JP2008164835A - Liquid crystal display panel, liquid crystal display element, liquid crystal display device, television receiver and substrate for liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel, liquid crystal display element, liquid crystal display device, television receiver and substrate for liquid crystal display panel Download PDF

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Yoshiro Hirakata
義朗 平形
Takeshi Tokuda
剛 徳田
Shunei Tsubata
俊英 津幡
Hidehiko Yamaguchi
英彦 山口
Yuichi Inoue
雄一 井ノ上
Sunao Yamada
直 山田
Naoki Kotani
直樹 小谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display panel, a liquid crystal display element, a liquid crystal display device, a television receiver, and a substrate for a liquid crystal display panel, in which the use amount of a liquid crystal material can be reduced without degrading the display quality. <P>SOLUTION: The liquid crystal display panel includes a pair of substrate 1, 2 opposing to each other and a liquid crystal layer 8 disposed between the substrates, and the liquid crystal display panel has an insulating layer 26 in the liquid crystal layer side of at least one of the substrates, wherein the insulating layer is disposed in a light-shielding region in a plan view of the substrate and the liquid crystal layer is controlled to have a smaller thickness in a region where the insulating layer is disposed than in a pixel aperture portion. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板に関する。より詳しくは、液晶材料の使用量の低減が可能である液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal display panel, a liquid crystal display element, a liquid crystal display device, a television receiver, and a liquid crystal display panel substrate. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal display panel, a liquid crystal display element, a liquid crystal display device, a television receiver, and a substrate for a liquid crystal display panel that can reduce the amount of liquid crystal material used.

液晶表示装置は、小型、薄型、低消費電力及び軽量という特徴を有するため、現在、各種の電子機器に広く用いられている。特に、スイッチング素子を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置は、例えば、パソコン等のOA機器、テレビ等のAV機器、携帯電話等の携帯機器等に広く採用されている。このような液晶表示装置においては、近年、大型化や高精細化、画素有効面積比率の向上(高開口率化)等が急速に進んでいる。 Liquid crystal display devices are characterized by their small size, thinness, low power consumption, and light weight, and are therefore widely used in various electronic devices at present. In particular, an active matrix liquid crystal display device having a switching element is widely used in, for example, OA equipment such as a personal computer, AV equipment such as a television, portable equipment such as a mobile phone, and the like. In such a liquid crystal display device, in recent years, enlargement, high definition, improvement of the pixel effective area ratio (high aperture ratio), and the like are rapidly progressing.

また近年、液晶表示装置においては、色純度向上(色再現範囲向上)による品位向上が求められており、その結果、カラーフィルタ層が厚くなる傾向にある。一方、各カラーフィルタ間を遮光する遮光層は、通常、ネガ型の感光性樹脂(黒色)から形成され、また、その断面形状が順テーパであることが好ましい。したがって、遮光層を現状より厚くすることが困難であった。これは、遮光層の厚みをあまり大きくしすぎた場合、光学濃度の高い黒色の感光性樹脂は、樹脂表面近傍でした感光により硬化されず、現像により未硬化の樹脂がサイドエッチングされてしまうためである。また、未硬化の樹脂のサイドエッチングが進みすぎると、遮光層の剥離にもつながる可能性があった。 In recent years, liquid crystal display devices have been required to improve quality by improving color purity (improving color reproduction range), and as a result, the color filter layer tends to be thick. On the other hand, the light shielding layer that shields light between the color filters is usually formed of a negative photosensitive resin (black), and the cross-sectional shape thereof is preferably a forward taper. Therefore, it has been difficult to make the light shielding layer thicker than the present state. This is because if the thickness of the light shielding layer is too large, the black photosensitive resin having a high optical density is not cured by the light exposure near the resin surface, and the uncured resin is side-etched by development. It is. Further, if the side etching of the uncured resin proceeds too much, the light shielding layer may be peeled off.

このような理由から、遮光層とカラーフィルタとには膜厚の差が存在することになる。そしてこれは、カラーフィルタと遮光層との間に段差が生じるという問題(すなわち、カラーフィルタ層を有する基板の上面を平坦にできないという問題)を発生する。その結果、液晶表示パネルを構成した際、凹部となる遮光層領域に余分な液晶材料を使用してしまうことにつながる。更に、パネルサイズの大型化にともない、余分な液晶材料の使用量はより多くなっている。 For this reason, there is a difference in film thickness between the light shielding layer and the color filter. This causes a problem that a step is generated between the color filter and the light shielding layer (that is, a problem that the upper surface of the substrate having the color filter layer cannot be flattened). As a result, when a liquid crystal display panel is configured, an extra liquid crystal material is used for the light shielding layer region that becomes a recess. Furthermore, as the panel size increases, the amount of extra liquid crystal material used is increasing.

それに対して、段差が生じる問題を解決するための様々な試みがなされている(例えば、特許文献1及び2参照。)。例えば特許文献1は、透明基板上に形成された複数色の着色画素パターンを覆って、上記透明基板全面に黒色感光性樹脂層を設け、上記黒色感光性樹脂層側からフォトマスクを介して露光後、現像してブラックマトリックスを形成し、次いで上記透明基板を通して全面露光後、再度現像処理を行うカラーフィルタの製造方法を開示している。これによれば、黒色感光性樹脂によりブラックマトリックスを形成するカラーフィルタの製造方法において、表面凹凸の少ないカラーフィルタが得られると記載されている。しかしながら、この方法によれば、平坦化のための工程が別途必要となるため、製造工程の簡略化という点で改善の余地があった。また、黒色感光性樹脂を厚膜化すると、2回露光を行っても未硬化の領域が残ってしまう可能性がある。 On the other hand, various attempts have been made to solve the problem of the level difference (see, for example, Patent Documents 1 and 2). For example, Patent Document 1 covers a plurality of colored pixel patterns formed on a transparent substrate, a black photosensitive resin layer is provided on the entire surface of the transparent substrate, and exposure is performed from the black photosensitive resin layer side through a photomask. Subsequently, a color filter manufacturing method is disclosed in which development is performed to form a black matrix, and then the entire surface is exposed through the transparent substrate, followed by development processing again. According to this, it is described that a color filter with less surface irregularities can be obtained in a method for producing a color filter in which a black matrix is formed from a black photosensitive resin. However, according to this method, a process for flattening is separately required, so there is room for improvement in terms of simplifying the manufacturing process. In addition, when the black photosensitive resin is thickened, an uncured region may remain even after two exposures.

また、例えば特許文献2は、ガラス基板上に形成している赤、緑及び青の色フィルタと色フィルタの境界部分を遮光する遮光体と色フィルターの下部に遮光体と同じ膜厚の透明なスペーサとを有する液晶表示装置用カラーフィルタを開示している。なお、特許文献2には、従来技術(特許文献2の図17)として、カラーフィルタ上に表面の凹凸を平坦化する目的で保護膜が形成された液晶表示装置が開示されている。しかしながら、特許文献2に記載の技術や特許文献2に記載の従来技術によれば、下地層を形成するための余分な工程が必要となるため、製造工程の簡略化という点で改善の余地があった。また、画素開口部にスペーサや保護膜が形成されるとともに、これらスペーサや保護膜の光透過率を100%とすることは通常不可能であることから、画素開口部の光透過率が減少し、表示品位が低下する可能性がある。 Further, for example, Patent Document 2 discloses a light-shielding body that shields a boundary portion between red, green, and blue color filters formed on a glass substrate and a color filter, and a transparent film having the same thickness as the light-shielding body under the color filter. A liquid crystal display color filter having a spacer is disclosed. Patent Document 2 discloses a liquid crystal display device in which a protective film is formed on a color filter for the purpose of flattening surface irregularities as a conventional technique (FIG. 17 of Patent Document 2). However, according to the technique described in Patent Document 2 and the conventional technique described in Patent Document 2, an extra process for forming the underlayer is required, so there is room for improvement in terms of simplifying the manufacturing process. there were. In addition, spacers and protective films are formed in the pixel openings, and since it is usually impossible to set the light transmittance of these spacers and protective films to 100%, the light transmittance of the pixel openings is reduced. The display quality may be reduced.

なお、アレイ基板と対向基板とをシール材により貼り合わせた際に、遮光層およびその近傍で、基板相互間の間隔が減少して液晶材料が十分に注入されなくなったり、液晶材料の量の影響により遮光層およびその近傍で表示不良が発生することを防止するための技術として、アレイ基板と対向基板との間に液晶層が設けられている有効表示領域の周縁部を覆う遮光光と対向される対向基板の所定の位置又は遮光層の所定の位置若しくはその両方に、両基板をシール材により貼り合わせた際に、遮光層及びその近傍で、基板相互の間隔が減少することを抑止可能な突起を有する液晶表示装置が開示されている(例えば、特許文献3参照。)。 Note that when the array substrate and the counter substrate are bonded to each other with a sealing material, the distance between the substrates decreases in the light shielding layer and its vicinity, and the liquid crystal material is not sufficiently injected, or the amount of the liquid crystal material is affected. As a technique for preventing the occurrence of display defects in the light shielding layer and its vicinity, the light is opposed to the light shielding light that covers the peripheral portion of the effective display area in which the liquid crystal layer is provided between the array substrate and the counter substrate. When the substrates are bonded to a predetermined position of the opposing substrate and / or a predetermined position of the light shielding layer with a sealing material, it is possible to prevent a decrease in the distance between the substrates in the light shielding layer and the vicinity thereof. A liquid crystal display device having protrusions is disclosed (for example, see Patent Document 3).

また、1種の感光性樹脂を用い、1工程のフォトリソグラフィ法でフォトスペーサと配向制御突起を同時かつ廉価に形成するための技術として、(1)ブラックマトリックス、着色画素、透明電極層が形成された透明基板上に、透明感光性樹脂層を形成し、(2)フォトスペーサ及び配向制御用突起に対応したパターンが形成されたフォトマスクを介して露光を行う際に、透明感光性樹脂層の上面と上記フォトマスクの膜面との間にギャップを設けた近接露光を行う液晶表示装置用カラーフィルタを製造する方法が開示されている(例えば、特許文献4参照。)。 In addition, as a technology to simultaneously and inexpensively form photo spacers and alignment control protrusions using one type of photosensitive resin by a one-step photolithography method, (1) a black matrix, colored pixels, and a transparent electrode layer are formed. A transparent photosensitive resin layer is formed on the transparent substrate, and (2) the transparent photosensitive resin layer is exposed through a photomask on which a pattern corresponding to the photo spacer and the alignment control protrusion is formed. Discloses a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display device that performs proximity exposure with a gap provided between the upper surface of the photomask and the film surface of the photomask (see, for example, Patent Document 4).

また、基板上の段差に起因する強誘電性液晶の配向欠陥の発生を防止し、強誘電性液晶素子が本来もっている高速応答性とメモリー効果特性を充分に発揮するための技術として、透明電極の形成された一対の平行基板間に強誘電性液晶を狭持し、少なくとも一方の透明電極と基板間にカラーフィルタを有する強誘電性液晶素子において、各画素のカラーフィルタが感光性基を分子内に有するポリイミド系樹脂中に着色材料を分散してなる着色樹脂のフォトリソ工程によりほぼ同一の膜厚に形成され、上記カラーフィルタ上にパターン形状の透明電極及び配向制御膜を順次積層してなる強誘電性液晶素子が開示されている(例えば、特許文献5参照。)。 In addition, as a technology for preventing the occurrence of alignment defects in the ferroelectric liquid crystal due to the steps on the substrate and fully exhibiting the high-speed response and memory effect characteristics inherent in the ferroelectric liquid crystal element, a transparent electrode In a ferroelectric liquid crystal element in which a ferroelectric liquid crystal is sandwiched between a pair of parallel substrates formed with a color filter between at least one transparent electrode and the substrate, the color filter of each pixel has a photosensitive group as a molecule. It is formed to have almost the same film thickness by a photolithography process of a colored resin in which a coloring material is dispersed in a polyimide resin, and a pattern-shaped transparent electrode and an alignment control film are sequentially laminated on the color filter. A ferroelectric liquid crystal element is disclosed (for example, see Patent Document 5).

更に、複雑な配向処理を用いずに液晶分子の配向制御を行って、製造工程を簡略化することができ、更に視角依存性を改善することができる技術として、一対の基板間に挟まれた液晶層に信号電圧を印加して画像表示する液晶表示装置において、上記基板の液晶層側表面に、側面の表面が少なくとも液晶配向樹脂からなり、上記液晶層の液晶分子が上記側面に対して略平行又は垂直に配向する複数の提状ラインパターンをそれぞれ間隔をおいて設けた液晶表示装置が開示されている(例えば、特許文献6参照。)。 Furthermore, as a technique that can simplify the manufacturing process by controlling the alignment of the liquid crystal molecules without using a complicated alignment process, and can further improve the viewing angle dependency, it is sandwiched between a pair of substrates. In the liquid crystal display device that displays an image by applying a signal voltage to the liquid crystal layer, the surface of the side surface is made of at least a liquid crystal alignment resin on the liquid crystal layer side surface of the substrate, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are substantially aligned with the side surface. There has been disclosed a liquid crystal display device in which a plurality of proposed line patterns oriented in parallel or vertically are provided at intervals (see, for example, Patent Document 6).

そして、基板上に形成されたカラーフィルタ層と、上記カラーフィルタ層の端部に形成された段差部を平坦化する平坦化用構造物とを有する表示装置用基板が開示されている(例えば、特許文献7参照。)。図61は、特許文献7に記載の一実施形態による液晶表示装置のCF基板側の構成を示す模式図であり、(a)は、平面模式図であり、(b)は、(a)中のS1−S2線における断面図である。特許文献7に記載の液晶表示装置によれば、図61に示すように、赤、緑及び青のカラーフィルタ621R、621G、621Bの隙間の段差部690に、平坦化用構造物691が形成されている。これにより、段差部への配向膜溶液の流れ込みが防止でき、配向膜の膜厚ムラが防止でき、表示品位の良好な液晶表示装置を実現できると記載されている。
特開平7−120613号公報 特開平8−248409号公報 特開2004−77703号公報 特開2006−221015号公報 特開昭63−60422号公報 特開平8−29790号公報 特開2004−157257号公報
And the board | substrate for display apparatuses which has the color filter layer formed on the board | substrate and the structure for planarization which planarizes the level | step-difference part formed in the edge part of the said color filter layer is disclosed (for example, (See Patent Document 7). 61 is a schematic diagram illustrating a configuration on the CF substrate side of a liquid crystal display device according to an embodiment described in Patent Document 7, FIG. 61 (a) is a schematic plan view, and FIG. 61 (b) is a schematic diagram in FIG. It is sectional drawing in line S1-S2. According to the liquid crystal display device described in Patent Document 7, as shown in FIG. 61, the planarization structure 691 is formed in the step 690 in the gap between the red, green, and blue color filters 621R, 621G, and 621B. ing. Accordingly, it is described that the alignment film solution can be prevented from flowing into the stepped portion, unevenness in the thickness of the alignment film can be prevented, and a liquid crystal display device with good display quality can be realized.
Japanese Patent Laid-Open No. 7-120613 JP-A-8-248409 JP 2004-77703 A JP 2006-221015 A Japanese Patent Laid-Open No. 63-60422 JP-A-8-29790 JP 2004-157257 A

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above-described situation, and a liquid crystal display panel, a liquid crystal display element, a liquid crystal display device, and a television receiver capable of reducing the amount of liquid crystal material used without deteriorating display quality. And it aims at providing the board | substrate for liquid crystal display panels.

本発明者らは、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる液晶表示パネル、液晶表示素子、液晶表示装置、テレビジョン受信機及び液晶表示パネル用基板について種々検討したところ、表示に影響しない遮光領域に着目した。そして、遮光領域に絶縁層を配置し、液晶層は、基板を平面視したときに絶縁層と重複する領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されていることにより、表示品位に悪影響を与えることなく液晶材料の使用量を削減できることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 The present inventors have made various studies on a liquid crystal display panel, a liquid crystal display element, a liquid crystal display device, a television receiver, and a substrate for a liquid crystal display panel that can reduce the amount of liquid crystal material used without deteriorating display quality. As a result, attention was paid to a light-shielding region that does not affect the display. In addition, an insulating layer is disposed in the light shielding region, and the liquid crystal layer has a thickness in a region overlapping with the insulating layer when the substrate is viewed in plan, which is smaller than the thickness in the pixel opening portion. The inventors have found that the amount of liquid crystal material used can be reduced without adversely affecting the quality, and have arrived at the present invention by conceiving that the above problems can be solved brilliantly.

すなわち、本発明は、対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルであって、上記液晶表示パネルは、少なくともいずれか一方の基板の液晶層側に絶縁層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置され、上記液晶層は、絶縁層が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されている液晶表示パネルである。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。 That is, the present invention is a liquid crystal display panel comprising a pair of opposing substrates and a liquid crystal layer provided between the substrates, wherein the liquid crystal display panel is an insulating layer on the liquid crystal layer side of at least one of the substrates. The insulating layer is disposed in a light shielding region when the substrate is viewed in plan, and the liquid crystal layer is set such that the thickness in the region where the insulating layer is disposed is smaller than the thickness in the pixel opening. It is a liquid crystal display panel. Thereby, the usage-amount of liquid crystal material can be reduced, without deteriorating display quality.

なお、上記一対の基板は、通常、絶縁基板を有する。また、上記絶縁層は、いずれか一方の基板に設けられてもよいし、両方の基板に設けられてもよい。 Note that the pair of substrates usually includes an insulating substrate. Moreover, the said insulating layer may be provided in any one board | substrate and may be provided in both board | substrates.

本発明の液晶表示パネルの構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。
本発明の液晶表示パネルにおける好ましい形態について以下に詳しく説明する。
The configuration of the liquid crystal display panel of the present invention is not particularly limited as long as such a component is formed as essential, and may or may not include other components. Absent.
A preferred embodiment of the liquid crystal display panel of the present invention will be described in detail below.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域に配置されてもよい。 The insulating layer may be disposed in the non-display area when the substrate is viewed in plan.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。 At least one of the substrates has a light shielding layer on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer may be disposed in a region overlapping with the light shielding layer located in the non-display region when the substrate is viewed in plan. preferable. Thereby, it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces.

なお、本明細書において、ある部材が、基板(パネル)を平面視又は断面視したときに、他の部材と重なる領域に配置される形態は、ある部材と他の部材とが接していてもよいし、接していなくてもよい。 Note that in this specification, when a certain member is arranged in a region overlapping with another member when the substrate (panel) is viewed in a plan view or a cross-section, the certain member may be in contact with the other member. It ’s good or not.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域の略全域に配置されることが好ましい。これにより、液晶材料の使用量をより低減することができる。 The insulating layer is preferably disposed over substantially the entire non-display area when the substrate is viewed in plan. Thereby, the usage-amount of liquid-crystal material can be reduced more.

上記液晶表示パネルは、非表示領域の基板間に封止材を有し、上記絶縁層は、上記封止材と重ならないことが好ましい。これにより、絶縁層の基板又は封止材との密着性の強弱によらず、封止材と基板とを確実に密着させることができる。 The liquid crystal display panel preferably has a sealing material between substrates in a non-display area, and the insulating layer preferably does not overlap the sealing material. Accordingly, the sealing material and the substrate can be reliably adhered regardless of the strength of adhesion between the insulating layer and the substrate or the sealing material.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域においてスリットを有することが好ましい。これにより、残留気泡の発生を低減することができるとともに、液晶材料の注入時間を短くすることができる。また、ガスの発生量を低減することができる。 The insulating layer preferably has a slit in the non-display area when the substrate is viewed in plan. Thereby, generation | occurrence | production of a residual bubble can be reduced and the injection | pouring time of liquid crystal material can be shortened. In addition, the amount of gas generated can be reduced.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、上記スリットは、基板を平面視したときに、配線と重ならない領域に配置されることが好ましい。これにより、配線の寄生容量を低減しつつ、気泡の発生を抑制することができる。 At least one of the substrates preferably has wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the slit is preferably disposed in a region that does not overlap with the wiring when the substrate is viewed in plan. Thereby, generation | occurrence | production of a bubble can be suppressed, reducing the parasitic capacitance of wiring.

上記スリットは、基板を平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されることが好ましい。これにより、液晶材料の注入時間をより短くすることができる。 The slit is preferably arranged along the direction in which the liquid crystal flows in the step of injecting or dropping the liquid crystal when the substrate is viewed in plan. Thereby, the injection time of the liquid crystal material can be further shortened.

上記スリットは、基板を平面視したときに、表示領域の輪郭線と略平行な方向に配置されることが好ましい。これにより、非表示領域に気泡が発生した場合でも、表示領域に気泡が移動するのを抑制することができる。 The slit is preferably arranged in a direction substantially parallel to the outline of the display area when the substrate is viewed in plan. Thereby, even when bubbles are generated in the non-display area, it is possible to prevent the bubbles from moving to the display area.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配置されてもよい。 The insulating layer may be disposed in the display area when the substrate is viewed in plan.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。 At least one of the substrates preferably has a light shielding layer on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is preferably disposed in a region overlapping the light shielding layer located in the display region when the substrate is viewed in plan view. . Thereby, it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配列された画素間の境界領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることことが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。 The insulating layer is preferably disposed in a region overlapping with a light shielding layer located in a boundary region between pixels arranged in the display region when the substrate is viewed in plan. Thereby, it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域における遮光領域の略全域に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制しつつ、寄生容量と液晶材料の使用量とを低減することができる。 The insulating layer is preferably disposed over substantially the entire light shielding region in the display region when the substrate is viewed in plan. Accordingly, it is possible to reduce the parasitic capacitance and the amount of liquid crystal material used while suppressing the light transmittance of the pixel opening from being reduced by the insulating layer.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域の略全域の配線に沿って配置されることが好ましい。これにより、液晶材料の使用量と寄生容量とをより低減することができる。 It is preferable that at least one of the substrates has wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is disposed along the wiring in substantially the entire display area when the substrate is viewed in plan. Thereby, the usage-amount and parasitic capacitance of liquid crystal material can be reduced more.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置されることが好ましい。MVAモード等においては、絶縁層が画素の隅部に配置されたとしても、絶縁層が画素開口部の液晶分子の配向に影響を与えることはほとんど無い。このように、画像表示に利用されないデッドスペースである画素の隅部を絶縁層の配置スペースとして利用することによって、平面視したときの絶縁層の面積を広く取りやすくなる。したがって、この形態によれば、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制しつつ、液晶材料の使用量とをより効果的に低減することができる。 The insulating layer is preferably disposed in a corner portion of the pixel when the substrate is viewed in plan. In the MVA mode or the like, even if the insulating layer is arranged at the corner of the pixel, the insulating layer hardly affects the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel opening. Thus, by using the corners of the pixels, which are dead spaces that are not used for image display, as the arrangement space for the insulating layer, the area of the insulating layer when viewed in plan can be easily increased. Therefore, according to this embodiment, it is possible to more effectively reduce the amount of liquid crystal material used while suppressing a decrease in the light transmittance of the pixel opening.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起と一体的に形成されることが好ましい。これにより、製造工程を複雑化させることなく、また、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。 At least one of the substrates has an alignment control protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is integrated with the alignment control protrusion disposed at the corner of the pixel when the substrate is viewed in plan view. It is preferable to be formed. Thereby, the amount of liquid crystal material used can be more effectively reduced without complicating the manufacturing process and suppressing the decrease in the light transmittance of the pixel opening.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起の画素の中心とは反対側に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層が画素開口部の液晶分子の配向に影響を与えることを実質的に無くすことができる。したがって、画素開口部の光透過率が減少するのをより効果的に抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。 The insulating layer is preferably disposed on the opposite side of the center of the pixel of the alignment control protrusion disposed at the corner of the pixel when the substrate is viewed in plan. Thereby, it is possible to substantially eliminate the influence of the insulating layer on the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel opening. Therefore, it is possible to more effectively reduce the amount of liquid crystal material used while more effectively suppressing the light transmittance of the pixel opening.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、島状に配置されることが好ましい。これにより、配向膜の塗布性を向上することができる。また、液晶材料の通り道を確保することができ、液晶封入時における気泡の発生を抑制することができる。 The insulating layer is preferably arranged in an island shape when the substrate is viewed in plan. Thereby, the applicability | paintability of alignment film can be improved. Further, a passage for the liquid crystal material can be secured, and generation of bubbles at the time of liquid crystal encapsulation can be suppressed.

上記絶縁層は、当該絶縁層を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。これにより、製造工程の簡略化が可能となる。 The insulating layer preferably includes the same material as any member constituting the substrate having the insulating layer. Thereby, the manufacturing process can be simplified.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、上記絶縁層は、カラーフィルタ層を有する基板に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されることが好ましい。これにより、材料、現像プロセス等の共用化を図ることができるため、製造工程の簡略化が可能となる。 At least one of the substrates has a color filter layer including a plurality of color filters on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is disposed on the substrate having the color filter layer and is the same as any one of the color filters. It is preferable that it is comprised including these materials. This makes it possible to share materials, development processes, and the like, so that the manufacturing process can be simplified.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有することが好ましい。これにより、MVA(Multi−domain Vertical Alignment)モード等のマルチドメインを有する液晶モードを実現することができるので、広視野角化が可能となる。 At least one of the substrates preferably has an alignment control protrusion and / or an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate. Thereby, a liquid crystal mode having a multi-domain such as an MVA (Multi-domain Vertical Alignment) mode can be realized, so that a wide viewing angle can be achieved.

上記絶縁層は、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。これにより、材料、現像プロセス等の共用化を図ることができるため、製造工程の簡略化が可能となる。 The insulating layer is disposed on at least one substrate having an alignment control protrusion and / or an alignment control auxiliary protrusion, and includes the same material as the alignment control protrusion and / or the alignment control auxiliary protrusion. It is preferable. This makes it possible to share materials, development processes, and the like, so that the manufacturing process can be simplified.

上記絶縁層は、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起と重ならない領域に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層が配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起の配向制御に悪影響を与えないため、表示品位が低下することを防止することができる。 The insulating layer is disposed on at least one substrate having alignment control protrusions and / or alignment control auxiliary protrusions, and overlaps with the alignment control protrusions and / or alignment control auxiliary protrusions when the substrate is viewed in plan view. It is preferable to arrange in an area that does not become necessary. Thereby, since the insulating layer does not adversely affect the alignment control of the alignment control protrusion and / or the alignment control auxiliary protrusion, it is possible to prevent the display quality from deteriorating.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用補助突起との間に間隔を有して配置されることが好ましい。これにより、配向制御用補助突起の配向規制力が強くなりすぎることによって、基板を平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に略平行又は略垂直な方向に向く液晶分子が増加することを抑制することができる。したがって、画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができるので、表示品位が低下することを防止することができる。 At least one of the substrates has an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is disposed on at least one substrate having the alignment control auxiliary protrusion, and the substrate is viewed in plan view. In addition, it is preferable that they are arranged with a gap between them and the alignment control auxiliary projections. As a result, the alignment control force of the alignment control auxiliary protrusions becomes too strong, and when the substrate is viewed in plan view, liquid crystal molecules directed in a direction substantially parallel or substantially perpendicular to the polarization axis direction of the polarizing plate increase. Can be suppressed. Accordingly, it is possible to suppress a decrease in the light transmittance of the pixel opening, and thus it is possible to prevent the display quality from being deteriorated.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の根元部と一体的に形成され、上記配向制御用補助突起は、基板を平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることが好ましい。これにより、基板を平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に対して斜め方向に配向する液晶分子を増加させることができるので、画素開口部の光透過率が減少することを抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。 At least one of the substrates has an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is formed integrally with a base portion of the alignment control auxiliary protrusion arranged at the corner of the pixel. The alignment control auxiliary projections preferably have a width that decreases from the root portion toward the tip when the substrate is viewed in plan. As a result, when the substrate is viewed in plan, liquid crystal molecules that are oriented obliquely with respect to the polarization axis direction of the polarizing plate can be increased. The amount of liquid crystal material used can be reduced more effectively.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の先端部以外の部分と一体的に形成されることが好ましい。これにより、基板を平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に対して斜め方向に配向する液晶分子をより増加させることができるので、画素開口部の光透過率が減少することをより抑制しつつ、液晶材料の使用量をより効果的に低減することができる。 At least one of the substrates has an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is integrated with a portion other than the tip of the alignment control auxiliary protrusion disposed at the corner of the pixel. It is preferable to be formed. As a result, when the substrate is viewed in plan, the number of liquid crystal molecules that are oriented obliquely with respect to the polarization axis direction of the polarizing plate can be increased, thereby further suppressing the decrease in the light transmittance of the pixel opening. However, the amount of liquid crystal material used can be reduced more effectively.

上記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に、絶縁基板側から順に、開口部を有する遮光層と、複数のカラーフィルタが遮光層の開口部に配置されたカラーフィルタ層と、遮光層及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制できるので、表示不良の発生を抑制することができる。 At least one of the substrates includes, on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, in order from the insulating substrate side, a light shielding layer having an opening, a color filter layer in which a plurality of color filters are arranged in the opening of the light shielding layer, and a light shielding layer And a common electrode provided on substantially the entire surface of the color filter layer and an insulating layer, and the insulating layer is preferably disposed in a region overlapping with the light shielding layer when the substrate is viewed in plan view. Thereby, since it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces, generation | occurrence | production of a display defect can be suppressed.

上記カラーフィルタ層は、その膜厚が遮光層の膜厚よりも大きく、上記絶縁層は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きいことが好ましい。これにより、寄生容量と液晶材料の使用量とをより効果的に低減することができる。 The color filter layer preferably has a film thickness larger than that of the light shielding layer, and the insulating layer preferably has a film thickness larger than the step between the light shielding layer and the color filter. As a result, the parasitic capacitance and the amount of liquid crystal material used can be more effectively reduced.

上記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に共通電極を有し、上記基板の他方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、上記絶縁層は、共通電極及び配線の間に配置されることが好ましい。これにより、共通電極及び配線間で発生する寄生容量を低減することができる。なお、通常、上記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に共通電極を有し、上記基板の他方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有する。また、共通電極を有する基板は、アクティブマトリクス基板と対をなす対向基板と呼ばれるものであってもよい。一方、配線を有する基板は、通常、配線の他に、スイッチング素子、マトリクス状に配置された画素電極、層間絶縁膜等を有する。このように、配線を有する基板は、通常、アクティブ素子を有するアクティブマトリクス基板である。更に、絶縁層が設けられる基板は特に限定されず、そして、アクティブマトリクス基板としては、通常のアレイ基板に限定されず、アレイとブラックマトリクスとの合わせ精度に依存した領域を小さくするために、ブラックマトリクスを設けたアレイ基板(BM on Array)、及び、カラーフィルタを配置したアレイ基板(カラーフィルタ on Array)等を含むものである。なお、カラーフィルタは、リードタイムの短縮と調達の容易性との観点からは、対向基板に配置されることが好ましい。 One of the substrates has a common electrode on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, the other of the substrate has a wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is disposed between the common electrode and the wiring It is preferred that Thereby, the parasitic capacitance generated between the common electrode and the wiring can be reduced. Normally, one of the substrates has a common electrode on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the other of the substrates has a wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate. The substrate having the common electrode may be a so-called counter substrate that forms a pair with the active matrix substrate. On the other hand, a substrate having wiring usually has switching elements, pixel electrodes arranged in a matrix, an interlayer insulating film, and the like in addition to the wiring. Thus, the substrate having wiring is usually an active matrix substrate having active elements. Further, the substrate on which the insulating layer is provided is not particularly limited, and the active matrix substrate is not limited to a normal array substrate, and in order to reduce the area depending on the alignment accuracy between the array and the black matrix, An array substrate (BM on Array) provided with a matrix, an array substrate (color filter on Array) provided with a color filter, and the like are included. The color filter is preferably disposed on the counter substrate from the viewpoint of shortening the lead time and ease of procurement.

上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることが好ましく、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域であり、かつ画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることがより好ましい。これにより、画素開口部の光透過率が減少するのをより効果的に抑制することができる。 The insulating layer is preferably disposed in a region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region when the substrate is viewed in plan, and the insulating layer is a light shielding region when the substrate is viewed in plan. More preferably, it is arranged in a region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region. Thereby, it can suppress more effectively that the light transmittance of a pixel opening part reduces.

上記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に画素電極を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したとき、画素電極と重ならない領域に配置されることが好ましい。これにより、画素電極と共通電極との間に電圧を印加したときに絶縁層の影響で液晶の配向状態が乱れて画素開口部の光透過率が減少するのをより効果的に抑制することができる。 One of the substrates has a pixel electrode on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating layer is preferably disposed in a region that does not overlap with the pixel electrode when the substrate is viewed in plan. As a result, when the voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, the liquid crystal orientation state is disturbed due to the influence of the insulating layer and the light transmittance of the pixel opening is more effectively suppressed. it can.

上記絶縁層は、基板を断面視したとき、順テーパ形状を有することが好ましい。これにより、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起の材料を用いて、絶縁層を容易に形成することができる。また、配向膜の塗布性を向上でき、液晶分子の配向状態を安定化させることができる。 The insulating layer preferably has a forward tapered shape when the substrate is viewed in cross section. Thereby, the insulating layer can be easily formed using the material for the alignment control protrusion and / or the alignment control auxiliary protrusion. Moreover, the applicability | paintability of alignment film can be improved and the orientation state of a liquid crystal molecule can be stabilized.

上記絶縁層は、着色されていることが好ましい。これにより、コントラスト比を向上することができる。 The insulating layer is preferably colored. Thereby, the contrast ratio can be improved.

上記絶縁層は、遮光性を有することが好ましい。これにより、コントラスト比を向上することができる。 The insulating layer preferably has a light shielding property. Thereby, the contrast ratio can be improved.

なお、本発明の液晶表示パネルにおいて、上記各好適な形態は、適宜組み合わせることが可能である。 In the liquid crystal display panel of the present invention, the above preferred embodiments can be combined as appropriate.

本発明はまた、本発明の液晶表示パネルを含んで構成される液晶表示素子でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。 The present invention is also a liquid crystal display element including the liquid crystal display panel of the present invention. Thereby, the amount of liquid crystal used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明はまた、本発明の液晶表示素子を含んで構成される液晶表示装置でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。 The present invention is also a liquid crystal display device including the liquid crystal display element of the present invention. Thereby, the amount of liquid crystal used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明はまた、本発明の液晶表示装置を含んで構成されるテレビジョン受信機(TV装置)でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。 The present invention is also a television receiver (TV device) including the liquid crystal display device of the present invention. Thereby, the amount of liquid crystal used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明はまた、対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルに用いられる液晶表示パネル用基板であって、上記液晶表示パネル用基板は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置される絶縁層を有する液晶表示パネル用基板でもある。これにより、本発明の液晶表示パネル用基板を用いて作製された液晶表示パネルにおいて、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。 The present invention is also a liquid crystal display panel substrate used in a liquid crystal display panel comprising a pair of opposing substrates and a liquid crystal layer provided between the substrates, wherein the substrate for a liquid crystal display panel is a plan view of the substrate. It is also a liquid crystal display panel substrate having an insulating layer disposed in the light shielding region. Thereby, in the liquid crystal display panel produced using the liquid crystal display panel substrate of the present invention, the amount of liquid crystal material used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明の液晶表示パネル用基板の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。 The configuration of the substrate for a liquid crystal display panel of the present invention is not particularly limited as long as such components are formed as essential, and other components may or may not be included. It is not a thing.

本発明の液晶表示パネル用基板においては、本発明の液晶表示パネルと同様の観点から、以下の形態が好ましい。すなわち、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域に配置されてもよい。なお、非表示領域となる領域とは、より具体的には、本発明の液晶表示パネル用基板を用いて液晶表示パネルを組み立てた時に非表示領域となる領域を意味する。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域の略全域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域となる領域においてスリットを有することが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配線を有し、上記スリットは、基板を平面視したときに、配線と重ならない領域に配置されることが好ましい。上記スリットは、基板を平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されることが好ましい。上記スリットは、基板を平面視したときに、表示領域となる領域の輪郭線と略平行な方向に配置されることが好ましい。なお、表示領域となる領域とは、より具体的には、本発明の液晶表示パネル用基板を用いて液晶表示パネルを組み立てた時に表示領域となる領域を意味する。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配置されてもよい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に遮光層を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域となる領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配列された画素間の境界領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域における遮光領域の略全域に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配線を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域の略全域の配線に沿って配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配向制御用突起を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起と一体的に形成されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起の画素の中心とは反対側に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、島状に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、液晶表示パネル用基板を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、上記絶縁層は、いずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有することが好ましい。上記絶縁層は、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を平面視したときに、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起と重ならない領域に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、配向制御用補助突起との間に間隔を有して配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の根元部と一体的に形成され、上記配向制御用補助突起は、基板を平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、配向制御用補助突起を有し、上記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の先端部以外の部分と一体的に形成されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、絶縁基板側から順に、開口部を有する遮光層と、複数のカラーフィルタが遮光層の開口部に配置されたカラーフィルタ層と、遮光層及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光層と重なる領域に配置されることが好ましい。上記カラーフィルタ層は、その膜厚が遮光層の膜厚よりも大きく、上記絶縁層は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きいことが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に共通電極を有し、上記絶縁層は、共通電極よりも上層に配置されることが好ましい。なお、上層とは、絶縁基板からより遠い層を意味する。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に配線を有し、上記絶縁層は、配線よりも上層に配置されることが好ましい。上記液晶表示パネル用基板は、絶縁層が設けられた面に、画素電極を有し、上記絶縁層は、基板を平面視したとき、画素電極と重ならない領域に配置されることが好ましい。上記絶縁層は、基板を断面視したとき、順テーパ形状を有することが好ましい。上記絶縁層は、着色されていることが好ましい。上記絶縁層は、遮光性を有することが好ましい。 In the liquid crystal display panel substrate of the present invention, the following modes are preferred from the same viewpoint as the liquid crystal display panel of the present invention. That is, the insulating layer may be arranged in a region that becomes a non-display region when the substrate is viewed in plan. In addition, the area | region used as a non-display area | region means the area | region which becomes a non-display area | region more specifically, when a liquid crystal display panel is assembled using the board | substrate for liquid crystal display panels of this invention. The substrate for a liquid crystal display panel has a light shielding layer on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer overlaps with a light shielding layer located in a region to be a non-display region when the substrate is viewed in plan view. Preferably they are arranged. The insulating layer is preferably disposed over substantially the entire region to be a non-display region when the substrate is viewed in plan. The insulating layer preferably has a slit in a region that becomes a non-display region when the substrate is viewed in plan. It is preferable that the liquid crystal display panel substrate has a wiring on a surface provided with an insulating layer, and the slit is disposed in a region that does not overlap with the wiring when the substrate is viewed in plan. The slit is preferably arranged along the direction in which the liquid crystal flows in the step of injecting or dropping the liquid crystal when the substrate is viewed in plan. The slit is preferably arranged in a direction substantially parallel to the contour line of the region that becomes the display region when the substrate is viewed in plan. In addition, the area | region used as a display area means the area | region used as a display area when a liquid crystal display panel is assembled using the board | substrate for liquid crystal display panels of this invention more specifically. The insulating layer may be disposed in the display area when the substrate is viewed in plan. The liquid crystal display panel substrate has a light shielding layer on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer is disposed in a region overlapping with the light shielding layer located in a region to be a display region when the substrate is viewed in plan view. It is preferred that The insulating layer is preferably disposed in a region overlapping with a light shielding layer located in a boundary region between pixels arranged in the display region when the substrate is viewed in plan. The insulating layer is preferably disposed over substantially the entire light shielding region in the display region when the substrate is viewed in plan. The substrate for a liquid crystal display panel preferably has a wiring on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer is preferably arranged along the wiring in a substantially entire area of the display region when the substrate is viewed in plan. . The insulating layer is preferably disposed in a corner portion of the pixel when the substrate is viewed in plan. The liquid crystal display panel substrate has an alignment control protrusion on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer includes an alignment control protrusion disposed at a corner of the pixel when the substrate is viewed in plan view. It is preferable to form integrally. The insulating layer is preferably disposed on the opposite side of the center of the pixel of the alignment control protrusion disposed at the corner of the pixel when the substrate is viewed in plan. The insulating layer is preferably arranged in an island shape when the substrate is viewed in plan. The insulating layer preferably includes the same material as any member constituting the substrate for a liquid crystal display panel. The liquid crystal display panel substrate has a color filter layer including a plurality of color filters on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer includes the same material as any of the color filters. It is preferable. The liquid crystal display panel substrate preferably has an alignment control protrusion and / or an alignment control auxiliary protrusion on the surface provided with the insulating layer. The insulating layer preferably includes the same material as the alignment control protrusion and / or the alignment control auxiliary protrusion. The insulating layer is preferably disposed in a region that does not overlap with the alignment control protrusion and / or the alignment control auxiliary protrusion when the substrate is viewed in plan. The liquid crystal display panel substrate has alignment control auxiliary protrusions on the surface provided with the insulating layer, and the insulating layer has a gap between the alignment control auxiliary protrusions when the substrate is viewed in plan view. It is preferable that they are arranged. The liquid crystal display panel substrate has an alignment control auxiliary protrusion on the surface provided with the insulating layer, and the insulating layer is integrated with a root portion of the alignment control auxiliary protrusion arranged at the corner of the pixel. It is preferable that the orientation control auxiliary protrusions are formed so that the width thereof becomes narrower from the root part toward the tip part when the substrate is viewed in plan view. The liquid crystal display panel substrate has an alignment control auxiliary protrusion on the surface provided with the insulating layer, and the insulating layer is a portion other than the tip of the alignment control auxiliary protrusion arranged at the corner of the pixel. It is preferable to be formed integrally. The liquid crystal display panel substrate includes a light shielding layer having an opening on the surface on which the insulating layer is provided, and a color filter layer in which a plurality of color filters are arranged in the opening of the light shielding layer, It has a common electrode provided on substantially the entire surface of the light shielding layer and the color filter layer, and an insulating layer, and the insulating layer is preferably disposed in a region overlapping the light shielding layer when the substrate is viewed in plan view. . The color filter layer preferably has a film thickness larger than that of the light shielding layer, and the insulating layer preferably has a film thickness larger than the step between the light shielding layer and the color filter. The liquid crystal display panel substrate preferably has a common electrode on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer is disposed in an upper layer than the common electrode. The upper layer means a layer farther from the insulating substrate. It is preferable that the liquid crystal display panel substrate has a wiring on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer is disposed in an upper layer than the wiring. The liquid crystal display panel substrate preferably includes a pixel electrode on a surface provided with an insulating layer, and the insulating layer is preferably disposed in a region that does not overlap with the pixel electrode when the substrate is viewed in plan. The insulating layer preferably has a forward tapered shape when the substrate is viewed in cross section. The insulating layer is preferably colored. The insulating layer preferably has a light shielding property.

なお、本発明の液晶表示パネル用基板において、上記各好適な形態は、適宜組み合わせることが可能である。 In the liquid crystal display panel substrate of the present invention, the above preferred embodiments can be appropriately combined.

本発明はまた、本発明の液晶表示パネル用基板を含んで構成される液晶表示パネル(以下、「本発明の第2の液晶表示パネル」ともいう。)でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。 The present invention is also a liquid crystal display panel including the liquid crystal display panel substrate of the present invention (hereinafter also referred to as “second liquid crystal display panel of the present invention”). Thereby, the usage-amount of liquid-crystal material can be reduced, without deteriorating display quality.

本発明はまた、本発明の第2の液晶表示パネルを含んで構成される液晶表示素子(以下、「本発明の第2の液晶表示素子」ともいう。)でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。 The present invention is also a liquid crystal display element including the second liquid crystal display panel of the present invention (hereinafter, also referred to as “second liquid crystal display element of the present invention”). Thereby, the amount of liquid crystal used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明はまた、本発明の第2の液晶表示素子を含んで構成される液晶表示装置(以下、「本発明の第2の液晶表示装置」ともいう。)でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。 The present invention is also a liquid crystal display device including the second liquid crystal display element of the present invention (hereinafter also referred to as “second liquid crystal display device of the present invention”). Thereby, the amount of liquid crystal used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明はまた、本発明の第2の液晶表示装置を含んで構成されるテレビジョン受信機(TV装置)でもある。これにより、表示品位を悪化させることなく、液晶使用量を削減することができる。 The present invention is also a television receiver (TV device) configured to include the second liquid crystal display device of the present invention. Thereby, the amount of liquid crystal used can be reduced without deteriorating the display quality.

本発明の液晶表示パネルによれば、表示品位を悪化させることなく、液晶材料の使用量を削減することができる。 According to the liquid crystal display panel of the present invention, the amount of liquid crystal material used can be reduced without deteriorating display quality.

以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。 Embodiments will be described below, and the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited only to these embodiments.

<実施形態1>
(液晶表示素子の構成)
図1は、実施形態1の液晶表示素子の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示素子200は、図1に示すように、液晶表示パネル101と、液晶表示パネル101のゲート端子部50に接続されたゲートドライバ52と、液晶表示パネル101のソース端子部51に接続されたソースドライバ53と、ゲートドライバ52及びソースドライバ53に接続されたプリント配線基板(Printed Wire Board:PWB)54と、プリント配線基板54に接続された表示制御回路55とを含んで構成される。また、液晶表示パネル101は、対向する一対の基板であるアクティブマトリクス基板(図示せず)及び対向基板(図示せず)を備え、その両面には偏光板(図示せず)が貼られている。なお、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間隙には液晶層(図示せず)が封入されている。
<Embodiment 1>
(Configuration of liquid crystal display element)
FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of the liquid crystal display element of the first embodiment. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display element 200 of the present embodiment includes a liquid crystal display panel 101, a gate driver 52 connected to the gate terminal portion 50 of the liquid crystal display panel 101, and a source terminal portion 51 of the liquid crystal display panel 101. A source driver 53 connected to the gate driver 52, a printed wiring board (PWB) 54 connected to the gate driver 52 and the source driver 53, and a display control circuit 55 connected to the printed wiring board 54. Is done. The liquid crystal display panel 101 includes an active matrix substrate (not shown) and a counter substrate (not shown), which are a pair of opposing substrates, and polarizing plates (not shown) are pasted on both surfaces thereof. . Note that a liquid crystal layer (not shown) is sealed in the gap between the active matrix substrate and the counter substrate.

図2は、液晶表示パネルと、それに貼り合わされた二枚の偏光板との配置関係を示す分解斜視模式図である。なお、偏光板56a、56b上の両矢印は、各偏光板の偏光軸方向を示し、白抜きの矢印は、光源からの入射光を示す。図2に示すように、液晶表示パネル101には、二枚の偏光板56a、56bが貼り合わせられており、偏光板56a、56bの偏光軸(吸収軸)は、液晶表示パネルを平面視したときに(以下、「平面視したときに」ともいう。)、互いに直交している。 FIG. 2 is an exploded perspective view schematically showing a positional relationship between the liquid crystal display panel and two polarizing plates bonded to the liquid crystal display panel. The double arrows on the polarizing plates 56a and 56b indicate the polarization axis directions of the respective polarizing plates, and the white arrows indicate incident light from the light source. As shown in FIG. 2, two polarizing plates 56a and 56b are bonded to the liquid crystal display panel 101, and the polarizing axes (absorption axes) of the polarizing plates 56a and 56b are a plan view of the liquid crystal display panel. Sometimes (hereinafter also referred to as “when viewed in plan”), they are orthogonal to each other.

液晶表示素子200の画像表示方式は、マルチドメイン垂直配向(MVA)方式である。また、液晶表示パネル101において、画素電極(液晶層)に閾値電圧以上の電圧を印加した場合に液晶が傾斜及び配向する方向(以下、「液晶の配向方向」ともいう。)は、平面視したときに、偏光板56a、56bの偏光軸方向に対して略45度の角度をなす方向に設定されている。したがって、液晶表示パネル101において画素電極に閾値電圧未満の電圧を印加した場合、又は、電圧を印加しない場合には、液晶は基板及び偏光板56a、56bに対して垂直に配向している。したがって、偏光板56aで偏光化された入射光は、その振動方向が液晶表示パネル101中の液晶層を通過する過程で回転しないため、偏光板56bから出射されず、その結果、黒表示となる。一方、液晶表示パネル101において画素電極に閾値電圧以上の電圧を印加した場合には、偏光板56a、56bの偏光軸方向に対して略45度の角度をなす方向に液晶は傾斜及び配向している。したがって、偏光板56aで偏光化された光は、その振動方向が液晶層を通過する過程で回転するため、偏光板56bから出射されこととなる。このように、液晶表示素子200は、ノーマリブラックモードの表示を行う。 The image display method of the liquid crystal display element 200 is a multi-domain vertical alignment (MVA) method. Further, in the liquid crystal display panel 101, the direction in which the liquid crystal is tilted and aligned when a voltage higher than the threshold voltage is applied to the pixel electrode (liquid crystal layer) (hereinafter also referred to as “liquid crystal alignment direction”) is viewed in plan. Sometimes, it is set to a direction that forms an angle of about 45 degrees with respect to the polarization axis direction of the polarizing plates 56a and 56b. Therefore, when a voltage lower than the threshold voltage is applied to the pixel electrode in the liquid crystal display panel 101, or when no voltage is applied, the liquid crystal is aligned perpendicular to the substrate and the polarizing plates 56a and 56b. Accordingly, the incident light polarized by the polarizing plate 56a does not rotate in the process of passing through the liquid crystal layer in the liquid crystal display panel 101, and thus is not emitted from the polarizing plate 56b, resulting in black display. . On the other hand, when a voltage higher than the threshold voltage is applied to the pixel electrode in the liquid crystal display panel 101, the liquid crystal is tilted and oriented in a direction that forms an angle of about 45 degrees with respect to the polarization axis direction of the polarizing plates 56a and 56b. Yes. Therefore, the light polarized by the polarizing plate 56a rotates in the process of passing through the liquid crystal layer, and thus is emitted from the polarizing plate 56b. Thus, the liquid crystal display element 200 performs display in the normally black mode.

また、液晶表示パネル101において、液晶の配向方向は、平面視したときに、偏光板56a、56bの偏光軸方向に対して略45度の角度をなす4つの方位に設定されている。このように、液晶の配向方向を4つに分割する、すなわちマルチドメイン(Multi−domain)化することにより、広視野角を実現することができる。 Further, in the liquid crystal display panel 101, the alignment directions of the liquid crystals are set to four orientations that form an angle of about 45 degrees with respect to the polarization axis directions of the polarizing plates 56a and 56b when viewed in plan. In this way, a wide viewing angle can be realized by dividing the alignment direction of the liquid crystal into four, that is, multi-domain.

(液晶表示パネルの構成)
図3は、実施形態1の液晶表示パネルを示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル101は、図3に示すように、基板面内において、表示領域(有効表示エリア)3と、表示領域3の周囲に配置された非表示領域(額縁領域、非有効表示エリア)4と、ゲート端子部50及びソース端子部51が設けられる端子領域5とを有する。表示領域3は、画像を表示する領域であり、通常、マトリクス状に配列された複数の画素により構成される。一方、非表示領域4は、画像を表示しない領域であり、表示領域3の周辺領域に配置される。なお、表示領域3は、通常、各画素の周囲に設けられる遮光領域を含むものである。また、端子領域5は、アクティブマトリクス基板を構成する絶縁基板の張出部に相当する。
(Configuration of LCD panel)
FIG. 3 is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel of the first embodiment. As shown in FIG. 3, the liquid crystal display panel 101 of the present embodiment includes a display area (effective display area) 3 and a non-display area (frame area, non-effective) arranged around the display area 3 in the substrate surface. Display area) 4 and a terminal region 5 in which a gate terminal portion 50 and a source terminal portion 51 are provided. The display area 3 is an area for displaying an image, and is usually composed of a plurality of pixels arranged in a matrix. On the other hand, the non-display area 4 is an area in which no image is displayed, and is arranged in a peripheral area of the display area 3. The display area 3 usually includes a light shielding area provided around each pixel. The terminal region 5 corresponds to an overhanging portion of the insulating substrate that constitutes the active matrix substrate.

図4は、実施形態1の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図であり、(a)は、液晶表示パネルの隅部を示し、(b)は、表示領域の画素の構成を示す。なお、図中、一点鎖線で囲まれた領域は、BM20を示し、灰色で塗られた領域は、絶縁層26を示し、格子で塗られた領域は、シール9を示す。また、図5は、図4中のA−B線における断面模式図である。更に、図6は、実施形態1のアクティブマトリクス基板の隅部の構成を示す平面模式図である。そして、図7は、実施形態1の対向基板の隅部の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル101は、図4及び5に示すように、互いに対向するように配置された一対の基板であるアクティブマトリクス基板1及び対向基板2と、これらの基板間に設けられた液晶層8とを備える。また、これらの基板は、スペーサ(図示せず)によって一定の間隔(セルギャップ)有して保持されている。なお、スペーサとしては、柱状スペーサ、球状スペーサ等が挙げられるが、柱状スペーサが好ましく、これにより、柱状スペーサの材料を用いて後述する絶縁層を形成することができる。また、液晶層8は、図4に示すように、基板の最も外側、すなわち、非表示領域4の外周側に、液晶層8を取り囲むように設けられたシール(封止材)9により封止されている。このように、シール9は、通常、非表示領域4の最も外側の領域に設けられる。なお、液晶表示パネル101において、セルギャップ(液晶層8の厚み)は、3.5μm程度とする。また、液晶層8は、垂直配向用液晶(誘電率異方性が負のネマチック液晶)を含有する。 4A and 4B are schematic plan views illustrating the configuration of the liquid crystal display panel according to the first embodiment. FIG. 4A illustrates a corner of the liquid crystal display panel, and FIG. 4B illustrates the configuration of pixels in the display area. In the drawing, the region surrounded by the alternate long and short dash line represents BM 20, the region painted in gray represents the insulating layer 26, and the region painted in lattice represents the seal 9. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line AB in FIG. Further, FIG. 6 is a schematic plan view showing the configuration of the corners of the active matrix substrate of the first embodiment. FIG. 7 is a schematic plan view illustrating a configuration of a corner portion of the counter substrate according to the first embodiment. As shown in FIGS. 4 and 5, the liquid crystal display panel 101 of the present embodiment is provided between an active matrix substrate 1 and a counter substrate 2, which are a pair of substrates arranged so as to face each other, and between these substrates. And a liquid crystal layer 8. In addition, these substrates are held with a certain interval (cell gap) by a spacer (not shown). Examples of the spacer include columnar spacers and spherical spacers, but columnar spacers are preferable, whereby an insulating layer described later can be formed using the material of the columnar spacers. Further, as shown in FIG. 4, the liquid crystal layer 8 is sealed by a seal (sealing material) 9 provided so as to surround the liquid crystal layer 8 on the outermost side of the substrate, that is, on the outer peripheral side of the non-display area 4. Has been. Thus, the seal 9 is usually provided in the outermost area of the non-display area 4. In the liquid crystal display panel 101, the cell gap (the thickness of the liquid crystal layer 8) is about 3.5 μm. The liquid crystal layer 8 contains vertical alignment liquid crystal (nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy).

アクティブマトリクス基板1は、図4、5及び6に示すように、ガラス等の透明の絶縁基板10と、絶縁基板10の液晶層8側に形成された、ゲートバスライン(走査信号線、ゲート配線)11と、ゲートバスライン11を覆って絶縁基板10上の略全面に形成されたゲート絶縁膜(図示せず)と、薄膜トランジスタ(TFT)等のアクティブ素子(スイッチング素子、図示せず)と、ソースバスライン(データ信号線、ソース配線)12と、ソースバスライン12及びアクティブ素子を覆って絶縁基板10上の略全面に形成された層間絶縁膜(パッシベーション膜)13と、層間絶縁膜13上の透明導電膜等からなる画素電極14と、液晶層8に接するように設けられた垂直配向膜17aとを備える。なお、TFTは、画素の隅部に設けられる。また、アクティブマトリクス基板1は、ゲートバスライン11と同一材料により形成された保持容量配線(補助容量配線、図示せず)を有する。 As shown in FIGS. 4, 5 and 6, the active matrix substrate 1 includes a transparent insulating substrate 10 such as glass and a gate bus line (scanning signal line, gate wiring) formed on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10. ) 11, a gate insulating film (not shown) formed on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 covering the gate bus line 11, an active element (switching element, not shown) such as a thin film transistor (TFT), A source bus line (data signal line, source wiring) 12, an interlayer insulating film (passivation film) 13 formed on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 so as to cover the source bus line 12 and the active element, and an interlayer insulating film 13 A pixel electrode 14 made of a transparent conductive film or the like, and a vertical alignment film 17 a provided in contact with the liquid crystal layer 8. Note that the TFT is provided in a corner portion of the pixel. Further, the active matrix substrate 1 has a storage capacitor wiring (auxiliary capacitor wiring, not shown) formed of the same material as the gate bus line 11.

画素電極14は、ドレイン電極(ドレイン引き出し配線、図示せず)と層間絶縁膜13のコンタクトホール(図示せず)を介して接続されている。また、画素電極14は、図4に示すように、表示領域3においてマトリクス状に配列されている。更に、画素電極14は、液晶分子の配向制御用の電極スリット(電極抜き部)15が設けられる。電極スリット15は、平面視したときに、略上下対称に配置され、主に、ゲートバスライン11及びソースバスライン12(画素境界線)に対して斜め方向(好適には略45°方向)に配置される。なお、1つの画素における画素電極14の全ての領域は、電極スリット15が形成されない接続部分を介して電気的に接続されるような構成となっている。また、本実施形態において、画素電極14は、平面視したときに、ゲートバスライン11及びソースバスライン12に重ならないように配置されているが、その端部がゲートバスライン11及びソースバスライン12に一部重なるように設けられてもよい。垂直配向膜17aは、層間絶縁膜13及び画素電極14の液晶層8側表面に設けられる。 The pixel electrode 14 is connected to a drain electrode (drain lead wiring, not shown) through a contact hole (not shown) in the interlayer insulating film 13. The pixel electrodes 14 are arranged in a matrix in the display area 3 as shown in FIG. Further, the pixel electrode 14 is provided with an electrode slit (electrode removal portion) 15 for controlling the alignment of liquid crystal molecules. The electrode slits 15 are arranged substantially symmetrically when viewed in a plan view, and mainly in an oblique direction (preferably in a direction of about 45 °) with respect to the gate bus line 11 and the source bus line 12 (pixel boundary line). Be placed. Note that all the regions of the pixel electrode 14 in one pixel are configured to be electrically connected via a connection portion where the electrode slit 15 is not formed. Further, in the present embodiment, the pixel electrode 14 is arranged so as not to overlap the gate bus line 11 and the source bus line 12 when viewed in plan, but the end portions thereof are the gate bus line 11 and the source bus line. 12 may be provided so as to partially overlap. The vertical alignment film 17a is provided on the surface of the interlayer insulating film 13 and the pixel electrode 14 on the liquid crystal layer 8 side.

ゲートバスライン11及びソースバスライン12には、ゲート端子部50及びソース端子部51側に設けられたゲート引き出し配線18及びソース引き出し配線19が接続されている。なお、ゲートバスライン11及びゲート引き出し配線18は、一体的に形成されているが、ソース引き出し配線19は、後述するように、ゲートバスライン11の材料により形成され、表示領域3の端部の非表示領域4側の近傍にてソースバスライン12と接続されている。 A gate lead-out wiring 18 and a source lead-out wiring 19 provided on the side of the gate terminal portion 50 and the source terminal portion 51 are connected to the gate bus line 11 and the source bus line 12. Although the gate bus line 11 and the gate lead-out line 18 are integrally formed, the source lead-out line 19 is formed of the material of the gate bus line 11 and is formed at the end of the display region 3 as described later. The source bus line 12 is connected in the vicinity of the non-display area 4 side.

本明細書において、このような走査信号を伝達するゲートバスライン11及びゲート引き出し配線18、データ信号を伝達するソースバスライン12及びソース引き出し配線19、保持容量配線、ドレイン引き出し配線等を配線と総称する。すなわち、本明細書において、配線とは、画素電極、共通電極及びアクティブ素子以外で、信号の送信及び/又は電荷の蓄積の機能を有する導電部材を意味する。なお、配線は、アクティブ素子に延伸された領域も含むものである。また、アクティブ素子に延伸された領域の配線は、電極と呼ばれるものであってもよく、より具体的には、ソース電極、ドレイン電極(ドレイン引き出し配線)と呼ばれるものであってもよい。すなわち、本明細書において、配線は、アクティブ素子の電極も含むものである。 In this specification, the gate bus line 11 and the gate lead-out wiring 18 for transmitting the scanning signal, the source bus line 12 and the source lead-out wiring 19 for transmitting the data signal, the storage capacitor wiring, the drain lead-out wiring, and the like are collectively referred to as wiring. To do. That is, in this specification, the wiring means a conductive member having functions of signal transmission and / or charge accumulation other than the pixel electrode, the common electrode, and the active element. The wiring includes a region extended to the active element. In addition, the wiring in the region extended to the active element may be called an electrode, and more specifically, may be called a source electrode or a drain electrode (drain lead-out wiring). That is, in this specification, the wiring includes an electrode of an active element.

本実施形態の対向基板2は、ガラス等の透明の絶縁基板10と、絶縁基板10の液晶層8側に形成された、遮光層20と、赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bを含むカラーフィルタ層(CF層)22と、透明導電膜等からなる共通電極(対向電極)23と、共通電極23上に形成された配向制御用突起(以下、「線状突起」ともいう。)24及び配向制御用補助突起(以下、「線状補助突起」ともいう。)25と、液晶層8に接するように設けられた垂直配向膜1717bとを備える。このように、対向基板2は、CF層22を備えることから、カラーフィルタ基板とも呼ばれる。なお、線状突起24及び線状補助突起25は、メインリブ(配向制御構造物)及び補助リブ(補助配向制御構造物)と呼ばれるものであってもよい。また、MVAモード等のように線状突起24を有する液晶モードにおいては、線状補助突起25は設けられなくてもよいが、画素領域における液晶の配向乱れの発生を抑制し、表示品位を向上する観点からは、線状突起24とともに線状補助突起25が設けられることが好ましい。垂直配向膜17bは、線状突起24、線状補助突起25及び共通電極23の液晶層8側表面に設けられる。なお、画素領域とは、表示領域に配列された各画素における光を透過する領域であり、いわゆる画素開口部である。 The counter substrate 2 of the present embodiment includes a transparent insulating substrate 10 such as glass, a light shielding layer 20, a red color filter 21R, a green color filter 21G, and a blue color filter formed on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10. A color filter layer (CF layer) 22 including 21B, a common electrode (counter electrode) 23 made of a transparent conductive film and the like, and an alignment control protrusion (hereinafter also referred to as a “linear protrusion”) formed on the common electrode 23. 24) and alignment control auxiliary protrusions (hereinafter also referred to as “linear auxiliary protrusions”) 25, and a vertical alignment film 1717b provided in contact with the liquid crystal layer 8. Thus, since the counter substrate 2 includes the CF layer 22, it is also called a color filter substrate. The linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 may be called main ribs (alignment control structures) and auxiliary ribs (auxiliary alignment control structures). Further, in the liquid crystal mode having the linear protrusions 24 such as the MVA mode, the linear auxiliary protrusions 25 may not be provided, but the occurrence of liquid crystal alignment disorder in the pixel region is suppressed, and the display quality is improved. From this point of view, it is preferable that the linear auxiliary protrusion 25 is provided together with the linear protrusion 24. The vertical alignment film 17 b is provided on the surface of the linear protrusion 24, the linear auxiliary protrusion 25, and the common electrode 23 on the liquid crystal layer 8 side. The pixel region is a region that transmits light in each pixel arranged in the display region, and is a so-called pixel opening.

赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bは、アクティブマトリクス基板1側に設けられた複数の画素電極14のそれぞれに対応して、マトリクス状に設けられている。また、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bは、列方向に同色のカラーフィルタが配され、行方向に赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bの順に繰り返し配置されている。 The red color filter 21R, the green color filter 21G, and the blue color filter 21B are provided in a matrix corresponding to each of the plurality of pixel electrodes 14 provided on the active matrix substrate 1 side. The color filters 21R, 21G, and 21B have the same color filter in the column direction, and are repeatedly arranged in the order of the red color filter 21R, the green color filter 21G, and the blue color filter 21B in the row direction.

遮光層(ブラックマトリクス;BM)20は、平面視したときに、各カラーフィルタの間隙と非表示領域(額縁領域)4の略全域とに配置されている。このように、BM20は、平面視したときに、表示領域3においては各画素の境界領域に対応して格子状に設けられている。そして、BM20の開口領域には、その端部がBM20と一部重なるように、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bが配置されている。なお、BM20の光学濃度OD値としては特に限定されないが、3.0以上であることが好ましく、4.0以上以下であることがより好ましい。 The light shielding layer (black matrix; BM) 20 is disposed in the gaps between the color filters and substantially the entire non-display area (frame area) 4 when viewed in plan. As described above, the BM 20 is provided in a lattice shape corresponding to the boundary region of each pixel in the display region 3 when viewed in plan. Then, the color filters 21R, 21G, and 21B are arranged in the opening region of the BM 20 so that the end portions thereof partially overlap the BM 20. The optical density OD value of BM20 is not particularly limited, but is preferably 3.0 or more, and more preferably 4.0 or more.

共通電極23は、一般に、BM20及びCF層22の液晶層8側表面に、すなわち、BM20及びCF層22を覆って絶縁基板10上の略全面に設けられる。なお、共通電極23は、対向電極と呼ばれるものであってもよい。 The common electrode 23 is generally provided on the surface of the BM 20 and the CF layer 22 on the liquid crystal layer 8 side, that is, on the substantially entire surface of the insulating substrate 10 so as to cover the BM 20 and the CF layer 22. The common electrode 23 may be called a counter electrode.

線状突起24及び線状補助突起25は、液晶層8に含まれる液晶分子の配向を制御するための突起であり、共通電極23の液晶層8側の表面に設けられている。線状突起24は、平面視したときに、各画素内に略V字状に配置されている。より具体的には、線状突起24は、平面視したときに、電極スリット15と同様に、ゲートバスライン11及びソースバスライン12に対して、斜め方向(好適には略45°方向)に配置される。また、線状突起24及び電極スリット15は、平面視したときに、略平行に配置される。これにより、画素電極14(液晶層8)に閾値電圧以上の電圧を印加した場合、液晶層8に含まれる液晶分子は、平面視したときに、線状突起24及び電極スリット15の延びる方向に対して略垂直方向に傾斜及び配向することとなる。一方、線状補助突起25は、線状突起24よりも小さな突起であり、液晶分子のディスクリネーションを防止するため必要に応じて設けられる。より具体的には、線状補助突起25は、平面視したときに、ゲートバスライン11又はソースバスライン12に対して略平行に設けられ、また、線状補助突起25は、主に、平面視したときに、ゲートバスライン11及びソースバスライン12に対して略45°方向に配置された電極スリット15に対して鋭角(好適には略45°)に交わるように設けられる。更に、線状補助突起25は、主に、平面視したときに、画素領域の端部に配置される。そして、線状補助突起25は、通常、同一材料により線状突起24と一体的に形成される。なお、図4(b)中、白抜き部分が線状突起24として、斜線部分が線状補助突起25として機能する。また、本実施形態において、線状突起24及び線状補助突起25の幅はそれぞれ、8〜12μm及び5〜10μm程度であり、その高さはそれぞれ、1〜2μm及び0.5〜1.5μm程度である。このように、線状補助突起25は、線状突起24に比べて、幅を狭く、かつ、高さを低く形成したほうがよい。これにより、画素開口部の光透過率に寄与しない配向方向(平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に対して略平行又は略垂直方向)に配向される液晶分子を低減し、光透過率を向上することができる。 The linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 are protrusions for controlling the alignment of liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer 8, and are provided on the surface of the common electrode 23 on the liquid crystal layer 8 side. The linear protrusions 24 are arranged in a substantially V shape in each pixel when viewed in plan. More specifically, the linear protrusion 24 is obliquely (preferably approximately 45 ° direction) with respect to the gate bus line 11 and the source bus line 12 in the same manner as the electrode slit 15 when viewed in plan. Be placed. Further, the linear protrusions 24 and the electrode slits 15 are arranged substantially in parallel when viewed in plan. As a result, when a voltage equal to or higher than the threshold voltage is applied to the pixel electrode 14 (liquid crystal layer 8), the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer 8 extend in the direction in which the linear protrusions 24 and the electrode slits 15 extend when viewed in plan. On the other hand, it is inclined and oriented in a substantially vertical direction. On the other hand, the linear auxiliary projection 25 is a projection smaller than the linear projection 24 and is provided as necessary to prevent disclination of liquid crystal molecules. More specifically, the linear auxiliary protrusion 25 is provided substantially parallel to the gate bus line 11 or the source bus line 12 when viewed in plan, and the linear auxiliary protrusion 25 is mainly a plane. When viewed, the electrode slit 15 disposed in a direction of about 45 ° with respect to the gate bus line 11 and the source bus line 12 is provided so as to intersect at an acute angle (preferably about 45 °). Furthermore, the linear auxiliary protrusions 25 are mainly arranged at the end of the pixel region when viewed in plan. The linear auxiliary protrusions 25 are usually formed integrally with the linear protrusions 24 using the same material. In FIG. 4B, the white portion functions as the linear protrusion 24 and the shaded portion functions as the linear auxiliary protrusion 25. Moreover, in this embodiment, the width | variety of the linear protrusion 24 and the linear auxiliary | assistant protrusion 25 is about 8-12 micrometers and 5-10 micrometers, respectively, and the height is respectively 1-2 micrometers and 0.5-1.5 micrometers. Degree. As described above, it is preferable that the linear auxiliary protrusion 25 is formed to have a narrow width and a low height as compared with the linear protrusion 24. This reduces liquid crystal molecules that are aligned in the alignment direction that does not contribute to the light transmittance of the pixel opening (substantially parallel or substantially perpendicular to the polarization axis direction of the polarizing plate when viewed in plan), and transmits light. The rate can be improved.

そして、絶縁層26は、平面視したときに、BM20等の遮光領域に配置され、液晶層8は、絶縁層26が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されている。したがって、表示品位に損なうことなく、液晶層の占有体積、すなわち、液晶材料の使用量を減少することができる。なお、画素開口部は、表示領域に配列された各画素における光を透過する領域である。 The insulating layer 26 is disposed in a light shielding region such as the BM 20 when viewed in plan, and the liquid crystal layer 8 is set so that the thickness in the region where the insulating layer 26 is disposed is smaller than the thickness in the pixel opening. Has been. Accordingly, the occupied volume of the liquid crystal layer, that is, the amount of the liquid crystal material used can be reduced without deteriorating the display quality. The pixel opening is a region that transmits light in each pixel arranged in the display region.

なお、絶縁層26は、配線よりも液晶層側に配置される。したがって、通常、異なる層に位置する配線の間の層に配置されるゲート絶縁膜と、絶縁膜26とは明確に区別される。また、絶縁層26は、平面視したときに、配線と重なるように適宜選択的に配置される。したがって、通常、基板の略全面に形成される層間絶縁膜と、絶縁膜26とは明確に区別される。更に、絶縁層26は、配向膜よりも絶縁基板側に配置されることから、配向膜とも明確に区別される。なお、絶縁層26は、複数の絶縁層が積層された構造を有してもよい。 Note that the insulating layer 26 is disposed closer to the liquid crystal layer than the wiring. Therefore, normally, the gate insulating film disposed in a layer between wirings located in different layers and the insulating film 26 are clearly distinguished. In addition, the insulating layer 26 is appropriately and selectively disposed so as to overlap with the wiring when viewed in plan. Therefore, usually, the interlayer insulating film formed on substantially the entire surface of the substrate and the insulating film 26 are clearly distinguished. Furthermore, since the insulating layer 26 is disposed closer to the insulating substrate than the alignment film, it is clearly distinguished from the alignment film. The insulating layer 26 may have a structure in which a plurality of insulating layers are stacked.

また、本実施形態の対向基板2は、表示領域3及び非表示領域4において、共通電極23と、アクティブマトリクス基板1に設けられた配線(信号線、引き出し配線やその他配線)との間の液晶層8側に絶縁層26を有する。このように、対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備え、一方の基板の液晶層側に共通電極が設けられ、他方の基板の液晶層側に配線が設けられた液晶表示パネルであって、上記液晶表示パネルを構成する基板の少なくとも一つは、一方の基板の共通電極と他方の基板の配線との間に配置される絶縁層を液晶層側に有することによって、対向する配線と共通電極との間に存在する寄生容量を低減することができる。なお、共通電極23は、通常、透明電極から形成され、対向基板2の略全面に形成される。したがって、絶縁層26は、平面視したときに、配線と重なる領域に配置されることが好ましいとも言える。これにより、共通電極23と配線との間の最短経路を絶縁層26で遮ることができるので、より効果的に寄生容量を低減することができる。なお、ゲートバスライン11、ソースバスライン12等は、平面視したときに、画素電極14の端部と重なるように配置される場合があり、また、保持容量配線等は、平面視したときに、画素電極14の中央部を貫通するように配置される場合がある。更に、画素電極14は、通常、配線よりも液晶層3側に配置され、共通電極23とともに画素容量を構成する。そのため、平面視したときの配線の画素電極14に重なる部分については、配線及び共通電極23の間の寄生容量に対する寄与は実質的にないといってもよい。したがって、画素電極14及び共通電極23の間の画素容量に影響を与えず、かつ配線及び共通電極23の間の寄生容量を低減するという本発明の効果を充分に発揮する観点からは、絶縁層26は、平面視したときの配線の画素電極14に重ならない部分と重なる領域に配置されることが好ましい。言い換えると、平面視したときの配線の絶縁層26が配置された部分と共通電極23とが重なる領域には画素電極14が配置されないことが好ましく、更に言い換えると、平面視したときの配線の絶縁層26が配置された部分には画素電極14が配置されないことが好ましい。 Further, the counter substrate 2 of the present embodiment has a liquid crystal between the common electrode 23 and wirings (signal lines, lead-out wirings and other wirings) provided on the active matrix substrate 1 in the display region 3 and the non-display region 4. An insulating layer 26 is provided on the layer 8 side. As described above, a pair of opposing substrates and a liquid crystal layer provided between the substrates are provided, a common electrode is provided on the liquid crystal layer side of one substrate, and wiring is provided on the liquid crystal layer side of the other substrate. A liquid crystal display panel, wherein at least one of the substrates constituting the liquid crystal display panel has an insulating layer disposed between the common electrode of one substrate and the wiring of the other substrate on the liquid crystal layer side. The parasitic capacitance existing between the opposing wiring and the common electrode can be reduced. The common electrode 23 is usually formed of a transparent electrode, and is formed on substantially the entire surface of the counter substrate 2. Therefore, it can be said that the insulating layer 26 is preferably disposed in a region overlapping with the wiring when viewed in plan. Thereby, since the shortest path between the common electrode 23 and the wiring can be blocked by the insulating layer 26, the parasitic capacitance can be more effectively reduced. Note that the gate bus line 11, the source bus line 12, and the like may be arranged so as to overlap with the end portion of the pixel electrode 14 when viewed in plan, and the storage capacitor wiring and the like are viewed when viewed in plan. In some cases, the pixel electrode 14 may be disposed so as to penetrate the central portion. Further, the pixel electrode 14 is usually arranged on the liquid crystal layer 3 side with respect to the wiring, and constitutes a pixel capacitor together with the common electrode 23. For this reason, it may be said that the portion of the wiring that overlaps the pixel electrode 14 in plan view has substantially no contribution to the parasitic capacitance between the wiring and the common electrode 23. Therefore, from the viewpoint of sufficiently exerting the effect of the present invention that does not affect the pixel capacitance between the pixel electrode 14 and the common electrode 23 and reduces the parasitic capacitance between the wiring and the common electrode 23, the insulating layer 26 is preferably disposed in a region that overlaps a portion of the wiring that does not overlap the pixel electrode 14 in plan view. In other words, it is preferable that the pixel electrode 14 is not disposed in a region where the common electrode 23 overlaps with a portion where the insulating layer 26 of the wiring in a plan view is arranged, and in other words, the insulation of the wiring in a plan view. It is preferable that the pixel electrode 14 is not disposed in the portion where the layer 26 is disposed.

また、絶縁層26は、図4(a)に示すように、表示領域3において、BM20の略中央付近、すなわち線状突起24及び線状補助突起25が設けられていない領域に、平面視線状に形成され、画素の端部の線状補助突起25とは一定の間隙が設けられている。本実施形態では、BM20の幅を32μm、線状補助突起25の幅を7.5μm、ライン状に配置された絶縁層26の幅を7.5μm、BM20と各色カラーフィルタ21R、21G、21Bとの重なりの幅を7μmとした。このような構造とすることにより、画素領域(画素開口部)内で線状補助突起25の配向規制力が強くなりすぎ、光透過率が低下してしまうことを防ぐことができる。すなわち、ライン状の絶縁層26が画素領域の液晶分子の配向に影響を与えないようにすることができる。また、絶縁層26は、遮光領域エッジよりも内側の遮光領域内に設けられているので、絶縁層26によって画素開口部の光透過率が低下することを抑制できる。後述する遮光性を有する絶縁層26及び/又は着色された絶縁層26を用いる場合に、本構成は特に有効である。 In addition, as shown in FIG. 4A, the insulating layer 26 has a linear shape in plan view in the display region 3 in the vicinity of the approximate center of the BM 20, that is, in the region where the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25 are not provided. A certain gap is provided from the linear auxiliary protrusion 25 at the end of the pixel. In this embodiment, the width of the BM 20 is 32 μm, the width of the linear auxiliary protrusion 25 is 7.5 μm, the width of the insulating layer 26 arranged in a line is 7.5 μm, the BM 20 and the color filters 21R, 21G, and 21B. The overlap width was set to 7 μm. By adopting such a structure, it is possible to prevent the light transmittance from being lowered due to the excessive alignment regulating force of the linear auxiliary protrusion 25 in the pixel region (pixel opening). That is, the line-shaped insulating layer 26 can be prevented from affecting the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region. In addition, since the insulating layer 26 is provided in the light shielding region inside the light shielding region edge, it is possible to suppress the light transmittance of the pixel opening from being lowered by the insulating layer 26. This configuration is particularly effective when an insulating layer 26 having a light-shielding property and / or a colored insulating layer 26 described later is used.

また、絶縁層26は、平面視したときに、遮光領域に配置されている。これにより、絶縁層26によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制でき、その結果、表示品位の悪化の抑制することができる。なお、遮光領域とは、表示のON又はOFFに係わらず、常時、暗い領域である。遮光領域の構成要素としては、絶縁基板10の内側(液晶層側)に配置されたBM20、遮光性を有する材料から形成された配線(本実施形態では、ゲートバスライン11及びゲート引き出し配線18、データ信号を伝達するソースバスライン12及びソース引き出し配線19、保持容量配線等)、絶縁基板10の外側に配置された遮光部材(例えば、筐体)等が好適である。なお、遮光領域は、いくつかの構成要素が組み合わされた形態であってもよい。また、表示品位の悪化の抑制しつつ、液晶材料の使用量をより低減する観点からは、絶縁層26は、平面視したときに、遮光領域の略全域に配置されることが好ましい。 The insulating layer 26 is disposed in the light shielding region when viewed in plan. Thereby, it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces by the insulating layer 26, As a result, deterioration of a display quality can be suppressed. Note that the light shielding area is a dark area at all times regardless of whether the display is on or off. As components of the light shielding region, the BM 20 disposed on the inner side (liquid crystal layer side) of the insulating substrate 10, wiring formed of a light shielding material (in this embodiment, the gate bus line 11 and the gate lead-out wiring 18, A source bus line 12 and a source lead wiring 19 for transmitting a data signal, a storage capacitor wiring, etc.), a light shielding member (for example, a housing) disposed outside the insulating substrate 10 and the like are suitable. Note that the light shielding region may have a configuration in which several components are combined. In addition, from the viewpoint of further reducing the amount of liquid crystal material used while suppressing deterioration in display quality, it is preferable that the insulating layer 26 is disposed in substantially the entire light shielding region when viewed in plan.

本実施形態においては、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3及び非表示領域4に位置するBM20と重なる領域に配置されている。これにより、絶縁層26によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制でき、その結果、表示品位の悪化を抑制することができる。このように、表示品位の悪化を抑制する観点からは、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3及び/又は非表示領域4に位置するBM20と重なる領域に配置されることが好ましい。すなわち、非表示領域4に位置する絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3にはみ出さず、かつBM20と重なって配置されることが好ましい。また、絶縁層26は、平面視したときに、非表示領域4に位置するBM20よりも外側に配置されることが好ましい。なお、非表示領域4に位置するBM20は、通常、平面視したときに、表示領域3を囲んで略環状に配置され、また、その形状が略帯状である。また、表示領域3に位置するBM20は、通常、表示領域3に配列された画素間の境界領域に配置される。したがって、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3に配列された画素間の境界領域と重なる領域に配置されることが好ましく、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3に配列された画素間の境界領域に位置するBM20と重なる領域に配置されることが好ましいとも言える。 In the present embodiment, the insulating layer 26 is disposed in a region overlapping the BM 20 located in the display region 3 and the non-display region 4 when viewed in plan. Thereby, it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces by the insulating layer 26, As a result, the deterioration of display quality can be suppressed. As described above, from the viewpoint of suppressing deterioration in display quality, the insulating layer 26 is preferably disposed in a region overlapping the BM 20 located in the display region 3 and / or the non-display region 4 when viewed in plan. . That is, it is preferable that the insulating layer 26 located in the non-display area 4 does not protrude from the display area 3 and is overlapped with the BM 20 when viewed in plan. The insulating layer 26 is preferably disposed outside the BM 20 located in the non-display area 4 when viewed in plan. Note that the BM 20 located in the non-display area 4 is generally arranged in an annular shape so as to surround the display area 3 when viewed in a plan view, and has a substantially band shape. Further, the BM 20 located in the display area 3 is usually arranged in a boundary area between pixels arranged in the display area 3. Therefore, the insulating layer 26 is preferably arranged in a region overlapping with a boundary region between pixels arranged in the display region 3 when viewed in plan, and the insulating layer 26 is displayed in the display region 3 when viewed in plan. It can be said that it is preferable to arrange in a region overlapping with the BM 20 located in the boundary region between the pixels arranged in the.

また、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3の略全域の配線に沿って配置され、非表示領域4の略全域に配置されている。より具体的には、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3において、その形状が線状であり、かつ配線の略全域に沿って配置され、非表示領域4において、その形状が略帯状であり、かつ表示領域3を囲んで略環状に配置される。これにより、寄生容量と液晶材料の使用量との更なる低減を可能としている。 In addition, the insulating layer 26 is disposed along substantially the entire wiring area of the display area 3 when viewed in a plan view, and is disposed substantially throughout the non-display area 4. More specifically, the insulating layer 26 has a linear shape in the display region 3 and is disposed along substantially the entire area of the wiring when viewed in a plan view, and has a shape in the non-display region 4. It is substantially band-shaped and is arranged in a substantially annular shape surrounding the display area 3. As a result, the parasitic capacitance and the amount of liquid crystal material used can be further reduced.

また、対向基板2は、液晶層8側に配向制御用構造物(本実施形態では、線状突起24及び線状補助突起25)を有する。これにより、線状突起24及び線状補助突起25と、アクティブマトリクス基板1側の配向制御用構造物(本実施形態では、電極スリット15)とを組み合わせて用いることによって、広視野角化が可能となる。すなわち、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に線状突起24及び/又は線状補助突起25を有することが好ましい。なお、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、通常、絶縁基板10の液晶層8側に線状突起24を有する形態、又は、絶縁基板10の液晶層8側に線状突起24及び線状補助突起25を有する形態であるが、表示品位を向上する観点からは、後者の形態が好ましい。また、線状突起24及び線状補助突起25は、通常、絶縁性の樹脂等の絶縁性材料を用いて形成される。したがって、絶縁層26の材質として線状突起24及び/又は線状補助突起25の材料を用いることによって、絶縁層26を線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一工程にて形成することができる。すなわち、絶縁層26と線状突起24及び/又は線状補助突起25とにおける材料、現像プロセス等の共用化を図ることができるため、製造工程を特に複雑化させることなく、絶縁層26が設けられた液晶表示パネル101を容易に作製することができる。したがって、このような観点からは、絶縁層26は、線状突起24及び/又は線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板(以下、本実施形態では対向基板2)に配置され、かつ線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。なお、絶縁層26は、線状突起24及び/又は線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料からなる層であってもよい。また、絶縁層26は、通常、線状突起24を有する少なくとも一方の基板(以下、本実施形態では対向基板2)に配置され、かつ線状突起24と同一の材料を含んで構成される形態、又は、線状突起24及び線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板(以下、本実施形態では対向基板2)に配置され、かつ線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料を含んで構成される形態であるが、上述のように、表示品位を向上する観点からは、後者の形態が好ましい。また、線状突起24及び線状補助突起25は、通常、同一の材料を用いて、同一工程にて形成される。したがって、製造工程を複雑化することなく、表示品位を向上する観点からは、絶縁層26は、線状突起24及び線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ線状突起24及び線状補助突起25と同一の材料を含んで構成される形態が好ましい。このように、製造工程を複雑化させることなく絶縁層26を容易に形成する観点からは、絶縁層26は、絶縁層26を有する基板(以下、本実施形態では対向基板2)を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。なお、絶縁層26は、絶縁層26を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料からなる層であってもよい。したがって、本実施形態において、絶縁層26は、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bの少なくともいずれか一色のカラーフィルタと同一の材料から形成されてもよい。すなわち、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、絶縁層26は、カラーフィルタ層を有する基板(好適には対向基板2)に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されてもよい。なお、この場合、絶縁層26は、カラーフィルタ層を有する基板に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料からなる層であってもよい。 Further, the counter substrate 2 has an alignment control structure (in the present embodiment, linear protrusions 24 and linear auxiliary protrusions 25) on the liquid crystal layer 8 side. Accordingly, a wide viewing angle can be obtained by using the linear protrusions 24 and the auxiliary auxiliary protrusions 25 in combination with the alignment control structure on the active matrix substrate 1 side (in this embodiment, the electrode slit 15). It becomes. That is, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 preferably has the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10. Note that at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 usually has a linear protrusion 24 on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10 or the linear protrusion 24 and the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10. Although it is a form which has the linear auxiliary | assistant protrusion 25, the latter form is preferable from a viewpoint of improving a display quality. The linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 are usually formed using an insulating material such as an insulating resin. Therefore, the insulating layer 26 is formed in the same process as the linear protrusion 24 and / or the linear auxiliary protrusion 25 by using the material of the linear protrusion 24 and / or the linear auxiliary protrusion 25 as the material of the insulating layer 26. be able to. That is, since the material, development process, and the like can be shared between the insulating layer 26 and the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25, the insulating layer 26 is provided without particularly complicating the manufacturing process. The obtained liquid crystal display panel 101 can be easily manufactured. Therefore, from such a viewpoint, the insulating layer 26 is disposed on at least one substrate (hereinafter referred to as the counter substrate 2 in the present embodiment) having the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 and is linear. It is preferable that the same material as that of the protrusion 24 and / or the linear auxiliary protrusion 25 is included. The insulating layer 26 is a layer that is disposed on at least one substrate having the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 and is made of the same material as the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25. There may be. The insulating layer 26 is usually disposed on at least one substrate having the linear protrusions 24 (hereinafter referred to as the counter substrate 2 in the present embodiment) and includes the same material as the linear protrusions 24. Or arranged on at least one substrate (hereinafter referred to as the counter substrate 2 in this embodiment) having the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25, and the same as the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25. Although it is the form comprised including a material, as mentioned above, the latter form is preferable from a viewpoint of improving display quality. Further, the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25 are usually formed in the same process using the same material. Therefore, from the viewpoint of improving display quality without complicating the manufacturing process, the insulating layer 26 is disposed on at least one substrate having the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25, and the linear protrusions 24 are provided. And the form comprised including the same material as the linear auxiliary protrusion 25 is preferable. As described above, from the viewpoint of easily forming the insulating layer 26 without complicating the manufacturing process, the insulating layer 26 is a substrate that includes the insulating layer 26 (hereinafter referred to as the counter substrate 2 in the present embodiment). It is preferable to include the same material as that member. The insulating layer 26 may be a layer made of the same material as any member constituting the substrate having the insulating layer 26. Therefore, in the present embodiment, the insulating layer 26 may be formed of the same material as the color filter of at least one of the color filters 21R, 21G, and 21B. That is, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 has a color filter layer including a plurality of color filters on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the insulating layer 26 is a substrate having a color filter layer (preferably May be configured to include the same material as that of any of the color filters disposed on the counter substrate 2). In this case, the insulating layer 26 may be a layer that is disposed on a substrate having a color filter layer and is made of the same material as any of the color filters.

また、絶縁層26は、線状突起24及び/又は線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ平面視したときに、線状突起24及び/又は線状補助突起25と重ならない配置されている。これにより、線状突起24及び線状補助突起25の配向規制力に悪影響を与えないようにすることができる。したがって、絶縁層26によって表示品位が低下することを防止することができる。なお、この形態においても、もちろん、絶縁層26は、線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料を含んで構成されることが好ましく、線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料からなる層であってもよい。 The insulating layer 26 is disposed on at least one substrate having the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 and overlaps the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 when viewed in plan. It must be arranged. Thereby, it is possible to prevent an adverse effect on the alignment regulating force of the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25. Therefore, the display quality can be prevented from being lowered by the insulating layer 26. In this embodiment, as a matter of course, the insulating layer 26 preferably includes the same material as the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25, and the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary elements are preferably included. It may be a layer made of the same material as the protrusion 25.

図8は、実施形態1の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。また、図9は、比較形態の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。なお、図8及び9では、ポジ型感光性材料を用いて線状補助突起25及び絶縁層26を同一工程にて形成した場合を示しており、この場合、それらの断面形状は、エッジにテーパがついた形状となる。また、図8及び9では、説明を明確にするため、線状補助突起25及び絶縁層26を実際の形状に近い形状で示した。このように、線状補助突起25及び絶縁層26の材質としてポジ型感光性樹脂を用いた場合、線状補助突起25の高さは、図8に示すように、絶縁層26の高さよりも低く設定されることがある。これは、絶縁層26が画素領域内の線状突起24と同程度のサイズを有するのに対して、線状補助突起25がディスクリネーションの発生を制御する程度の配向規制力を発現するように、本来、線状突起24よりも幅が細く、かつ高さが低くなるように設定されているためである。なお、高さの異なる線状補助突起25及び絶縁層26を同一工程にて作製するためには、露光時の光の回り込みが発生する程度まで線状補助突起25の幅を細くすればよい。これにより、本来マスク(遮光)される部分のポジ型感光性材料も露光及び現像されることとなるため、線状補助突起25の高さを絶縁層26よりも低く形成することができる。一方、図9のように線状補助突起25と絶縁層26との間には間隙を設けない場合、補助リブの機能を果たす配向制御構造物の幅が大きくなるとともに高さも高くなる。そのため、線状補助突起25の配向規制力が強くなりすぎ、液晶分子が偏光板56a、56bの偏光軸方向と略平行又は略垂直に配向されやすくなってしまい、その結果、光透過率が低下してしまう。したがって、絶縁層26は、図6に示したように、線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板(本実施形態では対向基板2)に配置され、平面視したときに、線状補助突起25、より好適には画素領域の端部近傍に設けられた線状補助突起25、との間に間隔を有して配置されることが好ましい。画素エッジに設けられる線状補助突起25との間に間隙を設けずに絶縁層26を配置した場合、絶縁層26を上述のように線状補助突起25と同一の材料から形成すると、補助リブとしての機能を果たすべき線状補助突起25の幅が大きくなるとともに、その高さも高くなる。それに対して、絶縁層26と線状補助突起25との間に間隙を設けることによって、線状補助突起25の配向規制力が必要以上強くなることを防止することができ、その結果、光透過率の低下が発生するのを抑制することができる。このように、線状補助突起25近傍における光透過率の低下を抑制する観点からは、絶縁層26は、線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ平面視したときに、線状補助突起25、より好適には画素領域の端部近傍に設けられた線状補助突起25との間に間隔を有して配置される形態がより好ましいと言える。また、線状補助突起25近傍における光透過率の低下をより効果的に抑制する観点からは、絶縁層26は、線状補助突起25を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ線状補助突起25と同一の材料からなる層であり、更に平面視したときに線状補助突起25、より好適には画素領域の端部近傍に設けられた線状補助突起25との間に間隔を有して配置される形態が好適である。 FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the linear auxiliary protrusion and the insulating layer of the first embodiment. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a linear auxiliary protrusion and an insulating layer of a comparative form. 8 and 9 show the case where the linear auxiliary protrusions 25 and the insulating layer 26 are formed in the same process using a positive photosensitive material. In this case, their cross-sectional shapes are tapered at the edges. It becomes the shape with. 8 and 9, the linear auxiliary protrusions 25 and the insulating layer 26 are shown in a shape close to the actual shape for the sake of clarity. Thus, when positive photosensitive resin is used as the material of the linear auxiliary protrusions 25 and the insulating layer 26, the height of the linear auxiliary protrusions 25 is higher than the height of the insulating layer 26 as shown in FIG. May be set low. This is because the insulating layer 26 has the same size as the linear protrusions 24 in the pixel region, whereas the linear auxiliary protrusions 25 exhibit an orientation regulating force that controls the occurrence of disclination. This is because the width is originally narrower than the linear protrusion 24 and the height is set lower. In order to produce the linear auxiliary protrusions 25 and the insulating layer 26 having different heights in the same process, the width of the linear auxiliary protrusions 25 may be reduced to the extent that light wraps around during exposure. As a result, the positive type photosensitive material that is originally masked (light-shielded) is also exposed and developed, so that the height of the linear auxiliary projection 25 can be made lower than that of the insulating layer 26. On the other hand, when a gap is not provided between the linear auxiliary protrusion 25 and the insulating layer 26 as shown in FIG. 9, the width of the orientation control structure that functions as an auxiliary rib increases and the height also increases. For this reason, the alignment regulating force of the linear auxiliary protrusions 25 becomes too strong, and the liquid crystal molecules are easily aligned substantially parallel or substantially perpendicular to the polarization axis directions of the polarizing plates 56a and 56b, resulting in a decrease in light transmittance. Resulting in. Therefore, as shown in FIG. 6, the insulating layer 26 is disposed on at least one substrate (the counter substrate 2 in the present embodiment) having the linear auxiliary protrusions 25, and when viewed in plan, the linear auxiliary protrusions 25. More preferably, it is preferably arranged with a space between the auxiliary auxiliary protrusions 25 provided near the end of the pixel region. When the insulating layer 26 is arranged without providing a gap between the linear auxiliary protrusions 25 provided on the pixel edge, the auxiliary ribs are formed by forming the insulating layer 26 from the same material as the linear auxiliary protrusions 25 as described above. As the width of the linear auxiliary projection 25 that should fulfill the function of is increased, the height is also increased. On the other hand, by providing a gap between the insulating layer 26 and the linear auxiliary protrusion 25, it is possible to prevent the alignment restricting force of the linear auxiliary protrusion 25 from becoming stronger than necessary. It can suppress that the fall of a rate generate | occur | produces. Thus, from the viewpoint of suppressing a decrease in light transmittance in the vicinity of the linear auxiliary protrusion 25, the insulating layer 26 is disposed on at least one substrate having the linear auxiliary protrusion 25, and when viewed in plan view, It can be said that it is more preferable that the linear auxiliary projection 25 is arranged with a space between the linear auxiliary projection 25 and more preferably the linear auxiliary projection 25 provided near the end of the pixel region. Further, from the viewpoint of more effectively suppressing a decrease in light transmittance in the vicinity of the linear auxiliary protrusion 25, the insulating layer 26 is disposed on at least one substrate having the linear auxiliary protrusion 25, and the linear auxiliary protrusion 25 25 is a layer made of the same material as that of the line 25, and has a space between the line auxiliary protrusion 25 when viewed further in a plan view, and more preferably the line auxiliary protrusion 25 provided near the end of the pixel region. Are preferably arranged.

また、絶縁層26は、液晶表示パネルを断面視したときに(以下、「断面視したときに」ともいう。)、順テーパ形状を有する。線状突起24及び線状補助突起25は、通常、ポジ型感光性樹脂材料から形成され、その断面形状は順テーパ形状である。したがって、絶縁層26が順テーパ形状を有する場合、上述したように、絶縁層26を線状突起24及び線状補助突起25と同一の材料を用いて容易に形成することができる。また、絶縁層26の断面形状が逆テーパ形状であると、配向膜の塗布性が悪化し、テーパ部近傍の液晶分子の配向が乱れてしまい、画素開口部の液晶分子の配向にも影響を与えてしまう場合がある。しかしながら、絶縁層26の断面形状を順テーパ形状とすることによって、配向膜の塗布性を向上させることができる。その結果、テーパ部近傍の液晶分子の配向状態を安定化させることができ、液晶分子の配向乱れの発生を抑制することができる。 The insulating layer 26 has a forward tapered shape when the liquid crystal display panel is viewed in cross section (hereinafter also referred to as “when viewed in cross section”). The linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 are usually formed from a positive photosensitive resin material, and the cross-sectional shape thereof is a forward tapered shape. Therefore, when the insulating layer 26 has a forward tapered shape, the insulating layer 26 can be easily formed using the same material as the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 as described above. In addition, if the cross-sectional shape of the insulating layer 26 is an inversely tapered shape, the coating property of the alignment film is deteriorated, the alignment of the liquid crystal molecules in the vicinity of the tapered portion is disturbed, and the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel opening is also affected. May give. However, the application property of the alignment film can be improved by making the cross-sectional shape of the insulating layer 26 a forward tapered shape. As a result, the alignment state of the liquid crystal molecules in the vicinity of the taper portion can be stabilized, and the occurrence of alignment disorder of the liquid crystal molecules can be suppressed.

また、絶縁層26は、平面視したときに、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bの間の間隙に配置されている。また、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3に配列された画素間の境界領域に配置されている。これらの領域は、通常、遮光領域(本実施形態ではBM20が配置された領域)であることから、絶縁層26よって画素開口部の光透過率が減少することを抑制することができる。すなわち、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3に配列された画素間の境界領域に位置するBM20と重なる領域に配置されることが好ましいと言える。 The insulating layer 26 is disposed in the gap between the color filters 21R, 21G, and 21B when viewed in plan. In addition, the insulating layer 26 is disposed in a boundary region between the pixels arranged in the display region 3 when viewed in plan. Since these areas are usually light-shielding areas (areas where the BM 20 is arranged in this embodiment), it is possible to suppress the light transmittance of the pixel opening from being reduced by the insulating layer 26. That is, it can be said that the insulating layer 26 is preferably disposed in a region overlapping the BM 20 located in the boundary region between the pixels arranged in the display region 3 when viewed in plan.

また、基板の少なくとも一方(本実施形態では対向基板2)は、絶縁基板10の液晶層8側に、絶縁基板10側から順に、開口部を有するBM20と、複数のカラーフィルタ(本実施形態では各色カラーフィルタ21R、21G、21B)がBM20の開口部に配置されたCF層22と、BM20及びCF層22上の略全面に設けられた共通電極23と、絶縁層26とを有し、絶縁層26は、平面視したときに、BM20と重なる領域に配置されている。これにより、画素開口部の光透過率が減少するのを抑制できるので、表示品位を悪化することなく、寄生容量を低減することができる。なお、CF層22及びBM20の膜厚は、通常異なるため、CF層22とBM20との間には、段差が発生し、対向基板2は、平面視したときのBM20と重なる領域に、くぼみ部(凹部)が発生することになる。図10は、従来の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。従来の液晶表示パネル701において、対向基板2は、図10に示すように、CF層22とBM20との段差により生じるくぼみ部(凹部)28を有し、余分な液晶材料が用いられていた。また、対向基板2側に配向膜17以外の絶縁層がないため、寄生容量を低減するという点では不利であった。更に、印刷方式やインクジェット方式で配向膜を塗布する場合、くぼみ部28に配向膜が塗れないことがあった。また、くぼみ部28にゴミ(異物、カレット(ガラス基板分断時にでるガラスの微小な切り屑)等)が溜まり、ゴミの近くのセルギャップが変化することによって、表示画面上にシミ(局所的な表示ムラ)等が発生することがあった。一方、図11は、実施形態1の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。このように、本実施形態においては、図11に示すように、くぼみ部(凹部)28内に絶縁層26が配置されるため、寄生容量を低減できるとともに、余分な液晶材料の使用量を効果的に削減することができる。また、くぼみ部28に溜まるゴミに起因するセル厚不良の発生を抑制することができる。更に、配向膜の塗布不良の発生を抑制でき、表示品位を向上することができる。このように、基板の少なくとも一方(本実施形態では対向基板2)は、絶縁基板10の液晶層8側に、絶縁基板10側から順に、開口部を有するBM20と、複数のカラーフィルタ(本実施形態では各色カラーフィルタ21R、21G、21B)がBM20の開口部に配置されたCF層22と、BM20及びCF層22上の略全面に設けられた共通電極23とを有し、かつBM20及びカラーフィルタに起因する段差が形成され、絶縁層26は、BM20とカラーフィルタの端部とにより形成される凹部上に配置される形態であってもよい。なお、CF層22とBM20との間の段差は、近年増加する傾向にある。 In addition, at least one of the substrates (the counter substrate 2 in the present embodiment) includes, in order from the insulating substrate 10 side on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, a BM 20 having an opening, and a plurality of color filters (in the present embodiment). Each color filter 21R, 21G, 21B) has a CF layer 22 disposed in the opening of the BM 20, a common electrode 23 provided on substantially the entire surface of the BM 20 and the CF layer 22, and an insulating layer 26. The layer 26 is disposed in a region overlapping with the BM 20 when viewed in plan. Thereby, since it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces, a parasitic capacitance can be reduced, without deteriorating display quality. In addition, since the film thicknesses of the CF layer 22 and the BM 20 are usually different, a step is generated between the CF layer 22 and the BM 20, and the counter substrate 2 is recessed in a region overlapping with the BM 20 when seen in a plan view. (Concave part) will occur. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a recessed portion of a conventional counter substrate. In the conventional liquid crystal display panel 701, the counter substrate 2 has a recessed portion (concave portion) 28 generated by a step between the CF layer 22 and the BM 20, as shown in FIG. 10, and an extra liquid crystal material is used. Further, since there is no insulating layer other than the alignment film 17 on the counter substrate 2 side, it is disadvantageous in terms of reducing parasitic capacitance. Furthermore, when the alignment film is applied by a printing method or an ink jet method, the alignment film may not be applied to the recessed portion 28. In addition, dust (foreign matter, cullet (fine glass chips generated when the glass substrate is cut) or the like) accumulates in the indented portion 28, and the cell gap near the dust changes, thereby causing a stain (localized on the display screen). Display unevenness) may occur. On the other hand, FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a recessed portion of the counter substrate according to the first embodiment. Thus, in this embodiment, as shown in FIG. 11, since the insulating layer 26 is disposed in the recessed portion (recessed portion) 28, the parasitic capacitance can be reduced and the amount of extra liquid crystal material used is effective. Can be reduced. In addition, it is possible to suppress the occurrence of cell thickness defects due to dust accumulated in the recessed portion 28. Furthermore, it is possible to suppress the occurrence of defective application of the alignment film and improve the display quality. As described above, at least one of the substrates (the counter substrate 2 in the present embodiment) includes, in order from the insulating substrate 10 side on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, the BM 20 having an opening and a plurality of color filters (this embodiment). In the embodiment, each color filter 21R, 21G, 21B) has a CF layer 22 disposed in the opening of the BM 20, and a common electrode 23 provided on substantially the entire surface of the BM 20 and the CF layer 22, and the BM 20 and the color A step due to the filter is formed, and the insulating layer 26 may be disposed on a recess formed by the BM 20 and the end of the color filter. Note that the level difference between the CF layer 22 and the BM 20 tends to increase in recent years.

ここで、CF層22とBM20との段差が大きくなる背景を説明する。近年、液晶表示装置においては、色純度向上(色再現範囲向上)による品位向上が求められており、その結果、カラーフィルタ層が厚くなる傾向にある。一方、各カラーフィルタ間を遮光する遮光層は、通常、ネガ型の感光性樹脂(黒色)から形成され、また、その断面形状が順テーパであることが好ましい。したがって、遮光層を現状より厚くすることが困難であった。これは、遮光層の厚みをあまり大きくしすぎた場合、光学濃度の高い黒色の感光性樹脂は、樹脂表面近傍でした感光により硬化されず、現像により未硬化の樹脂がサイドエッチングされてしまうためである。また、未硬化の樹脂のサイドエッチングが進みすぎると、遮光層の剥離にもつながる可能性があった。このような理由から、遮光層とカラーフィルタとには膜厚の差が存在することになる。そしてこれは、カラーフィルタと遮光層との間に段差が生じるという問題(すなわち、カラーフィルタ層を有する基板の上面を平坦にできないという問題)を発生する。その結果、液晶表示パネルを構成した際、窪み(凹部)となる部分が深くなる。したがって、上述の形態によれば、寄生容量と液晶材料の使用量と表示不良の発生とを低減しつつ、色純度(色再現範囲)の向上が可能になるとも言える。 Here, the background in which the level difference between the CF layer 22 and the BM 20 becomes large will be described. In recent years, liquid crystal display devices have been required to improve quality by improving color purity (color reproduction range improvement), and as a result, the color filter layer tends to be thick. On the other hand, the light shielding layer that shields light between the color filters is usually formed of a negative photosensitive resin (black), and the cross-sectional shape thereof is preferably a forward taper. Therefore, it has been difficult to make the light shielding layer thicker than the present state. This is because if the thickness of the light shielding layer is too large, the black photosensitive resin having a high optical density is not cured by the light exposure near the resin surface, and the uncured resin is side-etched by development. It is. Moreover, if the side etching of the uncured resin proceeds too much, the light shielding layer may be peeled off. For this reason, there is a difference in film thickness between the light shielding layer and the color filter. This causes a problem that a step is generated between the color filter and the light shielding layer (that is, a problem that the upper surface of the substrate having the color filter layer cannot be flattened). As a result, when the liquid crystal display panel is configured, the portion that becomes the depression (concave portion) becomes deep. Therefore, according to the above-described embodiment, it can be said that the color purity (color reproduction range) can be improved while reducing the parasitic capacitance, the amount of liquid crystal material used, and the occurrence of display defects.

図12は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。図12に示すように、CF層22は、その膜厚がBM20の膜厚よりも大きく、絶縁層26は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きくてもよい。このように、カラーフィルタ層は、複数のカラーフィルタがBM20と一部重なって配置され、絶縁層26は、その高さがBM20と重なるカラーフィルタの凸部の高さよりも大きい形態であってもよい。これにより、非表示領域4における絶縁層26の膜厚も大きくすることができる。したがって、本構成によれば、寄生容量を更に減らすことができるとともに、液晶表示パネル内の容積を更に減らすことができるので液晶材料の使用量を更に削減することができる。なお、このとき、絶縁層26の膜厚としては、例えば、1〜2μm程度とすればよい。また、絶縁層26は、表示領域3と非表示領域4とでその膜厚が異なっていてもよく、表示品位に悪影響を与えることなく、液晶材料の使用量の削減と寄生容量の低減と効率的に行う観点からは、表示領域3における膜厚よりも非表示領域4における膜厚の方を大きくすることが好ましい。 FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. As shown in FIG. 12, the CF layer 22 may have a film thickness larger than that of the BM 20, and the insulating layer 26 may have a film thickness larger than the step between the light shielding layer and the color filter. As described above, the color filter layer is arranged such that a plurality of color filters partially overlap with the BM 20, and the insulating layer 26 has a height larger than the height of the convex portion of the color filter overlapping the BM 20. Good. Thereby, the film thickness of the insulating layer 26 in the non-display area 4 can also be increased. Therefore, according to this configuration, the parasitic capacitance can be further reduced, and the volume in the liquid crystal display panel can be further reduced, so that the amount of liquid crystal material used can be further reduced. At this time, the thickness of the insulating layer 26 may be, for example, about 1 to 2 μm. In addition, the insulating layer 26 may have a different film thickness between the display region 3 and the non-display region 4, reducing the amount of liquid crystal material used, reducing parasitic capacitance, and efficiency without adversely affecting the display quality. From the viewpoint of performing the operation, it is preferable to make the film thickness in the non-display area 4 larger than the film thickness in the display area 3.

次に、ソースバスライン12とソース引き出し配線19との接続部分について説明する。まず、従来のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分について説明する。図13は、従来のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のC−D線における断面図である。従来の液晶表示パネル701において、アクティブマトリクス基板1は、図13に示すように、絶縁基板10上に、絶縁基板10側から、非表示領域4に設けられたソース引き出し配線19と、絶縁基板10の略全面に設けられたゲート絶縁膜32と、ソース引き出し配線19の端部と一部重なるソースバスライン12と、絶縁基板10の略全面に設けられたパッシベーション膜13と、接続層27とが積層された構造を有する。このように、ソース引き出し配線19及びソースバスライン12は、断面視したときに異なる層に位置する導電層から形成されている。なお、接続層27としては、画素電極の材料である透明導電膜が好適に用いられる。ゲート絶縁膜32及びパッシベーション膜13には、ソース引き出し配線19及びソースバスライン12と重なるようにコンタクトホール30が形成され、ソース引き出し配線19及びソースバスライン12が重なる領域内で開口部が形成されている。そして、接続層27が、コンタクトホール30を含むパッシベーション膜13、ソース引き出し配線19及びソースバスライン12上に形成されることよって、基板を断面視したときに異なる層に位置する導電層(ソース引き出し配線19及びソースバスライン12)が接続されることとなる。また、これにより、ソース引き出し配線19として、絶縁基板10の直上に設けられた配線を用いることができるので、ソース引き出し配線19と絶縁基板10との密着性を向上することができ、その結果、液晶表示パネル101の信頼性を向上することができる。しかしながら、このような異なる導電層を含んで構成される配線の接続部においては、異なる層の導電層が積層されたり、異なる層の導電層上に更に接続を仲介する接続層27が重畳されたりしており、他の配線部分に比べて、盛り上がっている部分が存在することになる。また、図13(b)に示したように、従来は、接続を仲介する接続層が上層で剥き出しになっている場合もある。そのため、対向基板2側に設けられた共通電極23と接続を仲介する接続層27との間で寄生容量が増加したり、導電性異物35に起因してアクティブマトリクス基板1及び対向基板2の間で短絡が発生したりすることがあった。また、導電性異物35が存在しない場合でも、押し圧によってパネルにたわみが発生し、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の電極(接続層27及び共通電極23)が直接接触することよって短絡が発生することがあった。 Next, a connection portion between the source bus line 12 and the source lead wiring 19 will be described. First, a connection portion between a conventional source bus line and a source lead wiring will be described. FIG. 13 is a schematic diagram showing a connection portion between a conventional source bus line and a source lead-out wiring, (a) is a plan view, and (b) is a cross-sectional view taken along line CD in (a). FIG. In the conventional liquid crystal display panel 701, as shown in FIG. 13, the active matrix substrate 1 includes the source lead-out wiring 19 provided in the non-display region 4 on the insulating substrate 10 and the insulating substrate 10 on the insulating substrate 10 side. A gate insulating film 32 provided on substantially the entire surface, a source bus line 12 partially overlapping with an end portion of the source lead wiring 19, a passivation film 13 provided on substantially the entire surface of the insulating substrate 10, and a connection layer 27. It has a laminated structure. Thus, the source lead-out wiring 19 and the source bus line 12 are formed of conductive layers located in different layers when viewed in cross section. As the connection layer 27, a transparent conductive film that is a material of the pixel electrode is preferably used. A contact hole 30 is formed in the gate insulating film 32 and the passivation film 13 so as to overlap the source lead wiring 19 and the source bus line 12, and an opening is formed in a region where the source lead wiring 19 and the source bus line 12 overlap. ing. Then, the connection layer 27 is formed on the passivation film 13 including the contact hole 30, the source lead-out wiring 19, and the source bus line 12, so that the conductive layers (source lead-out) located in different layers when the substrate is viewed in cross section. The wiring 19 and the source bus line 12) are connected. In addition, this makes it possible to use the wiring provided immediately above the insulating substrate 10 as the source lead wiring 19, thereby improving the adhesion between the source lead wiring 19 and the insulating substrate 10. The reliability of the liquid crystal display panel 101 can be improved. However, in the connection part of the wiring configured to include such different conductive layers, conductive layers of different layers are stacked, or a connection layer 27 that mediates connection is further superimposed on the conductive layers of different layers. Therefore, there is a portion that is raised compared to other wiring portions. Further, as shown in FIG. 13B, conventionally, a connection layer that mediates connection may be exposed on the upper layer. Therefore, the parasitic capacitance increases between the common electrode 23 provided on the counter substrate 2 side and the connection layer 27 that mediates the connection, or between the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 due to the conductive foreign material 35. In some cases, a short circuit may occur. In addition, even when the conductive foreign material 35 is not present, the panel is deflected by the pressing force, and a short circuit occurs due to the direct contact between the electrodes (the connection layer 27 and the common electrode 23) of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2. There was something to do.

次に、本実施形態におけるソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分について説明する。図14は、実施形態1のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のE−F線における断面図である。図15は、実施形態1のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す別の模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のG−H線における断面図である。本実施形態のアクティブマトリクス基板1及び/又は対向基板2は、図14及び15に示すように、異なる層の配線が電気的に接続された領域に配置された絶縁層26を有する。すなわち、配線は、断面視したときに異なる層に位置する導電層がコンタクトホール30を介して電気的に接続された層間接続部46を有し、絶縁層26は、平面視したときに、層間接続部46と重なる領域に配置されている。これにより、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の間での短絡の発生を減らすことができる。また、異なる層の配線が電気的に接続された領域は、通常、配線の盛り上がった部分(配線の共通電極に近い部分)を含むことから、この領域に絶縁層を設けることによって、寄生容量をより効果的に低減することができる。したがって、絶縁層26は、配線が盛り上がった領域に配置されることが好ましいとも言える。配線の盛り上がった領域としては、上述の異なる層の導電層がコンタクトホールを介して電気的に接続された層間接続部の他、配線同士が交差する領域、スイチッング素子に延伸された領域等が好適である。なお、本実施形態において、配線とは、配線と配線とを電気的に接続する導電層、例えば異なる層の導電層を電気的に接続する接続層27等の接続電極も含むものである。 Next, a connection portion between the source bus line and the source lead wiring in the present embodiment will be described. FIG. 14 is a schematic diagram illustrating a connection portion between the source bus line and the source lead-out wiring according to the first embodiment, (a) is a plan view, and (b) is an EF line in (a). FIG. FIG. 15 is another schematic diagram illustrating a connection portion between the source bus line and the source lead-out wiring according to the first embodiment, (a) is a plan view, and (b) is a G- It is sectional drawing in H line. As shown in FIGS. 14 and 15, the active matrix substrate 1 and / or the counter substrate 2 of this embodiment includes an insulating layer 26 disposed in a region where wirings of different layers are electrically connected. That is, the wiring has an interlayer connection portion 46 in which conductive layers located in different layers when viewed in cross section are electrically connected through the contact holes 30, and the insulating layer 26 has an interlayer connection when viewed in plan. It is arranged in a region overlapping with the connecting portion 46. Thereby, the occurrence of a short circuit between the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 can be reduced. In addition, a region where wirings of different layers are electrically connected usually includes a raised portion of the wiring (a portion close to the common electrode of the wiring). Therefore, by providing an insulating layer in this region, parasitic capacitance is reduced. It can reduce more effectively. Therefore, it can be said that the insulating layer 26 is preferably disposed in a region where the wiring is raised. As the raised area of the wiring, in addition to the interlayer connection portion in which the conductive layers of the different layers described above are electrically connected through the contact holes, a region where the wirings cross each other, a region extended to the switching element, and the like are preferable. It is. In the present embodiment, the wiring includes a conductive layer that electrically connects the wiring and the wiring, for example, a connection electrode such as a connection layer 27 that electrically connects different conductive layers.

絶縁層26は、図14(b)に示すように、アクティブマトリクス基板1に配置されていもよし、図15(b)に示すように、対向基板2に配置されてもよいし、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2に配置されてもよい。絶縁層26の材質としては特に限定されないが、絶縁層26をアクティブマトリクス基板1に設ける場合には、アクティブマトリクス基板1に設けられる柱状スペーサの材料が好適である。すなわち、液晶表示パネル101は、基板間に柱状スペーサを有し、絶縁層26は、柱状スペーサと同一の材料を含んで構成されることが好ましい。また、実施形態5で説明するように、アクティブマトリクス基板1が線状突起及び/又は線状補助突起を有する場合は、線状突起及び/又は線状補助突起の材料も好適である。一方、絶縁層26を対向基板2に設ける場合には、線状突起24及び/又は線状補助突起25の材料やCF層22を構成するカラーフィルタの材料が好適である。したがって、もともと線状突起及び/又は線状補助突起の材料や柱状スペーサの材料を使用しているプロセスであれば、工程を増やすことなく上記構造を容易に実現することができる。なお、柱状スペーサは、アクティブマトリクス基板1及び/又は対向基板2の所定の領域(通常は遮光領域)に配置された柱状のスペーサであり(壁状であってもよい)、通常、感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィプロセスによって形成される。したがって、柱状スペーサは、フォトスペーサとも呼ばれる。また、本実施形態のアクティブマトリクス基板1は、接続層27を設けずに、コンタクトホール30を介してソース引き出し配線19とソースバスライン12とが直接接することによって、電気的に接続された構造であってもよい。
以下に、本実施形態における他の好適な形態や変形形態について説明する。
The insulating layer 26 may be disposed on the active matrix substrate 1 as shown in FIG. 14B, may be disposed on the counter substrate 2 as shown in FIG. 15B, or may be disposed on the active matrix substrate. 1 and the counter substrate 2 may be disposed. The material of the insulating layer 26 is not particularly limited, but when the insulating layer 26 is provided on the active matrix substrate 1, the material of the columnar spacer provided on the active matrix substrate 1 is suitable. That is, the liquid crystal display panel 101 preferably includes columnar spacers between the substrates, and the insulating layer 26 includes the same material as the columnar spacers. Further, as described in the fifth embodiment, when the active matrix substrate 1 has linear protrusions and / or linear auxiliary protrusions, the material of the linear protrusions and / or linear auxiliary protrusions is also suitable. On the other hand, when the insulating layer 26 is provided on the counter substrate 2, the material of the linear protrusion 24 and / or the linear auxiliary protrusion 25 and the material of the color filter constituting the CF layer 22 are suitable. Therefore, if the process originally uses the material of the linear protrusion and / or the linear auxiliary protrusion or the material of the columnar spacer, the above structure can be easily realized without increasing the number of steps. The columnar spacer is a columnar spacer (may be wall-shaped) arranged in a predetermined region (usually a light-shielding region) of the active matrix substrate 1 and / or the counter substrate 2, and is usually a photosensitive resin. Is formed by a photolithography process. Therefore, the columnar spacer is also called a photo spacer. In addition, the active matrix substrate 1 of the present embodiment has a structure in which the source lead-out wiring 19 and the source bus line 12 are in direct contact with each other through the contact hole 30 without providing the connection layer 27 so as to be electrically connected. There may be.
Below, the other suitable form and deformation | transformation form in this embodiment are demonstrated.

図16及び17は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。寄生容量及び液晶使用量の更なる低減を可能にする観点からは、絶縁層26は、図16及び17で示すように、ソースバスライン12の幅と同程度かそれ以上の幅にし、CF層22とBM20との段差により生じるくぼみ部(凹部)を実質的に全て埋めるように配置されることが好ましい。 16 and 17 are schematic cross-sectional views illustrating other configurations of the corners of the liquid crystal display panel according to the first embodiment. From the standpoint of enabling further reduction of parasitic capacitance and liquid crystal usage, the insulating layer 26 has a width equal to or larger than the width of the source bus line 12 as shown in FIGS. It is preferable that the concave portion (recessed portion) generated by the step between 22 and the BM 20 is substantially completely filled.

ただし、本実施形態においては、線状突起24や線状補助突起25が設けられている領域以外の領域に絶縁層26が配線と対応する位置に設けてあれさえすれば、各配線と共通電極23との間の寄生容量値を削減するという一定の効果は得られる。また、従来に比べて液晶材料の収納される空間が減少するので、液晶材料の使用量を削減するという一定の効果も得られる。 However, in this embodiment, as long as the insulating layer 26 is provided at a position corresponding to the wiring in a region other than the region where the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25 are provided, each wiring and the common electrode are provided. A certain effect of reducing the parasitic capacitance value between 23 and 23 is obtained. In addition, since the space for storing the liquid crystal material is reduced as compared with the conventional case, a certain effect of reducing the amount of the liquid crystal material used can be obtained.

図18(a)は、実施形態1の液晶表示パネルを示す平面模式図であり、(b)は、(a)中の円で囲まれた領域の平面拡大模式図である。液晶表示パネル101は、非表示領域4の基板間に封止材9を有し、絶縁層26は、図18(a)で示すように、平面視したときに、対向する基板同士を封止するためのシール(封止材)9と重ならないことが好ましい。これにより、シール9と対向基板2との密着強度の低下を防止することができる。なお、本実施形態においては、図18(b)で示すように、シール9の幅W1は、2700μmとし、非表示領域4のBM20の幅W2は、6300μmとし、シール9とBM20との間隙W3は、30μmとし、絶縁層26の端部からBM20の端部までの幅W4は、100μmとした。また、図19は、実施形態1の液晶表示パネルの端部を示す断面模式図であり、(a)は、図18(a)中のJ−K線における断面図であり、(b)及び(c)は、図19(a)の変形例である。シール9と対向基板2との密着性を重視する観点から言えば、シール9は、図19(a)に示すように、BM20及び絶縁層26と重ならないように配置されることが好ましい。液晶材料の使用量をより低減しつつ、ある程度の密着性を確保したい場合は、シール9は、図19(b)に示すように、BM20の一部(端部)と重なり、かつ絶縁層26と重ならないように配置されてもよい。液晶材料の使用量を更に低減したい場合は、シール9は、図19(c)に示すように、BM20及び絶縁層26の一部(端部)と重なるように配置されてもよい。なお、図19(b)及び(c)のような形態においては、シール9の幅W1が0.8〜2.0mm程度であれば、シール9のBM20や絶縁層26と重ならない部分の幅は、シール9の幅W1の半分程度とすることが好ましく、これにより、シール9と対向基板2との密着性を充分確保することができる。 FIG. 18A is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel of Embodiment 1, and FIG. 18B is an enlarged schematic plan view of a region surrounded by a circle in FIG. The liquid crystal display panel 101 has a sealing material 9 between the substrates in the non-display area 4, and the insulating layer 26 seals the opposing substrates when viewed in plan, as shown in FIG. It is preferable that the seal (sealing material) 9 does not overlap. Thereby, the fall of the adhesion strength of the seal | sticker 9 and the opposing board | substrate 2 can be prevented. In this embodiment, as shown in FIG. 18B, the width W1 of the seal 9 is 2700 μm, the width W2 of the BM 20 in the non-display area 4 is 6300 μm, and the gap W3 between the seal 9 and the BM 20 Is 30 μm, and the width W4 from the end of the insulating layer 26 to the end of the BM 20 is 100 μm. FIG. 19 is a schematic cross-sectional view showing an end portion of the liquid crystal display panel of Embodiment 1, (a) is a cross-sectional view taken along line J-K in FIG. 18 (a), and (b) and FIG. (C) is a modification of FIG. From the viewpoint of placing importance on the adhesion between the seal 9 and the counter substrate 2, the seal 9 is preferably disposed so as not to overlap the BM 20 and the insulating layer 26 as shown in FIG. When it is desired to secure a certain degree of adhesion while further reducing the amount of liquid crystal material used, the seal 9 overlaps with a part (end part) of the BM 20 as shown in FIG. It may be arranged so as not to overlap. When it is desired to further reduce the amount of liquid crystal material used, the seal 9 may be disposed so as to overlap with a part (end part) of the BM 20 and the insulating layer 26 as shown in FIG. 19 (b) and 19 (c), if the width W1 of the seal 9 is about 0.8 to 2.0 mm, the width of the portion of the seal 9 that does not overlap with the BM 20 or the insulating layer 26. Is preferably about half of the width W 1 of the seal 9, whereby sufficient adhesion between the seal 9 and the counter substrate 2 can be secured.

図20は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、BMとCF層の図示は省略している。絶縁層26は、図20で示すように、表示領域3においてライン状に形成され、かつ一定の間隔で間引きされてもよい。すなわち、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3においてスリット31を有してもよい。絶縁層26をライン状に設けた場合、液晶表示パネル101の製造過程である液晶封入時に、ライン状の絶縁層26が液晶の流動に対する障壁となることがある。その結果、この場合、液晶表示パネル101内に残留気泡(真空気泡、液晶が存在しない空間)が発生する原因になる。また、液晶封入に要する時間が長くなってしまう。したがって、絶縁層26にスリット31を設けることによって、液晶の伸びが阻害されることを防ぐことができ、液晶の流れがスムーズになる。そのため、残留気泡の発生を低減することができるとともに、液晶の注入時間を短くすることができる。 FIG. 20 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. In this figure, the BM and CF layers are not shown. As shown in FIG. 20, the insulating layer 26 may be formed in a line shape in the display region 3 and thinned at a constant interval. That is, the insulating layer 26 may have the slits 31 in the display region 3 when viewed in plan. When the insulating layer 26 is provided in a line shape, the line-shaped insulating layer 26 may become a barrier against the flow of liquid crystal when the liquid crystal is sealed in the manufacturing process of the liquid crystal display panel 101. As a result, in this case, residual bubbles (vacuum bubbles, space in which no liquid crystal exists) are generated in the liquid crystal display panel 101. In addition, the time required for liquid crystal encapsulation becomes longer. Therefore, by providing the slit 31 in the insulating layer 26, it is possible to prevent the growth of the liquid crystal from being inhibited, and the flow of the liquid crystal becomes smooth. Therefore, the generation of residual bubbles can be reduced, and the liquid crystal injection time can be shortened.

図21は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、BMとCF層の図示は省略している。絶縁層26は、図21で示すように、非表示領域4においてスリット31を有してもよい。これにより、表示領域3の場合と同様に、残留気泡の発生を低減することができるとともに、液晶材料の注入時間を短くすることができる。また、樹脂からなるBM20と樹脂からなる絶縁層26とを重ねて形成する場合、各樹脂材や層間からガスが出て、液晶層8に気泡が発生することがある。しかしながら、絶縁層26にスリット31を設けることによって、樹脂材の使用量と絶縁層26と接する各層の面積とを低減することができるため、ガスの発生を低減することができる。 FIG. 21 is a schematic plan view illustrating another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. In this figure, the BM and CF layers are not shown. The insulating layer 26 may have a slit 31 in the non-display area 4 as shown in FIG. As a result, as in the case of the display region 3, the generation of residual bubbles can be reduced and the injection time of the liquid crystal material can be shortened. Further, when the BM 20 made of resin and the insulating layer 26 made of resin are formed so as to overlap each other, gas may be emitted from each resin material or interlayer, and bubbles may be generated in the liquid crystal layer 8. However, by providing the slit 31 in the insulating layer 26, the amount of resin material used and the area of each layer in contact with the insulating layer 26 can be reduced, so that generation of gas can be reduced.

また、スリット31は、図21で示したように、平面視したときに、非表示領域4において、配線と重ならない領域に配置されてもよい。これにより、配線の寄生容量を低減しつつ、気泡の発生を抑制することができる。 Further, as shown in FIG. 21, the slit 31 may be disposed in a region that does not overlap with the wiring in the non-display region 4 when viewed in plan. Thereby, generation | occurrence | production of a bubble can be suppressed, reducing the parasitic capacitance of wiring.

更に、スリット31は、平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されてもよい。これにより、より液晶の流れがスムーズになるので、液晶材料の注入時間をより短くすることができる。なお、液晶を滴下する工程における液晶の流れる方向としては、より具体的には、最寄りの液晶の滴下点に対する放射線方向が挙げられる。また、液晶を注入する工程における液晶の流れる方向としては、より具体的には、真空注入法を用いて液晶を注入した場合には、平面視したときに液晶の注入口が形成された基板の端部(辺)に対して略垂直方向が挙げられる。なお、注入口とは、液晶を注入するためにシール9に設けられた開口である。 Furthermore, the slit 31 may be arranged along the direction in which the liquid crystal flows in the step of injecting or dropping the liquid crystal when viewed in plan. Thereby, since the flow of the liquid crystal becomes smoother, the injection time of the liquid crystal material can be further shortened. More specifically, the direction in which the liquid crystal flows in the step of dropping the liquid crystal includes the radiation direction with respect to the nearest liquid crystal dropping point. More specifically, the flow direction of the liquid crystal in the step of injecting the liquid crystal is, more specifically, when the liquid crystal is injected by using a vacuum injection method, when the liquid crystal is injected in a plan view, A substantially perpendicular direction is mentioned with respect to the end (side). The injection port is an opening provided in the seal 9 for injecting liquid crystal.

図22は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、BMとCF層の図示は省略している。スリット31は、図22に示すように、平面視したときに、表示領域3の輪郭線と略平行な方向に配置されてもよい。これにより、万が一、非表示領域4に気泡が発生した場合でも、表示領域3に気泡が移動するのを抑制することができる。なお、表示領域に気泡が移動するのをより効果的に抑制する観点からは、スリットは、表示領域3の輪郭線と略平行な方向に複数列配置されることが好ましい。また、この形態において、スリット31は、通常、平面視したときに、略四角形状に形成される。 FIG. 22 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. In this figure, the BM and CF layers are not shown. As shown in FIG. 22, the slit 31 may be arranged in a direction substantially parallel to the contour line of the display region 3 when viewed in plan. Thereby, even when a bubble is generated in the non-display area 4, it is possible to suppress the movement of the bubble to the display area 3. It should be noted that the slits are preferably arranged in a plurality of rows in a direction substantially parallel to the contour line of the display area 3 from the viewpoint of more effectively suppressing the movement of bubbles to the display area. In this embodiment, the slit 31 is generally formed in a substantially square shape when viewed in plan.

図23は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、BMとCF層の図示は省略している。スリット31は、図23に示すように、図21及び22で示した形態を組み合わせた形態であってもよい。 FIG. 23 is a schematic plan view illustrating another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. In this figure, the BM and CF layers are not shown. As shown in FIG. 23, the slit 31 may have a form in which the forms shown in FIGS. 21 and 22 are combined.

図24は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、BMとCF層の図示は省略している。絶縁層26は、図24に示すように、ゲートバスライン11に対応する位置に配置されなくてもよく、またその逆に、ソースバスライン12に対応する位置に配置されなくてもよい。 FIG. 24 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. In this figure, the BM and CF layers are not shown. As shown in FIG. 24, the insulating layer 26 may not be disposed at a position corresponding to the gate bus line 11, and conversely, it may not be disposed at a position corresponding to the source bus line 12.

図25及び26は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。なお、この図において、BMとCF層の図示は省略している。絶縁層26は、図25及び26に示すように、表示領域3のみ、又は、非表示領域4のみの配線に対応する位置に配置されてもよい。また、絶縁層26が非表示領域4のみに配置される形態においては、絶縁層26は、表示領域3にはみ出さずに配置されることが好ましい。すなわち、絶縁層26は、平面視したときに、表示領域3よりも外側に配置されることが好ましい。 25 and 26 are schematic plan views showing other configurations of the corners of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. In this figure, the BM and CF layers are not shown. As shown in FIGS. 25 and 26, the insulating layer 26 may be disposed at a position corresponding to the wiring of only the display area 3 or only the non-display area 4. In the form in which the insulating layer 26 is disposed only in the non-display area 4, the insulating layer 26 is preferably disposed without protruding from the display area 3. That is, the insulating layer 26 is preferably disposed outside the display region 3 when viewed in plan.

ここで、絶縁層26の比誘電率について説明する。まず、一般的な垂直配向用液晶(誘電率異方性が負のネマチック液晶)の平均比誘電率については、6.0程度である。なお、平均比誘電率とは、ダイレクタに平行な電界に対する比誘電率(ε||)とダイレクタに垂直な電界に対する比誘電率(ε)との平均値である。一方、線状突起24や線状補助突起25の材質として典型的に用いられるノボラック樹脂の比誘電率は、3.5〜4.0程度である。したがって、液晶の存在していた箇所に線状突起24や線状補助突起25と同じ材料が配置されれば、配線と共通電極23の間の寄生容量は確実に低下することになる。このような観点から、絶縁層26は、その比誘電率が液晶層8に含まれる液晶材料の平均比誘電率よりも小さいことが好ましく、より具体的には、6以下であることが好ましく、4以下であることがより好ましい。また、他の材料、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等を用いた場合、絶縁層26の比誘電率を4.5前後にすることができる。また、絶縁層26の比誘電率は、ウレタン樹脂を用いた場合は3〜5程度、ポリエステル樹脂を用いた場合は3前後、ポリオレフィン樹脂を用いた場合は2〜3程度、SOG(スピンオングラス)材料を用いた場合は3.5前後とすることができる。更に、誘電率の低い材料を厚膜化することによって、更に寄生容量を低減することが可能であることから、上記の材料は厚膜化しやすい点からも好ましい。なお、SOG材料とは、スピンコート法等の塗布法によってガラス膜(シリカ膜)を形成し得る材料のことである。SOG材料としては、なかでも、例えば、有機成分を含むSOG材料、いわゆる有機SOG材料が好適である。有機SOG材料としては、特に、Si−O−C結合を骨格とする有機SOG材料や、Si−C結合を骨格とする有機SOG材料を好適に用いることができる。 Here, the relative dielectric constant of the insulating layer 26 will be described. First, the average relative dielectric constant of a general vertical alignment liquid crystal (nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy) is about 6.0. The average relative dielectric constant is an average value of the relative dielectric constant (ε || ) for an electric field parallel to the director and the relative dielectric constant ( ε⊥ ) for an electric field perpendicular to the director. On the other hand, the relative dielectric constant of the novolac resin typically used as the material of the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 is about 3.5 to 4.0. Therefore, if the same material as that of the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 is disposed at the location where the liquid crystal was present, the parasitic capacitance between the wiring and the common electrode 23 is reliably reduced. From such a viewpoint, the insulating layer 26 preferably has a relative dielectric constant smaller than the average relative dielectric constant of the liquid crystal material included in the liquid crystal layer 8, and more specifically, preferably 6 or less. More preferably, it is 4 or less. In addition, when other materials such as an acrylic resin, a polyimide resin, and an epoxy resin are used, the dielectric constant of the insulating layer 26 can be set to about 4.5. The dielectric constant of the insulating layer 26 is about 3 to 5 when a urethane resin is used, about 3 when a polyester resin is used, about 2 to 3 when a polyolefin resin is used, and SOG (spin-on-glass). When the material is used, it can be about 3.5. Furthermore, since the parasitic capacitance can be further reduced by increasing the thickness of a material having a low dielectric constant, the above materials are preferable from the viewpoint of easily increasing the thickness. Note that the SOG material is a material that can form a glass film (silica film) by a coating method such as a spin coating method. As the SOG material, for example, an SOG material containing an organic component, that is, a so-called organic SOG material is preferable. As the organic SOG material, in particular, an organic SOG material having a Si—O—C bond as a skeleton or an organic SOG material having a Si—C bond as a skeleton can be preferably used.

上述したように、絶縁層26は、有機物及び/又はスピンオングラス(SOG)材料を含有することが好ましい。これにより、絶縁層26のミクロンオーダーでの厚膜化が容易となるとともに、絶縁層26の比誘電率を液晶層8に含まれる液晶材料の平均比誘電率よりも小さくすることができる。なお、絶縁層26は、有機物及び/又はSOG材料から形成されてもよい。 As described above, the insulating layer 26 preferably contains an organic material and / or a spin-on-glass (SOG) material. Thereby, it is easy to increase the thickness of the insulating layer 26 on the order of microns, and the relative dielectric constant of the insulating layer 26 can be made smaller than the average relative dielectric constant of the liquid crystal material included in the liquid crystal layer 8. The insulating layer 26 may be formed from an organic material and / or an SOG material.

有機物としては、樹脂が好ましく、より具体的には、例えば、アクリル樹脂、ノボラック樹脂等が好適である。すなわち、絶縁層26は、アクリル樹脂を含有することが好ましく、また、ノボラック樹脂を含有することが好ましい。なお、絶縁層26は、アクリル樹脂から形成されてもよいし、また、ノボラック樹脂から形成されてもよい。CF層22及びBM20は、通常、アクリル樹脂に顔料を分散させたネガ型感光性樹脂から形成される。また、柱状スペーサも、通常、ネガ型の感光性アクリル樹脂から形成される。したがって、絶縁層26の材料として、アクリル系の感光性樹脂を用いることによって、CF層22、BM20、柱状スペーサ等と絶縁層26との現像液を共通化することができる。そのため、絶縁層26用に別途現像システムを準備する必要がなく、製造工程や装置の共通化によるコストダウンが可能となる。また、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bを非感光性の樹脂で形成する場合のパターニング等に用いられるフォトレジストの材料は、一般的にノボラック系の感光性樹脂が用いられる。また、線状突起24や補助突起25の材料としても、一般的にノボラック系の感光性樹脂が用いられる。したがって、フォトレジストを用いて各色カラーフィルタ21R、21G、21Bをパターニングする場合、アクリル樹脂を用いた場合と同様に、製造工程や装置の共通化によるコストダウンが可能とある。 As the organic substance, a resin is preferable, and more specifically, for example, an acrylic resin, a novolac resin, and the like are preferable. That is, the insulating layer 26 preferably contains an acrylic resin, and preferably contains a novolac resin. The insulating layer 26 may be formed from an acrylic resin, or may be formed from a novolac resin. The CF layer 22 and the BM 20 are usually formed from a negative photosensitive resin in which a pigment is dispersed in an acrylic resin. The columnar spacers are also usually formed from a negative photosensitive acrylic resin. Accordingly, by using an acrylic photosensitive resin as the material of the insulating layer 26, the developer for the CF layer 22, BM 20, columnar spacers, etc., and the insulating layer 26 can be shared. Therefore, it is not necessary to prepare a separate development system for the insulating layer 26, and the cost can be reduced by making the manufacturing process and apparatus common. In addition, a novolac photosensitive resin is generally used as a photoresist material used for patterning or the like when the color filters 21R, 21G, and 21B are formed of a non-photosensitive resin. Further, as a material of the linear protrusion 24 and the auxiliary protrusion 25, a novolac photosensitive resin is generally used. Therefore, when the color filters 21R, 21G, and 21B are patterned using a photoresist, the cost can be reduced by using a common manufacturing process and apparatus as in the case of using an acrylic resin.

有機物として上記アクリル樹脂及びノボラック樹脂に特に限定されず、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂等の感光性又は非感光性の樹脂を用いてもよい。すなわち、絶縁層26は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリオレフィン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの樹脂を含有してもよく、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリオレフィン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの樹脂から形成されてもよい。これらの樹脂もCF層22、BM20、柱状スペーサ等の材料として用いることが可能であることから、上述した効果と同様の効果を得ることができる。 The organic substance is not particularly limited to the above acrylic resin and novolac resin, and photosensitive or non-photosensitive resin such as epoxy resin, urethane resin, polyester resin, polyimide resin, and polyolefin resin may be used. That is, the insulating layer 26 may contain at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, and a polyolefin resin, and includes an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, and It may be formed from at least one resin selected from the group consisting of polyolefin resins. Since these resins can also be used as materials for the CF layer 22, the BM 20, and the columnar spacers, the same effects as those described above can be obtained.

なお、本明細書において、「ノボラック樹脂」とはノボラック、又は、ノボラックに類似した化合物を含んでなるものであり、上記の他の樹脂についても同様に類似の化合物を含むものである。また、線状突起24及び線状補助突起25の材質としても、絶縁層26と同様に、上述の材料が好適である。 In the present specification, “novolak resin” includes novolac or a compound similar to novolac, and the above-mentioned other resins also include similar compounds. Further, as the material of the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25, the above-mentioned materials are suitable as in the insulating layer 26.

図27は、実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。絶縁層26は、図27に示すように、着色されていることが好ましい。すなわち、絶縁層26は、遮光性を有することが好ましく、例えば、遮光性材料、着色材料等から形成されることが好ましい。なお、本明細書において、遮光性を有するとは、より具体的には、その光学濃度OD値が、3.0以上であることが好ましく、4.0以上以下であることがより好ましい。しかしながら、絶縁層26の光学濃度OD値は上記に限られず、絶縁層26のOD値は、例えば1.0程度でもかまわない。このような場合は、BM20のOD値が充分大きければよく、絶縁層26を補助的な遮光部材として機能させることができる。また、OD値が小さい材料では顔料濃度が低く、フォトリソ法によるパターニングが比較的容易になるという利点がある。そのため、絶縁層26を線状突起24及び線状補助突起25の材質と同じ材料を用いる場合、線状突起24及び線状補助突起25を所望の形状に形成しやすくなる。なお、遮光性は、光の透過を遮る性質であればよく、光を吸収する性質であってもよい。したがって、絶縁層26は、光吸収性を有してもよい。遮光性を有する絶縁層26の材料としては、例えば樹脂自身が光透過率の小さい材料であってもよいし、着色された絶縁層26の材料としては、例えば顔料、染料等の着色剤を混ぜられた樹脂であってもよい。信頼性の観点からは、着色剤としては顔料が好ましく、遮光性に優れた顔料としては、カーボンブラック顔料が好適である。また、絶縁層26に用いられる顔料としては、赤、青及び緑のうちの少なくとも2つの顔料が混合されたものであってもよい。更に、赤及び青の顔料を単独で使用するか、赤及び青の顔料を組み合わせて(混合して)使用することによって、絶縁層26は、着色され、かつある程度の光吸収性を有することができる。着色顔料としては、例えば以下の材料を用いることができる。すなわち、赤色顔料としては、アゾ系、キナクリドン系、アントラキドン系、アントラキノン系、ペリレン系、ペリノン系等の赤色顔料又はこれらの赤色顔料を組み合わせたものが挙げられる。緑色顔料としては、フタロシナニングリーン及びイエロー顔料の組み合わせたものが挙げられる。青色顔料としては、フタロシアニンブルー顔料及びバイオレット顔料を組み合わせたものが挙げられる。このように絶縁層26を着色することによって、遮光領域の遮光性を向上することができる。したがって、この形態は、感光性樹脂材料からなるBM20の膜厚を薄くし、そのテーパ制御性を向上したい場合等に好適である。なぜなら、BM20の膜厚を薄くしたとしても、BM20の遮光性が低下した分を着色された絶縁層26で補うことができるからである。このように、絶縁層26が遮光性を有する形態と、絶縁層26が着色されている形態とは、平面視したときに絶縁層26が遮光領域に配置される形態と、平面視したときに絶縁層26がBM20に重なって配置される形態とに適宜組み合わされることが好ましい。また、絶縁層26が着色された形態においては、絶縁層26は、画素領域内の線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料を用いて形成されることが好ましく、これにより、線状突起24及び/又は線状補助突起25も絶縁層26と同様に着色されることになるので、黒表示時に線状突起24及び/又は線状補助突起25が配置された領域から光漏れが発生することを抑制できる。したがって、黒輝度(黒表示時の輝度)を低下させることができるので、コントラストを向上することができる。図28は、実施形態1の液晶表示パネルの別の構成を示す断面模式図である。絶縁層26が着色された形態においては、図28に示すように、BMがない形態であってもよい。これにより、絶縁層26がBMを兼ねるだけでなく、対向電極23と配線(ソースバスライン12)と間の距離を大きくすることができるので、寄生容量をより低減することができる。このように、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に、絶縁基板10側から順に、複数のカラーフィルタが間隙を有して配置されたCF層22(本実施形態では、各色カラーフィルタ21R、21G、21B)と、絶縁基板10及びCF層22上の略全面に設けられた共通電極23と、絶縁層26とを有し、絶縁層26は、遮光性を有し、かつ基板を平面視したときに、カラーフィルタの間隙に配置されてもよい。 FIG. 27 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. The insulating layer 26 is preferably colored as shown in FIG. That is, the insulating layer 26 preferably has a light shielding property, and is preferably formed of, for example, a light shielding material or a coloring material. In this specification, more specifically, “having light shielding properties” means that the optical density OD value is preferably 3.0 or more, and more preferably 4.0 or more. However, the optical density OD value of the insulating layer 26 is not limited to the above, and the OD value of the insulating layer 26 may be about 1.0, for example. In such a case, it is sufficient that the OD value of the BM 20 is sufficiently large, and the insulating layer 26 can function as an auxiliary light shielding member. In addition, a material having a small OD value has an advantage that the pigment concentration is low and patterning by a photolithography method is relatively easy. Therefore, when the insulating layer 26 is made of the same material as the material of the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25, the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25 can be easily formed in a desired shape. The light shielding property may be a property that blocks light transmission, and may be a property that absorbs light. Therefore, the insulating layer 26 may have a light absorption property. As a material of the insulating layer 26 having a light shielding property, for example, the resin itself may be a material having a low light transmittance, and as a material of the colored insulating layer 26, for example, a colorant such as a pigment or a dye is mixed. Resin may be used. From the viewpoint of reliability, a pigment is preferable as the colorant, and a carbon black pigment is preferable as the pigment having excellent light shielding properties. The pigment used for the insulating layer 26 may be a mixture of at least two pigments of red, blue and green. Further, by using the red and blue pigments alone or in combination (mixing) of the red and blue pigments, the insulating layer 26 may be colored and have a certain degree of light absorption. it can. As the color pigment, for example, the following materials can be used. That is, examples of the red pigment include azo, quinacridone, anthraquinone, anthraquinone, perylene, and perinone red pigments, or combinations of these red pigments. Examples of the green pigment include a combination of phthalocinine green and a yellow pigment. Examples of the blue pigment include a combination of a phthalocyanine blue pigment and a violet pigment. By coloring the insulating layer 26 in this way, the light shielding property of the light shielding region can be improved. Therefore, this form is suitable for the case where it is desired to reduce the film thickness of the BM 20 made of a photosensitive resin material and improve its taper controllability. This is because even if the film thickness of the BM 20 is reduced, the colored insulating layer 26 can compensate for the reduced light shielding property of the BM 20. As described above, the form in which the insulating layer 26 has a light-shielding property and the form in which the insulating layer 26 is colored include a form in which the insulating layer 26 is disposed in the light-shielding region when viewed in plan, and a form when viewed in plan. It is preferable that the insulating layer 26 is appropriately combined with the form in which the insulating layer 26 is disposed so as to overlap the BM 20. In the form in which the insulating layer 26 is colored, the insulating layer 26 is preferably formed using the same material as the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 in the pixel region. The linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 are also colored in the same manner as the insulating layer 26. Therefore, light is emitted from the region where the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 are arranged during black display. The occurrence of leakage can be suppressed. Therefore, since the black luminance (the luminance at the time of black display) can be reduced, the contrast can be improved. FIG. 28 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. In the form in which the insulating layer 26 is colored, as shown in FIG. 28, a form without BM may be used. Thereby, not only the insulating layer 26 also serves as a BM, but also the distance between the counter electrode 23 and the wiring (source bus line 12) can be increased, so that the parasitic capacitance can be further reduced. As described above, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 has a CF layer 22 in which a plurality of color filters are arranged in the order from the insulating substrate 10 side on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10. (In this embodiment, each color filter 21R, 21G, 21B), a common electrode 23 provided on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 and the CF layer 22, and an insulating layer 26. It may have a light shielding property and may be disposed in the gap of the color filter when the substrate is viewed in plan.

絶縁層26は、平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることが好ましい。絶縁層26は、平面視したときに、遮光領域であり、かつ画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることがより好ましい。対向電極23上に設けられた絶縁層26は、通常、線状突起24及び線状補助突起25と同様に、その形状による効果や電界を変える効果により、液晶の配向方向に影響を及ぼす性質を有する。そのため、絶縁層26を配置する場所によっては、画素開口部における光透過率の低下や表示画像における残像発生の原因となる。したがって、絶縁層26を画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置することよって、光透過率の低下と残像の発生とを抑制することができる。図29は、実施形態1の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域としては特に限定されないが、より具体的には、絶縁層26は、図29に示すように、絶縁層26のエッジ(端部)と画素電極14のエッジを離して配置されることが好ましい。すなわち、基板の一方(本実施形態では対向基板2)は、絶縁基板10の液晶層8側に画素電極14を有し、絶縁層26は、平面視したとき、画素電極14と重ならない領域に配置されることが好ましい。画素電極14のエッジと絶縁層26のエッジとの距離Lは、2μm以上離れていることが好ましく、5μm以上離れていることがより好ましく、基板貼り合せ時のズレを考慮すれば、7μm以上離れていることが更に好ましい。画素電極14のエッジと絶縁層26のエッジとの間隔を7μm以上設けることで、画素電極14上の液晶の配向乱れを確実に防止できる。また、図30は、実施形態1の画素の構成を示す平面模式図である。画素電極14のエッジと絶縁層26のエッジとを離して配置する具体的な場所としては、図30中の丸印が付された領域、すなわち、基板を平面視したときに、画素の端部の線状補助突起25が重ならない画素電極14の端部が好適である。 The insulating layer 26 is preferably disposed in a region that does not affect the alignment of liquid crystal molecules in the pixel region when viewed in plan. The insulating layer 26 is more preferably disposed in a region that is a light-shielding region and does not affect the alignment of liquid crystal molecules in the pixel region when viewed in plan. The insulating layer 26 provided on the counter electrode 23 usually has the property of affecting the alignment direction of the liquid crystal by the effect of its shape and the effect of changing the electric field, like the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25. Have. Therefore, depending on the place where the insulating layer 26 is disposed, it may cause a decrease in light transmittance in the pixel opening and a residual image in the display image. Therefore, by disposing the insulating layer 26 in a region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region, it is possible to suppress a decrease in light transmittance and generation of an afterimage. FIG. 29 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the liquid crystal display panel of the first embodiment. The region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region is not particularly limited. More specifically, as shown in FIG. 29, the insulating layer 26 includes an edge (edge) of the insulating layer 26 and a pixel electrode. Preferably, the 14 edges are spaced apart. That is, one of the substrates (the counter substrate 2 in this embodiment) has the pixel electrode 14 on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the insulating layer 26 is in a region that does not overlap with the pixel electrode 14 in plan view. It is preferable to arrange. The distance L between the edge of the pixel electrode 14 and the edge of the insulating layer 26 is preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, and considering the deviation at the time of substrate bonding, the distance L is 7 μm or more. More preferably. By providing an interval between the edge of the pixel electrode 14 and the edge of the insulating layer 26 of 7 μm or more, it is possible to reliably prevent the alignment disorder of the liquid crystal on the pixel electrode 14. FIG. 30 is a schematic plan view illustrating the configuration of the pixel according to the first embodiment. As a specific place where the edge of the pixel electrode 14 and the edge of the insulating layer 26 are arranged apart from each other, an area indicated by a circle in FIG. 30, that is, an end portion of the pixel when the substrate is viewed in plan view. The end of the pixel electrode 14 where the linear auxiliary protrusions 25 do not overlap is suitable.

以下に、実施形態1の液晶表示パネル、その液晶表示パネルを備えた液晶表示素子、及び、その液晶表示素子を備えた液晶表示装置の製造方法について説明する。 Below, the liquid crystal display panel of Embodiment 1, the liquid crystal display element provided with the liquid crystal display panel, and the manufacturing method of the liquid crystal display device provided with the liquid crystal display element are demonstrated.

まず、アクティブマトリクス基板の製造方法について説明する。ガラス等からなる透明な絶縁基板上に、走査線(ゲート配線、ゲートバスライン)と保持容量配線とを形成するためにスパッタリングにより、Ti/Al/Tiの積層膜等からなる金属膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、塩素系ガス等のエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離する。これにより、透明基板上に、走査信号線(ゲート配線、ゲートバスライン)と保持容量配線とが同時に形成される。 First, a method for manufacturing an active matrix substrate will be described. On a transparent insulating substrate made of glass or the like, a metal film made of a Ti / Al / Ti laminated film or the like is formed by sputtering in order to form a scanning line (gate wiring, gate bus line) and a storage capacitor wiring. Then, a resist pattern is formed by photolithography, and dry etching is performed using an etching gas such as a chlorine-based gas, and the resist is peeled off. Thereby, the scanning signal line (gate wiring, gate bus line) and the storage capacitor wiring are simultaneously formed on the transparent substrate.

その後、窒化シリコン(SiNx)等からなるゲート絶縁膜、アモルファスシリコン等からなる活性半導体層、リン等をドープしたアモルファスシリコン等からなる低抵抗半導体層をCVDにて成膜する。そして、データ信号線(ソース配線、ソースバスライン)及びドレイン引き出し配線を形成するためにスパッタリングによりAl/Tiの積層膜等からなる金属膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、塩素系ガス等のエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離する。これにより、データ信号線とドレイン引き出し配線とが同時に形成される。 Thereafter, a gate insulating film made of silicon nitride (SiNx) or the like, an active semiconductor layer made of amorphous silicon or the like, and a low resistance semiconductor layer made of amorphous silicon or the like doped with phosphorus or the like are formed by CVD. Then, in order to form data signal lines (source wiring, source bus line) and drain lead wiring, a metal film made of an Al / Ti laminated film or the like is formed by sputtering, and a resist pattern is formed by photolithography. Then, dry etching is performed using an etching gas such as a chlorine-based gas to remove the resist. As a result, the data signal line and the drain lead line are formed simultaneously.

なお、補助容量は、補助容量配線と後述する画素電極との間に、厚さ略0.4μmのゲート絶縁膜と後述する厚さ約0.3μmの層間絶縁膜とをはさんで形成される。その後、ソース電極とドレイン電極とを分離するために、低抵抗半導体層を塩素ガス等を用いてドライエッチングしTFT素子を形成する。 The auxiliary capacitance is formed between the auxiliary capacitance wiring and the pixel electrode described later with a gate insulating film having a thickness of about 0.4 μm and an interlayer insulating film having a thickness of about 0.3 μm described later interposed therebetween. . Thereafter, in order to separate the source electrode and the drain electrode, the low resistance semiconductor layer is dry-etched using chlorine gas or the like to form a TFT element.

次に、窒化シリコン(SiNx)等からなる層間絶縁膜をCVDにて成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、フッ素系ガス等のエッチングガスを用いてドライエッチングし、レジストを剥離することで、ドレイン引き出し配線と画素電極とを電気的にコンタクトするためのコンタクトホールを形成する。 Next, an interlayer insulating film made of silicon nitride (SiNx) or the like is formed by CVD, a resist pattern is formed by photolithography, and dry etching is performed using an etching gas such as a fluorine-based gas, and the resist is removed. Thus, a contact hole for electrically contacting the drain lead wiring and the pixel electrode is formed.

次に、画素電極と垂直配向膜とを、この順に構成されるようにして形成する。なお、本実施形態で形成される液晶表示装置は、上述したようにMVAモードの液晶表示装置であり、ITO等からなる画素電極に電極スリットが設けられている。この構造は、まずスパッタリングによりITOからなる金属膜を成膜し、フォトリソグラフィ法によりレジストパターンを形成、更に、塩化第二鉄等のエッチング液によりエッチングすることで得ることができる。以上により、アクティブマトリクス基板が得られる。 Next, a pixel electrode and a vertical alignment film are formed in this order. The liquid crystal display device formed in the present embodiment is an MVA mode liquid crystal display device as described above, and an electrode slit is provided in a pixel electrode made of ITO or the like. This structure can be obtained by first forming a metal film made of ITO by sputtering, forming a resist pattern by photolithography, and further etching with an etching solution such as ferric chloride. Thus, an active matrix substrate can be obtained.

続いて、対向基板の製造方法について説明する。本実施形態で製造される対向基板は、透明基板上に、3原色(赤、緑、青)のカラーフィルタ等からなるカラーフィルタ層と、ブラックマトリクス(BM)である遮光層と、共通電極と、垂直配向膜と、配向制御用の線状突起及び線状補助突起とを有する。このように、本実施形態で製造される対向基板は、カラーフィルタ基板である。 Then, the manufacturing method of a counter substrate is demonstrated. The counter substrate manufactured in this embodiment includes a color filter layer composed of color filters of three primary colors (red, green, and blue) on a transparent substrate, a light shielding layer that is a black matrix (BM), a common electrode, And a vertical alignment film, and linear protrusions and linear auxiliary protrusions for alignment control. Thus, the counter substrate manufactured in the present embodiment is a color filter substrate.

まず、ガラス等からなる透明な絶縁基板上に、スピンコートによりカーボンの微粒子を分散したネガ型のアクリル系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、黒色感光性樹脂層を形成する。続いて、フォトマスクを介して黒色感光性樹脂層を露光し、現像を行って、ブラックマトリクス(BM)を形成する。このときBMは、各カラーフィルタ(例えば、第1カラーフィルタが赤色層、第2カラーフィルタが緑色層、第3カラーフィルタが青色層)を形成するための開口部が透明基板上に設けられるように、かつ、その開口部が各画素電極に対応するようにパターニングする。 First, on a transparent insulating substrate made of glass or the like, a negative acrylic photosensitive resin liquid in which carbon fine particles are dispersed is applied by spin coating, followed by drying to form a black photosensitive resin layer. Subsequently, the black photosensitive resin layer is exposed through a photomask and developed to form a black matrix (BM). At this time, the BM is provided with an opening on the transparent substrate for forming each color filter (for example, the first color filter is a red layer, the second color filter is a green layer, and the third color filter is a blue layer). In addition, patterning is performed so that the opening corresponds to each pixel electrode.

次に、スピンコートにより顔料を分散したネガ型のアクリル系感光性樹脂液を塗布し、乾燥を行い、更に、フォトマスクを用いて露光及び現像を行い、第1カラーフィルタ(赤色層)を形成する。その後、第2カラーフィルタ(緑色層)及び第3カラーフィルタ(青色層)についても同様に形成し、カラーフィルタ層が完成する。続いて、ITO等の透明電極からなる共通電極をスパッタリングにより形成し、その後、スピンコートにより例えばポジ型のフェノールノボラック系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、フォトマスクを用いて露光及び現像を行うことによって、配向制御用構造物である線状突起及び線状補助突起と、絶縁層とを形成する。更に、スピンコートによりネガのアクリル系感光性樹脂液を塗布した後、乾燥を行い、フォトマスクを用いて露光及び現像を行い、BM上に柱状スペーサを形成する。以上により、対向基板が形成される。なお、本実施形態では樹脂からなるBMの場合を示したが、金属からなるBMであってもよい。また、3原色のカラーフィルタは、赤、緑及び青の三色に限定されず、シアン、マゼンタ、イエロー等のカラーフィルタがあってもよく、またホワイトが含まれていてもよい。更に、本実施形態では、BMの膜厚を1.4μmとし、各カラーフィルタの膜厚を2.0μmとし、線状突起の膜厚を1.2μmとし、線状補助突起の膜厚を0.8μmとし、絶縁層の膜厚を1.2μmとした。 Next, a negative acrylic photosensitive resin liquid in which pigment is dispersed by spin coating is applied, dried, and further exposed and developed using a photomask to form a first color filter (red layer). To do. Thereafter, the second color filter (green layer) and the third color filter (blue layer) are formed in the same manner to complete the color filter layer. Subsequently, a common electrode made of a transparent electrode such as ITO is formed by sputtering, and then, for example, a positive type phenol novolac photosensitive resin liquid is applied by spin coating, followed by drying, exposure using a photomask and By performing development, linear protrusions and linear auxiliary protrusions, which are alignment control structures, and an insulating layer are formed. Further, after applying a negative acrylic photosensitive resin solution by spin coating, drying is performed, and exposure and development are performed using a photomask to form columnar spacers on the BM. Thus, the counter substrate is formed. In the present embodiment, the case of a BM made of resin is shown, but a BM made of metal may be used. The three primary color filters are not limited to the three colors of red, green, and blue, and may include color filters such as cyan, magenta, and yellow, and may include white. Furthermore, in this embodiment, the thickness of the BM is 1.4 μm, the thickness of each color filter is 2.0 μm, the thickness of the linear protrusion is 1.2 μm, and the thickness of the linear auxiliary protrusion is 0. 0.8 μm, and the film thickness of the insulating layer was 1.2 μm.

続いて、このように製造された対向基板とアクティブマトリクス基板とを用いて液晶表示パネルを製造する方法について説明する。 Next, a method for manufacturing a liquid crystal display panel using the counter substrate and the active matrix substrate manufactured as described above will be described.

まず、アクティブマトリクス基板及び対向基板の液晶と接する側の面に、インクジェット法により垂直配向膜を形成する。具体的には、基板洗浄、配向膜塗布を行った後に、配向膜焼成を行う。このようにしてできた垂直配向膜は、液晶の配向方向を基板に対して垂直方向に規定する。 First, a vertical alignment film is formed by an inkjet method on the surface of the active matrix substrate and the counter substrate that are in contact with the liquid crystal. Specifically, alignment film baking is performed after substrate cleaning and alignment film application. The vertical alignment film thus formed defines the alignment direction of the liquid crystal in the direction perpendicular to the substrate.

次に、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶を封入する方法について説明する。液晶の封入方法については、例えば、熱硬化型シール樹脂を基板周辺に一部液晶注入のための注入口を設け、真空で注入口を液晶に浸し、大気開放することによって液晶を注入し、その後UV硬化樹脂等で注入口を封止する、真空注入法が挙げられる。しかしながら、垂直配向型の液晶パネルでは、水平配向パネルに比べ注入時間が非常に長くなる欠点があるため、ここではより好適な液晶滴下貼り合せ法による説明を行う。 Next, a method for sealing liquid crystal between the active matrix substrate and the counter substrate will be described. As for the liquid crystal sealing method, for example, an injection port for injecting liquid crystal is provided in the periphery of the substrate with a thermosetting sealing resin, the liquid injection is performed by immersing the injection port in liquid crystal in a vacuum and opening it to the atmosphere. There is a vacuum injection method in which the injection port is sealed with a UV curable resin or the like. However, since the vertical alignment type liquid crystal panel has a drawback that the injection time is much longer than that of the horizontal alignment panel, a more preferable liquid crystal dropping method will be described here.

この方法では、まずアクティブマトリクス基板側の周囲にファイバーガラス等のスペーサを含有したUV硬化型シール樹脂を塗布し、対向基板側に滴下法によって液晶の滴下を行う。液晶滴下法により最適な液晶量をシールの内側部分に規則的に滴下することができる。この滴下量は、セルギャップ値とセル内に液晶が充填されるべき容積値により決定される。続いて、上述のようにシール描画及び液晶滴下を行った対向基板とアクティブマトリクス基板とを貼り合わせるため、貼り合わせ装置内の雰囲気を1Paまで減圧を行い、この減圧下において基板の貼り合わせを行う。このように雰囲気を大気圧にすることでシール部分が押しつぶされる。 In this method, first, a UV curable sealing resin containing a spacer such as fiber glass is applied around the active matrix substrate side, and liquid crystal is dropped on the opposite substrate side by a dropping method. An optimal amount of liquid crystal can be regularly dropped on the inner part of the seal by the liquid crystal dropping method. This dropping amount is determined by the cell gap value and the volume value in which the liquid crystal is to be filled in the cell. Subsequently, in order to bond the counter substrate and the active matrix substrate on which the seal drawing and liquid crystal dropping are performed as described above, the atmosphere in the bonding apparatus is reduced to 1 Pa, and the substrates are bonded under this reduced pressure. . Thus, the seal portion is crushed by setting the atmosphere to atmospheric pressure.

次に、UV硬化装置にてUV照射を行い、シール樹脂の仮硬化を行う。そして、シール樹脂の最終硬化を行う為にベークを行う。この時点でシール樹脂の内側に液晶が行き渡り液晶がセル内に充填された状態に至る。そして、基板に複数のパネルパターンを配置している場合は、パネル単位に分断する。以上の工程により液晶表示パネルが完成する。 Next, UV irradiation is performed with a UV curing device to temporarily cure the seal resin. Then, baking is performed to finally cure the sealing resin. At this time, the liquid crystal spreads inside the sealing resin and the liquid crystal is filled in the cell. And when the some panel pattern is arrange | positioned on the board | substrate, it divides | segments per panel. A liquid crystal display panel is completed through the above steps.

パネルを洗浄後、液晶表示パネルの両側に偏光板を貼り付ける。なお、偏光板には必要に応じて、光学補償シート等を積層させてもよい。 After cleaning the panel, a polarizing plate is attached to both sides of the liquid crystal display panel. In addition, you may laminate | stack an optical compensation sheet etc. on a polarizing plate as needed.

次に、ソースドライバ及びゲートドライバを接続する。ここでは、ドライバをTCP(Tape Career Package)方式で接続する方法について説明する。まず液晶表示パネルのソース端子部及びゲート端子部のそれぞれにACF(Anisotoropic Conductive Film)を仮圧着し、その後、ドライバが載せられたソースTCP及びゲートTCPをキャリアテープから打ち抜き、パネル端子電極に位置合わせし、加熱、本圧着する。続いて、ドライバTCPを連結するためのプリント配線基板とTCPの入力端子とをACFで接続する。このようにして、液晶表示素子が得られる。 Next, the source driver and the gate driver are connected. Here, a method of connecting a driver by a TCP (Tape Carrier Package) method will be described. First, an ACF (Anisotropic Conductive Film) is temporarily bonded to each of the source terminal portion and the gate terminal portion of the liquid crystal display panel, and then the source TCP and gate TCP on which the driver is mounted are punched from the carrier tape and aligned with the panel terminal electrode. Then, heat and final pressure bonding. Subsequently, a printed wiring board for connecting the driver TCP and the input terminal of the TCP are connected by ACF. In this way, a liquid crystal display element is obtained.

そして、液晶表示素子のドライバに表示制御回路を接続し、バックライト光源と呼ばれる照明装置と一体化することで、液晶表示装置が得られる。 And a display control circuit is connected to the driver of a liquid crystal display element, and a liquid crystal display device is obtained by integrating with the illuminating device called a backlight light source.

次に、このようにして得られた液晶表示装置をテレビジョン受像装置に使用する例について説明する。図31は、テレビジョン受信機用の表示装置の構成を示すブロック図である。この表示装置300は、Y/C分離回路60と、ビデオクロマ回路61と、A/Dコンバータ62と、液晶コントローラ63と、液晶表示素子200と、バックライト駆動回路64と、バックライト65と、マイコン(マイクロコンピュータ)66と、階調回路67とを備えている。 Next, an example in which the liquid crystal display device thus obtained is used for a television receiver will be described. FIG. 31 is a block diagram illustrating a configuration of a display device for a television receiver. The display device 300 includes a Y / C separation circuit 60, a video chroma circuit 61, an A / D converter 62, a liquid crystal controller 63, a liquid crystal display element 200, a backlight drive circuit 64, a backlight 65, A microcomputer 66 and a gradation circuit 67 are provided.

このような構成の表示装置300では、まず、テレビジョン信号としての複合カラー映像信号Scvが外部からY/C分離回路60に入力され、そこで輝度信号と色信号に分離される。これらの輝度信号と色信号は、ビデオクロマ回路61にて光の3原色に対応するアナログRGB信号に変換され、更に、このアナログRGB信号はA/Dコンバータ62により、デジタルRGB信号に変換される。このデジタルRGB信号は液晶コントローラ63に入力される。また、Y/C分離回路60では、外部から入力された複合カラー映像信号Scvから水平および垂直同期信号も取り出され、これらの同期信号もマイコン66を介して液晶コントローラ63に入力される。 In the display device 300 having such a configuration, first, a composite color video signal Scv as a television signal is input from the outside to the Y / C separation circuit 60, where it is separated into a luminance signal and a color signal. These luminance signals and color signals are converted into analog RGB signals corresponding to the three primary colors of light by the video chroma circuit 61, and the analog RGB signals are further converted into digital RGB signals by the A / D converter 62. . This digital RGB signal is input to the liquid crystal controller 63. The Y / C separation circuit 60 also extracts horizontal and vertical synchronization signals from the composite color video signal Scv input from the outside, and these synchronization signals are also input to the liquid crystal controller 63 via the microcomputer 66.

液晶表示素子200には、液晶コントローラ63からデジタルRGB信号が、上記同期信号に基づくタイミング信号と共に所定のタイミングで入力される。また、階調回路67では、カラー表示の3原色R、G、Bそれぞれの階調電圧が生成され、それらの階調電圧も液晶表示素子200に供給される。液晶表示素子200では、これらのRGB信号、タイミング信号および階調電圧に基づき内部のソースドライバやゲートドライバ等により駆動用信号(データ信号、走査信号等)が生成され、それらの駆動用信号に基づき内部の表示部にカラー画像が表示される。なお、この液晶表示素子200によって画像を表示するには、液晶表示素子200の後方から光を照射する必要があり、この表示装置300では、マイコン66の制御の下にバックライト駆動回路64がバックライト65を駆動することにより、液晶表示パネル101の裏面に光が照射される。 A digital RGB signal is input to the liquid crystal display element 200 from the liquid crystal controller 63 at a predetermined timing together with a timing signal based on the synchronization signal. The gradation circuit 67 generates gradation voltages for the three primary colors R, G, and B for color display, and these gradation voltages are also supplied to the liquid crystal display element 200. In the liquid crystal display element 200, driving signals (data signals, scanning signals, etc.) are generated by internal source drivers, gate drivers, and the like based on these RGB signals, timing signals, and gradation voltages, and based on these driving signals. A color image is displayed on the internal display. In order to display an image with the liquid crystal display element 200, it is necessary to irradiate light from behind the liquid crystal display element 200. In the display device 300, the backlight drive circuit 64 is controlled under the control of the microcomputer 66. Driving the light 65 irradiates the back surface of the liquid crystal display panel 101 with light.

これらの処理を含め、システム全体の制御はマイコン66が行う。なお、外部から入力される映像信号(複合カラー映像信号)としては、テレビジョン放送に基づく映像信号のみならず、カメラにより撮像された映像信号や、インターネット回線を介して供給される映像信号なども使用可能であり、この表示装置300では、様々な映像信号に基づいた画像表示が可能である。 The microcomputer 66 controls the entire system including these processes. The video signal (composite color video signal) input from the outside includes not only a video signal based on television broadcasting but also a video signal captured by a camera, a video signal supplied via an Internet line, and the like. The display device 300 can display images based on various video signals.

図32は、テレビジョン受像装置が備えるチューナ部70と表示装置との接続関係を示すブロック図である。このような構成の表示装置300でテレビジョン放送に基づく画像を表示する場合には、図32に示すように、表示装置300にチューナ部70が接続される。このチューナ部70は、アンテナで受信した受信波(高周波信号)の中から受信すべきチャンネルの信号を抜き出して中間周波信号に変換し、この中間周波数信号を検波することによってテレビジョン信号としての複合カラー映像信号Scを取り出す。この複合カラー映像信号Scvは、既述のように表示装置300に入力され、この複合カラー映像信号Scvに基づく画像が当該表示装置300によって表示される。 FIG. 32 is a block diagram illustrating a connection relationship between a tuner unit 70 and a display device included in the television receiver. When an image based on television broadcasting is displayed on the display device 300 having such a configuration, a tuner unit 70 is connected to the display device 300 as shown in FIG. The tuner unit 70 extracts a signal of a channel to be received from the received wave (high frequency signal) received by the antenna, converts the signal to an intermediate frequency signal, and detects the intermediate frequency signal to detect a composite as a television signal. The color video signal Sc is taken out. The composite color video signal Scv is input to the display device 300 as described above, and an image based on the composite color video signal Scv is displayed by the display device 300.

図33は、表示装置をテレビジョン受信機とするときの機械的構成の一例を示す分解斜視模式図である。図33に示した例では、テレビジョン受信機は、その構成要素として表示装置300の他に第1筐体81及び第2筐体82を有しており、表示装置300を第1筐体81と第2筐体82とで包み込むようにして挟持した構成となっている。第1筐体81には、表示装置300で表示される画像を透過させる開口部83が形成されている。また、第2筐体82は、表示装置300の背面側を覆うものであり、表示装置300を操作するための操作用回路84が設けられるとともに、下方に支持用部材85が取り付けられている。 FIG. 33 is an exploded perspective schematic view showing an example of a mechanical configuration when the display device is a television receiver. In the example illustrated in FIG. 33, the television receiver includes a first housing 81 and a second housing 82 in addition to the display device 300 as its components, and the display device 300 is included in the first housing 81. And the second casing 82 so as to be sandwiched. The first housing 81 is formed with an opening 83 through which an image displayed on the display device 300 is transmitted. The second casing 82 covers the back side of the display device 300, is provided with an operation circuit 84 for operating the display device 300, and a support member 85 is attached below.

<実施形態2>
実施形態2の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Embodiment 2>
The liquid crystal display device of Embodiment 2 will be described. It should be noted that the description and illustration of the contents overlapping between the present embodiment and the first embodiment are omitted.

図34は、実施形態2の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。また、図35は、実施形態2の液晶表示パネルの隅部の構成を示す拡大平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル102では1つの画素6は、2つの副画素7a、7aから構成されており、図34には分割される前の画素の4画素分にあたる画素、すなわち、8つの副画素が示されている。本実施形態において1画素の分割数は2つであるが、画素の分割数と特に限定されず、2つ以上であってもよい。本実施形態では、画素に対応するソースバスライン12とゲートバスライン11とが行列方向に配置され、各配線のクロス部近くに、スイッチング素子であるTFT16a、16bが1つのゲートバスライン11に対して2つ配置されている。また、副画素電極34a、34bの開口部として、副画素電極34a、34bのエッジに対し略45°の角度になるように電極スリット15が形成されている。なお、副画素電極34a、34bはそれぞれ、全ての領域が電極スリット15が形成されない接続部分を介して電気的に接続されるような構成となっている。なお、TFT16a、16bのそれぞれ対応して、ドレイン電極と副画素電極34a、34bとを電気的に接続するためのコンタクトホール30a、30bが形成されている。このようにTFT16a、16bを副画素7a、7bのそれぞれに配置して1つの画素を2つの画素とした場合、TFT不良や上下電極(画素電極及び共通電極)のリークによる画素欠陥が起こったとしても、駆動画素が通常の画素より小さいサイズの副画素単位となっているため欠陥を目立たなくすることができる。また、このとき各副画素7a、7bにかかる電圧を異ならせるいわゆるマルチ画素駆動にすることで、視野角による階調のズレを抑制することもできる。このように副画素を形成することで、視野角、透過率、応答速度、コントラスト比等の表示特性をバランスよく調整することができ、より効率の良い画素構造とすることができる。 FIG. 34 is a schematic plan view showing the configuration of the liquid crystal display panel of the second embodiment. FIG. 35 is an enlarged schematic plan view showing the configuration of the corners of the liquid crystal display panel of the second embodiment. In the liquid crystal display panel 102 of the present embodiment, one pixel 6 is composed of two subpixels 7a and 7a. In FIG. 34, pixels corresponding to four pixels before being divided, that is, eight subpixels. Pixels are shown. In the present embodiment, the number of divisions for one pixel is two, but the number of divisions for pixels is not particularly limited, and may be two or more. In this embodiment, source bus lines 12 and gate bus lines 11 corresponding to pixels are arranged in a matrix direction, and TFTs 16 a and 16 b as switching elements are connected to one gate bus line 11 near the cross portion of each wiring. Two are arranged. In addition, electrode slits 15 are formed as openings of the subpixel electrodes 34a and 34b so as to have an angle of approximately 45 ° with respect to the edges of the subpixel electrodes 34a and 34b. The sub-pixel electrodes 34a and 34b are configured such that all the regions are electrically connected via connection portions where the electrode slits 15 are not formed. Note that contact holes 30a and 30b for electrically connecting the drain electrode and the sub-pixel electrodes 34a and 34b are formed corresponding to the TFTs 16a and 16b, respectively. As described above, when the TFTs 16a and 16b are arranged in the sub-pixels 7a and 7b, respectively, and one pixel is two pixels, it is assumed that a pixel defect due to TFT failure or leakage of upper and lower electrodes (pixel electrode and common electrode) occurs. However, since the drive pixel is a sub-pixel unit having a size smaller than that of the normal pixel, the defect can be made inconspicuous. Further, at this time, the so-called multi-pixel driving in which the voltages applied to the sub-pixels 7a and 7b are made different can suppress gradation shift due to the viewing angle. By forming subpixels in this manner, display characteristics such as viewing angle, transmittance, response speed, and contrast ratio can be adjusted in a balanced manner, and a more efficient pixel structure can be obtained.

なお、本実施形態の液晶表示パネルの画素は、Csマルチ画素駆動法を実現できる画素の一例である。また、Csマルチ画素駆動法は、対象となる画素のTFTがオンになって選択されその後TFTがオフになった後の非選択期間中に保持容量配線に印加される電圧を変動させ、各副画素電極の電位を変動させることで、マルチ画素駆動を実現する。 The pixel of the liquid crystal display panel of this embodiment is an example of a pixel that can realize the Cs multi-pixel driving method. Further, the Cs multi-pixel driving method varies the voltage applied to the storage capacitor wiring during the non-selection period after the TFT of the target pixel is turned on and selected, and then the TFT is turned off. Multi-pixel driving is realized by changing the potential of the pixel electrode.

そして、本実施形態において、画素開口部の光透過率への寄与がほとんど無い画素及び/又は副画素の隅部には、絶縁層26が配置されている。このように、MVAモード等のように配向制御用構造物を有する液晶モードにおいては、画素(副画素)の隅部がデッドスペースとなる場合がある。したがって、平面視したときに、絶縁層26が画素の隅部に配置されることによって、画素開口部の光透過率を低減することなく、絶縁層26を配置する領域を増やすことができる。その結果、液晶材料の使用量をより低減することができる。なお、本明細書において、画素の隅部とは、サブ画素の隅部及び副画素の隅部を含むものである。 In the present embodiment, the insulating layer 26 is disposed at the corner of the pixel and / or sub-pixel that hardly contributes to the light transmittance of the pixel opening. Thus, in the liquid crystal mode having the alignment control structure such as the MVA mode, the corner of the pixel (sub-pixel) may become a dead space. Therefore, when viewed in plan, the insulating layer 26 is disposed at the corner of the pixel, so that the region where the insulating layer 26 is disposed can be increased without reducing the light transmittance of the pixel opening. As a result, the amount of liquid crystal material used can be further reduced. Note that in this specification, the corner of a pixel includes a corner of a sub-pixel and a corner of a sub-pixel.

また、絶縁層26は、画素の隅部に配置された線状突起24と一体的に形成された形態であってもよい。これより、絶縁層26を配置する領域を更に増やすことができる。なお、線状突起24は、もともと太く作ってあるので、絶縁層26がメイン突起の部分と一体化していても、画素開口部の液晶配向に悪影響を与えることは無い。この場合、絶縁層26は、平面視したときに、画素の隅部に配置された線状突起24の画素の中心とは反対側に配置されることが好ましい。これにより、絶縁層26による画素開口部における液晶配向に与える影響を最小限にすることができる。 Further, the insulating layer 26 may be formed integrally with the linear protrusions 24 arranged at the corners of the pixel. Thereby, the area | region which arrange | positions the insulating layer 26 can be increased further. Since the linear protrusions 24 are originally made thick, even if the insulating layer 26 is integrated with the main protrusions, the liquid crystal alignment in the pixel openings is not adversely affected. In this case, the insulating layer 26 is preferably disposed on the side opposite to the center of the pixel of the linear protrusion 24 disposed at the corner of the pixel when viewed in plan. As a result, the influence of the insulating layer 26 on the liquid crystal alignment in the pixel opening can be minimized.

また、絶縁層26は、平面視したときに、ソースバスライン12及び保持容量配線33が交差する領域に配置されている。このような配線のクロス部においては、上層(液晶層8側)の配線(ソースバスライン12)の平面視したときに下層(絶縁基板10側)の配線(保持容量配線33)と重なる部分は、液晶層8側に盛り上がり(湾曲し)、共通電極により近づくことになる。その結果、寄生容量が特に大きくなる。したがって、配線同士が交差する領域に絶縁層を設けることによって、配線と共通電極との間の寄生容量を特に減らすことができる。また、配線のクロス部で基板間の短絡が発生することを防止することができる。このように、配線(本実施形態では、ソースバスライン12)は、断面視したときに、その高さが相対的に高くなった隆起部を有し、絶縁層26は、基板を平面視したときに、隆起部と重なる領域に配置されてもよい。なお、隆起部の高さは、通常、隆起部以外の部分に対して、隆起部を隆起させる隆起部の下層に位置する部材の厚みだけ高くなっている。また、本実施形態の配線のクロス部においては、ソースバスライン12の隆起部は、平面視したときに保持容量配線33と重ならない部分に対して、保持容量配線33の厚み分だけ高くなっており、より具体的には、ソースバスライン12の隆起部は、通常、平面視したときに保持容量配線33と重ならない部分に対して、400〜700nm程度高くなっている。 In addition, the insulating layer 26 is disposed in a region where the source bus line 12 and the storage capacitor wiring 33 intersect when viewed in plan. In such a cross portion of the wiring, a portion that overlaps with a lower layer (insulating substrate 10 side) wiring (retention capacitor wiring 33) when the upper layer (liquid crystal layer 8 side) wiring (source bus line 12) is viewed in plan view. The liquid crystal layer 8 swells (curves) and comes closer to the common electrode. As a result, the parasitic capacitance becomes particularly large. Therefore, by providing the insulating layer in a region where the wirings intersect, the parasitic capacitance between the wirings and the common electrode can be particularly reduced. Moreover, it is possible to prevent a short circuit between the substrates from occurring at the wiring crossing portion. In this way, the wiring (in this embodiment, the source bus line 12) has a raised portion whose height is relatively high when viewed in cross section, and the insulating layer 26 is a plan view of the substrate. Sometimes, it may be arranged in a region overlapping with the raised portion. Note that the height of the raised portion is usually higher by the thickness of the member located below the raised portion that raises the raised portion than the portion other than the raised portion. Further, in the wiring cross portion of the present embodiment, the raised portion of the source bus line 12 is higher by the thickness of the storage capacitor wiring 33 than the portion that does not overlap the storage capacitor wiring 33 when viewed in plan. More specifically, the raised portion of the source bus line 12 is usually about 400 to 700 nm higher than the portion that does not overlap the storage capacitor wiring 33 when viewed in plan.

また、本実施形態においては、各副画素の右上、右下のコーナー部の線状補助突起25の遮光領域側、すなわち、コーナー部を形成する辺に配置された線状補助突起25の遮光領域(ゲートバスライン11)側に絶縁層26が配置されている。これにより、画素開口部における液晶配向に与える影響を最小限にしつつ、液晶材料及び寄生容量の更なる低減が可能となっている。なお、絶縁層26を線状補助突起25と一体的に形成した場合、線状補助突起25が太くなり、液晶配向に悪影響を与えることが懸念される。しかしながら、絶縁層26は、図35に示すように、画素(本実施形態では副画素)の隅部に配置された線状補助突起25の根元部と一体的に形成され、かつ線状補助突起25は、その幅が根元部から先端部に向かって細くなっている。したがって、コーナー部の線状補助突起25は、液晶分子36の配向方向を光透過率が最も高い45°方向に付けることが可能となる。そのため、コーナー部における光透過率を増加することができるので、画素開口部全体における光透過率の低下を実質的に無くすことができる。すなわち、これらの形態により、画素開口部の液晶の配向に悪影響を及ぼすことなく、線状補助突起25と一体的に絶縁層26を配置することができる。このように、本実施形態においては、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に線状補助突起25を有し、絶縁層26は、画素の隅部に配置された線状補助突起25の根元部と一体的に形成され、線状補助突起25は、平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることが好ましく、また、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に線状補助突起25を有し、絶縁層26は、画素の隅部に配置された線状補助突起25の先端部以外の部分と一体的に形成されることが好ましい。なお、線状補助突起25は、平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって徐々に細くなる形態であってもよいし、その幅が根元部から先端部に向かって段階的に細くなる形態であってもよい。また、根元部から先端部に向かって幅が細くなる線状補助突起25は、線状補助突起25の根元部と絶縁層26と一体的に形成することよって、容易に作製することができる。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、実施形態1の液晶表示パネルと同様の製造方法を用いて製造できることから、その説明は省略する。
Further, in the present embodiment, the light shielding region of the linear auxiliary protrusion 25 arranged on the light shielding region side of the linear auxiliary protrusion 25 in the upper right and lower right corner portions of each subpixel, that is, the side forming the corner portion. An insulating layer 26 is disposed on the (gate bus line 11) side. Thereby, it is possible to further reduce the liquid crystal material and the parasitic capacitance while minimizing the influence on the liquid crystal alignment in the pixel opening. When the insulating layer 26 is formed integrally with the linear auxiliary protrusion 25, there is a concern that the linear auxiliary protrusion 25 becomes thick and adversely affects liquid crystal alignment. However, as shown in FIG. 35, the insulating layer 26 is formed integrally with the root portion of the linear auxiliary protrusion 25 arranged at the corner of the pixel (subpixel in the present embodiment), and the linear auxiliary protrusion. The width of the taper 25 decreases from the root portion toward the tip portion. Therefore, the linear auxiliary protrusions 25 at the corners can attach the alignment direction of the liquid crystal molecules 36 to the 45 ° direction having the highest light transmittance. For this reason, the light transmittance at the corner can be increased, so that a decrease in the light transmittance at the entire pixel opening can be substantially eliminated. That is, according to these forms, the insulating layer 26 can be disposed integrally with the linear auxiliary protrusion 25 without adversely affecting the alignment of the liquid crystal in the pixel opening. Thus, in the present embodiment, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 has the linear auxiliary protrusions 25 on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the insulating layer 26 is a corner portion of the pixel. It is preferable that the linear auxiliary projection 25 is formed integrally with the root portion of the linear auxiliary projection 25 arranged in the shape of the linear auxiliary projection 25, and the width of the linear auxiliary projection 25 becomes narrower from the root portion toward the tip portion when seen in a plan view. At least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 has the linear auxiliary protrusions 25 on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the insulating layer 26 has the linear auxiliary protrusions 25 arranged at the corners of the pixels. It is preferable to form integrally with parts other than the front-end | tip part. The linear auxiliary protrusion 25 may have a shape in which the width gradually decreases from the root portion toward the tip portion when viewed in a plan view, or the width of the line auxiliary protrusion 25 gradually increases from the root portion toward the tip portion. The form which becomes thin automatically may be sufficient. Further, the linear auxiliary projection 25 whose width decreases from the root portion toward the tip portion can be easily manufactured by integrally forming the root portion of the linear auxiliary projection 25 and the insulating layer 26.
Thus, the amount of liquid crystal material used can be reduced also in this embodiment. Note that the liquid crystal display panel of the present embodiment can be manufactured using the same manufacturing method as that of the liquid crystal display panel of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

<実施形態3>
実施形態3の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1及び2とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Embodiment 3>
A liquid crystal display device of Embodiment 3 will be described. It should be noted that the description and illustration of the contents overlapping between the present embodiment and the first and second embodiments are omitted.

図36は、実施形態3の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。また、図37は、実施形態3のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。更に、図38は、実施形態3の対向基板の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル103は、実施形態2と同様に、2つの副画素7a、7bから画素6が構成されている。そして、本実施形態においては、TFT16a、16b領域の上に絶縁層26が配置されている。すなわち、絶縁層26は、平面視したときに、スイッチング素子と重なる領域に配置されている。TFT16a、16bの形成される領域は、ゲートバスライン11上であり、TFT16a、16bを構成するソースバスライン12(ソース電極を含む)は、共通電極と近づくこととなる。すなわち、TFTの形成される領域においては、配線は隆起部を有することになる。したがって、これにより、実施形態2における配線のクロス部と同様に、寄生容量をより効果的に低減することができる。また、TFTを構成する配線が対向電極に近づくと、ソースバスライン12を覆う層間絶縁膜や対向基板のBMに金属異物が混入した場合、対向電極とソースバスライン12(あるいはTFT16a、16b)とが短絡しやすくなる。したがって、TFT16a、16b領域の上に絶縁層26を配置することによって、液晶表示パネルの歩留まりを向上することができる。なお、本実施形態のスイッチング素子(TFT16a、16b)においては、ソースバスライン12の隆起部(TFTを構成するソース電極)は、平面視したときにスイッチング素子(TFT16a、16b)及びゲートバスライン11と重ならない部分に対して、ゲートバスライン11、活性半導体層(図示せず)及び低抵抗半導体層(図示せず)の厚み分だけ高くなっており、より具体的には、ソースバスライン12の隆起部は、通常、平面視したときにスイッチング素子(TFT16a、16b)及びゲートバスライン11と重ならない部分に対して、400〜700nm程度高くなっている。また、本実施形態において、絶縁層26は、平面視したときに、配線のクロス部(ソースバスライン12及びゲートバスライン11が交差する領域、ソースバスライン12及び保持容量配線33が交差する領域等)にも配置されている。なお、配線のクロス部においては、上層の配線(本実施形態では、ソースバスライン12)は、実施形態2と同様に、隆起部を有することとなる。したがって、このような領域に絶縁層26を配置することによって、配線のクロス部で発生する寄生容量を効果的に低減することができる。また、配線のクロス部で基板間の短絡が発生することを防止することができる。なお、本実施形態の配線のクロス部においては、ソースバスライン12の隆起部は、平面視したときにゲートバスライン11及び保持容量配線33と重ならない部分に対して、ゲートバスライン11又は保持容量配線33の厚み分だけ高くなっており、より具体的には、ソースバスライン12の隆起部は、通常、平面視したときにゲートバスライン11と重ならない部分に対して、400〜700nm程度高くなっている。なお、ゲートバスライン11及び保持容量配線33は、通常、同一工程により形成されることから、同程度の厚みを有する。 FIG. 36 is a schematic plan view showing the configuration of the liquid crystal display panel of the third embodiment. FIG. 37 is a schematic plan view showing the configuration of the active matrix substrate of the third embodiment. Further, FIG. 38 is a schematic plan view showing the configuration of the counter substrate of the third embodiment. As in the second embodiment, the liquid crystal display panel 103 of the present embodiment includes two sub-pixels 7a and 7b, and the pixel 6 is configured. In this embodiment, the insulating layer 26 is disposed on the TFT 16a and 16b regions. That is, the insulating layer 26 is disposed in a region overlapping with the switching element when viewed in plan. The region where the TFTs 16 a and 16 b are formed is on the gate bus line 11, and the source bus line 12 (including the source electrode) constituting the TFTs 16 a and 16 b approaches the common electrode. That is, in the region where the TFT is formed, the wiring has a raised portion. Accordingly, as in the case of the wiring cross portion in the second embodiment, the parasitic capacitance can be reduced more effectively. Further, when the wiring constituting the TFT approaches the counter electrode, when a metal foreign matter enters the interlayer insulating film covering the source bus line 12 or the BM of the counter substrate, the counter electrode and the source bus line 12 (or TFTs 16a and 16b) Becomes easier to short circuit. Therefore, the yield of the liquid crystal display panel can be improved by disposing the insulating layer 26 on the TFT 16a and 16b regions. In the switching elements (TFTs 16a and 16b) of the present embodiment, the raised portions (source electrodes constituting the TFT) of the source bus line 12 have the switching elements (TFTs 16a and 16b) and the gate bus line 11 when viewed in plan. The gate bus line 11, the active semiconductor layer (not shown), and the low-resistance semiconductor layer (not shown) are thicker than the portion that does not overlap with the source bus line 12. In general, the raised portion is about 400 to 700 nm higher than a portion that does not overlap the switching elements (TFTs 16a and 16b) and the gate bus line 11 when seen in a plan view. In this embodiment, the insulating layer 26 is a wiring cross section (a region where the source bus line 12 and the gate bus line 11 intersect, a region where the source bus line 12 and the storage capacitor wiring 33 intersect when viewed in plan. Etc.). Note that, in the wiring cross portion, the upper wiring (in this embodiment, the source bus line 12) has a raised portion, as in the second embodiment. Therefore, by disposing the insulating layer 26 in such a region, it is possible to effectively reduce the parasitic capacitance generated at the cross portion of the wiring. Moreover, it is possible to prevent a short circuit between the substrates from occurring at the wiring crossing portion. Note that, in the cross portion of the wiring according to the present embodiment, the raised portion of the source bus line 12 has the gate bus line 11 or the holding portion with respect to a portion that does not overlap the gate bus line 11 and the storage capacitor wiring 33 when viewed in plan. More specifically, the raised portion of the source bus line 12 is usually about 400 to 700 nm with respect to a portion that does not overlap the gate bus line 11 when viewed in plan. It is high. Note that the gate bus line 11 and the storage capacitor line 33 are usually formed in the same process, and therefore have the same thickness.

また、柱状スペーサの台座として利用するために、ゲートバスライン11は、その幅が相対的に太くなった幅広部29を有する。しかながら、このように配線に幅広部を設けた場合、配線面積が大きくなり、寄生容量が増大してしまう。それに対して、本実施形態においては、ゲートバスライン11の幅広部29に対応して絶縁層26が配置されている。すなわち、配線(本実施形態ではゲートバスライン11)は、平面視したときに、その幅が相対的に太くなった幅広部29を有し、絶縁層26は、平面視したときに、幅広部29と重なる領域に配置されている。これにより、配線面積の増大に起因する寄生容量の増加を効果的に抑制することができる。なお、配線の幅とは、配線の延伸方向に対する略垂直方向における配線の長さである。また、ゲートバスライン11の幅広部29上には柱状スペーサが設けられるため、絶縁層26は、対向基板(共通電極を有する基板)に配置されることが好ましい。更に、柱状スペーサは、通常、全ての幅広部(画素)に対応して設けられることはなく、適宜間引かれて配置される。一方、幅広部29に対応して配置される絶縁層26は、寄生容量と液晶材料の使用量とをより効果的に低減する観点から、実質的に全ての幅広部29に対応して配置されることが好ましい。なお、幅広部の幅の大きさとしては特に限定されないが、柱状スペーサの直径よりも大きいことが好ましく、柱状スペーサの平面視したときの直径は、通常、10〜50μm程度であることから、より具体的には、幅広部の幅は、20〜60μm程度であることが好ましい。一方、配線(本実施形態ではゲートバスライン11)の幅広部以外の部分の幅としては、通常、15〜40μm程度である。特に複数の層を重ねることで形成する積層タイプの柱状スペーサは直径が大きいため、対応する位置の配線に幅広部を設けることがあり、その場合本実施形態が好適である。 Further, in order to use as a pedestal for the columnar spacer, the gate bus line 11 has a wide portion 29 whose width is relatively thick. However, when the wide portion is provided in the wiring as described above, the wiring area is increased and the parasitic capacitance is increased. On the other hand, in this embodiment, the insulating layer 26 is disposed corresponding to the wide portion 29 of the gate bus line 11. That is, the wiring (the gate bus line 11 in the present embodiment) has a wide portion 29 whose width is relatively thick when viewed in plan, and the insulating layer 26 has a wide portion when viewed in plan. 29 is arranged in a region overlapping with 29. As a result, an increase in parasitic capacitance due to an increase in wiring area can be effectively suppressed. Note that the width of the wiring is the length of the wiring in a direction substantially perpendicular to the extending direction of the wiring. Further, since the columnar spacer is provided on the wide portion 29 of the gate bus line 11, the insulating layer 26 is preferably disposed on the counter substrate (substrate having a common electrode). Furthermore, the columnar spacers are usually not provided corresponding to all the wide portions (pixels), and are arranged by being thinned out as appropriate. On the other hand, the insulating layer 26 disposed corresponding to the wide portion 29 is disposed corresponding to substantially all the wide portions 29 from the viewpoint of more effectively reducing the parasitic capacitance and the amount of liquid crystal material used. It is preferable. Although the width of the wide portion is not particularly limited, it is preferably larger than the diameter of the columnar spacer, and the diameter of the columnar spacer when viewed in plan is usually about 10 to 50 μm. Specifically, the width of the wide portion is preferably about 20 to 60 μm. On the other hand, the width of the portion other than the wide portion of the wiring (the gate bus line 11 in this embodiment) is usually about 15 to 40 μm. In particular, since a stacked columnar spacer formed by stacking a plurality of layers has a large diameter, a wide portion may be provided in a wiring at a corresponding position. In this case, this embodiment is preferable.

また、本実施形態においては、絶縁層26は、平面視したときに、島状(アイランド状)に配置されている。これにより、インクジェット法によって配向膜を塗布した場合の塗布性向上(通り道確保)が可能となる。また、液晶材料の通り道確保による真空気泡発生の抑制が可能となる。なお、同様の観点から、絶縁層26は、平面視したときに、当該絶縁層26で囲まれる領域(絶縁層26により形成される閉じた領域)を有さない形態、スリットを有する形態、環状に配置されない形態等であってもよい。 In the present embodiment, the insulating layer 26 is arranged in an island shape (island shape) when viewed in plan. As a result, it is possible to improve applicability (secure passage) when the alignment film is applied by the ink jet method. In addition, it is possible to suppress the generation of vacuum bubbles by securing the passage of the liquid crystal material. From the same point of view, the insulating layer 26 has a shape that does not have a region surrounded by the insulating layer 26 (a closed region formed by the insulating layer 26), a shape that has a slit, and an annular shape when viewed in plan. The form etc. which are not arrange | positioned may be sufficient.

なお、本実施形態のように島状に絶縁層を配置する場合には、各画素間の境界領域に配置される絶縁層26は、平面視したときに、画素の端部の線状補助突起25が対向する領域内に優先的に配置されることが好ましい。このような、隣り合う画素の端部に設けられた線状補助突起25間の領域は、BM20上に重なって配置されたCF層の端部と、更にそのCF層の端部上に配置された線状補助突起25との存在により、特に凹んでいる場合が多い。その結果、この領域で、配向膜のヌレ不良やゴミによるセル厚不良が発生しやすい。したがって、この領域に優先的に絶縁層26を設けることによって、このような不良発生を効果的に減少することができる。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、実施形態1の液晶表示パネルと同様の製造方法を用いて製造できることから、その説明は省略する。
When the insulating layer is disposed in an island shape as in the present embodiment, the insulating layer 26 disposed in the boundary region between the pixels has a linear auxiliary protrusion at the end of the pixel when viewed in plan. It is preferable that 25 is preferentially disposed in the opposed region. Such a region between the linear auxiliary protrusions 25 provided at the end portions of the adjacent pixels is disposed on the end portion of the CF layer disposed on the BM 20 and further on the end portion of the CF layer. In many cases, it is particularly recessed due to the presence of the linear auxiliary protrusion 25. As a result, in this region, the alignment film is liable to have a slippage defect or a cell thickness defect due to dust. Therefore, the occurrence of such defects can be effectively reduced by providing the insulating layer 26 preferentially in this region.
Thus, the amount of liquid crystal material used can be reduced also in this embodiment. Note that the liquid crystal display panel of the present embodiment can be manufactured using the same manufacturing method as that of the liquid crystal display panel of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

<実施形態4>
実施形態4の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1〜3とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Embodiment 4>
A liquid crystal display device of Embodiment 4 will be described. In addition, description and illustration about the content which overlaps by this embodiment and Embodiment 1-3 are abbreviate | omitted.

図39は、実施形態4の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル104は、図39に示すように、対向基板2の共通電極23の上に、樹脂からなるBM20を有し、BM20は、少なくとも配線(図39ではソースバスライン12)に対応する位置に配置され、更に、絶縁性のBM20の液晶層8側に絶縁層26が設けられている。すなわち、本実施形態のアクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に、絶縁基板10側から順に、複数のカラーフィルタ(本実施形態では、各色カラーフィルタ21R、21G、21B)が間隙を有して配置されたCF層22と、絶縁基板10及びCF層22上の略全面に設けられた共通電極23と、絶縁性のBM20と、絶縁層26とを有し、絶縁性のBM20及び絶縁層26は、平面視したときに、複数のカラーフィルタの間隙に配置される。このように、共通電極23がCF層22の膜厚分だけ絶縁基板10側に凹むことによって、実施形態1の構成に比べて、共通電極23と配線間の距離が遠くなるとともに、液晶材料の代わりにBM20及び絶縁層26の占める部分が多くなるので、寄生容量をより低下させることができる。また、パネル内の表示に影響しない領域である遮光領域において、パネル内体積を削減することができるので、液晶材料の使用量を低減することができる。なお、絶縁性のBM20及び/又は絶縁層26は、線状突起及び/又は線状補助突起を兼ねてもよい。また、本実施形態においては、配線は、通常、平面視したときに、共通電極23が凹んでいる領域(カラーフィルタの間隙)と重なって配置されることが好ましい。更に、本実施形態においては、基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に、絶縁基板側から順に、複数のカラーフィルタが間隙を有して配置されたカラーフィルタ層と、絶縁基板及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、上記絶縁層は、基板を平面視したときに、カラーフィルタ間に配置された形態であってもよく、この形態においては、上記絶縁層は、絶縁基板側から順に、第1絶縁層及び第2絶縁層が積層された構造を有し、第1絶縁層は、遮光性を有する形態であってもよいし、上記絶縁層は、絶縁基板側から順に、第1絶縁層及び第2絶縁層が積層された構造を有し、上記第1絶縁層及び/又は第2絶縁層は、遮光性を有する形態であってもよい。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、実施形態1の対向基板の各部材を形成する順番を変えるだけで容易にできることから、その詳細は省略する。なお、本実施形態の対向基板においては、CF層と、共通電極と、BMと、絶縁層、線状突起及び線状補助突起とが、この順に形成される。
FIG. 39 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the liquid crystal display panel of the fourth embodiment. As shown in FIG. 39, the liquid crystal display panel 104 of this embodiment has a BM 20 made of resin on the common electrode 23 of the counter substrate 2, and the BM 20 has at least wiring (source bus line 12 in FIG. 39). Further, an insulating layer 26 is provided on the liquid crystal layer 8 side of the insulating BM 20. That is, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 of the present embodiment has a plurality of color filters (in the present embodiment, each color filter 21R on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10 in order from the insulating substrate 10 side). , 21G, 21B) include a CF layer 22 arranged with a gap, a common electrode 23 provided on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 and the CF layer 22, an insulating BM 20, and an insulating layer 26. The insulative BM 20 and the insulating layer 26 are arranged in the gaps between the plurality of color filters when viewed in plan. As described above, the common electrode 23 is recessed toward the insulating substrate 10 by the film thickness of the CF layer 22, so that the distance between the common electrode 23 and the wiring is increased as compared with the configuration of the first embodiment, and the liquid crystal material Instead, since the portion occupied by the BM 20 and the insulating layer 26 increases, the parasitic capacitance can be further reduced. Further, since the volume in the panel can be reduced in the light-shielding region that is a region that does not affect the display in the panel, the amount of liquid crystal material used can be reduced. The insulating BM 20 and / or the insulating layer 26 may also serve as linear protrusions and / or linear auxiliary protrusions. In the present embodiment, it is preferable that the wiring is usually disposed so as to overlap with a region where the common electrode 23 is recessed (color filter gap) when viewed in plan. Furthermore, in this embodiment, at least one of the substrates includes a color filter layer in which a plurality of color filters are arranged with a gap in order from the insulating substrate side on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, and the insulating substrate and the color substrate. A common electrode provided on substantially the entire surface of the filter layer and an insulating layer, and the insulating layer may be disposed between the color filters when the substrate is viewed in plan. In the above, the insulating layer may have a structure in which a first insulating layer and a second insulating layer are laminated in order from the insulating substrate side, and the first insulating layer may have a light shielding property, The insulating layer has a structure in which a first insulating layer and a second insulating layer are laminated in order from the insulating substrate side, and the first insulating layer and / or the second insulating layer has a light shielding property. May be.
Thus, the amount of liquid crystal material used can be reduced also in this embodiment. Note that the liquid crystal display panel of the present embodiment can be easily changed only by changing the order of forming the respective members of the counter substrate of the first embodiment, and thus the details thereof are omitted. In the counter substrate of this embodiment, the CF layer, the common electrode, the BM, the insulating layer, the linear protrusion, and the linear auxiliary protrusion are formed in this order.

<実施形態5>
実施形態5の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1〜4とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Embodiment 5>
A liquid crystal display device of Embodiment 5 will be described. In addition, description and illustration about the content which overlaps in this embodiment and Embodiment 1-4 are abbreviate | omitted.

図40は、実施形態5の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル105は、図40に示すように、少なくとも対向基板2上の共通電極23と、少なくともアクティブマトリクス基板1の配線(ソースバスライン12等)の間の、アクティブマトリクス基板1の液晶層8側に絶縁層26が設けられている。すなわち、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の両基板が、共通電極23と配線(ソースバスライン11等)との間に配置された絶縁層26を液晶層8側に有する。これにより、対向電極全体の抵抗を増大することなく、配線と対向電極との間に存在する寄生容量と液晶材料の使用量とをより効果的に低減することができる。 FIG. 40 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the liquid crystal display panel of the fifth embodiment. As shown in FIG. 40, the liquid crystal display panel 105 of the present embodiment includes an active matrix substrate 1 between at least the common electrode 23 on the counter substrate 2 and at least wiring of the active matrix substrate 1 (source bus line 12 and the like). An insulating layer 26 is provided on the liquid crystal layer 8 side. That is, both the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 have the insulating layer 26 disposed between the common electrode 23 and the wiring (the source bus line 11 and the like) on the liquid crystal layer 8 side. Thereby, the parasitic capacitance existing between the wiring and the counter electrode and the usage amount of the liquid crystal material can be more effectively reduced without increasing the resistance of the entire counter electrode.

また、本実施形態のアクティブマトリクス基板1は、配向制御用構造物として線状突起24及び/又は線状補助突起(図示せず)を有することが好ましい。これにより、アクティブマトリクス基板1側の絶縁層26を線状突起24の材料を用いて同一工程で形成することができるので、製造工程を簡略化することができる。このように、両方の基板が線状突起24及び/又は線状補助突起25を有する場合、アクティブマトリクス基板1が有する線状突起及び/又は線状補助突起と対向基板2が有する線状突起及び/又は線状補助突起とは、それぞれ、その材質が異なっていてもよいが、製造工程を簡略化する観点からは、同一の材料を用いて形成されることが好ましい。したがって、この場合、両基板に設けられる絶縁層26の材質も同一であることが好ましい。 Further, the active matrix substrate 1 of the present embodiment preferably has a linear protrusion 24 and / or a linear auxiliary protrusion (not shown) as the alignment control structure. Thereby, since the insulating layer 26 on the active matrix substrate 1 side can be formed in the same process using the material of the linear protrusions 24, the manufacturing process can be simplified. As described above, when both the substrates have the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25, the linear protrusions and / or the linear auxiliary protrusions included in the active matrix substrate 1 and the linear protrusions included in the counter substrate 2 and Although the material of each of the linear auxiliary protrusions may be different, it is preferably formed using the same material from the viewpoint of simplifying the manufacturing process. Therefore, in this case, the material of the insulating layer 26 provided on both the substrates is preferably the same.

また、本実施形態のアクティブマトリクス基板1側の絶縁層26は、対向基板2側の絶縁層26と同様に、遮光性(光吸収性)を有する形態及び/又は着色された形態であることが好ましい。これにより、遮光領域の遮光性を向上することができる。また、これらの形態は、感光性樹脂材料からなるBM20の膜厚を薄くすることで、テーパ制御性を向上したい場合などに好適となる。更に、アクティブマトリクス基板1側の絶縁層26が着色膜である場合は、対向基板2の各色カラーフィルタ21R、21G、21Bと組み合わせることでBM20の代わりとすることもできる。そして、画素領域内の線状突起24及び/又は線状補助突起も同様に着色されることになるので、黒表示時における線状突起24及び又は線状補助突起近傍からの光漏れが抑制され、黒輝度が低下し、その結果、コントラストを向上することができる。
このように、本実施形態おいても液晶材料の使用量の削減が可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルは、アクティブマトリクス基板の画素電極にスリットを設けない代わりに、画素電極の形成後に対向基板と同様に絶縁層及び線状突起を形成すること以外は、実施形態1の液晶表示パネルと同様の製造方法を用いて製造できることから、その説明は省略する。
In addition, the insulating layer 26 on the active matrix substrate 1 side of the present embodiment may have a light-shielding property (light absorption) and / or a colored shape, like the insulating layer 26 on the counter substrate 2 side. preferable. Thereby, the light-shielding property of the light-shielding region can be improved. Moreover, these forms are suitable when the taper controllability is improved by reducing the film thickness of the BM 20 made of a photosensitive resin material. Furthermore, when the insulating layer 26 on the active matrix substrate 1 side is a colored film, it can be used in place of the BM 20 by combining with the color filters 21R, 21G, and 21B of the counter substrate 2. The linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions in the pixel region are similarly colored, so that light leakage from the vicinity of the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions during black display is suppressed. As a result, the black luminance is lowered, and as a result, the contrast can be improved.
Thus, the amount of liquid crystal material used can be reduced also in this embodiment. Note that the liquid crystal display panel of this embodiment is the same as that of the embodiment except that, instead of providing a slit in the pixel electrode of the active matrix substrate, an insulating layer and linear protrusions are formed in the same manner as the counter substrate after the pixel electrode is formed. Since it can be manufactured using the same manufacturing method as that of the liquid crystal display panel 1, description thereof is omitted.

<実施形態6>
実施形態6の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1〜5とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Embodiment 6>
A liquid crystal display device of Embodiment 6 will be described. In addition, description and illustration about the content which overlaps in this embodiment and Embodiment 1-5 are abbreviate | omitted.

図41は、実施形態6の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。なお、図中、一点鎖線で囲まれた領域は、BM20を示し、灰色で塗られた領域は、構造物41を示す。また、図42は、図41中のZ1−Z2線における断面模式図である。更に、図43は、実施形態6のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。そして、図44は、実施形態6の対向基板の構成を示す平面模式図である。なお、図7中、白抜き部分が線状突起24として、斜線部分が線状補助突起25として機能する。本実施形態の液晶表示パネル106は、図42に示すように、実施形態1の液晶表示パネル101と同様に、互いに対向するように配置された一対の基板であるアクティブマトリクス基板1及び対向基板2と、これらの基板間に設けられた液晶層8とを備える。また、これらの基板は、スペーサ(図示せず)によって一定の間隔(セルギャップ)有して保持されている。なお、スペーサとしては、柱状スペーサ、球状スペーサ等が挙げられるが、ながでも柱状スペーサが好ましい。 FIG. 41 is a schematic plan view showing the configuration of the liquid crystal display panel of the sixth embodiment. In the drawing, a region surrounded by a one-dot chain line indicates BM 20, and a region painted in gray indicates the structure 41. FIG. 42 is a schematic cross-sectional view taken along line Z1-Z2 in FIG. FIG. 43 is a schematic plan view showing the configuration of the active matrix substrate of the sixth embodiment. FIG. 44 is a schematic plan view illustrating the configuration of the counter substrate according to the sixth embodiment. In FIG. 7, the white portion functions as the linear protrusion 24, and the shaded portion functions as the linear auxiliary protrusion 25. As shown in FIG. 42, the liquid crystal display panel 106 of the present embodiment is a pair of substrates arranged so as to face each other, like the liquid crystal display panel 101 of the first embodiment, and the counter substrate 2. And a liquid crystal layer 8 provided between these substrates. In addition, these substrates are held with a certain interval (cell gap) by a spacer (not shown). Examples of the spacer include columnar spacers, spherical spacers, etc. Among them, columnar spacers are preferable.

本実施形態のアクティブマトリクス基板1は、図41、42及び43に示すように、ガラス等の透明の絶縁基板10と、絶縁基板10の液晶層8側に形成された、ゲートバスライン(走査信号線、ゲート配線)11と、ゲートバスライン11を覆って絶縁基板10上の略全面に形成されたゲート絶縁膜(図示せず)と、各画素の隅部に設けられた薄膜トランジスタ(TFT)等のアクティブ素子(スイッチング素子)16と、ソース電極を含むソースバスライン(データ信号線、ソース配線)12と、ドレイン電極(ドレイン引き出し配線)37と、ソースバスライン12、アクティブ素子16及びドレイン電極37を覆って絶縁基板10上の略全面に形成された層間絶縁膜(パッシベーション膜)13と、層間絶縁膜13上の透明導電膜等からなる画素電極14と、液晶層8に接するように設けられた垂直配向膜17aとを備える。なお、アクティブマトリクス基板1は、ゲートバスライン11と同一材料により形成された保持容量配線(補助容量配線、図示せず)を有する。 As shown in FIGS. 41, 42 and 43, the active matrix substrate 1 of the present embodiment includes a transparent insulating substrate 10 such as glass and a gate bus line (scanning signal) formed on the insulating substrate 10 on the liquid crystal layer 8 side. Line, gate wiring) 11, a gate insulating film (not shown) formed on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 so as to cover the gate bus line 11, thin film transistors (TFTs) provided at the corners of each pixel, etc. Active element (switching element) 16, source bus line (data signal line, source wiring) 12 including a source electrode, drain electrode (drain lead-out wiring) 37, source bus line 12, active element 16 and drain electrode 37. An interlayer insulating film (passivation film) 13 formed on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 and a transparent conductive film on the interlayer insulating film 13. It includes a Ranaru pixel electrode 14, and a vertical alignment film 17a provided in contact with the liquid crystal layer 8. The active matrix substrate 1 has a storage capacitor line (auxiliary capacitor line, not shown) formed of the same material as the gate bus line 11.

画素電極14は、ドレイン電極(ドレイン引き出し配線)37と層間絶縁膜13のコンタクトホール30を介して接続されている。また、画素電極14は、図41に示すように、表示領域3においてマトリクス状に配列されるとともに、実施形態1と同様に、電極スリット(電極抜き部)15が設けられる。 The pixel electrode 14 is connected to the drain electrode (drain lead wiring) 37 via the contact hole 30 of the interlayer insulating film 13. Further, as shown in FIG. 41, the pixel electrodes 14 are arranged in a matrix in the display region 3 and are provided with electrode slits (electrode removal portions) 15 as in the first embodiment.

なお、ゲートバスライン11及びソースバスライン12にはそれぞれ、実施形態1と同様に、非表示領域4において、ゲート端子部50及びソース端子部51側に設けられたゲート引き出し配線(図示せず)及びソース引き出し配線(図示せず)が接続されている。 Note that the gate bus lines 11 and the source bus lines 12 are respectively provided with gate lead lines (not shown) provided on the side of the gate terminal portion 50 and the source terminal portion 51 in the non-display area 4 as in the first embodiment. The source lead wiring (not shown) is connected.

本実施形態の対向基板2は、実施形態1と同様に、ガラス等の透明の絶縁基板10と、絶縁基板10の液晶層8側に形成された、遮光層20と、赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bを含むカラーフィルタ層(CF層)22と、透明導電膜等からなる共通電極(対向電極)23と、共通電極23上に形成された線状突起24及び線状補助突起25と、液晶層8に接するように設けられた垂直配向膜17bとを備える。 As in the first embodiment, the counter substrate 2 of the present embodiment includes a transparent insulating substrate 10 such as glass, a light shielding layer 20 formed on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, a red color filter 21R, and green. A color filter layer (CF layer) 22 including a color filter 21G and a blue color filter 21B, a common electrode (counter electrode) 23 made of a transparent conductive film and the like, a linear protrusion 24 formed on the common electrode 23, and a linear shape An auxiliary protrusion 25 and a vertical alignment film 17 b provided so as to be in contact with the liquid crystal layer 8 are provided.

赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bは、アクティブマトリクス基板1側に設けられた列方向に配列された複数の画素電極14に対応して、短冊状に設けられている。また、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bは、行方向に赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bの順に繰り返し配置されている。 The red color filter 21R, the green color filter 21G, and the blue color filter 21B are provided in a strip shape corresponding to the plurality of pixel electrodes 14 arranged in the column direction provided on the active matrix substrate 1 side. The color filters 21R, 21G, and 21B are repeatedly arranged in the order of the red color filter 21R, the green color filter 21G, and the blue color filter 21B in the row direction.

遮光層(BM)20は、平面視したときに、各カラーフィルタの間隙に配置されている。このように、BM20は、平面視したときに、列方向の画素の境界に沿ってスリット状に設けられている。そして、BM20の開口領域には、その端部がBM20と一部重なるように、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bが配置されている。すなわち、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bは、その端部がBM20に一部重なるカラーフィルタ重なり部38を有する。また、線状補助突起25の一部は、画素領域の端部近傍において、カラーフィルタ重なり部38に重なって配置されている。すなわち、線状補助突起25は、カラーフィルタ重なり部38の少なくとも一部に重なる補助突起重なり部39を有する。 The light shielding layer (BM) 20 is disposed in the gap between the color filters when viewed in plan. As described above, the BM 20 is provided in a slit shape along the boundary of the pixels in the column direction when viewed in plan. Then, the color filters 21R, 21G, and 21B are arranged in the opening region of the BM 20 so that the end portions thereof partially overlap the BM 20. That is, each color filter 21R, 21G, 21B has a color filter overlapping portion 38 whose end portion partially overlaps BM20. In addition, a part of the linear auxiliary protrusion 25 is disposed so as to overlap the color filter overlapping portion 38 in the vicinity of the end portion of the pixel region. That is, the linear auxiliary protrusion 25 has an auxiliary protrusion overlapping portion 39 that overlaps at least a part of the color filter overlapping portion 38.

そして、対向基板2は、カラーフィルタ重なり部38と、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39とから構成された互いに対向する線状凸部40a、40bを有する。すなわち、本実施形態において、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方が、絶縁基板10の液晶層8側に、絶縁基板10側から順に、開口部を有するBM20と、複数のカラーフィルタ(各色カラーフィルタ21R、21G、21B)がBM20の開口部に配置されたCF層22と、線状突起24及び線状補助突起25とを有し、CF層22は、複数のカラーフィルタ(各色カラーフィルタ21R、21G、21B)の端部がBM20に一部重なって配置されたカラーフィルタ重なり部38を有し、線状補助突起25は、少なくとも一部がカラーフィルタ重なり部38に重なって配置された補助突起重なり部39を有し、BM20、CF層22、線状突起24及び線状補助突起25を有する基板は、カラーフィルタ重なり部38と、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39とから構成される線状凸部40a、40bを有する。なお、BM20、CF層22、線状突起24及び線状補助突起25を有する基板は、カラーフィルタ重なり部38と、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39とを含んで構成される線状凸部40a、40bを有してもよい。このように、互いに対向する線状凸部40a、40bが形成された基板においては、従来は、垂直配向膜7a、7bを印刷法で塗布した場合、この線状凸部40a、40bに起因して表示ムラが発生することがあった。しかしながら、対向基板2は、平面視したときに、線状凸部40a、40bとは間隔を有し、かつ線状凸部40a、40b間に配置された構造物41を更に有する。すなわち、本実施形態において、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方(本実施形態では対向基板2)は、少なくとも一組の互いに対向する線状凸部40a、40bと、一組の線状凸部40a、40b間に配置された構造物41とを液晶層8側に有する。これにより、線状凸部40a、40bに起因する表示ムラの発生を抑制することができる。また、線状凸部40a、40bで挟まれた領域は、通常、遮光領域等の表示に関係しない領域となるため、構造物41を配置することによって表示品位に損なうことなく、液晶層の占有体積、すなわち、液晶材料の使用量を減少することができる。なお、線状凸部40a、40bは、平面形状が略線状の凸部である。また、線状凸部40a、40bは、通常、平面視したときに、互いに略平行に配置される。更に、線状凸部40a、40bは、通常、画素パターンに対応して形成されることから、基板の少なくとも一方(本実施形態では対向基板2)は、複数組の線状凸部を有し、上記複数組の線状凸部は、表示領域の略全面にわたって周期的に配置されることとなる。また、構造物の断面形状は、通常、略凸状である。更に、本実施形態のよう、カラーフィルタ重なり部38と、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39とから構成された互いに対向する線状凸部40a、40bとは、カラーフィルタ重なり部38から構成される部分と、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39から構成される部分とを有する互いに対向する線状凸部40a、40bを意味する。 The counter substrate 2 includes color filter overlapping portions 38, and linear convex portions 40a and 40b that are configured by the color filter overlapping portions 38 and the auxiliary protrusion overlapping portions 39 that face each other. That is, in the present embodiment, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 includes, on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, the BM 20 having openings in order from the insulating substrate 10 side, and a plurality of color filters (each color The color filters 21R, 21G, and 21B have a CF layer 22 disposed in the opening of the BM 20, a linear protrusion 24, and a linear auxiliary protrusion 25. The CF layer 22 includes a plurality of color filters (each color filter). 21R, 21G, and 21B) have a color filter overlapping portion 38 that is partially overlapped with the BM 20, and the linear auxiliary protrusion 25 is at least partially overlapped with the color filter overlapping portion 38. The substrate having the auxiliary protrusion overlapping portion 39 and having the BM 20, the CF layer 22, the linear protrusion 24, and the linear auxiliary protrusion 25 has a color filter weight. And Ri 38 has the color filter overlapping portion 38 and the auxiliary projection overlap portion 39. From configured linear convexes 40a, the 40b. The substrate having the BM 20, the CF layer 22, the linear protrusion 24, and the linear auxiliary protrusion 25 includes a color filter overlapping portion 38, a color filter overlapping portion 38, and an auxiliary protrusion overlapping portion 39. You may have the convex parts 40a and 40b. As described above, in the substrate on which the linear convex portions 40a and 40b facing each other are formed, conventionally, when the vertical alignment films 7a and 7b are applied by a printing method, the linear convex portions 40a and 40b are caused by the linear convex portions 40a and 40b. Display unevenness may occur. However, the counter substrate 2 further includes a structure 41 that is spaced from the linear protrusions 40a and 40b and disposed between the linear protrusions 40a and 40b when viewed in plan. That is, in the present embodiment, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 (the counter substrate 2 in the present embodiment) has at least one pair of linear protrusions 40a and 40b facing each other and one set of linear shapes. The structure 41 arranged between the convex portions 40a and 40b is provided on the liquid crystal layer 8 side. Thereby, generation | occurrence | production of the display nonuniformity resulting from the linear convex parts 40a and 40b can be suppressed. In addition, since the region sandwiched between the linear protrusions 40a and 40b is usually a region that is not related to display, such as a light shielding region, the liquid crystal layer is occupied without losing display quality by arranging the structure 41. The volume, that is, the amount of liquid crystal material used can be reduced. The linear convex portions 40a and 40b are convex portions having a substantially linear planar shape. Moreover, the linear convex parts 40a and 40b are normally arrange | positioned substantially parallel mutually when planarly viewed. Furthermore, since the linear protrusions 40a and 40b are normally formed corresponding to the pixel pattern, at least one of the substrates (the counter substrate 2 in this embodiment) has a plurality of sets of linear protrusions. The plurality of sets of linear protrusions are periodically arranged over substantially the entire display area. Moreover, the cross-sectional shape of the structure is usually substantially convex. Further, as in the present embodiment, the linear convex portions 40 a and 40 b that are composed of the color filter overlapping portion 38 and the color filter overlapping portion 38 and the auxiliary projection overlapping portion 39 are opposed to each other from the color filter overlapping portion 38. The linear convex parts 40a and 40b which oppose each other having the part comprised and the part comprised from the color filter overlap part 38 and the auxiliary | assistant protrusion overlap part 39 are meant.

ここで、表示ムラの発生原因と、本実施形態の作用効果とについて更に詳細に説明する。まず、図54〜57を用いて、従来における表示ムラの発生形態についてより具体的に説明する。図54は、従来のBM及びカラーフィルタ層を示す断面模式図である。図55は、従来のBM及びカラーフィルタ層上に配向膜が塗布された状態を示す断面模式図であり、(a)は、配向膜の塗布不良が発生した状態を示し、(b)は、配向膜が正常に塗布された状態を示す。図56は、表示ムラが発生した従来の液晶表示パネルを示す平面模式図である。図57は、従来のカラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。図58は、従来のBM、カラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。従来、樹脂CF間に設けられるBMは、クロム等の金属材料を用いて形成されていたが、近年、感光性樹脂を使用した樹脂製のBMが使われることが多くなってきている。なお、金属製のBMに比べ樹脂製のBMでは、エッチング処理工程を省略できるメリットがある。しかしながら、樹脂製のBMは、金属製のBMに比べ遮光能力が劣るため、金属製のBMの膜厚がサブミクロンオーダーであったのに対し、樹脂製のBMの膜厚は、1μm以上(例えば1.4μm)と金属製のBMクラブ厚く設定する必要があった。このような場合、図54に示すように、樹脂製のCF層622と樹脂製のBM620とが重なった部分では、BM620の膜厚が厚いため、CF層622が平坦化されずに線状凸部640a、640bが形成されることになる。線状凸部640a、640bの高さgは、画素開口部側から見て、最大でBM620の膜厚分となる。そして、このような線状凸部640a、640bが形成されると、配向膜を印刷法で形成する際に、液晶表示パネルの表示領域の位置によっては、図55(b)に示すように、線状凸部640a、640bの間に配向膜液剤44が塗られる場合以外に、図55(a)に示すように、線状凸部640a、640bの間に配向膜液剤44が塗られない領域が発生する場合があり、この配向膜のヌレ不良に起因して、図56に示すように、表示領域603内で線状の表示ムラ692(例えば、黒色のスジ)が発生することがあった。また、このような線状凸部間で発生する配向膜のヌレ不良は、その他の線状凸部、例えば、図57に示すように、CF層622上に形成された線状補助突起625等の配向制御用構造物によって構成される線状凸部640a、640bに起因して発生したり、図58に示すように、CF層622と樹脂製のBM620の重なる部分と、その重なる部分の上に更に形成された線状補助突起625等の配向制御用構造物とによって構成される線状凸部640a、640bに起因して発生することもあった。更に、図58に示したようの場合は、線状凸部の高さは、更に高くなるため、表示ムラの発生頻度は更に高くなっていた。 Here, the cause of occurrence of display unevenness and the effect of this embodiment will be described in more detail. First, a conventional form of display unevenness will be described more specifically with reference to FIGS. FIG. 54 is a schematic cross-sectional view showing a conventional BM and a color filter layer. FIG. 55 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an alignment film is applied on a conventional BM and color filter layer, (a) shows a state in which an application failure of the alignment film occurs, and (b) The state in which the alignment film is normally applied is shown. FIG. 56 is a schematic plan view showing a conventional liquid crystal display panel in which display unevenness occurs. FIG. 57 is a schematic cross-sectional view showing a conventional color filter layer and linear auxiliary protrusions. FIG. 58 is a schematic cross-sectional view showing a conventional BM, a color filter layer, and linear auxiliary protrusions. Conventionally, the BM provided between the resin CFs has been formed using a metal material such as chromium, but in recent years, a resin-made BM using a photosensitive resin has been increasingly used. In addition, compared with metal BM, resin-made BM has the merit that an etching process process can be skipped. However, the resin-made BM has a light shielding ability inferior to that of the metal BM, so that the film thickness of the metal BM is on the order of submicron, whereas the film thickness of the resin BM is 1 μm or more ( For example, the thickness of the metal BM club needs to be set to 1.4 μm. In such a case, as shown in FIG. 54, in the portion where the resin-made CF layer 622 and the resin-made BM 620 are overlapped, the film thickness of the BM 620 is thick. Portions 640a and 640b are formed. The height g of the linear protrusions 640a and 640b corresponds to the maximum thickness of the BM 620 when viewed from the pixel opening side. When such linear protrusions 640a and 640b are formed, depending on the position of the display area of the liquid crystal display panel when forming the alignment film by a printing method, as shown in FIG. In addition to the case where the alignment film solution 44 is applied between the linear protrusions 640a and 640b, as shown in FIG. 55A, the region where the alignment film solution 44 is not applied between the linear protrusions 640a and 640b. As shown in FIG. 56, a linear display unevenness 692 (for example, black streaks) may occur in the display region 603 due to the alignment failure of the alignment film. . In addition, such alignment defects occurring between the linear protrusions are caused by other linear protrusions, for example, linear auxiliary protrusions 625 formed on the CF layer 622 as shown in FIG. Generated by the linear protrusions 640a and 640b formed by the alignment control structure, and as shown in FIG. 58, the CF layer 622 and the resin-made BM 620 overlap with each other, Furthermore, it may occur due to the linear protrusions 640a and 640b formed by the alignment control structures such as the linear auxiliary protrusions 625 formed further. Further, in the case as shown in FIG. 58, since the height of the linear convex portion is further increased, the frequency of occurrence of display unevenness is further increased.

次に、従来における表示ムラの発生原因についてより具体的に説明する。配向膜の形成は、本実施形態において、配向膜液剤を印刷法で基板に塗布(転写)することによって行われる。印刷法に用いられる印刷版としては、通常、APR版(APR:登録商標、紫外線硬化型樹脂)を用いる。図45は、APR版を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、断面図である。APR版42は、図45(a)に示すように、印刷面に設けられた複数の円柱状のドット43を有する。なお、APR版42は、溝部で区切られた4つの領域を有し、各領域によって4つのパネルパターンが形成されたマザー基板のそれぞれの領域ごとに一度に配向膜液剤の塗布を行うことができる。各パネルパターンのシールや端子が形成される部分はAPR版の溝部に対応し、配向膜液剤は塗布されない。なお、配向膜印刷装置において、配向膜液剤は、複数のローラーを介して、最終的にAPR版の巻きつけられたローラー部に供給され、APR版のドット上に塗布される。そして、ドット上に塗布された配向膜液剤が基板に転写されることによって配向膜が形成される。なお、図45は、概略図であり、ドット43は、通常、300〜500dpi(dot/inch)で配置されており、また、基板の周期パターンとドットの周期パターン(メッシュとも言う)との干渉によりモアレ像が発生するのを防止するため、メッシュは、一般的にメッシュ角θだけ傾いた構造となっている。なお、メッシュ角θは、基板のパターン周期によって適宜設定される。更にドット43の直径は、通常、数十μm程度である。したがって、配向膜液剤は、塗布(転写)された直後においては、ドットパターン状に塗布されており、その後、このドットパターン状の配向膜液剤が基板に濡れ広がることによって、均一な膜厚の配向膜が形成される。しかしながら、液晶表示パネルに用いられる従来の基板は、通常、平坦でなく、CF層とBMとの重なり部等で構成される線状凸部の存在により、厚みが不均一な形状(凸凹形状)を有する。このような場合、APR版を用いて配向膜を印刷した時、配向膜液剤44は、まず線状凸部640a、640bに接触し、その後、図55(b)に示すように、他の低い部分に(図55(b)中の太線矢印の方向に向かって)濡れ広がると考えられる。したがって、特に対向する2つ(一組)の線状凸部の間の領域、例えば、上述のBM上の領域は、直接には配向膜材料が塗布されにくく、このような配向膜材料が直接塗布されなかった線状凸部640a、640bの間の領域においては、図55(a)に示すように、配向膜液剤44が濡れ広がらない場合が発生すると考えられる。他方、塗布される配向膜液剤の量は、APR版で決定されるため、基板のどのような場所であっても基本的に略一定である。そのため、配向膜液剤が濡れ広がっていない線状凸部近傍では、線状凸部間に濡れ広がるべき余分の配向膜液剤が、液剤自身の表面張力のために、画素開口部側(透光部側)のCF層の面上に偏って存在することとなり、配向膜の膜厚が局所的に厚くなる(図55(a)中、丸印で囲まれた部分)。したがって、配向膜液剤が濡れ広がった線状凸部近傍の画素開口部と、配向膜液剤が濡れ広がっていない線状凸部近傍の画素開口部とにおける配向膜に膜厚の差が生じ、その結果、表示ムラとなると考えられる。このように、図55で示したような線状凸部を有する従来の基板(以下、「第1の従来基板」ともいう。)と、図60で示したような単にカラーフィルタの間隙に段差部を有する従来の基板(以下、「第2の従来基板」ともいう。)とにおける配向膜液剤の挙動は異なる。また、第1の従来基板の画素開口部における配向膜の膜厚ムラは、正常な領域に対して膜厚が大きくなることによって発生するが、一方、第2の従来基板の画素開口部における配向膜の膜厚ムラは、段差部に配向膜液剤の流れ込みが生じ、段差部近傍で局所的に膜厚が小さくなることによって発生し、その結果、第2の従来基板においては、配向膜が薄くなった部分で配向規制力が低下するため表示ムラが視認される。したがって、第1の従来基板と第2の従来基板とにおいて発生する表示ムラは、互いに異なるメカニズムにより発生している。また、特許文献7に記載の技術は、第2の従来基板における課題に対する解決手段を提供するものであり、一方、本実施形態は、第1の従来基板における課題に対する解決手段を提供するものである。このように本実施形態と特許文献7に記載の技術とでは、それぞれの課題が異なることから、それぞれの構成及び作用は、必然的に異なることとなる。なおここで、本実施形態により表示ムラが抑制される第1の従来基板に特許文献7に記載を適用した場合について説明する。図62(a)及び(b)は、対向する線状凸部を有し、かつ平坦化用構造物が形成された従来の基板の構成を示す断面模式図である。この場合、図62(a)に示すように、例えばカラーフィルタ重なり部638及び補助突起重なり部639から構成される線状凸部640a、640b上にも平坦化用構造物691が配置されることになるので、線状突起640a、640bの高さは更に大きくなるとともに、線状突起640a、640bの間には大きく、かつ深い凹み693が発生することとなる。そしてこの凹み693内は、依然、配向膜液剤が直接塗布されない領域のままであるので、上述したように、配向膜液剤44が凹み693内にまで充分に濡れ広がらず、上述の場合と同様に、配向膜の膜厚ムラと表示ムラとが発生すると考えられる。また、補助突起625による配向規制力が平坦化構造物691によって強調され、偏光板の偏光軸方向に対して平行又は垂直な方向を向く液晶分子が増えることによって、画素開口部の光透過率が低下することが考えられる。一方、図62(b)に示すように、例えばカラーフィルタ重なり部638及び補助突起重なり部639から構成される線状凸部640a、640b上に、凹みが発生しないように平坦化用構造物691を形成した場合、その平坦化用構造物691の高さは非常に高くなる。したがって、逆に線状突起640a、640bの外側の領域(対向しない側の領域)に直接配向膜液剤が塗布されなくなるとともに、平坦化用構造物691上に塗布された配向膜液剤がこの外側の両側の領域に濡れ広がらず、画素開口部側(透光部側)のCF層の面上に配向膜の存在しない領域、又は、配向膜の薄い領域が発生し、その結果、やはり表示ムラが発生すると考えられる。またこの場合にも、補助突起625による配向規制力が平坦化構造物691によってさらに強調され、偏光板の偏光軸方向に対して平行又は垂直な方向を向く液晶分子が増えることによって、画素開口部の光透過率が低下することが考えられる。更に、平坦化構造物691を凹み693にのみ形成することはプロセス上のバラツキによって困難である。例えば、位置ズレにより凹み693から平坦化構造物691がはみ出るような場合、画素開口部においても平坦化構造物691による配向乱れの影響が発生してしまい、表示品位がより低下すると思われる。そして、このバラツキに対するマージンを確保するために、BMを620を必要以上に大きく設計する必要が発生し、画素開口率が減少してしまう。図46は、実施形態6の対向基板の線状突起近傍の構成を示す断面模式図である。それに対して、本実施形態では、対向基板2は、図46に示すように、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39から構成される線状凸部40a、40bを有するが、線状凸部40a、40b間に更に構造物41を有するため、線状凸部40a、40bのみならず、APR版上(ドット上)の配向膜液剤44を構造物41に直接塗布することができる。したがって、配向膜液剤44は、線状凸部40a、40bと構造物41とから他の低い部分に(図46中の太線矢印の方向に向かって)濡れ広がることとなり、常に、線状凸部40a、40bの間に配向膜液剤が濡れ広がっているようにすることができる。その結果、配向膜の膜厚ムラに起因する表示ムラの発生を抑制し、表示品位に優れた液晶パネルを実現することができる。また、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39と離して構造物41を配置することで、構造物41の位置や太さがばらついたとしても、線状凸部40a、40b間に構造体41を容易に収めることができ、構造物41が画素開口部の液晶の配向に与える悪影響を抑制することができる。
以下に、本実施形態における他の好適な形態や変形形態について説明する。
Next, the cause of occurrence of display unevenness in the related art will be described more specifically. In the present embodiment, the alignment film is formed by applying (transferring) the alignment film solution onto the substrate by a printing method. As the printing plate used in the printing method, an APR plate (APR: registered trademark, ultraviolet curable resin) is usually used. FIG. 45 is a schematic diagram showing an APR plate, where (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view. As shown in FIG. 45A, the APR plate 42 has a plurality of cylindrical dots 43 provided on the printing surface. The APR plate 42 has four regions divided by the groove portions, and the alignment film liquid agent can be applied at once to each region of the mother substrate on which four panel patterns are formed by each region. . The portions where the seals and terminals of each panel pattern are formed correspond to the groove portions of the APR plate, and the alignment film solution is not applied. In the alignment film printing apparatus, the alignment film solution is finally supplied to the roller portion around which the APR plate is wound through a plurality of rollers, and is applied onto the dots of the APR plate. Then, the alignment film is formed by transferring the alignment film liquid applied on the dots onto the substrate. FIG. 45 is a schematic diagram, and the dots 43 are usually arranged at 300 to 500 dpi (dot / inch), and interference between the periodic pattern of the substrate and the periodic pattern of dots (also referred to as a mesh). In order to prevent the generation of a moire image, the mesh is generally inclined by a mesh angle θ. The mesh angle θ is appropriately set according to the pattern period of the substrate. Furthermore, the diameter of the dot 43 is usually about several tens of μm. Therefore, immediately after the alignment film liquid is applied (transferred), it is applied in the form of a dot pattern. Thereafter, the alignment film liquid in the form of a dot pattern spreads wet on the substrate, thereby aligning with a uniform film thickness. A film is formed. However, a conventional substrate used for a liquid crystal display panel is usually not flat and has a non-uniform thickness due to the presence of a linear convex portion formed by an overlapping portion of a CF layer and a BM (an irregular shape). Have In such a case, when the alignment film is printed using the APR plate, the alignment film solution 44 first comes into contact with the linear protrusions 640a and 640b, and then, as shown in FIG. It is considered that the portion spreads wet (in the direction of the thick arrow in FIG. 55B). Therefore, in particular, in an area between two (a set) of linear protrusions facing each other, for example, an area on the above-described BM, the alignment film material is difficult to be directly applied. In the region between the linear protrusions 640a and 640b that have not been applied, as shown in FIG. 55A, it is considered that the alignment film solution 44 may not wet and spread. On the other hand, since the amount of the alignment film solution applied is determined by the APR plate, it is basically substantially constant at any location on the substrate. For this reason, in the vicinity of the linear protrusions where the alignment film liquid is not spread and spread, excess alignment film liquid that should spread and spread between the linear protrusions is caused by the pixel opening side (translucent part) due to the surface tension of the liquid itself. And the film thickness of the alignment film is locally increased (a portion surrounded by a circle in FIG. 55A). Therefore, there is a difference in film thickness between the alignment film in the pixel opening in the vicinity of the linear protrusion where the alignment film liquid is spread and the pixel opening in the vicinity of the linear protrusion where the alignment film liquid is not spread. As a result, display unevenness is considered. As described above, there is a step in the gap between the conventional substrate having linear protrusions as shown in FIG. 55 (hereinafter also referred to as “first conventional substrate”) and the color filter as shown in FIG. The behavior of the alignment film solution on a conventional substrate having a portion (hereinafter also referred to as “second conventional substrate”) is different. In addition, the film thickness unevenness of the alignment film in the pixel opening of the first conventional substrate is caused by the increase in film thickness with respect to the normal region, while the alignment in the pixel opening of the second conventional substrate. The film thickness unevenness is caused by the flow of the alignment film liquid agent in the stepped portion, and the film thickness is locally reduced in the vicinity of the stepped portion. As a result, the alignment film is thin in the second conventional substrate. Since the alignment regulating force is reduced at the part that has become, display unevenness is visually recognized. Therefore, the display unevenness that occurs between the first conventional substrate and the second conventional substrate occurs due to different mechanisms. Further, the technique described in Patent Document 7 provides a solution to the problem in the second conventional substrate, while the present embodiment provides a solution to the problem in the first conventional substrate. is there. Thus, since each subject differs in this embodiment and the technique of patent document 7, each structure and operation will necessarily differ. Here, a case where the description in Patent Document 7 is applied to the first conventional substrate in which display unevenness is suppressed according to the present embodiment will be described. 62 (a) and 62 (b) are schematic cross-sectional views showing the configuration of a conventional substrate having opposing linear protrusions and having a planarization structure formed thereon. In this case, as shown in FIG. 62A, for example, the planarizing structure 691 is also disposed on the linear convex portions 640a and 640b configured by the color filter overlapping portion 638 and the auxiliary protrusion overlapping portion 639. Therefore, the height of the linear protrusions 640a and 640b is further increased, and a large and deep recess 693 is generated between the linear protrusions 640a and 640b. And since the inside of this dent 693 is still a region where the alignment film solution is not directly applied, as described above, the alignment film solution 44 does not sufficiently spread into the dent 693 and is the same as in the above case. It is considered that unevenness of the alignment film thickness and display unevenness occur. Further, the alignment regulating force by the auxiliary protrusion 625 is emphasized by the planarization structure 691, and the liquid crystal molecules that are oriented in a direction parallel or perpendicular to the polarization axis direction of the polarizing plate increase, whereby the light transmittance of the pixel opening is increased. It is thought that it falls. On the other hand, as shown in FIG. 62B, for example, a flattening structure 691 is formed so that no dent is formed on the linear convex portions 640a and 640b formed of the color filter overlapping portion 638 and the auxiliary protrusion overlapping portion 639, for example. Is formed, the height of the planarizing structure 691 becomes very high. Therefore, conversely, the alignment film solution is not directly applied to the outer regions (regions on the non-opposing side) of the linear protrusions 640a and 640b, and the alignment film solution applied on the planarizing structure 691 A region where there is no alignment film or a thin region of the alignment film is generated on the surface of the CF layer on the pixel opening side (translucent portion side), and the display unevenness is also caused as a result. It is thought to occur. Also in this case, the alignment regulating force by the auxiliary protrusion 625 is further emphasized by the planarization structure 691, and the number of liquid crystal molecules oriented in a direction parallel or perpendicular to the polarization axis direction of the polarizing plate is increased, so that the pixel opening portion It is conceivable that the light transmittance of the liquid crystal decreases. Further, it is difficult to form the flattened structure 691 only in the recess 693 due to process variations. For example, in the case where the planarization structure 691 protrudes from the recess 693 due to misalignment, the influence of the alignment disorder due to the planarization structure 691 occurs also in the pixel opening, and the display quality is expected to be further deteriorated. In order to secure a margin for this variation, it is necessary to design BM 620 larger than necessary, and the pixel aperture ratio decreases. FIG. 46 is a schematic cross-sectional view showing a configuration in the vicinity of the linear protrusion of the counter substrate according to the sixth embodiment. On the other hand, in the present embodiment, the counter substrate 2 has linear convex portions 40a and 40b composed of the color filter overlapping portion 38 and the auxiliary protrusion overlapping portion 39 as shown in FIG. Since the structure 41 is further provided between the portions 40a and 40b, the alignment film solution 44 on the APR plate (on the dots) can be directly applied to the structure 41 as well as the linear protrusions 40a and 40b. Accordingly, the alignment film solution 44 spreads wet from the linear protrusions 40a and 40b and the structure 41 to other low portions (in the direction of the thick arrow in FIG. 46), and is always linear protrusions. The alignment film solution can be spread between 40a and 40b. As a result, it is possible to suppress the occurrence of display unevenness due to the uneven film thickness of the alignment film and realize a liquid crystal panel excellent in display quality. Further, by disposing the structure 41 away from the color filter overlapping portion 38 and the auxiliary protrusion overlapping portion 39, even if the position or thickness of the structure 41 varies, the structure is located between the linear protrusions 40a and 40b. 41 can be easily accommodated, and the adverse effect of the structure 41 on the alignment of the liquid crystal in the pixel opening can be suppressed.
Below, the other suitable form and deformation | transformation form in this embodiment are demonstrated.

本発明者らの検討では、従来の基板においては、図54に示すように、CF層622の画素開口部における上面からの線状凸部640a、640bの高さhが0.4μm程度以上、又は、BM620の上面からの線状凸部640a、640bの高さgが1.3μm程度以上の場合、表示ムラが発生しやすく、更に、hが1.3μm程度以上、又は、gが2.6μm程度以上の場合、表示ムラがより発生しやすかっか。したがって、表示ムラの発生を抑制するという本発明の効果は、線状凸部40a、40b間の領域に対する線状凸部40a、40bの高さ(本実施形態では、BM20の上面からの線状凸部40a、40bの高さg)が1.3μm以上(より好適には2.6μm以上)である形態、及び、線状凸部40a、40b間の領域の反対側の領域に対する線状凸部40a、40bの高さ(本実施形態では、CF層22の画素開口部における上面からの線状凸部40a、40bの高さh)が0.4μm以上(より好適には1.3μm以上)である形態において、特に発揮されることになる。 In the study by the present inventors, in the conventional substrate, as shown in FIG. 54, the height h of the linear protrusions 640a and 640b from the upper surface of the pixel opening of the CF layer 622 is about 0.4 μm or more, Alternatively, when the height g of the linear protrusions 640a and 640b from the upper surface of the BM 620 is about 1.3 μm or more, display unevenness is likely to occur, and h is about 1.3 μm or more, or g is 2. If it is about 6 μm or more, is it likely to cause uneven display? Therefore, the effect of the present invention to suppress the occurrence of display unevenness is that the height of the linear protrusions 40a and 40b with respect to the region between the linear protrusions 40a and 40b (in this embodiment, the linear shape from the upper surface of the BM 20). A shape in which the height g) of the protrusions 40a and 40b is 1.3 μm or more (more preferably 2.6 μm or more), and a linear protrusion for a region opposite to the region between the linear protrusions 40a and 40b. The height of the portions 40a and 40b (in this embodiment, the height h of the linear protrusions 40a and 40b from the upper surface in the pixel opening of the CF layer 22) is 0.4 μm or more (more preferably 1.3 μm or more). ), It is particularly effective.

また、表示ムラが発生するか否かには、線状凸部の高さだけでなく、線状凸部間の距離にも関係があることを見いだした。そこで、従来の対向基板において、線状凸部間の距離を変えて、表示ムラが発生するか否かを調べた評価結果を表1に示す。なお、表1中、○は、表示ムラが発生しなかったたことを示し、×は、表示ムラが発生したことを示す。また、図47は、評価試験に用いたサンプル(対向基板)の構成を示す断面模式図である。なお、各部材のサイズは、図47に示す通りである。すなわち、BM620の上面からのカラーフィルタ重なり部638の高さH1を1.3μmとし、カラーフィルタ重なり部638の上面からの補助突起重なり部639の高さH2を1.3μmとし、CF層622の画素開口部における膜厚TCFを1.7μmとし、樹脂BM20の膜厚TBMを1.35μmとした。また、評価試験に用いたサンプル(対向基板)は、図63で示した対向基板602を用いた。なお、図63は、評価試験に用いたサンプル(対向基板)の構成を示す平面模式図である。APR版としては、直径32μm、高さ14μmのドットが400dpi、メッシュ角θが75°で配置されたものを用いた。そして、配向膜液剤としては、ポリイミドを主成分とした垂直配向膜前駆体が溶媒に溶解されたものを用い、乾燥後の画素開口部における膜厚が0.1μm程度となる量を塗布した。 In addition, it has been found that whether or not display unevenness occurs is related not only to the height of the linear protrusions but also to the distance between the linear protrusions. Therefore, Table 1 shows the evaluation results of examining whether display unevenness occurs by changing the distance between the linear protrusions in the conventional counter substrate. In Table 1, ◯ indicates that display unevenness has not occurred, and x indicates that display unevenness has occurred. FIG. 47 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the sample (counter substrate) used in the evaluation test. The size of each member is as shown in FIG. That is, the height H1 of the color filter overlapping portion 638 from the upper surface of the BM 620 is 1.3 μm, the height H2 of the auxiliary protrusion overlapping portion 639 from the upper surface of the color filter overlapping portion 638 is 1.3 μm, and the CF layer 622 and 1.7μm film thickness T CF of the pixel aperture, and the thickness T BM resin BM20 and 1.35 .mu.m. Further, the counter substrate 602 shown in FIG. 63 was used as the sample (counter substrate) used in the evaluation test. FIG. 63 is a schematic plan view showing the configuration of the sample (counter substrate) used in the evaluation test. As the APR plate, a dot having a diameter of 32 μm, a height of 14 μm arranged at 400 dpi, and a mesh angle θ of 75 ° was used. Then, as the alignment film solution, a vertical alignment film precursor mainly composed of polyimide was dissolved in a solvent, and an amount of the film thickness in the pixel opening after drying was applied to about 0.1 μm.

Figure 2008164835
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この結果、図63に示す従来の基板602においては、線状凸部640a、640b間の距離Lが12μm以下の場合は表示ムラの発生は全く無かった。一方、距離Lが18μm以上になると表示ムラの発生率が非常に高くなった。これは、距離Lが12μm以下と小さい場合、線状凸部の頂点に乗った(塗布された)配向膜液剤の量は、線状凸部間(本実施形態ではBM上)に濡れ広がるのに充分な量であるが、一方、距離Lが18μm以上と大きくなると、その液剤の量は、線状凸部間に濡れ広がるには不充分な量となるため、図55(b)で示したように、配向膜液剤が線状凸部間に濡れ広がる状態と、図55(a)で示したように、配向膜液剤が線状凸部間に濡れ広がらない状態とが混在し、上述のように、配向膜の膜厚ムラ、及び、表示ムラが発生したと考えられる。他方、距離Lが36μm程度以上とドットの配置間隔に対して充分に大きくになると、表示ムラは発生しなかった。これはAPR版が弾力性を有するため、線状凸部間の間隙にもAPR版のドットが直接接触し、配向膜液剤が間隙内を濡れ広がることができるためと考えられる。なお、例えばこのような箇所は、画素開口部が当てはまり、より具体的には、上述の線状突起24間が相当する。したがって、本発明において線状凸部を構成する部材としては、通常、線状突起24を含まない。
このように、従来においては、線状凸部640a、640bの距離Lが36μmよりも小さい場合、又は、12μmよりも大きい場合に表示ムラが発生しやすい。したがって、本発明においては、表示ムラの発生を抑制するという効果は、平面視しためきの線状凸部40a、40bの間隔が36μmよりも小さい形態、及び、12μmよりも大きい形態において、特に発揮されることになる。
As a result, in the conventional substrate 602 shown in FIG. 63, if the line-shaped protruding portion 640a, the distance L C between 640b of 12μm or less display unevenness was at all no. On the other hand, the distance L C is the incidence of the uneven display becomes more 18μm is very high. This is because, when the distance L C is as small as 12 μm or less, the amount of the alignment film liquid agent that has been applied (applied) on the apex of the linear protrusions spreads between the linear protrusions (on the BM in this embodiment). is a sufficient amount to, on the other hand, when the distance L C is greater or more 18 [mu] m, the amount of the liquid preparation, since the amount insufficient for spreads between the line-shaped protruding portions, FIG. 55 (b) As shown in Fig. 55, the alignment film solution wets and spreads between the linear protrusions and the alignment film solution does not spread and spread between the linear protrusions as shown in Fig. 55 (a). As described above, it is considered that the film thickness unevenness of the alignment film and the display unevenness occurred. On the other hand, the distance L C is becomes sufficiently large with respect to the arrangement interval of at least about 36μm and dots, display unevenness was not generated. This is presumably because the APR plate has elasticity, so that the dots on the APR plate are also in direct contact with the gaps between the linear protrusions, and the alignment film solution can spread in the gaps. Note that, for example, such a portion corresponds to a pixel opening, and more specifically, corresponds to the area between the linear protrusions 24 described above. Therefore, the members constituting the linear protrusions in the present invention usually do not include the linear protrusions 24.
Thus, in the conventional, linear protrusions 640a, when the distance L C of 640b is less than 36 .mu.m, or, display unevenness tends to occur when greater than 12 [mu] m. Therefore, in the present invention, the effect of suppressing the occurrence of display unevenness is particularly exerted in the form in which the distance between the linear convex portions 40a and 40b for plan view is smaller than 36 μm and larger than 12 μm. Will be.

また、図63に示す従来の基板602において、線状凸部640a、640bの間隔Lcが12μm以下であれば、表示ムラは発生しなかったことから、本発明においても、平面視したときの線状凸部40a、40bと構造物41との間隔が12μm以下(より好適には10μm以下)であることが好ましいと言える。これにより、線状凸部40a及び構造物41の間と、線状凸部40b及び構造物41の間とに配向膜液剤を確実に塗れ広がるようにすることができるので、表示ムラの発生をより効果的に抑制することができる。また、上述したように、プロセスのバラツキに起因した構造物41のズレによる画素開口部の配向への悪影響を防止する観点からも、線状凸部40a、40bと構造物41とをこの程度離して形成することが好ましい。なお、図44で示した形態で、カラーフィルタ重なり部とカラーフィルタ重なり部及び補助突起重なり部とから構成される線状凸部間の間隔を18μmとし、この線状凸部と構造物と間の間隔を5μmとして試作を行った結果、表示ムラは見られなかった。 Further, in the conventional substrate 602 shown in FIG. 63, if the distance Lc between the linear protrusions 640a and 640b is 12 μm or less, display unevenness does not occur. It can be said that it is preferable that the distance between the convex portions 40a and 40b and the structure 41 is 12 μm or less (more preferably 10 μm or less). As a result, the alignment film liquid agent can be reliably applied and spread between the linear protrusions 40a and the structures 41 and between the linear protrusions 40b and the structures 41. It can suppress more effectively. In addition, as described above, the linear protrusions 40a and 40b and the structure 41 are separated from each other by this amount from the viewpoint of preventing the adverse effect on the alignment of the pixel opening due to the displacement of the structure 41 due to process variations. It is preferable to form them. In the form shown in FIG. 44, the interval between the linear convex portions constituted by the color filter overlapping portion, the color filter overlapping portion, and the auxiliary protrusion overlapping portion is 18 μm, and the space between the linear convex portion and the structure is set. As a result of trial manufacture with an interval of 5 μm, display unevenness was not observed.

また、構造物41は、線状凸部40a、40bと略同等の高さを有することが好ましく、より具体的には、凸部と構造体との高さの差は、1.3μm程度以下であることが好ましく、0.4μm程度以下であることがより好ましい。これは、構造物41と線状凸部40a、40bとの高さのギャップが余り大きいと、構造物41に直接配向膜液剤が乗りにくいためである。なお、構造物41の高さは、通常、線状凸部40a、40bの高さよりも小さい。 Moreover, it is preferable that the structure 41 has substantially the same height as the linear protrusions 40a and 40b. More specifically, the difference in height between the protrusions and the structure is about 1.3 μm or less. Preferably, it is about 0.4 μm or less. This is because if the height gap between the structure 41 and the linear protrusions 40a and 40b is too large, it is difficult for the alignment film solution to get on the structure 41 directly. In addition, the height of the structure 41 is normally smaller than the height of the linear convex parts 40a and 40b.

線状凸部40a、40bの構成部材としては特に限定されないが、上述したようなカラーフィルタ重なり部38と、カラーフィルタ重なり部38及び補助突起重なり部39とから構成される形態、カラーフィルタ重なり部38から構成される形態(後述の図52参照)、線状補助突起25から構成される形態(後述の図49(b)参照)等が好適である。このように、線状凸部40a、40bの形態としては、カラーフィルタ重なり部38、補助突起重なり部39及び線状補助突起25からなる群より選ばれる少なくとも1つの部材を含んで構成される含有する形態が好ましい。なお、図44で示した対向基板2は、画素の境界領域において行方向に配置された対向する線状補助突起25から構成される線状凸部40a、40b(例えば、図44中丸印で囲まれた領域に配置された線状突起40a、40b)を含んでいるが、この線状補助突起25間の間隔は、12μm以下であり、もともと表示ムラが発生することはないため、この領域には構造物41を配置しなくてもよい。 The constituent members of the linear protrusions 40a and 40b are not particularly limited, but the color filter overlapping portion 38, the color filter overlapping portion 38, and the auxiliary protrusion overlapping portion 39 are configured as described above. A configuration including 38 (see FIG. 52 described later), a configuration including the linear auxiliary protrusion 25 (refer to FIG. 49B described later), and the like are preferable. As described above, the linear convex portions 40a and 40b are configured to include at least one member selected from the group consisting of the color filter overlapping portion 38, the auxiliary protrusion overlapping portion 39, and the linear auxiliary protrusion 25. The form is preferred. The counter substrate 2 shown in FIG. 44 has linear convex portions 40a and 40b (for example, surrounded by circles in FIG. 44) composed of opposing linear auxiliary projections 25 arranged in the row direction in the boundary region of the pixel. Linear protrusions 40a and 40b) arranged in the region, but the distance between the linear auxiliary protrusions 25 is 12 μm or less, and display unevenness does not occur originally. The structure 41 may not be disposed.

構造物41は、樹脂を含むことが好ましい。これにより、線状凸部40a、40bに対して同程度の高さを有する構造物41を容易に形成することができる。なお、構造物41は、樹脂から形成されてもよい。 The structure 41 preferably includes a resin. Thereby, the structure 41 which has the same height with respect to the linear convex parts 40a and 40b can be formed easily. The structure 41 may be formed from a resin.

また、構造物41は、絶縁性であることが好ましい。これにより、アクティブマトリクス基板1と対向基板2との間で構造物41を介して短絡が発生することを抑制できる。また、構造物41は、図42で示したように、断面視したときに対向基板2に設けられた共通電極23とアクティブマトリクス基板1に設けられた配線(ソースバスライン11等)との間であり、かつ平面視したときに配線に重なるように配置される。したがって、構造物41が絶縁層から構成されることによって、実施形態1と同様に、配線と共通電極23との間の電気的な寄生容量を減少させることができる。また、このような観点からは、本実施形態において、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方は、絶縁基板10の液晶層8側に導電層を有し、構造物41は、導電層よりも液晶層8側に配置されることが好ましい。なお、上記導電層としては、アクティブマトリクス基板1に設けられた配線、及び/又は、対向基板2に設けられた共通電極23が好適である。すなわち、寄生容量低減の観点からは、一方の基板(アクティブマトリクス基板1)は、絶縁基板10の液晶層8側に配線を有し、他方の基板(対向基板2)は、絶縁基板10の液晶層8側に共通電極23を有し、構造物41は、絶縁性であり、かつ共通電極23と配線との間に配置されることがより好ましい。 The structure 41 is preferably insulative. Thereby, it can suppress that a short circuit generate | occur | produces via the structure 41 between the active-matrix board | substrate 1 and the opposing board | substrate 2. FIG. Further, as shown in FIG. 42, the structure 41 is formed between the common electrode 23 provided on the counter substrate 2 and the wiring (source bus line 11 etc.) provided on the active matrix substrate 1 when viewed in cross section. And arranged so as to overlap the wiring when viewed in plan. Therefore, by forming the structure 41 from an insulating layer, the electrical parasitic capacitance between the wiring and the common electrode 23 can be reduced as in the first embodiment. From this point of view, in the present embodiment, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 has a conductive layer on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the structure 41 is formed from the conductive layer. Is also preferably disposed on the liquid crystal layer 8 side. As the conductive layer, a wiring provided on the active matrix substrate 1 and / or a common electrode 23 provided on the counter substrate 2 is preferable. That is, from the viewpoint of reducing parasitic capacitance, one substrate (active matrix substrate 1) has wiring on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the other substrate (counter substrate 2) is liquid crystal on the insulating substrate 10. It is more preferable that the common electrode 23 is provided on the layer 8 side, and the structure 41 is insulative and is disposed between the common electrode 23 and the wiring.

実施形態1と同様に、製造工程を複雑化させることなく構造物41を容易に形成する観点からは、構造物41は、構造物41を有する基板(以下、本実施形態では対向基板2)を構成するいずれかの部材(線状突起24、線状補助突起25、カラーフィルタ層等)と同一の材料を含んで構成されることが好ましい。なお、構造物41は、構造物41を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料からなる層であってもよい。また、線状突起24、線状補助突起25及びカラーフィルタ層は、通常、絶縁性の樹脂等の絶縁性材料を用いて形成される。したがって、このように、構造物41を線状突起24、線状補助突起25及びカラーフィルタ層のいずれかの材料を用いて形成することによって、上述の形態(構造物41が絶縁性である形態と構造物41が樹脂を含む形態と)を同時に達成することができる。なお、構造物41を線状補助突起25と同一の材料により形成した場合、構造物41と線状補助突起25が一体化してしまい、線状補助突起25の配向規制力が強くなりすぎ、平面視したときに、偏光板の偏光軸方向に略平行又は略垂直な方向に向く液晶分子が増加し、その結果、画素開口部の光透過率が減少してしまうことが懸念される。しかしながら、本発明によれば、線状凸部が線状補助突起を含んで構成され、かつ構造物を線状補助突起と同一材料により形成したとしても、構造物と線状凸部との間には間隙が設けられることから、上述のように、線状補助突起の配向規制力の強化に起因する透過率の減少の発生(表示品位の悪化)を効果的に抑制することができる。 As in the first embodiment, from the viewpoint of easily forming the structure 41 without complicating the manufacturing process, the structure 41 is a substrate having the structure 41 (hereinafter referred to as the counter substrate 2 in the present embodiment). It is preferable to include the same material as any of the constituent members (the linear protrusion 24, the linear auxiliary protrusion 25, the color filter layer, etc.). The structure 41 may be a layer made of the same material as any member constituting the substrate having the structure 41. The linear protrusions 24, the linear auxiliary protrusions 25, and the color filter layer are usually formed using an insulating material such as an insulating resin. Therefore, by forming the structure 41 by using any of the materials of the linear protrusion 24, the linear auxiliary protrusion 25, and the color filter layer in this way, the above-described form (the form in which the structure 41 is insulative). And the structure 41 includes a resin). In addition, when the structure 41 is formed of the same material as the linear auxiliary protrusion 25, the structure 41 and the linear auxiliary protrusion 25 are integrated, and the alignment regulating force of the linear auxiliary protrusion 25 becomes too strong, and the plane When viewed, there is a concern that the number of liquid crystal molecules directed in a direction substantially parallel to or substantially perpendicular to the polarization axis direction of the polarizing plate increases, and as a result, the light transmittance of the pixel opening decreases. However, according to the present invention, even if the linear convex portion is configured to include the linear auxiliary projection and the structure is formed of the same material as the linear auxiliary projection, the gap between the structure and the linear convex portion is determined. Since a gap is provided in the case, as described above, it is possible to effectively suppress the occurrence of a decrease in transmittance (deterioration of display quality) due to the strengthening of the alignment regulating force of the linear auxiliary protrusions.

構造物41は、平面視したときに、遮光領域に配置されることが好ましい。これにより、構造物41によって画素開口部の光透過率が減少することを抑制でき、その結果、表示品位の悪化を抑制することができる。 The structure 41 is preferably disposed in the light shielding region when viewed in plan. Thereby, it can suppress that the light transmittance of a pixel opening part reduces with the structure 41, As a result, the deterioration of display quality can be suppressed.

また、構造物41は、着色されていることが好ましい。すなわち、構造物41は、遮光性を有することが好ましく、例えば、遮光性材料、着色材料等から形成されることが好ましい。しかしながら、構造物41の光学濃度OD値は上記に限られず、構造物41のOD値は、例えば1.0程度でもかまわない。このような場合は、BM20のOD値が充分大きければよく、構造物41を補助的な遮光部材として機能させることができる。また、OD値が小さい材料では顔料濃度が低く、フォトリソ法によるパターニングが比較的容易になるという利点がある。そのため、構造物41を線状突起24及び線状補助突起25の材質と同じ材料を用いる場合、線状突起24及び線状補助突起25を所望の形状に形成しやすくなる。なお、遮光性は、光の透過を遮る性質であればよく、光を吸収する性質であってもよい。したがって、構造物41は、光吸収性を有してもよい。遮光性を有する構造物41の材料としては、例えば樹脂自身が光透過率の小さい材料であってもよいし、着色された構造物41の材料としては、例えば顔料、染料等の着色剤を混ぜられた樹脂であってもよい。信頼性の観点からは、着色剤としては顔料が好ましく、遮光性に優れた顔料としては、カーボンブラック顔料が好適である。また、構造物41に用いられる顔料としては、赤、青及び緑のうちの少なくとも2つの顔料が混合されたものであってもよい。更に、赤及び青の顔料を単独で使用するか、赤及び青の顔料を組み合わせて(混合して)使用することによって、構造物41は、着色され、かつある程度の光吸収性を有することができる。着色顔料としては、例えば以下の材料を用いることができる。すなわち、赤色顔料としては、アゾ系、キナクリドン系、アントラキドン系、アントラキノン系、ペリレン系、ペリノン系等の赤色顔料又はこれらの赤色顔料を組み合わせたものが挙げられる。緑色顔料としては、フタロシナニングリーン及びイエロー顔料の組み合わせたものが挙げられる。青色顔料としては、フタロシアニンブルー顔料及びバイオレット顔料を組み合わせたものが挙げられる。このように構造物41を着色することによって、領域遮光領域の遮光性を向上することができる。したがって、この形態は、感光性樹脂材料からなるBM20の膜厚を薄くし、そのテーパ制御性を向上したい場合等に好適である。なぜなら、BM20の膜厚を薄くしたとしても、BM20の遮光性が低下した分を着色された構造物41で補うことができるからである。このように、構造物41が遮光性を有する形態と、構造物41が着色されている形態とは、平面視したときに構造物41が遮光領域に配置される形態と、平面視したときに構造物41がBM20に重なって配置される形態とに適宜組み合わされることが好ましい。また、構造物41が着色された形態においては、構造物41は、画素領域内の線状突起24及び/又は線状補助突起25と同一の材料を用いて形成されることが好ましく、これにより、線状突起24及び/又は線状補助突起25も構造物41と同様に着色されることになるので、黒表示時に線状突起24及び/又は線状補助突起25が配置された領域から光漏れが発生することを抑制できる。したがって、黒輝度(黒表示時の輝度)を低下させることができるので、コントラストを向上することができる。 Moreover, it is preferable that the structure 41 is colored. That is, the structure 41 preferably has a light shielding property, and is preferably formed of a light shielding material, a coloring material, or the like. However, the optical density OD value of the structure 41 is not limited to the above, and the OD value of the structure 41 may be about 1.0, for example. In such a case, it is sufficient that the OD value of the BM 20 is sufficiently large, and the structure 41 can function as an auxiliary light shielding member. In addition, a material having a small OD value has an advantage that the pigment concentration is low and patterning by a photolithography method is relatively easy. For this reason, when the structure 41 is made of the same material as the material of the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25, the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 can be easily formed into desired shapes. The light shielding property may be a property that blocks light transmission, and may be a property that absorbs light. Therefore, the structure 41 may have light absorptivity. As the material of the structure 41 having the light shielding property, for example, the resin itself may be a material having a low light transmittance, and as the material of the colored structure 41, for example, a colorant such as a pigment or a dye is mixed. Resin may be used. From the viewpoint of reliability, a pigment is preferable as the colorant, and a carbon black pigment is preferable as the pigment having excellent light shielding properties. The pigment used for the structure 41 may be a mixture of at least two pigments of red, blue, and green. Further, by using red and blue pigments alone or in combination (mixing) of red and blue pigments, the structure 41 may be colored and have a certain degree of light absorption. it can. As the color pigment, for example, the following materials can be used. That is, examples of the red pigment include azo, quinacridone, anthraquinone, anthraquinone, perylene, and perinone red pigments, or combinations of these red pigments. Examples of the green pigment include a combination of phthalocinine green and a yellow pigment. Examples of the blue pigment include a combination of a phthalocyanine blue pigment and a violet pigment. By coloring the structure 41 in this manner, the light shielding property of the region light shielding region can be improved. Therefore, this form is suitable for the case where it is desired to reduce the film thickness of the BM 20 made of a photosensitive resin material and improve its taper controllability. This is because even if the film thickness of the BM 20 is reduced, the colored structure 41 can compensate for the reduced light shielding property of the BM 20. Thus, the form in which the structure 41 has light shielding properties and the form in which the structure 41 is colored are the form in which the structure 41 is disposed in the light shielding region when viewed in plan, and the form when viewed in plan. It is preferable that the structure 41 is appropriately combined with the configuration in which the structure 41 is arranged so as to overlap the BM 20. Further, in the form in which the structure 41 is colored, the structure 41 is preferably formed using the same material as the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 in the pixel region. Since the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 are also colored in the same manner as the structure 41, light is emitted from the region where the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 are arranged during black display. The occurrence of leakage can be suppressed. Therefore, since the black luminance (the luminance at the time of black display) can be reduced, the contrast can be improved.

線状凸部40a、40bを構成する部材としては、上述したように、配向制御用突起、カラーフィルタ重なり部等が好適である。また、これらの部材は、通常、遮光領域及び/又は各画素間の境界領域に配置される。したがって、線状凸部40a、40bの配置形態としては、平面視したときに、線状凸部40a、40bが遮光領域(本実施形態ではBM20)に沿って配置される形態が好適であり、平面視したときに、線状凸部40a、40bが遮光領域の端部に沿って配置される形態がより好適である。また、平面視したときに、線状凸部40a、40bが画素間の境界領域に沿って配置される形態であってもよい。更に、構造物41は、線状凸部40a、40b間に配置されることから、平面視したときに、構造物41が画素間の境界領域に配置される形態も好適である。 As the members constituting the linear protrusions 40a and 40b, as described above, the alignment control protrusion, the color filter overlapping portion, and the like are preferable. In addition, these members are usually arranged in a light shielding region and / or a boundary region between pixels. Therefore, as an arrangement form of the linear protrusions 40a and 40b, a form in which the linear protrusions 40a and 40b are arranged along the light shielding region (BM20 in the present embodiment) when viewed in plan is preferable. A form in which the linear convex portions 40a and 40b are arranged along the end portion of the light shielding region when viewed in plan is more preferable. Further, when viewed in a plan view, the linear protrusions 40a and 40b may be arranged along a boundary region between pixels. Furthermore, since the structure 41 is disposed between the linear protrusions 40a and 40b, a configuration in which the structure 41 is disposed in a boundary region between pixels when viewed in plan is also preferable.

また、構造物41は、実施形態1の絶縁層26と同様に、平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることが好ましく、平面視したときに、遮光領域であり、かつ画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることがより好ましい。対向電極23上に設けられた構造物41は、通常、線状突起24及び線状補助突起25と同様に、その形状による効果や電界を変える効果により、液晶の配向方向に影響を及ぼす性質を有する。そのため、構造物41を配置する場所によっては、画素開口部における光透過率の低下や表示画像における残像発生の原因となる。したがって、構造物41を画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置することよって、光透過率の低下と残像の発生とを抑制することができる。画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域としては特に限定されないが、より具体的には、構造物41は、構造物41のエッジ(端部)と画素電極14のエッジを離して配置されることが好ましい。すなわち、基板の一方(本実施形態では対向基板2)は、絶縁基板10の液晶層8側に画素電極14を有し、構造物41は、平面視したとき、画素電極14と重ならない領域に配置されることが好ましい。画素電極14のエッジと構造物41のエッジとの距離は、2μm以上離れていることが好ましく、5μm以上離れていることがより好ましく、基板貼り合せ時のズレを考慮すれば、7μm以上離れていることが更に好ましい。画素電極14のエッジと構造物41のエッジとの間隔を7μm以上設けることで、画素電極14上の液晶の配向乱れを確実に防止できる。 Further, like the insulating layer 26 of the first embodiment, the structure 41 is preferably disposed in a region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region when viewed in plan. More preferably, the light-shielding region is disposed in a region that does not affect the alignment of liquid crystal molecules in the pixel region. The structure 41 provided on the counter electrode 23 usually has the property of affecting the alignment direction of the liquid crystal by the effect of the shape and the effect of changing the electric field, like the linear protrusion 24 and the linear auxiliary protrusion 25. Have. Therefore, depending on the place where the structure 41 is disposed, it may cause a decrease in light transmittance in the pixel opening and a residual image in the display image. Therefore, by disposing the structure 41 in a region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region, it is possible to suppress a decrease in light transmittance and generation of an afterimage. The region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region is not particularly limited, but more specifically, the structure 41 is arranged by separating the edge (end) of the structure 41 and the edge of the pixel electrode 14. It is preferred that That is, one of the substrates (the counter substrate 2 in the present embodiment) has the pixel electrode 14 on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, and the structure 41 is in a region that does not overlap with the pixel electrode 14 when viewed in plan. Preferably they are arranged. The distance between the edge of the pixel electrode 14 and the edge of the structure 41 is preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, and considering the deviation at the time of bonding the substrates, the distance is 7 μm or more. More preferably. By providing an interval of 7 μm or more between the edge of the pixel electrode 14 and the edge of the structure 41, the alignment disorder of the liquid crystal on the pixel electrode 14 can be reliably prevented.

図48は、実施形態6の対向基板の別の構成を示す平面模式図である。構造物41は、図48に示すように、平面視したときに、島状(アイランド状)に配置されてもよい。これにより、液晶の注入又は滴下工程における液晶材料の通り道を確保することができ、液晶封入時に残留気泡(真空気泡、液晶が存在しない空間)が発生するのを抑制することができる。なお、同様の観点から、構造物41は、平面視したときに、当該構造物41で囲まれる領域(構造物41により形成される閉じた領域)を有さない形態、スリットを有する形態、環状に配置されない形態等であってもよい。 FIG. 48 is a schematic plan view illustrating another configuration of the counter substrate according to the sixth embodiment. As shown in FIG. 48, the structures 41 may be arranged in an island shape (island shape) when viewed in plan. Thereby, the passage of the liquid crystal material in the liquid crystal injection or dripping step can be secured, and the occurrence of residual bubbles (vacuum bubbles, spaces in which no liquid crystal exists) can be suppressed when the liquid crystal is sealed. From the same viewpoint, when the structure 41 is viewed in plan, the structure 41 does not have a region surrounded by the structure 41 (a closed region formed by the structure 41), has a slit, or has an annular shape. The form etc. which are not arrange | positioned may be sufficient.

なお、図48に示したように、島状に構造物41を配置する場合には、絶縁層26は、平面視したときに、画素の端部の線状補助突起25が対向する領域内に優先的に配置されることが好ましい。すなわち、絶縁層26は、線状凸部40a、40bの補助突起重なり部39及びカラーフィルタ重なり部38から構成される部分の間に配置されることが好ましく、線状凸部40a、40bの画素の端部に設けられた補助突起重なり部39とカラーフィルタ重なり部38とから構成される部分の間に配置されることがより好ましい。このように複数の部材から構成される線状凸部40a、40bは、その高さが大きくなるため、表示ムラが発生しやすい。したがって、この領域に優先的に絶縁層26を設けることによって、表示ムラの発生を効果的に抑制することができる。 As shown in FIG. 48, when the structures 41 are arranged in an island shape, the insulating layer 26 is located in a region where the linear auxiliary protrusions 25 at the end of the pixel face each other when seen in a plan view. It is preferable to arrange them preferentially. That is, the insulating layer 26 is preferably disposed between the portions formed by the auxiliary protrusion overlapping portions 39 and the color filter overlapping portions 38 of the linear convex portions 40a and 40b, and the pixels of the linear convex portions 40a and 40b. It is more preferable that the auxiliary protrusions 39 and the color filter overlaps 38 provided at the ends of the color filter overlap portions 38 are disposed between the portions. Thus, since the linear convex parts 40a and 40b comprised of a plurality of members have large heights, display unevenness is likely to occur. Therefore, by providing the insulating layer 26 preferentially in this region, the occurrence of display unevenness can be effectively suppressed.

また、島状に構造物41を配置する場合には、図48中の丸印で囲まれた領域、より具体的には、画素の隅部近傍に配置されることが好ましい。このような領域は、線状突起24及び/又は線状補助突起25が込み合って配置され、線状凸部の占める割合が大きく、配向膜の印刷性が特に悪くなる傾向がある。したがって、構造物41を画素の隅部を含む領域にまで延長して配置することによって、表示ムラの発生を効果的に抑制することができる。 Further, when the structures 41 are arranged in an island shape, the structures 41 are preferably arranged in a region surrounded by a circle in FIG. 48, more specifically, in the vicinity of the corner of the pixel. In such a region, the linear protrusions 24 and / or the linear auxiliary protrusions 25 are arranged so that the ratio of the linear protrusions is large, and the printability of the alignment film tends to be particularly deteriorated. Therefore, by arranging the structure 41 so as to extend to the region including the corners of the pixels, the occurrence of display unevenness can be effectively suppressed.

一方、この形態は、線状凸部40a、40bのカラーフィルタ重なり部38から構成される部分の間には構造体41が配置されない形態であり、この部分に起因して配向膜液剤の濡れ不良が発生することが懸念されるが、実際に評価試験を行ったとところ表示ムラは発生しなかった。より具体的には、図48で示した形態で、カラーフィルタ重なり部とカラーフィルタ重なり部及び補助突起重なり部とから構成される線状凸部間の間隔を24μmとし、この線状凸部と構造物と間の間隔を10μmとして試作を行った結果、表示ムラは見られなかった。 On the other hand, this form is a form in which the structural body 41 is not disposed between the portions constituted by the color filter overlapping portions 38 of the linear convex portions 40a and 40b, and the wettability of the alignment film liquid agent is caused by this portion. However, when an evaluation test was actually performed, display unevenness did not occur. More specifically, in the form shown in FIG. 48, the interval between the linear convex portions composed of the color filter overlapping portion, the color filter overlapping portion, and the auxiliary protrusion overlapping portion is set to 24 μm. As a result of trial manufacture with an interval between the structures of 10 μm, no display unevenness was observed.

図49は、実施形態6の対向基板の別の構成を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のY1−Y2線における断面図である。構造物41は、線状補助突起25、より好適には、図49(a)及び(b)に示すように、画素の端部に設けられた線状補助突起25から構成される線状凸部40a、40bの間にも配置されてもよい。この形態は、線状補助突起25から構成される線状凸部40a、40bの間隔が12μmよりも大きく、36μmよりも小さいときに特に好適である。 FIG. 49 is a schematic view showing another configuration of the counter substrate of Embodiment 6, wherein (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along line Y1-Y2 in (a). . As shown in FIGS. 49 (a) and 49 (b), the structure 41 has a linear protrusion made up of linear auxiliary protrusions 25 provided at the ends of the pixels. You may arrange | position also between the parts 40a and 40b. This form is particularly suitable when the interval between the linear protrusions 40a and 40b formed by the linear auxiliary protrusions 25 is larger than 12 μm and smaller than 36 μm.

図50は、実施形態6の対向基板の別の構成を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のX1−X2線における断面図である。図60(a)及び(b)に示すように、線状凸部40a、40bの間隔が大きくなった場合には、それに合わせて構造物41の幅も大きくすることが好ましい。上述したとおり、通り線状凸部40a、40bと構造物41との間の距離は、12μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。
このように、本実施形態によれば、表示ムラの発生を抑制することができるとともに、構造物が絶縁性を有することによって、寄生容量の低減も可能となる。また、表示品位に損なうことなく液晶材料の使用量を削減することができる。なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、実施形態1の液晶表示パネルの製造方法と配向膜の塗布方法(インクジェット法の代わりに印刷法を用いる)が異なるだけなので、その説明は省略する。
FIG. 50 is a schematic diagram illustrating another configuration of the counter substrate according to the sixth embodiment. FIG. 50A is a plan view, and FIG. 50B is a cross-sectional view taken along line X1-X2 in FIG. . As shown in FIGS. 60A and 60B, when the interval between the linear protrusions 40a and 40b is increased, the width of the structure 41 is preferably increased accordingly. As described above, the distance between the linear protrusions 40a and 40b and the structure 41 is preferably 12 μm or less, and more preferably 10 μm or less.
Thus, according to the present embodiment, the occurrence of display unevenness can be suppressed, and the parasitic capacitance can be reduced because the structure has insulating properties. Further, the amount of liquid crystal material used can be reduced without deteriorating display quality. The manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment is different from the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the first embodiment only in the alignment film coating method (a printing method is used instead of the ink jet method), and the description thereof is omitted. To do.

<実施形態7>
実施形態7の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1〜6とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Embodiment 7>
A liquid crystal display device according to Embodiment 7 will be described. In addition, description and illustration about the content which overlaps with this embodiment and Embodiment 1-6 are abbreviate | omitted.

(液晶表示素子の構成)
本実施形態の液晶表示パネルには、実施形態1と同様に、二枚の偏光板56a、56bが貼り合わせられており、偏光板56a、56bの偏光軸(吸収軸)は、表示パネルを平面視したときに、互いに直交している。
(Configuration of liquid crystal display element)
As in the first embodiment, two polarizing plates 56a and 56b are bonded to the liquid crystal display panel of this embodiment, and the polarizing axes (absorption axes) of the polarizing plates 56a and 56b are flat with respect to the display panel. When viewed, they are orthogonal to each other.

本実施形態の液晶表示素子の画像表示方式は、TN(Twisted Nematic)方式である。したがって、本実施形態の液晶表示パネルにおいて、画素電極に閾値電圧未満の電圧を印加した場合、又は、電圧を印加しない場合には、液晶は、基板及び偏光板56a、56bに対して水平、かつ平面視したときに各画素内で90°捩れて配向している。また、液晶層の最も偏光板56a側に位置する液晶は、平面視したときに偏光板56aの偏光軸方向と直交し、液晶層の最も偏光板56b側に位置する液晶は、平面視したときに偏光板56bの偏光軸方向と直交するように配向している。一方、画素電極(液晶層)に閾値電圧以上の電圧を印加した場合は、液晶は、基板及び偏光板56a、56bに対して垂直に配向する。したがって、液晶表示パネル107において、偏光板56aで偏光化された入射光は、その振動方向が液晶層を通過する過程で回転するため、偏光板56bから出射されこととなる。一方、本実施形態の液晶表示パネルにおいて画素電極に閾値電圧以上の電圧を印加した場合は、偏光板56aで偏光化された入射光は、その振動方向が液晶表示パネル102中の液晶層を通過する過程で回転しないため、偏光板56bから出射されず、その結果、黒表示となる。このように、本実施形態の液晶表示素子は、ノーマリホワイトモードの表示を行う。 The image display method of the liquid crystal display element of this embodiment is a TN (Twisted Nematic) method. Therefore, in the liquid crystal display panel of the present embodiment, when a voltage lower than the threshold voltage is applied to the pixel electrode or when no voltage is applied, the liquid crystal is horizontal with respect to the substrate and the polarizing plates 56a and 56b. When viewed from above, each pixel is twisted by 90 ° and oriented. The liquid crystal layer closest to the polarizing plate 56a in the liquid crystal layer is orthogonal to the polarization axis direction of the polarizing plate 56a when viewed in plan, and the liquid crystal positioned closest to the polarizing plate 56b in the liquid crystal layer is viewed in plan. Are oriented so as to be orthogonal to the polarization axis direction of the polarizing plate 56b. On the other hand, when a voltage higher than the threshold voltage is applied to the pixel electrode (liquid crystal layer), the liquid crystal is aligned perpendicular to the substrate and the polarizing plates 56a and 56b. Therefore, in the liquid crystal display panel 107, the incident light polarized by the polarizing plate 56a rotates in the process of passing through the liquid crystal layer, and thus is emitted from the polarizing plate 56b. On the other hand, when a voltage higher than the threshold voltage is applied to the pixel electrode in the liquid crystal display panel of the present embodiment, the incident light polarized by the polarizing plate 56 a passes through the liquid crystal layer in the liquid crystal display panel 102. In this process, since it does not rotate, it is not emitted from the polarizing plate 56b, resulting in a black display. Thus, the liquid crystal display element of this embodiment performs display in normally white mode.

(液晶表示パネルの構成)
図51は、実施形態7の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。なお、図中、一点鎖線で囲まれた領域は、BM20を示し、灰色で塗られた領域は、構造物41を示す。また、図52は、図51中のV1−V2線における断面模式図である。更に、図53は、実施形態7の対向基板の構成を示す平面模式図である。本実施形態の液晶表示パネル107は、実施形態1及び6と同様に、図51及び52に示すように、互いに対向するように配置された一対の基板であるアクティブマトリクス基板1及び対向基板2と、これらの基板間に設けられた液晶層8とを備える。
(Configuration of LCD panel)
FIG. 51 is a schematic plan view showing the configuration of the liquid crystal display panel of the seventh embodiment. In the drawing, a region surrounded by a one-dot chain line indicates BM 20, and a region painted in gray indicates the structure 41. FIG. 52 is a schematic sectional view taken along line V1-V2 in FIG. FIG. 53 is a schematic plan view showing the configuration of the counter substrate of the seventh embodiment. As in the first and sixth embodiments, the liquid crystal display panel 107 according to the present embodiment includes a pair of substrates, an active matrix substrate 1 and a counter substrate 2, which are arranged to face each other, as shown in FIGS. And a liquid crystal layer 8 provided between these substrates.

本実施形態のアクティブマトリクス基板1は、図51及び52に示すように、ガラス等の透明の絶縁基板10と、絶縁基板10の液晶層8側に形成された、ゲートバスライン(走査信号線、ゲート配線)11と、ゲートバスライン11を覆って絶縁基板10上の略全面に形成されたゲート絶縁膜(図示せず)と、各画素の隅部に設けられた薄膜トランジスタ(TFT)等のアクティブ素子(スイッチング素子)16と、ソース電極を含むソースバスライン(データ信号線、ソース配線)12と、ドレイン電極37と、ソースバスライン12、アクティブ素子及びドレイン電極37を覆って絶縁基板10上の略全面に形成された層間絶縁膜(パッシベーション膜)13と、層間絶縁膜13上の透明導電膜等からなる画素電極14と、液晶層8に接するように設けられた水平配向膜45aとを備える。なお、アクティブマトリクス基板1は、ゲートバスライン11と同一材料により形成された保持容量配線(補助容量配線、図示せず)を有する。 As shown in FIGS. 51 and 52, the active matrix substrate 1 of the present embodiment includes a transparent insulating substrate 10 such as glass and a gate bus line (scanning signal line, formed on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10). Gate wiring) 11, a gate insulating film (not shown) formed on substantially the entire surface of the insulating substrate 10 so as to cover the gate bus line 11, and active transistors such as thin film transistors (TFTs) provided at the corners of each pixel. An element (switching element) 16, a source bus line (data signal line, source wiring) 12 including a source electrode, a drain electrode 37, a source bus line 12, an active element and a drain electrode 37 are covered on the insulating substrate 10. An interlayer insulating film (passivation film) 13 formed on substantially the entire surface, a pixel electrode 14 made of a transparent conductive film or the like on the interlayer insulating film 13, and the liquid crystal layer 8 And a horizontal alignment film 45a provided so as to. The active matrix substrate 1 has a storage capacitor line (auxiliary capacitor line, not shown) formed of the same material as the gate bus line 11.

画素電極14は、ドレイン電極37と層間絶縁膜13のコンタクトホール30を介して接続されている。また、画素電極14は、図4に示すように、表示領域3においてマトリクス状に配列されている。水平配向膜45aは、層間絶縁膜13及び画素電極14の液晶層8側表面に設けられる。 The pixel electrode 14 is connected to the drain electrode 37 through the contact hole 30 of the interlayer insulating film 13. The pixel electrodes 14 are arranged in a matrix in the display area 3 as shown in FIG. The horizontal alignment film 45a is provided on the surface of the interlayer insulating film 13 and the pixel electrode 14 on the liquid crystal layer 8 side.

本実施形態の対向基板2は、ガラス等の透明の絶縁基板10と、絶縁基板10の液晶層8側に形成された、遮光層20と、赤カラーフィルタ21R、緑カラーフィルタ21G及び青カラーフィルタ21Bを含むカラーフィルタ層(CF層)22と、透明導電膜等からなる共通電極(対向電極)23と、液晶層8に接するように設けられた水平配向膜45bとを備える。このように、本実施形態の対向基板2は、線状突起24及び線状補助突起25が形成されていないこと以外は、実施形態6の対向基板と同様である。すなわち、各色カラーフィルタ21R、21G、21Bは、その端部がBM20に一部重なるカラーフィルタ重なり部38を有する。 The counter substrate 2 of the present embodiment includes a transparent insulating substrate 10 such as glass, a light shielding layer 20, a red color filter 21R, a green color filter 21G, and a blue color filter formed on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10. A color filter layer (CF layer) 22 including 21B, a common electrode (counter electrode) 23 made of a transparent conductive film and the like, and a horizontal alignment film 45b provided so as to be in contact with the liquid crystal layer 8 are provided. Thus, the counter substrate 2 of this embodiment is the same as the counter substrate of Embodiment 6 except that the linear protrusions 24 and the linear auxiliary protrusions 25 are not formed. That is, each color filter 21R, 21G, 21B has a color filter overlapping portion 38 whose end portion partially overlaps BM20.

したがって、本実施形態の対向基板2は、カラーフィルタ重なり部38から構成された互いに対向する線状凸部40a、40bを有する。すなわち、本実施形態において、アクティブマトリクス基板1及び対向基板2の少なくとも一方が、絶縁基板10の液晶層8側に、絶縁基板10側から順に、開口部を有するBM20と、複数のカラーフィルタ(各色カラーフィルタ21R、21G、21B)がBM20の開口部に配置されたCF層22とを有し、CF層22は、複数のカラーフィルタ(各色カラーフィルタ21R、21G、21B)の端部がBM20に一部重なって配置されたカラーフィルタ重なり部38を有し、BM20及びCF層22を有する基板は、カラーフィルタ重なり部38から構成される線状凸部40a、40bを有する。このため、実施形態6と同様に、従来においては、表示ムラが発生することがあった。しかしながら、対向基板2は、平面視したときに、カラーフィルタ重なり部38から構成される線状凸部40a、40bとは間隔を有し、かつ線状凸部40a、40b間に配置された構造物41を更に有する。これにより、実施形態6と同様に、効果的に表示ムラの発生を抑制することができる。また、表示品位に損なうことなく液晶材料の使用量を削減することができる。更に、構造物が絶縁性を有することによって、寄生容量の低減も可能となる。なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、実施形態1の液晶表示パネルの製造方法と配向膜の塗布方法(インクジェット法の代わりに印刷法を用いる)が異なるだけなので、その説明は省略する。 Therefore, the counter substrate 2 of the present embodiment has linear convex portions 40 a and 40 b that are composed of the color filter overlapping portions 38 and face each other. That is, in the present embodiment, at least one of the active matrix substrate 1 and the counter substrate 2 includes, on the liquid crystal layer 8 side of the insulating substrate 10, the BM 20 having openings in order from the insulating substrate 10 side, and a plurality of color filters (each color Color filters 21R, 21G, and 21B) have a CF layer 22 disposed in the opening of the BM 20, and the CF layer 22 has a plurality of color filters (each color filter 21R, 21G, and 21B) at the ends of the BM 20. The substrate having the color filter overlapping portion 38 that is partially overlapped and having the BM 20 and the CF layer 22 has linear convex portions 40 a and 40 b constituted by the color filter overlapping portion 38. For this reason, as in the sixth embodiment, display unevenness may occur in the prior art. However, the counter substrate 2 has a structure in which the counter substrate 2 is spaced from the linear convex portions 40a and 40b formed by the color filter overlapping portions 38 and disposed between the linear convex portions 40a and 40b when viewed in plan. An object 41 is further included. Thereby, similarly to Embodiment 6, the occurrence of display unevenness can be effectively suppressed. Further, the amount of liquid crystal material used can be reduced without deteriorating display quality. Furthermore, since the structure has an insulating property, the parasitic capacitance can be reduced. The manufacturing method of the liquid crystal display panel of the present embodiment is different from the manufacturing method of the liquid crystal display panel of the first embodiment only in the alignment film coating method (a printing method is used instead of the ink jet method), and the description thereof is omitted. To do.

以上、実施形態で説明したように、本発明によれば、対向する配線と共通電極との間を遮るように絶縁層(絶縁性を有する構造体)が設けられるために、寄生容量を効果的に低減することができる。なお、実施形態1〜7で説明した各種の形態は、言うまでもなく、適宜組み合わせて用いてもよい。 As described above, according to the present invention, according to the present invention, since the insulating layer (insulating structure) is provided so as to block between the opposing wiring and the common electrode, the parasitic capacitance is effectively reduced. Can be reduced. In addition, it is needless to say that various forms described in the first to seventh embodiments may be used in combination as appropriate.

<比較形態1>
比較形態1の液晶表示装置について説明する。なお、本実施形態と実施形態1〜7とで重複する内容についての説明と図示とは省略する。
<Comparison 1>
A liquid crystal display device according to comparative form 1 will be described. In addition, description and illustration about the content which overlaps in this embodiment and Embodiment 1-7 are abbreviate | omitted.

図64は、比較形態1の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。本比較形態の液晶表示パネル701においては、アクティブマトリクス基板1の配線(ソースバスライン12、ゲート引き出し配線18等)と対向基板2の共通電極23との間に、層間絶縁膜13や垂直配向膜17a、17b以外に絶縁物がないことから、配線と共通電極23との間の寄生容量が大きくなってしまう。 FIG. 64 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the liquid crystal display panel of Comparative Embodiment 1. In the liquid crystal display panel 701 of this comparative embodiment, the interlayer insulating film 13 and the vertical alignment film are disposed between the wiring of the active matrix substrate 1 (source bus line 12, gate lead-out wiring 18, etc.) and the common electrode 23 of the counter substrate 2. Since there is no insulator other than 17a and 17b, the parasitic capacitance between the wiring and the common electrode 23 increases.

実施形態1の液晶表示素子の構成を示す平面模式図である。2 is a schematic plan view illustrating a configuration of a liquid crystal display element of Embodiment 1. FIG. 液晶表示パネルと、それに貼り合わされた二枚の偏光板との配置関係を示す分解斜視模式図である。It is a disassembled perspective schematic diagram which shows the arrangement | positioning relationship between a liquid crystal display panel and two polarizing plates bonded together. 実施形態1の液晶表示パネルを示す平面模式図である。3 is a schematic plan view illustrating the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図であり、(a)は、液晶表示パネルの隅部を示し、(b)は、表示領域の画素の構成を示す。2A and 2B are schematic plan views illustrating a configuration of a liquid crystal display panel according to Embodiment 1, in which FIG. 3A illustrates a corner portion of the liquid crystal display panel, and FIG. 図4中のA−B線における断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram in the AB line | wire in FIG. 実施形態1のアクティブマトリクス基板の隅部の構成を示す平面模式図である。3 is a schematic plan view illustrating a configuration of a corner portion of the active matrix substrate of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の対向基板の隅部の構成を示す平面模式図である。3 is a schematic plan view illustrating a configuration of a corner portion of a counter substrate according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。3 is a schematic cross-sectional view showing a linear auxiliary protrusion and an insulating layer of Embodiment 1. FIG. 比較形態の線状補助突起及び絶縁層を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the linear auxiliary | assistant protrusion and insulating layer of a comparison form. 従来の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the hollow part of the conventional counter substrate. 実施形態1の対向基板のくぼみ部を示す断面模式図である。3 is a schematic cross-sectional view showing a recessed portion of the counter substrate of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 従来のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のC−D線における断面図である。It is a schematic diagram which shows the connection part of the conventional source bus line and source lead-out wiring, (a) is a top view, (b) is sectional drawing in the CD line | wire in (a). 実施形態1のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のE−F線における断面図である。It is a schematic diagram which shows the connection part of the source bus line and source lead-out wiring of Embodiment 1, (a) is a top view, (b) is sectional drawing in the EF line | wire in (a). is there. 実施形態1のソースバスラインとソース引き出し配線との接続部分を示す別の模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のG−H線における断面図である。FIG. 4 is another schematic diagram illustrating a connection portion between the source bus line and the source lead-out wiring according to the first embodiment, where (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along line GH in (a). FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. (a)は、実施形態1の液晶表示パネルを示す平面模式図であり、(b)は、(a)中の円で囲まれた領域の平面拡大模式図である。(A) is a plane schematic diagram which shows the liquid crystal display panel of Embodiment 1, (b) is a plane expansion schematic diagram of the area | region enclosed by the circle | round | yen in (a). 実施形態1の液晶表示パネルの端部を示す断面模式図であり、(a)は、図18(a)中のJ−K線における断面図であり、(b)及び(c)は、図19(a)の変形例である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the edge part of the liquid crystal display panel of Embodiment 1, (a) is sectional drawing in the JK line | wire in Fig.18 (a), (b) and (c) are figures. It is a modification of 19 (a). 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの隅部の別の構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the corner of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの別の構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view illustrating another configuration of the liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 1. FIG. 実施形態1の画素の構成を示す平面模式図である。2 is a schematic plan view illustrating a configuration of a pixel according to Embodiment 1. FIG. テレビジョン受信機用の表示装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the display apparatus for television receivers. テレビジョン受像装置が備えるチューナ部70と表示装置との接続関係を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the connection relation of the tuner part 70 with which a television receiver is equipped, and a display apparatus. 表示装置をテレビジョン受信機とするときの機械的構成の一例を示す分解斜視模式図である。It is a disassembled perspective schematic diagram which shows an example of a mechanical structure when using a display apparatus as a television receiver. 実施形態2の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 2. FIG. 実施形態2の液晶表示パネルの隅部の構成を示す拡大平面模式図である。6 is an enlarged plan view schematically illustrating a configuration of a corner portion of the liquid crystal display panel of Embodiment 2. FIG. 実施形態3の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 3. FIG. 実施形態3のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。FIG. 6 is a schematic plan view showing a configuration of an active matrix substrate of Embodiment 3. 実施形態3の対向基板の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view illustrating a configuration of a counter substrate according to Embodiment 3. FIG. 実施形態4の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 4. FIG. 実施形態5の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 5. 実施形態6の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。FIG. 10 is a schematic plan view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 6. 図41中のZ1−Z2線における断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram in the Z1-Z2 line | wire in FIG. 実施形態6のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面模式図である。FIG. 10 is a schematic plan view illustrating a configuration of an active matrix substrate of Embodiment 6. 実施形態6の対向基板の構成を示す平面模式図である。10 is a schematic plan view illustrating a configuration of a counter substrate according to Embodiment 6. FIG. APR版を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、断面図である。It is a schematic diagram which shows an APR plate, (a) is a top view, (b) is sectional drawing. 実施形態6の対向基板の線状突起近傍の構成を示す断面模式図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration in the vicinity of a linear protrusion of a counter substrate according to a sixth embodiment. 評価試験に用いたサンプル(対向基板)の構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the sample (counter substrate) used for the evaluation test. 実施形態6の対向基板の別の構成を示す平面模式図である。FIG. 10 is a schematic plan view showing another configuration of the counter substrate of Embodiment 6. 実施形態6の対向基板の別の構成を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のY1−Y2線における断面図である。It is a schematic diagram which shows another structure of the opposing board | substrate of Embodiment 6, (a) is a top view, (b) is sectional drawing in the Y1-Y2 line | wire in (a). 実施形態6の対向基板の別の構成を示す模式図であり、(a)は、平面図であり、(b)は、(a)中のX1−X2線における断面図である。It is a schematic diagram which shows another structure of the opposing board | substrate of Embodiment 6, (a) is a top view, (b) is sectional drawing in the X1-X2 line | wire in (a). 実施形態7の液晶表示パネルの構成を示す平面模式図である。FIG. 10 is a schematic plan view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel of Embodiment 7. 図51中のV1−V2線における断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram in the V1-V2 line | wire in FIG. 実施形態7の対向基板の構成を示す平面模式図である。10 is a schematic plan view illustrating a configuration of a counter substrate according to Embodiment 7. FIG. 従来のBM及びカラーフィルタ層を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the conventional BM and a color filter layer. 従来のBM及びカラーフィルタ層上に配向膜が塗布された状態を示す断面模式図であり、(a)は、配向膜の塗布不良が発生した状態を示し、(b)は、配向膜が正常に塗布された状態を示す。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the state by which the orientation film was apply | coated on the conventional BM and a color filter layer, (a) shows the state in which the application | coating defect of the orientation film generate | occur | produced, (b), the orientation film is normal Shows the state of application. 表示ムラが発生した従来の液晶表示パネルを示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the conventional liquid crystal display panel which the display nonuniformity generate | occur | produced. 従来のカラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the conventional color filter layer and linear auxiliary | assistant protrusion. 従来のBM、カラーフィルタ層及び線状補助突起を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the conventional BM, a color filter layer, and a linear auxiliary | assistant protrusion. (a)は、従来のMVA方式の画素の構成を示す平面模式図であり、(b)は、(a)中のU1−U2線での断面模式図である。(A) is a plane schematic diagram which shows the structure of the pixel of the conventional MVA system, (b) is a cross-sectional schematic diagram in the U1-U2 line | wire in (a). 従来の対向基板の構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the conventional counter substrate. 特許文献1に記載の一実施形態による液晶表示装置のCF基板側の構成を示す模式図であり、(a)は、平面模式図であり、(b)は、(a)中のS1−S2線における断面図である。It is a schematic diagram which shows the structure by the side of CF board | substrate of the liquid crystal display device by one Embodiment as described in patent document 1, (a) is a plane schematic diagram, (b) is S1-S2 in (a). It is sectional drawing in a line. (a)及び(b)は、対向する線状凸部を有し、かつ平坦化用構造物が形成された従来の基板の構成を示す断面模式図である。(A) And (b) is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the conventional board | substrate which has the linear convex part which opposes, and the structure for planarization was formed. 評価試験に用いたサンプル(対向基板)の構成を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the structure of the sample (counter substrate) used for the evaluation test. 比較形態1の液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the liquid crystal display panel of the comparative form 1.

符号の説明Explanation of symbols

1、601:アクティブマトリクス基板
2、602:対向基板
3、603:表示領域
4:非表示領域
5:端子領域
6:画素
7a、7b:副画素
8、608:液晶層
9:シール
10、610:絶縁基板
11、611:ゲートバスライン
12、612:ソースバスライン
13、613:層間絶縁膜(パッシベーション膜)
14、614:画素電極
15、615:電極スリット
16、16a、16b、616:TFT(アクティブ素子)
17a、17b、614a、614b:垂直配向膜
18:ゲート引き出し配線
19:ソース引き出し配線
20、620:遮光層(ブラックマトリクス;BM)
21R、621R:赤カラーフィルタ
21G、621R:緑カラーフィルタ
21B、621R:青カラーフィルタ
22、622:カラーフィルタ層(CF層)
23、623:共通電極(対向電極)
24、624:配向制御用突起(線状突起)
25、625:配向制御用補助突起(線状補助突起)
26:絶縁層
27:接続層
28:くぼみ部
29:幅広部
30、30a、30b:コンタクトホール
31:スリット
32、632:ゲート絶縁膜
33、633:保持容量配線
34a、34b:副画素電極
35:導電性異物
36:液晶分子
37:ドレイン電極(ドレイン引き出し配線)
38、638:カラーフィルタ重なり部
39、639:補助突起重なり部
40a、40b、640a、640b:線状凸部
41:構造物
42:APR版
43:ドット
44:配向膜液剤
45a、45b:水平配向膜
46:層間接続部
50:ゲート端子部
51:ソース端子部
52:ゲートドライバ
53:ソースドライバ
54:プリント配線基板
55:表示制御回路
56a、56b:偏光板
60:Y/C分離回路
61:ビデオクロマ回路
62:A/Dコンバータ
63:液晶コントローラ
64:バックライト駆動回路
65:バックライト
66:マイコン(マイクロコンピュータ)
67:階調回路
70:チューナ部
81:第1筐体
82:第2筐体
83:開口部
84:操作用回路
85:支持用部材
101、102、103、104、105、106、107、701:液晶表示パネル
200:液晶表示素子
300:表示装置
690:段差部
691:平坦化用構造物
692:表示ムラ
693:凹み
L:画素電極のエッジと絶縁層のエッジとの距離
H1:BMの上面からのカラーフィルタ重なり部の高さ
H2:カラーフィルタ重なり部の上面からの補助突起重なり部の高さ
CF:CF層の画素開口部における膜厚
BM:BMの膜厚
W1:シールの幅
W2:BMの幅
W3:シールとBMとの間隙
W4:絶縁層の端部からBMの端部までの幅
1, 601: Active matrix substrate 2, 602: Counter substrate 3, 603: Display area 4: Non-display area 5: Terminal area 6: Pixel 7a, 7b: Sub-pixel 8, 608: Liquid crystal layer 9: Seals 10, 610: Insulating substrate 11, 611: Gate bus line 12, 612: Source bus line 13, 613: Interlayer insulating film (passivation film)
14, 614: Pixel electrode 15, 615: Electrode slits 16, 16a, 16b, 616: TFT (active element)
17a, 17b, 614a, 614b: vertical alignment film 18: gate lead-out wiring 19: source lead-out wiring 20, 620: light shielding layer (black matrix; BM)
21R, 621R: Red color filter 21G, 621R: Green color filter 21B, 621R: Blue color filter 22, 622: Color filter layer (CF layer)
23, 623: Common electrode (counter electrode)
24, 624: Projection for alignment control (linear projection)
25, 625: auxiliary protrusion for alignment control (linear auxiliary protrusion)
26: Insulating layer 27: Connection layer 28: Recessed portion 29: Wide portions 30, 30a, 30b: Contact hole 31: Slit 32, 632: Gate insulating film 33, 633: Retention capacitance wiring 34a, 34b: Subpixel electrode 35: Conductive foreign material 36: liquid crystal molecule 37: drain electrode (drain lead wiring)
38, 638: Color filter overlapping part 39, 639: Auxiliary protrusion overlapping part 40a, 40b, 640a, 640b: Linear convex part 41: Structure 42: APR plate 43: Dot 44: Alignment film solution 45a, 45b: Horizontal alignment Film 46: Interlayer connection part 50: Gate terminal part 51: Source terminal part 52: Gate driver 53: Source driver 54: Printed wiring board 55: Display control circuit 56a, 56b: Polarizing plate 60: Y / C separation circuit 61: Video Chroma circuit 62: A / D converter 63: Liquid crystal controller 64: Backlight drive circuit 65: Backlight 66: Microcomputer
67: gradation circuit 70: tuner 81: first housing 82: second housing 83: opening 84: operation circuit 85: supporting members 101, 102, 103, 104, 105, 106, 107, 701 : Liquid crystal display panel 200: Liquid crystal display element 300: Display device 690: Stepped portion 691: Planarizing structure 692: Display unevenness 693: Recess L: Distance H1 between the edge of the pixel electrode and the edge of the insulating layer From the upper surface of the color filter overlap portion H 2: Height of the auxiliary protrusion overlap portion from the upper surface of the color filter overlap portion T CF : Film thickness T BM at the pixel opening of the CF layer W 1: Width of the seal W 1: W2: BM width W3: gap between seal and BM W4: width from the end of the insulating layer to the end of BM

Claims (42)

対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルであって、
該液晶表示パネルは、少なくともいずれか一方の基板の液晶層側に絶縁層を有し、
該絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置され、
該液晶層は、絶縁層が配置された領域での厚みが、画素開口部での厚みよりも小さく設定されていることを特徴とする液晶表示パネル。
A liquid crystal display panel comprising a pair of opposing substrates and a liquid crystal layer provided between the substrates,
The liquid crystal display panel has an insulating layer on the liquid crystal layer side of at least one of the substrates,
The insulating layer is disposed in the light shielding region when the substrate is viewed in plan view,
A liquid crystal display panel, wherein the liquid crystal layer has a thickness set in a region where an insulating layer is disposed smaller than a thickness in a pixel opening.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed in a non-display area when the substrate is viewed in plan. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項2記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has a light shielding layer on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
3. The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the insulating layer is disposed in a region overlapping with a light shielding layer located in the display region when the substrate is viewed in plan.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域の略全域に配置されることを特徴とする請求項2記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the insulating layer is disposed over substantially the entire non-display area when the substrate is viewed in plan. 前記液晶表示パネルは、非表示領域の基板間に封止材を有し、
前記絶縁層は、該封止材と重ならないことを特徴とする請求項2記載の液晶表示パネル。
The liquid crystal display panel has a sealing material between the substrates in the non-display area,
The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the insulating layer does not overlap the sealing material.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、非表示領域においてスリットを有することを特徴とする請求項2記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the insulating layer has a slit in a non-display area when the substrate is viewed in plan. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、
前記スリットは、基板を平面視したときに、配線と重ならない領域に配置されることを特徴とする請求項6記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The liquid crystal display panel according to claim 6, wherein the slit is disposed in a region that does not overlap with the wiring when the substrate is viewed in plan.
前記スリットは、基板を平面視したときに、液晶を注入又は滴下する工程における液晶の流れる方向に沿って配置されることを特徴とする請求項6記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 6, wherein the slit is disposed along a direction in which the liquid crystal flows in the step of injecting or dropping the liquid crystal when the substrate is viewed in plan. 前記スリットは、基板を平面視したときに、表示領域の輪郭線と略平行な方向に配置されることを特徴とする請求項6記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 6, wherein the slit is disposed in a direction substantially parallel to a contour line of the display region when the substrate is viewed in plan. 前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed in a display region when the substrate is viewed in plan. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に遮光層を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項10記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has a light shielding layer on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The liquid crystal display panel according to claim 10, wherein the insulating layer is disposed in a region overlapping a light shielding layer located in the display region when the substrate is viewed in plan.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域に配列された画素間の境界領域に位置する遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項10記載の液晶表示パネル。 11. The liquid crystal display panel according to claim 10, wherein the insulating layer is disposed in an area overlapping with a light shielding layer located in a boundary area between pixels arranged in the display area when the substrate is viewed in plan. 前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域における遮光領域の略全域に配置されることを特徴とする請求項10記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 10, wherein the insulating layer is disposed in substantially the entire light shielding region in the display region when the substrate is viewed in plan. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、表示領域の略全域の配線に沿って配置されることを特徴とする請求項10記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The liquid crystal display panel according to claim 10, wherein the insulating layer is disposed along wirings in substantially the entire display area when the substrate is viewed in plan.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed at a corner of the pixel when the substrate is viewed in plan. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起と一体的に形成されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has an alignment control protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is formed integrally with an alignment control protrusion disposed at a corner of the pixel when the substrate is viewed in plan.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素の隅部に配置された配向制御用突起の画素の中心とは反対側に配置されることを特徴とする請求項16記載の液晶表示パネル。 17. The liquid crystal display panel according to claim 16, wherein the insulating layer is disposed on a side opposite to the center of the pixel of the alignment control protrusion disposed at the corner of the pixel when the substrate is viewed in plan. . 前記絶縁層は、基板を平面視したときに、島状に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is arranged in an island shape when the substrate is viewed in plan. 前記絶縁層は、当該絶縁層を有する基板を構成するいずれかの部材と同一の材料を含んで構成されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer includes the same material as any member constituting the substrate having the insulating layer. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に複数のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を有し、
前記絶縁層は、カラーフィルタ層を有する基板に配置され、かついずれかのカラーフィルタと同一の材料を含んで構成されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has a color filter layer including a plurality of color filters on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed on a substrate having a color filter layer and includes the same material as any one of the color filters.
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有することを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein at least one of the substrates has an alignment control protrusion and / or an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate. 前記絶縁層は、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起と同一の材料を含んで構成されることを特徴とする請求項21記載の液晶表示パネル。 The insulating layer is disposed on at least one substrate having alignment control protrusions and / or alignment control auxiliary protrusions, and includes the same material as the alignment control protrusions and / or alignment control auxiliary protrusions. The liquid crystal display panel according to claim 21, wherein: 前記絶縁層は、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用突起及び/又は配向制御用補助突起と重ならない領域に配置されることを特徴とする請求項21記載の液晶表示パネル。 The insulating layer is disposed on at least one substrate having alignment control protrusions and / or alignment control auxiliary protrusions, and overlaps with the alignment control protrusions and / or alignment control auxiliary protrusions when the substrate is viewed in plan view. The liquid crystal display panel according to claim 21, wherein the liquid crystal display panel is disposed in a non-contiguous region. 前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、
前記絶縁層は、配向制御用補助突起を有する少なくとも一方の基板に配置され、かつ基板を平面視したときに、配向制御用補助突起との間に間隔を有して配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The insulating layer is disposed on at least one substrate having an alignment control auxiliary protrusion, and is disposed with a space between the insulating layer and the alignment control auxiliary protrusion when the substrate is viewed in plan view. The liquid crystal display panel according to claim 1.
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、
前記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の根元部と一体的に形成され、
該配向制御用補助突起は、基板を平面視したときに、その幅が根元部から先端部に向かって細くなることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The insulating layer is formed integrally with a root portion of an alignment control auxiliary protrusion disposed at a corner of the pixel,
2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the alignment control auxiliary protrusions have a width that decreases from a root portion toward a tip portion when the substrate is viewed in plan view.
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に配向制御用補助突起を有し、
前記絶縁層は、画素の隅部に配置された配向制御用補助突起の先端部以外の部分と一体的に形成されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates has an alignment control auxiliary protrusion on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is formed integrally with a portion other than the tip of the alignment control auxiliary protrusion disposed at a corner of the pixel.
前記基板の少なくとも一方は、絶縁基板の液晶層側に、絶縁基板側から順に、開口部を有する遮光層と、複数のカラーフィルタが遮光層の開口部に配置されたカラーフィルタ層と、遮光層及びカラーフィルタ層上の略全面に設けられた共通電極と、絶縁層とを有し、
該絶縁層は、基板を平面視したときに、遮光層と重なる領域に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
At least one of the substrates includes, on the liquid crystal layer side of the insulating substrate, in order from the insulating substrate side, a light shielding layer having an opening, a color filter layer in which a plurality of color filters are arranged in the opening of the light shielding layer, and a light shielding layer And a common electrode provided on substantially the entire surface of the color filter layer, and an insulating layer,
The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed in a region overlapping the light shielding layer when the substrate is viewed in plan.
前記カラーフィルタ層は、その膜厚が遮光層の膜厚よりも大きく、
前記絶縁層は、その膜厚が遮光層とカラーフィルタとの段差よりも大きいことを特徴とする請求項27記載の液晶表示パネル。
The color filter layer has a thickness larger than the thickness of the light shielding layer,
28. The liquid crystal display panel according to claim 27, wherein the insulating layer has a thickness larger than a step between the light shielding layer and the color filter.
前記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に共通電極を有し、
前記基板の他方は、絶縁基板の液晶層側に配線を有し、
前記絶縁層は、共通電極及び配線の間に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
One of the substrates has a common electrode on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The other of the substrates has wiring on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed between the common electrode and the wiring.
前記絶縁層は、基板を平面視したときに、画素領域の液晶分子の配向に影響を与えない領域に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed in a region that does not affect the alignment of the liquid crystal molecules in the pixel region when the substrate is viewed in plan. 前記基板の一方は、絶縁基板の液晶層側に画素電極を有し、
前記絶縁層は、基板を平面視したとき、画素電極と重ならない領域に配置されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
One of the substrates has a pixel electrode on the liquid crystal layer side of the insulating substrate,
The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is disposed in a region that does not overlap with the pixel electrode when the substrate is viewed in plan.
前記絶縁層は、基板を断面視したとき、順テーパ形状を有することを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer has a forward tapered shape when the substrate is viewed in cross section. 前記絶縁層は、着色されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is colored. 前記絶縁層は、遮光性を有することを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。 The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the insulating layer has a light shielding property. 請求項1〜34のいずれかに記載の液晶表示パネルを含んで構成されることを特徴とする液晶表示素子。 A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display panel according to claim 1. 請求項35記載の液晶表示素子を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置。 36. A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display element according to claim 35. 請求項36記載の液晶表示装置を含んで構成されることを特徴とするテレビジョン受信機。 A television receiver comprising the liquid crystal display device according to claim 36. 対向する一対の基板と、基板間に設けられた液晶層とを備える液晶表示パネルに用いられる液晶表示パネル用基板であって、
該液晶表示パネル用基板は、基板を平面視したときに、遮光領域に配置される絶縁層を有することを特徴とする液晶表示パネル用基板。
A liquid crystal display panel substrate used in a liquid crystal display panel comprising a pair of opposing substrates and a liquid crystal layer provided between the substrates,
The liquid crystal display panel substrate has an insulating layer disposed in a light shielding region when the substrate is viewed in plan.
請求項38記載の液晶表示パネル用基板を含んで構成されることを特徴とする液晶表示パネル。 A liquid crystal display panel comprising the liquid crystal display panel substrate according to claim 38. 請求項39記載の液晶表示パネルを含んで構成されることを特徴とする液晶表示素子。 40. A liquid crystal display element comprising the liquid crystal display panel according to claim 39. 請求項40記載の液晶表示素子を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置。 41. A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display element according to claim 40. 請求項41記載の液晶表示装置を含んで構成されることを特徴とするテレビジョン受信機。

42. A television receiver comprising the liquid crystal display device according to claim 41.

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