JP2008162161A - Polypropylene-based foam film - Google Patents

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JP2008162161A JP2006355367A JP2006355367A JP2008162161A JP 2008162161 A JP2008162161 A JP 2008162161A JP 2006355367 A JP2006355367 A JP 2006355367A JP 2006355367 A JP2006355367 A JP 2006355367A JP 2008162161 A JP2008162161 A JP 2008162161A
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Toru Imai
徹 今井
Kenji Kawai
兼次 河井
Shoichi Iwasaki
正一 岩崎
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Toyobo Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polypropylene-based foam film compatible with heat resistance and heat sealability. <P>SOLUTION: The foam film comprises a laminate of a core layer and both sides thereof with a skin layer; and a polypropylene polymer as a main component that the skin layer is not substantially foamed, and the core layer has physical properties of the following (1) to (3) in which (1) a melt flow rate is 0.1 to 20 g/10 min., (2) a melting point Tm measured using a differential scanning calorimeter (DSC) is 147 to 159°C, and a half value of width HW of a melt peak and the Tm measured using the differential scanning calorimeter (DSC) satisfy a relation of 1.54≤((188-Tm)/5)-Hw≤1.86. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、加熱時の収縮を抑えたポリプロピレン系発泡フイルムに関し、さらに詳しくは加熱時の収縮を抑制することで、ヒートシール性フイルムのシール部の仕上がり性が良好であることを特徴とする、各種包装材料構成要素、工業用途として使用した場合に有用なポリプロピレン系発泡フイルムに関するものである。   The present invention relates to a polypropylene-based foam film that suppresses shrinkage during heating, and more particularly, by suppressing shrinkage during heating, the finish of the seal portion of the heat-sealable film is good, The present invention relates to a polypropylene foam film useful when used as various packaging material components and industrial applications.

一般的に、包装材料は、内容物の種類等の目的・用途に応じて隠蔽性、バリア性、美観性などの性質を考慮し、適当な素材・構成が選択される。
包装材料としての重要な特性として隠蔽性が挙げられる。包装用フイルムの隠蔽性付与の方策として(1)印刷、(2)顔料や着色剤等の練り込み、添加、(3)発泡剤添加によるボイド形成などが挙げられるが、コストや品質安定性の面から(2)無機顔料の添加や(3)発泡剤の添加によるボイド形成による方法が一般的である。
In general, an appropriate material and configuration of a packaging material is selected in consideration of properties such as concealment, barrier properties, and aesthetics according to the purpose and use of the type of contents.
Concealment is an important characteristic as a packaging material. Measures for concealing the packaging film include (1) printing, (2) kneading and adding pigments and colorants, and (3) void formation by adding a foaming agent. From the aspect, a method of forming a void by adding (2) an inorganic pigment or (3) adding a foaming agent is generally used.

その中でも、ボイド発生機構としては[1]無機フィラーを添加して延伸工程での樹脂との剥離によりボイドを発生させる方法、[2]マイクロカプセルを添加し、熱によりガスを発生させることでボイドを発生させる方法、[3]溶剤可溶性物質を添加し、製膜後溶剤に浸漬し可溶性物質を溶融除去することでボイドを形成する方法などが代表的であるが、実用上最も普及しているのが炭酸カルシウムなどの無機粒子を発泡剤として樹脂に添加し、延伸時に発生する層間剥離を利用した方法が一般的である(例えば、特許文献1、2、3、4参照)。
特開昭55−126056号公報 特開2005−22300号公報 特開平1−4338号公報 特開平11−5852号公報
Among them, as a void generation mechanism, [1] a method in which an inorganic filler is added and voids are generated by peeling from the resin in the stretching process, and [2] a void is generated by adding microcapsules and generating gas by heat. [3] A method of forming a void by adding a solvent-soluble substance and immersing it in a solvent after film formation to melt-dissolve the soluble substance is the most popular, but is most popular in practice. In general, a method of adding inorganic particles such as calcium carbonate to a resin as a foaming agent and utilizing delamination that occurs during stretching (see, for example, Patent Documents 1, 2, 3, and 4).
Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-126056 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-22300 Japanese Patent Laid-Open No. 1-4338 Japanese Patent Laid-Open No. 11-5852

しかしながら無機顔料、無機発泡材は一般的に高価であり、また、隠蔽性をより多く付与せんがために添加量を増やすと、異物やフィラー脱落のトラブル増加、押出し機ダイスリップ口の汚れ多発等の生産効率の悪化及びそれに起因するコストアップが問題となることがわかっている。
また特に工業用途に用いる場合には異物ゼロが求められる事も多く、無機フィラーの添加量は極力抑えたいのが現状である。
そのため極力少ない無機フィラーの添加量で十分な隠蔽性を付与させる技術の有用性は高い。しかし発泡剤の発泡効率を向上させる方策としては、発泡剤表面の表面処理や粒度コントロールなどで対応することが一般的であり、ベース樹脂による発泡コントロールについて言及した技術は少ない。
However, inorganic pigments and inorganic foam materials are generally expensive, and if they are added in an increased amount because they provide more concealability, problems such as foreign matter and filler dropout increase, frequent occurrence of extruder die slip opening, etc. It has been found that the deterioration of production efficiency and the resulting cost increase become a problem.
In particular, when used for industrial applications, zero foreign matter is often required, and the present situation is to suppress the amount of inorganic filler added as much as possible.
Therefore, the usefulness of the technique which provides sufficient concealment property with the addition amount of the inorganic filler as small as possible is high. However, measures to improve the foaming efficiency of the foaming agent are generally handled by surface treatment of the foaming agent surface, particle size control, etc., and there are few techniques mentioned regarding foam control by the base resin.

例えば、マイクロカプセルを添加するタイプの発泡フイルムにおいては、高溶融張力タイプのポリプロピレン系樹脂をベース樹脂に使用する事によって、より良好な発泡効率を得ることがわかっているが、無機フィラーを発泡剤として用い、層間剥離によりボイドを発現せしめる方式の発泡フイルムにおいては効果が発現しないことがわかっており、発泡効率の良好な樹脂の選択は容易ではない。   For example, it is known that in foamed films to which microcapsules are added, it is possible to obtain better foaming efficiency by using a high melt tension type polypropylene resin as a base resin. It is known that the effect is not exhibited in a foamed film in which voids are developed by delamination, and it is not easy to select a resin having good foaming efficiency.

また、包装材料の重要な特性として、ヒートシール性も挙げられる。シール性の付与方法としては、シーラントフイルムをドライラミネートによって基材フイルムに貼り合わせる方法、押出しラミネーションによって、基材層にシール性樹脂を積層する方法等があるが、押出し成形時にヒートシール性樹脂をダイス内で積層し、共押出しする方式が最もコスト、簡便性の面で有利である。   Another important characteristic of the packaging material is heat sealability. Examples of methods for imparting sealability include a method of laminating a sealant film to a base film by dry lamination, a method of laminating a seal resin on a base material layer by extrusion lamination, and the like. The method of laminating in a die and co-extrusion is most advantageous in terms of cost and simplicity.

しかし、ヒートシールとは、樹脂を加熱してシールするという方式であるため、フイルム基材の耐熱性が悪いとシール時に熱収縮によるシワやズレが発生し、いわゆる仕上がり不良が発生してしまう。
仕上がり不良は見た目の悪さだけではなく、製袋して使用する際にストロー抜けなどの実用上の不具合が発生する可能性が高く、ヒートシール性フイルムの耐熱性は重要である。
しかし、先にも述べたがヒートシールは融点の低い樹脂を溶融させるものであるため、ポリオレフィン系樹脂が用いられる事がほとんどであり、一般的に耐熱性の高い樹脂とされるPET等とはなじみが悪く、積層させても層間剥離が発生し、実用的なシール強度は発現しない。
以上のような事から、耐熱性とヒートシール性という、相反する性質を両立する事は困難である。
However, heat sealing is a method in which a resin is heated and sealed, so if the heat resistance of the film substrate is poor, wrinkles and displacement due to thermal shrinkage occur at the time of sealing, and so-called poor finish occurs.
The defective finish is not only poor in appearance but also likely to cause practical problems such as missing straws when used in bag making, and the heat resistance of the heat-sealable film is important.
However, as described above, since heat sealing melts a resin having a low melting point, a polyolefin-based resin is almost always used. What is PET or the like generally regarded as a heat-resistant resin? The familiarity is poor, and even when laminated, delamination occurs, and practical seal strength is not exhibited.
From the above, it is difficult to achieve both conflicting properties of heat resistance and heat sealability.

本発明は、上記の様な事情に着目してなされたものであり、その目的は、耐熱性とヒートシール性を両立するポリプロピレン系発泡フイルムを提供することである。   The present invention has been made paying attention to the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a polypropylene-based foam film having both heat resistance and heat sealability.

本発明者等は上記のような実情に鑑み、鋭意検討した結果、本発見が上記課題を解決できることを見出し、本発明の完成に至った。
すなわち、本発明はコア層およびその両側にスキン層を積層した構成であることを特徴とし、スキン層が実質的に発泡しておらず、コア層が以下の(1)〜(3)の物性を有するプロピレン系重合体を主成分とすることを特徴とするポリプロピレン系発泡フイルムである。
(1)メルトフローレイトが0.1〜20 g/10分
(2)示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融点Tmが147〜159℃
(3)示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融解ピークの半値幅HWとTmが
1.54≦((188−Tm)/5)−Hw≦1.86の関係を満たす。
上記値が下限値を下回ると、隠蔽性が低下し、加熱後収縮率が大きくなり、製袋加工適性の悪化等という問題が生じやすい。
上記値が上限値を上回ると、延伸性が悪化する可能性がある。
上記式中の本発明はメルトフローレイトが0.1〜20g/10分、示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融点Tmが147〜159℃、示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融解ピークの半値幅HWとTmはそれぞれフィルムを構成する主成分のポリプロピレン系樹脂における、結晶成分とコモノマー成分含量に対応しており、延伸性と剛性・熱収縮性のバランスを表している。
As a result of intensive studies in view of the above circumstances, the present inventors have found that the present discovery can solve the above-mentioned problems, and have completed the present invention.
That is, the present invention is characterized in that the core layer and a skin layer are laminated on both sides thereof, the skin layer is not substantially foamed, and the core layer has the following physical properties (1) to (3): A polypropylene-based foamed film characterized by comprising a propylene-based polymer having a main component as a main component.
(1) Melt flow rate is 0.1 to 20 g / 10 min. (2) Melting point Tm measured using a differential scanning calorimeter (DSC) is 147 to 159 ° C.
(3) The half-value width HW and Tm of the melting peak measured using a differential scanning calorimeter (DSC) satisfy the relationship of 1.54 ≦ ((188−Tm) / 5) −Hw ≦ 1.86.
When the above value is lower than the lower limit value, the concealability is lowered, the shrinkage rate after heating is increased, and problems such as deterioration in bag-making processability are liable to occur.
If the above value exceeds the upper limit, stretchability may be deteriorated.
The present invention in the above formula has a melt flow rate of 0.1 to 20 g / 10 min, a melting point Tm measured using a differential scanning calorimeter (DSC) of 147 to 159 ° C., and a differential scanning calorimeter (DSC). The half-value width HW and Tm of the melting peak measured using each correspond to the crystal component and comonomer component contents in the main component polypropylene resin constituting the film, and represent the balance between stretchability, rigidity and heat shrinkability. ing.

ポリプロピレン系発泡フイルムにおいて、ベースのポリプロピレン系樹脂の特性を制御することにより、加熱時の収縮を抑制し、ヒートシール性フイルムの耐熱性とヒートシール性を両立する特徴とする事を特徴とする、ポリプロピレン系発泡フイルムを提供できる。
以下、本発明のポリプロピレン系発泡フイルムの実施の形態を説明する。
In the polypropylene-based foam film, by controlling the characteristics of the base polypropylene-based resin, the shrinkage during heating is suppressed, and the heat-sealable film has both heat resistance and heat-sealability. A polypropylene foam film can be provided.
Hereinafter, embodiments of the polypropylene-based foam film of the present invention will be described.

本発明の主成分たるプロピレン系重合体とはプロピレン単独重合体及びプロピレン系ランダム共重合体であることを特徴とし、好ましくはプロピレン系ランダム共重合体である。   The propylene polymer as the main component of the present invention is a propylene homopolymer and a propylene random copolymer, preferably a propylene random copolymer.

本発明のプロピレン単独重合体とは、モノマーとしてプロピレンのみを重合して得られる重合体である。   The propylene homopolymer of the present invention is a polymer obtained by polymerizing only propylene as a monomer.

本発明のプロピレン系ランダム共重合体とは、プロピレンと、エチレンまたは炭素数4〜20個からなるα−オレフィンから選択された少なくとも1種以上のコモノマーを共重合して得られるランダム共重合体である。   The propylene random copolymer of the present invention is a random copolymer obtained by copolymerizing propylene and at least one comonomer selected from ethylene or an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms. is there.

α−オレフィンとしては、炭素数4〜20個からなるα−オレフィンが挙げられる。具体的に例示すると、1−ブテン、2−メチル−1−プロペン、1−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、2−エチル−1−ブテン、2,3−ジメチル−1−ブテン、2−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、3,3−ジメチル−1−ブテン、1−ヘプテン、メチル−1−ヘキセン、ジメチル−1−ペンテン、エチル−1−ペンテン、トリメチル−1−ブテン、メチルエチル−1−ブテン、1−オクテン、メチル−1−ペンテン、エチル−1−ヘキセン、ジメチル−1−ヘキセン、プロピル−1−ヘプテン、メチルエチル−1−ヘプテン、トリメチル−1−ペンテン、プロピル−1−ペンテン、ジエチル−1−ブテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン等が挙げられる。好ましくは、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンを用いることができ、さらに好ましくは、1−ブテン、1−ヘキセンを用いることができる。   Examples of the α-olefin include α-olefins having 4 to 20 carbon atoms. Specific examples include 1-butene, 2-methyl-1-propene, 1-pentene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-hexene, 2-ethyl-1-butene, 2,3-dimethyl-1-butene, 2-methyl-1-pentene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 3,3-dimethyl-1-butene, 1-heptene, methyl- 1-hexene, dimethyl-1-pentene, ethyl-1-pentene, trimethyl-1-butene, methylethyl-1-butene, 1-octene, methyl-1-pentene, ethyl-1-hexene, dimethyl-1-hexene Propyl-1-heptene, methylethyl-1-heptene, trimethyl-1-pentene, propyl-1-pentene, diethyl-1-butene, 1-nonene, 1-decene, 1-un Sen, 1-dodecene, and the like. Preferably, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene and 1-octene can be used, and more preferably, 1-butene and 1-hexene can be used.

本発明のプロピレン系ランダム共重合体としては、例えば、プロピレン−エチレンランダム共重合体、プロピレン−1−ブテンランダム共重合体、プロピレン−1−ヘキセンランダム共重合体、プロピレン−エチレン−1−ブテンランダム共重合体、プロピレン−エチレン−1−ヘキセンランダム共重合体等が挙げられ、好ましくは、プロピレン−1−ブテンランダム共重合体である。   Examples of the propylene random copolymer of the present invention include a propylene-ethylene random copolymer, a propylene-1-butene random copolymer, a propylene-1-hexene random copolymer, and a propylene-ethylene-1-butene random. Examples thereof include a copolymer and a propylene-ethylene-1-hexene random copolymer, and a propylene-1-butene random copolymer is preferable.

本発明のプロピレン系重合体のメルトフローレイト(g/10分)は、0.1〜20g/10分であり、好ましくは1.0〜10g/10分である。メルトフローレイトが0.1g/10分未満の場合、押出加工時の流動性が不充分であることがあり、20g/10分を超えた場合、延伸性が不充分であることがある。   The melt flow rate (g / 10 minutes) of the propylene polymer of the present invention is 0.1 to 20 g / 10 minutes, preferably 1.0 to 10 g / 10 minutes. When the melt flow rate is less than 0.1 g / 10 minutes, the fluidity at the time of extrusion may be insufficient, and when it exceeds 20 g / 10 minutes, the stretchability may be insufficient.

本発明のプロピレン系重合体の示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融点Tm(℃)は147〜159℃である。好ましくは150〜158℃であり、より好ましくは152〜157℃である。融点Tm(℃)が147℃未満の場合、延伸フィルムの剛性が不充分であることがあり、159℃を超えた場合、フィルムの延伸性が悪化することがある。   Melting | fusing point Tm (degreeC) measured using the differential scanning calorimeter (DSC) of the propylene-type polymer of this invention is 147-159 degreeC. Preferably it is 150-158 degreeC, More preferably, it is 152-157 degreeC. When the melting point Tm (° C.) is less than 147 ° C., the stretched film may have insufficient rigidity, and when it exceeds 159 ° C., the stretchability of the film may deteriorate.

本発明のプロピレン系重合体の示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融解ピークの半値幅HW(℃)と融点Tm(℃)は、HW≦(188−Tm)/5で、1.54≦((188−Tm)/5)−HW≦1.86を満足するものであり、好ましくはHW≦(184−Tm)/5で、0.74≦((184−Tm)/5)−HW≦1.06であり、より好ましくはHW≦(182−Tm)/5で、0.34≦((182−Tm)/5)−HW≦0.66である。半値幅HW(℃)と融点Tm(℃)の関係が、HW>(188−Tm)/5である場合、延伸フィルムが、優れた延伸性と剛性を併せ持つことができないことがある。   The full width at half maximum HW (° C.) and melting point Tm (° C.) of the melting peak measured using a differential scanning calorimeter (DSC) of the propylene polymer of the present invention is HW ≦ (188−Tm) / 5, .54 ≦ ((188−Tm) / 5) −HW ≦ 1.86, preferably HW ≦ (184−Tm) / 5 and 0.74 ≦ ((184−Tm) / 5. ) −HW ≦ 1.06, more preferably HW ≦ (182−Tm) / 5, and 0.34 ≦ ((182−Tm) / 5) −HW ≦ 0.66. When the relationship between the half width HW (° C.) and the melting point Tm (° C.) is HW> (188−Tm) / 5, the stretched film may not have both excellent stretchability and rigidity.

本発明のプロピレン系ランダム共重合体が、プロピレン−エチレンランダム共重合体である場合、エチレン含有量は、剛性および耐熱性と延伸性とのバランスから、好ましくは2.1〜4.0mol%であり、より好ましくは2.2〜3.0mol%である。   When the propylene-based random copolymer of the present invention is a propylene-ethylene random copolymer, the ethylene content is preferably 2.1 to 4.0 mol% from the balance between rigidity and heat resistance and stretchability. Yes, more preferably from 2.2 to 3.0 mol%.

本発明のプロピレン系ランダム共重合体が、プロピレン−α−オレフィンランダム共重合体である場合、α−オレフィン含有量は、剛性、耐熱性および延伸性とのバランスから、好ましくは2.6〜10mol%であり、より好ましくは3.0〜8.0mol%である。   When the propylene-based random copolymer of the present invention is a propylene-α-olefin random copolymer, the α-olefin content is preferably 2.6 to 10 mol from the balance of rigidity, heat resistance and stretchability. %, And more preferably 3.0 to 8.0 mol%.

本発明のプロピレン系ランダム共重合体がプロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体である場合、エチレンとα−オレフィンの含有量の合計は、剛性、耐熱性および延伸性とのバランスから、好ましくは2.6〜10mol%であり、より好ましくは3.0〜8.0mol%である。   When the propylene-based random copolymer of the present invention is a propylene-ethylene-α-olefin copolymer, the total content of ethylene and α-olefin is preferably from the balance of rigidity, heat resistance and stretchability. It is 2.6-10 mol%, More preferably, it is 3.0-8.0 mol%.

本発明のプロピレン系重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、(a)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与体を必須成分として含有する固体触媒成分、(b)有機アルミニウム化合物、および(c)電子供与体成分から形成される触媒系を用い、公知の重合方法を用いる製造方法が挙げられる。その代表的な例を以下に示す。   The method for producing the propylene-based polymer of the present invention is not particularly limited. For example, (a) a solid catalyst component containing magnesium, titanium, halogen and an electron donor as essential components, (b) organoaluminum Examples thereof include a production method using a known polymerization method using a catalyst system formed from a compound and (c) an electron donor component. A typical example is shown below.

(1)触媒系
(a)固体触媒成分
(a−1)チタン化合物
固体触媒成分(a)の合成に用いられるチタン化合物としては、例えば、一般式Ti(OR4−a(Rは炭素数が1〜20の炭化水素基を、Xはハロゲン原子を、aは0≦a≦4の数を表す。)で表されるチタン化合物が挙げられる。具体的には、四塩化チタン等のテトラハロゲン化チタン化合物、エトキシチタントリクロライド、ブトキシチタントリクロライド等のトリハロゲン化アルコキシチタン化合物、ジエトキシチタンジクロライド、ジブトキシチタンジクロライド等のジハロゲン化ジアルコキシチタン化合物、トリエトキシチタンクロライド、トリブトキシチタンクロライド等のモノハロゲン化トリアルコキシチタン化合物、テトラエトキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン化合物を挙げることができる。これらチタン化合物は、単独で用いても良いし、二種類以上を組み合わせて用いても良い。
(1) Catalyst system (a) Solid catalyst component (a-1) Titanium compound As a titanium compound used for the synthesis of the solid catalyst component (a), for example, the general formula Ti (OR 1 ) a X 4-a (R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, X represents a halogen atom, and a represents a number of 0 ≦ a ≦ 4. Specifically, tetrahalogenated titanium compounds such as titanium tetrachloride, trihalogenated alkoxytitanium compounds such as ethoxytitanium trichloride and butoxytitanium trichloride, dihalogenated dialkoxytitanium such as diethoxytitanium dichloride and dibutoxytitanium dichloride. Examples thereof include monohalogenated trialkoxytitanium compounds such as compounds, triethoxytitanium chloride and tributoxytitanium chloride, and tetraalkoxytitanium compounds such as tetraethoxytitanium and tetrabutoxytitanium. These titanium compounds may be used alone or in combination of two or more.

(a−2)Si−O結合を有する有機ケイ素化合物
固体触媒成分(a)の合成に用いられる有機ケイ素化合物としては、例えば、一般式R Si(OR4−n(Rは炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子を表し、Rは炭素数1〜20の炭化水素基を表す。また、nは0≦n<4の数を表す。)で表されるケイ素化合物が挙げられる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、t−ブチルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ジ−t−ブチルジメトキシシラン、ブチルメチルジメトキシシラン、ブチルエチルジメトキシシラン、t−ブチルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジエトキシシラン、ジ−t−ブチルジエトキシシラン、ブチルメチルジエトキシシラン、ブチルエチルジエトキシシラン、t−ブチルメチルジエトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン等が挙げられる。
(A-2) Organosilicon compound having Si—O bond As the organosilicon compound used for the synthesis of the solid catalyst component (a), for example, the general formula R 2 n Si (OR 3 ) 4-n (R 2 is A silicon group represented by a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrogen atom, R 3 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents a number of 0 ≦ n <4. Compounds. Specifically, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, t-butyltrimethoxysilane, methyl Alkyltrialkoxysilanes such as triethoxysilane, ethyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, t-butyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldimethoxysilane, dibutyldimethoxysilane, diisobutyldimethoxysilane, di- t-butyldimethoxysilane, butylmethyldimethoxysilane, butylethyldimethoxysilane, t-butylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane Dialkyldialkoxy such as diethyldiethoxysilane, dibutyldiethoxysilane, diisobutyldiethoxysilane, di-t-butyldiethoxysilane, butylmethyldiethoxysilane, butylethyldiethoxysilane, t-butylmethyldiethoxysilane Silane etc. are mentioned.

(a−3)エステル化合物
固体触媒成分(a)の合成に用いられるエステル化合物としては、例えば、モノおよび多価のカルボン酸エステルが用いられ、それらの例として脂肪族カルボン酸エステル、脂環式カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステルが挙げられる。具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、アニス酸エチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ−n−ブチル、フタル酸ジイソブチル等が挙げられる。好ましくはメタクリル酸エステル等の不飽和脂肪族カルボン酸エステルおよびマレイン酸エステル等のフタル酸エステルであり、さらに好ましくはフタル酸ジエステルである。
(A-3) Ester Compound As the ester compound used for the synthesis of the solid catalyst component (a), for example, mono- and polyvalent carboxylic acid esters are used, and examples thereof include aliphatic carboxylic acid esters and alicyclic compounds. Examples thereof include carboxylic acid esters and aromatic carboxylic acid esters. Specific examples include methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, ethyl butyrate, ethyl valerate, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl benzoate, butyl benzoate, methyl toluate, Ethyl toluate, ethyl anisate, diethyl succinate, dibutyl succinate, diethyl malonate, dibutyl malonate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate, diethyl phthalate, di-n-phthalate Examples thereof include butyl and diisobutyl phthalate. Preferred are unsaturated aliphatic carboxylic acid esters such as methacrylic acid esters and phthalic acid esters such as maleic acid esters, and more preferred are phthalic acid diesters.

(a−4)有機マグネシウム化合物
固体触媒成分(a)の合成に用いられるマグネシウム化合物としては、例えば、マグネシウム−炭素結合やマグネシウム−水素結合を持ち還元能を有するマグネシウム化合物、あるいは、還元能を有さないマグネシウム化合物等が挙げられる。還元能を有するマグネシウム化合物の具体例としては、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウム等のジアルキルマグネシウム化合物、ブチルマグネシウムクロライド等のアルキルマグネシウムハライド化合物、ブチルエトキシマグネシム等のアルキルアルコキシマグネシウム化合物、ブチルマグネシウムハイドライド等のアルキルマグネシウムハイドライド等が挙げられる。これらの還元能を有するマグネシウム化合物は、有機アルミニウム化合物との錯化合物の形態で用いてもよい。
一方、還元能を有さないマグネシウム化合物の具体例としては、マグネシウムジクロライド等のジハロゲン化マグネシウム化合物、メトキシマグネシウムクロライド、エトキシマグネシウムクロライド、ブトキシマグネシウムクロライド等のアルコキシマグネシウムハライド化合物、ジエトキシマグネシウム、ジブトキシマグネシウム等のジアルコキシマグネシウム化合物、ラウリル酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム等のマグネシウムのカルボン酸塩等が挙げられる。
これらの還元能を有さないマグネシウム化合物は、予め或いは固体触媒成分(a)の調製時に、還元能を有するマグネシウム化合物から公知の方法で合成したものであってもよい。
(A-4) Organomagnesium compound As the magnesium compound used for the synthesis of the solid catalyst component (a), for example, a magnesium compound having a magnesium-carbon bond or a magnesium-hydrogen bond and having a reducing ability, or having a reducing ability. And magnesium compounds that are not used. Specific examples of the magnesium compound having a reducing ability include dialkyl magnesium compounds such as dimethyl magnesium, diethyl magnesium, dibutyl magnesium and butyl ethyl magnesium, alkyl magnesium halide compounds such as butyl magnesium chloride, alkyl alkoxy magnesium compounds such as butyl ethoxy magnesium, Examples thereof include alkyl magnesium hydrides such as butyl magnesium hydride. These magnesium compounds having a reducing ability may be used in the form of a complex compound with an organoaluminum compound.
On the other hand, specific examples of magnesium compounds having no reducing ability include magnesium halide compounds such as magnesium dichloride, alkoxymagnesium halide compounds such as methoxymagnesium chloride, ethoxymagnesium chloride and butoxymagnesium chloride, diethoxymagnesium and dibutoxymagnesium. Dialkoxymagnesium compounds such as magnesium carboxylic acid salts such as magnesium laurate and magnesium stearate.
These magnesium compounds not having a reducing ability may be synthesized in advance by a known method from a magnesium compound having a reducing ability at the time of preparing the solid catalyst component (a).

(a−5)エーテル化合物
固体触媒成分(a)の合成に用いられるエーテル化合物としては、例えば、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジアミルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルブチルエーテル、メチルイソアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル等のジアルキルエーテルが挙げられる。好ましくはジブチルエーテルと、ジイソアミルエーテルである。
(A-5) Ether compound Examples of the ether compound used for the synthesis of the solid catalyst component (a) include diethyl ether, dibutyl ether, diisobutyl ether, diamyl ether, diisoamyl ether, methyl butyl ether, methyl isoamyl ether, and ethyl. And dialkyl ethers such as isobutyl ether. Dibutyl ether and diisoamyl ether are preferred.

(a−6)有機酸ハライド化合物
固体触媒成分(a)の合成に用いられる有機酸ハライド化合物としては、モノおよび多価のカルボン酸ハライド等が挙げられ、例えば、脂肪族カルボン酸ハライド、脂環式カルボン酸ハライド、芳香族カルボン酸ハライド等が挙げられる。具体例としては、アセチルクロライド、プロピオン酸クロライド、酪酸クロライド、吉草酸クロライド、アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド、塩化ベンゾイル、トルイル酸クロライド、アニス酸クロライド、コハク酸クロライド、マロン酸クロライド、マレイン酸クロライド、イタコン酸クロライド、フタル酸クロライド等を挙げることができる。好ましくは塩化ベンゾイル、トルイル酸クロライド、フタル酸クロライド等の芳香族カルボン酸クロライドであり、さらに好ましくはフタル酸クロライドである。
(A-6) Organic acid halide compound Examples of the organic acid halide compound used for the synthesis of the solid catalyst component (a) include mono- and polyvalent carboxylic acid halides, and examples thereof include aliphatic carboxylic acid halides and alicyclic rings. And carboxylic acid halides and aromatic carboxylic acid halides. Specific examples include acetyl chloride, propionic acid chloride, butyric acid chloride, valeric acid chloride, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride, benzoyl chloride, toluic acid chloride, anisic acid chloride, succinic acid chloride, malonic acid chloride, maleic acid chloride, Itaconic acid chloride, phthalic acid chloride and the like can be mentioned. Aromatic carboxylic acid chlorides such as benzoyl chloride, toluic acid chloride, and phthalic acid chloride are preferable, and phthalic acid chloride is more preferable.

固体触媒成分の合成
固体触媒成分(a)を製造する方法としては、例えば、下記の方法が挙げられる。
(1)液状のマグネシウム化合物、あるいはマグネシウム化合物および電子供与体からなる錯化合物を析出化剤と反応させたのち、チタン化合物、あるいはチタン化合物および電子供与体で処理する方法。
(2)固体のマグネシウム化合物、あるいは固体のマグネシウム化合物および電子供与体からなる錯化合物をチタン化合物、あるいはチタン化合物および電子供与体で処理する方法。
(3)液状のマグネシウム化合物と、液状チタン化合物とを、電子供与体の存在下で反応させて固体状のチタン複合体を析出させる方法。
(4)(1)、(2)あるいは(3)で得られた反応生成物をチタン化合物、あるいは電子供与体およびチタン化合物でさらに処理する方法。
(5)Si−O結合を有する有機ケイ素化合物の共存下アルコキシチタン化合物をグリニャール試薬等の有機マグネシウム化合物で還元して得られる固体生成物を、エステル化合物、エーテル化合物およびTiClで処理する方法。
(6)有機ケイ素化合物または有機ケイ素化合物およびエステル化合物の存在下、チタン化合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られる固体生成物を、エーテル化合物と四塩化チタンの混合物、次いで有機酸ハライド化合物の順で加えて処理したのち、該処理固体をエーテル化合物と四塩化チタンの混合物もしくはエーテル化合物と四塩化チタンとエステル化合物の混合物で処理する方法。
(7)金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウムおよびハロゲン含有アルコ−ルとの接触反応物をハロゲン化剤で処理した後あるいは処理せずに電子供与体およびチタン化合物と接触する方法。
(8)有機酸のマグネシウム塩、アルコキシマグネシウムなどのマグネシウム化合物をハロゲン化剤で処理した後あるいは処理せずに電子供与体およびチタン化合物と接触する方法。
(9)(1)〜(8)で得られる化合物を、ハロゲン、ハロゲン化合物または芳香族炭化水素のいずれかで処理する方法。
これらの固体触媒の合成方法のうち、好ましくは(1)〜(6)の方法であり、さらに好ましくは(6)の方法である。これらの合成反応は通常、全て窒素、アルゴン等の不活性気体雰囲気下で行われる。
Synthesis of Solid Catalyst Component Examples of the method for producing the solid catalyst component (a) include the following methods.
(1) A method in which a liquid magnesium compound or a complex compound comprising a magnesium compound and an electron donor is reacted with a precipitating agent and then treated with a titanium compound, or a titanium compound and an electron donor.
(2) A method of treating a solid magnesium compound or a complex compound comprising a solid magnesium compound and an electron donor with a titanium compound, or a titanium compound and an electron donor.
(3) A method of depositing a solid titanium composite by reacting a liquid magnesium compound with a liquid titanium compound in the presence of an electron donor.
(4) A method in which the reaction product obtained in (1), (2) or (3) is further treated with a titanium compound, or an electron donor and a titanium compound.
(5) A method of treating a solid product obtained by reducing an alkoxytitanium compound with an organomagnesium compound such as a Grignard reagent in the presence of an organosilicon compound having a Si—O bond with an ester compound, an ether compound and TiCl 4 .
(6) A solid product obtained by reducing a titanium compound with an organomagnesium compound in the presence of an organosilicon compound or an organosilicon compound and an ester compound is converted into a mixture of an ether compound and titanium tetrachloride, and then an organic acid halide compound. And then treating the treated solid with a mixture of an ether compound and titanium tetrachloride or a mixture of an ether compound, titanium tetrachloride and an ester compound.
(7) A method of contacting a contact reaction product of a metal oxide, dihydrocarbylmagnesium and a halogen-containing alcohol with an electron donor and a titanium compound after or without treatment with a halogenating agent.
(8) A method in which a magnesium compound such as a magnesium salt of an organic acid or alkoxymagnesium is contacted with an electron donor and a titanium compound after or without treatment with a halogenating agent.
(9) A method of treating the compound obtained in (1) to (8) with any of halogen, a halogen compound, and an aromatic hydrocarbon.
Among these solid catalyst synthesis methods, the method (1) to (6) is preferred, and the method (6) is more preferred. All of these synthesis reactions are usually carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon.

チタン化合物、有機ケイ素化合物およびエステル化合物は、適当な溶媒に溶解もしくは希釈して使用するのが好ましい。かかる溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロへキサン、メチルシクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル化合物等が挙げられる。   The titanium compound, organosilicon compound and ester compound are preferably used after being dissolved or diluted in a suitable solvent. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and decane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, and decalin, diethyl ether, And ether compounds such as dibutyl ether, diisoamyl ether, and tetrahydrofuran.

有機マグネシウム化合物を用いる還元反応の温度は、通常−50〜70℃、好ましくは−30〜50℃、特に好ましくは−25〜35℃である。還元反応温度が高すぎると触媒活性が低下することがある。有機マグネシウム化合物の滴下時間は、特に制限はないが、通常30分〜12時間程度である。また、還元反応終了後、さらに20〜120℃の温度で後反応を行っても良い。   The temperature of the reduction reaction using the organomagnesium compound is usually -50 to 70 ° C, preferably -30 to 50 ° C, particularly preferably -25 to 35 ° C. If the reduction reaction temperature is too high, the catalytic activity may decrease. The dropping time of the organomagnesium compound is not particularly limited, but is usually about 30 minutes to 12 hours. Further, after the reduction reaction, a post-reaction may be performed at a temperature of 20 to 120 ° C.

また還元反応の際に、無機酸化物、有機ポリマー等の多孔質物質を共存させ、固体生成物を多孔質物質に含浸させることも可能である。かかる多孔質物質としては、細孔半径20〜200nmにおける細孔容積が0.3ml/g以上であり、平均粒径が5〜300μmであるものが好ましい。   In the reduction reaction, a porous substance such as an inorganic oxide or an organic polymer can be coexisted, and the porous product can be impregnated with the solid product. As such a porous substance, those having a pore volume at a pore radius of 20 to 200 nm of 0.3 ml / g or more and an average particle diameter of 5 to 300 μm are preferable.

多孔質無機酸化物としては、SiO、Al、MgO、TiO、ZrO又はこれらの複合酸化物等が挙げられる。また、多孔質ポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体等のポリスチレン系多孔質ポリマー、ポリアクリル酸エチル、アクリル酸メチル−ジビニルベンゼン共重合体、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル−ジビニルベンゼン共重合体等のポリアクリル酸エステル系多孔質ポリマー、ポリエチレン、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ポリプロピレン等のポリオレフィン系多孔質ポリマーが挙げられる。これらの多孔質物質のうち、好ましくはSiO、Al、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体である。 Examples of the porous inorganic oxide include SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, TiO 2 , ZrO 2 , and composite oxides thereof. The porous polymer includes polystyrene, polystyrene-based porous polymers such as styrene-divinylbenzene copolymer, polyethyl acrylate, methyl acrylate-divinylbenzene copolymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-divinyl. Polyacrylic acid ester type porous polymer such as benzene copolymer, polyolefin type porous polymer such as polyethylene, ethylene-methyl acrylate copolymer, polypropylene and the like can be mentioned. Among these porous materials, preferably SiO 2, Al 2 O 3, a styrene - divinylbenzene copolymer.

(b)有機アルミニウム化合物
本発明のプロピレン系重合体の製造に用いられる触媒系の有機アルミニウム化合物(b)は、少なくとも分子内に一個のAl−炭素結合を有するものであり、代表的なものを一般式で下記に示す。
AlY3−m
Al−O−AlR
(R〜Rは炭素数が1〜8個の炭化水素基を、Yはハロゲン原子、水素またはアルコキシ基を表す。R〜Rはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。また、mは2≦m≦3で表される数である。)有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムハライド、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウムクロライドの混合物のようなトリアルキルアルミニウムとジアルキルアルミニウムハライドの混合物、テトラエチルジアルモキサン、テトラブチルジアルモキサン等のアルキルアルモキサン等が挙げられる。
(B) Organoaluminum compound The catalyst-based organoaluminum compound (b) used in the production of the propylene-based polymer of the present invention has at least one Al-carbon bond in the molecule. The general formula is shown below.
R 4 m AlY 3-m
R 5 R 6 Al—O—AlR 7 R 8
(R 4 to R 8 represent a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, Y represents a halogen atom, hydrogen or an alkoxy group. R 4 to R 8 may be the same or different. M is a number represented by 2 ≦ m ≦ 3.) Specific examples of the organoaluminum compound include trialkylaluminum such as triethylaluminum and triisobutylaluminum, dialkylaluminum such as diethylaluminum hydride and diisobutylaluminum hydride. Dialkylaluminum halides such as hydrides, diethylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, mixtures of trialkylaluminum and dialkylaluminum halides such as mixtures of triethylaluminum and diethylaluminum chloride, tet Ethyl di alumoxane, an alkyl alumoxane such as tetrabutyl di alumoxane and the like.

これらの有機アルミニウム化合物のうち、好ましくはトリアルキルアルミニウム、トリアルキルアルミニウムとジアルキルアルミニウムハライドの混合物、アルキルアルモキサンであり、さらに好ましくはトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウムクロライドの混合物、またはテトラエチルジアルモキサンが好ましい。   Of these organoaluminum compounds, preferably trialkylaluminum, a mixture of trialkylaluminum and dialkylaluminum halide, alkylalumoxane, more preferably triethylaluminum, triisobutylaluminum, a mixture of triethylaluminum and diethylaluminum chloride, or Tetraethyl dialumoxane is preferred.

(c)電子供与体成分
本発明のプロピレン系重合体の製造に用いられる触媒系の電子供与体成分(c)としては、アルコール類、フェノール類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸または無機酸のエステル類、エーテル類、酸アミド類、酸無水物類等の含酸素電子供与体、アンモニア類、アミン類、ニトリル類、イソシアネート類等の含窒素電子供与体等の一般的に使用されるものを挙げることができる。これらの電子供与体のうち好ましくは無機酸のエステル類およびエ−テル類である。
(C) Electron Donor Component As the catalyst-based electron donor component (c) used in the production of the propylene polymer of the present invention, alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, organic acids or Oxygen-containing electron donors such as esters of inorganic acids, ethers, acid amides and acid anhydrides, and nitrogen-containing electron donors such as ammonia, amines, nitriles and isocyanates are generally used. Can be mentioned. Of these electron donors, esters of inorganic acids and ethers are preferred.

無機酸のエステル類として好ましくは、一般式R Si(OR104−n(式中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子、R10は炭素数1〜20の炭化水素基であり、R、R10は、それぞれ同一分子内に異なった置換基を有していても良く、nは0≦n<4である)で表されるケイ素化合物である。具体例としては、テトラブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、tert−ブチル−n−プロピルジメトキシシラン、 ジシクロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン等を挙げることができる。 As the esters of inorganic acids, a general formula R 9 n Si (OR 10 ) 4-n (wherein R 9 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a hydrogen atom, and R 10 is 1 to 20 carbon atoms) And R 9 and R 10 each may have a different substituent in the same molecule, and n is 0 ≦ n <4). Specific examples include tetrabutoxysilane, butyltrimethoxysilane, tert-butyl-n-propyldimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, cyclohexylethyldimethoxysilane, and the like.

さらに、エーテル類として好ましくは、ジアルキルエーテル、一般式   Further, the ethers are preferably dialkyl ethers, general formula

Figure 2008162161
(式中、R11〜R14は炭素数1〜20の線状または分岐状のアルキル基、脂環式炭化水素基、アリール基、またはアラルキル基であり、R11またはR12は水素原子であってもよい。)で表されるジエーテル化合物が挙げられる。具体例としては、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、2,2−ジイソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシクロペンチル−1,3−ジメトキシプロパン等を挙げることができる。
Figure 2008162161
(Wherein R 11 to R 14 are linear or branched alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon groups, aryl groups, or aralkyl groups, and R 11 or R 12 is a hydrogen atom. The diether compound represented by this may be mentioned. Specific examples include dibutyl ether, diamyl ether, 2,2-diisobutyl-1,3-dimethoxypropane, 2,2-dicyclopentyl-1,3-dimethoxypropane, and the like.

これらの電子供与体成分のうち一般式R1516Si(OR17で表される有機ケイ素化合物が特に好ましく用いられる。ここで式中、R15はSiに隣接する炭素原子が2級もしくは3級である炭素数3〜20の炭化水素基であり、具体的には、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル基等の分岐鎖状アルキル基、シクロペンンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、シクロペンテニル基等のシクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。また式中、R16は炭素数1〜20の炭化水素基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル基、等の分岐鎖状アルキル基、シクロペンンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、シクロペンテニル基等のシクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。さらに式中、R17は炭素数1〜20の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1〜5の炭化水素基である。このような電子供与体成分として用いられる有機ケイ素化合物の具体例としては、tert−ブチル−n−プロピルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン等を挙げることができる。 Among these electron donor components, an organosilicon compound represented by the general formula R 15 R 16 Si (OR 17 ) 2 is particularly preferably used. Here, in the formula, R 15 is a hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms in which the carbon atom adjacent to Si is secondary or tertiary, specifically, isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl. Groups, branched chain alkyl groups such as tert-amyl group, cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group, cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl group, aryl groups such as phenyl group and tolyl group. In the formula, R 16 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a linear alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, isopropyl group, sec -A branched alkyl group such as a butyl group, a tert-butyl group, a tert-amyl group, a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group or a cyclohexyl group, a cycloalkenyl group such as a cyclopentenyl group, an aryl such as a phenyl group or a tolyl group Groups and the like. Further, in the formula, R 17 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. Specific examples of the organosilicon compound used as such an electron donor component include tert-butyl-n-propyldimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, cyclohexylethyldimethoxysilane, and the like.

(2)重合方法
本発明で用いられるプロピレン系重合体の製造方法としては、公知の重合方法を用いて、前述の固体触媒成分(a)、有機アルミニウム化合物(b)および電子供与体成分(c)からなる触媒系の存在下に、プロピレンを重合させる方法が挙げられる。
(2) Polymerization method As a method for producing the propylene polymer used in the present invention, the above-mentioned solid catalyst component (a), organoaluminum compound (b) and electron donor component (c) are used by using a known polymerization method. And a method of polymerizing propylene in the presence of a catalyst system.

重合方法としては、バルク重合、溶液重合、スラリー重合または気相重合が挙げられる。バルク重合とは、重合温度において液状のオレフィンを媒体として重合を行う方法であり、溶液重合もしくはスラリー重合とは、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の不活性炭化水素溶媒中で重合を行う方法であり、また、気相重合とは、気体状態の単量体を媒体として、その媒体中で気体状態の単量体を重合する方法である。これらの重合方法は、バッチ式、連続式のいずれでも可能であり、また、これらの重合方法を任意に組合せもよい。工業的かつ経済的な観点から、連続式の気相重合法が好ましい。   Examples of the polymerization method include bulk polymerization, solution polymerization, slurry polymerization, and gas phase polymerization. Bulk polymerization is a method of performing polymerization using a liquid olefin as a medium at the polymerization temperature, and solution polymerization or slurry polymerization is in an inert hydrocarbon solvent such as propane, butane, isobutane, pentane, hexane, heptane, octane, etc. The gas phase polymerization is a method in which a gaseous monomer is used as a medium and the gaseous monomer is polymerized in the medium. These polymerization methods can be either batch type or continuous type, and these polymerization methods may be arbitrarily combined. From the industrial and economical viewpoint, a continuous gas phase polymerization method is preferred.

有機アルミニウム化合物(b)の使用量は、固体触媒成分(a)に含まれるチタン原子1mol当たり1〜1000molであり、好ましくは5〜600molである。 The usage-amount of an organoaluminum compound (b) is 1-1000 mol with respect to 1 mol of titanium atoms contained in a solid catalyst component (a), Preferably it is 5-600 mol.

また、電子供与体成分(c)の使用量は、固体触媒成分(a)に含まれるチタン原子1mol当たり0.1〜2000mol、好ましくは0.3〜1000mol、さらに好ましくは0.5〜800molであり、有機アルミニウム化合物(b)に含まれるアルミニウム原子1mol当たり0.001〜5mol、好ましくは0.005〜3mol、さらに好ましくは0.01〜1molである。   The amount of the electron donor component (c) used is 0.1 to 2000 mol, preferably 0.3 to 1000 mol, more preferably 0.5 to 800 mol, per mol of titanium atom contained in the solid catalyst component (a). Yes, 0.001 to 5 mol, preferably 0.005 to 3 mol, and more preferably 0.01 to 1 mol per 1 mol of aluminum atoms contained in the organoaluminum compound (b).

重合温度は、−30〜300℃で実施することができるが、好ましくは20〜180℃である。重合圧力は、特に制限は無いが、工業的かつ経済的な観点から、一般に、常圧〜10MPaであり、好ましくは0.2〜5MPaである。   Although superposition | polymerization temperature can be implemented at -30-300 degreeC, Preferably it is 20-180 degreeC. The polymerization pressure is not particularly limited, but is generally from normal pressure to 10 MPa, preferably from 0.2 to 5 MPa, from an industrial and economical viewpoint.

分子量調整剤としては、水素が好ましい。水素の供給量は本発明のプロピレン系重合体の用途によって適宜、決めることができる。   As the molecular weight regulator, hydrogen is preferable. The supply amount of hydrogen can be appropriately determined depending on the use of the propylene-based polymer of the present invention.

各触媒成分を重合槽に供給する方法としては、チッソ、アルゴン等の不活性ガス中で水分の無い状態で供給する以外は、特に制限すべき条件はない。また、固体触媒成分(a)、有機アルミニウム化合物(b)および電子供与体成分(c)は、個別に供給しても良いし、いずれか二者、または、全てを予め接触させて供給しても良い。   The method for supplying each catalyst component to the polymerization tank is not particularly limited except that the catalyst components are supplied in an inert gas such as nitrogen and argon without any moisture. In addition, the solid catalyst component (a), the organoaluminum compound (b) and the electron donor component (c) may be supplied separately, or either two or all may be supplied in contact in advance. Also good.

本発明に用いられるプロピレン系重合体の製造において重合(本重合)の実施前に、以下に述べる予備重合を行っても良い。
予備重合の方法としては、公知の方法が挙げられ、例えば、固体触媒成分(a)および有機アルミニウム化合物(b)の存在下、少量のプロピレンを供給して溶媒を用いてスラリー状態で実施する方法が挙げられる。予備重合に用いられる溶媒としては、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンのような不活性炭化水素及び液状のプロピレンが挙げられ、これらを2種類以上混合して用いても良い。
In the production of the propylene-based polymer used in the present invention, the prepolymerization described below may be performed before the polymerization (main polymerization).
Examples of the prepolymerization method include known methods. For example, in the presence of the solid catalyst component (a) and the organoaluminum compound (b), a small amount of propylene is supplied and a slurry is used in a slurry state. Is mentioned. Examples of the solvent used for the prepolymerization include propane, butane, isobutane, pentane, isopentane, hexane, heptane, octane, cyclohexane, benzene, and toluene, and liquid propylene. You may mix and use.

予備重合における有機アルミニウム化合物(b)の使用量は、固体触媒成分(
a)に含まれるチタン原子1mol当たり0.5〜700molであり、好ましくは0.8〜500molであり、さらに好ましくは1〜200molである。
The amount of the organoaluminum compound (b) used in the prepolymerization is determined based on the solid catalyst component (
It is 0.5-700 mol per 1 mol of titanium atoms contained in a), preferably 0.8-500 mol, and more preferably 1-200 mol.

予備重合されるプロピレンの量は、固体触媒成分1g当たり0.01〜1000gであり、好ましくは0.05〜500gであり、さらに好ましくは0.1〜200gである。 The amount of propylene to be prepolymerized is 0.01 to 1000 g, preferably 0.05 to 500 g, more preferably 0.1 to 200 g, per 1 g of the solid catalyst component.

予備重合におけるスラリー濃度は、溶媒1L当たりに含まれる固体触媒成分(a)の重量にして、好ましくは1〜500g/Lであり、さらに好ましくは3〜300g/Lである。予備重合温度として、好ましくは−20〜100℃であり、さらに好ましくは0〜80℃である。また、予備重合中の気相部におけるプロピレンの分圧は、好ましくは0.001〜2.0MPaであり、さらに好ましくは0.01〜1.0MPaであるが、予備重合の圧力、温度において液状であるプロピレンについては、この限りではない。さらに、予備重合時間は、特に制限はないが、通常、2分から15時間が好適である。   The slurry concentration in the prepolymerization is preferably 1 to 500 g / L, more preferably 3 to 300 g / L in terms of the weight of the solid catalyst component (a) contained per liter of the solvent. The prepolymerization temperature is preferably -20 to 100 ° C, more preferably 0 to 80 ° C. Further, the partial pressure of propylene in the gas phase part during the prepolymerization is preferably 0.001 to 2.0 MPa, more preferably 0.01 to 1.0 MPa, but is liquid at the prepolymerization pressure and temperature. This is not the case for propylene. Further, the prepolymerization time is not particularly limited, but usually 2 minutes to 15 hours is preferable.

予備重合における固体触媒成分(a)、有機アルミニウム化合物(b)及びプロピレンの供給方法としては、固体触媒成分(a)と有機アルミニウム化合物(b)を接触させた後、プロピレンを供給する方法、または、固体触媒成分(a)とプロピレンを接触させた後、有機アルミニウム化合物(b)を供給する方法等が挙げられる。また、プロピレンの供給方法としては、重合槽内が所定の圧力になるように保持しながら順次プロピレンを供給する方法、または、所定のプロピレン量の全てを最初に供給する方法等が挙げられる。また、得られる予備重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加しても良い。   As a method for supplying the solid catalyst component (a), the organoaluminum compound (b) and propylene in the prepolymerization, a method for supplying propylene after contacting the solid catalyst component (a) and the organoaluminum compound (b), or And a method of supplying the organoaluminum compound (b) after contacting the solid catalyst component (a) with propylene. Examples of the propylene supply method include a method of sequentially supplying propylene while keeping the inside of the polymerization tank at a predetermined pressure, or a method of supplying all the predetermined amount of propylene first. A chain transfer agent such as hydrogen may be added to adjust the molecular weight of the resulting prepolymer.

さらに、予備重合において、必要に応じて電子供与体成分(c)を共存させても良い。その使用量は、固体触媒成分(a)に含まれるチタン原子1mol当たり0.01〜400molであり、好ましくは0.02〜200molであり、さらに好ましくは0.03〜100molであり、有機アルミニウム化合物(b)に含まれるアルミニウム原子1mol当たり0.003〜5molであり、好ましくは0.005〜3molであり、さらに好ましくは0.01〜2molである。   Further, in the prepolymerization, an electron donor component (c) may coexist if necessary. The amount used is 0.01 to 400 mol, preferably 0.02 to 200 mol, more preferably 0.03 to 100 mol, per mol of titanium atom contained in the solid catalyst component (a). It is 0.003-5 mol per 1 mol of aluminum atoms contained in (b), preferably 0.005-3 mol, and more preferably 0.01-2 mol.

予備重合に用いる電子供与体成分の供給方法は、特に制限はなく、固体触媒成分(a)及び有機アルミニウム化合物(b)と別個に供給しても良いし、予め接触させて供給しても良い。また、予備重合で使用されるプロピレンは、本重合で使用されるプロピレンと同一であっても良く、異なっていても良い。   The method for supplying the electron donor component used for the prepolymerization is not particularly limited, and may be supplied separately from the solid catalyst component (a) and the organoaluminum compound (b), or may be supplied in contact with each other in advance. . Further, the propylene used in the prepolymerization may be the same as or different from the propylene used in the main polymerization.

また主成分たるプロピレン系重合体含有量としては40重量%以上が好ましく、更に好ましくは50重量%以上である。ただしどのような配合比であっても他の樹脂組成物と比較して多いことが主成分たるゆえんである。
また主成分とならない樹脂としては、プロピレン系共重合体を使用することができ、プロピレンを主たるモノマー単位として含むものであり、プロピレン単独重合体をはじめ、プロピレンと共重合可能なα―オレフィン、すなわち、エチレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、4−メチルペンテン−1などを共重合せしめた共重合体を使用することができる。該プロピレン系共重合体においてはプロピレンが90モル%以上の重合体であることが好ましい。また上記ポリプロピレン樹脂はメルトフローレイトが0.5〜40g/10分、特に1〜20g/10分のものが好ましい。また融点は一般的に120〜180℃、好ましくは140〜170℃である。
The propylene polymer content as the main component is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more. However, the main component is that it is higher than other resin compositions at any compounding ratio.
In addition, as a resin that does not become a main component, a propylene-based copolymer can be used, which contains propylene as a main monomer unit, and is an α-olefin copolymerizable with propylene, including a propylene homopolymer, that is, A copolymer obtained by copolymerizing ethylene, butene, pentene, hexene, 4-methylpentene-1, or the like can be used. The propylene-based copolymer is preferably a polymer having 90% by mole or more of propylene. The polypropylene resin preferably has a melt flow rate of 0.5 to 40 g / 10 min, particularly 1 to 20 g / 10 min. The melting point is generally 120 to 180 ° C, preferably 140 to 170 ° C.

本発明で隠蔽性良好なポリプロピレン系発泡フイルムを得るために使用される発泡剤としては、炭酸カルシウム、シリカ等の無機系フィラー、ポリメチルアクリレート等の有機系フィラーが好ましい。特に好ましくは炭酸カルシウムである。これらフィラー表面には各種の表面処理を施すことも可能であり、また、これらは単独で使用し得るほか、2種以上を併用することも可能である。
また、発泡剤の配合量としてはフィルムを構成する全組成物において5重量%〜20重量%が好ましく、特に10重量%〜15重量%であることが好ましい。発泡剤が5重量%未満では良好な発泡が得られず、隠蔽化が困難となり、20重量%より多いとフイルム製膜時に破断の多発、異物の多発などの不具合が発生し、またフイルム物性としてはボイド率が高すぎ、層間強度が悪化するなどの問題が発生する。
粒径としては1μm〜10μmが好ましく、特に1.5μm〜5μmが好ましい。1μm以下ではボイドが発生しにくく、10μm以上では凝集物による外観不良が発生する。粒子径はマイクロトラック HRA X−100にて測定した。
As the foaming agent used for obtaining a polypropylene foam film with good concealing property in the present invention, inorganic fillers such as calcium carbonate and silica, and organic fillers such as polymethyl acrylate are preferable. Particularly preferred is calcium carbonate. These filler surfaces can be subjected to various surface treatments, and these fillers can be used alone or in combination of two or more.
Further, the blending amount of the foaming agent is preferably 5% by weight to 20% by weight, and particularly preferably 10% by weight to 15% by weight in the total composition constituting the film. When the foaming agent is less than 5% by weight, good foaming cannot be obtained and concealment becomes difficult. When the foaming agent is more than 20% by weight, problems such as frequent breakage and frequent occurrence of foreign matter occur during film formation. Causes a problem that the void ratio is too high and the interlayer strength deteriorates.
The particle size is preferably 1 μm to 10 μm, particularly preferably 1.5 μm to 5 μm. If it is 1 μm or less, voids are hardly generated, and if it is 10 μm or more, appearance defects due to aggregates occur. The particle size was measured with Microtrac HRA X-100.

本発明で隠蔽性良好なポリプロピレン系発泡フイルムには隠蔽性を増加させるために無機質あるいは有機質の微細粒子を配合することも可能である。無機質微細粒子としては、二酸化チタン、酸化タングステン、二酸化珪素、ゼオライト等が挙げられ、コスト面、効果から二酸化チタンが特に好ましい。これらの形状は、球状、楕円状、円錐状、不定形と種類を問うものではなく、その粒子径もフイルムの用途、使用法により所望のものを使用配合することができる。また、これら無機微細粒子表面に各種の表面処理を施すことも可能であり、また、これらは単独で使用し得るほか、2種以上を併用することも可能である。
また粒径としては150nm〜500nmが好ましく、特に200nm〜400nmが好ましい。200nm以下では隠蔽効果を発揮しにくく、500nm以上では凝集物によるブツ発生などの悪さがある。粒子径はマイクロトラック HRA X−100にて測定した。
また、通常ポリオレフィンフイルムに配合される公知の安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、加工助剤、可塑剤も適宜配合できる。
In order to increase the concealability, the polypropylene foam film having good concealability in the present invention can be blended with inorganic or organic fine particles. Examples of the inorganic fine particles include titanium dioxide, tungsten oxide, silicon dioxide, zeolite and the like, and titanium dioxide is particularly preferable from the viewpoint of cost and effect. These shapes are not limited to spherical, elliptical, conical, and indeterminate shapes, and the desired particle size can be used depending on the use and usage of the film. Moreover, various surface treatments can be applied to the surface of these inorganic fine particles, and these can be used alone or in combination of two or more.
The particle size is preferably 150 nm to 500 nm, particularly preferably 200 nm to 400 nm. If it is 200 nm or less, the concealing effect is difficult to be exhibited, and if it is 500 nm or more, there is a problem such as generation of fluff due to aggregates. The particle size was measured with Microtrac HRA X-100.
In addition, known stabilizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, processing aids, and plasticizers that are usually blended in polyolefin films can be blended as appropriate.

この時のフイルム厚みは、その用途や使用方法によって異なるが、包装フイルムとしてのポリプロピレン系発泡フイルムは一般的に10〜200μm程度であり、機械的強度やハンドリングの点において、より好ましくは、20〜150μm程度である。
またシール層の厚みとしては全体の2%〜30%程度が好ましい。シール層が薄すぎるとシール性が悪くなり、シール層が厚すぎるとフイルムの腰感悪くなり包装材料として好ましくない。
The film thickness at this time varies depending on the application and usage method, but the polypropylene-based foam film as a packaging film is generally about 10 to 200 μm, and more preferably 20 to 200 in terms of mechanical strength and handling. It is about 150 μm.
The thickness of the sealing layer is preferably about 2% to 30% of the whole. If the seal layer is too thin, the sealing property is deteriorated, and if the seal layer is too thick, the film feels poor, which is not preferable as a packaging material.

尚、本発明における隠蔽性良好なポリプロピレン系発泡フイルムを製膜する方法は、特に限定されるものではなく、通常の押し出し機、例えばTダイ法などで原反を製膜し、適宜、所望の温度、倍率で延伸することができる。例えば、一般的なポリオレフィンの場合の製膜条件となんら変わるものではなく、押し出し温度150〜300℃の温度で溶融押し出しした樹脂組成物を10〜100℃の冷却ロールで固化させたシートに延伸を施すことによって得られる。
延伸工程では、面積倍率で8〜50倍程度、好ましくは10〜40倍程度に延伸することができる。また、延伸方法は、1軸延伸、2軸延伸を問うものではなく、2軸延伸の場合も、同時2軸延伸法、逐次2軸延伸法、インフレーション法などで実施することができるが逐次2軸延伸が一般的である。
The method for forming a polypropylene foam film having good concealability in the present invention is not particularly limited, and the raw film is formed by an ordinary extruder, for example, a T-die method, and a desired film is appropriately formed. The film can be stretched at a temperature and a magnification. For example, it is not different from the film forming conditions in the case of a general polyolefin, and a resin composition obtained by melting and extruding at an extrusion temperature of 150 to 300 ° C. is stretched to a sheet solidified by a cooling roll of 10 to 100 ° C. It is obtained by applying.
In the stretching step, the film can be stretched at an area magnification of about 8 to 50 times, preferably about 10 to 40 times. Further, the stretching method is not limited to uniaxial stretching or biaxial stretching. In the case of biaxial stretching, it can be carried out by simultaneous biaxial stretching method, sequential biaxial stretching method, inflation method or the like. Axial stretching is common.

次に本発明の内容および効果を実施例によって説明するが、本発明は、その要旨を逸脱しないかぎり以下の実施例に限定されるものではない。尚、本明細書中における特性値の測定方法は以下の通りである。
(メルトフローレイト:MFR)
JIS K7210に準拠して測定した。
Next, contents and effects of the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples without departing from the gist thereof. In addition, the measuring method of the characteristic value in this specification is as follows.
(Melt flow rate: MFR)
The measurement was performed according to JIS K7210.

(融点Tm)
融点(Tm)は、示差走査型熱量計(島津製作所社製DSC−60)を用い、ポリマーを220℃で5分間熱処理後、降温速度300℃/分で150℃まで冷却して150℃において1分間保温し、さらに降温速度5℃/分で50℃まで冷却して50℃において1分間保温し、さらに50℃から180℃まで昇温速度5℃/分で加熱した際の融解ピーク温度を融点Tmとして求めた。
(Melting point Tm)
The melting point (Tm) is 1 at 150 ° C. using a differential scanning calorimeter (DSC-60, manufactured by Shimadzu Corporation), after heat-treating the polymer at 220 ° C. for 5 minutes, cooling to 150 ° C. at a rate of temperature reduction of 300 ° C./min. The melting peak temperature is maintained when the temperature is lowered to 50 ° C. at a cooling rate of 5 ° C./min, kept at 50 ° C. for 1 minute, and further heated from 50 ° C. to 180 ° C. at a heating rate of 5 ° C./min. Calculated as Tm.

(融解ピーク半値幅(HW))
融解ピークの半値幅HW(℃)は、融点Tm(℃)を測定した際のDSC融解曲線を試料重量で標準化して書き出した場合の、融解ピーク全体のベースラインからピークトップまでの高さの中点におけるピーク幅として求めた。
(Melting peak half width (HW))
The half-width HW (° C.) of the melting peak is the height from the baseline of the entire melting peak to the peak top when the DSC melting curve when the melting point Tm (° C.) is measured is standardized and written. It was determined as the peak width at the midpoint.

(フイルム比重)
サンプルを280mm×400mmのサイズにカットし、化学天秤にて重さを測定する。その後ダイヤルゲージを用いて厚みを測定する。それらの結果を以下の式(1)に当てはめ算出する。
見かけ比重(g/cm)=重さ(g)/(面積(cm)×厚み(μm)) (1)
(Film specific gravity)
The sample is cut into a size of 280 mm × 400 mm, and the weight is measured with an analytical balance. Then, the thickness is measured using a dial gauge. These results are calculated by fitting into the following equation (1).
Apparent specific gravity (g / cm 3 ) = weight (g) / (area (cm 2 ) × thickness (μm)) (1)

(ヒートシール強度)
JIS Z1707に準拠してシール強度測定実施した。具体的な手順を簡単に以下に記す。ヒートシーラーにて、サンプルシール層面同士を接着。該接着サンプルを、引張強度試験機(東洋測機社製:商品名テンシロンUTM)を使用して、T時剥離強度の測定を行った。この時のシール圧力は10N/cm、シール時間は1秒、シール温度は130℃、引張速度は200mm/分、試験片幅は15mm幅である。単位はN/15mmで示す。
(Heat seal strength)
The seal strength was measured according to JIS Z1707. The specific procedure is briefly described below. Adhere the sample seal layers together with a heat sealer. The adhesive sample was measured for T-peel strength using a tensile strength tester (manufactured by Toyo Keiki Co., Ltd .: trade name Tensilon UTM). The sealing pressure at this time is 10 N / cm 2 , the sealing time is 1 second, the sealing temperature is 130 ° C., the tensile speed is 200 mm / min, and the specimen width is 15 mm. The unit is N / 15 mm.

(ヒートシール仕上がり性)
前述のヒートシール強度測定方法と同様に、ヒートシーラーにて130℃の温度で、サンプルのシール層面同士を接着し、そのときのシール部のシワやズレの程度を目視で判断した。試験片幅は15mm幅である。
◎・・・シール部およびその周辺にシワ・ズレがない状態
○・・・シール部およびその周辺にシワ・ズレが若干ある状態
△・・・シール部およびその周辺にシワ・ズレが全面にある状態
×・・・シール部およびその周辺にシワ・ズレが全面にあり、シール性(密閉性)に影響がでる状態
(Heat seal finish)
Similar to the heat seal strength measurement method described above, the seal layer surfaces of the samples were bonded to each other at a temperature of 130 ° C. with a heat sealer, and the degree of wrinkles and displacement of the seal portion at that time was visually determined. The test piece width is 15 mm.
◎ ・ ・ ・ No wrinkle or misalignment in the seal area and its surrounding area ○ ・ ・ ・ Slight wrinkle or misalignment in the seal area and its surrounding area △ ・ ・ ・ Wrinkle or misalignment in the seal area and its surrounding area State × ・ ・ ・ Wrinkle / displacement on the entire surface of the seal and its surroundings, affecting the sealing performance (sealing performance)

(加熱収縮率)
JIS Z1715を引用した。すなわち、フイルムを20mm×250mmの長方形に裁断し、150mmの距離をおいて標線をつけ、120℃の熱風乾燥機中に無荷重状態で30分間熱処理して熱収縮させた後、フイルムの縦及び横方向の寸法を測定し、下式に従い熱収縮率を求めた。
熱収縮率=
{(加熱前の標点間距離−加熱後の標点間距離)/加熱前の標点間距離}×100(%)
(Heat shrinkage)
JIS Z1715 was quoted. That is, the film is cut into a rectangle of 20 mm × 250 mm, marked with a distance of 150 mm, heat-shrinked in a 120 ° C. hot air dryer for 30 minutes under no load, and then heat-shrinked. And the dimension of the horizontal direction was measured and the thermal contraction rate was calculated | required according to the following formula.
Heat shrinkage rate =
{(Distance between gauge points before heating -Distance between gauge points after heating) / Distance between gauge points before heating} × 100 (%)

(実施例1)
本実施例としては、シール層(B)/発泡層(A)/シール層(B)の2種3層構成からなる発泡フイルムであり、シール層(B)は、同一の押出し機から押出しし、ダイス前のアダプターにて分流させた同一の樹脂組成物からなる構成である。
詳細には一方の押し出し機より発泡層(A)としてプロピレン−1−ブテンランダム共重合体(住友化学製、FSX21E1:MFR=1.9g/10分、融点156℃、半値幅:4.7℃)55重量部、炭酸カルシウム含有マスターバッチ(ポリプロピレン(住友化学製、FS2011DG3:MFR=2.5g/10分、融点156℃、半値幅:6.6℃)40wt%、炭酸カルシウム(備北粉化工業PO150B−10)60%)25重量部、二酸化チタンマスターバッチ(大日本インキ化学工業製 L−11145M:ポリプロピレン(MFR=2.5g/10分、融点156℃、半値幅:6.6℃)40%、二酸化チタン(堺化学製、ルチル型)60wt%))20重量部を混合後、250℃の樹脂温度で溶融押し出しし、もう一方の押し出し機によりシール層(B)及びシール層(C)として、プロピレン−ブテン共重合体(住友化学製「SPX89E3」MFR=9g/10分、ブテン成分18%)70重量部、プロピレン−エチレン−ブテン共重合体(住友化学製「FSX66E8」MFR=3g/10分、エチレン成分2%、ブテン成分5%)30重量部にアンチブロッキング剤として炭酸カルシウム立方体粒子(丸尾カルシウム製「CUBE50KAS」平均粒子径5μm)3750ppm、炭酸カルシウム立方体粒子(丸尾カルシウム製「CUBE80KAS」平均粒子径8μm)8250ppm、PMMA架橋ビーズ(住友化学製 平均粒子径1.8μm)750ppmを添加し、260℃の樹脂温度で溶融押し出しし、Tダイ内にて、シール層(B)/発泡層(A)/シール層(C)を積層し、50℃の冷却ロールにて冷却固化し未延伸シートを得た。
引き続き、130℃に加熱された金属ロール間で、周速差を利用してタテ方向に4.5倍延伸し、さらにテンター延伸機に導入し、ヨコ方向に9.0倍の延伸を行った上で、フィルムワインダーにより巻き取ってフイルムを得た。最終的なフイルム厚みは、30μmである。またシール層(B)/発泡層(A)/シール層(C)のそれぞれの層構成がフイルム全体厚みの5%、90%、5%であった。
本フイルムは、加熱時の収縮が抑えられたシール性の付与されたフイルムであった。特性値を表1に示す。
(Example 1)
This example is a foamed film having a two-layer three-layer structure of a sealing layer (B) / foaming layer (A) / sealing layer (B), and the sealing layer (B) is extruded from the same extruder. , The same resin composition divided by the adapter before dicing.
In detail, propylene-1-butene random copolymer (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., FSX21E1: MFR = 1.9 g / 10 min, melting point 156 ° C., half-value width: 4.7 ° C.) from one extruder as the foam layer (A). ) 55 parts by weight, calcium carbonate-containing master batch (polypropylene (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., FS2011DG3: MFR = 2.5 g / 10 min, melting point 156 ° C., half-value width: 6.6 ° C.) 40 wt%, calcium carbonate (Bihoku powdering industry PO150B-10) 60%) 25 parts by weight, titanium dioxide masterbatch (L-11145M manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: polypropylene (MFR = 2.5 g / 10 min, melting point 156 ° C., half-value width: 6.6 ° C.) 40 %, Titanium dioxide (manufactured by Sakai Chemicals, rutile type) 60 wt%)) and 20 parts by weight, and then melt extruded at a resin temperature of 250 ° C. As a sealing layer (B) and a sealing layer (C), 70 parts by weight of propylene-butene copolymer (“SPX89E3” MFR = 9 g / 10 min, butene component 18%, manufactured by Sumitomo Chemical), propylene-ethylene- Butene copolymer (Sumitomo Chemical “FSX66E8” MFR = 3 g / 10 min, ethylene component 2%, butene component 5%) 30 parts by weight of calcium carbonate cubic particles (“CUBE50KAS” manufactured by Maruo Calcium) 5μm) 3750ppm, calcium carbonate cubic particles (Maruo calcium “CUBE80KAS” average particle size 8μm) 8250ppm, PMMA cross-linked beads (Sumitomo Chemical average particle size 1.8μm) 750ppm are added and melt extruded at a resin temperature of 260 ° C. In the T-die, sealing layer (B) / foamed layer (A) / sealing layer (C) was laminated and cooled and solidified with a cooling roll at 50 ° C. to obtain an unstretched sheet.
Subsequently, the metal roll heated to 130 ° C. was stretched 4.5 times in the vertical direction using the difference in peripheral speed, and further introduced into a tenter stretching machine, and then stretched 9.0 times in the horizontal direction. Above, it was wound up with a film winder to obtain a film. The final film thickness is 30 μm. Moreover, each layer structure of the sealing layer (B) / foamed layer (A) / sealing layer (C) was 5%, 90% and 5% of the total film thickness.
This film was a film provided with a sealing property in which shrinkage during heating was suppressed. The characteristic values are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1において、プロピレン−1−ブテンランダム共重合体をプロピレン単独重合体(住友化学製、FS2011DG3:MFR=2.5g/10分、融点156℃、半値幅:6.6℃)に変更した以外は実施例1と同様の方法でポリオレフィン系発泡フイルムを得た。本フイルムは実施例1のフイルムと比較し、加熱時の寸法安定性が劣る結果となった。フイルムの特性値を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, the propylene-1-butene random copolymer was changed to a propylene homopolymer (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., FS2011DG3: MFR = 2.5 g / 10 min, melting point 156 ° C., half-value width: 6.6 ° C.). Except for the above, a polyolefin-based foamed film was obtained in the same manner as in Example 1. This film resulted in inferior dimensional stability during heating as compared with the film of Example 1. Table 1 shows the characteristic values of the film.

Figure 2008162161
Figure 2008162161

本発明の隠蔽性良好なポリオレフィン系発泡フイルムは、従来よりも少ない発泡剤や無機フィラーの添加にて隠蔽性良好なポリプロピレン系発泡フイルムを提供しようとするものである。コストや異物発生量の面からも包装材料・工業用途に好適なフイルムである。   The polyolefin-based foamed film with good concealability according to the present invention is intended to provide a polypropylene-based foamed film with good concealment by adding less foaming agents and inorganic fillers than conventional ones. It is a film suitable for packaging materials and industrial applications in terms of cost and the amount of foreign matter generated.

Claims (4)

コア層およびその両側にスキン層を積層した構成であることを特徴とし、スキン層が実質的に発泡しておらず、コア層が以下の(1)〜(3)の物性を有するプロピレン系重合体を主成分とすることを特徴とするポリプロピレン系発泡フイルム。
・ メルトフローレイトが0.1〜20 g/10分
・ 示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融点Tmが147〜159℃
・ 示差走査型熱量計(DSC)を用いて測定した融解ピークの半値幅HWとTmが
1.54≦((188−Tm)/5)−Hw≦1.86の関係を満たす。
Propylene-based weight having a structure in which a core layer and skin layers are laminated on both sides thereof, the skin layer is not substantially foamed, and the core layer has the following physical properties (1) to (3) A polypropylene foam film characterized by comprising a coalescence as a main component.
Melt flow rate is 0.1 to 20 g / 10 min. Melting point Tm measured with a differential scanning calorimeter (DSC) is 147 to 159 ° C.
The half-width HW and Tm of the melting peak measured using a differential scanning calorimeter (DSC) satisfy the relationship of 1.54 ≦ ((188−Tm) / 5) −Hw ≦ 1.86.
該プロピレン系重合体がプロピレン系ランダム共重合体であることを特徴とする請求項1記載のポリプロピレン系発泡フイルム。   2. The polypropylene foam film according to claim 1, wherein the propylene polymer is a propylene random copolymer. 該プロピレン系重合体がプロピレン−1−ブテンランダム共重合体であることを特徴とする請求項1記載のポリプロピレン系発泡フイルム。   2. The polypropylene foam film according to claim 1, wherein the propylene polymer is a propylene-1-butene random copolymer. 少なくとも一方のスキン層がヒートシール性を有する構成であることを特徴とする請求項1記載のポリプロピレン系発泡フイルム。   2. The polypropylene-based foam film according to claim 1, wherein at least one skin layer has a heat sealing property.
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