylethyl, triphenylmethyl, naphthylmethyl, 1-naphthylethyl System protecting group: methyl, tert-butyl, 1-ethoxyethyl, 3,4,5,6-tetrahydro-2H-pyran-2-yl, 1-methoxy-1-methylethyl, methoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl (Substituted) alkyl ether protecting groups such as trimethylsilyl, triethylsilane Silyl ether-based protecting groups such as ruthenium, tripropylsilyl, triisopropylsilyl, tributylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-butyldiphenylsilyl; acetyl, propanoyl, butanoyl, isobutanoyl, pivaloyl, pentanoyl, hexanoyl, heptanoyl, octanoyl, Nonanoyl, decanoyl, undecanoyl, dodecanoyl, benzoyl, 4-nitrobenzoyl, 4-methoxybenzoyl, 4-methylbenzoyl, 4-tert-butylbenzoyl, 4-fluorobenzoyl, 4-chlorobenzoyl, 4-bromobenzoyl, 4-tri Fluoromethyl, 3-nitrobenzoyl, 3-methoxybenzoyl, 3-methylbenzoyl, 3-tert-butylbenzoyl, 3-fluorobenzoyl, 3-c Lorobenzoyl, 3-bromobenzoyl, 2-nitrobenzoyl, 2-methoxybenzoyl, 2-methylbenzoyl, 2-tert-butylbenzoyl, 2-fluorobenzoyl, 2-chlorobenzoyl, 2-bromobenzoyl, 3,5-dinitro Benzoyl, 3,5-dimethoxybenzoyl, 3,5-dimethylbenzoyl, 3,5-di-tert-butylbenzoyl, 3,5-difluorobenzoyl, 3,5-dichlorobenzoyl, 3,5-dibromobenzoyl, 2, 4-dinitrobenzoyl, 2,4-dimethoxybenzoyl, 3,5-bis (trifluoromethyl), 2,4-dimethylbenzoyl, 2,4-di-tert-butylbenzoyl, 2,4-difluorobenzoyl, 2, 4-dichlorobenzoyl, 2,4-dibromobenzoyl, , 5-dinitrobenzoyl, 2,5-dimethoxybenzoyl, 2,5-dimethylbenzoyl, 2,5-di-tert-butylbenzoyl, 2,5-difluorobenzoyl, 2,5-dichlorobenzoyl, 2,5-dibromo And ester protecting groups such as benzoyl, 3,4,5-trifluorobenzoyl, 4-phenylbenzoyl, 2-phenylbenzoyl, 4-methoxycarbonylbenzoyl, 3-methoxycarbonylbenzoyl, 2-methoxycarbonylbenzoyl, etc. Of these, benzoyl, tert-butyldimethylsilyl and the like are preferable, and tert-butyldimethylsilyl is more preferable.

「置換基を有していてもよい環状2級アミン」の「環状2級アミン」とは、環構成原子としてNHを有する環状化合物であれば特に限定されないが、例えば、環構成原子として、NH以外にさらに窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択されるヘテロ原子を1または2個有していてもよい3〜8員の飽和の環状化合物(例、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン等)が挙げられ、中でも、ピロリジン、ピペリジンが好ましい。   The “cyclic secondary amine” of the “cyclic secondary amine optionally having substituent (s)” is not particularly limited as long as it is a cyclic compound having NH as a ring constituent atom. In addition to the above, a 3- to 8-membered saturated cyclic compound (eg, pyrrolidine, piperidine, morpholine, thiomorpholine, piperazine, which may further have 1 or 2 heteroatoms selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom) Among them, pyrrolidine and piperidine are preferable.

当該「環状2級アミン」は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、フェニル基、置換されたアルキル基(当該アルキル基は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、また、その置換基としては、ジアルキルアミノ基(ジメチルアミノ基等)、アセチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基、ハロゲン原子等が挙げられる)、ヒドロキシル基、保護されたヒドロキシル基、カルボキシル基、アルキルスルホニルアミノ基、パーフルオロアルキルスルホニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノチオカルボニルアミノ基、テトラゾイル基等が挙げられる。当該置換基の数は特に制限はないが、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は、当該置換基は同一でも異なっていてもよい。   The “cyclic secondary amine” may have a substituent. Examples of the substituent include a phenyl group and a substituted alkyl group (the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples of the substituent include a dialkylamino group (such as a dimethylamino group). ), Acetylamino group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, morpholinyl group, halogen atom, etc.), hydroxyl group, protected hydroxyl group, carboxyl group, alkylsulfonylamino group, perfluoroalkylsulfonylamino group, alkylaminocarbonyl An amino group, an alkylaminothiocarbonylamino group, a tetrazoyl group, etc. are mentioned. The number of the substituents is not particularly limited, but is preferably 1 to 3, and in the case of 2 or more, the substituents may be the same or different.

「置換基を有していてもよい環状2級アミン」は、好ましくは、フェニル基、置換されたアルキル基、ヒドロキシル基、保護されたヒドロキシル基、カルボキシル基、アルキルスルホニルアミノ基、パーフルオロアルキルスルホニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノチオカルボニルアミノ基およびテトラゾイル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい、ピロリジンまたはピペリジンであり、より好ましくは、カルボキシル基、アルキルスルホニルアミノ基、パーフルオロアルキルスルホニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノチオカルボニルアミノ基、テトラゾイル基等の酸性プロトンを有する置換基を有し、さらに上記置換基を有していてもよい、ピロリジンまたはピペリジンであり、さらに好ましくは、NHに隣接する炭素原子にカルボキシル基、アルキルスルホニルアミノ基、パーフルオロアルキルスルホニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノチオカルボニルアミノ基、テトラゾイル基等の酸性プロトンを有する置換基を有し、さらに上記置換基を有していてもよい、ピロリジンまたはピペリジンであり、さらに好ましくは、NHに隣接する炭素原子にカルボキシル基、アルキルスルホニルアミノ基、パーフルオロアルキルスルホニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノチオカルボニルアミノ基、テトラゾイル基等の酸性プロトンを有する置換基を有し、さらに上記置換基を有していてもよいピロリジンであり、さらにより好ましくは、化合物(III)、即ち、NHに隣接する炭素原子にカルボキシル基を有し、かつヒドロキシル基および/または保護されたヒドロキシル基を有していてもよいピロリジンであり、特に好ましくは、XおよびXが共に水素原子である化合物(III)(即ち、プロリン)であるか、またはXがtert−ブチルジメチルシリルオキシであり、かつXが水素原子である化合物(III)であり、最も好ましくは、プロリンである。 The “cyclic secondary amine optionally having a substituent” is preferably a phenyl group, a substituted alkyl group, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a carboxyl group, an alkylsulfonylamino group, a perfluoroalkylsulfonyl group. Pyrrolidine or piperidine optionally substituted with a substituent selected from an amino group, an alkylaminocarbonylamino group, an alkylaminothiocarbonylamino group and a tetrazoyl group, more preferably a carboxyl group, an alkylsulfonylamino group, a par It has a substituent having an acidic proton such as a fluoroalkylsulfonylamino group, an alkylaminocarbonylamino group, an alkylaminothiocarbonylamino group, or a tetrazoyl group, and may further have the above-mentioned substituent, pyrrolidine or piperi More preferably, an acidic proton such as a carboxyl group, an alkylsulfonylamino group, a perfluoroalkylsulfonylamino group, an alkylaminocarbonylamino group, an alkylaminothiocarbonylamino group, or a tetrazoyl group is attached to a carbon atom adjacent to NH. It is pyrrolidine or piperidine, which may further have the above substituent, and more preferably a carboxyl group, an alkylsulfonylamino group, a perfluoroalkylsulfonylamino group on a carbon atom adjacent to NH. A pyrrolidine having a substituent having an acidic proton such as an alkylaminocarbonylamino group, an alkylaminothiocarbonylamino group, or a tetrazoyl group, and further having the above-mentioned substituent, and still more preferably a compound ( I I), that is, having a carboxyl group on the carbon atom adjacent to NH, and a good pyrrolidine which may have a hydroxyl group and / or a protected hydroxyl group, particularly preferably, the X 1 and X 2 Compound (III), which is both a hydrogen atom (ie, proline), or Compound (III) wherein X 1 is tert-butyldimethylsilyloxy and X 2 is a hydrogen atom, most preferably Proline.

化合物(I)、(II)または(IV)は、塩の形態としてもよい。塩としては、例えば、無機酸付加塩(例えば、塩酸付加塩、臭化水素酸付加塩、硝酸付加塩、硫酸付加塩、リン酸付加塩等)、有機酸付加塩(例えば、ギ酸付加塩、酢酸付加塩、シュウ酸付加塩、マロン酸付加塩、クエン酸付加塩、フマル酸付加塩、乳酸付加塩、リンゴ酸付加塩、コハク酸付加塩、酒石酸付加塩、トリフルオロ酢酸付加塩等)等の酸付加塩が挙げられる。   Compound (I), (II) or (IV) may be in the form of a salt. Examples of the salt include inorganic acid addition salts (for example, hydrochloric acid addition salt, hydrobromic acid addition salt, nitric acid addition salt, sulfuric acid addition salt, phosphoric acid addition salt, etc.), organic acid addition salts (for example, formic acid addition salt, Acetic acid addition salt, oxalic acid addition salt, malonic acid addition salt, citric acid addition salt, fumaric acid addition salt, lactic acid addition salt, malic acid addition salt, succinic acid addition salt, tartaric acid addition salt, trifluoroacetic acid addition salt, etc.) And acid addition salts thereof.

本発明では、化合物(I)またはその塩を、触媒である置換基を有していてもよい環状2級アミン(以下、単に環状2級アミンともいう)の存在下で環化して、化合物(II)またはその塩を製造する。当該環化反応は、好ましくは、溶媒中で行われる。   In the present invention, compound (I) or a salt thereof is cyclized in the presence of a cyclic secondary amine which may have a substituent which is a catalyst (hereinafter also simply referred to as a cyclic secondary amine), to give compound ( II) or a salt thereof is produced. The cyclization reaction is preferably performed in a solvent.

化合物(I)、環状2級アミンおよび溶媒の添加順序は、特に制限がないが、例えば、(1)まず、化合物(I)またはその塩を溶媒に分散または溶解させ、次いで環状2級アミンを添加する方法、(2)まず、環状2級アミンを溶媒に分散または溶解させ、次いで化合物(I)またはその塩を添加する方法、(3)化合物(I)またはその塩に環状2級アミンおよび溶媒を添加する方法、等が挙げられる。   The order of addition of compound (I), cyclic secondary amine and solvent is not particularly limited. For example, (1) First, compound (I) or a salt thereof is dispersed or dissolved in a solvent, and then cyclic secondary amine is added. (2) First, a method in which a cyclic secondary amine is dispersed or dissolved in a solvent, and then compound (I) or a salt thereof is added. (3) A cyclic secondary amine and a compound (I) or a salt thereof are added. Examples thereof include a method of adding a solvent.

環状2級アミンの使用量は、化合物(I)またはその塩1モルに対して、通常0.005モル〜1モル、好ましくは0.05モル〜0.5モルである。使用量がこの範囲より少ないと、反応速度が十分得られず、この範囲より多いと使用量に見合った効果が得られない傾向がある。   The amount of the cyclic secondary amine to be used is generally 0.005 mol to 1 mol, preferably 0.05 mol to 0.5 mol, per 1 mol of compound (I) or a salt thereof. When the amount used is less than this range, the reaction rate is not sufficiently obtained, and when it is more than this range, the effect corresponding to the amount used tends to be not obtained.

溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族溶媒、エーテル溶媒、アルコール溶媒、エステル溶媒、水、塩素化炭化水素溶媒、非プロトン性極性溶媒、またはこれらの混合溶媒等が好適に使用できるが、非プロトン性極性溶媒が特に好ましい。脂肪族炭化水素溶媒としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、n−ヘプタン、イソヘプタン、n−オクタン、イソオクタン、n−ノナン、イソノナン、n−デカン、イソデカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、tert−ブチルシクロヘキサン、石油エーテル等が挙げられ;芳香族溶媒としては、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、tert−ブチルベンゼン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、モノフルオロベンゼン、α,α,α−トリフルオロメチルベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン等が挙げられ;エーテル溶媒としては、テトラヒドロフラン(THF)、メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジn−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn−ブチルエーテル、ジn−ペンチルエーテル、ジn−ヘキシルエーテル、ジn−ヘプチルエーテル、ジn−オクチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)、シクロペンチルメチルエーテル、1,2−ジメトキシメタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、ジフェニルエーテル等が挙げられ;アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、イソペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、イソヘキシルアルコール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、イソペプチルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノtert−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノtert−ブチルエーテル等が挙げられ;エステル溶媒としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸tert−ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル等が挙げられ;塩素化炭化水素溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等が挙げられ;非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルスルホキシド、スルホラン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジメチルプロピレンウレア(DMPU)、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、中でも、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ジメチルスルホキシド等が好ましく、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゾニトリルが特に好ましい。   The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, aliphatic hydrocarbon solvent, aromatic solvent, ether solvent, alcohol solvent, ester solvent, water, chlorinated hydrocarbon solvent, aprotic polarity A solvent, a mixed solvent thereof or the like can be preferably used, but an aprotic polar solvent is particularly preferable. Examples of the aliphatic hydrocarbon solvent include n-pentane, n-hexane, isohexane, n-heptane, isoheptane, n-octane, isooctane, n-nonane, isononane, n-decane, isodecane, n-undecane, n-dodecane, Cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, tert-butylcyclohexane, petroleum ether, etc .; aromatic solvents include benzene, toluene, ethylbenzene, isopropylbenzene, tert-butylbenzene, xylene, mesitylene, monochlorobenzene, monofluorobenzene , Α, α, α-trifluoromethylbenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, etc .; ether solvents age Is tetrahydrofuran (THF), methyltetrahydrofuran, diethyl ether, di-n-propyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, di-n-pentyl ether, di-n-hexyl ether, di-n-heptyl ether, di-n-octyl ether , Methyl tert-butyl ether (MTBE), cyclopentyl methyl ether, 1,2-dimethoxymethane, diethylene glycol dimethyl ether, anisole, diphenyl ether and the like; alcohol solvents include methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butyl Alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, 1-pentanol, 2-pentanol, isopentyl alcohol, 1-hexanol 2-hexanol, isohexyl alcohol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, isopeptyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, Ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol mono isobutyl ether, ethylene glycol mono tert-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol monoisobutyl Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, tert-butyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate, and the like. Chlorinated carbonization Examples of the hydrogen solvent include dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane; examples of the aprotic polar solvent include dimethyl sulfoxide, sulfolane, N, N-dimethylformamide (DMF), 1,3-dimethyl-2- Imidazolidinone (DMI), N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylpropionamide, N, N-dimethylpropyleneurea (DMPU), N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethylene carbonate Bonate, propylene carbonate, acetonitrile, propionitrile, benzonitrile and the like can be mentioned. Among them, N, N-dimethylformamide, acetonitrile, benzonitrile, dimethyl sulfoxide and the like are preferable, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, Benzonitrile is particularly preferred.

溶媒の使用量は、化合物(I)またはその塩1kgに対して、通常1L〜100L、好ましくは3L〜30Lである。溶媒量がこの範囲よりも少ないと攪拌性が悪くなる傾向があり、この範囲よりも多いと反応時間が長くなる傾向がある。   The amount of the solvent to be used is generally 1 L-100 L, preferably 3 L-30 L, per 1 kg of compound (I) or a salt thereof. When the amount of the solvent is less than this range, the stirrability tends to deteriorate, and when it exceeds this range, the reaction time tends to be longer.

反応温度は、通常−30℃〜80℃、好ましくは−10℃〜40℃、より好ましくは−5℃〜30℃である。反応時間は、反応温度、試薬の使用量等にもよるが、通常1〜48時間である。   The reaction temperature is generally −30 ° C. to 80 ° C., preferably −10 ° C. to 40 ° C., more preferably −5 ° C. to 30 ° C. The reaction time is usually 1 to 48 hours although it depends on the reaction temperature, the amount of reagent used, and the like.

反応圧力は、通常常圧であるが、反応速度を速めるために、例えば、0.1〜5Mpa程度の圧力をかけてもよい。   The reaction pressure is usually normal pressure, but in order to increase the reaction rate, for example, a pressure of about 0.1 to 5 Mpa may be applied.

化合物(II)の単離は、反応液を常法による後処理(例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等)に付すことにより行うことができる。またその精製は、化合物(II)を再結晶、抽出精製、蒸留、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー法により精製することができる。また、化合物(II)を、例えば、適当な酸(例えば、塩酸)を用いて所望の酸付加塩としてもよい。   Isolation of compound (II) can be performed by subjecting the reaction solution to a post-treatment by a conventional method (for example, neutralization, extraction, washing with water, distillation, crystallization, etc.). In addition, the compound (II) can be purified by recrystallization, extraction purification, distillation, adsorption treatment of activated carbon, silica, alumina and the like, and chromatography methods such as silica gel column chromatography. Compound (II) may be converted to a desired acid addition salt using, for example, an appropriate acid (for example, hydrochloric acid).

なお、化合物(II)またはその塩の光学活性体を得るためには、環状2級アミンが光学活性体であるのがよい。当該光学活性体は、好ましくは、化合物(III)の光学活性体、特に化合物(IIIa)であり、中でも、L−プロリン、4−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−L−プロリンが好ましく、L−プロリンが特に好ましい。   In order to obtain an optically active compound (II) or a salt thereof, the cyclic secondary amine is preferably an optically active material. The optically active substance is preferably an optically active substance of compound (III), particularly compound (IIIa), among which L-proline and 4- (tert-butyldimethylsilyloxy) -L-proline are preferable, and L -Proline is particularly preferred.

ここで、化合物(III)の光学活性体として、化合物(IIIa)を使用すれば、化合物(IIa)またはその塩が得られ、逆に、式(IIIb):   Here, when compound (IIIa) is used as the optically active compound of compound (III), compound (IIa) or a salt thereof is obtained, and conversely, compound (IIIb):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは上記と同義を示す)
で表される化合物(以下、化合物(IIIb)ともいう)を使用すれば、一般式(IIb):
(Wherein, X 1 and X 2 have the same meaning as above)
And a compound represented by general formula (IIb):

Figure 2008169160
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物(以下、化合物(IIb)ともいう)またはその塩が得られる。
(Wherein Ar has the same meaning as above)
(Hereinafter also referred to as compound (IIb)) or a salt thereof.

原料として使用した化合物(I)またはその塩は、好ましくは、化合物(IV)またはその塩であり、より好ましくは、Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である化合物(IV)またはその塩、あるいはA、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である化合物(IV)またはその塩であり、特に好ましくは、Aがメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である化合物(IV)またはその塩である。 Compound (I) or a salt thereof used as a raw material is preferably compound (IV) or a salt thereof, more preferably, A 1 is methyl, and A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms. Compound (IV) wherein A 3 is a fluorine atom or a salt thereof, or Compound (IV) wherein A 1 , A 2 , A 4 and A 5 are a hydrogen atom and A 3 is a fluorine atom, or a salt thereof Particularly preferred is compound (IV) or a salt thereof, wherein A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom.

また、化合物(I)(化合物(IV)を含む)またはその塩は新規な化合物であり、例えば、Ar−CHO(式中、Arは上記と同義を示す。)をTetrahedron Letters 45, 8505 (2004)に記載の方法により製造した4−アミノブタン−2−オンまたはその塩(例えば、塩酸塩)と反応させることにより製造することができる。当該反応は、好ましくは、溶媒中で行われる。   Further, Compound (I) (including Compound (IV)) or a salt thereof is a novel compound. For example, Ar-CHO (wherein Ar has the same meaning as described above) is converted into Tetrahedron Letters 45, 8505 (2004). ) Can be produced by reacting with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof (for example, hydrochloride) produced by the method described in the above. The reaction is preferably performed in a solvent.

Ar−CHO、4−アミノブタン−2−オンまたはその塩および溶媒の添加順序は、特に制限がないが、例えば、(1)まず、Ar−CHOを溶媒に分散または溶解させ、次いで4−アミノブタン−2−オンまたはその塩を添加する方法、(2)まず、4−アミノブタン−2−オンまたはその塩を溶媒に分散または溶解させ、次いでAr−CHOを添加する方法、(3)Ar−CHOに4−アミノブタン−2−オンまたはその塩および溶媒を添加する方法、等が挙げられる。   The order of addition of Ar—CHO, 4-aminobutan-2-one or a salt thereof and a solvent is not particularly limited. For example, (1) Ar-CHO is first dispersed or dissolved in a solvent, and then 4-aminobutane- A method of adding 2-one or a salt thereof, (2) a method of first dispersing or dissolving 4-aminobutan-2-one or a salt thereof in a solvent, and then adding Ar-CHO, and (3) adding Ar-CHO to Examples include a method of adding 4-aminobutan-2-one or a salt thereof and a solvent.

4−アミノブタン−2−オンまたはその塩の使用量は、Ar−CHO1モルに対して、通常1モル〜4モル、好ましくは1.2モル〜2.4モルである。使用量がこの範囲より少ないと、反応速度が十分得られず、この範囲より多いと使用量に見合った効果が得られない傾向がある。   The usage-amount of 4-aminobutan-2-one or its salt is 1 mol-4 mol normally with respect to 1 mol of Ar-CHO, Preferably it is 1.2 mol-2.4 mol. When the amount used is less than this range, the reaction rate is not sufficiently obtained, and when it is more than this range, the effect corresponding to the amount used tends to be not obtained.

溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えば、エーテル溶媒、水溶媒、またはこれらの混合溶媒等が好適に使用できるが、エーテル溶媒が特に好ましい。エーテル溶媒としては、テトラヒドロフラン(THF)、メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジn−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジn−ブチルエーテル、ジn−ペンチルエーテル、ジn−ヘキシルエーテル、ジn−ヘプチルエーテル、ジn−オクチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)、シクロペンチルメチルエーテル、1,2−ジメトキシメタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、ジフェニルエーテル等が挙げられ;水溶媒としては、水、食塩水、硫酸ナトリウム水溶液、硫酸マグネシウム水溶液、塩化マグネシウム水溶液、塩化アンモニウム水溶液、硫酸アンモニウム水溶液等が挙げられる。中でも、食塩水、MTBEと食塩水の混合溶媒が特に好ましい。   The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, an ether solvent, an aqueous solvent, or a mixed solvent thereof can be suitably used, and an ether solvent is particularly preferable. As ether solvents, tetrahydrofuran (THF), methyltetrahydrofuran, diethyl ether, di-n-propyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, di-n-pentyl ether, di-n-hexyl ether, di-n-heptyl ether, di-n -Octyl ether, methyl tert-butyl ether (MTBE), cyclopentyl methyl ether, 1,2-dimethoxymethane, diethylene glycol dimethyl ether, anisole, diphenyl ether and the like; water solvents include water, saline, aqueous sodium sulfate, magnesium sulfate An aqueous solution, an aqueous magnesium chloride solution, an aqueous ammonium chloride solution, an aqueous ammonium sulfate solution and the like can be mentioned. Of these, saline, a mixed solvent of MTBE and saline are particularly preferable.

溶媒の使用量は、Ar−CHO1kgに対して、通常1L〜200L、好ましくは10L〜100Lである。溶媒量がこの範囲よりも少ないと攪拌性が悪くなる傾向があり、この範囲よりも多いと反応時間が長くなる傾向がある。   The usage-amount of a solvent is 1L-200L normally with respect to 1 kg of Ar-CHO, Preferably it is 10L-100L. When the amount of the solvent is less than this range, the stirrability tends to deteriorate, and when it exceeds this range, the reaction time tends to be longer.

反応温度は、通常−20℃〜80℃、好ましくは−10℃〜40℃、より好ましくは5℃〜35℃である。反応時間は、反応温度、試薬の使用量等にもよるが、通常0.5〜12時間である。   The reaction temperature is generally −20 ° C. to 80 ° C., preferably −10 ° C. to 40 ° C., more preferably 5 ° C. to 35 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 12 hours, although it depends on the reaction temperature and the amount of reagent used.

化合物(I)の単離は、反応液を常法による後処理(例えば、中和、抽出、水洗、蒸留、結晶化等)に付すことにより行うことができる。またその精製は、化合物(I)を再結晶、抽出精製、蒸留、活性炭、シリカ、アルミナ等の吸着処理、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー法により精製することができるが、特に精製を加えずそのまま、例えば、抽出溶液をそのまま、あるいは溶媒留去後の残渣をそのまま、次工程に付すことができる。また、化合物(I)を、例えば、適当な酸(例えば、塩酸)を用いて所望の酸付加塩としてもよい。   Isolation of compound (I) can be performed by subjecting the reaction solution to a post-treatment by a conventional method (for example, neutralization, extraction, washing with water, distillation, crystallization, etc.). In addition, the compound (I) can be purified by recrystallization, extraction purification, distillation, adsorption treatment of activated carbon, silica, alumina, etc., or chromatography methods such as silica gel column chromatography, but no particular purification is applied. As it is, for example, the extracted solution can be used as it is, or the residue after the solvent is distilled off can be used in the next step. Compound (I) may be converted to a desired acid addition salt using, for example, an appropriate acid (for example, hydrochloric acid).

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

実施例1 4−(4−フルオロベンジリデンアミノ)ブタン−2−オンの合成
Tetrahedron Letters 45, 8505 (2004)の方法に従って合成した4−アミノブタン−2−オン塩酸塩(1.24g,10mmol)に、飽和食塩水(10ml)、MTBE(45ml)及び4−フルオロベンズアルデヒド(0.62g,5.0mmol)を順次室温で加え、この溶液に1.0M水酸化ナトリウム水溶液を加えてpHを10−12程度にし、室温で8時間攪拌した。反応液の有機層を分離後、水層をMTBE(50ml)で2回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水(50ml)洗浄後、無水炭酸カリウムで乾燥し、室温付近で減圧濃縮することにより、表題化合物(0.74g,77%)を得た。
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δppm: 8.29 (s, 1H), 7.69 (dd, J=5Hz, 8Hz, 2H), 7.08 (t, J=8Hz, 2H), 3.84 (t, J=7Hz, 2H), 2.83 (t, J=7Hz, 2H), 2.2 (s, 3H).
Example 1 Synthesis of 4- (4-fluorobenzylideneamino) butan-2-one
To 4-aminobutan-2-one hydrochloride (1.24 g, 10 mmol) synthesized according to the method of Tetrahedron Letters 45, 8505 (2004), saturated saline (10 ml), MTBE (45 ml) and 4-fluorobenzaldehyde (0. 62 g, 5.0 mmol) was sequentially added at room temperature, and a 1.0 M aqueous sodium hydroxide solution was added to the solution to adjust the pH to about 10-12, followed by stirring at room temperature for 8 hours. After separating the organic layer of the reaction solution, the aqueous layer is extracted twice with MTBE (50 ml), the organic layers are combined, washed with saturated brine (50 ml), dried over anhydrous potassium carbonate, and concentrated under reduced pressure at around room temperature. Gave the title compound (0.74 g, 77%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400MHz) δppm: 8.29 (s, 1H), 7.69 (dd, J = 5Hz, 8Hz, 2H), 7.08 (t, J = 8Hz, 2H), 3.84 (t, J = 7Hz , 2H), 2.83 (t, J = 7Hz, 2H), 2.2 (s, 3H).

実施例2 4−(4−フルオロ−2−メチルベンジリデンアミノ)ブタン−2−オンの合成
Tetrahedron Letters 45, 8505 (2004)の方法に従って合成した4−アミノブタン−2−オン塩酸塩(18.5g,150mmol)に、飽和食塩水(300ml)及び4−フルオロ−2−メチルベンズアルデヒド(10.4g,75mmol)を順次室温で加え、この溶液に1.0M水酸化ナトリウム水溶液を加えてpHを12程度にし、室温で1時間攪拌した。反応液にMTBE(200ml)を加えて攪拌し、有機層を分離後、水層をMTBE(200ml)で2回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水(200ml)で洗浄後、無水炭酸カリウムで乾燥し、室温付近で減圧濃縮することにより、表題化合物(14.1g,91%)を得た。
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δppm: 8.57 (s, 1H), 7.80 (t, J=6Hz, 1H), 6.85-6.92 (m, 2H), 3.85 (t, J=7Hz, 2H), 2.84 (t, J=7Hz, 2H), 2.48 (s, 3H), 2.19 (s, 3H).
Example 2 Synthesis of 4- (4-fluoro-2-methylbenzylideneamino) butan-2-one
4-aminobutan-2-one hydrochloride (18.5 g, 150 mmol) synthesized according to the method of Tetrahedron Letters 45, 8505 (2004) was added to saturated saline (300 ml) and 4-fluoro-2-methylbenzaldehyde (10.4 g). , 75 mmol) were added sequentially at room temperature, and a 1.0 M aqueous sodium hydroxide solution was added to the solution to adjust the pH to about 12, followed by stirring at room temperature for 1 hour. MTBE (200 ml) was added to the reaction solution and stirred, and the organic layer was separated, the aqueous layer was extracted twice with MTBE (200 ml), the organic layers were combined, washed with saturated brine (200 ml), and then anhydrous potassium carbonate. And dried under reduced pressure near room temperature to give the title compound (14.1 g, 91%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400MHz) δppm: 8.57 (s, 1H), 7.80 (t, J = 6Hz, 1H), 6.85-6.92 (m, 2H), 3.85 (t, J = 7Hz, 2H), 2.84 (t, J = 7Hz, 2H), 2.48 (s, 3H), 2.19 (s, 3H).

実施例3 (R)−2−(4−フルオロフェニル)ピペリジン−4−オンの合成
4−(4−フルオロベンジリデンアミノ)ブタン−2−オン(96.6mg,0.5mmol)に、アセトニトリル(3.8g)及びL−プロリン(11.5mg,0.1mmol)を加え、25℃で28時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(5ml)を加え、酢酸エチル(30ml)で3回抽出した。有機層を合わせ、10%塩酸(30ml)で3回抽出した。抽出した水層を酢酸エチル(25ml)で2回洗浄し、1.0M水酸化ナトリウム水溶液でpH7−8に中和後、酢酸エチル(30ml)で3回抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより、表題化合物(50mg,52%)を得た。得られた化合物の光学純度は64%eeであった。
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δppm: 7.35 (dd, J=6Hz, 8Hz, 2H), 7.04 (t, 8Hz, 2H), 3.91 (dd, J=4Hz, 10Hz, 1H), 3.47 (ddd, J=2Hz, 7Hz, 12Hz, 1H), 3.02 (dt, J=3Hz, 12Hz, 1H), 2.40-2.62 (m, 4H).
Example 3 Synthesis of (R) -2- (4-fluorophenyl) piperidin-4-one 4- (4-Fluorobenzylideneamino) butan-2-one (96.6 mg, 0.5 mmol) was added to acetonitrile (3 8 g) and L-proline (11.5 mg, 0.1 mmol) were added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 28 hours. Saturated aqueous ammonium chloride solution (5 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted 3 times with ethyl acetate (30 ml). The organic layers were combined and extracted three times with 10% hydrochloric acid (30 ml). The extracted aqueous layer was washed twice with ethyl acetate (25 ml), neutralized with 1.0 M aqueous sodium hydroxide solution to pH 7-8, and extracted three times with ethyl acetate (30 ml). The extracted organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound (50 mg, 52%). The optical purity of the obtained compound was 64% ee.
1 H-NMR (CDCl 3 , 400MHz) δppm: 7.35 (dd, J = 6Hz, 8Hz, 2H), 7.04 (t, 8Hz, 2H), 3.91 (dd, J = 4Hz, 10Hz, 1H), 3.47 (ddd , J = 2Hz, 7Hz, 12Hz, 1H), 3.02 (dt, J = 3Hz, 12Hz, 1H), 2.40-2.62 (m, 4H).

実施例4 (R)−2−(4−フルオロ−2−メチルフェニル)ピペリジン−4−オンの合成
4−(4−フルオロ−2−メチルベンジリデンアミノ)ブタン−2−オン(103.7mg,0.5mmol)に、アセトニトリル(5.0g)及びL−プロリン(11.5mg,0.1mmol)を加え、25℃で44時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(5ml)を加え、酢酸エチル(30ml)で3回抽出した。有機層を合わせ、10%塩酸(30ml)で3回抽出した。抽出した水層を酢酸エチル(25ml)で2回洗浄し、1.0M水酸化ナトリウム水溶液でpH7−8に中和後、酢酸エチル(30ml)で3回抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより、表題化合物(80mg,77%)を得た。得られた化合物の光学純度は55%eeであった。
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δppm: 7.52 (dd, J=6Hz, 9Hz, 1H), 6.91 (dt, J=2Hz, 9Hz, 1H), 6.85 (dd, J=2Hz, 9Hz, 1H), 4.10 (dd, J=4Hz, 10Hz, 1H), 3.49 (ddd, J=2Hz, 7Hz, 12Hz, 1H), 3.03 (dt, J=3Hz, 12Hz, 1H), 2.41-2.63 (m, 4H), 2.33 (s, 3H).
Example 4 Synthesis of (R) -2- (4-fluoro-2-methylphenyl) piperidin-4-one 4- (4-Fluoro-2-methylbenzylideneamino) butan-2-one (103.7 mg, 0 0.5 mmol) was added acetonitrile (5.0 g) and L-proline (11.5 mg, 0.1 mmol), and the mixture was stirred at 25 ° C. for 44 hours. Saturated aqueous ammonium chloride solution (5 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted 3 times with ethyl acetate (30 ml). The organic layers were combined and extracted three times with 10% hydrochloric acid (30 ml). The extracted aqueous layer was washed twice with ethyl acetate (25 ml), neutralized with 1.0 M aqueous sodium hydroxide solution to pH 7-8, and extracted three times with ethyl acetate (30 ml). The extracted organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give the title compound (80 mg, 77%). The optical purity of the obtained compound was 55% ee.
1 H-NMR (CDCl 3 , 400MHz) δppm: 7.52 (dd, J = 6Hz, 9Hz, 1H), 6.91 (dt, J = 2Hz, 9Hz, 1H), 6.85 (dd, J = 2Hz, 9Hz, 1H) , 4.10 (dd, J = 4Hz, 10Hz, 1H), 3.49 (ddd, J = 2Hz, 7Hz, 12Hz, 1H), 3.03 (dt, J = 3Hz, 12Hz, 1H), 2.41-2.63 (m, 4H) , 2.33 (s, 3H).

実施例5 (R)−2−(4−フルオロフェニル)ピペリジン−4−オンの合成
反応溶媒としてアセトニトリルの代わりにDMFを用い、反応時間を20時間とした以外は、実施例3と同様に行い表題化合物を得た。収率は41%で光学純度は47%eeであった。
Example 5 Synthesis of (R) -2- (4-fluorophenyl) piperidin-4-one The reaction was performed in the same manner as in Example 3 except that DMF was used instead of acetonitrile as the reaction solvent and the reaction time was 20 hours. The title compound was obtained. The yield was 41% and the optical purity was 47% ee.

実施例6 (R)−2−(4−フルオロフェニル)ピペリジン−4−オンの合成
触媒としてL−プロリンの代わりに4−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−L−プロリンを用い、反応を0℃で24時間行った以外は、実施例3と同様に行い表題化合物を得た。収率は52%で光学純度は61%eeであった。
Example 6 Synthesis of (R) -2- (4-fluorophenyl) piperidin-4-one 4- (tert-butyldimethylsilyloxy) -L-proline was used in place of L-proline as a catalyst, and the reaction was reduced to 0. The title compound was obtained in the same manner as in Example 3 except for 24 hours at ° C. The yield was 52% and the optical purity was 61% ee.

実施例7 (R)−2−(4−フルオロ−2−メチルフェニル)ピペリジン−4−オンの合成
反応溶媒としてアセトニトリルの代わりにベンゾニトリルを用い、反応時間を4日とした以外は、実施例4と同様に行い表題化合物を得た。収率は68%で光学純度は56%eeであった。
Example 7 Synthesis of (R) -2- (4-fluoro-2-methylphenyl) piperidin-4-one Example except that benzonitrile was used instead of acetonitrile as a reaction solvent and the reaction time was 4 days. The title compound was obtained in the same manner as in 4. The yield was 68% and the optical purity was 56% ee.

実施例8 (R)−2−(4−フルオロ−2−メチルフェニル)ピペリジン−4−オンの合成
触媒としてL−プロリンの代わりに4−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−L−プロリンを用い、反応を0℃で38時間行った以外は、実施例3と同様に行い表題化合物を得た。収率は96%で光学純度は50%eeであった。
Using Example 8 (R) -2- (4-fluoro-2-methylphenyl) in place of L- proline as a synthesis catalyst for piperidin-4-one 4-(tert-butyldimethylsilyloxy) -L- proline The title compound was obtained in the same manner as in Example 3 except that the reaction was performed at 0 ° C. for 38 hours. The yield was 96% and the optical purity was 50% ee.

LC条件
ダイセルキラルセル OD-H 4.6mm x25cm
イソプロパノール/ヘキサン=1/9(Vol)
0.6ml/min,
UV220nm
LC condition Daicel Chiral Cell OD-H 4.6mm x25cm
Isopropanol / hexane = 1/9 (Vol)
0.6ml / min,
UV220nm

本発明によれば、化合物(II)を、高価な試薬を用いることなく、効率的にかつ工業規模で安価に製造することができる。また、環状2級アミンとして光学活性体を使用すると、光学分割等の手法を用いることなく化合物(II)の光学活性体を製造することができる。   According to the present invention, compound (II) can be produced efficiently and inexpensively on an industrial scale without using expensive reagents. Moreover, when an optically active substance is used as the cyclic secondary amine, an optically active substance of compound (II) can be produced without using a technique such as optical resolution.

Claims (15)

一般式(I):
Figure 2008169160

(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)
で表される化合物またはその塩を、置換基を有していてもよい環状2級アミンの存在下で環化することを特徴とする、一般式(II):
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩の製造方法。
Formula (I):
Figure 2008169160

(In the formula, Ar represents an aromatic group which may have a substituent)
Or a salt thereof is cyclized in the presence of an optionally substituted cyclic secondary amine, represented by the general formula (II):
Figure 2008169160

(Wherein Ar has the same meaning as above)
Or a salt thereof.
一般式(I)で示される化合物が、一般式(IV):
Figure 2008169160

(式中、A、A、A、AおよびAは、独立してそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す)
で表される化合物である、請求項1記載の製造方法。
The compound represented by the general formula (I) is represented by the general formula (IV):
Figure 2008169160

(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
The manufacturing method of Claim 1 which is a compound represented by these.
がメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である、請求項2記載の製造方法。 The production method according to claim 2 , wherein A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom. 置換基を有していてもよい環状2級アミンが光学活性である、請求項1記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the cyclic secondary amine which may have a substituent is optically active. 置換基を有していてもよい環状2級アミンが、酸性プロトンを有する置換基を有し、さらに置換基を有していてもよい環状2級アミンである、請求項1記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the cyclic secondary amine which may have a substituent is a cyclic secondary amine which has a substituent having an acidic proton and may further have a substituent. 置換基を有していてもよい環状2級アミンが、式(III):
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは、独立してそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基または保護されたヒドロキシル基を示す)
で表される化合物である、請求項1記載の製造方法。
The cyclic secondary amine which may have a substituent is represented by the formula (III):
Figure 2008169160

(Wherein, X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group)
The manufacturing method of Claim 1 which is a compound represented by these.
置換基を有していてもよい環状2級アミンが、式(IIIa):
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは、独立してそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基または保護されたヒドロキシル基を示す)
で表される化合物である、請求項1記載の製造方法。
The cyclic secondary amine which may have a substituent is represented by the formula (IIIa):
Figure 2008169160

(Wherein, X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group)
The manufacturing method of Claim 1 which is a compound represented by these.
Ar−CHO(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)を4−アミノブタン−2−オンまたはその塩と反応させることを特徴とする、一般式(I):
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (I), wherein Ar—CHO (wherein Ar represents an aromatic group which may have a substituent) is reacted with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof:
Figure 2008169160

(Wherein Ar has the same meaning as above)
Or a salt thereof.
Ar−CHO(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)を4−アミノブタン−2−オンまたはその塩と反応させて、一般式(I):
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;および
一般式(I)で表される化合物またはその塩を、置換基を有していてもよい環状2級アミンの存在下で環化して、一般式(II):
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;
を包含することを特徴とする、一般式(II)で表される化合物またはその塩の製造方法。
Ar-CHO (wherein Ar represents an aromatic group which may have a substituent) is reacted with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof to form a compound represented by the general formula (I):
Figure 2008169160

(Wherein Ar has the same meaning as above)
A compound represented by general formula (I) or a salt thereof; and a compound represented by general formula (I) or a salt thereof cyclized in the presence of an optionally substituted cyclic secondary amine, Formula (II):
Figure 2008169160

(Wherein Ar has the same meaning as above)
A step of obtaining a compound represented by the formula:
A process for producing a compound represented by the general formula (II) or a salt thereof.
Ar−CHO(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)を4−アミノブタン−2−オンまたはその塩と反応させて、一般式(I):
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;および
一般式(I)で表される化合物またはその塩を、式(IIIa):
Figure 2008169160

(式中、XおよびXは、独立してそれぞれ、水素原子、ヒドロキシル基または保護されたヒドロキシル基を示す)
で表される化合物の存在下で環化して、一般式(IIa):
Figure 2008169160

(式中、Arは上記と同義を示す)
で表される化合物またはその塩を得る工程;
を包含することを特徴とする、一般式(IIa)で表される化合物またはその塩の製造方法。
Ar-CHO (wherein Ar represents an aromatic group which may have a substituent) is reacted with 4-aminobutan-2-one or a salt thereof to form a compound represented by the general formula (I):
Figure 2008169160

(Wherein Ar has the same meaning as above)
A compound represented by formula (I) or a salt thereof; and a compound represented by formula (I) or a salt thereof represented by formula (IIIa):
Figure 2008169160

(Wherein, X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a protected hydroxyl group)
Is cyclized in the presence of a compound represented by the general formula (IIa):
Figure 2008169160

(Wherein Ar has the same meaning as above)
A step of obtaining a compound represented by the formula:
A process for producing a compound represented by the general formula (IIa) or a salt thereof.
一般式(I)で示される化合物が、一般式(IV):
Figure 2008169160

(式中、A、A、A、AおよびAは、独立してそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す)
で表される化合物である、請求項8〜10のいずれかに記載の製造方法。
The compound represented by the general formula (I) is represented by the general formula (IV):
Figure 2008169160

(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
The manufacturing method in any one of Claims 8-10 which is a compound represented by these.
がメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である、請求項11記載の製造方法。 A 1 is methyl, A 2, A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom, a manufacturing method of claim 11, wherein. 一般式(I):
Figure 2008169160

(式中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を示す)
で表される化合物またはその塩。
Formula (I):
Figure 2008169160

(In the formula, Ar represents an aromatic group which may have a substituent)
Or a salt thereof.
一般式(IV):
Figure 2008169160

(式中、A、A、A、AおよびAは、独立してそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す)
で表される化合物またはその塩。
Formula (IV):
Figure 2008169160

(Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
Or a salt thereof.
がメチルであり、A、AおよびAが水素原子であり、かつAがフッ素原子である、請求項14記載の化合物。 The compound according to claim 14, wherein A 1 is methyl, A 2 , A 4 and A 5 are hydrogen atoms, and A 3 is a fluorine atom.
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